JPWO2015162876A1 - 半導体装置と該半導体装置を備えた赤外線撮像装置、及び半導体装置の制御方法 - Google Patents

半導体装置と該半導体装置を備えた赤外線撮像装置、及び半導体装置の制御方法 Download PDF

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Abstract

ボロメータ素子の端子電圧がバイアス電圧に収束するまでの時間を短縮して積分回路のリセット期間を短縮し、温度分解能を改善する。本発明の半導体装置は、ボロメータ素子にバイアス電圧を与える手段を備え、前記ボロメータ素子に前記バイアス電圧を与えたときに前記ボロメータ素子に流れる電流と、前記ボロメータ素子のオフセット電流を除去するバイアスキャンセル回路からの電流との差電流を積分回路への入力とするバイアス回路が、前記ボロメータ素子を所定のプリチャージ電圧でプリチャージする。

Description

本発明は、半導体装置と、該半導体装置を備えた赤外線撮像装置、及び半導体装置の制御方法に関する。
赤外線撮像装置として、例えば図9に示すように、センサアレイと読み出し回路から構成されるボロメータ型赤外線撮像装置が知られている。図9は、特許文献1の図2(特許文献2の図4)を引用したものである。なお、特許文献1、2の開示自体は、後述される本発明の主題に直接関連するものでないが、ここでは、2次元センサアレイのボロメータ型赤外線撮像装置の概略の一例を説明するための図として引用している。
図9を参照すると、ボロメータ素子(熱電変換素子)202は、この例では、基板上に、2次元にマトリクス状に形成され、2次元センサアレイを構成している。ボロメータ素子202は、画素スイッチ201、水平スイッチ204によって切り替えて、順次選択される。信号線203と走査線211が交差する箇所に設けられた画素スイッチ201は、NchMOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)よりなる。この画素スイッチ201を構成するNchMOSFETは、ソースが基準電位GND(接地:Ground)に接続され、ドレインがボロメータ素子202を介して信号線203に接続され、ゲートが、走査線211に接続されている。垂直シフトレジスタ205は、走査信号211(Y1〜Y3)を順次活性化することで、2次元マトリクスの各行を順次選択する。信号線203は、水平スイッチ204(HA、HB)を介して、読み出し回路206に接続されている。水平スイッチ204(HA、HB)は、選択信号φHA、φHBでオン、オフが制御される。例えば第1フェーズで選択信号φHAが活性化し水平スイッチ204(HA)がオンし、つづく第2フェーズで選択信号φHBが活性化し水平スイッチ204(HB)がオンする。読み出し回路206の出力は、マルチプレクサスイッチ207を介して出力バッファ209に接続される。マルチプレクサスイッチ207のオン・オフ制御は、水平シフトレジスタ208によって行われる。
図9の例では、1個の読み出し回路206に対して、水平スイッチ204を2個接続している(2次元マトリクスの2列に1個の読み出し回路206)。これは、2次元センサアレイの列数に対して、読み出し回路206の個数を減らし、回路面積と消費電力を減らすことを目的としている。例えば、1個の読み出し回路206に、水平スイッチ204を1個接続した構成の場合、2次元センサアレイの列数分だけ読み出し回路206が必要とされる。これに対して、図9に示すように、1個の読み出し回路206に対して水平スイッチ204を2個接続した構成の場合、2次元センサアレイの列数に対して、読み出し回路206の個数は半分となり、回路面積と消費電力を減らすことが可能となる。
図7は、ボロメータ型赤外線撮像装置の読み出し回路の一参考例(本発明の比較例でもある)を例示する図である。図7の参考例は、本発明の前提技術を説明するためのプロトタイプ例として本発明者が提示するものであり、文献等に記載の図面そのものではない点を注記しておく。
図7において、ボロメータ素子に流れる電流を読みだす読み出し回路101’は、図9の読み出し回路206と図9の水平スイッチ204(HA、HB)を含めた構成としている。その理由は、以下の通りである。
図7の説明で明らかとされるように、水平スイッチがオンのとき、バイアス電圧(VBOL)がボロメータ素子に印加される。このため、ボロメータ素子に、バイアス電圧を印加するバイアス回路として水平スイッチを含めるようにしている。後に説明される実施形態についても同様である。
図7のボロメータ素子109A、109Bは、図9の水平スイッチ204(HA、HB)にそれぞれ接続されるボロメータ素子202に対応する。図7の選択信号HSW1、HSW2は、図9のφHA、φHAにそれぞれ対応する。図7の画素スイッチ111A、111Bは、図9の画素スイッチ201に対応する。図7の走査信号VSW1〜VSWnは、図9の走査線211(Y1〜Y3)に対応する。前述した図9の構成と同様、図7においても、1個の読み出し回路101’に対して、2個の水平スイッチ112A、112Bを備えている。
図7を参照すると、読み出し回路101’は、バイアス回路102’、バイアスキャンセル回路103、積分回路104を有する。
バイアス回路102’は、ボロメータ素子109A、109Bに定電圧を印加する。バイアスキャンセル回路103は被写体の信号以外の成分のオフセット電流を除去する。積分回路104は、バイアス回路102’とバイアスキャンセル回路103に接続されているオペアンプ(演算増幅器:Operational-Amplifier)119を含む。
複数の読み出し回路101’は、入力電圧配線107、108を介してバイアス電圧として入力電圧が供給され、それぞれ同時並列に動作を行う。読み出し回路101’の動作は、概略以下の通りである。
各ボロメータ素子109A、109Bの抵抗変化は、被写体からの赤外線入射光の強度に応じて、生じる。ボロメータ素子109Aの抵抗変化は、バイアス電圧(VBOL)により決まるボロメータ素子109Aに流れる電流と、バイアス電圧(VCAN)により決まるバイアスキャンセル回路103の電流との差電流として、検出される。ボロメータ素子109Bの抵抗変化は、バイアス電圧(VBOL)により決まるボロメータ素子109Bに流れる電流と、バイアス電圧(VCAN)により決まるバイアスキャンセル回路103の電流との差電流として、検出される。ここで、バイアス電圧(VBOL)は入力端子121に与えられる入力電圧であり、バイアス電圧(VCAN)は入力端子122に与えられる入力電圧である。またここで、バイアス電圧(VCAN)により決まるバイアスキャンセル回路103の電流は、抵抗素子(バイアスキャンセル抵抗)110に流れる電流である。
この差電流は、積分回路104に入力され、積分され、出力端子132から、読み出し回路101’の出力信号(出力電圧)として出力される。読み出し回路101’の出力端子132からの出力信号は、不図示のマルチプレクサスイッチに入力され、該マルチプレクサスイッチを介して、不図示の出力バッファに出力される。ここで、不図示のマルチプレクサスイッチは、図9のマルチプレクサスイッチ207に対応する。またここで、不図示の出力バッファは、図9の出力バッファ209に対応する。
図7のバイアス回路102’とバイアスキャンセル回路103の動作は、例えば以下のようなものとされる。まず、ボロメータ型赤外線撮像装置のシャッター(不図示)を閉じた状態(すなわち、被写体からの光が入射していない状態)で入力電圧(VBOL、VCAN)が調整される。この調整でボロメータ素子109A、109B側に流れる電流と抵抗素子(バイアスキャンセル抵抗)110に流れる電流とをつり合わせる。その後、ボロメータ型赤外線撮像装置のシャッター(不図示)を開くことにより、被写体からの光入射によるボロメータ素子109A、109Bの抵抗変化に伴う電流変化分を取り出すことができる。
図7を参照して、各回路について説明する。図7において、ボロメータ素子109Aと画素スイッチ111Aの直列回路、及び、ボロメータ素子109Bと画素スイッチ111Bの直列回路は、それぞれ、図9のボロメータ素子202と画素スイッチ201の直列回路に対応している。
バイアス回路102’は、NMOS(N-channel Metal Oxide Semiconductor)トランジスタ(「バイアストランジスタ」ともいう)115と、水平スイッチ112A、112Bと、を備えている。
NMOSトランジスタ115のゲートは入力電圧配線107に接続され、ドレインは積分回路104の入力端に接続され、ソースは、水平スイッチ112Aの一端と水平スイッチ112Bの一端の接続点に接続されている。NMOSトランジスタ115は、ソースフォロワ構成とされ、NMOSトランジスタ115のソース電位は、バイアス電圧(VBOL)とされる。
水平スイッチ112A、112Bは、それぞれ、入力端子125、126から入力される選択信号HSW1、HSW2によってオン、オフが制御される。例えば第1フェーズでは、選択信号HSW1が活性化し(例えばHighレベルとなり)、水平スイッチ112Aがオンする。つづく第2フェーズでは選択信号HSW2が活性化し、水平スイッチ112Bがオンする。
水平スイッチ112Aの他端(ノード129A)と基準電位(GND)の間には、ボロメータ素子109Aと画素スイッチ111Aの直列回路が、n個、互いに、並列に接続されている。水平スイッチ112Bの他端(ノード129B)と基準電位(GND)との間には、ボロメータ素子109Bと画素スイッチ111Bの直列回路が、n個並列に接続されている。読み出し回路101’の個数をMとすると、センサアレイは、n行×2M列構成の2次元アレイとされる。
特に制限されないが、図7の例では、水平スイッチ112A、112B側に最も近く配置された画素スイッチ111Aと画素スイッチ111Bには、入力端子127が接続される。入力端子127には、1番目のラインを走査する走査信号VSW1が供給され、画素スイッチ111Aと画素スイッチ111Bを共通にオン・オフ制御する。水平スイッチ112A、112Bから最も遠く配置された画素スイッチ111Aと画素スイッチ111Bには、入力端子128が接続される。入力端子128には、n番目のラインを走査する走査信号VSWnが供給され、画素スイッチ111Aと画素スイッチ111Bを共通にオン・オフ制御する。
なお図7の例において、走査信号VSWnを、水平スイッチ112A、112B側に最も近く配置された画素スイッチ111Aと画素スイッチ111Bに供給する、構成としてもよい。そして、水平スイッチ112A、112Bから最も遠く配置された画素スイッチ111Aと画素スイッチ111Bには、走査信号VSW1を供給する、構成としてもよい。
走査信号VSW1〜VSWnは、不図示の垂直シフトレジスタ(例えば図9の垂直シフトレジスタ205に対応)から供給される。1ラインの走査期間(1水平走査期間:「1H」ともいう)は、1フレーム期間をT(例えば1/30秒)とすると、Tをnで除した値T/nとされる。走査信号VSW1〜VSWnは、1フレーム期間Tを周期としてT/nの期間、順次、活性化される。1フェーズ期間は、T/(2×n)となり、水平スイッチ112A、112Bは、期間T/(2×n)毎に、交互にオンに設定される。
ボロメータ素子109A、109Bは、n本のラインの画素スイッチ111A、111Bのオン・オフの切り替えと、フェーズ毎の水平スイッチ112A、112Bの交互のオン・オフの切り替えによって、選択される。ここで、n本のラインの画素スイッチ111A、111Bのオン・オフの切り替えは、垂直シフトレジスタ(図9の205)からの走査信号VSW1〜VSWnによって、なされる。こうして選択されたボロメータ素子109A、109Bの一端に、バイアス電圧が印加される。
すなわち、ボロメータ素子109A又は109Bの一端が接続されたノード129A又は129Bに、バイアス電圧(VBOL)が印加される。ここで、バイアス電圧(VBOL)が印加されるのは、ノード129A又は129Bのうち、オン状態の水平スイッチ112A又は112Bに接続するボロメータ素子109A又は109Bの一端が接続されたノード129A又は129Bである。そして、このボロメータ素子109A又は109Bは、活性化された走査信号VSWi(1≦i≦n)が供給されるi番目のラインの画素スイッチ111A、111Bに接続するボロメータ素子109A、109Bに含まれるものである。
選択されたボロメータ素子109A、109Bの抵抗値が減少した場合、ボロメータ素子109A、109Bの一端が接続するノード129A、129Bに与えられる電圧は一定であるため、該ボロメータ素子109A、109Bに流れる電流の値は増加する。言い換えると、選択されたボロメータ素子109A、109Bの抵抗値が減少した場合、ボロメータ素子109A、109Bの一端が接続するノード129A、129Bに与えられる電圧は一定であるため、NMOSトランジスタ115に流れる電流の値は増加する。
一方、選択されたボロメータ素子109A、109Bの抵抗値が増加した場合、ボロメータ素子109A、109Bの一端が接続するノード129A、129Bの電圧が一定であるため、選択されたボロメータ素子109A、109Bに流れる電流は減少する。言い換えると、選択されたボロメータ素子109A、109Bの抵抗値が増加した場合、ボロメータ素子109A、109Bの一端が接続するノード129A、129Bの電圧が一定であるため、NMOSトランジスタ115に流れる電流の値は減少する。
このように、被写体からの光入射によるボロメータ素子109A、109Bの抵抗値の変化は、バイアス回路102’のNMOSトランジスタ115に流れる電流値に変換される。
第1VGS除去電圧発生回路105は、入力電圧配線107にバイアス電圧を与える回路である。第1VGS除去電圧発生回路105は、オペアンプ117と、バイアス回路102’のNMOSトランジスタ115と同一構成のNMOSトランジスタ115と、から構成される。オペアンプ117は、非反転入力端子(+)が入力端子121に接続されて電圧(VBOL)を受け、反転入力端子(−)が第1VGS除去電圧発生回路105のソースフォロワ構成のNMOSトランジスタ115のソースに接続されている。オペアンプ117の出力は、第1VGS除去電圧発生回路105のNMOSトランジスタ115のゲートと、複数のバイアス回路102’のNMOSトランジスタ115のゲートとに、共通に接続されている。
第1VGS除去電圧発生回路105において、入力端子121には入力電圧(バイアス電圧VBOL)が供給される。オペアンプ117は、ボルテージフォロワ構成とされる。オペアンプ117は、バイアストランジスタ115のソース電位が、非反転入力端子(+)に入力される電圧(VBOL)となるように、NMOSトランジスタ115のゲート電位を制御する。ここで、オペアンプ117によりゲート電位を制御されるNMOSトランジスタ115は、第1VGS除去電圧発生回路105のNMOSトランジスタ115と、読み出し回路101’のバイアス回路102’のNMOSトランジスタ115である。
第1VGS除去電圧発生回路105は、NMOSトランジスタ115のゲート・ソース間電圧(gate-to-source voltage)VGSの変動等の影響が、該NMOSトランジスタ115のドレイン電流に現れない構成(VGS電圧降下を補償する構成)とされる。例えばNMOSトランジスタ115のゲート・ソース間電圧VGSの温度係数の影響(温度ドリフト等)を除去している。かかる構成により、ボロメータ素子109A、109Bの一端が接続されるノード129A、129Bに印加されるバイアス電圧(VBOL)を高精度に制御することが可能とされる。第1VGS除去電圧発生回路105においては、ボルテージフォロワ構成のオペアンプ117がNMOSトランジスタ115を低インピーダンスで駆動しており、読み出し回路101’への飛び込むノイズ等を抑えることができる。
バイアスキャンセル回路103は、画素スイッチ113と、水平スイッチ114と、PMOS(P-channel Metal Oxide Semiconductor)トランジスタ116と、を備えている。バイアスキャンセル回路103の画素スイッチ113は、電源VDDと抵抗素子(「バイアスキャンセル抵抗」ともいう)110の一端との間に、接続されている。バイアスキャンセル回路103の水平スイッチ114は、抵抗素子110の他端に一端が接続されている。バイアスキャンセル回路103のPMOSトランジスタ116は、ソースが水平スイッチ114の他端に接続され、ドレインがバイアス回路102’のNMOSトランジスタ115のドレインに接続され、ゲートが入力電圧配線108に接続されている。
赤外線の信号は大きなDC(直流:Direct Current)オフセット成分を持ち、オフセット成分の上に被写体からの信号成分が微小なレベルで存在する。バイアスキャンセル回路103は、このオフセット成分を除去する。
また、第2VGS除去電圧発生回路106は、第1VGS除去電圧発生回路105と同様に、バイアスキャンセル回路103のPMOSトランジスタ116と同一構成のPMOSトランジスタ116と、オペアンプ118と、を備えている。このオペアンプ118は、非反転入力端子(+)が入力端子122に接続されて電圧(VCAN)を受け、反転入力端子(−)が第2VGS除去電圧発生回路106のソースフォロワ構成のPMOSトランジスタ116のソースに接続されている。オペアンプ118の出力は、第2VGS除去電圧発生回路106のPMOSトランジスタ116のゲートと、複数のバイアスキャンセル回路103のPMOSトランジスタ116のゲートとに、共通に接続されている。
読み出し回路101’におけるバイアス回路102’のNMOSトランジスタ115のドレインは、積分回路104におけるオペアンプ119の反転入力端子(−)と積分コンデンサ(キャパシタ)120の一端の接続点に接続されている。読み出し回路101’におけるバイアスキャンセル回路103のPMOSトランジスタ116のドレインは、積分回路104におけるオペアンプ119の反転入力端子(−)と積分コンデンサ(キャパシタ)120の一端の接続点に接続されている。
積分コンデンサ120の他端は、オペアンプ119の出力端子に接続されている。オペアンプ119の非反転入力端子(+)は、VDD/2に接続されている。イマジナリショート(仮想短絡)により、オペアンプ119の反転入力端子(−)と非反転入力端子(+)の電位差は0Vとなる。さらにイマジナリショート(仮想短絡)により、オペアンプ119の反転入力端子(−)に共通に接続されたNMOSトランジスタ115とPMOSトランジスタ116のドレイン電圧は、VDD/2とされる。
オペアンプ119の帰還路の積分コンデンサ120での積分後における積分コンデンサ120の電圧は、オペアンプ119の出力端子から取り出される。さらに、出力信号として各読み出し回路101’から、図9のマルチプレクサスイッチ207を介して図9の出力バッファ209に入力され、順次出力される。
また、オペアンプ119の反転入力端子(−)とオペアンプ119の出力端子の間には、積分コンデンサ120と並列にリセット用のスイッチ123が接続されている。リセット用のスイッチ123は、入力端子124に入力されるリセット信号RSTが活性化された時(例えばRSTがHighレベルの時)にオンし、非活性化時(例えばLowレベルの時)にオフする。積分コンデンサ120で積分された電圧値を出力した後に、リセット信号RSTを活性化し、スイッチ123をオン状態とすることで、オペアンプ119の出力端子は、オペアンプ119の非反転入力端子(+)の電圧であるVDD/2に設定される。すなわち、リセット信号RSTの活性化時に、積分コンデンサ120は、その両端の電圧が等電位(VDD/2)にリセットされる。
積分コンデンサ120のリセット後に、積分回路104は積分動作を行う。すなわち、リセット信号RSTが非活性化され(例えばLowレベルとされる)、スイッチ123がオフすると、積分回路104において積分コンデンサ120を充電する。この充電は、バイアス回路102’のNMOSトランジスタ115のドレイン電流ID1(吸込電流)からバイアスキャンセル回路103のPMOSトランジスタ116のドレイン電流ID2(吐出電流)を差し引いた電流ΔI(=ID1−ID2)にて、行われる。そして、積分回路104は、次式(1)に示すような電圧Voutを出力端子132に出力する。
Figure 2015162876
ただし、Cは、積分コンデンサ120の容量値、tは積分期間である。
図8は、図7に示した参考例(プロトタイプ例)の動作を説明する図である。図8には、図7の走査信号VSW1〜VSWn、選択信号HSW1、HSW2、ノード129A、129B、リセット信号RSTの電圧波形が模式的に示されている。
図9の垂直シフトレジスタ205から出力される走査信号VSW1〜VSWnは、1フレーム期間をn分割した時間期間、活性状態(High)とされる。走査信号VSW1〜VSWnがそれぞれ供給されるn本のラインの画素スイッチ111A、111Bは、対応する走査信号の活性化により、順次、オン状態に設定される。前述したように、走査信号VSW1〜VSWnは、1フレーム期間Tを周期として、順次、1水平走査期間(T/n)の間、活性化される。
水平スイッチ112A、112Bは、走査信号VSW1〜VSWnのそれぞれの活性期間(High期間)において、オンする。例えば第1フェーズ、第2フェーズで交互に活性化される選択信号HSW1、HSW2により、第1フェーズでは水平スイッチ112Aがオンし、第2フェーズでは水平スイッチ112Bがオンする。
例えば走査信号VSW1が活性状態(例えばHighレベル)の場合、第1フェーズにおいて、水平スイッチ112Aは選択信号HSW1の活性状態の期間(Highレベル期間)にオンする。この水平スイッチ112Aの接続先であるノード129Aは、選択信号HSW1の活性状態の期間(Highレベル期間)に、NMOSトランジスタ115のソースに接続される。このため、NMOSトランジスタ115からのドレイン電流が、1ライン目のボロメータ素子109Aに供給され、オン状態の1ライン目の画素スイッチ111Aを介して基準電位GNDに流れる。ボロメータ素子109Aの一端に接続されたノード129Aの電圧は、選択信号HSW1が非活性状態のときのGND電位から、バイアス電圧(VBOL)にまで上昇する。
積分回路104のスイッチ123のオン・オフを制御するリセット信号RSTは、選択信号HSW1の活性化の開始のタイミング(フェーズ切り替えのタイミング)で活性化され(例えばHighレベルとなる)、積分コンデンサ120をリセットする。言い換えると、リセット信号RSTは、選択信号HSW1の活性化の開始のタイミングで活性化され、積分コンデンサ120の電荷を放電する。活性化されたリセット信号RSTは、ノード129Aの電圧がバイアス電圧(VBOL)に収束する予め定められた所定のタイミングで非活性化され(例えばLowレベルとなる)、スイッチ123をオフさせる。リセット信号RSTが非活性状態の期間、積分回路104は積分動作を行う。
選択信号HSW1が非活性状態(HSW2が活性状態)の期間(Lowレベル期間:第2フェーズ)、水平スイッチ112Aはオフし、ノード129AはNMOSトランジスタ115のソースと電気的に切り離される。言い換えると、選択信号HSW1が非活性状態の期間、水平スイッチ112Aはオフし、ノード129Aへの、NMOSトランジスタ115からのドレイン電流の供給は停止する。このため、ノード129Aの電荷は、選択された1ライン目のボロメータ素子109Aと、オン状態の画素スイッチ111Aとを介して放電され、ノード129Aの電圧は、GNDレベルとなる。
第2フェーズで選択信号HSW2の活性状態の期間(Highレベル期間)にオンとされる水平スイッチ112Bの接続先であるノード129Bは、NMOSトランジスタ115のソースに接続される。NMOSトランジスタ115からのドレイン電流が、1ライン目のボロメータ素子109Bに供給される。その結果、該ボロメータ素子109Bの一端に接続されたノード129Bの電圧は、選択信号HSW2の非活性状態のときのGND電位から電圧(VBOL)にまで上昇する。
リセット信号RSTは、選択信号HSW2の活性化の開始のタイミングで活性化され(Highレベルとなる)、ノード129Bの電圧がバイアス電圧(VBOL)に収束する予め定められた所定のタイミングで非活性化される(Lowレベルとなる)。リセット信号RSTは積分回路104のスイッチ123をオフさせ、積分回路104は積分動作を開始する。
選択信号HSW2が非活性状態の期間(Lowレベルの期間)、水平スイッチ112Bはオフし、ノード129BはNMOSトランジスタ115のソースと電気的に切り離される(NMOSトランジスタ115からのドレイン電流の供給は停止する)。このため、ノード129Bの電荷は、選択された1ライン目のボロメータ素子109Bとオン状態の画素スイッチ111Bを介してGND側に放電され、ノード129Bの電圧は、GNDレベルとなる。
上記したように、図8において、1つのフェーズ期間に、リセット期間(リセット信号RST:Highレベル)と積分期間(リセット信号RST:Lowレベル)が含まれる。リセット信号RSTが活性状態のリセット期間では、積分回路104の積分コンデンサ120の電荷を放電し、同時に、水平スイッチ112A、112Bを切り替えて、読み出すべき列(ボロメータ素子109A、109B)を選択する。積分期間では、選択されたボロメータ素子109A、109Bに流れる電流とバイアスキャンセル回路103の電流との差電流で、積分コンデンサ120を充電する。リセット期間と積分期間の対が、フェーズ毎に繰り返される。
リセット期間は、積分コンデンサ120の放電時間、及び、水平スイッチ112A、112Bの切り替え時にノード129A、129Bの電圧がバイアス電圧(VBOL)へ収束するまでの時間(収束時間)等に基づき、決定される。
積分回路104において、積分コンデンサ120が完全にリセット(放電)されていない状態(蓄積電荷が残っている状態)で、積分を開始すると、積分回路104の出力電圧には、例えば、残存していた蓄積電荷分のオフセット電圧が乗る。
また、次の場合、ボロメータ素子109A、109Bに流れる電流の値は、ノード129A、129Bの電圧がバイアス電圧(VBOL)に収束しているときに流れる電流値よりも小さい。すなわち、バイアス回路102’においてノード129A、129Bの電圧が、バイアス電圧(VBOL)に収束していない場合(バイアス電圧(VBOL)よりも低い状態)である。
このため、バイアス回路102’においてノード129A、129Bの電圧がバイアス電圧(VBOL)に収束していない時点で、積分回路104において積分を開始した場合、上記差電流を正しく積分していることにはならない。ここで上記差電流とは、ボロメータ素子109A、109Bに流れる電流(NMOSトランジスタ115のドレイン電流)とバイアスキャンセル回路103のPMOSトランジスタ116のドレイン電流との差である。上記差電流の正しい積分を実現するため、リセット期間は、積分回路104の積分コンデンサ120の放電と、ノード129A、129Bの電圧収束とが完了するまでの期間を確保するように、十分に長く設定されている。
図8のリセット信号RSTの電圧波形から理解されるように、予め所定値に設定された1フェーズ期間(=T/(2×n);T:1フレーム期間、n:ライン数)において、リセット期間を長くすると、その分、積分期間を短くする必要がある。
積分回路104による信号の増幅では、入力信号成分の増幅とともに、入力ノイズ成分も増幅している。積分回路104の周波数帯域を下げることで(積分期間を長くすることで)、入力ノイズ成分を低減することができる。ある一定の周期で駆動する積分回路104の帯域を下げるためには、リセット期間を短くし、積分期間を長くする必要がある。
特開2003−318712号公報 特開2008−22457号公報
上記した参考例の分析を以下に与える。以下の分析はいずれも本発明者の知見による。
図7の参考例において、第1フェーズで選択信号HSW1の活性状態の期間にオンとされる水平スイッチ112Aの接続先であるノード129Aは、選択信号HSW1が活性状態とされる期間に、GND電位から、バイアス電圧(VBOL)に上昇する。これは、バイアス回路102’のNMOSトランジスタ115に流れる電流(ドレイン・ソース間電流:drain-to-source current)が、水平スイッチ112Aを介して選択されたボロメータ素子109Aに流れるからである。こうして、ノード129Aの電圧はGND電位から、バイアス回路102’のNMOSトランジスタ115のソース電圧、したがってバイアス電圧(VBOL)に上昇する。
同様に、第2フェーズで選択信号HSW2の活性状態の期間にオンとされる水平スイッチ112Bの接続先であるノード129Bは、選択信号HSW2が活性状態とされる期間に、GND電位から、バイアス電圧(VBOL)に上昇する。これは、バイアス回路102’のNMOSトランジスタ115に流れる上記電流が、水平スイッチ112Bを介して選択されたボロメータ素子109Bに流れるからである。こうして、ノード129Bの電圧はGND電位から、バイアス回路102’のNMOSトランジスタ115のソース電圧、したがってバイアス電圧(VBOL)に上昇する。
図7において、次の抵抗値、配線抵抗、及び寄生容量により、RC直列回路が形成される。
・ボロメータ素子109A(109B)の抵抗値と、ボロメータ素子109A(109B)から水平スイッチ112A(112B)までの配線抵抗
・ボロメータ素子109A(109B)の寄生容量と、ボロメータ素子109A(109B)から水平スイッチ112A(112B)までの信号配線における寄生容量
また、水平スイッチ112A(112B)がアナログスイッチ(パストランジスタ)等の場合、オン抵抗と寄生容量も無視できない値となる。ノード129A(129B)の電圧はGND電位からバイアス電圧(VBOL)に上昇するときに、RC直列回路による信号電圧の遅延が問題となる。
水平スイッチ112Aをオンさせてノード129Aにバイアス電圧を印加したとき、ノード129Aの電圧がGNDレベルから立ち上がりバイアス電圧(VBOL)に収束するまでの時間は、RC直列回路の時定数CRで遅延する。水平スイッチ112Bをオンさせてノード129Bにバイアス電圧を印加したとき、ノード129Bの電圧がGNDレベルから立ち上がりバイアス電圧(VBOL)に収束するまでの時間は、RC直列回路の時定数CRで遅延する。
積分回路104では、ノード129A(129B)の電圧が、バイアス電圧(VBOL)に完全に収束した状態で、バイアス回路102’に流れる電流とバイアスキャンセル回路103に流れる電流との差電流を、積分することが好ましい。ここで、バイアス回路102’に流れる電流は、選択されたボロメータ素子に流れる電流である。積分回路104において、該差電流の積分動作は、リセット信号RSTが活性状態から非活性状態へ遷移したときに開始され、リセット信号RSTが非活性状態の間、該差電流の積分動作が行われる。
以上から、ノード129A(129B)の電圧のバイアス電圧(VBOL)への収束の遅延に対処するには、リセット信号RSTの活性状態の期間(リセット期間)を長くする必要がある。
積分回路104において、リセット期間を長くすると、1フェーズ期間が一定であることから、その分、積分期間が短くなる。積分期間を短縮することは、積分回路104の周波数帯域の上昇を意味する。すなわち、積分回路104は低域通過フィルタ(Low Pass Filter)として機能する。積分回路104において、帯域の上昇は、カットオフ周波数の上昇を意味しており、例えば入力ノイズ成分を十分に下げることができない場合がある。積分回路104の出力信号中でのノイズ成分の増加は、S/N比(Signal to Noise Ratio)の劣化を意味する。これは、ボロメータ型赤外線撮像装置の温度分解能の劣化となる。すなわち、本来得られるべき温度分解能が得られなくなる、可能性がある。
したがって、本発明の目的は、上記問題点を解決する装置、方法を提供することにある。
本発明の1つの側面によれば、少なくとも1つのボロメータ素子と、前記ボロメータ素子にバイアス電圧を与える手段を備え、前記ボロメータ素子に前記バイアス電圧を与えたときに前記ボロメータ素子に流れる電流と、前記ボロメータ素子のオフセット電流を除去するバイアスキャンセル回路からの電流との差電流を積分回路への入力とするバイアス回路と、を含み、
前記バイアス回路が、前記ボロメータ素子を所定のプリチャージ電圧でプリチャージする手段をさらに含む、半導体装置が提供される。
本発明の他の側面によれば、ボロメータ素子にバイアス回路からバイアス電圧を与えたときに、前記ボロメータ素子に流れる電流と、前記ボロメータ素子のオフセット電流を除去するバイアスキャンセル回路からの電流との差電流を積分回路で積分した値を出力し、前記ボロメータ素子を所定のプリチャージ電圧でプリチャージする半導体装置の制御方法が提供される。
本発明によれば、ボロメータ素子の端子電圧がバイアス電圧に収束するまでの時間を短縮して積分回路のリセット期間を短縮可能とし、温度分解能の改善を可能としている。
本発明の第1の実施形態の構成を説明する図である。 本発明の第2の実施形態の構成を説明する図である。 本発明の第3の実施形態の構成を説明する図である。 本発明の第1の実施形態の動作を説明する図である。 本発明の第2の実施形態の動作を説明する図である。 本発明の第3の実施形態の動作を説明する図である。 参考例の構成を説明する図である。 参考例のタイミング動作を説明する図である。 特許文献1の構成を説明する図である。 本発明の基本概念を説明する図である。 本発明の態様の1つを説明する図である。
はじめに本発明の概要を説明し、つづいて例示的な実施形態について説明する。
図10は、本発明の基本概念を説明した図である。本発明の1つの側面によれば、図10を参照すると、少なくとも1つのボロメータ素子11と、上記ボロメータ素子11にバイアス電圧を与える手段の一例としてのバイアス手段17を備えたバイアス回路12と、を備えている。
図10のバイアス回路12は、上記ボロメータ素子11のオフセット電流を除去する電流を生成するバイアスキャンセル回路13と、積分回路14と、に接続される。バイアス回路12は、上記ボロメータ素子11の一端、すなわち信号線21に上記バイアス電圧を与えたときに、上記ボロメータ素子11に流れる電流と、上記バイアスキャンセル回路13からの電流との差電流を、積分回路14に入力する。バイアス回路12は、上記ボロメータ素子11をプリチャージ電圧でプリチャージするプリチャージ手段18をさらに備えている。
本発明の実施形態によれば、上記プリチャージ手段18は、上記ボロメータ素子11が上記バイアス電圧でバイアスされていない期間のうちの一部の期間又は全ての期間に、上記ボロメータ素子11の一端に上記プリチャージ電圧を与える。
本発明の実施形態によれば、上記プリチャージ手段18は、一部の期間に、上記ボロメータ素子11の一端に上記プリチャージ電圧を与えるようにしてもよい。上記一部の期間とは、上記ボロメータ素子11が上記バイアス電圧でバイアスされていない期間のうち、上記ボロメータ素子11が上記バイアス電圧でバイアスされる直前の期間を含む少なくとも一部の期間である。
図11は、本発明の態様の1つを説明する図である。図11を参照すると、本発明の態様の1つによれば、ボロメータ素子に流れる電流を読みだす読み出し回路10は、バイアス回路12と、バイアスキャンセル回路13と、積分回路14とを、を備えている。バイアスキャンセル回路13は、バイアス回路12のオフセット電流をキャンセルする。積分回路14は、ボロメータ素子に流れる電流とバイアスキャンセル回路13からの電流との差電流を積分し、出力端子22から出力する。
図11のバイアス回路12は、図10の上記バイアス手段17の一例として、所定の期間毎、交互にオンとされ、オン状態のときに上記バイアス電圧を供給する第1、第2のスイッチ17A、17Bを備えている。
図11のバイアス回路12は、図10の上記プリチャージ手段18の一例として、プリチャージ手段18A、18Bを備えている。
入力端子15には、バイアス電圧(BIAS)が与えられている。入力端子16には、プリチャージ電圧(VCHG)が与えられている。入力端子19には、選択信号(HSW1)が与えられている。入力端子20には、選択信号(HSW2)が与えられている。
プリチャージ回路としてのプリチャージ手段18Bは、オフ状態の上記第2のスイッチ17Bに接続された第2のボロメータ素子11Bの一端、すなわち信号線21Bに上記プリチャージ電圧(VCHG)を与える。このプリチャージ電圧(VCHG)の供給は、第1のスイッチ17Aがオンとされ、上記第1のスイッチ17Aに接続された第1のボロメータ素子11Aの一端に上記バイアス電圧(BIAS)が与えられている期間になされる。
プリチャージ回路としてのプリチャージ手段18Aは、オフ状態の上記第1のスイッチ17Aに接続された第1のボロメータ素子11Aの一端、すなわち信号線21Aに上記プリチャージ電圧(VCHG)を与える。このプリチャージ電圧(VCHG)の供給は、第2のスイッチ17Bがオンとされ、上記第2のスイッチ17Bに接続された第2のボロメータ素子11Bの一端に上記バイアス電圧(BIAS)が与えられている期間になされる。
本発明の別の態様の1つによれば、上記バイアス回路は、上記バイアス電圧を与える手段(バイアス手段)17として、1つずつ巡回的に、順次、オン状態とされる第1乃至第mのスイッチ(mは2以上の整数)を備えている。すなわち、上記バイアス回路はm個のスイッチを備えている(mは2以上の整数)。例えば、図11には、m=2の例が例示されており、図2には、m=4の例が例示されている。
上記プリチャージ手段は、第iのスイッチがオンし、第iのスイッチに接続されたボロメータ素子の一端にバイアス電圧が与えられる期間に、オフ状態の第i+1のスイッチに接続されたボロメータ素子の一端に、プリチャージ電圧を与える構成としてもよい。ここで、iは1≦i≦mの整数である。オフ状態の第i+1のスイッチは、iがmのときの、第m+1は第1となるものとする。現在オフの第i+1のスイッチは、第iのスイッチの次にオン状態とされるものとする。
本発明の態様によれば、上記ボロメータ素子11の一端にプリチャージ電圧を与えるとき、上記ボロメータ素子11の他端をオープン状態とし、プリチャージ電圧が一端に印加される上記ボロメータ素子11に電流が流れないようにしてもよい。
本発明のいくつかの態様によれば、上記プリチャージ電圧(VCHG)は、上記バイアス電圧(BIAS)に等しいか、又は、上記バイアス電圧(BIAS)に所定の電圧(バイアス補償電圧)を加算又は減算した電圧としてもよい。
本発明のいくつかの態様によれば、上記積分回路14は、上記ボロメータ素子11に上記バイアス電圧(BIAS)が与えられる期間の開始から、所定の期間、リセットされる。言い換えると、積分回路14は、上記ボロメータ素子11に上記バイアス電圧(BIAS)が与えられる期間の開始から、所定の期間、積分コンデンサを放電する。上記リセット終了後、上記積分回路14は、上記バイアスキャンセル回路13からの電流と上記バイアス電圧でバイアスしたときに上記ボロメータ素子11に流れる電流との差電流を、積分する。
本発明のいくつかの態様によれば、1つの読み出し回路101に接続するボロメータ素子109Aに対して、当該ボロメータ素子109Aと基準電位GNDとの間に、それぞれ、画素スイッチ111Aを備えた構成としてもよい(図3参照)。この画素スイッチ111Aの配置は、n本のラインのそれぞれについてなされるものである。その際、i番目(1≦i≦n)のラインの画素スイッチ111Aが、第1の走査信号VSWiAが供給される入力端子にそれぞれ接続される。
また、1つの読み出し回路101に接続するボロメータ素子109Bに対して、当該ボロメータ素子109Bと基準電位GNDとの間に、それぞれ、画素スイッチ111Bを備えた構成としてもよい(図3参照)。この画素スイッチ111Bの配置は、n本のラインのそれぞれについてなされるものである。その際、i番目(1≦i≦n)のラインの画素スイッチ111Bが、第1の走査信号VSWiBが供給される入力端子にそれぞれ接続される。そして、上記n本のラインに対して、2×n本の走査信号(VSW1A、B〜VSWnA、B)を備えた構成とする。
なお、1つの読み出し回路101に共通に接続するm個のボロメータ素子と基準電位GNDとの間にm個(mは、m>2の整数)の画素スイッチを備え、上記n本のラインに対して、m×n本の走査信号を備えた構成としてもよい。このm個の画素スイッチの配置は、n本のラインのそれぞれについてなされるものである。
本発明の実施形態によれば、ボロメータ素子に予めプリチャージ電圧を与えることで、選択されたボロメータ素子の端子電圧のバイアス電圧までの収束時間を短縮している。本発明の実施形態によれば、ボロメータ素子の非選択期間の少なくとも一部の期間(例えば当該ボロメータ素子が選択され、当該ボロメータ素子の一端にバイアス電圧が印加される直前)に、当該ボロメータ素子はプリチャージ電圧に設定されている。
このボロメータ素子がプリチャージ電圧に設定されている状態で、当該ボロメータ素子が選択されたときの当該ボロメータ素子の一端がプリチャージ電圧からバイアス電圧へ収束するに要する時間は、特段に短縮される。この時間短縮は、例えばボロメータ素子の非選択期間にプリチャージせずに、ボロメータ素子の一端を基準電位GNDからバイアス電圧に収束されるまでの時間と比べた場合のものである。
このため、積分回路のリセット期間を短くすることが可能である。その分、積分回路での積分期間を長くすることができる。すなわち、積分期間を長くし、積分回路の周波数帯域を下げることができる。積分回路の帯域を下げることで、入力ノイズ成分を低減可能とし、以って、赤外線撮像装置の温度分解能を向上(改善)させることができる、という作用効果を奏する。
上記基本概念の理解を前提にして、以下実施形態に即して説明する。なお、以下の記載から、各実施形態は、いずれも、上記本発明の作用効果及び、それ以外の作用効果等を奏するものであることは明らかであろう。
<実施形態1>
図1は、本発明の第1の実施形態の構成を説明する図である。特に制限されないが、図1には、図7と同様に、2次元センサアレイと読み出し回路の構成が例示されている。2次元センサアレイは、読み出し回路101の個数をM個とすると、n行×2Mのマトリクスからなる。走査信号VSW1〜VSWnは、不図示の垂直シフトレジスタ(例えば図9の垂直シフトレジスタ205参照)から供給される。
ボロメータ素子に流れる電流を読みだす読み出し回路101は、バイアス回路102と、バイアスキャンセル回路103と、積分回路104と、を備えている。読み出し回路101のバイアス回路102は、ボロメータ素子109A、109Bにバイアスを与える。読み出し回路101のバイアスキャンセル回路103は、被写体の信号以外の成分のオフセット電流を除去する。読み出し回路101の積分回路104は、被写体の信号を積分し、出力端子132から、読み出し回路101の出力信号(出力電圧)として出力する。
なお、図1において、図7と同一又は同等の要素には、同一の参照符号が付されている。以下では、バイアスキャンセル回路103、積分回路104、第1VGS除去電圧発生回路105、第2VGS除去電圧発生回路106等、図7と同一の要素についての説明は、重複を回避するために、適宜省略し、主に、図7の参考例との相違点について説明する。
図1を参照すると、バイアス回路102が、ボロメータ素子109A、109Bにプリチャージ電圧(VCHG)を与えるプリチャージ回路130A、130Bを備えている点が、図7のバイアス回路102’と相違している。図1に示すように、プリチャージ回路130A、130Bには、入力端子131に供給されるプリチャージ電圧(VCHG)が共通に入力されている。さらに、プリチャージ回路130A、130Bには、入力端子125、126に選択信号HSW2、HSW1がそれぞれ入力されている。
プリチャージ回路130Aは、水平スイッチ112Bのオン、オフを制御する選択信号HSW2によりオン・オフが制御されるスイッチから、構成される。プリチャージ回路130Aは、選択信号HSW2が活性状態(例えばHighレベル)とされ、水平スイッチ112Bがオンのとき、オンする。オンしたプリチャージ回路130Aは、プリチャージ電圧(VCHG)を、水平スイッチ112Aの一端が接続するノード129A(選択されたボロメータ素子109Aの一端が接続するノード)に与える。
プリチャージ回路130Bは、水平スイッチ112Aのオン、オフを制御する選択信号HSW1によりオン・オフが制御されるスイッチから構成される。プリチャージ回路130Bは、選択信号HSW1が活性状態(例えばHighレベル)とされ、水平スイッチ112Aがオンのとき、オンする。オンしたプリチャージ回路130Bは、プリチャージ電圧(VCHG)を、水平スイッチ112Bの一端が接続するノード129B(選択されたボロメータ素子109Bの一端が接続するノード)に与える。
入力電圧配線107、108は、図7の回路と同様に、第1VGS除去電圧発生回路105、第2VGS除去電圧発生回路106の出力に、それぞれ接続されている。第1VGS除去電圧発生回路105の入力端子121には、バイアス電圧(VBOL)が与えられている。第2VGS除去電圧発生回路106の入力端子122には、バイアス電圧(VCAN)が与えられている。
入力端子131に供給されるプリチャージ電圧(VCHG)は、複数の読み出し回路101のバイアス回路102のプリチャージ回路130A、130Bの入力に、共通に供給される。
入力端子131に供給されるプリチャージ電圧(VCHG)の電圧値は、水平スイッチ112A、112Bがオンしたときの、ノード129A、129Bの電圧値とするために、入力端子121に与えられるバイアス電圧(VBOL)と共通にしても良い。
あるいは、水平スイッチ112Aがオンしたときに、入力端子121に与えられるバイアス電圧へのノード129Aの収束時間を早くするために、水平スイッチ112A、及び、プリチャージ回路130Aのオン抵抗等の影響を考慮した電圧値にしても良い。また、水平スイッチ112Bがオンしたときに、入力端子121に与えられるバイアス電圧(VBOL)へのノード129Bの収束時間を早くするために、水平スイッチ112B、及び、プリチャージ回路130Bのオン抵抗等の影響を考慮した電圧値にしても良い。例えば、プリチャージ電圧(VCHG)は、バイアス電圧(VBOL)に対して、例えば水平スイッチ112A、112Bのオン抵抗、及び、プリチャージ回路130A、130Bのオン抵抗等による電圧降下分、電圧加算又は電圧減算した電圧値としてもよい。
図4は、第1の実施形態のタイミング動作を説明する図である。図4には、図1の走査信号VSW1〜VSWnと、選択信号HSW1、HSW2と、ノード129A、129Bと、リセット信号RSTの各電圧波形が、模式的に例示されている。選択信号HSW1、HSW2は、最初のフェーズ(第1フェーズ)で(HSW1、HSW2)=(High、Low)とされ、次のフェーズ(第2フェーズ)で(HSW1、HSW2)=(Low、High)とされる。こうして、バイアス回路102の水平スイッチ112A、112Bのオン、オフが、フェーズ毎に交互に切り替わり、2列のボロメータ素子109A、109Bを交互に選択している。
水平スイッチ112Aがオフである期間(第2フェーズ)に、1フェーズ前の選択信号HSW1の値を、プリチャージ回路130Aに入力する。ここで、1フェーズ前の選択信号HSW1の値は、当該第2フェーズに活性化される選択信号HSW2である。これにより、プリチャージ回路130Aがオンし、入力端子131に与えられている、プリチャージ電圧(VCHG)を、ボロメータ素子109Aの一端が接続するノード129Aに印加する。ここでボロメータ素子109Aの一端が接続するノード129Aは、水平スイッチ112Aと、選択されたボロメータ素子109Aの一端との接続ノードである。
同様に、水平スイッチ112Bがオフである期間(第1フェーズ)に、1フェーズ前の選択信号HSW2の値(したがって、当該第1フェーズに活性化される選択信号HSW1)を、プリチャージ回路130Bに入力する。ここで1フェーズ前の選択信号HSW2の値は、当該第1フェーズに活性化される選択信号HSW1である。これにより、プリチャージ回路130Bがオンし、入力端子131に与えられている、プリチャージ電圧(VCHG)を、ボロメータ素子109Bの一端が接続するノード129Bに印加する。ここでボロメータ素子109Bの一端が接続するノード129Bは、水平スイッチ112Bと、選択されたボロメータ素子109Bの一端との接続ノードである。
1ライン目を選択する走査信号VSW1が活性状態(Highレベル)のとき、走査信号VSW1が供給される入力端子127に接続している1ライン目の画素スイッチ111A、111Bは、第1、第2フェーズでともにオンとされる。
第1フェーズでは、選択信号HSW1はHighとされ、選択信号HSW2はLowとされる。水平スイッチ112Aがオンし、1ライン目のボロメータ素子109Aの一端がバイアス回路102のNMOSトランジスタ115のソースに接続される。水平スイッチ112Aがオンし、当該ボロメータ素子109Aの他端はオン状態の画素スイッチ111Aを介して、基準電位GNDに接続される。
このため、水平スイッチ112Aと1ライン目のボロメータ素子109Aの一端との接続ノードであるノード129Aは、バイアス電圧(VBOL)に収束する。一方、選択信号HSW2がLowであることから、水平スイッチ112Bはオフである。水平スイッチ112Bに一端が接続されたボロメータ素子109Bの他端はオン状態の画素スイッチ111Bを介して基準電位GNDに接続される。このとき、選択信号HSW1がHighであることから、プリチャージ回路130Bがオンとされ、プリチャージ回路130Bから、ノード129Bにプリチャージ電圧(VCHG)が印加される。すなわち、第1フェーズでは、水平スイッチ112Bと1ライン目のボロメータ素子109Bの一端との接続ノードであるノード129Bは、プリチャージ電圧(VCHG)に設定される。
第2フェーズでは、走査信号VSW1がHigh、選択信号HSW2がHigh、選択信号HSW1がLowとされる。水平スイッチ112Bがオンし、1ライン目のボロメータ素子109Bの一端がNMOSトランジスタ115のソースに接続される。水平スイッチ112Bがオンし、1ライン目のボロメータ素子109Bの他端はオン状態の画素スイッチ111Bを介して基準電位GNDに接続される。水平スイッチ112Bがオンし、水平スイッチ112Bと1ライン目のボロメータ素子109Bの一端との接続ノードであるノード129Bは、1フェーズ前のプリチャージ電圧から、バイアス電圧(VBOL)に収束する。
一方、第2フェーズでは、選択信号HSW1がLowであることから、水平スイッチ112Aはオフであるが、選択信号HSW2がHighであるため、プリチャージ回路130Aがオンとされる。このため、第2フェーズでは、プリチャージ回路130Aからノード129Aにプリチャージ電圧(VCHG)が印加される。
走査信号VSW2、VSW3、・・・、VSWnの活性化時等、2ライン目以降の動作も同様とされる。このため、説明は省略する。
本実施形態によれば、プリチャージ回路130Aにより、水平スイッチ112Aがオフ期間に、水平スイッチ112Aとボロメータ素子109Aの一端との接続ノードであるノード129Aは、プリチャージ電圧(VCHG)が印加された状態に保持される。また、プリチャージ回路130Bにより、水平スイッチ112Bがオフ期間に、水平スイッチ112Bとボロメータ素子109Bの一端との接続ノードであるノード129Bは、プリチャージ電圧(VCHG)が印加された状態に保持される。
水平スイッチ112Aがオフ状態からオン状態に遷移したとき、水平スイッチ112Aとボロメータ素子109Aの一端との接続ノードであるノード129Aには、電圧変動はほとんど発生しない。同様に、水平スイッチ112Bがオフ状態からオン状態に遷移したとき、水平スイッチ112Bとボロメータ素子109Bの一端との接続ノードであるノード129Bには、電圧変動はほとんど発生しない。この電圧変動はほとんど発生しない理由は、選択信号HSW1、HSW2の非活性状態から活性状態への遷移によるものである。
したがって、水平スイッチ112A、112Bがオフ状態からオン状態に遷移したとき、ノード129A、129Bは、プリチャージ電圧(VCHG)からバイアス電圧(VBOL)にただちに収束する。このため、積分回路104の積分コンデンサ120の両端を通電するリセット期間(リセット信号RSTの活性化期間(Highレベルの期間))を短縮し、その分、積分期間を長くすることができる。その結果、積分回路104の出力信号のS/N比を改善し、温度分解能を向上することができる。
上記第1の実施形態では、1つの読み出し回路101(バイアス回路102)に対して、2つの水平スイッチ112A、112B(第1、第2の水平スイッチ)を備えた構成とされているが、バイアス回路102に対する水平スイッチの個数は制限されない。また、1つの読み出し回路101(バイアス回路102)に対して、2つのプリチャージ回路130A、130Bを備えた構成とされているが、かかる構成に制限されるものでなく、例えば水平スイッチの各々に対応してプリチャージ回路が設けられる。
<実施形態2>
図2は、本発明の第2の実施形態の構成を説明する図である。図2には、2次元センサアレイとバイアス回路102の構成のみが、模式的に例示されている。1つのバイアス回路102に対して、4個の水平スイッチ112A乃至112Dを備えた構成としている。第2の実施形態において、バイアス回路102以外の図示されない回路(バイアスキャンセル回路103、積分回路104、第1VGS除去電圧発生回路105、第2VGS除去電圧発生回路106等)は、図1を参照して説明した前記第1の実施形態と同一である。このため、以下では、前記第1の実施形態との相違点について説明する。
水平スイッチ112A(第1水平スイッチ)は、選択信号HSW1(第1選択信号)でオン・オフが制御される。
水平スイッチ112B(第2水平スイッチ)は、選択信号HSW2(第2選択信号)でオン・オフが制御される。
水平スイッチ112C(第3水平スイッチ)は、選択信号HSW3(第3選択信号)でオン・オフが制御される。
水平スイッチ112D(第4水平スイッチ)は、選択信号HSW4(第4選択信号)でオン・オフが制御される。
プリチャージ回路130A、130B、130C、130Dは、水平スイッチ112A、112B、112C、112Dに接続される選択信号が活性化されるフェーズの1フェーズ前の値をとる選択信号に、それぞれ接続される。ここで、水平スイッチ112A、112B、112C、112Dに接続される選択信号は、HSW1、HSW2、HSW3、HSW4であり、1フェーズ前の値をとる選択信号は、HSW4、HSW1、HSW2、HSW3である。すなわち、プリチャージ回路130A(第1プリチャージ回路)は、選択信号HSW4(第4選択信号)で水平スイッチ112D(第4水平スイッチ)と共通に、オン・オフが制御される。
プリチャージ回路130B(第2プリチャージ回路)は、選択信号HSW1(第1選択信号)で水平スイッチ112A(第1水平スイッチ)と共通に、オン・オフが制御される。
プリチャージ回路130C(第3プリチャージ回路)は、選択信号HSW2(第2選択信号)で水平スイッチ112B(第2水平スイッチ)と共通に、オン・オフが制御される。
プリチャージ回路130D(第4プリチャージ回路)は、選択信号HSW3(第3選択信号)で水平スイッチ112C(第3水平スイッチ)と共通に、オン・オフが制御される。
なお、図2では、プリチャージ回路130A乃至130Dのオン・オフの制御(対応する水平スイッチが選択される1フェーズ前にオンに設定)を、説明の容易化のため、選択信号HSWA乃至HSWDの信号の配線接続により行っている。しかしながら、本発明はかかる構成にのみ制限されるものでないことは勿論である。例えば、不図示の論理回路等を用いて、プリチャージ回路130A乃至130Dのオン・オフを制御する信号を、対応する水平スイッチ112A乃至112Dが選択される1フェーズ前にオンに設定するように生成する構成としてもよいことは勿論である。
図5は、第2の実施形態の動作を説明する図である。図5には、図2の走査信号VSW1〜VSWnと、選択信号HSW1、HSW2、HSW3、HSW4と、ノード129A、129B、129C、129Dの各電圧波形が模式的に例示されている。ここで、図2の走査信号VSW1〜VSWnは、nラインの各ラインの画素スイッチ111A、111B、111C、111Dのオン・オフを切り替える。ここで、選択信号HSW1、HSW2、HSW3、HSW4は、水平スイッチ112A、112B、112C、112Dのオン・オフを切り替える。
垂直シフトレジスタからの走査信号VSW1〜VSWnが順次活性化され、走査信号VSW1〜VSWnが活性化される期間、活性化された走査信号に対応するラインの画素スイッチ111A、111B、111C、111Dが共通にオンとされる。ここで、垂直シフトレジスタは、図9の垂直シフトレジスタ205である。走査信号VSW1〜VSWnの活性化とは、例えばHighレベルとされることである。
走査信号VSWiが活性化される期間に、選択信号HSW1、HSW2、HSW3、HSW4がフェーズ毎に巡回的に順次活性化され、バイアス回路102の水平スイッチ112A、112B、112C、112Dが、フェーズ毎にオンに順次切り替わる。ここで、走査信号VSWiのiは1≦i≦nの整数である。ここで、走査信号VSWiが活性化される期間は、1水平走査期間(1H)である。選択信号HSW1、HSW2、HSW3、HSW4がフェーズ毎に巡回的に順次活性化されるとは、1フェーズ期間、順次、Highレベルとされることである。
これにより、i(1≦i≦n)ライン目のボロメータ素子109A、109B、109C、109Dの一端は、第1乃至第4フェーズのフェーズ毎に、順次、NMOSトランジスタ115のソースに接続し、バイアス電圧(VBOL)が印加される。i(1≦i≦n)ライン目のボロメータ素子109A、109B、109C、109Dの他端は、オン状態のi(1≦i≦n)ライン目の画素スイッチ111A、111B、111C、111Dを介して、基準電位GNDに接続される。
選択信号HSW4を入力とするプリチャージ回路130Aは、選択信号HSW1に基づきオン・オフが制御される水平スイッチ112Aがオンとされるフェーズの1フェーズ前に、オンとされ、ノード129Aに、プリチャージ電圧(VCHG)を与える。同様に、選択信号HSW1を入力とするプリチャージ回路130Bは、選択信号HSW2に基づきオン・オフが制御される水平スイッチ112Bがオンとされるフェーズの1フェーズ前に、オンとされ、ノード129Bに、プリチャージ電圧(VCHG)を与える。同様に、選択信号HSW2を入力とするプリチャージ回路130Cは、選択信号HSW3に基づきオン・オフが制御される水平スイッチ112Cがオンとされるフェーズの1フェーズ前に、オンとされ、ノード129Cに、プリチャージ電圧(VCHG)を与える。同様に、選択信号HSW3を入力とするプリチャージ回路130Dは、選択信号HSW4に基づきオン・オフが制御される水平スイッチ112Dがオンとされるフェーズの1フェーズ前に、オンとされ、ノード129Dに、プリチャージ電圧(VCHG)を与える。図5を参照して、タイミング動作の詳細を説明する。
図5において、例えば、1ライン目を選択する走査信号VSW1がHighの期間において、第1フェーズでは、水平スイッチ112Aがオンする。ここで、第1フェーズとは、図5において、選択信号HSW1がHigh、且つ、選択信号HSW2、HSW3、HSW4がLowの期間である。そして、オン状態の水平スイッチ112Aを介して、NMOSトランジスタ115に流れる電流が、ボロメータ素子109Aに流れ、ノード129Aはバイアス電圧(VBOL)に収束する。ここで1ライン目を選択する走査信号VSW1がHighの期間とは、図2の走査信号VSW1が供給される画素スイッチ111A、111B、111C、111Dがオンの期間である。第1フェーズとは、図5において、選択信号HSW1がHigh、且つ、選択信号HSW2、HSW3、HSW4がLowの期間である。ここで、NMOSトランジスタ115に流れる電流とは、NMOSトランジスタ115のドレイン・ソース間電流(drain-to-source current)である。
第1フェーズでは、選択信号HSW2、HSW3、HSW4はLowであるため、水平スイッチ112B、112C、112Dは、ともにオフ状態とされる。ただし、選択信号HSW1がHighであるため、プリチャージ回路130Bがオンし、ノード129Bには、プリチャージ回路130Bからプリチャージ電圧(VCHG)が印加される(図5のノード129Bの電圧波形のP:プリチャージ期間参照)。
図5において、1ライン目を選択する走査信号VSW1がHighの期間において、第2フェーズでは、水平スイッチ112Bがオンする。ここで、第2フェーズとは、図5において、選択信号HSW2がHigh、且つ、選択信号HSW1、HSW3、HSW4がLowの期間である。そして、オン状態の水平スイッチ112Bを介して、NMOSトランジスタ115に流れる電流が、ボロメータ素子109Bに流れる。その結果、ノード129Bは、第1フェーズで設定されたプリチャージ電圧(VCHG)から、バイアス電圧(VBOL)に収束する。
ここで1ライン目を選択する走査信号VSW1がHighの期間とは、図2の走査信号VSW1が供給される画素スイッチ111A、111B、111C、111Dがオンの期間である。第2フェーズとは、図5において、選択信号HSW2がHigh、且つ、選択信号HSW1、HSW3、HSW4がLowの期間である。ここで、NMOSトランジスタ115に流れる電流とは、NMOSトランジスタ115のドレイン・ソース間電流(drain-to-source current)である。
第2フェーズでは、選択信号HSW1、HSW3、HSW4はLowであるため、水平スイッチ112A、112C、112Dはオフ状態とされる。水平スイッチ112Aとプリチャージ回路130Aは、ともにオフ状態とされる。このため、ノード129Aは放電され、ノード129Aの電位は、ボロメータ素子109Aの抵抗値や配線抵抗と、ボロメータ素子109Aの寄生容量や配線容量等で決まる時定数CRで、GNDレベルとなる。一方、プリチャージ回路130Cは、オン状態とされる。このため、ノード129Cは、プリチャージ回路130Cにより、第1フェーズのGND電位から、プリチャージ電圧(VCHG)に設定される(図5のノード129Cの電圧波形のP参照)。プリチャージ回路130Dはオフ状態であるため、ノード129DはGND電位とされる。
図5において、1ライン目を選択する走査信号VSW1がHighの期間において、第3フェーズでは、水平スイッチ112Cがオンする。ここで、第3フェーズとは、図5において、選択信号HSW3がHigh、且つ、選択信号HSW1、HSW2、HSW4がLowの期間である。そして、オン状態の水平スイッチ112Cを介して、NMOSトランジスタ115に流れる電流が、ボロメータ素子109Cに流れる。その結果、ノード129Cは、第2フェーズで設定されたプリチャージ電圧(VCHG)から、バイアス電圧(VBOL)に収束する。
第3フェーズでは、選択信号HSW1、HSW2、HSW4はLowであるため、水平スイッチ112A、112B、112Dはオフ状態とされる。水平スイッチ112Aとプリチャージ回路130Aが、ともにオフ状態とされる。このため、ノード129AはGNDレベルに保持される。さらに水平スイッチ112Bとプリチャージ回路130Bも、ともにオフ状態とされる。このため、ノード129Bは放電され、GNDレベルとなる。一方、プリチャージ回路130Dは、オン状態とされる。このため、ノード129Dは、プリチャージ回路130Dにより、第2フェーズのGND電位から、プリチャージ電圧(VCHG)に設定される(図5のノード129Dの電圧波形のP参照)。
図5において、1ライン目を選択する走査信号VSW1がHighの期間において、第4フェーズでは、水平スイッチ112Dがオンする。ここで、第4フェーズとは、図5において、選択信号HSW4がHigh、且つ、選択信号HSW1、HSW2、HSW3がLowの期間である。そして、オン状態の水平スイッチ112Dを介して、NMOSトランジスタ115に流れる電流が、ボロメータ素子109Dに流れる。その結果、ノード129Dは、第3フェーズで設定されたプリチャージ電圧(VCHG)から、バイアス電圧(VBOL)に収束する。
第4フェーズでは、選択信号HSW1、HSW2、HSW3はLowであるため、水平スイッチ112A、112B、112Cはオフ状態とされる。選択信号HSW4がHighであるため、プリチャージ回路130Aはオン状態とされる。Highレベルの走査信号VSW1によりオン状態に設定された1ライン目の画素スイッチ111Aと直列に接続されたボロメータ素子109Aにプリチャージ回路130Aから電流が供給される。その結果、ノード129Aは、第3フェーズのGND電位から、プリチャージ電圧(VCHG)に設定される(図5のノード129Aの電圧波形のP参照)。プリチャージ回路130B、130C、130Dはオフ状態とされる。水平スイッチ112Bとプリチャージ回路130Bはともにオフ状態とされるため、ノード129BはGNDレベルに保持される。水平スイッチ112Cとプリチャージ回路130Cはともにオフ状態とされるため、ノード129Cの電荷が放電され、GNDレベルとされる。
つづく走査信号VSW2がHighの期間において、第1フェーズでは、オン状態の水平スイッチ112Aを介して、NMOSトランジスタ115に流れる電流が2ライン目のボロメータ素子109Aに流れる。その結果、ノード129Aは、1フェーズ前に設定されたプリチャージ電圧(VCHG)から、バイアス電圧(VBOL)に収束する。ここで、走査信号VSW2がHighの期間とは、図2の走査信号VSW2が供給される2ライン目の画素スイッチ111A、111B、111C、111Dがオンの期間である。ここで、第1フェーズとは、図5において、選択信号HSW1がHigh、且つ、選択信号HSW2、HSW3、HSW4がLowの期間である。ここで、NMOSトランジスタ115に流れる電流とは、NMOSトランジスタ115のドレイン・ソース間電流(drain-to-source current)である。
なお、図5では、プリチャージ電圧(VCHG)はバイアス電圧(VBOL)に等しい電圧値とされている。フェーズの切り替え時に、ノード129Aの電圧は、1フェーズ前に設定されたプリチャージ電圧(VCHG)とバイアス電圧(VBOL)の切り替え時に、一瞬、わずかに下がるが、ただちにバイアス電圧(VBOL)に切り替わっている。この切り替え時のわずかな電圧降下は、プリチャージ回路と水平スイッチのオン・オフの切り替えのタイミングによるものである。ノード129Aがバイアス電圧(VBOL)に収束した後、積分回路104で、バイアスキャンセル回路103の電流と、2ライン目のボロメータ素子109Aに流れる電流の差が積分される。以下、同様にして繰り返される。
第2の実施形態においても、前記第1の実施形態と同様の作用効果を奏する。さらに、1つの読み出し回路に対する列数(水平スイッチの個数)を、前記第1の実施形態の2倍としているため、回路構成の縮減、消費電力の削減に貢献する。
<実施形態3>
図3は、本発明の第3の実施形態の構成を説明する図である。図1を参照して説明した前記第1の実施形態との相違は、各ラインの走査信号VSWi(iは1≦i≦nの整数)を、各ラインの画素スイッチ111A、111Bに対応して、2系列VSWiA、VSWiBとしていることである。n本のラインに対して、走査信号の配線の本数は、前記第1の実施形態の2倍の2×n本となる。他の構成は、図1を参照して説明した前記第1の実施形態と同一である。以下では、前記第1の実施形態の相違点として、第3の実施形態(走査信号の本数を前記第1の実施形態の2倍とした構成)に固有の動作について、説明する。
図6は、第3の実施形態の動作を説明する図である。図6には、図3の走査信号VSW1A、VSW1B・・・、VSWnA、VSWnB、選択信号HSW1、HSW2と、ノード129A、129Bと、リセット信号RSTの電圧波形が、模式的に例示されている。
nラインのうちのi番目のラインを選択する走査信号VSWiA、VSWiB(1≦i≦n)は、第1、第2フェーズでそれぞれ活性状態(例えばHighレベル)とされる。i番目のライン(1≦i≦n)の画素スイッチ111A、111Bは、走査信号VSWiA、VSWiBが活性状態のときに、それぞれオンとされる。すなわち、画素スイッチ111A、111Bは第1、第2フェーズでそれぞれオンとされる。
図3の例では、水平スイッチ112A側に近く配置された画素スイッチ111Aには、入力端子127Aが接続される。入力端子127Aには、1番目のラインを走査する走査信号VSW1Aが供給され、画素スイッチ111Aをオン・オフ制御する。水平スイッチ112B側に近く配置された画素スイッチ111Bには、入力端子127Bが接続される。入力端子127Bには、1番目のラインを走査する走査信号VSW1Bが供給され、画素スイッチ111Bをオン・オフ制御する。
図3の例では、水平スイッチ112Aから最も遠く配置された画素スイッチ111Aには、入力端子128Aが接続される。入力端子128Aには、n番目のラインを走査する走査信号VSWnAが供給され、画素スイッチ111Aをオン・オフ制御する。水平スイッチ112Bから最も遠く配置された画素スイッチ111Bには、入力端子128Bが接続される。入力端子128Bには、n番目のラインを走査する走査信号VSWnBが供給され、画素スイッチ111Bをオン・オフ制御する。
選択信号HSW1、HSW2は、フェーズ毎に交互に活性化される。水平スイッチ112A、112Bは、フェーズ毎に交互に活性化される選択信号HSW1、HSW2に応答して、フェーズ毎に交互にオン、オフし、ボロメータ素子109A、109Bを選択している。
1ライン目を選択する走査信号VSW1A、VSW1Bで選択される1ライン目の画素スイッチ111A、111Bは、1ライン目が選択される1水平走査期間において、第1、第2フェーズでそれぞれオンとされる。
走査信号VSW1Aが活性状態(High)、走査信号VSW1Bが非活性状態(Low)、選択信号HSW1が活性状態(High)、選択信号HSW2が非活性状態(Low)のとき、1ライン目の画素スイッチ111Aがオンし、水平スイッチ112Aがオンする。これにより、1ライン目のボロメータ素子109Aの一端がNMOSトランジスタ115のソースに接続され、1ライン目のボロメータ素子109Aの他端は基準電位GNDに接続される。その結果、NMOSトランジスタ115に流れる電流が1ライン目のボロメータ素子109Aに流れ、1ライン目のボロメータ素子109Aの一端が接続するノード129Aは、バイアス電圧(VBOL)に収束する。ここでNMOSトランジスタ115に流れる電流とは、NMOSトランジスタ115のドレイン・ソース間電流(drain-to-source current)である。
一方、選択信号HSW2が非活性状態(Low)であることから、水平スイッチ112Bはオフであるが、選択信号HSW1が活性状態(High)であるため、プリチャージ回路130Bがオンとされる。このため、プリチャージ回路130Bから、ノード129Bにプリチャージ電圧(VCHG)が印加される。このとき、走査信号VSW1Bは非活性状態(Low)であるため、1ライン目の画素スイッチ111Bはオフであり、プリチャージ電圧が一端に印加される1ライン目のボロメータ素子109Bの他端は、オープン状態とされる。したがって、1ライン目のボロメータ素子109Bに電流は流れない。この状態で、ノード129Bは、プリチャージ電圧(VCHG)が印加される入力端子131と等電位となる。
走査信号VSW1Bが活性状態(High)、走査信号VSW1Aが非活性状態(Low)、選択信号HSW2が活性状態(High)、選択信号HSW1が非活性状態(Low)のとき、1ライン目の画素スイッチ111Bがオンし、水平スイッチ112Bがオンする。これにより、1ライン目のボロメータ素子109Bの一端がNMOSトランジスタ115のソースに接続され、1ライン目のボロメータ素子109Bの他端は基準電位GNDに接続される。その結果、NMOSトランジスタ115に流れる電流が1ライン目のボロメータ素子109Bに流れ、1ライン目のボロメータ素子109Bの一端が接続するノード129Bは、1フェーズ前のプリチャージ電圧から、バイアス電圧(VBOL)に収束する。ここでNMOSトランジスタ115に流れる電流とは、NMOSトランジスタ115のドレイン・ソース間電流(drain-to-source current)である。
一方、選択信号HSW1が非活性状態(Low)であることから、水平スイッチ112Aはオフであるが、選択信号HSW2が活性状態(High)であるため、プリチャージ回路130Aがオンとされる。このため、プリチャージ回路130Aからノード129Aにプリチャージ電圧(VCHG)が印加される。このとき、走査信号VSW1Aは非活性状態(Low)であるため、1ライン目の画素スイッチ111Aはオフであり、プリチャージ電圧(VCHG)が一端に印加される1ライン目のボロメータ素子109Aの他端は、オープン状態である。したがって、1ライン目のボロメータ素子109Aに電流は流れない。この状態で、ノード129Aは、プリチャージ電圧(VCHG)が印加される入力端子131と等電位となる。
走査信号VSW2A、2Bの活性化時等、2ライン目以降の動作も同様とされる。
上述の第1の実施形態では、プリチャージ回路130A、130Bの一方がオンのとき、選択されたラインの画素スイッチ111A、111Bはともにオンとされる。そして、プリチャージ電圧(VCHG)が印加される入力端子131から、オン状態のプリチャージ回路、ボロメータ素子、オン状態の画素スイッチを介して基準電位GNDに電流が流れる。
これに対して、本実施形態によれば、選択信号HSW1が非活性状態(Low)、選択信号HSW2が活性状態(High)とされ、プリチャージ回路130Aがオンのとき、選択されたi番目のライン(1≦i≦n)の画素スイッチ111Aはオフとされる。すなわち、走査信号VSWiAはLowである。このため、プリチャージ電圧(VCHG)が印加される入力端子131から、オン状態のプリチャージ回路130A、ボロメータ素子109Bを介して基準電位GNDに電流が流れることはない。
選択信号HSW1が活性状態(High)、選択信号HSW2が非活性状態(Low)とされ、プリチャージ回路130Bがオンのとき、選択されたi番目のライン(1≦i≦n)の画素スイッチ111Bはオフとされる。すなわち、走査信号VSWiBはLowである。このため、プリチャージ電圧(VCHG)が印加される入力端子131から、オン状態のプリチャージ回路130B、ボロメータ素子109Bを介して基準電位GNDに電流が流れることはない。
これにより、第3の実施形態によれば、上述の第1の実施形態と同様の作用効果を奏するとともに、第1の実施形態と比べて、プリチャージ電圧供給時の電力消費の増加を抑制している。ただし、走査信号の本数は上記第1の実施形態の2倍に増加する。
なお、上記実施形態では、センサアレイとして2次元アレイ(マトリクス)を例に説明したが、1ライン分のボロメータ素子を備えた1次元アレイ(ただし、走査信号と画素スイッチはない)についても、同様に適用可能であることは勿論である。
また、上記実施形態では、バイアスキャンセル回路103にPMOSを用い、バイアス回路102にNMOSを用いた例に即して説明したが、かかる構成にのみ制限されるものでないことは勿論である。
なお、上記の特許文献の各開示を、本書に引用をもって繰り込むものとする。本発明の全開示(請求の範囲を含む)の枠内において、さらにその基本的技術思想に基づいて、実施形態ないし実施例の変更・調整が可能である。また、本発明の請求の範囲の枠内において種々の開示要素(各請求項の各要素、各実施例の各要素、各図面の各要素等を含む)の多様な組み合わせ乃至選択が可能である。すなわち、本発明は、請求の範囲を含む全開示、技術的思想にしたがって当業者であればなし得るであろう各種変形、修正を含むことは勿論である。
以上、上述した実施形態を模範的な例として本発明を説明した。しかしながら、本発明は、上述した実施形態には限定されない。即ち、本発明は、本発明のスコープ内において、当業者が理解し得る様々な態様を適用することができる。
この出願は、2014年4月22日に出願された日本出願特願2014−88506号を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。
10、101、101’ 読み出し回路
11、11A、11B、109A、109B、109C、109D ボロメータ素子
12、102、102’ バイアス回路
13、103 バイアスキャンセル回路
14、104 積分回路
15 入力端子
16 入力端子
17 バイアス電圧を与える手段(バイアス手段)
17A 第1のスイッチ
17B 第2のスイッチ
18、18A、18B プリチャージ手段
19、125 入力端子
20、126 入力端子
21、21A、21B 信号線
22 出力端子
105 第1VGS除去電圧発生回路
106 第2VGS除去電圧発生回路
107、108 入力電圧配線
110 抵抗素子
111A、111B、111C、111D 画素スイッチ
112A、112B、112C、112D 水平スイッチ
113 画素スイッチ
114 水平スイッチ
115 NMOSトランジスタ
116 PMOSトランジスタ
117、118、119 オペアンプ
120 積分コンデンサ
123 スイッチ
124 入力端子
127、127A、127B 入力端子
128、128A、128B 入力端子
129A、129B、129C、129D ノード
130A、130B、130C、130D プリチャージ回路(プリチャージ手段)
131 入力端子
132 出力端子
201 画素スイッチ
202 ボロメータ素子(熱電変換素子)
203 信号線
204 水平スイッチ
205 垂直シフトレジスタ
206 読み出し回路
207 マルチプレクサスイッチ
208 水平シフトレジスタ
209 出力バッファ
211 走査線

Claims (21)

  1. 少なくとも1つのボロメータ素子と、
    前記ボロメータ素子にバイアス電圧を与える手段を備え、前記ボロメータ素子に前記バイアス電圧を与えたときに前記ボロメータ素子に流れる電流と、前記ボロメータ素子のオフセット電流を除去するバイアスキャンセル回路からの電流との差電流を積分回路への入力とするバイアス回路と、
    を含み、
    前記バイアス回路が、前記ボロメータ素子を所定のプリチャージ電圧でプリチャージするプリチャージ手段をさらに含む、ことを特徴とする半導体装置。
  2. 前記プリチャージ手段は、前記ボロメータ素子が前記バイアス電圧でバイアスされていない期間の一部の期間又は全ての期間に、前記ボロメータ素子を前記プリチャージ電圧でプリチャージする、ことを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  3. 前記プリチャージ手段は、前記ボロメータ素子が前記バイアス電圧でバイアスされていない期間のうち、前記ボロメータ素子が前記バイアス電圧でバイアスされる直前の期間を含む少なくとも一部の期間に、前記ボロメータ素子を前記プリチャージ電圧でプリチャージする、ことを特徴とする請求項1又は2記載の半導体装置。
  4. 前記バイアス回路が、前記バイアス電圧を与える手段として、所定の期間毎、交互にオンとされ、オン状態のときに前記バイアス電圧を供給する第1、第2のスイッチを含み、
    前記プリチャージ手段は、
    前記第1のスイッチがオンとされ、前記第1のスイッチに接続された第1のボロメータ素子の一端に前記バイアス電圧が与えられている期間に、
    オフ状態の前記第2のスイッチに接続された第2のボロメータ素子の一端に前記プリチャージ電圧を与え、
    前記第2のスイッチがオンとされ、前記第2のスイッチに接続された前記第2のボロメータ素子の一端に前記バイアス電圧が与えられている期間に、
    オフ状態の前記第1のスイッチに接続された前記第1のボロメータ素子の一端に前記プリチャージ電圧を与える、ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体装置。
  5. 前記バイアス回路が、前記バイアス電圧を与える手段として、1つずつ巡回的に、順次、オン状態とされる第1乃至第mのスイッチ(mは2以上の所定の整数)を含み、
    前記プリチャージ手段は、
    第i(ただし、iは1≦i≦mの整数)のスイッチがオンし、前記第i(1≦i≦m)のスイッチに接続されたボロメータ素子の一端に前記バイアス電圧が与えられる期間に、
    オフ状態の第i+1(ただし、iがmのときの、第m+1は第1となる)のスイッチに接続されたボロメータ素子の一端に前記プリチャージ電圧を与える、ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の半導体装置。
  6. 前記プリチャージ手段が前記ボロメータ素子の一端にプリチャージ電圧を与えるとき、前記ボロメータ素子の他端をオープン状態とする、ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の半導体装置。
  7. 前記プリチャージ電圧は、前記バイアス電圧に等しいか、又は前記バイアス電圧に所定の電圧を加算又は減算した電圧である、ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の半導体装置。
  8. 前記積分回路が、前記ボロメータ素子に前記バイアス電圧が与えられる期間の開始から、所定の期間リセットされ、前記リセット終了後、前記積分回路は、前記バイアスキャンセル回路からの電流と、前記ボロメータ素子に前記バイアス電圧を与えたときに前記ボロメータ素子に流れる電流の差電流を積分する、ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の半導体装置。
  9. 前記バイアス回路、前記バイアスキャンセル回路、及び、前記積分回路を備えた読み出し回路を、1つ又は複数備え、
    前記ボロメータ素子として、
    1ラインあたり、1つの前記読み出し回路に対して、第1乃至第m(mは2以上の整数)のボロメータ素子を備え、
    1つの前記読み出し回路に対して、
    n本(nは1以上の所定の整数)の前記ラインを備えたm×nのボロメータ素子のアレイを備えた、ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の半導体装置。
  10. 前記n本のラインのそれぞれについて、1つの前記読み出し回路に対応する前記第1乃至第mのボロメータ素子と基準電位間に、第1乃至第mの画素スイッチを備え、
    前記n本のラインの各ラインの前記画素スイッチが、n本の走査信号の各走査信号で共通にオン、オフされる、ことを特徴とする請求項9記載の半導体装置。
  11. 前記n本のラインのそれぞれについて、1つの前記読み出し回路に対応する前記第1乃至第mのボロメータ素子と基準電位間に第1乃至第mの画素スイッチを備え、
    1つの前記読み出し回路に対して、
    一本のラインの第1乃至第mの画素スイッチが、第1乃至第mの走査信号にそれぞれ接続され、
    前記n本のラインに対して、m×n本の走査信号を備えた、ことを特徴とする請求項9記載の半導体装置。
  12. 前記第1乃至第mのスイッチが、フェーズ毎に、オンに設定される、水平スイッチからなる、ことを特徴とする請求項5記載の半導体装置。
  13. 請求項1乃至12のいずれか1項に記載の半導体装置を備えた赤外線撮像装置。
  14. ボロメータ素子にバイアス回路からバイアス電圧を与えたときに前記ボロメータ素子に流れる電流と、前記ボロメータ素子のオフセット電流を除去するバイアスキャンセル回路からの電流との差電流を、積分回路に入力して積分した値を出力し、
    前記ボロメータ素子を所定のプリチャージ電圧でプリチャージする、ことを特徴とする半導体装置の制御方法。
  15. 前記ボロメータ素子が、前記バイアス電圧でバイアスされていない期間の一部の期間又は全ての期間に、前記ボロメータ素子、を前記プリチャージ電圧でプリチャージする、ことを特徴とする請求項14記載の半導体装置の制御方法。
  16. 前記ボロメータ素子が前記バイアス電圧でバイアスされていない期間のうち、前記ボロメータ素子が前記バイアス電圧でバイアスされる直前の期間を含む少なくとも一部の期間に、前記ボロメータ素子を前記プリチャージ電圧でプリチャージする、ことを特徴とする請求項14又は15記載の半導体装置の制御方法。
  17. 第1のスイッチがオンとされ、前記第1のスイッチに接続された第1のボロメータ素子の一端に前記バイアス電圧が与えられている期間に、
    オフ状態の第2のスイッチに接続された第2のボロメータ素子の一端に前記プリチャージ電圧を与え、
    前記第2のスイッチがオンとされ、前記第2のスイッチに接続された前記第2のボロメータ素子の一端に前記バイアス電圧が与えられている期間に、
    オフ状態の前記第1のスイッチに接続された前記第1のボロメータ素子の一端に前記プリチャージ電圧を与える、ことを特徴とする請求項14乃至16のいずれか1項に記載の半導体装置の制御方法。
  18. 1つずつ順次巡回的にオン状態とされる第1乃至第mのスイッチ(mは2以上の所定の整数)の中で、第i(1≦i≦m)のスイッチがオンし、前記第i(1≦i≦m)のスイッチに接続されたボロメータ素子の一端に前記バイアス電圧が与えられる期間に、
    オフ状態の第i+1(ただし、iがmのときの、第m+1は第1となる)のスイッチに接続されたボロメータ素子の一端に前記プリチャージ電圧を与える、ことを特徴とする請求項14乃至16のいずれか1項に記載の半導体装置の制御方法。
  19. 前記ボロメータ素子の一端にプリチャージ電圧を与えるとき、前記ボロメータ素子の他端をオープン状態とする、ことを特徴とする請求項14乃至18のいずれか1項に記載の半導体装置の制御方法。
  20. 前記プリチャージ電圧は、前記バイアス電圧に等しいか、又は前記バイアス電圧に所定の電圧を加算した電圧である、ことを特徴とする請求項14乃至19のいずれか1項に記載の半導体装置の制御方法。
  21. 前記ボロメータ素子に前記バイアス電圧が与えられる期間の開始から、所定の期間、前記積分回路をリセットし、
    前記リセット終了後、前記積分回路は、前記バイアスキャンセル回路からの電流と、前記ボロメータ素子に前記バイアス電圧を与えたときに前記ボロメータ素子に流れる電流の差電流を積分する、ことを特徴とする請求項14乃至20のいずれか1項に記載の半導体装置の制御方法。
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