JPWO2018021120A1 - 顔料分散液の製造方法 - Google Patents

Abstract

工程（Ａ）：顔料、高分子分散剤、水溶性有機溶剤、及び水を含む組成物を得る工程、並びに、工程（Ｂ）：分散機を用いて、上記工程（Ａ）で得られた上記組成物中の顔料を分散させ、顔料分散液を得る工程、を含み、上記顔料は、明細書に記載された一般式（１）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩を含む顔料であり、上記高分子分散剤は、明細書に記載された一般式（２−１）で表される繰り返し単位及び一般式（２−２）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物であり、上記水溶性有機溶剤は、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、及びジグリセロールから選択される少なくとも１種である、顔料分散液の製造方法。

Description

本発明は、顔料分散液の製造方法に関する。

アゾ顔料は、色彩的特性である色相及び着色力に優れているため、様々な分野に広く使用されている。たとえば、アゾ顔料を水に分散させた顔料分散液は、インクジェット用インクなどに用いられている。
例えば、特許文献１には、特定構造のアゾ顔料と、（メタ）アクリル酸ベンジルとメタクリル酸との共重合体（分散剤）のジプロピレングリコール溶液と水と混合し、分散機を用いてアゾ顔料を分散させて水系顔料分散液を製造する方法が記載されている。また、特許文献１には、インクジェット記録用インクとして、水系顔料分散液に加えて水溶性グリコール類を添加することで、ノズル目詰まりを防止できることが記載されている。
また、水系顔料分散液の製造方法として、特許文献２には、ジエン系単量体を構成単位として含み、かつスルホン酸基を有する重合体である分散剤、及び水溶性有機溶媒の存在下にて顔料を水中に分散させる方法が記載されている。

日本国特開２０１４−１６２８７５号公報 日本国特開２００５−２５５７３９号公報

特許文献１の水系顔料分散液は、特許文献１に記載されたように優れた性能を示すものであるが、インクジェット用インクとして用いた際のインクの吐出速度に関して更なる検討の余地があることが分かった。
また、特許文献２の方法で得られた水系顔料分散液についてもインクジェット用インクとして用いた際のインクの吐出速度は劣ることが分かった。
更に、顔料分散液の経時安定性及び異物発生の抑制に関しても検討の余地がある。
本発明が解決しようとする課題は、経時安定性に優れ、異物が少なく、かつインクジェットプリンターで印画する際に吐出速度に優れた顔料分散液の製造方法を提供することである。

本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、特定のアゾ顔料を含む水系の顔料分散液を調製するにあたっては、水中に、（メタ）アクリル酸及び（メタ）アクリル酸エステルの共重合体である高分子分散剤と、特定の水溶性有機溶剤との存在下で顔料を分散させることで、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。

即ち、本発明の上記課題は、以下の手段により解決された。

＜１＞
工程（Ａ）：顔料、高分子分散剤、水溶性有機溶剤、及び水を含む組成物を得る工程、並びに、
工程（Ｂ）：分散機を用いて、上記工程（Ａ）で得られた上記組成物中の顔料を分散させ、顔料分散液を得る工程、を含み、
上記顔料は、下記一般式（１）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩を含む顔料であり、
上記高分子分散剤は、下記一般式（２−１）で表される繰り返し単位及び下記一般式（２−２）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物であり、
上記水溶性有機溶剤は、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、及びジグリセロールから選択される少なくとも１種である、顔料分散液の製造方法。

一般式（１）中、
Ｚは、置換基を有していてもよい、５員ヘテロ環又は６員ヘテロ環を表す。
Ｙ_１、Ｙ_２、Ｒ_１１及びＲ_１２は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。
Ｇ_１及びＧ_２は、それぞれ独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、置換若しくは無置換のアルキニル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテロ環基を表す。
Ｗ_１及びＷ_２は、それぞれ独立に置換若しくは無置換のアルコキシ基、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。

一般式（２−１）中、Ｒ_１は水素原子、又はメチル基若しくは置換メチル基を表し、Ｒ_２は置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。
一般式（２−２）中、Ｒ_３は水素原子、又はメチル基若しくは置換メチル基を表す。Ｍは水素原子又はカウンターカチオンを表す。
＜２＞
上記分散機が、分散メディアを用いる分散機である＜１＞に記載の顔料分散液の製造方法。
＜３＞
更に、上記工程（Ｂ）で得られた顔料分散液を４０〜９５℃で加熱する工程を含む＜１＞又は＜２＞に記載の顔料分散液の製造方法。
＜４＞
上記工程（Ａ）で得られた上記組成物中の上記水溶性有機溶剤の含有量が、上記組成物全体に対して、０．１〜３０質量％である＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の顔料分散液の製造方法。
＜５＞
上記高分子分散剤の重量平均分子量が５，０００〜５０，０００である＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の顔料分散液の製造方法。
＜６＞
上記顔料が、下記式（ｄ１）、式（ｄ２）、又は式（ｄ３）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩の少なくとも１種を含む顔料である＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の顔料分散液の製造方法。

＜７＞
上記一般式（２−１）中のＲ_１がメチル基を表し、Ｒ_２がベンジル基を表す＜１＞〜＜６＞のいずれか１項に記載の顔料分散液の製造方法。

本発明によれば、経時安定性に優れ、異物が少なく、かつインクジェットプリンターで印画する際に吐出速度に優れた顔料分散液の製造方法を提供することができる。

本明細書では、「（メタ）アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートの少なくとも一種を表し、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタクリルの少なくとも一種を表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの少なくとも一種を表す。

本発明の顔料分散液の製造方法は、
工程（Ａ）：顔料、高分子分散剤、水溶性有機溶剤、及び水を含む組成物を得る工程、並びに、
工程（Ｂ）：分散機を用いて、上記工程（Ａ）で得られた上記組成物中の顔料を分散させ、分散液を得る工程、を含み、
上記顔料は、下記一般式（１）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩を含む顔料であり、
上記高分子分散剤は、下記一般式（２−１）で表される繰り返し単位及び下記一般式（２−２）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物であり、
上記水溶性有機溶剤は、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、及びジグリセロールから選択される少なくとも１種である、分散液の製造方法である。

一般式（１）中、
Ｚは、置換基を有していてもよい、５員ヘテロ環又は６員ヘテロ環を表す。
Ｙ_１、Ｙ_２、Ｒ_１１及びＲ_１２は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。
Ｇ_１及びＧ_２は、それぞれ独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、置換若しくは無置換のアルキニル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテロ環基を表す。
Ｗ_１及びＷ_２は、それぞれ独立に置換若しくは無置換のアルコキシ基、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。

一般式（２−１）中、Ｒ_１は水素原子、又はメチル基若しくは置換メチル基を表し、Ｒ_２は置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。
一般式（２−２）中、Ｒ_３は水素原子、又はメチル基若しくは置換メチル基を表す。Ｍは水素原子又はカウンターカチオンを表す。

本発明の顔料分散液の製造方法で得られる顔料分散液が、経時安定性に優れ、異物が少なく、かつインクジェットプリンターで印画する際に吐出速度に優れる要因は詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推定している。
本発明の顔料分散液の製造方法は、水中に、特定の高分子分散剤と特定の水溶性有機溶剤とが存在する状態で、顔料を分散させるものであるが、本発明で用いる特定の顔料は、特定の水溶性有機溶剤に対して僅かに溶解するため、顔料が分散メディア等により破砕され、新たな顔料表面が表出した際の顔料表面に特定の水溶性有機溶剤が作用し、顔料表面の活性をすばやく抑制することができると考えられる。その結果、本発明の製造方法で得られる顔料分散液には、顔料の２次凝集体のような異物の発生が抑えられ、分散安定性の高い顔料分散液を得ることが可能となると考えられる。さらに、吐出性に影響を及ぼす凝集体が少なくなることから、インクジェット用インクとして用いた際のインクの吐出速度が良好となると考えられる。

以下に、本発明に用いる各成分につき説明する。

（顔料）
本発明で用いる顔料は、下記一般式（１）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩を含む顔料である。

一般式（１）中、
Ｚは、置換基を有していてもよい、５員ヘテロ環又は６員ヘテロ環を表す。
Ｙ_１、Ｙ_２、Ｒ_１１及びＲ_１２は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。
Ｇ_１及びＧ_２は、それぞれ独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、置換若しくは無置換のアルキニル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテロ環基を表す。
Ｗ_１及びＷ_２は、それぞれ独立に置換若しくは無置換のアルコキシ基、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。

一般式（１）で表される化合物は、その特異的な構造により分子内及び分子間相互作用（水素結合やπ−πスタッキング）を形成しやすく耐光性に優れ、水又は有機溶媒等に対する溶解性が低く、好ましい形態のアゾ顔料とすることができる。顔料は、媒体中に分子集合体等の粒子として分散させて用いられる。

一般式（１）において、Ｗ_１及びＷ_２は、それぞれ独立に置換若しくは無置換のアルコキシ基、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。

Ｗ_１、Ｗ_２が置換若しくは無置換のアルキル基を表す場合のアルキル基としては、直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルキル基が挙げられ、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えば、アルコキシ基、アルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。直鎖又は分岐状の置換若しくは無置換のアルキル基としては、好ましくは、置換若しくは無置換の炭素数１から３０のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、２―エチルヘキシル基等が挙げられる。置換若しくは無置換のシクロアルキル基としては、好ましくは、置換若しくは無置換の炭素数３から３０のシクロアルキル基であり、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等が挙げられる。置換若しくは無置換のビシクロアルキル基としては、好ましくは、置換若しくは無置換の炭素数５から３０のビシクロアルキル基であり、すなわち、置換若しくは無置換の炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基等が挙げられる。アルキル基が有していてもよい置換基については後で更に詳述する。

Ｗ_１、Ｗ_２が置換若しくは無置換のアルコキシ基を表す場合のアルコキシ基としては、好ましくは炭素数１から３０のアルコキシ基であり、炭素数１から８のアルコキシ基がより好ましく、炭素数１から４のアルコキシ基が更に好ましい。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基等が挙げられ、特に好ましくはメトキシ基である。アルコキシ基は置換基を有していてもよい。置換基については後述する。

Ｗ_１、Ｗ_２が置換若しくは無置換のアミノ基を表す場合の置換若しくは無置換のアミノ基としては、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基が好ましく、より好ましくは、アミノ基、炭素数１から３０のアルキルアミノ基、炭素数６から３０のアニリノ基であり、更に好ましくは、アミノ基、炭素数１から８のアルキルアミノ基、炭素数６から１８のアニリノ基であり、特に好ましくは、アミノ基、炭素数１から４のアルキルアミノ基、炭素数６から１２のアニリノ基である。置換若しくは無置換のアミノ基としては、例えば、アミノ基（−ＮＨ_２）、メチルアミノ基（−ＮＨＣＨ_３）、ジメチルアミノ基｛−Ｎ（ＣＨ_３）_２｝、アニリノ基（−ＮＨＰｈ）、Ｎ−メチル−アニリノ基｛−Ｎ（ＣＨ_３）Ｐｈ｝、ジフェニルアミノ基｛−Ｎ（Ｐｈ）_２｝等が挙げられ、特に好ましくはアミノ基である。Ｐｈはフェニル基を表す。アミノ基が有していてもよい置換基については後で更に詳述する。

Ｗ_１、Ｗ_２が置換若しくは無置換のアリール基を表す場合のアリール基としては、好ましくは、炭素数６から３０のアリール基であり、炭素数６から１８のアリール基がより好ましく、炭素数６から１２のアリール基が更に好ましい。置換若しくは無置換のアリール基としては、例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基等が挙げられる。アリール基が有していてもよい置換基については後で更に詳述する。

Ｗ_１、Ｗ_２は、それぞれ独立に置換若しくは無置換のアルコキシ基、置換若しくは無置換のアミノ基又は置換若しくは無置換のアルキル基を表すことが好ましく、置換若しくは無置換のアルコキシ基又は置換若しくは無置換のアミノ基を表すことがより好ましく、総炭素数５以下のアルコキシ基、アミノ基（−ＮＨ_２基）、又は総炭素数５以下のアルキルアミノ基を表すことが更に好ましく、総炭素数３以下のアルコキシ基又は総炭素数３以下のアルキルアミノ基を表すことが特に好ましく、メトキシ基を表すことが最も好ましい。

一般式（１）において、Ｒ_１１、Ｒ_１２はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。
Ｒ_１１、Ｒ_１２が置換基を表す場合の置換基としては、置換若しくは無置換のアルキル基（例えば、置換若しくは無置換の炭素数１〜１２の直鎖又は分岐状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、２−メチルスルホニルエチル、３−フェノキシプロピル、トリフルオロメチル）、置換若しくは無置換の炭素数７〜１８のアラルキル基、置換若しくは無置換の炭素数２〜１２の直鎖又は分岐状のアルケニル基、置換若しくは無置換の炭素数２〜１２の直鎖又は分岐状のアルキニル基、置換若しくは無置換の炭素数３〜１２のシクロアルキル基（例えば、シクロペンチル）、置換若しくは無置換の炭素数３〜１２のシクロアルケニル基、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子）、置換若しくは無置換のアリール基（例えば、フェニル、４−ｔ−ブチルフェニル、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニル）、置換若しくは無置換のヘテロ環基（例えば、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシ基、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のアルキルオキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、２−メトキシエトキシ、２−メチルスルホニルエトキシ）、置換若しくは無置換のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、３−ｔ−ブチルオキシカルボニルフェノキシ、３−メトキシカルボニルフェニルオキシ）、置換若しくは無置換のアシルアミノ基（例えば、アセトアミド、ベンズアミド、４−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）ブタンアミド）、置換若しくは無置換のアルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ、ブチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルブチルアミノ）、置換若しくは無置換のアリールアミノ基（例えば、フェニルアミノ、２−クロロアニリノ）、置換若しくは無置換のウレイド基（例えば、フェニルウレイド、メチルウレイド、Ｎ，Ｎ−ジブチルウレイド）、置換若しくは無置換のスルファモイルアミノ基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルアミノ）、置換若しくは無置換のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ、オクチルチオ、２−フェノキシエチルチオ）、置換若しくは無置換のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ、２−ブトキシ−５−ｔ−オクチルフェニルチオ、２−カルボキシフェニルチオ）、置換若しくは無置換のアルキルオキシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニルアミノ）、置換若しくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基及びアリールスルホニルアミノ基（例えば、メチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、ｐ−トルエンスルホニルアミノ）、置換若しくは無置換のカルバモイル基（例えば、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル）、置換若しくは無置換のスルファモイル基（例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル）、置換スルホニル基（例えば、メチルスルホニル、オクチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル）、置換若しくは無置換のアルキルオキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル）、置換若しくは無置換のヘテロ環オキシ基（例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、置換アゾ基（例えば、フェニルアゾ、４−メトキシフェニルアゾ、４−ピバロイルアミノフェニルアゾ、２−ヒドロキシ−４−プロパノイルフェニルアゾ）、置換若しくは無置換のアシルオキシ基（例えば、アセトキシ）、置換若しくは無置換のカルバモイルオキシ基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ）、置換若しくは無置換のシリルオキシ基（例えば、トリメチルシリルオキシ、ジブチルメチルシリルオキシ）、置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基（例えば、フェノキシカルボニルアミノ）、置換イミド基（例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、置換若しくは無置換のヘテロ環チオ基（例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、２，４−ジ−フェノキシ−１，３，５−トリアゾール−６−チオ、２−ピリジルチオ）、置換若しくは無置換のスルフィニル基（例えば、３−フェノキシプロピルスルフィニル）、置換若しくは無置換のホスホニル基（例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル）、置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル）、置換若しくは無置換のアシル基（例えば、アセチル、３−フェニルプロパノイル、ベンゾイル）、イオン性親水性基（例えば、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基及び４級アンモニウム基）が挙げられる。

Ｒ_１１、Ｒ_１２はそれぞれ独立に、置換若しくは無置換の総炭素数１〜８のアシルアミノ基、置換若しくは無置換の総炭素数１〜１２のアルキル基、置換若しくは無置換の総炭素数６〜１８のアリール基、又は置換若しくは無置換の総炭素数４〜１２のヘテロ環基を表すことが好ましく、総炭素数１〜８の直鎖又は分岐状のアルキル基、又は置換若しくは無置換の総炭素数６〜１８のアリール基を表すことがより好ましく、総炭素数１〜８の直鎖又は分岐状のアルキル基が好ましい。具体的には、メチル基、ｉ−プロピル基又はｔ−ブチル基が好ましく、特にｉ−プロピル基又はｔ−ブチル基が好ましく、ｔ−ブチル基が最も好ましい。

一般式（１）において、Ｚは置換基を有していてもよい、５員ヘテロ環又は６員ヘテロ環を表し、好ましくは、炭素数３から１０の６員含窒素ヘテロ環である。２つの置換基が互いに結合して縮環を形成してもよい。なお、置換基については後述する。

Ｚが表す５員ヘテロ環又は６員ヘテロ環としては、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、ピロリン環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、チアジアゾール環、イソオキサゾール環、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、イミダゾリジン環、チアゾリン環などが挙げられる。５員ヘテロ環又は６員ヘテロ環の２つの置換基が互いに結合して形成される縮環としては、キノリン環、イソキノリン環、シンノリン環、フタラジン環、キノキサリン環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイソオキサゾール環などが挙げられる。

Ｚは好ましくは、ピリジン環、ピリミジン環、Ｓ−トリアジン環、ピリダジン環、ピラジン環、１，２，４−チアジアゾール環、１，３，４−チアジアゾール環、イミダゾール環であり、より好ましくは、ピリジン環、ピリミジン環、Ｓ−トリアジン環、ピリダジン環、ピラジン環であり、特に色相、着色力、画像堅牢性の点から、ピリミジン環、Ｓ−トリアジン環が好ましく、更に４位及び６位で式（１）の窒素原子と連結するピリミジン環、２位に炭素数１〜４のアルコキシ基を有するＳ−トリアジン環が色相と画像堅牢性の点から好ましく、特に２位に炭素数１〜４のアルコキシ基を有するＳ−トリアジン環が良好な画像の光堅牢性向上の点から最も好ましい。

一般式（１）において、Ｇ_１及びＧ_２は、それぞれ独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０）、置換若しくは無置換のアラルキル基（好ましくは炭素数７〜２０）、置換若しくは無置換のアルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０）、置換若しくは無置換のアルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０）、置換若しくは無置換のアリール基（好ましくは炭素数２〜２０）、又は置換若しくは無置換のヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜２０）を表す。
Ｇ_１及びＧ_２は、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロプロピル基、ベンジル基、２−フェネチル基、ビニル基、アリル基、エチニル基、プロパルギル基、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ピリジル基、ピリミジニル基、又はピラジニル基を表すことが好ましく、水素原子、メチル基、フェニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、又はピラジニル基を表すことがより好ましく、総炭素数１〜８の直鎖若しくは分岐状のアルキル基、２−ピリジル基、２，６−ピリミジニル基、２，５−ピラジニル基、又はフェニル基を表すことが更に好ましく、総炭素数３以下のアルキル基がより好ましい。更に色相と画像堅牢性の観点から、水素原子、メチル基、フェニル基が好ましく、その中でも色相と光堅牢性向上の点からメチル基が特に好ましい。

一般式（１）において、Ｙ_１及びＹ_２はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。
Ｙ_１、Ｙ_２が置換基を表す場合の置換基の例は、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。
Ｙ_１及びＹ_２として特に好ましくは、水素原子、アルキル基（例えば、メチル基）アリール基（例えば、フェニル基）、ヘテロ環基（例えば２−ピリジル基）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基）であり、更に水素原子、総炭素数１〜４の直鎖又は分岐アルキル基、フェニル基、メチルチオ基であることが好ましい。更に色相と画像堅牢性の観点から、水素原子、メチル基が好ましく、その中でも色相と光堅牢性向上の点から水素原子が特に好ましい。

一般式（１）において、Ｇ_１、Ｇ_２、Ｙ_１、Ｙ_２、Ｗ_１、Ｗ_２、Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｚが、更に置換基を有する場合の置換基としては、下記の置換基（以下「置換基Ｊ」と称する場合がある）を挙げることができる。

（置換基Ｊ）
置換基Ｊとしては、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。

更に詳しくは、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子が挙げられる。

アルキル基としては、直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルキル基が挙げられ、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。詳細には、アルキル基としては、好ましくは、炭素数１から３０のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、２―エチルヘキシル基等が挙げられ、シクロアルキル基としては、好ましくは、炭素数３から３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等が挙げられ、ビシクロアルキル基としては、好ましくは、炭素数５から３０の置換若しくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基等が挙げられる。

アラルキル基としては、置換若しくは無置換のアラルキル基が挙げられ、置換若しくは無置換のアラルキル基としては、炭素原子数が７〜３０のアラルキル基が好ましい。例えばベンジル基及び２−フェネチル基を挙げられる。

アルケニル基としては、直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルケニル基が挙げられ、シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を包含する。詳細には、アルケニル基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基等が挙げられ、シクロアルケニル基としては、好ましくは、炭素数３から３０の置換若しくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３から３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基等が挙げられ、ビシクロアルケニル基としては、置換若しくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５から３０の置換若しくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基等が挙げられる。

アルキニル基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。

アリール基としては、好ましくは、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリール基、例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基等が挙げられる。

ヘテロ環基としては、好ましくは、５又は６員の置換若しくは無置換の芳香族若しくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３から３０の５又は６員の芳香族のヘテロ環基、例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。

アルコキシ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基等が挙げられる。

アリールオキシ基としては、好ましくは、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基等が挙げられる。

シリルオキシ基としては、好ましくは、炭素数０から２０の置換若しくは無置換のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ジフェニルメチルシリルオキシ基等が挙げられる。

ヘテロ環オキシ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換のヘテロ環オキシ基、例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基等が挙げられる。

アシルオキシ基としては、好ましくは、ホルミルオキシ基、炭素数２から３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基等が挙げられる。

カルバモイルオキシ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基等が挙げられる。

アルコキシカルボニルオキシ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えば、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。

アリールオキシカルボニルオキシ基としては、好ましくは、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。

アミノ基としては、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含み、好ましくは、アミノ基、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアニリノ基、例えば、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基等が挙げられる。

アシルアミノ基としては、好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基等が挙げられる。

アミノカルボニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基等が挙げられる。

アルコキシカルボニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。

アリールオキシカルボニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。

スルファモイルアミノ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基等が挙げられる。

アルキル又はアリールスルホニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基等が挙げられる。
アルキルチオ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルチオ基、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基等が挙げられる。

アリールチオ基としては、好ましくは、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基等が挙げられる。

ヘテロ環チオ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換又は無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基等が挙げられる。

スルファモイル基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル基等が挙げられる。

アルキル又はアリールスルフィニル基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、６から３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基等が挙げられる。

アルキル又はアリールスルホニル基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、６から３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基等が挙げられる。

アシル基としては、好ましくは、ホルミル基、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数２から３０の置換若しくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイル基、２−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル基、２−ピリジルカルボニル基、２−フリルカルボニル基等が挙げられる。

アリールオキシカルボニル基としては、好ましくは、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル基等が挙げられる。

アルコキシカルボニル基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。

カルバモイル基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基等が挙げられる。

アリール又はヘテロ環アゾ基としては、好ましくは炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３から３０の置換若しくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基等が挙げられる。

イミド基としては、好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基等が挙げられる。

ホスフィノ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基等が挙げられる。

ホスフィニル基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基等が挙げられる。

ホスフィニルオキシ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基等が挙げられる。

ホスフィニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基が挙げられる。

シリル基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基等が挙げられる。

上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、その水素原子が更に上記の置換基で置換されていても良い。そのような置換基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。

一般式（１）で表される化合物の具体例としては、特開２０１１−７４３７６号公報の［０１２４］〜［０１３９］に記載された化合物が参照できる。
本発明における顔料は、下記式（ｄ１）、式（ｄ２）、又は式（ｄ３）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩の少なくとも１種を含む顔料であることが好ましく、下記式（ｄ１）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩の少なくとも１種を含む顔料であることがより好ましい。

本発明で用いる顔料に結晶多形が存在する場合、どの多形であってもよく、また２種以上の多形の混合物であっても良いが、結晶型が単一のものを主成分とすることが好ましい。すなわち結晶多形が混入していないものが好ましく、単一の結晶型を有する顔料の含有量は顔料全体に対し７０％〜１００％、好ましくは８０％〜１００％、より好ましくは９０％〜１００％、更に好ましくは９５％〜１００％、特に好ましくは１００％である。

本発明で用いる顔料は、一般式（１）で表される化合物の互変異性体を含むものであってもよい。
一般式（１）は、化学構造上取りうる数種の互変異性体の中から極限構造式の形で示しているが、記載された構造以外の互変異性体であってもよく、複数の互変異性体を含有した混合物として用いても良い。
例えば、一般式（１）で表される化合物には、下記一般式（１’）で表されるアゾ−ヒドラゾンの互変異性体が考えられる。

一般式（１’）中、Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｗ_１、Ｗ_２、Ｙ_１、Ｙ_２、Ｇ_１、Ｇ_２及びＺは一般式（１）中のＲ_１１、Ｒ_１２、Ｗ_１、Ｗ_２、Ｙ_１、Ｙ_２、Ｇ_１、Ｇ_２及びＺと同義である。

一般式（１）で表される化合物は、酸基を有する場合には、酸基の一部あるいは全部が塩型のものであってもよく、塩型の化合物と遊離酸型の化合物が混在していてもよい。塩型の例としてＮａ、Ｌｉ、Ｋ等のアルカリ金属の塩、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等のアルカリ土類金属の塩、アルキル基若しくはヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウムの塩、又は有機アミンの塩が挙げられる。有機アミンの例として、低級アルキルアミン、ヒドロキシ置換低級アルキルアミン、カルボキシ置換低級アルキルアミン及び炭素数２〜４のアルキレンイミン単位を２〜１０個有するポリアミン等が挙げられる。これらの塩型の場合、その種類は１種類に限られず複数種混在していてもよい。

一般式（１）で表される化合物は、その１分子中に酸基が複数個含まれる場合は、その複数の酸基は塩型あるいは遊離酸型であり互いに異なるものであってもよい。

本発明で用いる顔料は、結晶中に水分子を含む水和物であっても良い。

本発明で用いる顔料は、一般式（１）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩を含む顔料であり、一般式（１）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩の分子の集合体が微粒子の形態となったものである。顔料中の一般式（１）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩の含有率は、８０質量％以上であることが好ましい。
本発明で用いられる一般式（１）で表される化合物の合成方法、及び顔料の製造方法（ソルベントソルトリミング等の後処理を含む）としては、特開２０１１−７４３７６号公報の［０１５３］〜［０１５９］の記載を参照することができる。

本発明の製造方法で用いられる顔料の量は、工程（Ａ）の組成物及び工程（Ｂ）の顔料分散液に対して、０．１〜５０質量％であることが好ましく、１〜３０質量％であることがより好ましい。

（高分子分散剤）
本発明で用いる高分子分散剤は、下記一般式（２−１）で表される繰り返し単位及び下記一般式（２−２）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物である。

一般式（２−１）中、Ｒ_１は水素原子、又はメチル基若しくは置換メチル基を表し、Ｒ_２は置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。
一般式（２−２）中、Ｒ_３は水素原子、又はメチル基若しくは置換メチル基を表す。Ｍは水素原子又はカウンターカチオンを表す。

上記一般式（２−１）中、Ｒ_１は水素原子、又はメチル基若しくは置換メチル基を表す。Ｒ_１は水素原子又はメチル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。置換メチル基が有する置換基としては、前述の置換基Ｊが挙げられる。

上記一般式（２−１）中、Ｒ_２は置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。
置換若しくは無置換のアルキル基としては、置換若しくは無置換の炭素数１〜３０のアルキル基が好ましく、置換若しくは無置換の炭素数１〜２０のアルキル基がより好ましく、具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２―エチルヘキシル基、又は２−フェノキシエチル基であることが好ましい。
置換若しくは無置換のアラルキル基としては、置換若しくは無置換の炭素数７〜３０のアラルキル基が好ましく、置換若しくは無置換の炭素数７〜２０のアラルキル基がより好ましく、具体的にはベンジル基又は２−フェネチル基であることが好ましい。
置換若しくは無置換のアリール基としては、置換若しくは無置換の炭素数６〜３０のアリール基が好ましく、置換若しくは無置換の炭素数６〜２０のアリール基がより好ましく、具体的にはフェニル基、ｐ−トリル基、又はナフチル基であることが好ましい。
上記アルキル基、アラルキル基、及びアリール基が、置換基を有する場合の置換基としては、前述の置換基Ｊが挙げられる。

Ｒ_２はベンジル基、メチル基、２−エチルヘキシル基、又は２−フェノキシエチル基であることが好ましく、より好ましくはベンジル基である。

一般式（２−２）中、Ｒ_３は水素原子、又はメチル基若しくは置換メチル基を表す。Ｒ_３は水素原子又はメチル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。置換メチル基が有する置換基としては、前述の置換基Ｊが挙げられる。

一般式（２−２）中、Ｍは水素原子又はカウンターカチオンを表す。Ｍがカウンターカチオンを表す場合、カウンターカチオンとしては、ナトリウムイオン、リチウムイオン、カリウムイオン等のアルカリ金属イオン、アンモニウムイオン、有機カチオンが挙げられる。有機カチオンの例として、低級アルキルアンモニウムカチオン、ヒドロキシ置換低級アルキルアンモニウムカチオン、カルボキシ置換低級アルキルアンモニウムカチオン及び炭素数２〜４のアルキレンイミン単位を２〜１０個有する有機カチオン等が挙げられる。
一般式（２−２）中のＭは、すべてが水素原子であっても良いし、すべてがカウンターカチオンであっても良いし、一部が水素原子で一部がカウンターカチオンであっても良い。また、カウンターカチオンは１種でも良いし、２種以上が混在していても良い。水素原子とカウンターカチオンの比率（水素原子／カウンターカチオンのモル比率）は、５０／５０〜０／１００であることが好ましく、３０／７０〜０／１００であることがより好ましい。

高分子分散剤は、上記一般式（２−１）で表される繰り返し単位と上記一般式（２−２）で表される繰り返し単位とを有するものであるが、上記一般式（２−１）で表される繰り返し単位／上記一般式（２−２）で表される繰り返し単位、として表される、高分子分散剤１分子中に含まれる各モノマー単位の含有比率（モル比率）が、５０／５０〜９０／１０であることが、異物の抑制の観点から好ましく、６０／４０〜８０／２０であることがより好ましい。
高分子分散剤中に含まれる上記一般式（２−１）で表される繰り返し単位、及び上記一般式（２−２）で表される繰り返し単位は、それぞれ１種であってもよく、２種以上であってもよい。

高分子分散剤は、更に他の繰り返し単位を含有していてもよい。他の繰り返し単位としては例えば、スチレン、（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。高分子分散剤が、他の繰り返し単位を含有する場合、他の繰り返し単位の含有量としては、高分子分散剤の全繰り返し単位に対して、０．１〜２０モル％が好ましい。

本発明に用いられる高分子分散剤は、どのような適切な手段によって製造されてもよいが、上記一般式（２−１）で表されるモノマー、及び上記一般式（２−２）で表されるモノマーをフリーラジカル重合にて共重合することが好ましい。適切なフリーラジカル重合は、懸濁重合、溶液重合、分散重合、乳化重合等、特に限定されないが、好ましくは溶液重合である。

高分子分散剤の重合においては、通常、重合温度は、好ましくは５０〜１５０℃、より好ましくは６０〜１２０℃であり、重合時間は、好ましくは１〜２４時間である。また、重合雰囲気は、窒素ガス、アルゴン等の不活性ガス雰囲気であることが好ましい。
重合反応は、重合開始剤を重合溶媒に添加して調製した開始剤溶液と、原料となるモノマー及び連鎖移動剤を重合溶媒に添加して調製したモノマー溶液とを、重合溶媒を添加した反応容器内にそれぞれ滴下混合する等により行うことが好ましい。
重合反応終了後、反応溶液から再沈殿、溶媒留去等の公知の方法により、精製した高分子分散剤を単離することができる。また、得られた高分子分散剤は、再沈殿を繰り返す、膜分離、クロマトグラフ法、抽出法等により、未反応モノマー等を除去して精製することができる。

重合溶媒としては、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、ジグリセロール、ジプロピレングリコール、２−ピロリドン、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、イソプロパノール、メチルエチルケトンなどが挙げられる。
本発明においては、後述する特定の水溶性有機溶剤である、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、及びジグリセロールから選択される少なくとも１種の水溶性有機溶剤を重合溶媒として用いることが好ましい態様の１つである。この場合、高分子分散剤を重合により得るとともに、重合溶媒として使用した水溶性有機溶剤を本発明の製造方法の工程（Ａ）における水溶性有機溶剤としてそのまま用いることが、製造工程の簡略化の観点から好ましい。

高分子分散剤の重量平均分子量（Ｍｗ）は５，０００〜５０，０００であることが好ましく、７，０００〜２０，０００であることがより好ましく、７，０００〜１７，０００であることが更に好ましい。高分子分散剤の重量平均分子量が５，０００以上であると、印画物の画質が優れ好ましい。高分子分散剤の重量平均分子量が５０，０００以下であると、顔料分散液及びインクジェット用インクの粘度が高くなるのを抑制でき、インクの吐出速度を早くすることができ、好ましい。また、インクの貯蔵安定性の低下を防ぐことができ、好ましい。
本明細書において、高分子分散剤の重量平均分子量は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）法により測定したポリスチレン換算値である。ＧＰＣは、ＨＬＣ−８２２０（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫ ｇｅｌ ＧＭＨＸＬ、ＴＳＫ ｇｅｌ Ｇ４０００ＨＸＬ、およびＴＳＫ ｇｅｌ Ｇ２０００ＨＸＬ（東ソー（株）製、７．８ｍｍＩＤ×３０．０ｃｍ）を、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用いて測定した。

本発明の製造方法において用いられる高分子分散剤の量は、顔料１００質量部に対して１０〜１００質量部であることが好ましく、２０〜８０質量部であることがより好ましく、３０〜６０質量部であることが更に好ましい。高分子分散剤の量が、顔料１００質量部に対して１０質量部以上であることにより、効率的に顔料を分散させることができ好ましい。また、高分子分散剤の量が、顔料１００質量部に対して１００質量部以下であることにより、生産性が上がり経済的なため好ましい。
また、高分子分散剤は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

（水溶性有機溶剤）
本発明で用いられる水溶性有機溶剤は、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、及びジグリセロールから選択される少なくとも１種の有機溶剤であり、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、及び１，２−ヘキサンジオールから選択される少なくとも１種の有機溶剤であることが好ましく、１，２−ヘキサンジオールであることが特に好ましい。
上記水溶性有機溶剤は、本発明で用いる特定のアゾ顔料を僅かに溶解することが可能な有機溶剤である。
水溶性有機溶剤として、ポリエチレングリコールを用いる場合は、顔料分散液の粘度の観点から、重量平均分子量が１０，０００以下であるポリエチレングリコールであることが好ましく、重量平均分子量が２００〜６００であるポリエチレングリコールであることがより好ましい。
水溶性有機溶剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

本発明で用いる水溶性有機溶剤の量は、工程（Ａ）の組成物及び工程（Ｂ）の顔料分散液に対して０．１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２５質量％であることがより好ましく、５〜２５質量％であることが更に好ましい。水溶性有機溶剤の量を０．１質量％以上とすることにより、顔料が破砕された際の顔料表面に水溶性有機溶剤が十分に作用することが可能となり、３０質量％以下とすることにより、水溶性有機溶剤への顔料の溶解が抑制され、分散性の良好な分散液を得ることが可能となる。

（水）
本発明で用いる水としては、水道水や井水等であってもよく、特に制限はないが、例えば、イオン交換水、限外ろ過水、逆浸透水、蒸留水等の純水や超純水が好ましい。更に、カビやバクテリア等の発生を防ぐ目的で、紫外線処理、過酸化水素水処理等により滅菌された水を用いることも好ましい。
本発明で用いる水の量は、工程（Ａ）の組成物及び工程（Ｂ）の顔料分散液に対して、２０〜９８質量％であることが好ましく、３０〜９０質量％であることがより好ましい。

（その他の成分）
本発明において、工程（Ａ）の組成物及び工程（Ｂ）の顔料分散液は、顔料、高分子分散剤、水溶性有機溶剤、及び水に加え、その他の成分を含んでいてもよい。他の成分としては、水溶性有機溶剤以外の有機溶媒（「その他の有機溶媒」ともいう）、防腐剤等が挙げられる。

（その他の有機溶媒）
その他の有機溶媒としては、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒及びエーテル系溶媒が好ましく挙げられ、水に対する溶解度が２０℃において、５０質量％以下でかつ１０質量％以上のものが好ましい。
アルコール系溶媒としては、エタノール、イソプロパノール、ｎ-ブタノール、第３級ブタノール、イソブタノール、ジアセトンアルコール等が挙げられる。ケトン系溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。エーテル系溶媒としては、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等が挙げられる。これらの溶媒の中では、イソプロパノール、アセトン及びメチルエチルケトンが好ましく、特に、メチルエチルケトンが好ましい。これらの溶媒は、それぞれ単独で又は２種以上を混合して用いることができる。

その他の有機溶媒を用いる場合、その他の有機溶媒の量は、工程（Ａ）の組成物及び工程（Ｂ）の顔料分散液に対して０．１〜１０質量％とすることが好ましい。上記範囲とすることで、本発明の効果を損なうことなく顔料分散液を得ることができる。

（防腐剤）
本発明において、工程（Ａ）の組成物及び工程（Ｂ）の顔料分散液は防腐剤を含有していてもよい。防腐剤とは微生物、特に細菌及び真菌（カビ）の発生、発育を防止する機能を有するものをいう。
防腐剤としては、重金属イオンを含有する無機物系の防腐剤（銀イオン含有物など）や塩類を挙げることができる。また、有機系の防腐剤としては、第四級アンモニウム塩（テトラブチルアンモニウムクロリド、セチルピリジニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド等）、フェノール誘導体（フェノール、クレゾール、ブチルフェノール、キシレノール、ビスフェノール等）、フェノキシエーテル誘導体（フェノキシエタノール等）、ヘテロ環化合物（ベンゾトリアゾール、プロキセル（ＰＲＯＸＥＬ）、１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オン等）、酸アミド類、カルバミン酸、カルバメート類、アミジン・グアニジン類、ピリジン類（ナトリウムピリジンチオン−１−オキシド等）、ジアジン類、トリアジン類、ピロール・イミダゾール類、オキサゾール・オキサジン類、チアゾール・チアジアジン類、チオ尿素類、チオセミカルバジド類、ジチオカルバメート類、スルフィド類、スルホキシド類、スルホン類、スルファミド類、抗生物質類（ペニシリン、テトラサイクリン等）、デヒドロ酢酸ナトリウム、安息香酸ナトリウム、ｐ−ヒドロキシ安息香酸エチルエステル、及び、その塩など種々のものが使用可能である。
また、防腐剤としては、防菌防微ハンドブック（技報堂出版（株）：１９８６）、防菌防黴剤事典（日本防菌防黴学会事典編集委員会編）等に記載のものも使用することができる。

これらの化合物は、油溶性の構造、水溶性の構造のものなど種々のものが使用可能であるが、好ましくは水溶性の化合物である。
防腐剤としては、フェノール誘導体、又は複素環化合物が好ましく、複素環化合物が更に好ましい。
複素環化合物としては、チアゾール系化合物又はベンゾトリアゾール系化合物であることが好ましい。チアゾール系化合物は、防腐剤の中でも、特に防黴剤として機能する。チアゾール系化合物としては、ベンズイソチアゾリン、イソチアゾリン、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、２−（チオシアノメチルチオ）ベンズチアゾール、２−メルカプトベンズチアゾール及び３−アリルオキシ−１，２−ベンズイソチアゾール−１，１−オキシド等を挙げることができる。また、チアゾール系防黴剤としては、アーチ・ケミカルズ（株）より製造販売されているＰＲＯＸＥＬ（商標）シリーズ（ＢＤＮ、ＢＤ２０、ＧＸＬ、ＬＶ、ＸＬ２及びＵｌｔｒａ１０等）を使用することもできる。

ベンゾトリアゾール系化合物は、防腐剤の中でも、特に防錆剤として機能し、例えばインクジェットヘッドを構成する金属材料（特に４２合金（４２％ニッケルを含有するニッケル−鉄合金））がインクとの接触を原因の一つとする錆の発生を防止することができる。ベンゾトリアゾール系化合物としては、１Ｈ−ベンゾトリアゾール、４−メチル−１Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−メチル−１Ｈ−ベンゾトリアゾール及びこれらのナトリウム塩又はカリウム塩等を挙げることができる。

防腐剤は単独でも２種以上を組み合わせ水溶液に添加することができる。
防腐剤が、複素環化合物、フェノール誘導体、フェノキシエーテル誘導体、及び、アルカンジオール類よりなる群から選ばれた少なくとも１種であることが好ましく、少なくとも１種の防腐剤が、複素環化合物であることがより好ましい。
防腐剤が複素環化合物であり、上記複素環化合物がチアゾール系化合物又はベンゾトリアゾール系化合物であることが更に好ましい。

防腐剤の含有量は、広い範囲で使用可能であるが、顔料に対して、０．０１〜２０質量％が好ましく、０．１〜１０質量％がより好ましく、０．５〜５質量％が更に好ましい。

〔顔料分散液の製造方法〕
本発明の顔料分散液の製造方法は、
工程（Ａ）：上記顔料、上記高分子分散剤、上記水溶性有機溶剤、及び水を含む組成物を得る工程、並びに、
工程（Ｂ）：分散機を用いて、工程（Ａ）で得られた組成物中の顔料を分散させ、顔料分散液を得る工程、を含む。
以下に各工程について説明する。

＜工程（Ａ）＞
工程（Ａ）は、上記顔料、上記高分子分散剤、上記水溶性有機溶剤、及び水を含む組成物を得る工程である。工程（Ａ）において、各成分を以下の組成で混合することが好ましい。
（ａ）２０〜９８質量部、好ましくは３０〜９０質量部の水
（ｂ）０．１〜５０質量部、好ましくは１〜３０質量部の顔料
（ｃ）０．１〜４０質量部、好ましくは１〜３０質量部の高分子分散剤
（ｄ）０．１〜３０質量部、好ましくは１〜２５質量部の水溶性有機溶剤
ただし、得られる組成物の総質量を１００質量部とした際に（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＋（ｄ）の和は１００質量部以下である。
用いる顔料の量／高分子分散剤の量の質量比は１０／１〜１０／１０が好ましく、１０／２〜１０／８がより好ましく、１０／３〜１０／６が更に好ましい。
用いる顔料の量／水溶性有機溶剤の量の質量比は１０／１〜１０／２０が好ましく、１０／３〜１０／１５がより好ましい。

工程（Ａ）においては、各成分を公知の混合方法で混合することが好ましい。混合方法は、特に制限はない。
また、工程（Ａ）における混合温度や混合時間は、特に限定されず、所望の混合の進行状況に応じ適宜選択すればよい。
工程（Ａ）においては、各成分は任意の順で混合してもよい。
また、工程（Ａ）において、必要に応じ、上述の水溶性有機溶剤以外の有機溶媒、防腐剤、多価金属イオン等の他の成分を添加してもよい。

高分子分散剤を重合により作製する際の重合溶媒として、上述の水溶性有機溶剤を用いた場合には、上記重合溶媒を工程（Ａ）における水溶性有機溶剤として用いてもよいし、水溶性有機溶剤を別途添加してもよい。

＜工程（Ｂ）＞
工程（Ｂ）は、分散機を用いて、工程（Ａ）で得られた組成物中の顔料を分散させ、顔料分散液を得る工程である。
工程（Ｂ）では、工程（Ａ）で得られた組成物を分散機により撹拌等を行い、組成物中の顔料を分散させて顔料分散液とする。
なお、工程（Ｂ）では、工程（Ａ）で得られた組成物を用いるが、工程（Ａ）と工程（Ｂ）とが同時に行われてもよい。工程（Ａ）と工程（Ｂ）とが同時に行われる場合の例としては、分散機に工程（Ａ）で用いる顔料、高分子分散剤、水溶性有機溶剤、及び水を投入し、工程（Ａ）の組成物を得ると同時に分散機による分散を行う場合などが挙げられる。

工程（Ｂ）では、顔料の体積平均粒子径が所望の範囲となるように、分散させることが好ましく、顔料の体積平均粒子径が１００ｎｍ以下となるように、分散することがより好ましい。

工程（Ｂ）における顔料の分散方法は、公知の分散機を用いて行うことができ、特に限定されない。工程（Ｂ）には、例えば、ミル方式（例えば、コロイドミル、ボールミル、サンドミル、ビーズミル、アトライター、ロールミル、ジェットミル、ペイントシェイカー、アジテーターミル等）、超音波方式（超音波ホモジナイザー）、高圧乳化分散方式（高圧ホモジナイザー；具体的な市販装置としてはゴーリンホモジナイザー、マイクロフルイダイザー、ＤｅＢＥＥ２０００等）、高速撹拌型分散機等を使用することができる。
これらの中でも、ミル方式であることが好ましく、媒体分散方式、すなわち分散メディアを用いる分散機（コロイドミル、ボールミル、サンドミル、ビーズミル等）であることがより好ましく、ビーズミルが更に好ましい。

＜工程（Ｃ）＞
本発明の顔料分散液の製造方法は、工程（Ｂ）の後に、工程（Ｃ）として、工程（Ｂ）で得られた顔料分散液に加熱処理を行う工程（以下、単に「加熱処理工程」ともいう。）を更に含むことが好ましい。加熱処理工程を有することにより、顔料分散液中の顔料と高分子分散剤との関係がより安定なものとなり、顔料分散液中の異物の生成がさらに抑制される。
加熱処理工程における加熱温度としては、４０℃以上９５℃以下が好ましく、５０℃以上９５℃以下がより好ましく、６０℃以上９５℃以下が更に好ましい。
また、加熱処理工程における加熱時間としては、５分以上が好ましく、５分以上２４時間以下がより好ましく、３０分以上１２時間以下が更に好ましい。
また、加熱処理工程において、撹拌を行いながら加熱処理を行ってもよい。

本発明の顔料分散液の製造方法は、上記の工程（Ａ）〜工程（Ｃ）に加え、他の工程を含んでいてもよい。

＜ｐＨ調整工程＞
本発明の顔料分散液の製造方法は、ｐＨ調整工程を有していてもよい。ｐＨを特定の値に調整することにより、保存安定性に優れた顔料分散液が得られる。
ｐＨ調整工程は、工程（Ａ）及び工程（Ｂ）の後であれば所望のタイミングで行えばよいが、工程（Ｃ）の後に行うことがより好ましい。

＜殺菌工程＞
本発明でいう殺菌とは、殺菌作用のある操作を意味し、例えば、紫外線（ＵＶ）等の光照射、アルコール等の殺菌効果を有する添加剤の添加が挙げられる。その中でも光照射が好ましい。
殺菌工程を有することにより、保存安定性により優れた顔料分散液が得られる。
光照射手段としては、４００ｎｍ以下の近紫外光又は紫外光を照射できるものが好ましく、具体的にはキセノンランプ、高圧水銀ランプ、ブラックライト、殺菌ランプ等を用いることが好ましい。
光照射時間や光照射量は、特に制限はなく、適宜選択することができる。

＜溶媒除去工程＞
本発明の顔料分散液の製造方法は、溶媒除去工程を有していてもよい。所望のインクを作製するにあたり、工程（Ａ）および工程（Ｂ）で使用した水溶性有機溶剤が不要である場合には、工程（Ｂ）の後で水溶性有機溶剤を除去してもよい。
水溶性有機溶剤を除去する方法としては、限外ろ過、ナノろ過等の膜分離法によるものが挙げられる。

＜脱イオン工程＞
本発明の顔料分散液の製造方法は、脱イオン工程を有していてもよい。特定顔料や分散剤に不純物として含まれるイオン成分を除去することにより、保存安定性に優れた顔料分散液が得られる。
脱イオン工程は、所望のタイミングで行えばよいが、工程（Ｂ）と工程（Ｃ）との間、又は、工程（Ｃ）の後に行うことが好ましく、工程（Ｃ）の後に行うことがより好ましい。
イオン成分を除去する方法としては、限外ろ過、ナノろ過等の膜分離法によるものや、イオン交換樹脂を加えて処理する方法等が挙げられる。

＜遠心分離工程＞
本発明の顔料分散液の製造方法は、工程（Ｂ）又は（Ｃ）において得られた顔料分散液を遠心分離する工程を含んでいてもよい。遠心分離操作により粗大粒子を除去することができる。
遠心分離工程を行うのは、後述するろ過工程前であることが好ましい。ろ過工程前に遠心分離工程を有することにより、粗大粒子が目詰まりを起こしてろ過性が低下することを抑制できる。
遠心分離する際の遠心力としては、５００Ｇ〜５０，０００Ｇが好ましく、７００Ｇ〜２０，０００Ｇがより好ましく、１，０００Ｇ〜１５，０００Ｇが更に好ましい。５００Ｇ以上であると、粗大粒子を十分沈降除去でき、５０，０００Ｇ以下であると、分散している顔料の沈降が抑制される。

＜ろ過工程＞
本発明の顔料分散液の製造方法は、工程（Ｂ）において得られた顔料分散液（Ｂ）及び／又は工程（Ｃ）にて得られた顔料分散液をろ過する工程を有していてもよい。
ろ過により粗大粒子を除去することができる。ろ過工程を行うのは、顔料を分散した後であれば特に限定されないが、防腐剤を添加した後、又は、顔料分散液を完成させる最後の工程として行うことが好ましい。
特に、上記加熱処理工程を有する場合には、分散している顔料及び分散剤の一部が乾燥、あるいは熟成されて、粗大粒子となり、沈降している場合があるからである。
用いることのできるフィルターとしては、ろ過を行うことができれば特に限定されないが、ろ布、ろ紙、メンブレンが好ましい。フィルターの孔径としては、０．１ｍｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下が更に好ましく、１μｍ以下が特に好ましい。

［インクジェット用インク］
本発明の顔料分散液の製造方法で得られた顔料分散液は、インクジェット用インクの製造に用いることができる。インクジェット用インクは、顔料分散液を含有し、顔料分散液の他にも各種成分を含有していてもよく、例えば溶媒（水性溶媒）、乾燥防止剤（湿潤剤）、褪色防止剤、乳化安定剤、浸透促進剤、紫外線吸収剤、防黴剤、ｐＨ調整剤、表面張力調整剤、消泡剤、粘度調整剤、分散剤、分散安定剤、防錆剤、キレート剤等の公知の添加剤（特開２００３−３０６６２３号公報に記載）が挙げられる。これらの各種添加剤は、水溶性インクの場合にはインク液に直接添加する。油溶性インクの場合には顔料分散液の調製後分散液に添加するのが一般的であるが、調製時に油相又は水相に添加してもよい。
インクジェット用インク中での顔料の含有量は、２〜１５質量％であることが好ましい。

以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。

（分散剤（Ｘ１１）の合成）
窒素雰囲気下、トリエチレングリコール１０１．４ｇを内温８０℃に昇温し、ここに表１に示す組成のモノマー溶液（Ｍ）と開始剤溶液（Ｉ）を同時に滴下開始した。モノマー溶液（Ｍ）は４時間、開始剤溶液（Ｉ）は５時間かけて滴下した。滴下終了後、８０℃にてさらに１時間攪拌した後、内温を９０℃に昇温し、さらに２時間攪拌した。加熱攪拌終了後、７０℃まで冷却し、５０％水酸化カリウム水溶液を２５．４ｇ、超純水１７．９ｇ、トリエチレングリコール１０．８ｇをこの順に添加し、７０℃で２時間攪拌した。２５℃にまで冷却し、超純水３４０．７ｇを加えて、分散剤（Ｘ１１）のトリエチレングリコール溶液を得た。分散剤（Ｘ１１）のトリエチレングリコール溶液の固形分は１９．８％、分散剤（Ｘ１１）の重量平均分子量（Ｍｗ）は９０００であった。

（分散剤（Ｘ１２）の合成）
分散剤（Ｘ１１）の合成において、モノマー溶液（Ｍ）と開始剤溶液（Ｉ）の組成を表１記載の通りに変更したこと以外は、分散剤（Ｘ１１）と同様にして、分散剤（Ｘ１２）のトリエチレングリコール溶液を得た。分散剤（Ｘ１２）のトリエチレングリコール溶液の固形分は１９．２％、分散剤（Ｘ１２）の重量平均分子量は１４０００であった。

（分散剤（Ｘ１３）の合成）
分散剤（Ｘ１１）の合成において、モノマー溶液（Ｍ）と開始剤溶液（Ｉ）の組成を表１記載の通りに変更したこと以外は、分散剤（Ｘ１１）と同様にして、分散剤（Ｘ１３）のトリエチレングリコール溶液を得た。分散剤（Ｘ１３）のトリエチレングリコール溶液の固形分は１９．９％、分散剤（Ｘ１３）の重量平均分子量は１８０００であった。

（分散剤（Ｘ１４）の合成）
１，２−ヘキサンジオール２７６．８ｇにパーブチルＯ（日油株式会社製）９．０ｇを添加し、撹拌して開始剤溶液（Ｉ）を調製した。別に１，２−ヘキサンジオール２０７．６ｇにベンジルメタクリレート４３８．０ｇ、メタクリル酸９２．０ｇ、３−メルカプトプロピオン酸２−エチルヘキシル２３．５ｇを添加、撹拌してモノマー溶液（Ｍ）を調製した。
３Ｌ３口フラスコに１，２−ヘキサンジオールを３５９．５ｇ入れ、窒素気流下、内温８５℃に昇温し、ここに開始剤溶液（Ｉ）とモノマー溶液（Ｍ）を同時に滴下開始した。開始剤溶液（Ｉ）は５時間、モノマー溶液（Ｍ）は４時間かけて滴下した。開始剤溶液（Ｉ）を添加終了後、２時間８５℃にて撹拌した後、７０℃に冷却して、ここに５０％水酸化カリウム水溶液を９６．０ｇ、水を６５．２ｇ、１，２−ヘキサンジオールを４０．７ｇ加え、７０℃にて２時間撹拌した。ここに水を１３６７ｇ添加してさらに２時間撹拌し、分散剤（Ｘ１４）の１，２−ヘキサンジオール溶液を得た。分散剤（Ｘ１４）の１，２−ヘキサンジオール溶液の固形分は１９．８％、分散剤（Ｘ１４）の重量平均分子量は８，５００であった。

分散剤（Ｘ１１）、（Ｘ１２）、（Ｘ１３）、（Ｘ１４）はいずれも下記構造の高分子化合物である。繰り返し単位の比率はモル比率である。

（分散剤（Ｘ１５）の合成）
分散剤（Ｘ１１）の合成において、モノマー溶液（Ｍ）と開始剤溶液（Ｉ）の組成を表１記載の通りに変更したこと以外は、分散剤（Ｘ１１）と同様にして、分散剤（Ｘ１５）のトリエチレングリコール溶液を得た。分散剤（Ｘ１５）のトリエチレングリコール溶液の固形分は１９．４％、分散剤（Ｘ１５）の重量平均分子量は９０００であった。

分散剤（Ｘ１５）は下記構造の高分子化合物である。繰り返し単位の比率はモル比率である。

（分散剤（Ｘ１６）の合成）
分散剤（Ｘ１１）の合成において、モノマー溶液（Ｍ）と開始剤溶液（Ｉ）の組成を表１記載の通りに変更したこと以外は、分散剤（Ｘ１１）と同様にして、分散剤（Ｘ１６）のトリエチレングリコール溶液を得た。分散剤（Ｘ１６）のトリエチレングリコール溶液の固形分は１９．８％、分散剤（Ｘ１６）の重量平均分子量は９０００であった。

分散剤（Ｘ１６）は下記構造の高分子化合物である。繰り返し単位の比率はモル比率である。

なお、比較例において用いた分散剤（Ｘ２０）は、特開２０１４−１６２８７５号公報記載の合成例（１）−４に従って合成したメタクリル酸ベンジルとメタクリル酸の共重合体（Ｍｗ８３０００）であり、溶媒はジプロピレングリコールである。また、高分子分散剤（Ｘ２１）は、特開２００５−２５５７３９号公報記載の重合体Ａを用いた。
分散剤（Ｘ２１）：イソプレン／スチレン（５０／５０モル比）ランダム共重合体のスルホン化物（特開２００５−２５５７３９号公報記載の重合体Ａ、スルホン酸基含量１．８ｍｍｏｌ／ｇ、Ｍｗ＝１００００）
「パーブチル−Ｏ」は日油（株）製、「Ｖ−６０１」は和光純薬工業（株）製の重合開始剤である。

（実施例１）
＜工程（Ａ）＞
以下に示す成分を混合して、顔料、高分子分散剤、トリエチレングリコール、水を含む組成物（１）を得た。組成物中のトリエチレングリコールの含有率は１６．７％であった。なお顔料（ｄ１）は前述の式（ｄ１）で表される化合物である。
顔料（ｄ１） ２４．２ｇ
分散剤（Ｘ１１）のトリエチレングリコール溶液 ６１．１ｇ
超純水 ２４．５ｇ

＜工程（Ｂ）＞
分散機としてサンドグラインダミル（アイメックス株式会社製）を用い、上記組成物（１）を、直径０．１ｍｍのジルコニアビーズとともに分散機内の粉砕容器に入れ、５時間撹拌し、組成物（１）中の顔料を分散させた。分散終了後、分散液の体積平均粒子径が９０ｎｍ以下になったことを確認して、ろ布を用いてビーズを分離し、分散液をイオン交換水で洗浄した。さらに、顔料濃度が１０％となるように超純水で希釈することにより顔料分散液（１）を得た。

＜遠心分離工程＞
遠心分離機を用いて、顔料分散液（１）中の粗大粒子を沈降させた。沈降させた粗大粒子を孔径０．３μｍのフィルターを通して除去した後、分散液を７０℃にて１時間加熱した。その後、２５℃に冷却し、孔径１．０μｍのフィルターを通して再度粗大粒子を除去し、顔料分散液（１Ｓ）を得た。

＜インクジェット用インクの作製＞
以下の成分を混合して十分に攪拌し、孔径０．８μｍのフィルターを通して、インクジェット用インク（１）を作製した。
顔料分散液（１Ｓ） ５０．４ｇ
超純水 ２１．９ｇ
２−ピロリジノン ３．１ｇ
グリセロール １５．０ｇ
１，２−ヘキサンジオール ４．０ｇ
エチレングリコール ５．１ｇ
サーフィノール４６５ ０．５ｇ

サーフィノール４６５は日信化学工業株式会社製の界面活性剤である。

（実施例２）
イソプロパノール１０００ｍＬの中に分散剤（Ｘ１１）のトリエチレングリコール溶液１００ｍＬを２５℃で滴下し、１５分２５℃で攪拌した。析出した白色固体をろ過し、イソプロパノールで洗浄後、乾燥して、分散剤（Ｘ１１）粉末を１７．６ｇ得た。
＜工程（Ａ）＞
以下に示す成分を混合して、顔料、高分子分散剤、トリエチレングリコール、水を含む組成物（２）を得た。組成物（２）中のトリエチレングリコールの含有率は１６．７％であった。
顔料（ｄ１） ２４．２ｇ
分散剤（Ｘ１１）粉末 １２．１ｇ
トリエチレングリコール １８．２ｇ
超純水 ５４．８ｇ

＜工程（Ｂ）＞
組成物（１）の代わりに組成物（２）を用いた以外は実施例１と同様にして、顔料分散液（２）を得た。
＜遠心分離工程＞
顔料分散液（１）の代わりに顔料分散液（２）を用いた以外は実施例１と同様にして、顔料分散液（２Ｓ）を得た。ただし、分散の終点は分散液の体積平均粒子径が９０ｎｍ以下になった時点とした。
＜インクジェット用インクの作製＞
顔料分散液（１Ｓ）の代わりに顔料分散液（２Ｓ）を用いた以外は実施例１と同様にして、インクジェット用インク（２）を得た。

（実施例３、４）
実施例２において、工程（Ａ）で用いるトリエチレングリコール及び超純水の量を表２の通りに変更した以外は実施例２と同様にして、顔料分散液（３）及び（４）、顔料分散液（３Ｓ）及び（４Ｓ）、並びに、インクジェット用インク（３）及び（４）を調製した。

（実施例５〜７）
実施例１において、用いる高分子分散剤（分散剤（Ｘ１１）のトリエチレングリコール溶液）を表４に記載の高分子分散剤のトリエチレングリコール溶液に変更し、工程（Ｂ）と遠心分離工程の間に、工程（Ｃ）として表４に記載の温度にて、顔料分散液を６時間加熱した以外は実施例１と同様にして、顔料分散液（５）〜（７）、顔料分散液（５Ｓ）〜（７Ｓ）及びインクジェット用インク（５）〜（７）を調製した。

（実施例８）
実施例１において、工程（Ｂ）と遠心分離工程の間に、工程（Ｃ）として９０℃にて、顔料分散液を１２時間加熱した以外は実施例１と同様にして、顔料分散液（８）、顔料分散液（８Ｓ）及びインクジェット用インク（８）を調製した。

（実施例９）
実施例８において、遠心分離工程の孔径０．３μｍのフィルターを通した後に、分画分子量５００００の限外ろ過膜を用いて超純水で十分に洗浄する工程を加えた以外は実施例８と同様にして、顔料分散液（９）、顔料分散液（９Ｓ）及びインクジェット用インク（９）を調製した。

（実施例１０）
実施例８において、遠心分離工程を行わなかったこと以外は実施例８と同様にして、顔料分散液（１０）、及びインクジェット用インク（１０）を調製した。

（実施例１１）
＜工程（Ａ）＞
以下に示す成分を混合して、顔料、高分子分散剤、１，２−ヘキサンジオール、水を含む組成物（１１）を得た。組成物（１１）中の１，２−ヘキサンジオールの含有率は１６．７％であった。
顔料（ｄ１） １８．２ｇ
分散剤（Ｘ１４）の１，２−ヘキサンジオール溶液 ４６．０ｇ
超純水 ６５．８ｇ

＜工程（Ｂ）＞
組成物（１）の代わりに組成物（１１）を用いた以外は実施例１と同様にして、顔料分散液（１１）を得た。
＜遠心分離工程＞
顔料分散液（１）の代わりに顔料分散液（１１）を用いた以外は実施例１と同様にして、顔料分散液（１１Ｓ）を得た。
＜インクジェット用インクの作製＞
顔料分散液（１Ｓ）の代わりに顔料分散液（１１Ｓ）を用いた以外は実施例１と同様にして、インクジェット用インク（１１）を得た。

（実施例１２、１３）
実施例１１において、工程（Ｂ）と遠心分離工程の間に、工程（Ｃ）として表５に記載の温度にて、顔料分散液を６時間加熱した以外は実施例１１と同様にして、顔料分散液（１２）及び（１３）、顔料分散液（１２Ｓ）及び（１３Ｓ）、並びにインクジェット用インク（１２）及び（１３）を調製した。

（実施例１４）
実施例１１において、工程（Ｂ）と遠心分離工程の間に、工程（Ｃ）として９０℃にて、顔料分散液を１２時間加熱した以外は実施例１１と同様にして、顔料分散液（１４）、顔料分散液（１４Ｓ）及びインクジェット用インク（１４）を調製した。

（実施例１５）
実施例２において、工程（Ａ）で用いるトリエチレングリコールを１，２−ヘキサンジオールに変更し、工程（Ｂ）の後に、さらに工程（Ｃ）として９０℃にて、顔料分散液を１２時間加熱した以外は実施例２と同様にして、顔料分散液（１５）、顔料分散液（１５Ｓ）及びインクジェット用インク（１５）を調製した。

（実施例１６〜２２）
実施例１５において、工程（Ａ）で用いる溶媒種とその添加量及び超純水の添加量を表３のように変更した以外は実施例１５と同様にして、顔料分散液（１６）〜（２２）、顔料分散液（１６Ｓ）〜（２２Ｓ）及びインクジェット用インク（１６）〜（２２）を調製した。

（実施例２３、２４）
実施例８において、高分子分散剤（分散剤（Ｘ１１）のトリエチレングリコール溶液）を表５に記載の高分子分散剤のトリエチレングリコール溶液に変更した以外は実施例８と同様にして、顔料分散液（２３）及び（２４）、顔料分散液（２３Ｓ）及び（２４Ｓ）、並びに、インクジェット用インク（２３）及び（２４）を調製した。

（実施例２５、２６）
実施例８において、顔料を表５に記載の顔料に変更した以外は実施例８と同様にして、顔料分散液（２５）及び（２６）、顔料分散液（２５Ｓ）及び（２６Ｓ）、並びに、インクジェット用インク（２５）及び（２６）を調製した。

（比較例１）
実施例１において分散剤（Ｘ１１）のトリエチレングリコール溶液を、分散剤（Ｘ２０）のジプロピレングリコール溶液に変更した以外は実施例１と同様にして、顔料分散液（Ｒ１）、顔料分散液（Ｒ１Ｓ）及びインクジェット用インク（Ｒ１）を調製した。

（比較例２）
実施例２において、工程（Ａ）で用いるトリエチレングリコールをメチルエチルケトンに変更した以外は実施例２と同様にして、顔料分散液（Ｒ２）、顔料分散液（Ｒ２Ｓ）及びインクジェット用インク（Ｒ２）を調製した。

（比較例３）
実施例２において、工程（Ａ）で用いる分散剤（Ｘ１１）粉末を分散剤（Ｘ２１）に変更した以外は実施例２と同様にして、顔料分散液（Ｒ３）、顔料分散液（Ｒ３Ｓ）及びインクジェット用インク（Ｒ３）を調製した。

（評価）
−分散液の経時安定性−
実施例１〜２６の顔料分散液（１Ｓ）〜（９Ｓ）、（１０）、（１１Ｓ）〜（２６Ｓ）、比較例１〜３の顔料分散液（Ｒ１Ｓ）〜（Ｒ３Ｓ）を、６０℃で１４日間静置した。そして、６０℃で１４日間静置する前（「加熱前」ともいう）と、６０℃で１４日間静置した後（「加熱後」ともいう）の顔料分散液中の顔料粒子の体積平均粒子径及び顔料分散液の粘度を測定した。以下の式に基づき、粒子径変化率と粘度変化率を算出した。
粒子径変化率（％）＝（加熱後の体積平均粒子径／加熱前の体積平均粒子径）×１００
粘度変化率（％）＝（加熱後の粘度／加熱前の粘度）×１００
評価基準は以下とした。
Ａ：粒子径変化率及び粘度変化率の両方が９０〜１１０％の範囲に入る
Ｂ：粒子径変化率又は粘度変化率のいずれか一方のみが９０％未満もしくは１１０％超となる
Ｃ：粒子径変化率及び粘度変化率の両方が９０％未満もしくは１１０％超となる
なお、体積平均粒子径は日機装（株）製Ｎａｎｏｔｒａｃ１５０（ＵＰＡ−ＥＸ１５０）を用いて、粘度は東機産業製ＴＶ−２２を用いて測定を行った。

−吐出速度−
ヘッド一体型のインクカートリッジＢＣＩ−３４０（キヤノン株式会社製）に実施例１〜２６のインクジェット用インク（１）〜（２６）、比較例１〜３のインクジェット用インク（Ｒ１）〜（Ｒ３）を詰め替えて、インクの吐出を行った。吐出された液滴の画像をカメラで撮像することにより、吐出速度を算出した。比較例１のインクジェット用インク（Ｒ１）の吐出速度を１００として相対的に比較し、以下の基準で評価を行った。
Ａ：吐出速度が１５０以上
Ｂ：吐出速度が１００を超え１５０未満
Ｃ：吐出速度が１００以下
Ｄ：吐出しない

−異物−
吐出速度の評価と同様にして、実施例１〜２６のインクジェット用インク（１）〜（２６）、比較例１〜３のインクジェット用インク（Ｒ１）〜（Ｒ３）の吐出を行った。６０００万回吐出後、カートリッジ内のインクを超純水に置換して、ヘッドを光学顕微鏡（ニコン（株）製：ＥＣＬＩＰＳＥ ＬＶ１５０）で目視にて観察し、以下の基準で評価を行った。
ＡＡ：ヘッド内に異物が見られない
Ａ：ヘッド内に異物がわずかに見られる
Ｂ：ヘッド内に異物が見られるが、異物の付着面積はヘッドの半分未満である
Ｃ：ヘッド内の半分以上の面積に異物の付着が見られる
Ｄ：ヘッド内全面に異物が観察される

表４及び５の結果より、本発明の製造方法によって製造された顔料分散液は、異物が少なく、経時安定性に優れ、インクジェット用インクとして用いた際のインクの吐出速度が良好となることがわかった。また、顔料分散液の製造の際に、工程（Ｃ）として顔料分散液の加熱を施した場合においては、異物の生成が非常に少なく、より好ましい結果となった。

本発明によれば、経時安定性に優れ、異物が少なく、かつインクジェットプリンターで印画する際に吐出速度に優れた顔料分散液の製造方法を提供することができる。

本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
本出願は、２０１６年７月２６日出願の日本特許出願（特願２０１６−１４６１２２）及び２０１６年１２月２２日出願の日本特許出願（特願２０１６−２４９７３６）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。

Claims (7)

1. 工程（Ａ）：顔料、高分子分散剤、水溶性有機溶剤、及び水を含む組成物を得る工程、並びに、
   工程（Ｂ）：分散機を用いて、前記工程（Ａ）で得られた前記組成物中の顔料を分散させ、顔料分散液を得る工程、を含み、
   前記顔料は、下記一般式（１）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩を含む顔料であり、
   前記高分子分散剤は、下記一般式（２−１）で表される繰り返し単位及び下記一般式（２−２）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物であり、
   前記水溶性有機溶剤は、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、及びジグリセロールから選択される少なくとも１種である、顔料分散液の製造方法。
   

   

   
   一般式（１）中、
   Ｚは、置換基を有していてもよい、５員ヘテロ環又は６員ヘテロ環を表す。
   Ｙ_１、Ｙ_２、Ｒ_１１及びＲ_１２は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。
   Ｇ_１及びＧ_２は、それぞれ独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、置換若しくは無置換のアルキニル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテロ環基を表す。
   Ｗ_１及びＷ_２は、それぞれ独立に置換若しくは無置換のアルコキシ基、置換若しくは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。
   

   

   
   一般式（２−１）中、Ｒ_１は水素原子、又はメチル基若しくは置換メチル基を表し、Ｒ_２は置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。
   一般式（２−２）中、Ｒ_３は水素原子、又はメチル基若しくは置換メチル基を表す。Ｍは水素原子又はカウンターカチオンを表す。
2. 前記分散機が、分散メディアを用いる分散機である請求項１に記載の顔料分散液の製造方法。
3. 更に、前記工程（Ｂ）で得られた顔料分散液を４０〜９５℃で加熱する工程を含む請求項１又は２に記載の顔料分散液の製造方法。
4. 前記工程（Ａ）で得られた前記組成物中の前記水溶性有機溶剤の含有量が、前記組成物全体に対して、０．１〜３０質量％である請求項１〜３のいずれか１項に記載の顔料分散液の製造方法。
5. 前記高分子分散剤の重量平均分子量が５，０００〜５０，０００である請求項１〜４のいずれか１項に記載の顔料分散液の製造方法。
6. 前記顔料が、下記式（ｄ１）、式（ｄ２）、又は式（ｄ３）で表される化合物若しくはその互変異性体、又はそれらの塩の少なくとも１種を含む顔料である請求項１〜５のいずれか１項に記載の顔料分散液の製造方法。
   

   

   
   

   

   
   

   
7. 前記一般式（２−１）中のＲ_１がメチル基を表し、Ｒ_２がベンジル基を表す請求項１〜６のいずれか１項に記載の顔料分散液の製造方法。