JPWO2013141304A1 - Film mirror and reflector for solar power generation - Google Patents

Film mirror and reflector for solar power generation Download PDF

Info

Publication number
JPWO2013141304A1
JPWO2013141304A1 JP2014506271A JP2014506271A JPWO2013141304A1 JP WO2013141304 A1 JPWO2013141304 A1 JP WO2013141304A1 JP 2014506271 A JP2014506271 A JP 2014506271A JP 2014506271 A JP2014506271 A JP 2014506271A JP WO2013141304 A1 JPWO2013141304 A1 JP WO2013141304A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
resin
layer
group
film mirror
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2014506271A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
鈴木　利継
利継 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP2014506271A priority Critical patent/JPWO2013141304A1/en
Publication of JPWO2013141304A1 publication Critical patent/JPWO2013141304A1/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0808—Mirrors having a single reflecting layer
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/023—Optical properties
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24S—SOLAR HEAT COLLECTORS; SOLAR HEAT SYSTEMS
    • F24S23/00—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors
    • F24S23/70—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors with reflectors
    • G02B1/105—
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/40—Solar thermal energy, e.g. solar towers

Abstract

第１の樹脂基材３に反射層５が設けられたフィルムミラー１０ａにおいて、反射層５の光反射側に隣接させる腐食防止層６が、シリコーン変性樹脂とシランカップリング剤を含み、更に分子中にチオール基を有する化合物を含有する構成にした。In the film mirror 10a in which the reflective layer 5 is provided on the first resin substrate 3, the corrosion prevention layer 6 adjacent to the light reflecting side of the reflective layer 5 contains a silicone-modified resin and a silane coupling agent, The structure containing a compound having a thiol group was used.

Description

本発明は、フィルムミラー及びそのフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置に関する。   The present invention relates to a film mirror and a solar power generation reflector using the film mirror.

近年、石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーに代わるエネルギーとして、バイオマスエネルギー、核エネルギー、風力エネルギー、太陽エネルギー等の利用が検討されている。なかでも、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており且つ量の多い自然エネルギーは太陽エネルギーであると考えられている。しかしながら、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを活用する観点からは、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であること等が問題となると考えられる。   In recent years, the use of biomass energy, nuclear energy, wind energy, solar energy and the like as energy alternatives to fossil fuel energy such as oil and natural gas has been studied. Among them, solar energy is considered to be the most stable and abundant natural energy as an alternative energy for fossil fuels. However, although solar energy is a very powerful alternative energy, from the viewpoint of utilizing it, (1) the energy density of solar energy is low, (2) it is difficult to store and transfer solar energy, etc. Is considered to be a problem.

太陽エネルギーを活用する上での上記課題における、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによって解決する方法が提案されている。例えば、反射装置によって太陽光を集めて得られた熱を媒体として発電する、太陽熱発電が提案されている。
この反射装置は、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐等に晒されるため、従来ガラス製ミラーが用いられてきた。但し、ガラス製ミラーは、環境に対する耐久性が高い反面、輸送時などに破損してしまう場合があることや、その重量が大きいためミラーを設置する架台を強化する必要があることなどのため、プラントの建設費がかさむといった問題があった。A method for solving the problem of low energy density of solar energy in the above problem in utilizing solar energy by collecting solar energy with a huge reflecting device has been proposed. For example, solar thermal power generation has been proposed in which power generated by collecting sunlight with a reflection device is used as a medium.
Since this reflecting device is exposed to sunlight, ultraviolet rays, heat, wind and rain, sandstorms, and the like, a glass mirror has been conventionally used. However, glass mirrors are highly durable against the environment, but they may be damaged during transportation, and the weight of the glass mirrors is so large that it is necessary to reinforce the mounting base for the mirrors. There was a problem that the construction cost of the plant was high.

その一方で、軽量で柔軟性が高く、かつ生産コストおよび輸送コストが低い太陽熱発電用のミラーとしてフィルムミラーがある。例えば、フィルムミラーはフィルム基材に設けられた反射層上に樹脂からなる腐食防止層を積層して反射層を構成する金属の腐食を抑制している。さらに、その上層にＵＶ吸収剤を含んだ樹脂層を積層することによる劣化の抑制や、最表面にハードコート層などを設けることによる傷つき抑制などによって、耐久性の向上を図っている。
また、太陽熱発電用のミラーは屋外環境下に設置されるため、ミラー表面に付着する砂塵等に起因する反射率低下を抑制する目的で、定期的に高圧放水やブラッシングによる洗浄作業が行われている。しかしながら、長期間屋外暴露したフィルムミラーにこれらの洗浄を施した場合、洗浄時に生じる応力により反射層とその上層の腐食防止層とが剥離してしまい、反射率が低下するという問題があった。
上記の様に太陽熱発電用フィルムミラーにおいては、長期間の屋外使用に耐えうるとともに、洗浄作業時に発生する応力によって反射層との剥離が生じないよう高い密着性を有する腐食防止層の構築技術が課題となっていた。On the other hand, there is a film mirror as a mirror for solar power generation that is lightweight and highly flexible, and has low production costs and transportation costs. For example, the film mirror suppresses corrosion of the metal constituting the reflection layer by laminating a corrosion prevention layer made of resin on the reflection layer provided on the film base. Furthermore, durability is improved by suppressing deterioration by laminating a resin layer containing a UV absorber on the upper layer and suppressing damage by providing a hard coat layer or the like on the outermost surface.
In addition, since solar power mirrors are installed in an outdoor environment, high-pressure water discharge and brushing are regularly performed for the purpose of suppressing a decrease in reflectance caused by dust and the like adhering to the mirror surface. Yes. However, when such cleaning is performed on a film mirror that has been exposed outdoors for a long period of time, there has been a problem that the reflective layer and the upper corrosion prevention layer are peeled off due to the stress generated during the cleaning, and the reflectance is lowered.
In the film mirror for solar power generation as described above, there is a technology for constructing a corrosion prevention layer that can withstand long-term outdoor use and has high adhesion so that peeling from the reflective layer does not occur due to stress generated during cleaning operations. It was an issue.

既に報告されている太陽熱発電用フィルムミラーに関して、特許文献１の技術が挙げられる。この文献におけるフィルムミラーでは、フィルムの最表層にＵＶ吸収剤を含んだアクリル層を設けており、ＵＶ露光に起因する樹脂層の変色による反射率の低下を抑制している。しかしながら特許文献１の場合、反射層とアクリル層の間にＰＥＴ層と粘着層とが挟まれており、半年間以上の屋外暴露後にブラッシングによる洗浄を行った場合に、反射層とＰＥＴ層とに剥離が生じて、反射率が大きく低下するという問題があった。
一方、腐食防止層に、反射層との密着性を高めることのできる材料を単純に含有させるのみでは、腐食耐性が維持されない場合も考えられる。
このように、太陽熱発電に用いることができ、長期間屋外に暴露された後に洗浄作業による負荷をかけても反射層と腐食防止層との界面で剥離が生じない程度の高い密着性を有し、かつ反射層の腐食を抑制できるフィルムミラーは未だ提案されていない。The technique of patent document 1 is mentioned regarding the already reported film mirror for solar power generation. In the film mirror in this document, an acrylic layer containing a UV absorber is provided on the outermost layer of the film, and a decrease in reflectance due to discoloration of the resin layer due to UV exposure is suppressed. However, in the case of Patent Document 1, the PET layer and the adhesive layer are sandwiched between the reflective layer and the acrylic layer, and when the cleaning by brushing is performed after outdoor exposure for more than half a year, the reflective layer and the PET layer are separated. There was a problem that peeling occurred and the reflectance was greatly reduced.
On the other hand, it is also conceivable that the corrosion resistance cannot be maintained by simply including a material capable of enhancing the adhesion with the reflective layer in the corrosion prevention layer.
In this way, it can be used for solar thermal power generation, and has high adhesiveness that does not cause peeling at the interface between the reflective layer and the corrosion prevention layer even if it is exposed to the outdoors for a long period of time and subjected to a load due to cleaning work. In addition, a film mirror that can suppress corrosion of the reflective layer has not been proposed yet.

特表２００９−５２０１７４号公報Special table 2009-520174

本発明の主な目的は、反射層と腐食防止層との密着性が高く、且つ反射層の腐食を抑制できるフィルムミラーと、そのフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することである。   The main object of the present invention is to provide a film mirror having high adhesion between the reflective layer and the corrosion prevention layer and capable of suppressing corrosion of the reflective layer, and a solar power generation reflector using the film mirror. .

以上の課題を解決するため、請求項１に記載の発明は、
フィルム基材に反射層が設けられたフィルムミラーであって、
前記反射層の光反射側に隣接して積層された腐食防止層を備え、
前記腐食防止層は、シリコーン変性樹脂とシランカップリング剤を含んで形成され、更に分子中にチオール基を有する化合物を含有していることを特徴とする。In order to solve the above problems, the invention described in claim 1
A film mirror provided with a reflective layer on a film substrate,
A corrosion prevention layer laminated adjacent to the light reflecting side of the reflective layer;
The corrosion prevention layer is formed by including a silicone-modified resin and a silane coupling agent, and further contains a compound having a thiol group in the molecule.

請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のフィルムミラーにおいて、
前記化合物は、分子中にチオール基を２以上有していることを特徴とする。The invention according to claim 2 is the film mirror according to claim 1,
The compound has two or more thiol groups in the molecule.

請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載のフィルムミラーにおいて、
前記シリコーン変性樹脂は、アクリルシリコーン樹脂であることを特徴とする。The invention according to claim 3 is the film mirror according to claim 1 or 2,
The silicone-modified resin is an acrylic silicone resin.

請求項４に記載の発明は、請求項１〜３の何れか一項に記載のフィルムミラーにおいて、
前記化合物は、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネートであることを特徴とする。The invention according to claim 4 is the film mirror according to any one of claims 1 to 3,
The compound is characterized by being trimethylolpropane tristhiopropionate.

請求項５に記載の発明は、請求項１〜３の何れか一項に記載のフィルムミラーにおいて、
前記化合物は、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネートであることを特徴とする。The invention according to claim 5 is the film mirror according to any one of claims 1 to 3,
The compound is characterized in that it is pentaerythritol tetrakisthiopropionate.

請求項６に記載の発明は、請求項１〜５の何れか一項に記載のフィルムミラーにおいて、
前記腐食防止層上に、塗布にて樹脂を主成分とする層を設けたことを特徴とする。The invention according to claim 6 is the film mirror according to any one of claims 1 to 5,
A layer mainly composed of a resin is provided by coating on the corrosion prevention layer.

請求項７に記載の発明は、太陽熱発電用反射装置であって、
請求項１〜６の何れか一項に記載のフィルムミラーを、支持基材に貼り付けて形成したことを特徴とする。Invention of Claim 7 is a solar power generation reflective apparatus, Comprising:
The film mirror according to any one of claims 1 to 6 is formed by being attached to a support substrate.

本発明によれば、反射層と腐食防止層との密着性が高く、且つ反射層の腐食を抑制できるフィルムミラーと、そのフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the adhesiveness of a reflection layer and a corrosion prevention layer is high, and the film mirror which can suppress corrosion of a reflection layer, and the solar power generation reflective apparatus using the film mirror can be provided.

本発明の太陽熱発電用フィルムミラーと太陽熱発電用反射装置の構成の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of a structure of the film mirror for solar power generation of this invention, and the reflective apparatus for solar power generation. 本発明の太陽熱発電用フィルムミラーと太陽熱発電用反射装置の構成の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of a structure of the film mirror for solar power generation of this invention, and the reflective apparatus for solar power generation.

本発明者らが鋭意検討した結果、アクリルシリコーン樹脂を含有する腐食防止層に、分子中にチオール基を有する化合物を含有させることで、高い腐食防止性能を維持しつつ、反射層との密着性が高い腐食防止層を得ることができることを見出した。
分子中にチオール基を有する化合物は、下記一般式（３）で表される。As a result of intensive studies by the present inventors, by incorporating a compound having a thiol group in the molecule into a corrosion prevention layer containing an acrylic silicone resin, adhesion to the reflective layer is maintained while maintaining high corrosion prevention performance. It has been found that a high corrosion prevention layer can be obtained.
The compound having a thiol group in the molecule is represented by the following general formula (3).

Figure 2013141304
Figure 2013141304

一般式（３）において、Ｒ６１及びＲ６２は、水素原子又は置換基を表し、Ｒ６１及びＲ６２のうちいずれか一方は水素原子を表す。ただし、Ｒ６１及びＲ６２が共に水素原子を表すことはない。一般式（３）において、Ｒ６１及びＲ６２で表される置換基の具体例については後述する。
上記一般式（３）で表される化合物において、分子中のチオール基の数は２以上が好ましく、３以上がより好ましい。In formula (3), R 61 and R 62 represents a hydrogen atom or a substituent, either one of R 61 and R 62 represents a hydrogen atom. However, R 61 and R 62 do not both represent a hydrogen atom. In the general formula (3), specific examples of the substituent represented by R 61 and R 62 will be described later.
In the compound represented by the general formula (3), the number of thiol groups in the molecule is preferably 2 or more, and more preferably 3 or more.

本発明者らは、上記のような分子中にチオール基を有する化合物を腐食防止層中に含有させることで、当該チオール基が、腐食防止層に隣接する反射層表面の金属に結合し、高い腐食耐性を維持しつつ密着性を向上させられるものと推察している。   The inventors include a compound having a thiol group in the molecule as described above in the corrosion prevention layer, so that the thiol group is bonded to the metal on the surface of the reflective layer adjacent to the corrosion prevention layer, and is high. It is assumed that adhesion can be improved while maintaining corrosion resistance.

以下、本発明に係る太陽熱発電用フィルムミラーについて詳細について説明する。但し、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、発明の範囲を以下の実施形態及び図示例に限定するものではない。   Hereinafter, the film mirror for solar power generation according to the present invention will be described in detail. However, although various technically preferable limitations for implementing the present invention are given to the embodiments described below, the scope of the invention is not limited to the following embodiments and illustrated examples.

（１）太陽熱発電用フィルムミラーの構成概要
本発明に係るフィルムミラーの構成を、図１、図２を用いて説明する。
太陽熱発電用のフィルムミラー１０ａ、１０ｂは、例えば、図１、図２に示すように、フィルム基材としての第１の樹脂基材３上に、構成層として少なくとも反射層５と、反射層５の光反射側に隣接して積層された腐食防止層６と、光反射側の最表面に積層されたハードコート層９とを備えている。なお、腐食防止層６は少なくともシリコーン変性樹脂とシランカップリング剤を含んで形成され、更に、分子中にチオール基を有する化合物を含有している。また、ハードコート層９はＵＶ吸収剤を含有している。
また、フィルムミラーの他の構成層として、第１の樹脂基材３と反射層５の間にアンカー層４を設けてもよく（図１、図２参照）、また、腐食防止層６とハードコート層９の間に接着層７と第２の樹脂基材８を設けてもよい（図１参照）。また、第１樹脂基材３における光反射側とは反対側の面に粘着層２を設けること（図１、図２参照）も好ましい態様である。(1) Outline of Configuration of Film Mirror for Solar Power Generation The configuration of the film mirror according to the present invention will be described with reference to FIGS.
For example, as shown in FIGS. 1 and 2, the film mirrors 10 a and 10 b for solar thermal power generation include at least a reflective layer 5 as a constituent layer and a reflective layer 5 on a first resin base 3 as a film base. The anticorrosion layer 6 laminated adjacent to the light reflection side of the light-emitting layer and the hard coat layer 9 laminated on the outermost surface of the light reflection side are provided. The corrosion prevention layer 6 is formed including at least a silicone-modified resin and a silane coupling agent, and further contains a compound having a thiol group in the molecule. The hard coat layer 9 contains a UV absorber.
As another constituent layer of the film mirror, an anchor layer 4 may be provided between the first resin base material 3 and the reflective layer 5 (see FIGS. 1 and 2). An adhesive layer 7 and a second resin substrate 8 may be provided between the coat layers 9 (see FIG. 1). Moreover, it is also a preferable aspect to provide the adhesive layer 2 on the surface of the first resin base 3 opposite to the light reflecting side (see FIGS. 1 and 2).

（２）第１の樹脂基材（フィルム基材）
本発明に係るフィルムミラーに用いられる第１の樹脂基材３としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。
中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましく、特に、ポリエステル系フィルム、セルロースエステル系フィルムを用いることが好ましい。この第１の樹脂基材３は、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
第１の樹脂基材３の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には１０〜３００μｍの範囲内である。好ましくは２０〜２００μｍ、さらに好ましくは３０〜１００μｍである。(2) First resin substrate (film substrate)
As the first resin substrate 3 used in the film mirror according to the present invention, various conventionally known resin films can be used. For example, cellulose ester film, polyester film, polycarbonate film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone) film, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate polyester film, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, Cellulose diacetate film, cellulose triacetate film, cellulose acetate propionate film, cellulose acetate butyrate film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol film, syndiotactic polystyrene film, polycarbonate film, norbornene resin film , Polymethylpentenef Can Lum, polyether ketone film, polyether ketone imide film, a polyamide film, a fluororesin film, a nylon film, polymethyl methacrylate film, and acrylic films.
Among these, a polycarbonate film, a polyester film, a norbornene resin film, and a cellulose ester film are preferable, and a polyester film and a cellulose ester film are particularly preferable. The first resin substrate 3 may be a film manufactured by melt casting film formation or a film manufactured by solution casting film formation.
The thickness of the first resin substrate 3 is preferably set to an appropriate thickness according to the type and purpose of the resin. For example, it is generally in the range of 10 to 300 μm. Preferably it is 20-200 micrometers, More preferably, it is 30-100 micrometers.

（３）アンカー層
本発明に係るフィルムミラーに形成されるアンカー層４は、樹脂からなり、第１の樹脂基材３と反射層５とを密着させるものである。従って、アンカー層４は第１の樹脂基材３と反射層５とが密着する密着性、反射層５を真空蒸着法等で形成する際の熱にも耐え得る耐熱性、及び反射層５が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
アンカー層４に用いる樹脂は、上記の密着性、耐熱性、平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等を使用でき、またこれらの混合樹脂が使用できる。特に、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
アンカー層４の厚さは、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。アンカー層４の厚さが、上記の範囲であると、密着性が良好になりアンカー層４を形成した効果が大きく、また第１の樹脂基材３表面の凹凸を覆い隠すことができ、平滑性が良好になり、結果的には反射層５の反射率が高くなる。なお、アンカー層４の厚さを３μｍより厚くしても密着性の向上は望めず、塗りムラの発生により平滑性が悪くなる場合がある。
このアンカー層４の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法を適用できる。(3) Anchor layer The anchor layer 4 formed in the film mirror according to the present invention is made of a resin, and the first resin substrate 3 and the reflective layer 5 are brought into close contact with each other. Therefore, the anchor layer 4 has an adhesion property that the first resin substrate 3 and the reflective layer 5 are in close contact, heat resistance that can withstand heat when the reflective layer 5 is formed by a vacuum deposition method, and the reflective layer 5 Smoothness is required to bring out the inherent high reflection performance.
The resin used for the anchor layer 4 is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions of adhesiveness, heat resistance, and smoothness. Polyester resin, acrylic resin, melamine resin, epoxy resin, polyamide resin Resins, vinyl chloride resins, vinyl chloride vinyl acetate copolymer resins, and the like, and mixed resins thereof can be used. In particular, a mixed resin of a polyester resin and a melamine resin is preferable from the viewpoint of weather resistance, and more preferably a thermosetting resin in which a curing agent such as isocyanate is mixed.
The thickness of the anchor layer 4 is preferably 0.01 to 3 μm, more preferably 0.1 to 1 μm. When the thickness of the anchor layer 4 is in the above range, the adhesion is good and the effect of forming the anchor layer 4 is great, and the unevenness on the surface of the first resin substrate 3 can be covered, and the smoothness is smooth. As a result, the reflectance of the reflective layer 5 becomes high. In addition, even if the thickness of the anchor layer 4 is thicker than 3 μm, improvement in adhesion cannot be expected, and smoothness may deteriorate due to occurrence of coating unevenness.
As a method for forming the anchor layer 4, a conventionally known coating method such as a gravure coating method, a reverse coating method, a die coating method, or the like can be applied.

（４）反射層
本発明に係るフィルムミラーに形成される反射層５は、太陽光を反射する機能を有する金属等からなる層である。
反射層５の表面反射率は好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。この反射層５は、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｒｈ、Ｐｔ及びＡｕからなる元素群の中から選ばれるいずれかの元素を含む材料により形成されることが好ましい。中でも、反射率、耐食性の観点からＡｌまたはＡｇを主成分としていることが好ましく、このような金属の薄膜を二層以上形成するようにしてもよい。本発明においては、特に銀を主成分とする銀反射層であることが好ましい。
また、反射層５上にＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の金属酸化物からなる層を設けてさらに反射率を向上させてもよい。
本発明における反射層５（例えば銀反射層）の形成法としては、例えば、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。
湿式法とは、めっき法または金属錯体溶液塗布法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例を挙げると銀鏡反応や、銀錯体インクの焼成による銀層形成等がある。
一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的には、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法等がある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロールツーロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。すなわち、本発明のフィルムミラーの製造方法においては、反射層５を銀の蒸着により形成することが好ましい。
反射層５の厚さは、反射率等の観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍである。(4) Reflective layer The reflective layer 5 formed on the film mirror according to the present invention is a layer made of metal or the like having a function of reflecting sunlight.
The surface reflectance of the reflective layer 5 is preferably 80% or more, more preferably 90% or more. The reflective layer 5 is preferably formed of a material containing any element selected from the element group consisting of Al, Ag, Cr, Cu, Ni, Ti, Mg, Rh, Pt, and Au. Among these, it is preferable that Al or Ag is a main component from the viewpoint of reflectance and corrosion resistance, and two or more such metal thin films may be formed. In the present invention, a silver reflecting layer mainly containing silver is particularly preferable.
Further, a layer made of a metal oxide such as SiO 2 or TiO 2 may be provided on the reflective layer 5 to further improve the reflectance.
As a method for forming the reflective layer 5 (for example, a silver reflective layer) in the present invention, for example, either a wet method or a dry method can be used.
The wet method is a general term for a plating method or a metal complex solution coating method, and is a method of forming a film by depositing a metal from a solution. Specific examples include silver mirror reaction and silver layer formation by firing of silver complex ink.
On the other hand, the dry method is a general term for a vacuum film forming method, and specifically includes a resistance heating vacuum deposition method, an electron beam heating vacuum deposition method, an ion plating method, an ion beam assisted vacuum deposition method, and a sputtering method. Etc. In particular, a vapor deposition method capable of a roll-to-roll method for continuously forming a film is preferably used in the present invention. That is, in the film mirror manufacturing method of the present invention, it is preferable to form the reflective layer 5 by silver vapor deposition.
The thickness of the reflective layer 5 is preferably 10 to 200 nm, more preferably 30 to 150 nm, from the viewpoint of reflectance and the like.

（５）腐食防止層
本発明に係るフィルムミラーに形成される腐食防止層６は、反射層５に隣接して設けられ、反射層５の材料（例えば、銀）の腐食を防止するためのものである。ここで、「腐食」とは、金属材料（銀）を取り囲む環境物質によって、当該金属材料が、化学的または電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ Ｚ０１０３−２００４参照）。
本発明のフィルムミラーにおける腐食防止層６は、シリコーン変性樹脂、シランカップリング剤、更に、腐食防止剤として、分子中にチオール基を有する化合物を含んで形成されている。当該分子中にチオール基を有する化合物としては、チオール基を複数（２以上）含有する化合物であることが好ましい。
この腐食防止層６は、屋外環境下で長期にわたって設置しても反射層５との間で高い密着性を保つことができる。(5) Corrosion prevention layer The corrosion prevention layer 6 formed on the film mirror according to the present invention is provided adjacent to the reflection layer 5 to prevent corrosion of the material of the reflection layer 5 (for example, silver). It is. Here, “corrosion” refers to a phenomenon in which an environmental substance surrounding the metal material (silver) causes the metal material to be chemically or electrochemically eroded or deteriorated in material quality (JIS Z0103-2004). reference).
The corrosion prevention layer 6 in the film mirror of the present invention is formed by including a silicone-modified resin, a silane coupling agent, and a compound having a thiol group in the molecule as a corrosion inhibitor. The compound having a thiol group in the molecule is preferably a compound containing a plurality (two or more) of thiol groups.
The corrosion prevention layer 6 can maintain high adhesion with the reflective layer 5 even when installed for a long time in an outdoor environment.

（５−１）シリコーン変性樹脂
シリコーン変性樹脂とは、主鎖または側鎖または樹脂骨格の末端部にシロキサン結合部（−Ｓｉ−Ｏ−）ｎを有す樹脂である。ここで、ｎは１以上の整数である。
本発明に用いるシリコーン変性樹脂は、例えば主骨格となる樹脂にポリシロキサン構造を有する樹脂がグラフト状に結合したものでもよいし、主骨格となる樹脂にシランカップリング剤を結合させたものであってもよい。シリコーン変性樹脂のシロキサン結合以外の部位は、例えば、セルロースエステル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン系樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、アルキド樹脂等の樹脂骨格を持つものである。特に、アクリル樹脂骨格、アルキド樹脂骨格を持つものが好ましく、より好ましくはアクリル樹脂骨格を持つアクリルシリコーン樹脂がよい。更に好ましくは、アクリル樹脂骨格中にアミノ基を有するものを用いるのがよい。
樹脂骨格中にポリシロキサン構造がグラフト状に結合したシリコーン変性樹脂の具体例としては、ベッコライトＭ−６６５２−６０（大日本インキ化学工業社製）、ベッコライトＭ−６６５０−６０（大日本インキ化学工業社製）、Baysilone Resin UD-460M（バイエルン社製）、ＫＰ−５４１（信越シリコーン社製）、ＫＰ−５４３（信越シリコーン社製）、ＫＰ−５４５（信越シリコーン社製）、ＫＰ−５４９（信越シリコーン社製）、ＫＰ−５５０（信越シリコーン社製）、メタトロン（大宝化学工業社製）等が挙げられる。
また、骨格中にアミノ基を有するアクリル樹脂の具体例としては、ＰＴＣ−０５（藤倉化成社製）、ＰＴＣ−０５０５（藤倉化成社製）、ＰＴＣ−０５−Ｂ２（藤倉化成社製）、ＰＴＣ−０５Ｎ（藤倉化成社製）、ＰＴＣ−０５Ｎ−Ｂ２（藤倉化成社製）、オリジツーク＃１００クリヤ（オリジン電気社製）、オリジツーク＃２００クリヤ（オリジン電気社製）、Ｔ４０−ａ０．７ｈ（オリジン電気社製）、Ｔ５０−ａ０．７ｈ（オリジン電気社製）、Ｔ４０−ｂ１．５ｈ（オリジン電気社製）等が挙げられる。(5-1) Silicone-modified resin The silicone-modified resin is a resin having a siloxane bond part (—Si—O—) n at the main chain, the side chain, or the terminal part of the resin skeleton. Here, n is an integer of 1 or more.
The silicone-modified resin used in the present invention may be, for example, a resin having a polysiloxane structure bonded to a resin serving as a main skeleton in a graft form, or a resin obtained by bonding a silane coupling agent to a resin serving as a main skeleton. May be. Sites other than siloxane bonds in silicone-modified resins include, for example, cellulose esters, polyesters, polycarbonates, polyarylates, polysulfones (including polyether sulfones), polyethylene terephthalates, polyethylene naphthalates and other polyesters, cellulose diacetates, cellulose triacetates, and celluloses. Acetate propionate, cellulose acetate butyrate, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, ethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate, norbornene resin, polymethylpentene, polyether ketone, polyether ketone imide, polyamide, fluorine resin, Nylon, polymethyl methacrylate, acrylic resin, polyurethane resin, alkyd resin Those with the resin backbone. In particular, those having an acrylic resin skeleton and an alkyd resin skeleton are preferable, and an acrylic silicone resin having an acrylic resin skeleton is more preferable. More preferably, an acrylic resin skeleton having an amino group is used.
Specific examples of silicone-modified resins in which a polysiloxane structure is bonded to the resin skeleton in a graft form include Beckolite M-6665-60 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals), Beckolite M-6650-60 (Dainippon Ink). Chemical Industries), Baysilone Resin UD-460M (Bayern), KP-541 (Shin-Etsu Silicone), KP-543 (Shin-Etsu Silicone), KP-545 (Shin-Etsu Silicone), KP-549 (Manufactured by Shin-Etsu Silicone), KP-550 (manufactured by Shin-Etsu Silicone), Metatron (manufactured by Daiho Chemical Co., Ltd.) and the like.
Specific examples of the acrylic resin having an amino group in the skeleton include PTC-05 (manufactured by Fujikura Kasei), PTC-0505 (manufactured by Fujikura Kasei), PTC-05-B2 (manufactured by Fujikura Kasei), PTC. -05N (manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.), PTC-05N-B2 (manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd.), Origin Tsuk # 100 clear (manufactured by Origin Electric Co., Ltd.), Origin Tsuk # 200 clear (manufactured by Origin Electric Co., Ltd.), T40-a0.7h (origin) Electric Co., Ltd.), T50-a0.7h (Origin Electric Co., Ltd.), T40-b1.5h (Origin Electric Co., Ltd.) and the like.

（５−２）シランカップリング剤
本発明に用いるシランカップリング剤としては、例えば、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−グリシドキシエトキシトリメトキシシラン、２−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（ビニルベンジル）−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。なお、主骨格となる樹脂にシランカップリング剤を結合させた場合であっても、未反応のシランカップリング剤やシランカップリング剤同士が反応した化合物等が、腐食防止層６中に残存することもある。(5-2) Silane coupling agent Examples of the silane coupling agent used in the present invention include 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- Glycidoxyethoxytrimethoxysilane, 2-glycidoxyethyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl- Butylidene) propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrime Toxisilane, N- (vinylbenzyl) -2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxy Examples include silane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, and 3-isocyanatopropyltriethoxysilane. Even when the silane coupling agent is bonded to the main skeleton resin, the unreacted silane coupling agent, the compound in which the silane coupling agents react with each other, remain in the corrosion prevention layer 6. Sometimes.

（５−３）分子中にチオール基を有する化合物
本発明に係るフィルムミラーを構成する腐食防止層６には、分子中にチオール基を有する化合物が添加されている。(5-3) Compound having a thiol group in the molecule A compound having a thiol group in the molecule is added to the corrosion prevention layer 6 constituting the film mirror according to the present invention.

分子中にチオール基を有する化合物は、下記の一般式（３）で表される。   The compound having a thiol group in the molecule is represented by the following general formula (3).

Figure 2013141304
Figure 2013141304

一般式（３）中、Ｒ６１及びＲ６２は、水素原子または置換基を表し、Ｒ６１及びＲ６２のうちいずれか一方は水素原子を表す。ただし、Ｒ６１及びＲ６２が共に水素原子を表すことはない。
Ｒ６１及びＲ６２で表される置換基としては、例えば、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子等）、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基等）、シクロアルキル基（例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アラルキル基（例えばベンジル基、２−フェネチル基等）、アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基等）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基等）、シアノ基、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ基等）、スルホニルアミノ基（例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、ウレイド基（例えば３−メチルウレイド基、３，３−ジメチルウレイド基、１，３−ジメチルウレイド基等）、スルファモイルアミノ基（例えばジメチルスルファモイルアミノ基等）、カルバモイル基（例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等）、スルファモイル基（例えばエチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基等）、スルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等）、アシル基（例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等）、アミノ基（メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、ニトロソ基、アミンオキシド基（例えばピリジン−オキシド基）、イミド基（例えばフタルイミド基等）、ジスルフィド基（例えばベンゼンジスルフィド基、ベンゾチアゾリル−２−ジスルフィド基等）、カルボキシル基、スルホ基、ヘテロ環基（例えば、ピロール基、ピロリジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等）等が挙げられる。これらの置換基は、更に他の置換基（例えばチオール基）により置換されていてもよい。In General Formula (3), R 61 and R 62 represent a hydrogen atom or a substituent, and one of R 61 and R 62 represents a hydrogen atom. However, R 61 and R 62 do not both represent a hydrogen atom.
Examples of the substituent represented by R 61 and R 62 include a halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom), an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, isopropyl group, hydroxyethyl group, methoxymethyl group, trimethyl group). Fluoromethyl group, t-butyl group etc.), cycloalkyl group (eg cyclopentyl group, cyclohexyl group etc.), aralkyl group (eg benzyl group, 2-phenethyl group etc.), aryl group (eg phenyl group, naphthyl group, p- Tolyl group, p-chlorophenyl group, etc.), alkoxy group (eg methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group, butoxy group etc.), aryloxy group (eg phenoxy group etc.), cyano group, acylamino group (eg acetylamino group, Propionylamino group, etc.), alkylthio group (eg methylthio group, ethyl) Thio group, butylthio group etc.), arylthio group (eg phenylthio group etc.), sulfonylamino group (eg methanesulfonylamino group, benzenesulfonylamino group etc.), ureido group (eg 3-methylureido group, 3,3-dimethylureido) Group, 1,3-dimethylureido group, etc.), sulfamoylamino group (eg dimethylsulfamoylamino group etc.), carbamoyl group (eg methylcarbamoyl group, ethylcarbamoyl group, dimethylcarbamoyl group etc.), sulfamoyl group (eg Ethylsulfamoyl group, dimethylsulfamoyl group etc.), alkoxycarbonyl group (eg methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group etc.), aryloxycarbonyl group (eg phenoxycarbonyl group etc.), sulfonyl group (eg methanesulfonyl) Group, butanesulfonyl group, phenylsulfonyl group etc.), acyl group (eg acetyl group, propanoyl group, butyroyl group etc.), amino group (methylamino group, ethylamino group, dimethylamino group etc.), cyano group, hydroxy group, Nitro group, nitroso group, amine oxide group (eg pyridine-oxide group), imide group (eg phthalimide group etc.), disulfide group (eg benzene disulfide group, benzothiazolyl-2-disulfide group etc.), carboxyl group, sulfo group, hetero Ring groups (for example, pyrrole group, pyrrolidyl group, pyrazolyl group, imidazolyl group, pyridyl group, benzimidazolyl group, benzthiazolyl group, benzoxazolyl group, etc.) and the like. These substituents may be further substituted with another substituent (for example, a thiol group).

また、一般式（３）において、分子中のチオール基の数は２以上が好ましく、３以上がより好ましい。   In general formula (3), the number of thiol groups in the molecule is preferably 2 or more, and more preferably 3 or more.

また、分子中にチオール基を有する化合物としては、分子内に芳香族環や不飽和結合を有しない化合物であることが好ましく、これにより、腐食防止層の耐光性を更に向上させることができる。   Moreover, as a compound which has a thiol group in a molecule | numerator, it is preferable that it is a compound which does not have an aromatic ring or an unsaturated bond in a molecule | numerator, and this can further improve the light resistance of a corrosion prevention layer.

分子中にチオール基を有する化合物の具体例としては、例えば、メルカプト酢酸、チオフェノール、１，２−エタンジチオール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、チオナリド、グリコールジメルカプトアセテート、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ブタンジオールビスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリエチレングリコールジメルカプタン、ジラウリル３，３−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル３，３−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル３，３−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス（β−ラウリルチオプロピオネート）等が挙げられる。なかでも、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネートを用いることが、層密着性及び腐食耐性を向上させる観点から、好ましい。
上記分子中にチオール基を有する化合物は、例えば、淀化学株式会社から、ＢＤＴＧ、ＴＭＴＧ、ＰＥＴＧ、ＴＭＴＰ、ＰＥＴＰという商品名で市販されている。
なお、腐食防止層６に含まれる分子中にチオール基を有する化合物の濃度は、０．０１〜５ｗｔ％が好ましく、より好ましくは０．１〜３ｗｔ％である。Specific examples of the compound having a thiol group in the molecule include, for example, mercaptoacetic acid, thiophenol, 1,2-ethanedithiol, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 1-methyl-3-mercapto-1 , 2,4-triazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, thionalide, glycol dimercaptoacetate, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, butanediol bisthioglycolate, trimethylolpropane Tristhiopropionate, triethylene glycol dimercaptan, dilauryl 3,3-thiodipropionate, dimyristyl 3,3'-thiodipropionate, distearyl 3,3-thiodipropionate, lauryl stearyl 3 , 3-thiodipropionate, pentaerythritol tetrakisthiopropionate, pentaerythritol-tetrakis (β-laurylthiopropionate), and the like. Among these, it is preferable to use trimethylolpropane tristhiopropionate and pentaerythritol tetrakisthiopropionate from the viewpoint of improving layer adhesion and corrosion resistance.
The compound which has a thiol group in the said molecule | numerator is marketed with the brand name of BDTG, TMTG, PETG, TMTP, and PETP from Sakai Chemical Co., Ltd., for example.
In addition, the density | concentration of the compound which has a thiol group in the molecule | numerator contained in the corrosion prevention layer 6 is preferable 0.01-5 wt%, More preferably, it is 0.1-3 wt%.

一般に、シリコーン変性樹脂を含有する腐食防止層は、薬品の侵入を有効に防ぎ、高い腐食耐性を有するが、反射層の金属面との密着性が低く、次第に剥離してしまう場合があった。これに対し、本発明では、腐食防止層中に、上記した分子中にチオール基を有する化合物を含有させることで、当該チオール基が反射層表面の金属に結合し、高い腐食耐性を維持しつつ密着性を向上させることができる。   In general, a corrosion-preventing layer containing a silicone-modified resin effectively prevents invasion of chemicals and has high corrosion resistance, but has low adhesion to the metal surface of the reflective layer and may gradually peel off. On the other hand, in the present invention, by containing the compound having a thiol group in the molecule described above in the corrosion prevention layer, the thiol group is bonded to the metal on the surface of the reflective layer, and maintains high corrosion resistance. Adhesion can be improved.

なお、腐食防止層６には、分子中にチオール基を有する化合物に加えて、ベンズトリアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、テトラザインデン系化合物、チアジアゾール系化合物等の腐食防止剤が更に含有されていても良い。   In addition to the compound having a thiol group in the molecule, the corrosion prevention layer 6 further contains a corrosion inhibitor such as a benztriazole compound, an imidazole compound, a tetrazaindene compound, or a thiadiazole compound. Also good.

（６）ハードコート層
本発明に係るフィルムミラーに形成されるハードコート層９は、フィルムミラーの最表面層として設けられている。例えば、図１に示すフィルムミラー１０ａでは、ハードコート層９は第２の樹脂基材８上に積層されて最表面に設けられており、また図２に示すフィルムミラー１０ｂでは、ハードコート層９は腐食防止層６上に積層されて最表面に設けられている。ハードコート層９は、フィルムミラーの表面に傷や汚れが付くことを防止する他、ＵＶ吸収剤を高効率かつ長期にわたり機能させるよう担持するために設けられている。
このハードコート層９は、バインダーとして、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂等を用い、ＵＶ硬化または熱硬化で形成することができる。
本発明においては、ハードコート層９に有機材料または無機材料からなるＵＶ吸収剤を含有させても良い。また、必要に応じて、光増感剤、光重合開始剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有させるようにしてもよい。(6) Hard coat layer The hard coat layer 9 formed on the film mirror according to the present invention is provided as the outermost surface layer of the film mirror. For example, in the film mirror 10a shown in FIG. 1, the hard coat layer 9 is laminated on the second resin substrate 8 and provided on the outermost surface. In the film mirror 10b shown in FIG. Is laminated on the corrosion prevention layer 6 and provided on the outermost surface. The hard coat layer 9 is provided to prevent the surface of the film mirror from being scratched or soiled, and to carry the UV absorber so as to function efficiently and for a long time.
The hard coat layer 9 can be formed by UV curing or thermosetting using, for example, an acrylic resin, a urethane resin, a melamine resin, an epoxy resin, an organic silicate compound, a silicone resin, or the like as a binder. .
In the present invention, the hard coat layer 9 may contain a UV absorber made of an organic material or an inorganic material. Moreover, you may make it contain a photosensitizer, a photoinitiator, a thermal-polymerization initiator, a modifier, etc. as needed.

（６−１）シリカ微粒子
充分な高硬度を有し、硬化収縮によるカールを充分に抑制し得るハードコート層９を得るために、ハードコート層９の形成に用いられる硬化性樹脂組成物中にシリカ微粒子を添加することが好ましい。
シリカ微粒子としては、例えば、粉体状シリカまたはコロイダルシリカが挙げられ、平均粒子径が０．０１〜２０μｍの範囲内のものが好適に用いられる。また、シリカ微粒子は、ハードコートフィルムの光透過性に影響を与えないものであることが好ましく、そのためには、一次粒子径が１０〜３５０ｎｍの範囲内にあることが好ましく、１０〜５０ｎｍの範囲内にあることがより好ましい。なお、上述したシリカ微粒子の平均粒子径は、例えば、透過型電子顕微鏡で観察することにより測定することができ、また、シリカ微粒子の一次粒子径は、例えば、イソプロピルアルコールなどの溶媒に微粒子を分散させ、その分散液から、コールター粒度分布測定法、レーザー回折散乱法、動的光散乱法などにより測定することができ、これらの中でもコールター粒度分布測定法が一般的である。
シリカ微粒子の形状は、球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、もしくは不定形状であってよいが、硬化性樹脂中で凝集することなく粒子を好適に分散させるためには、好ましくは球状である。また、ハードコート層９の硬度や平面性を維持する観点から、シリカ微粒子の比表面積は０．１〜３０００ｍ２／ｇの範囲内であることが好ましく、さらには１ｍ２／ｇ以上、とりわけ１０ｍ２／ｇ以上、また１５００ｍ２／ｇ以下であることがより好ましい。
このようなシリカ微粒子も市販されているものを好適に用いることができる。シリカ微粒子の市販品を例示すると、コロイダルシリカとしては、メタノールシリカゾル（日産化学工業（株）製）、ＩＰＡ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＭＥＫ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＮＢＡ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＸＢＡ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＤＭＡＣ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−ＵＰ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−ＯＵＰ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−２０（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−４０（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−Ｃ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−Ｎ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−Ｏ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−５０（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−ＯＬ（日産化学工業（株）製）などを挙げることができる。
また、粉体状シリカとしては、アエロジル１３０（日本アエロジル（株）製）、アエロジル３００（日本アエロジル（株）製）、アエロジル３８０（日本アエロジル（株）製）、アエロジルＴＴ６００（日本アエロジル（株）製）、アエロジルＯＸ５０（日本アエロジル（株）製）、シルデックスＨ３１（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ３２（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ５１（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ５２（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ１２１（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ１２２（旭硝子（株）製）、Ｅ２２０Ａ（日本シリカ工業（株）製）、Ｅ２２０（日本シリカ工業（株）製）、サイリシア４７０（富士シリシア（株）製）、ＳＧフレーク（日本板硝子（株）製）などを挙げることができる。(6-1) Silica fine particles In the curable resin composition used for forming the hard coat layer 9 in order to obtain the hard coat layer 9 having a sufficiently high hardness and capable of sufficiently suppressing curling due to curing shrinkage. It is preferable to add silica fine particles.
Examples of the silica fine particles include powdery silica and colloidal silica, and those having an average particle diameter in the range of 0.01 to 20 μm are preferably used. Further, the silica fine particles are preferably those that do not affect the light transmittance of the hard coat film, and for that purpose, the primary particle diameter is preferably in the range of 10 to 350 nm, and in the range of 10 to 50 nm. More preferably, it is within. The average particle size of the silica fine particles described above can be measured, for example, by observation with a transmission electron microscope. The primary particle size of the silica fine particles is, for example, dispersed in a solvent such as isopropyl alcohol. The dispersion can be measured by a Coulter particle size distribution measurement method, a laser diffraction scattering method, a dynamic light scattering method, or the like. Among these, the Coulter particle size distribution measurement method is common.
The shape of the silica fine particles may be spherical, hollow, porous, rod-like, plate-like, fibrous, or indefinite, but in order to disperse the particles appropriately without agglomerating in the curable resin. , Preferably spherical. Further, from the viewpoint of maintaining the hardness and flatness of the hard coat layer 9 is preferably a specific surface area of the silica fine particles is in the range of 0.1~3000m 2 / g, more 1 m 2 / g or more, especially 10m More preferably, it is 2 / g or more and 1500 m 2 / g or less.
Such silica fine particles are also commercially available. Examples of commercially available silica fine particles include methanol silica sol (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), IPA-ST (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), MEK-ST (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.). ), NBA-ST (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), XBA-ST (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), DMAC-ST (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), ST-UP (Nissan Chemical Industries, Ltd.) ST-OUP (Nissan Chemical Industry Co., Ltd.), ST-20 (Nissan Chemical Industry Co., Ltd.), ST-40 (Nissan Chemical Industry Co., Ltd.), ST-C (Nissan Chemical Industry) ST-N (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), ST-O (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), ST-50 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), ST-OL (Nissan) Chemical Industry Co., Ltd.).
Examples of powdered silica include Aerosil 130 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), Aerosil 300 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), Aerosil 380 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), Aerosil TT600 (Nihon Aerosil Co., Ltd.). Manufactured), Aerosil OX50 (produced by Nippon Aerosil Co., Ltd.), Sildex H31 (produced by Asahi Glass Co., Ltd.), Sildex H32 (produced by Asahi Glass Co., Ltd.), Sildex H51 (produced by Asahi Glass Co., Ltd.), Sildex H52 (Asahi Glass Co., Ltd.), Sildex H121 (Asahi Glass Co., Ltd.), Sildex H122 (Asahi Glass Co., Ltd.), E220A (Nippon Silica Industry Co., Ltd.), E220 (Nippon Silica Industry Co., Ltd.) ), Silysia 470 (manufactured by Fuji Silysia Co., Ltd.), SG flake (manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd.), and the like.

（６−２）レベリング剤
ハードコート層９の形成に用いられる硬化性樹脂組成物には、得られるハードコート層９の表面平滑性を確保するために、レベリング剤を添加することが好ましい。
レベリング剤とは、塗料に添加することでその塗料の表面張力を低下させ、塗膜の表面平滑性を向上させる効果のある薬剤である。
レベリング剤として一般的に使用される物質としては、例えば、ポリアルキルアクリレートなどのポリアクリレート系ポリマー、ポリアルキルビニルエーテルなどのポリビニルエーテル系ポリマー、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、さらにはポリエーテル、ポリエステル、アラルキルなどが導入された有機変性ポリシロキサンなどのシリコーン系ポリマーなどが例示されるが、本発明ではこれらのポリマーにフッ素原子を含有するものを用いることが最も好ましい。フッ素原子を有するレベリング剤は、例えばフッ素含有基を有するモノマーを共重合させることにより得ることができる。
具体的に市販されている商品としては、例えばサーフロン「Ｓ−３８１」、「Ｓ−３８２」、「ＳＣ−１０１」、「ＳＣ−１０２」、「ＳＣ−１０３」、「ＳＣ−１０４」（何れも旭硝子株式会社製）、フロラード「ＦＣ−４３０」、「ＦＣ−４３１」、「ＦＣ−１７３」（何れもフロロケミカル−住友スリーエム製）、エフトップ「ＥＦ３５２」、「ＥＦ３０１」、「ＥＦ３０３」（何れも新秋田化成株式会社製）、シュベゴーフルアー「８０３５」、「８０３６」（何れもシュベグマン社製）、「ＢＭ１０００」、「ＢＭ１１００」（いずれもビーエム・ヒミー社製）、メガファック「Ｆ−１７１」、「Ｆ−４７０」、「ＲＳ−７５」、「ＲＳ−７２−Ｋ」（何れも大日本インキ化学工業株式会社製）、ＢＹＫ３４０（ビックケミー・ジャパン社製）、「ＺＸ−０４９」、「ＺＸ−００１」、「ＺＸ−０１７」（何れも富士化成工業社製）等を挙げることができる。(6-2) Leveling agent It is preferable to add a leveling agent to the curable resin composition used for forming the hard coat layer 9 in order to ensure the surface smoothness of the obtained hard coat layer 9.
A leveling agent is an agent having an effect of adding to a paint to reduce the surface tension of the paint and improving the surface smoothness of the paint film.
Substances generally used as leveling agents include, for example, polyacrylate polymers such as polyalkyl acrylate, polyvinyl ether polymers such as polyalkyl vinyl ether, dimethyl polysiloxane, methylphenyl polysiloxane, and polyethers and polyesters. Examples thereof include silicone polymers such as organically modified polysiloxane introduced with aralkyl and the like. In the present invention, it is most preferable to use those polymers containing fluorine atoms. A leveling agent having a fluorine atom can be obtained, for example, by copolymerizing a monomer having a fluorine-containing group.
Specific examples of commercially available products include Surflon “S-381”, “S-382”, “SC-101”, “SC-102”, “SC-103”, “SC-104” (any Manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), FLORARD “FC-430”, “FC-431”, “FC-173” (all manufactured by Fluorochemicals-Sumitomo 3M), F-top “EF352”, “EF301”, “EF303” ( All are made by Shin-Akita Kasei Co., Ltd.), Schwegofuller “8035”, “8036” (both made by Schwegman), “BM1000”, “BM1100” (both made by BM Himmy), MegaFuck “F” -171 "," F-470 "," RS-75 "," RS-72-K "(all manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), BYK340 (Big Chemie Ji Baking Co., Ltd.), "ZX-049", "ZX-001", mention may be made of the "ZX-017" (both Fuji Chemical Industry Co., Ltd.), and the like.

（６−３）ＵＶ吸収剤
ハードコート層９の形成に用いられる硬化性樹脂組成物には、得られるハードコート層９およびハードコート層９よりも下層の樹脂層の耐候性を向上させるために、ＵＶ吸収剤を添加することが好ましい。ハードコート層９に含有されるＵＶ吸収剤としては、有機化合物からなるＵＶ吸収剤（有機ＵＶ吸収剤）であっても良いし、無機化合物からなるＵＶ吸収剤（無機ＵＶ吸収剤）であっても良く、両者を含有していても良い。有機ＵＶ吸収剤及び無機ＵＶ吸収剤としては、従来公知のＵＶ吸収剤を用いることができる。有機ＵＶ吸収剤としては、トリアジン系ＵＶ吸収剤、ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤、ベンズトリアゾール系ＵＶ吸収剤等が挙げられ、特に、トリアジン系ＵＶ吸収剤が用いられることが好ましい。(6-3) UV absorber In order to improve the weather resistance of the resulting hard coat layer 9 and the resin layer below the hard coat layer 9 in the curable resin composition used for forming the hard coat layer 9 It is preferable to add a UV absorber. The UV absorber contained in the hard coat layer 9 may be a UV absorber made of an organic compound (organic UV absorber) or a UV absorber made of an inorganic compound (inorganic UV absorber). It may be good, and both may be contained. A conventionally well-known UV absorber can be used as an organic UV absorber and an inorganic UV absorber. Examples of organic UV absorbers include triazine UV absorbers, benzophenone UV absorbers, and benztriazole UV absorbers, and it is particularly preferable to use triazine UV absorbers.

（６−４）酸化防止剤
ハードコート層９の形成に用いられる硬化性樹脂組成物には、酸化防止剤を添加することが好ましい。
ハードコート層９が酸化防止剤を含有することによって、耐候性を向上することができる。
本発明に適用可能な酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物の酸化防止剤群の中から選ぶことができる。
ヒンダードフェノール系化合物の具体例としては、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−アセテート、ｎ−オクタデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。上記タイプのフェノール化合物は、例えば、チバ・ジャパン株式会社から「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６」及び「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０」という商品名で市販されている。
ヒンダードアミン系化合物の具体例としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート等が挙げられる。
また、高分子タイプの化合物でもよく、特に、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物等で、数平均分子量（Ｍｎ）が２，０００〜５，０００のものが好ましい。
上記タイプのヒンダードアミン化合物は、例えば、チバ・ジャパン株式会社から、「ＴＵＮＵＶＩＮ１４４」及び「ＴＵＮＵＶＩＮ７７０」、株式会社ＡＤＥＫＡから「ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＬＡ−５２」という商品名で市販されている。
リン系化合物の具体例としては、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト等が挙げられる。
上記タイプのリン系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、「ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＰ」、株式会社ＡＤＥＫＡから「ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＰＥＰ−２４Ｇ」、「ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＰＥＰ−３６」及び「ＡＤＫ ＳＴＡＢ ３０１０」、チバ・ジャパン株式会社から「ＩＲＧＡＦＯＳ Ｐ−ＥＰＱ」、堺化学工業株式会社から「ＧＳＹ−Ｐ１０１」という商品名で市販されている。(6-4) Antioxidant It is preferable to add an antioxidant to the curable resin composition used for forming the hard coat layer 9.
When the hard coat layer 9 contains an antioxidant, the weather resistance can be improved.
As an antioxidant applicable to this invention, it can select from the antioxidant group of a hindered phenol type compound, a hindered amine type compound, and a phosphorus compound, for example.
Specific examples of the hindered phenol compound include n-octadecyl 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) -propionate and n-octadecyl 3- (3,5-di-t-butyl. -4-hydroxyphenyl) -acetate, n-octadecyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate and the like. The phenol compound of the above type is commercially available from Ciba Japan Co., Ltd. under the trade names “IRGANOX1076” and “IRGANOX1010”.
Specific examples of hindered amine compounds include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) succinate, bis (1 , 2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate and the like.
Further, it may be a polymer type compound, and in particular, polycondensation of dibutylamine, 1,3,5-triazine and N, N′-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butylamine. , Poly [{(1,1,3,3-tetramethylbutyl) amino-1,3,5-triazine-2,4-diyl} {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl ) Imino} hexamethylene {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino}], dimethyl succinate and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidineethanol A polymer having a number average molecular weight (Mn) of 2,000 to 5,000 is preferred.
The hindered amine compound of the above type is commercially available from Ciba Japan Co., Ltd. under the trade names of “TUNUVIN 144” and “TUNUVIN 770” and ADEKA Co., Ltd. under the name “ADK STAB LA-52”.
Specific examples of the phosphorus compound include triphenyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, and phenyl diisodecyl phosphite.
Examples of the phosphorus compounds of the above-mentioned types include Sumitizer GP from Sumitomo Chemical Co., Ltd., “ADK STAB PEP-24G”, “ADK STAB PEP-36” and “ADK STAB 3010” from ADEKA Co., Ltd., Ciba Japan Co., Ltd. It is commercially available under the trade name “IRGAFOS P-EPQ” from the company and “GSY-P101” from Sakai Chemical Industry Co., Ltd.

（６−５）溶剤
本発明において、ハードコート層９の形成に用いられる塗布液は、酢酸エチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンのいずれか１種以上を溶剤として電離放射線硬化性樹脂の固形分が３０〜７０質量％となるように希釈して得ることができる。ここで、塗布液中の電離放射線硬化性樹脂の固形分が３０質量％未満である場合には、塗布液を基材上に塗布した際に溶剤濃度が高すぎて１０〜３０μｍの厚みの塗膜を得ることが難しく、また、塗布液中の電離放射線硬化性樹脂の固形分が７０質量％を超える場合には、塗布液の粘度が高すぎて塗膜にムラが発生し、平面性を損なうためである。(6-5) Solvent In the present invention, the coating liquid used for forming the hard coat layer 9 is solid content of ionizing radiation curable resin using at least one of ethyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone as a solvent. Can be obtained by diluting so as to be 30 to 70% by mass. Here, when the solid content of the ionizing radiation curable resin in the coating solution is less than 30% by mass, the coating solution having a thickness of 10 to 30 μm is too high when the coating solution is applied onto the substrate. It is difficult to obtain a film, and when the solid content of the ionizing radiation curable resin in the coating liquid exceeds 70% by mass, the viscosity of the coating liquid is too high and unevenness occurs in the coating film, resulting in flatness. This is because of loss.

また、図１に示すフィルムミラー１０ａのように、腐食防止層６とハードコート層９の間に、接着層７と第２の樹脂基材８を設けてもよい。   Moreover, you may provide the contact bonding layer 7 and the 2nd resin base material 8 between the corrosion prevention layer 6 and the hard-coat layer 9, like the film mirror 10a shown in FIG.

（７）接着層
本発明に係るフィルムミラー（１０ａ）に形成される接着層７は、腐食防止層６と第２の樹脂基材８との接着性を高める機能があるものであれば特に限定はない。従って、接着層７は、腐食防止層６と第２の樹脂基材８とを密着する密着性や平滑性が必要である。
接着層７の厚さは、密着性、平滑性、反射層５の反射率等の観点から、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。
接着層７が樹脂である場合、上記の密着性及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂を用いることができる。耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。この接着層７の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
また、接着層７が金属酸化物である場合、例えば酸化シリコン、酸化アルミニウム、窒化シリコン、窒化アルミニウム、酸化ランタン、窒化ランタン等を各種真空成膜法により成膜したものを用いることができる。この接着層７の形成方法（成膜方法）は、例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などが使用できる。(7) Adhesive layer The adhesive layer 7 formed on the film mirror (10a) according to the present invention is particularly limited as long as it has a function of improving the adhesion between the corrosion prevention layer 6 and the second resin substrate 8. There is no. Therefore, the adhesive layer 7 needs to have adhesion and smoothness for closely contacting the corrosion prevention layer 6 and the second resin base material 8.
The thickness of the adhesive layer 7 is preferably 0.01 to 3 μm, more preferably 0.1 to 1 μm, from the viewpoints of adhesion, smoothness, the reflectance of the reflective layer 5 and the like.
When the adhesive layer 7 is a resin, there is no particular limitation as long as it satisfies the above conditions of adhesion and smoothness, polyester resin, acrylic resin, melamine resin, epoxy resin, polyamide resin, Single or mixed resins such as vinyl chloride resins and vinyl chloride vinyl acetate copolymer resins can be used. From the viewpoint of weather resistance, a mixed resin of a polyester resin and a melamine resin is preferable, and a thermosetting resin in which a curing agent such as isocyanate is further mixed is more preferable. As a method for forming the adhesive layer 7, a conventionally known coating method such as a gravure coating method, a reverse coating method, a die coating method or the like can be used.
When the adhesive layer 7 is a metal oxide, for example, silicon oxide, aluminum oxide, silicon nitride, aluminum nitride, lanthanum oxide, lanthanum nitride, or the like formed by various vacuum film forming methods can be used. For example, a resistance heating vacuum deposition method, an electron beam heating vacuum deposition method, an ion plating method, an ion beam assisted vacuum deposition method, or a sputtering method can be used as a method for forming the adhesive layer 7 (film formation method).

（８）第２の樹脂基材
第２の樹脂基材８は、主に反射面側に存在し、紫外線からの保護や、外部環境からの異物の侵入を抑制する層である。第２の樹脂基材８は、隣接する層上に、接着剤を介して貼り合わされることで設けられていても良いし、塗布等により直接設けられていても良い。
本発明に係るフィルムミラー（１０ａ）に用いられる第２の樹脂基材８としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。
中でも、アクリルフィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。特に、アクリルフィルムを用いることが好ましい。この第２の樹脂基材８は、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
第２の樹脂基材８の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には１０〜３００μｍの範囲内である。好ましくは２０〜２００μｍ、さらに好ましくは５０〜１５０μｍである。(8) Second resin base material The second resin base material 8 is a layer that mainly exists on the reflective surface side and suppresses protection from ultraviolet rays and entry of foreign substances from the external environment. The second resin substrate 8 may be provided on an adjacent layer by being bonded via an adhesive, or may be provided directly by application or the like.
As the second resin substrate 8 used in the film mirror (10a) according to the present invention, various conventionally known resin films can be used. For example, cellulose ester film, polyester film, polycarbonate film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone) film, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate polyester film, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, Cellulose diacetate film, cellulose triacetate film, cellulose acetate propionate film, cellulose acetate butyrate film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol film, syndiotactic polystyrene film, polycarbonate film, norbornene resin film , Polymethylpentenef Can Lum, polyether ketone film, polyether ketone imide film, a polyamide film, a fluororesin film, a nylon film, polymethyl methacrylate film, and acrylic films.
Among them, an acrylic film, a polycarbonate film, a polyester film, a norbornene resin film, and a cellulose ester film are preferable. In particular, it is preferable to use an acrylic film. The second resin substrate 8 may be a film manufactured by melt casting film formation or a film manufactured by solution casting film formation.
The thickness of the second resin substrate 8 is preferably set to an appropriate thickness according to the type and purpose of the resin. For example, it is generally in the range of 10 to 300 μm. Preferably it is 20-200 micrometers, More preferably, it is 50-150 micrometers.

（９）太陽熱発電用反射装置
太陽熱発電用反射装置２０ａ、２０ｂは、図１、図２に示すように、少なくともフィルムミラー１０ａ、１０ｂと、支持基材としての金属基材１とから構成されている。つまり、フィルムミラー１０ａ、１０ｂの粘着層２を金属基材１に接着させて、太陽熱発電用反射装置２０ａ、２０ｂが形成されている。(9) Reflector for solar power generation Reflector for solar power generation 20a, 20b is composed of at least film mirrors 10a, 10b and a metal substrate 1 as a support substrate, as shown in FIGS. Yes. In other words, the adhesive layers 2 of the film mirrors 10a and 10b are adhered to the metal substrate 1, so that the solar power generation reflecting devices 20a and 20b are formed.

（９−１）金属基材
本発明に係る太陽熱発電用反射装置２０ａ、２０ｂの金属基材１としては、例えば、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板などの金属材料を用いることができる。本発明においては、特に耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などを用いることが好ましい。
これらの金属基材１の厚みは、取扱性、熱伝導性、熱容量等の観点から、０．０５ｍｍ〜３ｍｍ程度が好ましい。(9-1) Metal substrate As the metal substrate 1 of the solar power generation reflecting devices 20a and 20b according to the present invention, for example, a steel plate, a copper plate, an aluminum plate, an aluminum plated steel plate, an aluminum alloy plated steel plate, a copper plated steel plate. Metal materials such as a tin-plated steel plate, a chrome-plated steel plate, and a stainless steel plate can be used. In the present invention, it is particularly preferable to use a plated steel plate, a stainless steel plate, an aluminum plate, or the like having good corrosion resistance.
The thickness of these metal substrates 1 is preferably about 0.05 mm to 3 mm from the viewpoints of handleability, thermal conductivity, heat capacity, and the like.

（９−２）粘着層
フィルムミラー１０ａ、１０ｂを金属基材１に接着するための粘着層２としては、特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などを用いることができる。また、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴムなどを用いてもよい。
第１の樹脂基材３の裏面に粘着層２を設けるラミネート方法は特に制限されず、例えばロール式で連続的に行う方法が経済性及び生産性の点から好ましい。
粘着層２の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜５０μｍ程度の範囲であることが好ましい。
粘着層２に用いる具体的な材料としては、例えば、綜研化学社製「ＳＫダインシリーズ」、東洋インキ社製Ｏｒｉｂａｉｎ ＢＰＷシリーズ、ＢＰＳシリーズ、荒川化学社製「アルコン」「スーパーエステル」「ハイペール」等の粘着剤を好適に用いることができる。(9-2) Adhesive layer The adhesive layer 2 for adhering the film mirrors 10a, 10b to the metal substrate 1 is not particularly limited. For example, a dry laminating agent, a wet laminating agent, an adhesive, a heat sealant, hot A melt agent or the like can be used. Further, a polyester resin, a urethane resin, a polyvinyl acetate resin, an acrylic resin, a nitrile rubber, or the like may be used.
The laminating method in particular which provides the adhesion layer 2 in the back surface of the 1st resin base material 3 is not restrict | limited, For example, the method of performing by a roll type continuously is preferable from the point of economical efficiency and productivity.
The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 2 is usually preferably in the range of about 1 to 50 μm from the viewpoint of the pressure-sensitive adhesive effect, the drying speed, and the like.
Specific materials used for the adhesive layer 2 include, for example, “SK Dyne Series” manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., Oribain BPW Series, BPS Series manufactured by Toyo Ink Co., Ltd., “Arcon”, “Superester”, “High Pale” manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd. The pressure-sensitive adhesive can be suitably used.

以下、具体的な実施例および比較例を挙げて本発明を説明する。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。以下の実施例や比較例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。
なお、ここでは、図１に示すフィルムミラー１０ａタイプのものを作製した。Hereinafter, the present invention will be described with reference to specific examples and comparative examples. However, the present invention is not limited to these. In the following examples and comparative examples, “part” or “%” is used, and “part by mass” or “% by mass” is expressed unless otherwise specified.
Here, the film mirror 10a type shown in FIG. 1 was produced.

［実施例１］
第１の樹脂基材３として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１００μｍ）を用いた。
そのポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル系樹脂、メラミン系樹脂、ＴＤＩ系イソシアネート、ＨＭＤＩ系イソシアネートを樹脂固形分比率で２０：１：１：２に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍのアンカー層４を形成した。
次いで、アンカー層４上に反射層５として、真空蒸着法によって厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成した。
次いで、反射層５上に、側鎖にアミノ基を有するアクリル樹脂（シリコーン変性樹脂）であるオリジツーク＃１００クリヤ、エポキシ基を有するシランカップリング剤を含有する硬化剤のポリハードＧ２１、溶剤のオリジンシンナー＃１１１ＮＯ２（いずれもオリジン電気社製）を質量比で４０：１０：２０とした溶液に、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート（ＴＭＴＰ）を１質量％添加した液をグラビアコート法によりコーティングして、１５０℃下５分間乾燥させることで厚さ１μｍのアクリルシリコーン樹脂からなる膜を積層して腐食防止層６を形成した。
次いで、腐食防止層６上に、アクリル樹脂接着剤（昭和高分子社製）を厚さ１０μｍの厚さに塗布・コートして、樹脂を主成分とする接着層７を形成し、その接着層７上に第２の樹脂基材８として膜厚１００μｍのテクノロイＳ００１（住友化学社製）を積層した。
次いで、第２の樹脂基材８上に、ＵＶ硬化性樹脂のリオデュラスＬＣＨ（東洋インキ社製）にフッ素系レベリング剤としてＺＸ−０４９（富士化成工業社製）を樹脂固形分に対して０．１質量％、トリアジン系ＵＶ吸収剤としてＴｉｎｕｖｉｎ４７７（チバ・ジャパン社製）を樹脂固形分に対して１．０質量％となる量を添加したものをグラビアコートによってウェット膜厚４０μｍで塗布し、８０℃で２時間加熱処理を行ってハードコート層９を設けた。
こうして、シリコーン変性樹脂としての「オリジツーク＃１００クリヤ」と、チオール基を有する化合物としての「ＴＭＴＰ」を含む腐食防止層６を備えている、実施例１の太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。[Example 1]
A biaxially stretched polyester film (polyethylene terephthalate film, thickness 100 μm) was used as the first resin substrate 3.
On one side of the polyethylene terephthalate film, a resin in which polyester resin, melamine resin, TDI isocyanate, and HMDI isocyanate are mixed at a resin solid content ratio of 20: 1: 1: 2 is coated by a gravure coating method. An anchor layer 4 having a thickness of 0.1 μm was formed.
Next, a silver reflective layer having a thickness of 80 nm was formed as the reflective layer 5 on the anchor layer 4 by vacuum deposition.
Next, on the reflective layer 5, an Origin resin # 100 clear which is an acrylic resin (silicone-modified resin) having an amino group in the side chain, a polyhard G21 as a curing agent containing a silane coupling agent having an epoxy group, and an origin thinner as a solvent. A solution prepared by adding 1% by mass of trimethylolpropane tristhiopropionate (TMTP) to a solution of # 111NO2 (all manufactured by Origin Electric Co., Ltd.) in a mass ratio of 40:10:20 was coated by a gravure coating method. The corrosion prevention layer 6 was formed by laminating a film made of an acrylic silicone resin having a thickness of 1 μm by drying at 150 ° C. for 5 minutes.
Next, an acrylic resin adhesive (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.) is applied and coated to a thickness of 10 μm on the corrosion prevention layer 6 to form an adhesive layer 7 composed mainly of a resin. 7 was laminated as a second resin base material 8 with a thickness of 100 μm Technoloy S001 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.).
Next, ZX-049 (Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd.) as a fluorine-based leveling agent is added to the resin solid content of the UV curable resin Rio Duras LCH (Toyo Ink Co., Ltd.) on the second resin base 8. 1% by weight, Tinuvin 477 (manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) as a triazine-based UV absorber added in an amount of 1.0% by weight based on the resin solid content is applied with a gravure coat to a wet film thickness of 40 μm, 80 A hard coat layer 9 was provided by heat treatment at 2 ° C. for 2 hours.
In this way, a film mirror for solar power generation of Example 1 was prepared, which was provided with the corrosion prevention layer 6 containing “ORIJITZUKU # 100 clear” as a silicone-modified resin and “TMTP” as a compound having a thiol group.

［実施例２］
実施例１の太陽熱発電用フィルムミラーの作製において、腐食防止層６を形成する塗布液として「オリジツーク＃１００クリヤ、エポキシ基を有するシランカップリング剤を含有する硬化剤のポリハードＧ２１、溶剤のオリジンシンナー＃１１１ＮＯ２を質量比で４０：１０：２０とした溶液」を用いる替わりに、シリコーンアルキド樹脂（シリコーン変性樹脂）であるベッコライトＭ−６６５２−６０（大日本インキ化学工業社製）溶液と、エポキシ基を有するシランカップリング剤である２−グリシドキシエチルトリエトキシシラン（信越シリコーン社製）を質量比で４０：１とした溶液を用いて腐食防止層６を形成した。
こうして、シリコーン変性樹脂としての「ベッコライトＭ−６６５２−６０」と、チオール基を有する化合物としての「ＴＭＴＰ」を含む腐食防止層６を備えている、実施例２の太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。[Example 2]
In the production of the film mirror for solar power generation in Example 1, as the coating solution for forming the corrosion-preventing layer 6, "Origigaku # 100 clear, polyhard G21 of curing agent containing a silane coupling agent having an epoxy group, origin thinner of solvent Instead of using a solution of # 111NO2 in a mass ratio of 40:10:20, a Beckolite M-6665-60 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals) solution, which is a silicone alkyd resin (silicone modified resin), and an epoxy The corrosion prevention layer 6 was formed using a solution in which 2-glycidoxyethyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Silicone), which is a silane coupling agent having a group, was used in a mass ratio of 40: 1.
In this way, the film mirror for solar power generation of Example 2 provided with the corrosion prevention layer 6 containing "Bekkolite M-6665-60" as a silicone modified resin and "TMTP" as a compound which has a thiol group is produced. did.

［実施例３］
実施例１の太陽熱発電用フィルムミラーの作製において、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート（ＴＭＴＰ）の代わりに、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート（ＰＥＴＰ）を溶液に対して５質量％添加したものを用いて腐食防止層６を形成した。
こうして、シリコーン変性樹脂としての「オリジツーク＃１００クリヤ」と、チオール基を有する化合物としての「ＰＥＴＰ」を含む腐食防止層６を備えている、実施例３の太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。[Example 3]
In preparation of the film mirror for solar power generation of Example 1, what added 5 mass% of pentaerythritol tetrakisthiopropionate (PETP) with respect to the solution instead of trimethylolpropane tristhiopropionate (TMTP) The corrosion prevention layer 6 was formed using it.
Thus, a film mirror for solar power generation of Example 3 was prepared, which was provided with the corrosion prevention layer 6 containing “ORIJITZUKU # 100 clear” as the silicone-modified resin and “PETP” as the compound having a thiol group.

［実施例４］
実施例１の太陽熱発電用フィルムミラーの作製において、オリジツーク＃１００クリヤの代わりに、オリジツーク＃２００クリヤ（オリジン電気社製）を用いて腐食防止層６を形成した。
こうして、シリコーン変性樹脂としての「オリジツーク＃２００クリヤ」と、チオール基を有する化合物としての「ＴＭＴＰ」を含む腐食防止層６を備えている、実施例４の太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。[Example 4]
In the production of the film mirror for solar power generation in Example 1, the corrosion prevention layer 6 was formed by using Origitsuku # 200 clear (manufactured by Origin Electric Co., Ltd.) instead of Origitsuku # 100 clear.
In this way, a film mirror for solar power generation of Example 4 was prepared, which was provided with a corrosion prevention layer 6 containing “Origid Tug # 200 Clear” as a silicone-modified resin and “TMTP” as a compound having a thiol group.

［実施例５］
実施例１の太陽熱発電用フィルムミラーの作製において、オリジツーク＃１００クリヤとトリメチロールプロパントリスチオプロピオネート（ＴＭＴＰ）の代わりに、チオナリド（２−メルカプト−Ｎ−（２−ナフチル）アセトアミド、Ｎ−（２−ナフタレニル）−２−メルカプトアセトアミド）を用いて腐食防止層６を形成した。
こうして、チオナリドを含む腐食防止層６を備えている、実施例５の太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。[Example 5]
In the production of the film mirror for solar power generation in Example 1, thionalide (2-mercapto-N- (2-naphthyl) acetamide, N--) was used instead of Origitsuk # 100 clear and trimethylolpropane tristhiopropionate (TMTP). Corrosion prevention layer 6 was formed using (2-naphthalenyl) -2-mercaptoacetamide).
Thus, a film mirror for solar power generation of Example 5 having a corrosion prevention layer 6 containing thionalide was produced.

［比較例１］
実施例２の太陽熱発電用フィルムミラーの作製において、腐食防止層を形成する溶液にシランカップリング剤を含有する硬化剤（ポリハードＧ２１）を添加しないものを用いて腐食防止層を形成した。
こうして、シリコーン変性樹脂としての「ベッコライトＭ−６６５２−６０」と、チオール基を有する化合物としての「ＴＭＴＰ」を含み、シランカップリング剤（硬化剤）を含まない腐食防止層を備えている、比較例１の太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。[Comparative Example 1]
In the production of the film mirror for solar power generation of Example 2, the corrosion prevention layer was formed using a solution in which a curing agent (polyhard G21) containing a silane coupling agent was not added to the solution for forming the corrosion prevention layer.
In this way, “Beccolite M-6665-60” as a silicone-modified resin and “TMTP” as a compound having a thiol group are provided, and a corrosion prevention layer not containing a silane coupling agent (curing agent) is provided. A film mirror for solar power generation of Comparative Example 1 was produced.

［比較例２］
実施例２の太陽熱発電用フィルムミラーの作製において、腐食防止層を形成する塗布液として「ベッコライトＭ−６６５２−６０溶液と、エポキシ基を有するシランカップリング剤である２−グリシドキシエチルトリエトキシシランを質量比で４０：１とした溶液」を用いる替わりに、分子量３００００のＰＭＭＡ（三菱レイヨン社製）の１５質量％ＭＥＫ（メチルエチルケトン）希釈溶液を用い、さらにＴＭＴＰを添加しない条件で腐食防止層を形成した。
こうして、シリコーン変性樹脂としての「ＰＭＭＡ」のみを含む腐食防止層を備えている、比較例２の太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。[Comparative Example 2]
In the production of the film mirror for solar power generation of Example 2, as a coating solution for forming a corrosion prevention layer, “Beccolite M-6665-60 solution and 2-glycidoxyethyltrie which is a silane coupling agent having an epoxy group” Instead of using a solution of ethoxysilane in a mass ratio of 40: 1, a 15 mass% MEK (methyl ethyl ketone) diluted solution of PMMA (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) having a molecular weight of 30000 is used, and corrosion prevention is performed under the condition that TMTP is not added. A layer was formed.
In this way, a film mirror for solar power generation of Comparative Example 2 having a corrosion prevention layer containing only “PMMA” as a silicone-modified resin was produced.

［比較例３］
比較例２の太陽熱発電用フィルムミラーの作製において、腐食防止層にトリメチロールプロパントリスチオプロピオネート（ＴＭＴＰ）を０．５質量％含有させた。
こうして、シリコーン変性樹脂としての「ＰＭＭＡ」と、チオール基を有する化合物としての「ＴＭＴＰ」を含み、シランカップリング剤（硬化剤）を含まない腐食防止層を備えている、比較例３の太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。[Comparative Example 3]
In the production of the film mirror for solar power generation of Comparative Example 2, 0.5% by mass of trimethylolpropane tristhiopropionate (TMTP) was contained in the corrosion prevention layer.
Thus, the solar thermal power generation of Comparative Example 3 including “PMMA” as a silicone-modified resin and “TMTP” as a compound having a thiol group, and including a corrosion prevention layer not including a silane coupling agent (curing agent). A film mirror was prepared.

［太陽熱発電用フィルムミラー（太陽熱発電用反射装置）の評価］
上記のように作製した太陽熱発電用フィルムミラー（実施例１〜５、比較例１〜３）について、下記の方法に従って、膜密着性及び腐食耐性の評価を行った。[Evaluation of film mirror for solar power generation (reflector for solar power generation)]
About the film mirror for solar power generation produced as mentioned above (Examples 1-5, Comparative Examples 1-3), film | membrane adhesiveness and corrosion resistance were evaluated in accordance with the following method.

［膜密着性の評価］
各フィルムミラー試料を、岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６５℃の環境下で１５０ｍＷ、９６時間紫外線照射を行った後、ＪＩＳ Ｋ５４００規格に基づき碁盤目１００マスクロスカットした際のテープ剥離試験を行い、下記の基準で膜密着性を評価した。
◎：膜剥離が０マス
○：膜剥離が１マス以上５マス以下
△：膜剥離が６マス以上１０マス以下
×：膜剥離が１１マス以上[Evaluation of film adhesion]
Tape peeling test when each film mirror sample was irradiated with ultraviolet rays at 150 mW for 96 hours in an environment of 65 ° C. using an I-Super UV tester manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd., and then subjected to 100 mask loss cut according to JIS K5400 standard. The film adhesion was evaluated according to the following criteria.
◎: Film peeling is 0 square ○: Film peeling is 1 square or more and 5 squares or less Δ: Film peeling is 6 square or more and 10 squares or less X: Film peeling is 11 squares or more

［腐食耐性の評価］
各フィルムミラー試料を、岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６５℃の環境下で７日間紫外線照射を行った後、端面を防水テープで封止して１０％硫化アンモニウム水溶液に２４時間浸漬し、下記の「正反射率測定」方法により正反射率を測定し、下記の基準に従って、腐食耐性を評価した。
ここでの「正反射率測定」は、島津製作所社製の分光光度計ＵＶ２６５を、積分球反射付属装置を取り付けたものに改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、各試料の反射角５°での正反射率を測定した。評価は、３５０ｎｍから７００ｎｍまでの平均反射率として測定した。
◎：正反射率の平均値が、８７％以上である
○：正反射率の平均値が、８２％以上、８７％未満である
△：正反射率の平均値が、７７％以上、８２％未満である
×：正反射率の平均値が、７７％未満である[Evaluation of corrosion resistance]
Each film mirror sample was irradiated with ultraviolet rays for 7 days in an environment of 65 ° C. using an I-Super UV tester manufactured by Iwasaki Electric, and the end face was sealed with waterproof tape and immersed in a 10% aqueous ammonium sulfide solution for 24 hours. Then, the regular reflectance was measured by the following “regular reflectance measurement” method, and the corrosion resistance was evaluated according to the following criteria.
Here, “regular reflectance measurement” is a modification of the spectrophotometer UV265 manufactured by Shimadzu Corporation to which an integrating sphere reflection accessory is attached, and the incident angle of incident light with respect to the normal of the reflecting surface is changed. It adjusted so that it might be set to 5 degrees, and the regular reflectance in the reflection angle 5 degrees of each sample was measured. Evaluation was measured as an average reflectance from 350 nm to 700 nm.
A: The average value of regular reflectance is 87% or more. ○: The average value of regular reflectance is 82% or more and less than 87%. Δ: The average value of regular reflectance is 77% or more, 82%. X: The average value of regular reflectance is less than 77%

上記膜密着性の評価及び腐食耐性の評価の結果を、表１に示す。   Table 1 shows the results of the evaluation of film adhesion and the evaluation of corrosion resistance.

Figure 2013141304
Figure 2013141304

表１に示す結果から明らかなように、シリコーン変性樹脂とシランカップリング剤を含み、更に分子中にチオール基を有する化合物を含有している腐食防止層６を、反射層５の光反射側に隣接して設けた実施例１〜５の太陽熱発電用フィルムミラーは、ＵＶ劣化処理後であっても反射層５と腐食防止層６との膜密着性を維持し、かつ反射層５の変質も起こしておらず、耐候性に優れていることがわかる。
一方で、シリコーン変性樹脂、シランカップリング剤、分子中にチオール基を有する化合物の何れかが不足している比較例１〜３の太陽熱発電用フィルムミラーは、ＵＶ劣化処理後に膜の密着性低下と反射層５の変質の両方または何れかが発生してしまい、屋外で長期にわたり使用することができないことがわかる。As is apparent from the results shown in Table 1, the corrosion prevention layer 6 containing a silicone-modified resin and a silane coupling agent and further containing a compound having a thiol group in the molecule is provided on the light reflection side of the reflection layer 5. The film mirrors for solar power generation of Examples 1 to 5 provided adjacent to each other maintain the film adhesion between the reflective layer 5 and the corrosion prevention layer 6 even after the UV deterioration treatment, and the quality of the reflective layer 5 is also altered. It has not occurred, and it can be seen that the weather resistance is excellent.
On the other hand, the film mirrors for solar power generation in Comparative Examples 1 to 3 in which any of the silicone-modified resin, the silane coupling agent, and the compound having a thiol group in the molecule is deficient are reduced in film adhesion after UV deterioration treatment. It can be seen that both or any of the alterations of the reflective layer 5 occur and cannot be used outdoors for a long time.

以上のように、本発明のフィルムミラー１０ａ、１０ｂ（実施例１〜５の太陽熱発電用フィルムミラー）は、反射層５と腐食防止層６との界面における密着性に優れ、腐食防止層６による反射層５の腐食耐性にも優れている。これにより、本発明に係るフィルムミラー１０ａ、１０ｂは、耐候性に優れており、長期間にわたり屋外設置された後に洗浄が行われても反射層５と腐食防止層６との界面で剥離が発生しにくく、太陽光に対して良好な正反射率を維持することができる。
また、そのようなフィルムミラー１０ａ、１０ｂを、粘着層２を介して金属基材１に貼付してなる太陽熱発電用反射装置２０ａ、２０ｂも、太陽光に対して良好な正反射率を維持することができるといえる。As described above, the film mirrors 10a and 10b of the present invention (film mirrors for solar thermal power generation of Examples 1 to 5) have excellent adhesion at the interface between the reflective layer 5 and the corrosion prevention layer 6, and are based on the corrosion prevention layer 6. The reflective layer 5 is also excellent in corrosion resistance. Accordingly, the film mirrors 10a and 10b according to the present invention have excellent weather resistance, and peeling occurs at the interface between the reflective layer 5 and the corrosion prevention layer 6 even if the film mirrors 10a and 10b are cleaned after being installed outdoors for a long period of time. And good regular reflectance with respect to sunlight can be maintained.
Moreover, the solar power generation reflecting devices 20a and 20b formed by attaching such film mirrors 10a and 10b to the metal substrate 1 through the adhesive layer 2 also maintain good regular reflectance with respect to sunlight. It can be said that it is possible.

なお、本発明の適用は上述した実施形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。   The application of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be appropriately changed without departing from the spirit of the present invention.

以上のように、本発明は、反射層と腐食防止層との密着性が高く、且つ反射層の腐食を抑制できるフィルムミラーと、そのフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することに適している。   As described above, the present invention provides a film mirror that has high adhesion between the reflective layer and the corrosion prevention layer and can suppress the corrosion of the reflective layer, and a solar power generation reflector using the film mirror. Is suitable.

１ 金属基材（支持基材）
２ 粘着層
３ 第１の樹脂基材（フィルム基材）
４ アンカー層
５ 反射層
６ 腐食防止層
７ 接着層
８ 第２の樹脂基材
９ ハードコート層
１０ａ、１０ｂ フィルムミラー
２０ａ、２０ｂ 太陽熱発電用反射装置1 Metal substrate (support substrate)
2 Adhesive layer 3 First resin substrate (film substrate)
4 Anchor layer 5 Reflective layer 6 Corrosion prevention layer 7 Adhesive layer 8 Second resin base material 9 Hard coat layer 10a, 10b Film mirror 20a, 20b Reflector for solar thermal power generation

Claims (7)

フィルム基材に反射層が設けられたフィルムミラーであって、
前記反射層の光反射側に隣接して積層された腐食防止層を備え、
前記腐食防止層は、シリコーン変性樹脂とシランカップリング剤を含んで形成され、更に分子中にチオール基を有する化合物を含有していることを特徴とするフィルムミラー。A film mirror provided with a reflective layer on a film substrate,
A corrosion prevention layer laminated adjacent to the light reflecting side of the reflective layer;
The film prevention layer is formed of a silicone-modified resin and a silane coupling agent, and further contains a compound having a thiol group in the molecule. 前記化合物は、分子中にチオール基を２以上有していることを特徴とする請求項１に記載のフィルムミラー。   The film mirror according to claim 1, wherein the compound has two or more thiol groups in the molecule. 前記シリコーン変性樹脂は、アクリルシリコーン樹脂であることを特徴とする請求項１又は２に記載のフィルムミラー。   The film mirror according to claim 1, wherein the silicone-modified resin is an acrylic silicone resin. 前記化合物は、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネートであることを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載のフィルムミラー。   The film mirror according to any one of claims 1 to 3, wherein the compound is trimethylolpropane tristhiopropionate. 前記化合物は、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネートであることを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載のフィルムミラー。   The film mirror according to any one of claims 1 to 3, wherein the compound is pentaerythritol tetrakisthiopropionate. 前記腐食防止層上に、塗布にて樹脂を主成分とする層を設けたことを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載のフィルムミラー。   The film mirror according to any one of claims 1 to 5, wherein a layer mainly composed of a resin is provided by coating on the corrosion prevention layer. 請求項１〜６の何れか一項に記載のフィルムミラーを、支持基材に貼り付けて形成したことを特徴とする太陽熱発電用反射装置。   A reflector for solar power generation, wherein the film mirror according to any one of claims 1 to 6 is attached to a support substrate.
JP2014506271A 2012-03-22 2013-03-21 Film mirror and reflector for solar power generation Pending JPWO2013141304A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014506271A JPWO2013141304A1 (en) 2012-03-22 2013-03-21 Film mirror and reflector for solar power generation

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012064718 2012-03-22
JP2012064718 2012-03-22
JP2014506271A JPWO2013141304A1 (en) 2012-03-22 2013-03-21 Film mirror and reflector for solar power generation

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPWO2013141304A1 true JPWO2013141304A1 (en) 2015-08-03

Family

ID=49222760

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014506271A Pending JPWO2013141304A1 (en) 2012-03-22 2013-03-21 Film mirror and reflector for solar power generation

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPWO2013141304A1 (en)
WO (1) WO2013141304A1 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017002814A1 (en) * 2015-06-30 2017-01-05 コニカミノルタ株式会社 Light reflecting film, method for manufacturing light reflecting film and backlight unit for liquid crystal display device
WO2017047649A1 (en) * 2015-09-15 2017-03-23 コニカミノルタ株式会社 Light reflection film, and backlight unit for liquid crystal display device
WO2017164226A1 (en) * 2016-03-25 2017-09-28 コニカミノルタ株式会社 Light-reflecting film and backlight unit for liquid crystal display device
JP2023148567A (en) * 2022-03-30 2023-10-13 日東電工株式会社 multilayer structure

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06334207A (en) * 1993-05-27 1994-12-02 Canon Inc Solar cell module
WO2011158665A1 (en) * 2010-06-18 2011-12-22 コニカミノルタオプト株式会社 Film mirror and reflective device for solar thermal power generation

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999062646A1 (en) * 1998-06-02 1999-12-09 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. Article having silver layer and resin composition for coating covering silver
JP2000106017A (en) * 1998-09-29 2000-04-11 Koito Mfg Co Ltd Vehicle lighting fixture
JP2013199507A (en) * 2010-07-14 2013-10-03 Asahi Glass Co Ltd Coating composition for coating surface of solar energy collecting reflector and method for producing solar energy collecting reflector
CN103477253B (en) * 2010-12-28 2015-09-09 柯尼卡美能达株式会社 Functional membrane, membranaceous catoptron and solar energy thermal-power-generating reflection unit

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06334207A (en) * 1993-05-27 1994-12-02 Canon Inc Solar cell module
WO2011158665A1 (en) * 2010-06-18 2011-12-22 コニカミノルタオプト株式会社 Film mirror and reflective device for solar thermal power generation

Also Published As

Publication number Publication date
WO2013141304A1 (en) 2013-09-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2012090987A1 (en) Functional film, film mirror, and reflecting device for solar thermal power generation
JP5741586B2 (en) Film mirror for solar power generation, method for manufacturing film mirror for solar power generation, and reflector for solar power generation
WO2015002053A1 (en) Light reflecting film, and light reflecting body and light reflecting device using such light reflecting film
JP2011150316A (en) Film mirror for solar thermal power generation, method for manufacturing the same, and reflecting device for solar thermal power generation
WO2013015112A1 (en) Mirror for solar light reflection, reflection device for solar-heat power generation, functional film, and electrostatic charge preventing composition for outdoor use
WO2013141304A1 (en) Film mirror, and reflection device for solar power generation
WO2015198762A1 (en) Optical reflective film, method for producing optical reflective film, and optical reflector using same
JP2015011271A (en) Light-reflecting film, and light-reflecting body and light-reflecting device using the same
WO2015146655A1 (en) Light reflecting film
WO2014188831A1 (en) Ultraviolet shielding film
WO2011078156A1 (en) Film mirror, method for producing same, and reflecting device for solar thermal power generator using said film mirror
JP2016137666A (en) Light reflection film, and light reflector and light reflection device using the same
JP5794232B2 (en) Film mirror for solar power generation, manufacturing method thereof, and reflector for solar power generation
WO2012057003A1 (en) Film mirror for solar power generation purposes and reflection device for solar power generation purposes
WO2011096284A1 (en) Film mirror for solar thermal power generation, method for producing film mirror for solar thermal power generation, and reflection device for solar thermal power generation
JPWO2012043606A1 (en) Film mirror for solar power generation, method for manufacturing film mirror for solar power generation, and reflector for solar power generation
WO2015064312A1 (en) Film mirror and light reflection device for solar heat reflection using same
JP2016170279A (en) Light reflection film, and light reflection body and sunlight reflection device having the same
JP2015161826A (en) Film mirror and reflection device for solar thermal power generation
WO2013180202A1 (en) Functional film and method for producing functional film
WO2015122337A1 (en) Film mirror and reflection device for solar power generation
JP2016200781A (en) Light reflecting film, and light reflecting body and sunlight reflecting device having the same
JP2016009034A (en) Light reflection film
JP2016080948A (en) Light reflection film, light reflection body having the same, and solar light reflection device
JP2015090395A (en) Sunlight reflective film, and sunlight reflector and sunlight reflecting device having the same

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150529

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150529

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160524

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20170516