JPWO2015166860A1 - オキシラン化合物及びそれを用いた含窒素複素環式化合物を製造する方法 - Google Patents
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- -1 Oxirane compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 192
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 83
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 76
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 39
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 37
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 26
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 26
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims abstract description 12
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 12
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 claims abstract description 12
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 12
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 90
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 24
- JAAMCDCMUVIEPE-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-3-[3-(5-phenyl-1h-pyrazol-3-yl)phenyl]-1h-pyrazole Chemical compound C=1C(C=2C=C(C=CC=2)C2=NNC(=C2)C=2C=CC=CC=2)=NNC=1C1=CC=CC=C1 JAAMCDCMUVIEPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 9
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 6
- VECRFNNOBWDFTA-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-5-[3-(2-ethyl-5-phenylpyrazol-3-yl)phenyl]-3-phenylpyrazole Chemical compound C(C)N1N=C(C=C1C1=CC(=CC=C1)C1=CC(=NN1CC)C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 VECRFNNOBWDFTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BRQNFKLPPHAYLJ-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-3-[3-(1-methyl-5-phenylpyrazol-3-yl)phenyl]-5-phenylpyrazole Chemical compound CN1N=C(C=C1C1=CC=CC=C1)C1=CC(=CC=C1)C1=NN(C(=C1)C1=CC=CC=C1)C BRQNFKLPPHAYLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OEKCJTORYRONPX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-4-[3-(2-ethoxy-6-phenylpyrimidin-4-yl)phenyl]-6-phenylpyrimidine Chemical compound C(C)OC1=NC(=CC(=N1)C1=CC=CC=C1)C1=CC(=CC=C1)C1=CC(=NC(=N1)OCC)C1=CC=CC=C1 OEKCJTORYRONPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NTBHPMYMWYSBSG-UHFFFAOYSA-N 3-phenyl-5-[3-(3-phenyl-1,2-oxazol-5-yl)phenyl]-1,2-oxazole Chemical compound C1(=CC=CC=C1)C1=NOC(=C1)C1=CC(=CC=C1)C1=CC(=NO1)C1=CC=CC=C1 NTBHPMYMWYSBSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- AHZZSNZVRPRIAG-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(2-oxo-6-phenyl-1H-pyrimidin-4-yl)phenyl]-6-phenyl-1H-pyrimidin-2-one Chemical compound OC1=NC(=CC(=N1)C1=CC=CC=C1)C1=CC(=CC=C1)C1=CC(=NC(=N1)O)C1=CC=CC=C1 AHZZSNZVRPRIAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZBJDNACDLYHRQO-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-6-[3-(6-phenyl-2-propoxypyrimidin-4-yl)phenyl]-2-propoxypyrimidine Chemical compound C(CC)OC1=NC(=CC(=N1)C1=CC=CC=C1)C1=CC(=CC=C1)C1=CC(=NC(=N1)OCCC)C1=CC=CC=C1 ZBJDNACDLYHRQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BKOXBAHRKMFHPV-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-3-[3-(5-phenyl-1,2-oxazol-3-yl)phenyl]-1,2-oxazole Chemical compound C1(=CC=CC=C1)C1=CC(=NO1)C1=CC(=CC=C1)C1=NOC(=C1)C1=CC=CC=C1 BKOXBAHRKMFHPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZFTAEQVDLRKELM-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-3-[3-(5-phenyl-1-propylpyrazol-3-yl)phenyl]-1-propylpyrazole Chemical compound C(CC)N1N=C(C=C1C1=CC=CC=C1)C1=CC(=CC=C1)C1=NN(C(=C1)C1=CC=CC=C1)CCC ZFTAEQVDLRKELM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PHIUZCFFXJYSMX-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)N1N=C(C=C1C1=CC(=CC=C1)C1=CC(=NN1C(C)C)C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1.C(CC)N1N=C(C=C1C1=CC(=CC=C1)C1=CC(=NN1CCC)C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(C)(C)N1N=C(C=C1C1=CC(=CC=C1)C1=CC(=NN1C(C)C)C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1.C(CC)N1N=C(C=C1C1=CC(=CC=C1)C1=CC(=NN1CCC)C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 PHIUZCFFXJYSMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 abstract description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 34
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 30
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 20
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 description 17
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 12
- DQFBYFPFKXHELB-UHFFFAOYSA-N Chalcone Natural products C=1C=CC=CC=1C(=O)C=CC1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 11
- 235000005513 chalcones Nutrition 0.000 description 11
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 11
- DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N trans-chalcone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 11
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- SUBJHSREKVAVAR-UHFFFAOYSA-N sodium;methanol;methanolate Chemical compound [Na+].OC.[O-]C SUBJHSREKVAVAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 9
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 9
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZNZYKNKBJPZETN-WELNAUFTSA-N Dialdehyde 11678 Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C2=C1[C@H](C[C@H](/C(=C/O)C(=O)OC)[C@@H](C=C)C=O)NCC2 ZNZYKNKBJPZETN-WELNAUFTSA-N 0.000 description 8
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical group OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- IZALUMVGBVKPJD-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-dicarbaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC(C=O)=C1 IZALUMVGBVKPJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000005882 aldol condensation reaction Methods 0.000 description 7
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 7
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 6
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 5
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 4
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 4
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 4
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 4
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 4
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 4
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PNKUSGQVOMIXLU-UHFFFAOYSA-N Formamidine Chemical compound NC=N PNKUSGQVOMIXLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 239000003586 protic polar solvent Substances 0.000 description 3
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 3
- ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N sodium amide Chemical compound [NH2-].[Na+] ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 3
- NWZSZGALRFJKBT-KNIFDHDWSA-N (2s)-2,6-diaminohexanoic acid;(2s)-2-hydroxybutanedioic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O.NCCCC[C@H](N)C(O)=O NWZSZGALRFJKBT-KNIFDHDWSA-N 0.000 description 2
- 0 *C(C1OC1c1c(*)c(*)c(*)c(*)c1*)=O Chemical compound *C(C1OC1c1c(*)c(*)c(*)c(*)c1*)=O 0.000 description 2
- HECRDSFKLUVCAY-UHFFFAOYSA-N 3,5-diphenyl-1,2-oxazole Chemical compound C=1C(C=2C=CC=CC=2)=NOC=1C1=CC=CC=C1 HECRDSFKLUVCAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 3-chloroperbenzoic acid Chemical compound OOC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNRBDWATAKFAOA-UHFFFAOYSA-N 3-phenyl-5-[3-(5-phenyl-2-propan-2-ylpyrazol-3-yl)phenyl]-1-propan-2-ylpyrazole Chemical compound C(C)(C)N1N=C(C=C1C1=CC(=CC=C1)C1=CC(=NN1C(C)C)C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 XNRBDWATAKFAOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N Dimethyl sulfoxide Chemical compound [2H]C([2H])([2H])S(=O)C([2H])([2H])[2H] IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- FFHWGQQFANVOHV-UHFFFAOYSA-N dimethyldioxirane Chemical group CC1(C)OO1 FFHWGQQFANVOHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- IKDUDTNKRLTJSI-UHFFFAOYSA-N hydrazine monohydrate Substances O.NN IKDUDTNKRLTJSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 238000005580 one pot reaction Methods 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- IMACFCSSMIZSPP-UHFFFAOYSA-N phenacyl chloride Chemical compound ClCC(=O)C1=CC=CC=C1 IMACFCSSMIZSPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003217 pyrazoles Chemical class 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKEAXWHXPTXMJK-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-3-[3-(1-ethyl-5-phenylpyrazol-3-yl)phenyl]-5-phenylpyrazole Chemical compound C(C)N1N=C(C=C1C1=CC=CC=C1)C1=CC(=CC=C1)C1=NN(C(=C1)C1=CC=CC=C1)CC XKEAXWHXPTXMJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAKRRTNXDPLYTG-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-5-[3-(2-methyl-5-phenylpyrazol-3-yl)phenyl]-3-phenylpyrazole Chemical compound CN1N=C(C=C1C1=CC(=CC=C1)C1=CC(=NN1C)C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 BAKRRTNXDPLYTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- YGESBDBMFOVSLB-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-4-[3-(2-methoxy-6-phenylpyrimidin-4-yl)phenyl]-6-phenylpyrimidine Chemical compound COC1=NC(=CC(=N1)C1=CC=CC=C1)C1=CC(=CC=C1)C1=CC(=NC(=N1)OC)C1=CC=CC=C1 YGESBDBMFOVSLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000389 2-pyrrolyl group Chemical group [H]N1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- OKXUZJGRVUHDAO-UHFFFAOYSA-N 3-phenyl-5-[3-(5-phenyl-2-propylpyrazol-3-yl)phenyl]-1-propylpyrazole Chemical compound C(CC)N1N=C(C=C1C1=CC(=CC=C1)C1=CC(=NN1CCC)C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 OKXUZJGRVUHDAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGWDQHPEPANTNK-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-3-[3-(5-phenyl-1-propan-2-ylpyrazol-3-yl)phenyl]-1-propan-2-ylpyrazole Chemical compound C(C)(C)N1N=C(C=C1C1=CC=CC=C1)C1=CC(=CC=C1)C1=NN(C(=C1)C1=CC=CC=C1)C(C)C VGWDQHPEPANTNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QDRITRHVKOCUNW-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)OC1=NC(=CC(=N1)C1=CC=CC=C1)C1=C(C=CC=C1)C1=CC(=NC(=N1)OC(C)C)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(C)(C)OC1=NC(=CC(=N1)C1=CC=CC=C1)C1=C(C=CC=C1)C1=CC(=NC(=N1)OC(C)C)C1=CC=CC=C1 QDRITRHVKOCUNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 1
- 239000002026 chloroform extract Substances 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000002330 electrospray ionisation mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- HEFJCHKCDAWHDQ-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamimidate Chemical compound CCOC(N)=N HEFJCHKCDAWHDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHRIKZCFRVTHJH-UHFFFAOYSA-N ethylhydrazine Chemical compound CCNN WHRIKZCFRVTHJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N hydrogen peroxide;hydrate Chemical compound O.OO QOSATHPSBFQAML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002545 isoxazoles Chemical class 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- WCYAALZQFZMMOM-UHFFFAOYSA-N methanol;sulfuric acid Chemical compound OC.OS(O)(=O)=O WCYAALZQFZMMOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMAHPRNLQIRHIJ-UHFFFAOYSA-N methyl carbamimidate Chemical compound COC(N)=N RMAHPRNLQIRHIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDZGCSFEDULWCS-UHFFFAOYSA-N monomethylhydrazine Chemical compound CNN HDZGCSFEDULWCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 239000012038 nucleophile Substances 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- HTWGHPLTTCMRKW-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl carbamimidate Chemical compound CC(C)OC(N)=N HTWGHPLTTCMRKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJAQRHMKLVGSCG-UHFFFAOYSA-N propan-2-ylhydrazine Chemical compound CC(C)NN KJAQRHMKLVGSCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCAFYXGMKSCDKB-UHFFFAOYSA-N propyl carbamimidate Chemical compound CCCOC(N)=N QCAFYXGMKSCDKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKPBXIFLSVLDPA-UHFFFAOYSA-N propylhydrazine Chemical compound CCCNN UKPBXIFLSVLDPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003219 pyrazolines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003230 pyrimidines Chemical class 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BUUPQKDIAURBJP-UHFFFAOYSA-N sulfinic acid Chemical compound OS=O BUUPQKDIAURBJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000825 ultraviolet detection Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D231/12—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
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Abstract
Description
そのため、数多くの含窒素複素環式化合物が知られている。特に構造式中に含窒素複素環式骨格を複数有する化合物は、分子内に配位性の窒素原子を複数有するため、遷移金属等の様々な金属と錯体を容易に形成するという優れた性能を示す。
例えば、非特許文献1は、分子内に含窒素複素環式骨格であるピラゾール骨格を2つ有する化合物を製造する方法を開示している。このような特異な分子構造を有する化合物は、金属と錯体を容易に形成することにより、分析用試薬に利用できる。
本発明の課題は、含窒素複素環式化合物の製造において、安全性を高め、環境負荷を小さくすることである。
式(1)中のR3〜R6のうち少なくとも一つは式(2)で表される置換基である。
式(1)中のR3〜R7のうち式(2)で表される置換基以外は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アリール基、エステル基、アミド基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる。
式(2)中のR2は、置換基を有していてもよいアリール基である。
式(3)中のR3〜R6のうち少なくとも一つは、式(4)又は式(6)で表される置換基である。
式(5)中のR3〜R6のうち少なくとも一つは、式(4)又は式(6)で表される置換基である。
式(7)中のR3〜R6のうち少なくとも一つは、式(8)で表される置換基である。
式(3)中のR3〜R7のうち式(4)又は式(6)で表される置換基以外、式(5)中のR3〜R7のうち式(4)又は式(6)で表される置換基以外及び式(7)中のR3〜R7のうち式(8)で表される置換基以外は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アリール基、エステル基、アミド基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる。
式(3)及び式(5)中のZ1は、酸素原子及びNR10で表される置換基の少なくともいずれか一つである。前記R10は、水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、アリール基及びアシル基からなる群より選ばれる少なくとも一つである。
式(4)、式(6)及び式(8)中のR2は、置換基を有していてもよいアリール基である。
式(4)及び式(6)中のZ2は、酸素原子及びNR11で表される置換基の少なくともいずれか一つである。前記R11は、水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、アリール基及びアシル基からなる群より選ばれる少なくとも一つである。
式(7)中のR8及び式(8)中のR9は、水素原子及び炭素数1〜3のアルキル基の少なくともいずれか一つである。]
本発明の新規のオキシラン化合物を用いた含窒素複素環式化合物を製造する方法は、その工程で多量の臭化水素等のハロゲン化水素が発生しない。
また、本発明の含窒素複素環式化合物を製造する方法は、その工程でナトリウムアミド等の禁水性、自然発火性の化合物を用いないため、安全である。
本明細書において、化合物を製造する方法を、単に化合物の製造方法と称することがある。
また、本明細書において「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
本発明の態様の一つは、式(1)で示されるオキシラン化合物である。
式(1)中のR3〜R6のうち少なくとも一つは式(2)で表される置換基である。
式(1)中のR3〜R7のうち式(2)で表される置換基以外は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アリール基、エステル基、アミド基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる。
なお、前記アミノ基、アリール基、エステル基、アミド基は、置換基を有していてもよい。前記置換基は、例えばアルキル基、アリール基である。
式(2)中のR2は、置換基を有していてもよいアリール基である。
式(1)中のR1及び式(2)中のR2は、同一であってもよく、異なってもよい。
特に、式(1)で示されるオキシラン化合物を用いた反応は、構造式中に含窒素複素環式骨格を複数有する化合物を生成することができるため、極めて有用である。
式(1)で示されるオキシラン化合物がR1を備えるオキシラニル基と、R2を備えるオキシラニル基との2つのオキシラニル基を有する場合、前記オキシラニル基は、互いにオルト位又はメタ位に位置する。
なお、式(1)で示されるオキシラン化合物が2つのオキシラニル基を有する場合、式(1)で示されるオキシラン化合物のR4又はR5が、前記式(2)で示されるオキシラニル基であれば、前記オキシラニル基は、互いにオルト位に位置し、また、R3又はR6が、前記式(2)で表されるオキシラニル基であれば、前記オキシラニル基は、互いにメタ位に位置する。
オキシラニル基が互いにメタ位に位置するオキシラン化合物の例を式(1a)として示す。式(1a)で示されるオキシラン化合物は、式(1)で示されるオキシラン化合物において、R3が式(2)で表される置換基であり、R4〜R7がいずれも水素原子である化合物である。
前記アリール基が有する置換基は、例えばアルキル基、アリール基である。
前記アリール基は、フェニル基、ナフチル基、ピロリル基、ピリジル基、フリル基、チエニル基等を挙げることができる。特に前記R1及びR2が共にフェニル基の場合、式(1)で示されるオキシラン化合物を容易に製造できるため好ましい。
前記炭素数1〜3のアルキル基は、メチル基、エチル基、n―プロピル基、i-プロピル基等である。また、前記炭素数1〜3のアルコキシル基は、メトキシ基、プロポキシ基等である。
特に、前記R3〜R7のうち式(2)で表される置換基以外は、いずれも水素原子であることが好ましい。
特に、式(1)で示されるオキシラン化合物で、R1及びR2が共にフェニル基であり、R3が式(2)で表される置換基であり、R4〜R7がいずれも水素原子である1,3−ビス(3−オキソ−3−フェニルオキシラニル)ベンゼンであれば、オキシラン化合物の製造が容易であるため好ましい。
式(1b)に1,3−ビス(3−オキソ−3−フェニルオキシラニル)ベンゼンの構造式を示す。
前記アルドール縮合反応により得られた生成物の二重結合の酸化反応は、有機溶媒又は有機溶媒−水の混合溶媒中、前記生成物と有機過酸化物又は無機過酸化物とを作用させることによって行うことができる。前記有機過酸化物は、ジメチルジオキシラン(DMDO)、m−クロロ過安息香酸(mCPBA)、tert-ブチルヒドロペルオキシド(TBHP)等を、前記無機過酸化物は、過酸化水素、次亜塩素酸ナトリウム等を用いることができる。前記酸化反応に用いる酸化剤の使用量は、前記生成物に対して、200mol%以上が好ましい。前記酸化反応における反応温度は特に制限されないが、通常、0℃〜100℃である。前記酸化反応における反応溶媒は、反応を阻害しないものであれば特に制限はないが、非プロトン性極性溶媒、アルコール、水又はこれらの混合溶媒等を用いることができる。
本発明の別の態様の一つは、式(1)で示されるオキシラン化合物を用いて、含窒素複素環式化合物を製造する方法(以下、本発明の製造方法と称することがある)である。
本発明の製造方法により得られる含窒素複素環式化合物は、下記に示す式(3)、式(5)及び式(7)からなる群より選ばれる少なくとも一つの含窒素複素環式化合物である。
前記アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ピロリル基、ピリジル基、フリル基、チエニル基等が挙げられる。
式(3)中のR3〜R6のうち少なくとも一つは、式(4)又は式(6)で表される置換基である。
式(5)中のR3〜R6のうち少なくとも一つは、式(4)又は式(6)で表される置換基である。
式(7)中のR3〜R6のうち少なくとも一つは、式(8)で表される置換基である。
式(3)中のR3〜R7のうち式(4)又は式(6)で表される置換基以外、式(5)中のR3〜R7のうち式(4)又は式(6)で表される置換基以外及び式(7)中のR3〜R7のうち式(8)で表される置換基以外は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アリール基、エステル基、アミド基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる。
前記炭素数1〜3のアルキル基は、メチル基、エチル基、n―プロピル基、i-プロピル基等が挙げられる。また、前記炭素数1〜3のアルコキシル基は、メトキシ基、プロポキシ基等が挙げられる。
前記アミノ基、アリール基、エステル基、アミド基は、置換基を有していてもよい。
式(3)及び式(5)中のZ1は、酸素原子及びNR10で表される置換基の少なくともいずれか一つである。前記R10は、水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、アリール基及びアシル基からなる群より選ばれる少なくとも一つである。
前記炭素数1〜3のアルキル基は、メチル基、エチル基、n―プロピル基、i-プロピル基等が挙げられる。また、前記炭素数1〜3のアルコキシル基は、メトキシ基、プロポキシ基等が挙げられる。
式(4)、式(6)及び式(8)中のR2は、置換基を有していてもよいアリール基である。
前記アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ピロリル基、ピリジル基、フリル基、チエニル基等が挙げられる。
式(3)中のR1及び式(4)中のR2は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
式(5)中のR1及び式(6)中のR2は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
式(7)中のR1及び式(8)中のR2は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
式(4)及び式(6)中のZ2は、酸素原子及びNR11で表される置換基の少なくともいずれか一つである。前記R11は、水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、アリール基及びアシル基からなる群より選ばれる少なくとも一つである。
前記炭素数1〜3のアルキル基は、メチル基、エチル基、n―プロピル基、i-プロピル基等が挙げられる。また、前記炭素数1〜3のアルコキシル基は、メトキシ基、プロポキシ基等が挙げられる。
式(3)中のZ1及び式(4)中のZ2は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
式(5)中のZ1及び式(6)中のZ2は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
式(7)中のR8及び式(8)中のR9は、水素原子及び炭素数1〜3のアルキル基の少なくともいずれか一つである。
前記炭素数1〜3のアルキル基は、メチル基、エチル基、n―プロピル基、i-プロピル基等が挙げられる。また、前記炭素数1〜3のアルコキシル基は、メトキシ基、プロポキシ基等が挙げられる。
式(7)中のR8及び式(8)中のR9は同一であってもよく、異なっていてもよい。
式(1)で示されるオキシラン化合物から式(5)で示される含窒素複素環式化合物を製造する場合、式(1)で示されるオキシラン化合物が備えるR1と式(5)で示される含窒素複素環式化合物が備えるR1とは同一であり、また、式(2)で示されるオキシラニル基を有する置換基が備えるR2と式(6)で示される含窒素複素環式化合物を有する置換基が備えるR2とは同一である。
式(1)で示されるオキシラン化合物から式(7)で示される含窒素複素環式化合物を製造する場合、式(1)で示されるオキシラン化合物が備えるR1と式(7)で示される含窒素複素環式化合物が備えるR1とは同一であり、また、式(2)で示されるオキシラニル基を有する置換基が備えるR2と式(8)で示される含窒素複素環式化合物を有する置換基が備えるR2とは同一である。
特に、本発明の製造方法では、脱離基としてハロゲン原子を含まないため、環境負荷が大きいハロゲン化水素、特に臭化水素が発生せず、環境負荷を抑制することができる。
たとえば、式(3)で示される含窒素複素環式化合物では、R1を備える含窒素複素環式骨格とR2を備える含窒素複素環式骨格との少なくとも2つの含窒素複素環式骨格を有する。
式(3)で示される含窒素複素環式化合物が、R1を備える含窒素複素環式骨格と、R2を備える含窒素複素環式骨格との2つの含窒素複素環式骨格を有する場合、式(3)で示される含窒素複素環式化合物の含窒素複素環式骨格は、互いにオルト位又はメタ位に位置する。
なお、式(3)で示される含窒素複素環式化合物が2つの含窒素複素環式骨格を有する場合、式(3)で示される含窒素複素環式骨格のR4又はR5が、前記式(4)又は式(6)で示される含窒素複素環式骨格であれば、前記含窒素複素環式骨格基は、互いにオルト位に位置し、また、R3又はR6が、前記式(4)又は式(6)で表される含窒素複素環式骨格であれば、前記含窒素複素環式骨格は、互いにメタ位に位置する。
式(3)で示される含窒素複素環式化合物において、たとえば、式(3)中のR4が式(4)又は式(6)で表される置換基の場合、「式(3)中のR3〜R7のうち式(4)又は式(6)で表される置換基以外」とは、式(3)中のR3、R5〜R7を意味する。この場合、式(3)中のR3、R5〜R7は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アリール基、エステル基、アミド基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる。
特に、式(3)で示される含窒素複素環式化合物が2つの含窒素複素環式骨格を有し、前記含窒素複素環式骨格が互いにメタ位に位置する構造、つまりR3が式(4)又は式(6)で表される置換基、であれば、本発明の製造方法により得られる含窒素複素環式化合物は、前記含窒素複素環式骨格が特異的な配置であり、遷移金属等の様々な金属と錯体を容易に形成するという特徴を有するため、たとえば各種分析用試薬として極めて有用である。
なお、1,3−ビス(3−フェニル−5−ピラゾリル)ベンゼン(3a)は、式(3)で示される含窒素複素環式化合物において、式(3)中のR1及び式(4)中のR2がいずれもフェニル基である化合物である。
式(3b)の化合物は、式(3)で示される含窒素複素環式化合物において、式(3)中のR1及び式(6)中のR2がいずれもフェニル基である化合物である。
なお、式(3a)の化合物と式(3b)の化合物とは、実質的に同一の化合物である。
本発明の製造方法により得られる含窒素複素環式化合物が1,3−ビス(3−フェニル−5−ピラゾリル)ベンゼン、1,3−ビス(3−フェニル−5−イソオキサゾリル)ベンゼン、1,3−ビス(5−フェニル−3−イソオキサゾリル)ベンゼンであることが、遷移金属等の様々な金属と錯体を容易に形成する性能がより優れるためより好ましく、1,3−ビス(3−フェニル−5−ピラゾリル)ベンゼンであることが特に好ましい。
前記尿素誘導体は、尿素、O−メチルイソ尿素、O−エチルイソ尿素、O−プロピルイソ尿素、O−イソプロピルイソ尿素等のO−アルキルイソ尿素を挙げることができる。
前記有機酸は、カルボン酸、ホスホン酸、スルホン酸、スルフィン酸等を挙げることができる。特にトリフルオロ酢酸、酢酸、p−トルエンスルホン酸が好ましい。
前記無機酸は、塩酸、硫酸、リン酸、ホウ酸等を挙げることができる。特に塩酸、硫酸が好ましい。
触媒としての酸は、前記ヒドラジン誘導体、尿素誘導体、ヒドロキシルアミン及びホルムアミジンからなる群より選ばれるいずれかの化合物の塩の形態としても、本発明の製造方法に用いることができる。
送液ポンプ:LC−20AD[(株)島津製作所製]
UV検出器:SPD−M20A[(株)島津製作所製]
カラムオーブン:CTO−20AC[(株)島津製作所製]
<分析条件>
カラム:Shimpak XR−ODS2 75L×3mmφ
溶離液:アセトニトリル/水(リン酸でpH3に調整)=70/30(v/v)
流速:1.0mL/min
カラム温度:40℃
UV検出波長:254nm
<試薬>
28質量%ナトリウムメトキシドメタノール溶液:東京化成工業株式会社製
イソフタルアルデヒド:和光純薬工業株式会社製
フェナシルクロリド:東京化成工業株式会社製
アセトフェノン:ナカライテスク株式会社製
80質量%水加ヒドラジン:日本カーバイド工業株式会社製
実施例1は、Darzens型の縮合反応により新規オキシラン化合物(1)を製造する方法である。
攪拌機、温度計を備えた200mL四つ口フラスコ中で、28質量%ナトリウムメトキシドメタノール溶液29.2gをメタノール68.4gで希釈し、イソフタルアルデヒド10.0gを添加し溶解させた。この溶液を冷却し、フェナシルクロリド23.4gを分割投入した。30分間撹拌後、生じたスラリーを分離し、残渣を39.2g得た。この残渣を攪拌機、温度計を備えた300mL四つ口フラスコに移し、水153.4gを加えて撹拌洗浄した後、スラリーを分離し、残渣を乾燥させ、20.0gの結晶を得た。イソフタルアルデヒドからの粗収率は74%であった。
MS(EI) m/z:77,105,147,265,370
実施例2は、上記実施例1で合成した新規のオキシラン化合物(1)を用いて、含窒素複素環式化合物(3)を製造する方法である。
攪拌機、温度計を備えた100mL四つ口フラスコ中で、実施例1で得られた1,3−ビス(3−オキソ−3−フェニルオキシラニル)ベンゼン2.0g、80質量%水加ヒドラジン1.0g、メタノール20.2gを量り取り、懸濁させた。次いで、内温58〜62℃に昇温し、5時間反応熟成させた後、35質量%塩酸を添加し、ユニバーサル試験紙で反応液のpHを3〜4に調整した。この反応液を更に5時間熟成後、30℃以下まで冷却し、24質量%水酸化ナトリウム水溶液を添加してpH7〜8に中和した。次いで反応液から不溶分を分離し、濃縮乾固した後、クロロホルム28.8gで懸濁させ、10.0gの水を使用して2回水洗した。次いで、t−ブチルメチルエーテル15.1gを有機層に滴下し、得られたスラリーを分離することで、0.49gの粗結晶を得た。この粗結晶にクロロホルム5.7gを加えて溶解し、水10.0gを加えて撹拌し、結晶を固液分離し、60℃で真空乾燥したところ、粉末性結晶0.36gを得た。
この粉末性結晶は、NMRを用いて解析した結果、1,3−ビス(3−フェニル−5−ピラゾリル)ベンゼンであった。収率は17%であった。また、HPLCを用いて純度を確認したところ96.1%であった。
1H NMR(DMSO−d6,TMS,400MHz) δppm=7.31(s,2H),7.33−7.43(m,2H),7.43−7.63(m,5H),7.75−8.00(m,6H),8.34−8.45(singlet−like,1H),13.47(brs,2H).
製造例1は、アルドール縮合反応により、新規オキシラン化合物(1)を製造するための前駆体を製造する方法である。
温度計、攪拌機を備えた容量3000mlのフラスコに、メタノール917.0g、アセトフェノン259.3gを投入し、15℃以下で28質量%ナトリウムメトキシドメタノール溶液445.8gを滴下した。約30分かけてイソフタルアルデヒド131.6gを分割投入し、30℃以下で終夜反応させた。次いで、この反応混合物を、ヌッチェを用いて固液分離し、析出固体をメタノール893.0gで洗浄することで、湿結晶764.7gを得た。上記フラスコとは別の3000mlのフラスコを用意し、この用意したフラスコに水1600.3gと得られた湿結晶764.7gを投入し、撹拌下に濃塩酸2.0gを加えた。次いで、得られた結晶を、ヌッチェを用いて固液分離し、水406.2g、メタノール502.1gの順で洗浄し、60℃で真空乾燥することで、319.9gの粉末性結晶を得た。
得られた粉末性結晶は、NMRを用いて解析した結果、3-(3-オキソ-3-フェニルプロペニル)カルコンであった。イソフタルアルデヒドからの粗収率は96%であった。
1H NMR(CDCl3,TMS,400MHz) δppm=7.45−7.53(m,5H),7.56−7.62(m,4H),7.68(dd,J=4.0,8.0Hz,2H),7.80(s,1H),7.84(s,1H),7.87(br,1H),8.03−8.05(m,4H).
実施例3は、実施例1とは別の方法、即ち製造例1で合成した3-(3-オキソ-3-フェニルプロペニル)カルコンの二重結合を酸化することにより、新規のオキシラン化合物(1)を製造する方法である。
温度計、攪拌機を備えた容量1000mlのフラスコ中に、メタノール499.1g、28質量%ナトリウムメトキシドメタノール溶液4.2g、製造例1で得られた3-(3-オキソ-3-フェニルプロペニル)カルコン50.7gを投入し、19〜30℃で35質量%過酸化水素水51.6gを15分かけて滴下した。次いで、3時間後に35質量%過酸化水素水7.2gを追加し、周囲温度下、終夜で反応をさせた。得られたスラリー状の反応液を4℃に冷却後、ヌッチェで固液分離し、湿結晶65.9gを得た。上記とは別の容量1000mlのフラスコを用意し、この用意したフラスコ中に、アセトン120.3g、得られた湿結晶28.6gを投入し、53℃で約1時間加熱撹拌後、周囲温度に冷却した。次いで析出した結晶を、ヌッチェを用いて固液分離後、40℃で終夜真空乾燥し、結晶を4.30g得た。
得られた結晶は、NMRを用いて解析した結果、1,3−ビス(3−オキソ−3−フェニルオキシラニル)ベンゼンであった。収率は18%であった。
実施例4は、実施例3で合成した新規オキシラン化合物(1)を用い、含窒素複素環式化合物(3)を製造する方法である。
温度計、攪拌機を備えた容量50mlのフラスコ中に、2−プロパノール30.1g、80質量%水加ヒドラジン1.4g、実施例3の1,3−ビス(3−オキソ−3−フェニルオキシラニル)ベンゼン3.01gを投入し、60℃で終夜で反応させた。冷却後、反応液をロータリーエバポレーターで減圧濃縮し、溶媒を留出させた。乾固した反応混合物に2−プロパノール30.1gを加えて懸濁後、65℃に昇温し、19質量%硫酸メタノール溶液1.6gを加えた。57〜68℃で3時間15分反応させ、28質量%ナトリウムメトキシドメタノール溶液0.62gを添加し、冷却した。得られた反応混合物をロータリーエバポレーターで減圧濃縮し、溶媒を留出させた。乾固後、この反応混合物にクロロホルムを加えて分散し、水で3回洗浄した。合計量で水170.8g、クロロホルム101.7gを使用した。得られた析出物をヌッチェを用いて固液分離し、真空乾燥させた。得られた乾燥結晶2.08gをクロロホルム12.4gに溶解し、t−ブチルメチルエーテル7.7gを加えた。析出した結晶を、ヌッチェを用いて固液分離し、60℃で終夜真空乾燥することで、結晶を1.56g得た。収率は53%であり、HPLCで確認した純度は96.1%であった。
得られた結晶は、NMRを用いて解析した結果、1,3−ビス(3−フェニル−5−ピラゾリル)ベンゼンであった。
製造例2は、アルドール縮合反応により、新規オキシラン化合物(1)を製造するための前駆体を製造する方法である。
温度計、攪拌機を備えた容量500mlのフラスコに、メタノール154.5g、アセトフェノン43.2gを投入し、10℃以下で28質量%ナトリウムメトキシドメタノール溶液74.3gを滴下した。約30分かけてイソフタルアルデヒド21.9gを分割して投入し、30℃以下で終夜反応させた。得られた反応混合物を、ヌッチェを用いて固液分離し、析出固体をメタノール70.4gで洗浄することで湿結晶74.6gを得た。上記のフラスコとは別に用意した容量500mlのフラスコに、水275.0gと湿結晶71.9gとを投入し、撹拌下に濃塩酸0.50gを加えた。得られた結晶を、ヌッチェを用いて固液分離し、水30.2g、メタノール74.8gの順で洗浄した。得られた湿結晶を60℃で真空乾燥し、53.6gの粉末性結晶を得た。イソフタルアルデヒドからの粗収率は97%であった。
得られた結晶は、NMRを用いて解析した結果、3-(3-オキソ-3-フェニルプロペニル)カルコンであった。
実施例5は、途中で新規のオキシラン化合物(1)を単離することなく、3−(3−オキソ−3−フェニルプロペニル)カルコンからワンポットで含窒素複素環式化合物(3)を製造する方法である。
温度計、攪拌機を備えた容量100mlのフラスコ中に、トルエン60.1g、メタノール1.5g、28質量%ナトリウムメトキシドメタノール溶液0.28g、製造例2で得られた3-(3-オキソ-3-フェニルプロペニル)カルコン6.03gを投入し、撹拌下にt−ブチルヒドロペルオキシド4.7gを約10分かけて滴下した。28質量%ナトリウムメトキシドメタノール溶液0.31gを追加し、30℃以下で24時間撹拌後、t−ブチルヒドロペルオキシド0.51gを追加し、45℃で3時間反応させた。反応後、HPLCにて反応混合物を分析し、1,3−ビス(3−オキソ−3−フェニルオキシラニル)ベンゼンの生成を確認した。反応混合物を分液漏斗に移し、12.7質量%チオ硫酸ナトリウム水溶液10.0gとブライン36.6gで洗浄した。トルエン層をロータリーエバポレーターで濃縮乾固し、乾固物にメタノール60.0g、80質量%水加ヒドラジン3.0gを加えた。撹拌下に、50〜60℃で約16時間反応させ、冷却後、ロータリーエバポレーターで揮発分を減圧留去した。乾固物に、1,2−ジメトキシエタン60.6gを加え、撹拌下に55〜60℃で、19.3%硫酸(濃硫酸をメタノールで希釈して調製)3.7gを滴下した。滴下終了後、50〜60℃で7時間20分反応させた。冷却後、28質量%ナトリウムメトキシドメタノール溶液2.4gを投入し、反応混合物をロータリーエバポレーターで濃縮乾固した。乾固物をクロロホルム40.0gで抽出、分液漏斗に移し、クロロホルム層を水で3回洗浄した(使用した水の合計量95.8g)。ロータリーエバポレーターでクロロホルムの一部を減圧留去し、24.3gとした。別の100mlフラスコにt−ブチルメチルエーテル36.7gを投入し、濃縮したクロロホルム抽出液24.3gを周囲温度下に滴下し、析出した固体をヌッチェを用いろ取した。ろ取した湿結晶4.8gを100mlフラスコ中の40℃のクロロホルム50.3gに溶解し、冷却後t−ブチルメチルエーテル20.3gを加え析出した結晶をヌッチェを用いろ取した。ろ取した湿結晶2.4gを100mlフラスコ中の40℃のクロロホルム19.7gに溶解し、冷却後t−ブチルメチルエーテル10.0gを加え析出した結晶をヌッチェを用いろ取した。ろ取した湿結晶2.22gのうち、1.08gを、100mlフラスコ中のクロロホルム9.6g、水9.9gに加え、撹拌洗浄した。結晶をヌッチェを用いろ取し、60℃で真空乾燥し、0.81gの1,3−ビス(3−フェニル−5−ピラゾリル)ベンゼンを粉末性結晶として得た。3-(3-オキソ-3-フェニルプロペニル)カルコンからの収率は26%であり、HPLCにより求めた純度は95.1%であった。
実施例6は、新規のオキシラン化合物(1)から含窒素複素環式化合物(3)を製造する際に、触媒を添加することなく、かつ途中で新規のオキシラン化合物(1)を単離せずに、対応するジアルデヒドとケトンからワンポットで含窒素複素環式化合物(3)を製造する方法である。
温度計、攪拌機を備えた容量300mlのフラスコ中に、メタノール95.9g、28質量%ナトリウムメトキシドメタノール溶液2.9g、アセトフェノン16.2gを投入した。約10分かけてイソフタルアルデヒド9.0gを分割して投入し、30℃以下で終夜反応させた。反応後、HPLCにて反応混合物を分析し、3-(3-オキソ-3-フェニルプロペニル)カルコンの生成を確認した。得られた反応混合物にメタノール9.4gを投入後、35質量%過酸化水素水25.2gを50℃以下で約30分かけて滴下し、30℃以下で約14時間反応させた。35質量%過酸化水素水1.2gを追加し、40〜45℃で約6時間反応させた。反応後、HPLCにて反応混合物を分析し、1,3−ビス(3−オキソ−3−フェニルオキシラニル)ベンゼンの生成を確認した。反応混合物中に、80質量%水加ヒドラジン13.7gを投入し、55〜65℃で約6時間反応させた。反応液8.7g(反応液全量の5.4%)を100mlフラスコに分取し、ロータリーエバポレーターで濃縮乾固した。乾固物1.48gのうち、0.10gを6mlバイアル瓶に分取し、ジメチルスルホキシド1.02gを投入した。150℃で終夜反応させ、反応液をHPLCで分析したところ、35.7Area%で1,3−ビス(3−フェニル−5−ピラゾリル)ベンゼンの生成が確認された。
Claims (10)
- 式(1)中のR3及びR6の少なくともいずれか一つが、前記式(2)で表される置換基である、請求項1に記載のオキシラン化合物。
- 前記R1及びR2がいずれもフェニル基である、請求項1又は請求項2に記載のオキシラン化合物。
- 前記R3〜R7のうち式(2)で表される置換基以外がいずれも水素原子である請求項1〜3のいずれか1項に記載のオキシラン化合物。
- 前記オキシラン化合物が1,3−ビス(3−オキソ−3−フェニルオキシラニル)ベンゼンである請求項1〜4のいずれか1項に記載のオキシラン化合物。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載のオキシラン化合物を用いて、式(3)、式(5)及び式(7)からなる群より選ばれるいずれか一つで示される含窒素複素環式化合物を製造する方法。
式(3)中のR3〜R6のうち少なくとも一つは、式(4)又は式(6)で表される置換基である。
式(5)中のR3〜R6のうち少なくとも一つは、式(4)又は式(6)で表される置換基である。
式(7)中のR3〜R6のうち少なくとも一つは、式(8)で表される置換基である。
式(3)中のR3〜R7のうち式(4)又は式(6)で表される置換基以外、式(5)中のR3〜R7のうち式(4)又は式(6)で表される置換基以外及び式(7)中のR3〜R7のうち式(8)で表される置換基以外は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アリール基、エステル基、アミド基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる。
式(3)及び式(5)中のZ1は、酸素原子及びNR10で表される置換基の少なくともいずれか一つである。前記R10は、水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、アリール基及びアシル基からなる群より選ばれる少なくとも一つである。
式(4)、式(6)、及び式(8)中のR2は、置換基を有していてもよいアリール基である。
式(4)及び式(6)中のZ2は、酸素原子及びNR11で表される置換基の少なくともいずれか一つである。前記R11は、水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、アリール基及びアシル基からなる群より選ばれる少なくとも一つである。
式(7)中のR8及び式(8)中のR9は、水素原子及び炭素数1〜3のアルキル基の少なくともいずれか一つである。] - 式(3)中のR3及びR6の少なくともいずれか一つが、式(4)で表される置換基である、請求項6に記載の含窒素複素環式化合物を製造する方法。
- 式(5)中のR3及びR6の少なくともいずれか一つが、式(6)で表される置換基である、請求項6に記載の含窒素複素環式化合物を製造する方法。
- 式(7)中のR3及びR6の少なくともいずれか一つが、式(8)で表される置換基である、請求項6に記載の含窒素複素環式化合物を製造する方法。
- 前記含窒素複素環式化合物が、1,3−ビス(3−フェニル−5−ピラゾリル)ベンゼン、1,3−ビス(5−フェニル−3−ピラゾリル)ベンゼン、1,3−ビス(1−メチル−3−フェニル−5−ピラゾリル)ベンゼン、1,3−ビス(1−エチル−3−フェニル−5−ピラゾリル)ベンゼン、1,3−ビス(1−プロピル−3−フェニル−5−ピラゾリル)ベンゼン、1,3−ビス(1−イソプロピル−3−フェニル−5−ピラゾリル)ベンゼン、1,3−ビス(1−メチル−5−フェニル−3−ピラゾリル)ベンゼン、1,3−ビス(1−エチル−5−フェニル−3−ピラゾリル)ベンゼン、1,3−ビス(1−プロピル−5−フェニル−3−ピラゾリル)ベンゼン、1,3−ビス(1−イソプロピル−5−フェニル−3−ピラゾリル)ベンゼン、1,3−ビス(3−フェニル−5−イソオキサゾリル)ベンゼン、1,3−ビス(5−フェニル−3−イソオキサゾリル)ベンゼン、1,3−ビス(2−メトキシ−4−フェニル−6−ピリミジル)ベンゼン、1,3−ビス(2−エトキシ−4−フェニル−6−ピリミジル)ベンゼン、1,3−ビス(2−プロポキシ−4−フェニル−6−ピリミジル)ベンゼン、1,3−ビス(2−イソプロポキシ−4−フェニル−6−ピリミジル)ベンゼン及び1,3−ビス(2−ヒドロキシ−4−フェニル−6−ピリミジル)ベンゼンからなる群より選ばれるいずれか一つである請求項6に記載の含窒素複素環式化合物を製造する方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014094282 | 2014-04-30 | ||
JP2014094282 | 2014-04-30 | ||
PCT/JP2015/062267 WO2015166860A1 (ja) | 2014-04-30 | 2015-04-22 | オキシラン化合物及びそれを用いた含窒素複素環式化合物を製造する方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2015166860A1 true JPWO2015166860A1 (ja) | 2017-04-20 |
JP6524069B2 JP6524069B2 (ja) | 2019-06-05 |
Family
ID=54358591
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016516339A Active JP6524069B2 (ja) | 2014-04-30 | 2015-04-22 | オキシラン化合物及びそれを用いた含窒素複素環式化合物を製造する方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6524069B2 (ja) |
CN (1) | CN106164060A (ja) |
WO (1) | WO2015166860A1 (ja) |
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- 2015-04-22 CN CN201580019275.2A patent/CN106164060A/zh active Pending
- 2015-04-22 JP JP2016516339A patent/JP6524069B2/ja active Active
- 2015-04-22 WO PCT/JP2015/062267 patent/WO2015166860A1/ja active Application Filing
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN106164060A (zh) | 2016-11-23 |
WO2015166860A1 (ja) | 2015-11-05 |
JP6524069B2 (ja) | 2019-06-05 |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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