JPWO2016060103A1 - 半導体レーザ発振器 - Google Patents

半導体レーザ発振器 Download PDF

Info

Publication number
JPWO2016060103A1
JPWO2016060103A1 JP2016554076A JP2016554076A JPWO2016060103A1 JP WO2016060103 A1 JPWO2016060103 A1 JP WO2016060103A1 JP 2016554076 A JP2016554076 A JP 2016554076A JP 2016554076 A JP2016554076 A JP 2016554076A JP WO2016060103 A1 JPWO2016060103 A1 JP WO2016060103A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
diode
output
wavelength
unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016554076A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6374017B2 (ja
Inventor
かおり 臼田
かおり 臼田
稔 緒方
稔 緒方
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lumentum Operations LLC
Original Assignee
Lumentum Operations LLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lumentum Operations LLC filed Critical Lumentum Operations LLC
Publication of JPWO2016060103A1 publication Critical patent/JPWO2016060103A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6374017B2 publication Critical patent/JP6374017B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/04Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping, e.g. by electron beams
    • H01S5/042Electrical excitation ; Circuits therefor
    • H01S5/0427Electrical excitation ; Circuits therefor for applying modulation to the laser
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/0604Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams
    • B23K26/0608Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams in the same heat affected zone [HAZ]
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/0604Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams
    • B23K26/0613Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams having a common axis
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/064Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/08Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
    • B23K26/0869Devices involving movement of the laser head in at least one axial direction
    • B23K26/0876Devices involving movement of the laser head in at least one axial direction in at least two axial directions
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/361Removing material for deburring or mechanical trimming
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/362Laser etching
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/38Removing material by boring or cutting
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/70Auxiliary operations or equipment
    • B23K26/702Auxiliary equipment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/70Auxiliary operations or equipment
    • B23K26/702Auxiliary equipment
    • B23K26/703Cooling arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/131Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/005Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • H01S5/0071Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping for beam steering, e.g. using a mirror outside the cavity to change the beam direction
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/04Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping, e.g. by electron beams
    • H01S5/042Electrical excitation ; Circuits therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/06Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/068Stabilisation of laser output parameters
    • H01S5/0683Stabilisation of laser output parameters by monitoring the optical output parameters
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4012Beam combining, e.g. by the use of fibres, gratings, polarisers, prisms
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4018Lasers electrically in series
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
    • H01S5/4031Edge-emitting structures
    • H01S5/4062Edge-emitting structures with an external cavity or using internal filters, e.g. Talbot filters
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/005Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/023Mount members, e.g. sub-mount members
    • H01S5/02325Mechanically integrated components on mount members or optical micro-benches
    • H01S5/02326Arrangements for relative positioning of laser diodes and optical components, e.g. grooves in the mount to fix optical fibres or lenses
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/024Arrangements for thermal management
    • H01S5/02407Active cooling, e.g. the laser temperature is controlled by a thermo-electric cooler or water cooling
    • H01S5/02423Liquid cooling, e.g. a liquid cools a mount of the laser
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/06Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/0617Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium using memorised or pre-programmed laser characteristics
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/14External cavity lasers
    • H01S5/141External cavity lasers using a wavelength selective device, e.g. a grating or etalon
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
    • H01S5/4087Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar emitting more than one wavelength

Abstract

半導体レーザ発振器(11)は、直列に接続された複数のレーザダイオードが1つのバンクを構成し、複数のバンクから構成されたダイオードユニット(11u)を備える。ダイオードユニット(11u)は、複数の波長にロックさせる波長ロック機構を有する。半導体レーザ発振器(11)は、複数のバンクそれぞれのレーザダイオードへの入力電流を、波長ロック効率の特性に対応させて個別に制御してダイオードユニット(11u)全体の出力を要求される出力に制御する制御部(114)を備える。

Description

本開示は、レーザを射出する半導体レーザ発振器に関する。
従来、半導体レーザ発振器は固体レーザやファイバレーザの励起用途に多く利用されてきており、高輝度化の達成により直接加工に用いるダイレクトダイオードレーザ(DDL)の加工機が普及している。DDL発振器として、高出力のシングルエミッタのレーザダイオードを複数使用した発振器がある。このDDL発振器は、複数の波長のそれぞれにロックさせスペクトルビーム結合したレーザを射出する。
シングルエミッタのレーザダイオードから構成されるDDL発振器では、複数のレーザダイオードを複数のバンクに分割し、バングごとに同じ電流値が流れるように制御するのが一般的である。1つのバンクには、例えば30〜40個のレーザダイオードが直列に接続される。
特開2012−174720号公報
DDL発振器においては、スペクトルビームを結合させることにより、高出力・高輝度を達成している。複数の波長のレーザのスペクトルビーム結合を実現させるためには、各波長のスペクトルを狭帯域とする必要がある。そこで、DDL発振器は、外部共振器によって、レーザを複数の所望の波長にロックさせる。
このとき、波長ロック効率が高いほど効率的にスペクトルビーム結合させることができ、高効率なレーザ出力が得られる。波長ロック効率を高くするためには、各ロック波長に近い発振をする最適なレーザダイオードの材料を選定する必要がある。しかしながら、全てのロック波長ごとに材料を異ならせてレーザダイオードを製作することは現実的には不可能である。
そこで、複数種類の材料によって製作されたレーザダイオードを、少なくとも高出力時に波長ロック効率が高くなるように、各ロック波長に対して振り分けるのが一般的である。
レーザダイオードは射出するレーザの波長が1℃の温度上昇で0.25〜0.3nm程度長波長側へシフトする特性がある。よって、レーザダイオードの出力を上げると発熱量が増えて温度上昇するため、射出するレーザの波長は長波長側へシフトする。従って、高出力時に合わせて波長調整された材料は、高出力で波長ロック効率が高いものでも低出力時には波長が低波長シフトするため高い波長ロック効率を維持することが困難な場合がある。
波長ロックしていない通常のレーザダイオードの入力電流に対するレーザ出力は直線となる。しかし、レーザダイオードに高電流を流して高出力化すればするほど、低出力時との温度差が大きくなり波長シフト量も大きくなって波長ロックすると低出力時の効率が低くなりがちである。こういった理由によりDDL発振器における各バンクのレーザダイオードへの入力電流に対するレーザ出力との関係は直線とはならず、低出力時は下に凸の曲線状の特性となってしまう。
波長ロック効率が低く、ロック波長以外の波長で発振したレーザは、本来の光軸から外れて射出すべきレーザのロスを増大させる。すると、そのロスが、半導体レーザ発振器の内部の発熱や伝送ファイバ入射部の局部的発熱を発生させる。よって、半導体レーザ発振器の性能を最大限に発揮することができない。
実施形態は、波長ロックしてスペクトルビーム結合した半導体レーザ発振器において、低出力時においても高効率な波長ロックを維持できる半導体レーザ発振器を提供することを目的とする。
実施形態の一態様によれば、直列に接続された複数のレーザダイオードが1つのバンクを構成し、複数のバンクが並列に接続されたダイオードユニットを備え、前記複数のバンクそれぞれのレーザダイオードへの入力電流を、波長ロック効率の特性に対応させて個別に制御してダイオードユニット全体の出力を要求される出力に制御する制御部をさらに備えることを特徴とする半導体レーザ発振器が提供される。
実施形態の半導体レーザ発振器によれば、波長ロックしてスペクトルビーム結合した半導体レーザ発振器において、低出力時においても高効率な波長ロックを維持できる。
図1は、一実施形態の半導体レーザ発振器を備えるレーザ加工機の全体的な構成を示す斜視図である。 図2は、一実施形態の半導体レーザ発振器を示すブロック図である。 図3は、図2中のDDLユニットの具体的な構成を示す概念図である。 図4は、図2中のDDLユニットに設定されているバンクを説明するための図である。 図5は、レーザの波長の違いによって波長ロック効率の特性が異なることを説明するための図である。 図6は、一般的な入力電流とレーザパワーとの関係を示すDDLの特性図である。 図7は、一実施形態における指令出力値に対する各バンクへの入力電流とレーザ出力及びDDLユニット出力(バンク合計レーザ出力)の関係を示す特性図である。
以下、一実施形態の半導体レーザ発振器について、添付図面を参照して説明する。まず、一実施形態の半導体レーザ発振器を備えるレーザ加工機の全体的な構成及び動作を説明する。
図1に示すレーザ加工機100は、レーザによって被加工材を切断加工するレーザ切断加工機である場合を例とする。レーザ加工機は、レーザによって被加工材を溶接加工するレーザ溶接加工機、レーザによって被加工材の表面を改質する表面改質装置、レーザによって被加工材にマーキングするマーキング装置であってもよい。
レーザ加工機100は、レーザLBを生成して射出するレーザ発振器11と、レーザ加工ユニット15と、レーザLBをレーザ加工ユニット15へと伝送するプロセスファイバ12とを備える。
レーザ発振器11は、一例としてDDL発振器である。以下、DDL発振器11と称する。DDL発振器11の具体的構成及び動作については後に詳述する。レーザ発振器11は波長ロック機構を有していればよく、DDL発振器に限定されない。
プロセスファイバ12は、レーザ加工ユニット15に配置されたX軸及びY軸のケーブルダクト(図示せず)に沿って装着されている。
レーザ加工ユニット15は、被加工材Wを載せる加工テーブル21と、加工テーブル21上でX軸方向に移動自在である門型のX軸キャリッジ22と、X軸キャリッジ22上でX軸に垂直なY軸方向に移動自在であるY軸キャリッジ23とを有する。また、レーザ加工ユニット15は、Y軸キャリッジ23に固定されたコリメータユニット29を有する。
コリメータユニット29は、プロセスファイバ12の出力端から射出されたレーザLBを略平行光束とするコリメートレンズ28と、略平行光束に変換されたレーザLBをX軸及びY軸に垂直なZ軸方向下方に向けて反射させるベンドミラー25とを有する。また、コリメータユニット29は、ベンドミラー25で反射したレーザLBを集光させる集光レンズ27と、加工ヘッド26とを有する。
コリメートレンズ28、ベンドミラー25、集光レンズ27、加工ヘッド26は、予め光軸が調整された状態でコリメータユニット29内に固定されている。焦点位置を補正するために、コリメートレンズ28がX軸方向に移動するように構成されていてもよい。
コリメータユニット29は、Y軸方向に移動自在のY軸キャリッジ23に固定され、Y軸キャリッジ23は、X軸方向に移動自在のX軸キャリッジ22に設けられている。よって、レーザ加工ユニット15は、加工ヘッド26から射出されるレーザLBを被加工材Wに照射する位置を、X軸方向及びY軸方向に移動させることができる。
以上の構成によって、レーザ加工機100は、DDL発振器11より射出されたレーザLBをプロセスファイバ12によってレーザ加工ユニット15へと伝送させ、高エネルギ密度の状態で被加工材Wに照射して被加工材Wを切断加工することができる。
なお、被加工材Wを切断加工するとき、被加工材Wには溶融物を除去するためのアシストガスが噴射される。図1では、アシストガスを噴射する構成については図示を省略している。
次に、図2〜図4を用いて、DDL発振器11の具体的な構成及び動作を説明する。図2に示すように、DDL発振器11は、DDLユニット11u1〜11unのn個のDDLユニットと、DDLユニット11u1〜11unそれぞれより射出されたレーザを空間ビーム結合させるコンバイナ112とを有する。DDLユニット11u1〜11unは、ダイオードユニットの一例である。
また、DDL発振器11は、DDLユニット11u1〜11unに電力を供給する電力供給部113と、DDL発振器11を制御する制御部114とを有する。電力供給部113は電力供給回路によって構成することができる。制御部114はマイクロプロセッサまたはマイクロコンピュータによって構成することができる。
DDLユニット11u1〜11unのうちのいずれかを特定しないDDLユニットをDDLユニット11uと称することとする。DDLユニット11uの個数nは1以上であり、射出するレーザLBの必要とする出力に応じて適宜設定すればよい。なお、DDLユニット11uが1個の場合は、コンバイナを必要としない。
DDLユニット11uは、具体的に、図3に示すように構成される。DDLユニット11uは、レーザダイオードモジュールUm1〜Umnのn個のレーザダイオードモジュールを有する。
レーザダイオードモジュールUm1〜Umnのうちのいずれかを特定しないレーザダイオードモジュールをレーザダイオードモジュールUmと称することとする。レーザダイオードモジュールUmの個数nも適宜設定すればよい。
それぞれのレーザダイオードモジュールUmは、複数のレーザダイオードが直列に接続されて構成されている。レーザダイオードの個数は例えば14個である。レーザダイオードモジュールUmのそれぞれでロックさせるレーザの波長が異なる。
レーザダイオードモジュールUm1〜Umnは、各レーザダイオードが光ファイバUf1〜Ufnの一方の端部に空間結合されている。各レーザダイオードのレーザを射出する側とは反対側の端面には、高反射ミラーが形成されている。光ファイバUf1〜Ufnの他方の端部は、ファイバアレイU11となっている。
光ファイバUf1〜Ufnの先端部は、レーザの射出方向と直交する方向に一列に並べられた光ファイバ列となっている。光ファイバ列の先端部の数ミリから十数ミリの範囲が樹脂で例えば円筒状に被覆されて、ファイバアレイU11が構成されている。
レーザダイオードモジュールUm1〜Umnより射出されたレーザは、ファイバアレイU11より射出して、コリメートレンズU12によって平行光化されて略平行光束となる。コリメートレンズU12より射出されたそれぞれのレーザは、グレーティングU13に互いに異なる角度で入射して方向が曲げられて、部分反射ミラーU14を介して射出する。
このとき、レーザがコリメートレンズU12に入射する位置の違いによって、グレーティングU13への入射角度が決まる。
レーザの一部は、部分反射ミラーU14で反射してレーザダイオードモジュールUmの各レーザダイオードへと戻り、高反射ミラーで反射して再び部分反射ミラーU14に入射する。
このように、レーザは、レーザダイオードモジュールUm内部の高反射ミラーと部分反射ミラーU14との間で共振する。DDLユニット11uは外部共振器を構成する。高反射ミラー及び部分反射ミラーU14は、外部共振器ミラーを構成する。
DDLユニット11uは、レーザを、外部共振器とグレーティングU13とによって波長ロックさせる。グレーティングU13は、波長ロックの機能に加えて、スペクトルビーム結合させる機能を有する。
以上の構成及び動作によって、DDLユニット11uからは、複数の波長にロックされた図示のような波長スペクトルSP1を有するレーザが出力される。
DDLユニット11uには、並列接続された複数のバンクが設定されている。図4は、DDLユニット11uに設定されているバンクの構成例を示している。本実施形態においては、DDLユニット11uには、2つのバンクが設定されているとする。バンクの数は3以上であってもよい。
図4に示すように、それぞれのバンクには、複数のレーザダイオードモジュールUmが直列に接続されている。図4では、2つのレーザダイオードモジュールUmを直列接続しているが、3つのレーザダイオードモジュールUmを直列接続してもよい。
直列接続するレーザダイオードの数は、電圧制御が容易な例えば50〜75Vの電圧となるような数とするのがよい。それぞれのバンクには、電力供給部113より50〜75Vの電圧が供給され、0〜12Aの電流が流れる。
図4に示すバンク1,2で、DDLユニット11uは、波長λ1〜λ4それぞれの波長にロックされたレーザを出力する。なお、図2におけるDDLユニット11u1〜11unの全体で、例えば波長910nm〜950nmのレーザを出力する。
さて、ここで、図5を用いて、レーザの波長の違いによって波長ロック効率の特性が異なることを説明する。図5に示すように、波長λ1,λ2は、入力電流が0〜12Aのほぼ全出力領域で波長ロック効率が高い。一方、波長λ3,λ4は、入力電流が0〜4A程度の低出力領域で波長ロック効率が低い。
図5に示す波長ロック効率の特性を有するレーザダイオードモジュールUmから構成されたDDLユニット11uに0〜12Aの電流を供給したとき、入力電流に対してレーザ出力は図6に示すような特性となる。図6において、一点鎖線は、波長λ1,λ2の波長にロックされたレーザを出力するバンク1における入力電流に対するレーザ出力特性、破線は、波長λ3,λ4の波長にロックされたレーザを出力するバンク2における入力電流に対するレーザ出力特性、実線はDDLユニット11u(バンク1とバンク2の合計)の出力特性を示している。
入力電流とレーザパワーとの関係は、二点鎖線で示すように、理想的にはリニアである。しかしながら、一点鎖線で示す特性と破線で示す特性とを合わせることによって、実線で示すように、DDLユニット11u全体としての特性は、下に凸の曲線状となってしまう。
そこで、本実施形態においては、バンク1,2を図7に示すように制御する。上記のように、バンク1には、低出力から高出力まで波長ロック効率が高い波長λ1,λ2が割り当てられており、バンク2には、低出力時に波長ロック効率が低い波長λ3,λ4が割り当てられている。
図7に示すように、制御部114は、バンク1に対しては、一点鎖線で示すように、低出力から高出力までレーザパワーを出力させるように、パワーを指令する。詳細には、指令パワー値が0から400W程度まで入力電流をリニアに増加させた後、一旦、入力電流を0とする。指令パワー値が400W程度以降では、入力電流を0から12Aまでリニアに増加させる。
制御部114は、バンク2に対しては、破線で示すように、低出力時には出力させるレーザパワーを0とし、中出力以上でレーザパワーを出力させるように、パワーを指令する。詳細には、指令パワー値が0から400W程度まで入力電流を0とする。指令パワー値が400W程度で入力電流を6A程度に上昇させて、それ以降、入力電流を12Aまでリニアに増加させる。
制御部114がバンク1,2を図7に示すように制御することによって、DDLユニット11u全体では、実線で示すように出力させることができ、二点鎖線で示す理想的な特性に近付けた特性とすることができる。
以上のように、バンク毎に入力電流制御を行うため、低出力時に波長ロック効率が低くなってしまうものは同じバンクに割り当て、中電流(中出力)以上で制御する。制御部114は、複数のバンクそれぞれのレーザダイオードへの入力電流を、波長ロック効率の特性に対応させて個別に制御する。
制御部114は、複数のバンクそれぞれが出力するレーザを合成したレーザパワーが要求される発振器出力となるように、また発振器の全出力領域にて波長ロック効率を高く維持できるように、複数のバンクそれぞれのレーザダイオードへの入力電流を個別に制御すればよい。
具体的には、複数のバンクが、入力電流が0から所定の値までの低電流時の波長ロック効率が第1の状態である第1のバンクと、第1の状態よりも波長ロック効率が低い第2の状態である第2のバンクとを少なくとも含むとき、制御部114は次のように制御すればよい。
制御部114は、第2のバンクの出力を、DDLユニット11u全体に要求される出力が0から所定の値まで0とするよう制御する。
本実施形態の半導体レーザ発振器によれば、発振器出力の低出時の波長ロック効率改善が可能となり、併せて電気−光変換効率も高い領域で使用することになるため、低出力時の無駄な電力を削減することができる。
また、本実施形態の半導体レーザ発振器によれば、波長ロック効率低下による出力損失が影響する発振器内部の発熱や、伝送ファイバの局部的発熱を防ぎ、発振器出力を安定させてかつ光学部品の破損を防ぐことができる。
本発明は以上説明した本実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能である。
レーザダイオードは、一例として、シングルエミッタのレーザダイオードである。レーザダイオードは、シングルエミッタのレーザダイオードを複数空間結合したレーザダイオードモジュールであってもよい。
レーザダイオードは、ダイオードレーザバーであってもよい。レーザダイオードは、ダイオードレーザバーを複数空間結合したレーザダイオードモジュールであってもよい。なお、ダイオードレーザバーとは、エミッタが例えば500μm間隔で横に並んだチップである。
本発明は、レーザを射出する半導体レーザ発振器に利用できる。
本実施形態の半導体レーザ発振器によれば、発振器出力の低出時の波長ロック効率改善が可能となり、併せて電気−光変換効率も高い領域で使用することになるため、低出力時の無駄な電力を削減することができる。

Claims (6)

  1. 直列に接続された複数のレーザダイオードが1つのバンクを構成し、複数のバンクから構成されたダイオードユニットを備え、
    前記ダイオードユニットは、複数の波長にロックさせる波長ロック機構を有し、
    前記複数のバンクそれぞれのレーザダイオードへの入力電流を波長ロック効率の特性に対応させて個別に制御して、前記ダイオードユニット全体の出力を要求される出力に制御する制御部をさらに備える
    ことを特徴とする半導体レーザ発振器。
  2. レーザダイオードがシングルエミッタのレーザダイオードであることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ発振器。
  3. レーザダイオードがシングルエミッタのレーザダイオードを複数空間結合したレーザダイオードモジュールであることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ発振器。
  4. レーザダイオードがダイオードレーザバーであることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ発振器。
  5. レーザダイオードがダイオードレーザバーを複数空間結合したレーザダイオードモジュールであることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ発振器。
  6. 前記複数のバンクは、入力電流が0から所定の値までの低電流時の波長ロック効率が第1の状態である第1のバンクと、前記低電流時の波長ロック効率が前記第1の状態よりも低い第2の状態である第2のバンクとを少なくとも含み、
    前記制御部は、前記第2のバンクの出力を、前記ダイオードユニット全体に要求される出力が0から所定の値まで0とするよう制御する
    ことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の半導体レーザ発振器。
JP2016554076A 2014-10-15 2015-10-13 半導体レーザ発振器 Active JP6374017B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014210491 2014-10-15
JP2014210491 2014-10-15
PCT/JP2015/078877 WO2016060103A1 (ja) 2014-10-15 2015-10-13 半導体レーザ発振器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2016060103A1 true JPWO2016060103A1 (ja) 2017-07-20
JP6374017B2 JP6374017B2 (ja) 2018-08-15

Family

ID=55746649

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017513110A Active JP6652555B2 (ja) 2014-10-15 2015-10-08 レーザシステム、及び、レーザシステムの出力パワーを調整する方法
JP2016554076A Active JP6374017B2 (ja) 2014-10-15 2015-10-13 半導体レーザ発振器

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017513110A Active JP6652555B2 (ja) 2014-10-15 2015-10-08 レーザシステム、及び、レーザシステムの出力パワーを調整する方法

Country Status (5)

Country Link
US (2) US10305252B2 (ja)
EP (2) EP3207602A4 (ja)
JP (2) JP6652555B2 (ja)
CN (2) CN107005020B (ja)
WO (2) WO2016060933A1 (ja)

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6652555B2 (ja) 2014-10-15 2020-02-26 ルーメンタム オペレーションズ エルエルシーLumentum Operations LLC レーザシステム、及び、レーザシステムの出力パワーを調整する方法
KR20170104818A (ko) * 2016-03-08 2017-09-18 주식회사 이오테크닉스 벨로우즈 용접이 가능한 레이저 용접 장치
JP6625914B2 (ja) * 2016-03-17 2019-12-25 ファナック株式会社 機械学習装置、レーザ加工システムおよび機械学習方法
DE112017003559T5 (de) * 2016-07-14 2019-05-09 Mitsubishi Electric Corporation Laserbearbeitungsvorrichtung
EP3504944B1 (en) * 2016-08-26 2023-06-07 NLIGHT, Inc. Laser power distribution module
JP7089148B2 (ja) * 2016-09-30 2022-06-22 日亜化学工業株式会社 光源装置
GB2556197B (en) 2016-09-30 2021-11-24 Nichia Corp Light source device
JP6261810B1 (ja) * 2016-10-25 2018-01-17 三菱電機株式会社 レーザ加工機及びレーザ加工機の演算装置
CN108075351A (zh) * 2016-11-11 2018-05-25 大族激光科技产业集团股份有限公司 半导体激光器控制系统
CN106532431A (zh) * 2016-12-28 2017-03-22 尚华 一种应用于人体内的激光发生光导入装置
JP6502993B2 (ja) * 2017-04-06 2019-04-17 ファナック株式会社 複数のレーザモジュールを備えたレーザ装置
JP6568136B2 (ja) * 2017-04-06 2019-08-28 ファナック株式会社 複数のレーザモジュールを備えたレーザ装置
JP6642546B2 (ja) * 2017-09-21 2020-02-05 日亜化学工業株式会社 波長ビーム結合装置
DE102017129790A1 (de) * 2017-12-13 2019-06-13 Osram Opto Semiconductors Gmbh Verfahren zum Betreiben einer Laservorrichtung und Laservorrichtung
JP6970036B2 (ja) * 2018-02-20 2021-11-24 ファナック株式会社 ファイバレーザ発振器用の電源回路
US10461851B1 (en) * 2018-03-30 2019-10-29 Facebook, Inc. Predicting optical transceiver failure
US10425156B1 (en) 2018-03-30 2019-09-24 Facebook, Inc. Dynamically determining optical transceiver expected life
GB2573303A (en) * 2018-05-01 2019-11-06 Datalase Ltd System and method for laser marking
JP6513306B1 (ja) * 2018-05-07 2019-05-15 三菱電機株式会社 レーザ装置、レーザ加工機およびレーザ装置の出力制御方法
WO2019217868A1 (en) 2018-05-11 2019-11-14 Axsun Technologies, Inc. Optically pumped tunable vcsel employing geometric isolation
US11121526B2 (en) * 2018-05-24 2021-09-14 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Exchangeable laser resonator modules with angular adjustment
CN110994352A (zh) * 2019-11-11 2020-04-10 无锡锐科光纤激光技术有限责任公司 可拓展的分布式激光器
CN110854654B (zh) * 2019-11-18 2021-06-15 无锡锐科光纤激光技术有限责任公司 一种半闭环控制激光器
CN111162454B (zh) * 2020-01-02 2021-03-12 中国科学院半导体研究所 一种宽波段调谐系统及调谐方法
JP2021118271A (ja) * 2020-01-27 2021-08-10 パナソニックIpマネジメント株式会社 レーザ発振器及びレーザ加工方法
US11769981B1 (en) * 2020-03-27 2023-09-26 Government Of The United States As Represented By The Secretary Of The Air Force Circuit and method for regulating currents to multiple loads
CN111682399B (zh) * 2020-06-20 2021-07-20 深圳市灵明光子科技有限公司 激光发射器驱动电路、系统及高速光通信装置
WO2023191788A1 (en) * 2022-03-31 2023-10-05 Intel Corporation Laser transmitter component, light detection and ranging system, and computer readable medium

Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4439861A (en) * 1981-08-07 1984-03-27 Mrj, Inc. Solid state laser with controlled optical pumping
JP2683158B2 (ja) * 1993-01-22 1997-11-26 ドイチェ フォルシュングスアンシュタルト フュア ルフト− ウント ラウムファールト エー.ファウ. 電力制御分割化レーザー・システム
US5729568A (en) * 1993-01-22 1998-03-17 Deutsche Forschungsanstalt Fuer Luft-Und Raumfahrt E.V. Power-controlled, fractal laser system
US20010026573A1 (en) * 2000-03-31 2001-10-04 Toru Takayama High-powered semiconductor laser array apparatus in which the wavelength and phase of laser beams from semiconductor laser units above can be matched those of laser beams from semiconductor laser units below, manufacturing method of the semiconductor laser array apparatus and multi-wavelength laser emitting apparatus using the semiconductor laser array apparatuses
JP2001284732A (ja) * 2000-03-31 2001-10-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd 多波長レーザ発光装置、当該装置に用いられる半導体レーザアレイ素子及び当該半導体レーザアレイ素子の製造方法
US20010030983A1 (en) * 2000-03-31 2001-10-18 Masaaki Yuri Semiconductor laser device and multiple wavelength laser light emitting apparatus employing the semiconductor laser device
US20010033590A1 (en) * 2000-03-27 2001-10-25 Masaaki Yuri High-power semiconductor laser array apparatus that outputs laser lights matched in wavelength and phase, manufacturing method therefor, and multi-wavelength laser emitting apparatus using such high-power semiconductor laser array apparatus
JP2002335042A (ja) * 2001-05-11 2002-11-22 Mitsubishi Chemicals Corp 外部共振器付きレーザダイオードモジュールの波長ロックの光出力範囲を広くする方法、および該方法を実施するためのレーザダイオードモジュール
US20080019010A1 (en) * 2006-07-18 2008-01-24 Govorkov Sergei V High power and high brightness diode-laser array for material processing applications
US20100103088A1 (en) * 2007-01-29 2010-04-29 Toshifumi Yokoyama Solid-state laser apparatus, display apparatus and wavelength converting element
JP2010263063A (ja) * 2009-05-07 2010-11-18 Sumitomo Heavy Ind Ltd レーザ照射装置
US20120213238A1 (en) * 2011-02-17 2012-08-23 Fanuc Corporation High-power laser unit wherein laser output can be accurately corrected
JP2013521666A (ja) * 2010-03-05 2013-06-10 テラダイオード,インコーポレーテッド 波長ビーム結合システムおよび方法
JP2013197371A (ja) * 2012-03-21 2013-09-30 Fujikura Ltd 駆動回路、光源装置、光増幅器、および、駆動方法
JP2013233556A (ja) * 2012-05-08 2013-11-21 Product Support:Kk レーザー加工装置
JP2014104479A (ja) * 2012-11-27 2014-06-09 Amada Co Ltd ファイバーレーザ加工機及び断線検出方法
WO2014133013A1 (ja) * 2013-02-27 2014-09-04 コマツ産機株式会社 ファイバレーザ加工機の出力制御方法及びファイバレーザ加工機

Family Cites Families (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5337325A (en) * 1992-05-04 1994-08-09 Photon Imaging Corp Semiconductor, light-emitting devices
DE19623883A1 (de) * 1996-06-05 1997-12-11 Siemens Ag Optische Sendeeinrichtung
US5748654A (en) 1996-06-17 1998-05-05 Trw Inc. Diode array providing either a pulsed or a CW mode of operation of a diode pumped solid state laser
US5715270A (en) * 1996-09-27 1998-02-03 Mcdonnell Douglas Corporation High efficiency, high power direct diode laser systems and methods therefor
US6094447A (en) * 1998-06-12 2000-07-25 Lockheed Martin Corporation System and method for reducing wavefront distortion in high-gain diode-pumped laser media
SE518827C2 (sv) 1999-02-17 2002-11-26 Altitun Ab Metod för karakterisering av en avstämbar laser
US6799242B1 (en) * 1999-03-05 2004-09-28 Sanyo Electric Co., Ltd. Optical disc player with sleep mode
US6518563B1 (en) 2000-06-22 2003-02-11 Agere Systems Inc. Detecting aging of optical components
AU2001281213A1 (en) * 2000-08-09 2002-02-18 Jds Uniphase Corporation Tunable distributed feedback laser
DE10290217B4 (de) * 2001-02-19 2009-06-10 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha, Toyota-shi Laserbearbeitungsvorrichtung und damit durchführbares Bearbeitungsverfahren
WO2003032549A2 (en) * 2001-10-09 2003-04-17 Infinera Corporation Digital optical network architecture
DE10345220B4 (de) * 2003-09-29 2012-02-16 Infineon Technologies Ag Verfahren zur Übertragung von Daten
US7369587B2 (en) 2004-02-21 2008-05-06 Finisar Corp Temperature control for coarse wavelength division multiplexing systems
CN100541946C (zh) * 2004-02-21 2009-09-16 菲尼萨公司 用于粗波分复用系统的温度控制
US7508853B2 (en) * 2004-12-07 2009-03-24 Imra, America, Inc. Yb: and Nd: mode-locked oscillators and fiber systems incorporated in solid-state short pulse laser systems
US7233442B1 (en) * 2005-01-26 2007-06-19 Aculight Corporation Method and apparatus for spectral-beam combining of high-power fiber lasers
US20070022939A1 (en) 2005-07-27 2007-02-01 Robert Stokes Wet floor warning device
JP2007288139A (ja) 2006-03-24 2007-11-01 Sumitomo Chemical Co Ltd モノシリック発光デバイス及びその駆動方法
WO2009001283A2 (en) * 2007-06-27 2008-12-31 Koninklijke Philips Electronics N.V. Optical sensor module and its manufacture
GB0713265D0 (en) 2007-07-09 2007-08-15 Spi Lasers Uk Ltd Apparatus and method for laser processing a material
CN201113219Y (zh) 2007-10-25 2008-09-10 常州凯森光电有限公司 激光模组结构
US20110199011A1 (en) 2009-01-09 2011-08-18 Ken Nakazawa Light-emitting diode driving circuit and planar illuminating device having same
WO2010122953A1 (ja) * 2009-04-24 2010-10-28 株式会社村田製作所 Mems素子およびその製造方法
US8488245B1 (en) 2011-03-07 2013-07-16 TeraDiode, Inc. Kilowatt-class diode laser system
US20110305256A1 (en) 2010-03-05 2011-12-15 TeraDiode, Inc. Wavelength beam combining based laser pumps
US8427749B2 (en) 2010-06-30 2013-04-23 Jds Uniphase Corporation Beam combining light source
US8437086B2 (en) 2010-06-30 2013-05-07 Jds Uniphase Corporation Beam combining light source
US20120026320A1 (en) * 2010-07-28 2012-02-02 Bryceland Samuel S Aircraft traffic logging and acquisition system
EP3490343B1 (en) * 2010-10-08 2021-03-10 Lantiq Beteiligungs-GmbH & Co.KG Laser diode control device
US20120165800A1 (en) * 2010-12-22 2012-06-28 Scott Keeney Single-emitter diode based light homogenizing apparatus and a hair removal device employing the same
US9072533B2 (en) * 2011-03-30 2015-07-07 Tria Beauty, Inc. Dermatological treatment device with one or more multi-emitter laser diode
JP5729107B2 (ja) * 2011-04-20 2015-06-03 村田機械株式会社 レーザ発振器制御装置
US9229156B2 (en) * 2011-07-07 2016-01-05 Reald Inc. Laser systems and methods
JP2013222799A (ja) 2012-04-16 2013-10-28 Sumitomo Electric Device Innovations Inc 半導体レーザの制御方法及び光トランシーバの製造方法
US9679077B2 (en) * 2012-06-29 2017-06-13 Mmodal Ip Llc Automated clinical evidence sheet workflow
WO2014011846A2 (en) * 2012-07-12 2014-01-16 The Government Of The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Navy Wavelength and power scalable waveguiding-based infrared laser system
US10405893B2 (en) 2012-07-12 2019-09-10 DePuy Synthes Products, Inc. Device, kit and method for correction of spinal deformity
TWM443878U (en) * 2012-07-23 2012-12-21 Richtek Technology Corp Multi-phase switching regulator and droop circuit therefor
JP5513571B2 (ja) * 2012-09-06 2014-06-04 ファナック株式会社 放電開始を判定する機能を有するガスレーザ発振器
JP6211259B2 (ja) 2012-11-02 2017-10-11 株式会社アマダミヤチ レーザ電源装置
US9478931B2 (en) * 2013-02-04 2016-10-25 Nlight Photonics Corporation Method for actively controlling the optical output of a seed laser
JP2014164577A (ja) 2013-02-26 2014-09-08 Sumitomo Electric Ind Ltd 駆動回路
US9550347B2 (en) * 2013-07-31 2017-01-24 Bell Helicopter Textron Inc. Method of configuring composite core in a core stiffened structure and a structure incorporating the same
JP6652555B2 (ja) 2014-10-15 2020-02-26 ルーメンタム オペレーションズ エルエルシーLumentum Operations LLC レーザシステム、及び、レーザシステムの出力パワーを調整する方法

Patent Citations (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4439861A (en) * 1981-08-07 1984-03-27 Mrj, Inc. Solid state laser with controlled optical pumping
JP2683158B2 (ja) * 1993-01-22 1997-11-26 ドイチェ フォルシュングスアンシュタルト フュア ルフト− ウント ラウムファールト エー.ファウ. 電力制御分割化レーザー・システム
US5729568A (en) * 1993-01-22 1998-03-17 Deutsche Forschungsanstalt Fuer Luft-Und Raumfahrt E.V. Power-controlled, fractal laser system
US20010033590A1 (en) * 2000-03-27 2001-10-25 Masaaki Yuri High-power semiconductor laser array apparatus that outputs laser lights matched in wavelength and phase, manufacturing method therefor, and multi-wavelength laser emitting apparatus using such high-power semiconductor laser array apparatus
US20010026573A1 (en) * 2000-03-31 2001-10-04 Toru Takayama High-powered semiconductor laser array apparatus in which the wavelength and phase of laser beams from semiconductor laser units above can be matched those of laser beams from semiconductor laser units below, manufacturing method of the semiconductor laser array apparatus and multi-wavelength laser emitting apparatus using the semiconductor laser array apparatuses
JP2001284732A (ja) * 2000-03-31 2001-10-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd 多波長レーザ発光装置、当該装置に用いられる半導体レーザアレイ素子及び当該半導体レーザアレイ素子の製造方法
US20010030983A1 (en) * 2000-03-31 2001-10-18 Masaaki Yuri Semiconductor laser device and multiple wavelength laser light emitting apparatus employing the semiconductor laser device
JP2002335042A (ja) * 2001-05-11 2002-11-22 Mitsubishi Chemicals Corp 外部共振器付きレーザダイオードモジュールの波長ロックの光出力範囲を広くする方法、および該方法を実施するためのレーザダイオードモジュール
US20080019010A1 (en) * 2006-07-18 2008-01-24 Govorkov Sergei V High power and high brightness diode-laser array for material processing applications
US20090190218A1 (en) * 2006-07-18 2009-07-30 Govorkov Sergei V High power and high brightness diode-laser array for material processing applications
US20100103088A1 (en) * 2007-01-29 2010-04-29 Toshifumi Yokoyama Solid-state laser apparatus, display apparatus and wavelength converting element
JP2010263063A (ja) * 2009-05-07 2010-11-18 Sumitomo Heavy Ind Ltd レーザ照射装置
JP2013521666A (ja) * 2010-03-05 2013-06-10 テラダイオード,インコーポレーテッド 波長ビーム結合システムおよび方法
US20120213238A1 (en) * 2011-02-17 2012-08-23 Fanuc Corporation High-power laser unit wherein laser output can be accurately corrected
JP2012174720A (ja) * 2011-02-17 2012-09-10 Fanuc Ltd 精確にレーザ出力を補正できる高出力レーザ装置
US8428092B2 (en) * 2011-02-17 2013-04-23 Fanuc Corporation High-power laser unit wherein laser output can be accurately corrected
JP2013197371A (ja) * 2012-03-21 2013-09-30 Fujikura Ltd 駆動回路、光源装置、光増幅器、および、駆動方法
JP2013233556A (ja) * 2012-05-08 2013-11-21 Product Support:Kk レーザー加工装置
JP2014104479A (ja) * 2012-11-27 2014-06-09 Amada Co Ltd ファイバーレーザ加工機及び断線検出方法
WO2014133013A1 (ja) * 2013-02-27 2014-09-04 コマツ産機株式会社 ファイバレーザ加工機の出力制御方法及びファイバレーザ加工機

Also Published As

Publication number Publication date
CN107005020B (zh) 2021-07-20
JP6652555B2 (ja) 2020-02-26
US10305252B2 (en) 2019-05-28
US20170279245A1 (en) 2017-09-28
EP3207602A1 (en) 2017-08-23
CN107078461A (zh) 2017-08-18
WO2016060933A1 (en) 2016-04-21
JP2018503966A (ja) 2018-02-08
US9917416B2 (en) 2018-03-13
US20170279246A1 (en) 2017-09-28
CN107005020A (zh) 2017-08-01
WO2016060103A1 (ja) 2016-04-21
EP3208898A4 (en) 2018-06-20
EP3207602A4 (en) 2018-06-20
EP3208898A1 (en) 2017-08-23
CN107078461B (zh) 2019-06-14
JP6374017B2 (ja) 2018-08-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6374017B2 (ja) 半導体レーザ発振器
WO2016152404A1 (ja) 半導体レーザ発振器
JP5919356B2 (ja) レーザ光による板金の加工方法及びこれを実行するレーザ加工装置
JP6373714B2 (ja) ダイレクトダイオードレーザ加工装置及びその出力監視方法
JP6412478B2 (ja) 波長合成レーザシステム
JP7100236B2 (ja) 波長ビーム結合装置
CN102208753A (zh) 多波长联合外腔半导体激光器
WO2016129323A1 (ja) レーザモジュールおよびレーザ加工装置
JP2016081994A (ja) ダイレクトダイオードレーザ発振器
US10864600B2 (en) Laser machining device
JP6069280B2 (ja) ダイレクトダイオードレーザ加工装置及びこれを用いた板金の加工方法
JP6043773B2 (ja) ダイレクトダイオードレーザ光による板金の加工方法及びこれを実行するダイレクトダイオードレーザ加工装置
JP2016082219A (ja) 半導体レーザ発振器
WO2016059893A1 (ja) 半導体レーザ発振器
JP5909537B1 (ja) ダイレクトダイオードレーザ発振器、ダイレクトダイオードレーザ加工装置及び反射光検出方法
JP2016078051A (ja) ダイレクトダイオードレーザ加工装置及びこれを用いた板金の加工方法
CN113258433A (zh) 激光振荡器以及激光加工方法
JP2016221579A (ja) ダイレクトダイオードレーザ加工装置及びこれを用いた板金の加工方法
JP2016078043A (ja) レーザ加工機
JP7422355B2 (ja) レーザ発振器
JP2016078049A (ja) ダイレクトダイオードレーザ加工装置及びこれを用いた板金の加工方法
JP7384349B2 (ja) レーザ照射方法及びレーザ照射装置
JP6937865B2 (ja) ダイレクトダイオードレーザ加工装置及びこれを用いた板金の加工方法
JP2016078046A (ja) ダイレクトダイオードレーザ加工装置及びこれを用いた金属板の加工方法
US20110116523A1 (en) Method of beam formatting se-dfb laser array

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170404

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170404

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180306

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180423

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180626

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180718

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6374017

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250