JPWO2016021495A1 - ガス濃度検出装置およびガス濃度検出装置におけるガス濃度の算出方法 - Google Patents

ガス濃度検出装置およびガス濃度検出装置におけるガス濃度の算出方法 Download PDF

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Abstract

光源(20)と、焦電センサ(24)と、光源(20)と焦電センサ(24)との間に設けられ、赤外線の光路を形成する反射部材(23)と、サーミスタ(28)と、光路上に、第1バンドパスフィルタ(34)と、第2バンドパスフィルタ(36)とのうちのいずれか一方のフィルタを選択して配置する切替装置(32)とを含むガス濃度検出装置において、第1バンドパスフィルタ(34)が選択される場合の第1出力値と、基準温度におけるガスの濃度と第1出力値を基準出力値で規格化した値との関係を示す第1検量線と、基準濃度における第2出力値と基準出力値との関係を示す第2検量線とが予め定められ、第2バンドパスフィルタ(36)が選択される場合の第1出力値に基づいて第2検量線を校正する校正係数が算出され、校正係数に基づいて第2検量線を校正するステップと、第1検量線と校正された第2検量線とに基づいてガスの濃度が算出される。

Description

本発明は、ガスの濃度の検出に用いられる検量線を、出力特性の変動を考慮して校正するように構成された、ガス濃度検出装置およびガス濃度検出装置におけるガス濃度の算出方法に関する。
たとえば、NDIR(Non-dispersive Infrared)方式のガス濃度検出装置を用いて、検出対象のガスの赤外線の吸収量から当該ガスの濃度を検出する技術が公知である。このようなガス濃度検出装置として、たとえば、特開2013−76634号公報(特許文献1)には、センサ部と、センサ部と着脱自在なセンサ本体とを含む構成が開示されている。検出対象のガスの赤外線の吸収量は、センサ部の出力特性として検出されている。また、構成部品の劣化等によりセンサ部の出力特性が本来検出されるべき値からずれた場合に、センサ部のみを交換することで出力特性を校正する技術が開示されている。
特開2013−76634号公報
上述のようなガス濃度検出装置においては、赤外線の光路長を長くするために、反射部材を用いて光路が形成されている。このようなガス濃度検出装置は、使用開始からの期間が長くなると、光源の出力の劣化や、ほこりや酸化の影響によって光路を形成している反射部材の内壁における赤外線の反射率の劣化が起きる。このようなガス濃度検出装置は、使用当初(たとえば、出荷時)にあらかじめメモリに格納されている検量線によって、濃度検出部の出力特性を測定対象ガスの濃度に変換している。このため、上述の劣化が起きると、濃度検出部の出力特性から算出される測定対象ガスの濃度と、実際の測定対象ガスの濃度にずれが生じてしまう。上述の特許文献1に記載の技術においては、変動した出力特性を適正に校正するために人の手によるセンサ部の交換が必要であるが、この交換は簡単な作業では済まないことが多く、作業が煩雑である。また、センサ部が交換されない限り、変動した出力特性を適切に校正することができない。
本発明は、上述した課題を解決するためになされたものであって、その目的は、本来検出されるべき値からずれた出力特性を簡便に校正するガス濃度検出装置およびガス濃度検出装置におけるガス濃度の算出方法を提供することである。
この発明のガス濃度検出装置におけるガス濃度の算出方法は、赤外線を放射する光源と、光源から放射された赤外線を受光し、受光量に応じた第1出力値を出力する受光センサと、光源と受光センサとの間に設けられ、赤外線の光路を形成する反射部材と、光路上に、検出対象のガスによって他の波長帯よりも赤外線が吸収される程度が高い第1波長帯と、第1波長帯よりも赤外線が吸収される程度が低い第2波長帯とのうちのいずれか一方を選択して通過させるフィルタと、ガスの温度に応じた第2出力値を出力する温度センサとを含むガス濃度検出装置におけるガス濃度の算出方法である。この算出方法は、以下の4つのステップを含む。すなわち、フィルタが第1波長帯の赤外線を通過させる場合の第1出力値と、基準温度におけるガスの濃度と第1出力値を基準出力値で規格化した値との関係を示す第1検量線と、基準濃度における第2出力値と基準出力値との関係を示す第2検量線とを予め定めるステップと、フィルタが第2波長帯の赤外線を通過させる場合の第1出力値に基づいて第2検量線を校正する校正係数を算出するステップと、校正係数に基づいて第2検量線を校正するステップと、第1検量線と校正された第2検量線とに基づいてガスの濃度を算出するステップとを含む。
このようにすると、ガス濃度検出装置の構成部品の劣化により出力特性に変動が生じた場合にも、校正係数を算出して、第2検量線を校正することによってガスの濃度の検出精度の悪化を抑制することができる。
好ましくは、校正係数を算出するステップは、フィルタが第2波長帯の赤外線を通過させる場合の基準濃度における第1出力値である参照出力値に対する、フィルタが第1波長帯の赤外線を通過させる場合の基準濃度における第1出力値である基準出力値の比を示す換算係数を算出するステップと、第2出力値と参照出力値と換算係数とに基づいて校正係数を算出するステップとを含む。
このようにすると、第2出力値と参照出力値と換算係数とに基づいて校正係数を算出することができるため、第2検量線を適切に校正することができる。
好ましくは、換算係数を算出するステップにて、基準濃度における、第2出力値に対応する換算係数を予め定められた第3検量線に基づいて算出する。
このようにすると、第3検量線に基づいて第2出力値に対応する換算係数を算出することができるため、第2検量線を適切に校正することができる。
好ましくは、校正係数を算出するステップは、フィルタが第2波長帯の赤外線を通過させる場合の第2出力値に対応した参照出力値を予め定められた第4検量線を用いて算出するステップと、フィルタが第2波長帯の赤外線を通過させる場合の第1出力値に対する参照出力値の比を校正係数として算出するステップとを含む。
このようにすると、フィルタが第2波長帯の赤外線を通過させる場合の第1出力値に対する参照出力値の比を校正係数として算出することができるため、算出された校正係数を用いて第2検量線を適切に校正することができる。
この発明のガス濃度検出装置は、赤外線を放射する光源と、光源から放射された赤外線を受光し、受光量に応じた第1出力値を出力する受光センサと、光源と受光センサとの間に設けられ、赤外線の光路を形成する反射部材と、光路上に、検出対象のガスによって他の波長帯よりも赤外線が吸収される程度が高い第1波長帯と、第1波長帯よりも赤外線が吸収される程度が低い第2波長帯とのうちのいずれか一方を選択して通過させるフィルタと、ガスの温度に応じた第2出力値を出力する温度センサと、光路上のガスの濃度を算出する算出部とを備える。フィルタが第1波長帯の赤外線を通過させる場合の第1出力値と、基準温度におけるガスの濃度と第1出力値を基準出力値で規格化した値との関係を示す第1検量線と、基準濃度における第2出力値と基準出力値との関係を示す第2検量線とが予め定められる。算出部は、フィルタが第2波長帯の赤外線を通過させる場合の第1出力値に基づいて第2検量線を校正する校正係数を算出し、校正係数に基づいて第2検量線を校正し、第1検量線と校正された第2検量線とに基づいてガスの濃度を算出する。
このようにすると、ガス濃度検出装置の構成部品の劣化により出力特性に変動が生じた場合にも、校正係数を算出して、第2検量線を校正することによってガスの濃度の検出精度の悪化を抑制することができる。
好ましくは、算出部は、フィルタが第2波長帯の赤外線を通過させる場合の基準濃度における第1出力値である参照出力値に対する、フィルタが第1波長帯の赤外線を通過させる場合の基準濃度における第1出力値である基準出力値の比を示す換算係数を算出し、第2出力値と参照出力値と換算係数とに基づいて校正係数を算出する。
このようにすると、第2出力値と参照出力値と換算係数とに基づいて校正係数を算出することができるため、第2検量線を適切に校正することができる。
好ましくは、算出部は、基準濃度における、第2出力値に対応する換算係数を予め定められた第3検量線に基づいて算出する。
このようにすると、第3検量線に基づいて第2出力値に対応する換算係数を算出することができるため、第2検量線を適切に校正することができる。
好ましくは、算出部は、フィルタが第2波長帯の赤外線を通過させる場合の第2出力値に対応した参照出力値を予め定められた第4検量線を用いて算出し、フィルタが第2波長帯の赤外線を通過させる場合の第1出力値に対する参照出力値の比を校正係数として算出する。
このようにすると、フィルタが第2波長帯の赤外線を通過させる場合の第1出力値に対する参照出力値の比を校正係数として算出することができるため、算出された校正係数を用いて第2検量線を適切に校正することができる。
好ましくは、算出部は、予め定められた時間が経過する毎に校正係数を算出する。
このようにすると、予め定められた時間が経過する毎に校正係数を算出することにより、ガス濃度検出装置の出力特性を適切に校正することができる。
好ましくは、算出部は、校正係数を算出した後に、校正係数を算出した時点の第2出力値が予め定められた値以上変化した場合には、校正係数を再度算出する。
このようにすると、校正係数を算出した時点の第2出力値が予め定められた値以上変化した場合であっても、校正係数を再度算出することにより第2検量線を適切に校正することができる。
好ましくは、算出部は、直前までに算出された校正係数の履歴のうち、有効時間内であって、かつ、第2出力値と、校正係数を算出した時点の第2出力値との差が予め定められた値よりも小さい場合には、当該校正係数を用いて第2検量線を校正する。
このようにすると、無駄に校正を実施することがないため、効率の良い頻度で校正を実施することができる。そのため、たとえば、切替装置が電動である場合には、消費電力を低減することができる。
この発明によると、本来検出されるべき値からずれた出力特性を簡便に校正するガス濃度検出装置およびガス濃度検出装置におけるガス濃度の算出方法を提供することができる。
本実施の形態に係るガス濃度検出装置の構成を示す図である。 本実施の形態に係るガス濃度検出装置の構成を示す平面図である。 本実施の形態に係るガス濃度検出装置の回路構成図である。 基準温度における第1検量線と、基準濃度における第2検量線と、第2検量線の校正に用いる第3検量線とを説明するための図である。 フィルタ毎の温度とセンサ出力値との関係を示す図である。 温度と換算係数との関係を示す図である。 校正処理を示すフローチャートである。 校正処理の実行態様を示すタイミングチャートである。
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明する。以下の説明では、同一の部品には同一の符号が付されている。それらの名称および機能も同じである。したがってそれらについての詳細な説明は繰返されない。
<第1の実施の形態>
図1は、本実施の形態に係るガス濃度検出装置10の構成を示す図である。
本実施の形態において、ガス濃度検出装置10は、非分散型赤外線吸収方式(NDIR)のガスセンサである。本実施の形態におけるガス濃度検出装置10による濃度の検出対象となる気体は、二酸化炭素である。
ガス濃度検出装置10は、たとえば、BEMS(Building Energy Management System)において二酸化炭素の濃度に基づく換気量の制御等に用いられる。
図1に示すように、ガス濃度検出装置10は、ガスの濃度の検出動作を行う濃度検出部30と、ガスの温度を検出する温度検出部であるサーミスタ28と、光源20の点灯制御、後述する焦電センサ24から出力される濃度検出信号(第1出力値)、およびサーミスタ28から出力される温度検出信号(第2出力値)に対して所定の処理を行うための駆動回路40とを含む。濃度検出部30の構成部品およびサーミスタ28の各々は、回路基板12の一方の面上の所定の位置に設けられる。駆動回路40の構成部品は、回路基板12の他方の面上の所定の位置に設けられる。
濃度検出部30は、光源20と、保持台22と、反射部材23と、受光センサである焦電センサ24と、複数種類のフィルタを切り替える切替装置32とを構成部品として含む。
光源20は、焦電センサ24と所定の距離だけ離隔した位置に設けられる。光源20は、赤外線を放射する。光源20が赤外線を放射することによって光源20と焦電センサ24との間には光路18が形成される。具体的には、光路18は、反射部材23が光源20から放射された赤外線を反射することによって形成される。
図2は、本実施の形態に係るガス濃度検出装置の構成を示す平面図である。図2に示すように、光源20と焦電センサ24とは対向した位置関係ではなく、図2の紙面上下方向にずれた位置関係で向き合っている。反射部材23は、カバー14の内側に設けられ、光源20に対向する位置に設けられる第1壁面23aと、焦電センサ24に対向する位置に設けられる第2壁面23bとを有する。第1壁面23aと第2壁面23bとは、光源20から放射された赤外線が焦電センサ24に向かう光路18が形成されるように予め向き(角度)が定められる。そのため、光源20から放射された赤外線の一部は、図2の光路18に示すように、対向する第1壁面23aで反射される。第1壁面23aで反射した赤外線の一部は、第2壁面23bに向かい、第2壁面23bで反射される。第2壁面23bで反射した赤外線の一部は、焦電センサ24に向かう。このようにして光路18が形成される。
本実施の形態において、光源20は、たとえば、フィラメントランプである。光源20は、少なくとも赤外線を含む波長を放射する光源であれば、たとえば、LED(Light Emitting Diode)であってもよい。光源20は、回路基板12に固定された保持台22によって保持される。光源20は、所定の周期で点滅するように制御される。
図1に戻って、保持台22の断面形状は、焦電センサ24側に開いた半楕円形状である。半楕円形状の内側は、鏡面とされる。すなわち、保持台22には、楕円ミラーの一部が形成される。光源20は、保持台22の半楕円形状の焦点位置に設けられる。また、反射部材23にも楕円ミラーの一部が形成される。そのため、光源20から放射された赤外線は、光路18を通過して焦電センサ24に直接的に入射したり、保持台22の形成される鏡面や反射部材の鏡面に反射した後、焦電センサ24に入射したりする。
焦電センサ24は、バルクセラミックスを用いた焦電型赤外線センサである。焦電センサ24には、光源20から放射される赤外線を受光する部分である入射窓26が光源20に向けて設けられる。
切替装置32は、光源20と焦電センサ24との間に設けられる。切替装置32は、後述する切替駆動回路48からの制御信号に基づいて第1バンドパスフィルタ34または第2バンドパスフィルタ36を光源20と焦電センサとの間の光路上に配置する。切替装置32は、たとえば、モータ等のアクチュエータを用いて第1バンドパスフィルタ34と第2バンドパスフィルタ36とを切り替える。なお、第1バンドパスフィルタ34が本請求項の第1フィルタに相当し、第2バンドパスフィルタ36が本請求項の第2フィルタに相当する。
第1バンドパスフィルタ34は、二酸化炭素の吸収率が高い波長である、4.26μmの近傍を含む第1波長帯の赤外線を通過させるフィルタである。焦電センサ24は、切替装置32によって第1バンドパスフィルタ34が光路上に配置されている場合には、光源20から放射された赤外線のうち第1波長帯の赤外線を受光する。そして、焦電センサ24の出力値を二酸化炭素の濃度に換算する。
第2バンドパスフィルタ36は、第1波長帯と異なる波長帯であって、かつ、検出対象のガスの吸収率が低い波長(たとえば、3.9μm)を含む第2波長帯の赤外線を通過させるフィルタである。焦電センサ24は、切替装置32によって第2バンドパスフィルタ36が光路上に配置されている場合には、光源20から放射された赤外線のうち第2波長帯の赤外線を受光する。
サーミスタ28は、焦電センサ24の近傍に設けられ、回路基板12に固定される。サーミスタ28においては、駆動回路40から電圧が印加されることにより定電流が流れ、定電流が流れたときに生じる電圧が出力電圧として駆動回路40において検出される。
カバー14は、濃度検出部30の構成部品およびサーミスタ28を覆うように設けられ、回路基板12に固定される。カバー14には、カバー14の外部からガスを取り入れたり、カバー14の内部のガスを排出したりするための開口16が設けられる。開口16には、エアフィルターが設けられる。
ガス濃度検出装置10による二酸化炭素の濃度の検出は、開口16からカバー14の内部に気体が取り入れられた状態で行われる。光源20から焦電センサ24に向けて赤外線が放射されると、放射された赤外線は、焦電センサ24において受光される。焦電センサ24は、赤外線の受光に応じて電圧を出力する。
第1バンドパスフィルタ34が光路上に配置されている場合、焦電センサ24から出力される電圧は、光路18における二酸化炭素の濃度によって異なる。これは、光源20から放射される赤外線のうち第1バンドパスフィルタ34を通過する第1波長帯の赤外線が光路18上の二酸化炭素により吸収されるため、二酸化炭素の濃度により、光源20から第1バンドパスフィルタ34を経由して焦電センサ24に到達する赤外線の量も変化するためである(Lambert-Beerの法則)。
第2バンドパスフィルタ36が光路上に配置されている場合、焦電センサ24から出力される電圧は、光路18における二酸化炭素の濃度に応じて変化することはない。これは、光源20から放射される赤外線のうち第2バンドパスフィルタを通過する第2波長帯の赤外線が二酸化炭素やその他の気体によりほとんど吸収されないためである。
一方、光路上に配置されているフィルタが第1バンドパスフィルタ34であるか第2バンドパスフィルタ36であるかに関わらず、焦電センサ24から出力される電圧は、温度に応じて変化する特性を有する。
図3は、本実施の形態に係るガス濃度検出装置10の回路構成図である。図3に示すように、駆動回路40は、増幅回路42と、AD変換回路44と、濃度変換処理回路46と、切替駆動回路48とを含む。なお、濃度変換処理回路46が本請求項の算出部に相当する。
増幅回路42は、たとえば、アンプ等によって構成され、焦電センサ24から出力される濃度検出信号(第1出力値)の信号強度と、サーミスタ28の温度検出信号(第2出力値)の信号強度とを増幅する。
AD変換回路44は、増幅回路42において信号強度が増幅されたアナログ信号をデジタル信号に変換する。なお、信号強度の増幅やアナログ信号からデジタル信号への変換は、周知の技術を用いればよい。
濃度変換処理回路46は、AD変換回路44において変換されたデジタル信号に対して所定の処理を実施することによってカバー14の内部に取り入れられた気体に含まれる二酸化炭素の濃度Cを算出する。なお、本実施の形態において、濃度変換処理回路46は、たとえば、CPU(Central Processing Unit)によって実現される。CPUは、図示しない記憶部に記憶されたプログラムを実行することによって、所定の演算処理や制御処理を実行する。CPUは、たとえば、二酸化炭素の濃度を算出する演算処理に加えて、光源20を点灯させる制御処理やサーミスタ28に電圧を印加する制御処理と、切替装置32を動作させて第1バンドパスフィルタ34および第2バンドパスフィルタ36のうちのいずれかを光源20と焦電センサ24との間の光路上に配置する制御処理とを実行する。CPUは、切替装置32を動作させる場合に駆動指令を切替駆動回路48に出力する。切替駆動回路48は、CPUから受信した駆動指令に従って制御信号を生成し、切替装置32に出力する。
本実施の形態において、ガス濃度検出装置10における二酸化炭素の濃度の検出は、以下のような手順で行われる。なお、切替装置32において第1バンドパスフィルタ34が選択されている(すなわち、光路上に第1バンドパスフィルタ34が配置されている)ものとする。
(1)サーミスタ28から温度検出信号を取得する。(2)光源20を点灯状態にする。(3)焦電センサ24の出力値Vを取得する。(4)取得された焦電センサ24の出力値Vに対して、所定の信号処理を実行する。
なお、焦電センサ24の出力値Vが本発明の第1出力値に相当する。また、サーミスタ28の温度検出信号が本発明の第2出力値に相当する。
なお、所定の信号処理は、たとえば、焦電センサ24の出力波形から移動平均法を用いてノイズを除去する処理と、増幅回路42によって信号強度を増幅する処理と、AD変換回路44によってデジタルデータに変換する処理とを含む。これらの処理は、温度検出信号に対しても行なわれる。また、温度検出信号からサーミスタ温度Th[K]が算出される。なお、サーミスタ温度Thの算出は、上記(1)において行なわれてもよい。
(5)サーミスタ温度Thと焦電センサ24の出力値Vとから二酸化炭素の濃度Cを算出する。(6)光源20を点灯停止状態にする。ガス濃度検出装置10は、上記(1)〜(6)の処理を、たとえば、一定時間毎に行なう。
以下に、本実施の形態に係るガス濃度検出装置10がサーミスタ28の温度Thと焦電センサ24の出力値Vとから二酸化炭素の濃度Cを算出する方法について説明する。
濃度変換処理回路46は、焦電センサ24の出力値Vと予め取得された第1検量線と第2検量線とに基づいて二酸化炭素の濃度を算出する。
第1検量線に関するデータおよび第2検量線に関するデータは、ガス濃度検出装置10の製造時において予め取得されて、駆動回路40に設けられるメモリ等の記憶媒体に記憶される。
第1検量線は、予め定められた基準温度(25℃)における二酸化炭素の濃度Cと焦電センサ24の出力値Vとの関係を示す。より具体的には、第1検量線は、焦電センサ24の出力値Vを基準出力値Vで規格化した値(V/V)と、二酸化炭素の濃度Cとの関係を示す。第1検量線は、基準温度における二酸化炭素の複数の濃度の各々に対応した、予め取得された複数の焦電センサ24の出力値に基づいて所定の次数の近似式を導出して設定される。
この基準出力値Vは、二酸化炭素の濃度が予め定められた基準濃度(たとえば、0ppm)である場合における、サーミスタ温度Thに対応した焦電センサ24の出力値である。基準出力値Vは、サーミスタ温度Thに基づいて後述する第2検量線を用いて算出される。
本実施の形態において、第1検量線は、以下の式で示される。
(二酸化炭素の濃度)=f(V/V)…(式1)
上記(式1)におけるfは、所定の次数の関数であって、たとえば、2次関数であってもよいし、3次関数であってもよい。fがN次関数である場合には、ガスの濃度Cは、以下の式で示される。
=a×(V/V+a×(V/VN−1+・・・+aN+1…(式2)
上記(式2)におけるa〜aN+1は、基準温度において予め実験等により取得された複数種類の二酸化炭素の濃度と焦電センサ24の出力値との組み合わせに基づいて算出される。たとえば、図4に示すように、基準温度における予め定められた複数の二酸化炭素の濃度(たとえば、0ppm、400ppm、1000ppm、2000ppmの濃度)にそれぞれ対応した複数の焦電センサ24の出力値が予め実験等により取得され、取得された出力値に基づいてa〜aN+1が算出される。
上記(式2)および算出されたa〜aN+1の値は、駆動回路40に設けられるメモリ等の記憶媒体に記憶される。
サーミスタ温度Thは、以下の式を用いて算出される。
Th=1/[1/Th25+1/B×ln{Vth/(Vcc−Vth)}]…(式3)
上記(式3)において、Bは、定数を示し、Vthは、サーミスタ28の出力電圧を示し、Vccは、駆動回路40からサーミスタ28への印加電圧を示し、Th25は、25℃時のサーミスタ温度[K]を示す。上記(式3)および定数Bは、駆動回路40に設けられるメモリ等の記憶媒体に記憶される。
また、濃度変換処理回路46は、第2検量線を用いて基準出力値Vを算出する。第2検量線は、予め定められた基準濃度(たとえば、0ppm)におけるサーミスタ温度Thと基準出力値Vとの関係を示す。第2検量線は、第1バンドパスフィルタ34が選択されている場合において、基準濃度における二酸化炭素の複数の温度の各々に対応した、予め取得された複数の焦電センサ24の出力値に基づいて所定の次数の近似式を導出して設定される。
本実施の形態において、第2検量線は、以下の式で示される。
=g(Th)…(式4)
上記(式4)におけるgは、所定の次数の関数であって、たとえば、gがN次関数である場合には、基準出力値Vは、以下の式で示される。
=b×Th+b×ThN−1+・・・+bN+1…(式5)
上記(式5)におけるb〜bN+1は、第1バンドパスフィルタ34が選択される場合の、基準濃度において予め実験等により取得された複数種類の温度(サーミスタ温度Th)と焦電センサ24の出力値との組み合わせに基づいて算出される。
図4に示すように、基準濃度における複数の温度(0℃、10℃、25℃、40℃および50℃)にそれぞれ対応した複数の焦電センサ24の出力値が予め実験等により取得され、取得された出力値に基づいてb〜bN+1が算出される。
上記(式5)および算出されたb〜bN+1の値は、駆動回路40に設けられるメモリ等の記憶媒体に記憶される。
本実施の形態においては、濃度変換処理回路46によって第2検量線を校正する校正処理を実行する。具体的には、図4の破線の矢印に示す第3検量線を取得し、第3検量線を用いて第2検量線を校正する。第3検量線は、第2バンドパスフィルタ36が選択された場合の基準濃度における濃度出力値(以下、参照出力値Vrefと記載する)に対する、第1バンドパスフィルタ34が選択された場合の基準濃度における濃度出力値(基準出力値V)の比(以下、換算係数Cと記載する)と、サーミスタ温度Thから算出される。第3検量線は、基準濃度における二酸化炭素の複数の温度の各々に対応した、予め取得された複数の焦電センサ24の出力値に基づいて所定の次数の近似式を導出して設定される。
本実施の形態において、第3検量線は、以下の式で示される。
C=V/Vref=h(Th)…(式6)
基準出力値Vと参照出力値Vrefとは、いずれもThを変数とした関数であるため、上記(式6)のようにThを変数とした1つの関数として記載できる。上記(式6)におけるhは、所定の次数の関数であって、たとえば、hがN次関数である場合には、換算係数Cは、以下の式で示される。
C=c×Th+c×ThN−1+・・・+cN+1…(式7)
上記(式7)におけるc〜cN+1は、基準濃度において予め実験等により取得された複数種類の温度(サーミスタ温度Th)と、第1バンドパスフィルタ34が選択された場合の焦電センサ24の出力値(基準出力値)と、第2バンドパスフィルタ36が選択された場合の焦電センサ24の出力値(参照出力値)との組み合わせに基づいて算出される。
たとえば、図5に示すように、基準濃度における複数の温度(0℃、10℃、25℃、40℃および50℃)にそれぞれ対応した基準出力値Vと参照出力値Vrefとが予め実験等により取得され、取得された出力値に基づいてc〜cN+1が算出される。なお、図5の縦軸は、焦電センサ24の第1出力値を示し、図5の横軸は、温度を示す。
上記(式7)および算出されたc〜cN+1の値は、駆動回路40に設けられるメモリ等の記憶媒体に記憶される。
第3検量線で示される換算係数Cは、たとえば、図6に示すように、温度が高くなるほど低くなるような特性を有する。なお、図6の縦軸は、換算係数Cを示し、図6の横軸は、温度を示す。
濃度変換処理回路46は、この第3検量線を用いて第2検量線を校正するための係数(以下、校正係数Rと記載する)を算出する。
校正係数Rは、出荷時の基準出力値VをVとし、校正時の基準出力値VをV’とすると、以下の式により定義される。
R=V’/V…(式8)
は、第2検量線と、校正時におけるサーミスタ温度ThnewとによってV=g(Thnew)の式より算出される。一方、V’は、校正時の基準濃度において、第1バンドパスフィルタ34が選択される場合の濃度出力値である。校正時の実環境においては、必ずしも基準濃度ではないため、V’=Vref×Cの式よりV’が算出される。そのため、上記(式8)は、R=Vref×C/g(Thnew)と書き換えられる。換算係数Cは、上記(式6)によって定義されていることから、校正係数Rは、校正時のガス濃度に関わらず算出することができる。
濃度変換処理回路46は、校正係数Rが算出された場合には、算出された校正係数Rを用いて第2検量線を校正する。具体的には、以下の式を校正後の第2検量線として用いる。
=R×g(Th)…(式9)
濃度変換処理回路46は、校正時以降のガスの濃度Cの算出には、上記(式4)に代えて上記(式9)を用いる。すなわち、濃度変換処理回路46は、上記(式9)に示される校正後の第2検量線を用いて基準出力値Vを算出し、算出された基準出力値Vと、第1検量線とを用いてガスの濃度Cを算出する。
以下に、濃度変換処理回路46において校正処理が実行されるタイミングについて記載する。
濃度変換処理回路46は、たとえば、使用当初から予め定められた時間が経過する場合に、初回の校正処理を実行する。濃度変換処理回路46は、初回の校正処理を実行するまでは、上記(式4)に示す出荷時の第2検量線を用いて基準出力値Vを算出する。濃度変換処理回路46は、初回の校正処理の実行後においては、上記(式9)に示す校正後の第2検量線を用いて基準出力値Vを算出する。濃度変換処理回路46は、初回の校正処理を実行した後は、予め定められた時間が経過する毎に校正処理を実行する。
さらに濃度変換処理回路46は、初回の校正処理の実行後においては、予め定められた時間が経過するまでの間であっても、環境温度が前回の校正処理の実行時点の温度からしきい値以上に変化(上昇または低下)した場合に校正処理を実行する。予め定められた時間は、たとえば、24時間である。しきい値は、たとえば、前回の校正処理の実行時点の温度から±5℃である。
本実施の形態において、濃度変換処理回路46は、図7のフローチャートに従って校正処理を実行する。
すなわち、ステップ(以下、ステップをSと記載する)100にて、濃度変換処理回路46は、初回の校正処理が実行済であるか否かを判定する。濃度変換処理回路46は、たとえば、初回の校正処理が実行済であることを示すフラグがオン状態である場合に、初回の校正処理が実行済であると判定する。初回の校正処理が実行済であると判定される場合(S100にてYES)、処理はS106に移される。そうでない場合(S100にてNO)、処理はS102に移される。
S102にて、濃度変換処理回路46は、初回の校正処理の実行条件が成立するか否かを判定する。初回の校正処理の実行条件は、たとえば、使用当初から予め定められた時間が経過したという条件を含むものとして説明するが、当該条件に加えて、または、代えて他の条件(たとえば、温度条件)を含むようにしてもよい。初回の校正処理の実行条件が成立すると判定される場合(S102にてYES)、処理はS104に移される。そうでない場合(S102にてNO)、この処理は終了する。
S104にて、濃度変換処理回路46は、初回の校正処理を実行する。校正処理の内容については上述したとおりであるため、その詳細な説明は繰り返さない。このとき濃度変換処理回路46は、初回の校正処理が実行済であることを示すフラグをオン状態にする。濃度変換処理回路46は、初回の校正処理の実行以降において、校正後の第2検量線(上記(式9))を用いてガスの濃度Cを算出する。
S106にて、濃度変換処理回路46は、時間条件が成立するか否かを判定する。具体的には、濃度変換処理回路46は、初回の校正処理が実行されてから、または、前回の時間条件が成立してから予め定められた時間が経過したという時間条件が成立するか否かを判定する。時間条件が成立すると判定される場合(S106にてYES)、処理はS112に移される。そうでない場合(S106にてNO)、処理はS108に移される。
S108にて、濃度変換処理回路46は、温度変化条件が成立するか否かを判定する。濃度変換処理回路46は、直前の校正処理が実行された時点における温度と、現在の温度との差の大きさがしきい値以上である場合に温度変化条件が成立したと判定する。温度変化条件が成立すると判定される場合(S108にてYES)、処理はS110に移される。そうでない場合(S108にてNO)、この処理は終了する。
S110にて、濃度変換処理回路46は、直前までに算出された校正係数Rの履歴の中から利用可能な校正係数Rがあるか否かを判定する。具体的には、濃度変換処理回路46は、直前までに算出された校正係数Rの履歴のうち、現在の温度が、校正係数Rの算出時点の温度を基準とした所定の温度範囲内(算出時点の温度に予め定められた値を加算した値を上限値とし、算出時点の温度から予め定められた値を減算した値を下限値とする範囲内)となり、かつ、校正係数Rの算出時点からの経過時間が有効時間内となる校正係数Rがあるか否かを判定する。直前までに算出された校正係数Rの履歴の中から利用可能な校正係数Rがあると判定される場合(S110にてYES)、処理はS114に移される。そうでない場合(S110にてNO)、処理はS112に移される。
S112にて、濃度変換処理回路46は、校正処理を実行する。S114にて、濃度変換処理回路46は、利用可能であると判定された校正係数Rを用いて校正係数Rを更新する。なお、利用可能であると判定された校正係数Rが複数個ある場合には、たとえば、直前に算出された校正係数Rを用いて校正係数Rを更新してもよいし、現在の温度と校正係数Rの算出時点の温度との差が最も小さい校正係数Rを用いて校正係数Rを更新してもよい。
図7に示すフローチャートに従って校正処理を実行する場合のガス濃度検出装置10の動作の一例について図8を用いて説明する。なお、図8に示されるA〜Fの各点は、校正係数Rが更新される時点を示し、A〜Fの各点を左端の中央値とした矩形の領域は、各点で算出された校正係数Rの有効範囲を示す。
時間T(0)にて、初回の校正処理が実行済でなく(S100にてNO)、初回の校正処理の実行条件が成立した場合(S102にてYES)、初回の校正処理が実行される(S104)(A点)。
時間T(1)にて、初回の校正処理が実行済であって(S100にてYES)、かつ、前回の校正処理が実行されてから予め定められた時間が経過した場合(S106にてYES)、校正処理が実行される(S112)(B点)。
時間T(1)から予め定められた時間が経過する前の時間T(2)にて(S106にてNO)、前回の校正処理が実行された時点(時間T(1))の温度Th(0)と現在の温度Thとの差の大きさがしきい値以上となる場合であって(S108にてYES)、かつ、直前までに算出された校正係数Rの履歴のうち利用できる校正係数Rがない場合(S110にてNO)、校正処理が実行される(S112)(C点)。
その後、環境温度が低下し、時間T(1)から予め定められた時間が経過する前の時間T(3)にて、前回の校正処理が実行された時点(時間T(2))の温度Th(1)と現在の温度Thとの差の大きさがしきい値以上となる場合(S108にてYES)、直前までに算出された校正係数の履歴のうち利用できる校正係数Rがあるか否かが判定される(S110)。現在の温度と時間とが時間T(1)(B点)にて算出された校正係数Rの有効範囲内である場合、利用できる校正係数Rがあると判定され(S110にてYES)、B点で算出された校正係数Rを用いて校正係数Rが更新される(S114)(D点)。
時間T(1)から予め定められた時間が経過した時間T(4)にて(S106にてYES)、校正処理が実行される(S112)(E点)。その後、環境温度がさらに低下し、時間T(4)から予め定められた時間が経過する前の時間T(5)にて、前回の校正処理が実行された時点(時間T(4))の温度Th(2)と現在の温度Thとの差の大きさがしきい値以上となる場合であって(S108にてYES)、直前までに算出された校正係数Rの履歴のうち利用できる校正係数Rがない場合(S110にてNO)、校正処理が実行される(S112)(F点)。
以上のようにして、本実施の形態に係るガス濃度検出装置10によると、ガス濃度検出装置10の光源20等の構成部品の劣化により出力特性に変動が生じた場合にも、第3検量線と上記(式8)とを用いて校正係数Rを算出して、算出された校正係数Rを用いて第2検量線を適切に校正することができる。そのため、ガスの濃度の検出精度の悪化を抑制することができる。したがって、変動した出力特性を適切に校正するガス濃度検出装置およびガス濃度検出装置におけるガス濃度の算出方法を提供することができる。
さらに、換算係数Cとサーミスタ温度Thとの関係を示す第3検量線を用いて校正係数Rを算出することにより、校正時の濃度に関わらず、第2検量線を適切に校正する校正係数Rを算出することができる。
さらに予め定められた時間が経過する毎に校正係数Rを算出することにより、ガス濃度検出装置10の出力特性を適切に校正することができる。
さらに、温度が大きく変化する場合には、変化前の校正係数Rを用いて第2検量線を有効に校正できない場合があるため、校正処理を実行することにより、変化後の温度に応じた適切な校正係数Rを算出することができる。そのため、第2検量線を適切に校正することができる。
さらに校正係数の履歴を利用することにより、再度の校正係数の算出が不要となるため、無駄に校正処理を実行することを抑制することができる。そのため、効率の良い頻度で校正処理を実行することができる。また、校正処理の実行頻度の低下により、切替装置32の切換に消費される電力を低減することが可能となる。
以下に変形例について説明する。
なお、上述の実施の形態では、ガス濃度検出装置10による濃度の検出対象となる気体は、二酸化炭素であったが、検出対象となる気体は、二酸化炭素に特に限定されるものではない。たとえば、一酸化炭素やCHやNO等のガスであってもよい。また、濃度検出対象が二酸化炭素以外の気体である場合には、第1波長帯は、濃度の検出対象となる気体の種類に応じた波長(すなわち、濃度の検出対象となる気体の吸収率が高い波長)を基準とした波長帯が選択される。
なお、上述の実施の形態では、切替装置が切替駆動回路からの制御信号に基づいて第1バンドパスフィルタまたは第2バンドパスフィルタを光源と焦電センサとの間の光路上に配置し、機械的にフィルタの切替を行なっていた。フィルタは、光路上に、検出対象のガスによって他の波長帯よりも赤外線が吸収される程度が高い第1波長帯と、第1波長帯よりも赤外線が吸収される程度が低い第2波長帯とのうちのいずれか一方を選択して通過させるフィルタであればよく、2つのフィルタを選択するものに限定されるものではない。第1バンドパスフィルタおよび第2バンドパスフィルタに代えて、例えばファブリペローフィルタを光源と焦電センサとの間の光路上に配置し、電気的にフィルタの切替を行なってもよい。
なお、ガス濃度検出装置10は、基準濃度において予め実験等により取得された複数種類の温度(サーミスタ温度Th)に代えて、基準濃度において予め実験等により取得された複数種類の温度の電圧値(サーミスタの出力電圧Vth)を用いてもよい。すなわち、基準出力値Vは、サーミスタの出力電圧Vthから求められてもよい。したがって、上記(式4)、(式5)において、ThをVthに置き換えてもよい。
本実施の形態においては、換算係数Cは、第3検量線に従って温度依存性を有するものとして説明したが、温度依存性が微小である場合には、換算係数Cは、予め定められた値であってもよい。
なお、図1に示すガス濃度検出装置10の構成は、一例であり、図1に示される構成に特に限定されるものではない。
また、図3に示すガス濃度検出装置10の回路構成は、一例であり、図3に示される回路構成に限定されるものではない。
本実施の形態において、予め定められた基準温度は、25℃であるものとして説明したが、予め定められた基準温度は、25℃以外の温度であってもよい。
上述の実施の形態では、基準濃度における複数の温度(0℃、10℃、25℃、40℃および50℃)にそれぞれ対応した複数の焦電センサ24の出力値が予め実験等により取得されるものとして説明した。さらに、上述の実施の形態では、基準濃度における複数の温度(0℃、10℃、25℃、40℃および50℃)にそれぞれ対応した基準出力値V0と参照出力値Vrefとが予め実験等により取得されるものとして説明した。しかしながら、複数の温度としてはこれらの温度に限定されるものではなく、複数の温度は、上記した温度以外の温度を含むようにしてもよい。
本実施の形態においては、校正処理は、出荷時の第2検量線からの出力特性の変動に基づいて第2検量線を校正するものとして説明したが、たとえば、前回の校正処理後の第2検量線からの出力特性の変動に基づいて第2検量線を校正するようにしてもよい。
本実施の形態においては、参照出力値Vrefは、第2バンドパスフィルタ36が選択された場合の基準濃度における濃度出力値として説明したが、参照出力値Vrefは、検出対象のガスの吸収の影響を受けないため、基準濃度における濃度出力値に基づいて設定される必要はない。そのため、参照出力値Vrefは、濃度に関係なく、設定されてもよい。なお、上記した変形例は、その全部または一部を組み合わせて実施してもよい。
<第2の実施の形態>
以下、第2の実施の形態に係るガス濃度検出装置について説明する。本実施の形態に係るガス濃度検出装置は、上述の第1の実施の形態に係るガス濃度検出装置の構成と比較して、濃度変換処理回路46の動作が異なる。それ以外の構成については、上述の第1の実施の形態に係るガス濃度検出装置10の構成と同じ構成である。それらについては同じ参照符号が付してある。それらの機能も同じである。したがって、それらについての詳細な説明はここでは繰り返さない。
上述の第1の実施の形態においては、換算係数と温度出力値との関係を示す第3検量線を用いて第2検量線を校正する点について説明したが、本実施の形態においては、第3検量線に代えて第4検量線を追加し、追加した第4検量線を用いて第2検量線を校正する点を特徴とする。
第4検量線は、サーミスタ温度Thと参照出力値V0rとの関係を示す。第4検量線は、第2バンドパスフィルタ36が選択されている場合において、二酸化炭素の複数の温度の各々に対応した、予め取得された複数の焦電センサ24の出力値に基づいて所定の次数の近似式を導出して設定される。
本実施の形態において、第4検量線は、以下の式で示される。
0r=gref(Th)…(式10)
上記(式10)におけるgrefは、所定の次数の関数であって、たとえば、grefがN次関数である場合には、参照出力値V0rは、以下の式で示される。
0r=d×Th+d×ThN−1+・・・+dN+1…(式11)
上記(式11)におけるd〜dN+1は、第2バンドパスフィルタ36が選択される場合に、予め実験等により取得された複数種類の温度(サーミスタ温度Th)と焦電センサ24の出力値との組み合わせに基づいて算出される。
たとえば、複数の温度(0℃、10℃、25℃、40℃および50℃)にそれぞれ対応した複数の焦電センサ24の出力値が予め実験等により取得され、取得された出力値に基づいてd〜dN+1が算出される。
上記(式11)および算出されたd〜dN+1は、駆動回路40に設けられるメモリ等の記憶媒体に記憶される。
本実施の形態において、濃度変換処理回路46は、第4検量線を用いて校正係数Rを算出する。
校正係数Rは、上述の第1の実施の形態においては、上記(式8)により算出されるものとして説明したが、本実施の形態において校正係数Rは、出荷時の参照出力値V0rをV0rとし、校正時の参照出力値V0rをV0r’とすると、以下の式によって算出されるものとする。
R=V0r/V0r’…(式12)
なお、上記(式12)を用いて算出される校正係数Rは、上記(式8)を用いて算出される校正係数Rと実質的に同じ値となる。
0rは、第4検量線と、校正時におけるサーミスタ温度ThnewとによってV0r=gref(Thnew)の式より算出される。V0r’は、第2バンドパスフィルタ36が選択される場合の濃度出力値である。
濃度変換処理回路46は、校正係数Rが算出された場合には、算出された校正係数Rを用いて第2検量線を校正する。具体的には、上記(式9)を校正後の第2検量線として用いる。
なお、校正処理の実行タイミングについては、上述の第1の実施の形態において、図7および図8を用いて説明したとおりであるため、その詳細な説明は繰り返さない。
以上のようにして、本実施の形態に係るガス濃度検出装置10によると、ガス濃度検出装置10の光源20等の構成部品の劣化により出力特性に変動が生じた場合にも、第4検量線と上記(式12)とを用いて校正係数Rを算出して、算出された校正係数Rを用いて第2検量線を適切に校正することができる。そのため、ガスの濃度の検出精度の悪化を抑制することができる。したがって、変動した出力特性を適切に校正するガス濃度検出装置およびガス濃度検出装置におけるガス濃度の算出方法を提供することができる。
また、第4検量線を用いて校正係数Rを算出することにより、校正時の濃度に関わらず、第2検量線を適切に校正する校正係数Rを算出することができる。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
10 ガス濃度検出装置、12 回路基板、14 カバー、16 開口、18 光路部、20 光源、22 保持台、23 反射部材、24 焦電センサ、28 サーミスタ、30 濃度検出部、32 切替装置、34 第1バンドパスフィルタ、36 第2バンドパスフィルタ、40 駆動回路、42 増幅回路、44 AD変換回路、46 濃度変換処理回路、48 切替駆動回路。

Claims (11)

  1. 赤外線を放射する光源と、前記光源から放射された前記赤外線を受光し、受光量に応じた第1出力値を出力する受光センサと、前記光源と前記受光センサとの間に設けられ、前記赤外線の光路を形成する反射部材と、前記光路上に、検出対象のガスによって他の波長帯よりも前記赤外線が吸収される程度が高い第1波長帯と、前記第1波長帯よりも前記赤外線が吸収される程度が低い第2波長帯とのうちのいずれか一方を選択して通過させるフィルタと、前記ガスの温度に応じた第2出力値を出力する温度センサとを含むガス濃度検出装置におけるガス濃度の算出方法であって、
    前記フィルタが前記第1波長帯の赤外線を通過させる場合の前記第1出力値と、基準温度における前記ガスの濃度と前記第1出力値を基準出力値で規格化した値との関係を示す第1検量線と、基準濃度における前記第2出力値と前記基準出力値との関係を示す第2検量線とを予め定めるステップと、
    前記フィルタが前記第2波長帯の赤外線を通過させる場合の前記第1出力値に基づいて前記第2検量線を校正する校正係数を算出するステップと、
    前記校正係数に基づいて前記第2検量線を校正するステップと、
    前記第1検量線と校正された第2検量線とに基づいて前記ガスの濃度を算出するステップとを含む、ガス濃度検出装置におけるガス濃度の算出方法。
  2. 前記校正係数を算出するステップは、
    前記フィルタが前記第2波長帯の赤外線を通過させる場合の前記基準濃度における前記第1出力値である参照出力値に対する、前記フィルタが前記第1波長帯の赤外線を通過させる場合の前記基準濃度における前記第1出力値である基準出力値の比を示す換算係数を算出するステップと、
    前記第2出力値と前記参照出力値と前記換算係数とに基づいて前記校正係数を算出するステップとを含む、請求項1に記載のガス濃度検出装置におけるガス濃度の算出方法。
  3. 前記換算係数を算出するステップにて、前記基準濃度における、前記第2出力値に対応する前記換算係数を予め定められた第3検量線に基づいて算出する、請求項2に記載のガス濃度検出装置におけるガス濃度の算出方法。
  4. 前記校正係数を算出するステップは、
    前記フィルタが前記第2波長帯の赤外線を通過させる場合の前記第2出力値に対応した参照出力値を予め定められた第4検量線を用いて算出するステップと、
    前記フィルタが前記第2波長帯の赤外線を通過させる場合の前記第1出力値に対する前記参照出力値の比を前記校正係数として算出するステップとを含む、請求項1に記載のガス濃度検出装置におけるガス濃度の算出方法。
  5. 赤外線を放射する光源と、
    前記光源から放射された前記赤外線を受光し、受光量に応じた第1出力値を出力する受光センサと、
    前記光源と前記受光センサとの間に設けられ、前記赤外線の光路を形成する反射部材と、
    前記光路上に、検出対象のガスによって他の波長帯よりも前記赤外線が吸収される程度が高い第1波長帯と、前記第1波長帯よりも前記赤外線が吸収される程度が低い第2波長帯とのうちのいずれか一方を選択して通過させるフィルタと、
    前記ガスの温度に応じた第2出力値を出力する温度センサと、
    前記光路上のガスの濃度を算出する算出部とを備え、
    前記フィルタが前記第1波長帯の赤外線を通過させる場合の前記第1出力値と、基準温度における前記ガスの濃度と前記第1出力値を基準出力値で規格化した値との関係を示す第1検量線と、基準濃度における前記第2出力値と前記基準出力値との関係を示す第2検量線とが予め定められ、
    前記算出部は、
    前記フィルタが前記第2波長帯の赤外線を通過させる場合の前記第1出力値に基づいて前記第2検量線を校正する校正係数を算出し、
    前記校正係数に基づいて前記第2検量線を校正し、
    前記第1検量線と校正された第2検量線とに基づいて前記ガスの濃度を算出する、ガス濃度検出装置。
  6. 前記算出部は、
    前記フィルタが前記第2波長帯の赤外線を通過させる場合の前記基準濃度における前記第1出力値である参照出力値に対する、前記フィルタが前記第1波長帯の赤外線を通過させる場合の前記基準濃度における前記第1出力値である前記基準出力値の比を示す換算係数を算出し、
    前記第2出力値と前記参照出力値と前記換算係数とに基づいて前記校正係数を算出する、請求項5に記載のガス濃度検出装置。
  7. 前記算出部は、前記基準濃度における、前記第2出力値に対応する前記換算係数を予め定められた第3検量線に基づいて算出する、請求項6に記載のガス濃度検出装置。
  8. 前記算出部は、
    前記フィルタが前記第2波長帯の赤外線を通過させる場合の前記第2出力値に対応した参照出力値を予め定められた第4検量線を用いて算出し、
    前記フィルタが前記第2波長帯の赤外線を通過させる場合の前記第1出力値に対する前記参照出力値の比を前記校正係数として算出する、請求項5に記載のガス濃度検出装置。
  9. 前記算出部は、予め定められた時間が経過する毎に前記校正係数を算出する、請求項5〜8のいずれかに記載のガス濃度検出装置。
  10. 前記算出部は、前記校正係数を算出した後に、前記校正係数を算出した時点の前記第2出力値が予め定められた値以上変化した場合には、前記校正係数を再度算出する、請求項5〜9のいずれかに記載のガス濃度検出装置。
  11. 前記算出部は、直前までに算出された校正係数の履歴のうち、有効時間内であって、かつ、前記第2出力値と、前記校正係数を算出した時点の前記第2出力値との差が前記予め定められた値よりも小さい場合には、当該校正係数を用いて前記第2検量線を校正する、請求項10に記載のガス濃度検出装置。
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