JPWO2013141328A1 - 有機無機ハイブリッド光電変換素子 - Google Patents

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Abstract

無機半導体を用いた無機光電変換素子と、当該無機光電変換素子に直列接続されるとともに、前記無機光電変換素子に重ねて配置される有機光電変換素子とを有し、前記無機光電変換素子は、電子受容性化合物及び電子供与性化合物を含有する活性層を備え、前記無機光電変換素子よりも短波長に吸収端を有する有機無機ハイブリッド光電変換素子。当該光電変換素子は、高い開放端電圧が得られ、かつ簡易に作製することができる。

Description

本発明は、有機無機ハイブリッド光電変換素子に関する。
シリコン、ＣＩＧＳ、ＣｄＴｅ、ＧａＡｓ等の半導体材料を用いた無機光電変換素子は、比較的長波長に吸収端を有する。このような無機光電変換素子は、広範囲の波長範囲の光を電力として利用することができる。しかしながら、エネルギーの高い短波長の光に対しては、電力として外部に取り出すことのできるエネルギーはバンドギャップの分だけであり、残りは熱に変換され、電力として外部に取り出すことができない。
このように従来の無機光電変換素子では、エネルギーの高い短波長の光については、余剰のエネルギーが熱となって失われ、十分な電力を取り出すことができなかった。
一方、長波長に吸収端を有するバンドギャップの小さい半導体材料を用いた無機光電変換素子は、エネルギーの低い長波長の光も吸収できるため、価電子帯から伝導帯に移る電子の数が多く、その結果として電流を増やすことはできる。しかしながら、バンドギャップが小さい場合、取り出される電圧が低くなるため、たとえ電流が大きくなったとしても、十分な電力（＝電圧×電流）を取り出すことができない。
このため、バンドギャップの異なる半導体を構成材料とする二つ以上の無機光電変換素子を積層したタンデム構造と呼ばれる光電変換素子が報告されている（例えば特許文献１、２）。光電変換素子をこのような構成とすることにより、エネルギーの高い短波長の光のエネルギーも有効に利用することができる。
国際公開２００１／０２４５３４号パンフレット 特開平６−２８３７３８号公報
しかしながら、無機半導体を積層した構成の光電変換素子はコストや生産性の点で問題があった。
本発明の目的は、高い開放端電圧が得られ、かつ簡易に作製することのできる光電変換素子を提供することにある。
本発明は、以下の［１］〜［７］を提供するものである。
［１］ 無機半導体を用いた無機光電変換素子と、当該無機光電変換素子に直列接続されるとともに、前記無機光電変換素子に重ねて配置される有機光電変換素子とを有し、
前記有機光電変換素子は、電子受容性化合物及び電子供与性化合物を含有する活性層を備え、前記無機光電変換素子よりも短波長に吸収端を有する有機無機ハイブリッド光電変換素子。
［２］ 前記有機光電変換素子の活性層が塗布法によって形成される、［１］に記載の有機無機ハイブリッド光電変換素子。
［３］ 前記有機光電変換素子の電極が塗布法によって形成されてなる、［１］または［２］に記載の有機無機ハイブリッド光電変換素子。
［４］ 前記有機光電変換素子の活性層がフラーレン類及び／又はフラーレン類の誘導体と、共役高分子化合物とを含む［１］〜［３］のいずれか１つに記載の有機無機ハイブリッド光電変換素子。
［５］ 前記無機光電変換素子に用いられる無機半導体がシリコンである［１］〜［４］のいずれか１つに記載の有機無機ハイブリッド光電変換素子。
［６］ 無機光電変換素子を用意する工程と、
当該無機光電変換素子上に、有機光電変換素子を形成する工程とを有し、
前記有機光電変換素子を形成する工程では、前記無機光電変換素子上に、前記有機光電変換素子の活性層を塗布法によって形成する、有機無機ハイブリッド光電変換素子の製造方法。
［７］ 前記有機光電変換素子を形成する工程において、活性層を形成した後に、塗布法によって有機光電変換素子の電極を形成する、［６］記載の有機無機ハイブリッド光電変換素子の製造方法。
有機光電変換素子と無機光電変換素子の分光感度を示す図である。
以下、本発明を詳細に説明する。
本明細書において、吸収端は、縦軸を分光感度、横軸を波長としたグラフにおいて、分光感度の立ち上がる部分を直線でフィッティングし、それが横軸と交わるところの値である。なお分光感度は、分光感度測定装置を用いて測定される。
＜１＞光電変換素子の構成
本発明の有機無機ハイブリッド光電変換素子は、無機半導体を用いた無機光電変換素子と、当該無機光電変換素子に直列接続されるとともに、前記無機光電変換素子に重ねて配置される有機光電変換素子とを有し、前記有機光電変換素子は、電子受容性化合物及び電子供与性化合物を含有する活性層を備え、前記無機光電変換素子よりも短波長に吸収端を有する有機無機ハイブリッド光電変換素子である。なお有機無機ハイブリッド光電変換素子は、支持基板上に設けられていてもよい。
有機光電変換素子は、たとえば無機光電変換素子の上に直接作製される。また有機光電変換素子と無機光電変換素子とをそれぞれ個別に作製し、その後、有機光電変換素子を無機光電変換素子に積層してもよい。この場合、有機光電変換素子と無機光電変換素子とは、直列接続となるように、電極が配線によって接続される。
無機光電変換素子は無機半導体を用いて作成される。無機半導体としては、シリコン、ゲルマニウム、ＣＩＧＳ、ＣｄＴｅ、ＧａＡｓといった化合物半導体等が挙げられる。中でもシリコンが製造コストの点で好ましい。
有機光電変換素子は、無機光電変換素子よりも短波長に吸収端を有する。そのため、有機無機ハイブリッド光電変換素子は、無機光電変換素子単独よりも短波長において有効に光エネルギーを利用することができ、高い開放端電圧を得ることができる。高電圧が得られると、配線による電力損を小さくすることができる。
有機光電変換素子は、無機光電変換素子によって吸収される帯域の光を少なくとも一部透過するように形成される。
有機光電変換素子は、第１および第２の電極（陽極および陰極）と、該電極間に設けられる活性層とを含んで構成される。
有機光電変換素子の陽極および陰極は、透明又は半透明の電極によって構成される。透明又は半透明の電極から入射した光は、活性層中において、後述の電子受容性化合物及び／又は電子供与性化合物に吸収され、それによって電子と正孔とが結合した励起子が生成される。この励起子が活性層中を移動し、電子受容性化合物と電子供与性化合物とが隣接するヘテロ接合界面に達すると、界面でのそれぞれのＨＯＭＯエネルギー及びＬＵＭＯエネルギーの違いにより電子と正孔とが分離し、独立して移動することのできる電荷（電子と正孔）が発生する。発生した電荷は、それぞれ電極へ移動することにより外部へ電気エネルギー（電流）として取り出される。
本発明の有機光電変換素子は、無機光電変換素子上に形成される。または本発明の有機光電変換素子は、透明な支持基板上に形成された上で、無機光電変換素子と重ねあわされる。支持基板には、有機光電変換素子を作製する際に化学的に変化しないものが好適に用いられる。支持基板としては、例えば、ガラス基板、プラスチック基板、高分子フィルム等が挙げられる。支持基板には光透過性の高い基板が好適に用いられる。
有機光電変換素子が無機光電変換素子上に直接形成される場合、無機光電変換素子の表面側がｎ型半導体の場合は、有機光電変換素子の無機光電変換素子と接する側に陽極が形成され、無機光電変換素子の表面側がｐ型半導体の場合、有機光電変換素子の無機光電変換素子と接する側に陰極が形成される。なお有機光電変換素子が無機光電変換素子上に直接形成される場合には、上記の第１および第２の電極のうち、無機光電変換素子側の電極は省略することも可能である。
（有機光電変換素子の電極）
有機光電変換素子の電極（陽極、または陰極）には、導電性の金属酸化物膜、金属薄膜、および有機物を含む導電膜等が用いられる。具体的には、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、インジウムスズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＺＯ）、金、白金、銀、銅、アルミニウム、ポリアニリン及びその誘導体、並びにポリチオフェン及びその誘導体等の薄膜が用いられる。
電極を塗布法により形成する際に用いられる塗布液は、電極の構成材料と溶媒とを含む。電極は導電性を示す高分子化合物を含むことが好ましく、実質的に導電性を示す高分子化合物から成ることが好ましい。電極の構成材料としては、ポリアニリン及びその誘導体、ポリチオフェン及びその誘導体、ポリピロール及びその誘導体等の有機材料が挙げられる。
電極は、ポリチオフェン及び／又はポリチオフェンの誘導体を含んで構成されることが好ましく、実質的にポリチオフェン及び／又はポリチオフェンの誘導体から成ることが好ましい。また陰極は、ポリアニリン及び／又はポリアニリンの誘導体を含んで構成されることが好ましく、ポリアニリン及び／又はポリアニリンの誘導体から成ることが好ましい。
ポリチオフェン及びその誘導体の具体例としては、以下に示す複数の構造式のうちの１つ以上を繰り返し単位として含む化合物が挙げられる。
Figure 2013141328
（式中、ｎは、１以上の整数を表す。）
ポリピロール及びその誘導体の具体例としては、以下に示す複数の構造式のうちの１つ以上を繰り返し単位として含む化合物が挙げられる。
Figure 2013141328
（式中、ｎは、１以上の整数を表す。）
ポリアニリン及びその誘導体の具体例としては、以下に示す複数の構造式のうちの１つ以上を繰り返し単位として含む化合物が挙げられる。
Figure 2013141328
（式中、ｎは、１以上の整数を表す。）
上記電極の構成材料のなかでも、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）とポリ（４−スチレンスルホン酸）（ＰＳＳ）からなるＰＥＤＯＴ／ＰＳＳは、高い光電変換効率を示す点から、電極の構成材料として好適に用いられる。
なお電極は、上記有機材料を含む塗布液に限らずに、導電性物質のナノ粒子、導電性物質のナノワイヤ、または導電性物質のナノチューブを含む、エマルション（乳濁液）やサスペンション（懸濁液）、金属ペーストなどの分散液、溶融状態の低融点金属等を用いて塗布法により形成してもよい。導電性物質としては、金、銀、等の金属、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の酸化物、カーボンナノチューブ等が挙げられる。なお電極は、導電性物質のナノ粒子または名のファイバーのみから構成されていてもよいが、電極は、特表２０１０−５２５５２６号公報に示されるように、導電性物質のナノ粒子またはナノファイバーが、導電性ポリマーなどの所定の媒体中に分散して配置された構成を有していてもよい。
（有機光電変換素子の活性層）
有機光電変換素子の活性層は、単層の形態または複数の層が積層された形態をとりうる。単層構成の活性層は、電子受容性化合物及び電子供与性化合物を含有する層から構成される。
また複数の層が積層された構成の活性層は、たとえば電子供与性化合物を含有する第一の活性層と、電子受容性化合物を含有する第二の活性層とを積層した積層体から構成される。なおこの場合、第一の活性層が、第二の活性層に対して陽極寄りに配置される。
また、中間層を介して複数の活性層が積層された構成であっても構わない。このような場合は、マルチ接合型素子（タンデム型素子）となる。なおこの場合、各活性層は、電子受容性化合物及び電子供与性化合物を含有する単層型であっても構わないし、電子供与性化合物を含有する第一の活性層と、電子受容性化合物を含有する第二の活性層とを積層した積層体から構成された積層型であっても構わない。
活性層は塗布法により形成されることが好ましい。また活性層は、高分子化合物を含むことが好ましく、高分子化合物を一種単独で含んでいても二種以上を組み合わせて含んでいてもよい。また、活性層の電荷輸送性を高めるために、前記活性層中に電子供与性化合物及び／又は電子受容性化合物を混合してもよい。
有機光電変換素子に用いられる電子受容性化合物は、そのＨＯＭＯエネルギーが電子供与性化合物のＨＯＭＯエネルギーよりも高く、かつ、そのＬＵＭＯエネルギーが電子供与性化合物のＬＵＭＯエネルギーよりも高い化合物から成る。
前記電子供与性化合物は低分子化合物であっても高分子化合物であってもよい。低分子の電子供与性化合物としては、フタロシアニン、金属フタロシアニン、ポルフィリン、金属ポルフィリン、オリゴチオフェン、テトラセン、ペンタセン、ルブレン等が挙げられる。
高分子の電子供与性化合物としては、ポリビニルカルバゾール及びその誘導体、ポリシラン及びその誘導体、側鎖又は主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ポリアニリン及びその誘導体、ポリチオフェン及びその誘導体、ポリピロール及びその誘導体、ポリフェニレンビニレン及びその誘導体、ポリチエニレンビニレン及びその誘導体、ポリフルオレン及びその誘導体等が挙げられる。
前記電子受容性化合物は低分子化合物であっても高分子化合物であってもよい。
低分子の電子受容性化合物としては、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン及びその誘導体、ベンゾキノン及びその誘導体、ナフトキノン及びその誘導体、アントラキノン及びその誘導体、テトラシアノアントラキノジメタン及びその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン及びその誘導体、ジフェノキノン誘導体、８−ヒドロキシキノリン及びその誘導体の金属錯体、ポリキノリン及びその誘導体、ポリキノキサリン及びその誘導体、ポリフルオレン及びその誘導体、Ｃ６０等のフラーレン類及びその誘導体、バソクプロイン等のフェナントレン誘導体等が挙げられる。
高分子の電子受容性化合物としては、ポリビニルカルバゾール及びその誘導体、ポリシラン及びその誘導体、側鎖又は主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ポリアニリン及びその誘導体、ポリチオフェン及びその誘導体、ポリピロール及びその誘導体、ポリフェニレンビニレン及びその誘導体、ポリチエニレンビニレン及びその誘導体、ポリフルオレン及びその誘導体等が挙げられる。
これらのなかでも、とりわけフラーレン類及びその誘導体が好ましい。
フラーレン類としては、Ｃ６０、Ｃ７０、カーボンナノチューブ、及びその誘導体が挙げられる。Ｃ６０フラーレンの誘導体の具体的構造としては、以下のようなものが挙げられる。
Figure 2013141328
活性層が、フラーレン類及び／又はフラーレン類の誘導体からなる電子受容性化合物と、電子供与性化合物とを含有する構成では、フラーレン類及びフラーレン類の誘導体の割合が、電子供与性化合物１００重量部に対して、１０〜１０００重量部であることが好ましく、５０〜５００重量部であることがより好ましい。また有機光電変換素子としては、前述の単層構成の活性層を備えることが好ましく、ヘテロ接合界面を多く含むという観点からは、フラーレン類及び／又はフラーレン類の誘導体からなる電子受容性化合物と、電子供与性化合物とを含有する単層構成の活性層を備えることがより好ましい。
中でも活性層は、共役高分子化合物と、フラーレン類及び／又はフラーレン類の誘導体とを含むことが好ましい。活性層に用いられる共役高分子化合物としては、ポリチオフェン及びその誘導体、ポリフェニレンビニレン及びその誘導体、ポリフルオレン及びその誘導体等があげられる。
活性層の膜厚は、通常、１ｎｍ〜１００μｍであり、好ましくは２ｎｍ〜１０００ｎｍであり、より好ましくは５ｎｍ〜５００ｎｍであり、さらに好ましくは２０ｎｍ〜２００ｎｍである。
（有機光電変換素子の機能層）
有機光電変換素子は、電極間に活性層に限らす所定の機能層を備えることがある。このような機能層として、電子輸送性材料を含む機能層を、活性層と陰極との間に設けることが好ましい。
機能層は、塗布法により形成することが好ましく、たとえば電子輸送性材料と溶媒とを含む塗布液を、当該機能層が設けられる層の表面上に塗布することにより形成することが好ましい。なお本発明において、塗布液は、エマルション（乳濁液）、サスペンション（懸濁液）等の分散液も含む。
電子輸送性材料としては、例えば、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）、ＦＴＯ（フッ素ドープ酸化スズ）、ＧＺＯ（ガリウムドープ酸化亜鉛）、ＡＴＯ（アンチモンドープ酸化スズ）、ＡＺＯ（アルミニウムドープ酸化亜鉛）が挙げられ、これらの中でも、酸化亜鉛が好ましい。なお機能層を形成するさいには、粒子状の酸化亜鉛を含む塗布液を成膜して、当該機能層を形成することが好ましい。このような電子輸送材料としては、いわゆる酸化亜鉛のナノ粒子を用いることが好ましく、酸化亜鉛のナノ粒子のみからなる電子輸送性材料を用いて、機能層を形成することがより好ましい。なお酸化亜鉛の球相当の平均粒子径は、１ｎｍ〜１０００ｎｍが好ましく、１０ｎｍ〜１００ｎｍが好ましい。平均粒子径はレーザー光回折散乱法や、Ｘ線回折法、レーザードップラー法（動的電気永動光散乱法）によって測定される。
陰極と活性層との間に、電子輸送性材料を含む機能層を設けることによって、陰極の剥離を防ぐとともに、活性層から陰極への電子注入効率を高めることができる。なお機能層は、活性層に接して設けることが好ましく、さらには陰極にも接して設けられることが好ましい。このように電子輸送性材料を含む機能層を設けることによって、陰極の剥離を防ぐとともに、活性層から陰極への電子注入効率をさらに高めることができる。このような機能層を設けることによって、信頼性が高く、光電変換効率の高い有機光電変換素子を実現することができる。
電子輸送性材料を含む機能層は、いわゆる電子輸送層及び／又は電子注入層として機能する。このような機能層を設けることによって、陰極への電子の注入効率を高めたり、活性層からの正孔の注入を防いだり、電子の輸送能を高めたり、陰極を塗布法で形成する際に用いられる塗布液による侵食から活性層を保護したり、活性層の劣化を抑制したりすることができる。
また電子輸送性材料を含む機能層は、陰極を塗布形成する際に用いられる塗布液に対して濡れ性が高い材料によって構成されることが好ましい。具体的には電子輸送性材料を含む機能層は、陰極を塗布形成する際に用いられる塗布液に対する活性層の濡れ性よりも、当該塗布液に対する濡れ性が高い方が好ましい。このような機能層上に陰極を塗布形成することにより、陰極を形成する際に、塗布液が機能層の表面上に良好に濡れ広がり、膜厚が均一な陰極を形成することができる。
また有機光電変換素子としては、前述した素子構成に限らず、陽極と陰極との間に付加的な層をさらに設けてもよい。付加的な層としては、例えば、ホールを輸送する正孔輸送層、電子を輸送する電子輸送層、バッファ層等が挙げられる。例えば正孔輸送層は陽極と活性層との間に設けられ、電子輸送層は活性層と機能層との間に設けられ、バッファ層は例えば陰極と機能層の間などに設けられる。バッファ層を設けることによって、表面の平坦化や、電荷注入を促進することができる。
前記付加的な層としてのホール輸送層または電子輸送層に用いられる材料としては、それぞれ前述した電子供与性化合物、電子受容性化合物を用いることができる。付加的な層としてのバッファ層に用いられる材料としては、フッ化リチウム等のアルカリ金属、アルカリ土類金属のハロゲン化物、酸化物等を用いることができる。また、酸化チタン等の無機半導体の微粒子を用いて電荷輸送層を形成することもできる。例えば電子輸送層が成膜される下地層上にチタニア溶液を塗布法により成膜し、さらに乾燥することによって電子輸送層を形成することができる。
＜２＞有機無機ハイブリッド光電変換素子の製造方法
本発明の有機無機ハイブリッド光電変換素子の製造方法は、無機光電変換素子を用意する工程と、当該無機光電変換素子上に、有機光電変換素子を形成する工程とを有し、前記有機光電変換素子を形成する工程では、前記無機光電変換素子上に、活性層を塗布法によって形成する、有機無機ハイブリッド光電変換素子の製造方法に関する。
＜第１の電極形成工程＞
無機光電変換素子を用意したのちに、まず第１の電極を形成する。なお前述したように、無機光電変換素子上に、直接有機光電変換素子を形成する場合には、第１の電極形成工程を省略することもできる。
電極は、例としてあげた電極の材料を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法等によって前述した支持基板上に成膜することで形成される。またポリアニリン及びその誘導体、ポリチオフェン及びその誘導体等の有機材料を含む塗布液、金属インク、金属ペースト、溶融状態の低融点金属等を用いて、塗布法によって電極を形成してもよい。
電極を塗布により形成する際に用いる塗布液の溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリン、デカリン、ビシクロヘキシル、ｎ−ブチルベンゼン、ｓ−ブチルベゼン、ｔ−ブチルベンゼン等の炭化水素系溶媒、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロブタン、ブロモブタン、クロロペンタン、ブロモペンタン、クロロヘキサン、ブロモヘキサン、クロロシクロヘキサン、ブロモシクロヘキサン等のハロゲン化飽和炭化水素系溶媒、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン等のハロゲン化不飽和炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテル類系溶媒、水、アルコール等があげられる。アルコールの具体例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブトキシエタノール、メトキシブタノール等があげられる。また本発明に用いられる塗布液は、２種類以上の溶媒を含んでいてもよく、上記で例示した溶媒を２種類以上含んでいてもよい。
なお活性層や機能層に損傷を与えるような塗布液を用いて電極を形成する場合には、たとえば電極を二層構成とし、一層目の薄膜を、活性層や機能層に損傷を与えないような塗布液を用いて形成し、つぎに、二層目の薄膜を、活性層や機能層に損傷を与えうる塗布液を用いて形成してもよい。このように二層構成の電極とすることにより、たとえ活性層や機能層に損傷を与えうる塗布液を用いて二層目の薄膜を形成したとしても、一層目の薄膜が保護層として機能するため、活性層や機能層に損傷を与えることを抑制することができる。たとえば、酸化亜鉛からなる機能層は、酸性の溶液によって損傷を受けやすいため、酸化亜鉛からなる機能層上に電極を形成する場合には、中性の塗布液を用いて一層目の薄膜を形成し、つづいて酸性の溶液を用いて二層目の薄膜を形成することによって二層構成の電極を形成してもよい。
＜活性層形成工程＞
活性層の形成方法はとくに限定されないが、製造工程の簡易化の観点からは塗布法によって形成することが好ましい。活性層は例えば前述した活性層の構成材料と溶媒とを含む塗布液を用いる塗布法により形成することができ、例えば共役高分子化合物およびフラーレン類及び／又はフラーレン類の誘導体と、溶媒とを含む塗布液を用いる塗布法により形成することができる。
溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリン、デカリン、ビシクロヘキシル、ｎ−ブチルベンゼン、ｓ−ブチルベゼン、ｔ−ブチルベンゼン等の炭化水素系溶媒、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロブタン、ブロモブタン、クロロペンタン、ブロモペンタン、クロロヘキサン、ブロモヘキサン、クロロシクロヘキサン、ブロモシクロヘキサン等のハロゲン化飽和炭化水素系溶媒、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン等のハロゲン化不飽和炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテル類系溶媒等が挙げられる。
また本発明に用いられる塗布液は、２種類以上の溶媒を含んでいてもよく、上記で例示した溶媒を２種類以上含んでいてもよい。
前記活性層の構成材料を含む塗布液を塗布する方法としては、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェット印刷法、ディスペンサー印刷法、ノズルコート法、キャピラリーコート法等の塗布法を挙げることができ、これらのなかでもスピンコート法、フレキソ印刷法、インクジェット印刷法、ディスペンサー印刷法が好ましい。
＜機能層形成工程＞
前述したように、活性層と陰極との間には、電子輸送性材料を含む機能層を形成することが好ましい。すなわち前記活性層の形成後、かつ前記陰極の形成前に、上述した電子輸送性材料を含む塗布液を活性層上に塗布成膜することによって機能層を形成することが好ましい。
電子輸送性材料を含む機能層が活性層に接して設けられる場合には、前記塗布液を活性層の表面上に塗布することによって機能層が形成される。なお機能層を形成するさいには、塗布液が塗布される層（活性層など）に与える損傷が少ない塗布液を用いることが好ましく、具体的には塗布液が塗布される層（活性層など）を溶解し難い塗布液を用いることが好ましい。例えば陰極を成膜する際に用いられる塗布液を活性層上に塗布した場合に、この塗布液が活性層に与える損傷よりも活性層に与える損傷の小さい塗布液を用いて機能層を形成することが好ましく、具体的には陰極を成膜する際に用いられる塗布液よりも、活性層を溶解し難い塗布液を用いて機能層を形成することが好ましい。
機能層を塗布形成する際に用いる塗布液は、溶媒と、前述した電子輸送性材料とを含む。前記塗布液の溶媒としては、水、アルコール等があげられ、アルコールの具体例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブトキシエタノール、メトキシブタノール等があげられる。また本発明に用いられる塗布液は、２種類以上の溶媒を含んでいてもよく、上記で例示した溶媒を２種類以上含んでいてもよい。
＜第２の電極形成工程＞
活性層、機能層を形成した後にさらに電極を形成する。この第２の電極形成工程では、第１の電極形成工程の項において説明した方法と同様の方法によって電極を形成することができる。なお。第２の電極形成工程では、塗布法によって有機光電変換素子の電極を形成することが好ましい。
以下、本発明をさらに詳細に説明するために実施例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
以下の実施例において、重合体の分子量として、ＧＰＣラボラトリー製ＧＰＣ（ＰＬ−ＧＰＣ２０００）を用いてポリスチレン換算の数平均分子量を求めた。重合体の濃度が約１重量％となるようにｏ−ジクロロベンゼンに重合体を溶解させた。ＧＰＣの移動相にはｏ−ジクロロベンゼンを用い、測定温度１４０℃で、１ｍＬ／分の流速で流した。カラムは、ＰＬＧＥＬ １０μｍ ＭＩＸＥＤ−Ｂ（ＰＬラボラトリー製）を３本直列で繋げた。
合成例１
（重合体１の合成）
Figure 2013141328
内部の気体をアルゴン置換した２Ｌ四つ口フラスコに、上記化合物Ａ（７．９２８ｇ、１６．７２ｍｍｏｌ）、上記化合物Ｂ（１３．００ｇ、１７．６０ｍｍｏｌ）、メチルトリオクチルアンモニウムクロライド（商品名：ａｌｉｑｕａｔ３３６、Ａｌｄｒｉｃｈ製、ＣＨ３Ｎ［（ＣＨ２）７ＣＨ３］３Ｃｌ、ｄｅｎｓｉｔｙ ０．８８４ｇ／ｍｌ，２５℃、ｔｒａｄｅｍａｒｋ ｏｆ Ｈｅｎｋｅｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）（４．９７９ｇ）、およびトルエン４０５ｍｌを入れ、撹拌しながら系内を３０分間アルゴンバブリングした。ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）（０．０２ｇ）を加え、１０５℃に昇温、撹拌しながら２ｍｏｌ／Ｌの炭酸ナトリウム水溶液４２．２ｍｌを滴下した。滴下終了後５時間反応させ、フェニルボロン酸（２．６ｇ）とトルエン１．８ｍｌを加えて１０５℃で１６時間撹拌した。トルエン７００ｍｌおよび７．５％ジエチルジチオカルバミン酸ナトリウム三水和物水溶液２００ｍｌを加えて８５℃で３時間撹拌した。水層を除去後、６０℃のイオン交換水３００ｍｌで２回、６０℃の３％酢酸３００ｍｌで１回、さらに６０℃のイオン交換水３００ｍｌで３回洗浄した。有機層をセライト、アルミナ、シリカを充填したカラムに通し、熱トルエン８００ｍｌでカラムを洗浄した。溶液を７００ｍｌまで濃縮した後、２Ｌのメタノールに注加、再沈殿させた。重合体をろ過して回収し、５００ｍｌのメタノール、アセトン、メタノールで洗浄した。５０℃で一晩真空乾燥することにより、下記式：
Figure 2013141328
で表される繰返し単位を有するペンタチエニル−フルオレンコポリマー（以下、「重合体１」という）を１２．２１ｇ得た。重合体１のポリスチレン換算の数平均分子量は５．４×１０４、重量平均分子量は１．１×１０５であった。
合成例２
（重合体２の合成）
Figure 2013141328
２００ｍｌのセパラブルフラスコに、メチルトリオクチルアンモニウムクロライド（商品名：ａｌｉｑｕａｔ３３６（登録商標）、Ａｌｄｒｉｃｈ製、ＣＨ３Ｎ［（ＣＨ２）７ＣＨ３］３Ｃｌ、ｄｅｎｓｉｔｙ ０．８８４ｇ／ｍｌ、２５℃）を０．６５ｇ、化合物（Ｃ）を１．５７７９ｇ、化合物（Ｅ）を１．１４５４ｇ入れ、フラスコ内の気体を窒素で置換した。フラスコに、アルゴンバブリングしたトルエンを３５ｍｌ加え、撹拌溶解後、さらに４０分アルゴンバブリングした。フラスコを加熱するバスの温度を８５℃まで昇温後、反応液に、酢酸パラジウム１．６ｍｇ、トリスｏ−メトキシフェニルフォスフィンを６．７ｍｇ加え、つづいてバスの温度を１０５℃まで昇温しながら、１７．５重量％の炭酸ナトリウム水溶液９．５ｍｌを６分かけて滴下した。滴下後、バスの温度を１０５℃に保った状態で１．７時間攪拌し、その後、反応液を室温まで冷却した。
次に、当該反応液に、化合物（Ｃ）を１．０８７７ｇ、化合物（Ｄ）を０．９３９９ｇ加え、さらに、アルゴンバブリングしたトルエンを１５ｍｌ加え、撹拌溶解後、さらに３０分アルゴンバブリングした。反応液に、酢酸パラジウムを１．３ｍｇ、トリスｏ−メトキシフェニルフォスフィンを４．７ｍｇ加え、つづいてバスの温度を１０５℃まで昇温しながら、１７．５重量％の炭酸ナトリウム水溶液６．８ｍｌを５分かけて滴下した。滴下後、バスの温度を１０５℃に保った状態で３時間攪拌した。撹拌後、反応液に、アルゴンバブリングしたトルエンを５０ｍｌ、酢酸パラジウムを２．３ｍｇ、トリスｏ−メトキシフェニルフォスフィンを８．８ｍｇ、フェニルホウ酸を０．３０５ｇ加え、バスの温度を１０５℃に保った状態で８時間攪拌した。次に、反応液の水層を除去した後、ナトリウムＮ，Ｎ−ジエチルジチオカルバメート３．１ｇを３０ｍｌの水に溶解した水溶液を加え、バスの温度を８５℃に保った状態で２時間攪拌した。つづいて、反応液にトルエン２５０ｍｌを加えて反応液を分液し、有機層を６５ｍｌの水で２回、６５ｍｌの３重量％酢酸水で２回、６５ｍｌの水で２回洗浄した。洗浄後の有機層にトルエン１５０ｍｌを加えて希釈し、２５００ｍｌのメタノールに滴下し、高分子化合物を再沈殿させた。高分子化合物をろ過し、減圧乾燥後、５００ｍｌのトルエンに溶解させた。得られたトルエン溶液を、シリカゲル−アルミナカラムに通し、得られたトルエン溶液を３０００ｍｌのメタノールに滴下し、高分子化合物を再沈殿させた。高分子化合物をろ過し、減圧乾燥後、３．００ｇの重合体２を得た。得られた重合体２のポリスチレン換算の重量平均分子量は、２５７，０００であり、数平均分子量は８７，０００であった。
重合体２は、下記式で表されるブロック共重合体である。
Figure 2013141328
（組成物１の製造）
フラーレン類の誘導体として２５重量部の［６，６］−フェニルＣ７１−酪酸メチルエステル（Ｃ７０ＰＣＢＭ）（アメリカンダイソース社製ＡＤＳ７１ＢＦＡ）と、電子供与体化合物として２．５重量部の重合体１と、２．５重量部の重合体２、溶媒として１０００重量部のｏ−ジクロロベンゼンとを混合した。次に、混合した溶液を、孔径１．０μｍのテフロン（登録商標）フィルターで濾過して組成物１を調製した。
測定例１
（有機光電変換素子の作製、評価）
太陽電池の陽極として機能するＩＴＯ薄膜が形成されたガラス基板を用意した。ＩＴＯ薄膜はスパッタ法によって形成されたものであり、その厚みは１５０ｎｍであった。このガラス基板をオゾンＵＶ処理し、ＩＴＯ薄膜の表面処理を行った。次に、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ溶液（Ｈ．Ｃ．スタルク社製、ＣｌｅｖｉｏｓＰ ＶＰ ＡＩ４０８３）をスピンコートによりＩＴＯ膜上に塗布し、大気中１２０℃で１０分間加熱することにより、膜厚５０ｎｍの正孔注入層を形成した。この正孔注入層上に、前記組成物１をスピンコートにより塗布し、活性層（膜厚約２３０ｎｍ）を形成した。
次に、ガリウムドープ酸化亜鉛ナノ粒子の２０重量％メチルエチルケトン分散液（パゼットＧＫ、ハクスイテック社製）を、スピンコートにより活性層上に２２０ｎｍの膜厚で塗布し、水溶媒に不溶である機能層を形成した。
次に、水溶媒のワイヤー状導電体分散液（ＣｌｅａｒＯｈｍ（登録商標）Ｉｎｋ−Ｎ ＡＱ：Ｃａｍｂｒｉｏｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製）をスピンコーターによって塗布し、乾燥させることで、膜厚１２０ｎｍの導電性ワイヤー層からなる陰極を得た。その後、ＵＶ硬化性封止剤で封止することで、半透明な有機光電変換素子を得た。
得られた有機光電変換素子の形状は、１．８ｍｍ×１．８ｍｍの正四角形であった。ソーラシミュレーター（分光計器製、商品名 ＯＴＥＮＴＯ−ＳＵＮＩＩ：ＡＭ１．５Ｇ フィルター、放射照度 １００ｍＷ／ｃｍ２）を用いて、得られた有機光電変換素子に一定の光を照射し、発生する電流と電圧を測定することによって光電変換効率を測定した。光電変換効率は５．４３％、短絡電流密度は９．７６ｍＡ／ｃｍ２、開放端電圧は０．８０Ｖ、ＦＦ（フィルファクター）は０．６９であった。分光感度測定装置（分光計器製ＣＥＰ−２０００）で測定した分光感度を図１に示す。図１から求められる有機光電変換素子の吸収端は、７３０ｎｍである。
測定例２
（無機光電変換素子の評価）
シリコン系フォトダイオード検知器（分光計器製ＢＳ−５００）を、ソーラシミュレーター（分光計器製、商品名 ＯＴＥＮＴＯ−ＳＵＮＩＩ：ＡＭ１．５Ｇ フィルター、放射照度 １００ｍＷ／ｃｍ２）を用いて、一定の光を照射し、発生する電流と電圧を測定することによって光電変換効率を測定した。光電変換効率は９．１２％、短絡電流密度は３０．６７ｍＡ／ｃｍ２、開放端電圧は０．５７６Ｖ、ＦＦは０．５２であった。分光感度測定装置（分光計器製ＣＥＰ−２０００）で測定した分光感度を図１に示す。図１から求められる無機光電変換素子の吸収端は、１１８０ｎｍである。
分光感度から示されるように、有機光電変換素子は、フォトダイオード検知器よりも短波長に吸収端を有するため短波長に分光感度がある。
実施例１
（有機無機ハイブリッド光電変換素子の評価）
シリコン系フォトダイオード検知器（分光計器製ＢＳ−５００）の上に、測定例１で用いた半透明な有機光電変換素子を重ね、フォトダイオード検知器の陰極と有機薄膜太陽電池の陽極を電線でつなぎ直列接続のタンデム型の有機無機ハイブリッド光電変換素子を作成した。ソーラシミュレーター（分光計器製、商品名 ＯＴＥＮＴＯ−ＳＵＮＩＩ：ＡＭ１．５Ｇ フィルター、放射照度 １００ｍＷ／ｃｍ２）を用いて、一定の光を照射し、フォトダイオード検知器の陽極と有機薄膜太陽電池の陰極間で、発生する電流と電圧を測定することによって光電変換効率を測定した。光電変換効率は９．３５％、短絡電流密度は９．８５ｍＡ／ｃｍ２、開放端電圧は１．３４Ｖ、ＦＦは０．７１であった。
実施例１に示されるように、有機無機ハイブリッド光電変換素子は、高い開放端電圧と光電変換効率を示した。
本発明によれば、高い開放端電圧を有する有機無機ハイブリッド光電変換素子が提供することが可能となり、有機光電変換素子の部分が塗布法で作成される場合は、製造コストをより低減することが可能となる。

Claims (7)

  1. 無機半導体を用いた無機光電変換素子と、当該無機光電変換素子に直列接続されるとともに、前記無機光電変換素子に重ねて配置される有機光電変換素子とを有し、
    前記有機光電変換素子は、電子受容性化合物及び電子供与性化合物を含有する活性層を備え、前記無機光電変換素子よりも短波長に吸収端を有する有機無機ハイブリッド光電変換素子。
  2. 前記有機光電変換素子の活性層が塗布法によって形成される、請求項１に記載の有機無機ハイブリッド光電変換素子。
  3. 前記有機光電変換素子の電極が塗布法によって形成されてなる、請求項１に記載の有機無機ハイブリッド光電変換素子。
  4. 前記有機光電変換素子の活性層がフラーレン類及び／又はフラーレン類の誘導体と、共役高分子化合物とを含む請求項１に記載の有機無機ハイブリッド光電変換素子。
  5. 前記無機光電変換素子に用いられる無機半導体がシリコンである請求項１に記載の有機無機ハイブリッド光電変換素子。
  6. 無機光電変換素子を用意する工程と、
    当該無機光電変換素子上に、有機光電変換素子を形成する工程とを有し、
    前記有機光電変換素子を形成する工程では、前記無機光電変換素子上に、前記有機光電変換素子の活性層を塗布法によって形成する、有機無機ハイブリッド光電変換素子の製造方法。
  7. 前記有機光電変換素子を形成する工程において、活性層を形成した後に、塗布法によって有機光電変換素子の電極を形成する、請求項６記載の有機無機ハイブリッド光電変換素子の製造方法。
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