JPWO2015063973A1 - 半導体レーザ光源 - Google Patents

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Abstract

従来の半導体レーザ光源は、生産工程において、発光体の導波路の間隔を変えたり、レーザアレイのチップに印加する応力を制御するため、生産性が低下するという問題がある。複数本の半導体レーザのストライプが前記ストライプの幅方向に等間隔で配列された半導体レーザアレイ2が搭載されるヒートシンク3aの形状が、複数本の半導体レーザのうちストライプの幅方向における中央側の領域とそれ以外の領域とで放熱効率が異なるように構成する。具体的には、ヒートシンクの第2の面のうちの第2の領域の面積が複数本の半導体レーザのうちでストライプの幅方向において中央側の半導体レーザ以外の放熱部が接する第2の面のうちの第4の領域の面積よりも半導体レーザ1本当たりの面積に換算すると小さい構成となっている。

Description

この発明は、半導体レーザ光源に関するものである。
照明装置や表示装置の光源として、寿命の短いランプに代わり半導体レーザや、発光ダイオード等の半導体発光素子が使われるようになってきている。特に大出力の光源では、発光面積が小さく、容易に出力が合成可能で、またその単色性から再現色域が大きく取れるレーザ光源が有望視されている。しかしレーザを光源としたとき、スペックルノイズと呼ばれるぎらぎらとした斑点模様のように見えるレーザ特有の現象が現れる。
そこで、従来の半導体レーザ光源は、半導体レーザアレイを構成する複数の導波路のうち中央に配列された導波路同士の間隔が複数の導波路のうち端部に配列された導波路同士の間隔よりも狭くするようにしていた(例えば、特許文献1参照)。また、別の従来の半導体レーザ光源では、半導体レーザアレイにおいて、レーザ光の出射端面部の並び方向で異なる応力分布となるように構成することで、半導体レーザ光源から発振される波長に幅を持たせてスペックルノイズを低減させていた(例えば、特許文献2参照)。
特開2008−4743号公報 特開2009−111230号公報
しかしながら、従来の半導体レーザ光源は、生産工程において、導波路の間隔を変えたり、レーザアレイのチップに印加される応力を制御するため、生産性が低下するという問題がある。
この発明の目的は、上記のような課題を解決するためになされたもので、生産性の低下を抑制しつつ、スペックルノイズを低減できる半導体レーザ光源を得るものである。
この発明に係る半導体レーザ光源は、複数本の半導体レーザを有し、複数本の半導体レーザのストライプがストライプの幅方向に等間隔で配列された半導体レーザアレイと、半導体レーザアレイが搭載される第1の面と第1の面と対向し冷却部が接する第2の面とを有し、複数本の半導体レーザのうちでストライプの幅方向において中央側の半導体レーザの放熱部が接する第1の面のうちの第1の領域に対向する第2の面のうちの第2の領域の面積が複数本の半導体レーザのうちでストライプの幅方向において中央側の半導体レーザ以外の放熱部が接する第1の面のうちの第3の領域に対向する第2の面のうちの第4の領域の面積よりも半導体レーザ1本当たりの面積に換算すると小さいヒートシンクとを備えたことを特徴とする。
また、この発明に係る別の半導体レーザ光源は、複数本の半導体レーザを有し、複数本の半導体レーザのストライプがストライプの幅方向に等間隔で配列された半導体レーザアレイと、半導体レーザアレイが搭載される第3の面と第3の面と対向し冷却部が接する第4の面とを有し、複数本の半導体レーザのうちでストライプの幅方向において中央側の半導体レーザの放熱部が接する第5の領域に対応する第1の部分の材質よりも中央側の半導体レーザ以外の放熱部が接する第6の領域に対応する第2の部分の材質の方が熱伝導率が高いヒートシンクとを備えたことを特徴とする。
この発明によれば、生産性の低下を抑制しつつ、スペックルノイズを軽減できる半導体レーザ光源を得ることができる。
本発明の実施の形態1に係る半導体レーザ光源の構成を示す図である。 本発明の実施の形態1に係る半導体レーザ光源の構成の変形例を示す図である。 本発明の実施の形態2に係る半導体レーザ光源の構成を示す図である。 本発明の実施の形態2に係る半導体レーザ光源の構成の第1の変形例を示す図である。 本発明の実施の形態2に係る半導体レーザ光源の構成の第2の変形例を示す図である。
実施の形態1.
図1は、本発明の実施の形態1に係る半導体レーザ光源100の構造図である。半導体レーザアレイ2は、複数本の半導体レーザを有すると共に、複数本の半導体レーザのストライプ(図示せず)がストライプの幅方向に等間隔で配列され、半導体レーザアレイ2の端面には各半導体レーザに対応してレーザ光の出射端面部1を有している。ヒートシンク3aは、半導体レーザアレイ2が搭載される第1の面と、第1の面と対向した第2の面とを有している。半導体レーザアレイ2は、各半導体レーザの放熱部がヒートシンク3aの第1の面に接することで、各半導体レーザで発生する熱が放熱されるようにしている。ヒートシンク3aを冷却する冷却部4は、ヒートシンク3aの第2の面と接合される。なお、半導体レーザアレイ2に電流を供給すると発光するストライプ及びストライプに電流を供給するためのストライプ状電極は図示していないが、図1において左右方向がストライプの長さ方向で図1において前後方向がストライプの幅方向となっている。
半導体レーザアレイ2を構成する各半導体レーザは、電流を供給すると出射端面部1からレーザ光が出射すると同時に、各半導体レーザの温度が上昇する。半導体レーザアレイ2を構成する各半導体レーザの温度が上がりすぎると発光効率が落ちて半導体レーザ光源100の出力が下がってしまうため、ヒートシンク3aにより放熱する。ヒートシンク3aは、熱伝導性の良い例えば銅等の材料で作られている。冷却部4は、ペルチェ素子及びチラー等を用いて構成される。
図1に示すように、以下では、半導体レーザアレイ2を構成する複数の半導体レーザのうち、図1に示すストライプの幅方向において中央側の半導体レーザを半導体レーザ群2a1と呼び、半導体レーザ群2a1以外の両端側の半導体レーザを半導体レーザ群2a2と呼ぶものとする。また、ヒートシンク3aの中央側を第1の部分3a1と呼び、両端側を第2の部分3a2と呼ぶものとする。本実施の形態のヒートシンク3aは、半導体レーザ群2a1の放熱部が中央側の第1の部分3a1と面で接し、半導体レーザ群2a2の放熱部が両端側の第2の部分3a2と面で接している。さらに、ヒートシンク3aの第1の部分3a1及び第2の部分3a2は、冷却部4と面で接している。ここで、ヒートシンク3aにおいて、第1の部分3a1の表面で第1の面に含まれる領域を第1の領域と呼び、第2の部分3a2の表面で第1の面に含まれる領域を第3の領域と呼ぶものとする。さらに、第1の部分3a1の表面で第2の面に含まれる領域を第2の領域と呼び、第2の部分3a2の表面で第2の面に含まれる領域を第4の領域と呼ぶものとする。半導体レーザ群2a1で発生した熱は、ヒートシンク3aの第1の部分3a1の第1の領域が面で接触することで放熱され、第1の部分3a1の第2の領域と冷却部4とが面で接触することで冷却される。半導体レーザ群2a2で発生した熱は、シンク3aの第2の部分3a2の第3の領域が面で接触することで放熱され、第2の部分3a2の第4の領域と冷却部4とが面で接触することで冷却される。ここで、図1から明らかなように、ヒートシンク3aにおいて、第2の領域の面積が、第4の領域の面積よりも、半導体レーザ1本当たりの面積に換算すると小さくなっている。ここで、換算とは、面積を対応する半導体レーザの本数で割ることを意味する。
言い換えると、ヒートシンク3aは、半導体レーザ群2a1の放熱部が接する第1の領域に対向する第2の領域の面積が半導体レーザ群2a2の放熱部が接する第3の領域に対向する第4の領域の面積よりも半導体レーザ1本当たりの面積に換算すると小さくなるように構成されている。
ところで、半導体レーザアレイ2で発生した熱は、放熱部から半導体レーザアレイ2とヒートシンク3aとの接合面に対して垂直方向に伝導するが、ヒートシンク3a中で水平方向へも伝導する。ヒートシンク3aの形状が熱の広がり方向に対して十分大きいと、冷却部4を通して効率よく放熱される。一方、複数本の半導体レーザのうちストライプの幅方向における中央側は、冷却部4との接触面積が端部側よりも小さいので、ヒートシンク3aに熱が広がって伝導していく過程において、熱の一部は冷却部4まで到達する前にヒートシンク3aが冷却部4に接触していない面から、冷却部4を介さずに空気中に放熱されることになる。空気の熱伝導率は、ヒートシンク3a及び冷却部4の熱伝導率と比較して非常に小さいため、放熱効果は限られたものになってしまう。すなわち、複数本の半導体レーザのうちストライプの幅方向で放熱効率が不均一になる。その結果、半導体レーザ光源100の波長幅が広がり、スペックルノイズが軽減できる。
なお、一般に半導体レーザは温度が高くなると発光効率が低下し、それに伴い発光強度が低くなる。したがって、放熱効率の高い半導体レーザ群2a2の各半導体レーザの1本当たりの発光強度に比べて、放熱効率が幾分低くなった半導体レーザ群2a1の各半導体レーザの1本当たりの発光強度が低下する傾向がある。そこで、半導体レーザ群2a1を構成する半導体レーザの本数を半導体レーザ群2a2を構成する半導体レーザの本数よりも多くすることが望ましい。このようにすることで、半導体レーザ光源100の波長幅の広がり形状の偏りが低減され、一層のスペックルノイズの軽減が得られる。
以上のように、本実施の形態によると、生産性の低下を抑制しつつ、スペックルノイズを軽減できる半導体レーザ光源を得ることができる。
なお、図1に示したヒートシンク3aの形状は一つの例であって、複数本の半導体レーザのうちストライプの幅方向で部分的に熱伝導率が異なる構造ならば図1に示した形状に限らない。例えば、図2に、本発明の実施の形態1に係る半導体レーザ光源100の構成の変形例である半導体レーザ光源200を示す。ここで、図2に示すストライプの幅方向において中央側の半導体レーザを半導体レーザ群2b1と呼び、半導体レーザ群2b1以外の両端側の半導体レーザを半導体レーザ群2b2と呼ぶものとする。さらに、ヒートシンク3bの中央側を第1の部分3b1(図1に示した実施の形態1の例と区別するためにこの図2に示した変形例では符号を図1と異ならせている。)と呼び、両端側を第2の部分3b2(図1に示した実施の形態1の例と区別するためにこの図2に示した変形例では符号を図1とは異ならせている。)と呼ぶものとする。図2に示すように、ヒートシンク3bの形状は、第2の部分3b2の表面で第2の面に含まれる第4の領域の半導体レーザ1本当たりの面積が、前記ストライプの幅方向において、中央側から両端側にかけて徐々に大きくなっていく形状にしても良い。
したがって、複数本の半導体レーザのうちストライプの幅方向で放熱効率が不均一になる。その結果、この変形例においても、半導体レーザ光源100の波長幅が広がり、スペックルノイズが軽減できる点は同様である。
実施の形態2.
図3は、本発明の実施の形態2に係る半導体レーザ光源300の構造図である。本実施の形態は、実施の形態1とはヒートシンク3cの構造が異なっており、それ以外は実施の形態1と同様である。ここで、ヒートシンク3cの中央側を第1の部分3c1(実施の形態1と区別するために符号を実施の形態2とは異ならせている。)と呼び、両端側を第2の部分3c2(実施の形態1と区別するために図3に示した実施の形態2の例では符号をそれ以外とは異ならせている。)と呼ぶものとする。
本実施の形態のヒートシンク3cは、半導体レーザアレイ2が搭載される第3の面と、第3の面と対向した第4の面とを有している。また、ヒートシンク3cは、半導体レーザ群2a1の放熱部が中央側の第1の部分3c1と面で接し、半導体レーザ群2a2の放熱部が両端側の第2の部分3c2と面で接している。ここで、ヒートシンク3cにおいて、第1の部分3c1の表面で第3の面に含まれる領域を第5の領域と呼び、第2の部分3c2の表面で第3の面に含まれる領域を第6の領域と呼ぶものとする。
さらに、ヒートシンク3cの第1の部分3c1及び第2の部分3c2は、冷却部4と第4の面で接している。
半導体レーザ群2a1で発生した熱は、ヒートシンク3cの第1の部分3c1の第5の領域が面で接触することで放熱され、第1の部分3c1と冷却部4とが面で接触することで冷却される。半導体レーザ群2a2で発生した熱は、ヒートシンク3cの第2の部分3c2の第6の領域が面で接触することで放熱され、第2の部分3c2と冷却部4とが面で接触することで冷却される。ここで、ヒートシンク3cは、第1の部分3c1と第2の部分3c2とで異なる材質により構成されている。第1の部分3c1の材質は、第2の部分3c2の材質よりも熱伝導率が低い。
言い換えると、半導体レーザ群2a1の放熱部が接する第5の領域に対応する第1の部分の材質よりも半導体レーザ群2a2の放熱部が接する第6の領域に対応する第2の部分の材質の方が熱伝導率が高くなるように構成されている。
本実施の形態によると、ヒートシンク3cが複数本の半導体レーザのうちストライプの幅方向の中央側と端部側とで異なる材質で構成されているため、半導体レーザ光源300は、複数本の半導体レーザのうちストライプの幅方向で放熱効率が不均一になる。その結果、半導体レーザ光源300の波長幅が広がり、スペックルノイズが軽減できる。
また、本実施の形態によると、生産性の低下を抑制しつつ、スペックルノイズを軽減できる半導体レーザ光源を得ることができる。また、加工が容易であることから、半導体レーザアレイ2の製造ばらつきに対して、安定した性能を得るために容易に対応できる。
また、実施の形態1と同様に、半導体レーザ群2a1を構成する半導体レーザの本数を半導体レーザ群2a2を構成する半導体レーザの本数よりも多くすることが望ましい。このようにすることで、半導体レーザ光源300の波長幅の広がり形状の偏りが低減され、一層のスペックルノイズの軽減が得られる。
なお、図3に示したヒートシンク3cの形状は一つの例であって、複数本の半導体レーザのうちストライプの幅方向で放熱効率が不均一になる構造ならば図3に示した形状に限らない。例えば、図4に、本発明の実施の形態2に係る半導体レーザ光源300の構成の第1の変形例である半導体レーザ光源400を示す。ここで、ヒートシンク3dの中央側を第1の部分3d1(他の例と区別するために符号を他の例とは異ならせている。)と呼び、両端側を第2の部分3d2(他の例と区別するために符号を他の例とは異ならせている。)と呼ぶものとする。半導体レーザ光源400を、図4のAから矢印の方向に見た断面視、すなわちストライプの長さ方向に見た断面視において、ヒートシンク3dは、第1の部分3d1に対応する第2の部分3d2の割合が前記ストライプの幅方向において中央側から両端側にかけて徐々に大きくなる部分を含んでいる。
したがって、複数本の半導体レーザのうちストライプの幅方向で放熱効率が不均一になる。その結果、半導体レーザ光源400の波長幅が広がり、スペックルノイズが軽減できる。この変形例においても、半導体レーザ群2a1を構成する半導体レーザの本数を半導体レーザ群2a2を構成する半導体レーザの本数よりも多くすることで、一層のスペックルノイズの軽減が得られる点は同様である。
図5に、本発明の実施の形態2に係る半導体レーザ光源300の構成の第2の変形例である半導体レーザ光源500を示す。ここで、ヒートシンク3eの中央側を第1の部分3e1(他の例と区別するために符号を他の例とは異ならせている。)と呼び、両端側を第2の部分3e2(他の例と区別するために符号を他の例とは異ならせている。)と呼ぶものとする。本実施の形態のヒートシンク3eは、半導体レーザ群2a1の放熱部が中央側の第1の部分3e1と面で接し、半導体レーザ群2a2の放熱部が両端側の第2の部分3e2と面で接している。さらに、ヒートシンク3eの第1の部分3e1及び第2の部分3e2は、冷却部4と面で接している。
なお、本実施の形態の第2の変形例では、ヒートシンク3eの第1の部分3e1の部分が空洞になっている。すなわち、第1の部分3e1の材質が空気である。したがって、複数本の半導体レーザのうちストライプの幅方向で放熱効率が不均一になる。その結果、半導体レーザ光源500の波長幅が広がり、スペックルノイズが軽減できる。この変形例においても、半導体レーザ群2a1を構成する半導体レーザの本数を半導体レーザ群2a2を構成する半導体レーザの本数よりも多くすることで、一層のスペックルノイズの軽減が得られる点は同様である。
2 半導体レーザアレイ、2a1 半導体レーザアレイ群、
2b1 半導体レーザアレイ群、3a ヒートシンク、3a1 第1の部分、
3a2 第2の部分、3b ヒートシンク、3b1 第1の部分、3b2 第2の部分、
3c ヒートシンク、3c1 第1の部分、3c2 第2の部分、3d ヒートシンク、3d1 第1の部分、3d2 第2の部分、3e ヒートシンク、3e1 第1の部分、3e2 第2の部分、100 半導体レーザ光源、200 半導体レーザ光源、
300 半導体レーザ光源、400 半導体レーザ光源、500 半導体レーザ光源。

Claims (6)

  1. 複数本の半導体レーザを有し、前記複数本の半導体レーザのストライプが前記ストライプの幅方向に等間隔で配列された半導体レーザアレイと、
    前記半導体レーザアレイが搭載される第1の面と前記第1の面と対向し冷却部が接する第2の面とを有し、前記複数本の半導体レーザのうちで前記ストライプの幅方向において中央側の半導体レーザの放熱部が接する前記第1の面のうちの第1の領域に対向する前記第2の面のうちの第2の領域の面積が前記複数本の半導体レーザのうちで前記ストライプの幅方向において前記中央側の半導体レーザ以外の放熱部が接する前記第1の面のうちの第3の領域に対向する前記第2の面のうちの第4の領域の面積よりも前記半導体レーザ1本当たりの面積に換算すると小さいヒートシンクと、
    を備えた半導体レーザ光源。
  2. 複数本の半導体レーザを有し、前記複数本の半導体レーザのストライプが前記ストライプの幅方向に等間隔で配列された半導体レーザアレイと、
    前記半導体レーザアレイが搭載される第3の面と前記第3の面と対向し冷却部が接する第4の面とを有し、前記複数本の半導体レーザのうちで前記ストライプの幅方向において中央側の半導体レーザの放熱部が接する第5の領域に対応する第1の部分の材質よりも前記中央側の半導体レーザ以外の放熱部が接する第6の領域に対応する第2の部分の材質の方が熱伝導率が高いヒートシンクと、
    を備えた半導体レーザ光源。
  3. 前記ヒートシンクは、前記第1の部分の材質が空気であること
    を特徴とする請求項2に記載の半導体レーザ光源。
  4. 前記複数の半導体レーザのうちで、前記中央側の半導体レーザの本数は前記中央側以外の半導体レーザの本数よりも多いこと
    を特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の半導体レーザ光源。
  5. 前記ヒートシンクは、前記第4の領域の前記半導体レーザ1本当たりの面積が、前記ストライプの幅方向において中央側から両端側にかけて徐々に大きくなっていくこと
    を特徴とする請求項1に記載の半導体レーザ光源。
  6. 前記ヒートシンクは、前記ストライプの長さ方向に見た断面視で前記第1の部分に対応する前記第2の部分の割合が前記ストライプの幅方向において中央側から両端側にかけて徐々に大きくなる部分を含むこと
    を特徴とする請求項2に記載の半導体レーザ光源。
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