JPWO2016042823A1 - セルロースエステルフィルムおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

溶液流延製膜法によって製膜される光学フィルム（Ｆ）としてのセルロースエステルフィルムは、ジオールとジカルボン酸化合物とをエステル化反応させて重合したエステル化合物を含む。長手方向のフィルム弾性率をＧｍ（ＭＰａ）とし、前記長手方向と直交する幅手方向のフィルム弾性率をＧｔ（ＭＰａ）としたとき、Ｇｍ＋２００ＭＰａ＜Ｇｔ＜Ｇｍ＋２５００ＭＰａを満足する。また、セルロースエステルフィルムの表面と裏面とを３０ｍｍ／ｓｅｃで擦ったときの摩擦帯電圧が±３００Ｖ以内である。

Description

本発明は、溶液流延製膜法によって製膜されるセルロースエステルフィルムと、その製造方法とに関するものである。

従来、セルロースエステルフィルムは、位相差フィルムや偏光板の保護フィルムなど、液晶表示装置の部材として広く採用されている。近年、ＴＶ用途等において、多くの液晶表示装置の使用環境が多様化してきており、それに伴って高温高湿環境下でのフィルムの耐久性に対する要求品質が厳しくなってきている。

高温高湿環境下でのフィルムの耐久性を向上させるためには、フィルムを疎水化、低透湿化する方法がある。例えば特許文献１では、疎水性の高い添加剤として、ジオールとジカルボン酸化合物とをエステル化反応させて重合したエステル化合物を添加したフィルムが提案されている。

特開２０１２−１４４６２７号公報（請求項１、２等参照）

しかしながら、上記エステル化合物を添加したフィルムを液晶表示装置に組み込み、液晶表示装置を黒表示にしたときに、明るさが変化するムラがしばしば発生することがわかった。これは、上記エステル化合物を添加したフィルムは帯電しやすく、この帯電のしやすさが、黒表示のときのムラを引き起こす原因となっているためと考えられる。

本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであって、その目的は、フィルムが疎水性の高いエステル化合物を含んでいても、フィルムの帯電を抑え、これによって液晶表示装置に適用したときでも、明るさが変化するムラが発生するのを抑えることができるセルロースエステルフィルムと、その製造方法とを提供することにある。

本発明の一側面に係るセルロースエステルフィルムは、溶液流延製膜法によって製膜されるセルロースエステルフィルムであって、
ジオールとジカルボン酸化合物とをエステル化反応させて重合したエステル化合物を含み、
長手方向のフィルム弾性率をＧｍ（ＭＰａ）とし、前記長手方向と直交する幅手方向のフィルム弾性率をＧｔ（ＭＰａ）としたとき、
Ｇｍ＋２００ＭＰａ＜Ｇｔ＜Ｇｍ＋２５００ＭＰａ
を満足し、
該セルロースエステルフィルムの表面と裏面とを３０ｍｍ／ｓｅｃで擦ったときの摩擦帯電圧が±３００Ｖ以内である。

セルロースエステルフィルムが疎水性の高いエステル化合物を含んでいる構成において、該フィルムの摩擦帯電圧が±３００Ｖ以内である。この構成は、長手方向のフィルム弾性率Ｇｍと、幅手方向のフィルム弾性率Ｇｔとが所定の関係（Ｇｍ＋２００ＭＰａ＜Ｇｔ＜Ｇｍ＋２５００ＭＰａ）を満足することで実現することができる。すなわち、フィルムの幅手方向にある程度の硬さを付与することで、フィルムを巻いて保管する場合に、保管されている間のフィルムの変形が少なくなって、フィルムの表面と裏面とが擦れる度合いが減り、これによって上記の摩擦帯電圧（±３００Ｖ以内）を実現することができる。

このように、フィルムが疎水性の高いエステル化合物を含んでいる場合でも、フィルムの弾性率を適切に設定することでフィルムの帯電量を小さくできる。これにより、該フィルムを液晶表示装置に適用したときでも、明るさが変化するムラが発生するのを抑えることができる。

本発明の実施の形態に係るセルロースエステルフィルムの製造装置の概略の構成を示す断面図である。 上記セルロースエステルの摩擦帯電圧の測定方法を示す説明図である。

本発明の実施の一形態について、図面に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、本明細書において、数値範囲をＡ〜Ｂと表記した場合、その数値範囲に下限Ａおよび上限Ｂの値は含まれるものとする。また、本発明は、以下の内容に限定されるものではない。

〔フィルムの帯電と黒表示時のムラの発生について〕
本願発明者は、調査を進めた結果、疎水性の高い添加剤として、ジオールとジカルボン酸化合物とをエステル化反応させて重合したエステル化合物を含有するフィルムが帯電しやすいことに着目し、セルロースエステルフィルムの表面と裏面とを擦ったときの帯電のしやすさが、液晶表示装置を黒表示にしたときのムラの発生頻度と関係していることをつきとめ、本発明を完成するに至った。

セルロースエステルフィルムの帯電のしやすさが、ムラの発生を引き起こす理由は、以下のように推定している。セルロースエステルフィルムは、長尺方向に巻いて保管、出荷される。巻いて保管されている間に、セルロースエステルフィルムは自重により変形するが、その際にフィルム同士が擦れ、摩擦帯電が発生する。上記のエステル化合物を入れたセルロースエステルフィルムは特に高い摩擦帯電が発生すると考えられる。

その後、セルロースエステルフィルムは、偏光子と貼り合わせる偏光板加工の工程へ移るが、その貼り合わせの際に、高い摩擦帯電を内包したセルロースエステルフィルムは接着剤を局所的に弾いてしまうのではないかと考えている。そして、接着剤が局所的に弾かれた箇所は厚みムラとなり、黒表示のときにムラが目立って見えてしまうのではないかと考えている。

また、巻いて保管されている間にフィルム同士が擦れて発生する摩擦帯電は、摩擦するフィルムの表面側と裏面側とでの内部構造の違い（特にフィルム厚み方向における添加剤の偏り）が大きいと、大きくなることがわかった。本願発明者は、フィルム厚み方向の内部構造の違いは、ベルト製膜（溶液流延製膜法）におけるフィルムの両表面（金属支持体側の面／大気側の面）で乾燥のしやすさが異なることで生じると考え、より乾燥しやすい大気側の面の乾燥プロセスを制御して上記内部構造の違いを無くすことで、摩擦帯電を抑える方法を見出した。

以下、本実施形態のセルロースエステルフィルムおよびその製造方法について詳細に説明する。

〔セルロースエステルフィルム〕
本実施形態のセルロースエステルフィルムは、溶液流延製膜法によって製膜されるものであり、ジオールとジカルボン酸化合物とをエステル化反応させて重合したエステル化合物を含む。そして、長手方向のフィルム弾性率をＧｍ（ＭＰａ）とし、長手方向と直交する幅手方向のフィルム弾性率をＧｔ（ＭＰａ）としたとき、
Ｇｍ＋２００ＭＰａ＜Ｇｔ＜Ｇｍ＋２５００ＭＰａ
を満足する。また、セルロースエステルフィルムの表面と裏面とを３０ｍｍ／ｓｅｃで擦ったときの摩擦帯電圧が±３００Ｖ以内である。なお、摩擦帯電圧の測定方法については、後述する実施例にて説明する。

セルロースエステルフィルムが疎水性の高い上記のエステル化合物を含んでいても、フィルムの帯電量が小さいため、偏光板加工の際に用いる接着剤が局所的にはじかれて、偏光板に厚みムラが生じるのを抑えることができる。その結果、液晶表示装置において、黒表示のときに明るさが変化するムラが発生するのを抑えることができる。また、フィルム弾性率Ｇｍ・Ｇｔが上記の関係を満足することにより、フィルムの長手方向に巻き取りのための弾性を付与しつつ、フィルムの幅手方向にある程度の硬さを付与することができ、フィルムを巻いて保管する場合でも、保管されている間のフィルムの変形が少なくなる。これにより、巻いたフィルムの表面と裏面とが擦れる度合いが減り、摩擦帯電圧を上記の±３００Ｖ以内に抑えることが可能となる。なお、フィルムの弾性率Ｇｍ・Ｇｔは、後述する溶液流延製膜法における延伸工程での延伸倍率や乾燥温度等の制御により調整することができる。

ここで、セルロースエステルフィルムとしては、例えば、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルムが挙げられる。

セルロースエステルフィルムの市販品としては、例えばコニカミノルタタックＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ６ＵＡ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ２ＵＡ、ＫＣ４ＵＥ及びＫＣ４ＵＺ（以上、コニカミノルタ（株）製）が挙げられる。セルロースエステルフィルムの屈折率は１．４５〜１．５５であることが好ましい。屈折率は、ＪＩＳ Ｋ７１４２−２００８に準じて測定することができる。

（セルロースエステル樹脂）
セルロースエステルフィルムに含まれるセルロースエステル樹脂（以下、セルロースエステル、セルロース系樹脂ともいう）は、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。セルロースの低級脂肪酸エステルとしては、例えば、セルロースアセテート、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等や、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることができる。特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルは、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは単独或いは混合して用いることができる。

セルロースジアセテートは、平均酢化度（結合酢酸量）５１．０％〜５６．０％のものが好ましく用いられる。市販品としては、（株）ダイセル製のＬ２０、Ｌ３０、Ｌ４０、Ｌ５０、イーストマンケミカルジャパン（株）製のＣａ３９８−３、Ｃａ３９８−６、Ｃａ３９８−１０、Ｃａ３９８−３０、Ｃａ３９４−６０Ｓが挙げられる。

セルローストリアセテートは、平均酢化度（結合酢酸量）５４．０〜６２．５％のものが好ましく用いられ、更に好ましいのは、平均酢化度が５８．０〜６２．５％のセルローストリアセテートである。

セルローストリアセテートは、セルローストリアセテートＡと、セルローストリアセテートＢとを含有することが好ましい。セルローストリアセテートＡは、数平均分子量（Ｍｎ）が１２５０００以上１５５０００未満であり、重量平均分子量（Ｍｗ）が２６５０００以上３１００００未満であり、Ｍｗ／Ｍｎが１．９〜２．１であるセルローストリアセテートである。セルローストリアセテートＢは、アセチル基置換度が２．７５〜２．９０であり、Ｍｎが１５５０００以上１８００００未満であり、Ｍｗが２９００００以上３６００００未満であり、Ｍｗ／Ｍｎが１．８〜２．０であるセルローストリアセテートである。

セルロースアセテートプロピオネートは、炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をＹとしたとき、下記式（Ｉ）及び（II）を同時に満たすものであることが好ましい。
式（Ｉ） ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（II） ０≦Ｘ≦２．５

中でも、１．９≦Ｘ≦２．５、０．１≦Ｙ≦０．９であることが好ましい。

上記アシル基の置換度の測定方法は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することができる。セルロースエステルの数平均分子量（Ｍｎ）及び分子量分布（Ｍｗ）は、高速液体クロマトグラフィーを用いて測定できる。測定条件は以下の通りである。
溶媒：メチレンクロライド
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ
（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー（株）
製）Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。

（ジオールとジカルボン酸化合物との反応によるエステル化合物）
本実施形態のエステル化合物（以下、ポリエステル系ポリマーとも称する。）は、ジオールとジカルボン酸化合物とのエステル化反応によるエステル化合物である。このようなエステル化合物は特に限定されるものではないが、炭素数２〜２０の脂肪族ジカルボン酸、炭素数８〜２０の芳香族ジカルボン酸、またはその混合物と、炭素数２〜１２の脂肪族ジオール、炭素数４〜２０のアルキルエーテルジオール及び炭素数６〜２０の芳香族ジオールから選ばれる少なくとも一種類以上のジオールとの反応によって得られるものであることが好ましく、かつ反応物の両末端は反応物のままでもよいが、さらにモノカルボン酸類やモノアルコール類又はフェノール類を反応させて、所謂末端の封止を実施してもよい。この末端封止は、特にフリーなカルボン酸類を含有させないために実施されることが、保存性などの点で有効である。

本実施形態のポリエステル系ポリマーに使用されるジカルボン酸は、炭素数４〜２０の脂肪族ジカルボン酸又は炭素数８〜２０の芳香族ジカルボン酸であることが好ましく、該ジカルボン酸が脂肪族ジカルボン酸と芳香族ジカルボン酸を含有する場合は、脂肪族ジカルボン酸の割合が５５質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上であることがより好ましい。

本実施形態では、ジカルボン酸が脂肪族カルボン酸であることが特に好ましい。

本実施形態で好ましく用いられる炭素数２〜２０の脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸及び１，４−シクロヘキサンジカルボン酸が挙げられる。

また、炭素数８〜２０の芳香族ジカルボン酸としては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，８−ナフタレンジカルボン酸、２，８−ナフタレンジカルボン酸及び２，６−ナフタレンジカルボン酸等がある。

これらの中でも好ましい脂肪族ジカルボン酸としては、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸であり、芳香族ジカルボン酸としては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸である。特に好ましくは、脂肪族ジカルボン酸成分としてはコハク酸、グルタル酸、アジピン酸であり、芳香族ジカルボン酸としてはフタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸である。

本実施形態では、前述の脂肪族ジカルボン酸と芳香族ジカルボン酸のそれぞれの少なくとも一種類が組み合わせて用いられる場合は、その組み合わせは特に限定されるものではなく、それぞれの成分を数種類組み合わせても問題ない。

ポリエステル系ポリマーに利用されるジオール又は芳香族環含有ジオールは、例えば、炭素数２〜２０の脂肪族ジオール、炭素数４〜２０のアルキルエーテルジオール及び炭素数６〜２０の芳香族環含有ジオールから選ばれるものである。

炭素原子２〜２０の脂肪族ジオールとしては、アルキルジオール及び脂環式ジオール類を挙げることができ、例えば、エタンジオール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロ−ルペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等がある。これらのグリコールは、一種又は二種以上の混合物として使用される。

好ましい脂肪族ジオールとしては、エタンジオール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノールであり、特に好ましくはエタンジオール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノールである。

炭素数４〜２０のアルキルエーテルジオールとしては、好ましくは、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、ポリエチレンエーテルグリコール及びポリプロピレンエーテルグリコールならびにこれらの組み合わせが挙げられる。その平均重合度は、特に限定されないが、好ましくは２〜２０であり、より好ましくは２〜１０であり、さらには２〜５であり、特に好ましくは２〜４である。これらの例としては、典型的に有用な市販のポリエーテルグリコール類としては、カーボワックス（Ｃａｒｂｏｗａｘ）レジン、プルロニックス（Ｐｌｕｒｏｎｉｃｓ）レジン及びニアックス（Ｎｉａｘ）レジンが挙げられる。

炭素数６〜２０の芳香族ジオールとしては、特に限定されないが、ビスフェノールＡ、１，２−ヒドロキシベンゼン、１，３−ヒドロキシベンゼン、１，４−ヒドロキシベンゼン、１，４−ベンゼンジメタノールが挙げられ、好ましくはビスフェノールＡ、１，４−ヒドロキシベンゼン、１，４−ベンゼンジメタノールである。

本実施形態においては、特に末端がアルキル基あるいは芳香族基で封止されたポリエステル系ポリマーであることが好ましい。これは、末端を疎水性官能基で保護することにより、高温高湿での経時劣化に対して有効であり、エステル基の加水分解を遅延させることができるからである。

本実施形態においては、ポリエステル系ポリマーの両末端がカルボン酸やＯＨ基とならないように、モノアルコール残基やモノカルボン酸残基で保護することが好ましい。

この場合、モノアルコールとしては、炭素数１〜３０の置換、無置換のモノアルコールが好ましく、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ペンタノール、イソペンタノール、ヘキサノール、イソヘキサノール、シクロヘキシルアルコール、オクタノール、イソオクタノール、２−エチルヘキシルアルコール、ノニルアルコール、イソノニルアルコール、ｔｅｒｔ−ノニルアルコール、デカノール、ドデカノール、ドデカヘキサノール、ドデカオクタノール、アリルアルコール、オレイルアルコールなどの脂肪族アルコール、ベンジルアルコール、３−フェニルプロパノールなどの置換アルコールなどが挙げられる。

好ましく使用され得る末端封止用アルコールは、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、イソペンタノール、ヘキサノール、イソヘキサノール、シクロヘキシルアルコール、イソオクタノール、２−エチルヘキシルアルコール、イソノニルアルコール、オレイルアルコール、ベンジルアルコールであり、特にはメタノール、エタノール、プロパノール、イソブタノール、シクロヘキシルアルコール、２−エチルヘキシルアルコール、イソノニルアルコール、ベンジルアルコールである。

また、モノカルボン酸残基で封止する場合、モノカルボン酸残基として使用されるモノカルボン酸は、炭素数１〜３０の置換、無置換のモノカルボン酸が好ましい。これらは、脂肪族モノカルボン酸でも芳香族環含有カルボン酸でもよい。好ましい脂肪族モノカルボン酸について記述すると、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、カプリル酸、カプロン酸、デカン酸、ドデカン酸、ステアリン酸、オレイン酸が挙げられ、芳香族環含有モノカルボン酸としては、例えば安息香酸、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸、ｐ−ｔｅｒｔ−アミル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ一種又は二種以上を使用することができる。

本実施形態のエステル化合物の合成は、常法により上記ジカルボン酸とジオール及び／又は末端封止用のモノカルボン酸又はモノアルコール、とのポリエステル化反応又はエステル交換反応による熱溶融縮合法か、あるいはこれら酸の酸クロライドとグリコール類との界面縮合法のいずれかの方法によっても容易に合成し得るものである。これらのポリエステル系ポリマーについては、村井孝一編者「添加剤 その理論と応用」（株式会社幸書房、昭和４８年３月１日初版第１版発行）に詳細な記載がある。また、特開平０５−１５５８０９号、特開平０５−１５５８１０号、特開平５−１９７０７３号、特開２００６−２５９４９４号、特開平０７−３３０６７０号、特開２００６−３４２２２７号、特開２００７−００３６７９号の各公報などに記載されている素材を利用することもできる。

上記ポリエステル系ポリマーの数平均分子量は、５００〜２０００の範囲であることが、本実施形態の効果を得る上で好ましい。数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いて測定できる。

本実施形態のセルロースエステルフィルムにおけるエステル化合物の含有量は、１〜３５質量％であることが好ましく、特に５〜３０質量％であることが好ましい。この範囲内であれば、ブリードアウトなどもなく好ましい。

エステル化合物の添加方法は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒にエステル化合物を溶解してからドープに添加するか、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。

（可塑剤）
セルロースエステルフィルムは、必要に応じて可塑剤を含有しても良い。可塑剤としては、特に限定されないが、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、カルボン酸エステル系可塑剤、ポリエステルオリゴマー系可塑剤、糖エステル系可塑剤、含窒素芳香族化合物系可塑剤、エチレン性不飽和モノマー共重合体系可塑剤などが挙げられる。

好ましくは、フタル酸エステル系化合物、多価アルコールエステル系可塑剤、ポリエステルオリゴマー系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、糖エステル系可塑剤、含窒素芳香族化合物系可塑剤であり、より好ましくは、ポリエステルオリゴマー系可塑剤である。

特に、ポリエステルオリゴマー系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、糖エステル系可塑剤は、セルロースアシレートとの相溶性が高く、ブリードアウト低減、低ヘイズ及び低透湿度の効果が高く、また温湿度変化や経時による可塑剤の分解及びフィルムの変質や変形が生じ難いため、好ましい。同様な観点で、更には、ポリエステルオリゴマー系可塑剤及び糖エステル系可塑剤が好ましい。可塑剤は１種のみで用いてもよいし、２種以上を混合して使用することもできる。

上記の糖エステル系可塑剤で好ましいものとしては、下記一般式（１）中のフラノース構造（Ｆ）又はピラノース構造（Ｐ）を１個以上１２個以下有する化合物中の水酸基の少なくとも１つをエステル化したエステル化合物が挙げられる。

フラノース構造又はピラノース構造を１個以上１２個以下有する化合物中の水酸基の少なくとも１つをエステル化したエステル化合物としては、以下の（ｉ）（ii）のものが挙げられる。
（ｉ）フラノース構造又はピラノース構造を１個有する化合物（化合物（Ａ１））中の水酸基の全て若しくは一部をエステル化したエステル化化合物。
（ii）フラノース構造又はピラノース構造の少なくとも１種を２個以上１２個以下結合した化合物（化合物（Ｂ１））中の水酸基の全て若しくは一部をエステル化したエステル化化合物。
以下、化合物（Ａ１）のエステル化化合物、及び化合物（Ｂ１）のエステル化化合物を総称して、糖エステル化合物とも称す。

また、上記エステル化化合物が単糖類（α−グルコース、β−フルクトース）の安息香酸エステル、若しくは一般式（１）で表される単糖類の−ＯＲ^２、−ＯＲ^５、−ＯＲ^１２、−ＯＲ^１５の任意の２つ以上が脱水縮合して生成したｍ＋ｎ＝２〜１２の多糖類の安息香酸エステルであることが好ましい。なお、ｍはピラノース構造の個数を示し、ｎはフラノース構造の個数を示す。

一般式（１）中の安息香酸は、更に置換基を有していてもよく、例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシル基、フェニル基が挙げられ、更にこれらのアルキル基、アルケニル基、フェニル基は置換基を有していてもよい。

好ましい化合物（Ａ１）及び化合物（Ｂ１）の例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、これらに限定されるわけではない。

化合物（Ａ１）の例としては、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、或いはアラビノースが挙げられる。

化合物（Ｂ１）の例としては、ラクトース、スクロース、ニストース、１Ｆ−フラクトシルニストース、スタキオース、マルチトール、ラクチトール、ラクチュロース、セロビオース、マルトース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノース或いはケストース挙げられる。このほか、ゲンチオビオース、ゲンチオトリオース、ゲンチオテトラオース、キシロトリオース、ガラクトシルスクロースなども挙げられる。

これらの化合物（Ａ１）及び化合物（Ｂ１）の中で、特にフラノース構造とピラノース構造を両方有する化合物が好ましい。例としてはスクロース、ケストース、ニストース、１Ｆ−フラクトシルニストース、スタキオースなどが好ましく、更に好ましくは、スクロースである。また、化合物（Ｂ１）において、フラノース構造若しくはピラノース構造の少なくとも１種を２個以上３個以下結合した化合物であることも、好ましい態様の１つである。

化合物（Ａ１）及び化合物（Ｂ１）中の水酸基の全て若しくは一部をエステル化するのに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。

好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。

好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。

好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、アルコキシ基を導入した芳香族モノカルボン酸、ケイ皮酸、ベンジル酸、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができ、より、具体的には、キシリル酸、ヘメリト酸、メシチレン酸、プレーニチル酸、γ−イソジュリル酸、ジュリル酸、メシト酸、α−イソジュリル酸、クミン酸、α−トルイル酸、ヒドロアトロパ酸、アトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、サリチル酸、ｏ−アニス酸、ｍ−アニス酸、ｐ−アニス酸、クレオソート酸、ｏ−ホモサリチル酸、ｍ−ホモサリチル酸、ｐ−ホモサリチル酸、ｏ−ピロカテク酸、β−レソルシル酸、バニリン酸、イソバニリン酸、ベラトルム酸、ｏ−ベラトルム酸、没食子酸、アサロン酸、マンデル酸、ホモアニス酸、ホモバニリン酸、ホモベラトルム酸、ｏ−ホモベラトルム酸、フタロン酸、ｐ−クマル酸を挙げることができるが、特に安息香酸が好ましい。

上記化合物（Ａ１）及び化合物（Ｂ１）をエステル化したエステル化化合物の中では、エステル化によりアセチル基が導入されたアセチル化化合物が好ましい。

これらアセチル化化合物の製造方法としては、例えば、特開平８−２４５６７８号公報に記載されている方法を用いることができる。

上記化合物（Ａ１）及び化合物（Ｂ１）のエステル化化合物に加えて、オリゴ糖のエステル化化合物を、フラノース構造若しくはピラノース構造の少なくとも１種を３〜１２個結合した化合物として適用できる。

オリゴ糖は、澱粉、ショ糖等にアミラーゼ等の酵素を作用させて製造されるもので、本実施形態に適用できるオリゴ糖としては、例えば、マルトオリゴ糖、イソマルトオリゴ糖、フラクトオリゴ糖、ガラクトオリゴ糖、キシロオリゴ糖が挙げられる。オリゴ糖も上記化合物（Ａ１）及び化合物（Ｂ１）と同様な方法でアセチル化できる。

（偏光子耐久性改良剤）
本実施形態のセルロースエステルフィルムは、偏光板保護フィルムに適用したときに高温高湿下での偏光子の偏光子の劣化を抑制し、その耐久性を改良する観点から、下記一般式（２）で表される化合物を含むことが望ましい。

一般式（２）において、Ｒ^３１はアルキル基、アルケニル基又はアリール基を表し、Ｒ^３２及びＲ^３３はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ^３４は水素原子を表す。Ｒ^３１、Ｒ^３２、及びＲ^３３はそれぞれ独立に置換基を有していてもよい。ただし、Ｒ^３１、Ｒ^３２及びＲ^３３のいずれか少なくとも１つは芳香環を含む。

前記Ｒ^３１は炭素数１〜２０のアルキル基（シクロアルキル基も含む）、炭素数２〜２０のアルケニル基又は炭素数６〜２０のアリール基であることが好ましく、炭素数１〜１２のアルキル基（シクロアルキル基も含む）、炭素数２〜２０のアルケニル基又は炭素数６〜２０のアリール基であることがより好ましく、炭素数が１〜１２のアルキル基（シクロアルキル基も含む）、炭素数２〜１０のアルケニル基又は炭素数６〜１８のアリール基であることが更に好ましく、炭素数が１〜８のアルキル基（シクロアルキル基も含む）、炭素数２〜５のアルケニル基又は炭素数６〜１２のアリール基であることが特に好ましく、炭素数が１〜６であるアルキル基（シクロアルキル基も含む）、又は炭素数６〜１２のアリール基であることが最も好ましい。

中でも、メチル基、エチル基、プロピル基、シクロヘキシル基、フェニル基又はナフチル基であることが更に好ましく、メチル基、シクロヘキシル基又はフェニル基であることが最も好ましい。

前記Ｒ^３２及びＲ^３３はそれぞれ独立して炭素数１〜２０のアルキル基（シクロアルキル基も含む）、炭素数２〜２０のアルケニル基または炭素数６〜２０のアリール基又は炭素数６〜２０のヘテロアリール基であることが好ましく、炭素数１〜１２のアルキル基（シクロアルキル基も含む）、炭素数２〜２０のアルケニル基または炭素数６〜２０のアリール基がより好ましく、炭素数が１〜１２のアルキル基（シクロアルキル基も含む）、炭素数２〜１０のアルケニル基又は炭素数６〜１８のアリール基であることが更に好ましく、炭素数が１〜８のアルキル基（シクロアルキル基も含む）、炭素数２〜５のアルケニル基又は炭素数６〜１２のアリール基であることが特に好ましく、炭素数が１〜６であるアルキル基（シクロアルキル基も含む）、又は炭素数６〜１２のアリール基であることが最も好ましい。

中でも、メチル基、エチル基、プロピル基、シクロヘキシル基またはフェニル基、ナフチル基であることが最も好ましく、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はフェニル基であることが特に好ましい。

前記Ｒ^３１が有していてもよい置換基としては、本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限はないが、ハロゲン原子、アルキル基、又はアリール基であることが好ましく、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、又は炭素数６〜１２のアリール基であることがより好ましく、塩素原子、メチル基、又はフェニル基であることが特に好ましい。

前記Ｒ^３２及びＲ^３３が有していてもよい置換基としては、本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限はないが、炭素数６〜１２のアリール基であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。

上記一般式（２）で表される化合物として、下記一般式（２−ａ）で表される化合物を用いることができる。一般式（２−ａ）で表される化合物は、製膜時の揮散抑制の観点で好ましい。

上記一般式（２−ａ）中、Ｌ^１〜Ｌ^３は、各々独立に、単結合又はアルキレン基を表し、Ａｒ^１〜Ａｒ^３は、各々独立に、炭素数６〜２０のアリール基を表す。

Ｌ^１〜Ｌ^３は、単結合又は炭素数１〜６のアルキレン基であることがより好ましく、単結合、メチレン基又はエチレン基であることが更に好ましく、単結合又はメチレン基であることが特に好ましい。前記２価の連結基は置換基を有していてもよく、当該置換基は、後述するＡｒ^１、Ａｒ^２、及びＡｒ^３が有しうる置換基と同義である。

Ａｒ^１〜Ａｒ^３は、好ましくはフェニル基、ナフチル基であり、更に好ましくはフェニル基である。Ａｒ^１〜Ａｒ^３は置換基を有していてもよく、置換基を有していなくてもよい。置換基を有する場合、当該置換基は環構造を有さないことが好ましい。

Ａｒ^１、Ａｒ^２、及びＡｒ^３が有する置換基としては、特に制限はなく、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０で、例えばメチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘプチル、１−エチルペンチル、ベンジル、２−エトキシエチル、１−カルボキシメチル等）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０で、例えば、ビニル、アリル、オレイル等）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０で、例えば、エチニル、ブタジイニル、フェニルエチニル等）、シクロアルキル基（好ましくは炭素数３〜２０で、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、４−メチルシクロヘキシル等）、アリール基（好ましくは炭素数６〜２６で、例えば、フェニル、１−ナフチル、４−メトキシフェニル、２−クロロフェニル、３−メチルフェニル等）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数０〜２０のヘテロ環基で、環構成ヘテロ原子が酸素原子、窒素原子、硫黄原子が好ましく、５または６員環でベンゼン環やヘテロ環で縮環していてもよく、該環が飽和環、不飽和環、芳香環であってもよく、例えば、２−ピリジル、４−ピリジル、２−イミダゾリル、２−ベンゾイミダゾリル、２−チアゾリル、２−オキサゾリル等）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロピルオキシ、ベンジルオキシ等）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２６で、例えば、フェノキシ、１−ナフチルオキシ、３−メチルフェノキシ、４−メトキシフェノキシ等）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、メチルチオ、エチルチオ、イソプロピルチオ、ベンジルチオ等）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２６で、例えば、フェニルチオ、１−ナフチルチオ、３−メチルフェニルチオ、４−メトキシフェニルチオ等）、アシル基（アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基を含み、炭素数は２０以下が好ましく、例えば、アセチル、ピバロイル、アクリロイル、メタクロロイル、ベンゾイル、ニコチノイル等）、アリーロイルアルキル基、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０で、例えば、エトキシカルボニル、２−エチルヘキシルオキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０で、例えば、フェニルオキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等）、アミノ基（アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含み、好ましくは炭素数０〜２０で、例えば、アミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、アニリノ、１−ピロリジニル、ピペリジノ、モルホニル等）、スルホンアミド基（好ましくは炭素数０〜２０で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルホンアミド、Ｎ−フェニルスルホンアミド等）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル等）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル等）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、アセチルアミノ、アクリロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、ニコチンアミド等）、シアノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基またはハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）が挙げられる。

Ａｒ^１、Ａｒ^２、及びＡｒ^３が有しうる上記置換基は、さらに上記置換基を有していてもよい。

ここで、Ａｒ^１、Ａｒ^２、及びＡｒ^３の各基が有してもよい上記の置換基のうち、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシル基が好ましい。

前記一般式（２）又は（２−ａ）で表される化合物の分子量は２５０〜１２００であることが好ましく、３００〜８００であることがより好ましい。分子量が２５０以上であれば、フィルムからの揮散が抑制され、１２００以下であれば、セルロースアシレートとの相溶性に優れるため、フィルムの透明性が良好となる。

以下に、前記一般式（２）又は（２−ａ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。下記例示化合物中、Ｍｅはメチル基を表す。

上記一般式（２）で表される化合物は、尿素誘導体とマロン酸誘導体とを縮合させるバルビツール酸の合成法を用いて合成できることが知られている。Ｎ上に置換基を２つ有するバルビツール酸は、Ｎ，Ｎ’二置換型尿素とマロン酸クロリドを加熱するか、マロン酸と無水酢酸などの活性化剤とを組み合わせて加熱することにより得られ、例えば、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ、第６１巻、１０１５頁（１９３９年）、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第５４巻、２４０９頁（２０１１年）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ、第４０巻、８０２９頁（１９９９年）、ＷＯ２００７／１５００１１号公報などに記載の方法を好ましく用いることができる。

また、縮合に用いるマロン酸は、無置換のものでも置換基を有するものでもよく、Ｒ^５に相当する置換基を有するマロン酸を用いれば、バルビツール酸を構築することにより、一般式（２）で表される化合物を合成することができる。また、無置換のマロン酸と尿素誘導体を縮合させると５位が無置換のバルビツール酸が得られるので、これを修飾することにより、一般式（２）で表される化合物を合成してもよい。

なお、一般式（２）で表される化合物の合成法は、上記の方法に限定されるものではない。

一般式（２）で表される化合物は、商業的に入手してもよく、公知の方法によって合成してもよい。

（偏光子耐久性改良剤の含有量）
保護フィルムにおける偏光子耐久性改良剤の含有量は、セルロースアシレート１００質量部に対して１質量部以上２０質量部であることが好ましい。１質量部以上であれば、偏光子耐久性改良効果が得られやすく、また２０質量部以下であれば、偏光板保護フィルムを製膜した場合にブリードアウトや染み出しも発生しにくい。

偏光子耐久性改良剤の含有量は、セルロースアシレート１００質量部に対して１〜１５質量部であることがより好ましく、１〜１０質量部であることが特に好ましい。

（マット剤）
セルロースエステルフィルムには、マット剤として微粒子を含有させることができる。これにより、フィルムが長尺の場合、搬送や巻き取りをしやすくすることができる。マット剤の粒径は１０ｎｍ〜０．１μｍの１次粒子もしくは２次粒子であることが好ましい。１次粒子の針状比が１．１以下の略球状のマット剤が好ましく用いられる。微粒子としては、ケイ素を含むものが好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。本実施形態に好ましい二酸化珪素の微粒子としては、例えば、日本アエロジル（株）製のアエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されているものを挙げることができ、アエロジル２００Ｖ、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２を好ましく用いることができる。ポリマーの微粒子の例として、シリコーン樹脂、弗素樹脂およびアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０および同２４０（東芝シリコーン（株）製）を挙げることができる。

（その他）
セルロースエステルフィルムには、必要に応じて、紫外線吸収剤、酸化防止剤、界面活性剤、剥離促進剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、油剤等を添加するようにしてもよい。

〔セルロースエステルフィルムの製造方法〕
図１は、セルロースエステルフィルムの製造装置の概略の構成を示す断面図である。本実施形態のセルロースエステルフィルムは、上記製造装置を用い、溶液流延製膜法によって製造することが可能である。溶液流延製膜法とは、ポリマーと溶媒とを含むドープを、走行する支持体上に流延ダイから流延して支持体上で乾燥させ、流延膜（ウェブ）を支持体から剥離した後、ウェブを延伸、乾燥させてフィルムを得る手法のことである。以下、セルロースエステルフィルムの製造方法の詳細について説明する。

（ドープ調製工程）
図１において、まず、溶解釜１で、セルロースエステル樹脂を、良溶媒および貧溶媒の混合溶媒に溶解し、これに可塑剤やマット剤等の添加剤を添加して樹脂溶液（ドープ）を調製する。

ここで、良溶媒とは、セルロースエステル樹脂を溶解させる性質（溶解性）を有する有機溶媒を言う。良溶媒の例としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類、蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、γ−ブチロラクトン等のエステル類の他、メチルセロソルブ、ジメチルイミダゾリノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、ジメチルスルフォキシド、スルホラン、ニトロエタン、塩化メチレン、アセト酢酸メチルなどが挙げられるが、１，３−ジオキソラン、ＴＨＦ、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸メチルおよび塩化メチレンが好ましい。

ドープには、上記有機溶媒の他に、炭素原子数１〜４のアルコールを含有させることが好ましい。これらは、ドープを金属支持体６上に流延した後、溶媒が蒸発し始めてアルコールの比率が多くなることで、ドープをゲル化させ、ウェブを丈夫にして、金属支持体６から剥離することを容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらの割合が少ないときは、非塩素系有機溶媒に対するセルロースエステル樹脂の溶解を促進したりする役割もある。

炭素原子数１〜４のアルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルを挙げることができる。これらのうち、ドープの安定性に優れ、沸点も比較的低く、乾燥性も良く、かつ毒性がないことなどからエタノールが好ましい。これらの有機溶媒は、単独ではセルロースエステル樹脂を溶解させる性質を有しておらず、貧溶媒という。

ドープ中の良溶媒に対する貧溶媒の比率は、８質量％以上１３質量％以下であることが好ましい。上記比率が８質量％以上であると、ドープがゲル化しやすくなり、ウェブが丈夫になって高い弾性率が得られやすいため、フィルムの摩擦帯電圧を抑える本実施形態の効果が大きくなる。しかし、上記比率が１３質量％を超えると、ドープが必要以上にゲル化してしまい、平面性が劣化したり、設備トラブルが発生する恐れがある。

また、ドープの固形分濃度は、１３質量％以上１８質量％以下であることが好ましい。この範囲にすることによって、後述する乾燥温度の調整による、フィルムの表面側および裏面側での内部構造の差を無くす効果が大きくなり、フィルムの摩擦帯電圧を抑える効果が大きくなる。

（流延、乾燥、剥離工程）
この工程では、セルロースエステル樹脂を含む上述のドープを、金属支持体６上に流延し、金属支持体６で搬送しながら乾燥させて形成した流延膜としてのウェブ９を金属支持体６から剥離する。より具体的には、以下の通りである。

まず、溶解釜１で調整されたドープを、加圧型定量ギヤポンプ２を通して、導管によって流延ダイ３に送液する。そして、無限に移送する回転駆動ステンレス鋼製エンドレスベルトよりなる金属支持体６上の流延位置に、流延ダイ３からドープを流延し、これによって金属支持体６上にウェブ９を形成する。このとき、流延ダイ３に対して、走行する金属支持体６の移動方向の上流側には減圧チャンバ４が配置されており、減圧チャンバ４によって流延ダイ３の上流側の空間を減圧しながら、流延ダイ３から金属支持体６上にドープを流延する。

流延ダイ３によるドープの流延には、流延されたドープ（ウェブ）をブレードで膜厚調節するドクターブレード法、流延されたウェブを逆回転するロールで膜厚調節するリバースロールコーターによる方法、加圧ダイを用いる方法等がある。その中でも、口金部分のスリット形状を調整でき、膜厚を均一にしやすい等の理由から、加圧ダイを用いる方法が好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやＴダイ等があり、何れも好ましく用いることができる。

金属支持体６は、前後一対のドラム５・５および中間の複数のロール（不図示）により保持されている。ドラム５・５の一方または両方に、金属支持体６に張力を付与する駆動装置（不図示）が設けられており、これによって金属支持体６は張力が掛けられて張った状態で使用される。

金属支持体６の幅は１０００〜３０００ｍｍ、後述する巻き取り装置１３での巻き取り後のフィルムの幅は１０００〜２５００ｍｍであることが好ましい。これにより、金属支持体方式によって幅の広い液晶表示装置用の光学フィルム（セルロースエステルフィルム）を製造することができる。

金属支持体６上に流延されたドープにより形成されたウェブ９を、金属支持体６上で加熱し、金属支持体６から剥離ロール８によってウェブが剥離可能になるまで溶媒を蒸発させる。

溶媒を蒸発させるには、ウェブの表面（大気側）から乾燥風を吹き付ける方法、ウェブの表面から赤外線または遠赤外線を照射する方法や、金属支持体６の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があり、適宜、単独であるいは組み合わせて用いればよい。

金属支持体６としてエンドレスベルトを用いる場合の製膜時のベルト温度は、一般的な温度範囲では０℃〜溶媒の沸点未満の温度であるが、混合溶媒では最も沸点の低い溶媒の沸点未満の温度であることが好ましく、さらには５℃〜溶媒沸点−５℃の範囲がより好ましい。このとき、周囲の雰囲気湿度は露点以上に制御する必要がある。

このようにして金属支持体６上に流延されたドープは、剥ぎ取りまでの間で乾燥が促進されることによってもゲル膜の強度（フィルム強度）が増加する。

金属支持体６上にドープを流延してからウェブ９を剥離するまでの時間は、３０秒以上１００秒以下であることが望ましい。３０秒より短い乾燥時間では、高温乾燥が必要になり、ウェブ９における添加剤の膜厚方向（特に金属支持体６方向）への移動が促進されてしまう。また、１００秒より長い乾燥時間では、膜厚方向の添加剤の移動が進み、ウェブ９における金属支持体６側とそれとは反対側（大気に接する側）とで、添加剤量の差が大きくなり、得られるフィルムの帯電量が大きくなってしまうものと考えられる。

また、ドープを流延してからウェブ９を剥離するまでの間に、金属支持体６上のウェブ９の表面上からウェブ９に与える温度を、後半ほど低くすることが好ましい。このように乾燥温度（ウェブ９の加熱温度）を制御することにより、フィルムの表面側と裏面側とでの内部構造の違いを小さくして、フィルムの摩擦帯電を抑えることができる。その理由は、以下のように考えている。

乾燥の前半は、乾燥温度を高くすることによってドープ（ウェブ９）を一気に乾燥させることにより、ウェブ９の大気側の表層を固化させて、添加剤の移動を抑えることができる。一方、乾燥の後半は、温度を低くして緩慢に乾燥させることにより、膜の中央から金属支持体６側の面にかけてドープの流れを循環させて添加剤の分布を膜厚方向に均一化することができる。それにより、結果として、フィルムの厚み方向における内部構造の違いを小さくできると推定している。

また、温度変更については、乾燥初期から少なくとも２つ以上の段階を経て下げることが好ましい。急激な温度変更を１つの段階で行うと、添加剤の膜厚方向の移動が起きやすくなるため、フィルムの摩擦帯電を抑える本実施形態の効果が乏しくなる。このときの温度変更における温度の下げ幅は、１段階ごとに、３℃以上１５℃以下とすることが好ましい。

以上より、ドープを流延してからウェブ９を剥離するまでの間に、金属支持体６上のウェブ９の表面上からウェブ９に与える温度を、乾燥初期から少なくとも２回（温度変化は前半、中間、後半の少なくとも３回）、ウェブ９の乾燥が進むにつれて段階的に順次下げることが好ましいと言える。

本実施形態では、上記のようにウェブ９の表面上からウェブ９に与える温度を制御するため、金属支持体６の温度を、ウェブ９の表面上からウェブ９に与える温度の変化に対応して、搬送方向下流側に向かうにつれて段階的に順次下げることが望ましい。本実施形態では、金属支持体６の温度は、ウェブ９の表面上からウェブ９に与える温度よりも低く、かつ、ウェブ９の表面上からウェブ９に与える温度との差が一定（例えば５℃）となるように制御される。

金属支持体６上では、金属支持体６から剥離ロール８によって剥離可能な膜強度となるまでウェブ９を乾燥固化させるため、ウェブ９中の残留溶媒量は２００質量％以下であることが好ましい。特に、金属支持体６からウェブを剥離するときの残留溶媒量は、９０質量％以上１３０質量％以下であることが好ましい。この範囲にすることによって、上記した乾燥温度の調整による、フィルムの厚さ方向の内部構造の差を無くす効果が大きくなる。

ここで、残留溶媒量は、下記の式で表される。
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
ただし、式中、Ｍはウェブの任意時点での質量、Ｎは質量Ｍのものを温度１１０℃で、３時間乾燥させたときの質量である。

金属支持体６からウェブ９を剥離ロール８によって剥離する際の剥離張力は、ＪＩＳ Ｚ ０２３７のような剥離力測定で得られる剥離力よりも大きいが、これは高速製膜時に、剥離張力をＪＩＳ測定法で得られた剥離力と同等にすると、剥離位置が下流側に持っていかれたりする場合があるため、安定化のため高めで行っている。なお、工程で同じ剥離張力で製膜していても、ＪＩＳ測定方法による剥離力が下がると、フィルムのクロスニコル透過率（ＣＮＴ）のバラツキが大きく低減することも確かめられている。

工程での剥離張力値としては、通常、２０〜４００Ｎ／ｍであるが、従来よりも薄膜化して作製する光学フィルムでは、剥離の際にウェブ９の残留溶媒量が多く、搬送方向に伸びやすいために、幅手方向にフィルムは縮みやすく、乾燥と縮みが重なると、端部がカールし、折れ込むことにより、シワが入りやすい。このため、剥離張力は、剥離できる最低張力〜３００Ｎ／ｍであることが好ましく、さらに好ましくは、最低張力〜２００Ｎ／ｍである。

（延伸工程）
この工程では、金属支持体６から剥離されたウェブ９を、テンター１０によって延伸する。なお、テンター１０内では、延伸に加えて乾燥を行ってもよい。

延伸工程では、液晶表示装置用フィルムの製膜においては、ウェブ９の両側縁部をクリップ等で固定して延伸するテンター方式が、フィルムの平面性や寸法安定性を向上させるために好ましい。

延伸工程のテンター１０に入る直前のウェブ９の残留溶媒量、すなわち、延伸開始時のウェブ９の残留溶媒量は、１５質量％以上３０質量％以下であることが好ましい。延伸時にもウェブ９の膜内で添加剤の膜厚方向の移動が起こることがわかっているが、上記残留溶媒量が１５質量％以上であれば、添加剤の移動が促進されやすい。金属支持体６上でのウェブ９の乾燥時とは異なり、延伸時においては、ウェブ９の両表面は同じ伝熱条件であるため（ウェブ９の表面および裏面はどちらも大気と接しているため）、上記の添加剤の移動によって、フィルムの厚さ方向の内部構造の差が解消される。しかしながら、上記残留溶媒量が３０質量％を超えてしまうと、ウェブ９の両端をクリップ部が把持していることから、ウェブ９の変形が起きやすくなり、平面性が悪化してしまう恐れがある。

（乾燥工程）
延伸工程のテンター１０の後には、乾燥装置１１を設けることが好ましい。乾燥装置１１内では、側面から見て千鳥状に配置された複数の搬送ロールによってウェブ９が蛇行させられ、その間にウェブ９が乾燥される。ウェブ９を乾燥させる手段は、特に制限はなく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行う。簡便さの点から熱風で乾燥するのが好ましい。例えば、乾燥装置１１の温風入口から乾燥風１２を吹き込み、乾燥装置１１の出口から排気風を排出することでウェブ９を乾燥させ、光学フィルムＦ（セルロースエステルフィルム）とすることができる。乾燥風１２の温度は４０〜１６０℃であることが好ましく、５０〜１６０℃であることが、平面性、寸法安定性を良くするためさらに好ましい。

これら流延から搬送乾燥までの工程は、空気雰囲気下でもよいし、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下でもよい。この場合、乾燥雰囲気を溶媒の爆発限界濃度を考慮して実施することは勿論のことである。

延伸後のフィルム（光学フィルムＦ）の少なくとも片面の表面粗さは、２．３ｎｍ以上３．０ｎｍ以下であることが好ましい。上記表面粗さが２．３ｎｍ以上の場合、摩擦の時の表面接触面積が小さいため、摩擦帯電が小さくなる。ただし、上記表面粗さが３．０ｎｍを超えると、フィルムが白濁して見えるため、好ましくない。上記表面粗さは、テンター１０での延伸倍率と温度とを制御することによって調整することができる。

上記表面粗さは、光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えばＷＹＫＯ社製ＮＴ３３００を用いて測定することができる。ＷＹＫＯ社製ＮＴ３３００を用いた場合、例えば対物レンズ５０倍、イメージズーム１．０倍で１２０μｍ×９０μｍの領域の表面を測定することによって求めることができる。本明細書において、表面粗さとは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１において定義される算術平均粗さ（Ｒａ）パラメータである。

乾燥工程を終えた光学フィルムＦに対し、次の巻取工程に導入する前に、巻取工程での巻きずれやブロッキング（フィルム同士の貼り付き）を防止するために、光学フィルムＦの端部に多数の凹凸を有するエンボス部を形成するのが好ましい。

（巻取工程）
最後に、延伸後のフィルムを巻き取り装置１３によって巻き取り、元巻を得る。フィルムの巻き取り長さが５０００ｍ以上１００００ｍ未満であると、巻いて保管されている間にフィルムが自重により変形しやすく、その際にフィルム同士が擦れて摩擦帯電が発生やすくなる。したがって、フィルムの摩擦帯電を抑えるべく、上述のように金属支持体６上でのウェブ９の乾燥温度を制御する本実施形態の手法は、フィルムの巻き取り長さが５０００ｍ以上１００００ｍ未満である場合に特に有効となる。

〔実施例〕
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

［酸化ケイ素分散液の調製］
アエロジルＲ８１２ １ｋｇ
エタノール ７ｋｇ
以上をディゾルバで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリン型高圧分散装置を用いて分散を行い、酸化ケイ素分散液を調製した。

［マット剤微粒子分散液Ａの調製］
上記酸化ケイ素分散液に、メチレンクロライド７ｋｇを撹拌しながら加え、さらに３０分間撹拌し、マット剤微粒子分散液Ａを調製した。

［ドープ原液の調製］
メチレンクロライド（ＢＰ＝４０．４℃） ５４９ｋｇ
エタノール ５４ｋｇ
トリアセチルセルロース（アセチル置換度２．８５） １００ｋｇ
添加剤（エステル化合物Ａ） １１．５ｋｇ
チヌビン９２８ ２．８ｋｇ
マット剤微粒子分散液Ａ ５．２ｋｇ
上記の有機溶媒を密閉容器に投入し、攪拌しながら残りの素材を投入し、加熱、撹拌しながら、加圧状態にして完全に溶解し、ドープ原液を調製した。なお、エステル化合物Ａは、ジカルボン酸としてアジピン酸／テレフタル酸＝７／３、ジオールとしてエチレングリコールを用いた重縮合エステル（両末端：アセチル基封止、数平均分子量：Ｍｗ＝１０００）を用いた。

［ドープＡの調製］
流延温度まで、上記ドープ原液の温度を下げて一晩静置し、脱泡操作を施した後、溶液を安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、ドープＡを調製した。ドープＡの固形分濃度は、１６．０質量％であり、ドープ中の良溶媒に対する貧溶媒の比率は、９．０質量％であった。

［セルロースエステルフィルム１の作製］
次に、図１で示した製造装置を用い、セルロースエステルフィルム１を製造した。具体的には、ドープＡを３５℃で、ステンレスベルトからなる金属支持体６上に流延ダイ３から乾燥膜厚が６０μｍになるように均一に押出し、流延した。ここで、金属支持体６上での流延から剥離までの乾燥ゾーンを、搬送方向に沿って、前半の乾燥ゾーン、中間の乾燥ゾーン、鋼板の乾燥ゾーンの３つに分ける。前半、中間、後半の各乾燥ゾーンにおける、金属支持体６上のウェブ９に与える乾燥風温度、金属支持体６の温度、加熱時間を、表１に示す温度および時間に制御して、金属支持体６上のウェブ９を加熱乾燥させた。

その後、剥離付近の金属支持体６の温度を１０℃とし、表１に示した流延から剥離までの時間及び剥離時の残留溶媒量でウェブ９を剥離した。そして、剥離したウェブ９を、１４０℃に維持されたテンター１０内で両端を把持しながら搬送し、延伸開始時の残留溶媒量が２０質量％で、幅手方向の延伸倍率が１．２倍となるようにウェブ９を延伸し、残留溶媒量が５質量％となるまでウェブ９を乾燥させた。

次いで、１３０℃に維持された乾燥装置１１内で、ウェブ９をロール搬送して残留溶媒量が０．１質量％となるまで乾燥させて、光学フィルムＡとして、乾燥膜厚６０μｍのセルロースエステルフィルム１を作製し、巻き取り装置１３で巻き取った。セルロースエステルフィルム１の巻き長さは、５２００ｍであった。また、巻き取り直前のセルロースエステルフィルム１の平均表面粗さは、エア面（金属支持体６への流延時に大気と接触していた側の面）で２．７ｎｍであり、金属支持体面（流延時に金属支持体６と接触していた側の面）で２．６ｎｍであった。

［セルロースエステルフィルム２〜４７の作製］
金属支持体６上のウェブ９に与える乾燥風温度等を表１および表２に示す条件に変更した以外は、上記したセルロースエステルフィルム１の作製と同様にして、セルロースエステルフィルム２〜４７を作製した。

なお、セルロースエステルフィルム２０〜３０に含まれるエステル化合物Ｂは、ジカルボン酸としてアジピン酸／フタル酸＝５／５、ジオールとして１，２プロパンジオールを用いた重縮合エステル（両末端：安息香酸封止、数平均分子量：Ｍｗ＝１０００）を用いた。

また、セルロースエステルフィルム３９に含まれる化合物１としては、化５のＡ−４で示される化合物を用い、セルロースエステルフィルム４０に含まれる化合物２としては、糖エステルのスクロースベンゾエート（平均エステル置換度５．５）を用いた。また、セルロースエステルフィルム４１〜４７の弾性率は、テンター１０内の温度と延伸倍率とを変更することによって変化させた。

フィルムの弾性率は、２５℃６０％ＲＨ下で２４時間調湿した後、ＪＩＳ Ｋ７１２７に記載の方法に従って測定した。引張り試験機は、（株）オリエンテック製テンシロンを用いて測定した。

［セルロースエステルフィルム４８〜５５の作製］
ドープ原液の調製において、メチレンクロライドとエタノールの量を変更することにより、固形分濃度、または良溶媒と貧溶媒の比率を表３のように変更した以外は、セルロースエステルフィルム１の作製と同様にして、セルロースエステルフィルム４８〜５５を作製した。

［セルロースエステルフィルム５６〜６１の作製］
延伸開始までの乾燥時間を調整することにより、延伸開始時の残留溶媒量を表３のように変更した以外は、セルロースエステルフィルム１の作製と同様にして、セルロースエステルフィルム５６〜６１を作製した。

［セルロースエステルフィルム６２〜６９の作製］
テンター１０内の温度と延伸倍率を変更することにより、表３のように表面粗さを変更した以外は、セルロースエステルフィルム１の作製と同様にして、セルロースエステルフィルム６２〜６９を作製した。

［偏光板１０１の作製］
セルロースエステルフィルム１を偏光膜の一方の面に貼り付け、市販品の光学フィルムであるＫＣ４ＵＺ（コニカミノルタ社製）を偏光膜の他方の面に貼り付けて、偏光板１０１を作製した。より詳しくは、以下の通りである。

（ａ）偏光膜の作製
けん化度９９．９５モル％、重合度２４００のポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡと略記する）１００質量部に、グリセリン１０質量部、及び水１７０質量部を含浸させたものを溶融混練し、脱泡後、Ｔダイから金属ロール上に溶融押出し、製膜した。その後、乾燥・熱処理してＰＶＡフィルムを得た。得られたＰＶＡフィルムは、平均厚みが１５μｍ、水分率が２．４％、フィルム幅が３ｍであった。

次に、得られたＰＶＡフィルムを、予備膨潤、染色、湿式法による一軸延伸、固定処理、乾燥、熱処理の順番で、連続的に処理して、偏光膜を作製した。すなわち、ＰＶＡフィルムを温度３０℃の水中に３０秒間浸して予備膨潤し、ヨウ素濃度０．４ｇ／リットル、ヨウ化カリウム濃度４０ｇ／リットルの温度３５℃の水溶液中に３分間浸した。続いて、ホウ酸濃度４％の５０℃の水溶液中でフィルムにかかる張力が７００Ｎ／ｍの条件下で、６倍に一軸延伸を行い、ヨウ化カリウム濃度４０ｇ／リットル、ホウ酸濃度４０ｇ／リットル、塩化亜鉛濃度１０ｇ／リットルの温度３０℃の水溶液中に５分間浸漬して固定処理を行った。その後、ＰＶＡフィルムを取り出し、温度４０℃で熱風乾燥し、更に温度１００℃で５分間熱処理を行った。得られた偏光膜は、平均厚みが５μｍ、偏光性能は透過率が４３．０％、偏光度が９９．５％、２色性比が４０．１であった。

（ｂ）偏光板の作製
下記工程１〜５に従って偏光板を作製した。

工程１：前述の偏光膜を、固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤溶液の貯留槽中に１〜２秒間浸漬した。

工程２：セルロースエステルフィルム１及びＫＣ４ＵＺに対して、下記条件でアルカリ鹸化処理を実施した。次いで、工程１でポリビニルアルコール接着剤溶液に浸漬した偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く取り除き、この偏光膜をセルロースエステルフィルム１とＫＣ４ＵＺとで挟み込んで積層配置した。
（アルカリ鹸化処理）
ケン化工程 ４Ｍ−ＫＯＨ ５０℃ ４５秒
水洗工程 水 ３０℃ ６０秒
中和工程 １０質量部ＨＣｌ ３０℃ ４５秒
水洗工程 水 ３０℃ ６０秒
ケン化処理後、水洗、中和、水洗の順に行い、次いで１００℃で乾燥する。

工程３：上記の積層物を、２つの回転するローラにて挟み込み、２０〜３０Ｎ／ｃｍ^２の圧力で約２ｍ／ｍｉｎの速度で貼り合わせた。このとき、気泡が入らないように注意して実施した。

工程４：工程３で作製した試料を、温度１００℃の乾燥機中にて５分間乾燥処理し、偏光板を作製した。

工程５：工程４で作製した偏光板のセルロースエステルフィルム１側に市販のアクリル系粘着剤を乾燥後の厚みが５μｍとなるように塗布し、１１０℃のオーブンで５分間乾燥して粘着層を形成し、粘着層に剥離性の保護フィルムを貼り付けた。この偏光板を裁断（打ち抜き）し、偏光板１０１を作製した。

［偏光板１０２〜１６９の作製］
セルロースエステルフィルム１をセルロースエステルフィルム２〜６９に変更した以外は、偏光板１０１の作製と同様にして、偏光板１０２〜１６９を作製した。

［液晶表示装置２０１の作製］
ＩＰＳモードの液晶表示装置（ＬＧＤ製 ４２ＬＳ５６００）の上側偏光板を剥し、粘着層の保護フィルムを剥離して、偏光板１０１を上側偏光板として液晶セルに貼り合わせた。このとき、上側偏光板（偏光板１０１）の透過軸が上下方向に、そして下側偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置した。

［液晶表示装置２０２〜２６９の作製］
偏光板１０１を偏光板１０２〜１６９に変更した以外は、液晶表示装置２０１の作製と同様にして、液晶表示装置２６９を作製した。

≪評価≫
（摩擦帯電圧の測定）
作製したセルロースエステルフィルム１〜６９について、以下の手法で摩擦帯電圧を測定した。すなわち、測定サンプル（セルロースエステルフィルム１〜６９）を、予め２５℃５５％ＲＨの環境下で６時間以上放置し、その後、それぞれの測定サンプルを２つのフィルム片Ｆ１・Ｆ２に分けた。そして、図２のように、一方のフィルム片Ｆ１を直径５ｃｍの絶縁体のロールＲ１の周面全体に巻き付けた。このとき、フィルム片Ｆ１のエア面が外側となるように（金属支持体面がロールＲ１の周面と接触するように）した。そして、もう一方のフィルム片Ｆ２（幅手の長さ１０ｃｍ）もロールＲ１の周面に被せて、フィルム片Ｆ２が地面と水平から垂直に垂れ下がるようにする。このとき、フィルム片Ｆ２のエア面が外側となるように（フィルム片Ｆ２の金属支持体面がロールＲ１に巻かれたフィルム片Ｆ１のエア面と接触するように）する。なお、フィルム片Ｆ１・Ｆ２のエア面とは、金属支持体へのドープの流延時に大気と接触していた側の面（金属支持体との接触側とは反対側の面）を指し、金属支持体面とは、同じく流延時に金属支持体と接触していた側の面を指す。

この状態で、ロールＲ１に被せたフィルム片Ｆ２の地面と水平な部分の端部を固定し、地面と垂直な側の端部には、垂直下向きに０．７５Ｎの荷重をかけた。そして、ロールＲ１を周面の速度が３０ｍｍ／ｓｅｃとなるように回転させ、１０分間放置した後のフィルムＦ２の帯電圧を帯電圧計Ｍによって測定した。

（ムラの発生頻度）
作製した液晶表示装置２０１〜２６９を２５℃６０％ＲＨの環境下で黒表示し、そのときのムラの程度を目視で観測し、以下の基準により評価した。
〈評価基準〉
◎：表示面の全面でムラが観測されなかった。
○：表示面の１／１００以下の面積でムラが観測された。
△：表示面の１／１００を超えて１／１０以下の面積でムラが観測された。
×：表面積の１／１０を超える面積でムラが観測された。

摩擦帯電圧およびムラの発生頻度についての評価の結果を表４および表５に示す。なお、表中の摩擦帯電圧は絶対値で示す。

表４および表５より、実施例のセルロースエステルフィルムを用いた液晶表示装置では、ムラの発生頻度が少ない（評価が◎、○、△のいずれかである）ことがわかる。これは、実施例のセルロースエステルフィルムは、疎水性の高いエステル化合物Ａまたはエステル化合物Ｂを含んでいるにもかかわらず、摩擦帯電圧が±３００Ｖ以内であり、フィルムの帯電量が小さいため、偏光板の作製工程において、フィルムを偏光膜に貼り合わせる際に用いる接着剤が局所的にはじかれて、偏光板に厚みムラが生じるのを抑えることができているためと考えられる。

また、実施例のセルロースエステルフィルムでは、フィルム弾性率Ｇｍ・Ｇｔが所定の関係（Ｇｍ＋２００ＭＰａ＜Ｇｔ＜Ｇｍ＋２５００ＭＰａ）を満足しているため、フィルムの長手方向に巻き取りのための弾性を付与しつつ、フィルムの幅手方向にある程度の硬さが付与される。これにより、フィルムを巻いて保管する場合でも、保管されている間のフィルムの変形が少なくなり、巻いたフィルムの表面と裏面とが擦れる度合いが減るため、摩擦帯電圧を上記の±３００Ｖ以内に抑えることができているものと考えられる。

また、添加剤として糖エステル化合物や偏光子耐久性改良剤を含むセルロースフィルム３９・４０では、摩擦帯電圧を１５０Ｖ程度に抑えることができていることから、これらの添加剤は、フィルムの低透湿化や、保護フィルムとして用いた場合の偏光子の劣化の抑制のみならず、摩擦帯電圧の低減にも大きく寄与するものであると言える。

また、セルロースエステルフィルム１・６・１０、セルロースエステルフィルム１６〜１９、セルロースエステルフィルム３１・３２の製膜条件の比較および各フィルムを用いた液晶表示装置の評価結果より、セルロースエステルフィルムを溶液流延製膜法で製膜する際に、金属支持体上にドープを流延してからウェブを剥離するまでの時間が、３０秒以上１００秒以下であり、ドープを流延してからウェブを剥離するまでの間に、金属支持体上のウェブに与える温度（乾燥風の温度）を、乾燥初期から少なくとも２回、搬送方向下流側に向かうにつれて段階的に順次下げることで、フィルムの摩擦帯電圧を３００Ｖ以下に抑えることができ、上記フィルムを用いた液晶表示装置において、黒表示時のムラの発生頻度を小さく抑えることができると言える。

また、セルロースエステルフィルム３・５、セルロースエステルフィルム３７・３８の製膜条件の比較および各フィルムを用いた液晶表示装置の評価結果より、セルロースエステルフィルムを溶液流延製膜法で製膜する際に、金属支持体からウェブを剥離するときの残留溶媒量が、９０質量％以上１３０質量％以下であれば、フィルムの摩擦帯電圧を小さく抑えて、黒表示時のムラの発生頻度を小さく抑える効果が高いと言える。

また、セルロースエステルフィルム４８〜５１の製膜条件の比較および各フィルムを用いた液晶表示装置の評価結果より、セルロースエステルフィルムを溶液流延製膜法で製膜する際に、ドープの固形分濃度が、１３質量％以上１８質量％以下であれば、フィルムの摩擦帯電圧を小さく抑えて、黒表示時のムラの発生頻度を小さく抑える効果が高いと言える。

また、セルロースエステルフィルム５２〜５５の製膜条件の比較および各フィルムを用いた液晶表示装置の評価結果より、セルロースエステルフィルムを溶液流延製膜法で製膜する際に、ドープに含まれる良溶媒に対する貧溶媒の比率が、８質量％以上１３質量％以下であれば、フィルムの摩擦帯電圧を小さく抑えて、黒表示時のムラの発生頻度を小さく抑える効果が高いと言える。なお、セルロースエステルフィルム５５のように、上記比率が１３質量％を超えて製膜されるフィルムでは、貧溶媒が多すぎるためにドープが必要以上にゲル化してしまい、平面性が劣化したり、設備トラブルが発生する原因となるため、上記比率は１３質量％以下であることが望ましい。

また、セルロースエステルフィルム５６〜６１の製膜条件の比較および各フィルムを用いた液晶表示装置の評価結果より、セルロースエステルフィルムを溶液流延製膜法で製膜する際に、延伸開始時のウェブの残留溶媒量が１５質量％以上３０質量％以下であれば、フィルムの摩擦帯電圧を小さく抑えて、黒表示時のムラの発生頻度を小さく抑える効果が高いと言える。

また、セルロースエステルフィルム６２〜６９の製膜条件の比較および各フィルムを用いた液晶表示装置の評価結果より、セルロースエステルフィルムを溶液流延製膜法で製膜する際に、延伸後のフィルムの少なくとも片面の表面粗さが、２．３ｎｍ以上３．０ｎｍ以下であれば、フィルムの摩擦帯電圧を小さく抑えて、黒表示時のムラの発生頻度を小さく抑える効果が高いと言える。なお、セルロースエステルフィルム６９のように、上記表面粗さが３．０ｎｍを超えると、フィルムが白濁して見えるため、３．０ｎｍ以下であることが望ましい。

以上で説明した本実施形態のセルロースエステルフィルムおよびその製造方法は、以下のように表現することができる。

１．溶液流延製膜法によって製膜されるセルロースエステルフィルムであって、
ジオールとジカルボン酸化合物とをエステル化反応させて重合したエステル化合物を含み、
長手方向のフィルム弾性率をＧｍ（ＭＰａ）とし、前記長手方向と直交する幅手方向のフィルム弾性率をＧｔ（ＭＰａ）としたとき、
Ｇｍ＋２００ＭＰａ＜Ｇｔ＜Ｇｍ＋２５００ＭＰａ
を満足し、
該セルロースエステルフィルムの表面と裏面とを３０ｍｍ／ｓｅｃで擦ったときの摩擦帯電圧が±３００Ｖ以内であることを特徴とするセルロースエステルフィルム。

２．下記一般式（１）中のフラノース構造（Ｆ）又はピラノース構造（Ｐ）を１個以上１２個以下有する化合物中の水酸基の少なくとも１つをエステル化したエステル化合物を含むことを特徴とする前記１に記載のセルロースエステルフィルム。

３．下記一般式（２）で表される化合物を含むことを特徴とする前記１または２に記載のセルロースエステルフィルム。

一般式（２）において、Ｒ^３１はアルキル基、アルケニル基又はアリール基を表し、Ｒ^３２及びＲ^３３はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ^３４は水素原子を表す。Ｒ^３１、Ｒ^３２、及びＲ^３３はそれぞれ独立に置換基を有していてもよい。ただし、Ｒ^３１、Ｒ^３２及びＲ^３３のいずれか少なくとも１つは芳香環を含む。

４．前記１から３のいずれかに記載のセルロースエステルフィルムを溶液流延製膜法によって製膜するセルロースエステルフィルムの製造方法であって、
セルロースエステル樹脂を含むドープを金属支持体上に流延し、前記金属支持体で搬送しながら乾燥させて形成したウェブを前記金属支持体から剥離する工程を有し、
前記工程において、
前記ドープを流延してから前記ウェブを剥離するまでの時間が、３０秒以上１００秒以下であり、
前記ドープを流延してから前記ウェブを剥離するまでの間に、前記金属支持体上の前記ウェブの表面上から該ウェブに与える温度を、乾燥初期から少なくとも２回、搬送方向下流側に向かうにつれて段階的に順次下げることを特徴とするセルロースエステルフィルムの製造方法。

５．前記温度の１段階ごとの下げ幅が、３℃以上１５℃以下であることを特徴とする前記４に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。

６．前記金属支持体から前記ウェブを剥離するときの残留溶媒量が、９０質量％以上１３０質量％以下であることを特徴とする前記４または５に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。

７．前記ドープの固形分濃度が、１３質量％以上１８質量％以下であることを特徴とする前記４から６のいずれかに記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。

８．前記ドープに含まれる良溶媒に対する貧溶媒の比率が、８質量％以上１３質量％以下であることを特徴とする前記４から７のいずれかに記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。

９．前記金属支持体から剥離された前記ウェブを延伸する工程をさらに有し、
延伸開始時の前記ウェブの残留溶媒量が、１５質量％以上３０質量％以下であることを特徴とする前記４から８のいずれかに記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。

１０．延伸後のフィルムの少なくとも片面の表面粗さが、２．３ｎｍ以上３．０ｎｍ以下であることを特徴とする前記９に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。

１１．延伸後のフィルムを巻き取る工程をさらに有し、
前記フィルムの巻き取り長さが、５０００ｍ以上１００００ｍ未満であることを特徴とする前記９または１０に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。

本発明のセルロースエステルフィルムは、偏光板や、液晶表示装置などの画像表示装置に利用可能である。

６ 金属支持体
９ ウェブ
Ｆ 光学フィルム（セルロースエステルフィルム）

Claims (11)

1. 溶液流延製膜法によって製膜されるセルロースエステルフィルムであって、
   ジオールとジカルボン酸化合物とをエステル化反応させて重合したエステル化合物を含み、
   長手方向のフィルム弾性率をＧｍ（ＭＰａ）とし、前記長手方向と直交する幅手方向のフィルム弾性率をＧｔ（ＭＰａ）としたとき、
   Ｇｍ＋２００ＭＰａ＜Ｇｔ＜Ｇｍ＋２５００ＭＰａ
   を満足し、
   該セルロースエステルフィルムの表面と裏面とを３０ｍｍ／ｓｅｃで擦ったときの摩擦帯電圧が±３００Ｖ以内であることを特徴とするセルロースエステルフィルム。
2. 下記一般式（１）中のフラノース構造（Ｆ）又はピラノース構造（Ｐ）を１個以上１２個以下有する化合物中の水酸基の少なくとも１つをエステル化したエステル化合物を含むことを特徴とする請求項１に記載のセルロースエステルフィルム。
   

   
3. 下記一般式（２）で表される化合物を含むことを特徴とする請求項１または２に記載のセルロースエステルフィルム。
   

   

   一般式（２）において、Ｒ^３１はアルキル基、アルケニル基又はアリール基を表し、Ｒ^３２及びＲ^３３はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ^３４は水素原子を表す。Ｒ^３１、Ｒ^３２、及びＲ^３３はそれぞれ独立に置換基を有していてもよい。ただし、Ｒ^３１、Ｒ^３２及びＲ^３３のいずれか少なくとも１つは芳香環を含む。
4. 請求項１から３のいずれかに記載のセルロースエステルフィルムを溶液流延製膜法によって製膜するセルロースエステルフィルムの製造方法であって、
   セルロースエステル樹脂を含むドープを金属支持体上に流延し、前記金属支持体で搬送しながら乾燥させて形成したウェブを前記金属支持体から剥離する工程を有し、
   前記工程において、
   前記ドープを流延してから前記ウェブを剥離するまでの時間が、３０秒以上１００秒以下であり、
   前記ドープを流延してから前記ウェブを剥離するまでの間に、前記金属支持体上の前記ウェブの表面上から該ウェブに与える温度を、乾燥初期から少なくとも２回、搬送方向下流側に向かうにつれて段階的に順次下げることを特徴とするセルロースエステルフィルムの製造方法。
5. 前記温度の１段階ごとの下げ幅が、３℃以上１５℃以下であることを特徴とする請求項４に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
6. 前記金属支持体から前記ウェブを剥離するときの残留溶媒量が、９０質量％以上１３０質量％以下であることを特徴とする請求項４または５に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
7. 前記ドープの固形分濃度が、１３質量％以上１８質量％以下であることを特徴とする請求項４から６のいずれかに記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
8. 前記ドープに含まれる良溶媒に対する貧溶媒の比率が、８質量％以上１３質量％以下であることを特徴とする請求項４から７のいずれかに記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
9. 前記金属支持体から剥離された前記ウェブを延伸する工程をさらに有し、
   延伸開始時の前記ウェブの残留溶媒量が、１５質量％以上３０質量％以下であることを特徴とする請求項４から８のいずれかに記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
10. 延伸後のフィルムの少なくとも片面の表面粗さが、２．３ｎｍ以上３．０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項９に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
11. 延伸後のフィルムを巻き取る工程をさらに有し、
    前記フィルムの巻き取り長さが、５０００ｍ以上１００００ｍ未満であることを特徴とする請求項９または１０に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。

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