JPWO2017170187A1 - 化学センサ - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、第1実施形態の化学センサ100主要部の斜視図であり、図2は、図1のII−II線に沿う断面図である。化学センサ100は、試料中の被検出物質40を検出する。
化学センサ100は、基板1と、基板1上に基板面内方向に並んで配置された2つ以上の磁気抵抗効果素子3と、隣り合う磁気抵抗効果素子3の間の領域上に配置された第1の膜10と、磁気抵抗効果素子3上に配置された第2の膜20と、を有している。更に、化学センサ100は保護膜2を有しており、保護膜2は、基板1の表面と磁気抵抗効果素子3の全体とを覆うように配置されている。それぞれの磁気抵抗効果素子3は、電極5により互いに直列または並列に電気的に接続されている。
基板1としては、シリコンやAlTiC(アルティック)などの半導体や導電体、又はアルミナやガラス等の絶縁体から構成されるものが挙げられ、その形態は特に問われるものではない。
磁気抵抗効果素子3は、その積層面内の一定方向に固着された磁化方向を有する磁化固定層と、外部磁界に応じて磁化方向が変化する磁化自由層と、磁化固定層と磁化自由層との間に位置する中間層を備えたスピンバルブ型素子であることが好ましい。中間層の材料は非磁性体の導体又は絶縁体である。磁気抵抗効果素子3は、中間層が導体の場合はGMR(巨大磁気抵抗効果)素子と呼ばれ、中間層が絶縁体の場合はTMR(トンネル型磁気抵抗効果)素子と呼ばれる。磁気抵抗効果素子3の抵抗値は、磁化固定層の磁化方向と磁化自由層の磁化方向との相対角度に応じて変化する。
保護膜2は絶縁膜であることが好ましく、保護膜2の材料としては、例えば酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化シリコンまたは窒化シリコン等の無機物や、ポリイミド等の有機物が挙げられる。
第1の膜10の材料は、後述する溶解液に対する溶解度が小さいものである。溶解液がアルカリ性の液体である場合、第1の膜10の材料は、例えば、シリコン、チタン、ジルコニウム、インジウム、タンタル、鉄、コバルト、ニッケル、銅、カドミウム、ビスマス、金、銀、ロジウム、ルテニウム、パラジウムおよびこれらの組み合わせの合金からなる群から選ばれた少なくとも一種である。また、溶解液がアルカリ性の液体である場合、第1の膜10の材料は、シリコン、チタン、ジルコニウム、インジウム、タンタル、鉄、コバルト、ニッケル、銅、カドミウム、ビスマスおよびこれらの組み合わせからなる群から選ばれた少なくとも一種の酸化物または、炭素、ダイヤモンドライクカーボンおよび樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種であってもよい。
第2の膜20の材料は、後述する溶解液に対する溶解度が大きいものである。溶解液がアルカリ性の液体である場合、第2の膜20の材料は、例えば、アルミニウム、亜鉛、ガリウム、スズ、鉛、ニオブ、モリブデン、タングステンおよびこれらの組み合わせの合金からなる群から選ばれた少なくとも一種である。また、溶解液がアルカリ性の液体である場合、第2の膜20の材料は、アルミニウム、亜鉛、ガリウム、スズ、鉛、ニオブ、モリブデン、タングステンおよびこれらの組み合わせからなる群から選ばれた少なくとも一種の酸化物であってもよい。
被検出物質40は、例えば、抗原、抗体などのタンパク質、DNAやRNAなどの核酸、細胞、ウイルス、細菌、真菌などである。被検出物質40には、いくつかの抗原、抗体などのタンパク質、DNAやRNAなどの核酸、細胞、ウイルス、細菌、真菌などが、複合体を形成しているものも含まれる。
捕捉プローブ30は、被検出物質40と結合する親和性物質である。捕捉プローブ30は、被検出物質40と特異的に(高い選択性で)結合するものであることが好ましく、被検出物質40の種類によって、適当なものを用いる。例として、捕捉プローブ30としては、被検出物質40が核酸の場合には、この核酸に相補的な核酸が挙げられ、被検出物質40が抗原の場合には、この抗原と結合する抗体が挙げられ、被検出物質40が1次抗体の場合には、この1次抗体と結合する抗原または2次抗体が挙げられ、被検出物質40が細胞、ウイルス、細菌、真菌等の場合には、これらの表面に存在している抗原と結合する抗体が挙げられる。
化学センサ100の作製方法例について簡単に説明する。保護膜2、磁気抵抗効果素子3、第1の膜10および第2の膜20を、真空成膜技術およびフォトリソグラフィ技術を用いて基板1上に作製する。
次に、化学センサ100を用いた被検出物質40の検出方法について説明する。化学センサ100を用いた被検出物質40の検出方法は、被検出物質40を含有する試料を第1の膜10と第2の膜20に接触させて、被検出物質40を第1の膜10の上に集積させる被検出物質集積工程と、磁気ビーズ4を含む液体を第1の膜10と第2の膜20に接触させて、磁気ビーズ4を第1の膜10の上に集積させる磁気ビーズ集積工程と、溶解液を第1の膜10と第2の膜20に接触させて、第2の膜20を溶解させる溶解工程と、外部から磁界を磁気ビーズ4に対して印加して、磁気ビーズ4から発生する漏れ磁界(浮遊磁界)を磁気抵抗効果素子3に印加させ、磁気抵抗効果素子3の抵抗値または抵抗値の変化量を検出する検出工程と、を有する。以下、各工程について詳細に説明する。
被検出物質集積工程は、被検出物質40を含有する試料を第1の膜10と第2の膜20に接触させて、被検出物質40を第1の膜10上に集積させる工程である。簡便である等の観点から、化学センサ100はマイクロ流体デバイス中で用いられることが好ましい。被検出物質集積工程において、まずマイクロ流体デバイスのマイクロ流路中に被検出物質40を含有する試料を流すことにより、被検出物質40を含有する試料を第1の膜10と第2の膜20に接触させる。
磁気ビーズ集積工程は、磁気ビーズ4を含む液体を第1の膜10と第2の膜20に接触させて、磁気ビーズ4を第1の膜10上に集積させる工程である。磁気ビーズ集積工程において、マイクロ流路中に磁気ビーズ4を含む液体を流すことにより、磁気ビーズ4を含む液体を第1の膜10と第2の膜20に接触させる。
溶解工程は、溶解液を第1の膜10と第2の膜20に接触させて、第2の膜20を溶解させる工程である。溶解工程において、マイクロ流路中に溶解液を流すことにより、溶解液を第1の膜10と第2の膜20に接触させる。
検出工程は、外部から磁界を磁気ビーズ4に対して印加して、磁気ビーズ4から発生する漏れ磁界(浮遊磁界)を磁気抵抗効果素子3に印加させ、磁気抵抗効果素子3の抵抗値または抵抗値の変化量を検出する工程である。
2 保護膜
3 磁気抵抗効果素子
4 磁気ビーズ
5 電極
10 第1の膜
20 第2の膜
30 捕捉プローブ
40 被検出物質
50 標識プローブ
60 プローブ
100、200、300、400、500 化学センサ
Claims (15)
- 基板と、
前記基板上に基板面内方向に並んで配置された2つ以上の磁気抵抗効果素子と、
隣り合う前記磁気抵抗効果素子の間の領域または隣り合う前記磁気抵抗効果素子の間の領域上に配置された第1の膜と、
前記磁気抵抗効果素子上に配置された第2の膜と、を有し、
前記第2の膜のある特定の液体に対する溶解度が、前記第1の膜よりも大きいことを特徴とする化学センサ。 - 前記第1の膜は、前記磁気抵抗効果素子上と、隣り合う前記磁気抵抗効果素子の間の領域または隣り合う前記磁気抵抗効果素子の間の領域上とに配置され、前記第2の膜は前記第1の膜の上に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の化学センサ。
- 前記特定の液体がアルカリ性の液体であることを特徴とする請求項1または2に記載の化学センサ。
- 前記特定の液体が酸性の液体であることを特徴とする請求項1または2に記載の化学センサ。
- 前記第1の膜の材料が、炭素、ダイヤモンドライクカーボンおよび樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の化学センサ。
- 前記第1の膜の材料が、シリコン、チタン、ジルコニウム、インジウム、タンタル、鉄、コバルト、ニッケル、銅、カドミウム、ビスマス、金、銀、ロジウム、ルテニウム、パラジウムおよびこれらの組み合わせの合金からなる群から選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする請求項3に記載の化学センサ。
- 前記第1の膜の材料が、シリコン、チタン、ジルコニウム、インジウム、タンタル、鉄、コバルト、ニッケル、銅、カドミウム、ビスマスおよびこれらの組み合わせからなる群から選ばれた少なくとも一種の酸化物であることを特徴とする請求項3に記載の化学センサ。
- 前記第1の膜の材料が、シリコン、チタン、ジルコニウム、インジウム、タンタル、ニオブ、モリブデン、タングステン、金、銀、ロジウム、ルテニウム、パラジウムおよびこれらの組み合わせの合金からなる群から選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする請求項4に記載の化学センサ。
- 前記第1の膜の材料が、シリコン、チタン、ジルコニウム、インジウム、タンタル、ニオブ、モリブデン、タングステンおよびこれらの組み合わせからなる群から選ばれた少なくとも一種の酸化物であることを特徴とする請求項4に記載の化学センサ。
- 前記第2の膜の材料が、アルミニウム、亜鉛、ガリウム、スズ、鉛、ニオブ、モリブデン、タングステンおよびこれらの組み合わせの合金からなる群から選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする請求項3または6または7に記載の化学センサ。
- 前記第2の膜の材料が、アルミニウム、亜鉛、ガリウム、スズ、鉛、ニオブ、モリブデン、タングステンおよびこれらの組み合わせからなる群から選ばれた少なくとも一種の酸化物であることを特徴とする請求項3または6または7に記載の化学センサ。
- 前記第2の膜の材料が、アルミニウム、亜鉛、ガリウム、スズ、鉛、鉄、コバルト、ニッケル、銅、カドミウム、ビスマスおよびこれらの組み合わせの合金からなる群から選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする請求項4または8または9に記載の化学センサ。
- 前記第2の膜の材料が、アルミニウム、亜鉛、ガリウム、スズ、鉛、鉄、コバルト、ニッケル、銅、カドミウム、ビスマスおよびこれらの組み合わせからなる群から選ばれた少なくとも一種の酸化物であることを特徴とする請求項4または8または9に記載の化学センサ。
- 基板と、
前記基板上に基板面内方向に並んで配置された2つ以上の磁気抵抗効果素子と、
隣り合う前記磁気抵抗効果素子の間の領域または隣り合う前記磁気抵抗効果素子の間の領域上に配置された第1の膜と、
前記磁気抵抗効果素子上に配置された第2の膜と、を有し、
前記第1の膜の材料が、
シリコン、チタン、ジルコニウム、インジウム、タンタル、鉄、コバルト、ニッケル、銅、カドミウム、ビスマス、金、銀、ロジウム、ルテニウム、パラジウムおよびこれらの組み合わせの合金からなる群から選ばれた少なくとも一種、
シリコン、チタン、ジルコニウム、インジウム、タンタル、鉄、コバルト、ニッケル、銅、カドミウム、ビスマスおよびこれらの組み合わせからなる群から選ばれた少なくとも一種の酸化物または、
炭素、ダイヤモンドライクカーボンおよび樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種であり、
前記第2の膜の材料が、
アルミニウム、亜鉛、ガリウム、スズ、鉛、ニオブ、モリブデン、タングステンおよびこれらの組み合わせの合金からなる群から選ばれた少なくとも一種または、
アルミニウム、亜鉛、ガリウム、スズ、鉛、ニオブ、モリブデン、タングステンおよびこれらの組み合わせからなる群から選ばれた少なくとも一種の酸化物であることを特徴とする化学センサ。 - 基板と、
前記基板上に基板面内方向に並んで配置された2つ以上の磁気抵抗効果素子と、
隣り合う前記磁気抵抗効果素子の間の領域または隣り合う前記磁気抵抗効果素子の間の領域上に配置された第1の膜と、
前記磁気抵抗効果素子上に配置された第2の膜と、を有し、
前記第1の膜の材料が、
シリコン、チタン、ジルコニウム、インジウム、タンタル、ニオブ、モリブデン、タングステン、金、銀、ロジウム、ルテニウム、パラジウムおよびこれらの組み合わせの合金からなる群から選ばれた少なくとも一種、
シリコン、チタン、ジルコニウム、インジウム、タンタル、ニオブ、モリブデン、タングステンおよびこれらの組み合わせからなる群から選ばれた少なくとも一種の酸化物または、
炭素、ダイヤモンドライクカーボンおよび樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一種であり、
前記第2の膜の材料が、
アルミニウム、亜鉛、ガリウム、スズ、鉛、鉄、コバルト、ニッケル、銅、カドミウム、ビスマスおよびこれらの組み合わせの合金からなる群から選ばれた少なくとも一種または、
アルミニウム、亜鉛、ガリウム、スズ、鉛、鉄、コバルト、ニッケル、銅、カドミウム、ビスマスおよびこれらの組み合わせからなる群から選ばれた少なくとも一種の酸化物であることを特徴とする化学センサ。
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