JPWO2016046958A1 - 部品実装装置、表面実装機、及び吸着高さ位置の検出方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図面を参照して実施形態1を説明する。本実施形態では、図1に示す表面実装機1について例示する。なお、表面実装機1は、以下に示す各実施形態において同様の構成とされる。表面実装機1は、基台10と、プリント基板(基板の一例)P1を搬送するための搬送コンベア(基板搬送装置の一例)20と、プリント基板P1上に電子部品(部品の一例)E1を実装するための部品実装装置30と、部品実装装置30に電子部品E1を供給するためのフィーダ型供給装置(部品供給装置の一例)40等とを備えている。
次に、吸着ノズル54に負圧を発生させるための構成について説明する。図3に示すように、吸着ノズル54の内部に設けられた吸引路56は圧力センサ(測定部の一例)60を介してバルブ62に接続されている。バルブ62はさらに負圧発生部64に接続されている。負圧発生部64は、例えば真空ポンプであり、一定の圧力値(例えば−80kPa〜−90kPa)で負圧を発生させる。これらの圧力センサ60、バルブ62、及び負圧発生部64はそれぞれ後述する制御部70に接続されている。
次に、表面実装機1の電気的構成について、図4を参照して説明する。表面実装機1の本体は制御部70によってその全体が制御統括されている。制御部70はCPU等により構成される演算処理部71を備えている。演算処理部71には、モータ制御部72と、記憶部73と、画像処理部74と、外部入出力部75と、観測処理部76と、決定処理部77と、表示部78と、入力部79と、がそれぞれ接続されている。
本実施形態の表面実装機1では、自動運転中において、搬送コンベア20によるプリント基板P1の搬送作業を行う搬送状態と、電子部品E1のプリント基板P1上への実装作業を行う実装状態と、交互に実行される。また、フィーダ型供給装置40には、1つ又は複数のフィーダ42毎に、形状が異なる複数種類の電子部品E1が収容されている。電子部品E1は、種類毎に形状やサイズが異なっており、電子部品E1の種類が異なると、電子部品E1をプリント基板P1に実装するために当該電子部品E1を吸着ノズル54で吸着するときの最適な吸着高さ位置も異なるものとされる。
本実施形態に係る表面実装機1は以上のような構成であって、次に、電子部品E1の吸着高さ位置の検出を開始してから当該電子部品E1の実装に至るまでに制御部70が実行する処理について、図5に示すフローチャートを参照して説明する。以下に示す一連の処理は、上述した実装プログラム73Aに従って制御部70が実行する処理である。
次に、制御部70の観測処理部76及び決定処理部77がS4で実行する吸着高さ位置検出処理に関する各実施形態を説明する。なお、実施形態1、実施形態2、実施形態3では、表面実装機1の構成、及び制御部70が実行する上述したS2、S6、S8の処理については、各実施形態で共通しているため、以下の説明では省略する。
実施形態1の吸着高さ位置決定処理について図6に示すフローチャートを参照して説明する。ここで本実施形態では、吸着高さ位置の検出対象となる電子部品E1の一例として、図7に示す略ブロック状の電子部品E1を例示する。この電子部品E1では、その上面が吸着ノズル54によって吸着される吸着部位となる。
以上説明したように本実施形態では、負圧の大きさの時間変化を基準波形及び通常波形として観測し、基準波形及び通常波形から差分波形を算出する。ここで、通常波形及び差分波形は、吸着ノズル54に電子部品E1が吸着されたときの勾配の変化点(二度目の立ち上がり点)において波形が緩やかに変化するため、変化点を精度良く検出することが難しい。これに対し本実施形態では、読み出した基準波形及び通常波形から差分波形を算出し、差分波形について所定の閾値TH1となるまでの経過時間の差を算出することで、上記変化点近傍の波形の影響を排除することができる。また、上記経過時間の差は、電子部品E1と吸着ノズル54との間の距離が小さくなるほど、小さくなる傾向にある。このため、算出された経過時間の差が第1の所定値以下となるときの一方の差分波形に対応する電子部品E1と吸着ノズル54との間の距離に基づいて吸着高さ位置を決定することができる。
続いて実施形態1の変形例について説明する。この変形例では、実施形態1で説明した吸着高さ位置検出処理において、各波形を観測する処理を、吸着ノズル54を下降させる距離を等間隔で変えて複数回実行する。さらに本変形例では、制御部70の決定処理部77は、S34の処理を実行せず、S32で経過時間の差が第1の所定値以下であると判断すると(S32:YES)、S36に移行する。即ち、制御部70の決定処理部77は、S32で経過時間の差が第1の所定値以下であると判断すると(S32:YES)、上記一方の差分波形と対応する通常波形について、その通常波形が観測されたときの吸着ノズル54の高さ位置を吸着高さ位置として決定する。
次に、実施形態2の吸着高さ位置検出処理について、図10に示すフローチャートを参照して説明する。本実施形態の吸着高さ位置検出処理では、制御部70の観測処理部76は、まず、電子部品E1が吸着される位置まで吸着ノズル54を下降させる(S110)。ここでいう電子部品E1が吸着される位置とは、例えば、図7(B)で示す位置をいう。
以上説明したように本実施形態では、負圧の大きさの時間変化を波形として観測し、観測した波形から微分波形を算出する。そして、算出された微分波形について上記経過時間の差を算出する。このため、吸着ノズル54に電子部品E1が吸着されたときの変化点近傍の波形の影響を排除することができる。さらに、実施形態1のように基準波形を算出することなく上記微分波形を算出し、算出された微分波形の2回目のピークが発生した時点までの経過時間を算出する。ここで、図12に示すように、2回目のピークが発生した時点は一点に定まるため、2回目のピークが発生した時点をみることで上記経過時間を精度良く検出することができる。そして、隣り合う2つの微分波形から経過時間の差を算出することで、波形の観測について少ない回数で吸着高さ位置を検出することができる。このように本実施形態では、吸着高さ位置検出処理に要する時間を短縮することができる。
次に、実施形態3の吸着高さ位置検出処理について、図13に示すフローチャートを参照して説明する。本実施形態の吸着高さ位置検出処理では、制御部70の観測処理部76は、まず、図13に示すS210、S212、S214の処理を順に実行する。このS210、S212、S214の処理は、実施形態2におけるS110、S112、S114(図10参照)の処理と同様の処理であるため、説明を省略する。
以上説明したように本実施形態では、制御部70の決定処理部77は、上記経過時間と上記経過時間が算出された微分波形と対応する距離とから近似関数を算出し、算出された近似関数から吸着高さ位置を決定する。この近似関数は、図16に示すように、波形の観測を少なくとも3回行うことで算出することができる。このため、波形の観測についてより少ない回数で吸着高さ位置を検出することができ、吸着高さ位置検出処理に要する時間を一層短縮することができる。
次に、実施形態4の吸着高さ位置検出処理を説明する。実施形態4、実施形態5、実施形態6では、図17に示すように、吸着ノズル54に負圧を発生させるための構成において、圧力センサ60(図3参照)の替わりに流量センサ(測定部の一例)360が設けられている。表面実装機1のその他の構成については、実施形態1と同様である。流量センサ360は、吸着ノズル54近傍の吸引路56内を流れる吸気の流量を流量値として制御部70に出力する。吸引路56内の負圧が大きくなると吸引路56内の真空度が高くなり、吸引路56内を流れる吸気の流量が少なくなるので、このように吸引路56内の流量を測定することで、吸引路56内の負圧の大きさを間接的に測定することができる。
以上説明したように本実施形態では、流量を測定することで負圧の大きさを間接的に測定する場合であっても、負圧の大きさの時間変化を基準波形及び通常波形として観測することができ、基準波形及び通常波形から差分波形を算出することができる。このため、圧力センサ60の替わりに流量センサ360を用いながら、様々な電子部品E1について、高い精度で吸着高さ位置を決定することができる。
次に、実施形態5の吸着高さ位置検出処理を説明する。本実施形態では、制御部70の観測処理部76及び決定処理部77は、圧力センサ60の替わりに流量センサ360を用いて実施形態2で説明した吸着高さ位置検出処理と同様の処理を実行する。ここで、図20、図21のグラフは、実施形態2における図11、図12のグラフと対応するグラフである。
以上説明したように本実施形態では、流量を測定することで負圧の大きさを間接的に測定する場合であっても、負圧の大きさの時間変化を波形として観測することができ、観測された波形から微分波形を算出することができる。このため、圧力センサ60の替わりに流量センサ360を用いながら、高い精度で吸着高さ位置を決定することができ、さらに、吸着高さ位置検出処理に要する時間を短縮することができる。
次に、実施形態6の吸着高さ位置検出処理を説明する。本実施形態では、制御部70の観測処理部76及び決定処理部77は、圧力センサ60の替わりに流量センサ360を用いて実施形態3で説明した吸着高さ位置検出処理と同様の処理を実行する。ここで、図22、図23、図24のグラフは、実施形態3における図14、図15、図16のグラフと対応するグラフである。なお、図24では、横軸と縦軸が図16のものと逆とされている。
以上説明したように本実施形態では、流量を測定することで負圧の大きさを間接的に測定する場合であっても、負圧の大きさの時間変化を波形として観測することができ、観測された波形から微分波形を算出し、さらに微分波形に基づいて近似関数を算出することができる。このため、圧力センサ60の替わりに流量センサ360を用いながら、高い精度で吸着高さ位置を決定することができ、さらに、吸着高さ位置検出処理に要する時間を一層短縮することができる。
次に、実施形態7の吸着高さ位置検出処理について、図25に示すフローチャートを参照して説明する。本実施形態は、吸着高さ位置検出処理の一部が実施形態1のものと異なっている。本実施形態の吸着高さ位置検出処理では、制御部70の観測処理部76は、まず、図25に示すS10、S12、S14、S16、S18、S20の処理を順に実行する。これらの処理は、実施形態1におけるS10、S12、S14、S16、S18、S20(図6参照)の処理と同様の処理であるため、説明を省略する。
以上説明したように本実施形態は、吸着高さ位置検出処理において、第1の所定値を用いた判断を実行することなく、第3の所定値を用いた判断のみで吸着高さ位置を決定する点で実施形態1と異なっている。例えば、S28で算出された経過時間が十分に小さい場合には、実施形態1における「経過時間の差」を算出しなくとも、吸着ノズル54が電子部品E1に近接しているものとみなすことができ、第3の所定値を用いた判断のみで吸着高さ位置を決定することができる。このように本実施形態では、実施形態1と比べて簡単な決定方法で吸着高さ位置を決定することができる。
本明細書で開示される技術は上記既述及び図面によって説明した各実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も技術的範囲に含まれる。
(1)上記の各実施形態では、吸着ノズルが上下に昇降する構成を例示したが、吸着ノズルが上下方向に固定されており、電子部品が載置された載置面が上下に昇降する構成であってもよい。この場合、載置面の高さ位置を変えることで、電子部品と吸着ノズルの間の距離を変えることができ、吸着高さ位置決定処理では、各電子部品について最適な載置面の高さ位置を検出することができる。
10…基台
20…搬送コンベア(基板搬送装置)
30…部品実装装置
32…ヘッドユニット
38X…X軸サーボモータ
38Y…Y軸サーボモータ
38Z…Z軸サーボモータ(昇降部)
38R…R軸サーボモータ
40…フィーダ型供給装置(部品供給装置)
42…フィーダ
52…実装ヘッド
54…吸着ノズル(吸着部)
56…吸引路
60…圧力センサ(測定部)
62…バルブ
64…負圧発生部
70…制御部
73…記憶部
76…観測処理部
77…決定処理部
79…入力部
360…流量センサ(測定部)
C1…基板認識カメラ
C2…部品認識カメラ
D1〜D5、D31〜D35…差分波形
DS1〜DS5…(電子部品と吸着ノズルとの間の)距離
E1…電子部品
P1…プリント基板
PK21〜23、PK41〜43、PK51〜53…2回目のピーク
T1〜T5、T11〜T15、T21〜T23、T31〜T35、T41〜T45、T51〜T53…経過時間
TH1、TH2、TH3、TH4…閾値
W0、W30…基準波形
W1〜W5、W31〜W35…通常波形
W20、L50…近似関数
Claims (13)
- 負圧によって部品をその上方から吸引することで該部品を吸着する吸着部を備え、前記吸着部で吸着した前記部品を基板に実装する部品実装装置であって、
前記吸着部における前記負圧の大きさを測定する測定部と、
前記吸着部と前記測定部とを制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記吸着部で前記部品を吸引するとともに該部品の吸引を開始してから吸引を終了するまでの間に前記測定部で測定される前記負圧の大きさの時間変化を観測する観測処理を実行する観測処理部と、前記観測処理で観測した前記負圧の大きさの時間変化に基づいて、前記部品を前記基板に実装するために該部品を前記吸着部で吸着するときの吸着高さ位置を決定する決定処理を実行する決定処理部と、を有し、
前記観測処理部は、前記部品の吸引を開始するときの該部品と前記吸着部との間の距離を変えて前記観測処理を複数回実行する部品実装装置。 - 請求項1に記載の部品実装装置であって、
記憶部を備え、
前記観測処理部は、前記観測処理では、前記吸着部で前記部品の吸引を開始してから所定時間経過後に吸引を終了するとともに、前記所定時間の間に観測した前記負圧の大きさの時間変化を波形として前記記憶部に記憶させ、
前記決定処理部は、前記決定処理では、前記記憶部に記憶された複数の前記波形のうち一つの波形に対応する前記部品と前記吸着部との間の距離に基づいて前記吸着高さ位置を決定する、
部品実装装置。 - 請求項2に記載の部品実装装置であって、
前記観測処理部は、複数回実行する前記観測処理のうち1回の観測処理では、前記距離を前記所定時間の間に前記部品が前記吸着部に吸着されない距離にして実行するとともに前記波形を基準波形として前記記憶部に記憶させ、他の回の観測処理では、前記波形を通常波形として前記記憶部に記憶させ、
前記決定処理部は、前記決定処理では、
前記基準波形と前記通常波形とを前記記憶部から読み出す読み出し処理と、
前記通常波形について前記基準波形との差分をとった波形を差分波形として算出する差分波形算出処理と、
前記差分波形について前記吸引を開始してから前記負圧の大きさの差分が所定の閾値となるまでの経過時間を算出する経過時間算出処理と、を実行し、
前記経過時間が算出された前記差分波形に対応する前記部品と前記吸着部との間の距離に基づいて前記吸着高さ位置を決定する、
部品実装装置。 - 請求項3に記載の部品実装装置であって、
前記決定処理部は、前記決定処理では、
複数の前記差分波形を重ね合わせた場合に隣り合う2つの前記差分波形について、前記経過時間の差を算出する時間差算出処理を実行し、
前記経過時間の差が第1の所定値以下となる2つの前記差分波形のうち、前記経過時間が大きい一方の差分波形に対応する前記部品と前記吸着部との間の距離に基づいて前記吸着高さ位置を決定する、
部品実装装置。 - 請求項2に記載の部品実装装置であって、
前記決定処理部は、前記決定処理では、
複数の前記波形を前記記憶部から読み出す読み出し処理と、
前記波形を微分した微分波形を算出する微分波形算出処理と、
前記微分波形について、前記吸引を開始してから前記負圧の大きさについての2回目のピークが発生した時点までの経過時間を算出する経過時間算出処理と、を実行し、
前記経過時間が算出された前記差分波形に対応する前記部品と前記吸着部との間の距離に基づいて前記吸着高さ位置を決定する、
部品実装装置。 - 請求項5に記載の部品実装装置であって、
前記決定処理部は、前記決定処理では、
複数の前記微分波形を重ね合わせた場合に前記経過時間が近接する2つの前記微分波形について、前記経過時間の差を算出する時間差算出処理を実行し、
前記経過時間の差が第2の所定値以下となる2つの前記微分波形のうち、前記経過時間が大きい一方の微分波形に対応する前記部品と前記吸着部との間の距離に基づいて前記吸着高さ位置を決定する、
部品実装装置。 - 請求項3から請求項6のいずれか1項に記載の部品実装装置であって、
前記決定処理部は、前記決定処理では、前記一方の差分波形又は前記一方の微分波形についての前記経過時間が第3の所定値以下である場合に、前記吸着高さ位置を決定する、
部品実装装置。 - 請求項4または請求項6に記載の部品実装装置であって、
前記観測処理部は、前記観測処理を、前記部品と前記吸着部との間の距離を等間隔で変えて複数回実行する、
部品実装装置。 - 請求項2に記載の部品実装装置であって、
前記決定処理部は、前記決定処理では、
複数の前記波形を前記記憶部から読み出す読み出し処理と、
前記波形を微分した微分波形を算出する微分波形算出処理と、
前記微分波形について、前記吸引を開始してから前記負圧の大きさについての2回目のピークが発生した時点までの経過時間を算出する経過時間算出処理と、
前記経過時間と、該経過時間が算出された前記微分波形と対応する前記部品と前記吸着部との間の距離と、から近似関数を算出する関数算出処理と、を実行し、
前記近似関数において前記経過時間が所定の閾値となるときの前記部品と前記吸着部との間の距離に基づいて前記吸着高さ位置を決定する、
部品実装装置。 - 請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の部品実装装置であって、
外部からの入力を受け付ける入力部を備え、
前記観測処理部および前記決定処理部は、前記入力部が入力を受け付けることで、前記観測処理及び前記決定処理を実行する、
部品実装装置。 - 請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の部品実装装置であって、
前記吸着部を上下に昇降させる昇降部を備え、
前記観測処理部は、前記昇降部を制御することで、前記観測処理を、前記部品の吸引を開始するときの前記吸着部の高さを変えて複数回実行する、
部品実装装置。 - 請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の部品実装装置と、
前記部品実装装置に前記部品を供給する部品供給装置と、
前記基板を搬送方向に搬送する基板搬送装置と、
を備える表面実装機。 - 負圧によって部品をその上方から吸引することで該部品を吸着する吸着部と、前記吸着部における前記負圧の大きさを測定する測定部と、を備え、前記吸着部で吸着した前記部品を基板に実装する部品実装装置において、前記部品を前記基板に実装するために該部品を前記吸着部で吸着するときの吸着高さ位置を検出する吸着高さ位置の検出方法であって、
前記吸着部で前記部品を吸引するとともに該部品の吸引を開始してから吸引を終了するまでの間に前記測定部で測定される前記負圧の大きさの時間変化を観測する観測工程と、
前記吸着高さ位置を決定する決定工程と、を備え、
前記観測工程では、前記部品の吸引を開始するときの該部品と前記吸着部との間の距離を変えて前記負圧の大きさの時間変化の観測を複数回実行し、
前記決定工程では、前記観測工程で観測した前記負圧の大きさの時間変化に基づいて、前記吸着高さ位置を決定する吸着高さ位置の検出方法。
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