JPWO2015111474A1 - 偏光板、液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

本発明は、液晶表示装置に適用した際に、装置の薄型化と、光漏れの防止や、色変化の防止や、温湿環境下での表示ムラの抑制などの表示性能の向上とが両立できる偏光板、および、液晶表示装置を提供する。本発明の偏光板は、第１の偏光子保護層と、第１の偏光子と、液晶性化合物Ｘを含む第１の光学異方性層と、液晶性化合物Ｙを含む第２の光学異方性層とをこの順で有し、第１の光学異方性層の厚みが１０μｍ以下であり、第１の光学異方性層が所定のＲｅ（５５０）およびＲｔｈ（５５０）を満たし、第２の光学異方性層の厚みが１０μｍ以下であり、第２の光学異方性層が所定のＲｅ（５５０）およびＲｔｈ（５５０）を満たし、厚みが１００μｍ以下である。

Description

本発明は、偏光板に係り、特に、所定のレターデーションを示す光学異方性層を２層有する偏光板に関する。
また、本発明は、偏光板を含む液晶表示装置にも関する。

液晶表示装置において、視野特性の良いＩＰＳ（In-Plane Switching）モードやＦＦＳ（Fringe Field Switching）モード等の横電界駆動型が注目を集めている。特に、ＩＰＳモードは、例えば、特許文献１に記載されているとおり、ＴＮ（Twisted Nematic）モードやＶＡ（Vertical Alignment）モードの液晶表示装置に比べて視野角特性に優れているという利点がある。

特開２００２−５５３４１号公報

一方、近年、液晶表示装置の薄型化が進んでおり、それに伴い使用される部材（例えば、偏光板）の薄型化が求められている。
また、光配向やラビング処理などにより液晶性化合物を配向させる、ＩＰＳモードまたはＦＦＳモードの液晶セルにおいては、いまだ観察する位置によっては、色味に差が生じる場合があり、その改良が求められている。特に、液晶セル基板をラビング処理し、液晶性化合物を配向させる場合、液晶性化合物は液晶セル基板面に完全に平行ではなく、特に基板表面付近において基板面と液晶性化合物の長軸方向が厚み方向に対してチルト角（傾斜角）を生じて配向している場合が多い。そのため、液晶セルに対して斜め方向から観察した際に、観察する位置によって色味の差がより大きく、改良の余地が多い。
また、斜め方向から見た場合の光漏れの更なる改善も必要とされる。
さらに、液晶表示装置の要求性能として、湿熱環境下に静置された後においても、表示ムラが発生しないことが求められる。しかしながら、従来の液晶表示装置では、偏光子など液晶セルに貼合する部材が湿熱環境下において変形しやすいため、液晶セルに貼合する光学補償シートとして作用する光学異方性層の光学特性（レターデーション）が変化し、表示ムラが生じやすいことを知見した。
つまり、液晶表示装置の薄型化と表示性能（色変化の防止、光漏れの防止、湿熱環境下での表示ムラの抑制）との両立が求められているが、従来技術においてはこの要望を満たすことはできなかった。

本発明は、上記実情上を鑑みて、液晶表示装置に適用した際に、装置の薄型化と、光漏れの防止や、色変化の防止や、温湿環境下での表示ムラの抑制などの表示性能の向上とが両立できる偏光板を提供することを目的とする。
また、本発明は、偏光板を含む液晶表示装置を提供することも目的とする。

本発明者は、上記課題を達成すべく鋭意研究した結果、所定のレターデーションの関係を満たす光学異方性層を備え、光学異方性層を薄型化した偏光板を使用することにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。

（１） 第１の偏光子保護層と、第１の偏光子と、液晶性化合物Ｘを含む第１の光学異方性層と、液晶性化合物Ｙを含む第２の光学異方性層とをこの順で有し、
第１の光学異方性層の厚みが１０μｍ以下であり、
第１の光学異方性層が下記式（１−１）および式（１−２）を満たし、
式（１−１） ９５ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１５５ｎｍ
式（１−２） ４５ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦８０ｎｍ
第２の光学異方性層の厚みが１０μｍ以下であり、
第２の光学異方性層が下記式（１−３）および式（１−４）を満たし、
式（１−３） Ｒｅ（５５０）≦１０ｎｍ
式（１−４） −１３５ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦−７５ｎｍ
厚みが１００μｍ以下である、偏光板。
（なお、Ｒｅ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｔｈ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションを表す。）
（２） 液晶性化合物Ｘおよび液晶性化合物Ｙの少なくとも一方が棒状液晶性化合物であり、第１の偏光子保護層の表面の法線方向から観察したとき、第１の光学異方性層の遅相軸と第１の偏光子の吸収軸とのなす角が９０°である、（１）に記載の偏光板。
（３） 第１の偏光子保護層と、第１の偏光子と、液晶性化合物Ｘを含む第１の光学異方性層と、液晶性化合物Ｙを含む第２の光学異方性層とをこの順で有し、
第１の光学異方性層の厚みが１０μｍ以下であり、
第１の光学異方性層が下記式（２−１）および式（２−２）を満たし、
式（２−１） Ｒｅ（５５０）≦１０ｎｍ
式（２−２） ４０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１１５ｎｍ
第２の光学異方性層の厚みが１０μｍ以下であり、
第２の光学異方性層が下記式（２−３）および式（２−４）を満たし、
式（２−３） １２５ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１８５ｎｍ
式（２−４） −９５ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦−６０ｎｍ
厚みが１００μｍ以下である、偏光板。
（なお、Ｒｅ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｔｈ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションを表す。）
（４） 液晶性化合物Ｘおよび液晶性化合物Ｙの少なくとも一方がディスコティック液晶性化合物であり、第１の偏光子保護層の表面の法線方向から観察したとき、第２の光学異方性層の遅相軸と第１の偏光子の吸収軸とのなす角が９０°である、（３）に記載の偏光板。
（５） 第１の偏光子保護層と、第１の偏光子と、液晶性化合物Ｘを含む第１の光学異方性層と、液晶性化合物Ｙを含む第２の光学異方性層とをこの順で有し、
第１の光学異方性層の厚みが１０μｍ以下であり、
第１の光学異方性層が下記式（３−１）および式（３−２）を満たし、
式（３−１） ４０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１１０ｎｍ
式（３−２） ２０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦５５ｎｍ
第２の光学異方性層の厚みが１０μｍ以下であり、
第２の光学異方性層が下記式（３−３）および式（３−４）を満たし、
式（３−３） ９０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１５５ｎｍ
式（３−４） −８０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦−４５ｎｍ
厚みが１００μｍ以下である、偏光板。
（なお、Ｒｅ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｔｈ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションを表す。）
（６） 液晶性化合物Ｘが棒状液晶性化合物であり、液晶性化合物Ｙがディスコティック液晶性化合物であり、第１の偏光子保護層の表面の法線方向から観察したとき、第１の光学異方性層の遅相軸と第１の偏光子の吸収軸とのなす角が９０°であると共に、第２の光学異方性層の遅相軸と第１の偏光子の吸収軸とのなす角が９０°である、（５）に記載の偏光板。
（７） 第１の光学異方性層および第２の光学異方性層の少なくとも一方が以下の要件（Ａ）または要件（Ｂ）を満たす、（１）〜（６）のいずれかに記載の偏光板。
要件（Ａ）：Ｒｅ（５５０）＞１０ｎｍであり、０．８３≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．１６を満たす。
要件（Ｂ）：Ｒｅ（５５０）≦１０ｎｍであり、０．８３≦（Ｒ［４０°，４５０］）／（Ｒ［４０°，５５０］）＜１．１６を満たす。
（なお、Ｒｅ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｔｈ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションを表す。
Ｒ［４０°，４５０］は光学異方性層の表面の法線方向から４０°傾いた方向から測定した波長４５０ｎｍにおけるレターデーションを表し、Ｒ［４０°，５５０］は光学異方性層の表面の法線方向から４０°傾いた方向から測定した波長５５０ｎｍにおけるレターデーションを表す。）
（８） 第１の偏光子と第１の光学異方性層とが直接接触している、（１）〜（７）のいずれかに記載の偏光板。
（９） 第１の偏光子と第１の光学異方性層との間に配向膜が配置される、（１）〜（７）のいずれかに記載の偏光板。
（１０） 第１の偏光子と第１の光学異方性層との間に粘着層が配置される、（１）〜（７）のいずれかに記載の偏光板。
（１１） 偏光子を含む第１の偏光板と、液晶性化合物を含む液晶層を備えるＩＰＳモードまたはＦＦＳモードの液晶セルと、偏光子を含む第２の偏光板とをこの順で有し、
第１の偏光板中の偏光子の吸収軸と、第２の偏光板中の偏光子の吸収軸とが直交し、
第１の偏光板および第２の偏光板のうち一方が（１）〜（１０）のいずれかに記載の偏光板であり、第２の光学異方性層が液晶セル側となるように配置される、液晶表示装置。
（１２） 第１の偏光板が視認側に配置され、
第１の偏光板が（１）〜（１０）のいずれかで表される偏光板であり、
第２の偏光板が、第２の偏光子保護層と、第２の偏光子と、液晶性化合物Ｚを含む第３の光学異方性層とを有し、
第３の光学異方性層が液晶セル側となるように配置され、
第３の光学異方性層の遅相軸と電圧が印加されていない状態での液晶層の遅相軸とが平行であり、
液晶層中の液晶性化合物の液晶層表面に対する平均傾斜方向と同じ方向に液晶性化合物Ｚが平均傾斜角を有する、（１１）に記載の液晶表示装置。
（１３） 第３の光学異方性層の厚みが１０μｍ以下であり、
第３の光学異方性層が下記式（４−１）を満たし、
式（４−１） １０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１２０ｎｍ
液晶性化合物Ｚの平均傾斜角度が１〜２０°である、（１２）に記載の液晶表示装置。
（１４） 液晶性化合物Ｚが棒状液晶性化合物である、（１２）または（１３）に記載の液晶表示装置。
（１５） 液晶性化合物Ｚがスメクティック相を形成する、（１２）〜（１４）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（１６） 第３の光学異方性層が下記式（Ｉ）を満たす、（１２）〜（１５）のいずれかに記載の液晶表示装置。
式（Ｉ） ０．８３≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．１
（Ｒｅ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｅ（４５０）は、波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。）
（１７） 第２の偏光子と第３の光学異方性層とが直接接触している、（１２）〜（１６）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（１８） 第２の偏光子と第３の光学異方性層との間に配向膜が配置される、（１２）〜（１６）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（１９） 第２の偏光子と第３の光学異方性層との間に粘着層が配置される、（１２）〜（１６）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（２０） 第１の偏光子保護層の４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が１００ｇ／ｍ²・日以下である、（１）〜（１０）のいずれかに記載の偏光板。
（透湿度は、ＪＩＳ Ｚ−０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。）
（２１） 第１の偏光子保護層および第２の偏光子保護層の少なくとも一方の４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が１００ｇ／ｍ²・日以下である、（１２）〜（１９）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（透湿度は、ＪＩＳ Ｚ−０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。）

本発明によれば、液液晶表示装置に適用した際に、装置の薄型化と、光漏れの防止や、色変化の防止や、温湿環境下での表示ムラの抑制などの表示性能の向上とが両立できる偏光板を提供することができる。
また、本発明によれば、偏光板を含む液晶表示装置を提供することもできる。

本発明の偏光板の第１の態様の一の実施形態の断面図である。 本発明の偏光板の第１の態様の他の実施形態の断面図である。 本発明の偏光板の第１の態様の他の実施形態の断面図である。 本発明の偏光板の第２の態様の一の実施形態の断面図である。 本発明の偏光板の第３の態様の一の実施形態の断面図である。 本発明の液晶表示装置の一の実施形態の断面図である。 第２の偏光板の一の実施形態の断面図である。

以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーション、および厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、またはＷＲ（王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。測定されるフィルムが、１軸または２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）が算出される。なお、この測定方法は、後述する液晶層および第３の光学異方性層中の液晶性化合物の平均傾斜角（平均チルト角）の測定においても一部利用される。
Ｒｔｈ（λ）は、上記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、またはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０°まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、またはＷＲが算出する。なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値、および入力された膜厚値を基に、以下の式（Ａ）、および式（ＩＩＩ）よりＲｔｈを算出することもできる。

なお、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。また、式（Ａ）におけるｎｘは、面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは、面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚは、ｎｘおよびｎｙに直交する方向の屈折率を表す。
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ・・・・・・式（ＩＩＩ）

測定されるフィルムが、１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法により、Ｒｔｈ（λ）は算出される。Ｒｔｈ（λ）は、上記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、またはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して−５０°から＋５０°まで１０°ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。また、上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）がさらに算出される。
Ｒｅ、Ｒｔｈの測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。

液晶性化合物の平均傾斜角は、クリスタル・ローテーション法によりを求めることができる。
また、本明細書において、角度の関係（例えば「直交」、「平行」、「９０°」等）については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。具体的には、厳密な角度±１０°未満の範囲内であることを意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。

本発明の特徴点としては、上述したように、所定のレターデーションの関係を満たす光学異方性層を備える偏光板を使用することにより、所望の効果が得られることを見出している。この光学異方性層はいわゆる、光学補償層として機能する。特に、従来、黒表示の色付を良好にするためには光学補償層の位相差を強逆分散（Ｒｅ（４５０）/Ｒｅ（５５０）〜０．８２）にする必要があり実現が非常に困難であったが、本発明では特定のレターデーションの関係を満たすことで、強逆分散でなくても黒表示の色付を良好にできる。また、光学異方性層の厚みを薄くすることで、液晶表示装置を湿熱環境下に静置した際に偏光子などが変形した際に、光学異方性層が追随して変形した場合にも、光学特性（レターデーション）が変化しづらく、結果として表示ムラの発生が抑制されている。

＜＜偏光板＞＞
＜第１の態様＞
以下に、本発明の偏光板の第１の態様について図面を参照して説明する。図１に、本発明の偏光板の第１の態様の断面図を示す。なお、本発明における図は模式図であり、各層の厚みの関係や位置関係などは必ずしも実際のものとは一致しない。以下の図も同様である。
偏光板１０ａは、第１の偏光子保護層１２と、第１の偏光子１４と、第１の光学異方性層１６ａと、第２の光学異方性層１８ａとを備える。
以下、偏光板１０ａ中の各部材について詳述する。

（第１の偏光子保護層１２）
第１の偏光子保護層１２は、第１の偏光子１４の保護のために設けられる。
第１の偏光子保護層１２の種類は特に制限されないが、例えば、セルロースアシレート、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレートおよびポリメタクリレート、環状ポリオレフィン、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリスチレン、ポリエステル等のフィルムを用いることができる。なかでも、セルロースアシレートフィルム、環状ポリオレフィン、ポリアクリレート、または、ポリメタクリレートのフィルムが好ましい。また、市販品のセルロースアセテートフィルム（例えば、富士フイルム社製の「ＴＤ８０Ｕ」や「Ｚ−ＴＡＣ」等）を利用することもできる。
第１の偏光子保護層１２は、１層のみの形態であっても、２層以上を積層した形態であってもよい。

第１の偏光子保護層１２の厚みは特に制限されないが、液晶表示装置の薄型化の点からは、８０μｍ以下が好ましく、４０μｍ以下がより好ましく、２５μｍ以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、機械的強度の点から、１μｍ以上が好ましい。

第１の偏光子保護層１２としては、表示ムラ抑制や偏光板の耐久性改善のため、透湿度が低いフィルムであることが好ましい。より具体的には、第１の偏光子保護層１２の４０℃９０％ＲＨにおける透湿度は１００ｇ／ｍ²・日以下であることが好ましく、７０ｍ²・日以下であることがより好ましく、４０ｇ／ｍ²・日以下であることがさらに好ましい。下限は特に制限されないが、フィルムの性質上、通常、５ｇ／ｍ²・日以上の場合が多い。
なお、上記透湿度は、ＪＩＳ Ｚ−０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。

（第１の偏光子１４）
第１の偏光子１４の種類は特に制限はなく、公知のものを採用できる。
本発明では、通常用いられている直線偏光子を利用することができる。直線偏光子は、Ｏｐｔｉｖａ Ｉｎｃ．に代表される塗布型偏光子、または、バインダーとヨウ素若しくは二色性色素とからなる偏光子が好ましい。直線偏光子におけるヨウ素および二色性色素は、バインダー中で配向することで偏光性能を発現する。ヨウ素および二色性色素は、バインダー分子に沿って配向するか、または、二色性色素が液晶のような自己組織化により一方向に配向することが好ましい。現在、市販の偏光子は、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素または二色性色素の溶液に浸漬し、ヨウ素または二色性色素をバインダー中に浸透させることで作製されるのが一般的である。

第１の偏光子１４の厚みは特に制限されないが、液晶表示装置の薄型化の点からは、３０μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、機械的強度の点から、３μｍ以上が好ましい。

（第１の光学異方性層１６ａ）
第１の光学異方性層１６ａは、上記第１の偏光子１４と、後述する第２の光学異方性層１８ａとの間に配置される層であり、液晶性化合物Ｘを含む。
第１の光学異方性層１６ａのＲｅ（５５０）およびＲｔｈ（５５０）は、下記式（１−１）および式（１−２）を満たす。
式（１−１） ９５ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１５５ｎｍ
式（１−２） ４５ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦８０ｎｍ
なかでも、本発明の偏光板を含む液晶表示装置の斜め方向の色表示や光漏れがより改善される点（以後、単に「本発明の効果がより優れる点」とも称する）より、Ｒｅ（５５０）は、１００〜１５０ｎｍが好ましく、１０５〜１４５ｎｍがより好ましく、１１０〜１４０ｎｍがさらに好ましく、Ｒｔｈ（５５０）は、５０〜７５ｎｍが好ましく、５２〜７３ｎｍがより好ましく、５５〜７０ｎｍがさらに好ましい。
上記式（１−１）または式（１−２）の関係を満たさない場合は、液晶表示装置の斜め方向の色表示や光漏れの点で劣る。
なお、Ｒｅ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｔｈ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションを表す。

第１の光学異方性層１６ａの厚みは、１０μｍ以下である。液晶表示装置の薄型化の点からは、６μｍ以下が好ましく、４μｍ以下がより好ましく、２μｍ以下がさらに好ましい。なお、下限は特に制限されないが、第１の光学異方性層１６ａの塗布ムラの点から、０．１μｍ以上が好ましい。
なお、第１の光学異方性層１６ａの厚みが１０μｍ超の場合、液晶表示装置の薄型化が達成されないと共に、湿熱環境下に液晶表示装置を静置した際に表示ムラが生じやすい。

第１の光学異方性層１６ａは、正のＡプレートであることが好ましい。

液晶性化合物Ｘの種類は特に制限されないが、その形状から、棒状タイプ（棒状液晶性化合物）と円盤状タイプ（ディスコティック液晶性化合物）に分類できる。さらにそれぞれ低分子タイプと高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物またはディスコティック液晶性化合物を用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上のディスコティック液晶性化合物、または棒状液晶性化合物とディスコティック液晶性化合物との混合物を用いてもよい。
なお、棒状液晶性化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報の請求項１や特開２００５−２８９９８０号公報の段落［００２６］〜［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶性化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００２０］〜［００６７］や特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。
なかでも、第１の態様においては、本発明の効果がより優れる点で、液晶性化合物Ｘとしては棒状液晶性化合物であることが好ましい。

第１の光学異方性層１６ａは、温度変化や湿度変化を小さくできることから、重合性基を有する、棒状液晶性化合物またはディスコティック液晶性化合物を用いて形成することがより好ましい。液晶性化合物は２種類以上の混合物でもよく、その場合少なくとも１つが２以上の重合性基を有していることが好ましい。
つまり、第１の光学異方性層１６ａは、重合性基を有する棒状液晶性化合物またはディスコティック液晶性化合物が重合等によって固定されて形成された層であることが好ましく、この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
ディスコティック液晶性化合物および棒状液晶性化合物に含まれる重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基が好ましい。より具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが好ましく挙げられ、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。

なお、本発明の効果がより優れる点で、第１の偏光子保護層１２表面の法線方向から観察したとき（図１中の上側から下側に観察したとき）、第１の光学異方性層１６ａの遅相軸と第１の偏光子１４の吸収軸とのなす角は、９０°であることが好ましい。

（第２の光学異方性層１８ａ）
第２の光学異方性層１８ａは、上記第１の光学異方性層１６ａ上に配置される層であり、後述する液晶セル上に偏光板を配置する場合、第２の光学異方性層１８ａが液晶セル側となるように配置される。第２の光学異方性層１８ａには、液晶性化合物Ｙが含まれる。
第２の光学異方性層１８ａのＲｅ（５５０）およびＲｔｈ（５５０）は、下記式（１−３）および式（１−４）を満たす。
式（１−３） Ｒｅ（５５０）≦１０ｎｍ
式（１−４） −１３５ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦−７５ｎｍ
なかでも、本発明の効果がより優れる点より、Ｒｅ（５５０）は、０〜５ｎｍが好ましく、０〜３ｎｍがより好ましく、Ｒｔｈ（５５０）は、−１３０〜−８５ｎｍが好ましく、−１２５〜−９０ｎｍがより好ましく、−１２０〜−９５ｎｍがさらに好ましい。
上記式（１−３）または式（１−４）の関係を満たさない場合は、液晶表示装置の斜め方向の色表示や光漏れの点で劣る。

第２の光学異方性層１８ａの厚みは１０μｍ以下である。液晶表示装置の薄型化の点からは、６μｍ以下が好ましく、４μｍ以下がより好ましく、２μｍ以下がさらに好ましい。なお、下限は特に制限されないが、第２の光学異方性層１８ａの塗布ムラの点から、０．１μｍ以上が好ましい。
なお、第２の光学異方性層１８ａの厚みが１０μｍ超の場合、液晶表示装置の薄型化が達成されないと共に、湿熱環境下に液晶表示装置を静置した際に表示ムラが生じやすい。

液晶性化合物Ｙの種類は特に制限されないが、上述した液晶性化合物Ｘで例示した液晶性化合物が挙げられる。なかでも、第１の態様においては、本発明の効果がより優れる点で、液晶性化合物Ｙは棒状液晶性化合物であることが好ましい。
また、第２の光学異方性層１８ａは、上述した第１の光学異方性層１６ａと同様に、重合性基を有する棒状液晶性化合物またはディスコティック液晶性化合物を用いて形成することがより好ましい。
第２の光学異方性層１８ａは、正のＣプレートであることが好ましい。

本発明の効果がより優れる点で、上記第１の光学異方性層１６ａおよび上記第２の光学異方性層１８ａの少なくとも一方が以下の要件（Ａ）または要件（Ｂ）を満たすことが好ましい。
要件（Ａ）：Ｒｅ（５５０）＞１０ｎｍであり、０．８３≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．１６を満たす。
要件（Ｂ）：Ｒｅ（５５０）≦１０ｎｍであり、０．８３≦（Ｒ［４０°，４５０］）／（Ｒ［４０°，５５０］）＜１．１６を満たす。
なお、Ｒ［４０°，４５０］は光学異方性層の表面の法線方向から４０°傾いた方向から測定した波長４５０ｎｍにおけるレターデーションを表し、Ｒ［４０°，５５０］は光学異方性層の表面の法線方向から４０°傾いた方向から測定した波長５５０ｎｍにおけるレターデーションを表す。

偏光板１０ａの製造方法は特に制限されず、公知の方法により製造できる。以下に、一例を示す。
まず、第１の偏光子１４の表面上に、重合性基を有する液晶性化合物を含む光学異方性層形成用組成物（第１の光学異方性層形成用組成物）を塗布した後、硬化処理を施して、第１の光学異方性層１６ａを形成する。硬化処理としては、加熱処理または光照射処理が挙げられる。
次に、第１の光学異方性層１６ａの表面上に、重合性基を有する液晶性化合物を含む光学異方性層形成用組成物（第２の光学異方性層形成用組成物）を塗布した後、硬化処理を施して、第２の光学異方性層１８ａを形成する。
さらに、第１の偏光子１４の第１の光学異方性層１６ａ側とは反対側の表面に、第１の偏光子保護層１２を貼り合わせて、偏光板を製造する。
なお、光学異方性層形成用組成物には、必要に応じて他の成分が含まれていてもよく、例えば、重合開始剤や溶媒などが挙げられる。

上述した各構成を有する偏光板１０ａの厚みは１００μｍ以下であり、７０μｍ以下が好ましく、６０μｍ以下がより好ましく、５０μｍ以下がさらに好ましい。
１００μｍ超であると、液晶表示装置の薄型化が達成されない。
なお、偏光板１０ａの厚みとは、例えば、図１の態様であれば、第１の偏光子保護層１２の厚みと、第１の偏光子１４の厚みと、第１の光学異方性層１６ａの厚みと、第２の光学異方性層１８ａの厚みとの合計厚みを意図する。
偏光板１０ａ中に上記以外の他の層（例えば、後述する配向膜など）が含まれる場合は、それらを含めた偏光板１０ａ全体の厚みを意図する。なお、他の層とは、第１の偏光子保護層１２と第１の偏光子１４との間、第１の偏光子１４と第１の光学異方性層１６ａとの間、または、第１の光学異方性層１６ａと第２の光学異方性層１８ａとの間に配置される層（例えば、粘着層、配向膜など）を意図する。そのため、第１の偏光子保護層１２の外側（第１の偏光子１４側とは反対側）、および、第２の光学異方性層１８ａの外側（第１の光学異方性層１６ａ側とは反対側）に配置される層（例えば、ハードコート層など）は、偏光板の厚みには含まれない。

図１においては、第１の偏光子１４と第１の光学異方性層１６ａとが直接接触しており、液晶表示装置および偏光板の薄型化には好適であるが、第１の態様はこの態様には限定されない。
例えば、図２に示すように、第１の偏光子１４と第１の光学異方性層１６ａとの間に配向膜２０が配置されていてもよい。配向膜２０が配置されることにより、第１の光学異方性層１６ａの遅相軸の制御がより容易となる。

配向膜２０は、一般的にはポリマーを主成分とする。配向膜用ポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。利用されるポリマー材料は、ポリビニルアルコールまたはポリイミド、および、その誘導体が好ましい。特に、変性または未変性のポリビニルアルコールが好ましい。本発明に使用可能な配向膜については、ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行、特許第３９０７７３５号公報の段落［００７１］〜［００９５］に記載の変性ポリビニルアルコールを参照することができる。なお、配向膜２０には、通常、公知のラビング処理が施される。つまり、配向膜２０は、通常、ラビング処理されたラビング配向膜であることが好ましい。
配向膜２０の厚さは、薄い方が好ましいが、光学異方性層形成のための配向能の付与、および、第１の偏光子１４の表面凹凸を緩和して均一な膜厚の光学異方性層を形成するという観点からはある程度の厚みが必要となる。具体的には、配向膜２０の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０１〜１μｍであることがより好ましく、０．０１〜０．５μｍであることがさらに好ましい。
また、本発明では光配向膜を利用することも好ましい。光配向膜としては特に限定はされないが、ＷＯ２００５／０９６０４１号公報の段落［００２４］〜［００４３］に記載のものやＲｏｌｉｃ ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製の商品名ＬＰＰ−ＪＰ２６５ＣＰなどを用いることができる。

また、図３に示すように、第１の偏光子１４と第１の光学異方性層１６ａとの間に粘着層２２が配置されていてもよい。粘着層２２が配置されることにより、第１の偏光子１４と第１の光学異方性層１６ａとの密着性がより向上する。
使用される粘着層２２を構成する材料は特に制限されず、例えば、動的粘弾性測定装置で測定した貯蔵弾性率Ｇ’と損失弾性率Ｇ”との比（ｔａｎδ＝Ｇ”／Ｇ’）が０．００１〜１．５である物質が好ましく、いわゆる、粘着剤やクリープしやすい物質等が含まれることが好ましい。本発明に用いることのできる粘着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール系粘着剤が挙げられるが、これに限定されない。

＜第２の態様＞
以下に、本発明の偏光板の第２の態様について図面を参照して説明する。
図４に示す偏光板１０ｂは、第１の偏光子保護層１２と、第１の偏光子１４と、第１の光学異方性層１６ｂと、第２の光学異方性層１８ｂとを備える。
図４に記載の偏光板１０ｂは、第１の光学異方性層１６ｂおよび第２の光学異方性層１８ｂの点を除いて、図１に示す偏光板１０ａと同様の構成を有するものであるので、同一の構成要素には同一の参照符号を付し、その説明を省略し、主として第１の光学異方性層１６ｂおよび第２の光学異方性層１８ｂについて説明する。

（第１の光学異方性層１６ｂ）
第１の光学異方性層１６ｂは、第１の偏光子１４と、後述する第２の光学異方性層１８ｂとの間に配置される層であり、液晶性化合物Ｘを含む。
第１の光学異方性層１６ｂのＲｅ（５５０）およびＲｔｈ（５５０）は、下記式（２−１）および式（２−２）を満たす。
式（２−１） Ｒｅ（５５０）≦１０ｎｍ
式（２−２） ４０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１１５ｎｍ
なかでも、本発明の効果がより優れる点より、Ｒｅ（５５０）は、０〜５ｎｍが好ましく、０〜３ｎｍがより好ましく、Ｒｔｈ（５５０）は、４５〜１１０ｎｍが好ましく、５５〜１０５ｎｍがより好ましく、６０〜１００ｎｍがさらに好ましい。
上記式（２−１）または式（２−２）の関係を満たさない場合は、液晶表示装置の斜め方向の色表示や光漏れの点で劣る。

第１の光学異方性層１６ｂの厚みは１０μｍ以下である。液晶表示装置の薄型化の点からは、６μｍ以下が好ましく、４μｍ以下がより好ましく、２μｍ以下がさらに好ましい。なお、下限は特に制限されないが、第１の光学異方性層１６ｂの塗布ムラの点から、０．１μｍ以上が好ましい。
なお、第１の光学異方性層１６ｂの厚みが１０μｍ超の場合、液晶表示装置の薄型化が達成されないと共に、湿熱環境下に液晶表示装置を静置した際に表示ムラが生じやすい。
また、液晶性化合物Ｘの定義は上述の通りであり、なかでも、第２の態様においては、本発明の効果がより優れる点で、液晶性化合物Ｘとしては、ディスコティック液晶性化合物が好ましい。
また、第１の光学異方性層１６ｂは、負のＣプレートであることが好ましい。
さらに、第１の光学異方性層１６ｂの製造方法としては、上述した第１の光学異方性層１６ａと同様の手順が挙げられる。

（第２の光学異方性層１８ｂ）
第２の光学異方性層１８ｂは、上記第１の光学異方性層１６ｂ上に配置される層であり、後述する液晶セル上に偏光板を配置する場合、第２の光学異方性層１８ｂが液晶セル側となるように配置される。第２の光学異方性層１８ｂには、液晶性化合物Ｙが含まれる。
第２の光学異方性層１８ｂのＲｅ（５５０）およびＲｔｈ（５５０）は、下記式（２−３）および式（２−４）を満たす。
式（２−３） １２５ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１８５ｎｍ
式（２−４） −９５ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦−６０ｎｍ
なかでも、本発明の効果がより優れる点より、Ｒｅ（５５０）は、１３０〜１８０ｎｍが好ましく、１３５〜１７５ｎｍがより好ましく、１４０〜１７０ｎｍがさらに好ましく、Ｒｔｈ（５５０）は、−９０〜−６５ｎｍが好ましく、−８８〜−６７ｎｍがより好ましく、−８５〜−７０ｎｍがさらに好ましい。
上記式（２−３）または式（２−４）の関係を満たさない場合は、液晶表示装置の斜め方向の色表示や光漏れの点で劣る。

第２の光学異方性層１８ｂの厚みは１０μｍ以下である。液晶表示装置の薄型化の点からは、６μｍ以下が好ましく、４μｍ以下がより好ましく、２μｍ以下がさらに好ましい。なお、下限は特に制限されないが、第２の光学異方性層１８ｂの塗布ムラの点から、０．１μｍ以上が好ましい。
なお、第２の光学異方性層１８ｂの厚みが１０μｍ超の場合、液晶表示装置の薄型化が達成されないと共に、湿熱環境下に液晶表示装置を静置した際に表示ムラが生じやすい。
また、液晶性化合物Ｙの定義は上述の通りであり、なかでも、第２の態様においては、本発明の効果がより優れる点で、液晶性化合物Ｙとしては、ディスコティック液晶性化合物が好ましい。
また、第２の光学異方性層１８ｂは、負のＡプレートであることが好ましい。
さらに、第２の光学異方性層１８ｂの製造方法としては、上述した第２の光学異方性層１８ａと同様の手順が挙げられる。

なお、本発明の効果がより優れる点で、第１の偏光子保護層１２表面の法線方向から観察したとき（図４中の上側から下側に観察したとき）、第２の光学異方性層１８ｂの遅相軸と第１の偏光子１４の吸収軸とのなす角は、９０°であることが好ましい。
また、本発明の効果がより優れる点で、上記第１の光学異方性層１６ｂおよび上記第２の光学異方性層１８ｂの少なくとも一方が、上述した要件（Ａ）または要件（Ｂ）を満たすことが好ましい。
また、偏光板１０ｂには、第１の態様と同様に、上述した配向膜２０や粘着層２２が含まれていてもよい。
さらに、偏光板１０ｂの厚みは、上述した偏光板１０ａと同様に、１００μｍ以下で、その好適態様も同じである。

＜第３の態様＞
以下に、本発明の偏光板の第３の態様について図面を参照して説明する。
図５に示す偏光板１０ｃは、第１の偏光子保護層１２と、第１の偏光子１４と、第１の光学異方性層１６ｃと、第２の光学異方性層１８ｃとを備える。
図５に記載の偏光板１０ｃは、第１の光学異方性層１６ｃおよび第２の光学異方性層１８ｃの点を除いて、図１に示す偏光板１０ａと同様の構成を有するものであるので、同一の構成要素には同一の参照符号を付し、その説明を省略し、主として第１の光学異方性層１６ｃおよび第２の光学異方性層１８ｃについて説明する。

（第１の光学異方性層１６ｃ）
第１の光学異方性層１６ｃは、第１の偏光子１４と、後述する第２の光学異方性層１８ｃとの間に配置される層であり、液晶性化合物Ｘを含む。
第１の光学異方性層１６ｃのＲｅ（５５０）およびＲｔｈ（５５０）は、下記式（３−１）および式（３−２）を満たす。
式（３−１） ４０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１１０ｎｍ
式（３−２） ２０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦５５ｎｍ
なかでも、本発明の効果がより優れる点より、Ｒｅ（５５０）は、４５〜１０５ｎｍが好ましく、５５〜９５ｎｍがより好ましく、６０〜９０ｎｍがさらに好ましく、Ｒｔｈ（５５０）は、２２〜５３ｎｍが好ましく、２７〜４８ｎｍがより好ましく、３０〜４５ｎｍがさらに好ましい。
上記式（３−１）または式（３−２）の関係を満たさない場合は、液晶表示装置の斜め方向の色表示や光漏れの点で劣る。

第１の光学異方性層１６ｃの厚みは１０μｍ以下である。液晶表示装置の薄型化の点からは、６μｍ以下が好ましく、４μｍ以下がより好ましく、２μｍ以下がさらに好ましい。なお、下限は特に制限されないが、第１の光学異方性層１６ｃの塗布ムラの点から、０．１μｍ以上が好ましい。
なお、第１の光学異方性層１６ｃの厚みが１０μｍ超の場合、液晶表示装置の薄型化が達成されないと共に、湿熱環境下に液晶表示装置を静置した際に表示ムラが生じやすい。
また、液晶性化合物Ｘの定義は上述の通りであり、なかでも、第３の態様においては、本発明の効果がより優れる点で、液晶性化合物Ｘとしては、棒状液晶性化合物が好ましい。
また、第１の光学異方性層１６ｃは、正のＡプレートであることが好ましい。
さらに、第１の光学異方性層１６ｃの製造方法としては、上述した第１の光学異方性層１６ａと同様の手順が挙げられる。

（第２の光学異方性層１８ｃ）
第２の光学異方性層１８ｃは、上記第１の光学異方性層１６ｃ上に配置される層であり、後述する液晶セル上に偏光板を配置する場合、第２の光学異方性層１８ｃが液晶セル側となるように配置される。第２の光学異方性層１８ｃには、液晶性化合物Ｙが含まれる。
第２の光学異方性層１８ｃのＲｅ（５５０）およびＲｔｈ（５５０）は、下記式（３−３）および式（３−４）を満たす。
式（３−３） ９０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１５５ｎｍ
式（３−４） −８０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦−４５ｎｍ
なかでも、本発明の効果がより優れる点より、Ｒｅ（５５０）は、９５〜１５０ｎｍが好ましく、１００〜１４５ｎｍがより好ましく、１０５〜１４０ｎｍがさらに好ましく、Ｒｔｈ（５５０）は、−７５〜−４７ｎｍが好ましく、−７３〜−５０ｎｍがより好ましく、−７０〜−５２ｎｍがさらに好ましい。
上記式（３−３）または式（３−４）の関係を満たさない場合は、液晶表示装置の斜め方向の色表示や光漏れの点で劣る。

第２の光学異方性層１８ｃの厚みは１０μｍ以下である。液晶表示装置の薄型化の点からは、６μｍ以下が好ましく、４μｍ以下がより好ましく、２μｍ以下がさらに好ましい。なお、下限は特に制限されないが、第２の光学異方性層１８ｃの塗布ムラの点から、０．１μｍ以上が好ましい。
なお、第２の光学異方性層１８ｃの厚みが１０μｍ超の場合、液晶表示装置の薄型化が達成されないと共に、湿熱環境下に液晶表示装置を静置した際に表示ムラが生じやすい。
また、液晶性化合物Ｙの定義は上述の通りであり、なかでも、第３の態様においては、本発明の効果がより優れる点で、液晶性化合物Ｙとしては、ディスコティック液晶性化合物が好ましい。
また、第２の光学異方性層１８ｃは、負のＡプレートであることが好ましい。
さらに、第２の光学異方性層１８ｃの製造方法としては、上述した第２の光学異方性層１８ａと同様の手順が挙げられる。

なお、本発明の効果がより優れる点で、第１の偏光子保護層１２表面の法線方向から観察したとき（図５中の上側から下側に観察したとき）、第１の光学異方性層１６ｃの遅相軸と第１の偏光子１４の吸収軸とのなす角は９０°であると共に、第２の光学異方性層１８ｃの遅相軸と第１の偏光子１４の吸収軸とのなす角は、９０°であることが好ましい。
また、本発明の効果がより優れる点で、上記第１の光学異方性層１６ｃおよび上記第２の光学異方性層１８ｃの少なくとも一方が、上述した要件（Ａ）または要件（Ｂ）を満たすことが好ましい。
また、偏光板１０ｃには、第１の態様と同様に、上述した配向膜２０や粘着層２２が含まれていてもよい。
さらに、偏光板１０ｃの厚みは、上述した偏光板１０ａと同様に、１００μｍ以下で、その好適態様も同じである。

＜＜液晶表示装置＞＞
上述した偏光板は、液晶表示装置に好適に使用できる。図６は、本発明の液晶表示装置の一例の概念図を示したものである。図６は上側がフロント側（視認側）であり、下側がリア側になる。
図６中、液晶表示装置３０は、視認側から、偏光子を含む第１の偏光板３２と、ＩＰＳモードまたはＦＦＳモードの液晶セル３４と、偏光子を含む第２の偏光板３６とを備える。図６の態様においては、第１の偏光板３２は、上述した偏光板１０ａと同様の構成を有する。つまり、第１の偏光子保護層１２と、第１の偏光子１４と、第１の光学異方性層１６ａと、第２の光学異方性層１８ａとを有する。つまり、図６においては、第１の偏光板３２は、図１の偏光板１０ａに該当する。
なお、図６においては、上述したように、第１の偏光板３２として、上述した偏光板１０ａが使用される態様を示したが、この態様には限定されず、上述した偏光板の第２の態様である偏光板１０ｂ、または、第３の態様である偏光板１０ｃが使用されていてもよい。
また、図６においては、偏光板１０ａが液晶表示装置３０中のフロント側の第１の偏光板３２として使用されていたが、この態様に限定されず、リア側の第２の偏光板３６として使用されてもよい。もちろん、上述した偏光板の第２の態様である偏光板１０ｂ、または、第３の態様である偏光板１０ｃが、リア側の第２の偏光板３６として使用されてもよい。
以下、液晶表示装置３０を構成する各部材について詳述する。

（第１の偏光板３２）
第１の偏光板３２は、液晶表示装置３０中のフロント側（視認側）に配置される偏光板である。
第１の偏光板３２は、上述したように、上述した偏光板の第１の態様である偏光板１０ａから構成される。偏光板１０ａの構成の説明については省略する。
なお、第１の偏光板３２中、第２の光学異方性層１８ａが液晶セル３４側に配置される。

（液晶セル３４）
液晶セル３４は、横電界方式であるＩＰＳモードまたはＦＦＳモードの液晶セルである。
ＩＰＳモードの液晶セルとは、電圧無印加時に液晶層中の液晶性化合物（特に、棒状液晶性化合物）が実質的に面内に水平に配向しているのが特徴であり、これが電圧印加の有無で液晶性化合物の配向方向を変えることでスイッチングするのが特徴である。具体的には、特開２００４−３６５９４１号公報、特開２００４−１２７３１号公報、特開２００４−２１５６２０号公報、特開２００２−２２１７２６号公報、特開２００２−５５３４１号公報、特開２００３−１９５３３３号公報に記載のものなどを使用できる。これらのモードは黒表示時に液晶性化合物が略平行に配向する態様であり、電圧無印加状態で液晶性化合物を液晶層表面に対して平行配向させて、黒表示する。
ＦＦＳモードは、ＩＰＳモードと同様に液晶層表面に対して液晶分子が常に水平であるようにスイッチングするモードであり、液晶層表面に対して水平方向の横電界を用いて液晶分子をスイッチングさせる。一般的に、ＦＦＳモードはベタ電極と層間絶縁膜とくし歯電極を有しており、電界方向がＩＰＳとは異なる特徴を有している。

液晶セル中の液晶層には、液晶性化合物が含まれ、通常、棒状液晶性化合物が含まれることが好ましい。棒状液晶性化合物の定義は、上述の通りである。
ＩＰＳモードまたはＦＦＳモードでは、液晶層中の液晶性化合物は、白表示時および黒表示時のいずれも液晶層表面に対して理想的には水平配向しているが、低傾斜角で傾斜配向していてもよい。特に、後述するように、液晶層中の液晶性化合物は、第３の光学異方性層中の液晶性化合物Ｚと同じ方向に平均傾斜角を有していてもよい。一般に、液晶セルのガラス基板を布でラビングし、液晶層を配向する場合、液晶性化合物は基板界面に対し低傾斜角で傾斜配向しているおり、ＵＶ（Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）光をガラス基板に照射することにより液晶層を配向する場合（光配向）、液晶性化合物は水平に近い配向をする。

液晶セル３４の構成としては、少なくとも上記液晶層が含まれていればよく、他の部材が含まれていてもよい。
例えば、液晶層を挟むように２枚の基板が配置されていてもよく、少なくとも一方の基板の表面上に透明電極が配置されていてもよい。
また、液晶セル３４には、カラーフィルター層やＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）層が含まれていてもよい。なお、本発明の効果がより優れる点で、カラーフィルター層およびＴＦＴ層の少なくとも一方は式（Ａ）を満たすことが好ましい。
式（Ａ） ５ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦３０ｎｍ
なお、カラーフィルター層やＴＦＴ層の位置は特に制限されず、液晶層と第１の偏光板３２との間、または、液晶層と第２の偏光板３６との間に配置される。

（第２の偏光板３６）
第２の偏光板３６は、液晶表示装置３０中のリア側に配置される偏光板である。
第２の偏光板３６は少なくとも偏光子を含んでいれば特にその構成は限定されない。偏光子としては、上述した第１の偏光子１４で例示した偏光子を使用することができ、その厚みの好適範囲も上述の通りである。
なお、第１の偏光板３２の表面の法線方向から観察したとき、第１の偏光板３２中の第１の偏光子１４の吸収軸と、第２の偏光板３６中の偏光子の吸収軸とのなす角は、直交（９０°）である。

第２の偏光板３６の厚みは特に制限されないが、液晶表示装置の薄型化の点から、１００μｍ以下であることが好ましく、６０μｍ以下が好ましく、４０μｍ以下がより好ましく、２０μｍ以下がさらに好ましい。

第２の偏光板３６においては、偏光子以外に、偏光子保護層などが含まれていてもよい。
なかでも、本発明の効果がより優れる点で、図７に示すように、第２の偏光子保護層４０と、第２の偏光子４２と、液晶性化合物Ｚを含む第３の光学異方性層４４とを有する偏光板５０であることが好ましい。なお、偏光板５０が液晶表示装置に配置される場合は、第３の光学異方性層４４が液晶セル側を向くように配置される。
以下、偏光板５０を構成する各部材について詳述する。

第２の偏光子保護層４０は、第２の偏光子４２の保護のために設けられる。
第２の偏光子保護層４０の種類は特に制限されないが、上述した第１の偏光子保護層１２で例示したフィルムを使用することができる。
また、第２の偏光子保護層４０の厚みおよび透湿度の範囲は、上述した第１の偏光子保護層１２の厚みおよび透湿度の範囲と同義である。

第２の偏光子４２の種類は特に制限されず、公知のものを採用でき、例えば、上述した第１の偏光子１４で例示した偏光子を使用できる。
なお、第２の偏光子４２の厚みの好適範囲は、上述した第１の偏光子１４の厚みの好適範囲と同義である。

第３の光学異方性層４４は、第２の偏光子４２上に配置される層であり、液晶性化合物Ｚを含む。
第３の光学異方性層４４の表面の法線方向から観察したとき、第３の光学異方性層４４の遅相軸と、電圧が印加されていない状態での液晶セル３４中の液晶層の遅相軸とは平行である。
なお、第３の光学異方性層４４は、上述した第１の光学異方性層１６ａなどと同様の手順で製造することができる。

第３の光学異方性層４４中の液晶性化合物Ｚは、本発明の効果がより優れる点で、液晶セル３４中の液晶層中の液晶性化合物の液晶層表面に対する平均傾斜方向と同じ方向に、平均傾斜角を有することが好ましい。なお、「同じ方向」とは、完全に同じ方向の他、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で許容される誤差を含む趣旨である。具体的には、厳密な角度±５°であることが好ましく、厳密な角度±２°であることがより好ましい。
液晶性化合物Ｚの種類は特に制限されないが、上述した液晶性化合物Ｘで例示した液晶性化合物が挙げられる。なかでも、本発明の効果がより優れる点で、液晶性化合物Ｚは棒状液晶性化合物であることが好ましい。特に、高い秩序度の配向をもたらす点で、スメクティック相を示す液晶性化合物が好ましい。
液晶性化合物Ｚの平均傾斜角を制御する手段としては、ラビングされた配向膜によりプレチルトを付与する方法、および、第３の光学異方性層４４に傾斜角制御剤（チルト角制御剤）を添加することにより第３の光学異方性層４４表面側の極角を制御する方法があり、併用することが好ましい。
チルト角制御剤は、一例としてフルオロ脂肪族基含有モノマーの共重合体をもちいることができ、芳香族縮合環官能基との共重合体、あるいは、カルボキシル基、スルホ基またはホスホノキシ基もしくはその塩を含むモノマーとの共重合体を用いることが好ましい。また、複数のチルト角制御剤を用いることにより、さらに精密かつ安定に制御可能となる。このようなチルト角制御剤としては、特開２００８−２５７２０５号公報の段落００２２〜００６３、特開２００６−９１７３２号公報の段落００１７〜０１２４の記載を参酌できる。
また、液晶性化合物Ｚの平均傾斜角度は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１〜２０°であることが好ましく、１〜１０°であることがより好ましく、２〜８°であることがさらに好ましい。なお、液晶性化合物Ｚの傾斜角は、第３の光学異方性層４４の表面に対しての傾斜角である。
なお、第３の光学異方性層４４においては、一方の表面と他方の表面とで液晶性化合物Ｚのチルト角に差があってもよい。

第３の光学異方性層４４の厚みは、１０μｍ以下であることが好ましい。液晶表示装置の薄型化の点からは、６μｍ以下が好ましく、４μｍ以下がより好ましく、２μｍ以下がさらに好ましい。なお、下限は特に制限されないが、第３の光学異方性層４４の塗布ムラの点から、０．１μｍ以上が好ましい。

第３の光学異方性層４４のＲｅ（５５０）は、下記式（４−１）を満たすことが好ましい。
式（４−１） １０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１２０ｎｍ
なかでも、本発明の効果がより優れる点より、Ｒｅ（５５０）は、２０〜１１０ｎｍが好ましく、３０〜１００ｎｍがより好ましい。
なお、第３の光学異方性層４４は、以下の式（Ｉ）を満たすことが好ましい。
式（Ｉ） ０．８３≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．１
（Ｒｅ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｅ（４５０）は、波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。）

図７においては、第２の偏光子４２と第３の光学異方性層４４とは直接接触しているが、両者の間には、上述した配向膜２０や粘着層２２が含まれていてもよい。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。

＜実施例Ａ＞

［実施例１］
＜保護膜の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープ１を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
エステルオリゴマー（化合物１−１） １０質量部
耐久性改良剤（化合物１−２） ４質量部
紫外線吸収剤（化合物１−３） ３質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４３８質量部
メタノール（第２溶媒） ６５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

［外層セルロースアシレートドープ１の作製］
上記のコア層セルロースアシレートドープ１（９０質量部）に下記の組成のマット剤分散液１を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープ１を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
メタノール（第２溶媒） １１質量部
コア層セルロースアシレートドープ１ １質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

［セルロースアシレートフィルムの作製］
上記コア層セルロースアシレートドープ１とその両側に外層セルロースアシレートドープ１とを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した。溶媒含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、残留溶媒が３〜１５質量％の状態で、横方向に１．２倍延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、厚さ２５μｍのセルロースアシレートフィルムを作製し偏光板保護膜０１とした。

［透湿度の計測］
偏光板保護膜の透湿度はＪＩＳ Ｚ−０２０８防湿包装材料の透湿度試験方法（カップ法）に規定される方法（４０℃、９０％ＲＨ）で測定した。偏光板保護膜０１の透湿度は９８０ｇ／ｍ²・日であった。

＜ハードコート層の作製＞
ハードコート層形成用の塗布液として、下記表１に記載のハードコート用硬化性組成物（ハードコート１）を調製した。

上記ハードコート１を、上記にて作製した偏光板保護膜０１の表面上へ塗布し、その後、１００℃で６０秒乾燥し、窒素０．１％以下の条件でＵＶを１．５ｋＷ、３００ｍＪにて照射し、硬化させ、厚み５μｍのハードコート層を有するハードコート層付保護膜０１を作製した。なお、ハードコート層の膜厚の調整は、スロットダイを用い、ダイコート法において塗布量を調整することにより行った。

＜片面保護膜付偏光板０１の作製＞
１）フィルムのケン化
作製したハードコート層付保護膜０１を３７℃に調温した４．５ｍｏｌ/Ｌの水酸化ナトリウム水溶液（ケン化液）に１分間浸漬した後、フィルムを水洗し、その後、０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、さらに水洗浴に通した。そして、エアナイフによる水切りを３回繰り返し、水を落とした後に７０℃の乾燥ゾーンに１５秒間滞留させて乾燥し、ケン化処理したハードコート層付保護膜０１を作製した。
２）偏光子の作製
特開２００１−１４１９２６号公報の実施例１に従い、２対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸し、幅１３３０ｍｍ、厚みは１５μｍの偏光子を調製した。このようにして作製した偏光子を偏光子１とした。
３）貼り合わせ
このようにして得た偏光子１と、ケン化処理したハードコート層付保護膜０１とを、ＰＶＡ（（株）クラレ製、ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、偏光軸とフィルムの長手方向とが直交するようにロールツーロールで貼りあわせて片面保護膜付偏光板０１（以後、単に偏光板０１とも称する）を作製した。
このとき、保護膜のセルロースアシレートフィルム側が、偏光子側になるように貼り合わせた。

＜片面保護膜付偏光板０２の作製２＞
偏光板０１の作製において、偏光板保護膜０１の表面上へハードコート層を設けなかった以外は同様にして偏光板０２（以後、単に偏光板０２とも称する）を作製した。なお、下記実施例および比較例では特に断りのない場合は視認側に偏光板０１を、バックライト側に偏光板０２を用いて各液晶表示装置を作製した。なお、視認側に配置される偏光板を視認側偏光板、バックライト側に配置される偏光板をバックライト側偏光板とも称する。

＜第１の光学異方性層の形成＞
偏光板０１の偏光子側表面に、偏光子の吸収軸と直交方向にラビング処理を施した。ラビング処理面上に下記光学異方性層用塗布液Ａを、バー番手＃２．４のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度６０℃で３０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度６０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより第１の光学異方性層を形成した。形成された第１の光学異方性層は、棒状液晶性化合物が水平配向しており、遅相軸方向はラビング方向と平行方向、すなわち、遅相軸方向は偏光子の吸収軸方向に対して直交方向であった。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１２８ｎｍであり、Ｒｔｈが６４ｎｍであった。

─────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液Ａの組成
─────────────────────────────────
棒状液晶性化合物１ ８０質量部
棒状液晶性化合物２ ２０質量部
光重合開始剤１ ３．０質量部
（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
含フッ素化合物Ａ ０．８質量部
メチルエチルケトン ２１３質量部
─────────────────────────────────

＜配向膜の形成＞
上記作製した第１の光学異方性層の表面に、下記の組成の配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーを用いて塗布した。６０℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。
──────────────────────────────────
配向膜塗布液の組成
──────────────────────────────────
下記の変性ポリビニルアルコール １０質量部
水 ２４５質量部
メタノール ２４５質量部
グルタルアルデヒド ０．５質量部
──────────────────────────────────

＜第２の光学異方性層の作製＞
上記配向膜上に、下記光学異方性層用塗布液Ｂを、バー番手＃２．４のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度６０℃で３０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度６０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより第２の光学異方性層を形成した。形成された第２の光学異方性層は、棒状液晶性化合物が垂直配向していた。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが０であり、Ｒｔｈが−１１５ｎｍであった。

─────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液Ｂの組成
─────────────────────────────────
棒状液晶性化合物１ ８０質量部
棒状液晶性化合物２ ２０質量部
光重合開始剤１ ３．０質量部
（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
含フッ素化合物Ｂ ０．８質量部
垂直配向剤１ １．０質量部
密着改良剤１ ０．２５質量部
メチルエチルケトン ２５１質量部
─────────────────────────────────

＜液晶表示装置の作製＞
市販の液晶表示装置（ｉＰａｄ、Ａｐｐｌｅ社製）（ＦＦＳモードの液晶セルを含む液晶表示装置）からの表裏の偏光板を剥がして、上記作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板０１、並びに、偏光板０２を、それぞれの偏光板中に含まれる偏光子の吸収軸が互いに直交するように貼り合わせて実施例１の液晶表示装置を作製した。なお、液晶表示装置中の液晶セルには、カラーフィルター層およびＴＦＴ層が含まれており、それぞれのＲｔｈ（５５０）は１４ｎｍおよび１６ｎｍであった。

＜液晶表示装置の評価＞
（斜め光漏れ、色味の評価）
＜斜め光漏れ＞
暗室内で液晶表示装置の黒表示時に測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ ＸＬ８８、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて黒輝度を計測した。極角６０°における方位角４５°、１３５°、２２５°、３１５°における輝度の平均値を光漏れＹとし、以下の基準に従って評価した。なお、偏光板の吸収軸は特に断りのない限り、視認側を方位角０°、バックライト側を方位角９０°に配置している。
Ａ：Ｙ＜０．６（ｃｄ/ｍ^２）
Ｂ：０．６（ｃｄ/ｍ^２）≦Ｙ＜０．８（ｃｄ/ｍ^２）
Ｃ：０．８（ｃｄ/ｍ^２）≦Ｙ

＜斜め色変化＞
暗室内で液晶表示装置の黒表示時に測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ ＸＬ８８、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて色度を計測した。具体的には極角６０°における方位角０°から３４５°まで１５°刻みで色度ｕ’、ｖ’を算出し、各々ｕ’、ｖ’の最小値（ｕ’ｍｉｎ、ｖ’ｍｉｎ）、最大値（ｕ’ｍａｘ、ｖ’ｍａｘ）を抜き出し、以下の式で色変化Δｕ’ｖ’を評価した。
Δｕ’ｖ’＝√（（ｕ’ｍａｘ - ｕ’ｍｉｎ）^２＋（ｖ’ｍａｘ - ｖ’ｍｉｎ）^２）
ＡＡ：Δｕ’ｖ’＜０．１５
Ａ：０．１５≦Δｕ’ｖ’＜０．１８
Ｂ：０．１８≦Δｕ’ｖ’＜０．２
Ｃ：０．２≦Δｕ’ｖ’

（表示ムラの評価）
作製した液晶表示装置について、５０℃相対湿度８０％で７２時間サーモ後、２５℃相対湿度６０％で液晶表示装置のバックライトを点灯し、点灯から１０時間後のパネルについて、その四隅の光漏れを、輝度計測用カメラ「ＰｒｏＭｅｔｒｉｃ」（Ｒａｄｉａｎｔ Ｉｍａｇｉｎｇ社製）で画面正面から黒表示画面を撮影し、全画面の平均輝度と、４角の光漏れが大きい箇所の輝度差をもとにして、評価した。

［表示ムラの評価基準］
ＡＡ：パネル４角の光漏れが視認されない。
（パネルの光漏れがサーモ投入前と同程度）
Ａ：パネル４角の光漏れがほとんど視認されない。
Ｂ：パネル４角のうち、１〜２角でわずかな光漏れが視認されるが許容できる。
Ｃ：パネル４角のうち、３〜４角でわずかな光漏れが視認されるが許容できる。
Ｄ：パネル４角の光漏れが強く、許容できない。

［実施例２］
＜第１の光学異方性層の形成＞
光学異方性層用塗布液Ａ中のメチルエチルケトンの使用量を２５２質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして、第１の光学異方性層を形成した。作製した第１の光学異方性層の特性を表１に示す。

＜第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
バー番手＃２．０のバーコーターに変更し、光学異方性層用塗布液Ｂ中のメチルエチルケトンの使用量を２４３質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして、第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。作製した第２の光学異方性層の特性を表１に示す。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は、実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。

［実施例３］
＜第１の光学異方性層の形成＞
光学異方性層用塗布液Ａ中のメチルエチルケトンの使用量を１９６質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして、第１の光学異方性層を形成した。作製した第１の光学異方性層の特性を表１に示す。

＜第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
光学異方性層用塗布液Ｂ中のメチルエチルケトンの使用量を２３３質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして、第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。作製した第２の光学異方性層の特性を表１に示す。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は、実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。

［実施例４］
＜第１の光学異方性層の形成＞
バー番手＃２．０のバーコーターに変更し、光学異方性層用塗布液Ａ中のメチルエチルケトンの使用量を２２１質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして、第１の光学異方性層を形成した。作製した第１の光学異方性層の特性を表１に示す。

＜第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
バー番手＃２．０のバーコーターに変更し、光学異方性層用塗布液Ｂ中のメチルエチルケトンの使用量を２７８質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして、第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。作製した第２の光学異方性層の特性を表１に示す。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は、実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。

［実施例５］
＜第１の光学異方性層の形成＞
バー番手＃３．０のバーコーターに変更し、光学異方性層用塗布液Ａ中のメチルエチルケトンの使用量を２４３質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして、第１の光学異方性層を形成した。作製した第１の光学異方性層の特性を表１に示す。

＜第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
光学異方性層用塗布液Ｂ中のメチルエチルケトンの使用量を２２０質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして、第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。作製した第２の光学異方性層の特性を表１に示す。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は、実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。

［比較例１］
＜第１の光学異方性層の形成＞
バー番手＃２．０のバーコーターに変更し、光学異方性層用塗布液Ａ中のメチルエチルケトンの使用量を２５９質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして、第１の光学異方性層を形成した。作製した第１の光学異方性層の特性を表１に示す。

＜第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
バー番手＃２．０のバーコーターに変更し、光学異方性層用塗布液Ｂ中のメチルエチルケトンの使用量を３５６質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして、第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。作製した第２の光学異方性層の特性を表１に示す。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は、実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。

［比較例２］
＜第１の光学異方性層の形成＞
バー番手＃３．０のバーコーターに変更し、光学異方性層用塗布液Ａ中のメチルエチルケトンの使用量を２１９質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして、第１の光学異方性層を形成した。作製した第１の光学異方性層の特性を表１に示す。

＜第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
光学異方性層用塗布液Ｂ中のメチルエチルケトンの使用量を１９６質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして、第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。作製した第２の光学異方性層の特性を表１に示す。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は、実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。

［比較例３］
＜保護膜の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液（ドープ）を調製した。
［セルロースアセテート溶液（ドープ）の組成］
―――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアセテート １００質量部
（アセチル置換度２．８６、粘度平均重合度３１０）
トリフェニルホスフェート ８．０質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート ４．０質量部
チヌビン３２８ チバ・ジャパン製 １．０質量部
チヌビン３２６ チバ・ジャパン製 ０．２質量部
メチレンクロライド ３６９質量部
メタノール ８０質量部
１−ブタノール ４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

得られたドープを３０℃に加温し、流延ギーサーを通して直径３ｍのドラムである鏡面ステンレス支持体上に流延した。支持体の表面温度は−５℃に設定した。流延部全体の空間温度は、１５℃に設定した。そして、流延部の終点部から５０ｃｍ手前で、流延して回転してきたセルロースエステルフィルムをドラムから剥ぎ取った後、両端をピンテンターでクリップした。剥ぎ取り直後のセルロースエステルウェブの残留溶媒量は７０％およびセルロースエステルウェブの膜面温度は５℃であった。

ピンテンターで保持されたセルロースエステルウェブは、乾燥ゾーンに搬送した。初めの乾燥では４５℃の乾燥風を送風した。次に１１０℃で５分、さらに１４０℃で１０分乾燥した。

得られたフィルムの厚さは８０μｍであった。上記フィルムを偏光板保護膜Ｘとした。

［透湿度の計測］
偏光板保護膜の透湿度はＪＩＳＺ０２０８防湿包装材料の透湿度試験方法（カップ法）に規定される方法（４０℃９０％ＲＨ）で測定した。偏光板保護膜Ｘの透湿度は４００ｇ／ｍ²・日であった。

上記で得られた偏光板保護膜Ｘを偏光板保護膜０１の代わりに用いた以外は、実施例１の片面保護膜付偏光板０１と同様の手順にして、片面保護膜付偏光板Ｘを作製した。
また、実施例１で実施した＜片面保護膜付偏光板０１の作製＞の手順を参照して、偏光子１が偏光板保護膜Ｘで挟まされたバックライト側偏光板Ｘを作製した。

＜光学異方性層の作製＞
特許第４２５３２５９号の実施例１の段落０１０１〜段落０１０９の記載をもとに、第１の光学異方性層および第２の光学異方性層の積層体を作製した。なお、特許第４２５３２５９号中の実施例１のセルロースアセテートフィルム１が第１の光学異方性層に該当し、光学補償フィルム１が第２の光学異方性層に該当する。

＜偏光板の作製＞
片面保護膜付偏光板Ｘの偏光子側表面に、ＰＶＡ（（株）クラレ製、ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、偏光子吸収軸と第２の光学異方性層の遅相軸とが直交するように上記積層体をロールツーロールで貼りあわせて偏光板を作製した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した偏光板を視認側偏光板として用い、偏光板０２の代わりに上記バックライト側偏光板Ｘを使用した以外は、実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。なお、表１中の第３の光学異方性層は、上記偏光板保護膜Ｘに該当する。

［比較例４］
＜第１の光学異方性層の形成＞
偏光板０１の偏光子側表面に、偏光子の吸収軸と直交方向にラビング処理を施した。ラビング処理面上に、後述する光学異方性層用塗布液Ｄにおいてメチルエチルケトンの使用量を２４０質量部として濃度調整した塗布液を、バー番手＃３．２のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度７０℃で９０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度７０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより第１の光学異方性層を形成した。形成された第１の光学異方性層は、ディスコティック液晶性化合物が垂直配向しており、遅相軸方向はラビング方向と直交方向、すなわち、遅相軸方向は偏光子の吸収軸方向に対して平行方向であった。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１３２ｎｍであり、Ｒｔｈが−６６ｎｍであった。

＜配向膜の形成＞
上記作製した第１の光学異方性層の表面に、上記配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。

＜第２の光学異方性層の作製＞
上記配向膜上に、後述する光学異方性層用塗布液Ｃにおいてメチルエチルケトンの使用量を２８０質量部として濃度調整した塗布液を、バー番手＃２．０のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度７０℃で９０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度７０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより第２の光学異方性層を形成した。形成された第２の光学異方性層は、ディスコティック液晶性化合物が水平配向していた。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが０であり、Ｒｔｈが８０ｎｍであった。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。

なお、表１中、「Ｒｅ／Ｒｔｈ」は、それぞれＲｅ（５５０）およびＲｔｈ（５５０）の値を示す。
また、表１中、「波長分散」は、各光学異方性層のＲｅ（５５０）が１０ｎｍ超である場合にはＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）を示し、各光学異方性層のＲｅ（５５０）が１０ｎｍ以下である場合には（Ｒ［４０°，４５０］）／（Ｒ［４０°，５５０］）を示す。
さらに、以下実施例１〜５においては、第１の偏光子保護層の表面の法線方向から観察したとき、第１の光学異方性層の遅相軸と第１の偏光子の吸収軸とのなす角が９０°であった。

表１に、第１の光学異方性層、第２の光学異方性層、および、第３の光学異方性層の厚みを示す。
なお、表１中の視認側偏光板厚みは、第１の偏光子保護層、第１の偏光子、第１の光学異方性層、および、第２の光学異方性層の厚みの合計値を意図する。
表１中のバックライト側偏光板厚みは、第２の偏光子保護層、および、第２の偏光子の厚みの合計値を意図する。ただし、第３の光学異方性層がある場合は、第２の偏光子保護層、第２の偏光子、および、第３の光学異方性層の厚みの合計値を意図する。
なお、各実施例で得られた偏光板の厚みは１００μｍ以下であった。

表１に示すように、本発明の第１の態様の偏光板を使用した液晶表示装置は、優れた表示性能を示した。さらに、耐久試験後の表示ムラの発生もなかった。
一方、第１の光学異方性層または第２の光学異方性層の所定のＲｅ（５５０）またはＲｔｈ（５５０）が範囲外である偏光板を用いた比較例１〜４においては、各種性能が実施例と比較して劣っていた。

＜実施例Ｂ＞
［実施例６］
＜第１の光学異方性層の作製＞
偏光板０１の偏光子側表面に、下記光学異方性層用塗布液Ｃを、バー番手＃２．０のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度７０℃で９０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度７０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより第１の光学異方性層を形成した。形成された第１の光学異方性層は、ディスコティック液晶性化合物が水平配向していた。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが０であり、Ｒｔｈが７５ｎｍであった。

─────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液Ｃの組成
─────────────────────────────────
ディスコティック液晶性化合物１ ７２質量部
ディスコティック液晶性化合物２ １８質量部
重合性化合物 １０質量部
光重合開始剤２ ３．０質量部
（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦ（株）製）
含フッ素化合物Ｃ ０．８質量部
密着改良剤２ ０．５質量部
メチルエチルケトン ３０３質量部
─────────────────────────────────

＜配向膜の形成＞
上記作製した第1の光学異方性層の表面に、実施例１で用いた配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。
形成した配向膜の表面に、偏光子の吸収軸方向と平行方向、すなわち、フィルムの長手方向と平行方向に、ラビング処理を行った。

＜第２の光学異方性層の作製＞
上記ラビング処理した配向膜上に、下記光学異方性層用塗布液Ｄを、バー番手＃４．４のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度７０℃で９０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度７０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより第２の光学異方性層を形成した。形成された第２の光学異方性層は、ディスコティック液晶性化合物が垂直配向しており、遅相軸方向はラビング方向と直交方向、すなわち、遅相軸方向は偏光子の吸収軸方向に対して直交方向であった。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１５８ｎｍであり、Ｒｔｈが−７９ｎｍであった。

─────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液Ｄの組成
─────────────────────────────────
ディスコティック液晶性化合物１ ８０質量部
ディスコティック液晶性化合物２ ２０質量部
重合性化合物 １０質量部
光重合開始剤１ ３．０質量部
（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ（株）製）
含フッ素化合物Ｄ ０．６質量部
含フッ素化合物Ｅ ０．０１質量部
垂直配向剤２ ０．９質量部
垂直配向剤３ ０．０８質量部
メチルエチルケトン ２９３質量部
─────────────────────────────────

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は、実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。

［実施例７］
＜第１の光学異方性層の形成＞
光学異方性層用塗布液Ｃ中のメチルエチルケトンの使用量を３８７質量部に変更した以外は、実施例６と同様にして、第１の光学異方性層を形成した。作製した第１の光学異方性層の特性を表２に示す。

＜第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
バー番手＃３．２のバーコーターに変更し、光学異方性層用塗布液Ｄ中のメチルエチルケトンの使用量を２０６質量部に変更した以外は実施例６と同様にして第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。作製した第２の光学異方性層の特性を表２に示す。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は、実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。

［実施例８］
＜第１の光学異方性層の形成＞
バー番手＃３．０のバーコーターに変更し、光学異方性層用塗布液Ｃ中のメチルエチルケトンの使用量を３６２質量部に変更した以外は、実施例６と同様にして、第１の光学異方性層を形成した。作製した第１の光学異方性層の特性を表２に示す。

＜第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
光学異方性層用塗布液Ｄ中のメチルエチルケトンの使用量を２７３質量部に変更した以外は、実施例６と同様にして、第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。作製した第２の光学異方性層の特性を表２に示す。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は、実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。

［実施例９］
＜第１の光学異方性層の形成＞
光学異方性層用塗布液Ｃ中のメチルエチルケトンの使用量を５０２質量部に変更した以外は、実施例６と同様にして、第１の光学異方性層を形成した。作製した第１の光学異方性層の特性を表２に示す。

＜第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
バー番手＃３．２のバーコーターに変更し、光学異方性層用塗布液Ｄ中のメチルエチルケトンの使用量を２４０質量部に変更した以外は実施例６と同様にして第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。作製した第２の光学異方性層の特性を表２に示す。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は、実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。

［実施例１０］
＜第１の光学異方性層の形成＞
バー番手＃３．０のバーコーターに変更し、光学異方性層用塗布液Ｃ中のメチルエチルケトンの使用量を３１５質量部に変更した以外は、実施例６と同様にして第１の光学異方性層を形成した。作製した第１の光学異方性層の特性を表２に示す。

＜第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
光学異方性層用塗布液Ｄ中のメチルエチルケトンの使用量を２４９質量部に変更した以外は実施例６と同様にして第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。作製した第２の光学異方性層の特性を表２に示す。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。

［比較例５］
＜第１の光学異方性層の形成＞
光学異方性層用塗布液Ｃ中のメチルエチルケトンの使用量を６２０質量部に変更した以外は実施例６と同様にして第１の光学異方性層を形成した。作製した第１の光学異方性層の特性を表２に示す。

＜第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
バー番手＃３．２のバーコーターに変更し、光学異方性層用塗布液Ｄ中のメチルエチルケトンの使用量を２７２質量部に変更した以外は実施例６と同様にして第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。作製した第２の光学異方性層の特性を表２に示す。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は、実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。

［比較例６］
＜第１の光学異方性層の形成＞
バー番手＃３．０のバーコーターに変更し、光学異方性層用塗布液Ｃ中のメチルエチルケトンの使用量を２８６質量部に変更した以外は実施例６と同様にして第１の光学異方性層を形成した。作製した第１の光学異方性層の特性を表２に示す。

＜第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
光学異方性層用塗布液Ｄ中のメチルエチルケトンの使用量を２３１質量部に変更した以外は実施例６と同様にして第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。作製した第２の光学異方性層の特性を表２に示す。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は、実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。

［比較例７］
＜第１の光学異方性層の作製＞
偏光板０１の偏光子側表面に、上記光学異方性層用塗布液Ｂにおいてメチルエチルケトンを２７４質量部として濃度調整した塗布液を、バー番手＃２．０のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度６０℃で３０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度６０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより第１の光学異方性層を形成した。形成された第１の光学異方性層は、棒状液晶性化合物が垂直配向していた。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが０であり、Ｒｔｈが−９０ｎｍであった。

＜配向膜の形成＞
上記作製した第1の光学異方性層の表面に、実施例１で用いた配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。
形成した配向膜の表面に、偏光子の吸収軸方向と平行方向、すなわち、フィルムの長手方向と平行方向に、ラビング処理を行った。

＜第２の光学異方性層の作製＞
上記配向膜上に、上記光学異方性層用塗布液Ａにおいてメチルエチルケトンの使用量を２２８質量部として濃度調整した塗布液を、バー番手＃２．４のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度６０℃で３０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度６０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより第２の光学異方性層を形成した。形成された第２の光学異方性層は、棒状液晶性化合物が水平配向しており、遅相軸方向はラビング方向と平行方向、すなわち、遅相軸方向は偏光子の吸収軸方向に対して平行方向であった。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１２２ｎｍであり、Ｒｔｈが６１ｎｍである。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。

なお、表２中、「Ｒｅ／Ｒｔｈ」は、それぞれＲｅ（５５０）およびＲｔｈ（５５０）の値を示す。
また、表２中、「波長分散」は、各光学異方性層のＲｅ（５５０）が１０ｎｍ超である場合にはＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）を示し、各光学異方性層のＲｅ（５５０）が１０ｎｍ以下である場合には（Ｒ［４０°，４５０］）／（Ｒ［４０°，５５０］）を示す。
また、実施例６〜１０において、第１の偏光子保護層の表面の法線方向から観察したとき、第２の光学異方性層の遅相軸と第１の偏光子の吸収軸とのなす角が９０°であった。

表２に、第１の光学異方性層、および、第２の光学異方性層の厚みを示す。
なお、表２中の視認側偏光板厚みは、第１の偏光子保護層、第１の偏光子、第１の光学異方性層、および、第２の光学異方性層の厚みの合計値を意図する。
表２中のバックライト側偏光板厚みは、第２の偏光子保護層、および、第２の偏光子の厚みの合計値を意図する。
なお、各実施例で得られた偏光板の厚みは１００μｍ以下であった。

表２に示すように、本発明の第２の態様の偏光板を使用した液晶表示装置は、優れた表示性能を示した。さらに、耐久試験後の表示ムラの発生もなかった。
一方、第１の光学異方性層または第２の光学異方性層の所定のＲｅ（５５０）またはＲｔｈ（５５０）が範囲外である偏光板を用いた比較例５〜７においては、各種性能が実施例と比較して劣っていた。

＜実施例Ｃ＞
［実施例１１］
＜第１の光学異方性層の作製＞
偏光板０１の偏光子側表面に、偏光子の吸収軸と直交方向にラビング処理を施した。ラビング処理面上に、上記光学異方性層用塗布液Ａにおいてメチルエチルケトンの使用量を３４７質量部として濃度調整した塗布液を作製し、バー番手＃２．０のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度６０℃で３０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度６０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより第１の光学異方性層を形成した。形成された第１の光学異方性層は、棒状液晶性化合物が水平配向しており、遅相軸方向はラビング方向に平行、すなわち、遅相軸方向は偏光子の吸収軸方向に対して直交方向であった。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが７５ｎｍであり、Ｒｔｈが３８ｎｍであった。

＜配向膜の形成＞
上記作製した第１の光学異方性層の表面に、実施例１で用いた配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。
形成した配向膜の表面に、偏光子の吸収軸方向と平行方向、すなわち、フィルムの長手方向と平行方向に、ラビング処理を行った。

＜第２の光学異方性層の作製＞
上記配向膜上に、上記光学異方性層用塗布液Ｄにおいてメチルエチルケトンの使用量を２６０質量部として濃度調整した塗布液を、バー番手＃３．２のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度７０℃で９０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度７０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより第２の光学異方性層を形成した。形成された第２の光学異方性層は、ディスコティック液晶性化合物が垂直配向しており、遅相軸方向はラビング方向と直交方向、すなわち、遅相軸方向は偏光子の吸収軸方向に対して直交方向であった。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１２５ｎｍであり、Ｒｔｈが−６３ｎｍであった。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表３に示す。

［実施例１２］
＜第１の光学異方性層の形成＞
光学異方性層用塗布液Ａ中のメチルエチルケトンの使用量を４０８質量部に変更した以外は、実施例１１と同様にして第１の光学異方性層を形成した。作製した第１の光学異方性層の特性を表３に示す。

＜第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
バー番手＃２．８のバーコーターに変更し、光学異方性層用塗布液Ｄ中のメチルエチルケトンの使用量を２５４質量部に変更した以外は実施例１１と同様にして第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。作製した第２の光学異方性層の特性を表３に示す。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表３に示す。

［実施例１３］
＜第１の光学異方性層の形成＞
光学異方性層用塗布液Ａ中のメチルエチルケトンの使用量を２８９質量部に変更した以外は、実施例１１と同様にして第１の光学異方性層を形成した。作製した第１の光学異方性層の特性を表３に示す。

＜第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
光学異方性層用塗布液Ｄ中のメチルエチルケトンの使用量を２３５質量部に変更した以外は実施例１１と同様にして第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。作製した第２の光学異方性層の特性を表３に示す。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表３に示す。

［実施例１４］
＜第１の光学異方性層の形成＞
光学異方性層用塗布液Ａ中のメチルエチルケトンの使用量を５２２質量部に変更した以外は実施例１１と同様にして第１の光学異方性層を形成した。作製した第１の光学異方性層の特性を表３に示す。

＜第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
バー番手＃２．８のバーコーターに変更し、光学異方性層用塗布液Ｄ中のメチルエチルケトンの使用量を２８７質量部に変更した以外は実施例１１と同様にして第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。作製した第２の光学異方性層の特性を表３に示す。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表３に示す。

［実施例１５］
＜第１の光学異方性層の形成＞
光学異方性層用塗布液Ａ中のメチルエチルケトンの使用量を２４８質量部に変更した以外は、実施例１１と同様にして第１の光学異方性層を形成した。作製した第１の光学異方性層の特性を表３に示す。

＜第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
光学異方性層用塗布液Ｄ中のメチルエチルケトンの使用量を２１５質量部に変更した以外は、実施例１１と同様にして第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。作製した第２の光学異方性層の特性を表３に示す。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表３に示す。

［比較例８］
＜第１の光学異方性層の形成＞
バー番手＃１．６のバーコーターに変更し、光学異方性層用塗布液Ａ中のメチルエチルケトンの使用量を４７４質量部に変更した以外は、実施例１１と同様にして第１の光学異方性層を形成した。作製した第１の光学異方性層の特性を表３に示す。

＜第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
バー番手＃２．８のバーコーターに変更し、光学異方性層用塗布液Ｄ中のメチルエチルケトンの使用量を３４６質量部に変更した以外は、実施例１１と同様にして第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。作製した第２の光学異方性層の特性を表３に示す。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表３に示す。

［比較例９］
＜第１の光学異方性層の形成＞
バー番手＃２．４のバーコーターに変更し、光学異方性層用塗布液Ａ中のメチルエチルケトンの使用量を２５８質量部に変更した以外は、実施例１１と同様にして第１の光学異方性層を形成した。作製した第１の光学異方性層の特性を表３に示す。

＜第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
バー番手＃４．４のバーコーターに変更し、光学異方性層用塗布液Ｄ中のメチルエチルケトンの使用量を２９８質量部に変更した以外は、実施例１１と同様にして第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。作製した第２の光学異方性層の特性を表３に示す。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表３に示す。

［比較例１０］
＜第１の光学異方性層の作製＞
偏光板０１の偏光子側表面に、偏光子の吸収軸と直交方向にラビング処理を施した。ラビング処理面上に、上記光学異方性層用塗布液Ｄにおいてメチルエチルケトンの使用量を３４１質量部として濃度調整した塗布液を、バー番手＃２．８のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度７０℃で９０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度７０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより第１の光学異方性層を形成した。形成された第１の光学異方性層は、ディスコティック液晶性化合物が垂直配向しており、遅相軸方向はラビング方向と直交方向、すなわち、遅相軸方向は偏光子の吸収軸方向に対して平行方向であった。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲeが９０ｎｍであり、Ｒｔｈは−４５であった。

＜配向膜の形成＞
上記作製した第１の光学異方性層の表面に、実施例１で用いた配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。
形成した配向膜の表面に、偏光子の吸収軸方向と平行方向、すなわち、フィルムの長手方向と平行方向に、ラビング処理を行った。

＜第２の光学異方性層の作製＞
上記配向膜上に、上記光学異方性層用塗布液Ａにおいてメチルエチルケトンの使用量を３１８質量部として濃度調整した塗布液を、バー番手＃２．０のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度６０℃で３０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度６０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより第２の光学異方性層を形成した。形成された第２の光学異方性層は、棒状液晶性化合物が水平配向しており、遅相軸方向はラビング方向と平行方向、すなわち、遅相軸方向は偏光子の吸収軸方向に対して平行方向であった。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが８０ｎｍであり、Ｒｔｈは４０ｎｍであった。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表３に示す。

なお、表３中、「Ｒｅ／Ｒｔｈ」は、それぞれＲｅ（５５０）およびＲｔｈ（５５０）の値を示す。
また、表３中、「波長分散」は、各光学異方性層のＲｅ（５５０）が１０ｎｍ超である場合にはＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）を示し、各光学異方性層のＲｅ（５５０）が１０ｎｍ以下である場合には（Ｒ［４０°，４５０］）／（Ｒ［４０°，５５０］）を示す。
また、実施例１１〜１５においては、第１の偏光子保護層の表面の法線方向から観察したとき、第１の光学異方性層の遅相軸と第１の偏光子の吸収軸とのなす角が９０°であると共に、第２の光学異方性層の遅相軸と第１の偏光子の吸収軸とのなす角が９０であった。

表３に、第１の光学異方性層、および、第２の光学異方性層の厚みを示す。
なお、表３中の視認側偏光板厚みは、第１の偏光子保護層、第１の偏光子、第１の光学異方性層、および、第２の光学異方性層の厚みの合計値を意図する。
表３中のバックライト側偏光板厚みは、第２の偏光子保護層、および、第２の偏光子の厚みの合計値を意図する。
なお、各実施例で得られた偏光板の厚みは１００μｍ以下であった。

表３に示すように、本発明の第３の態様の偏光板を使用した液晶表示装置は、優れた表示性能を示した。さらに、耐久試験後の表示ムラの発生もなかった。
一方、第１の光学異方性層または第２の光学異方性層の所定のＲｅ（５５０）またはＲｔｈ（５５０）が範囲外である偏光板を用いた比較例８〜１０においては、各種性能が実施例と比較して劣っていた。

＜実施例Ｄ＞
［実施例１６］
＜第１の光学異方性層の形成、第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
実施例１と同様にして第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を形成し、視認側偏光板を作製した。

＜第３の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
偏光板０２の偏光子側表面に、偏光子の吸収軸と平行方向にラビング処理を施した。ラビング処理面上に、下記光学異方性層用塗布液Ｇを、バー番手＃２．０のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度６０℃で３０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度６０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより第３の光学異方性層を形成した。形成された第３の光学異方性層は、棒状液晶性化合物がわずかに傾斜しており、遅相軸方向はラビング方向に平行、すなわち、遅相軸方向は偏光子の吸収軸方向に対して平行方向であった。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが３５ｎｍ、チルト角（平均傾斜角度）は８度であった。

─────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液Ｇの組成
─────────────────────────────────
棒状液晶性化合物１ ９０質量部
棒状液晶性化合物２ １０質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
含フッ素化合物Ｂ ０．４質量部
含フッ素化合物Ｄ ０．５質量部
メチルエチルケトン ６６０質量部
─────────────────────────────────

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側の偏光板として用い、上記で作製した第３の光学異方性層を有する偏光板をバックライト側の偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表４に示す。

［実施例１７］
＜第１の光学異方性層の形成、第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
実施例６と同様にして第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。

＜第３の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
実施例１６と同様にして第３の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側の偏光板として用い、上記で作製した第３の光学異方性層を有する偏光板をバックライト側の偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表４に示す。

［実施例１８］
＜第１の光学異方性層の形成、第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
実施例１１と同様にして第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。

＜第３の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
実施例１６と同様にして第３の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側の偏光板として用い、上記で作製した第３の光学異方性層を有する偏光板をバックライト側の偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表４に示す。

［実施例１９］
＜第１の光学異方性層の形成、第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
実施例１と同様にして第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。

＜第３の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
上記光学異方性層用塗布液Ｇにおいて、含フッ素化合物Ｂの使用量を０．２質量部、メチルエチルケトンの使用量を４３１質量部とし、それ以外は実施例１６と同様にして、第３の光学異方性層を作製した。形成された第３の光学異方性層は、棒状液晶性化合物がわずかに傾斜しており、遅相軸方向はラビング方向に平行、すなわち、遅相軸方向は偏光子の吸収軸方向に対して平行方向であった。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが５０ｎｍ、チルト角は３度であった。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側の偏光板として用い、上記で作製した第３の光学異方性層を有する偏光板をバックライト側の偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表４に示す。

［実施例２０］
＜第１の光学異方性層の形成、第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
実施例６と同様にして第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。

＜第３の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
実施例１９と同様にして第３の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側の偏光板として用い、上記で作製した第３の光学異方性層を有する偏光板をバックライト側の偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表４に示す。

［実施例２１］
＜第１の光学異方性層の形成、第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
実施例１１と同様にして第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。

＜第３の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
実施例１９と同様にして第３の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側の偏光板として用い、上記で作製した第３の光学異方性層を有する偏光板をバックライト側の偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表４に示す。

［実施例２２］
＜第１の光学異方性層の形成、第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
実施例１と同様にして第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。

＜第３の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
上記光学異方性層用塗布液Ｇにおいて、含フッ素化合物Ｂの使用量を０．１質量部、メチルエチルケトンの使用量を１９３質量部とし、それ以外は実施例１６と同様にして、第３の光学異方性層を作製した。形成された第３の光学異方性層は、棒状液晶がわずかに傾斜しており、遅相軸方向はラビング方向に平行、すなわち、遅相軸方向は偏光子の吸収軸方向に対して平行方向であった。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが９０ｎｍ、チルト角は２度であった。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側の偏光板として用い、上記で作製した第３の光学異方性層を有する偏光板をバックライト側の偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表４に示す。

［実施例２３］
＜第１の光学異方性層の形成、第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
実施例６と同様にして第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。

＜第３の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
実施例２２と同様にして第３の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側の偏光板として用い、上記で作製した第３の光学異方性層を有する偏光板をバックライト側の偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表４に示す。

［実施例２４］
＜第１の光学異方性層の形成、第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
実施例１１と同様にして第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。

＜第３の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
実施例２２と同様にして第３の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側の偏光板として用い、上記で作製した第３の光学異方性層を有する偏光板をバックライト側の偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表４に示す。

なお、表４中、「Ｒｅ／Ｒｔｈ」は、それぞれＲｅ（５５０）およびＲｔｈ（５５０）の値を示す。
また、表４中、「波長分散」は、各光学異方性層のＲｅ（５５０）が１０ｎｍ超である場合にはＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）を示し、各光学異方性層のＲｅ（５５０）が１０ｎｍ以下である場合には（Ｒ［４０°，４５０］）／（Ｒ［４０°，５５０］）を示す。
また、第３の光学異方性層の遅相軸と電圧が印加されていない状態での液晶セル中の液晶層の遅相軸とが平行であった。
さらに、実施例１６〜２４において、第３の光学異方性層中の液晶性化合物は、液晶表示装置中の液晶層中の液晶性化合物の液晶層表面に対する平均傾斜方向と同じ方向に平均傾斜角を有していた。

表４に、第１の光学異方性層、第２の光学異方性層、および、第３の光学異方性層の厚みを示す。
なお、表４中の視認側偏光板厚みは、第１の偏光子保護層、第１の偏光子、第１の光学異方性層、および、第２の光学異方性層の厚みの合計値を意図する。
表４中のバックライト側偏光板厚みは、第２の偏光子保護層、第２の偏光子、および、第３の光学異方性層の厚みの合計値を意図する。
なお、各実施例で得られた偏光板の厚みは１００μｍ以下であった。

表４に示すように、バックライト側偏光板（リア側偏光板）を使用した場合、より優れた表示性能を示すことが確認された。

＜実施例Ｅ＞
［実施例２５］
実施例１において、偏光板０１の偏光子側表面に、実施例１で用いた配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布し、６０℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した以外は、同様に第１の光学異方性層、第２の光学異方性層を形成して偏光板を作製した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表５に示す。

［実施例２６］
実施例６において、偏光板０１の偏光子側表面に、実施例１で用いた配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布し、６０℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した以外は、同様に第１の光学異方性層、第２の光学異方性層を形成して偏光板を作製した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表５に示す。

［実施例２７］
実施例１１において、偏光板０１の偏光子側表面に、実施例１で用いた配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布し、６０℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した以外は、同様に第１の光学異方性層、第２の光学異方性層を形成して偏光板を作製した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表５に示す。

［実施例２８］
＜仮基板の準備＞
仮基板として、Ｚ−ＴＡＣ（富士フイルム（株）製）を用いた。

＜配向膜の形成＞
上記準備した仮基板の表面に、鹸化処理を施すことなく、直接、下記の組成の配向膜塗布液Ｙを＃１４のワイヤーバーを用いて塗布した。６０℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。
──────────────────────────────────
配向膜塗布液Ｙの組成
──────────────────────────────────
下記の変性ポリビニルアルコール １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド ０．５質量部
──────────────────────────────────

＜第１の光学異方性層の作製＞
鹸化せずに配向膜を形成した上記仮基板に、フィルムの長手方向と直交方向にラビング処理を施した。ラビング処理面上に、上記光学異方性層用塗布液Ａを、バー番手＃２．４のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度６０℃で３０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度６０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより転写用の第１の光学異方性層を形成した。形成された第１の光学異方性層は、棒状液晶性化合物が水平配向しており、遅相軸方向はラビング方向と平行方向、すなわち、遅相軸方向はフィルムの長手方向に対して直交方向であった。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１２８ｎｍであり、Ｒｔｈは６４ｎｍであった。

＜第２の光学異方性層の作製＞
鹸化せずに配向膜を形成した上記仮基板に、上記光学異方性層用塗布液Ｂを、バー番手＃２．４のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度６０℃で３０秒間加熱熟成、その後ただちに、膜面温度６０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより転写用の第２の光学異方性層を形成した。形成された第２の光学異方性層は、棒状液晶性化合物が垂直配向していた。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが０ｎｍであり、Ｒｔｈが−１１５ｎｍであった。

＜第１の接着前駆体層の形成＞
偏光板０１の偏光子側表面に、ＵＶ硬化性樹脂を塗布・乾燥して、第１の接着前駆体層を形成した。

＜第１の光学異方性層の転写＞
上記で作製した転写用の第１の光学異方性層表面と、上記で作製した第１の接着前駆体層表面とを、偏光子の吸収軸方向とフィルムの長手方向とが一致するように接触させて積層し、加圧ローラで加圧した後、ＵＶ光を照射して、ＵＶ硬化性樹脂を硬化させて、第１の光学異方性層を接着層に強く接着させた。
次に、強粘着性ロールを仮基板の裏面に押し当てて回転させ、仮基板と配向膜とを剥離した。

＜第２の接着前駆体層の形成＞
上記で作製した第１の光学異方性層表面に、ＵＶ硬化性樹脂を塗布・乾燥して、第２の接着前駆体層を形成した。

＜第２の光学異方性層の転写＞
上記で作製した転写用の第２の光学異方性層表面と、上記で作製した第２の接着前駆体層表面とを、偏光子の吸収軸方向とフィルムの長手方向とが一致するように接触させて積層し、加圧ローラで加圧した後、ＵＶ光を照射して、ＵＶ硬化性樹脂を硬化させて、第２の光学異方性層を接着層に強く接着させた。
次に、強粘着性ロールを仮基板の裏面に押し当てて回転させ、仮基板と配向膜とを剥離した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表５に示す。

［実施例２９］
＜仮基板の準備＞
仮基板として、Ｚ−ＴＡＣ（富士フイルム（株）製）を用いた。

＜配向膜の形成＞
上記準備した仮基板の表面に、鹸化処理を施すことなく、直接、下記の組成の配向膜塗布液Ｚを＃１４のワイヤーバーを用いて塗布した。６０℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。
──────────────────────────────────
配向膜塗布液Ｚの組成
──────────────────────────────────
下記の変性ポリビニルアルコール １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド ０．５質量部
──────────────────────────────────

＜第１の光学異方性層の作製＞
鹸化せずに配向膜を形成した上記仮基板に、上記光学異方性層用塗布液Ｃを、バー番手＃２．０のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度７０℃で９０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度７０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより転写用の第１の光学異方性層を形成した。形成された第１の光学異方性層は、ディスコティック液晶性化合物が水平配向していた。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅは０であり、Ｒｔｈが７５ｎｍであった。

＜第２の光学異方性層の作製＞
鹸化せずに配向膜を形成した上記仮基板に、フィルムの長手方向と平行方向にラビング処理を施した。ラビング処理面上に、上記光学異方性層用塗布液Ｄを、バー番手＃４．４のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度７０℃で９０秒間加熱熟成、その後ただちに、膜面温度７０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより転写用の第２の光学異方性層を形成した。形成された第２の光学異方性層は、ディスコティック液晶性化合物が垂直配向しており、遅相軸方向はラビング方向と直交方向、すなわち、遅相軸方向はフィルムの長手方向に対して直交方向であった。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１５８ｎｍであり、Ｒｔｈは−７９ｎｍであった。

＜第１の接着前駆体層の形成＞
偏光板０１の偏光子側表面に、ＵＶ硬化性樹脂を塗布・乾燥して、第１の接着前駆体層を形成した。

＜第１の光学異方性層の転写＞
上記で作製した転写用の第１の光学異方性層表面と、上記で作製した第１の接着前駆体層表面とを、偏光子の吸収軸方向とフィルムの長手方向とが一致するように接触させて積層し、加圧ローラで加圧した後、ＵＶ光を照射して、ＵＶ硬化性樹脂を硬化させて、第１の光学異方性層を接着層に強く接着させた。
次に、強粘着性ロールを仮基板の裏面に押し当てて回転させ、仮基板と配向膜とを剥離した。

＜第２の接着前駆体層の形成＞
上記で作製した第１の光学異方性層表面に、ＵＶ硬化性樹脂を塗布・乾燥して、第２の接着前駆体層を形成した。

＜第２の光学異方性層の転写＞
上記で作製した転写用の第２の光学異方性層表面と、上記で作製した第２の接着前駆体層表面とを、偏光子の吸収軸方向とフィルムの長手方向とが一致するように接触させて積層し、加圧ローラで加圧した後、ＵＶ光を照射して、ＵＶ硬化性樹脂を硬化させて、第２の光学異方性層を接着層に強く接着させた。
次に、強粘着性ロールを仮基板の裏面に押し当てて回転させ、仮基板と配向膜とを剥離した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は、実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表５に示す。

［実施例３０］
＜仮基板の準備＞
仮基板として、Ｚ−ＴＡＣ（富士フイルム（株）製）を用いた。

＜配向膜の形成＞
上記準備した仮基板の表面に、鹸化処理を施すことなく、直接、下記の組成の配向膜塗布液Ｗを＃１４のワイヤーバーを用いて塗布した。６０℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。
──────────────────────────────────
配向膜塗布液Ｗの組成
──────────────────────────────────
下記の変性ポリビニルアルコール １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド ０．５質量部
──────────────────────────────────

＜第１の光学異方性層の作製＞
鹸化せずに配向膜を形成した上記仮基板に、フィルムの長手方向と直交方向にラビング処理を施した。ラビング処理面上に、上記光学異方性層用塗布液Ａにおいてメチルエチルケトンの使用量を３４７質量部として濃度調整した塗布液を、バー番手＃２．０のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度６０℃で３０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度６０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより転写用の第１の光学異方性層を形成した。形成された第１の光学異方性層は、棒状液晶性化合物が水平配向しており、遅相軸方向はラビング方向に平行、すなわち、遅相軸方向はフィルムの長手方向に対して直交方向であった。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが７５ｎｍであり、Ｒｔｈは３８ｎｍであった。

＜第２の光学異方性層の作製＞
鹸化せずに配向膜を形成した上記仮基板に、光学異方性層用塗布液ＤにおいてＭＥＫを２６０質量部として濃度調整した塗布液を、バー番手＃３．２のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度７０℃で９０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度７０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより第２の光学異方性層を形成した。形成された第２の光学異方性層は、ディスコティック液晶性化合物が垂直配向しており、遅相軸方向はラビング方向と直交方向、すなわち、遅相軸方向は偏光子の吸収軸方向に対して直交方向であった。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１２５ｎｍであった。

＜第１の接着前駆体層の形成＞
偏光板０１の偏光子側表面に、ＵＶ硬化性樹脂を塗布・乾燥して、第１の接着前駆体層を形成した。

＜第１の光学異方性層の転写＞
上記で作製した転写用の第１の光学異方性層表面と、上記で作製した第１の接着前駆体層表面とを、偏光子の吸収軸方向とフィルムの長手方向とが一致するように接触させて積層し、加圧ローラで加圧した後、ＵＶ光を照射して、ＵＶ硬化性樹脂を硬化させて、第１の光学異方性層を接着層に強く接着させた。
次に、強粘着性ロールを仮基板の裏面に押し当てて回転させ、仮基板と配向膜とを剥離した。

＜第２の接着前駆体層の形成＞
上記で作製した第１の光学異方性層表面に、ＵＶ硬化性樹脂を塗布・乾燥して、第２の接着前駆体層を形成した。

＜第２の光学異方性層の転写＞
上記で作製した転写用の第２の光学異方性層表面と、上記で作製した第２の接着前駆体層表面とを、偏光子の吸収軸方向とフィルムの長手方向とが一致するように接触させて積層し、加圧ローラで加圧した後、ＵＶ光を照射して、ＵＶ硬化性樹脂を硬化させて、第２の光学異方性層を接着層に強く接着させた。
次に、強粘着性ロールを仮基板の裏面に押し当てて回転させ、仮基板と配向膜とを剥離した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は、実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表５に示す。

［実施例３１］
＜第１の光学異方性層の形成＞
ＷＯ２０１３−０１８５２６に記載の化合物１を１ｇ、光重合開始剤（商品名：イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製）を３０ｍｇ、界面活性剤（商品名：ＫＨ−４０、ＡＧＣセイミケミカル社製）の１％シクロペンタノン溶液１００ｍｇを２．３ｇのシクロペンタノンに溶解させた。この溶液を０．４５μｍの細孔径を有するディスポーサブルフィルターでろ過し、液晶組成物を得た。

上記液晶組成物を、♯４のワイヤーバーを使用して偏光子吸収軸と直交、すなわち偏光子長手方向と直交にラビング処理した偏光板０１の偏光子側の面上に塗布した。塗膜を９０℃で３０秒間乾燥し、膜厚２μｍの液晶層を形成した。その後、液晶層の塗布面側から２０００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し第１の光学異方性層を得た。

＜光学特性の計測＞
第１の光学異方性層をガラス基板上に実施例と同条件で形成させ、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、第１の光学異方性層のみのＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１２８ｎｍであり、Ｒｔｈが６４ｎｍであった。

＜第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層を用いた以外は、実施例１と同様にして第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表５に示す。

［実施例３２］
＜第１の光学異方性層の形成＞
偏光板０１の偏光子側表面に、後述する光学異方性層用塗布液Ｅを、バー番手＃２．０のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度７０℃で９０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度７０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより第１の光学異方性層を形成した。形成された第１の光学異方性層は、ディスコティック液晶性化合物が水平配向していた。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが０ｎｍであり、Ｒｔｈが７５ｎｍであった。

─────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液Ｅの組成
─────────────────────────────────
ディスコティック液晶性化合物３ ９１．０質量部
重合性化合物 ９．０質量部
光重合開始剤１ ３．０質量部
（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
含フッ素化合物Ｆ ０．８質量部
密着改良剤２ ０．５質量部
メチルエチルケトン １６９質量部
─────────────────────────────────

＜配向膜の形成＞
上記作製した第１の光学異方性層の表面に、実施例１で用いた配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。
形成した配向膜の表面に、偏光子の吸収軸方向と平行方向、すなわち、フィルムの長手方向と平行方向に、ラビング処理を行った。

＜第２の光学異方性層の作製＞
上記配向膜上に、下記光学異方性層用塗布液Ｆを、バー番手＃４．０のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度７０℃で９０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度７０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより第２の光学異方性層を形成した。形成された第２の光学異方性層は、ディスコティック液晶性化合物が垂直配向しており、遅相軸方向はラビング方向と直交方向、すなわち、遅相軸方向は偏光子の吸収軸方向に対して直交方向であった。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１５８ｎｍであり、Ｒｔｈは−７９ｎｍであった。

─────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液Ｆの組成
─────────────────────────────────
ディスコティック液晶性化合物３ ９１．０質量部
重合性化合物 ５．０質量部
光重合開始剤１ ３．０質量部
（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
含フッ素化合物Ａ ０．２１質量部
含フッ素化合物Ｇ ０．１質量部
垂直配向剤１ ０．５質量部
メチルエチルケトン １５４質量部
──────────────────────────────────

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は、実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表５に示す。

［実施例３３］
＜第１の光学異方性層の作製＞
偏光板０１の偏光子側表面に、偏光子の吸収軸と直交方向にラビング処理を施した。ラビング処理面上に、上記光学異方性層用塗布液Ａにおいてメチルエチルケトンの使用量を３４７質量部として濃度調整した塗布液を作製し、バー番手＃２．０のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度６０℃で３０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度６０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより第１の光学異方性層を形成した。形成された第１の光学異方性層は、棒状液晶性化合物が水平配向しており、遅相軸方向はラビング方向に平行、すなわち、遅相軸方向は偏光子の吸収軸方向に対して直交方向であった。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが７５ｎｍであり、Ｒｔｈは３８ｎｍであった。

＜配向膜の形成＞
上記作製した第１の光学異方性層の表面に、実施例１で用いた配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。
形成した配向膜の表面に、偏光子の吸収軸方向と平行方向、すなわち、フィルムの長手方向と平行方向に、ラビング処理を行った。

＜第２の光学異方性層の作製＞
上記配向膜上に、上記光学異方性層用塗布液Ｅにおいてメチルエチルケトンの使用量を２２２質量部として濃度調整した塗布液を、バー番手＃４．４のバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度７０℃で９０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度７０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより第２の光学異方性層を形成した。形成された第２の光学異方性層は、ディスコティック液晶性化合物が垂直配向しており、遅相軸方向はラビング方向と直交方向、すなわち、遅相軸方向は偏光子の吸収軸方向に対して直交方向であった。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、ＲｅおよびＲｔｈの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１２５ｎｍであり、Ｒｔｈは−６３ｎｍであった。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表５に示す。

［実施例３４］
実施例３１の第１の光学異方性層形成において、バー番手＃２．４のバーコーターに変更して第１の光学異方性層を形成した以外は、実施例１１と同様にして偏光板を作製した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表５に示す。

［実施例３５］
＜第１の光学異方性層の形成＞
偏光板０１の偏光子側表面に、偏光子の吸収軸と直交方向にラビング処理を施した。ラビング処理面上に下記光学異方性層用塗布液Ｗを、バーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度６０℃で６０秒間加熱熟成し、その後ただちに、膜面温度６０℃空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、２９０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射し、その配向状態を固定化することにより第１の光学異方性層を形成した。形成された第１の光学異方性層は、棒状液晶性化合物が水平配向しており、遅相軸方向はラビング方向と平行方向、すなわち、遅相軸方向は偏光子の吸収軸方向に対して直交方向であった。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１２８ｎｍであった。
─────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液Ｗの組成（スメクティック液晶相）
─────────────────────────────────
棒状液晶性化合物Ｗ ８１質量部
化合物Ｘ １８質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
含フッ素化合物Ｙ ０．６質量部
メチルエチルケトン ０．７質量部
クロロホルム ４００質量部
─────────────────────────────────

＜第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
実施例１と同様にして第２の光学異方性層を上記第１の光学異方性層上に形成し、偏光板を作製した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表５に示す。

［実施例３６］
＜第１の光学異方性層の形成＞
実施例３５の第１の光学異方性層において、メチルエチルケトンを０．８質量部に、クロロホルムを７５６質量部に変更した以外は同様にして第１の光学異方性層を作製した。形成された第１の光学異方性層は、棒状液晶性化合物が水平配向しており、遅相軸方向はラビング方向と平行方向、すなわち、遅相軸方向は偏光子の吸収軸方向に対して直交方向であった。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが７５であった。

＜第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
実施例１１と同様にして第２の光学異方性層を上記第１の光学異方性層上に形成し、偏光板を作製した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表５に示す。

なお、表５中、「Ｒｅ／Ｒｔｈ」は、それぞれＲｅ（５５０）およびＲｔｈ（５５０）の値を示す。
また、表５中、「波長分散」は、各光学異方性層のＲｅ（５５０）が１０ｎｍ超である場合にはＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）を示し、各光学異方性層のＲｅ（５５０）が１０ｎｍ以下である場合には（Ｒ［４０°，４５０］）／（Ｒ［４０°，５５０］）を示す。
また、実施例２５、２８、３１、および３４では、第１の偏光子保護層の表面の法線方向から観察したとき、第１の光学異方性層の遅相軸と第１の偏光子の吸収軸とのなす角が９０°であった。
実施例２６、２９、３２、および、３５では、第１の偏光子保護層の表面の法線方向から観察したとき、第２の光学異方性層の遅相軸と第１の偏光子の吸収軸とのなす角が９０°であった。
実施例２７、３０、３３、および、３６では、第１の偏光子保護層の表面の法線方向から観察したとき、第１の光学異方性層の遅相軸と第１の偏光子の吸収軸とのなす角が９０°であると共に、第２の光学異方性層の遅相軸と第１の偏光子の吸収軸とのなす角が９０であった。

表５に、第１の光学異方性層、および、第２の光学異方性層の厚みを示す。
なお、表５中の視認側偏光板厚みは、第１の偏光子保護層、第１の偏光子、第１の光学異方性層、および、第２の光学異方性層の厚みの合計値を意図する。
表５中のバックライト側偏光板厚みは、第２の偏光子保護層、および、第２の偏光子の厚みの合計値を意図する。
なお、各実施例で得られた偏光板の厚みは１００μｍ以下であった。

表５に示すように、配向膜が設けられた場合でも、所望の効果が得られることが確認された。

＜実施例Ｆ＞
［実施例３７］
＜保護膜の作製＞

［上記一般式中、Ｒ^１は水素原子、Ｒ^２およびＲ^３はメチル基であるラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂｛共重合モノマー質量比＝メタクリル酸メチル／２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル＝８／２、ラクトン環化率約１００％、ラクトン環構造の含有割合１９．４％、質量平均分子量１３３０００、メルトフローレート６．５ｇ／１０分（２４０℃、１０ｋｇｆ）、Ｔｇ１３１℃｝９０質量部と、アクリロニトリル−スチレン（ＡＳ）樹脂｛トーヨーＡＳ ＡＳ２０、東洋スチレン社製｝１０質量部との混合物；Ｔｇ１２７℃］のペレットを二軸押し出し機に供給し、約２８０℃でシート状に溶融押し出しして、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂シートを得た。この未延伸シートを、１６０℃の温度条件下、縦、横に延伸して熱可塑性樹脂フィルム（厚さ：４０μｍ、面内位相差Ｒｅ：０．８ｎｍ、厚み方向位相差Ｒｔｈ：１．５ｎｍ）を得た。

偏光子１の片方の面に、アクリル接着剤を用いて、作製した熱可塑性樹脂フィルムにコロナ処理を施したのち、貼合して片面保護膜付き偏光板０３（以後、単に、偏光板０３とも称する）を作製した。

＜第１の光学異方性層の形成、第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
上記で作製した偏光板０３を偏光板０１の代わりに用いた以外は、実施例１と同様にして第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用い、偏光板０３をバックライト側偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表６に示す。

［実施例３８］
＜第１の光学異方性層の形成、第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
上記で作製した偏光板０３を偏光板０１の代わりに用いた以外は実施例６と同様にして第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用い、偏光板０３をバックライト側偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表６に示す。

［実施例３９］
＜第１の光学異方性層の形成、第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
上記で作製した偏光板０３を偏光板０１の代わりに用いた以外は実施例１１と同様にして第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用い、偏光板０３をバックライト側偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表６に示す。

［実施例４０］
＜保護膜の作製＞
（組成物Ｂ−１の組成）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
Ａ−ＤＣＰ（１００％）：トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート
［新中村化学工業（株）製］
９７．０質量部
イルガキュア９０７（１００％）：重合開始剤
［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］
３．０質量部
ＳＰ−１３（レベリング剤）： ０．０４質量部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン）： ８１．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

（基材フィルムの作製）
下記に記載の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、ドープを調製した。

｛セルロースエステル｝
アシル基総置換度２．７５、アセチル置換度０．１９、プロピオニル置換度２．５６、重量平均分子量２０００００のセルロースエステルを使用した。
このセルロースエステルは、以下のように合成した。
セルロースに触媒として硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）を添加し、アシル置換基の原料となるカルボン酸を添加して４０℃でアシル化反応を行った。この時、カルボン酸の量を調整することでアセチル基およびプロピオニル基の置換度を調整した。またアシル化後に４０℃で熟成を行った。さらにこのセルロースエステルの低分子量成分をアセトンで洗浄し除去した。

（ドープの組成）
――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースエステル ３０．０質量部
アクリル樹脂 ７０．０質量部
（ダイヤナールＢＲ８５ 三菱レイヨン（株）製）
チヌビン３２８ チバ・ジャパン製 １．０質量部
メチレンクロライド ３２０質量部
エタノール ４５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

バンド流延装置を用い、上記調製したドープをステンレス製のエンドレスバンド（流延支持体）に流延ダイから均一に流延した。ドープ中の残留溶媒量が４０質量％になった時点で流延支持体から高分子膜として剥離し、テンターにて積極的に延伸をせずに搬送し、乾燥ゾーンで１３０℃にて乾燥を行った。
得られたフィルムの厚さは４０μｍであった。また、得られた基材フィルムのＲｅおよびＲｔｈの値を方法で測定したところ、Ｒｅ＝１．０ｎｍであり、Ｒｔｈ＝５．０ｎｍであった。このフィルムを基材フィルムとした。

上記基材フィルムに上記組成物Ｂ−１を使用し、特開２００６−１２２８８９号公報実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥させた。その後、さらに窒素パージ下酸素濃度約０．１％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量６０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。塗布層の膜厚は１２μｍになるよう塗布量を調整した。得られた光学フィルムを保護膜Ａとした。

＜偏光板の作製＞
作製した保護膜Ａにコロナ処理を施したのち、偏光子１の片方の面にアクリル接着剤を用いて、保護膜Ａを貼合して片面保護膜付き偏光板０４（以後、偏光板０４とも称する）を作製した。

＜第１の光学異方性層の形成、第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
上記で作製した偏光板０４を偏光板０１の代わりに用いた以外は実施例１と同様にして第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用い、偏光板０４をバックライト側偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表６に示す。

［実施例４１］
＜第１の光学異方性層の形成、第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
上記で作製した偏光板０４を偏光板０１の代わりに用いた以外は実施例６と同様にして第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用い、偏光板０４をバックライト側偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表６に示す。

［実施例４２］
＜第１の光学異方性層の形成、第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
上記で作製した偏光板０４を偏光板０１の代わりに用いた以外は実施例１１と同様にして第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用い、偏光板０４をバックライト側偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表６に示す。

［実施例４３］
＜保護膜の作製＞
＜延伸ＰＥＴ１００μｍ＞
（原料ポリエステル１）
以下に示すように、テレフタル酸およびエチレングリコールを直接反応させて水を留去し、エステル化した後、減圧下で重縮合を行なう直接エステル化法を用いて、連続重合装置により原料ポリエステル１（Ｓｂ触媒系ＰＥＴ）を得た。

（１）エステル化反応
第一エステル化反応槽に、高純度テレフタル酸４．７トンとエチレングリコール１．８トンを９０分かけて混合してスラリー形成させ、３８００ｋｇ／ｈの流量で連続的に第一エステル化反応槽に供給した。さらに三酸化アンチモンのエチレングリコール溶液を連続的に供給し、反応槽内温度２５０℃、攪拌下、平均滞留時間約４．３時間で反応を行なった。このとき、三酸化アンチモンはＳｂ添加量が元素換算値で１５０ｐｐｍとなるように連続的に添加した。

この反応物を第二エステル化反応槽に移送し、攪拌下、反応槽内温度２５０℃で、平均滞留時間で１．２時間反応させた。第二エステル化反応槽には、酢酸マグネシウムのエチレングリコール溶液と、リン酸トリメチルのエチレングリコール溶液を、Ｍｇ添加量およびＰ添加量が元素換算値でそれぞれ６５ｐｐｍ、３５ｐｐｍになるように連続的に供給した。

（２）重縮合反応
上記で得られたエステル化反応生成物を連続的に第一重縮合反応槽に供給し、攪拌下、反応温度２７０℃、反応槽内圧力２０ｔｏｒｒ（２．６７×１０^-3ＭＰａ）で、平均滞留時間約１．８時間で重縮合させた。

さらに、第二重縮合反応槽に移送し、この反応槽において攪拌下、反応槽内温度２７６℃、反応槽内圧力５ｔｏｒｒ（６．６７×１０^-4ＭＰａ）で滞留時間約１．２時間の条件で反応（重縮合）させた。

次いで、さらに第三重縮合反応槽に移送し、この反応槽では、反応槽内温度２７８℃、反応槽内圧力１．５ｔｏｒｒ（２．０×１０^-4ＭＰａ）で、滞留時間１．５時間の条件で反応（重縮合）させ、反応物（ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ））を得た。

次に、得られた反応物を、冷水にストランド状に吐出し、直ちにカッティングしてポリエステルのペレット＜断面：長径約４ｍｍ、短径約２ｍｍ、長さ：約３ｍｍ＞を作製した。
得られたポリマーは、固有粘度ＩＶ＝０．６３であった。このポリマーを原料ポリエステル１とした。
固有粘度ＩＶは、原料ポリエステルフィルム１を、１，１，２，２−テトラクロルエタン／フェノール（＝２／３[質量比]）混合溶媒に溶解し、混合溶媒中の２５℃での溶液粘度から求めた。

（原料ポリエステル２）
乾燥させた紫外線吸収剤（２，２’−（１，４−フェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンズオキサジノン−４−オン）１０質量部、原料ポリエステル１（ＩＶ＝０．６３）９０質量部を混合し、混練押出機を用い、紫外線吸収剤を含有する原料ポリエステル２を得た。

（製造例）
＜３層共押ＰＥＴ８０μｍ＞
−フィルム成形工程−
原料ポリエステル１（９０質量部）と、紫外線吸収剤を含有した原料ポリエステル２（１０質量部）を、含水率２０ｐｐｍ以下に乾燥させた後、直径５０ｍｍの１軸混練押出機１のホッパー１に投入し、押出機１で３００℃に溶融した（中間層ＩＩ層）。また原料ポリエステル１を、含水率２０ｐｐｍ以下に乾燥させた後、直径３０ｍｍの１軸混練押出機２のホッパー２に投入し、押出機２で３００℃に溶融した（外層Ｉ層、外層ＩＩＩ層）。
これらの２種のポリマー溶融物をそれぞれギアポンプ、濾過器（孔径２０μｍ）に介した後、２種３層合流ブロックにて、押出機１から押出されたポリマーが中間層（ＩＩ層）に、押出機２から押出されたポリマーが外層（Ｉ層およびＩＩＩ層）になるように積層し、ダイよりシート状に押し出した。
溶融樹脂の押出条件は、圧力変動を１％、溶融樹脂の温度分布を２％として、溶融樹脂をダイから押出した。具体的には、背圧を、押出機のバレル内平均圧力に対して１％加圧し、押出機の配管温度を、押出機のバレル内平均温度に対して２％高い温度で加熱した。
ダイから押出した溶融樹脂は、温度２５℃に設定された冷却キャストドラム上に押出し、静電印加法を用い冷却キャストドラムに密着させた。冷却キャストドラムに対向配置された剥ぎ取りロールを用いて剥離し、未延伸ポリエステルフィルム２を得た。このとき、Ｉ層、ＩＩ層、ＩＩＩ層の厚さの比は１０：８０：１０となるように各押出機の吐出量を調整した。

得られた未延伸ポリエステルフィルム２を、下記条件で横延伸し、厚さ８０μｍ、面内方向のレターデーションＲｅが８２００ｎｍ、膜厚方向のレターデーションＲｔｈが９４００ｎｍのＰＥＴフィルム（以降、延伸ＰＥＴ８０μｍ ３層共流延と略す）を製造した。
｛条件｝
・横延伸温度：９０℃
・横延伸倍率：４．３倍

（熱固定部）
次いで、ポリエステルフィルムの膜面温度を下記範囲に制御しながら、熱固定処理を行った。
｛条件｝
・熱固定温度：１８０℃
・熱固定時間：１５秒

（熱緩和部）
熱固定後のポリエステルフィルムを下記の温度に加熱し、フィルムを緩和した。
｛条件｝
・熱緩和温度：１７０℃
・熱緩和率：ＴＤ方向（フィルム幅方向、横方向）２％

（冷却部）
次に、熱緩和後のポリエステルフィルムを５０℃の冷却温度にて冷却した。

＜ＨＣ層付き 延伸ＰＥＴ８０μｍ＞
−易接着層の形成−
（１）ハードコート層側易接着層の形成
下記化合物を下記の比率で混合し、ハードコート層側易接着層用の塗布液Ｈ１を作製した。上記で得られた延伸ＰＥＴ８０μｍ ３層共流延の上に、ハードコート層側易接着層用の塗布液Ｈ１を膜厚０．０９μｍで塗布した。

・ハードコート層側易接着層用の塗布液Ｈ１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ポリエステル樹脂：（ＩＣ） ６０質量部
アクリル樹脂：（ＩＩ） ２５質量部
メラミン化合物：（ＶＩＢ） １０質量部
粒子：（ＶＩＩ） ５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
以下に使用化合物の詳細を示す。
・ポリエステル樹脂：（ＩＣ）
下記組成のモノマーで共重合したポリエステル樹脂のスルホン酸系水分散体
モノマー組成：（酸成分）テレフタル酸／イソフタル酸／５−ソジウムスルホイソフタル酸／／（ジオール成分）エチレングリコール／１，４−ブタンジオール／ジエチレングリコール＝５６／４０／４／／７０／２０／１０（ｍｏｌ％）

・アクリル樹脂：（ＩＩ）
下記組成のモノマーで重合したアクリル樹脂の水分散体 エチルアクリレート／ｎ−ブチルアクリレート／メチルメタクリレート／Ｎ−メチロールアクリルアミド／アクリル酸＝６５／２１／１０／２／２（質量％）の乳化重合体（乳化剤：アニオン系界面活性剤）
・ウレタン樹脂：（ＩＩＩＢ）
１，６−ヘキサンジオールとジエチルカーボネートからなる数平均分子量が２０００のポリカーボネートポリオールを４００質量部、ネオペンチルグリコールを１０．４質量部、イソホロンジイソシアネートを５８．４質量部、ジメチロールブタン酸を７４．３質量部からなるプレポリマーをトリエチルアミンで中和し、イソホロンジアミンで鎖延長して得られるウレタン樹脂の水分散体。
・メラミン化合物：（ＶＩＢ）ヘキサメトキシメチルメラミン
・粒子：（ＶＩＩ）平均粒径６５ｎｍのシリカゾル

（ハードコート層の塗布による形成）
その後、上記で得られた延伸ＰＥＴ８０μｍ ３層共流延のハードコート層側易接着層用の塗布液Ｈ１を塗布した面に、下記組成の混合塗液（アクリル−１）を乾燥膜厚が５μｍになるように塗布・乾燥し、紫外線を照射して硬化させハードコート層を形成した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ８５質量部
２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート １５質量部
光重合開始剤（商品名：イルガキュア１８４、チバスペシャルティケミカル製）
５質量部
メチルエチルケトン ２００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

このようにして得られたハードコート層付きのＰＥＴフィルムを、ＨＣ層付き 延伸ＰＥＴ８０μｍとした。
（偏光子と保護フィルムとの接着）
上記の製造例で作製した保護フィルム（ハードコート層付きのＰＥＴフィルム）を用い、以下の方法にしたがって偏光子と接着層を介して貼合した。

（偏光子側易接着層の形成）
下記化合物を下記の比率で混合し、偏光子側易接着層用の塗布液Ｐ１を作製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
（１）共重合ポリエステル樹脂（Ａ−１）の合成
ジメチルテレフタレート １９４．２質量部
ジメチルイソフタレート １８４．５質量部
ジメチル−５−ナトリウムスルホイソフタレート １４．８質量部
ジエチレングリコール ２３３．５質量部
エチレングリコール １３６．６質量部
テトラ−ｎ−ブチルチタネート ０．２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
上記化合物を仕込み、１６０℃から２２０℃の温度で４時間かけてエステル交換反応を行なった。次いで２５５℃まで昇温し、反応系を徐々に減圧した後、３０Ｐａの減圧下で１時間３０分反応させ、共重合ポリエステル樹脂（Ａ−１）を得た。

（２）ポリエステル水分散体（Ａｗ−１）の作製
―――――――――――――――――――――――――――――――――
共重合ポリエステル樹脂（Ａ−１） ３０質量部
エチレングリコールｎ−ブチルエーテル １５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
上記化合物を入れ、１１０℃で加熱、攪拌し樹脂を溶解した。樹脂が完全に溶解した後、水５５質量部をポリエステル溶液に攪拌しつつ徐々に添加した。添加後、液を攪拌しつつ室温まで冷却して、固形分３０質量％の乳白色のポリエステル水分散体（Ａｗ−１）を作製した。

（３）ポリビニルアルコール水溶液（Ｂｗ−１）の作製
水９０質量部を入れ、攪拌しながらケン化度が８８％で重合度５００のポリビニルアルコール樹脂（クラレ製）（Ｂ−１）１０質量部を徐々に添加した。添加後、液を攪拌しながら、９５℃まで加熱し、樹脂を溶解させた。溶解後、攪拌しながら室温まで冷却して、固形分１０質量％のポリビニルアルコール水溶液（Ｂｗ−１）を作製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
ヘキサメチレンジイソシアネートを原料としたイソシアヌレート構造を有するポリイソシアネート化合物（旭化成ケミカルズ製、デュラネートＴＰＡ）
１００質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ５５質量部
ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（平均分子量７５０）３０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
上記化合物を仕込み、窒素雰囲気下、７０℃で４時間保持した。その後、反応液温度を５０℃に下げ、メチルエチルケトオキシム４７質量部を滴下した。反応液の赤外スペクトルを測定し、イソシアネート基の吸収が消失したことを確認し、固形分７５質量％のブロックポリイソシアネート水分散液（Ｃ−１）を得た。

下記の塗剤を混合し、ポリエステル系樹脂（Ａ）／ポリビニルアルコール系樹脂（Ｂ）の質量比が７０／３０になる偏光子側易接着層用の塗布液Ｐ１を作製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
水 ４０．６１質量％
イソプロパノール ３０．００質量％
ポリエステル水分散体（Ａｗ−１） １１．６７質量％
ポリビニルアルコール水溶液（Ｂｗ−１） １５．００質量％
ブロックイソシアネート系架橋剤（Ｃ−１） ０．６７質量％
粒子（平均粒径１００ｎｍのシリカゾル、固形分濃度４０質量％）
１．２５質量％
触媒（有機スズ系化合物 固形分濃度１４質量％） ０．３質量％
界面活性剤（シリコン系、固形分濃度１０質量％） ０．５質量％
―――――――――――――――――――――――――――――――――

（ポリエステルフィルムへの易接着層の塗布）
リバースロール法にて、上記ポリエステルフィルムの片側に偏光子側易接着層用の塗布液Ｐ１を乾燥後の塗布量が０．１２ｇ／ｍ²になるように調整しながら、塗布した。

ポリエステルフィルム試料の偏光子側易接着層用の塗布液Ｐ１が塗布された面を偏光子側とし、偏光子１をロールツーロールで積層し、得られた積層体に対して接着剤を硬化させるためにロール上を搬送しながら、７０℃、相対湿度６０％で加熱し、貼合した。このようにして、片面保護膜付き偏光板０５（以下、偏光板０５とも称する）を作製した。

＜第１の光学異方性層の形成、第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
上記で作製した偏光板０５を偏光板０１の代わりに用いた以外は実施例１と同様にして第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用い、偏光板０５をバックライト側偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表６に示す。

［実施例４４］
＜第１の光学異方性層の形成、第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
上記で作製した偏光板０５を偏光板０１の代わりに用いた以外は実施例６と同様にして第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用い、偏光板０５をバックライト側偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表６に示す。

［実施例４５］
＜第１の光学異方性層の形成、第２の光学異方性層の形成、偏光板の作製＞
上記で作製した偏光板０５を偏光板０１の代わりに用いた以外は実施例１１と同様にして第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を形成し、偏光板を作製した。

＜液晶表示装置の作製＞
上記で作製した第１の光学異方性層および第２の光学異方性層を有する偏光板を視認側偏光板として用い、偏光板０５をバックライト側偏光板として用いた以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、評価した。評価結果を表６に示す。

なお、表６中、「Ｒｅ／Ｒｔｈ」は、それぞれＲｅ（５５０）およびＲｔｈ（５５０）の値を示す。
また、表６中、「波長分散」は、各光学異方性層のＲｅ（５５０）が１０ｎｍ超である場合にはＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）を示し、各光学異方性層のＲｅ（５５０）が１０ｎｍ以下である場合には（Ｒ［４０°，４５０］）／（Ｒ［４０°，５５０］）を示す。
また、実施例３７、４０、および４３では、第１の偏光子保護層の表面の法線方向から観察したとき、第１の光学異方性層の遅相軸と第１の偏光子の吸収軸とのなす角が９０°であった。
実施例３８、４１、および４４では、第１の偏光子保護層の表面の法線方向から観察したとき、第２の光学異方性層の遅相軸と第１の偏光子の吸収軸とのなす角が９０°であった。
実施例３９、４２、および４５では、第１の偏光子保護層の表面の法線方向から観察したとき、第１の光学異方性層の遅相軸と第１の偏光子の吸収軸とのなす角が９０°であると共に、第２の光学異方性層の遅相軸と第１の偏光子の吸収軸とのなす角が９０であった。

表６に、第１の光学異方性層、および、第２の光学異方性層の厚みを示す。
なお、表６中の視認側偏光板厚みは、第１の偏光子保護層、第１の偏光子、第１の光学異方性層、および、第２の光学異方性層の厚みの合計値を意図する。
表６中のバックライト側偏光板厚みは、第２の偏光子保護層、および、第２の偏光子の厚みの合計値を意図する。
なお、各実施例で得られた偏光板の厚みは１００μｍ以下であった。

表６に示すように、第１の偏光子保護層および第２の偏光子保護層の透湿度が１００ｇ／ｍ²・日以下である場合、耐久性評価がより優れることが確認された。

１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，５０ 偏光板
１２ 第１の偏光子保護層
１４ 第１の偏光子
１６ａ，１６ｂ，１６ｃ 第１の光学異方性層
１８ａ，１８ｂ，１８ｃ 第２の光学異方性層
２０ 配向膜
２２ 粘着層
３０ 液晶表示装置
３２ 第１の偏光板
３４ 液晶セル
３６ 第２の偏光板
４０ 第２の偏光子保護層
４２ 第２の偏光子
４４ 第３の光学異方性層

Claims (21)

1. 第１の偏光子保護層と、第１の偏光子と、液晶性化合物Ｘを含む第１の光学異方性層と、液晶性化合物Ｙを含む第２の光学異方性層とをこの順で有し、
   前記第１の光学異方性層の厚みが１０μｍ以下であり、
   前記第１の光学異方性層が下記式（１−１）および式（１−２）を満たし、
   式（１−１） ９５ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１５５ｎｍ
   式（１−２） ４５ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦８０ｎｍ
   前記第２の光学異方性層の厚みが１０μｍ以下であり、
   前記第２の光学異方性層が下記式（１−３）および式（１−４）を満たし、
   式（１−３） Ｒｅ（５５０）≦１０ｎｍ
   式（１−４） −１３５ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦−７５ｎｍ
   厚みが１００μｍ以下である、偏光板。
   なお、Ｒｅ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｔｈ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションを表す。
2. 前記液晶性化合物Ｘおよび前記液晶性化合物Ｙの少なくとも一方が棒状液晶性化合物であり、前記第１の偏光子保護層の表面の法線方向から観察したとき、前記第１の光学異方性層の遅相軸と前記第１の偏光子の吸収軸とのなす角が９０°である、請求項１に記載の偏光板。
3. 第１の偏光子保護層と、第１の偏光子と、液晶性化合物Ｘを含む第１の光学異方性層と、液晶性化合物Ｙを含む第２の光学異方性層とをこの順で有し、
   前記第１の光学異方性層の厚みが１０μｍ以下であり、
   前記第１の光学異方性層が下記式（２−１）および式（２−２）を満たし、
   式（２−１） Ｒｅ（５５０）≦１０ｎｍ
   式（２−２） ４０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１１５ｎｍ
   前記第２の光学異方性層の厚みが１０μｍ以下であり、
   前記第２の光学異方性層が下記式（２−３）および式（２−４）を満たし、
   式（２−３） １２５ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１８５ｎｍ
   式（２−４） −９５ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦−６０ｎｍ
   厚みが１００μｍ以下である、偏光板。
   なお、Ｒｅ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｔｈ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションを表す。
4. 前記液晶性化合物Ｘおよび前記液晶性化合物Ｙの少なくとも一方がディスコティック液晶性化合物であり、前記第１の偏光子保護層の表面の法線方向から観察したとき、前記第２の光学異方性層の遅相軸と前記第１の偏光子の吸収軸とのなす角が９０°である、請求項３に記載の偏光板。
5. 第１の偏光子保護層と、第１の偏光子と、液晶性化合物Ｘを含む第１の光学異方性層と、液晶性化合物Ｙを含む第２の光学異方性層とをこの順で有し、
   前記第１の光学異方性層の厚みが１０μｍ以下であり、
   前記第１の光学異方性層が下記式（３−１）および式（３−２）を満たし、
   式（３−１） ４０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１１０ｎｍ
   式（３−２） ２０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦５５ｎｍ
   前記第２の光学異方性層の厚みが１０μｍ以下であり、
   前記第２の光学異方性層が下記式（３−３）および式（３−４）を満たし、
   式（３−３） ９０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１５５ｎｍ
   式（３−４） −８０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦−４５ｎｍ
   厚みが１００μｍ以下である、偏光板。
   なお、Ｒｅ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｔｈ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションを表す。
6. 前記液晶性化合物Ｘが棒状液晶性化合物であり、前記液晶性化合物Ｙがディスコティック液晶性化合物であり、前記第１の偏光子保護層の表面の法線方向から観察したとき、前記第１の光学異方性層の遅相軸と前記第１の偏光子の吸収軸とのなす角が９０°であると共に、前記第２の光学異方性層の遅相軸と前記第１の偏光子の吸収軸とのなす角が９０°である、請求項５に記載の偏光板。
7. 前記第１の光学異方性層および前記第２の光学異方性層の少なくとも一方が以下の要件（Ａ）または要件（Ｂ）を満たす、請求項１〜６のいずれか１項に記載の偏光板。
   要件（Ａ）：Ｒｅ（５５０）＞１０ｎｍであり、０．８３≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．１６を満たす。
   要件（Ｂ）：Ｒｅ（５５０）≦１０ｎｍであり、０．８３≦（Ｒ［４０°，４５０］）／（Ｒ［４０°，５５０］）＜１．１６を満たす。
   なお、Ｒｅ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｔｈ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションを表す。
   Ｒ［４０°，４５０］は光学異方性層の表面の法線方向から４０°傾いた方向から測定した波長４５０ｎｍにおけるレターデーションを表し、Ｒ［４０°，５５０］は光学異方性層の表面の法線方向から４０°傾いた方向から測定した波長５５０ｎｍにおけるレターデーションを表す。
8. 前記第１の偏光子と前記第１の光学異方性層とが直接接触している、請求項１〜７のいずれか１項に記載の偏光板。
9. 前記第１の偏光子と前記第１の光学異方性層との間に配向膜が配置される、請求項１〜７のいずれか１項に記載の偏光板。
10. 前記第１の偏光子と前記第１の光学異方性層との間に粘着層が配置される、請求項１〜７のいずれか１項に記載の偏光板。
11. 偏光子を含む第１の偏光板と、液晶性化合物を含む液晶層を備えるＩＰＳモードまたはＦＦＳモードの液晶セルと、偏光子を含む第２の偏光板とをこの順で有し、
    前記第１の偏光板中の偏光子の吸収軸と、前記第２の偏光板中の偏光子の吸収軸とが直交し、
    前記第１の偏光板および前記第２の偏光板のうち一方が請求項１〜１０のいずれか１項に記載の偏光板であり、前記第２の光学異方性層が前記液晶セル側となるように配置される、液晶表示装置。
12. 前記第１の偏光板が視認側に配置され、
    前記第１の偏光板が請求項１〜１０のいずれか１項で表される偏光板であり、
    前記第２の偏光板が、第２の偏光子保護層と、第２の偏光子と、液晶性化合物Ｚを含む第３の光学異方性層とを有し、
    前記第３の光学異方性層が前記液晶セル側となるように配置され、
    前記第３の光学異方性層の遅相軸と電圧が印加されていない状態での前記液晶層の遅相軸とが平行であり、
    前記液晶層中の前記液晶性化合物の前記液晶層表面に対する平均傾斜方向と同じ方向に前記液晶性化合物Ｚが平均傾斜角を有する、請求項１１に記載の液晶表示装置。
13. 前記第３の光学異方性層の厚みが１０μｍ以下であり、
    前記第３の光学異方性層が下記式（４−１）を満たし、
    式（４−１） １０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１２０ｎｍ
    前記液晶性化合物Ｚの平均傾斜角度が１〜２０°である、請求項１２に記載の液晶表示装置。
14. 前記液晶性化合物Ｚが棒状液晶性化合物である、請求項１２または１３に記載の液晶表示装置。
15. 前記液晶性化合物Ｚがスメクティック相を形成する、請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
16. 前記第３の光学異方性層が下記式（Ｉ）を満たす、請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
    式（Ｉ） ０．８３≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．１
    Ｒｅ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｅ（４５０）は、波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。
17. 前記第２の偏光子と前記第３の光学異方性層とが直接接触している、請求項１２〜１６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
18. 前記第２の偏光子と前記第３の光学異方性層との間に配向膜が配置される、請求項１２〜１６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
19. 前記第２の偏光子と前記第３の光学異方性層との間に粘着層が配置される、請求項１２〜１６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
20. 前記第１の偏光子保護層の４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が１００ｇ／ｍ²・日以下である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の偏光板。なお、透湿度は、ＪＩＳ Ｚ−０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。
21. 前記第１の偏光子保護層および前記第２の偏光子保護層の少なくとも一方の４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が１００ｇ／ｍ²・日以下である、請求項１２〜１９のいずれか１項に記載の液晶表示装置。なお、透湿度は、ＪＩＳ Ｚ−０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。