JPWO2015016362A1 - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2015016362A1 JPWO2015016362A1 JP2015529634A JP2015529634A JPWO2015016362A1 JP WO2015016362 A1 JPWO2015016362 A1 JP WO2015016362A1 JP 2015529634 A JP2015529634 A JP 2015529634A JP 2015529634 A JP2015529634 A JP 2015529634A JP WO2015016362 A1 JPWO2015016362 A1 JP WO2015016362A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- epoxy resin
- mass
- resin composition
- photosensitive resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 117
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 208
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 208
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 claims abstract description 62
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 60
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims abstract description 58
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 46
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 claims abstract description 44
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 40
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N pyrazoline Chemical compound C1CN=NC1 DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims abstract description 16
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims abstract description 12
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims abstract description 11
- KOMDZQSPRDYARS-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene titanium Chemical compound [Ti].C1C=CC=C1.C1C=CC=C1 KOMDZQSPRDYARS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- -1 aminobenzoic acid ester Chemical class 0.000 claims description 93
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 80
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 claims description 38
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 claims description 35
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 34
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 28
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 25
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 25
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 23
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 23
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 19
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 claims description 18
- 150000002762 monocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 16
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 239000000539 dimer Substances 0.000 claims description 13
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims description 13
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 claims description 13
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 12
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 10
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 claims description 10
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 claims description 10
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004953 trihalomethyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 2-mercapto-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 3
- 229960004050 aminobenzoic acid Drugs 0.000 claims description 3
- 150000005417 aminobenzoic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000005331 phenylglycines Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 claims description 3
- OURODNXVJUWPMZ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenylanthracene Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 OURODNXVJUWPMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LLOXZCFOAUCDAE-UHFFFAOYSA-N 2-diphenylphosphorylbenzene-1,4-diol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(P(=O)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 LLOXZCFOAUCDAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LMBQOLBVWODAFG-UHFFFAOYSA-N 4-bis(4-hydroxyphenyl)phosphorylphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1P(=O)(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 LMBQOLBVWODAFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QFUAZGOBONNJEI-UHFFFAOYSA-N 4-diphenylphosphorylphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 QFUAZGOBONNJEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZGFPUTOTEJOSAY-UHFFFAOYSA-N FC1=C([Ti])C(F)=CC=C1N1C=CC=C1 Chemical compound FC1=C([Ti])C(F)=CC=C1N1C=CC=C1 ZGFPUTOTEJOSAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004843 novolac epoxy resin Substances 0.000 claims 2
- QGZHYFIQDSBZCB-UHFFFAOYSA-N (2-ethylphenyl)-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphinic acid Chemical compound CCC1=CC=CC=C1P(O)(=O)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C QGZHYFIQDSBZCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- FYXPKOPFEGFWHG-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-hydroxyphenyl)-phenylphosphoryl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1P(=O)(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=CC=C1 FYXPKOPFEGFWHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XVCNEKFCGBNBNH-UHFFFAOYSA-N COC1=C(C(=O)P(CCCCC)(C(C2=C(C=C(C=C2C)C)C)=O)=O)C(=CC=C1)OC Chemical group COC1=C(C(=O)P(CCCCC)(C(C2=C(C=C(C=C2C)C)C)=O)=O)C(=CC=C1)OC XVCNEKFCGBNBNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ASIULSNQZGDVEF-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone;[phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C ASIULSNQZGDVEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 79
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 53
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 50
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 49
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 46
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 36
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 34
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 31
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 27
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 25
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 24
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 21
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 20
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 19
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 18
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 18
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 15
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 15
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 15
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 14
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 13
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 13
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 12
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 238000011161 development Methods 0.000 description 11
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 11
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 11
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 10
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 10
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 8
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 7
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;titanium(2+) Chemical compound [Ti+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 7
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 7
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004182 2-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Cl)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 6
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 6
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 6
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 6
- 239000000852 hydrogen donor Substances 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 6
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N thiophenol Chemical compound SC1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 5
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 5
- KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 5
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 5
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 5
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 5
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 5
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 5
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 5
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LBQJFQVDEJMUTF-UHFFFAOYSA-N 9,10-dipropoxyanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(OCCC)=C(C=CC=C3)C3=C(OCCC)C2=C1 LBQJFQVDEJMUTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WVMBPWMAQDVZCM-UHFFFAOYSA-N N-methylanthranilic acid Chemical compound CNC1=CC=CC=C1C(O)=O WVMBPWMAQDVZCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N [3-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]-2,2-bis[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxymethyl]propyl] 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCC(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 4
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 238000005102 attenuated total reflection Methods 0.000 description 4
- 238000010533 azeotropic distillation Methods 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 4
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N octadecyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 4
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 4
- PDEDQSAFHNADLV-UHFFFAOYSA-M potassium;disodium;dinitrate;nitrite Chemical compound [Na+].[Na+].[K+].[O-]N=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O PDEDQSAFHNADLV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 4
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 4
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 4
- NSWNXQGJAPQOID-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class ClC1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 NSWNXQGJAPQOID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000006276 2-bromophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Br)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GJNKQJAJXSUJBO-UHFFFAOYSA-N 9,10-diethoxyanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(OCC)=C(C=CC=C3)C3=C(OCC)C2=C1 GJNKQJAJXSUJBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 3
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 3
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 3
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 3
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 3
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 3
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 3
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 3
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 3
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 2
- DXBHBZVCASKNBY-UHFFFAOYSA-N 1,2-Benz(a)anthracene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C=CC2=C1 DXBHBZVCASKNBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WZRRRFSJFQTGGB-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazinane-2,4,6-trithione Chemical compound S=C1NC(=S)NC(=S)N1 WZRRRFSJFQTGGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(CC2OC2)C(=O)N(CC2OC2)C(=O)N1CC1CO1 OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMBXCGGQNSVESQ-UHFFFAOYSA-N 1-Hexanethiol Chemical compound CCCCCCS PMBXCGGQNSVESQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZNJSFHJUQDYHE-UHFFFAOYSA-N 1-methylanthracene Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(C)=CC=CC3=CC2=C1 KZNJSFHJUQDYHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XGIDEUICZZXBFQ-UHFFFAOYSA-N 1h-benzimidazol-2-ylmethanethiol Chemical compound C1=CC=C2NC(CS)=NC2=C1 XGIDEUICZZXBFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MDKSQNHUHMMKPP-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(4-methoxyphenyl)-4-phenyl-1h-imidazole Chemical class C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC(OC)=CC=2)N1 MDKSQNHUHMMKPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RXAYEPUDXSKVHS-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-4,5-bis(3-methoxyphenyl)-1h-imidazole Chemical class COC1=CC=CC(C2=C(NC(=N2)C=2C(=CC=CC=2)Cl)C=2C=C(OC)C=CC=2)=C1 RXAYEPUDXSKVHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XIOGJAPOAUEYJO-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyphenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class COC1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 XIOGJAPOAUEYJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCCILVSKPBXVIP-UHFFFAOYSA-N 2-(4-hydroxyphenyl)ethanol Chemical compound OCCC1=CC=C(O)C=C1 YCCILVSKPBXVIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VFBJXXJYHWLXRM-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]ethylsulfanyl]ethyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCCSCCOC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 VFBJXXJYHWLXRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMNLUUOXGOOLSP-UHFFFAOYSA-N 2-mercaptopropanoic acid Chemical compound CC(S)C(O)=O PMNLUUOXGOOLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYMFBYTZOGMSQJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylanthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC(C)=CC=C3C=C21 GYMFBYTZOGMSQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWDGNKGKLOBESZ-UHFFFAOYSA-N 2-oxooctanal Chemical compound CCCCCCC(=O)C=O MWDGNKGKLOBESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- YWFGCYQKXLSDKT-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-diethylphenyl)pentan-3-ylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCC1=CC=CC(C([NH3+])(CC)CC)=C1CC YWFGCYQKXLSDKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWLKGDAVCFYWJK-UHFFFAOYSA-N 3-aminophenol Chemical compound NC1=CC=CC(O)=C1 CWLKGDAVCFYWJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXVXVOLXMVYIT-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl 2-(dimethylamino)benzoate Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C1=CC=CC=C1N(C)C ARXVXVOLXMVYIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJAWGGOCYUPCPS-UHFFFAOYSA-N 4-(2-phenylpropan-2-yl)-n-[4-(2-phenylpropan-2-yl)phenyl]aniline Chemical compound C=1C=C(NC=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 UJAWGGOCYUPCPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CC(C)=CC2C(=O)OC(=O)C12 MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BFCSDUSGSAKFRM-UHFFFAOYSA-N 7a-ethyl-4,5,6,7-tetrahydro-3ah-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCCC2C(=O)OC(=O)C21CC BFCSDUSGSAKFRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIRLUHWQUCXKAC-UHFFFAOYSA-N 7a-ethyl-4,5-dihydro-3ah-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=CCCC2C(=O)OC(=O)C21CC RIRLUHWQUCXKAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXRULULEMFAFAS-UHFFFAOYSA-N 9,10-bis(2-ethylhexoxy)anthracene Chemical compound C1=CC=C2C(OCC(CC)CCCC)=C(C=CC=C3)C3=C(OCC(CC)CCCC)C2=C1 ZXRULULEMFAFAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KSMGAOMUPSQGTB-UHFFFAOYSA-N 9,10-dibutoxyanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(OCCCC)=C(C=CC=C3)C3=C(OCCCC)C2=C1 KSMGAOMUPSQGTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JTGMTYWYUZDRBK-UHFFFAOYSA-N 9,10-dimethylanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(C)=C(C=CC=C3)C3=C(C)C2=C1 JTGMTYWYUZDRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FCNCGHJSNVOIKE-UHFFFAOYSA-N 9,10-diphenylanthracene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=CC=CC=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 FCNCGHJSNVOIKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N Benzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC=C1 KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N N-phenylglycine Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=CC=C1 NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical class CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- YUENFNPLGJCNRB-UHFFFAOYSA-N anthracen-1-amine Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(N)=CC=CC3=CC2=C1 YUENFNPLGJCNRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- QDVNNDYBCWZVTI-UHFFFAOYSA-N bis[4-(ethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(NCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(NCC)C=C1 QDVNNDYBCWZVTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQAQPCDUOCURKW-UHFFFAOYSA-N butanethiol Chemical compound CCCCS WQAQPCDUOCURKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N ethanethiol Chemical compound CCS DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKRKXDRSJVDMGO-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-(diethylamino)benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1N(CC)CC WKRKXDRSJVDMGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORBFAMHUKZLWSD-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-(dimethylamino)benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1N(C)C ORBFAMHUKZLWSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDGQSTZJBFJUBT-UHFFFAOYSA-N hypoxanthine Chemical compound O=C1NC=NC2=C1NC=N2 FDGQSTZJBFJUBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YACKEPLHDIMKIO-UHFFFAOYSA-N methylphosphonic acid Chemical compound CP(O)(O)=O YACKEPLHDIMKIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001471 micro-filtration Methods 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 description 2
- IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N o-Hydroxyethylbenzene Natural products CCC1=CC=CC=C1O IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- FXLOVSHXALFLKQ-UHFFFAOYSA-N p-tolualdehyde Chemical compound CC1=CC=C(C=O)C=C1 FXLOVSHXALFLKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002530 phenolic antioxidant Substances 0.000 description 2
- KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N phenolphthalein Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C(=O)O1 KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 2
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- UOHMMEJUHBCKEE-UHFFFAOYSA-N prehnitene Chemical compound CC1=CC=C(C)C(C)=C1C UOHMMEJUHBCKEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 2
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 2
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 2
- KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N succinimide Chemical compound O=C1CCC(=O)N1 KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- FEIQOMCWGDNMHM-KBXRYBNXSA-N (2e,4e)-5-phenylpenta-2,4-dienoic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C=C\C1=CC=CC=C1 FEIQOMCWGDNMHM-KBXRYBNXSA-N 0.000 description 1
- WKJJPHVKMXRVBX-UHFFFAOYSA-N (4,4-diphenylcyclohexyl) dihydrogen phosphite Chemical compound C1CC(CCC1OP(O)O)(C2=CC=CC=C2)C3=CC=CC=C3 WKJJPHVKMXRVBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJIXLHUSWQCDGJ-UHFFFAOYSA-N (4,4-diphenylcyclohexyl) phenyl hydrogen phosphite Chemical compound C1CC(CCC1OP(O)OC2=CC=CC=C2)(C3=CC=CC=C3)C4=CC=CC=C4 XJIXLHUSWQCDGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRLOQEQAWOKEJF-UHFFFAOYSA-N (6-methyl-1,1-diphenylheptyl) dihydrogen phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OP(O)O)(CCCCC(C)C)C1=CC=CC=C1 NRLOQEQAWOKEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPWOSICBVUXMML-UHFFFAOYSA-N (8,9-diacetyloxyanthracen-1-yl) acetate Chemical compound C1=CC(OC(C)=O)=C2C(OC(C)=O)=C3C(OC(=O)C)=CC=CC3=CC2=C1 IPWOSICBVUXMML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDUQMGQIHYISOP-RMKNXTFCSA-N (e)-2-cyano-3-phenylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\C#N)=C\C1=CC=CC=C1 CDUQMGQIHYISOP-RMKNXTFCSA-N 0.000 description 1
- DTCCVIYSGXONHU-CJHDCQNGSA-N (z)-2-(2-phenylethenyl)but-2-enedioic acid Chemical compound OC(=O)\C=C(C(O)=O)\C=CC1=CC=CC=C1 DTCCVIYSGXONHU-CJHDCQNGSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- KYVBNYUBXIEUFW-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylguanidine Chemical compound CN(C)C(=N)N(C)C KYVBNYUBXIEUFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCNHNBLSNVSJTJ-UHFFFAOYSA-N 1,1-Bis(4-hydroxyphenyl)ethane Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)C1=CC=C(O)C=C1 HCNHNBLSNVSJTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWEYKIWAZBBXJK-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloro-2,2-bis(4-hydroxyphenyl)ethylene Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=C(Cl)Cl)C1=CC=C(O)C=C1 OWEYKIWAZBBXJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTZUIIAIAKMWLI-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=CC=C1N=C=O MTZUIIAIAKMWLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC=NC(N)=N1 VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVBFMUAFNIIQAL-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobutane Chemical compound O=C=NCCCCN=C=O OVBFMUAFNIIQAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-5,6-dimethylheptane Chemical compound O=C=NC(C)(C)C(C)CCCCN=C=O VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethoxypropoxy)propan-2-ol Chemical compound CCOC(C)COCC(C)O QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSCLWLZMTNOXCG-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethylhexoxy)anthracene Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(OCC(CC)CCCC)=CC=CC3=CC2=C1 MSCLWLZMTNOXCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRVHTDZJMNUGQN-UHFFFAOYSA-N 1-anthracen-9-yl-n-methylmethanamine Chemical compound C1=CC=C2C(CNC)=C(C=CC=C3)C3=CC2=C1 WRVHTDZJMNUGQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXXNVJDXUHMAHU-UHFFFAOYSA-N 1-anthracen-9-ylethanone Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)C)=C(C=CC=C3)C3=CC2=C1 NXXNVJDXUHMAHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBHPRUXJQNWTEW-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-2-methylimidazole Chemical compound CC1=NC=CN1CC1=CC=CC=C1 FBHPRUXJQNWTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIKLJUUTSQYGQI-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxypropoxy)propane Chemical compound CCOCC(C)OCC(C)OCC ZIKLJUUTSQYGQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VETPHHXZEJAYOB-UHFFFAOYSA-N 1-n,4-n-dinaphthalen-2-ylbenzene-1,4-diamine Chemical compound C1=CC=CC2=CC(NC=3C=CC(NC=4C=C5C=CC=CC5=CC=4)=CC=3)=CC=C21 VETPHHXZEJAYOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXZSVYHFYHTNBI-UHFFFAOYSA-N 1h-quinoline-2-thione Chemical compound C1=CC=CC2=NC(S)=CC=C21 KXZSVYHFYHTNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWWSEEHCVDRRRI-UHFFFAOYSA-N 2,3-Butanedithiol Chemical compound CC(S)C(C)S TWWSEEHCVDRRRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWIBWOHDQWIABB-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(4-dodecylphenyl)-5-[2-(4-dodecylphenyl)ethenyl]-1,3-dihydropyrazole Chemical compound C1=CC(CCCCCCCCCCCC)=CC=C1C=CC1=CC(C=2C=CC(CCCCCCCCCCCC)=CC=2)N(C=2C=CC(CCCCCCCCCCCC)=CC=2)N1 GWIBWOHDQWIABB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYMOKQCFOQCEGQ-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(4-tert-butylphenyl)-5-[2-(4-tert-butylphenyl)ethenyl]-1,3-dihydropyrazole Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C=CC1=CC(C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C)N(C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C)N1 NYMOKQCFOQCEGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVIDDMGBRCPGLJ-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(oxiran-2-ylmethoxy)propan-1-ol Chemical compound C1OC1COC(CO)COCC1CO1 IVIDDMGBRCPGLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVYIECJAAQOKEL-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis[4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenyl]-5-[2-[4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenyl]ethenyl]-1,3-dihydropyrazole Chemical compound C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC=C1C=CC1=CC(C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N(C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N1 IVYIECJAAQOKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKCHSNFSFPARNH-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrothiophen-5-ol Chemical compound OC1=CCCS1 LKCHSNFSFPARNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDULGHZNHURECF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylaniline 2,4-dimethylaniline 2,5-dimethylaniline 2,6-dimethylaniline 3,4-dimethylaniline 3,5-dimethylaniline Chemical group CC1=CC=C(N)C(C)=C1.CC1=CC=C(C)C(N)=C1.CC1=CC(C)=CC(N)=C1.CC1=CC=C(N)C=C1C.CC1=CC=CC(N)=C1C.CC1=CC=CC(C)=C1N CDULGHZNHURECF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDKJATAIMQKTPM-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbenzenethiol Chemical group CC1=CC=CC(S)=C1C NDKJATAIMQKTPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNWXXQTUESDFIN-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-triphenylthiopyrylium Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC(C=2C=CC=CC=2)=[S+]C(C=2C=CC=CC=2)=C1 WNWXXQTUESDFIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFGVTUJBHHZRAB-UHFFFAOYSA-N 2,6-Di-tert-butyl-1,4-benzenediol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=CC(C(C)(C)C)=C1O JFGVTUJBHHZRAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDGKUVSVPIIUCF-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpiperidine Chemical compound CC1CCCC(C)N1 SDGKUVSVPIIUCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPKAATMPDPEHKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dibutylphenyl)-3-(4-dodecylphenyl)-5-[2-(4-dodecylphenyl)ethenyl]-1,3-dihydropyrazole Chemical compound C1=CC(CCCCCCCCCCCC)=CC=C1C=CC1=CC(C=2C=CC(CCCCCCCCCCCC)=CC=2)N(C=2C(=CC(CCCC)=CC=2)CCCC)N1 UPKAATMPDPEHKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTWRMVAKUSJNBK-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dimethoxyphenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class COC1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 CTWRMVAKUSJNBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHRWPYOTGCOJP-UHFFFAOYSA-N 2-(2-fluorophenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class FC1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 UIHRWPYOTGCOJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPZSKIHQGLKTSO-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-ditert-butylphenyl)-3-phenyl-5-(2-phenylethenyl)-1,3-dihydropyrazole Chemical compound C1=C(C(C)(C)C)C(C(C)(C)C)=CC=C1N1C(C=2C=CC=CC=2)C=C(C=CC=2C=CC=CC=2)N1 GPZSKIHQGLKTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXGLGMITBMOBCL-UHFFFAOYSA-N 2-(3,5-ditert-butylphenyl)-3-phenyl-5-(2-phenylethenyl)-1,3-dihydropyrazole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(N2C(C=C(C=CC=3C=CC=CC=3)N2)C=2C=CC=CC=2)=C1 AXGLGMITBMOBCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXYPTABLUXKSRA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-chloro-4-methoxycyclohexa-1,5-dien-1-yl)-1H-imidazole Chemical class ClC1(CC=C(C=C1)C=1NC=CN=1)OC VXYPTABLUXKSRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJCFDCKEUGZLPS-UHFFFAOYSA-N 2-(4-chlorophenyl)-1h-imidazole Chemical class C1=CC(Cl)=CC=C1C1=NC=CN1 HJCFDCKEUGZLPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQGDTLZVORSYKR-UHFFFAOYSA-N 2-(4-dodecylphenyl)-3-[4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenyl]-5-[2-[4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenyl]ethenyl]-1,3-dihydropyrazole Chemical compound C1=CC(CCCCCCCCCCCC)=CC=C1N1C(C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)C=C(C=CC=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N1 OQGDTLZVORSYKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBCLTGOYUDHUFQ-UHFFFAOYSA-N 2-(4-dodecylphenyl)-3-phenyl-5-(2-phenylethenyl)-1,3-dihydropyrazole Chemical compound C1=CC(CCCCCCCCCCCC)=CC=C1N1C(C=2C=CC=CC=2)C=C(C=CC=2C=CC=CC=2)N1 SBCLTGOYUDHUFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNFCQJAJPFWBDJ-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 SNFCQJAJPFWBDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZYZPHPDKCTFFH-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methylsulfanylphenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class C1=CC(SC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 GZYZPHPDKCTFFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRJZBNHLROWFAR-UHFFFAOYSA-N 2-(4-tert-butylphenyl)-3-(3,5-ditert-butylphenyl)-5-[2-(3,5-ditert-butylphenyl)ethenyl]-1,3-dihydropyrazole Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1N1C(C=2C=C(C=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C=C(C=CC=2C=C(C=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)N1 RRJZBNHLROWFAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUULJVZIXMRUJR-UHFFFAOYSA-N 2-(4-tert-butylphenyl)-3-[4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenyl]-5-[2-[4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenyl]ethenyl]-1,3-dihydropyrazole Chemical compound C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC=C1C=CC1=CC(C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N(C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C)N1 MUULJVZIXMRUJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYNCCQRGZYSBNH-UHFFFAOYSA-N 2-(4-tert-butylphenyl)-3-phenyl-5-(2-phenylethenyl)-1,3-dihydropyrazole Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1N1C(C=2C=CC=CC=2)C=C(C=CC=2C=CC=CC=2)N1 FYNCCQRGZYSBNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)oxirane;4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound ClCC1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUABZJZJXPSZCN-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)phenol Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1O AUABZJZJXPSZCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJRUAPNVLBABCN-UHFFFAOYSA-N 2-(ethenoxymethyl)oxirane Chemical compound C=COCC1CO1 JJRUAPNVLBABCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SPEGUNZOHLFGCL-UHFFFAOYSA-N 2-(ethylamino)benzoic acid Chemical compound CCNC1=CC=CC=C1C(O)=O SPEGUNZOHLFGCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFLKTDAONDZLAN-UHFFFAOYSA-N 2-(n-phenylanilino)acetic acid Chemical compound C=1C=CC=CC=1N(CC(=O)O)C1=CC=CC=C1 KFLKTDAONDZLAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIVZFLKJXSKCGT-UHFFFAOYSA-N 2-(naphthalen-1-ylamino)acetic acid Chemical compound C1=CC=C2C(NCC(=O)O)=CC=CC2=C1 SIVZFLKJXSKCGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABROBCBIIWHVNS-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylbenzenethiol Chemical compound CCC1=CC=CC=C1S ABROBCBIIWHVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZDGMOYKSFPLSE-UHFFFAOYSA-N 2-Methylaziridine Chemical compound CC1CN1 OZDGMOYKSFPLSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXUNZSDDXMPKLP-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenethiol Chemical compound CC1=CC=CC=C1S LXUNZSDDXMPKLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCOCCOCCOCCO WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHJIJMBTDZCOFE-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethoxy]-1-methoxyethanol Chemical compound COC(O)COCCOCCOCCO SHJIJMBTDZCOFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSRJVOOOWGXUDY-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoyloxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C)=CC(CCC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C)C=2)C(C)(C)C)=C1 QSRJVOOOWGXUDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLKDLWPSWWEFDU-UHFFFAOYSA-N 2-aminooxyethyl 3-(3,5-dibutyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CCCCC1=CC(=CC(=C1O)CCCC)CCC(=O)OCCON DLKDLWPSWWEFDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLNMQYHQWUWCPG-UHFFFAOYSA-N 2-anthracen-9-ylethanol Chemical compound C1=CC=C2C(CCO)=C(C=CC=C3)C3=CC2=C1 KLNMQYHQWUWCPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 2-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1Cl ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQAMFDRRWURCFQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1h-imidazole Chemical compound CCC1=NC=CN1 PQAMFDRRWURCFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXAGXLDEMUNQSH-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC(CC)=CC=C3C=C21 ZXAGXLDEMUNQSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKZGIJICHCVXFV-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl diphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OCC(CC)CCCC)OC1=CC=CC=C1 XKZGIJICHCVXFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004198 2-fluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(F)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- MZZYGYNZAOVRTG-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-n-(1h-1,2,4-triazol-5-yl)benzamide Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)NC1=NC=NN1 MZZYGYNZAOVRTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTFKRVXLBCAIOZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylanisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1C DTFKRVXLBCAIOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001431 2-methylbenzaldehyde Substances 0.000 description 1
- XGJZQNMUVTZITK-UHFFFAOYSA-N 2-n,2-n,4-n,4-n,6-n,6-n-hexamethoxy-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound CON(OC)C1=NC(N(OC)OC)=NC(N(OC)OC)=N1 XGJZQNMUVTZITK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTRPRMNBTVRDFH-UHFFFAOYSA-N 2-n-methyl-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound CNC1=NC(N)=NC(N)=N1 CTRPRMNBTVRDFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJKVFARRVXDXAD-UHFFFAOYSA-N 2-naphthaldehyde Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C=O)=CC=C21 PJKVFARRVXDXAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSOJMZYDILWFGH-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-3-[4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenyl]-5-[2-[4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenyl]ethenyl]-1,3-dihydropyrazole Chemical compound C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC=C1C=CC1=CC(C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N(C=2C=CC=CC=2)N1 XSOJMZYDILWFGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCRCBXLHWTVPEQ-UHFFFAOYSA-N 2-phenylbenzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LCRCBXLHWTVPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- XBGNYAOLZNHWDC-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylnaphthalen-1-ol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=C(S)C=CC2=C1 XBGNYAOLZNHWDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMKYTRPNOVFCGZ-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1S VMKYTRPNOVFCGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBPXZSIKOVBSAS-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylanthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC(C(C)(C)C)=CC=C3C=C21 WBPXZSIKOVBSAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POQJHLBMLVTHAU-UHFFFAOYSA-N 3,4-Dimethylbenzaldehyde Chemical compound CC1=CC=C(C=O)C=C1C POQJHLBMLVTHAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKWCTNCPYWQBFT-UHFFFAOYSA-N 3-(2,5-ditert-butylphenyl)-5-[2-(2,5-ditert-butylphenyl)ethenyl]-2-phenyl-1,3-dihydropyrazole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C(C)(C)C)C(C=CC=2NN(C(C=2)C=2C(=CC=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C=2C=CC=CC=2)=C1 NKWCTNCPYWQBFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMVSSVJMNLMMTF-UHFFFAOYSA-N 3-(2,6-dibutylphenyl)-5-[2-(2,6-dibutylphenyl)ethenyl]-2-phenyl-1,3-dihydropyrazole Chemical compound CCCCC1=CC=CC(CCCC)=C1C=CC1=CC(C=2C(=CC=CC=2CCCC)CCCC)N(C=2C=CC=CC=2)N1 LMVSSVJMNLMMTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VURTVSDXTBSKJB-UHFFFAOYSA-N 3-(2,6-ditert-butylphenyl)-5-[2-(2,6-ditert-butylphenyl)ethenyl]-2-phenyl-1,3-dihydropyrazole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)C)=C1C=CC1=CC(C=2C(=CC=CC=2C(C)(C)C)C(C)(C)C)N(C=2C=CC=CC=2)N1 VURTVSDXTBSKJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROZXEONOGAWMSN-UHFFFAOYSA-N 3-(2-carboxyethylsulfanyl)pentadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC(CC(O)=O)SCCC(O)=O ROZXEONOGAWMSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHFIKVANSDZOMJ-UHFFFAOYSA-N 3-(3,5-ditert-butylphenyl)-5-[2-(3,5-ditert-butylphenyl)ethenyl]-2-phenyl-1,3-dihydropyrazole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(C=CC=2NN(C(C=2)C=2C=C(C=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C=2C=CC=CC=2)=C1 OHFIKVANSDZOMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPBQXDPGWUKSEU-UHFFFAOYSA-N 3-(4-dodecylphenyl)-5-[2-(4-dodecylphenyl)ethenyl]-2-[4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenyl]-1,3-dihydropyrazole Chemical compound C1=CC(CCCCCCCCCCCC)=CC=C1C=CC1=CC(C=2C=CC(CCCCCCCCCCCC)=CC=2)N(C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N1 XPBQXDPGWUKSEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXUXKEJSCKNMLI-UHFFFAOYSA-N 3-(4-dodecylphenyl)-5-[2-(4-dodecylphenyl)ethenyl]-2-phenyl-1,3-dihydropyrazole Chemical compound C1=CC(CCCCCCCCCCCC)=CC=C1C=CC1=CC(C=2C=CC(CCCCCCCCCCCC)=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)N1 AXUXKEJSCKNMLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHKLKTZFSDTWLD-UHFFFAOYSA-N 3-(4-tert-butylphenyl)-5-[2-(4-tert-butylphenyl)ethenyl]-2-(4-dodecylphenyl)-1,3-dihydropyrazole Chemical compound C1=CC(CCCCCCCCCCCC)=CC=C1N1C(C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C)C=C(C=CC=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C)N1 SHKLKTZFSDTWLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQWHXTPYKGAYCS-UHFFFAOYSA-N 3-(4-tert-butylphenyl)-5-[2-(4-tert-butylphenyl)ethenyl]-2-[4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenyl]-1,3-dihydropyrazole Chemical compound C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC=C1N1C(C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C)C=C(C=CC=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C)N1 PQWHXTPYKGAYCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEABUURVUDRWCF-UHFFFAOYSA-N 3-(4-tert-butylphenyl)-5-[2-(4-tert-butylphenyl)ethenyl]-2-phenyl-1,3-dihydropyrazole Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C=CC1=CC(C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C)N(C=2C=CC=CC=2)N1 ZEABUURVUDRWCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940018563 3-aminophenol Drugs 0.000 description 1
- 125000006275 3-bromophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Br)=C([H])C(*)=C1[H] 0.000 description 1
- QKXOPWHCDQORHG-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-1,2,4,3-trioxaphosphinane Chemical compound OP1OCCOO1 QKXOPWHCDQORHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 3-mercaptopropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCS DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAHWYTLUKCIGPH-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl 2-(diethylamino)benzoate Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCC(C)C HAHWYTLUKCIGPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLPQCONTORSDDP-UHFFFAOYSA-N 3-phenyl-5-(2-phenylethenyl)-2-[4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenyl]-1,3-dihydropyrazole Chemical compound C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC=C1N1C(C=2C=CC=CC=2)C=C(C=CC=2C=CC=CC=2)N1 BLPQCONTORSDDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPHGOBGXZQKCKI-UHFFFAOYSA-N 4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class N1C=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 CPHGOBGXZQKCKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKZFRKHYUVIIFN-UHFFFAOYSA-N 4-(furan-2-yl)but-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=CCC1=CC=CO1 JKZFRKHYUVIIFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BATCUENAARTUKW-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-hydroxyphenyl)-diphenylmethyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C=1C=CC(O)=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BATCUENAARTUKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMPGNGRIGSEMTC-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxyphenyl)-3,3,5-trimethylcyclohexyl]phenol Chemical compound C1C(C)CC(C)(C)CC1(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 UMPGNGRIGSEMTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJWIRZQYWANBMP-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxy-3-propan-2-ylphenyl)propan-2-yl]-2-propan-2-ylphenol Chemical compound C1=C(O)C(C(C)C)=CC(C(C)(C)C=2C=C(C(O)=CC=2)C(C)C)=C1 IJWIRZQYWANBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVFQHGDIOXNKIC-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[3-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenyl]propan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=CC(C(C)(C)C=2C=CC(O)=CC=2)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 PVFQHGDIOXNKIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNIOOCGWPGSASJ-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]butyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCCCCOC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 RNIOOCGWPGSASJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004800 4-bromophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Br 0.000 description 1
- VCOONNWIINSFBA-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-n-(4-methoxyphenyl)aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1NC1=CC=C(OC)C=C1 VCOONNWIINSFBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- ZZMVLMVFYMGSMY-UHFFFAOYSA-N 4-n-(4-methylpentan-2-yl)-1-n-phenylbenzene-1,4-diamine Chemical compound C1=CC(NC(C)CC(C)C)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 ZZMVLMVFYMGSMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRVHFFQFZQSNLB-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbenzenethiol Chemical group C1=CC(S)=CC=C1C1=CC=CC=C1 KRVHFFQFZQSNLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHLKOHSAWQPOFO-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-1h-imidazole Chemical class N1C=NC=C1C1=CC=CC=C1 XHLKOHSAWQPOFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 5-phenylbenzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXDGHAZCSMVIFX-UHFFFAOYSA-N 6-(dibutylamino)-1h-1,3,5-triazine-2,4-dithione Chemical compound CCCCN(CCCC)C1=NC(=S)NC(=S)N1 IXDGHAZCSMVIFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVVFVKJZNVSANF-UHFFFAOYSA-N 6-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]hexyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCCCCCCOC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 ZVVFVKJZNVSANF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLZQBMZXBHDWJM-UHFFFAOYSA-N 6-anilino-1h-1,3,5-triazine-2,4-dithione Chemical compound N1C(=S)NC(=S)N=C1NC1=CC=CC=C1 MLZQBMZXBHDWJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAMCDLUESQLMOZ-UHFFFAOYSA-N 6-ethyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound CCC1=NC(N)=NC(N)=N1 NAMCDLUESQLMOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADRNSOYXKABLGT-UHFFFAOYSA-N 8-methylnonyl diphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OCCCCCCCC(C)C)OC1=CC=CC=C1 ADRNSOYXKABLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLTRLRBXMJBVPL-UHFFFAOYSA-N 9,10-dibutylanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(CCCC)=C(C=CC=C3)C3=C(CCCC)C2=C1 XLTRLRBXMJBVPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVAKWHJKGCYTRA-UHFFFAOYSA-N 9,10-dipropylanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(CCC)=C(C=CC=C3)C3=C(CCC)C2=C1 WVAKWHJKGCYTRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 9-phenylacridine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUBXLGUQZVKOFP-UHFFFAOYSA-N 9-phenylanthracene Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=CC2=CC=CC=C12 LUBXLGUQZVKOFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USRRYCXZCVGSQG-UHFFFAOYSA-N 9-prop-2-enylanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(CC=C)=C(C=CC=C3)C3=CC2=C1 USRRYCXZCVGSQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000505 Al2TiO5 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- VOWWYDCFAISREI-UHFFFAOYSA-N Bisphenol AP Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C=1C=CC(O)=CC=1)(C)C1=CC=CC=C1 VOWWYDCFAISREI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTVITOHKHWFJKO-UHFFFAOYSA-N Bisphenol B Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(CC)C1=CC=C(O)C=C1 HTVITOHKHWFJKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIXXQTYGFOHYPT-UHFFFAOYSA-N Bisphenol P Chemical compound C=1C=C(C(C)(C)C=2C=CC(O)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 GIXXQTYGFOHYPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N Bisphenol Z Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)CCCCC1 SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVMHJGGEHKZZCC-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)(C)C=1C(=C(C=CC1)NC1=CC=CC=C1)C(C)(C)C Chemical compound C(C)(C)(C)C=1C(=C(C=CC1)NC1=CC=CC=C1)C(C)(C)C SVMHJGGEHKZZCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGFDAQOYPVNPIE-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)(C)C=1C=C(C=C(C1)C(C)(C)C)N1N(C(=CC1)C=CC1=CC(=CC(=C1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C1=CC(=CC(=C1)C(C)(C)C)C(C)(C)C Chemical compound C(C)(C)(C)C=1C=C(C=C(C1)C(C)(C)C)N1N(C(=CC1)C=CC1=CC(=CC(=C1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C1=CC(=CC(=C1)C(C)(C)C)C(C)(C)C WGFDAQOYPVNPIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPBKPCHZBRESPK-UHFFFAOYSA-N C(CCC)OC=1C2=CC=CC=C2C(=C2C=CC=CC12)OCCCC.C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12 Chemical compound C(CCC)OC=1C2=CC=CC=C2C(=C2C=CC=CC12)OCCCC.C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12 QPBKPCHZBRESPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QITDTYWGTIIIKE-UHFFFAOYSA-N C1=CC=C(C=C1)C(CCCCCCCCCCCCSP(O)O)C2=CC=CC=C2 Chemical compound C1=CC=C(C=C1)C(CCCCCCCCCCCCSP(O)O)C2=CC=CC=C2 QITDTYWGTIIIKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASUIPYBNVVERJG-UHFFFAOYSA-N CCC1=CC=CC(O[PH2]=O)=C1C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C Chemical compound CCC1=CC=CC(O[PH2]=O)=C1C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C ASUIPYBNVVERJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- 241000723347 Cinnamomum Species 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHKOFFNLGXMVNJ-UHFFFAOYSA-N Didodecyl thiobispropanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCC GHKOFFNLGXMVNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGQMRVRMYYASKQ-UHFFFAOYSA-N Hypoxanthine nucleoside Natural products OC1C(O)C(CO)OC1N1C(NC=NC2=O)=C2N=C1 UGQMRVRMYYASKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-M Lactate Chemical compound CC(O)C([O-])=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQVWYOYUZDUNRW-UHFFFAOYSA-N N-Phenyl-1-naphthylamine Chemical compound C=1C=CC2=CC=CC=C2C=1NC1=CC=CC=C1 XQVWYOYUZDUNRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N Tert-Butylhydroquinone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=CC=C1O BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGRTZESQZZGAAU-UHFFFAOYSA-N [2-[3-[1-[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoyloxy]-2-methylpropan-2-yl]-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecan-9-yl]-2-methylpropyl] 3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C)=CC(CCC(=O)OCC(C)(C)C2OCC3(CO2)COC(OC3)C(C)(C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C)C=2)C(C)(C)C)=C1 CGRTZESQZZGAAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYSSGQITKNFRQE-UHFFFAOYSA-N [3-(4-anilinoanilino)-2-hydroxypropyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC(NCC(O)COC(=O)C(=C)C)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 JYSSGQITKNFRQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- FZENGILVLUJGJX-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde oxime Chemical compound CC=NO FZENGILVLUJGJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJYZCEFQAIUHSD-UHFFFAOYSA-N acetoguanamine Chemical compound CC1=NC(N)=NC(N)=N1 NJYZCEFQAIUHSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXAJQJMDEXJWFB-UHFFFAOYSA-N acetone oxime Chemical compound CC(C)=NO PXAJQJMDEXJWFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004559 acridin-9-yl group Chemical group C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C(=C12)* 0.000 description 1
- 125000000641 acridinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical group [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- YCSBALJAGZKWFF-UHFFFAOYSA-N anthracen-2-amine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC(N)=CC=C3C=C21 YCSBALJAGZKWFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCJNNHDZTLRSGN-UHFFFAOYSA-N anthracen-9-ylmethanol Chemical compound C1=CC=C2C(CO)=C(C=CC=C3)C3=CC2=C1 JCJNNHDZTLRSGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTYIORJKKXUXCW-UHFFFAOYSA-N anthracene 9,10-diethoxyanthracene Chemical compound C(C)OC=1C2=CC=CC=C2C(=C2C=CC=CC12)OCC.C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12 VTYIORJKKXUXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKNBVEKCHVXGPH-UHFFFAOYSA-N anthracene-1,4,9,10-tetrol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=C3C(O)=CC=C(O)C3=C(O)C2=C1 BKNBVEKCHVXGPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMNKUHIVVMFOFO-UHFFFAOYSA-N anthracene-9-carbaldehyde Chemical compound C1=CC=C2C(C=O)=C(C=CC=C3)C3=CC2=C1 YMNKUHIVVMFOFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001454 anthracenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 229940058905 antimony compound for treatment of leishmaniasis and trypanosomiasis Drugs 0.000 description 1
- 150000001463 antimony compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNFORVFSTILPAW-UHFFFAOYSA-N azetidin-2-one Chemical compound O=C1CCN1 MNFORVFSTILPAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYJRCSIUFZENHW-UHFFFAOYSA-L barium carbonate Chemical compound [Ba+2].[O-]C([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052916 barium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMOQPOVBDRFNIU-UHFFFAOYSA-N barium(2+);dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ba+2].[O-][Si]([O-])=O HMOQPOVBDRFNIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- JTRPLRMCBJSBJV-UHFFFAOYSA-N benzonaphthacene Natural products C1=CC=C2C3=CC4=CC5=CC=CC=C5C=C4C=C3C=CC2=C1 JTRPLRMCBJSBJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- UENWRTRMUIOCKN-UHFFFAOYSA-N benzyl thiol Chemical compound SCC1=CC=CC=C1 UENWRTRMUIOCKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUZYBYIOAZTMGC-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 UUZYBYIOAZTMGC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFVMWEVVKGLCIJ-UHFFFAOYSA-N bisphenol AF Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(O)C=C1 ZFVMWEVVKGLCIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Substances FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enenitrile Chemical class C=CC=C.C=CC#N NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDHFHIQKOVNCNC-UHFFFAOYSA-N butane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCCS(O)(=O)=O QDHFHIQKOVNCNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- VFGRALUHHHDIQI-UHFFFAOYSA-N butyl 2-hydroxyacetate Chemical compound CCCCOC(=O)CO VFGRALUHHHDIQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000004181 carboxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 235000017803 cinnamon Nutrition 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 150000003983 crown ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- CMKBCTPCXZNQKX-UHFFFAOYSA-N cyclohexanethiol Chemical compound SC1CCCCC1 CMKBCTPCXZNQKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- UFULAYFCSOUIOV-UHFFFAOYSA-N cysteamine Chemical compound NCCS UFULAYFCSOUIOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSEUPUDHEBLWJY-HWKANZROSA-N diacetylmonoxime Chemical compound CC(=O)C(\C)=N\O FSEUPUDHEBLWJY-HWKANZROSA-N 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDVKFRBCXAPAQJ-UHFFFAOYSA-A dialuminum;hexamagnesium;carbonate;hexadecahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Al+3].[Al+3].[O-]C([O-])=O GDVKFRBCXAPAQJ-UHFFFAOYSA-A 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N dibenzyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1COCC1=CC=CC=C1 MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRQOYCMXWVRVAI-UHFFFAOYSA-N didecoxy(decylsulfanyl)phosphane Chemical compound C(CCCCCCCCC)SP(OCCCCCCCCCC)OCCCCCCCCCC HRQOYCMXWVRVAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N digallium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3] AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIQKWYUGPPFMBV-UHFFFAOYSA-N diisocyanatomethane Chemical compound O=C=NCN=C=O KIQKWYUGPPFMBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKZSPGSOXYXWQA-UHFFFAOYSA-N dioxido(oxo)titanium;lead(2+) Chemical compound [Pb+2].[O-][Ti]([O-])=O NKZSPGSOXYXWQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWWSSIYVTQUJQQ-UHFFFAOYSA-N distearyl thiodipropionate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCCCCCCCC PWWSSIYVTQUJQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 238000007610 electrostatic coating method Methods 0.000 description 1
- CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M ethanesulfonate Chemical compound CCS([O-])(=O)=O CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L fluoridophosphate Chemical compound [O-]P([O-])(F)=O DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- KPUXJBYSYFEKKB-UHFFFAOYSA-N hexadecanethioic s-acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(S)=O KPUXJBYSYFEKKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001701 hydrotalcite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960001545 hydrotalcite Drugs 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- QNXSIUBBGPHDDE-UHFFFAOYSA-N indan-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)CCC2=C1 QNXSIUBBGPHDDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- FRCAGVUKJQCWBD-UHFFFAOYSA-L iodine green Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(\C=1C=CC(=CC=1)[N+](C)(C)C)=C/1C=C(C)C(=[N+](C)C)C=C\1 FRCAGVUKJQCWBD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- YPQKTLPPOXNDMC-UHFFFAOYSA-N isocyanic acid;methylcyclohexane Chemical compound N=C=O.CC1CCCCC1 YPQKTLPPOXNDMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007561 laser diffraction method Methods 0.000 description 1
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005439 maleimidyl group Chemical group C1(C=CC(N1*)=O)=O 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229960003151 mercaptamine Drugs 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- WDWDWGRYHDPSDS-UHFFFAOYSA-N methanimine Chemical compound N=C WDWDWGRYHDPSDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N methyl 2-hydroxypropionate Chemical group COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOOARYARZPXNAL-UHFFFAOYSA-N methyl-thiophenol Natural products CSC1=CC=CC=C1O SOOARYARZPXNAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N methylhexahydrophthalic anhydride Chemical compound C1CCCC2C(=O)OC(=O)C21C VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UQKAOOAFEFCDGT-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(C)C UQKAOOAFEFCDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N n-butan-2-ylidenehydroxylamine Chemical compound CCC(C)=NO WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- RIWRFSMVIUAEBX-UHFFFAOYSA-N n-methyl-1-phenylmethanamine Chemical compound CNCC1=CC=CC=C1 RIWRFSMVIUAEBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N n-methylidenehydroxylamine Chemical compound ON=C SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- CVVFFUKULYKOJR-UHFFFAOYSA-N n-phenyl-4-propan-2-yloxyaniline Chemical compound C1=CC(OC(C)C)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 CVVFFUKULYKOJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SEXOVMIIVBKGGM-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-thiol Chemical compound C1=CC=C2C(S)=CC=CC2=C1 SEXOVMIIVBKGGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004923 naphthylmethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C* 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBAUOPQYSQVYJV-UHFFFAOYSA-N octyl 3-[4-hydroxy-3,5-di(propan-2-yl)phenyl]propanoate Chemical compound OC1=C(C=C(C=C1C(C)C)CCC(=O)OCCCCCCCC)C(C)C MBAUOPQYSQVYJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCRLWVVFAVLSAP-UHFFFAOYSA-N octyl dihydrogen phosphite Chemical compound CCCCCCCCOP(O)O KCRLWVVFAVLSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- WKGDNXBDNLZSKC-UHFFFAOYSA-N oxido(phenyl)phosphanium Chemical compound O=[PH2]c1ccccc1 WKGDNXBDNLZSKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUBQYFYWUJJAAK-UHFFFAOYSA-N oxymethurea Chemical compound OCNC(=O)NCO QUBQYFYWUJJAAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950005308 oxymethurea Drugs 0.000 description 1
- 125000005440 p-toluyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C(*)=O)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LXTZRIBXKVRLOA-UHFFFAOYSA-N padimate a Chemical compound CCCCCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 LXTZRIBXKVRLOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGOPTUPXVVNJFH-UHFFFAOYSA-N pentadecanethioic s-acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC(O)=S LGOPTUPXVVNJFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004344 phenylpropyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 150000008442 polyphenolic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AABBHSMFGKYLKE-SNAWJCMRSA-N propan-2-yl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OC(C)C AABBHSMFGKYLKE-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- KCXFHTAICRTXLI-UHFFFAOYSA-N propane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCS(O)(=O)=O KCXFHTAICRTXLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHMDPDGBKYUEMW-UHFFFAOYSA-N pyridine-2-thiol Chemical compound SC1=CC=CC=N1 WHMDPDGBKYUEMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBCQSNAFLVXVAY-UHFFFAOYSA-N pyrimidine-2-thiol Chemical compound SC1=NC=CC=N1 HBCQSNAFLVXVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003548 sec-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 239000012321 sodium triacetoxyborohydride Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 229960002317 succinimide Drugs 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- WMXCDAVJEZZYLT-UHFFFAOYSA-N tert-butylthiol Chemical compound CC(C)(C)S WMXCDAVJEZZYLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUWLXCFSEPHWCL-UHFFFAOYSA-N tetradecyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 GUWLXCFSEPHWCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVEOKSIILWWVEO-UHFFFAOYSA-N tetradecyl 3-(3-oxo-3-tetradecoxypropyl)sulfanylpropanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCCCC LVEOKSIILWWVEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYEKOFBPNLCAJY-UHFFFAOYSA-O thiamine pyrophosphate Chemical compound CC1=C(CCOP(O)(=O)OP(O)(O)=O)SC=[N+]1CC1=CN=C(C)N=C1N AYEKOFBPNLCAJY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- NJRXVEJTAYWCQJ-UHFFFAOYSA-N thiomalic acid Chemical compound OC(=O)CC(S)C(O)=O NJRXVEJTAYWCQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N thiosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1S NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940103494 thiosalicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- QEXITCCVENILJI-UHFFFAOYSA-M tributyl(phenyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)C1=CC=CC=C1 QEXITCCVENILJI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GLSQMJPVEVGXMZ-UHFFFAOYSA-N tributyl-(2,5-dihydroxyphenyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)C1=CC(O)=CC=C1O GLSQMJPVEVGXMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FICPQAZLPKLOLH-UHFFFAOYSA-N tricyclohexyl phosphite Chemical compound C1CCCCC1OP(OC1CCCCC1)OC1CCCCC1 FICPQAZLPKLOLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIUZJTWSUGSWJI-UHFFFAOYSA-M triethyl(methyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(CC)CC NIUZJTWSUGSWJI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFZAYFUSFITYES-UHFFFAOYSA-M trimethyl(2-phenylethyl)azanium;iodide Chemical compound [I-].C[N+](C)(C)CCC1=CC=CC=C1 OFZAYFUSFITYES-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XUHUMYVYHLHMCD-UHFFFAOYSA-N tris(2-cyclohexylphenyl) phosphite Chemical compound C1CCCCC1C1=CC=CC=C1OP(OC=1C(=CC=CC=1)C1CCCCC1)OC1=CC=CC=C1C1CCCCC1 XUHUMYVYHLHMCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILLOBGFGKYTZRO-UHFFFAOYSA-N tris(2-ethylhexyl) phosphite Chemical compound CCCCC(CC)COP(OCC(CC)CCCC)OCC(CC)CCCC ILLOBGFGKYTZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKHZQJRTFNFCTG-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylphenyl) phosphite Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C BKHZQJRTFNFCTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGKLOLBTFWFKOD-UHFFFAOYSA-N tris(2-nonylphenyl) phosphite Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1OP(OC=1C(=CC=CC=1)CCCCCCCCC)OC1=CC=CC=C1CCCCCCCCC WGKLOLBTFWFKOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSRKWWQBQDBQRH-UHFFFAOYSA-N tris(2-octylphenyl) phosphite Chemical compound CCCCCCCCC1=CC=CC=C1OP(OC=1C(=CC=CC=1)CCCCCCCC)OC1=CC=CC=C1CCCCCCCC WSRKWWQBQDBQRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DECPGQLXYYCNEZ-UHFFFAOYSA-N tris(6-methylheptyl) phosphite Chemical compound CC(C)CCCCCOP(OCCCCCC(C)C)OCCCCCC(C)C DECPGQLXYYCNEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQBLOZGVRHAYGT-UHFFFAOYSA-N tris-decyl phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCOP(OCCCCCCCCCC)OCCCCCCCCCC QQBLOZGVRHAYGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 150000003739 xylenols Chemical class 0.000 description 1
- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N yttrium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 1
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LVPSBELIABHESA-UHFFFAOYSA-L zinc;n,n-dibutylcarbamothioate Chemical compound [Zn+2].CCCCN(C([O-])=S)CCCC.CCCCN(C([O-])=S)CCCC LVPSBELIABHESA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N β‐Mercaptoethanol Chemical compound OCCS DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
- C08F290/08—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated side groups
- C08F290/14—Polymers provided for in subclass C08G
- C08F290/144—Polymers containing more than one epoxy group per molecule
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
- C08F290/08—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated side groups
- C08F290/14—Polymers provided for in subclass C08G
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/14—Polycondensates modified by chemical after-treatment
- C08G59/1433—Polycondensates modified by chemical after-treatment with organic low-molecular-weight compounds
- C08G59/1438—Polycondensates modified by chemical after-treatment with organic low-molecular-weight compounds containing oxygen
- C08G59/1455—Monocarboxylic acids, anhydrides, halides, or low-molecular-weight esters thereof
- C08G59/1461—Unsaturated monoacids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L63/00—Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
- C08L63/10—Epoxy resins modified by unsaturated compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/0275—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with dithiol or polysulfide compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
- H05K3/285—Permanent coating compositions
- H05K3/287—Photosensitive compositions
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/032—Organic insulating material consisting of one material
- H05K1/0346—Organic insulating material consisting of one material containing N
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
Description
底部の光硬化性を向上させるために紫外線照射の露光量を多くすると、光回折及びハレーションが大きくなり、パターン断面の表面部(上部)の線幅に対して中間部(中心部)及び最深部(底部)の線幅が大きくなるため、レジスト形状の悪化が生じる、あるいは解像性が低下するという問題がある。また、酸素阻害によりレジスト深さ方向で表面から3μm程度に至る領域において光硬化が不足することで、レジスト上部が欠落してしまい、レジスト形状が悪化するという問題もある。したがって、20〜40μm以上という厚膜な永久マスクレジストを形成する場合、底部の光硬化性が良好で解像性に優れた感光性樹脂組成物は存在しないのが現状である。
また、本発明の感光性樹脂組成物を用いることで、近年の電子機器の小型化、及び高性能化に伴う微細化した穴径の大きさと穴間の間隔ピッチの形成安定性に優れた、パターン形成が可能な感光性エレメント、永久マスクレジスト、及び該永久マスクレジストを具備するプリント配線板を提供することである。
[2]支持体と、該支持体上に上記[1]に記載の感光性樹脂組成物を用いてなる感光層とを備える感光性エレメント。
[3]上記[1]に記載の感光性樹脂組成物により形成される永久マスクレジスト。
[4]上記[3]に記載の永久マスクレジストを具備するプリント配線板。
本発明における実施形態(以下、単に「本実施形態」ともいう)に係るの感光性樹脂組成物は、(A)酸変性ビニル基含有エポキシ樹脂(以下、「(A)成分」ともいう)と、(B)アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤(以下、「(B)成分」ともいう)と、(C1)アルキルアミノベンゼン誘導体(以下、「(C1)成分」ともいう)、(C2)ピラゾリン系増感剤又はアントラセン系増感剤(以下、「(C2)成分」ともいう)、(C3)イミダゾール系光重合開始剤、アクリジン系光重合開始剤、及びチタノセン系光重合開始剤から選ばれる少なくとも一種の光重合開始剤(以下、「(C3)成分」ともいう)、(C4)ヒンダードフェノール系酸化防止剤、キノン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、及びリン系酸化防止剤から選ばれる少なくとも一種の酸化防止剤(以下、「(C4)成分」ともいう)、並びに(C5)チオール基含有化合物(以下、「(C5)成分」ともいう)から選ばれる少なくとも1種の(C)添加剤(以下、「(C)成分」ともいう)と、(D)光重合性化合物(以下、「(D)成分」ともいう)とを含む感光性樹脂組成物である。
以下、各成分について説明する。
本実施形態の感光性樹脂組成物は、(A)成分として酸変性ビニル基含有エポキシ樹脂を含有する。
(A)酸変性ビニル基含有エポキシ樹脂は、エポキシ樹脂をビニル基含有の有機酸で変性したものであれば特に制限はなく、エポキシ樹脂(a)とビニル基含有モノカルボン酸(b)とを反応させて得られるエポキシ樹脂(a’)が好ましく、さらに該エポキシ樹脂(a’)と飽和基又は不飽和基含有多塩基酸無水物(c)とを反応させて得られるエポキシ樹脂(a’’)がより好ましい。
まず、エポキシ樹脂(a)としては、下記一般式(I)で示される構成単位を有するノボラック型エポキシ樹脂が好ましく挙げられ、このような構成単位を有するエポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式(I’)で示されるノボラック型エポキシ樹脂が好ましく挙げられる。
一般式(I)で示される構成単位を有するノボラック型エポキシ樹脂中、一般式(I)で示される構成単位の含有量は、好ましくは70質量%以上、より好ましくは90質量%以上、さらに好ましく95質量%以上である。
また、一般式(I’)中、R11’は水素原子又はメチル基を示し、Y1’は水素原子又はグリシジル基を示し、かつ水素原子とグリシジル基とのモル比は、好ましくは0:100〜30:70、より好ましくは0:100〜10:90、さらに好ましくは0:100である。水素原子とグリシジル基とのモル比から分かるように、少なくとも一つのY1’はグリシジル基を示すものである。一般式(I’)中、n1は1以上の整数を示す。また、複数のR11’は各々同一でも異なっていてもよく、複数のY1’は同一でも異なっていてもよい。
エポキシ樹脂(a)としては、下記一般式(II)で示される構成単位を有するエポキシ樹脂が好ましく挙げられ、このような構成単位を有するエポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式(II’)で示されるビスフェノールA型エポキシ樹脂、及びビスフェノールF型エポキシ樹脂が好ましく挙げられる。
一般式(II)で示される構成単位を有するエポキシ樹脂中、一般式(II)で示される構成単位の含有量は、好ましくは70質量%以上、より好ましくは90質量%以上、さらに好ましく95質量%以上である。
また、一般式(II’)中、R12’は水素原子又はメチル基を示し、Y2’は水素原子又はグリシジル基を示し、かつ水素原子とグリシジル基とのモル比は、好ましくは0:100〜30:70、より好ましくは0:100〜10:90、さらに好ましくは0:100である。水素原子とグリシジル基とのモル比から分かるように、少なくとも一つのY2’はグリシジル基を示すものである。一般式(II’)中、n2は1以上の整数を示す。また、複数のR12’は同一でも異なっていてもよく、n2が2以上の場合、複数のY2’は同一でも異なっていてもよい。
また、より純度の高いエポキシ樹脂を得る観点から、得られたエポキシ樹脂を有機溶媒に再度溶解させて、上記のアルカリ金属水酸化物等の塩基性触媒を加えて反応させることができる。この際、反応速度を高める観点から、四級アンモニウム塩、クラウンエーテル等の相間移動触媒を、エポキシ樹脂に対して0.1〜3質量%の範囲で用いることが好ましい。この場合、反応終了後に生成した塩等をろ過、水洗等により除去し、さらに加熱減圧下で有機溶媒等を留去することで、高純度のエポキシ樹脂を得ることができる。
エポキシ樹脂(a)としては、下記一般式(III)で示される構成単位を有するエポキシ樹脂が好ましく挙げられ、このような構成単位を有するエポキシ樹脂としては、例えば、下記一般式(III’)で示されるトリフェノールメタン型エポキシ樹脂が好ましく挙げられる。
エポキシ樹脂(a)としては、下記一般式(IV)で示される構成単位を有するビスフェノールノボラック型エポキシ樹脂が好ましく挙げられる。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、sec−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基等が好ましく挙げられ、これらの中でも、メチル基がより好ましい。
アリール基としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基等が挙げられ、好ましくは環形成炭素数6〜20のアリール基、より好ましくは環形成炭素数6〜14のアリール基である。また、アリール基は、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基、アミド基、アルコキシ基等により置換されたものであってもよい。
アラルキル基としては、上記のアルキル基の水素原子の一つが上記のアリール基で置換されているものであれば特に制限はなく、例えば、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基等が挙げられる。また、アラルキル基は、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基、アミド基、アルコキシ基等により置換されたものであってよい。
上記範囲内であると、レジスト形状、解像性、耐熱性、密着性、及び電気絶縁性のバランスにより優れるレジストパターンが得られる。
エポキシ樹脂(a)としては、下記一般式(V)で示される構成単位を有するビスフェノールノボラック型エポキシ樹脂が好ましく挙げられる。
上記のビスフェノール化合物とアルデヒド化合物又はケトン化合物とを反応容器内に仕込み、不活性ガス雰囲気下で撹拌しながら、20〜200℃の範囲を維持するように、スルホン酸を連続的又は断続的に加えて、ビスフェノール化合物とアルデヒド化合物又はケトン化合物とを反応させて粗ビスフェノールノボラック樹脂を得る。次いで、該粗ビスフェノールノボラック樹脂を、非水溶性有機溶媒で抽出してビスフェノールノボラック樹脂溶液とし、これを水洗し、中和し、さらには該非水溶性有機溶媒を留去して、ビスフェノールノボラック型エポキシ樹脂が得られる。
上記の留去は、例えば、温度170〜200℃、圧力3kPa以下の条件にて加熱減圧蒸留で行うことが好ましく、このような条件で行うことで、純度の高いビスフェノールノボラック樹脂を得ることができる。
また、薄膜基板の反りをより低減できるとともに、耐熱衝撃性をより向上できる観点からは、一般式(IV)で示される構成単位を有するエポキシ樹脂と、一般式(V)で示される構成単位を有するエポキシ樹脂とを併用することが好ましい。
上記のエポキシ樹脂(a)と反応させる、ビニル基含有モノカルボン酸(b)としては、例えば、アクリル酸、アクリル酸の二量体、メタクリル酸、β−フルフリルアクリル酸、β−スチリルアクリル酸、桂皮酸、クロトン酸、α−シアノ桂皮酸等のアクリル酸誘導体;水酸基含有アクリレートと二塩基酸無水物との反応生成物である半エステル化合物、ビニル基含有モノグリシジルエーテル又はビニル基含有モノグリシジルエステルと二塩基酸無水物との反応生成物である半エステル化合物などが好ましく挙げられる。
有機溶剤としては、例えば、エチルメチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類;メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート等のエステル類;オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素類;石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサ等の石油系溶剤などが好ましく挙げられる。
(A)酸変性ビニル基含有エポキシ樹脂としては、上述のエポキシ樹脂(a')に多塩基酸無水物(c)を反応させることにより得られるエポキシ樹脂(a")も好ましく挙げられる。エポキシ樹脂(a")においては、エポキシ樹脂(a')における水酸基(エポキシ樹脂(a)中にある元来ある水酸基も含む)と多塩基酸無水物(c)の酸無水物基とが半エステル化されているものと推察される。
(GPC測定装置)
GPC装置:高速GPC装置「HLC−8320GPC」,検出器は示差屈折計、東ソー(株)製
カラム :カラムTSKgel SuperMultipore HZ−H(カラム長さ:15cm,カラム内径:4.6mm),東ソー(株)製
(測定条件)
溶媒 :テトラヒドロフラン(THF)
測定温度 :40℃
流量 :0.35ml/分
試料濃度 :10mg/THF5ml
注入量 :20μl
一般式(I’)で示されるノボラック型エポキシ樹脂から得られるエポキシ樹脂(a’)又は(a’’)と、一般式(II’)で示されるビスフェノールA型エポキシ樹脂及びビスフェノールF型エポキシ樹脂から得られるエポキシ樹脂(a’)又は(a’’)との質量混合比は、95:5〜30:70が好ましく、90:10〜40:60がより好ましく、80:20〜45:55がさらに好ましい。
一般式(IV)で示される構成単位を有するビスフェノールノボラック型エポキシ樹脂から得られるエポキシ樹脂(a’)又は(a’’)と一般式(II’)で示されるビスフェノールA型エポキシ樹脂及びビスフェノールF型エポキシ樹脂から得られるエポキシ樹脂(a’)又は(a’’)との質量混合比は、90:10〜30:70が好ましく、80:20〜40:60がより好ましく、70:30〜50:50がさらに好ましい。
本実施形態の感光性樹脂組成物は、(B)成分としてアシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤を含有する。
(B)アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤は、アシルホスフィンオキサイド基(=P(=O)−C(=O)−基)を有する光重合開始剤であれば特に制限はなく、例えば、(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,6−トリメチルベンゾイル−ペンチルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、エチル−2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィネイト、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド、(2,5−ジヒドロキシフェニル)ジフェニルホスフィンオキサイド、(p−ヒドロキシフェニル)ジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(p−ヒドロキシフェニル)フェニルホスフィンオキサイド、及びトリス(p−ヒドロキシフェニル)ホスフィンオキサイド等が好ましく挙げられ、1種単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
本実施形態の感光性樹脂組成物は、(C)成分として、(C1)アルキルアミノベンゼン誘導体、(C2)ピラゾリン系増感剤又はアントラセン系増感剤、(C3)イミダゾール系光重合開始剤、アクリジン系光重合開始剤、及びチタノセン系光重合開始剤から選ばれる少なくとも一種の光重合開始剤、(C4)ヒンダードフェノール系酸化防止剤、キノン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、及びリン系酸化防止剤から選ばれる少なくとも一種の酸化防止剤、並びに(C5)チオール基含有化合物から選ばれる少なくとも1種を含有する。これらの添加剤を(B)アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤と併用することにより、パターン輪郭の直線性が良くレジスト形状に優れ、解像性に優れたパターンを形成することができる感光性樹脂組成物を得ることができる。
(C1)アルキルアミノベンゼン誘導体は、ベンゼン環にアルキルアミノ基を有していれば特に制限はなく、水素供与体として有効に機能し、感光性樹脂組成物の光感度及び経日安定性をより向上できる。ここで、水素供与体は、上記の光重合開始剤の露光処理により発生するラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物を意味するものである。本実施形態においては、上記の(B)アシルホスフィンオキサイド系光重合性開始剤と、水素供与体として(C1)アルキルアミノベンゼン誘導体との組み合わせが、とりわけ、パターン輪郭の直線性が良くレジスト形状に優れ、解像性に優れたパターンを形成する点で効果的である。
フェニルグリシン誘導体としては、N−フェニルグリシン、N,N−ジフェニルグリシン、N−ナフチルグリシン等が好ましく挙げられる。
アミノ安息香酸誘導体としては、2−メチルアミノ安息香酸、2−エチルアミノ安息香酸等が好ましく挙げられる。また、アミノ安息香酸エステル誘導体としては、N,N−ジメチルアミノ安息香酸エチル、N,N−ジエチルアミノ安息香酸エチル、N,N−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、N,N−ジエチルアミノ安息香酸イソアミル等が好ましく挙げられる。
これらの(C1)アルキルアミノベンゼン誘導体のなかでも、N−フェニルグリシン、2−メチルアミノ安息香酸、及びN,N−ジエチルアミノ安息香酸エチルが好ましい。
(C2)成分はピラゾリン系増感剤、又はアントラセン系増感剤である。
(C2)ピラゾリン系増感剤を添加することにより、デジタル露光であっても、底部がえぐられるアンダーカットの発生、及びレジスト上部の欠落が発生することなく、パターン輪郭の直線性が良くレジスト形状に優れ、解像性に優れたパターンを形成できる感光性樹脂組成物を得ることができる。
本実施形態の感光性樹脂組成物に用いられる(C2)アントラセン系増感剤は、光硬化性を向上させることで、レジスト形状に優れ、解像性に優れたパターンを形成することを可能にするものである。
(C2)アントラセン系増感剤としては、例えば、下記一般式(XI)で示される化合物が好ましく挙げられる。
Xは、単結合、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基、−N(R’)−基、−C(=O)−O−基、−C(=O)−S−基、−SO2−O−基、−SO2−S−基、−SO2−N(R’)−基、−O−CO−基、−S−C(=O)−基、−O−SO2−基、又は−S−SO2−基を示す。ただし、Xが単結合、かつ、R3が水素原子の組み合わせ(すなわち無置換のアントラセン)を除く。また複数のXは同一でも異なっていてもよい。
ここで、R4は、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜20の脂環族基、炭素数2〜8のアルケニル基、アリール基、又はヘテロアリール基を示し、R4同士が相互に結合して環状構造を形成してもよく、該環状構造はヘテロ原子を含んでもよく、アルキル基、アルケニル基は、直鎖状でも枝分かれ状でもよく、またハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アミノ基、アミド基、アルコキシ基等により置換されたものであってもよい。
アリール基としては、R13のアリール基として例示したものが好ましく挙げられ、ヘテロアリール基としては、これらのアリール基を構成する任意の環原子の一個以上を、硫黄原子、酸素原子、窒素原子等のヘテロ原子に置き換えて得られるものが好ましく挙げられる。
また、(A)酸変性ビニル基含有エポキシ樹脂100質量部に対する(C2)アントラセン系増感剤の含有量としては、0.001〜10質量部が好ましく、0.01〜5質量部がより好ましく、0.03〜3質量部がさらに好ましい。
(C3)成分は、イミダゾール系光重合開始剤、アクリジン系光重合開始剤、及びチタノセン系光重合開始剤から選ばれる少なくとも一種の光重合開始剤である。
本実施形態においては、上記の(B)アシルホスフィンオキサイド系光重合性開始剤と、(C3)成分との組み合わせが、とりわけ、パターン輪郭の直線性が良くレジスト形状に優れ、解像性に優れたパターンを形成する点で効果的である。
感光性樹脂組成物中の固形分全量を100質量部とする(B)アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤と(C3)光重合開始剤との合計含有量は、好ましく0.2〜15質量部である。0.2質量部以上であると露光部が現像中に溶出しにくくなり、15質量部以下であると耐熱性が低下しにくくなる。また、同様の理由から、(B)光重合開始剤と(C3)光重合開始剤との合計含有量は、0.2〜10質量部がより好ましく、0.2〜5質量部がさらに好ましく、0.5〜5質量部が特に好ましく、0.5〜3質量部が極めて好ましい。
上記の(B)アシルホスフィンオキサイド系光重合性開始剤と(C3)光重合開始剤との質量比は、100:0.5〜100:8が好ましく、100:1〜100:6がより好ましく、100:1〜100:5がさらに好ましい。質量比が上記範囲内であると、レジスト形状に優れ、底部硬化性、ビア孔径精度が向上する傾向があるので好ましい。
(C4)成分は、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、キノン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、及びリン系酸化防止剤から選ばれる少なくとも一種の酸化防止剤である。
(C4)成分を用いることにより、レジスト形状に優れ、解像性に優れたパターンを形成でき、優れたはんだ耐熱性と耐フラックス腐食性を有するパターンを形成できる感光性樹脂組成物を得ることができる。
(C5)成分はチオール基含有化合物であり、該チオール基含有化合物は、水素供与体として有効に機能し、感光性樹脂組成物の光感度及び経日安定性をより向上させる効果を有すると考えられる。
これらの(C5)チオール基含有化合物は、1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、水素供与体として有効に機能し、感光性樹脂組成物の感度及び経日安定性をより向上できる観点から、好ましくはメルカプトベンゾオキサゾール、メルカプトベンゾチアゾール及びメルカプトベンゾイミダゾール、より好ましくはメルカプトベンゾイミダゾールである。
本実施形態の感光性樹脂組成物は、(D)成分として光重合性化合物を含有する。
(D)光重合性化合物は、光重合性を示す官能基を有する化合物であれば特に制限はなく、例えば、ビニル基、アリル基、プロパギル基、ブテニル基、エチニル基、フェニルエチニル基、マレイミド基、ナジイミド基、(メタ)アクリロイル基等のエチレンオキサイド性不飽和基を有する化合物が好ましく挙げられ、反応性の観点から、(メタ)アクリロイル基を有する化合物であることがより好ましい。
本実施形態の感光性樹脂組成物は、(E)成分として無機フィラーを含有することが好ましい。
(E)無機フィラーは、感光性樹脂組成物の密着性、耐熱性、塗膜硬度等の諸特性を向上させる目的で、好ましく用いられるものである。(E)無機フィラーとしては、例えば、シリカ(SiO2)、アルミナ(Al2O3)、チタニア(TiO2)、酸化タンタル(Ta2O5)、ジルコニア(ZrO2)、窒化ケイ素(Si3N4)、チタン酸バリウム(BaO・TiO2)、炭酸バリウム(BaCO3)、炭酸マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、チタン酸鉛(PbO・TiO2)、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)、チタン酸ジルコン酸ランタン鉛(PLZT)、酸化ガリウム(Ga2O3)、スピネル(MgO・Al2O3)、ムライト(3Al2O3・2SiO2)、コーディエライト(2MgO・2Al2O3・5SiO2)、タルク(3MgO・4SiO2・H2O)、チタン酸アルミニウム(TiO2・Al2O3)、イットリア含有ジルコニア(Y2O3・ZrO2)、ケイ酸バリウム(BaO・8SiO2)、窒化ホウ素(BN)、炭酸カルシウム(CaCO3)、硫酸バリウム(BaSO4)、硫酸カルシウム(CaSO4)、酸化亜鉛(ZnO)、チタン酸マグネシウム(MgO・TiO2)、ハイドロタルサイト、雲母、焼成カオリン、カーボン等が好ましく挙げられる。これらの(E)無機フィラーは、1種単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
本実施形態の感光性樹脂組成物は、(F)成分として顔料を含有することが好ましい。
(F)顔料は、配線パターンを隠蔽する際等に所望の色に応じて好ましく用いられるものである。(F)顔料としては、所望の色を発色する着色剤を適宜選択して用いればよく、着色剤としては、例えば、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、アイオディングリーン、ジアゾイエロー、クリスタルバイオレット等の公知の着色剤が好ましく挙げられる。
本実施形態の感光性樹脂組成物は、必要に応じて、粘度を調整するために、希釈剤を用いることができる。希釈剤としては、例えば、有機溶剤、光重合性モノマー等が好ましく挙げられる。有機溶剤は、例えば、上記のエポキシ樹脂(a)とビニル基含有モノカルボン酸(b)との反応において用い得る有機溶剤として例示した溶剤の中から適宜選択して用いることができる。また、光重合性モノマーとしては、上記の(D)光重合性化合物で例示したものが好ましく挙げられる。
ブロック型イソシアネートとしては、ポリイソシアネート化合物とイソシアネートブロック剤との付加反応生成物が用いられる。このポリイソシアネート化合物としては、例えば、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ナフチレンジイソシアネート、ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、メチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等のポリイソシアネート化合物、並びにこれらのアダクト体、ビューレット体及びイソシアヌレート体などが好ましく挙げられる。
さらに、臭素化エポキシ化合物、酸変性臭素化エポキシ化合物、アンチモン化合物、リン系化合物のホスフェート化合物、芳香族縮合リン酸エステル、含ハロゲン縮合リン酸エステル等の難燃剤を用いることができる。
本実施形態の感光性樹脂組成物は、エラストマーを含有することができる。エラストマーは、特に、本実施形態の感光性樹脂組成物を半導体パッケージ基板の製造に用いる場合に好ましく用いられる。本実施形態の感光性樹脂組成物にエラストマーを添加することにより、紫外線、熱等により硬化反応が進行することで、(A)酸変性ビニル基含有エポキシ樹脂の硬化収縮による樹脂内部の歪み(内部応力)に起因した、可とう性及び接着性の低下を抑えることができる。
また、本実施形態の感光性樹脂組成物は、液体状であることが好ましい。液体状とすることで、後述する各種塗布方法により容易に永久マスクレジストを形成することができる。
本実施形態の感光性樹脂組成物は、感光性エレメント、及び永久マスクレジストの形成に好適に用いられ、本実施形態の感光性エレメント、及び永久マスクレジストは、本実施形態の感光性樹脂組成物を用いて形成されるものである。
本実施形態の感光性エレメントは、支持体と、該支持体上に本実施形態の感光性樹脂組成物を用いてなる感光層とを備えるものである。支持体としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂フィルム、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂フィルムなどの耐熱性及び耐溶剤性を有する樹脂フィルムが好ましく挙げられ、透明性の見地からは、ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いることが好ましい。また、支持体の厚さは、機械的強度、良好な解像度を得ること等を考慮すると、1〜100μmが好ましく、1〜50μmがより好ましく、1〜30μmがさらに好ましい。
感光層(塗膜)を基材上に形成した後、ネガフィルムを直接接触させて、又は透明なフィルムを介し、紫外線等の活性線を好ましくは10〜1,000mJ/cm2のエネルギー量で照射し、樹脂フィルムを貼り付けた場合は該樹脂フィルムを剥離して、未露光部を希アルカリ水溶液で溶解除去(現像)する。
次に、露光部分を後露光(紫外線露光)、後加熱、又は後露光及び後加熱によって充分硬化させて硬化膜を得る。後露光は、例えば、1〜5J/cm2が好ましく、後加熱は、100〜200℃で30分間〜12時間が好ましい。
(1)表面硬化性の評価
各実施例及び比較例の感光性樹脂組成物を、厚さ35μmのPETフィルムに、乾燥後の膜厚が35μmになるようにアプリケータで塗布して塗膜を形成した。次いで、80℃で20分間熱風循環式乾燥機を用いて乾燥させた。得られた塗膜の表面の赤外吸収スペクトル(ATR(Attenuated Total Reflection)法)を下記条件にて測定した。
・測定装置:サーモフィッシャーサイエンティフィック(株)製、商品名:Nicolet iS50R
・積算回数:128回
次に、紫外線露光装置((株)ハイテック製、商品名:HTE−5102S)を用いて600mJ/cm2の露光量で露光した。露光後の塗膜の表面の赤外吸収スペクトル(ATR法)を、前記と同様の条件で測定し、露光前後における、1470cm-1に現れる炭素―炭素二重結合の変化率を下記式から求め、積算回数3回の平均値を表面硬化性(%)とした。
二重結合の変化率(%)=100−(露光後の炭素−炭素二重結合量/露光前の炭素−炭素二重結合量×100)
各実施例及び比較例の感光性樹脂組成物を、厚さ35μmのPETフィルムに、乾燥後の膜厚が35μmになるようにアプリケータで塗布して塗膜を形成した。次いで、80℃で20分間熱風循環式乾燥機を用いて乾燥させた。次に、塗膜にステップタブレット41段(日立化成(株)製)を密着させて、所定の積算露光量の紫外線(大日本スクリーン製造(株)製直描機、「LI9200(型番)」)を50mJ/cm2で全面照射した。次いで、1質量%の炭酸ナトリウム水溶液で60秒間現像した後、現像されずに残った塗膜の段数を確認した。段数により、以下の基準で評価した。
A(優良):10段以上
B(良): 6〜9段
C(不良):5段以下
各実施例及び比較例の感光性樹脂組成物を、厚さ35μmのPETフィルムに、乾燥後の膜厚が35μmになるようにアプリケータで塗布して塗膜を形成した。次いで、80℃で20分間熱風循環式乾燥機を用いて乾燥させた。得られた塗膜の表面の赤外吸収スペクトル(ATR法)を下記条件にて測定した。
・測定装置:サーモフィッシャーサイエンティフィック(株)製、商品名:Nicolet iS50R
・積算回数:128回
次に、紫外線露光装置((株)ハイテック製、商品名:HTE−5102S)を用いて600mJ/cm2の露光量で露光した。その後、PETフィルムから露光した塗膜を剥がし、露光後のPETフィルム面側の塗膜の赤外吸収スペクトル(ATR法)を、前記と同様の条件で測定した。露光前後における、1470cm-1に現れる炭素−炭素二重結合の変化率を下記式から求め、積算回数3回の平均値を塗膜底部硬化性(%)とした。
二重結合の変化率(%)=100−(露光後の炭素−炭素二重結合量/露光前の炭素−炭素二重結合量×100)
各実施例及び比較例の感光性樹脂組成物を、50cm×50cmの大きさで、厚さ0.6mmの銅張積層基板(日立化成(株)製、商品名:MCL−E−67)に、乾燥後の膜厚が35μmになるようにスクリーン印刷法で塗布して塗膜を形成した後、80℃で20分間熱風循環式乾燥機を用いて乾燥させた。
次いで、図2に示される、穴径の大きさが100μm且つ穴間の間隔ピッチが100μmのパターン、及び穴径の大きさが80μm且つ穴間の間隔ピッチが80μmのパターンを有するネガマスクを各々塗膜に密着させ、紫外線露光装置((株)ハイテック製、商品名:HTE−5102S)を用いて表1〜6に示される所定の露光量で露光した。
その後、1質量%の炭酸ナトリウム水溶液で60秒間、0.18MPa(1.8kgf/cm2)の圧力でスプレー現像し、未露光部を溶解現像した。次に、紫外線露光装置((株)ジーエス・ユアサ ライティング製、商品名:コンベア型UV照射装置)を用いて1000mJ/cm2の露光量で露光した後、150℃で1時間加熱して、試験片を作製した。
パターンが形成された試験片をエポキシ樹脂(三菱化学(株)製、エピコート828(商品名))と硬化剤としてトリエチレンテトラミンを用いた熱硬化性樹脂で注型し充分硬化後に、研磨機(リファインテック(株)製、商品名:リファインポリッシャー」)で研磨してパターンの断面を削り出してレジスト形状を金属顕微鏡で観察し、以下の基準で評価した。図1にレジストの断面形状を模式的に示す。
A(優良):レジスト形状は矩形又は台形を呈し、且つパターン輪郭の直線性が良かった。
B(不良):レジスト形状はアンダーカット、裾引き、若しくは太りが確認された、又はパターン輪郭の直線性が悪かった。
各実施例及び比較例の感光性樹脂組成物を、50cm×50cmの大きさで、厚さ0.6mmの銅張積層基板(日立化成(株)製、商品名:MCL−E−67)に、乾燥後の膜厚が35μmになるようにスクリーン印刷法で塗布して塗膜を形成した後、80℃で20分間熱風循環式乾燥機を用いて乾燥させた。
次いで、図2に示されるパターンを有するネガマスクを各々塗膜に密着させ、紫外線露光装置((株)ハイテック製、商品名:HTE−5102S)を用いて600mJ/cm2の露光量で露光した。その後、1質量%の炭酸ナトリウム水溶液で60秒間、0.18MPa(1.8kgf/cm2)の圧力でスプレー現像し、未露光部を溶解現像して試験片を作製した。得られた試験片のパターンについて、以下の基準で評価した。
A(優良):100μm及び80μmのパターンが80%再現された。
B(不良):100μm及び80μmのパターンが80%未満しか再現されなかった。
ここで、マイクロスコープを用いて、700倍に拡大して、100μm及び80μmのパターンを観察し、100μmのパターンの場合、パターン底部が80μm以上(パターン径に対して80%以上)の大きさで形成できている場合を、パターンが再現できたものとした。80μmのパターンの場合、パターン底部が64μm以上の大きさで形成できている場合を、パターンが再現できたものとした。なお、「A」、「B」の判断において、100μm及び80μmのパターンの総数に対して、形成できたパターンの総数が80%以上である場合を、「A」として評価した。
上記(4)レジスト形状の評価で用いた試験片と同じ条件で作製した試験片に、水溶性フラックス(アルファメタルズ(株)製、商品名:K−183)を塗布し、265℃のはんだ槽に10秒間浸漬した後、はんだ層から取り出した。浸漬と取り出しを1サイクルとして、6サイクル繰り返した後、塗膜外観を目視観察し、以下の基準で評価した。
A(優良):塗膜30cm×30cmの範囲内に、外観変化は確認されなかった。
B(良): 塗膜30cm×30cmの範囲内に、1個〜5個の塗膜のウキ又はフクレが確認された。
C(不良):塗膜30cm×30cmの範囲内に、6個以上の塗膜のウキ又はフクレが確認された。
上記(4)レジスト形状の評価で用いた試験片と同じ条件で作製した試験片に、無洗浄型フラックス(千住金属工業(株)製、商品名:RMA SR−209)を塗布し、280℃に設定したはんだ槽に10秒間浸漬した後、はんだ層から取り出した。該浸漬と取り出しを1サイクルとして、10サイクル繰り返した後、取り出した試験片の塗膜外観を目視観察し、以下の基準で評価した。
A:レジストの塗膜の外観変化は確認されなかった。
B:わずかにレジストの塗膜の剥がれが確認されたが、実用上問題ない程度であった。
C:レジストの塗膜の膨れ又は剥がれが確認された。
上記(4)レジスト形状の評価で用いた試験片と同じ条件で作製した試験片を、−65℃で30分間保持した後、150℃で30分間保持する工程を1サイクルとして、1000サイクル繰り返した後、試験片の塗膜外観を目視観察し、以下の基準で評価した。
A(優良):塗膜30cm×30cmの範囲内に、外観変化は確認されなかった。
B(良): 塗膜30cm×30cmの範囲内に、1個〜5個の塗膜のウキ又はフクレが確認された。
C(不良):塗膜30cm×30cmの範囲内に、6個以上の塗膜のウキ又はフクレが確認された。
各実施例及び比較例の感光性樹脂組成物を、銅表面をバフ研磨(深さ方向で5μm粗化)した厚さ0.6mmの銅張積層基板(日立化成(株)製、商品名:MCL−E−67)と化学研磨(メック(株)製の研磨剤CZ8101を使用して深さ方向で0.5μm粗化)した厚さ0.6mmの銅張積層基板(日立化成(株)製、商品名:MCL−E−67)に、乾燥後の膜厚が35μmになるようにスクリーン印刷法で塗布して塗膜を形成した後、80℃で20分間熱風循環式乾燥機を用いて乾燥させた。
次いで、図2に示されるパターンを有するネガマスクを各々塗膜に密着させ、紫外線露光装置((株)ハイテック製、商品名:HTE−5102S)を用いて600mJ/cm2の露光量で露光した。その後、1質量%の炭酸ナトリウム水溶液で60秒間、0.18MPa(1.8kgf/cm2)の圧力でスプレー現像し、未露光部を溶解現像した。次に、紫外線露光装置((株)ジーエス・ユアサ ライティング製、商品名:コンベア型UV照射装置)を用いて1000mJ/cm2の露光量で露光し、150℃で1時間加熱して、試験片を作製した。
得られた試験片について、JIS K5600に準じて、1mmのごばん目を100個作製し、セロハンテープ(ニチバン(株)製、商品名:セロテープ(登録商標))を貼り付けた後、90度の方向にセロハンテープを強制的に剥離する剥離試験を行った。ごばん目の剥離状態を観察し、以下の基準で評価した。
A(優良):90/100以上で剥離がなかった。
B(良): 50/100以上、90/100未満で剥離がなかった。
C(不良):0/100以上、50/100未満で剥離がなかった。
上記(4)レジスト形状の評価で用いた試験片と同じ条件で作製した試験片を、イソプロピルアルコールに室温で30分間浸漬し、外観に異常がないかを目視確認した。次に、浸漬後の試験片の塗膜にセロハンテープ(ニチバン(株)製、商品名:セロテープ(登録商標))を貼り付けた後、90度の方向にセロハンテープを強制的に剥離する剥離試験を行い、塗膜の剥離の有無を目視確認し、以下の基準で評価した。
A(優良):塗膜の外観に異常が確認されず、且つ剥離がなかった。
B(不良):塗膜の外観に異常が確認された、又は剥離した。
上記(4)レジスト形状の評価で用いた試験片と同じ条件で作製した試験片を、10質量%塩酸水溶液に室温で30分間浸漬し、外観に異常がないかを目視確認した。次に、浸漬後の試験片の塗膜にセロハンテープ(ニチバン(株)製、商品名:セロテープ(登録商標))を貼り付けた後、90度の方向にセロハンテープを強制的に剥離する剥離試験を行い、塗膜の剥離の有無を目視確認し、以下の基準で評価した。
A(優良):塗膜外観に異常が確認されず、且つ剥離がなかった。
B(不良):塗膜外観に異常が確認された、又は剥離した。
上記(4)レジスト形状の評価で用いた試験片と同じ条件で作製した試験片を、5質量%水酸化ナトリウム水溶液に室温で30分間浸漬し、外観に異常がないかを目視確認した。次に、浸漬後の試験片の塗膜にセロハンテープ(ニチバン(株)製、商品名:セロテープ(登録商標))を貼り付けた後、90度の方向にセロハンテープを強制的に剥離する剥離試験を行い、塗膜の剥離の有無を目視確認し、以下の基準で評価した。
A(優良):塗膜外観に異常が確認されず、且つ剥離がなかった。
B(不良):塗膜外観に異常が確認された、又は剥離した。
上記(4)レジスト形状の評価において、図2に示されるパターンを、図3に示される1mm角の格子状のパターンとした以外は、上記(4)レジスト形状の評価と同様にして試験片を得た。次に、高活性の水溶性フラックス(アルファメタルズ(株)製、商品名:K−183)を得られた試験片の全面に塗布し、3分間縦置きで放置して余分なフラックスを除去した。次に、試験片を130℃で1分間プレヒートし、次いで280℃のはんだ槽に20秒間浸漬した後、はんだ槽から取り出した。室温にて1分間放冷してから水洗し、水滴を拭取ったところで、外観を目視観察した。また試験片の最小回路幅の箇所に24mm幅のセロハンテープ(ニチバン(株)製、商品名:セロテープ(登録商標))を貼り付け、90度の方向にセロハンテープを強制的に剥離する剥離試験を行い、剥離後の試験片の外観を目視観察し、以下の基準で評価した。
5:剥離試験後でもレジストが存在する部分の剥離は全く確認されなかった。
4:剥離試験後に、レジストが存在する部分の20%以下の剥離が確認された。
3:剥離試験前にレジストが存在する部分においてわずかに白化が確認され、剥離試験後にレジストが存在する部分20%以下の剥離が確認されたが、実用上は問題なかった。
2:剥離試験前にレジストが存在する部分において白化が確認され、剥離試験後にレジストが存在する部分の20%以上の剥離が確認された。
1:剥離試験前にレジストが存在する部分において著しい白化が確認され、剥離試験後に著しい剥離が確認された。
上記(4)レジスト形状の評価で用いた試験片と同じ条件で作製した試験片を、市販品の無電解ニッケルめっき浴及び無電解金めっき浴を用いて、ニッケル5μm、金0.05μmの厚みとなる条件でめっきを行った。めっき後、めっきの染み込みの有無を目視確認した。次に、浸漬後の試験片の塗膜にセロハンテープ(ニチバン(株)製、商品名:セロテープ(登録商標))を貼り付けた後、90度の方向にセロハンテープを強制的に剥離する剥離試験を行い、塗膜の剥離の有無を目視確認し、以下の基準で評価した。
A:染み込み、及び剥がれが見られなかった。
B:めっき後に染み込みが見られたが、剥がれは見られなかった。
C:めっき後に剥がれが見られた。
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(新日鉄住金化学(株)製、商品名:YDCN704、一般式(I)において、Y1=グリシジル基、R11=メチル基)220質量部、アクリル酸72質量部、ハイドロキノン1.0質量部、カルビトールアセテート180質量部を混合し、90℃に加熱、撹拌して反応混合物を溶解させた。次いで、60℃に冷却し、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム1質量部を混合し、100℃に加熱して、固形分酸価が1mgKOH/gになるまで反応させた。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸152質量部とカルビトールアセテート100質量部を混合し、80℃に加熱し、6時間撹拌した。室温まで冷却した後、固形分濃度が60質量%になるようにカルビトールアセテートで希釈して酸変性ビニル基含有エポキシ樹脂(I)を含む溶液を得た。
なお、実施例における固形分酸価は中和滴定法によって測定した。具体的には、酸変性ビニル其含有エポキシ樹脂を含む溶液1gにアセトン30gを添加し、さらに均一に溶解させた後、指示薬であるフェノールフタレインを、上記酸変性ビニル其含有エポキシ樹脂を含む溶液に適量添加して、0.1Nの水酸化カリウム水溶液を用いて滴定を行うことで測定した。
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(新日鉄住金化学(株)製、商品名:YDF2001、一般式(II)において、Y2=グリシジル基、R12=H)475質量部、アクリル酸72質量部、ハイドロキノン0.5質量部、カルビトールアセテート120質量部を混合し、90℃に加熱、撹拌して反応混合物を溶解させた。次いで、60℃に冷却し、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム2質量部を混合し、100℃に加熱して、固形分酸価が1mgKOH/gになるまで反応させた。次いで、テトラヒドロ無水フタル酸230質量部とカルビトールアセテート85質量部を混合し、80℃に加熱し、6時間撹拌した。室温まで冷却した後、固形分濃度が60質量%になるようにカルビトールアセテートで希釈して酸変性ビニル基含有エポキシ樹脂(II)−aを含む溶液を得た。
温度計、滴下ロート、冷却管、及び撹拌機を設けたフラスコに、80℃で溶解させたビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン272質量部を仕込み、80℃で撹拌を開始した。これにメタンホスホン酸3質量部を添加し、液温が80〜90℃の範囲を維持するように、パラホルムアルデヒド水溶液(濃度:92質量%)16.3質量部を1時間かけて滴下した。滴下が終了した後、110℃まで加熱し、2時間撹拌した。次いで、さらにメチルイソブチルケトン1000質量部を加え、分液ロートに移して水洗した。洗浄水が中性を示すまで水洗を続けた後、有機層から溶媒及び未反応のビス(4−ヒドロキシフェニル)メタンを加熱減圧下(温度:220℃、圧力:66.7Pa)で除去し、褐色固体であるビスフェノール系ノボラック樹脂164質量部を得た。得られたビスフェノール系ノボラック樹脂の軟化点は74℃、水酸基当量は154g/eqであった。
なお、樹脂の軟化点は、JIS−K7234:1986に定める環球法に準拠して測定した(昇温速度:5℃/分)。
温度計、滴下ロート、冷却管、及び撹拌機を設けたフラスコに、80℃で溶解させた2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン272質量部を仕込み、80℃で撹拌を開始した。これにメタンホスホン酸3質量部を添加し、液温が80〜90℃の範囲を維持するように、パラホルムアルデヒド(92質量%)16.3質量部を1時間かけて滴下した。滴下が終了した後、110℃まで加熱し、2時間撹拌した。次いで、さらにメチルイソブチルケトン1000質量部を加え、分液ロートに移して水洗した。洗浄水が中性を示すまで水洗を続けた後、有機層から溶媒及び未反応の2,2−(4−ヒドロキシフェニル)プロパンを加熱減圧下(温度:240℃、圧力:26.7Pa)に除去し、褐色固体であるビスフェノール系ノボラック樹脂164質量部を得た。得られたビスフェノール系ノボラック樹脂の軟化点は87℃、水酸基当量は174g/eqであった。
温度計、滴下ロート、冷却管、及び撹拌機を設けたフラスコに、ビスフェノールFノボラック型エポキシ樹脂(DIC(株)製、商品名:EXA−7376、一般式(IV)において、Y4及びY5=グリシジル基、R13=水素原子)350質量部、アクリル酸70質量部、メチルハイドロキノン0.5質量部、カルビトールアセテート120質量部を混合し、90℃に加熱して撹拌することにより反応させ、混合物を完全に溶解した。次に、得られた溶液を60℃に冷却し、トリフェニルホスフィン2質量部を加え、100℃に加熱して、溶液の酸価が1mgKOH/gになるまで反応させた。反応後の溶液に、テトラヒドロ無水フタル酸(THPAC)98質量部とカルビトールアセテート85質量部とを加え、80℃に加熱して、6時間反応させた。その後、室温まで冷却し、固形分の濃度が73質量%である酸変性ビニル基含有エポキシ樹脂(IV)−cを含む溶液を得た。
温度計、滴下ロート、冷却管、及び撹拌機を設けたフラスコに、ビスフェノールF型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製、商品名:4004、エポキシ当量:526g/eq、一般式(II)において、Y2=水素原子、R12=水素原子)1,052質量部、アクリル酸(b)144質量部、メチルハイドロキノン1質量部、カルビトールアセテート850質量部及びソルベントナフサ100質量部を混合し、70℃で加熱撹拌して、混合物を溶解した。次に、溶液を50℃まで冷却し、トリフェニルホスフィン2質量部、ソルベントナフサ75質量部を混合し、100℃に加熱し、固形分酸価が1mgKOH/g以下になるまで反応させた。次に、得られた溶液を50℃まで冷却し、テトラヒドロ無水フタル酸(THPAC)745質量部、カルビトールアセテート75質量部及びソルベントナフサ75質量部を混合し、80℃に加熱して、6時間反応させた。その後、室温まで冷却し、固形分酸価80mgKOH/g、固形分が62質量%である酸変性ビニル基含有エポキシ樹脂(II)−bを含む溶液を得た。
表1〜6に示す配合組成に従って組成物を配合し、3本ロールミルにより混練し感光性樹脂組成物を調製した。固形分濃度が70質量%になるようにカルビトールアセテートを加えて、感光性樹脂組成物を得た。得られた感光性樹脂組成物を用いて、上記の評価方法に基づき評価した。評価結果を表1〜6に示す。なお、表中の各成分の配合量の単位は、質量部であり、表中(A)成分の配合量は各合成例で得られたエポキシ樹脂を含む溶液としての配合量を意味する。
表6に示す配合組成に従って、実施例1と同様の方法で感光性樹脂組成物を調製した。得られた各感光性樹脂組成物をメチルエチルケトンにて希釈し、PETフィルム上に塗布した後、90℃で10分乾燥し、厚さ25μmの感光性樹脂組成物からなる感光層を形成した。さらにその上にポリエチレンフィルム(保護層)を貼り合わせて感光性エレメントを作製した。
上記で得られた感光性エレメントから保護層を剥がし、ベタの銅箔基板に、該感光性エレメントを熱ラミネートした。次いで、図2に示される、穴径の大きさが100μm且つ穴間の間隔ピッチが100μmのパターン、又は穴径の大きさが80μm且つ穴間の間隔ピッチが80μmのパターンを有するネガマスクを塗膜に密着させ、紫外線露光装置((株)ハイテック製、商品名:HTE−5102S)を用いて表6に示される所定の露光量で露光した。その後、1質量%の炭酸ナトリウム水溶液で60秒間、0.18MPa(1.8kgf/cm2)の圧力でスプレー現像し、未露光部を溶解現像した。次に、紫外線露光装置((株)ジーエス・ユアサ ライティング製、商品名:コンベア型UV照射装置)を用いて1000mJ/cm2の露光量で露光した後、150℃で1時間加熱し、試験片を作製した。得られた試験片を用いて、実施例31と同様の評価を行った。評価結果を表6に示す。
・イルガキュア819:ビス(2,4,6‐トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド(BASFジャパン(株)製、商品名)
・ダロキュアTPO:2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド(BASFジャパン(株)製、商品名)
・イルガキュア907:2−メチル−[4−(メチルチオ)フェニル]モルホリノ−1−プロパノン(BASFジャパン(株)製、商品名)
・イルガキュアOXE01:(1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(o−ベンゾイルオキシム)](BASFジャパン(株)、商品名)
・カヤラッドDPHA:ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(日本化薬(株)製、商品名)
・BaSO4:堺化学工業(株)製
・SiO2:(株)龍森製
・エピコート828:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製、商品名)
これに対して比較例1〜4では、底部硬化性とレジスト形状の問題が解消されず、また、永久マスクレジスト(はんだレジスト)のパターン周囲の太りも発生しており不充分な結果であった。
・イルガキュア819:ビス(2,4,6‐トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド(BASFジャパン(株)製、商品名)
・ダロキュアTPO:2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド(BASFジャパン(株)製、商品名)
・イルガキュア907:2−メチル−[4−(メチルチオ)フェニル]モルホリノ−1−プロパノン(BASFジャパン(株)製、商品名)
・イルガキュア369:2−ベンゾイル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノ−フェニル)ブタノン−1(BASFジャパン(株)製、商品名)
・ピラゾリン系増感剤:1−フェニル−3−(4−tert−ブチル−スチリル)−5−(4−tert−ブチル−フェニル)−ピラゾリン
・EAB:4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノン(保土ヶ谷化学(株)製)
・DETX−S:2,4−ジエチルチオキサントン((日本化薬(株)製)
・カヤラッドDPHA:ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(日本化薬(株)製、商品名)
・BaSO4:堺化学工業(株)製
・SiO2:(株)龍森製
・エピコート828:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製、商品名)
これに対して比較例5〜12では、底部硬化性とレジスト形状の問題が解消されず、また、永久マスクレジスト(はんだレジスト)のパターン(穴径の大きさが100μm且つ穴間の間隔ピッチ100μmのパターン、又は穴径の大きさが80μm且つ穴間の間隔が80μmのパターン)周囲の太りも発生しており不充分な結果であった。
・イルガキュア819:ビス(2,4,6‐トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド(BASFジャパン(株)製、商品名)
・ダロキュアTPO:2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド(BASFジャパン(株)製、商品名)
・イルガキュア907:2−メチル−[4−(メチルチオ)フェニル]モルフォリノ−1−プロパノン(BASFジャパン(株)製、商品名)
・アントラセン系増感剤1:9,10−ジブトキシアントラセン
・アントラセン系増感剤2:9,10−ジエトキシアントラセン
・アントラセン系増感剤3:9,10−ジプロポキシアントラセン
・EAB:4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノン(保土ヶ谷化学(株)製)
・DETX−S:2,4−ジエチルチオキサントン(日本化薬(株)製)
・カヤラッドDPHA:ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(日本化薬(株)製、商品名)
・BaSO4:堺化学工業(株)製
・SiO2:(株)龍森製
・エピコート828:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製、商品名)
これに対して比較例13〜20では、光硬化性及び底部硬化性が低く、レジスト形状はアンダーカットを呈してしまい、レジスト形状が悪かった。
・イルガキュア819:ビス(2,4,6‐トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド(BASFジャパン(株)製、商品名)
・ダロキュアTPO:2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド(BASFジャパン(株)製、商品名)
・イルガキュア907:2−メチル−[4−(メチルチオ)フェニル]モルホリノ−1−プロパノン(BASFジャパン(株)製、商品名)
・イミダゾール:2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体
・アクリジン:1,7−ビス(9,9’−アクリジニル)ヘプタン
・チタノセン:ビス(η5−シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)フェニル)チタニウム
・イルガキュアOXE01:(1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(o−ベンゾイルオキシム)](BASFジャパン(株)製、商品名)
・カヤラッドDPHA:ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(日本化薬(株)製、商品名)
・BaSO4:堺化学工業(株)製
・SiO2:(株)龍森製
・エピコート828:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製、商品名)
これに対して比較例21〜24では、底部硬化性とレジスト形状の問題が解消されず、また、永久マスクレジストのパターン周囲の太りも発生しており不充分な結果であった。
・イルガキュア819:ビス(2,4,6‐トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド(BASFジャパン(株)製、商品名)
・ダロキュアTPO:2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド(BASFジャパン(株)製、商品名)
・イルガキュア907:2−メチル−[4−(メチルチオ)フェニル]モルフォリノ−1−プロパノン(BASFジャパン(株)製、商品名)
・イルガノックス1010:ペンタエリトリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオナート](BASFジャパン(株)製、商品名)
・イルガノックス1035:チオジエチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオナート](BASFジャパン(株)製、商品名)
・イルガノックス1076:オクタデシル[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオナート](BASFジャパン(株)製、商品名)
・カヤラッドDPHA:ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(日本化薬(株)製、商品名)
・BaSO4:堺化学工業(株)製
・SiO2:(株)龍森製
・エピコート828:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製、商品名)
これに対して比較例25〜30では、表面硬化性及び底部硬化性が低く、レジスト形状はアンダーカットを呈してしまい、比較例29及び30では、現像時の照射線量を大きくしたことで、表面硬化性及び底部硬化性は良好であったものの、ハレーションが大きくなり、パターン断面の表面部(上部)の線幅に対して中間部(中心部)及び最深部(底部)の線幅が大きくなってしまい、レジスト形状が悪化した。
・イルガキュア819:ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド(BASFジャパン(株)製、商品名)
・イルガキュア907:2−メチル−[4−(メチルチオ)フェニル]モルホリノ−1−プロパノン(BASFジャパン(株)製、商品名)
・DETX−S:2,4−ジエチルチオキサントン(日本化薬(株)製、商品名)
・MBI:メルカプトベンゾイミダゾール
・フタロシアニン系顔料:山陽色素(株)製
・アロニックスM402:ジペンタエリストールヘキサアクリレート(東亜合成(株)製、商品名)
・BaSO4:堺化学工業(株)製
・SiO2:(株)龍森製
・YSLV−80XY:テトラメチルビスフェノールF型エポキシ樹脂(新日鐵化学(株)製、商品名)
・RE−306:ノボラック型多官能エポキシ樹脂(日本化薬(株)製、商品名)
・PB−3600:エポキシ化ポリブタジエン(ダイセル化学(株)製、商品名)
・SP1108:ポリエステル樹脂(日立化成(株)製、商品名)
・DICY 7:ジシアンジアミド
また、耐無電界めっき性、はんだ耐熱性、耐クラック性、密着性、耐溶剤性、耐薬品性(耐酸性、耐アルカリ性)等の各種性能にも優れていることが確認された。
これに対して比較例31〜34の感光性樹脂組成物は、レジスト形状が悪化すると共に、はんだ耐熱性、及び耐クラック性にも劣るものであった。
Claims (15)
- (A)酸変性ビニル基含有エポキシ樹脂と、(B)アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤と、(C1)アルキルアミノベンゼン誘導体、(C2)ピラゾリン系増感剤又はアントラセン系増感剤、(C3)イミダゾール系光重合開始剤、アクリジン系光重合開始剤、及びチタノセン系光重合開始剤から選ばれる少なくとも一種の光重合開始剤、(C4)ヒンダードフェノール系酸化防止剤、キノン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、及びリン系酸化防止剤から選ばれる少なくとも一種の酸化防止剤、並びに(C5)チオール基含有化合物から選ばれる少なくとも1種の(C)添加剤と、(D)光重合性化合物とを含む感光性樹脂組成物。
- (A)酸変性ビニル基含有エポキシ樹脂が、一般式(I)で示される構成単位を有するエポキシ樹脂、一般式(II)で示される構成単位を有するエポキシ樹脂、一般式(III)で示される構成単位を有するエポキシ樹脂、一般式(IV)で示される構成単位を有するビスフェノールノボラック型エポキシ樹脂、及び一般式(V)で示される構成単位を有するビスフェノールノボラック型エポキシ樹脂から選ばれる少なくとも一種のエポキシ樹脂(a)とビニル基含有モノカルボン酸(b)とを反応させて得られる樹脂(a’)と、飽和基又は不飽和基含有多塩基酸無水物(c)とを反応させて得られる樹脂である、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- (B)アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤が、(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,6−トリメチルベンゾイル−ペンチルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、エチル−2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィネイト、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド、(2,5−ジヒドロキシフェニル)ジフェニルホスフィンオキサイド、(p−ヒドロキシフェニル)ジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(p−ヒドロキシフェニル)フェニルホスフィンオキサイド、及びトリス(p−ヒドロキシフェニル)ホスフィンオキサイドより選ばれた少なくとも一種である、請求項1又は2に記載の感光性樹脂組成物。
- (C)添加剤が、フェニルグリシン誘導体、アミノ安息香酸誘導体、及びアミノ安息香酸エステル誘導体から選ばれる少なくとも一種の(C1)アルキルアミノベンゼン誘導体である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
- (C)添加剤が、下記一般式(VI)で示される(C2)ピラゾリン系増感剤である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
- (C)添加剤が、ジアルキルアントラセン、ジフェニルアントラセン、及びジアルコキシアントラセンから選ばれる少なくとも一種の(C2)アントラセン系増感剤である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
- (C)添加剤が、2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体、1,7−ビス(9,9’−アクリジニル)ヘプタン、ビス(η5−シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)フェニル)チタニウム、及びビス(2,4−シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1−ピリル)フェニル)チタニウムから選ばれる少なくとも一種の(C3)光重合開始剤である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
- (C)添加剤が、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、及びリン系酸化防止剤から選ばれる少なくとも一種の(C4)酸化防止剤である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
- (C)添加剤が、メルカプトベンゾオキサゾール、メルカプトベンゾチアゾール、及びメルカプトベンゾイミダゾールから選ばれる少なくとも1種の(C5)チオール基含有化合物である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記(D)光重合性化合物が、(メタ)アクリロイル基を含有する化合物である、請求項1〜9のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
- さらに、(E)無機フィラーを含有する請求項1〜10のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
- 永久マスクレジストの形成に用いられる請求項1〜11のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
- 支持体と、該支持体上に請求項1〜12のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物を用いてなる感光層とを備える感光性エレメント。
- 請求項1〜12のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物により形成される永久マスクレジスト。
- 請求項14に記載の永久マスクレジストを具備するプリント配線板。
Applications Claiming Priority (11)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013161890 | 2013-08-02 | ||
JP2013161893 | 2013-08-02 | ||
JP2013161885 | 2013-08-02 | ||
JP2013161886 | 2013-08-02 | ||
JP2013161885 | 2013-08-02 | ||
JP2013161886 | 2013-08-02 | ||
JP2013161890 | 2013-08-02 | ||
JP2013161888 | 2013-08-02 | ||
JP2013161888 | 2013-08-02 | ||
JP2013161893 | 2013-08-02 | ||
PCT/JP2014/070400 WO2015016362A1 (ja) | 2013-08-02 | 2014-08-01 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2015016362A1 true JPWO2015016362A1 (ja) | 2017-03-02 |
JP6455433B2 JP6455433B2 (ja) | 2019-01-23 |
Family
ID=52431885
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015529634A Active JP6455433B2 (ja) | 2013-08-02 | 2014-08-01 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6455433B2 (ja) |
KR (4) | KR20160039579A (ja) |
CN (1) | CN105431778A (ja) |
TW (2) | TWI691792B (ja) |
WO (1) | WO2015016362A1 (ja) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6710059B2 (ja) * | 2015-02-26 | 2020-06-17 | マクセルホールディングス株式会社 | 配列用マスク及びその製造方法、半田バンプの形成方法 |
JP7018168B2 (ja) | 2015-12-22 | 2022-02-10 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | 感光性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法 |
US20190031790A1 (en) * | 2016-01-12 | 2019-01-31 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitive resin composition, dry film using same, printed wiring board, and method for manufacturing printed wiring board |
CN105428245B (zh) * | 2016-01-26 | 2019-03-01 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素结构及其制备方法、阵列基板和显示装置 |
JPWO2018179259A1 (ja) * | 2017-03-30 | 2020-06-18 | 日立化成株式会社 | 感光性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム、プリント配線板、及び、プリント配線板の製造方法 |
JP6601634B2 (ja) * | 2017-03-31 | 2019-11-06 | 協立化学産業株式会社 | 変性樹脂及びそれを含む硬化性樹脂組成物 |
US11022880B2 (en) * | 2017-10-25 | 2021-06-01 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, photosensitive dry film, method of manufacturing photosensitive dry film, method of manufacturing patterned resist film, method of manufacturing substrate with template, method of manufacturing plated article, and mercapto compound |
KR102660240B1 (ko) * | 2017-12-06 | 2024-04-23 | 닛뽄 가야쿠 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물, 드라이 필름 레지스트 및 그들의 경화물 |
WO2019173967A1 (en) * | 2018-03-13 | 2019-09-19 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitizer, photosensitive resin composition, photosensitive element, and method of producing wiring board |
JP7058335B2 (ja) * | 2018-03-13 | 2022-04-21 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | 光増感剤、感光性樹脂組成物、感光性エレメント、及び配線基板の製造方法 |
CN112424289A (zh) * | 2018-08-01 | 2021-02-26 | 东丽株式会社 | 树脂组合物、树脂片、固化膜、固化膜的制造方法、半导体装置及显示装置 |
CN108957954A (zh) * | 2018-08-03 | 2018-12-07 | 广东泰亚达光电有限公司 | 一种新型激光直描成像干膜及其制备方法 |
JP7216506B2 (ja) * | 2018-09-11 | 2023-02-01 | 太陽インキ製造株式会社 | めっきレジスト用感光性樹脂組成物、ドライフィルムおよびプリント配線板の製造方法 |
JP7270204B2 (ja) * | 2018-11-09 | 2023-05-10 | 互応化学工業株式会社 | 皮膜の製造方法及びプリント配線板 |
EP3702387B1 (en) * | 2019-02-28 | 2023-05-10 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive resin composition, and method for etching glass substrate |
JP6986534B2 (ja) * | 2019-09-11 | 2021-12-22 | 株式会社タムラ製作所 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂組成物を有するドライフィルム及び感光性樹脂組成物の光硬化物を有するプリント配線板 |
CN113929624A (zh) * | 2020-07-13 | 2022-01-14 | 常州强力电子新材料股份有限公司 | 一种吡唑啉类化合物、感光性树脂组合物及图形化方法 |
CN114437406B (zh) * | 2020-11-06 | 2024-06-04 | 中国石油化工股份有限公司 | 复配型抗氧剂和丁二烯橡胶组合物及其应用 |
CN115128901A (zh) | 2021-03-26 | 2022-09-30 | 太阳油墨制造株式会社 | 感光性树脂组合物、固化物、印刷布线板、及印刷布线板的制造方法 |
WO2023073799A1 (ja) * | 2021-10-26 | 2023-05-04 | 株式会社レゾナック | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、及び、積層体の製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007052392A (ja) * | 2005-07-22 | 2007-03-01 | Fujifilm Corp | パターン形成材料、並びに、パターン形成装置及びパターン形成方法 |
JP2007078890A (ja) * | 2005-09-12 | 2007-03-29 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、パターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法 |
JP2007256788A (ja) * | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Fujifilm Corp | 感光性フィルム、永久パターン形成方法、及びプリント基板 |
JP2012123410A (ja) * | 2006-03-29 | 2012-06-28 | Taiyo Holdings Co Ltd | 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物及びその硬化物並びにそれを用いて得られるプリント配線板 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3247091B2 (ja) | 1997-11-28 | 2002-01-15 | 日立化成工業株式会社 | 光硬化性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
JP4240885B2 (ja) | 2001-12-28 | 2009-03-18 | 日立化成工業株式会社 | フレキシブル配線板の保護膜を形成する方法 |
JP4761909B2 (ja) * | 2005-10-05 | 2011-08-31 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 感光性樹脂組成物及び積層体 |
KR101139543B1 (ko) * | 2007-05-11 | 2012-04-26 | 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 | 감광성 수지 조성물, 감광성 엘리먼트, 레지스트 패턴의 형성 방법 및 프린트 배선판의 제조 방법 |
KR101323928B1 (ko) * | 2008-09-04 | 2013-10-31 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 반도체 패키지용 프린트 배선판의 보호막용 감광성 수지 조성물 |
JP2010235739A (ja) | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 感光性黒色組成物 |
JP5325805B2 (ja) * | 2010-01-29 | 2013-10-23 | 株式会社タムラ製作所 | 感光性樹脂組成物およびその硬化膜を用いたプリント配線板 |
KR101151244B1 (ko) | 2010-06-07 | 2012-06-14 | 고려대학교 산학협력단 | 유도 전동기 공극 편심 진단 방법, 장치, 및 상기 방법을 실행시키기 위한 컴퓨터 프로그램을 기록한 매체 |
TW201224653A (en) * | 2010-09-01 | 2012-06-16 | Sumitomo Chemical Co | Photosensitive resin composition |
-
2014
- 2014-08-01 KR KR1020157037171A patent/KR20160039579A/ko not_active IP Right Cessation
- 2014-08-01 KR KR1020217011421A patent/KR102570738B1/ko active IP Right Grant
- 2014-08-01 JP JP2015529634A patent/JP6455433B2/ja active Active
- 2014-08-01 KR KR1020237027572A patent/KR20230124105A/ko not_active Application Discontinuation
- 2014-08-01 CN CN201480042096.6A patent/CN105431778A/zh active Pending
- 2014-08-01 KR KR1020217039725A patent/KR20210150619A/ko not_active Application Discontinuation
- 2014-08-01 WO PCT/JP2014/070400 patent/WO2015016362A1/ja active Application Filing
- 2014-08-04 TW TW108117792A patent/TWI691792B/zh active
- 2014-08-04 TW TW103126613A patent/TWI683186B/zh active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007052392A (ja) * | 2005-07-22 | 2007-03-01 | Fujifilm Corp | パターン形成材料、並びに、パターン形成装置及びパターン形成方法 |
JP2007078890A (ja) * | 2005-09-12 | 2007-03-29 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、パターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法 |
JP2007256788A (ja) * | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Fujifilm Corp | 感光性フィルム、永久パターン形成方法、及びプリント基板 |
JP2012123410A (ja) * | 2006-03-29 | 2012-06-28 | Taiyo Holdings Co Ltd | 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物及びその硬化物並びにそれを用いて得られるプリント配線板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6455433B2 (ja) | 2019-01-23 |
TWI683186B (zh) | 2020-01-21 |
KR20210046830A (ko) | 2021-04-28 |
KR20230124105A (ko) | 2023-08-24 |
KR20210150619A (ko) | 2021-12-10 |
TWI691792B (zh) | 2020-04-21 |
CN105431778A (zh) | 2016-03-23 |
TW201937290A (zh) | 2019-09-16 |
KR20160039579A (ko) | 2016-04-11 |
KR102570738B1 (ko) | 2023-08-25 |
WO2015016362A1 (ja) | 2015-02-05 |
TW201523150A (zh) | 2015-06-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6455433B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP5472692B2 (ja) | アルカリ現像可能な感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性フィルム | |
US9075307B2 (en) | Photosensitive resin composition for protective film of printed wiring board for semiconductor package | |
JP6402710B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法 | |
JP6003053B2 (ja) | 半導体パッケージ用プリント配線板の保護膜用感光性樹脂組成物及び半導体パッケージ | |
JP2017116652A (ja) | 感光性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法 | |
JP5641293B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及び感光性フィルム、永久レジスト | |
KR102666147B1 (ko) | 감광성 수지 조성물 | |
JP6398532B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP2015106141A (ja) | 感光性樹脂組成物、及び感光性エレメント | |
JP2011164516A (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント | |
TW202112831A (zh) | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂薄膜、印刷線路板及半導體封裝體、以及印刷線路板的製造方法 | |
JP5804336B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及び感光性フィルム、永久レジスト | |
JP6582804B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP6398533B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP6519134B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP2016066005A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP2015031849A (ja) | 感光性樹脂組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170703 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180508 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20181120 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20181203 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6455433 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |