JPWO2015133405A1

JPWO2015133405A1 - 光学活性アゼチジノン化合物の製造方法

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Publication number: JPWO2015133405A1
Application number: JP2016506463A
Authority: JP
Inventors: 内藤　真也; 真也内藤; 浩英橘山; 繁生中村
Original assignee: Nissan Chemical Corp
Current assignee: Nissan Chemical Corp
Priority date: 2014-03-06
Filing date: 2015-02-27
Publication date: 2017-04-06
Anticipated expiration: 2035-02-27
Also published as: WO2015133405A1; US20160362369A1; JP6795974B2

Abstract

【課題】立体選択的な光学活性アゼチジノン化合物の新規な製造方法を提供する。【解決手段】式（５）で表されるケトン化合物から、高収率かつ高選択性で式（７）で表される光学活性アゼチジノン化合物を製造することができ、工業的に有用な製造方法を提供できる。【化１】（式中Rは水素原子又はヒドロキシ保護基を表す。）【選択図】なし

Description

本発明は光学活性アゼチジノン化合物の製造方法に関する。

式（１）で表されるアゼチジノン化合物（化合物（１））は、高脂血症に対する治療薬として有用である（非特許文献１参照）。

化合物（１）の前駆体の一つである式（４）で表されるアゼチジノン化合物（化合物（４））は、式（２）で表されるケトン化合物（化合物（２））を還元することで得られ、その高収率かつ高立体選択的な製造方法として、式（３）で示されるＲｕＣｌ₂（（Ｒ）−ｘｙｌＢｉｎａｐ）（（Ｒ）−ｄａｉｐｅｎ）の様な不斉還元触媒の存在下で還元する方法が報告されている（特許文献１参照）。

中国特許公開第１０２９５２０５５号

ジャーナルオブメディシナルケミストリー、１９９８年、４１巻、９７３−９８０頁

特許文献１には、触媒量を低減することにより、反応転化率が低下することや反応時間が延長することが記載されている。また、反応を行う際の水素圧は２〜３ＭＰａと記載されており、特殊な設備を必要とする条件となっている。そのため、工業的に適した、改良された製造方法が望まれていた。本発明は、化合物（１）の製造前駆体、及び化合物（１）の更なる製造方法を提供する。

本発明者らは上記事情に鑑みて、光学活性アゼチジノン化合物の、高収率、高立体選択的かつ工業的に有用な製造方法を提供することを目的とし、鋭意検討した結果、非常に高い立体選択性及び高収率で光学活性アゼチジノン化合物が得られる製造方法を見出し、本発明を完成した。

すなわち、本発明は、下記〔１〕〜〔１０〕に関するものである。
〔１〕
式（５）：
（式中、Rは、水素原子又はヒドロキシ保護基を表す。）で表されるケトン化合物に、式（６）：
（式中、Ａｒは、３，５−ジメチルフェニル基を表す。）
で表される光学活性ルテニウム触媒の存在下、水素ガスを反応させることを特徴とする、式（７）：
で表される光学活性アゼチジノン化合物の製造方法。
〔２〕
Ｒが水素原子である、上記〔１〕記載の光学活性アゼチジノン化合物の製造方法。
〔３〕
Ｒがヒドロキシ保護基である、上記〔１〕記載の光学活性アゼチジノン化合物の製造方法。
〔４〕
Ｒがベンジル基である、上記〔３〕記載の光学活性アゼチジノン化合物の製造方法。
〔５〕
Ｒがｔ−ブチルジメチルシリル基である、上記〔３〕記載の光学活性アゼチジノン化合物の製造方法。
〔６〕
Ｒがアリル基である、上記〔３〕記載の光学活性アゼチジノン化合物の製造方法。
〔７〕
式（５）：
（式中、Rは、ヒドロキシ保護基を表す。）で表されるケトン化合物に、式（６）：
（式中、Ａｒは、３，５−ジメチルフェニル基を表す。）
で表される光学活性ルテニウム触媒の存在下、水素ガスを反応させ、
式（７）：
で表される光学活性アゼチジノン化合物へ誘導し、さらに脱保護反応を行うことを特徴とする、
式（１）：

で表される光学活性アゼチジノン化合物の製造方法。
〔８〕
Ｒがベンジル基である、上記〔７〕記載の光学活性アゼチジノン化合物の製造方法。
〔９〕
Ｒがｔ−ブチルジメチルシリル基である、上記〔７〕記載の光学活性アゼチジノン化合物の製造方法。
〔１０〕
Ｒがアリル基である、上記〔７〕記載の光学活性アゼチジノン化合物の製造方法。

本発明によれば、医薬品中間体として有用な式（７）で表される光学活性アゼチジノン化合物を高選択的かつ高収率で大量に製造することができ、本発明は工業的製法として利用価値が高い。

以下に、本発明についてさらに詳しく説明する。

なお、本明細書中の「ｎ−」はノルマルを、「ｔ−」はターシャリーを、「ｃ−」はシクロを、「ｏ−」はオルトを、「Ｂｎ」はベンジルを、「ＴＢＳ」はｔ−ブチルジメチルシリルを意味する。

光学活性アゼチジノン化合物（７）及び（１）の製造方法について、以下に詳細に説明する。

ケトン化合物（５）（式中Ｒは前記と同じ意味を表す。）を、式（６）（式中、Ａｒは、３，５−ジメチルフェニル基を表す。）で表される、市販品として入手可能なＲＵＣＹ（登録商標）−ＸｙｌＢＩＮＡＰ（高砂香料工業株式会社製品）の存在下、水素ガスを反応させることにより、光学活性アゼチジノン化合物（７）（式中Ｒは前記と同じ意味を表す。）を合成することができる。

用いる不斉還元触媒の量は、ケトン化合物（５）に対して１０万分の１ｍｏｌ％乃至１００ｍｏｌ％、好ましくは０．０１ｍｏｌ％乃至５ｍｏｌ％である。

本発明製造方法では、反応を促進するために塩基を添加する事ができる。用いる塩基の好ましい例としては、アルコールのアルカリ金属塩が挙げられる。さらに好ましい塩基は、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドであり、最も好ましくはカリウムｔ−ブトキシドである。

添加する塩基の量は、用いる不斉還元触媒に対して同量以上あれば良く、好ましくは触媒に対して１０〜５００当量である。

本反応に用いる溶媒は、反応の進行を阻害しないものであれば制限はされないが、好ましい例としては、水、非プロトン性極性有機溶媒（例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、テトラメチルウレア、スルホラン、Ｎ−メチルピロリドンやＮ，Ｎ−ジメチルイミダゾリジノン等）、エーテル系溶媒（例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフランやジオキサン等）、脂肪族炭化水素系溶媒（例えばペンタン、ｎ−ヘキサン、ｃ−ヘキサン、オクタン、デカン、デカリンや石油エーテル等）、芳香族炭化水素系溶媒（ベンゼン、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンやテトラリン等）、ハロゲン化炭化水素系溶媒（例えばクロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタンや四塩化炭素等）、低級脂肪族酸エステル系溶媒（例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルやプロピオン酸メチル等）、アルコキシアルカン系溶媒（例えばジメトキシエタンやジエトキシエタン等）、アルコール系溶媒（例えばメタノール、エタノールや１−プロパノール、２−プロパノール等）、カルボン酸系溶媒（酢酸等）等の溶媒が挙げられる。その中でもアルコール系溶媒が好ましい。用いるアルコール系溶媒は１種類の溶媒を単体で用いても、２種類以上の混合物を用いても良い。

反応温度については、１０〜５０℃程度が好ましく、２０〜３０℃程度がより好ましい。

用いることができる還元剤としては、試薬として用いられている還元剤であれば特に制限は無いが、例えば水素ガスが挙げられる。

反応を行う際の水素圧は任意の圧力で実施する事が出来るが、反応への寄与及び工業的製造への適合の観点から、好ましくは０．１〜４．０ＭＰａの範囲、より好ましくは０．１〜１．０ＭＰａの範囲である。

ヒドロキシ保護基は、脱保護反応（例えば、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス第４版（Protective Groups in Organic Synthesis, Fourth edition）、グリーン（T.W.Greene）著、ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インコーポレイテッド（John Wiley & Sons Inc.)（2006年）など参照）を行うことにより除去することができる。

本製造方法におけるヒドロキシ保護基としては、反応の進行を阻害しないものであれば制限はされず、有機合成において通常用いる保護基を用いることができる。好ましいヒドロキシ保護基としては、例えば、ベンジル基、メチル基、メトキシメチル基、アセチル基、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、アリル基などが挙げられ、好ましくはベンジル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、又はアリル基である。

本明細書中「アリル基」は、ＣＨ₂＝ＣＨ−ＣＨ₂−で表される１価の置換基を表す。

ケトン化合物（２）及び（８）は公知化合物であり、文献記載の方法、例えば国際公開第２００７／１１９１０６号、国際公開第２００７／０７２０８８号等に記載の方法に準じて合成することができる。

以下、実施例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。なお、核磁気共鳴スペクトル（¹Ｈ−ＮＭＲ）、高速液体クロマトグラフィー分析（ＨＰＬＣ）は、以下の機器および条件で測定した。なお、（Ｖ／Ｖ／Ｖ）との記載におけるＶは体積を意味する。
［１］¹Ｈ−ＮＭＲ
機種：ＥＣＰ３００（日本電子株式会社製品）
測定溶媒：ＤＭＳＯ−ｄ₆
［２］ＨＰＬＣ
（１）ＨＰＬＣ分析条件１（化学純度及び反応転化率の測定に使用）
装置：アジレント１２６０
カラム：Ｌ−ＣｏｌｕｍｎＯＤＳ（財団法人化学物質評価研究機構製品）
２５０×４．６ｍｍＩ．Ｄ．５μｍ
カラムオーブン温度：４０℃
溶離液：アセトニトリル、１０ｍＭ酢酸アンモニウム水溶液混合溶媒
グラジェント条件（アセトニトリル体積比）：２０％（０ｍｉｎ．）→２０％（１０ｍｉｎ．）→５０％（１５ｍｉｎ．）→５０％（３０ｍｉｎ．）→９５％（４０ｍｉｎ．）→９５％（５０ｍｉｎ．）
かっこ内のタイムプログラムは分析開始からの総時間を表す。
流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．
検出器：紫外可視吸光光度計２３３ｎｍ
（２）ＨＰＬＣ分析条件２（光学純度の測定に使用）
装置：島津２０Ａ
カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫＩＣ（株式会社ダイセル製品）
２５０ｍｍ×４．６ｍｍＩ．Ｄ．５μｍ
カラムオーブン温度：３５℃
溶離液：ヘキサン／２−プロパノール／トリフルオロ酢酸＝９００／１００／１（Ｖ／Ｖ／Ｖ）
流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．
検出器：紫外可視吸光光度計２３３ｎｍ

実施例１：化合物（１）の合成

国際公開第２００７／０７２０８８号に記載の方法に準じて合成した化合物（８）２．０９ｇ（４．０１ｍｍｏｌ）をエタノール２０．９１ｇに溶解し、カリウムｔ−ブトキシド２２．４ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌ）、（Ｒ）−ＲＵＣＹ（登録商標）−ＸｙｌＢＩＮＡＰ（高砂香料工業株式会社製品）４．７ｍｇ（０．００４ｍｍｏｌ、化合物（８）に対して０．１ｍｏｌ％）を加え、溶解させた。反応容器を水素ガスに置換後、水素圧５００ｋＰａ、反応温度２６℃にて３時間撹拌した。その後、酢酸１５．０ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を加え、減圧下溶媒留去し、３．８１ｇの残渣を得た。残渣を酢酸エチル１０．４８ｇに溶解させ、活性炭（特製白鷺、日本エンバイロケミカルズ株式会社製品）０．１０ｇを加え、室温下、４０分間撹拌し、活性炭をろ過、酢酸エチル２．１ｇで洗いこんだ。ろ洗液を混合し、減圧下溶媒留去して、残渣３．２８ｇを得た。残渣を２−プロパノール２０．９２ｇに溶解し、再度減圧下溶媒留去して、溶液総量１０．５６ｇとし、化合物（９）の２−プロパノール溶液を得た。
ここへ２０％硫酸水溶液１．３７ｇ（２．７９ｍｍｏｌ）を加えて、５８〜５９℃で１時間撹拌後、放冷したところ、白色の固体が析出した。ここへ水８．４６ｇを滴下し、更に、０〜３℃で３時間撹拌して、析出した固体をろ過した。２−プロパノール２．０９ｇと水２．０９ｇの混液、２−プロパノール２．１１ｇと水２．１０ｇの混液、水２．１１ｇで洗浄し、５０℃で減圧乾燥して、化合物（１）１．３４ｇを白色固体として得た。
ＨＰＬＣ分析条件１にて化学純度を測定したところ、９７.４９％であった。
また、ＨＰＬＣ分析条件２にてジアステレオマー過剰率を測定したところ、９９.０１％ｄｅであった。さらに、その保持時間は、特許第３６４０８８８号に記載の方法に準じて合成した化合物（１）の保持時間と一致した（保持時間：１９．７分、ジアステレオマーの保持時間：２４．６分）。
また、２段階反応の生成物である（１）のジアステレオマー過剰率が９９.０１％ｄｅであり、２工程目でジアステレオマー過剰率が保持されると考えられることから、１段階目生成物の化合物（９）のジアステレオマー過剰率は９９.０１％ｄｅ以上であることが分かる。
¹Ｈ−ＮＭＲ分析：（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ―ｄ₆）δｐｐｍ：１．７２−１．８８（４Ｈ，ｍ），３．０６−３．０８（１Ｈ，ｍ），４．４９（１Ｈ，ｓ），４．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），５．２８（１Ｈ，ｂｒ），６．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．０９−７．１６（４Ｈ，ｍ），７．１９−７．２４（４Ｈ，ｍ），７．２８−７．３３（２Ｈ，ｍ），９．５３（１Ｈ，ｓ）

実施例２：化合物（４）の合成

特表平８−５０９９８９号に記載の方法に準じて合成した化合物（２）５４．００ｇ（１０８．１ｍｍｏｌ）をエタノール５４０．１９ｇとテトラヒドロフラン２７０．２０ｇに溶解し、カリウムｔ−ブトキシド５８７．３ｍｇ（５．２３ｍｍｏｌ）、（Ｒ）−ＲＵＣＹ（登録商標）−ＸｙｌＢＩＮＡＰ（高砂香料工業株式会社製品）１２７．５ｍｇ（０．１０７６ｍｍｏｌ、化合物（２）に対して０．１ｍｏｌ％）を加え、溶解させた。反応容器を水素ガスに置換後、水素圧５００ｋＰａ、１１℃から２１℃で６時間撹拌した。化合物（２）から化合物（４）への転化率は１００．００％であった。得られた溶液に酢酸４２３．７ｍｇ（７．０６ｍｍｏｌ）を加え撹拌した後、不溶物をろ過した。得られたろ液を１０４．７８ｇまで減圧下濃縮した後、エタノール３２７．８２ｇを加え７１℃まで加熱した。２２℃まで冷却した後、水５４．００ｇを加え、１℃まで冷却した。析出した固体をろ過し、エタノール４３．２３ｇと水１０．９４ｇの混液で洗浄し、さらにエタノール４３．２８ｇとイオン交換水１０．８２ｇの混液で洗浄し、化合物（４）４９．７３ｇを白色固体として得た。得られた化合物（４）の化学純度は９９．９６％であり、ジアステレオマー過剰率は９９．８８％ｄｅであった。
¹Ｈ−ＮＭＲ分析：（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δｐｐｍ：１．８４−１．９９（４Ｈ，ｍ），２．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），３．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），４．５６（１Ｈ，ｂｒ），４．６４（１Ｈ，ｂｒ），５．０４（２Ｈ，ｓ），６．８８−７．０３（６Ｈ，ｍ），７．２０−７．４２（１１Ｈ，ｍ）

実施例３：化合物（４）の合成

実施例２と同様に得た化合物（２）２．００ｇ（４．００ｍｍｏｌ）とカリウムｔ−ブトキシド２２．４ｍｇ（０．２０ｍｍｏｌをエタノール２９ｍＬに懸濁させた後、（Ｒ）−ＲＵＣＹ（登録商標）−ＸｙｌＢＩＮＡＰ（高砂香料工業株式会社製品）９．６ｍｇ（０．００８１ｍｍｏｌ）をエタノール１０ｍＬに溶解させて調製した溶液のうち１ｍＬ（０．８１μｍｏｌ、化合物（２）に対して０．０２ｍｏｌ％）を加えた。反応容器を水素ガスに置換後、水素圧２０００ｋＰａ、反応温度４４℃にて１時間撹拌した。化合物（２）から化合物（４）への転化率は９９．２１％であり、ジアステレオマー過剰率は９９.７８％ｄｅであった。この溶液を減圧下濃縮し、化合物（４）１．９９ｇを白色固体として得た。

実施例４：化合物（４）の合成

実施例３において、水素圧を５００ｋＰａとした以外は実施例３と同様の操作を行い、化合物（４）１．８９ｇを得た．
攪拌１時間後の化合物（２）から化合物（４）への転化率は９７．４４％であり、ジアステレオマー過剰率は１００．００％ｄｅであった。

実施例５：化合物（１）の合成

実施例２に準じて合成した化合物（４）１３．００ｇ（２６．０２ｍｍｏｌ）を酢酸エチル７８．１２ｇ、メタノール３７．７０ｇに溶解させた後、酢酸３．１３ｇ（５２．１２ｍｍｏｌ）、パラジウム炭素（水分５４．１０％）１．４２ｇを加えた。この溶液にギ酸アンモニウム６．００ｇとメタノール９４．００ｇより調製した６％ギ酸アンモニウムメタノール溶液２７．３５ｇ（２６．０２ｍｍｏｌ）を滴下し、撹拌した。さらに６％ギ酸アンモニウムメタノール溶液を、６．５時間後に３．０１ｇ（２．８６ｍｍｏｌ）、９時間後に１．９７ｇ（１．８７ｍｍｏｌ）、１０時間後に１．９１ｇ（１．８２ｍｍｏｌ）を加え、反応を完結させた後セライトろ過を行い、パラジウム炭素を除去した。酢酸エチル１３．１１ｇ、１２．９６ｇ、１３．０６ｇでセライトを洗浄し、溶媒を減圧留去して３７．７９ｇまで濃縮した後、酢酸エチル１０４．０６ｇ加えた。再度減圧下溶媒を留去して７８．１５ｇまで濃縮した後、５％炭酸水素ナトリウム水溶液５２．２１ｇを加え、分液した。得られた有機層に水３９．０３ｇを加えて再度分液し、得られた有機層をろ過した後、溶媒を減圧留去して４５．６０ｇまで濃縮した。３８℃でヘプタン５．０７ｇを滴下し、撹拌したところ、固体が析出した。さらにヘプタン２５．３５ｇを滴下後、−１℃まで冷却し、固体をろ過した。酢酸エチル４．８２ｇとヘプタン９．６５ｇの混液で、得られた固体を洗浄し、５０℃で減圧乾燥して、化合物（１）９．７９ｇを白色固体として得た。得られた化合物（１）の化学純度は９９．８２％であった。また、ＨＰＬＣ分析条件２にてジアステレオマー過剰率を測定したところ、９９．７８％ｄｅであった。さらに、その保持時間は、特許第３６４０８８８号に記載の方法に準じて合成した化合物（１）の保持時間と一致した（保持時間：２０．６分、ジアステレオマーの保持時間：２６．１分）。
また、この白色固体のＸＲＤを測定したところ、特表２００７−５２６２５１号に記載のフォームＡの回折パターンと一致した。

実施例６：化合物（１１）の合成

国際公開第２００９／１５７０１９号に記載の方法に準じて合成した化合物（１０）２．００ｇ（４．４７ｍｍｏｌ）に（Ｒ）−ＲＵＣＹ（登録商標）−ＸｙｌＢＩＮＡＰ（高砂香料工業株式会社製品）５．３ｍｇ（０．００４５ｍｍｏｌ）、エタノール１０．０４ｇを加え懸濁させた後、ジアザビシクロウンデセン３４．０ｍｇ（０．２２３５ｍｍｏｌ）を加えた。反応容器を水素ガスに置換後、水素圧５００ｋＰａ、反応温度２０℃にて７時間撹拌した。得られた溶液に酢酸３３．５ｍｇ（０．５５８７ｍｍｏｌ）を加え攪拌した後、減圧下溶媒留去して、化合物（１１）１．９８ｇを淡茶色固体として得た。得られた化合物（１１）の化学純度は９６．５０％で、ジアステレオマー過剰率は９９．８７％ｄｅであった。
¹Ｈ−ＮＭＲ分析：（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δｐｐｍ：１．８５−２．０２（４Ｈ，ｍ），２．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．８Ｈｚ），３．０５−３．１０（１Ｈ，ｍ）４．５１−４．５４（２Ｈ，ｍ），４．５７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．７Ｈｚ），４．７１−４．７３（１Ｈ，ｍ）５．２７−５．４４（２Ｈ，ｍ），５．９８−６．１０（１Ｈ，ｍ）６．８９−７．０５（６Ｈ，ｍ），７．１９−７．３１（６Ｈ，ｍ）

実施例７：化合物（１）の合成

実施例６で合成した化合物（１１）１．９７ｇ（４．３８ｍｍｏｌ）を酢酸エチル２０．０６ｇに溶解させた後、ギ酸４１１．５ｍｇ（８．９４ｍｍｏｌ）、モルホリン５８３．７ｍｇ（６．７０ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム３１．３ｍｇ（０．０２６８ｍｍｏｌ）を加え５５℃から６０℃で５０分間攪拌した。２４℃まで冷却した後に、１Ｍ塩酸６．０２ｇを加え分液した。得られた有機層２０．３６ｇに水４．０２ｇを加え分液し、有機層１９．５５ｇを得た。溶媒を減圧留去し３．４３ｇとした後に、２−プロパノール２０．２８ｇを加えた。溶媒を減圧留去し３．６５ｇとした後に２−プロパノールを加え５．２２ｇとした。５５℃から５６℃で水１．７５ｇを加え攪拌したところ、固体が析出した。１℃まで冷却して固体をろ過、２−プロパノール０．８８ｇと水０．８９ｇの混液で洗浄し、５０℃で減圧乾燥して、化合物（１）１．４８ｇを淡黄色固体として得た。得られた化合物の化学純度は９６．９３％であった。また、ジアステレオマー過剰率は１００．００％ｄｅであった。さらに、その保持時間は、特許第３６４０８８８号に記載の方法に準じて合成した化合物（１）の保持時間と一致した（保持時間：２０．１分、ジアステレオマーの保持時間：２５．０分）。

本発明は、医薬品中間体として有用な光学活性アゼチジノン化合物を高収率、高立体選択的に製造できる点で有用である。

Claims

式（５）：
（式中、Rは、水素原子又はヒドロキシ保護基を表す。）で表されるケトン化合物に、式（６）：
（式中、Ａｒは、３，５−ジメチルフェニル基を表す。）
で表される光学活性ルテニウム触媒の存在下、水素ガスを反応させることを特徴とする、式（７）：
で表される光学活性アゼチジノン化合物の製造方法。
Ｒが水素原子である、請求項１記載の光学活性アゼチジノン化合物の製造方法。
Ｒがヒドロキシ保護基である、請求項１記載の光学活性アゼチジノン化合物の製造方法。
Ｒがベンジル基である、請求項３記載の光学活性アゼチジノン化合物の製造方法。
Ｒがｔ−ブチルジメチルシリル基である、請求項３記載の光学活性アゼチジノン化合物の製造方法。
Ｒがアリル基である、請求項３記載の光学活性アゼチジノン化合物の製造方法。
式（５）：
（式中、Rは、ヒドロキシ保護基を表す。）で表されるケトン化合物に、式（６）：
（式中、Ａｒは、３，５−ジメチルフェニル基を表す。）
で表される光学活性ルテニウム触媒の存在下、水素ガスを反応させ、
式（７）：
で表される光学活性アゼチジノン化合物へ誘導し、さらに脱保護反応を行うことを特徴とする、
式（１）：
で表される光学活性アゼチジノン化合物の製造方法。
Ｒがベンジル基である、請求項７記載の光学活性アゼチジノン化合物の製造方法。
Ｒがｔ−ブチルジメチルシリル基である、請求項７記載の光学活性アゼチジノン化合物の製造方法。
Ｒがアリル基である、請求項７記載の光学活性アゼチジノン化合物の製造方法。