JPWO2014030587A1 - 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 - Google Patents

Abstract

複雑な製造方法によらず、配向乱れの低減された液晶表示素子の製造に供することが可能な液晶配向剤、該液晶配向剤から得られる液晶配向膜、及び前記液晶配向膜を有する液晶表示素子を提供する。２５０〜３８０ｎｍの波長範囲の光で反応する第１の重合体と、２５０〜３８０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する化合物及び第２の重合体のうちの少なくとも１種とを含有する液晶配向剤。さらに、該液晶配向剤を用いて液晶配向膜を形成し、光配向処理を施し形成された液晶表示素子。

Description

本発明は、液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子に関する。

液晶表示素子は、軽量、薄型かつ低消費電力の表示デバイスとして知られ、近年では大型のテレビ用途に用いられる等、目覚ましい発展を遂げている。
液晶表示素子は、液晶層を一対の基板間に挟持して封入するとともに、液晶層の液晶を基板間で所定方向に配向させて構成される。液晶表示素子では、一対の基板上に設けられた電極への電圧印加により液晶が応答し、その液晶の応答による配向変化を利用して、所望とする画像の表示を行うことができる。

液晶表示素子において、液晶層の液晶の配向は、それを挟持する一対の基板表面に、液晶の配向を制御する能力を備えた液晶配向膜を設けることにより実現される。すなわち、液晶配向膜は、液晶表示素子の一対の基板の液晶と接する最表面に形成され、例えば、基板に対して平行な方向等、基板間の液晶を所定方向に配向させる役割を担った構成部材である。

さらに、液晶配向膜には、液晶を所定方向に配向させる機能に加え、液晶が基板との間でプレチルト角を形成して配向するように、液晶のプレチルト角を制御するという機能も求められることがある。
一方、液晶配向膜における、液晶の配向を制御する能力（以下、配向制御能と言う。）は、液晶配向膜を構成する有機膜に対して、配向処理を行うことによって付与することができる。

配向制御能を付与する液晶配向膜の配向処理としては、従来からラビング法が知られている。ラビング法とは、基板上のポリビニルアルコール、ポリアミド、ポリイミド等の有機膜に対し、その表面を綿、ナイロン、ポリエステル等の布で一定方向に擦り（ラビングし）、擦った方向（ラビング方向）に液晶を配向させる方法である。このラビング法は簡便に、比較的安定した液晶の配向状態を実現できるため、従来の液晶表示素子の製造プロセスにおいて利用されてきた。そして、液晶配向膜に用いられる有機膜としては、特に、耐熱性等の信頼性や、電気的特性に優れたポリイミド系の有機膜が選択されて用いられてきた。

しかし、有機膜である液晶配向膜の表面を擦るラビング法は、発塵や静電気の発生が問題となることがあった。また、近年の液晶表素子の高精細化や、対応する基板上の電極や液晶駆動用のスイッチング能動素子による凹凸のため、液晶配向膜の表面を布で均一に擦ることができず、均一な液晶の配向を実現できないことがあった。
そこで、ラビングを行わない液晶配向膜の別の配向処理方法として、光配向法が盛んに検討されている。

光配向法には様々な方法があるが、直線偏光又はコリメートした光によって液晶配向膜を構成する有機膜内に異方性を形成し、その異方性に従って液晶を配向させる。
主な光配向法としては、分解型の光配向法が知られている。例えば、ポリイミド膜に偏光紫外線を照射し、分子構造の紫外線吸収の偏光方向依存性を利用して、異方的な分解を生じさせ、分解せずに残されたポリイミドにより液晶を配向させる方法である（例えば、特許文献１を参照）。

また、光架橋型や光異性化型の光配向法も知られている。例えば、ポリビニルシンナメートを用い、偏光紫外線を照射し、偏光と平行な２つの側鎖の二重結合部分で二量化反応（架橋反応）を生じさせ、偏光方向と直交した方向に液晶を配向させる方法である（例えば、非特許文献１を参照）。

以上の例のように、光配向法による液晶配向膜の配向処理方法では、ラビングを不要とし、発塵や静電気の発生の懸念が無い。さらに、表面に凹凸のある液晶表示素子の基板に対しても配向処理を施すことができ、工業的な生産プロセスに好適な液晶配向膜の配向処理の方法となる。

しかし、光配向法においても、光を用いることによる特有の問題が指摘されている。
すなわち、電極等の形成された基板上の有機膜に直線偏光又はコリメートした光を照射する場合、下層の基板等からの光の反射の影響を受け、配向処理に乱れが生じることがある。そうした配向処理の乱れは、得られる液晶表示素子の表示品位を低下させることになる。

また、光の照射後においても液晶配向膜中に未反応基が残存することがあり、そうした液晶配向膜を用いて液晶表示素子を製造した場合、バックライト光や外光中の短波長の光により、未反応基が反応し、液晶の配向状態が変化するといった不良が発生する問題がある。

このような光配向法における光反射の問題に対し、例えば、特許文献２では、光配向法による液晶配向膜の下層側に、例えば、基板等からの反射光やバックライト光中の短波長成分を減衰させるための樹脂層をもう一層、さらに設ける技術が開示されている。

日本特許第３８９３６５９号明細書 日本特許第４６５１６７７号明細書

Ｍ．Ｓｈａｄｔ ｅｔ ａｌ．， Ｊｐｎ． Ｊ． Ａｐｐｌ． Ｐｈｙｓ． ３１， ２１５５（１９９２）

しかし、液晶配向膜の下層に、さらにもう一層の樹脂層を設けることは、従来に比べて液晶表示素子の製造工程を増加させることになる。すなわち、光配向法を用いた液晶表示素子の製造方法を従来に比べて複雑なものとし、生産性の低下を招く懸念がある。
そこで、光配向法を用いた液晶表示素子の製造においては、製造工程を複雑にすること無く、従来と同様の製造方法に従って、光の反射による配向乱れのない液晶表示素子の提供を可能とする技術が求められている。

本発明は、以上のような点に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、複雑な製造方法によらず、配向乱れの低減された液晶表示素子を製造できる液晶配向剤、該液晶配向剤から形成される液晶配向膜、さらには該液晶配向膜を有する液晶表示素子を提供することである。

本発明は、以下の要旨を有するものである。
１．２５０〜３８０ｎｍの波長範囲の光で反応する第１の重合体と、
２５０〜３８０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する化合物及び第２の重合体のうちの少なくとも１種と、を含有する液晶配向剤。

２．前記化合物及び第２の重合体のうちの少なくとも１種の含有量が、前記第１の重合体と併せた合計の含有量の３〜８０質量％である、上記１に記載の液晶配向剤。
３．前記第１の重合体は、前記光に反応する光反応性基を有し、該光反応性基がシンナモイル構造、クマリン構造及びカルコン構造からなる群より選択された少なくとも１種の構造である、上記１又は２に記載の液晶配向剤。

４．前記光反応性基が、下記の側鎖構造のうちのいずれかを含む、上記３に記載の液晶配向剤。

（破線は重合体の主鎖への結合基を表す。
Ｒは、水素原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基（ただし、その任意の水素原子はフッ素原子に置き換わっていてもよい。）、又は炭素原子数１〜１０アルコキシル基（ただし、その任意の水素原子はフッ素原子に置き換わっていてもよい。）を表す。
Ａ及びＢは、それぞれ独立に、単結合又は下記式に示す環構造を表す。

Ｔは、それぞれ独立に、単結合、エーテル、エステル、アミド又はケトン結合を表す。Ｓは、単結合又は炭素原子数１〜１０のアルキレン基を表す。
ただし、ＳとＡが共に単結合の場合、酸素原子は隣り合うことはない。）

５．前記化合物及び前記第２の重合体は、特定構造を有し、該特定構造がフェノン構造及びジフェニルアミン構造のうちの少なくとも１種である、上記１〜４のいずれかに記載の液晶配向剤。
６．前記特定構造が、下記式の構造である、上記５に記載の液晶配向剤。

（Ｒは、炭素原子数１〜５のアルキル基を表す。）

７．前記第１の重合体が、ポリアミック酸及び該ポリアミック酸をイミド化して得られるポリイミドからなる群より選ばれる少なくとも１つの重合体である、上記１〜６のいずれかに記載の液晶配向剤。
８．前記第２の重合体を含有し、該第２の重合体が、ポリアミック酸及び該ポリアミック酸をイミド化して得られるポリイミドからなる群より選ばれる少なくとも１つの重合体である、上記１〜７のいずれかに記載の液晶配向剤。

９．上記１〜８のいずれかに記載の液晶配向剤塗布し、乾燥し、焼成して得られることを特徴とする液晶配向膜。
１０．前記焼成の温度が、５０〜３００℃である、上記９に記載の液晶配向膜。
１１．焼成後の膜厚が、５〜３００ｎｍである、上記９又は１０に記載の液晶配向膜。
１２．上記９〜１１のいずれかに記載の液晶配向膜を有することを特徴とする液晶表示素子。

本発明の液晶配向剤を用いることにより、複雑な製造方法によらず、配向乱れの低減された液晶表示素子を製造に供することが可能な液晶配向膜が形成され、該液晶配向膜を有する液晶表示素子は、軽量、薄型かつ低消費電力の表示デバイスとして、高精細な画像を表示する携帯用情報端末用の素子として利用される。

液晶セルの配向膜の膜厚とプレチルト角の関係を示すグラフである。

本発明者は、液晶配向膜の光配向処理時において、ガラス基板や電極等、その下層からの光反射の影響により、液晶配向膜中で光の干渉が起こること、及び液晶配向膜の光配向処理での反射光による干渉は、液晶配向膜への配向制御能の付与、特に、プレチルト角を形成する性能に影響を与えることを確認した。具体的には、液晶表示素子において、液晶のプレチルト角に対して液晶配向膜の膜厚依存性があることを確認した。
このような液晶のプレチルト角の液晶配向膜の膜厚依存性は、製造する一の液晶表示素子の面内、及び、複数の液晶表示素子間において、プレチルト角のバラつきを生じさせ、ひいては、表示品位を低下させる原因となることがわかった。

光配向処理時に液晶配向膜で懸念される光の干渉は、例えば、上述した特許文献２に開示されているように、液晶配向膜の下層において、光を反射する層との間に、反射光を吸収する層を別に設ける方法が効果的である。
しかし、光吸収のための層を新たに設けることは、上述したように、液晶表示素子の製造工程を増加させ、複雑なものとする。すなわち、新たな光吸収のための層を設けること無く、液晶配向膜自体に反射光の影響を低減できる機能を付与することができれば、光の干渉の低減化にとって有効な方法となる。

本発明者は、さらに研究を行い、液晶配向膜中に、光配向処理時の反射光を減衰させることができる材料を含有させること、特に、液晶配向膜内部の下層部分に反射光を減衰させる層を形成することが、光の干渉の抑制に有効であることを見出した。
さらに、液晶配向膜中の光の干渉を抑える層は、通常は重合体である液晶配向膜の形成時において、ポリマーの層分離の現象を利用することで、液晶配向膜の中に光の干渉を抑える層の形成が可能であることを見出した。その結果、本発明を完成するに至った。

すなわち、重合体である液晶配向膜の形成時に、複数種の成分を用いて層分離を生じさせ、形成された液晶配向膜の主に上層部分に光配向に好適な成分の層を形成し、下層部分に光の吸収に有効な成分の層を形成する。
得られた液晶配向膜は、主に上層部分を用いた光配向処理が施されて、有効に液晶配向の付与が実現される。一方、液晶配向膜の下層部分においては、例えば、基板や電極からの反射光を吸収して減衰させ、その反射光の影響が上層に及ぶことを抑制する。その結果、本発明の液晶配向膜では、光配向処理時の反射光による光の干渉が抑えられ、望ましい光配向処理が実現されて、液晶のプレチルト角形成における配向膜厚依存性を低減することができる。

また、本発明の液晶配向膜は、光配向処理の後に、膜中に未反応の光反応性基が残存することがあっても、液晶表示素子の製造後、バックライト光や外光中の短波長の光により、それらが反応し、液晶の配向状態が変化するといった不良の発生を低減することができる。

本発明の液晶配向膜は、上述したように、配向膜形成時における層分離を利用するものである。すなわち、特別な方法を適用すること無く、従来と同様に、一の液晶配向膜の形成工程で、所望とする構造の液晶配向膜を形成することができる。
本発明の液晶配向膜は、特許文献２に開示されているように、反射光を減衰させるための層を形成する別の工程を設ける必要がなく、光配向法による液晶配向膜を有する液晶表示素子の製造方法を複雑なものとすることがない。

＜液晶配向剤＞
本発明の液晶配向剤は、２５０〜３８０ｎｍの波長範囲の光で反応する第１の重合体と、２５０〜３８０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する化合物及び第２の重合体のうちの少なくとも１種、とを含有する。
第１の重合体を成分に用いることで、形成される液晶配向膜においては、有効な光配向処理を可能とする。

さらに、２５０〜３８０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する化合物及び／又は第２の重合体を成分として用いることにより、形成される液晶配向膜において、下層側からの光、例えば、基板等からの反射光を吸収して減衰させることができ、光配向処理において、反射光等が与える影響を低減することができる。
本発明の液晶配向剤に含有される２５０〜３８０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する化合物及び／又は第２の重合体の含有量は、第１の重合体と併せた合計の量に対して、３〜８０質量％とすることが好ましく、５０〜８０質量％がより好ましい。

〔２５０〜３８０ｎｍの波長範囲の光で反応する第１の重合体〕
第１の重合体は、波長範囲が２５０〜３８０ｎｍ、好ましくは２８０〜３６０ｎｍの光に対する反応性基である、シンナモイル構造、クマリン構造及びカルコン構造からなる群より選択された少なくとも１種の構造を有する基を含有することが好ましい。具体的には、第１の重合体の有する光反応性基が、下記の側鎖構造のうちのいずれかを含むことが好ましい。

上記式中、破線は重合体の主鎖への結合基を表す。
Ｒは、水素原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基（ただし、その任意の水素原子はフッ素原子に置き換わっていてもよい。）、又は炭素原子数１〜１０アルコキシル基（ただし、その任意の水素原子はフッ素原子に置き換わっていてもよい。）を表す。
Ａ及びＢは、それぞれ独立に、単結合又は下記式に示す環構造を表す。

Ｔは、それぞれ独立に、単結合、エーテル、エステル、アミド又はケトン結合を表す。Ｓは、単結合又は炭素原子数１〜１０のアルキレン基を表す。ただし、ＳとＡが共に単結合の場合、酸素原子は隣り合うことはない。

第１の重合体の主鎖は、炭化水素、ポリイミド、ポリアミック酸、アクリレート、メタクリレート、マレイミド、α−メチレン−γ−ブチロラクトン及びシロキサンからなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
第１の重合体は、特に、ポリアミック酸及びそのポリアミック酸をイミド化して得られるポリイミドからなる群より選ばれる少なくとも１つの重合体であることが好ましい。そうすることで、耐熱性や電気的特性に優れた高信頼性の液晶配向膜を形成することができる。

ポリアミック酸は、通常、ジアミン化合物とテトラカルボン酸二無水物との反応によって得ることができる。以下、第１の重合体として好ましいポリアミック酸及びポリイミドの形成に好適なジアミン化合物１及びテトラカルボン酸二無水物１について説明する。

〔ジアミン化合物１〕
ジアミン化合物１としては１種のみではなく、複数種を選択して用いることが可能であり、光に反応する光反応性基を有するジアミン化合物を１種以上含んで用いることが好ましい。
ジアミン化合物１の光反応性基は、２５０〜３８０ｎｍの波長範囲の光で反応する基であることが好ましい。光反応性基としては、シンナモイル構造、クマリン構造及びカルコン構造からなる群より選択された少なくとも１種の基を挙げることができる。

具体的には、ジアミン化合物の有する光反応性基は、下記の側鎖構造のうちのいずれかを含むことが好ましい。

上記式中、Ｒは、水素原子又は炭素原子数１〜１０のアルキル基（ただし、その任意の水素原子はフッ素原子に置き換わっていてもよい。）、又は炭素原子数１〜１０アルコキシル基（ただし、その任意の水素原子はフッ素原子に置き換わっていてもよい。）を表す。
Ａ及びＢは、それぞれ独立に、単結合又は下記式に示す環構造を表す。

Ｔは、それぞれ独立に、単結合、エーテル、エステル、アミド又はケトン結合を表す。Ｓは、単結合又は炭素原子数１〜１０のアルキレン基を表す。ただし、ＳとＡが共に単結合の場合、酸素原子は隣り合うことはない。

以下に、光反応性基を有するジアミン化合物の好ましい例を示す。

尚、上記各式で例示されたジアミン化合物のＣ_ｎＨ_２ｎ+１部分において、ｎは１〜１８の整数を表す。

本発明の液晶配向膜は、垂直配向性の液晶配向膜とすることができる。
その形成に用いられる第１の重合体は、上述したように、ポリアミック酸及びそのポリアミック酸をイミド化して得られるポリイミドからなる群より選ばれる少なくとも１つの重合体であることが好ましく、該ポリアミック酸は、側鎖型のジアミン化合物を含むジアミン成分から形成されたものであることが好ましい。

上述した側鎖型のジアミン化合物とは、側鎖に、アルキル基、フッ素含有アルキル基、芳香環、脂肪族環、複素環及びそれらからなる大環状置換体のうちの少なくとも１種を有するジアミン化合物である。
具体的には、下記の式［ＤＡ−１］〜［ＤＡ−３０］で示されるジアミン化合物を例示することができる。

（Ｒ_６は、炭素数１〜２２の、アルキル基又はフッ素含有アルキル基である。）

（複数あるＳ_５は、それぞれ独立に、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−ＣＯ−、又は−ＮＨ−であり、Ｒ_６は炭素数１〜２２の、アルキル基又はフッ素含有アルキル基である。）

（Ｓ_６は、−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯＣＨ_２−、又は−ＣＨ_２ＯＣＯ−であり、Ｒ_７は炭素数１〜２２の、アルキル基、アルコキシ基、フッ素含有アルキル基又はフッ素含有アルコキシ基である。）

（Ｓ_７は、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、又は−ＣＨ_２−であり、Ｒ_８は炭素数１〜２２の、アルキル基、アルコキシ基、フッ素含有アルキル基又はフッ素含有アルコキシ基である。）

（Ｓ_８は、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２−、−Ｏ−、又は−ＮＨ−であり、Ｒ_９はフッ素基、シアノ基、トリフルオロメタン基、ニトロ基、アゾ基、ホルミル基、アセチル基、アセトキシ基、又は水酸基である。）

（Ｒ_１０は炭素数３〜１２のアルキル基であり、１，４−シクロへキシレンのシス−トランス異性は、それぞれトランス体である。）

上述した光反応性基を有するジアミン化合物と同時に、垂直配向能を補う目的で、上記式［ＤＡ−１］〜［ＤＡ−３０］のジアミン化合物を併用させることもできる。併用できるより好ましいジアミンとしては、電圧保持率や残留蓄積電圧などの点から、式［ＤＡ−１０］〜［ＤＡ−３０］が好ましく、さらに好ましくは式［ＤＡ−１０］〜［ＤＡ−１６］のジアミン化合物である。
これらのジアミン化合物の好ましい含有量は、特に限定はされないが、第１の重合体を形成するためのジアミン成分中、５〜５０モル％が好ましく、より好ましくは５〜３０モル％である。

上述の第１の重合体として、好ましいポリアミック酸及びポリイミドの形成に好適なジアミン成分には、上述した光反応性基を有するジアミン化合物や、側鎖型のジアミン化合物の他、それら以外のジアミン化合物（その他のジアミン化合物と称することがある。）を含有することも可能である。その他のジアミン化合物は、特に限定されないが、脂環式ジアミン類、芳香族ジアミン類、芳香族−脂肪族ジアミン類、複素環式ジアミン類、脂肪族ジアミン類等を挙げることができる。その具体例は、以下の通りである。

脂環式ジアミン類の例としては、１，４−ジアミノシクロヘキサン、１，３−ジアミノシクロヘキサン、４，４’−ジアミノジシクロヘキシルメタン、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジメチルジシクロヘキシルアミン、イソホロンジアミン等が挙げられる。
芳香族ジアミン類の例としては、ｏ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、２，５−ジアミノトルエン、３，５−ジアミノトルエン、１，４−ジアミノ−２−メトキシベンゼン、２，５−ジアミノ−ｐ−キシレン、１，３−ジアミノ−４−クロロベンゼン、３，５−ジアミノ安息香酸、１，４−ジアミノ−２，５−ジクロロベンゼン、４，４’−ジアミノ−１，２−ジフェニルエタン、４，４’−ジアミノ−２，２’−ジメチルビベンジル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ−３，３’―ジメチルジフェニルメタン、２，２’−ジアミノスチルベン、４，４’−ジアミノスチルベン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、３，５−ビス（４−アミノフェノキシ）安息香酸、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビベンジル、２，２−ビス［（４−アミノフェノキシ）メチル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフロロプロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、１，１−ビス（４−アミノフェニル）シクロヘキサン、α、α’−ビス（４−アミノフェニル）−１，４−ジイソプロピルベンゼン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、２，２−ビス（３−アミノフェニル）ヘキサフロロプロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフロロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルアミン、２，４−ジアミノジフェニルアミン、１，８−ジアミノナフタレン、１，５−ジアミノナフタレン、１，５−ジアミノアントラキノン、１，３−ジアミノピレン、１，６−ジアミノピレン、１，８―ジアミノピレン、２，７−ジアミノフルオレン、１，３−ビス（４−アミノフェニル）テトラメチルジシロキサン、ベンジジン、２，２’−ジメチルベンジジン、１，２−ビス（４−アミノフェニル）エタン、１，３−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、１，４−ビス（４−アミノフェニル）ブタン、１，５−ビス（４−アミノフェニル）ペンタン、１，６−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサン、１，７−ビス（４−アミノフェニル）ヘプタン、１，８−ビス（４−アミノフェニル）オクタン、１，９−ビス（４−アミノフェニル）ノナン、１，１０−ビス（４−アミノフェニル）デカン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）プロパン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ブタン、１，５−ビス（４−アミノフェノキシ）ペンタン、１，６−ビス（４−アミノフェノキシ）ヘキサン、１，７−ビス（４−アミノフェノキシ）ヘプタン、１，８−ビス（４−アミノフェノキシ）オクタン、１，９−ビス（４−アミノフェノキシ）ノナン、１，１０−ビス（４−アミノフェノキシ）デカン、ジ（４−アミノフェニル）プロパン−１，３−ジオエート、ジ（４−アミノフェニル）ブタン−１，４−ジオエート、ジ（４−アミノフェニル）ペンタン−１，５−ジオエート、ジ（４−アミノフェニル）ヘキサン−１，６−ジオエート、ジ（４−アミノフェニル）ヘプタン−１，７−ジオエート、ジ（４−アミノフェニル）オクタン−１，８−ジオエート、ジ（４−アミノフェニル）ノナン−１，９−ジオエート、ジ（４−アミノフェニル）デカン−１，１０−ジオエート、１，３−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェノキシ〕プロパン、１，４−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェノキシ〕ブタン、１，５−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェノキシ〕ペンタン、１，６−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェノキシ〕ヘキサン、１，７−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェノキシ〕ヘプタン、１，８−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェノキシ〕オクタン、１，９−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェノキシ〕ノナン、１，１０−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェノキシ〕デカン等が挙げられる。

芳香族−脂肪族ジアミン類の例としては、３−アミノベンジルアミン、４−アミノベンジルアミン、３−アミノ−Ｎ−メチルベンジルアミン、４−アミノ−Ｎ−メチルベンジルアミン、３−アミノフェネチルアミン、４−アミノフェネチルアミン、３−アミノ−Ｎ−メチルフェネチルアミン、４−アミノ−Ｎ−メチルフェネチルアミン、３−（３−アミノプロピル）アニリン、４−（３−アミノプロピル）アニリン、３−（３−メチルアミノプロピル）アニリン、４−（３−メチルアミノプロピル）アニリン、３−（４−アミノブチル）アニリン、４−（４−アミノブチル）アニリン、３−（４−メチルアミノブチル）アニリン、４−（４−メチルアミノブチル）アニリン、３−（５−アミノペンチル）アニリン、４−（５−アミノペンチル）アニリン、３−（５−メチルアミノペンチル）アニリン、４−（５−メチルアミノペンチル）アニリン、２−（６−アミノナフチル）メチルアミン、３−（６−アミノナフチル）メチルアミン、２−（６−アミノナフチル）エチルアミン、３−（６−アミノナフチル）エチルアミン等が挙げられる。

複素環式ジアミン類の例としては、２，６−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノ−１，３，５−トリアジン、２，７−ジアミノジベンゾフラン、３，６−ジアミノカルバゾール、２，４−ジアミノ−６−イソプロピル−１，３，５−トリアジン、２，５−ビス（４−アミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等が挙げられる。

脂肪族ジアミン類の例としては、１，２−ジアミノエタン、１，３−ジアミノプロパン、１，４−ジアミノブタン、１，５−ジアミノペンタン、１，６−ジアミノヘキサン、１，７−ジアミノヘプタン、１，８−ジアミノオクタン、１，９−ジアミノノナン、１，１０−ジアミノデカン、１，３−ジアミノ−２，２−ジメチルプロパン、１，６−ジアミノ−２，５−ジメチルヘキサン、１，７−ジアミノ−２，５−ジメチルヘプタン、１，７−ジアミノ−４，４−ジメチルヘプタン、１，７−ジアミノ−３−メチルヘプタン、１，９−ジアミノ−５−メチルヘプタン、１，１２−ジアミノドデカン、１，１８−ジアミノオクタデカン、１，２−ビス（３−アミノプロポキシ）エタン等が挙げられる。

〔テトラカルボン酸二無水物１〕
第１の重合体として好ましいポリアミック酸を得るための、上述したジアミン化合物と反応させるテトラカルボン酸二無水物は特に限定されない。その具体例を以下に挙げる。

脂環式構造又は脂肪族構造を有するテトラカルボン酸二無水物としては、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−テトラメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、２，３，４，５−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、３，４−ジカルボキシ−１−シクロヘキシルコハク酸二無水物、３，４−ジカルボキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフタレンコハク酸二無水物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ［３，３，０］オクタン−２，４，６，８−テトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、シス−３，７−ジブチルシクロオクタ−１，５−ジエン−１，２，５，６−テトラカルボン酸二無水物、トリシクロ［４．２．１．０^２，５］ノナン−３，４，７，８−テトラカルボン酸−３，４：７，８−二無水物、ヘキサシクロ［６．６．０．１^２，７．０^３，６．１^９，１４．０^{１０，１３}］ヘキサデカン−４，５，１１，１２−テトラカルボン酸−４，５：１１，１２−二無水物、４−（２，５−ジオキソテトラヒドロフラン−３−イル）−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−１，２−ジカルボン酸無水物等が挙げられる。

芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン二無水物、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。

上述した脂環式構造又は脂肪族構造を有するテトラカルボン酸二無水物に加えて、芳香族テトラカルボン酸二無水物を使用すると、液晶配向性が向上し、かつ液晶セルの蓄積電荷を低減させることができるので好ましい。
テトラカルボン酸二無水物は、形成される液晶配向膜の液晶配向性、電圧保持特性、蓄積電荷などの特性に応じて、１種類又は２種類以上併用することができる。

〔ポリアミック酸１〕
第１の重合体として好ましいポリアミック酸は、上述したテトラカルボン酸二無水物と、上述したジアミン化合物からなるジアミン成分との反応により得ることができる。
第１の重合体としてのポリアミック酸を得る方法は、公知の合成手法を用いることができる。一般的には、テトラカルボン酸二無水物とジアミン成分とを有機溶媒中で反応させる方法である。
テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物との反応は、有機溶媒中で比較的容易に進行し、かつ副生成物が発生しない点で有利である。

テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物との反応に用いる有機溶媒としては、生成したポリアミック酸が溶解するものであれば特に限定されない。その具体例を以下に挙げる。

Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、イソプロピルアルコール、メトキシメチルペンタノール、ジペンテン、エチルアミルケトン、メチルノニルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトール、エチルカルビトール、エチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、トリプロピレングリコールメチルエーテル、３−メチル−３−メトキシブタノール、ジイソプロピルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジイソブチレン、アミルアセテート、ブチルブチレート、ブチルエーテル、ジイソブチルケトン、メチルシクロへキセン、プロピルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジオキサン、ｎ−へキサン、ｎ−ペンタン、ｎ−オクタン、ジエチルエーテル、シクロヘキサノン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸メチルエチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸、３−メトキシプロピオン酸、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、ジグライム、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、３−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、３−エトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、３−ブトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド等が挙げられる。

これら有機溶媒は単独で使用しても、混合して使用してもよい。さらに、ポリアミック酸を溶解させない溶媒であっても、生成したポリアミック酸が析出しない範囲で、上述の有機溶媒に混合して使用してもよい。
有機溶媒中の水分は、重合反応を阻害し、さらには生成したポリアミック酸を加水分解させる原因となるので、使用する有機溶媒は、可能な程度に脱水乾燥されたものを用いることが好ましい。

テトラカルボン酸二無水物とジアミン成分とを有機溶媒中で反応させる際には、ジアミン成分を有機溶媒に分散あるいは溶解させた溶液を攪拌させ、テトラカルボン酸二無水物をそのまま、又は有機溶媒に分散あるいは溶解させて添加する方法、逆にテトラカルボン酸二無水物を有機溶媒に分散あるいは溶解させた溶液に、ジアミン成分を添加する方法、テトラカルボン酸二無水物とジアミン成分とを交互に添加する方法などが挙げられ、これらのいずれの方法を用いても良い。また、テトラカルボン酸二無水物又はジアミン成分が複数種の化合物からなる場合は、あらかじめ混合した状態で反応させても良く、個別に順次反応させても良く、さらに個別に反応させた低分子量体を混合反応させて高分子量体としても良い。

重合温度は、−２０〜１５０℃の任意の温度を選択することができるが、好ましくは−５〜１００℃の範囲である。
また、反応は任意の濃度で行うことができるが、濃度が低すぎると高分子量の重合体を得ることが難しくなり、濃度が高すぎると反応液の粘性が高くなり過ぎて均一な攪拌が困難となるので、テトラカルボン酸二無水物とジアミン成分の反応溶液中での合計濃度が、好ましくは１〜５０質量％、より好ましくは５〜３０質量％である。反応初期は高濃度で行い、その後、有機溶媒を追加することができる。

上述の重合反応においては、テトラカルボン酸二無水物の合計モル数と、ジアミン成分の合計モル数の比は０．８〜１．２であることが好ましく、０．９〜１．１がより好ましい。通常の重縮合反応と同様に、このモル比が１．０に近いほど生成するポリアミック酸の分子量は大きくなる。

〔ポリイミド１〕
第１の重合体として好ましいポリイミドは、上述したポリアミック酸を脱水閉環（イミド化）させて得ることができる。
好ましいポリイミドとしては、アミック酸基の脱水閉環率（イミド化率）は、必ずしも１００％である必要はなく、用途や目的に応じて１００％以下となるように、任意に調整することができる。

ポリアミック酸をイミド化させる方法としては、ポリアミック酸の溶液をそのまま加熱する熱イミド化、ポリアミック酸の溶液に触媒を添加する触媒イミド化が挙げられる。
ポリアミック酸を溶液中で熱イミド化させる場合の温度は、１００〜４００℃、好ましくは１２０〜２５０℃であり、イミド化反応により生成する水を系外に除きながら行う方法が好ましい。

ポリアミック酸の触媒イミド化は、ポリアミック酸の溶液に、塩基性触媒と酸無水物とを添加し、−２０〜２５０℃、好ましくは０〜１８０℃で攪拌することにより行うことができる。
塩基性触媒の量は、アミック酸基の０．５〜３０モル倍、好ましくは２〜２０モル倍であり、酸無水物の量は、アミック酸基の１〜５０モル倍、好ましくは３〜３０モル倍である。

塩基性触媒としては、ピリジン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン等を挙げることができ、中でもピリジンは、反応を進行させるのに適度な塩基性を持つので好ましい。

酸無水物としては、無水酢酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸等を挙げることができ、中でも無水酢酸を用いると、反応終了後の精製が容易となるので好ましい。
触媒イミド化によるイミド化率は、触媒量、反応温度、反応時間を調節することにより制御することができる。

〔ポリアミック酸エステル〕
本発明の液晶配向剤の成分となる第１の重合体としては、上述したポリアミック酸やポリイミドの他、ポリアミック酸エステルやポリアミドとすることも可能である。

好ましいポリアミック酸エステルを合成する方法としては、テトラカルボン酸ジエステルジクロリドと上述した好ましいジアミン化合物との反応や、テトラカルボン酸ジエステルと上述した好ましいジアミン化合物を縮合剤、塩基などの存在下、反応させる方法がある。これらの方法により、ポリイミドの前駆体の一種であるポリアミック酸エステルを得ることができる。
また、予め重合したポリアミック酸を、高分子反応を利用して、アミック酸中のカルボン酸をエステル化することでも、ポリアミック酸エステルを得ることができる。

具体的には、テトラカルボン酸ジエステルジクロリドと上述した好ましいジアミン化合物とを塩基と有機溶媒の存在下で、−２０〜１５０℃、好ましくは０〜５０℃において、３０分間〜２４時間、好ましくは１〜４時間反応させることによって合成することができる。

塩基には、ピリジン、トリエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジン等が使用できるが、反応が穏和に進行するためにピリジンが好ましい。塩基の添加量は、除去が容易な量で、かつ高分子量体が得やすいという観点から、テトラカルボン酸ジエステルジクロリドに対して、２〜４モル倍であることが好ましく、２．５〜３．５倍モルがより好ましい。

縮合剤の存在下で縮重合反応を行なう場合、縮合剤としては、トリフェニルホスファイト、ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、Ｎ，Ｎ’−カルボニルジイミダゾール、ジメトキシ−１，３，５−トリアジニルメチルモルホリニウム、Ｏ−（ベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム テトラフルオロボラート、Ｏ−（ベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファート、（２，３−ジヒドロ−２−チオキソ−３−ベンゾオキサゾリル）ホスホン酸ジフェニル、４−（４，６−ジメトキシ−１，３，５−トリアジンー２−イル）４−メトキシモルホリウムクロリド ｎ−水和物等が使用できる。

また、縮合剤を用いる方法において、ルイス酸を添加剤として加えると、反応が効率的に進行する。ルイス酸としては、塩化リチウム、臭化リチウムなどのハロゲン化リチウムが好ましい。ルイス酸の添加量は、テトラカルボン酸ジエステルに対して０．１〜１．０モル倍であることが好ましく、０．５〜１．０倍モルがより好ましい。

有機溶媒としては、上述した、テトラカルボン酸二無水物と好ましいジアミン成分とを重合してポリアミック酸を得る際に用いられる有機溶媒が使用できるが、モノマー及び得られる重合体の溶解性から、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトン等の使用が好ましい。これらの溶媒は、１種又は２種以上を混合して用いてもよい。また、テトラカルボン酸ジエステルジクロリドの加水分解を防ぐため、ポリアミック酸エステルの合成に用いる有機溶媒は、できるだけ脱水されていることが好ましい。

テトラカルボン酸ジエステルジクロリドとジアミン成分の反応溶液中での合計濃度は、重合体の析出が起こりにくく、かつ高分子量体が得やすいという観点から、１〜３０質量％が好ましく、５〜２０質量％がより好ましい。
さらに、反応は窒素雰囲気中で行ない、外気の混入を防ぐのが好ましい。

〔ポリアミド〕
上述した第１の重合体として好ましいポリアミドも、上述したポリアミック酸エステルと同様にして合成することができる。

〔重合体の回収〕
ポリアミック酸及びポリイミド等の反応溶液から、生成したポリアミック酸及びポリイミド等を回収する場合には、反応溶液を貧溶媒に投入して、重合体を沈殿させれば良い。 沈殿に用いる貧溶媒としては、メタノール、アセトン、ヘキサン、ブチルセルソルブ、ヘプタン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エタノール、トルエン、ベンゼン、水等を挙げることができる。
沈殿させた重合体は、濾過して回収した後、常圧あるいは減圧下で、常温あるいは加熱して乾燥することができる。また、沈殿回収した重合体を、有機溶媒に再溶解させ、再沈殿回収する操作を２〜１０回繰り返すと、重合体中の不純物を少なくすることができる。この際の貧溶媒として、例えば、アルコール類、ケトン類、炭化水素等が挙げられ、これらの中から選ばれる３種類以上の貧溶媒を用いると、より一層精製の効率が上がるので好ましい。

第１の重合体として含有されるポリアミック酸及び／又はポリイミドの分子量は、得られる塗膜の強度、塗膜形成時の作業性、及び塗膜の均一性を考慮した場合、ＧＰＣ（Ｇｅｌ Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ）法で測定した重量平均分子量が、２０００〜１００００００が好ましく、より好ましくは、５０００〜１０００００である。

〔２５０〜３８０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する化合物及び第２の重合体〕
かかる化合物及び第２の重合体は、波長範囲が２５０〜３８０ｎｍ、好ましくは２８０〜３６０ｎｍの光に対して吸収極大を有する、シンナモイル構造、フェノン構造及びジフェニルアミン構造からなる群から選ばれる少なくとも１種の特定構造を有することが好ましく、特に、フェノン構造及びジフェニルアミン構造のうちの少なくとも１種の特定構造を有することがより好ましい。なお、本発明において、吸収極大を有するとは、本発明の重合体に用いるモノマー若しくはそのもののＵＶ−visスペクトルを測定したときに、２５０〜３８０nｍの範囲に吸収極大波長を有していることを意味するものある。
上記の特定構造の具体例としては、下記で表わされる化合物であることが好ましい。

（Ｒは、炭素原子数１〜５のアルキル基を表す。）

特に、好ましい第２の重合体としては、ポリアミック酸及びそのポリアミック酸をイミド化して得られるポリイミドからなる群より選ばれる少なくとも１つの重合体であることが好ましい。そうすることで、耐熱性や電気的特性に優れた高信頼性の液晶配向膜を形成することができる。

ポリアミック酸は、上述したように、通常、ジアミン化合物とテトラカルボン酸二無水物との反応によって得ることができる。
以下、第２の重合体として、好ましいポリアミック酸及びポリイミドの形成に用いることができるジアミン化合物及びテトラカルボン酸二無水物について説明する。

〔ジアミン化合物２〕
第２の重合体として、好ましいポリアミック酸及びポリイミドの形成に用いることができるジアミン化合物は、特に限定されないが、脂環式ジアミン類、芳香族ジアミン類、芳香族−脂肪族ジアミン類、複素環式ジアミン類、脂肪族ジアミン類等を挙げることができる。これらのジアミン類は、後述するテトラカルボン酸二無水物との反応により、２５０〜３８０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する重合体を形成するように、その組み合わせが選択されて用いられる。使用可能なジアミン化合物の具体例を挙げると、以下の通りである。

脂環式ジアミン類の例としては、１，４−ジアミノシクロヘキサン、１，３−ジアミノシクロヘキサン、４，４’−ジアミノジシクロヘキシルメタン、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジメチルジシクロヘキシルアミン、イソホロンジアミン等が挙げられる。

芳香族ジアミン類の例としては、ｏ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、２，５−ジアミノトルエン、３，５−ジアミノトルエン、１，４−ジアミノ−２−メトキシベンゼン、２，５−ジアミノ−ｐ−キシレン、１，３−ジアミノ−４−クロロベンゼン、３，５−ジアミノ安息香酸、１，４−ジアミノ−２，５−ジクロロベンゼン、４，４’−ジアミノ−１，２−ジフェニルエタン、４，４’−ジアミノ−２，２’−ジメチルビベンジル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ−３，３’―ジメチルジフェニルメタン、２，２’−ジアミノスチルベン、４，４’−ジアミノスチルベン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、３，５−ビス（４−アミノフェノキシ）安息香酸、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビベンジル、２，２−ビス［（４−アミノフェノキシ）メチル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフロロプロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、１，１−ビス（４−アミノフェニル）シクロヘキサン、α、α’−ビス（４−アミノフェニル）−１，４−ジイソプロピルベンゼン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、２，２−ビス（３−アミノフェニル）ヘキサフロロプロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフロロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルアミン、２，４−ジアミノジフェニルアミン、１，８−ジアミノナフタレン、１，５−ジアミノナフタレン、１，５−ジアミノアントラキノン、１，３−ジアミノピレン、１，６−ジアミノピレン、１，８―ジアミノピレン、２，７−ジアミノフルオレン、１，３−ビス（４−アミノフェニル）テトラメチルジシロキサン、ベンジジン、２，２’−ジメチルベンジジン、１，２−ビス（４−アミノフェニル）エタン、１，３−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、１，４−ビス（４−アミノフェニル）ブタン、１，５−ビス（４−アミノフェニル）ペンタン、１，６−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサン、１，７−ビス（４−アミノフェニル）ヘプタン、１，８−ビス（４−アミノフェニル）オクタン、１，９−ビス（４−アミノフェニル）ノナン、１，１０−ビス（４−アミノフェニル）デカン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）プロパン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ブタン、１，５−ビス（４−アミノフェノキシ）ペンタン、１，６−ビス（４−アミノフェノキシ）ヘキサン、１，７−ビス（４−アミノフェノキシ）ヘプタン、１，８−ビス（４−アミノフェノキシ）オクタン、１，９−ビス（４−アミノフェノキシ）ノナン、１，１０−ビス（４−アミノフェノキシ）デカン、ジ（４−アミノフェニル）プロパン−１，３−ジオエート、ジ（４−アミノフェニル）ブタン−１，４−ジオエート、ジ（４−アミノフェニル）ペンタン−１，５−ジオエート、ジ（４−アミノフェニル）ヘキサン−１，６−ジオエート、ジ（４−アミノフェニル）ヘプタン−１，７−ジオエート、ジ（４−アミノフェニル）オクタン−１，８−ジオエート、ジ（４−アミノフェニル）ノナン−１，９−ジオエート、ジ（４−アミノフェニル）デカン−１，１０−ジオエート、１，３−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェノキシ〕プロパン、１，４−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェノキシ〕ブタン、１，５−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェノキシ〕ペンタン、１，６−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェノキシ〕ヘキサン、１，７−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェノキシ〕ヘプタン、１，８−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェノキシ〕オクタン、１，９−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェノキシ〕ノナン、１，１０−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェノキシ〕デカン等が挙げられる。

芳香族−脂肪族ジアミン類の例としては、３−アミノベンジルアミン、４−アミノベンジルアミン、３−アミノ−Ｎ−メチルベンジルアミン、４−アミノ−Ｎ−メチルベンジルアミン、３−アミノフェネチルアミン、４−アミノフェネチルアミン、３−アミノ−Ｎ−メチルフェネチルアミン、４−アミノ−Ｎ−メチルフェネチルアミン、３−（３−アミノプロピル）アニリン、４−（３−アミノプロピル）アニリン、３−（３−メチルアミノプロピル）アニリン、４−（３−メチルアミノプロピル）アニリン、３−（４−アミノブチル）アニリン、４−（４−アミノブチル）アニリン、３−（４−メチルアミノブチル）アニリン、４−（４−メチルアミノブチル）アニリン、３−（５−アミノペンチル）アニリン、４−（５−アミノペンチル）アニリン、３−（５−メチルアミノペンチル）アニリン、４−（５−メチルアミノペンチル）アニリン、２−（６−アミノナフチル）メチルアミン、３−（６−アミノナフチル）メチルアミン、２−（６−アミノナフチル）エチルアミン、３−（６−アミノナフチル）エチルアミン等が挙げられる。

複素環式ジアミン類の例としては、２，６−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノ−１，３，５−トリアジン、２，７−ジアミノジベンゾフラン、３，６−ジアミノカルバゾール、２，４−ジアミノ−６−イソプロピル−１，３，５−トリアジン、２，５−ビス（４−アミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等が挙げられる。

脂肪族ジアミン類の例としては、１，２−ジアミノエタン、１，３−ジアミノプロパン、１，４−ジアミノブタン、１，５−ジアミノペンタン、１，６−ジアミノヘキサン、１，７−ジアミノヘプタン、１，８−ジアミノオクタン、１，９−ジアミノノナン、１，１０−ジアミノデカン、１，３−ジアミノ−２，２−ジメチルプロパン、１，６−ジアミノ−２，５−ジメチルヘキサン、１，７−ジアミノ−２，５−ジメチルヘプタン、１，７−ジアミノ−４，４−ジメチルヘプタン、１，７−ジアミノ−３−メチルヘプタン、１，９−ジアミノ−５−メチルヘプタン、１，１２−ジアミノドデカン、１，１８−ジアミノオクタデカン、１，２−ビス（３−アミノプロポキシ）エタン等が挙げられる。

上記したジアミン化合物の中で、特に、４，４‘−ジアミノジフェニルアミン及び／又は４，４’−ジアミノベンゾフェノンを選択し、ポリアミック酸及びポリイミドの形成に用いることが好ましい。形成されるポリアミック酸及びポリイミドにおいて、２５０〜３８０ｎｍの波長範囲に、より高い吸収極大を有することができるためである。

〔テトラカルボン酸二無水物２〕
第２の重合体として好ましいポリアミック酸及びポリイミドの形成に用いることができるテトラカルボン酸二無水物は、特に限定されない。上述したジアミン化合物との反応により、２５０〜３８０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する重合体を形成するように、その組み合わせが選択されて用いられる。使用可能なテトラカルボン酸二無水物の具体例を挙げると、以下の通りである。

脂環式構造又は脂肪族構造を有するテトラカルボン酸二無水物としては、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−テトラメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、２，３，４，５−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、３，４−ジカルボキシ−１−シクロヘキシルコハク酸二無水物、３，４−ジカルボキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフタレンコハク酸二無水物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ［３，３，０］オクタン−２，４，６，８−テトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、シス−３，７−ジブチルシクロオクタ−１，５−ジエン−１，２，５，６−テトラカルボン酸二無水物、トリシクロ［４．２．１．０^２，５］ノナン−３，４，７，８−テトラカルボン酸−３，４：７，８−二無水物、ヘキサシクロ［６．６．０．１^２，７．０^３，６．１^９，１４．０^{１０，１３}］ヘキサデカン−４，５，１１，１２−テトラカルボン酸−４，５：１１，１２−二無水物、４−（２，５−ジオキソテトラヒドロフラン−３−イル）−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−１，２−ジカルボン酸無水物等が挙げられる。

芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン二無水物、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。

上述した脂環式構造又は脂肪族構造を有するテトラカルボン酸二無水物に加えて、芳香族テトラカルボン酸二無水物を使用すると、形成される重合体からなる液晶配向膜の液晶配向性が向上し、かつ液晶セルの蓄積電荷を低減させることができるので好ましい。

上記したテトラカルボン酸二無水物の中で、特に、ピロメリット酸二無水物及び／又は３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を選択し、ポリアミック酸及びポリイミドの形成に用いることが好ましい。形成されるポリアミック酸及びポリイミドにおいて、２５０〜３８０ｎｍの波長範囲に、より高い吸収極大を有することができるためである。

〔ポリアミック酸２及びポリイミド２〕
第２の重合体として好ましいポリアミック酸は、上述したテトラカルボン酸二無水物と、上述したジアミン化合物からなるジアミン成分との反応により得ることができる。
第２の重合体としてのポリアミック酸を得る方法としては、公知の合成手法を用いることができる。例えば、上述した第１の重合体として、好ましいポリアミック酸を得る方法として説明したのと同様の方法により得ることができる。

また、第２の重合体として好ましいポリイミドは、得られたポリアミック酸を脱水閉環（イミド化）させて得ることができる。具体的には、上述した第１の重合体として、好ましいポリイミドを得る方法として説明したのと同様の方法で得ることができる。

第２の重合体として好ましいポリイミドにおいて、アミック酸基の脱水閉環率（イミド化率）は、必ずしも１００％である必要はなく、用途や目的に応じて１００％以下となるように、任意に調整することができる。

第２の重合体として含有されるポリアミック酸及び／又はポリイミドの分子量は、得られる塗膜の強度、塗膜形成時の作業性、及び塗膜の均一性を考慮した場合、ＧＰＣ（Ｇｅｌ Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ）法で測定した重量平均分子量が、２０００〜１００００００が好ましく、より好ましくは、５０００〜１０００００である。

本発明の液晶配向剤中のもう一つの成分である、２５０〜３８０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する化合物にとしては、上述した第２の重合体の形成に好ましいとされたジアミン化合物及びテトラカルボン酸二無水物を用いることが好ましい。より具体的には、ジアミン化合物として、４，４’−ジアミノジフェニルアミン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン等を挙げることができる。また、テトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。

〔液晶配向剤の調製〕
本発明の液晶配向剤は、上述したように、２５０〜３８０ｎｍの波長範囲の光で反応する第１の重合体と、２５０〜３８０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する化合物及び第２の重合体のうちの少なくとも１種とを含有して構成される。当該液晶配向剤は、液晶配向膜の形成に好適となるように塗布液として調製されることが好ましい。
すなわち、本発明の液晶配向剤は、樹脂被膜を形成するための樹脂成分が有機溶媒に溶解した溶液として調製されることが好ましい。ここで、樹脂成分とは、既に説明した第１の重合体及び第２の重合体等を含む樹脂成分である。
樹脂成分の含有量は、液晶配向剤の全量（１００質量％）に対して、１〜２０質量％が好ましく、より好ましくは３〜１５質量％、特に好ましくは３〜１０質量％である。

液晶配向剤において、前述の樹脂成分は、全てが第１の重合体か、あるいは第１の重合体及び第２の重合体であってもよいが、それら以外の他の重合体が混合されていてもよい。その際、樹脂成分中における他の重合体の含有量は、０．５〜１５質量％、好ましくは１〜１０質量％である。
他の重合体としては、例えば、ポリアミック酸、ポリイミド等からなり、２５０〜３８０ｎｍの波長範囲の光で反応することが無く、また、２５０〜３８０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有しない重合体等が挙げられる。

液晶配向剤に用いる有機溶媒は、樹脂成分を溶解させる有機溶媒であれば特に限定されない。その具体例を以下に挙げる。

Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルカプロラクタム、２−ピロリドン、Ｎ−エチルピロリドン、Ｎ−ビニルピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、３−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、３−エトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、３−ブトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、１，３−ジメチル−イミダゾリジノン、エチルアミルケトン、メチルノニルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジグライム、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等が挙げられる。これらは単独で使用しても、混合して使用してもよい。

本発明の液晶配向剤は、第１の重合体等の上記した成分以外の成分を含有してもよい。その例としては、液晶配向剤を塗布した際の、膜厚均一性や表面平滑性を向上させる溶媒や化合物、液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物等である。

膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる溶媒（貧溶媒）の具体例としては、次のものが挙げられる。

例えば、イソプロピルアルコール、メトキシメチルペンタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトール、エチルカルビトール、エチルカルビトールアセテート、エチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、トリプロピレングリコールメチルエーテル、３−メチル−３−メトキシブタノール、ジイソプロピルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジイソブチレン、アミルアセテート、ブチルブチレート、ブチルエーテル、ジイソブチルケトン、メチルシクロへキセン、プロピルエーテル、ジヘキシルエーテル、１−ヘキサノール、ｎ−へキサン、ｎ−ペンタン、ｎ−オクタン、ジエチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸メチルエチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸、３−メトキシプロピオン酸、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、１−メトキシ−２−プロパノール、１−エトキシ−２−プロパノール、１−ブトキシ−２−プロパノール、１−フェノキシ−２−プロパノール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート、プロピレングリコール−１−モノエチルエーテル−２−アセテート、ジプロピレングリコール、２−（２−エトキシプロポキシ）プロパノール、乳酸メチルエステル、乳酸エチルエステル、乳酸ｎ−プロピルエステル、乳酸ｎ−ブチルエステル、乳酸イソアミルエステル等の低表面張力を有する溶媒等が挙げられる。

これらの貧溶媒は、１種類でも複数種類を混合して用いてもよい。
貧溶媒を用いる場合は、液晶配向剤に含まれる溶媒全体の溶解性を著しく低下させることが無いように、溶媒全体の５〜８０質量％であることが好ましく、より好ましくは２０〜６０質量％である。

膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる化合物としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノ二オン系界面活性剤等が挙げられる。

具体的には、例えば、エフトップ（登録商標）３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（以上、トーケムプロダクツ社製）、メガファック（登録商標）Ｆ１７１、Ｆ１７３、Ｒ−３０（以上、ＤＩＣ社製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１（以上、住友スリーエム社製）、アサヒガード（登録商標）ＡＧ７１０（旭硝子社製）、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８２、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ１０５、ＳＣ１０６（以上、ＡＧＣセイミケミカル社製）等が挙げられる。これらの界面活性剤の使用割合は、液晶配向剤に含有される樹脂成分の１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜２質量部、より好ましくは０．０１〜１質量部である。

液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物の具体例としては、以下に示す官能性シラン含有化合物やエポキシ基含有化合物などが挙げられる。

例えば、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、２−アミノプロピルトリメトキシシラン、２−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、Ｎ−トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、１０−トリメトキシシリル−１，４，７−トリアザデカン、１０−トリエトキシシリル−１，４，７−トリアザデカン、９−トリメトキシシリル−３，６−ジアザノニルアセテート、９−トリエトキシシリル−３，６−ジアザノニルアセテート、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、２，２−ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，３，５，６−テトラグリシジル−２，４−ヘキサンジオール、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，−テトラグリシジル−４、４’−ジアミノジフェニルメタン等が挙げられる。

さらに、基板と液晶配向膜の密着性の向上に加え、液晶表示素子を構成した時のバックライトによる電気特性の低下等を防ぐ目的で、以下のようなフェノプラスト系の添加剤を、液晶配向剤中に含有させても良い。具体的なフェノプラスト系添加剤を以下に示すが、この構造に限定されない。

基板との密着性を向上させる化合物を使用する場合、その使用量は、液晶配向剤に含有される樹脂成分の１００質量部に対して０．１〜３０質量部であることが好ましく、より好ましくは１〜２０質量部である。使用量が０．１質量部未満であると密着性向上の効果は期待できず、３０質量部よりも多くなると液晶の配向性が悪くなる場合がある。

本発明の液晶配向剤には、上述したものの他、本発明の効果が損なわれない範囲であれば、液晶配向膜の誘電率や導電性などの電気特性を変化させる目的で、誘電体や導電物質、さらには、液晶配向膜にした際の膜の硬度や緻密度を高める目的で、架橋性化合物を添加してもよい。

＜液晶配向膜及び液晶表示素子＞
本発明の液晶配向剤は、従来のポリイミドからなる液晶配向膜を形成するための液晶配向剤と同様に、基板上に塗布し、焼成を行うことで、別にその他の方法を適用すること無く、本発明の液晶配向膜を形成することができる。さらに、光照射による光配向処理を施すことで配向制御能を付与することができ、液晶表示素子の製造に用いることができる。

液晶配向剤を塗布して液晶配向膜を形成する際に用いる基板としては、製造される液晶表示素子が透過型である場合、透明性の高い基板が用いられることが好ましい。その場合、特に限定はされず、ガラス基板、又はアクリル基板やポリカーボネート基板等のプラスチック基板等を用いることができる。また、液晶表示素子における液晶駆動のため、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：酸化インジウム錫）電極等の透明電極が形成された基板を用いることが、製造プロセスの簡素化の観点から好ましい。また、反射型の液晶表示素子では、片側の基板のみにならば、シリコンウエハ等の不透明な物でも使用でき、この場合の電極はアルミ等の光を反射する材料から構成することができる。

本発明の液晶配向膜の形成において、液晶配向剤の塗布方法は特に限定されない。液晶配向剤の塗布法として、工業的には、スクリーン印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、インクジェット等が一般的である。その他の塗布方法としては、ディップ、ロールコータ、スリットコータ、スピンナ等を用いる方法があり、目的に応じてこれらを用いてもよい。

液晶配向剤を基板上に塗布した後の焼成は、ホットプレート等の加熱手段により５０〜３００℃、好ましくは８０〜２５０℃で、１〜２００分、好ましくは１０〜１００分行い、例えば、有機溶媒である溶媒を蒸発させて、塗膜を形成させることができる。
焼成後に形成される塗膜の厚みは、厚すぎると液晶表示素子に用いられた場合に、その消費電力の面で不利となり、薄すぎると液晶表示素子の信頼性が低下する場合がある。したがって、焼成後の塗膜の厚みは、好ましくは５〜３００ｎｍ、より好ましくは１０〜１００ｎｍである。

液晶を水平配向や傾斜配向させる場合は、焼成後の塗膜を偏光紫外線照射で処理する。すなわち、光照射により光配向処理を行う。
尚、本発明の液晶配向膜は、ラビング処理によっても配向制御能の付与、特に、プレチルト角の形成が可能である。

本発明の液晶表示素子は、上述の方法により、本発明の液晶配向剤から、液晶配向膜の形成された液晶配向膜付き基板を得た後、公知の方法で液晶セルを作製し、液晶表示素子としたものである。例えば、垂直配向（ＶＡ）モードの液晶表示素子を提供することができる。

液晶セル作製の一例を挙げるならば、本発明の液晶配向膜の形成された一対の基板を用意し、片方の基板の液晶配向膜上にスペーサを散布し、液晶配向膜面が内側になるようにして、もう片方の基板を貼り合わせ、液晶を減圧注入して封止する方法、又は、スペーサを散布した液晶配向膜面に液晶を滴下した後に、基板を貼り合わせて封止を行う方法、等を例示することができる。このときのスペーサの径は、好ましくは１〜３０μｍ、より好ましくは２〜１０μｍである。このスペーサ径が、液晶層を挟持する一対の基板間距離、すなわち、液晶層の厚みを決めることになる。
以上のようにして、本発明の液晶配向処理剤を用いて作製された液晶表示素子は、信頼性に優れたものとなり、大画面で高精細の液晶テレビなどに好適に利用できる。

以下に実施例を挙げ、本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらに限定して解釈されるものではない。
実施例及び比較例で使用する主な化合物の略号及び構造は以下のとおりである。

（テトラカルボン酸二無水物）
ＣＢＤＡ：１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物
ＰＭＤＡ：ピロメリット酸無水物
ＢＯＤＡ：ビシクロ［３，３，０］オクタン−２，４，６，８−テトラカルボン酸二無水物

（ジアミン）
ｍ−ＰＤＡ：ｍ−フェニレンジアミン
ＰＣＨ：１，３−ジアミノ−４−[４−(４−ヘプチルシクロヘキシル)フェノキシ]ベンゼン
ＤＡＭ−１：（Ｅ）−２，４−ジアミノフェネチル ３−（４−（４−ヘプチルシクロヘキシル)フェニル)アクリレート

ＤＡＭ−２：Ｎ１−（４−アミノフェニル)ベンゼン−１，４−ジアミン

ＤＡＭ−３：Ｎ１−（４−アミノフェニル)−Ｎ１−メチルベンゼン−１，４−ジアミン

ＤＡＭ−４：４，４’−ジアミノベンゾフェノン

ＤＡＭ−５：４，４’−オキシジアニリン

ＤＡＭ−６：３，５−ジアミノ安息香酸

ＤＡＭ−７：２，４−ジアミノフェネチルシンナメート

（有機溶媒）
ＮＭＰ：Ｎ−メチル−２−ピロリドン
ＢＣＳ：ブチルセロソルブ

［分子量測定］
合成例におけるポリイミドの分子量は、センシュー科学社製 常温ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（ＳＳＣ−７２００）、Ｓｈｏｄｅｘ社製カラム（ＫＤ−８０３、ＫＤ−８０５）を用い以下のようにして測定した。
カラム温度：５０℃
溶離液：Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（添加剤として、臭化リチウム−水和物（ＬｉＢｒ・Ｈ２Ｏ）が３０ｍｍｏｌ／Ｌ（リットル）、リン酸・無水結晶（ｏ−リン酸）が３０ｍｍｏｌ／Ｌ、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）が１０ｍｌ／Ｌ）
流速：１．０ｍｌ／分
検量線作成用標準サンプル：東ソー社製 ＴＳＫ 標準ポリエチレンオキサイド（分子量約９００００００、１５００００、１０００００、及び３００００）、及び、ポリマーラボラトリー社製 ポリエチレングリコール（分子量 約１２０００、４０００、及び１０００）。

＜合成例１＞
ＣＢＤＡ（２．４９９ｇ、１２．７４ｍｍｏｌ）、及びＤＡＭ−１（６．０１５ｇ、１３．０ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（４８．２４ｇ）中で混合し、室温で２０時間反応させ、ポリアミック酸溶液を得た。このポリアミック酸溶液にＮＭＰ（４２．５７ｇ）、及びＢＣ（４２．５７ｇ）を加え６質量％に希釈し、室温で５時間攪拌することにより、ポリアミック酸溶液（Ａ１）を得た。含有されるポリアミック酸の数平均分子量は９０００であり、重量平均分子量は２８０００であった。尚、得られたポリアミック酸溶液（Ａ１）は、垂直配向性の液晶配向膜の形成が可能であって、液晶配向剤としての使用が可能であり、後述する比較例１においては、液晶配向剤（Ａ１）として用いられる。

＜合成例２＞
ＢＯＤＡ（１．６２６ｇ、６．２４ｍｍｏｌ）、及びＤＡＭ−１（６．０１５ｇ、１３．０ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（３７．６８ｇ）中で混合し、８０℃で５時間反応させた後、ＣＢＤＡ（１．２２４ｇ、６．２４ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（１２．５６ｇ）を加え、４０℃で１０時間反応させ、ポリアミック酸溶液を得た。このポリアミック酸溶液（５８．０ｇ）にＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（３．９１ｇ）、及びピリジン（２．０２ｇ）を加え、５０℃で３時間反応させた。この反応溶液をメタノール（５３０ｍｌ）に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥してポリイミド粉末（Ｂ）を得た。このポリイミドのイミド化率は５０％であり、数平均分子量は１１０００であり、重量平均分子量は３１０００であった。

得られたポリイミド粉末（Ｂ）（６．０ｇ）にＮＭＰ（２９．３ｇ）を加え、７０℃にて５時間攪拌して溶解させた。この溶液にＮＭＰ（３４．７ｇ）、及びＢＣ(３０．０ｇ)を加え、攪拌することによりポリイミド溶液（Ｂ１）を得た。尚、得られたポリイミド溶液（Ｂ１）は、垂直配向性の液晶配向膜の形成が可能であって、液晶配向剤としての使用が可能であり、後述する比較例２においては、液晶配向剤（Ｂ１）として用いられる。

＜合成例３＞
ＣＢＤＡ（２．４４７ｇ、１２．４８ｍｍｏｌ）、及びＤＡＭ−２（２．５９ｇ、１３．０ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２８．５５ｇ）中で混合し、室温で２０時間反応させ、ポリアミック酸溶液を得た。このポリアミック酸溶液にＮＭＰ（２５．１９ｇ）、及びＢＣ（２５．１９ｇ）を加え６質量％に希釈し、室温で５時間攪拌することにより、ポリアミック酸溶液（Ｃ１）を得た。含有されるポリアミック酸の数平均分子量は８７００であり、重量平均分子量は１８０００であった。

次に、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（Ａ１）（２．０ｇ）と、このポリアミック酸溶液（Ｃ１）（８．０ｇ）とを室温で３時間混合し、垂直配向性の液晶配向膜の形成が可能な液晶配向剤（Ｃ２）を調製した。
また、合成例２で得られたポリイミド溶液（Ｂ１）（２．０ｇ）と、このポリアミック酸溶液（Ｃ１）（８．０ｇ）とを室温で３時間混合し、垂直配向性の液晶配向膜の形成が可能な液晶配向剤（Ｃ３）を調製した。

＜合成例４＞
ＣＢＤＡ（２．４４７ｇ、１２．４８ｍｍｏｌ）、及びＤＡＭ−３（２．７７３ｇ、１３．０ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２９．５８ｇ）中で混合し、室温で２０時間反応させ、ポリアミック酸溶液を得た。このポリアミック酸溶液にＮＭＰ（２６．１ｇ）、及びＢＣ（２６．１ｇ）を加え６質量％に希釈し、室温で５時間攪拌することにより、ポリアミック酸溶液（Ｄ１）を得た。含有されるポリアミック酸の数平均分子量は９１００であり、重量平均分子量は１９０００であった。
次いで、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（Ａ１)（２．０ｇ）と、このポリアミック酸溶液（Ｄ１）（８．０ｇ）とを室温で３時間混合し、垂直配向性の液晶配向膜の形成が可能な液晶配向剤（Ｄ２）を調製した。

＜合成例５＞
ＣＢＤＡ（２．４４７ｇ、１２．４８ｍｍｏｌ）、及びＤＡＭ−４（２．７５９ｇ、１３．０ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２９．５ｇ）中で混合し、室温で２０時間反応させ、ポリアミック酸溶液を得た。このポリアミック酸溶液にＮＭＰ（２６．０ｇ）、及びＢＣ（２６．０ｇ）を加え６質量％に希釈し、室温で５時間攪拌することにより、ポリアミック酸溶液（Ｅ１）を得た。含有されるポリアミック酸の数平均分子量は１０５００であり、重量平均分子量は２６０００であった。
次いで、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（Ａ１）（２．０ｇ）と、このポリアミック酸溶液（Ｅ１）（８．０ｇ）を室温で３時間混合し、垂直配向性の液晶配向膜の形成が可能な液晶配向剤（Ｅ２）を調製した。

＜合成例６＞
ＣＢＤＡ（２．４９８ｇ、１２．７４ｍｍｏｌ）、及びＤＡＭ−７（３．６７０ｇ、１３．０ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（３４．９６ｇ）中で混合し、室温で２０時間反応させ、ポリアミック酸溶液を得た。このポリアミック酸溶液にＮＭＰ（３０．８４ｇ）、及びＢＣ（３０．８４ｇ）を加え６質量％に希釈し、室温で５時間攪拌することにより、ポリアミック酸溶液（Ｆ１）を得た。含有されるポリアミック酸の数平均分子量は１０８００であり、重量平均分子量は２３０００であった。
次いで、合成例１で得られた液晶配向剤（Ａ１）（２．０ｇ）とポリアミック酸溶液（Ｆ１）（８．０ｇ）とを室温で３時間混合し、垂直配向性の液晶配向膜の形成が可能な液晶配向剤（Ｆ２）を調製した。

＜合成例７＞
ＢＯＤＡ（２．４３９ｇ、９．７５ｍｍｏｌ）、ＤＡＭ−２（１．２９５ｇ、６．５ｍｍｏｌ）、ｍ−ＰＤＡ（０．４２２ｇ、３．９ｍｍｏｌ）、及びＰＣＨ（０．９９０g、２．６ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（１６．１ｇ）中で混合し、８０℃で５時間反応させた後、ＣＢＤＡ（０．５３５ｇ、２．７ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（８．０５ｇ）を加え、４０℃で１０時間反応させ、ポリアミック酸溶液を得た。このポリアミック酸溶液（３６．０ｇ）にＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（６．３１ｇ）、及びピリジン（１．９５ｇ）を加え、１００℃で３時間反応させた。この反応溶液をメタノール（３５０ｍｌ）に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥して、ポリイミド粉末（Ｇ）を得た。このポリイミドのイミド化率は７６％であり、数平均分子量は１４０００であり、重量平均分子量は４６０００であった。

得られたポリイミド粉末（Ｇ）（３．０ｇ）にＮＭＰ（１４．６ｇ）を加え、７０℃にて５時間攪拌して溶解させた。この溶液にＮＭＰ（１７．４ｇ）、及びＢＣ(１５．０ｇ)を加え、攪拌することによりポリイミド溶液（Ｇ１）を得た。
次いで、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（Ａ１）（２．０ｇ）と、このポリイミド溶液（Ｇ１）（８．０ｇ）とを室温で３時間混合し、垂直配向性の液晶配向膜の形成が可能な液晶配向剤（Ｇ２）を調製した。

＜比較合成例１＞
ＣＢＤＡ（２．４４７ｇ、１２．４８ｍｍｏｌ）、及びＤＡＭ−５（２．６０３ｇ、１３．０ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２８．６２ｇ）中で混合し、室温で２０時間反応させ、ポリアミック酸溶液を得た。このポリアミック酸溶液にＮＭＰ（２２．３８ｇ）、及びＢＣ（２２．３８ｇ）を加え６質量％に希釈し、室温で５時間攪拌することにより、ポリアミック酸溶液（Ｈ１）を得た。含有されるポリアミック酸の数平均分子量は１１０００であり、重量平均分子量は２９０００であった。
次いで、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（Ａ１）（２．０ｇ）と、ポリアミック酸溶液（Ｈ１）（８．０ｇ）とを室温で３時間混合し、垂直配向性の液晶配向膜の形成が可能な液晶配向剤（Ｈ２）を調製した。

＜比較合成例２＞
ＣＢＤＡ（２．４９８ｇ、１２．７４ｍｍｏｌ）、及びＤＡＭ−６（１．９７８ｇ、１３．０ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２５．３７ｇ）中で混合し、室温で２０時間反応させ、ポリアミック酸溶液を得た。このポリアミック酸溶液にＮＭＰ（２２．３８ｇ）、及びＢＣ（２２．３８ｇ）を加え６質量％に希釈し、室温で５時間攪拌することにより、ポリアミック酸溶液（Ｉ１）を得た。含有されるポリアミック酸の数平均分子量は１１０００であり、重量平均分子量は２８０００であった。
次いで、合成例１で得られたポリアミック酸溶液（Ａ１）（２．０ｇ）と、このポリアミック酸溶液（Ｉ１）（８．０ｇ）とを室温で３時間混合し、垂直配向性の液晶配向膜の形成が可能な液晶配向剤（Ｉ２）を調製した。

＜実施例１＞
合成例３で得られた液晶配向剤（Ｃ２）を用いて、下記に示すような手順で液晶セルの作製を行った。

［液晶セルの作製］
合成例３で得られた液晶配向剤（Ｃ２）を、ＩＴＯ膜からなる透明電極付きガラス基板の透明電極形成面にスピンコートし、８０℃のホットプレートで９０秒間乾燥した後、２００℃の熱風循環式オーブンで３０分間焼成を行い、膜厚５０ｎｍの液晶配向膜を形成した。

この基板に対して、照射強度１１.０ｍＷ／ｃｍの３１３ｎｍの直線偏光ＵＶ（紫外線）を２０ｍＪ照射した。入射光線の方向は基板法線方向に対して４０°傾斜させた。直線偏光ＵＶは、高圧水銀ランプの紫外光に３１３ｎｍのバンドパスフィルタを通した後、３１３ｎｍの偏光板を通すことで調整した。

上記の製造方法による基板を２枚用意し、一方の基板の液晶配向膜上に６μｍのビーズスペーサを散布した後、その上からシール剤を印刷した。次いで、２枚の基板の液晶配向面を対向させ、各基板への直線偏光ＵＶの光軸の投影方向が逆平行となるように圧着し、１５０℃で１０５分かけてシール剤（協立化学社製、ＸＮ−１５００Ｔ）を熱硬化させた。こうして作製された空セルに、誘電異方性が負であるネガ型液晶（メルク社製、ＭＬＣ−６６０８）を減圧注入法によって注入し、垂直配向型の液晶セルを作製した。

同様の製造方法により、液晶配向膜の膜厚が、７０ｎｍ、１００ｎｍ、１２０ｎｍ、１５０ｎｍ、及び２００ｎｍとそれぞれ異なる以外は、同様の構造の５種類の垂直配向型の液晶セルを作製し、以下の評価に使用した。

［プレチルト角の評価］
作製された各液晶セルを用い、液晶のプレチルト角を測定した。プレチルト角の測定は、Ａｘｏ Ｍｅｔｒｉｘ社製の「Ａｘｏ Ｓｃａｎ」を用いてミューラーマトリックス法により測定した。測定結果は、表１にまとめて示した。

＜実施例２＞
液晶配向剤（Ｃ２）を液晶配向剤（Ｃ３）に変更した以外は、実施例１と同様の方法に従い、６種類の液晶セルを作製し、それぞれについてプレチルト角の測定を行なった。

＜実施例３＞
液晶配向剤（Ｃ２）を液晶配向剤（Ｄ２）に変更した以外は、実施例１と同様の方法に従い、６種類の液晶セルを作製し、それぞれについてプレチルト角の測定を行なった。

＜実施例４＞
液晶配向剤（Ｃ２）を液晶配向剤（Ｅ２）に変更した以外は、実施例１と同様の方法に従い、６種類の液晶セルを作製し、それぞれについてプレチルト角の測定を行なった。

＜実施例５＞
液晶配向剤（Ｃ２）を液晶配向剤（Ｆ２）に変更した以外は、実施例１と同様の方法に従い、６種類の液晶セルを作製し、それぞれについてプレチルト角の測定を行なった。

＜実施例６＞
液晶配向剤（Ｃ２）を液晶配向剤（Ｇ２）に変更した以外は、実施例１と同様の方法に従い、６種類の液晶セルを作製し、それぞれについてプレチルト角の測定を行なった。

＜比較例１＞
ポリアミック酸溶液（Ａ１）を液晶配向剤（Ａ１）として用い、液晶配向剤（Ｃ２）をその液晶配向剤（Ａ１）に変更した以外は、実施例１と同様の方法に従い、６種類の液晶セルを作製し、それぞれについてプレチルト角の測定を行なった。

＜比較例２＞
ポリイミド溶液（Ｂ１）を液晶配向剤（Ｂ１）として用い、液晶配向剤（Ｃ２）を液晶配向剤（Ｂ１）に変更した以外は、実施例１と同様の方法に従い、６種類の液晶セルを作製し、それぞれについてプレチルト角の測定を行なった。

＜比較例３＞
液晶配向剤（Ｃ２）を液晶配向剤（Ｈ２）に変更した以外は、実施例１と同様の方法に従い、６種類の液晶セルを作製し、それぞれについてプレチルト角の測定を行なった。

＜比較例４＞
液晶配向剤（Ｃ２）を液晶配向剤（Ｉ２）に変更した以外は、実施例１と同様の方法に従い、６種類の液晶セルを作製し、それぞれについてプレチルト角の測定を行なった。

実施例１〜６の各液晶セルのプレチルト角の測定結果は、表１にまとめて示した。また、比較例１〜４の各液晶セルのプレチルト角の測定結果は、表２にまとめて示した。
表１及び２においては、実施例１〜６及び比較例１〜４のそれぞれについて、液晶配向膜の膜厚によるプレチルト角の変化量（Δφ（度））を記載した。
Δφは、実施例１〜６及び比較例１〜４のそれぞれにおいて、液晶配向膜の膜厚の異なる６種類の液晶セルのプレチルト角を比較し、最大プレチルト角と最小プレチルト角を求め、その差として評価された値である。

図１は、液晶セルの配向膜の膜厚とプレチルト角の関係を示すグラフである。

図１では、液晶セルの液晶配向膜の膜厚を変化させることによって、液晶のプレチルト角が変動する現象を、実施例６と比較例４との結果を比較して示している。

表２及び図１の比較例４において示されるように、従来技術に対応する、光配向処理された垂直配向性の液晶配向膜は、その膜厚が変化することで、液晶セルの液晶のプレチルト角が大きく変化することがわかる。これは液晶配向膜と基板との界面で、光配向処理時のＵＶ（紫外線）が反射し、液晶配向膜の表面で干渉していることを意味する。
また、表１及び図１中の実施例６のグラフにおいて示されるように、液晶配向膜に紫外領域に吸収を持つような材料を混合（ブレンド）することで、液晶配向膜の膜厚によるプレチルト角の変化が抑えられていることがわかる。その理由は、混在した材料が反射光を吸収することで、配向膜表面での光の干渉が抑えているためである。

＜実施例７＞
次に、実施例１〜６及び比較例１〜４でプレチルト角の測定された、液晶配向膜の膜厚が１００ｎｍの液晶セルを用い、該液晶セルを液晶パネル用のバックライト上に置き、バックライトからの光を照射しながら３００時間のエージングを行った。その後、各液晶セルについて、上記と同様にプレチルト角を測定し、エージング前後でのプレチルト角の変化（Δθ）を評価した。評価結果は、表３にまとめて示した。
尚、表３中、エージング前の液晶セルのプレチルト角を「プレチルト角１」として示し、エージング後のプレチルト角を「プレチルト角２」として示した。

表３の評価結果から、比較例１〜４では、バックライト光の影響により、エージングの前後で、プレチルト角が高い値へと大きく変化することがわかった。これは配向処理時の偏光ＵＶで反応できなかった未反応の光反応性基が、バックライト光によって徐々に光反応を起こし、その結果、液晶配向膜表面の異方性が徐々に低下しているためであると解される。

一方、実施例１〜６の紫外領域に吸収を有する材料をブレンドした液晶配向剤を用いた液晶セルでは、バックライト光によるプレチルト角の変化が抑制されていることが確認された。これは液晶配向剤にブレンドされた紫外領域に吸収を有する材料が、バックライトから発生する紫外線を吸収し、その結果、配向制御能に関与する未反応の光反応性基が反応しにくくなった効果を示すものと解される。

本発明の液晶配向剤を用いて形成され、光配向処理が可能な液晶配向膜を有する液晶表示素子は、高生産性での製造が可能であり、優れた表示特性を有することから、大型の液晶ＴＶや、高精細な画像を表示するスマートフォン等の携帯用情報端末用の表示素子として好適に用いることができる。

なお、２０１２年８月２１日に出願された日本特許出願２０１２−１８２１０４号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (12)

1. ２５０〜３８０ｎｍの波長範囲の光で反応する第１の重合体と、
   ２５０〜３８０ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する化合物及び第２の重合体のうちの少なくとも１種と、を含有することを特徴とする液晶配向剤。
2. 前記化合物及び第２の重合体のうちの少なくとも１種の含有量が、前記第１の重合体と併せた合計の含有量の３〜８０質量％である、請求項１に記載の液晶配向剤。
3. 前記第１の重合体は、前記光に反応する光反応性基を有し、該光反応性基がシンナモイル構造、クマリン構造及びカルコン構造からなる群より選択された少なくとも１種の構造である、請求項１又は２に記載の液晶配向剤。
4. 前記光反応性基が、下記の側鎖構造のうちのいずれかを含む、請求項３に記載の液晶配向剤。
   

   

   
   （破線は重合体の主鎖への結合基を表す。
   Ｒは、水素原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基（ただし、その任意の水素原子はフッ素原子に置き換わっていてもよい）、又は炭素原子数１〜１０アルコキシル基（ただし、その任意の水素原子はフッ素原子に置き換わっていてもよい。）を表す。
   Ａ及びＢは、それぞれ独立に、単結合又は下記式に示す環構造を表す。
   

   

   
   Ｔは、それぞれ独立に、単結合、エーテル、エステル、アミド又はケトン結合を表す。Ｓは、単結合又は炭素原子数１〜１０のアルキレン基を表す。
   ただし、ＳとＡが共に単結合の場合、酸素原子は隣り合うことはない。）
5. 前記化合物及び前記第２の重合体は、フェノン構造及びジフェニルアミン構造のうちの少なくとも１種の特定構造を有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶配向剤。
6. 前記特定構造が、下記式の構造である、請求項５に記載の液晶配向剤。
   

   

   （Ｒは、炭素原子数１〜５のアルキル基を表す。）
7. 前記第１の重合体が、ポリアミック酸及び該ポリアミック酸をイミド化して得られるポリイミドからなる群より選ばれる少なくとも１つの重合体である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の液晶配向剤。
8. 前記第２の重合体を含有し、該第２の重合体が、ポリアミック酸及び該ポリアミック酸をイミド化して得られるポリイミドからなる群より選ばれる少なくとも１つの重合体である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の液晶配向剤。
9. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の液晶配向剤を塗布し、乾燥し、焼成して得られることを特徴とする液晶配向膜。
10. 前記焼成の温度が、５０〜３００℃である、請求項９に記載の液晶配向膜。
11. 焼成後の膜厚が、５〜３００ｎｍである、請求項９又は１０に記載の液晶配向膜。
12. 請求項９〜１１のいずれか１項に記載の液晶配向膜を有することを特徴とする液晶表示素子。

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