JPWO2015008743A1 - 偏光板および液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
Description
前記第1の保護フィルムと前記偏光フィルムと前記第2の保護フィルムの厚さの合計が、90μm以下であり、
前記第1の保護フィルムの透湿度が、400g/m2・24hr以下であり、
前記第2の保護フィルムが、セルロースエステルと、リタデーション低下剤とを含み、
前記リタデーション低下剤は、フラノース構造もしくはピラノース構造を1個有する化合物(A)中の、またはフラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも1種を2個以上12個以下結合した化合物(B)中のOH基の全てもしくは一部を脂肪族アシル基によりエステル化した糖エステルを含み、
前記第2の保護フィルムにおいて、
下記式(i)で表されるRoが、0nm以上10nm以下であり、
下記式(ii)で表されるRtが、−10nm以上+10nm以下である。
式(i) Ro=(nx−ny)×d
式(ii) Rt={(nx+ny)/2−nz}×d
(式中、Roはフィルムの面内方向のリタデーション値、Rtはフィルムの厚み方向のリタデーション値、nxはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、nyはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、nzはフィルムの厚み方向の屈折率(屈折率は23℃、55%RHの環境下、波長590nmで測定)、dはフィルムの厚さ(nm)を表す。)
式(i) Ro=(nx−ny)×d
式(ii) Rt={(nx+ny)/2−nz}×d
(式中、Roはフィルムの面内方向のリタデーション値、Rtはフィルムの厚み方向のリタデーション値、nxはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、nyはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、nzはフィルムの厚み方向の屈折率(屈折率は23℃、55%RHの環境下、波長590nmで測定)、dはフィルムの厚さ(nm)を表す。)
〔フラノース構造もしくはピラノース構造を有する化合物〕
偏光板の第2の保護フィルムは、上述のように、セルロースエステルと、リタデーション低下剤とを含む。上記リタデーション低下剤は、フラノース構造もしくはピラノース構造を1個有する化合物(A)中の、あるいはフラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも1種を2個以上、12個以下結合した化合物(B)中のOH基の全てもしくは一部を脂肪族アシル基によりエステル化した化合物(以下、これらの化合物を糖エステルまたは糖エステル化合物とも言う)を含む。
第2の保護フィルムは、リタデーション低下剤として、重量平均分子量が500以上、30000以下であるアクリルポリマーを含有してもよい。このようなアクリルポリマーとしては、国際公開WO08/044463号公報の段落0059〜0093に記載のものが好ましく用いられる。
(一般式(B1)または(B2)で表されるポリエステル)
第2の保護フィルムは、リタデーション低下剤として、下記一般式(B1)または(B2)で表されるポリエステルを含有してもよい。これは炭素数2〜12の2価のアルコールGと炭素数2〜12の2塩基酸、炭素数1〜12のモノカルボン酸B1、もしくは炭素数1〜12のモノアルコールであるB2から得られたポリエステルある。
B1−(G−A−)mG−B1
(式中、B1は炭素数1〜12のモノカルボン酸を表し、Gは炭素数2〜12の2価のアルコールを表し、Aは炭素数2〜12の2塩基酸を表す。B1、G、Aはいずれも芳香環を含まない。mは繰り返し数を表す。)
B2−(A−G−)nA−B2
(式中、B2は炭素数1〜12のモノアルコールを表し、Gは炭素数2〜12の2価のアルコールを表し、Aは炭素数2〜12の2塩基酸を表す。B2、G、Aはいずれも芳香環を含まない。nは繰り返し数を表す。)
偏光板の第2の保護フィルムに用いるセルロースエステルには特に限定はないが、セルロースエステルとしては、炭素数2〜22程度のカルボン酸エステルであり、芳香族カルボン酸のエステルでもよく、特にセルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。
式(2): 0≦Y≦2.0
式中、Xはアセチル基の置換度、Yはプロピオニル基またはブチリル基の置換度である。上記2式を満足するものは、優れた光学特性を示す偏光板保護フィルムを製造するのに適している。
溶媒:アセトン
カラム:MPW×1(東ソー(株)製)
試料濃度:0.2(質量/容量)%
流量:1.0ml/分
試料注入量:300μl
標準試料:標準ポリスチレン
温度:23℃
次に、偏光板の表面側の第1の保護フィルムについて説明する。
偏光板の第1の保護フィルムとしては、ポリエステル樹脂からなるフィルム(ポリエステルフィルム)を用いることができる。ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナフタレート(PEN)を用いることができるが、他の共重合成分を含んでいても構わない。これらの樹脂は透明性に優れるとともに、熱的、機械的特性にも優れており、延伸加工によって容易にリタデーションを制御することができる。特に、PETは固有複屈折が大きく、フィルムの厚みが薄くても比較的容易に大きなリタデーションが得られるので、最も好適な素材である。
偏光板の第1の保護フィルムを構成する樹脂としては、アクリル樹脂を用いることもできる。
偏光板の第1の保護フィルムを構成する樹脂としては、脂環式オレフィンポリマー系樹脂(COP)を用いることもできる。
偏光板の保護フィルムは、必要に応じて可塑剤を含有することができる。可塑剤は特に限定されないが、好ましくは、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤および多価アルコールエステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、アクリル系可塑剤等から選択される。そのうち、可塑剤を2種以上用いる場合は、少なくとも1種は多価アルコールエステル系可塑剤であることが好ましい。なお、これらの可塑剤がリタデーション低下剤として作用する場合もある。
R2(COOH)m(OH)n
(但し、R2は(m+n)価の有機基、mは2以上の正の整数、nは0以上の整数、COOH基はカルボキシル基、OH基はアルコール性またはフェノール性水酸基を表す。)
酸価とは、試料1g中に含まれる酸(試料中に存在するカルボキシル基)を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。酸価はJIS K0070に準拠して測定したものである。
B−(G−A)n−G−B
(式中、Bはベンゼンモノカルボン酸残基、Gは炭素数2〜12のアルキレングリコール残基または炭素数6〜12のアリールグリコール残基または炭素数が4〜12のオキシアルキレングリコール残基、Aは炭素数4〜12のアルキレンジカルボン酸残基または炭素数6〜12のアリールジカルボン酸残基を表し、nは1以上の整数を表す。)
反応容器にフタル酸410部、安息香酸610部、ジプロピレングリコール737部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート0.40部を一括して仕込み窒素気流中で攪拌下、還流凝縮器を付して過剰の1価アルコールを還流させながら、酸価が2以下になるまで130〜250℃で加熱を続け生成する水を連続的に除去した。次いで200〜230℃で1.33×104Pa〜最終的に4×102Pa以下の減圧下、留出分を除去し、この後濾過して次の性状を有する芳香族末端エステル系可塑剤を得た。
粘度(25℃、mPa・s);43400
酸価 ;0.2
反応容器に、フタル酸410部、安息香酸610部、エチレングリコール341部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート0.35部を用いる以外はサンプルNo.1と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
粘度(25℃、mPa・s);31000
酸価 ;0.1
反応容器に、フタル酸410部、安息香酸610部、1,2−プロパンジオール418部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート0.35部を用いる以外はサンプルNo.1と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
粘度(25℃、mPa・s);38000
酸価 ;0.05
反応容器に、フタル酸410部、安息香酸610部、1,3−プロパンジオール418部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート0.35部を用いる以外はサンプルNo.1と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
粘度(25℃、mPa・s);37000
酸価 ;0.05
偏光板の保護フィルムは、紫外線吸収剤を含有することもできる。紫外線吸収剤は400nm以下の紫外線を吸収することで、耐久性を向上させることを目的としており、特に波長370nmでの透過率が10%以下であることが好ましく、より好ましくは5%以下、更に好ましくは2%以下である。
UV−2:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−3:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−4:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−5:2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−6:2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)
UV−7:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−8:2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール(TINUVIN171)
UV−9:オクチル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートの混合物(TINUVIN109)
UV−11:2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン
UV−12:2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン
UV−13:ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)
偏光板の保護フィルムは、微粒子を含有することが好ましい。微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子は珪素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。
次に、偏光板の保護フィルムの製造方法について説明する。
残留溶媒量(質量%)={(M−N)/N}×100
なお、Mはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、Nは質量Mのものを115℃で1時間加熱した後の質量である。
偏光板の保護フィルムは、下記式で表されるリタデーション値Roが0〜10nm、Rtが−10〜+10nmであることが好ましい。
式(i):Ro=(nx−ny)×d
式(ii):Rt=((nx+ny)/2−nz)×d
(式中、Roはフィルム面内リタデーション値、Rtはフィルム厚み方向リタデーション値、nxはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、nyはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、nzはフィルムの厚み方向の屈折率、dはフィルムの厚さ(nm)を表す。)
保護フィルムは、破断伸度が10〜80%であることが好ましく20〜50%であることが更に好ましい。
本実施形態の偏光板は、表面側の第1の保護フィルムと、偏光子としての偏光フィルムと、裏面側の第2の保護フィルムと、粘着剤層とをこの順で積層してなる。後述する液晶表示装置は、粘着層側が液晶セル側となるように、偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に貼り合わせることで構成される。
本実施形態の液晶表示装置は、上述した偏光板と、液晶セルとを積層して構成される。このとき、偏光板と液晶セルとは、偏光板の粘着剤層によって接着される。液晶セルは、液晶層を透明基板で挟持してなり、IPS(In Plane Switching)モードで駆動される。
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量%」を表す。
(セルロースアシレート)
セルロースアシレート:アセチル基置換度2.80である数平均分子量70000のセルローストリアセテート(TAC)
〈糖エステル〉
下記表1に記載の糖を用いて、脂肪族アルキル基(AL)および芳香族アルキル基(AR)の置換基の種類と置換基数とを変化させて、それぞれ糖エステルを合成した。
《エステル化合物E1》
1,2−プロピレングリコール251g、無水フタル酸278g、アジピン酸91g、安息香酸610g、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート0.191gを、温度計、撹拌器、緩急冷却管を備えた2Lの四つ口フラスコに仕込み、窒素気流中230℃になるまで、撹拌しながら徐々に昇温する。15時間脱水縮合反応させ、反応終了後200℃で未反応の1,2−プロピレングリコールを減圧留去することにより、エステル化合物E1を得た。酸価0.10、数平均分子量450であった。
アジピン酸/エチレングリコールのポリエステルポリオール(平均重合度は2000)を用いた。
特開2000−128911号公報に記載の重合方法により塊状重合を行った。すなわち、撹拌機、窒素ガス導入管、温度計、投入口及び還流冷却管を備えたフラスコにモノマーとしてメチルアクリレート(MMA)を投入し、窒素ガスを導入してフラスコ内を窒素ガスで置換し、アクリル系化合物を得た。
(主ドープ1の調製)
下記組成の主ドープを調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースエステルAを撹拌しながら投入し、これを加熱し、撹拌しながら完全に溶解した。
セルロースアシレート 100質量部
糖エステルT1 15質量部
マット剤:R812の12%エタノール分散液(日本アエロジル(株)製
) 1.4質量部
メチレンクロライド 430質量部
エタノール 40質量部
更に上記添加剤成分を密閉容器に投入し、撹拌しながら溶解して、これを安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、主ドープ1を調製した。
上記調製した主ドープ1を、ベルト流延装置を用い、温度22℃、1.8m幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が20%になるまで溶媒を蒸発させ、剥離張力162N/mでステンレスバンド支持体上からドープ膜(ウェブ)を剥離した。
主ドープに含まれる添加剤の種類および比率を表2のように変更した以外は、光学フィルム1と同様にして、光学フィルム2〜12を作製した。
メタクリル酸メチル/アクリル酸メチルの重量比98/2の共重合体にアクリル系ゴム粒子が45%配合されたペレット1と、同じくアクリル系ゴム粒子が15%配合されたペレット2の二種類を用意した。ペレット1とペレット2を0.5:0.5の比になるように押出し機に投入して混練し、Tダイから押出される溶融フィルムを45℃に設定された2本の冷却ロールに挟んで冷却しながら引き取って、厚さ40μmのアクリル系樹脂フィルムを作製した。このアクリル系樹脂フィルムを光学フィルム13とする。光学フィルム14の透湿度は、98g/m2・24hrであった。
(ポリエステルAの製造)
エステル化反応缶を昇温し200℃に到達した時点で、テレフタル酸を86.4質量部およびエチレングリコール64.6質量部を仕込み、撹拌しながら触媒として三酸化アンチモンを0.017質量部、酢酸マグネシウム4水和物を0.064質量部、トリエチルアミン0.16質量部を仕込んだ。ついで、加圧昇温を行いゲージ圧0.34MPa、240℃の条件で加圧エステル化反応を行った後、エステル化反応缶を常圧に戻し、リン酸0.014質量部を添加した。さらに、15分かけて260℃に昇温し、リン酸トリメチル0.012質量部を添加した。次いで15分後に、高圧分散機で分散処理を行い、15分後、得られたエステル化反応生成物を重縮合反応缶に移送し、280℃で減圧下重縮合反応を行った。
乾燥させた紫外線吸収剤(2,2’−(1,4−フェニレン)ビス(4H−3,1−ベンズオキサジノン−4−オン)10質量部、粒子を含有しないPET(A)(固有粘度が0.62dl/g)90質量部を混合し、混練押出機を用い、紫外線吸収剤含有するポリエチレンテレフタレート樹脂(B)を得た。(以後、PET(B)と略す。)
常法によりエステル交換反応および重縮合反応を行って、ジカルボン酸成分として(ジカルボン酸成分全体に対して)テレフタル酸46モル%、イソフタル酸46モル%および5−スルホナトイソフタル酸ナトリウム8モル%、グリコール成分として(グリコール成分全体に対して)エチレングリコール50モル%およびネオペンチルグリコール50モル%の組成の水分散性スルホン酸金属塩基含有共重合ポリエステル樹脂を調製した。
光学フィルム1〜12のそれぞれについて、温度23℃、相対湿度55%の環境下で、測定波長590nmで、下記式(i)により定義される面内方向のリタデーション値(Ro)及び下記式(ii)により定義される厚さ方向のリタデーション値(Rt)を、自動複屈折計KOBRA−WPR(王子計測機器)を用いて測定した。
式(i):Ro=(nx−ny)×d(nm)
式(ii):Rt={(nx+ny)/2−nz}×d(nm)
〔式(i)及び式(ii)において、nxは、フィルムの面内方向において屈折率が最大になる方向xにおける屈折率を表す。nyは、フィルムの面内方向において、前記方向xと直交する方向yにおける屈折率を表す。nzは、フィルムの厚さ方向zにおける屈折率を表す。〕
上記作製した光学フィルム1〜14を用い、以下のようにして偏光板1〜22を作製した。
平均重合度2400、ケン化度99.9モル%の厚さ30μmのポリビニルアルコールフィルムを、30℃の温水中に60秒間浸漬し膨潤させた。次いで、得られたフィルムを、ヨウ素/ヨウ化カリウム(質量比=0.5/8)の濃度0.3%の水溶液に浸漬し、3.5倍まで延伸させながら染色した。その後、得られたフィルムを、65℃のホウ酸エステル水溶液中で、トータルの延伸倍率が6倍となるように延伸した。その後、得られたフィルムを、40℃のオーブンにて3分間乾燥して、厚さ10μmの偏光子1を得た。
特許4751481号の実施例1に記載の偏光子を偏光子2として用意した。つまり、非晶性PET樹脂基材上に、二色性物質を配向させたポリビニルアルコール系樹脂層を製膜した積層体を、空中補助延伸とホウ酸水中延伸とからなる2段延伸工程で延伸することにより、偏光子2(非晶性PET樹脂基材上に塗布されているもの)を得た。偏光子2の厚さは3μmに調整した。
下記の各成分を混合した後、脱泡して、活性エネルギー線硬化性接着剤液を調製した。なお、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェートは、50%プロピレンカーボネート溶液として配合し、下記にはトリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェートの固形分量を表示した。
3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート
45質量部
エポリードGT−301(ダイセル化学社製の脂環式エポキシ樹脂)
40質量部
1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル 15質量部
トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート 2.3質量部
9,10−ジブトキシアントラセン 0.1質量部
1,4−ジエトキシナフタレン 2.0質量部
下記の方法で偏光板1を作製した。まず、第1の保護フィルムとして、上記で作製した光学フィルム13を準備し、上記調製した活性エネルギー線硬化性接着剤液を、マイクログラビアコーター(グラビアローラー:#300、回転速度140%/ライン速)を用いて、厚さ5μmになるように塗工して活性エネルギー線硬化性接着剤層aを形成した。
用いる光学フィルムおよび偏光子を表3の組み合わせとなるように変更した以外は、上記と同様にして偏光板2〜22を作製した。
23℃55%RH環境下、引張り試験機(テンシロン;エーアンドシー株式会社製)を用いて、作製した偏光板の吸収軸方向の破断点応力(MPa)を測定し、この破断点応力に偏光板の厚みを掛けたものを破断点張力(N)として算出した。そして、以下の評価基準に基づき、偏光板1〜21のリワーク作業時のハンドリング性について評価した。偏光板1〜21の破断点張力およびハンドリング性の評価の結果を表3に併せて示す。なお、破断点張力がT(N)であるということは、偏光板に付与する張力がT(N)になったときにはじめて偏光板が破断することを意味する。
(評価基準)
◎:破断点張力が70N以上である(リワーク作業の条件を変更しても、偏光板を残りなく剥がせる)
○:破断点張力が60N以上である(リワーク作業の際に偏光板を残りなく剥がせる)。
△:破断点張力が60N未満である(リワーク作業の際に偏光板が破れることがあり、パネル側に偏光板が残ることがある)。
×:破断点張力が50N未満である(ほとんどのリワーク作業の際に偏光板が破れ、パネル側に偏光板が残る)。
前記第1の保護フィルムと前記偏光フィルムと前記第2の保護フィルムの厚さの合計が、90μm以下であり、
前記第1の保護フィルムの透湿度が、400g/m2・24hr以下であり、
前記第2の保護フィルムが、セルロースエステルと、リタデーション低下剤とを含み、
前記リタデーション低下剤は、フラノース構造もしくはピラノース構造を1個有する化合物(A)中の、またはフラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも1種を2個以上12個以下結合した化合物(B)中のOH基の全てもしくは一部を脂肪族アシル基によりエステル化した糖エステルを含み、
前記第2の保護フィルムにおいて、
下記式(i)で表されるRoが、0nm以上10nm以下であり、
下記式(ii)で表されるRtが、−10nm以上+10nm以下であることを特徴とする偏光板。
式(i) Ro=(nx−ny)×d
式(ii) Rt={(nx+ny)/2−nz}×d
(式中、Roはフィルムの面内方向のリタデーション値、Rtはフィルムの厚み方向のリタデーション値、nxはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、nyはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、nzはフィルムの厚み方向の屈折率(屈折率は23℃、55%RHの環境下、波長590nmで測定)、dはフィルムの厚さ(nm)を表す。)
前記偏光板の前記粘着剤層と接着される液晶セルとを有することを特徴とする液晶表示装置。
2 液晶セル
3 偏光板
11 第1の保護フィルム
12 偏光フィルム
13 第2の保護フィルム
14 粘着剤層
Claims (8)
- 第1の保護フィルムと、偏光子としての偏光フィルムと、第2の保護フィルムと、粘着剤層とをこの順で積層した偏光板であって、
前記第1の保護フィルムと前記偏光フィルムと前記第2の保護フィルムの厚さの合計が、90μm以下であり、
前記第1の保護フィルムの透湿度が、400g/m2・24hr以下であり、
前記第2の保護フィルムが、セルロースエステルと、リタデーション低下剤とを含み、
前記リタデーション低下剤は、フラノース構造もしくはピラノース構造を1個有する化合物(A)中の、またはフラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも1種を2個以上12個以下結合した化合物(B)中のOH基の全てもしくは一部を脂肪族アシル基によりエステル化した糖エステルを含み、
前記第2の保護フィルムにおいて、
下記式(i)で表されるRoが、0nm以上10nm以下であり、
下記式(ii)で表されるRtが、−10nm以上+10nm以下であることを特徴とする偏光板。
式(i) Ro=(nx−ny)×d
式(ii) Rt={(nx+ny)/2−nz}×d
(式中、Roはフィルムの面内方向のリタデーション値、Rtはフィルムの厚み方向のリタデーション値、nxはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、nyはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、nzはフィルムの厚み方向の屈折率(屈折率は23℃、55%RHの環境下、波長590nmで測定)、dはフィルムの厚さ(nm)を表す。) - 前記糖エステルは、フラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも1種を2個以上12個以下結合した化合物(B)中のOH基の全てもしくは一部を脂肪族アシル基によりエステル化した化合物であることを特徴とする請求項1に記載の偏光板。
- 前記糖エステルは、フラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも1種を2個結合した化合物(B)中のOH基の全てもしくは一部をアセチル基によりエステル化した化合物であることを特徴とする請求項1または2に記載の偏光板。
- 前記第1の保護フィルムと前記偏光フィルムと前記第2の保護フィルムの厚さの合計が、80μm以下であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の偏光板。
- 前記偏光フィルムの厚さは、15μm以下であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の偏光板。
- 前記第2の保護フィルムの厚さは、30μm以下であることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の偏光板。
- 請求項1から6のいずれかに記載の偏光板と、
前記偏光板の前記粘着剤層と接着される液晶セルとを有することを特徴とする液晶表示装置。 - IPSモードで駆動されることを特徴とする請求項7に記載の液晶表示装置。
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