JPWO2016136357A1 - フレキソ印刷版およびフレキソ印刷版の製造方法 - Google Patents
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Abstract
印刷版の画像部の先端が被印刷体に接触する際のバウンシングを抑制して、ムラのない画像の印刷が可能なフレキソ印刷版およびフレキソ印刷版の製造方法を提供する。画像部の、印刷方向の先端側から0.5mm〜5mmまでの領域が、この領域以外の画像部の高さよりも高さが低い低層化領域であり、低層化領域は、画像部の先端側の端辺に直交する方向において、非画像部に向かって漸次、低くなる。
Description
本発明は、フレキソ印刷版およびフレキソ印刷版の製造方法に関する。
樹脂製やゴム製の柔軟なレリーフ形成層を有するフレキソ印刷版は、印刷用の凸部(画像部)が比較的柔らかく、種々の形状に追従可能なことから、様々な材質の被印刷体や厚みのある被印刷体等への印刷に利用されている。
フレキソ印刷版を用いて行われるフレキソ印刷では、フレキソ印刷版は円筒状のドラム(版胴)の周面に装着され、インキがフレキソ印刷版に供給される。版胴および圧胴を回転させつつ、被印刷体を版胴および圧胴の間に挿通して、フレキソ印刷版と被印刷体とを接触させることによって、印刷版の凸部(画像部)の表面から、被印刷体に直接、インキを転写して被印刷体上に画像を形成する。
このようなフレキソ印刷において、印刷版は、画像部と非画像部との形成パターンに応じて、周期的に被印刷体との接触と非接触とを繰り返す。そのため、印刷版の画像部の先端が被印刷体に接触する際の衝撃力によって、版胴が振動する、いわゆる、バウンシングが発生して、画像部の先端に近い位置で、印刷版と被印刷体との接触が失われて、インキの転写不良が生じて、印刷された画像にムラが生じてしまうという問題があった。
これに対して、画像部と被印刷体の接触の際の衝撃を吸収するために、印刷版の下層側にクッション性を有する層を設けることが提案されている。
これに対して、画像部と被印刷体の接触の際の衝撃を吸収するために、印刷版の下層側にクッション性を有する層を設けることが提案されている。
例えば、特許文献1には、版胴の回転シャフトが、第1の素材からなる内側円筒体と、第2の素材からなる中間スリーブと、第3の素材からなる外側スリーブとを有し、第2の素材のヤング率は、第1および第3の素材のヤング率よりも実質的に低い構成とすることで、バウンシングを低減することが記載されている。
また、特許文献2には、版胴に印刷版を接着する両面テープとして、クッション性を有する両面テープを用いることが記載されている。
また、特許文献3には、印刷版の下層に発泡性樹脂層を設けることが記載されている。
また、特許文献3には、印刷版の下層に発泡性樹脂層を設けることが記載されている。
しかしながら、印刷版の下層側にクッション性を有する層を設ける場合に、このクッション層は柔らかいほど衝撃力を低減する効果が大きいものの、クッション層が柔らかすぎるとベタ部のインキ濃度の均一性が悪くなり、印刷された画像にムラが生じてしまうという問題があった。
また、これ以外の方法として、画像部の配置を工夫することが考えられる。例えば、図11(A)に示すフレキソ印刷版210のように、複数の画像部200、202および204を配置し、これらの画像部の先端が印刷の幅方向で揃わないように配置する構成や、図11(B)に示すフレキソ印刷版220のように、複数の画像部200、202および204を配置し、これらの画像部と画像部の間に印刷方向に延在する方向に、ベタのオビ部222(いわゆる、捨てオビ)を設ける構成が考えられる。
しかしながら、このような画像部の配置を工夫する構成は、デザイン上の制約を受けるため、1点の画像が版の大面積を占める場合には利用できない。
しかしながら、このような画像部の配置を工夫する構成は、デザイン上の制約を受けるため、1点の画像が版の大面積を占める場合には利用できない。
本発明の目的は、このような従来技術の問題点を解決することにあり、印刷版の画像部の先端が被印刷体に接触する際の衝撃によって発生するバウンシングを抑制して、ムラのない画像の印刷が可能なフレキソ印刷版およびフレキソ印刷版の製造方法を提供することにある。
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意研究した結果、画像部の、印刷方向の先端側から0.5mm〜5mmまでの領域が、この領域以外の高さよりも高さが低い低層化領域であり、低層化領域は、印刷方向において、非画像部に向かって漸次、低くなる構成とすることによって、印刷版の画像部の先端が被印刷体に接触する際の衝撃によって発生するバウンシングを抑制して、ムラのない画像の印刷が可能となることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、以下の構成のフレキソ印刷版およびフレキソ印刷版の製造方法を提供する。
すなわち、本発明は、以下の構成のフレキソ印刷版およびフレキソ印刷版の製造方法を提供する。
(1) 画像部と、非画像部とを有するフレキソ印刷版であって、
画像部の、印刷方向の先端側から0.5mm〜5mmまでの領域が、領域以外の画像部の高さよりも高さが低い低層化領域であり、
低層化領域は、印刷方向において、非画像部に向かって漸次、低くなるフレキソ印刷版。
(2) 低層化領域における低層化付加量の最大値が、20μm〜120μmである(1)に記載のフレキソ印刷版。
(3) 画像部の端辺から離間する方向に2mm以上連続する非画像部に隣接する画像部において、低層化領域を形成した(1)または(2)に記載のフレキソ印刷版。
(4) 画像部と、非画像部とを有するフレキソ印刷版の製造方法であって、
印刷する画像の元画像データを取得する画像データ取得工程と、
取得した元画像データから第1の彫刻形状画像データを生成する第1彫刻画像生成工程と、
元画像データから画像部と非画像部との境界を検出し、境界の位置を基準にして、画像部の一部の高さを低くするための低層化マスクデータを生成する低層化マスク生成工程と、
第1の彫刻形状画像データに低層化マスクデータを適用して、画像部の、印刷方向の先端側から0.5mm〜5mmまでの領域を低層化した第2の彫刻形状画像データを生成する第2彫刻画像生成工程とを有するフレキソ印刷版の製造方法。
(5) 低層化マスクデータによる低層化付加量の最大値が、20μm〜120μmである(4)に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
(6) 低層化マスク生成工程において、画像部の端辺から離間する方向に2mm以上連続する非画像部に隣接する画像部の境界の位置を基準にして低層化マスクデータを生成する(4)または(5)に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
(7) 第1彫刻画像生成工程は、元画像データを網点画像データに変換し、網点画像データに基づいて第1の彫刻形状画像データを生成する(4)〜(6)のいずれかに記載のフレキソ印刷版の製造方法。
(8) 第2の彫刻形状画像データに基づいて、フレキソ印刷版原版にレーザー彫刻する彫刻工程を有する(4)〜(7)のいずれかに記載のフレキソ印刷版の製造方法。
画像部の、印刷方向の先端側から0.5mm〜5mmまでの領域が、領域以外の画像部の高さよりも高さが低い低層化領域であり、
低層化領域は、印刷方向において、非画像部に向かって漸次、低くなるフレキソ印刷版。
(2) 低層化領域における低層化付加量の最大値が、20μm〜120μmである(1)に記載のフレキソ印刷版。
(3) 画像部の端辺から離間する方向に2mm以上連続する非画像部に隣接する画像部において、低層化領域を形成した(1)または(2)に記載のフレキソ印刷版。
(4) 画像部と、非画像部とを有するフレキソ印刷版の製造方法であって、
印刷する画像の元画像データを取得する画像データ取得工程と、
取得した元画像データから第1の彫刻形状画像データを生成する第1彫刻画像生成工程と、
元画像データから画像部と非画像部との境界を検出し、境界の位置を基準にして、画像部の一部の高さを低くするための低層化マスクデータを生成する低層化マスク生成工程と、
第1の彫刻形状画像データに低層化マスクデータを適用して、画像部の、印刷方向の先端側から0.5mm〜5mmまでの領域を低層化した第2の彫刻形状画像データを生成する第2彫刻画像生成工程とを有するフレキソ印刷版の製造方法。
(5) 低層化マスクデータによる低層化付加量の最大値が、20μm〜120μmである(4)に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
(6) 低層化マスク生成工程において、画像部の端辺から離間する方向に2mm以上連続する非画像部に隣接する画像部の境界の位置を基準にして低層化マスクデータを生成する(4)または(5)に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
(7) 第1彫刻画像生成工程は、元画像データを網点画像データに変換し、網点画像データに基づいて第1の彫刻形状画像データを生成する(4)〜(6)のいずれかに記載のフレキソ印刷版の製造方法。
(8) 第2の彫刻形状画像データに基づいて、フレキソ印刷版原版にレーザー彫刻する彫刻工程を有する(4)〜(7)のいずれかに記載のフレキソ印刷版の製造方法。
本発明によれば、印刷版の画像部の先端が被印刷体に接触する際の衝撃によって発生するバウンシングを抑制して、ムラのない画像の印刷が可能なフレキソ印刷版およびフレキソ印刷版の製造方法を提供することができる。
以下、本発明のフレキソ印刷版およびフレキソ印刷版の製造方法について、添付の図面に示される好適実施態様を基に、詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
[フレキソ印刷版]
本発明に係るフレキソ印刷版(以下、単に、『印刷版』ともいう)は、画像部の、印刷方向の先端側から0.5mm〜5mmまでの領域が、この領域以外の画像部の高さよりも高さが低い低層化領域であり、低層化領域は、印刷方向において、非画像部に向かって漸次、低くなるフレキソ印刷版である。
以下に、本発明に係るフレキソ印刷版の構成を添付の図面に基づいて詳細に説明する。
本発明に係るフレキソ印刷版(以下、単に、『印刷版』ともいう)は、画像部の、印刷方向の先端側から0.5mm〜5mmまでの領域が、この領域以外の画像部の高さよりも高さが低い低層化領域であり、低層化領域は、印刷方向において、非画像部に向かって漸次、低くなるフレキソ印刷版である。
以下に、本発明に係るフレキソ印刷版の構成を添付の図面に基づいて詳細に説明する。
図1(A)は、本発明に係るフレキソ印刷版の一例を模式的に示す上面図であり、図1(B)は、図1(A)のA−A線断面図の一部を拡大して示す図である。図1(B)において、破線で示される部分は、低層化される前のフレキソ印刷版の形状を示すものである。
図1(A)に示すように、本発明に係るフレキソ印刷版の一例である印刷版1aは、画像部3と、非画像部2とを有する。
画像部3は、印刷時にインキを付着させて、このインキを被印刷物に転写する、すなわち、印刷時に画像を形成する領域である。また、非画像部2は、印刷時にインキを付着させない、すなわち、画像を形成しない領域である。
また、画像部3は、インキを全面的に転写することで、塗りつぶすように印刷するベタ部、および/または、多数の凸状の小点からなり、小点の大きさや密度を変化させることで、被印刷体上に印刷される画像の濃淡(グラデーション)を表現する網点部からなる。
網点部を構成する小点は、通常、所定のスクリーン線数(精細度)、例えば、100〜175lpi(line per inch)程度のスクリーン線数で形成される。
画像部3は、印刷時にインキを付着させて、このインキを被印刷物に転写する、すなわち、印刷時に画像を形成する領域である。また、非画像部2は、印刷時にインキを付着させない、すなわち、画像を形成しない領域である。
また、画像部3は、インキを全面的に転写することで、塗りつぶすように印刷するベタ部、および/または、多数の凸状の小点からなり、小点の大きさや密度を変化させることで、被印刷体上に印刷される画像の濃淡(グラデーション)を表現する網点部からなる。
網点部を構成する小点は、通常、所定のスクリーン線数(精細度)、例えば、100〜175lpi(line per inch)程度のスクリーン線数で形成される。
また、本発明のフレキソ印刷版である印刷版1aの画像部3は、印刷方向の先端側に低層化領域4を有する。図1(A)において、印刷方向を矢印yで示す方向とすると、画像部3中の図中上側の領域が低層化領域4である。
低層化領域4は、印刷方向の先端側から0.5mm〜5mmまでの領域であり、低層化領域4以外の画像部3の高さよりも低く形成されており、画像部3の先端側の端辺3aに直交する方向において、非画像部2に向かって漸次、低くなる構成を有する。
なお、以下の説明では、印刷方向における低層化領域4の幅をLaとする。すなわち、幅Laは、0.5mm〜5mmである。
低層化領域4は、印刷方向の先端側から0.5mm〜5mmまでの領域であり、低層化領域4以外の画像部3の高さよりも低く形成されており、画像部3の先端側の端辺3aに直交する方向において、非画像部2に向かって漸次、低くなる構成を有する。
なお、以下の説明では、印刷方向における低層化領域4の幅をLaとする。すなわち、幅Laは、0.5mm〜5mmである。
図1(B)に示す例では、画像部3は、多数の凸状の小点からなる網点部であり、低層化領域4においては、この網点部を形成する小点の頂点を結ぶ仮想的な線(図中、一点鎖線で示す)が、低層化領域4以外の画像部3の高さより低く、また、非画像部2側ほど、低くなるように、小点が形成される。
ここで、通常、印刷版の画像部は、図1(B)に破線で示すように、全体が(網点部の場合には小点の頂部が)均一な高さで形成される。したがって、本発明の印刷版1aは、印刷方向の先端側から0.5mm〜5mmまでの低層化領域4において、この破線で示す画像部の高さよりも高さを低くしたものであるということもできる。
以下、「破線で示す画像部」のことを「元の画像部」ともいう。
以下、「破線で示す画像部」のことを「元の画像部」ともいう。
低層化領域4以外の画像部3の高さに対する、低層化領域4の高さの差を低層化付加量Δとする。すなわち、この低層化付加量Δは、元の画像部の高さに対する、低層化領域4の高さの差であるということもできる。図1(B)の低層化領域4における低層化付加量Δを図2に示す。
図2に示すように、低層化付加量Δは、非画像部2と画像部3との境界、すなわち、画像部3の先端側の端辺3aの位置を基準として、先端側の端辺3aの位置で最も大きく、非画像部2から離間するにしたがって減少し、先端側の端辺3aから距離Laの位置で0となるように設定されている。
図2に示すように、低層化付加量Δは、非画像部2と画像部3との境界、すなわち、画像部3の先端側の端辺3aの位置を基準として、先端側の端辺3aの位置で最も大きく、非画像部2から離間するにしたがって減少し、先端側の端辺3aから距離Laの位置で0となるように設定されている。
なお、印刷版の画像部は、同じ面積率の網点部の小点は同じ高さであり、面積率が異なる網点部同士では小点の高さが異なる場合もある。このような場合は、低層化領域4は、低層化領域以外の画像部3の高さの平均値より低くなるように小点が形成される。
また、印刷版に垂直な方向から見た際に、画像部3において、低層化領域4の面積は、低層化領域以外の画像部3の面積よりも小さいのが好ましい。
また、低層化領域4は、画像部3の印刷方向先端側のみに形成されるのが好ましい。
また、低層化領域4は、画像部3の印刷方向先端側のみに形成されるのが好ましい。
また、図1(B)に示す例では、画像部3となる凸部の強度確保等の観点から、凸部の側面が傾斜して設けられている。以下、傾斜した側面部を立ち上がり領域ともいう。
したがって、この立ち上がり領域においても、破線で示す元の立ち上がり領域の高さよりも低く形成される。図2に示すように、立ち上がり領域における低層化付加量Δは、画像部3の先端側の端辺3aから離間するにしたがって減少し、先端側の端辺3aから所定の距離Rの位置で0となるように設定される。
なお、立ち上がり領域の幅は、従来のフレキソ印刷版と同様であればよい。
したがって、この立ち上がり領域においても、破線で示す元の立ち上がり領域の高さよりも低く形成される。図2に示すように、立ち上がり領域における低層化付加量Δは、画像部3の先端側の端辺3aから離間するにしたがって減少し、先端側の端辺3aから所定の距離Rの位置で0となるように設定される。
なお、立ち上がり領域の幅は、従来のフレキソ印刷版と同様であればよい。
前述のとおり、フレキソ印刷版を用いて印刷を行う際に、印刷版の画像部の先端が被印刷体に接触する際の衝撃力によって、バウンシングが発生するという問題があった。この点について、図10(A)〜図10(C)を用いて詳細に説明する。
図10(A)に、従来のフレキソ印刷版を用いた印刷装置の一例の概略部分拡大図を示し、図10(B)に、図10(A)の印刷装置に生じる振動を模式的に表すグラフを示し、図10(C)に、図10(A)の印刷装置で印刷した印刷画像の模式図を示す。
図10(A)に、従来のフレキソ印刷版を用いた印刷装置の一例の概略部分拡大図を示し、図10(B)に、図10(A)の印刷装置に生じる振動を模式的に表すグラフを示し、図10(C)に、図10(A)の印刷装置で印刷した印刷画像の模式図を示す。
図10(A)に示す、従来のフレキソ印刷版100を用いる印刷装置は、版胴110の周面に印刷版100が装着され、版胴110と圧胴112とによって形成されるニップ部に被印刷体Zを挿通して、被印刷体Zを印刷版100の画像部103に接触させて、画像部103の表面から被印刷体に直接、インキを転写して被印刷体Z上に画像を形成するものである。また、通常、ニップ部に所定の印圧がかかるように、印刷版100の画像部103が、40〜100μm程度押し込まれるように調整されて印刷される。
このような従来のフレキソ印刷においては、画像部103と非画像部102との形成パターンに応じて、周期的に被印刷体Zとの接触と非接触とを繰り返し、印刷版100の画像部103の先端が被印刷体に接触する際の衝撃力が加わる。これによって、印刷版100と被印刷体Zとの間にバウンシングが生じて、図10(B)に示すような、振動が発生する。このバウンシングによって印刷版100と被印刷体Zとの距離が離れて、印刷版100と被印刷体Zとの接触が失われると、インキの転写不良が生じて、図10(C)に示すように、印刷された画像にムラが生じてしまうという問題があった。
このような従来のフレキソ印刷においては、画像部103と非画像部102との形成パターンに応じて、周期的に被印刷体Zとの接触と非接触とを繰り返し、印刷版100の画像部103の先端が被印刷体に接触する際の衝撃力が加わる。これによって、印刷版100と被印刷体Zとの間にバウンシングが生じて、図10(B)に示すような、振動が発生する。このバウンシングによって印刷版100と被印刷体Zとの距離が離れて、印刷版100と被印刷体Zとの接触が失われると、インキの転写不良が生じて、図10(C)に示すように、印刷された画像にムラが生じてしまうという問題があった。
これに対して、画像部と被印刷体の接触の際の衝撃を吸収するために、印刷版の下層側にクッション性を有する層を設けることが提案されている。しかしながら、印刷版の下層側にクッション性を有する層を設ける場合に、このクッション層は柔らかいほど衝撃力を低減する効果が大きいものの、クッション層が柔らかすぎるとベタ部におけるインキ濃度の均一性が悪くなり、やはり印刷された画像にムラが生じてしまうという問題があった。
これに対して、本発明のフレキソ印刷版である印刷版1aは、画像部3の、印刷方向の先端側から0.5mm〜5mmまでの低層化領域4が、印刷方向において、非画像部2に向かって漸次、低くなる構成を有する。
そのため、この印刷版1aを用いて印刷を行うと、印刷版1aの画像部3の先端が被印刷体zに接触する際の衝撃を弱めることができる。したがって、画像部3の接触に伴うバウンシングを抑制することができ、ムラのない画像の印刷が可能となる。
そのため、この印刷版1aを用いて印刷を行うと、印刷版1aの画像部3の先端が被印刷体zに接触する際の衝撃を弱めることができる。したがって、画像部3の接触に伴うバウンシングを抑制することができ、ムラのない画像の印刷が可能となる。
ここで、低層化領域4における低層化付加量Δの最大値、すなわち、画像部3の先端側の端辺3a上における低層化付加量Δは、印圧、印刷速度、版硬度、クッションテープ硬度等に応じて適宜設定すればよい。
フレキソ印刷における標準印圧は、キスタッチから、押し込み量40μm〜100μm程度であるため、低層化付加量Δを20μm以上とすることで、バウンシングをより確実に抑制することができる。また、低層化付加量Δを120μm以下とすることで、インキ抜けの発生を抑制できる。また、上記観点から、20μm〜120μmが好ましく、40μm〜100μmがより好ましい。
フレキソ印刷における標準印圧は、キスタッチから、押し込み量40μm〜100μm程度であるため、低層化付加量Δを20μm以上とすることで、バウンシングをより確実に抑制することができる。また、低層化付加量Δを120μm以下とすることで、インキ抜けの発生を抑制できる。また、上記観点から、20μm〜120μmが好ましく、40μm〜100μmがより好ましい。
また、画像部3の端辺から離間する方向に2mm以上連続する非画像部2に隣接する画像部3において、低層化領域4を形成するのが好ましい。すなわち、印刷方向に隣接する画像部3同士の間の距離が2mm以上ある場合に、印刷方向下流側の画像部3の先端側に低層化領域4を形成するのが好ましい。
フレキソ印刷において、ニップ幅は2mm〜4mm程度である。したがって、隣接する画像部3同士の間の距離が2mm未満の場合には、上流側の画像部3が被印刷体zに接触しているあいだに、下流側の画像部3が被印刷体に接触するので、バウンシングが発生しづらい。そのため、低層化領域4を形成する必要がない。また、隣接する画像部3同士の間の距離がニップ幅よりも短い場合には、下流側の画像部3に低層化領域4を形成すると、インキ抜けが発生するおそれもある。
したがって、画像部3の端辺から離間する方向に2mm以上連続する非画像部2に隣接する画像部3において、低層化領域4を形成するのが好ましく、3mm以上連続する非画像部2に隣接する画像部3において、低層化領域4を形成するのがより好ましい。
フレキソ印刷において、ニップ幅は2mm〜4mm程度である。したがって、隣接する画像部3同士の間の距離が2mm未満の場合には、上流側の画像部3が被印刷体zに接触しているあいだに、下流側の画像部3が被印刷体に接触するので、バウンシングが発生しづらい。そのため、低層化領域4を形成する必要がない。また、隣接する画像部3同士の間の距離がニップ幅よりも短い場合には、下流側の画像部3に低層化領域4を形成すると、インキ抜けが発生するおそれもある。
したがって、画像部3の端辺から離間する方向に2mm以上連続する非画像部2に隣接する画像部3において、低層化領域4を形成するのが好ましく、3mm以上連続する非画像部2に隣接する画像部3において、低層化領域4を形成するのがより好ましい。
また、低層化領域4の幅Laは、バウンシングの抑制、画像エッジの応力分布等の観点から、0.5mm〜5mmであり、1mm〜5mmが好ましく、1mm〜4mmがより好ましい。
また、図1(B)に示す例では、印刷方向において、低層化領域4の高さは直線的に変化する構成としたが、非画像部に向かって漸次、低くなる形状であれば、これに限定はされない。例えば、非画像部に向かって段階的に低くなる形状であってもよく、あるいは、曲線的に低くなる形状であってもよい。
また、図1(A)に示す例では、画像部3の形状は矩形状としたが、これに限定はされず、印刷する画像に応じて、円形状、楕円形状、三角形状、多角形状、文字形状、数字形状、記号形状等の種々の形状に形成され得る。その際、低層化領域4として、印刷方向の最先端部から幅Laの領域が低層化される。一例として、図3(A)および図3(B)に示す印刷版1bのように、円形状の画像部3を有する場合には、印刷方向において、画像部3の最先端部から幅Laの領域が低層化領域4であり、非画像部2に向かって漸次、低くなるように形成されている。なお、図3(B)では、立ち上がり領域の図示を省略している。
また、図1(B)に示す例では、画像部3および低層化領域4が網点部である構成としたが、これに限定はされず、画像部3および低層化領域4がベタ部であってもよい。
また、画像部3が網点部である場合には、網点部を構成する小点の高さ、形状等にも特に限定はなく、従来のフレキソ印刷版における網点部の小点と同様の高さ、形状にすればよい。
また、画像部3が網点部である場合には、網点部を構成する小点の高さ、形状等にも特に限定はなく、従来のフレキソ印刷版における網点部の小点と同様の高さ、形状にすればよい。
〔フレキソ印刷版の製造方法〕
次に、本発明のフレキソ印刷版の製造方法について、詳細に説明する。
本発明のフレキソ印刷版の製造方法は、
印刷する画像の元画像データを取得する画像データ取得工程と、
取得した元画像データから第1の彫刻形状画像データを生成する第1彫刻画像生成工程と、
元画像データから画像部と非画像部との境界を検出し、境界の位置を基準にして、画像部の一部の高さを低くするための低層化マスクデータを生成する低層化マスク生成工程と、
第1の彫刻形状画像データに低層化マスクを適用して、画像部の、印刷方向の先端側から0.5mm〜5mmまでの領域を低層化した第2の彫刻形状画像データを生成する第2彫刻画像生成工程とを有する製造方法である。
本発明のフレキソ印刷版の製造方法は、さらに、生成した第2の彫刻形状画像データに基づいて、フレキソ印刷版原版にレーザー彫刻を行ってフレキソ印刷版を製造することが好ましい。
また、第1彫刻画像生成工程において、元画像データを網点画像データに変換し、この網点画像データに基づいて第1の彫刻形状画像データを生成することが好ましい。
次に、本発明のフレキソ印刷版の製造方法について、詳細に説明する。
本発明のフレキソ印刷版の製造方法は、
印刷する画像の元画像データを取得する画像データ取得工程と、
取得した元画像データから第1の彫刻形状画像データを生成する第1彫刻画像生成工程と、
元画像データから画像部と非画像部との境界を検出し、境界の位置を基準にして、画像部の一部の高さを低くするための低層化マスクデータを生成する低層化マスク生成工程と、
第1の彫刻形状画像データに低層化マスクを適用して、画像部の、印刷方向の先端側から0.5mm〜5mmまでの領域を低層化した第2の彫刻形状画像データを生成する第2彫刻画像生成工程とを有する製造方法である。
本発明のフレキソ印刷版の製造方法は、さらに、生成した第2の彫刻形状画像データに基づいて、フレキソ印刷版原版にレーザー彫刻を行ってフレキソ印刷版を製造することが好ましい。
また、第1彫刻画像生成工程において、元画像データを網点画像データに変換し、この網点画像データに基づいて第1の彫刻形状画像データを生成することが好ましい。
図4は、本発明のフレキソ印刷版の製造方法(以下、『本発明の製造方法』ともいう)の一例を示すフローチャートである。
まず、画像データ取得工程S100において、作製する印刷版の元画像データを取得する。
一例として、図5(A)に示す元画像データ50を取得する。この元画像データ50のC線上における、データレベルと位置との関係を示すグラフを図5(B)に示す。
図5(B)に示すグラフにおいて、データレベルが0%の領域が非画像部となる領域であり、データレベルが0%超の領域が画像部となる領域である。
まず、画像データ取得工程S100において、作製する印刷版の元画像データを取得する。
一例として、図5(A)に示す元画像データ50を取得する。この元画像データ50のC線上における、データレベルと位置との関係を示すグラフを図5(B)に示す。
図5(B)に示すグラフにおいて、データレベルが0%の領域が非画像部となる領域であり、データレベルが0%超の領域が画像部となる領域である。
次に、第1彫刻画像生成工程S102において、取得した元画像データにRIP(Raster Image Processor)処理を行い、網点画像データに変換し、網点画像データに基づいて第1の彫刻形状画像データを生成する。
具体的には、まず、元画像データのデータレベルに基づいて、データを2値化する。すなわち、画像の各領域における網点率を設定して網点画像データに変換する(図6(A)および図6(B)参照)。
次に、網点画像データに基づいて、網点を構成する小点(図6(C)参照)に、立ち上がり領域を付加する等の処理を行って、彫刻する形状(図6(E)参照)に変換して第1の彫刻形状画像データを生成する(図6(D)参照)。
具体的には、まず、元画像データのデータレベルに基づいて、データを2値化する。すなわち、画像の各領域における網点率を設定して網点画像データに変換する(図6(A)および図6(B)参照)。
次に、網点画像データに基づいて、網点を構成する小点(図6(C)参照)に、立ち上がり領域を付加する等の処理を行って、彫刻する形状(図6(E)参照)に変換して第1の彫刻形状画像データを生成する(図6(D)参照)。
一方で、低層化マスク生成工程S104において、元画像データに対して、印刷方向に1ラインごとに画像データを検索して、連続した非画像部(データレベル0%の領域)と画像部(データレベル)の境界の位置を検出して、この境界の位置に基づいて低層化マスクデータを生成する。
例えば、まず、図5(A)のC線上を検索することで、非画像部と画像部との境界の位置が2箇所検出される(図5(B)参照)。検出された境界の位置を基準に、所定の低層化付加量Δの最大値および低層化領域の幅La等に基づいて、画像の位置ごとの低層化付加量Δを設定することで、図5(C)に示すような低層化付加量Δと位置との関係を示すデータを生成する。
このような処理を元画像データの印刷方向の全ラインで行って、低層化マスクデータを生成する。
例えば、まず、図5(A)のC線上を検索することで、非画像部と画像部との境界の位置が2箇所検出される(図5(B)参照)。検出された境界の位置を基準に、所定の低層化付加量Δの最大値および低層化領域の幅La等に基づいて、画像の位置ごとの低層化付加量Δを設定することで、図5(C)に示すような低層化付加量Δと位置との関係を示すデータを生成する。
このような処理を元画像データの印刷方向の全ラインで行って、低層化マスクデータを生成する。
なお、低層化マスクデータにおける、低層化付加量Δの最大値および低層化領域の幅Laは、予め設定されていても良いし、入力装置から入力された指示に応じて設定されるようにしてもよい。なお、上述のとおり、低層化領域の幅Laは、0.5mm〜5mmであり、低層化付加量Δの最大値は、20μm〜120μmであるのが好ましい。
また、低層化マスク生成工程において、画像データを検索して、非画像部の長さが2mm未満の場合には、この非画像部の下流側に隣接する画像部に対しては低層化付加量Δを設定しないのが好ましい。すなわち、上流側に隣接する画像部との間の距離が2mm以上の画像部の境界の位置を基準として、低層化付加量Δを設定して低層化マスクデータを生成するのが好ましい。
次に、第2彫刻画像生成工程において、上記第1の彫刻形状画像データに低層化マスクデータを適用することで、第1の彫刻形状画像データにおける画像部の印刷方向の先端側から0.5mm〜5mmまでの領域を低層化して、第2の彫刻形状画像データを生成する。
次に、彫刻工程において、上記のようにして生成した、画像部の印刷方向先端側の領域に低層化付加量Δを付加した第2の彫刻形状画像データを用いて、フレキソ印刷版原版(以下、『印刷版原版』ともいう)に彫刻を行い、フレキソ印刷版を作製する。
本発明においては、レーザー彫刻により彫刻するのが好ましい。レーザー光量と彫刻深度の間には一定の関係があり、光量を制御することで任意の形状を印刷版原版に彫刻することができる。
本発明においては、レーザー彫刻により彫刻するのが好ましい。レーザー光量と彫刻深度の間には一定の関係があり、光量を制御することで任意の形状を印刷版原版に彫刻することができる。
レーザー彫刻の方法については、基本的に、従来のフレキソ印刷版の製造方法で用いられるレーザー彫刻の方法と同様である。
レーザー彫刻の方法としては、例えば、円筒形を有するドラムの外周面にシート状のレーザー彫刻用印刷版原版を巻き付けてドラムを回転させて、印刷版原版に向けて露光ヘッドから、上記出力画像データに応じたレーザー光を射出し、露光ヘッドを主走査方向と直交する副走査方向に所定ピッチで走査させることで、印刷版原版の表面に2次元画像を高速で彫刻(記録)する方法、等が利用可能である。
レーザー彫刻の方法としては、例えば、円筒形を有するドラムの外周面にシート状のレーザー彫刻用印刷版原版を巻き付けてドラムを回転させて、印刷版原版に向けて露光ヘッドから、上記出力画像データに応じたレーザー光を射出し、露光ヘッドを主走査方向と直交する副走査方向に所定ピッチで走査させることで、印刷版原版の表面に2次元画像を高速で彫刻(記録)する方法、等が利用可能である。
レーザー彫刻において利用されるレーザーの種類については特に限定はないが、赤外線レーザーが好ましく用いられる。赤外線レーザーが照射されると、硬化層中の分子が分子振動し、熱が発生する。赤外線レーザーとして炭酸ガスレーザーやYAGレーザーのような高出力のレーザーを用いると、レーザー照射部分に大量の熱が発生し、硬化層中の分子は分子切断又はイオン化されて選択的な除去、すなわち、彫刻がなされる。レーザー彫刻の利点は、彫刻深さを任意に設定できるため、構造を3次元的に制御することができる点である。例えば、微細な網点を印刷する部分は、浅く又はショルダーをつけて彫刻することで、印圧でレリーフが転倒しないようにすることができ、細かい抜き文字を印刷する溝の部分は深く彫刻することで、溝にインキが埋まりにくくなり、抜き文字つぶれを抑制することが可能となる。
中でも、光熱変換剤の吸収波長に対応した赤外線レーザーで彫刻する場合には、より高感度で硬化層の選択的な除去が可能となり、シャープな画像を有するレリーフ層が得られる。
中でも、光熱変換剤の吸収波長に対応した赤外線レーザーで彫刻する場合には、より高感度で硬化層の選択的な除去が可能となり、シャープな画像を有するレリーフ層が得られる。
赤外線レーザーとしては、生産性、コスト等の面から、炭酸ガスレーザー(CO2レーザー)又は半導体レーザーが好ましく、ファイバー付き半導体赤外線レーザー(FC−LD)が特に好ましい。一般に、半導体レーザーは、CO2レーザーに比べレーザー発振が高効率且つ安価で小型化が可能である。また、小型であるためアレイ化が容易である。更に、ファイバーの処理によりビーム形状を制御できる。
半導体レーザーとしては、波長が700〜1,300nmのものが好ましく、800〜1,200nmのものがより好ましく、860〜1,200nmのものが更に好ましく、900〜1,100nmのものが特に好ましい。
また、ファイバー付き半導体レーザーは、更に光ファイバーを取り付けることで効率よくレーザー光を出力できるため、レーザー彫刻には有効である。更に、ファイバーの処理によりビーム形状を制御できる。例えば、ビームプロファイルはトップハット形状とすることができ、安定に版面にエネルギーを与えることができる。半導体レーザーの詳細は、「レーザーハンドブック第2版」レーザー学会編、「実用レーザー技術」電子通信学会編著等に記載されている。
また、特開2009−172658号公報及び特開2009−214334号公報に詳細に記載されるファイバー付き半導体レーザーを備えた製版装置は、本発明のフレキソ印刷版の製造方法に好適に使用することができる。
半導体レーザーとしては、波長が700〜1,300nmのものが好ましく、800〜1,200nmのものがより好ましく、860〜1,200nmのものが更に好ましく、900〜1,100nmのものが特に好ましい。
また、ファイバー付き半導体レーザーは、更に光ファイバーを取り付けることで効率よくレーザー光を出力できるため、レーザー彫刻には有効である。更に、ファイバーの処理によりビーム形状を制御できる。例えば、ビームプロファイルはトップハット形状とすることができ、安定に版面にエネルギーを与えることができる。半導体レーザーの詳細は、「レーザーハンドブック第2版」レーザー学会編、「実用レーザー技術」電子通信学会編著等に記載されている。
また、特開2009−172658号公報及び特開2009−214334号公報に詳細に記載されるファイバー付き半導体レーザーを備えた製版装置は、本発明のフレキソ印刷版の製造方法に好適に使用することができる。
なお、本発明において、フレキソ印刷版の製造方法は、レーザー彫刻(DLE(Direct Laser Engraving)方式)に限定はされず、レーザーで印刷版原版の表面に画像を書き込み現像するLAMS(Laser Abration Masking System)方式等の種々の公知の製造方法が利用可能である。
〔フレキソ印刷版原版〕
本発明で使用されるフレキソ印刷版原版は、公知のフレキソ印刷用の樹脂版又はゴム版であれば特に限定はない。また、印刷版原版は、シート状であっても円筒状であってもよい。
印刷版原版は、硬化層(レリーフ形成層)として、以下の樹脂シートを有するのが好ましい。
本発明で使用されるフレキソ印刷版原版は、公知のフレキソ印刷用の樹脂版又はゴム版であれば特に限定はない。また、印刷版原版は、シート状であっても円筒状であってもよい。
印刷版原版は、硬化層(レリーフ形成層)として、以下の樹脂シートを有するのが好ましい。
<樹脂シート>
上記樹脂シートとしては、ジエン系炭化水素に由来する単量体単位を有するポリマーを少なくとも含有する硬化性樹脂組成物(以下、「樹脂シート形成用樹脂組成物」ともいう。)をシート状にした後に、熱及び/又は光の作用により硬化させたシートであることが好ましく、後述する樹脂シート形成用樹脂組成物により形成されることがより好ましい。
また、上記樹脂シートは、レーザー彫刻可能であることが好ましい。
上記樹脂シートとしては、ジエン系炭化水素に由来する単量体単位を有するポリマーを少なくとも含有する硬化性樹脂組成物(以下、「樹脂シート形成用樹脂組成物」ともいう。)をシート状にした後に、熱及び/又は光の作用により硬化させたシートであることが好ましく、後述する樹脂シート形成用樹脂組成物により形成されることがより好ましい。
また、上記樹脂シートは、レーザー彫刻可能であることが好ましい。
樹脂シートの形成方法としては、樹脂シート形成用樹脂組成物を調製し、必要に応じて、この樹脂組成物から溶剤を除去した後に、支持体上に溶融押し出しする方法、又は、樹脂シート形成用樹脂組成物を調製し、上記樹脂組成物を支持体上に流延し、これをオーブンなどの中で加熱乾燥して溶剤を除去する方法、図7に示すようなカレンダーロールを用い、上記樹脂組成物をシート状に成型する方法が好ましく例示できる。
図7中、カレンダーロール60は第1〜第4ロール62a〜62dを有しており、これらのロールの間隔、ロールの温度、及び、ロールの回転速度が設定可能となっている。このロールの間に混練物70をセットし、圧延成形することにより、樹脂シート71を得ることができる。
図7中、カレンダーロール60は第1〜第4ロール62a〜62dを有しており、これらのロールの間隔、ロールの温度、及び、ロールの回転速度が設定可能となっている。このロールの間に混練物70をセットし、圧延成形することにより、樹脂シート71を得ることができる。
<支持体>
樹脂シートの形成に支持体を使用する場合、印刷シリンダー上に取り付けることができる物であれば、支持体に使用する素材は特に限定されないが、寸法安定性の高いものが好ましく使用され、例えば、スチール、ステンレス、アルミニウムなどの金属、ポリエステル(例えばPET(ポリエチレンテレフタレート)、PBT(ポリブチレンテレフタレート)、PAN(ポリアクリロニトリル))やポリ塩化ビニルなどのプラスチック樹脂、スチレン−ブタジエンゴムなどの合成ゴム、ガラスファイバーで補強されたプラスチック樹脂(エポキシ樹脂やフェノール樹脂など)が挙げられる。支持体としては、PETフィルムやスチール基板が好ましく用いられる。
樹脂シートの形成に支持体を使用する場合、印刷シリンダー上に取り付けることができる物であれば、支持体に使用する素材は特に限定されないが、寸法安定性の高いものが好ましく使用され、例えば、スチール、ステンレス、アルミニウムなどの金属、ポリエステル(例えばPET(ポリエチレンテレフタレート)、PBT(ポリブチレンテレフタレート)、PAN(ポリアクリロニトリル))やポリ塩化ビニルなどのプラスチック樹脂、スチレン−ブタジエンゴムなどの合成ゴム、ガラスファイバーで補強されたプラスチック樹脂(エポキシ樹脂やフェノール樹脂など)が挙げられる。支持体としては、PETフィルムやスチール基板が好ましく用いられる。
本発明に用いられる樹脂シート形成用樹脂組成物は、例えば、ジエン系炭化水素に由来する単量体単位を有するポリマー、重合性化合物、香料、可塑剤等を適当な溶剤に溶解又は分散させ、次いで、架橋剤、重合開始剤、架橋促進剤などを溶解させることによって製造できる。樹脂シートの形成の容易さ、得られる円筒状印刷版原版の厚み精度、及び、樹脂シートの取扱いの観点から、溶剤成分の少なくとも一部は、好ましくは、ほとんど全部を、円筒状印刷版原版を製造する段階で除去する必要があるので、溶剤としては、適度の揮発性を有する有機溶剤が好ましい。
次に、樹脂シート、及び、樹脂シート形成用樹脂組成物が含む成分について説明する。
(ジエン系炭化水素に由来する単量体単位を有するポリマー)
本発明に用いられる樹脂シートは、ジエン系炭化水素に由来する単量体単位を有するポリマー(以下、「特定ポリマー」ともいう。)を必須成分として含有するのが好ましい。
特定ポリマーの重量平均分子量は、0.5万〜160万が好ましく、1万〜100万であることがより好ましく、1.5万〜60万であることが更に好ましい。重量平均分子量が0.5万以上であると、単体樹脂としての形態保持性に優れ、160万以下であると、溶媒に溶解しやすくレーザー彫刻用樹脂組成物を調製するのに好都合である。
本発明において、重量平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフ法(GPC)法にて測定され、標準ポリスチレンで換算して求められる。具体的には、例えば、GPCは、HLC−8220GPC(東ソー株式会社製)を用い、カラムとして、TSKgeL SuperHZM−H、TSKgeL SuperHZ4000、TSKgeL SuperHZ2000(東ソー株式会社製、4.6mmID×15cm)を3本用い、溶離液としてTHF(テトラヒドロフラン)を用いる。また、条件としては、試料濃度を0.35質量%、流速を0.35ml/min、サンプル注入量を10μL、測定温度を40℃とし、IR検出器を用いて行う。また、検量線は、東ソー株式会社製「標準試料TSK standard,polystyrene」:「F−40」、「F−20」、「F−4」、「F−1」、「A−5000」、「A−2500」、「A−1000」、「n−プロピルベンゼン」の8サンプルから作製する。
本発明に用いられる樹脂シートは、ジエン系炭化水素に由来する単量体単位を有するポリマー(以下、「特定ポリマー」ともいう。)を必須成分として含有するのが好ましい。
特定ポリマーの重量平均分子量は、0.5万〜160万が好ましく、1万〜100万であることがより好ましく、1.5万〜60万であることが更に好ましい。重量平均分子量が0.5万以上であると、単体樹脂としての形態保持性に優れ、160万以下であると、溶媒に溶解しやすくレーザー彫刻用樹脂組成物を調製するのに好都合である。
本発明において、重量平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフ法(GPC)法にて測定され、標準ポリスチレンで換算して求められる。具体的には、例えば、GPCは、HLC−8220GPC(東ソー株式会社製)を用い、カラムとして、TSKgeL SuperHZM−H、TSKgeL SuperHZ4000、TSKgeL SuperHZ2000(東ソー株式会社製、4.6mmID×15cm)を3本用い、溶離液としてTHF(テトラヒドロフラン)を用いる。また、条件としては、試料濃度を0.35質量%、流速を0.35ml/min、サンプル注入量を10μL、測定温度を40℃とし、IR検出器を用いて行う。また、検量線は、東ソー株式会社製「標準試料TSK standard,polystyrene」:「F−40」、「F−20」、「F−4」、「F−1」、「A−5000」、「A−2500」、「A−1000」、「n−プロピルベンゼン」の8サンプルから作製する。
特定ポリマーは、非共役ジエン系炭化水素に由来する単量体単位を有する特定ポリマーであってもよいが、共役ジエン系炭化水素に由来する単量体単位を有する特定ポリマーであることが好ましい。
(共役ジエン系炭化水素に由来する単量体単位を有する特定ポリマー)
共役ジエン系炭化水素に由来する単量体単位を有する特定ポリマー特定ポリマーとしては、共役ジエン系炭化水素を重合して得られる重合体、共役ジエン系炭化水素と他の不飽和化合物、好ましくはモノオレフィン系不飽和化合物とを重合させて得られる共重合体等が好ましく挙げられる。また、上記の重合体及び共重合体は、修飾されていてもよく、例えば、末端に(メタ)アクリロイル基などの反応性基を導入してもよく、また、内部オレフィンの一部が水素添加されていてもよい。なお、以下の説明において、内部オレフィンの一部が水素添加されたポリブタジエンを「部分水素化ポリブタジエン」、同様に内部オレフィンの一部が水素添加されたポリイソプレンを「部分水素化ポリイソプレン」ともいう。更に共重合体は、ランダム重合体でも、ブロック共重合体でも、グラフト重合体でもよく、特に限定されない。
共役ジエン系炭化水素に由来する単量体単位を有する特定ポリマー特定ポリマーとしては、共役ジエン系炭化水素を重合して得られる重合体、共役ジエン系炭化水素と他の不飽和化合物、好ましくはモノオレフィン系不飽和化合物とを重合させて得られる共重合体等が好ましく挙げられる。また、上記の重合体及び共重合体は、修飾されていてもよく、例えば、末端に(メタ)アクリロイル基などの反応性基を導入してもよく、また、内部オレフィンの一部が水素添加されていてもよい。なお、以下の説明において、内部オレフィンの一部が水素添加されたポリブタジエンを「部分水素化ポリブタジエン」、同様に内部オレフィンの一部が水素添加されたポリイソプレンを「部分水素化ポリイソプレン」ともいう。更に共重合体は、ランダム重合体でも、ブロック共重合体でも、グラフト重合体でもよく、特に限定されない。
上記の共役ジエン系炭化水素としては、具体的には、例えば、1,3−ブタジエン、イソプレン等が挙げられる。これらの化合物は単独又は2種類以上組み合わせて用いられる。
上記のモノオレフィン系不飽和化合物としては、具体的には、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、o−メチルスチレン、p−メチルスチレン、イソブテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルアミド酢酸ビニル、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸等が挙げられる。
上記のモノオレフィン系不飽和化合物としては、具体的には、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、o−メチルスチレン、p−メチルスチレン、イソブテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルアミド酢酸ビニル、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸等が挙げられる。
上記の共役ジエン系炭化水素を重合させて得られる重合体又は共役ジエン系炭化水素とモノオレフィン系不飽和化合物とを重合させて得られる共重合体としては、特に限定されず、具体的にはブタジエン重合体、イソプレン重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−イソプレン共重合体、アクリル酸エステル−イソプレン共重合体、メタクリル酸エステルと上記共役ジエンの共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、イソブテン−イソプレン共重合体(ブチルゴム)等が挙げられる。
これらの重合体は、乳化重合させてもよいし、また、溶液重合させてもよい。
これらの重合体は、乳化重合させてもよいし、また、溶液重合させてもよい。
本発明において、特定ポリマーは、末端にエチレン性不飽和基を有していてもよく、下記式(A−1)で表される部分構造を有していてもよい。
式(A−1)中、AはOであることが好ましい。
すなわち、特定ポリマーは、分子内に(メタ)アクリロイルオキシ基又は(メタ)アクリルアミド基を有していてもよく、(メタ)アクリロイルオキシ基を有することがより好ましい。
特定ポリマーは、式(A−1)で表される部分構造を主鎖末端又は側鎖のいずれに有してもよいが、主鎖末端に有することが好ましい。
耐刷性の観点から、特定ポリマーは、式(A−1)で表される部分構造を分子内に2個以上有することが好ましい。
すなわち、特定ポリマーは、分子内に(メタ)アクリロイルオキシ基又は(メタ)アクリルアミド基を有していてもよく、(メタ)アクリロイルオキシ基を有することがより好ましい。
特定ポリマーは、式(A−1)で表される部分構造を主鎖末端又は側鎖のいずれに有してもよいが、主鎖末端に有することが好ましい。
耐刷性の観点から、特定ポリマーは、式(A−1)で表される部分構造を分子内に2個以上有することが好ましい。
式(A−1)で表される部分構造を有する特定ポリマーとしては、ポリブタジエンジ(メタ)アクリレート、部分水素化ポリブタジエンジ(メタ)アクリレート、ポリイソプレンジ(メタ)アクリレート、部分水素化ポリイソプレンジ(メタ)アクリレートなど、水酸基含有ポリオレフィンの水酸基にエチレン性不飽和基含有化合物を反応させて得られたポリオレフィン(メタ)アクリレート(例えば、BAC−45(大阪有機化学工業株式会社製)、TEA−1000、TE−2000、EMA−3000(日本曹達株式会社製))が例示される。
また、ポリオレフィンを変性してエチレン性不飽和結合を導入した変性ポリオレフィン(例えば、メタクリレート導入ポリイソプレン(クラプレンUC−203、UC−102(株式会社クラレ製))も好ましく例示される。
また、ポリオレフィンを変性してエチレン性不飽和結合を導入した変性ポリオレフィン(例えば、メタクリレート導入ポリイソプレン(クラプレンUC−203、UC−102(株式会社クラレ製))も好ましく例示される。
(ブタジエン及び/又はイソプレンに由来する単量体単位を有するポリマー)
本発明において、特定ポリマーは、ブタジエン及び/又はイソプレンに由来する単量体単位を有するポリマーであることが好ましい。
具体的には、ポリブタジエン(ブタジエンゴム)、部分水素化ポリブタジエン、末端変性ポリブタジエン、ポリイソプレン(イソプレンゴム)、部分水素化ポリイソプレン、末端変性ポリイソプレン、SBR(スチレン−ブタジエンゴム)、SBS(スチレン−ブタジエン−スチレン トリブロック共重合体)、ABS(アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体)、SIS(スチレン−イソプレン−スチレン トリブロック共重合体)、イソプレン/ブタジエン共重合体等が挙げられる。
なお、末端変性とは、主鎖又は側鎖末端がアミド基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、(メタ)アクリロイル基、グリシジル基等で変性されていていることを意味する。
これらの中でも、ポリブタジエン、部分水素化ポリブタジエン、水酸基末端ポリブタジエン、グリシジルエーテル変性ポリブタジエン、ポリイソプレン、部分水素化ポリイソプレン、末端変性ポリイソプレン、水酸基末端ポリイソプレン、グリシジルエーテル変性ポリイソプレン、SBS、SISが好ましい。
本発明において、特定ポリマーは、ブタジエン及び/又はイソプレンに由来する単量体単位を有するポリマーであることが好ましい。
具体的には、ポリブタジエン(ブタジエンゴム)、部分水素化ポリブタジエン、末端変性ポリブタジエン、ポリイソプレン(イソプレンゴム)、部分水素化ポリイソプレン、末端変性ポリイソプレン、SBR(スチレン−ブタジエンゴム)、SBS(スチレン−ブタジエン−スチレン トリブロック共重合体)、ABS(アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体)、SIS(スチレン−イソプレン−スチレン トリブロック共重合体)、イソプレン/ブタジエン共重合体等が挙げられる。
なお、末端変性とは、主鎖又は側鎖末端がアミド基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、(メタ)アクリロイル基、グリシジル基等で変性されていていることを意味する。
これらの中でも、ポリブタジエン、部分水素化ポリブタジエン、水酸基末端ポリブタジエン、グリシジルエーテル変性ポリブタジエン、ポリイソプレン、部分水素化ポリイソプレン、末端変性ポリイソプレン、水酸基末端ポリイソプレン、グリシジルエーテル変性ポリイソプレン、SBS、SISが好ましい。
ブタジエン、イソプレン又はそれらの水素添加物に由来する単量体単位の割合が、合計して30mol%以上であることが好ましく、50mol%以上であることがより好ましく、80mol%以上であることが更に好ましい。
イソプレンは、触媒や反応条件により、1,2−、3,4−又は1,4−付加により重合することが知られているが、本発明においては上記のいずれの付加により重合されたポリイソプレンでもよい。これらの中でも所望の弾性を得る観点から、主成分としてcis−1,4−ポリイソプレンを含有することが好ましい。なお、特定ポリマーがポリイソプレンである場合、cis−1,4−ポリイソプレンの含有量は、50質量%以上であることが好ましく、65質量%以上であることがより好ましく、80質量%以上であることが更に好ましく、90質量%以上であることが特に好ましい。
また、ポリイソプレンとしては、天然ゴムを使用してもよく、また、上市されているポリイソプレンを使用することもでき、例えば、NIPOL IRシリーズ(日本ゼオン株式会社製)が例示される。
また、ポリイソプレンとしては、天然ゴムを使用してもよく、また、上市されているポリイソプレンを使用することもでき、例えば、NIPOL IRシリーズ(日本ゼオン株式会社製)が例示される。
ブタジエンは、触媒や反応条件により1,2−又は1,4−付加により重合することが知られているが、本発明では上記のいずれの付加により重合されたポリブタジエンでもよい。これらの中でも、所望の弾性を得る観点から、1,4−ポリブタジエンが主成分であることがより好ましい。
なお、特定ポリマーがポリブタジエンである場合、1,4−ポリブタジエンの含有量は、50質量%以上であることが好ましく、65質量%以上であることがより好ましく、80質量%以上であることが更に好ましく、90質量%以上であることが特に好ましい。
なお、cis体とtrans体の含有量は特に制限はないが、ゴム弾性を発現させる観点から、cis体が好ましく、cis−1,4−ポリブタジエンの含有量が50質量%以上であることが好ましく、65質量%以上であることがより好ましく、80質量%以上であることが更に好ましく、90質量%以上であることが特に好ましい。
ポリブタジエンとしては、上市されている製品を使用してもよく、例えば、NIPOL BRシリーズ(日本ゼオン株式会社製)、UBEPOL BRシリーズ(宇部興産株式会社製)等が例示される。
なお、特定ポリマーがポリブタジエンである場合、1,4−ポリブタジエンの含有量は、50質量%以上であることが好ましく、65質量%以上であることがより好ましく、80質量%以上であることが更に好ましく、90質量%以上であることが特に好ましい。
なお、cis体とtrans体の含有量は特に制限はないが、ゴム弾性を発現させる観点から、cis体が好ましく、cis−1,4−ポリブタジエンの含有量が50質量%以上であることが好ましく、65質量%以上であることがより好ましく、80質量%以上であることが更に好ましく、90質量%以上であることが特に好ましい。
ポリブタジエンとしては、上市されている製品を使用してもよく、例えば、NIPOL BRシリーズ(日本ゼオン株式会社製)、UBEPOL BRシリーズ(宇部興産株式会社製)等が例示される。
(非共役ジエン系炭化水素に由来する単量体単位を有する特定ポリマー)
特定ポリマーは、非共役ジエン系炭化水素に由来する単量体単位を有する特定ポリマーであってもよい。
特定ポリマーとしては、非共役ジエン系炭化水素と他の不飽和化合物、好ましくはαオレフィン系不飽和化合物とを重合させて得られる共重合体等が好ましく挙げられる。共重合体は、ランダム重合体でも、ブロック共重合体でも、グラフト重合体でもよく、特に限定されない。
特定ポリマーは、非共役ジエン系炭化水素に由来する単量体単位を有する特定ポリマーであってもよい。
特定ポリマーとしては、非共役ジエン系炭化水素と他の不飽和化合物、好ましくはαオレフィン系不飽和化合物とを重合させて得られる共重合体等が好ましく挙げられる。共重合体は、ランダム重合体でも、ブロック共重合体でも、グラフト重合体でもよく、特に限定されない。
上記の非共役ジエン系炭化水素としては、具体的には、例えば、ジシクロペンタジエン、1,4−ヘキサジエン、シクロオクタジエン、メチレンノルボルネン、エチリデンノルボルネン等が挙げられ、ジシクロペンタジエン及びエチリデンノルボルネンが好ましく、エチリデンノルボルネンがより好ましい。これらの化合物は単独又は2種類以上組み合わせて用いられる。
上記のモノオレフィン系不飽和化合物としては、具体的には、例えば、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、4−メチル−ペンテン等の炭素数2〜20のα−オレフィンが挙げられ、エチレン及びプロピレンが好ましく、エチレンとプロピレンを組み合わせて用いることがより好ましい。これらの化合物は単独又は2種類以上組み合わせて用いられる。
上記のモノオレフィン系不飽和化合物としては、具体的には、例えば、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、4−メチル−ペンテン等の炭素数2〜20のα−オレフィンが挙げられ、エチレン及びプロピレンが好ましく、エチレンとプロピレンを組み合わせて用いることがより好ましい。これらの化合物は単独又は2種類以上組み合わせて用いられる。
上記の共役ジエン系炭化水素を重合させて得られる重合体又は共役ジエン系炭化水素とα−オレフィン系不飽和化合物とを重合させて得られる共重合体としては、特に限定されないが、エチレン−αオレフィン−ジエン共重合体であることが好ましく、エチレン−プロピレン−ジエンゴム(EPDM)がより好ましい。
上記の中でも、特定ポリマーとしては、スチレン−ブタジエンゴム、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、又は、エチレン−プロピレン−ジエンゴムであることが好ましく、ブタジエンゴムであることがより好ましい。
また、特定ポリマーは、主鎖が主としてイソプレン又はブタジエンを単量体単位とするポリマーであることが好ましく、一部が水素添加されて飽和結合に変換されていてもよい。また、ポリマーの主鎖中又は末端が、アミド、カルボキシ基、ヒドロキシ基、(メタ)アクリロイル基等で変性されていてもよく、エポキシ化されていてもよい。
これらの中でも、特定ポリマーとしては、溶剤への溶解性や、取り扱いの観点から、ポリブタジエン、ポリイソプレン、イソプレン/ブタジエン共重合体が好ましく例示され、ポリブタジエン及びポリイソプレンがより好ましく、ポリブタジエンが更に好ましい。
これらの中でも、特定ポリマーとしては、溶剤への溶解性や、取り扱いの観点から、ポリブタジエン、ポリイソプレン、イソプレン/ブタジエン共重合体が好ましく例示され、ポリブタジエン及びポリイソプレンがより好ましく、ポリブタジエンが更に好ましい。
特定ポリマーは20℃以下のガラス転移温度(Tg)を有することが、柔軟性とゴム弾性発現の観点から好ましい。
なお、特定ポリマーのガラス転移温度は、示差走査熱量計(DSC)を用いてJIS K7121−1987に従って測定する。
なお、特定ポリマーが2以上のガラス転移温度を有する場合、少なくとも1つが20℃以下であることが好ましく、全てのガラス転移温度が20℃以下であることがより好ましい。
なお、特定ポリマーのガラス転移温度は、示差走査熱量計(DSC)を用いてJIS K7121−1987に従って測定する。
なお、特定ポリマーが2以上のガラス転移温度を有する場合、少なくとも1つが20℃以下であることが好ましく、全てのガラス転移温度が20℃以下であることがより好ましい。
本発明において、特定ポリマーはSP値が14.0〜18.0MPa1/2であることが好ましく、15.0〜17.5MPa1/2であることがより好ましく、16.0〜17.5MPa1/2であることが更に好ましい。
SP値は、分子の凝集エネルギー密度の平方根であり、分子間の凝集する力の大小を表し、極性の尺度となる。
SP値が上記範囲であると、ウレタン系接着剤との適度な接着性が得られるため好ましい。
上記SP値は、日本接着学会誌29(3)1993,204−211に記載の沖津法に基づき計算される。
SP値は、分子の凝集エネルギー密度の平方根であり、分子間の凝集する力の大小を表し、極性の尺度となる。
SP値が上記範囲であると、ウレタン系接着剤との適度な接着性が得られるため好ましい。
上記SP値は、日本接着学会誌29(3)1993,204−211に記載の沖津法に基づき計算される。
特定ポリマーはエラストマー又はプラストマーであることが好ましい。特定ポリマーがエラストマー又はプラストマーであると、これから得られるレーザー彫刻用印刷版原版をシート状、若しくは円筒状に成形する際に、良好な厚み精度や寸法精度を達成することができる。また、フレキソ印刷版に必要な弾性を付与することができるので好ましい。
本発明において「プラストマー」とは、高分子学会編「新版高分子辞典」(日本国、朝倉書店、1988年発行)に記載されているように、加熱により容易に流動変形し、かつ冷却により変形された形状に固化できるという性質を有する高分子体を意味する。プラストマーは、エラストマー(外力を加えたときに、その外力に応じて瞬時に変形し、かつ外力を除いたときには、短時間に元の形状を回復する性質を有するもの)に対する言葉であり、エラストマーのような弾性変形を示さず、容易に塑性変形するものである。
本発明において、プラストマーは、元の大きさを100%としたときに、室温(20℃)において小さな外力で200%まで変形させることができ、上記外力を除いても、130%以下に戻らないものを意味する。小さな外力とは、具体的には、引張強度が1〜100MPaである外力をいう。より詳細には、JIS K 6262−1997の引張永久ひずみ試験に基づき、JIS K 6251−1993に規定するダンベル状4号形の試験片を用いた場合に、20℃における引張試験で上記試験片を引張前の標線間距離の2倍に破断せずに伸ばすことが可能であり、かつ、引張前の標線間距離の2倍に伸ばしたところで60分間保持した後、引張外力を除いて5分後に引張永久ひずみが30%以上であるポリマーを意味する。なお、本発明では、試験片をJIS K6251−1993に規定するダンベル状4号形にすること、保持時間を60分、及び、試験室の温度を20℃とすること以外は、全てJIS K 6262−1997の引張永久ひずみ試験方法に準拠した。
なお、上記の測定ができないポリマーの場合、すなわち、引張試験において、引張外力を加えなくとも変形して元の形状に戻らないポリマーや、上記測定時の小さな外力を与えて破断するポリマーはプラストマーに上記当する。
更に、本発明において、プラストマーは、ポリマーのガラス転移温度(Tg)が20℃未満である。Tgを2つ以上有するポリマーの場合は、全てのTgが20℃未満である。なお、ポリマーのTgは、示差走査熱量測定(DSC)法により測定することができる。
本発明において「プラストマー」とは、高分子学会編「新版高分子辞典」(日本国、朝倉書店、1988年発行)に記載されているように、加熱により容易に流動変形し、かつ冷却により変形された形状に固化できるという性質を有する高分子体を意味する。プラストマーは、エラストマー(外力を加えたときに、その外力に応じて瞬時に変形し、かつ外力を除いたときには、短時間に元の形状を回復する性質を有するもの)に対する言葉であり、エラストマーのような弾性変形を示さず、容易に塑性変形するものである。
本発明において、プラストマーは、元の大きさを100%としたときに、室温(20℃)において小さな外力で200%まで変形させることができ、上記外力を除いても、130%以下に戻らないものを意味する。小さな外力とは、具体的には、引張強度が1〜100MPaである外力をいう。より詳細には、JIS K 6262−1997の引張永久ひずみ試験に基づき、JIS K 6251−1993に規定するダンベル状4号形の試験片を用いた場合に、20℃における引張試験で上記試験片を引張前の標線間距離の2倍に破断せずに伸ばすことが可能であり、かつ、引張前の標線間距離の2倍に伸ばしたところで60分間保持した後、引張外力を除いて5分後に引張永久ひずみが30%以上であるポリマーを意味する。なお、本発明では、試験片をJIS K6251−1993に規定するダンベル状4号形にすること、保持時間を60分、及び、試験室の温度を20℃とすること以外は、全てJIS K 6262−1997の引張永久ひずみ試験方法に準拠した。
なお、上記の測定ができないポリマーの場合、すなわち、引張試験において、引張外力を加えなくとも変形して元の形状に戻らないポリマーや、上記測定時の小さな外力を与えて破断するポリマーはプラストマーに上記当する。
更に、本発明において、プラストマーは、ポリマーのガラス転移温度(Tg)が20℃未満である。Tgを2つ以上有するポリマーの場合は、全てのTgが20℃未満である。なお、ポリマーのTgは、示差走査熱量測定(DSC)法により測定することができる。
本発明において、エラストマーとは、上記の引張試験において、標線間距離の2倍に伸ばすことが可能であり、かつ、引張外力を除いて5分後に引張永久ひずみが30%未満であるポリマーを意味する。
本発明の特定ポリマーの20℃における粘度は、好ましくは10Pa・s〜10kPa・sであり、より好ましくは50Pa・s〜5kPa・sである。粘度がこの範囲内の場合には、シート状に樹脂組成物を成形しやすく、プロセスも簡便である。本発明において、特定ポリマーがプラストマーであることにより、樹脂シート形成用樹脂組成物をシート状に成形する際に、良好な厚み精度や寸法精度を達成することができる。
本発明の特定ポリマーの20℃における粘度は、好ましくは10Pa・s〜10kPa・sであり、より好ましくは50Pa・s〜5kPa・sである。粘度がこの範囲内の場合には、シート状に樹脂組成物を成形しやすく、プロセスも簡便である。本発明において、特定ポリマーがプラストマーであることにより、樹脂シート形成用樹脂組成物をシート状に成形する際に、良好な厚み精度や寸法精度を達成することができる。
本発明において、特定ポリマーは1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
本発明に用いられる樹脂シートにおける特定ポリマーの総含有量は、樹脂シートの固形分全質量に対し、5〜90質量%が好ましく、15〜85質量%がより好ましく、30〜80質量%が更に好ましい。
また、本発明に用いられる樹脂シート形成用樹脂組成物における特定ポリマーの総含有量は、樹脂組成物の固形分全質量に対し、5〜90質量%が好ましく、15〜85質量%がより好ましく、30〜80質量%が更に好ましい。特定ポリマーの含有量を5質量%以上とすることで、得られた円筒状印刷版を印刷版として使用するに足る耐刷性が得られ、また、90質量%以下とすることで、他成分が不足することがなく、円筒状印刷版とした際においても印刷版として使用するに足る柔軟性を得ることができる。
なお、「固形分全質量」とは、樹脂シート又は樹脂シート形成用樹脂組成物から溶剤等の揮発性成分を除いた全質量を意味する。
本発明に用いられる樹脂シートにおける特定ポリマーの総含有量は、樹脂シートの固形分全質量に対し、5〜90質量%が好ましく、15〜85質量%がより好ましく、30〜80質量%が更に好ましい。
また、本発明に用いられる樹脂シート形成用樹脂組成物における特定ポリマーの総含有量は、樹脂組成物の固形分全質量に対し、5〜90質量%が好ましく、15〜85質量%がより好ましく、30〜80質量%が更に好ましい。特定ポリマーの含有量を5質量%以上とすることで、得られた円筒状印刷版を印刷版として使用するに足る耐刷性が得られ、また、90質量%以下とすることで、他成分が不足することがなく、円筒状印刷版とした際においても印刷版として使用するに足る柔軟性を得ることができる。
なお、「固形分全質量」とは、樹脂シート又は樹脂シート形成用樹脂組成物から溶剤等の揮発性成分を除いた全質量を意味する。
本発明に用いられる樹脂シート、及び、樹脂シート形成用樹脂組成物は、重合開始剤、光熱変換剤、溶剤、及び、その他の成分を含有することが好ましい。以下、これらの成分について詳述する。
(重合開始剤)
本発明においてレーザー彫刻用樹脂組成物は、重合開始剤を含有する樹脂シート形成用樹脂組成物を用いて形成されることが好ましい。重合開始剤を含有することにより、特定ポリマー、及び、後述する重合性化合物が含有するエチレン性不飽和結合同士の架橋が促進される。
重合開始剤としては、当業者間で公知のものを制限なく使用することができ、光重合開始剤及び熱重合開始剤のいずれも使用することができるが、簡便な装置で架橋が形成できることから、熱重合開始剤が好ましい。以下、好ましい重合開始剤であるラジカル重合開始剤について詳述するが、本発明はこれらの記述により制限を受けるものではない。
本発明においてレーザー彫刻用樹脂組成物は、重合開始剤を含有する樹脂シート形成用樹脂組成物を用いて形成されることが好ましい。重合開始剤を含有することにより、特定ポリマー、及び、後述する重合性化合物が含有するエチレン性不飽和結合同士の架橋が促進される。
重合開始剤としては、当業者間で公知のものを制限なく使用することができ、光重合開始剤及び熱重合開始剤のいずれも使用することができるが、簡便な装置で架橋が形成できることから、熱重合開始剤が好ましい。以下、好ましい重合開始剤であるラジカル重合開始剤について詳述するが、本発明はこれらの記述により制限を受けるものではない。
本発明において、好ましい重合開始剤としては、(a)芳香族ケトン類、(b)オニウム塩化合物、(c)有機過酸化物、(d)チオ化合物、(e)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(f)ケトオキシムエステル化合物、(g)ボレート化合物、(h)アジニウム化合物、(i)メタロセン化合物、(j)活性エステル化合物、(k)炭素ハロゲン結合を有する化合物、(l)アゾ系化合物等が挙げられる。以下に、上記(a)〜(l)の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明においては、彫刻感度と、樹脂シートに適用した際にはレリーフエッジ形状を良好とするといった観点から、(c)有機過酸化物及び(l)アゾ系化合物がより好ましく、(c)有機過酸化物が特に好ましい。
上記(a)芳香族ケトン類、(b)オニウム塩化合物、(d)チオ化合物、(e)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(f)ケトオキシムエステル化合物、(g)ボレート化合物、(h)アジニウム化合物、(i)メタロセン化合物、(j)活性エステル化合物、及び(k)炭素ハロゲン結合を有する化合物としては、特開2008−63554号公報の段落0074〜0118に挙げられている化合物を好ましく用いることができる。
また、(c)有機過酸化物及び(l)アゾ系化合物としては、以下に示す化合物が好ましい。
また、(c)有機過酸化物及び(l)アゾ系化合物としては、以下に示す化合物が好ましい。
(c)有機過酸化物
本発明に用いることができる熱重合開始剤として好ましい(c)有機過酸化物としては、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ジ−t−ブチルジパーオキシイソフタレート、ジ−t−ブチルジパーオキシイソフタレート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキシ−3−メチルベンゾエート、t−ブチルパーオキシラウレート、t−ブチルパーオキシピバレート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシネオヘプタノエート、t−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシアセテートなどの過酸化エステル系や、α,α’−ジ(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネートなどの過酸化エステル系が好ましい。これらの中でも、相溶性に優れる観点から、t−ブチルパーオキシベンゾエートが特に好ましい。
本発明に用いることができる熱重合開始剤として好ましい(c)有機過酸化物としては、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ジ−t−ブチルジパーオキシイソフタレート、ジ−t−ブチルジパーオキシイソフタレート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキシ−3−メチルベンゾエート、t−ブチルパーオキシラウレート、t−ブチルパーオキシピバレート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシネオヘプタノエート、t−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシアセテートなどの過酸化エステル系や、α,α’−ジ(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネートなどの過酸化エステル系が好ましい。これらの中でも、相溶性に優れる観点から、t−ブチルパーオキシベンゾエートが特に好ましい。
(l)アゾ系化合物
本発明に用いることができる重合開始剤として好ましい(l)アゾ系化合物としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビスプロピオニトリル、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸)、2,2’−アゾビスイソ酪酸ジメチル、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミドオキシム)、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]、2,2’−アゾビス{2−メチル−N−[1,1−ビス(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル]プロピオンアミド}、2,2’−アゾビス[2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)プロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス[N−(2−プロペニル)−2−メチルプロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)等を挙げることができる。
本発明に用いることができる重合開始剤として好ましい(l)アゾ系化合物としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビスプロピオニトリル、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸)、2,2’−アゾビスイソ酪酸ジメチル、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミドオキシム)、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]、2,2’−アゾビス{2−メチル−N−[1,1−ビス(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル]プロピオンアミド}、2,2’−アゾビス[2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)プロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス[N−(2−プロペニル)−2−メチルプロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)等を挙げることができる。
なお、本発明においては、上記(c)有機過酸化物が本発明における重合開始剤として、樹脂シートの架橋性及び彫刻感度向上の観点で特に好ましい。
彫刻感度の観点からは、この(c)有機過酸化物と、後述する光熱変換剤とを組み合わせた態様が特に好ましい。
これは、有機過酸化物を用いて樹脂シートを熱架橋により硬化させる際、ラジカル発生に関与しない未反応の有機過酸化物が残存するが、残存した有機過酸化物は、自己反応性の添加剤として働き、レーザー彫刻時に発熱的に分解する。その結果、照射されたレーザーエネルギーに発熱分が加算されるので彫刻感度が高くなったと推定される。
なお、光熱変換剤の説明において詳述するが、この効果は、光熱変換剤としてカーボンブラックを用いる場合に著しい。これは、カーボンブラックから発生した熱が(c)有機過酸化物にも伝達される結果、カーボンブラックだけでなく有機過酸化物からも発熱するため、特定ポリマー等の分解に使用されるべき熱エネルギーの発生が相乗的に生じるためと考えている。
これは、有機過酸化物を用いて樹脂シートを熱架橋により硬化させる際、ラジカル発生に関与しない未反応の有機過酸化物が残存するが、残存した有機過酸化物は、自己反応性の添加剤として働き、レーザー彫刻時に発熱的に分解する。その結果、照射されたレーザーエネルギーに発熱分が加算されるので彫刻感度が高くなったと推定される。
なお、光熱変換剤の説明において詳述するが、この効果は、光熱変換剤としてカーボンブラックを用いる場合に著しい。これは、カーボンブラックから発生した熱が(c)有機過酸化物にも伝達される結果、カーボンブラックだけでなく有機過酸化物からも発熱するため、特定ポリマー等の分解に使用されるべき熱エネルギーの発生が相乗的に生じるためと考えている。
本発明において、重合開始剤は、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
本発明に用いられる樹脂シート中の重合開始剤の含有量は、固形分全質量に対して、0.01〜30質量%であることが好ましく、0.1〜20質量%であることがより好ましく、1〜15%であることが更に好ましい。
本発明に用いられる樹脂シート形成用樹脂組成物中の重合開始剤の含有量は、固形分全質量に対して、0.01〜30質量%であることが好ましく、0.1〜20質量%であることがより好ましく、1〜15%であることが更に好ましい。含有量が上記範囲内であると、硬化性(架橋性)に優れ、レーザー彫刻した際のレリーフエッジ形状が良好であり、更に、リンス性に優れるので好ましい。
本発明に用いられる樹脂シート中の重合開始剤の含有量は、固形分全質量に対して、0.01〜30質量%であることが好ましく、0.1〜20質量%であることがより好ましく、1〜15%であることが更に好ましい。
本発明に用いられる樹脂シート形成用樹脂組成物中の重合開始剤の含有量は、固形分全質量に対して、0.01〜30質量%であることが好ましく、0.1〜20質量%であることがより好ましく、1〜15%であることが更に好ましい。含有量が上記範囲内であると、硬化性(架橋性)に優れ、レーザー彫刻した際のレリーフエッジ形状が良好であり、更に、リンス性に優れるので好ましい。
(光熱変換剤)
本発明に用いられる樹脂シート及び樹脂シート形成用樹脂組成物は、更に、光熱変換剤を含有することが好ましい。すなわち、本発明における光熱変換剤は、レーザーの光を吸収し発熱することにより、レーザー彫刻時の硬化物の熱分解を促進すると考えられる。このため、彫刻に用いるレーザー波長の光を吸収する光熱変換剤を選択することが好ましい。
本発明に用いられる樹脂シート及び樹脂シート形成用樹脂組成物は、更に、光熱変換剤を含有することが好ましい。すなわち、本発明における光熱変換剤は、レーザーの光を吸収し発熱することにより、レーザー彫刻時の硬化物の熱分解を促進すると考えられる。このため、彫刻に用いるレーザー波長の光を吸収する光熱変換剤を選択することが好ましい。
本発明に用いられる樹脂シートを、700〜1,300nmの赤外線を発するレーザー(YAGレーザー、半導体レーザー、ファイバーレーザー、面発光レーザー等)を光源とするレーザー彫刻に用いる場合、光熱変換剤としては、700〜1,300nmに極大吸収波長を有する化合物を用いることが好ましい。
本発明における光熱変換剤としては、種々の染料又は顔料が用いられる。
本発明における光熱変換剤としては、種々の染料又は顔料が用いられる。
光熱変換剤のうち、染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、700〜1,300nmに極大吸収波長を有するものが挙げられ、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、ジインモニウム化合物、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が好ましく挙げられる。本発明において好ましく用いられる染料としては、ヘプタメチンシアニン色素等のシアニン系色素、ペンタメチンオキソノール色素等のオキソノール系色素、フタロシアニン系色素及び特開2008−63554号公報の段落0124〜0137に記載の染料を挙げることができる。
本発明において使用される光熱変換剤のうち、顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。また、顔料としては、特開2009−178869号公報の段落0122〜0125に記載の顔料が例示できる。
これらの顔料のうち、好ましいものはカーボンブラックである。
これらの顔料のうち、好ましいものはカーボンブラックである。
カーボンブラックは、組成物中における分散性などが安定である限り、ASTMによる分類のほか、用途(例えば、カラー用、ゴム用、乾電池用など)の如何に拘らずいずれも使用可能である。カーボンブラックには、例えば、ファーネスブラック、サーマルブラック、チャンネルブラック、ランプブラック、アセチレンブラックなどが含まれる。なお、カーボンブラックなどの黒色着色剤は、分散を容易にするため、必要に応じて分散剤を用い、予めニトロセルロースやバインダーなどに分散させたカラーチップやカラーペーストとして使用することができ、このようなチップやペーストは市販品として容易に入手できる。また、カーボンブラックとしては、特開2009−178869号公報の段落0130〜0134に記載されたものが例示できる。
本発明に用いられる樹脂シート及び樹脂シート形成用樹脂組成物における光熱変換剤は、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
樹脂シート中における光熱変換剤の含有量は、その分子固有の分子吸光係数の大きさにより大きく異なるが、固形分全質量の0.01〜30質量%の範囲が好ましく、0.05〜20質量%がより好ましく、0.1〜10質量%が特に好ましい。
樹脂シート形成用樹脂組成物中における光熱変換剤の含有量は、その分子固有の分子吸光係数の大きさにより大きく異なるが、固形分全質量の0.01〜30質量%の範囲が好ましく、0.05〜20質量%がより好ましく、0.1〜10質量%が特に好ましい。
樹脂シート中における光熱変換剤の含有量は、その分子固有の分子吸光係数の大きさにより大きく異なるが、固形分全質量の0.01〜30質量%の範囲が好ましく、0.05〜20質量%がより好ましく、0.1〜10質量%が特に好ましい。
樹脂シート形成用樹脂組成物中における光熱変換剤の含有量は、その分子固有の分子吸光係数の大きさにより大きく異なるが、固形分全質量の0.01〜30質量%の範囲が好ましく、0.05〜20質量%がより好ましく、0.1〜10質量%が特に好ましい。
(溶剤)
本発明に用いられる樹脂シート形成用樹脂組成物は、溶剤を含有してもよい。
溶剤としては、有機溶剤を用いることが好ましい。
非プロトン性有機溶剤の好ましい具体例は、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシドが挙げられる。
プロトン性有機溶剤の好ましい具体例は、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,3−プロパンジオールが挙げられる。
これらの中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが特に好ましく例示できる。
本発明に用いられる樹脂シート形成用樹脂組成物は、溶剤を含有してもよい。
溶剤としては、有機溶剤を用いることが好ましい。
非プロトン性有機溶剤の好ましい具体例は、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシドが挙げられる。
プロトン性有機溶剤の好ましい具体例は、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,3−プロパンジオールが挙げられる。
これらの中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが特に好ましく例示できる。
(その他の添加剤)
本発明に用いられる樹脂シート及び樹脂シート形成用樹脂組成物には、公知の各種添加剤を、本発明の効果を阻害しない範囲で適宜配合することができる。例えば、架橋剤、架橋促進剤、可塑剤、充填剤、ワックス、プロセス油、金属酸化物、オゾン分解防止剤、老化防止剤、重合禁止剤、着色剤等が挙げられ、これらは1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
本発明に用いられる樹脂シート及び樹脂シート形成用樹脂組成物には、公知の各種添加剤を、本発明の効果を阻害しない範囲で適宜配合することができる。例えば、架橋剤、架橋促進剤、可塑剤、充填剤、ワックス、プロセス油、金属酸化物、オゾン分解防止剤、老化防止剤、重合禁止剤、着色剤等が挙げられ、これらは1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
(重合性化合物)
本発明に用いられる樹脂シートは、架橋構造形成を促進するため、重合性化合物を含有する樹脂シート形成用樹脂組成物を用いて形成することもできる。重合性化合物を含有することにより、架橋構造形成が促進され、得られる円筒状印刷版の耐刷性に優れる。
また、上述のエチレン性不飽和基を有する特定ポリマーは、重合性化合物には含まれない物とする。
更に、重合性化合物は、分子量3,000未満の化合物であることが好ましく、分子量1,000未満の化合物であることがより好ましい。
重合性化合物は、ラジカル重合性化合物であることが好ましく、また、エチレン性不飽和化合物であることが好ましい。
本発明に用いられる樹脂シートは、架橋構造形成を促進するため、重合性化合物を含有する樹脂シート形成用樹脂組成物を用いて形成することもできる。重合性化合物を含有することにより、架橋構造形成が促進され、得られる円筒状印刷版の耐刷性に優れる。
また、上述のエチレン性不飽和基を有する特定ポリマーは、重合性化合物には含まれない物とする。
更に、重合性化合物は、分子量3,000未満の化合物であることが好ましく、分子量1,000未満の化合物であることがより好ましい。
重合性化合物は、ラジカル重合性化合物であることが好ましく、また、エチレン性不飽和化合物であることが好ましい。
本発明に用いられる重合性化合物は、多官能エチレン性不飽和化合物であることが好ましい。上記態様であると、得られる円筒状印刷版の耐刷性により優れる。
多官能エチレン性不飽和化合物としては、末端エチレン性不飽和基を2〜20個有する化合物が好ましい。このような化合物群は当産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に制限無く用いることができる。
多官能エチレン性不飽和化合物におけるエチレン不飽和基が由来する化合物の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル類、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシ基や、アミノ基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナト基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類との付加反応物、ハロゲン基や、トシルオキシ基、等の脱離性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、ビニル化合物、アリル化合物、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
多官能エチレン性不飽和化合物としては、末端エチレン性不飽和基を2〜20個有する化合物が好ましい。このような化合物群は当産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に制限無く用いることができる。
多官能エチレン性不飽和化合物におけるエチレン不飽和基が由来する化合物の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル類、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシ基や、アミノ基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナト基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類との付加反応物、ハロゲン基や、トシルオキシ基、等の脱離性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、ビニル化合物、アリル化合物、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
重合性化合物に含まれるエチレン性不飽和基は、反応性の観点でアクリレート、メタクリレート、ビニル化合物、アリル化合物の各残基が好ましい。また、耐刷性の観点から、多官能エチレン性不飽和化合物は、エチレン性不飽和基を3個以上有することがより好ましい。
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート、1,8−オクタンジオールジアクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレート、1,10−デカンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等が挙げられる。
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、1,8−オクタンジオールジメタクリレート、1,9−ノナンジオールジメタクリレート、1,10−デカンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等が挙げられる。中でも、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレートが特に好ましい。
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等が挙げられる。
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラクロトネート等が挙げられる。
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等が挙げられる。
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等が挙げられる。
その他のエステルの例として、例えば、特公昭46−27926号、特公昭51−47334号、特開昭57−196231号各公報記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号、特開昭59−5241号、特開平2−226149号各公報記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。
上記エステルモノマーは混合物としても使用することができる。
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビスメタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等が挙げられる。
その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726号公報記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。
また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアナト基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(i)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
CH2=C(R)COOCH2CH(R’)OH (i)
(ただし、R及びR’は、それぞれ、H又はCH3を示す。)
(ただし、R及びR’は、それぞれ、H又はCH3を示す。)
また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417号、特公昭62−39418号各公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。
更に、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号各公報に記載される、分子内にアミノ構造を有する付加重合性化合物類を用いることによって、短時間で硬化組成物を得ることができる。
その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号各公報記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に、日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。
ビニル化合物としては、ブタンジオール−1,4−ジビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、1,2−プロパンジオールジビニルエーテル、1,3−プロパンジオールジビニルエーテル、1,3−ブタンジオールジビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、ネオペンチルグリコールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、トリメチロールエタントリビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ソルビトールテトラビニルエーテル、ソルビトールペンタビニルエーテル、エチレングリコールジエチレンビニルエーテル、エチレングリコールジプロピレンビニルエーテル、トリメチロールプロパントリエチレンビニルエーテル、トリメチロールプロパンジエチレンビニルエーテル、ペンタエリスリトールジエチレンビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリエチレンビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラエチレンビニルエーテル、1,1,1−トリス〔4−(2−ビニロキシエトキシ)フェニル〕エタン、ビスフェノールAジビニロキシエチルエーテル、アジピン酸ジビニル等が挙げられる。
本発明に用いられる樹脂シート、及び、その形成に用いられる樹脂組成物は、重合性化合物を1種のみ用いてもよく、2種以上併用してもよい。
本発明に用いられる樹脂シート中における重合性化合物の含有量は、樹脂組成物の固形分全質量に対し、0.1〜30質量%が好ましく、0.5〜20質量%がより好ましく、1〜10質量%が更に好ましい。
本発明に用いられる樹脂シート形成用樹脂組成物中における重合性化合物の含有量は、樹脂組成物の固形分全質量に対し、0.1〜30質量%が好ましく、0.5〜20質量%がより好ましく、1〜10質量%が更に好ましい。上記範囲であると、レーザー彫刻時に発生する彫刻カスのリンス性により優れ、得られる円筒状印刷版の耐刷性により優れる。
本発明に用いられる樹脂シート中における重合性化合物の含有量は、樹脂組成物の固形分全質量に対し、0.1〜30質量%が好ましく、0.5〜20質量%がより好ましく、1〜10質量%が更に好ましい。
本発明に用いられる樹脂シート形成用樹脂組成物中における重合性化合物の含有量は、樹脂組成物の固形分全質量に対し、0.1〜30質量%が好ましく、0.5〜20質量%がより好ましく、1〜10質量%が更に好ましい。上記範囲であると、レーザー彫刻時に発生する彫刻カスのリンス性により優れ、得られる円筒状印刷版の耐刷性により優れる。
(各成分の配合量)
本発明に用いられる樹脂シートの固形分全質量に対し、樹脂シート中における特定ポリマーの総含有量は、5〜90質量%が好ましく、重合開始剤の含有量は、0.01〜30質量%であることが好ましく、光熱変換剤の含有量は、0.01〜30質量%の範囲が好ましく、重合性化合物の含有量は、0〜30質量%が好ましい。
また、本発明に用いられる樹脂シート形成用樹脂組成物の固形分全質量に対し、樹脂シート形成用樹脂組成物中における特定ポリマーの総含有量は、5〜90質量%が好ましく、重合開始剤の含有量は、0.01〜30質量%であることが好ましく、光熱変換剤の含有量は、0.01〜30質量%の範囲が好ましく、重合性化合物の含有量は、0〜30質量%が好ましい。
本発明に用いられる樹脂シートの固形分全質量に対し、樹脂シート中における特定ポリマーの総含有量は、5〜90質量%が好ましく、重合開始剤の含有量は、0.01〜30質量%であることが好ましく、光熱変換剤の含有量は、0.01〜30質量%の範囲が好ましく、重合性化合物の含有量は、0〜30質量%が好ましい。
また、本発明に用いられる樹脂シート形成用樹脂組成物の固形分全質量に対し、樹脂シート形成用樹脂組成物中における特定ポリマーの総含有量は、5〜90質量%が好ましく、重合開始剤の含有量は、0.01〜30質量%であることが好ましく、光熱変換剤の含有量は、0.01〜30質量%の範囲が好ましく、重合性化合物の含有量は、0〜30質量%が好ましい。
(樹脂シート硬化方法)
以下、樹脂シート硬化方法について説明する。
本発明に用いられる樹脂シートは、熱及び/又は光の作用により硬化させたシートであることが好ましい。
本発明に用いられる樹脂シートが光重合開始剤を含有する場合、光を照射することにより硬化することができる。
光の照射は、樹脂シート全面に行うことが好ましい。
光としては、可視光、紫外光又は電子線が挙げられるが、紫外光が最も好ましい。樹脂シートの支持体側を裏面とすれば、表面に光を照射するだけでもよいが、支持体が光を透過する透明なフィルムならば、更に裏面からも光を照射することが好ましい。表面からの照射は、保護フィルムが存在する場合、これを設けたまま行ってもよいし、保護フィルムを剥離した後に行ってもよい。酸素の存在下において架橋反応が阻害される恐れがある場合は、樹脂シートに塩化ビニルシートを被せて真空引きした上で、光の照射を行ってもよい。
樹脂シートが熱重合開始剤を含有する場合には(上記の光重合開始剤が熱重合開始剤にもなり得る。)、樹脂シートを加熱することにより硬化することができる(熱により架橋する工程)。熱による架橋を行うための加熱手段としては、樹脂シートを熱風オーブンや遠赤外オーブン内で所定時間加熱する方法や、加熱したロールに所定時間接する方法が挙げられる。
以下、樹脂シート硬化方法について説明する。
本発明に用いられる樹脂シートは、熱及び/又は光の作用により硬化させたシートであることが好ましい。
本発明に用いられる樹脂シートが光重合開始剤を含有する場合、光を照射することにより硬化することができる。
光の照射は、樹脂シート全面に行うことが好ましい。
光としては、可視光、紫外光又は電子線が挙げられるが、紫外光が最も好ましい。樹脂シートの支持体側を裏面とすれば、表面に光を照射するだけでもよいが、支持体が光を透過する透明なフィルムならば、更に裏面からも光を照射することが好ましい。表面からの照射は、保護フィルムが存在する場合、これを設けたまま行ってもよいし、保護フィルムを剥離した後に行ってもよい。酸素の存在下において架橋反応が阻害される恐れがある場合は、樹脂シートに塩化ビニルシートを被せて真空引きした上で、光の照射を行ってもよい。
樹脂シートが熱重合開始剤を含有する場合には(上記の光重合開始剤が熱重合開始剤にもなり得る。)、樹脂シートを加熱することにより硬化することができる(熱により架橋する工程)。熱による架橋を行うための加熱手段としては、樹脂シートを熱風オーブンや遠赤外オーブン内で所定時間加熱する方法や、加熱したロールに所定時間接する方法が挙げられる。
上記樹脂シート硬化方法としては、樹脂シートを表面から内部まで均一に硬化(架橋)可能という観点で、熱による架橋の方が好ましい。
樹脂シートを架橋することにより、第1にレーザー彫刻後形成されるレリーフがシャープになり、第2にレーザー彫刻の際に発生する彫刻カスの粘着性が抑制されるという利点がある。
樹脂シートを架橋することにより、第1にレーザー彫刻後形成されるレリーフがシャープになり、第2にレーザー彫刻の際に発生する彫刻カスの粘着性が抑制されるという利点がある。
また、フレキソ印刷版の製造方法は、彫刻工程に次いで、更に、必要に応じて下記リンス工程、乾燥工程、及び/又は、後架橋工程を含んでもよい。
リンス工程:彫刻後のレリーフ層表面を、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンスする工程。
乾燥工程:彫刻されたレリーフ層を乾燥する工程。
後架橋工程:彫刻後のレリーフ層にエネルギーを付与し、レリーフ層を更に架橋する工程。
前記彫刻工程を経た後、彫刻表面に彫刻カスが付着しているため、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンスして、彫刻カスを洗い流すリンス工程を追加してもよい。リンスの手段として、水道水で水洗する方法、高圧水をスプレー噴射する方法、感光性樹脂凸版の現像機として公知のバッチ式又は搬送式のブラシ式洗い出し機で、彫刻表面を主に水の存在下でブラシ擦りする方法などが挙げられ、彫刻カスのヌメリがとれない場合は、石鹸や界面活性剤を添加したリンス液を用いてもよい。
彫刻表面をリンスするリンス工程を行った場合、彫刻された記録層を乾燥してリンス液を揮発させる乾燥工程を追加することが好ましい。
更に、必要に応じて彫刻された記録層を更に架橋させる後架橋工程を追加してもよい。追加の架橋工程である後架橋工程を行うことにより、彫刻によって形成されたレリーフをより強固にすることができる。
リンス工程:彫刻後のレリーフ層表面を、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンスする工程。
乾燥工程:彫刻されたレリーフ層を乾燥する工程。
後架橋工程:彫刻後のレリーフ層にエネルギーを付与し、レリーフ層を更に架橋する工程。
前記彫刻工程を経た後、彫刻表面に彫刻カスが付着しているため、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンスして、彫刻カスを洗い流すリンス工程を追加してもよい。リンスの手段として、水道水で水洗する方法、高圧水をスプレー噴射する方法、感光性樹脂凸版の現像機として公知のバッチ式又は搬送式のブラシ式洗い出し機で、彫刻表面を主に水の存在下でブラシ擦りする方法などが挙げられ、彫刻カスのヌメリがとれない場合は、石鹸や界面活性剤を添加したリンス液を用いてもよい。
彫刻表面をリンスするリンス工程を行った場合、彫刻された記録層を乾燥してリンス液を揮発させる乾燥工程を追加することが好ましい。
更に、必要に応じて彫刻された記録層を更に架橋させる後架橋工程を追加してもよい。追加の架橋工程である後架橋工程を行うことにより、彫刻によって形成されたレリーフをより強固にすることができる。
リンス工程に用いられるリンス液のpHは、9以上であることが好ましく、10以上であることがより好ましく、11以上であることが更に好ましい。また、リンス液のpHは14以下であることが好ましく、13.5以下であることがより好ましく、13.1以下であることが更に好ましい。上記範囲であると、取り扱いが容易である。リンス液を上記のpH範囲とするために、適宜、酸及び/又は塩基を用いてpHを調整すればよく、使用する酸及び塩基は特に限定されない。
また、リンス液は、主成分として水を含有することが好ましい。また、リンス液は、水以外の溶媒として、アルコール類、アセトン、テトラヒドロフラン等などの水混和性溶媒を含有していてもよい。
また、リンス液は、主成分として水を含有することが好ましい。また、リンス液は、水以外の溶媒として、アルコール類、アセトン、テトラヒドロフラン等などの水混和性溶媒を含有していてもよい。
リンス液は、界面活性剤を含有することが好ましい。界面活性剤としては、彫刻カスの除去性、及び、フレキソ印刷版への影響を少なくする観点から、カルボキシベタイン化合物、スルホベタイン化合物、ホスホベタイン化合物、アミンオキシド化合物、又は、ホスフィンオキシド化合物等のベタイン化合物(両性界面活性剤)が好ましく挙げられる。なお、本発明において、アミンオキシド化合物のN=O、及び、ホスフィンオキシド化合物のP=Oの構造はそれぞれ、N+−O-、P+−O-と見なすものとする。
また、界面活性剤としては、公知のアニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン界面活性剤等も挙げられる。更に、フッ素系、シリコーン系のノニオン界面活性剤も同様に使用することができる。
界面活性剤は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
界面活性剤の使用量は特に限定する必要はないが、リンス液の全質量に対し、0.01〜20質量%であることが好ましく、0.05〜10質量%であることがより好ましい。
また、界面活性剤としては、公知のアニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン界面活性剤等も挙げられる。更に、フッ素系、シリコーン系のノニオン界面活性剤も同様に使用することができる。
界面活性剤は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
界面活性剤の使用量は特に限定する必要はないが、リンス液の全質量に対し、0.01〜20質量%であることが好ましく、0.05〜10質量%であることがより好ましい。
作製したフレキソ印刷版が有するレリーフ層(硬化層)の厚さは、耐磨耗性やインキ転移性のような種々の印刷適性を満たす観点からは、0.05mm以上10mm以下が好ましく、0.05mm以上7mm以下がより好ましく、0.05mm以上3mm以下が特に好ましい。
また、作製したフレキソ印刷版が有するレリーフ層のショアA硬度は、50°以上90°以下であることが好ましい。レリーフ層のショアA硬度が50°以上であると、彫刻により形成された微細な網点が凸版印刷機の強い印圧を受けても倒れてつぶれることがなく、正常な印刷ができる。また、レリーフ層のショアA硬度が90°以下であると、印圧がキスタッチのフレキソ印刷でもベタ部での印刷かすれを防止することができる。
なお、本明細書におけるショアA硬度は、測定対象の表面に圧子(押針又はインデンタと呼ばれる)を押し込み変形させ、その変形量(押込み深さ)を測定して、数値化するデュロメータ(スプリング式ゴム硬度計)により測定した値である。
なお、本明細書におけるショアA硬度は、測定対象の表面に圧子(押針又はインデンタと呼ばれる)を押し込み変形させ、その変形量(押込み深さ)を測定して、数値化するデュロメータ(スプリング式ゴム硬度計)により測定した値である。
[フレキソ印刷装置]
次に、本発明に係るフレキソ印刷版を用いるフレキソ印刷装置(以下、単に、『印刷装置』ともいう)の構成について詳細に説明する。フレキソ印刷装置は、上記フレキソ印刷版を用いる以外は、基本的に、従来のフレキソ印刷装置と同様の構成を有する。
次に、本発明に係るフレキソ印刷版を用いるフレキソ印刷装置(以下、単に、『印刷装置』ともいう)の構成について詳細に説明する。フレキソ印刷装置は、上記フレキソ印刷版を用いる以外は、基本的に、従来のフレキソ印刷装置と同様の構成を有する。
図8は、本発明に係るフレキソ印刷版を用いるフレキソ印刷装置の要部を概念的に示す図である。
図8に示すように、フレキソ印刷装置30は、上記フレキソ印刷版1、版胴31、圧胴32、アニロックスローラ33、ドクターチャンバ34、および、ドクターブレード36を有する。
図8に示すように、フレキソ印刷装置30は、上記フレキソ印刷版1、版胴31、圧胴32、アニロックスローラ33、ドクターチャンバ34、および、ドクターブレード36を有する。
版胴31は、円筒状のドラムであり、フレキソ印刷版1を周面に装着して、回転しつつ、フレキソ印刷版1を被印刷体Zに接触させるものである。
圧胴32は、被印刷体Zを所定の搬送経路で搬送する搬送部(図示せず)を構成するローラであり、その周面が、版胴31の周面と対面して配置されて、被印刷体Zをフレキソ印刷版1に接触させるものである。
版胴31はその回転方向が、被印刷体Zの搬送方向と一致するように配置されている。
圧胴32は、被印刷体Zを所定の搬送経路で搬送する搬送部(図示せず)を構成するローラであり、その周面が、版胴31の周面と対面して配置されて、被印刷体Zをフレキソ印刷版1に接触させるものである。
版胴31はその回転方向が、被印刷体Zの搬送方向と一致するように配置されている。
アニロックスローラ33、ドクターチャンバ34、および、ドクターブレード36は、フレキソ印刷版1にインキを供給するためのものである。ドクターチャンバ34は、アニロックスローラ33の表面に密接して設けられ、内部にインキが保持されている。ドクターチャンバ34には、循環タンク(図示せず)によってインキが供給される。ドクターチャンバ34内のインキは、アニロックスローラ33の表面に供給される。ドクターブレード36は、アニロックスローラ33の表面に付着した不要なインキを掻き落とし、インキ量を調整する。アニロックスローラ33は、版胴31の周面に当接して同調回転し、インキを印刷版1に塗布(供給)する。
このように構成されたフレキソ印刷装置30は、被印刷体zを所定の搬送経路で搬送しつつ、版胴31に載置されたフレキソ印刷版1を回転させて、インキを被印刷体Zに転写して印刷を行う。すなわち、フレキソ印刷版を装着する版胴の回転方向が印刷方向となる。
本発明のフレキソ印刷版を用いるフレキソ印刷装置で用いられる被印刷体の種類には、特に限定はなく、紙、フィルム、段ボール、等の、通常のフレキソ印刷装置で用いられる、種々の公知の被印刷体を用いることができる。
また、本発明のフレキソ印刷版を用いるフレキソ印刷装置で用いられるインキの種類にも、特に限定はなく、水性インキ、UVインキ、油性インキ、EBインキ等の、通常のフレキソ印刷装置で用いられる、種々の公知のインキを用いることができる。
また、本発明のフレキソ印刷版を用いるフレキソ印刷装置で用いられるインキの種類にも、特に限定はなく、水性インキ、UVインキ、油性インキ、EBインキ等の、通常のフレキソ印刷装置で用いられる、種々の公知のインキを用いることができる。
以下、実施例により、本発明についてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、実施例におけるポリマーの数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)は、特に断りのない限りにおいて、GPC法で測定した値を表示している。
なお、実施例におけるポリマーの数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)は、特に断りのない限りにおいて、GPC法で測定した値を表示している。
<実施例1>
<フレキソ印刷版の作製>
フレキソ印刷版原版として、DLE型フレキソ版 FLENEX FD−H(富士フイルム株式会社製)を用いて、以下の形状となるように、レーザー彫刻機(Hell Gravure Systems社製 Premium Setter 1300S)により、解像度2540dpi、レーザーパワー(Depth power)100%、ドット形状プロファイル:スロープ60°で彫刻し、その後、洗浄剤(The Procter & Gamble Company社製 ジョイ2%水溶液)を版上に垂らし、豚毛ブラシで擦り、流水にて水洗することで彫刻カスを除去した。
<フレキソ印刷版の作製>
フレキソ印刷版原版として、DLE型フレキソ版 FLENEX FD−H(富士フイルム株式会社製)を用いて、以下の形状となるように、レーザー彫刻機(Hell Gravure Systems社製 Premium Setter 1300S)により、解像度2540dpi、レーザーパワー(Depth power)100%、ドット形状プロファイル:スロープ60°で彫刻し、その後、洗浄剤(The Procter & Gamble Company社製 ジョイ2%水溶液)を版上に垂らし、豚毛ブラシで擦り、流水にて水洗することで彫刻カスを除去した。
彫刻後の印刷版の形状は、図1(A)に示すような、印刷版の中央に135mm×210mmの画像部を有する形状とした。この画像部に隣接する非画像部は、画像部の端辺から離間する方向に2mm以上連続している。
また、画像部は、全体を網点率10%の網点とした。
また、画像部の印刷方向の先端側には低層化領域を有する構成とした。画像部の先端側の端辺における低層化付加量Δ、すなわち、低層化付加量Δの最大値は40μmとし、低層化領域の幅Laは、1mmとした。
また、画像部は、全体を網点率10%の網点とした。
また、画像部の印刷方向の先端側には低層化領域を有する構成とした。画像部の先端側の端辺における低層化付加量Δ、すなわち、低層化付加量Δの最大値は40μmとし、低層化領域の幅Laは、1mmとした。
<比較例1>
低層化領域を形成しない以外は、実施例1と同様にしてフレキソ印刷版を作製した。
低層化領域を形成しない以外は、実施例1と同様にしてフレキソ印刷版を作製した。
〔評価〕
得られたフレキソ印刷版を用いて印刷を行い、濃度測定を行いバウンシングの有無について評価を行った。
得られたフレキソ印刷版を用いて印刷を行い、濃度測定を行いバウンシングの有無について評価を行った。
(印刷工程)
印刷機は、MIRAFLEX AM(Windmoller & Holscher製)を使用し、版胴として、ROSSINI社製スリーブを用いた。
得られた印刷版を、クッションテープ(Lohmann社製)を介して、版胴に張り込み、印刷機に設置した。その後、キスタッチ(画像全面が着肉し始める印圧)を0(基準印圧)とし、そこから、40μm押し込んだ条件で、印刷速度150m/minで印刷を行った。
被印刷体としては、厚さ50μmのOPPフィルム(株式会社阿部紙業製)を用いた。また、インキとしては、水性フレキソインキ、ハイドリックFCF(大日精化株式会社製)を用いた。
印刷機は、MIRAFLEX AM(Windmoller & Holscher製)を使用し、版胴として、ROSSINI社製スリーブを用いた。
得られた印刷版を、クッションテープ(Lohmann社製)を介して、版胴に張り込み、印刷機に設置した。その後、キスタッチ(画像全面が着肉し始める印圧)を0(基準印圧)とし、そこから、40μm押し込んだ条件で、印刷速度150m/minで印刷を行った。
被印刷体としては、厚さ50μmのOPPフィルム(株式会社阿部紙業製)を用いた。また、インキとしては、水性フレキソインキ、ハイドリックFCF(大日精化株式会社製)を用いた。
(濃度測定)
印刷された画像について、印刷方向の1ライン上の濃度測定を行った。
濃度の測定は、印刷物をスキャナーで読み込み、読み込んだ画像データを濃度に変換して測定した。
測定した実施例1の濃度のグラフを図9(A)に示し、比較例1の濃度のグラフを図9(B)に示す。
印刷された画像について、印刷方向の1ライン上の濃度測定を行った。
濃度の測定は、印刷物をスキャナーで読み込み、読み込んだ画像データを濃度に変換して測定した。
測定した実施例1の濃度のグラフを図9(A)に示し、比較例1の濃度のグラフを図9(B)に示す。
図9(B)に示す結果から、低層化領域を設けない比較例1では、画像部の先端部分での濃度が所望の濃度(網点率)よりも高くなり、また、先端側の端辺から17mmの位置で濃度が低くなっていることがわかる。すなわち、画像部の先端と被印刷体とが接触する際の衝撃力によって、バウンシングが発生して印刷された画像にムラが生じていることがわかる。
これに対して、図9(A)に示す結果から、画像部の、印刷方向の先端側から0.5mm〜5mmまでの領域が、この領域以外の画像部の高さよりも高さが低い低層化領域であり、低層化領域は、印刷方向において、非画像部に向かって漸次、低くなる構成を有する本発明の実施例1は、画像部全体で濃度のばらつきが小さく、ムラが少ないことがわかる。
以上の結果から本発明の効果は明らかである。
これに対して、図9(A)に示す結果から、画像部の、印刷方向の先端側から0.5mm〜5mmまでの領域が、この領域以外の画像部の高さよりも高さが低い低層化領域であり、低層化領域は、印刷方向において、非画像部に向かって漸次、低くなる構成を有する本発明の実施例1は、画像部全体で濃度のばらつきが小さく、ムラが少ないことがわかる。
以上の結果から本発明の効果は明らかである。
1、100、210、220 フレキソ印刷版
2、102 非画像部
3、103、200、202、204 画像部
3a 先端側の端辺
4 低層化領域
30 フレキソ印刷装置
31、100 版胴
32、104 圧胴
33 アニロックスローラ
34 ドクターチャンバ
36 ドクターブレード
50 元画像データ
60 カレンダーロール
62a〜62d 第1〜第4ロール
70 混錬物
71 樹脂シート
222 オビ部
z 被印刷体
2、102 非画像部
3、103、200、202、204 画像部
3a 先端側の端辺
4 低層化領域
30 フレキソ印刷装置
31、100 版胴
32、104 圧胴
33 アニロックスローラ
34 ドクターチャンバ
36 ドクターブレード
50 元画像データ
60 カレンダーロール
62a〜62d 第1〜第4ロール
70 混錬物
71 樹脂シート
222 オビ部
z 被印刷体
Claims (8)
- 画像部と、非画像部とを有するフレキソ印刷版であって、
前記画像部の、印刷方向の先端側から0.5mm〜5mmまでの領域が、前記領域以外の前記画像部の高さよりも高さが低い低層化領域であり、
前記低層化領域は、前記印刷方向において、前記非画像部に向かって漸次、低くなることを特徴とするフレキソ印刷版。 - 前記低層化領域における低層化付加量の最大値が、20μm〜120μmである請求項1に記載のフレキソ印刷版。
- 前記画像部の端辺から離間する方向に2mm以上連続する前記非画像部に隣接する前記画像部において、前記低層化領域を形成した請求項1または2に記載のフレキソ印刷版。
- 画像部と、非画像部とを有するフレキソ印刷版の製造方法であって、
印刷する画像の元画像データを取得する画像データ取得工程と、
取得した前記元画像データから第1の彫刻形状画像データを生成する第1彫刻画像生成工程と、
前記元画像データから前記画像部と前記非画像部との境界を検出し、前記境界の位置を基準にして、前記画像部の一部の高さを低くするための低層化マスクデータを生成する低層化マスク生成工程と、
前記第1の彫刻形状画像データに前記低層化マスクデータを適用して、前記画像部の、印刷方向の先端側から0.5mm〜5mmまでの領域を低層化した第2の彫刻形状画像データを生成する第2彫刻画像生成工程とを有することを特徴とするフレキソ印刷版の製造方法。 - 前記低層化マスクデータによる低層化付加量の最大値が、20μm〜120μmである請求項4に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
- 前記低層化マスク生成工程において、前記画像部の端辺から離間する方向に2mm以上連続する前記非画像部に隣接する前記画像部の前記境界の位置を基準にして前記低層化マスクデータを生成する請求項4または5に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
- 前記第1彫刻画像生成工程は、前記元画像データを網点画像データに変換し、前記網点画像データに基づいて前記第1の彫刻形状画像データを生成する請求項4〜6のいずれか1項に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
- 前記第2の彫刻形状画像データに基づいて、フレキソ印刷版原版にレーザー彫刻する彫刻工程を有する請求項4〜7のいずれか1項に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
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