JPWO2017163331A1 - 発光装置、電子装置および発光装置の製造方法 - Google Patents
発光装置、電子装置および発光装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2017163331A1 JPWO2017163331A1 JP2018506673A JP2018506673A JPWO2017163331A1 JP WO2017163331 A1 JPWO2017163331 A1 JP WO2017163331A1 JP 2018506673 A JP2018506673 A JP 2018506673A JP 2018506673 A JP2018506673 A JP 2018506673A JP WO2017163331 A1 JPWO2017163331 A1 JP WO2017163331A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light emitting
- emitting device
- substrate
- electrode
- integrated circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 117
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 41
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims abstract description 29
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 58
- 239000000463 material Substances 0.000 description 34
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 27
- 239000010408 film Substances 0.000 description 26
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 23
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 23
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 16
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 2
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 2
- -1 polyethylene naphthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BSUHXFDAHXCSQL-UHFFFAOYSA-N [Zn+2].[W+4].[O-2].[In+3] Chemical compound [Zn+2].[W+4].[O-2].[In+3] BSUHXFDAHXCSQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
- H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
- H10K77/111—Flexible substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
- H10K50/11—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/805—Electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/842—Containers
- H10K50/8426—Peripheral sealing arrangements, e.g. adhesives, sealants
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/87—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K59/871—Self-supporting sealing arrangements
- H10K59/8722—Peripheral sealing arrangements, e.g. adhesives, sealants
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
- H10K2102/301—Details of OLEDs
- H10K2102/311—Flexible OLED
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/549—Organic PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
発光部（１４０）は、基板（１００）の一方の面（１０１）に形成されている。また発光部（１４０）は、第１電極（１１０）、有機層（１２０）、および第２電極（１３０）を有する。被覆部材（１８０）は、発光部（１４０）を被覆する。集積回路（３００）は、基板（１００）の一方の面（１０１）に配置されている。また、集積回路（３００）は、第１電極（１１０）および第２電極（１３０）の少なくとも一方と電気的に接続されている。保護部材（４００）は、被覆部材（１８０）と集積回路（３００）との間の領域（１０５）に位置する。また、保護部材（４００）は、集積回路（３００）の基板（１００）とは反対側の第１面（３０１）の全体を露出するように設けられている。
Description
本発明は、発光装置、電子装置および発光装置の製造方法に関する。
近年は有機ＥＬを利用した発光装置の開発が進んでいる。この発光装置は、照明装置や表示装置として使用されており、第１電極と第２電極の間に有機層を挟んだ構成を有している。そして、樹脂や薄いガラスの基板を用いた、フレキシブルな発光装置が開発されている。
特許文献１には、透明基板のうち半導体チップ及びフレキシブルプリント回路基板が実装されている部分以外の大部分を、保護部材で覆うことにより、透明基板の大部分において強度の向上を図ることが記載されている。
特にガラス基板を用いた場合、樹脂基板に比べて発光部の劣化因子の侵入が少ないため、発光部の寿命を長くすることができる一方、湾曲させた場合の耐久性が劣るという問題があった。基板を湾曲させた際、特に基板上に設けた集積回路と封止部材との間に応力が集中し、割れ等の原因になりやすかった。
本発明が解決しようとする課題としては、フレキシブルな発光装置の耐久性を向上させることが一例として挙げられる。
請求項１に記載の発明は、
基板と、
前記基板の一方の面に形成され、第１電極、有機層、及び第２電極を有する発光部と、
前記発光部を被覆する被覆部材と、
前記一方の面に配置され、前記第１電極および前記第２電極の少なくとも一方と電気的に接続された集積回路と、
前記被覆部材と前記集積回路との間の領域に位置する保護部材と、を備え、
前記保護部材は、前記集積回路の前記基板とは反対側の第１面の全体を露出するように設けられている発光装置である。
基板と、
前記基板の一方の面に形成され、第１電極、有機層、及び第２電極を有する発光部と、
前記発光部を被覆する被覆部材と、
前記一方の面に配置され、前記第１電極および前記第２電極の少なくとも一方と電気的に接続された集積回路と、
前記被覆部材と前記集積回路との間の領域に位置する保護部材と、を備え、
前記保護部材は、前記集積回路の前記基板とは反対側の第１面の全体を露出するように設けられている発光装置である。
請求項１４に記載の発明は、
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の発光装置を備え、
前記基板の少なくとも一部が湾曲している電子装置
である。
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の発光装置を備え、
前記基板の少なくとも一部が湾曲している電子装置
である。
請求項１５に記載の発明は、
基板の一方の面に、第１電極、有機層、及び第２電極を有する発光部を形成する工程と、
前記一方の面に前記第１電極および前記第２電極の少なくとも一方と電気的に接続された集積回路を設ける工程と、
前記発光部を被覆部材で被覆する工程と、
前記被覆部材と前記集積回路との間の領域に保護部材を形成する工程と、を含み、
前記保護部材を形成する工程において、前記保護部材は、前記集積回路の前記基板とは反対側の第１面の全体を露出するように設けられる発光装置の製造方法である。
基板の一方の面に、第１電極、有機層、及び第２電極を有する発光部を形成する工程と、
前記一方の面に前記第１電極および前記第２電極の少なくとも一方と電気的に接続された集積回路を設ける工程と、
前記発光部を被覆部材で被覆する工程と、
前記被覆部材と前記集積回路との間の領域に保護部材を形成する工程と、を含み、
前記保護部材を形成する工程において、前記保護部材は、前記集積回路の前記基板とは反対側の第１面の全体を露出するように設けられる発光装置の製造方法である。
上述した目的、およびその他の目的、特徴および利点は、以下に述べる好適な実施の形態、およびそれに付随する以下の図面によってさらに明らかになる。
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
図１は、本実施形態に係る発光装置１０の構成を示す断面図であり、図２は、本実施形態に係る発光装置１０の構成を示す平面図である。図１は図２のＡ−Ａ断面図である。
本実施形態に係る発光装置１０は、基板１００、発光部１４０、被覆部材１８０、集積回路３００、および保護部材４００を備える。発光部１４０は、基板１００の一方の面（以下「第１面」とも呼ぶ。）１０１に形成されている。また発光部１４０は、第１電極１１０、有機層１２０、および第２電極１３０を有する。被覆部材１８０は、発光部１４０を被覆する。集積回路３００は、基板１００の一方の面１０１に配置されている。また、集積回路３００は、第１電極１１０および第２電極１３０の少なくとも一方と電気的に接続されている。保護部材４００は、被覆部材１８０と集積回路３００との間の第１領域１０５に位置する。また、保護部材４００は、集積回路３００の基板１００とは反対側の第１面３０１の全体を露出するように設けられている。以下に詳しく説明する。
発光装置１０の基板１００は、例えばガラスや透光性の樹脂などの透光性の材料で形成されている。ただし、発光装置１０が後述のトップエミッション型である場合、基板１００は透光性を有さない材料で形成されていてもよい。基板１００は、例えば矩形などの多角形である。ここで、基板１００は可撓性を有している。基板１００の厚さは、例えば１０μｍ以上１０００μｍ以下である。特に基板１００が可撓性を有するガラス基板である場合、基板１００の厚さは、例えば２００μｍ以下である。基板１００を樹脂材料で可撓性を持たせる場合は、基板１００の材料として、例えばＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＥＳ（ポリエーテルサルホン）、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）、又はポリイミドを含ませて形成されている。また、基板１００が樹脂材料を含む場合、水分が基板１００を透過することを抑制するために、基板１００の少なくとも発光面（好ましくは両面）に、ＳｉＮｘやＳｉＯＮなどの無機バリア膜が形成されている。
基板１００には発光部１４０が形成されている。発光部１４０は、発光を生じさせるための構造、例えば有機ＥＬ素子を有している。この有機ＥＬ素子は、第１電極１１０、有機層１２０、及び第２電極１３０をこの順に積層させた構成を有している。
図３から図５を参照して発光部１４０の構成について詳しく説明する。図３は、図２から保護部材４００、集積回路３００、被覆部材１８０および封止膜１９０を取り除いた図である。本図において、集積回路３００および被覆部材１８０は破線で示している。図４は、図３から第２電極１３０を取り除いた図である。図５は、図４から絶縁層１５０、及び有機層１２０を取り除いた図である。
第１電極１１０は、光透過性を有する透明電極である。透明電極を構成する透明導電材料は、金属を含む材料、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）、ＩＷＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｕｎｇｓｔｅｎ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）、ＺｎＯ（Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）等の金属酸化物である。第１電極１１０の厚さは、例えば１０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である。第１電極１１０は、例えばスパッタリング法又は蒸着法を用いて形成される。なお、第１電極１１０は、カーボンナノチューブ、又はＰＥＤＯＴ／ＰＳＳなどの導電性有機材料であってもよい。
発光装置１０はさらに絶縁層１５０を備える。絶縁層１５０は、発光部１４０を画定している。絶縁層１５０は例えばポリイミドなどの感光性の樹脂材料によって形成されており、第１電極１１０のうち発光部１４０となる部分を囲んでいる。第２電極１３０は、一部が絶縁層１５０上に位置している。また、基板１００に垂直な方向から見た場合において、絶縁層１５０の一部は第２電極１３０からはみ出ている。
第２電極１３０は、例えば、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｍｇ、Ｓｎ、Ｚｎ、及びＩｎからなる第１群の中から選択される金属又はこの第１群から選択される金属の合金からなる金属層を含んでいる。この場合、第２電極１３０は遮光性を有している。第２電極１３０の厚さは、例えば１０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である。ただし、第２電極１３０は、第１電極１１０の材料として例示した材料を用いて形成されていてもよい。第２電極１３０は、例えばスパッタリング法又は蒸着法を用いて形成される。
なお、上記した第１電極１１０及び第２電極１３０の材料は、基板１００を光が透過する場合、すなわち発光装置１０からの発光が基板１００を透過して行われる場合（すなわちボトムエミッション型）の例である。他の場合として、基板１００とは逆側を光が透過する場合がある。すなわち、発光装置１０からの発光が基板１００を透過しないで行われる場合（すなわちトップエミッション型）である。トップエミッション型では、逆積型と、順積型との２種類の積層構造のいずれかを採用できる。逆積型では、第１電極１１０の材料と第２電極１３０の材料はボトムエミッション型と逆になる。すなわち第１電極１１０の材料には上記した第２電極１３０の材料が用いられ、第２電極１３０の材料には上記した第１電極１１０の材料が用いられる。他方の順積型では、上記した第２電極１３０の材料の上に第１電極１１０の材料を形成し、更にその上に有機層１２０、さらにその上に薄く成膜した第２電極１３０を形成することで、基板１００とは逆側から光を取出す構造である。なお、薄く成膜する材料は、例えば第２電極１３０の材料として例示した材料やＭｇＡｇ合金などである。ＡｌやＡｇで形成する場合は、第２電極１３０の厚さは、３０ｎｍ以下であるのが好ましい。本実施形態にかかる発光装置１０は、ボトムエミッション型、及び上記した２種類のトップエミッション型のいずれの構造であってもよい。
有機層１２０は、例えば、正孔注入層、発光層、及び電子注入層をこの順に積層させた構成を有している。正孔注入層と発光層との間には正孔輸送層が形成されていてもよい。また、発光層と電子注入層との間には電子輸送層が形成されていてもよい。有機層１２０は蒸着法で形成されてもよい。また、有機層１２０のうち少なくとも一つの層、例えば第１電極と接触する層は、インクジェット法、印刷法、又はスプレー法などの塗布法によって形成されてもよい。なお、この場合、有機層１２０の残りの層は、蒸着法によって形成されている。また、有機層１２０のすべての層が、塗布法を用いて形成されていてもよい。
発光部１４０は、封止膜１９０によって封止されている（図１参照）。封止膜１９０は、基板１００のうち、少なくとも発光部１４０が形成されている面に形成されており、発光部１４０を覆っている。ただし、後述する第１端子１１２及び第２端子１３２は封止膜１９０で覆われていない。封止膜１９０は、例えば絶縁材料、さらに具体的には酸化アルミニウムや酸化チタンなどの無機材料によって形成される。また、封止膜１９０の厚さは、好ましくは３００ｎｍ以下である。また封止膜１９０の厚さは、例えば５０ｎｍ以上である。
封止膜１９０は、例えばＡＬＤ（Atomic Layer Deposition）法を用いて形成されている。この場合、封止膜１９０の段差被覆性は高くなる。またこの場合、封止膜１９０は、複数の層を積層した多層構造を有していてもよい。この場合、第１の材料（例えば酸化アルミニウム）からなる第１封止層と、第２の材料（例えば酸化チタン）からなる第２封止層とを繰り返し積層した構造を有していてもよい。最下層は第１封止層及び第２封止層のいずれであってもよい。また、最上層も第１封止層及び第２封止層のいずれであってもよい。また、封止膜１９０は第１の材料と第２の材料の混在する単層であってもよい。
ただし、封止膜１９０は、他の成膜法、例えばＣＶＤ法やスパッタリング法を用いて形成されていてもよい。この場合、封止膜１９０は、ＳｉＯ２又はＳｉＮなど絶縁膜によって形成されており、その膜厚は、例えば１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下である。
また、封止膜１９０の上にはさらに封止膜１９０を保護するための被覆部材１８０が設けられている。被覆部材１８０は、エポキシ系又はアクリル系等の樹脂を用いて形成される。被覆部材１８０は、封止機能を有していても良いし、有していなくても良い。
なお、被覆部材１８０は例えば透光性を有するガラス又は樹脂を用いて形成されてもよい。その場合、被覆部材１８０は、基板１００と同様の多角形や円形であり、接着層を介して発光部１４０に固定されている。また、被覆部材１８０は中央に凹部を設けた形状を有していても良い。この場合、被覆部材１８０の縁は接着剤で基板１００に固定される。これにより、被覆部材１８０と基板１００で囲まれた空間は封止される。そして発光部１４０は、封止された空間の中に位置する。なお、封止膜１９０は設けられていなくても良い。
また、被覆部材１８０で封止された空間には、乾燥剤が配置されていてもよい。乾燥剤は、例えばＣａＯ，ＢａＯなどの乾燥部材を含有している。たとえば乾燥剤は、被覆部材１８０の基板１００に対向する面に固定される。
また、発光装置１０は、基板１００の第１面１０１に形成され、第１電極１１０又は第２電極１３０と電気的に接続された端子部をさらに備える。そして端子部は、集積回路３００と接続されている。本図の例では、発光装置１０は、第１端子１１２、第１引出配線１１４、第２端子１３２、及び第２引出配線１３４を備えている。第１端子１１２および第２端子１３２は、上記の端子部である。第１端子１１２、第１引出配線１１４、第２端子１３２、及び第２引出配線１３４は、いずれも基板１００のうち発光部１４０と同一面に形成されている。第１端子１１２及び第２端子１３２は被覆部材１８０の外部に位置している。第１引出配線１１４は第１端子１１２と第１電極１１０とを接続しており、第２引出配線１３４は第２端子１３２と第２電極１３０とを接続している。言い換えると、第１引出配線１１４及び第２引出配線１３４は、いずれも被覆部材１８０の内側から外側に延在している。
第１端子１１２、第２端子１３２、第１引出配線１１４、及び第２引出配線１３４は、例えば、第１電極１１０と同一の材料で形成された層を有している。また、第１端子１１２、第２端子１３２、第１引出配線１１４、及び第２引出配線１３４の少なくとも一つの少なくとも一部は、この層の上に、第１電極１１０よりも低抵抗な金属膜（不図示）を有していてもよい。この金属膜は、第１端子１１２、第２端子１３２、第１引出配線１１４、及び第２引出配線１３４のすべてに形成されている必要はない。第１端子１１２、第１引出配線１１４、第２端子１３２、及び第２引出配線１３４のうち第１電極１１０と同一の材料で形成された層は、第１電極１１０と同一工程で形成されている。このため、第１電極１１０は、第１端子１１２の少なくとも一部の層と一体になっている。またこれらが金属膜を有している場合、第１端子１１２、第１引出配線１１４、第２端子１３２、及び第２引出配線１３４の光線透過率は、基板１００の光線透過率よりも低くなる。
図１に戻り、集積回路３００は、基板１００と対向する面に複数の電極３０５を備える。複数の電極３０５には、集積回路３００の正極端子および負極端子が含まれる。そして、第１端子１１２および第２端子１３２と集積回路３００の電極３０５とは、異方性導電性樹脂層３１０を介して電気的に接続されている。異方性導電性樹脂層３１０は、絶縁性の樹脂に複数の導電粒子を混ぜた構成を有している。導電粒子はたとえば金属粒子であるが、樹脂粒子などの絶縁性の粒子の表面に金などの金属を成膜したものであってもよい。そして、第１端子１１２が集積回路３００の正極端子に接続され、第２端子１３２が集積回路３００の負極端子に接続されることにより、第１端子１１２および第２端子１３２は集積回路３００と通電可能となる。また、集積回路３００は、異方性導電性樹脂層３１０を介して基板１００に固定されている。
発光装置１０が複数の発光部１４０を備える場合、第１引出配線１１４及び第２引出配線１３４は一つの発光部１４０について一つずつ形成される。複数の第１引出配線１１４はいずれも同一の第１端子１１２に接続され、複数の第２引出配線１３４はいずれも同一の第２端子１３２に接続される。ただし、第１引出配線１１４及び第２引出配線１３４は複数の発光部１４０について一つ形成されてもよい。そして、第１引出配線１１４は一つの第１端子１１２について一つずつ接続され、第２引出配線１３４は一つの第２端子１３２について一つずつ接続されてもよい。
集積回路３００は、たとえば半導体集積回路（ＩＣ）であり、発光部１４０の制御回路として機能する。集積回路３００は、第１面３０１とは反対側の第２面３０２が、基板１００の第１面１０１に対向するよう固定されている。集積回路３００の形状や大きさは特に限定されないが、たとえば、基板１００の第１面１０１から、被覆部材１８０の基板１００とは反対側の第１面１８１までの高さｈＣは、基板１００の第１面１０１から、集積回路３００の基板１００とは反対側の第１面３０１までの高さｈＩＣより低くなっている。集積回路３００は複数の電極３０５を備えており、上記した通り、第１電極１１０または第２電極１３０に接続された端子部（第１端子１１２，第２端子１３２）と電気的に接続されている。
発光装置１０は、複数の集積回路３００を基板１００の第１面１０１に備えていてもよい。その場合、保護部材４００は、集積回路３００と被覆部材１８０との間の領域にそれぞれ設けられる。
保護部材４００は、上記した通り、被覆部材１８０と集積回路３００との間の第１領域１０５に位置する。保護部材４００は、少なくとも第１領域１０５の基板１００の全体を覆っていることが好ましい。また、保護部材４００は、さらに被覆部材１８０の基板１００とは反対側の第１面１８１の少なくとも一部を覆っていてもよい。また、保護部材４００は、第１領域１０５以外の基板１００の一部をさらに覆っていてもよい。
図６および図７は、被覆部材１８０および集積回路３００の位置関係の例を示す平面図である。図６および図７を参照して第１領域１０５について説明する。本図の例において集積回路３００のメインの部材（たとえばシリコン等の無機材料）および被覆部材１８０は基板に垂直な方向から見て矩形である。なお、集積回路３００はメインの部材に加えリード等を備えていてもよい。第１領域１０５は、基板１００に垂直な方向から見て、集積回路３００の辺のうち被覆部材１８０と対向する部分３０４と、被覆部材１８０の辺のうち集積回路３００と対抗する部分１８４とを対向２辺とする矩形の領域であるといえる。図６では、集積回路３００の側面３０３の全体が被覆部材１８０の側面１８３に対向している例を示し、図７では、側面３０３の一部のみが被覆部材１８０の側面１８３に対向している例を示している。
なお、図７のように側面３０３の一部のみが被覆部材１８０の側面１８３に対向している場合、保護部材４００は第１領域１０５に加え、第２領域１０６の全体を覆っていることが好ましい。ここで、第２領域１０６は、第１領域１０５に隣接する矩形の領域である。また、第２領域１０６の一辺は、集積回路３００の側面３０３に垂直な第１領域１０５の一辺であり、第２領域１０６の他の一辺は、集積回路３００の一つの角から部分３０４の端部までを結ぶ線である。
保護部材４００はたとえば、エポキシ系またはアクリル系等の樹脂からなる。保護部材４００は、基板１００の第１面１０１に被覆部材１８０および集積回路３００を固定した後に、樹脂材料を塗布し、固化させることによって形成することができる。保護部材４００は、固化した状態において、適度な弾力性、柔軟性を有することが好ましい。
本実施形態に係る発光装置１０では、基板１００の第１面１０１のうち、上記のような第１領域１０５を保護部材４００が覆っていることにより、基板１００を湾曲させた場合に基板１００の第１領域１０５に集中する応力を軽減し、基板１００にクラック等が生じることを防ぐことができる。したがって、発光装置１０の耐久性を向上させることができる。
図１に戻り、保護部材４００についてさらに説明する。保護部材４００は、集積回路３００の第１面３０１に垂直な少なくとも一つの側面３０３に接していることが好ましい。また、基板１００の第１面１０１から集積回路３００の第１面３０１までの高さをｈＩＣとしたとき、保護部材４００は、集積回路３００の側面３０３の内、基板１００の第１面１０１からｈＩＣ／２の高さまでの領域を覆っていることがより好ましい。そうすれば、基板１００を湾曲させた場合に基板１００の第１領域１０５に集中する応力をより軽減し、発光装置１０の耐久性を向上させることができる。
一方で、保護部材４００は、集積回路３００の基板１００とは反対側の第１面３０１の全体を露出するように設けられている。そうすることにより、発光部１４０によって発光装置１０全体としての厚さが、厚くなることを避けることができる。ここで、集積回路３００の第１面３０１は、撥水性を有することが好ましい。具体的には、集積回路３００の第１面３０１の、水に対する接触角は９０°以上であることが好ましく、１５０°以上であることがより好ましい。たとえば、集積回路３００の表面を撥水処理したり、撥水性のコートを施したりすることで、第１面３０１に撥水性を付与することができる。そうすれば、保護部材４００を塗布法によって形成する際に、集積回路３００の第１面３０１が樹脂材料をはじく。したがって、第１面３０１が保護部材４００に覆われるのを防ぎつつ効率よく発光装置１０を製造できる。なお、集積回路３００の側面３０３は撥水性を有していてもよいし、有していなくてもよい。
なお、保護部材４００は、第１領域１０５の全体において基板１００の第１面１０１と接していることが好ましい。ただし、第１領域１０５において、基板１００の第１面１０１に被覆層等が形成されている場合は、保護部材４００は基板１００の第１面１０１と接していなくてもよい。
図８から図１１は、発光装置１０の変形例を示す断面図である。図８から図１１は、図１に相当する。図８の例では、保護部材４００の表面は、発光装置１０の第１面１０１とは反対側に向かって凸となっている。そして、保護部材４００は被覆部材１８０の第１面１８１の少なくとも一部を覆っている。
図９の例では、保護部材４００の表面は、発光装置１０の第１面１０１と反対側に向かって凹となっている。そして、保護部材４００は、集積回路３００の第１面３０１および被覆部材１８０の第１面１８１のいずれも覆っていない。
図１０の例では、保護部材４００は、集積回路３００の側面３０３のうち、一部のみを覆っている。そして、本図の例では、保護部材４００は、集積回路３００の側面３０３の内、基板１００の第１面１０１からｈＩＣ／２の高さまでの領域を少なくとも覆っている。
図１１の例では、保護部材４００は、被覆部材１８０の側面１８３のうち、一部のみを覆っている。また、保護部材４００は、集積回路３００の側面３０３のうち、一部のみを覆っている。本図の例では、保護部材４００は、被覆部材１８０の側面１８３のうち、基板１００の第１面１０１からｈＣ／２の高さまでの領域を少なくとも覆っており、集積回路３００の側面３０３の内、基板１００の第１面１０１からｈＩＣ／２の高さまでの領域を少なくとも覆っている。
これらの変形例のように、保護部材４００の形状は、保護部材４００を形成する樹脂材料の粘性や塗布量、集積回路３００および被覆部材１８０の表面の濡れ性等によって異なりうる。
これらの変形例においても、基板１００の第１面１０１のうち、上記のような第１領域１０５を保護部材４００が覆っていることにより、基板１００を湾曲させた場合に基板１００の第１領域１０５に集中する応力を軽減し、基板１００にクラック等が生じることを防ぐことができる。したがって、発光装置１０の耐久性を向上させることができる。
発光装置１０の製造方法について以下に説明する。当該製造方法は、発光部１４０を形成する工程、基板１００の第１面１０１に集積回路３００を設ける工程、発光部１４０を被覆部材１８０で被覆する工程、および、保護部材４００を形成する工程を含む。発光部１４０を形成する工程では、基板１００の第１面１０１に、第１電極１１０、有機層１２０、及び第２電極１３０を有する発光部１４０を形成する。集積回路３００を設ける工程では、集積回路３００は第１電極１１０および第２電極１３０の少なくとも一方と電気的に接続される。保護部材４００を形成する工程では、被覆部材１８０と集積回路３００との間の第１領域１０５に保護部材が形成される。また、保護部材４００を形成する工程において、保護部材４００は、集積回路３００の基板１００とは反対側の第１面３０１の全体を露出するように設けられる。以下に詳しく説明する。
まず、基板１００の第１面１０１上に第１電極１１０を形成する。この工程において、第１端子１１２及び第２端子１３２も形成される。次いで、絶縁層１５０、有機層１２０、及び第２電極１３０をこの順に形成する（発光部１４０を形成する工程）。
次いで、基板１００の第１面１０１上の、第１端子１１２及び第２端子１３２を含む範囲であって、集積回路３００を配置する範囲の上に異方性導電性樹脂層３１０を形成する。そして、異方性導電性樹脂層３１０を介して基板１００の第１面１０１上に集積回路３００を配置し、固定する。このとき、第１端子１１２及び第２端子１３２が複数の導電粒子を介して集積回路３００の電極３０５に電気的に接続されるようにする（集積回路３００を設ける工程）。なお、異方性導電性樹脂層３１０の基板１００に平行な方向の導電性は低く、第１端子１１２と第２端子１３２とは短絡しない。
次いで、発光部１４０を覆うように基板１００の第１面１０１上に封止膜１９０および被覆部材１８０を形成する（被覆する工程）。
次いで、被覆部材１８０と集積回路３００との間の第１領域１０５に保護部材４００を形成するための樹脂材料を塗布し、固化させる（保護部材４００を形成する工程）。樹脂材料は、たとえばディスペンサー等を用いて所望の領域にのみ塗布できる。
なお、集積回路３００を設ける工程の後、保護部材４００を形成する工程の前には、集積回路３００の少なくとも第１面３０１に対し、撥水処理を施す工程をさらに含んでもよい。そうすれば、集積回路３００の第１面３０１が樹脂材料をはじくため、第１面３０１が保護部材４００に覆われるのを防ぎつつ効率よく発光装置１０を製造できる。
発光装置１０は、基板１００が平坦な状態のみならず、基板１００の少なくとも一部が湾曲している状態で用いることができる。また、発光装置１０において、基板１００は少なくとも一部が湾曲している状態で固定されていてもよい。
図１２は、発光装置１０を備える電子装置５０の構成を示す断面図である。電子装置５０において、基板１００の少なくとも一部は湾曲している。電子装置５０は、固定部材５１０を備え、発光装置１０は、基板１００が湾曲した状態で固定部材５１０に固定されている。電子装置５０はたとえば、広告板、携帯端末（ウェアラブル端末を含む）等である。
以上、本実施形態によれば、被覆部材１８０と集積回路３００との間の第１領域１０５に保護部材４００が設けられている。したがって、基板１００を湾曲させた場合に基板１００の第１領域１０５に集中する応力を軽減し、基板１００にクラック等が生じることを防ぐことができる。よって、発光装置１０の耐久性を向上させることができる。
また、保護部材４００は、集積回路３００の基板１００とは反対側の第１面３０１の全体を露出するように設けられている。したがって、発光部１４０により発光装置１０全体としての厚さが厚くなることを避けることができる。
（実施例１）
図１８は、実施例１に係る発光装置１０の構成を示す平面図である。本実施例に係る発光装置１０は、以下に説明する点を除いて実施形態に係る発光装置１０と同じである。図１３は、図１８から保護部材４００、被覆部材１８０、および集積回路３００を取り除いた図である。本図において、被覆部材１８０および集積回路３００を破線で示している。図１４は、図１３から隔壁１７０、第２電極１３０、有機層１２０、及び絶縁層１５０を取り除いた図である。図１５は図１３のＢ−Ｂ断面図であり、図１６は図１３のＣ−Ｃ断面図であり、図１７は図１３のＤ−Ｄ断面図である。ただし、図１５から図１７において、封止膜１９０および被覆部材１８０は省略して示している。
図１８は、実施例１に係る発光装置１０の構成を示す平面図である。本実施例に係る発光装置１０は、以下に説明する点を除いて実施形態に係る発光装置１０と同じである。図１３は、図１８から保護部材４００、被覆部材１８０、および集積回路３００を取り除いた図である。本図において、被覆部材１８０および集積回路３００を破線で示している。図１４は、図１３から隔壁１７０、第２電極１３０、有機層１２０、及び絶縁層１５０を取り除いた図である。図１５は図１３のＢ−Ｂ断面図であり、図１６は図１３のＣ−Ｃ断面図であり、図１７は図１３のＤ−Ｄ断面図である。ただし、図１５から図１７において、封止膜１９０および被覆部材１８０は省略して示している。
本実施例に係る発光装置１０はディスプレイであり、基板１００、第１電極１１０、発光部１４０、絶縁層１５０、複数の開口１５２、複数の開口１５４、複数の第１引出配線１１４、有機層１２０、第２電極１３０、複数の第２引出配線１３４、及び複数の隔壁１７０を有している。
第１電極１１０は、第１方向（図１３におけるＹ方向）にライン状に延在している。そして第１電極１１０の端部は、第１引出配線１１４に接続している。
第１引出配線１１４は、第１電極１１０を第１端子１１２に接続する配線である。本図に示す例では、第１引出配線１１４の一端側は第１電極１１０に接続しており、第１引出配線１１４の他端側は第１端子１１２となっている。そして第１端子１１２の上及び第１引出配線１１４の上には、導体層１８２が形成されている。導体層１８２は、第１電極１１０よりも抵抗の低い金属、例えばＡｌ又はＡｇを用いて形成されている。なお、第１引出配線１１４の一部は絶縁層１５０によって覆われている。
絶縁層１５０は、図１３、及び図１５〜図１７に示すように、複数の第１電極１１０上及びその間の領域に形成されている。絶縁層１５０には、複数の開口１５２及び複数の開口１５４が形成されている。複数の第２電極１３０は、第１電極１１０と交差する方向（例えば直交する方向：図１３におけるＸ方向）に互いに平行に延在している。そして、複数の第２電極１３０の間には、詳細を後述する隔壁１７０が延在している。開口１５２は、平面視で第１電極１１０と第２電極１３０の交点に位置している。具体的には、複数の開口１５２は、第１電極１１０が延在する方向（図１３におけるＹ方向）に並んでいる。また、複数の開口１５２は、第２電極１３０の延在方向（図１３におけるＸ方向）にも並んでいる。このため、複数の開口１５２はマトリクスを構成するように配置されていることになる。
開口１５４は、平面視で複数の第２電極１３０のそれぞれの一端側と重なる領域に位置している。また開口１５４は、開口１５２が構成するマトリクスの一辺に沿って配置されている。そしてこの一辺に沿う方向（例えば図１３におけるＹ方向、すなわち第１電極１１０に沿う方向）で見た場合、開口１５４は、所定の間隔で配置されている。開口１５４からは、第２引出配線１３４の一部分が露出している。そして、第２引出配線１３４は、開口１５４を介して第２電極１３０に接続している。
第２引出配線１３４は、第２電極１３０を第２端子１３２に接続する配線であり、第１電極１１０と同一の材料からなる層を有している。第２引出配線１３４の一端側は開口１５４の下に位置しており、第２引出配線１３４の他端側は、絶縁層１５０の外部に引き出されている。そして本図に示す例では、第２引出配線１３４の他端側が第２端子１３２となっている。なお、第２引出配線１３４の一部は絶縁層１５０によって覆われている。
開口１５２と重なる領域には、有機層１２０が形成されている。有機層１２０の正孔注入層は第１電極１１０に接しており、有機層１２０の電子注入層は第２電極１３０に接している。このため、発光部１４０は、開口１５２と重なる領域それぞれに位置していることになる。
なお、図１５及び図１６に示す例では、有機層１２０を構成する各層は、いずれも開口１５２の外側まではみ出している場合を示している。そして図１３に示すように、有機層１２０は、隔壁１７０が延在する方向において、隣り合う開口１５２の間にも連続して形成されていてもよいし、連続して形成していなくてもよい。ただし、図１７に示すように、有機層１２０は、開口１５４には形成されていない。
第２電極１３０は、図１３、図１５〜図１７に示すように、第１方向と交わる第２方向（図１３におけるＸ方向）に延在している。そして隣り合う第２電極１３０の間には、隔壁１７０が形成されている。隔壁１７０は、第２電極１３０と平行すなわち第２方向に延在している。隔壁１７０の下地は、例えば絶縁層１５０である。隔壁１７０は、例えばポリイミド系樹脂などの感光性の樹脂であり、露光及び現像されることによって、所望のパターンに形成されている。なお、隔壁１７０はポリイミド系樹脂以外の樹脂、例えばエポキシ系樹脂やアクリル系樹脂、二酸化珪素等の無機材料で構成されていても良い。
隔壁１７０は、断面が台形の上下を逆にした形状（逆台形）になっている。すなわち隔壁１７０の上面の幅は、隔壁１７０の下面の幅よりも大きい。このため、隔壁１７０を第２電極１３０より前に形成しておくと、蒸着法やスパッタリング法を用いて、第２電極１３０を基板１００の一面側に形成することで、複数の第２電極１３０を一括で形成することができる。また、隔壁１７０は、有機層１２０を分断する機能も有している。
次に、本実施例における発光装置１０の製造方法を説明する。本実施例に係る発光装置１０の製造方法は、発光部１４０を形成する工程を除いて、実施形態に係る発光装置１０の製造方法と同様である。まず、基板１００上に第１電極１１０、第１引出配線１１４，および第２引出配線１３４を形成する。これらの形成方法は、実施形態において第１電極１１０を形成する方法と同様である。
次いで、絶縁層１５０を形成し、さらに隔壁１７０を形成する。次いで有機層１２０及び第２電極１３０を形成する。
そして、以降は、実施形態の方法と同様に、集積回路３００を設ける工程、被覆する工程、および、保護部材４００を形成する工程を行う。
本実施例によれば、実施形態と同様に、被覆部材１８０と集積回路３００との間の第１領域１０５に保護部材４００が設けられている。したがって、基板１００を湾曲させた場合に基板１００の第１領域１０５に集中する応力を軽減し、基板１００にクラック等が生じることを防ぐことができる。よって、発光装置１０の耐久性を向上させることができる。
また、保護部材４００は、集積回路３００の基板１００とは反対側の第１面３０１の全体を露出するように設けられている。したがって、発光部１４０により発光装置１０全体としての厚さが厚くなることを避けることができる。
以上、図面を参照して実施形態及び実施例について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
Claims (15)
- 基板と、
前記基板の一方の面に形成され、第１電極、有機層、及び第２電極を有する発光部と、
前記発光部を被覆する被覆部材と、
前記一方の面に配置され、前記第１電極および前記第２電極の少なくとも一方と電気的に接続された集積回路と、
前記被覆部材と前記集積回路との間の領域に位置する保護部材と、を備え、
前記保護部材は、前記集積回路の前記基板とは反対側の第１面の全体を露出するように設けられている発光装置。 - 請求項１に記載の発光装置において、
前記一方の面に形成され、前記第１電極又は前記第２電極と電気的に接続された端子部をさらに備え、
前記端子部は、前記集積回路と接続されている発光装置。 - 請求項１または２に記載の発光装置において、
前記保護部材は、少なくとも、前記領域の全体を覆っている発光装置。 - 請求項１〜３のいずれか一項に記載の発光装置において、
前記一方の面から前記被覆部材の前記基板とは反対側の面までの高さは、前記一方の面から前記第１面までの高さより低い発光装置。 - 請求項１〜４のいずれか一項に記載の発光装置において、
前記第１面は、撥水性を有する発光装置。 - 請求項５に記載の発光装置において、
前記第１面の、水に対する接触角は９０°以上である発光装置。 - 請求項６に記載の発光装置において、
前記第１面の、水に対する接触角は１５０°以上である発光装置。 - 請求項１〜７のいずれか一項に記載の発光装置において、
前記保護部材は前記被覆部材の前記基板とは反対側の面の少なくとも一部を覆っている発光装置。 - 請求項１〜８のいずれか一項に記載の発光装置において、
前記保護部材は、前記第１面に垂直な前記集積回路の少なくとも一つの側面に接している発光装置。 - 請求項９に記載の発光装置において、
前記一方の面から前記第１面までの高さをｈＩＣとしたとき、前記保護部材は、前記集積回路の前記側面の内、前記一方の面からｈＩＣ／２の高さまでの領域を覆っている発光装置。 - 請求項１〜１０のいずれか一項に記載の発光装置において、
前記基板はガラス基板である発光装置。 - 請求項１〜１１のいずれか一項に記載の発光装置において、
前記基板の厚さは１０μｍ以上１０００μｍ以下である発光装置。 - 請求項１〜１２のいずれか一項に記載の発光装置において、
前記基板は可撓性を有する発光装置。 - 請求項１〜１３のいずれか一項に記載の発光装置を備え、
前記基板の少なくとも一部が湾曲している電子装置。 - 基板の一方の面に、第１電極、有機層、及び第２電極を有する発光部を形成する工程と、
前記一方の面に前記第１電極および前記第２電極の少なくとも一方と電気的に接続された集積回路を設ける工程と、
前記発光部を被覆部材で被覆する工程と、
前記被覆部材と前記集積回路との間の領域に保護部材を形成する工程と、を含み、
前記保護部材を形成する工程において、前記保護部材は、前記集積回路の前記基板とは反対側の第１面の全体を露出するように設けられる発光装置の製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/JP2016/059189 WO2017163331A1 (ja) | 2016-03-23 | 2016-03-23 | 発光装置、電子装置および発光装置の製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020108582A Division JP2020155417A (ja) | 2020-06-24 | 2020-06-24 | 発光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2017163331A1 true JPWO2017163331A1 (ja) | 2019-01-31 |
Family
ID=59900052
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018506673A Pending JPWO2017163331A1 (ja) | 2016-03-23 | 2016-03-23 | 発光装置、電子装置および発光装置の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10707428B2 (ja) |
| JP (1) | JPWO2017163331A1 (ja) |
| WO (1) | WO2017163331A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10923689B2 (en) * | 2018-01-25 | 2021-02-16 | OLEDWorks LLC | Method for mask-free OLED deposition and manufacture |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004258487A (ja) * | 2003-02-27 | 2004-09-16 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器 |
| JP2005284252A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Samsung Sdi Co Ltd | 平板ディスプレイ装置 |
| WO2006088185A1 (ja) * | 2005-02-21 | 2006-08-24 | Kyocera Corporation | Ｅｌ表示装置およびその製造方法 |
| JP2010140786A (ja) * | 2008-12-12 | 2010-06-24 | Seiko Epson Corp | 有機ｅｌ装置 |
| US20140183473A1 (en) * | 2012-12-28 | 2014-07-03 | Lg Display Co., Ltd. | Flexible display device and method of manufacturing the same |
| JP2015121777A (ja) * | 2013-11-20 | 2015-07-02 | 株式会社Ｊｏｌｅｄ | 表示装置、およびその製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010027502A (ja) | 2008-07-23 | 2010-02-04 | Tdk Corp | 有機ｅｌ表示装置 |
| US9773853B2 (en) * | 2015-01-09 | 2017-09-26 | Apple Inc. | Organic light-emitting diode display with bent substrate |
-
2016
- 2016-03-23 US US16/087,594 patent/US10707428B2/en active Active
- 2016-03-23 WO PCT/JP2016/059189 patent/WO2017163331A1/ja active Application Filing
- 2016-03-23 JP JP2018506673A patent/JPWO2017163331A1/ja active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004258487A (ja) * | 2003-02-27 | 2004-09-16 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器 |
| JP2005284252A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Samsung Sdi Co Ltd | 平板ディスプレイ装置 |
| WO2006088185A1 (ja) * | 2005-02-21 | 2006-08-24 | Kyocera Corporation | Ｅｌ表示装置およびその製造方法 |
| JP2010140786A (ja) * | 2008-12-12 | 2010-06-24 | Seiko Epson Corp | 有機ｅｌ装置 |
| US20140183473A1 (en) * | 2012-12-28 | 2014-07-03 | Lg Display Co., Ltd. | Flexible display device and method of manufacturing the same |
| JP2015121777A (ja) * | 2013-11-20 | 2015-07-02 | 株式会社Ｊｏｌｅｄ | 表示装置、およびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2017163331A1 (ja) | 2017-09-28 |
| US20190097146A1 (en) | 2019-03-28 |
| US10707428B2 (en) | 2020-07-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20240099050A1 (en) | Light-emitting device | |
| US20240163984A1 (en) | Light emitting device | |
| WO2017154482A1 (ja) | 封止構造及び発光装置 | |
| JP6595066B2 (ja) | 発光装置の製造方法及び発光装置 | |
| WO2017163331A1 (ja) | 発光装置、電子装置および発光装置の製造方法 | |
| WO2016157321A1 (ja) | 発光装置 | |
| JP2016119201A (ja) | 発光装置 | |
| JP2020155417A (ja) | 発光装置 | |
| JP6661373B2 (ja) | 発光装置 | |
| JP6555911B2 (ja) | 発光装置 | |
| JP7390508B2 (ja) | 発光装置及び発光装置の製造方法 | |
| JP6499876B2 (ja) | 発光装置 | |
| JP6580336B2 (ja) | 発光装置 | |
| JP2016186911A (ja) | 発光装置 | |
| JP6496138B2 (ja) | 発光装置 | |
| JP2023153346A (ja) | 発光装置 | |
| JP2019201004A (ja) | 発光装置 | |
| WO2017154207A1 (ja) | 発光装置 | |
| WO2016129114A1 (ja) | 発光装置及び発光装置の製造方法 | |
| WO2017094087A1 (ja) | 発光装置 | |
| WO2017094086A1 (ja) | 発光装置 | |
| JP2019192662A (ja) | 発光装置 | |
| JP2017162765A (ja) | 発光装置 | |
| JP2016184545A (ja) | 発光装置及び発光システム | |
| JP2016143529A (ja) | 発光装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180919 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190924 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20200324 |