JP2016200781A - Light reflecting film, and light reflecting body and sunlight reflecting device having the same - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light reflecting film which has good initial light condensing efficiency, and has improved reduction in light condensing efficiency in outdoor environment with a lapse of time, occurrence of cracks and reduction in adhesiveness.SOLUTION: A light reflecting film has at least one resin base material, a hard coat layer, an ultraviolet absorbing layer and a light reflecting layer, has the hard coat layer, the ultraviolet absorbing layer and the light reflecting layer arranged in this order, and has an image clarity (DOI) value measured from the side opposite to the ultraviolet absorbing layer of the hard coat layer according to ASTM D5767-95(2012) of 97.0-100.0.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、光反射フィルムならびにこれを有する光反射体および太陽光反射装置に関する。より詳細には、本発明は、光反射フィルムの初期の集光効率を良好とし、かつ屋外環境下経時による集光効率の低下、クラックの発生、および密着性の低下を改善するための技術に関する。   The present invention relates to a light reflecting film, a light reflector having the light reflecting film, and a sunlight reflecting device. More specifically, the present invention relates to a technique for improving the initial light collection efficiency of a light reflecting film and improving the deterioration of light collection efficiency, cracking, and adhesion due to aging in an outdoor environment. .

近年、化石燃料の代替エネルギーとして、太陽光、風力、地熱などの自然エネルギーを利用した発電技術の開発が行われている。なかでも、太陽光は、安定性およびエネルギー量の豊富さから特に注目されている。   In recent years, power generation technologies using natural energy such as sunlight, wind power, and geothermal heat have been developed as alternative energy for fossil fuels. Among these, sunlight is particularly attracting attention because of its stability and abundant energy.

一方で、太陽光は、エネルギー密度が低く、エネルギーとしての貯蔵および移送が困難であるという性質を有する。そこで、現在、太陽光を電気エネルギーへと変換する技術(太陽熱発電、太陽電池)の研究・開発が盛んに行われている。   On the other hand, sunlight has a property that energy density is low and it is difficult to store and transfer energy. Therefore, research and development of technologies for converting sunlight into electric energy (solar thermal power generation, solar cells) are being actively conducted.

太陽熱発電は、太陽光を集光して熱源として利用する発電方式である。太陽熱発電は、太陽電池と比較して、蓄熱により昼夜を問わず発電が可能であることや、製造・保守のコストが低いという長所を有し、長期的視野で見れば、太陽電池よりも発電効率が高いと考えられている。そこで、年間を通して日照条件の良好な砂漠地帯に太陽熱発電施設を建設する計画が進められている。   Solar thermal power generation is a power generation method that collects sunlight and uses it as a heat source. Compared with solar cells, solar thermal power generation has the advantages of being able to generate electricity day and night by storing heat and the cost of manufacturing and maintenance being low. From a long-term perspective, solar power generation is more powerful than solar cells. It is considered highly efficient. Therefore, plans are underway to build solar power generation facilities in desert areas with good sunshine conditions throughout the year.

太陽熱発電では、太陽光を光反射体(鏡)により反射させて一か所に集光する集光装置(太陽光反射装置)が用いられる。当該光反射体は、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐などに晒されるため、耐久性の観点から、従来はガラス製光反射体が用いられてきた。しかしながら、ガラス製光反射体は、重い、体積が大きい、輸送時コストがかかる、設置が困難、破損しやすいなどの問題点を有していた。   In solar thermal power generation, a condensing device (sunlight reflecting device) that reflects sunlight by a light reflector (mirror) and condenses it in one place is used. Since the said light reflector is exposed to the ultraviolet-ray by sunlight, a heat | fever, a wind and rain, a sandstorm, etc., conventionally the glass-made light reflector has been used from a durable viewpoint. However, the glass light reflector has problems such as being heavy, large in volume, expensive in transportation, difficult to install, and easy to break.

上記問題を解決するために、銀などの金属反射層を光反射層として含む樹脂製光反射フィルムを、支持基材に貼付した光反射体が提案されている。たとえば、特許文献1には、樹脂製支持体上に、金属反射層と、特定構造のトリアジン系化合物を含有する紫外線吸収層とを、この順に有し、さらに最表面にハードコート層を有するフィルムミラーが開示されている。そして、かようなフィルムミラーによると、支持体と金属反射層との密着性、および耐候性を改善できる、としている。   In order to solve the above problem, a light reflector in which a resin light reflection film including a metal reflection layer of silver or the like as a light reflection layer is attached to a support substrate has been proposed. For example, Patent Document 1 discloses a film having a metal reflective layer and an ultraviolet absorbing layer containing a triazine compound having a specific structure in this order on a resin support, and further having a hard coat layer on the outermost surface. A mirror is disclosed. And according to such a film mirror, it is supposed that the adhesiveness of a support body and a metal reflective layer and a weather resistance can be improved.

特開2014−199330号公報JP 2014-199330 A

しかしながら、特許文献1に記載のフィルムミラーは、その紫外線吸収層が高い紫外線吸収効果を有するにもかかわらず、長時間の屋外使用において、集光効率の低下、表面の割れ、およびフィルム内での構成層の剥離が生じることが課題となっていた。   However, the film mirror described in Patent Document 1 has a low ultraviolet-ray absorption layer and has a high ultraviolet absorption effect. The problem is that peeling of the constituent layers occurs.

そこで、本発明は、初期の集光効率が良好であり、かつ屋外環境下経時による集光効率の低下、クラックの発生、および密着性の低下が改善された光反射フィルムを提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has an object to provide a light reflecting film that has good initial light collection efficiency and improved reduction in light collection efficiency, cracking, and adhesion due to aging in an outdoor environment. And

本発明の課題は、以下の構成により解決される。   The problems of the present invention are solved by the following configurations.

少なくとも1つの樹脂基材と、ハードコート層と、紫外線吸収層と、光反射層とを有し、前記ハードコート層と、前記紫外線吸収層と、前記光反射層とが、この順に配置され、且つASTM D5767−95(2012)に準拠した方法で、前記ハードコート層の前記紫外線吸収層とは反対の側から測定された写像性(DOI)値が97.0〜100.0である、光反射フィルム。   It has at least one resin base material, a hard coat layer, an ultraviolet absorption layer, and a light reflection layer, and the hard coat layer, the ultraviolet absorption layer, and the light reflection layer are arranged in this order, In addition, in a method according to ASTM D5767-95 (2012), the image clarity (DOI) value measured from the side opposite to the ultraviolet absorbing layer of the hard coat layer is 97.0 to 100.0. Reflective film.

本発明によれば、初期の集光効率が良好であり、屋外環境下経時による集光効率の低下、クラックの発生、および密着性の低下が改善された光反射フィルムが提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the initial condensing efficiency is favorable and the light reflection film with which the fall of the condensing efficiency by the passage of time in outdoor environment, the generation | occurrence | production of a crack, and the adhesive fall was improved is provided.

本発明の光反射フィルムの構成の好ましい実施形態の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of preferable embodiment of a structure of the light reflection film of this invention. 本発明の光反射フィルムの構成の他の好ましい実施形態の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of other preferable embodiment of the structure of the light reflection film of this invention.

以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態のみには限定されない。また、図面の寸法比率は、説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。   Embodiments of the present invention will be described below. In addition, this invention is not limited only to the following embodiment. In addition, the dimensional ratios in the drawings are exaggerated for convenience of explanation, and may be different from the actual ratios.

また、本明細書において、範囲を示す「X〜Y」は「X以上Y以下」を意味する。また、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温(20〜25℃)/相対湿度40〜50%の条件で測定する。   In this specification, “X to Y” indicating a range means “X or more and Y or less”. Unless otherwise specified, measurement of operation and physical properties is performed under conditions of room temperature (20 to 25 ° C.) / Relative humidity 40 to 50%.

さらに、本明細書において、化合物の具体名における表記「(メタ)アクリル」は「アクリル」および「メタクリル」を、「(メタ)アクリレート」は「アクリレート」および「メタクリレート」を表す。また、「アクリル樹脂」とは、アクリル酸エステルおよび/またはメタクリル酸エステルの(共)重合体を意味する。   Furthermore, in the present specification, the notation “(meth) acryl” in the specific names of the compounds represents “acryl” and “methacryl”, and “(meth) acrylate” represents “acrylate” and “methacrylate”. The term “acrylic resin” means a (co) polymer of acrylic acid ester and / or methacrylic acid ester.

<光反射フィルム>
本発明の一形態は、少なくとも1つの樹脂基材と、ハードコート層と、紫外線吸収層と、光反射層とを有し、前記ハードコート層と、前記紫外線吸収層と、前記光反射層とが、この順に配置され、且つASTM D5767−95(2012)に準拠した方法で、前記ハードコート層の前記紫外線吸収層とは反対の側から測定された写像性(DOI)値が97.0〜100.0である、光反射フィルムに関するものである。かような構成を有する本発明の一形態に係る光反射フィルムによれば、初期の集光効率が良好となる。また、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐などに晒される屋外環境下における経時による集光効率の低下、クラックの発生、および密着性の低下を抑制することができる。
<Light reflection film>
One embodiment of the present invention includes at least one resin base material, a hard coat layer, an ultraviolet absorption layer, and a light reflection layer, and the hard coat layer, the ultraviolet absorption layer, and the light reflection layer Are arranged in this order, and the image clarity (DOI) value measured from the side opposite to the ultraviolet absorbing layer of the hard coat layer is 97.0 in a method according to ASTM D5767-95 (2012). It is related with the light reflection film which is 100.0. According to the light reflecting film according to one embodiment of the present invention having such a configuration, the initial light collection efficiency is good. In addition, it is possible to suppress a decrease in light collection efficiency, generation of cracks, and a decrease in adhesiveness over time in an outdoor environment exposed to ultraviolet rays, heat, wind and rain, and sandstorms caused by sunlight.

ここで、本発明の一形態に係る光反射フィルムは、各構成部材(層および樹脂基材)の上、およびこれらの間の任意の位置に、別の構成部材が配置されたものであってもよいし、各構成部材が隣接していてもよい。   Here, the light reflecting film according to an aspect of the present invention is such that another constituent member is disposed on each constituent member (layer and resin base material) and at an arbitrary position between them. Alternatively, the constituent members may be adjacent to each other.

本発明者らは、鋭意検討の結果、上記の構成を有する光反射フィルムにおいて、ASTM D5767−95(2012)に準拠した方法で、ハードコート層の前記紫外線吸収層とは反対の側から測定された写像性(DOI)値を97.0〜100.0とすることで、初期の集光効率が良好となり、屋外環境下経時による集光効率の低下、クラックの発生、および密着性の低下を抑制することができることを見出した。   As a result of intensive studies, the inventors of the present invention have measured the light reflecting film having the above configuration from the side opposite to the ultraviolet absorbing layer of the hard coat layer by a method based on ASTM D5767-95 (2012). By setting the image clarity (DOI) value to 97.0 to 100.0, the initial light collection efficiency is improved, reducing the light collection efficiency over time in the outdoor environment, generating cracks, and reducing the adhesion. It was found that it can be suppressed.

本発明者らは、本発明の構成とすることにより、上記課題が解決されうるメカニズムを以下のように推定している。   The present inventors presume the mechanism by which the above-described problems can be solved by adopting the configuration of the present invention as follows.

従来の光反射フィルムにおいても、原子間力顕微鏡(AFM)等を用いて測定される、光反射層等各構成層および基材の微細な表面粗さが主に議論されてきた。かような表面粗さは、数nm〜数十nmのオーダーである。しかしながら、かような表面粗さについては、光反射フィルムの耐候性、特に屋外環境下経時による集光効率の低下、クラックの発生、および密着性の低下の程度との明確な相関が確認されていなかった。   Also in the conventional light reflecting film, the fine surface roughness of each constituent layer such as the light reflecting layer and the substrate, which is measured using an atomic force microscope (AFM), has been mainly discussed. Such surface roughness is on the order of several nanometers to several tens of nanometers. However, such surface roughness has been confirmed to have a clear correlation with the weather resistance of the light-reflecting film, particularly with the degree of light collection efficiency, cracking, and adhesiveness deterioration over time in the outdoor environment. There wasn't.

しかしながら、フィルムの面上には、膜厚のうねり等、微細な表面粗さとしては表せない、より大きなオーダーの膜面の凹凸も含まれる。かような膜面の凹凸は、意図せぬフィルムの変形に起因するため、その頻度および程度とフィルム内の残留応力の大きさは関連性がある。光反射フィルムを、屋外環境のような、高温および/または高湿環境下で経時させたときに、かような残留応力によって光反射フィルムの変形が進む。そして、かような変形によって、屋外環境下経時による集光効率が低下する。また、かような変形は、クラック発生、およびフィルム内での構成層の剥離の原因となる。   However, the film surface includes irregularities on the film surface of a larger order that cannot be expressed as fine surface roughness, such as waviness of the film thickness. Since the unevenness of the film surface is caused by unintended deformation of the film, the frequency and degree thereof and the magnitude of the residual stress in the film are related. When the light reflecting film is aged in a high temperature and / or high humidity environment such as an outdoor environment, the deformation of the light reflecting film proceeds due to such residual stress. And, due to such deformation, the light collection efficiency over time in the outdoor environment decreases. Such deformation also causes cracking and peeling of the constituent layers within the film.

また、写像性は、物体像の鮮明度を表すことから、写像性はフィルムの面状と関連する。そして、数nm〜数十nmのオーダーの表面粗さは、写像性への影響は小さいが、よりオーダーの大きい膜面の凹凸は、写像性への影響が大きい。ここで、写像性(DOI)値は100.0に近いほど、膜面の凹凸の頻度は低く、膜面の凹凸の程度も小さくなる。これより、写像性(DOI)値の値が100.0に近いほど、光反射フィルム、特に光反射層が均一な面状を有することとなるため、初期の集光効率が高くなる。また、写像性(DOI)値が100.0に近いほど、フィルム内の残留応力も小さくなるため、屋外環境下経時において残留応力に起因して発生する光反射フィルムの変形も小さくなり、集光効率が低下、クラックの発生、および密着性の低下が抑制される。   Further, since the image clarity represents the sharpness of the object image, the image clarity is related to the surface shape of the film. The surface roughness on the order of several nanometers to several tens of nanometers has little influence on the image clarity, but the unevenness of the film surface having a larger order has a great influence on the image clarity. Here, the closer the image clarity (DOI) value is to 100.0, the lower the frequency of irregularities on the film surface and the smaller the irregularities on the film surface. Accordingly, as the value of the image clarity (DOI) value is closer to 100.0, the light reflecting film, in particular, the light reflecting layer has a uniform surface shape, so that the initial light collection efficiency is increased. In addition, the closer the image clarity (DOI) value is to 100.0, the smaller the residual stress in the film. Therefore, the deformation of the light reflecting film caused by the residual stress over time in the outdoor environment is also reduced, and the light is condensed. Efficiency is reduced, cracks are generated, and adhesion is suppressed.

なお、上記メカニズムは推測に基づくものであり、その正誤が本発明の技術的範囲に影響を及ぼすものではない。   Note that the above mechanism is based on speculation, and its correctness does not affect the technical scope of the present invention.

以下、本形態の光反射フィルム全体の構成について、図面を参照しながら説明する。なお、図面の寸法比率は説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。   Hereinafter, the structure of the whole light reflection film of this form is demonstrated, referring drawings. In addition, the dimension ratio of drawing is exaggerated on account of description, and may differ from an actual ratio.

図1は、本発明の好ましい一実施形態に係る光反射フィルムを表す概略断面図である。図1の光反射フィルム10は、ハードコート層11、紫外線吸収層12、樹脂基材14、アンカー層16、光反射層13、腐食防止層17、接着層15、および樹脂基材18がこの順で積層されてなる。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a light reflecting film according to a preferred embodiment of the present invention. 1 includes a hard coat layer 11, an ultraviolet absorbing layer 12, a resin base material 14, an anchor layer 16, a light reflection layer 13, a corrosion prevention layer 17, an adhesive layer 15, and a resin base material 18 in this order. Is laminated.

図2は、本発明の光反射フィルムの構成の他の好ましい実施形態の一例を示す概略断面図である。光反射フィルム10は、ハードコート層11、紫外線吸収層12、腐食防止層17、光反射層13、アンカー層16および樹脂基材14がこの順で積層されてなる。   FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of another preferred embodiment of the configuration of the light reflecting film of the present invention. The light reflecting film 10 is formed by laminating a hard coat layer 11, an ultraviolet absorbing layer 12, a corrosion preventing layer 17, a light reflecting layer 13, an anchor layer 16 and a resin base material 14 in this order.

図1および図2において、ハードコート層11、紫外線吸収層12、光反射層13および樹脂基材14または18のいずれか一方は本発明における必須の構成部材である。また、他の層は任意に有することができる構成部材である。   1 and 2, any one of the hard coat layer 11, the ultraviolet absorbing layer 12, the light reflecting layer 13, and the resin base material 14 or 18 is an essential constituent member in the present invention. Further, the other layers are constituent members that can optionally be included.

ここで、本発明の一形態に係る光反射フィルムは、各構成部材(層および樹脂基材)の上、およびこれらの間の任意の位置に、他の構成部材が配置されたものであってもよいし、各構成部材が隣接していてもよい。   Here, the light reflecting film according to an embodiment of the present invention is such that other constituent members are arranged on each constituent member (layer and resin base material) and at any position between them. Alternatively, the constituent members may be adjacent to each other.

これらの各構成部材については、構成部材ごとに詳細な説明を後述する。   About these each structural member, detailed description is mentioned later for every structural member.

光反射フィルムの写像性(DOI)値は、97.0〜100.0である。写像性(DOI)値が97.0未満であると、光反射フィルムの初期の集光効率が低くなり、また屋外環境下経時による集光効率の低下が大きくなる。さらに、光反射フィルムにおいて、屋外環境下経時による、クラックの発生頻度が高く、フィルム内の構成層の剥離発生頻度が高くなる。光反射フィルムの写像性(DOI)値は、同様の観点から、97.2〜100.0であることが好ましく、97.4〜100.0であることがより好ましく、97.5〜100.0であることがさらに好ましい。   The image clarity (DOI) value of the light reflecting film is 97.0 to 100.0. When the image clarity (DOI) value is less than 97.0, the initial light collection efficiency of the light reflecting film is lowered, and the reduction of the light collection efficiency with the passage of time in the outdoor environment is increased. Furthermore, in the light reflecting film, the occurrence frequency of cracks with the passage of time in the outdoor environment is high, and the occurrence frequency of peeling of the constituent layers in the film is increased. From the same viewpoint, the image reflectivity (DOI) value of the light reflecting film is preferably 97.2 to 100.0, more preferably 97.4 to 100.0, and 97.5 to 100. More preferably, it is 0.

光反射フィルムの写像性(DOI)値は、ASTM D5767−95(2012)に準拠した方法で測定することができる。光反射フィルムの写像性(DOI)値は、光反射フィルムのハードコート層の紫外線吸収層とは反対の側から測定した値を用いる。ここで、ハードコート層の紫外線吸収層とは反対の側とは、ハードコート層、紫外線吸収層および光反射層がこの順に配置されているとき、ハードコート層の紫外線吸収層が存在する側とは反対側を表す。光反射フィルムの写像性(DOI)値としては、RHOPOINT社製RHOPOINT IQを用いて測定した値を採用するものとする。   The image clarity (DOI) value of the light reflecting film can be measured by a method based on ASTM D5767-95 (2012). As the image clarity (DOI) value of the light reflecting film, a value measured from the side opposite to the ultraviolet absorbing layer of the hard coat layer of the light reflecting film is used. Here, the side of the hard coat layer opposite to the ultraviolet absorbing layer is the side where the ultraviolet absorbing layer of the hard coat layer exists when the hard coat layer, the ultraviolet absorbing layer, and the light reflecting layer are arranged in this order. Represents the opposite side. As the image clarity (DOI) value of the light reflection film, a value measured using RHOPOINT IQ manufactured by RHOPOINT is adopted.

写像性(DOI)値は、基材の膜厚、各層の膜厚、各層を形成するための材料の種類や比率、光反射フィルムの構成、各構成層を形成するための塗布条件、乾燥条件、光反射フィルム巻き取り時における巻き取り張力等によって制御することができる。ここで、フィルムの構成に関しては、たとえば、紫外線吸収層の厚みを薄くすること、または接着層の厚みを薄くすることなどによって、写像性(DOI)値を小さくすることができる。また、フィルムの製造条件に関しては、たとえば、光反射フィルムの巻取り時における巻き取り張力を小さくすることなどで、写像性(DOI)値を小さくすることができる。また、光反射層の表面上に直接形成される層を塗布による方法を用いて作製する場合は、たとえば、塗布後の乾燥温度を高くすることで、写像性(DOI)値を小さくすることができる。   The image clarity (DOI) value is the thickness of the base material, the thickness of each layer, the type and ratio of materials for forming each layer, the configuration of the light reflecting film, the coating conditions for forming each constituent layer, and the drying conditions. It can be controlled by the winding tension at the time of winding the light reflecting film. Here, with regard to the configuration of the film, for example, the image clarity (DOI) value can be reduced by reducing the thickness of the ultraviolet absorbing layer or reducing the thickness of the adhesive layer. Regarding film production conditions, the image clarity (DOI) value can be reduced, for example, by reducing the winding tension during winding of the light reflecting film. In addition, when a layer directly formed on the surface of the light reflecting layer is produced using a method by coating, for example, by increasing the drying temperature after coating, the image clarity (DOI) value can be decreased. it can.

本発明の光反射フィルム全体の厚さは、特に制限されないが、撓み防止、正反射率、取り扱い性等の観点から20〜300μmが好ましく、より好ましくは30〜200μm、さらに好ましくは50〜170μmである。   The total thickness of the light reflecting film of the present invention is not particularly limited, but is preferably 20 to 300 μm, more preferably 30 to 200 μm, and still more preferably 50 to 170 μm from the viewpoints of prevention of bending, regular reflectance, handling properties, and the like. is there.

以下、光反射フィルムの各構成要素について、詳細に説明する。   Hereinafter, each component of the light reflecting film will be described in detail.

[ハードコート層]
本形態の光反射フィルムは、ハードコート層を必須に含む。なお、ハードコート層は、光入射側の最表層として配置されることが好ましい。
[Hard coat layer]
The light reflecting film of this embodiment essentially includes a hard coat layer. The hard coat layer is preferably disposed as the outermost layer on the light incident side.

本明細書において「ハードコート層」とは、JIS K 5600−5−4:1999(ISO/DIS 15184:1996)に準じた鉛筆硬度がH以上の層を意味する。ハードコート層は、光反射フィルムの耐擦過性を高めるための表面保護層として機能する。   In the present specification, the “hard coat layer” means a layer having a pencil hardness of H or more according to JIS K 5600-5-4: 1999 (ISO / DIS 15184: 1996). The hard coat layer functions as a surface protective layer for enhancing the scratch resistance of the light reflecting film.

本発明に係るハードコート層を構成するハードコート材料としては、ポリシロキサンに代表される無機系材料、紫外線硬化型樹脂等を使用することができる。   As a hard coat material constituting the hard coat layer according to the present invention, an inorganic material typified by polysiloxane, an ultraviolet curable resin, or the like can be used.

ポリシロキサン系ハードコート材料
本形態に係るハードコート層の形成に適用可能なポリシロキサン系ハードコート材料は、たとえば、下記一般式(1)で表される化合物を出発原料とすることができる。
Polysiloxane Hard Coat Material The polysiloxane hard coat material applicable to the formation of the hard coat layer according to the present embodiment can use, for example, a compound represented by the following general formula (1) as a starting material.

一般式(1)
(R)Si(OR
上記一般式(1)において、R及びRは、各々炭素数1〜10のアルキル基を表し、m及びnは、m+n=4の関係を満たす整数である。
General formula (1)
(R) m Si (OR 1 ) n
In the general formula (1), R and R 1 each represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and m and n are integers satisfying a relationship of m + n = 4.

具体的な化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−ポロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テロラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。また、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、N−β−(N−アミノベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、オクタデシルジメチル[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウムクロライドを挙げることができる。これらのメトキシ基、エトキシ基などの加水分解性基がヒドロキシ基に置換した状態のものが、一般的にポリオルガノシロキサン系ハードコート材料といわれている。   Specific compounds include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-popropoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, tera Pentaethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-propoxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyl Tributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethylpropoxysilane, dimethylbutoxy Emissions, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, hexyl trimethoxysilane. In addition, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, N-β- ( N-aminobenzylaminoethyl) -γ-aminopropylmethoxysilane / hydrochloride, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, aminosilane, methylmethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-chloro Mention may be made of propyltrilimethoxysilane, hexamethyldisilazane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, octadecyldimethyl [3- (trimethoxysilyl) propyl] ammonium chloride. Those having a hydrolyzable group such as methoxy group or ethoxy group substituted with a hydroxy group are generally referred to as polyorganosiloxane hard coat materials.

前記ポリオルガノシロキサン系ハードコート材料の具体的には、サ―コート(商標)B16N等のサーコートシリーズ(株式会社動研製)、SR2441(東レ・ダウコーニング株式会社製)、Perma‐New 6000(California Hardcoating Company)などを利用することができる。   Specific examples of the polyorganosiloxane-based hard coat material include Sarkote (trademark) B16N and other Sarkote series (manufactured by Doken Co., Ltd.), SR2441 (manufactured by Dow Corning Toray), Perma-New 6000 (California Hardcoating). Company) can be used.

また、本形態に係るハードコート層で使用される硬化樹脂としては、熱硬化型樹脂や紫外線硬化型樹脂等も挙げられるが、成形が容易なことから、紫外線硬化型樹脂が好ましく、その中でも鉛筆硬度が少なくとも2Hのものがより好ましい。このような硬化型樹脂は、単独でも又は2種以上組み合わせても用いることができる。   In addition, examples of the curable resin used in the hard coat layer according to this embodiment include a thermosetting resin and an ultraviolet curable resin, but an ultraviolet curable resin is preferable because of easy molding, and among them, a pencil More preferred is a hardness of at least 2H. Such curable resins can be used singly or in combination of two or more.

活性エネルギー線硬化樹脂ハードコート材料
ハードコート材料として、活性エネルギー線硬化樹脂を使用することも好ましい。活性エネルギー線樹脂とは、紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいう。活性エネルギー線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて活性エネルギー線硬化樹脂層が形成される。活性エネルギー線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が好ましい。
Active energy ray curable resin hard coat material It is also preferable to use an active energy ray curable resin as the hard coat material. The active energy ray resin refers to a resin that is cured through a crosslinking reaction or the like by irradiation with active rays such as ultraviolet rays or electron beams. As the active energy ray curable resin, a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used, and the active energy ray curable resin layer is cured by irradiation with an active ray such as an ultraviolet ray or an electron beam. It is formed. Typical examples of the active energy ray curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, and a resin curable by ultraviolet irradiation is preferable.

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物にさらに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭59−151110号公報に記載の、ユニディック(登録商標)17−806(DIC株式会社製)100部とコロネート(登録商標)L(日本ポリウレタン工業株式会社製)1部との混合物等が好ましく用いられる。紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシル基に2−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなモノマーを反応させることによって容易に得ることができる(例えば、特開昭59−151112号公報)。紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂としては、エチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。   As the ultraviolet curable resin, for example, an ultraviolet curable urethane acrylate resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, or an ultraviolet curable epoxy resin is preferable. Used. The UV curable acrylic urethane resin generally includes 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylate) in addition to a product obtained by reacting a polyester polyol with an isocyanate monomer or a prepolymer. It can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate. For example, as described in JP-A-59-151110, 100 parts of Unidic (registered trademark) 17-806 (manufactured by DIC Corporation) and 1 part of Coronate (registered trademark) L (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) A mixture or the like is preferably used. The UV curable polyester acrylate resin can be easily obtained by reacting a monomer such as 2-hydroxyethyl acrylate, glycidyl acrylate or acrylic acid with a hydroxyl group or carboxyl group at the end of the polyester (see, for example, JP-A No. 59-151112). The ultraviolet curable epoxy acrylate resin is obtained by reacting a terminal hydroxyl group of an epoxy resin with a monomer such as acrylic acid, acrylic acid chloride, or glycidyl acrylate. Examples of ultraviolet curable polyol acrylate resins include ethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and dipenta. Examples include erythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate.

本形態では、ハードコート層の収縮応力が小さいことが好ましい。ハードコートの収縮応力はモノマーの構造により変化し、特に架橋する官能基数、架橋しない官能基数、分子量に依存する。   In this embodiment, it is preferable that the shrinkage stress of the hard coat layer is small. The shrinkage stress of the hard coat varies depending on the structure of the monomer, and particularly depends on the number of functional groups to be crosslinked, the number of functional groups not to be crosslinked, and the molecular weight.

また、太陽光暴露状況下においても収縮を促進しないことが好ましい。そのために、ハードコート内に紫外線吸収剤や酸化防止剤を含有することが好ましい。紫外線吸収剤や酸化防止剤としては、後述の紫外線吸収層で用いられる紫外線吸収剤や酸化防止剤を用いることができる。酸化防止剤と光安定剤を併用してもよい。ここで、酸化防止剤および併用する場合には光安定剤は、特に制限されないが、後述の紫外線吸収層の項で記載されたものと同様のものが使用できるため、ここでは説明を省略する。ただし、ハードコート性の観点からは、紫外線吸収剤の添加量は少ない方が好ましい。これより、ハードコート層に紫外線吸収剤が含まれている場合であっても、紫外線吸収層は別途必要となる。   Moreover, it is preferable not to promote shrinkage even under sunlight exposure conditions. Therefore, it is preferable to contain a UV absorber or an antioxidant in the hard coat. As the ultraviolet absorber and the antioxidant, an ultraviolet absorber and an antioxidant used in an ultraviolet absorbing layer described later can be used. An antioxidant and a light stabilizer may be used in combination. Here, when the antioxidant and the light stabilizer are used in combination, the light stabilizer is not particularly limited. However, since the same light stabilizer as described in the section of the ultraviolet absorbing layer described later can be used, description thereof is omitted here. However, from the viewpoint of hard coat properties, it is preferable that the addition amount of the ultraviolet absorber is small. As a result, even if the hard coat layer contains an ultraviolet absorber, the ultraviolet absorbing layer is required separately.

ハードコート層は柔軟性、平面性を付与するためには薄膜であることが好ましい。具体的に、ハードコート層の厚さは0.1〜50μmの範囲内が好ましく、1〜20μmの範囲内がより好ましい。0.1μm以上であればハードコート性が向上する傾向にあり、逆に50μm以下であれば光反射フィルムの透明性が向上する傾向にある。   The hard coat layer is preferably a thin film in order to impart flexibility and flatness. Specifically, the thickness of the hard coat layer is preferably in the range of 0.1 to 50 μm, and more preferably in the range of 1 to 20 μm. If it is 0.1 μm or more, the hard coat property tends to be improved, and conversely, if it is 50 μm or less, the transparency of the light reflecting film tends to be improved.

また、ハードコート層は無機微粒子を含有することが好ましい。好ましい無機微粒子としては、チタン、シリカ、ジルコニウム、アルミニウム、マグネシウム、アンチモン、亜鉛又はスズなどの金属を含む無機化合物の微粒子が挙げられる。この無機微粒子の平均粒径は、可視光線の透過性を確保することから、1000nm以下が好ましく、10〜500nmの範囲にあるものがより好ましい。また、無機微粒子は、ハードコート層を形成する硬化樹脂との結合カが高い方がハードコート層からの脱落を抑制できることから、単官能又は多官能のアクリレートなどの光重合反応性を有する感光性基を表面に導入しているものが好ましい。   The hard coat layer preferably contains inorganic fine particles. Preferred inorganic fine particles include fine particles of an inorganic compound containing a metal such as titanium, silica, zirconium, aluminum, magnesium, antimony, zinc or tin. The average particle size of the inorganic fine particles is preferably 1000 nm or less, and more preferably in the range of 10 to 500 nm, in order to ensure visible light transmittance. In addition, the inorganic fine particles have higher photopolymerization reactivity such as monofunctional or polyfunctional acrylates because the higher the bond strength with the cured resin that forms the hard coat layer, the more the falling off from the hard coat layer can be suppressed. Those having a group introduced on the surface are preferred.

また、ハードコートに染料や顔料を添加して色相を調整することができる。   Further, the hue can be adjusted by adding a dye or a pigment to the hard coat.

光反射フィルムの最表層としてハードコート層を有する場合、ハードコート層の中心線平均粗さ(Ra)が、3nm以上20nm以下であることが、反射光の散乱を防止でき集光効率を高めるという観点から好ましい。   When the hard coat layer is provided as the outermost layer of the light reflecting film, the center line average roughness (Ra) of the hard coat layer is 3 nm or more and 20 nm or less, so that scattering of reflected light can be prevented and light collection efficiency is improved. It is preferable from the viewpoint.

ハードコートの形成方法としては、特に制限されないが、ハードコート層を構成する材料を含むハードコート層用塗布液を塗布することで形成することができる。また、ハードコートの形成方法としては、蒸着などの乾式製膜法でも形成することができる。塗布による方法の一例としては、ハードコート層を構成する材料を適当な溶媒に溶解または懸濁させ、塗布液を調製する。次いで、塗布液を所定の塗布方式で塗布し、塗膜を形成する。塗膜を塗設する場合には、従来用いられる種々の塗布方法、たとえば、スプレーコート法、スピンコート法、バーコート法、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。   A method for forming the hard coat is not particularly limited, but the hard coat can be formed by applying a hard coat layer coating solution containing a material constituting the hard coat layer. Moreover, as a formation method of a hard coat, it can also form by dry film forming methods, such as vapor deposition. As an example of the method by coating, a material constituting the hard coat layer is dissolved or suspended in an appropriate solvent to prepare a coating solution. Next, the coating solution is applied by a predetermined coating method to form a coating film. When coating a coating film, various conventionally used coating methods such as spray coating method, spin coating method, bar coating method, gravure coating method, reverse coating method, die coating method and the like are conventionally known coating methods. Can be used.

溶媒としては、水、または従来公知の有機溶媒が使用でき、特に制限されないが、たとえばメタノール、エタノール、1−プロパノール、イソプロピルアルコール等のアルコール;ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、n−ヘキサン等の芳香族または脂肪族炭化水素;酢酸メチル、酢酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等のエステル化合物;アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン等のケトン化合物;テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル化合物等を適宜用いることができる。なお、上記溶剤は、1種単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。   As the solvent, water or a conventionally known organic solvent can be used, and is not particularly limited. For example, alcohol such as methanol, ethanol, 1-propanol and isopropyl alcohol; aroma such as benzene, toluene, xylene, cyclohexane and n-hexane Aliphatic or aliphatic hydrocarbons; ester compounds such as methyl acetate, ethyl acetate, methyl acetoacetate and ethyl acetoacetate; ketone compounds such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK) and methyl isobutyl ketone; cyclic ether compounds such as tetrahydrofuran and dioxane, etc. It can be used as appropriate. In addition, the said solvent may be used individually by 1 type, and may be used together 2 or more types.

ハードコート層を構成する材料の固形分濃度は、ハードコート層溶液の総質量に対して、好ましくは10〜50質量%、より好ましくは15〜45質量%、さらに好ましくは20〜40質量%である。   The solid content concentration of the material constituting the hard coat layer is preferably 10 to 50% by mass, more preferably 15 to 45% by mass, and further preferably 20 to 40% by mass with respect to the total mass of the hard coat layer solution. is there.

塗布後の乾燥温度としては、特に制限されないが、好ましくは70〜140℃であり、より好ましくは70〜110℃であり、さらに好ましくは80〜100℃である。また、乾燥時間は好ましくは0.5〜3分であり、より好ましくは0.5〜2.5分であり、さらに好ましくは0.5〜2.0分である。   Although it does not restrict | limit especially as a drying temperature after application | coating, Preferably it is 70-140 degreeC, More preferably, it is 70-110 degreeC, More preferably, it is 80-100 degreeC. The drying time is preferably 0.5 to 3 minutes, more preferably 0.5 to 2.5 minutes, and further preferably 0.5 to 2.0 minutes.

また、ポリシロキサン系ハードコート材料の場合、塗布後、溶剤を乾燥させた後、該ハードコートの硬化・架橋を促進するため、50〜150℃の温度範囲内で30分〜数日間加熱硬化をすることが好ましい。加熱硬化の温度は、好ましくは70〜140℃であり、より好ましくは70〜110℃であり、さらに好ましくは80〜100℃である。また、加熱硬化の時間は、好ましくは90〜180分であり、より好ましくは100〜150分であり、さらに好ましくは100〜140分である。ただし、この場合、光反射フィルムを形成する樹脂基材や他の層の熱変形温度以下での乾燥温度および硬化温度の設定が前提となる。   In the case of a polysiloxane hard coat material, after application, after drying the solvent, in order to promote curing and crosslinking of the hard coat, heat curing is carried out within a temperature range of 50 to 150 ° C. for 30 minutes to several days. It is preferable to do. The temperature for heat curing is preferably 70 to 140 ° C, more preferably 70 to 110 ° C, and further preferably 80 to 100 ° C. Moreover, the time of heat curing becomes like this. Preferably it is 90 to 180 minutes, More preferably, it is 100 to 150 minutes, More preferably, it is 100 to 140 minutes. However, in this case, the setting of the drying temperature and the curing temperature below the heat deformation temperature of the resin base material and other layers forming the light reflecting film is a prerequisite.

[紫外線吸収層]
本形態の光反射フィルムは、紫外線吸収層を必須に含む。紫外線吸収層は、光透過性を有する樹脂材料、および紫外線吸収剤を含有する層であることが好ましい。光透過性を有する樹脂材料が好ましく用いられる理由は、太陽光の反射は光反射層で行うため、その上に位置する紫外線吸収層は、太陽光を透過する成分であることが必要であるためである。
[UV absorbing layer]
The light reflecting film of this embodiment essentially includes an ultraviolet absorbing layer. The ultraviolet absorbing layer is preferably a layer containing a light-transmissive resin material and an ultraviolet absorber. The reason why a resin material having light transmittance is preferably used is that the reflection of sunlight is performed by the light reflection layer, and therefore the ultraviolet absorption layer positioned on the light reflection layer needs to be a component that transmits sunlight. It is.

紫外線吸収層中の光透過性を有する樹脂材料の含有量は、層の総質量に対して50質量%超過99.9質量%以下であることが好ましく、80質量%以上99.9質量%以下であることがより好ましく、85質量%以上99質量%以下であることがさらに好ましく、90質量%以上97質量%以下であることが特に好ましい。また、紫外線吸収層上にはハードコート層等の他の層が設けられる場合があるため、光透過性を有する樹脂材料が、その際に密着性を向上させる役割も有していることが好ましい。   The content of the light-transmitting resin material in the ultraviolet absorbing layer is preferably more than 50 mass% and 99.9 mass% or less, and 80 mass% or more and 99.9 mass% or less with respect to the total mass of the layer. It is more preferable that it is 85 mass% or more and 99 mass% or less, and it is especially preferable that it is 90 mass% or more and 97 mass% or less. In addition, since other layers such as a hard coat layer may be provided on the ultraviolet absorbing layer, it is preferable that the resin material having optical transparency also has a role of improving adhesion at that time. .

紫外線吸収層に用いる樹脂材料には特に制限はないが、薄膜を形成した際に透明性を維持しうる、従来公知の種々の合成樹脂を用いることができる。たとえば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、及びセルロースジアセテート、セルローストリアセテート(TAC)、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート(CAP)、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類又はそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリスルホン類、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のアクリル樹脂、ポリアリレート類、アートン(登録商標)(商品名JSR株式会社製)或いはアペル(登録商標)(商品名三井化学株式会社製)といったシクロオレフィン系樹脂等を挙げることができる。   Although there is no restriction | limiting in particular in the resin material used for an ultraviolet absorption layer, Various conventionally well-known synthetic resins which can maintain transparency when forming a thin film can be used. For example, polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene, polypropylene, cellophane, and cellulose diacetate, cellulose triacetate (TAC), cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate (CAP), cellulose Cellulose esters such as acetate phthalate and cellulose nitrate or their derivatives, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate, norbornene resin, polymethylpentene, polyether ketone, polyimide, polyether sulfone (PES), polysulfones, polyether ketone imide, polyamide, fluorine Cycloolefin such as resin, nylon, acrylic resin such as polymethyl methacrylate (PMMA), polyarylate, Arton (registered trademark) (trade name, manufactured by JSR Corporation) or Apel (registered trademark) (trade name, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) Based resins and the like.

透光性樹脂として、上記例示した樹脂材料の中では、アクリル樹脂を好適に用いることができる。また、アクリル樹脂は、メタクリル樹脂を主成分としていることが好ましい。メタクリル樹脂は、メタクリル酸エステルを主体とする重合体であり、メタクリル酸エステルの単独重合体であってもよいし、メタクリル酸エステル50質量%以上とこれ以外の単量体50質量%以下との共重合体であってもよい。ここで、メタクリル酸エステルとしては、たとえば、メタクリル酸のアルキルエステルを用いることができる。特に好ましく用いられるメタクリル樹脂は、ポリメチルメタクリレート(PMMA)である。   Among the resin materials exemplified above, an acrylic resin can be suitably used as the translucent resin. The acrylic resin preferably contains a methacrylic resin as a main component. The methacrylic resin is a polymer mainly composed of a methacrylic acid ester, and may be a homopolymer of a methacrylic acid ester. The methacrylic acid ester is 50% by mass or more and the other monomer is 50% by mass or less. A copolymer may also be used. Here, as the methacrylic acid ester, for example, an alkyl ester of methacrylic acid can be used. A particularly preferred methacrylic resin is polymethyl methacrylate (PMMA).

メタクリル樹脂の好ましい単量体組成は、全単量体を基準として、メタクリル酸エステルが50〜100質量%、アクリル酸エステルが0〜50質量%、これら以外の単量体が0〜49質量%であり、より好ましくは、メタクリル酸エステルが50〜99.9質量%、アクリル酸エステルが0〜50質量%である。本発明に特に好ましい組み合わせとしては、メタクリル酸エステルが75〜98質量%、アクリル酸エステルが0〜10質量%である。   A preferable monomer composition of the methacrylic resin is 50 to 100% by mass of methacrylic acid ester, 0 to 50% by mass of acrylic acid ester, and 0 to 49% by mass of other monomers based on all monomers. More preferably, the methacrylic acid ester is 50 to 99.9% by mass, and the acrylic acid ester is 0 to 50% by mass. A particularly preferred combination for the present invention is 75 to 98% by mass of methacrylic acid ester and 0 to 10% by mass of acrylic acid ester.

メタクリル酸アルキルの例としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレートなどが挙げられ、そのアルキル基の炭素数は好ましくは1〜8、より好ましくは1〜4である。中でもメチルメタクリレートが好ましく用いられる。市販品として、EMB457等のEMBシリーズ(三菱レイヨン株式会社製 アクリル樹脂)、SRB215(旭化成ケミカルズ株式会社製 アクリルゴム)、デルペット(登録商標)(旭化成ケミカルズ株式会社製 アクリル樹脂)等を使用してもよい。   Examples of the alkyl methacrylate include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate and the like, and the carbon number of the alkyl group is preferably 1-8, more preferably 1-4. Of these, methyl methacrylate is preferably used. EMB series such as EMB457 (Mitsubishi Rayon Co., Ltd. acrylic resin), SRB215 (Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd. acrylic rubber), Delpet (registered trademark) (Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd. acrylic resin) etc. are used as commercial products. Also good.

また、アクリル酸アルキルの例としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレートなどが挙げられ、そのアルキル基の炭素数は好ましくは1〜8、より好ましくは1〜4である。   Examples of the alkyl acrylate include methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and the like. The alkyl group preferably has 1 to 8 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms.

また、メタクリル酸アルキル及びアクリル酸アルキル以外の単量体を有してもよい。メタクリル酸アルキル及びアクリル酸アルキル以外の単量体は、単官能単量体、すなわち分子内に重合性の官能基を1個有する化合物であってもよいし、多官能単量体、すなわち分子内に重合性の官能基を少なくとも2個有する化合物であってもよい。単官能単量体の例としては、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンの如き芳香族アルケニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリルの如きアルケニルシアン化合物などが挙げられる。また、多官能単量体の例としては、エチレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレートの如き多価アルコールのポリ不飽和カルボン酸エステル、アクリル酸アリル、メタクリル酸アリル、ケイ皮酸アリルの如き不飽和カルボン酸のアルケニルエステル、フタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル、トリアリルシアヌレートの如き多塩基酸のポリアルケニルエステル、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート等のジイソシアネート類、ジビニルベンゼンの如き芳香族ポリアルケニル化合物などが挙げられる。上記のメタクリル酸アルキル、アクリル酸アルキル、及びこれら以外の単量体は、それぞれ、必要に応じてそれらの2種以上を用いてもよい。上記のうち、好ましくは、ジイソシアネート類であり、より好ましくは1,6−ヘキサメチレンジイソシアネートである。   Moreover, you may have monomers other than alkyl methacrylate and alkyl acrylate. The monomer other than alkyl methacrylate and alkyl acrylate may be a monofunctional monomer, that is, a compound having one polymerizable functional group in the molecule, or a polyfunctional monomer, that is, an intramolecular molecule. A compound having at least two polymerizable functional groups may be used. Examples of the monofunctional monomer include aromatic alkenyl compounds such as styrene, α-methylstyrene, and vinyl toluene, and alkenyl cyan compounds such as acrylonitrile and methacrylonitrile. Examples of polyfunctional monomers include polyunsaturated carboxylic acid esters of polyhydric alcohols such as ethylene glycol dimethacrylate, butanediol dimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, allyl acrylate, allyl methacrylate, and cinnamon. Alkenyl esters of unsaturated carboxylic acids such as allyl acid, polyalkenyl esters of polybasic acids such as diallyl phthalate, diallyl maleate and triallyl cyanurate, diisocyanates such as 1,6-hexamethylene diisocyanate, and divinylbenzene Examples include aromatic polyalkenyl compounds. As for said alkyl methacrylate, alkyl acrylate, and monomers other than these, respectively, you may use those 2 or more types as needed. Among the above, diisocyanates are preferable, and 1,6-hexamethylene diisocyanate is more preferable.

メタクリル樹脂は、フィルムの耐熱性の点から、そのガラス転移温度が40℃以上であることが好ましく、60℃以上であることがより好ましい。このガラス転移温度は、単量体の種類やその割合を調整することにより、適宜設定することができる。   The methacrylic resin preferably has a glass transition temperature of 40 ° C. or higher, more preferably 60 ° C. or higher, from the viewpoint of heat resistance of the film. This glass transition temperature can be appropriately set by adjusting the type of monomer and the ratio thereof.

メタクリル樹脂は、その単量体成分を、懸濁重合、乳化重合、塊状重合などの方法により重合させることにより調製することができる。その際、好適なガラス転移温度を得るため、又は好適なフィルムへの成形性を示す粘度を得るため、重合時に連鎖移動剤を使用することが好ましい。連鎖移動剤の量は、単量体の種類やその割合などに応じて、適宜決定すればよい。   The methacrylic resin can be prepared by polymerizing the monomer component by a method such as suspension polymerization, emulsion polymerization or bulk polymerization. At that time, in order to obtain a suitable glass transition temperature or to obtain a viscosity showing a formability to a suitable film, it is preferable to use a chain transfer agent during the polymerization. The amount of the chain transfer agent may be appropriately determined according to the type of monomer and the ratio thereof.

(紫外線吸収剤)
紫外線吸収層に用いることができる紫外線吸収剤には、特に制限はないが、たとえばチアゾリドン系、ベンゾトリアゾール系、アクリロニトリル系、ベンゾフェノン系、アミノブタジエン系、トリアジン系、サリチル酸フェニル系、ベンゾエート系などの有機系の紫外線吸収剤、あるいは酸化セリウム、酸化マグネシウムなどの微粉末系の紫外線遮断剤や酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄等などが挙げられる。
(UV absorber)
Although there is no restriction | limiting in particular in the ultraviolet absorber which can be used for an ultraviolet absorption layer, For example, organic, such as a thiazolidone type, a benzotriazole type, an acrylonitrile type, a benzophenone type, an aminobutadiene type, a triazine type, a phenyl salicylate, a benzoate type And ultraviolet powders such as cerium oxide and magnesium oxide, titanium oxide, zinc oxide, iron oxide and the like.

これらの中でも、初期の反射率、および経時での反射率低下の抑制の観点から、特に有機系の紫外線吸収剤が好ましい。なお、より高い初期の反射率は紫外線以外の光の透過性が良好であるために得られると推測している。また、経時での反射率の低下抑制効果がより高いことは、紫外線吸収効果がより高いこと、および紫外線吸収層自体の劣化による着色が生じ難いことから得られると推測している。   Among these, an organic ultraviolet absorber is particularly preferable from the viewpoint of the initial reflectivity and suppression of a decrease in reflectivity over time. It is assumed that a higher initial reflectance can be obtained because of the good transmittance of light other than ultraviolet rays. Further, it is presumed that a higher effect of suppressing the decrease in reflectance over time can be obtained because the ultraviolet absorption effect is higher and coloring due to deterioration of the ultraviolet absorption layer itself hardly occurs.

有機系紫外線吸収剤として、たとえば特開昭46−3335号、同55−152776号、特開平5−197074号、同5−232630号、同5−307232号、同6−211813号、同8−53427号、同8−234364号、同8−239368号、同9−31067号、同10−115898号、同10−147577号、同10−182621号各公報、独国特許第19739797A号、欧州特許第711804A号各公報及び特表平8−501291号公報、米国特許第1,023,859号、同第2,685,512号、同第2,739,888号、同第2,784,087号、同第2,748,021号、同第3,004,896号、同第3,052,636号、同第3,215,530号、同第3,253,921号、同第3,533,794号、同第3,692,525号、同第3,705,805号、同第3,707,375号、同第3,738,837号、同第3,754,919号、英国特許第1,321,355号明細書等に記載されている化合物を用いることができる。   As organic ultraviolet absorbers, for example, JP-A-46-3335, JP-A-55-152776, JP-A-5-197004, JP-A-5-232630, JP-A-5-307232, JP-A-6-218131, and JP-A-8- No. 53427, No. 8-234364, No. 8-239368, No. 9-31067, No. 10-115898, No. 10-147777, No. 10-182621, German Patent No. 19739797A, European Patent No. 711804A and JP-A-8-501291, U.S. Pat. Nos. 1,023,859, 2,685,512, 2,739,888, 2,784,087. No. 2,748,021, No. 3,004,896, No. 3,052,636, No. 3,215,530, No. 3,253,9 No. 1, No. 3,533,794, No. 3,692,525, No. 3,705,805, No. 3,707,375, No. 3,738,837, No. The compounds described in 3,754,919, British Patent 1,321,355 and the like can be used.

また、これら紫外線吸収剤のなかでも、高沸点で揮発しにくく、高温成形時にも飛散しにくいため、比較的少量の添加で効果的に耐候性を改良することができるとの観点から、分子量が400以上の紫外線吸収剤が好ましい。また、分子量が400以上の紫外線吸収剤は、薄い透光性樹脂層から他の構成層への移行性も小さく、積層体の表面にも析出しにくいため、含有された紫外線吸収剤量が長時間維持され、耐候性改良効果の持続性に優れるなどの点から好ましい。   Among these UV absorbers, the molecular weight is low from the viewpoint of being able to effectively improve the weather resistance with a relatively small amount of addition because it is difficult to volatilize at a high boiling point and hardly scatters during high temperature molding. More than 400 UV absorbers are preferred. In addition, an ultraviolet absorber having a molecular weight of 400 or more has a low transferability from a thin translucent resin layer to other constituent layers and is difficult to precipitate on the surface of the laminate, so that the amount of contained ultraviolet absorber is long. It is preferable from the standpoints that the time is maintained and the durability of the weather resistance improving effect is excellent.

分子量が400以上の紫外線吸収剤としては、たとえば、2−[2−ヒドロキシ−3,5−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2,2−メチレンビス[4−(1,1,3,3−テトラブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール]、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(1−メチル−1−フェニルエチル)−4−(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール等のベンゾトリアゾール系、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート等のヒンダードアミン系、さらには2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−n−ブチルマロン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)、1−[2−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]エチル]−4−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン等の分子内にヒンダードフェノールとヒンダードアミンの構造を共に有するハイブリッド系のものが挙げられる。   Examples of the ultraviolet absorber having a molecular weight of 400 or more include 2- [2-hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2,2-methylenebis [4- ( 1,1,3,3-tetrabutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol], 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6- (1-methyl-1-phenylethyl) ) -4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol and other benzotriazoles, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2) , 6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate and the like, and further 2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-n-butylmalonic acid (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl), 1- [2- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl] -4 -[3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] -2,2,6,6-tetramethylpiperidine and the like have both hindered phenol and hindered amine structures in the molecule A hybrid type is mentioned.

有機系紫外線吸収剤のなかでも、ベンゾトリアゾール系、およびトリアジン系の紫外線吸収剤が好ましい。   Among organic ultraviolet absorbers, benzotriazole-based and triazine-based ultraviolet absorbers are preferable.

ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤としては、特に制限されないが、たとえば、2−[2−ヒドロキシ−3,5−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2,2−メチレンビス[4−(1,1,3,3−テトラブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール]、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(1−メチル−1−フェニルエチル)−4−(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール、2−(2−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(5−クロロ−2−ベンゾトリアゾリル)−6−tert−ブチル−p−クレゾール2−(2−ヒドロキシ−5−tert−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−ドデシル−4−メチルフェノール等が挙げられる。   The benzotriazole-based ultraviolet absorber is not particularly limited, and examples thereof include 2- [2-hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2,2-methylenebis. [4- (1,1,3,3-tetrabutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol], 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6- (1-methyl- 1-phenylethyl) -4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol, 2- (2-hydroxy-5-tert-butylphenyl) -2H-benzotriazole, 2- (5-chloro- 2-benzotriazolyl) -6-tert-butyl-p-cresol 2- (2-hydroxy-5-tert-octylphenyl) benzotriazole, 2- (2H-ben Zotriazol-2-yl) -6-dodecyl-4-methylphenol and the like.

これらの中でも、前述の分子量の観点、および耐光性の観点から、2−[2−ヒドロキシ−3,5−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2,2−メチレンビス[4−(1,1,3,3−テトラブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール]、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(1−メチル−1−フェニルエチル)−4−(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノールがより好ましく、2−[2−ヒドロキシ−3,5−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、がさらに好ましく、2−[2−ヒドロキシ−3,5−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾールが特に好ましい。   Among these, from the viewpoints of the molecular weight and light resistance described above, 2- [2-hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2,2-methylenebis [4- (1,1,3,3-tetrabutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol], 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6- (1-methyl- 1-phenylethyl) -4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol is more preferred, 2- [2-hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] -2H -Benzotriazole is more preferable, and 2- [2-hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] -2H-benzotriazole is particularly preferable.

ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤としては、BASFジャパン株式会社製Tinuvin(登録商標) P、P FL、234、326、326 FL、329、329FL、213、571、PS、99−2、384−2、900、928、1130等の市販品を適宜用いることもできる。   As the benzotriazole-based UV absorber, Tinuvin (registered trademark) P, P FL, 234, 326, 326 FL, 329, 329FL, 213, 571, PS, 99-2, 384-2, manufactured by BASF Japan Ltd., Commercial products such as 900, 928, and 1130 can also be used as appropriate.

トリアジン系の紫外線吸収剤としては、特に制限されないが、ヒドロキシフェニルトリアジン(HPT)系紫外線吸収剤等を好ましく用いることができる。またトリアジン系の紫外線吸収剤としては、BASFジャパン株式会社製Tinuvin(登録商標) 1577 ED、400、405、460、477、479等の市販品を適宜用いることもできる。   Although it does not restrict | limit especially as a triazine type ultraviolet absorber, A hydroxyphenyl triazine (HPT) type ultraviolet absorber etc. can be used preferably. Moreover, as a triazine type ultraviolet absorber, commercially available products such as Tinuvin (registered trademark) 1577 ED, 400, 405, 460, 477, 479 manufactured by BASF Japan Ltd. may be used as appropriate.

これらの紫外線吸収剤は単独でもまたは2種以上組み合わせても使用することができる。   These ultraviolet absorbers can be used alone or in combination of two or more.

紫外線吸収層への紫外線吸収剤の含有量は、紫外線吸収層の総質量に対して0.1〜20質量%であることが好ましく、1〜15質量%であることがより好ましく、3〜10質量%であることがさらに好ましい。また、紫外線吸収剤の紫外線吸収層への含有量は、フィルム単位面積当たりの含有量が0.1〜3.0g/mであることが好ましく、0.4〜2.5g/mであることがより好ましい。含有量を上記の範囲にすることによって、耐候性能をより発揮しつつ、紫外線吸収剤のブリードアウトによるロールやフィルムの汚れを起こすことをより防止できる。 The content of the ultraviolet absorber in the ultraviolet absorbing layer is preferably 0.1 to 20% by mass, more preferably 1 to 15% by mass, with respect to the total mass of the ultraviolet absorbing layer. More preferably, it is mass%. Moreover, it is preferable that content per film unit area is 0.1-3.0 g / m < 2 >, and, as for content to the ultraviolet absorption layer of a ultraviolet absorber, it is 0.4-2.5 g / m < 2 >. More preferably. By setting the content to the above range, it is possible to further prevent the roll and the film from being soiled due to the bleeding out of the ultraviolet absorber while exhibiting more weather resistance.

(酸化防止剤)
紫外線吸収剤層の劣化を防止するために、紫外線吸収層に酸化防止剤を含有させてもよい。
(Antioxidant)
In order to prevent deterioration of the ultraviolet absorber layer, the ultraviolet absorber layer may contain an antioxidant.

酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤を使用することが好ましい。   As the antioxidant, it is preferable to use a phenol-based antioxidant, a thiol-based antioxidant, or a phosphite-based antioxidant.

なお、本形態においては、上記した酸化防止剤と公知の光安定剤を併用することもできる。光安定剤としてはたとえばヒンダードアミン系光安定剤が挙げられる。   In the present embodiment, the above-described antioxidant and a known light stabilizer can be used in combination. Examples of the light stabilizer include hindered amine light stabilizers.

紫外線吸収層は、380nmにおける光の透過率が、0〜10%であることが好ましく、0〜5%であることがより好ましく、0〜1%であることがさらに好ましい。380nmにおける透過率は、たとえば、日立ハイテクサイエンス製 分光光度計U−4100等を用いて、測定波長380〜780nm、スキャンスピード600nm/min、サンプリング間隔1nm、スリット5nmの条件にて求めることができる。   The ultraviolet light absorbing layer preferably has a light transmittance at 380 nm of 0 to 10%, more preferably 0 to 5%, and still more preferably 0 to 1%. The transmittance at 380 nm can be determined using, for example, a spectrophotometer U-4100 manufactured by Hitachi High-Tech Science under the conditions of a measurement wavelength of 380 to 780 nm, a scan speed of 600 nm / min, a sampling interval of 1 nm, and a slit of 5 nm.

紫外線吸収層の厚みは、1〜150μmであることが好ましい。膜厚が1μm以上とすることは、光反射層の保護や紫外線カット等の機能性をもたらす際に添加する材料を十分に添加することができることから好ましい。150μm以下とすることは、光反射フィルム全体の厚みを適度に保つことができる観点で好ましい。より好ましくは、1〜100μmであり、さらに好ましくは、3〜80μmである。   The thickness of the ultraviolet absorbing layer is preferably 1 to 150 μm. A film thickness of 1 μm or more is preferable because a material to be added when providing functionality such as protection of the light reflection layer and UV protection can be sufficiently added. The thickness of 150 μm or less is preferable from the viewpoint of maintaining an appropriate thickness of the entire light reflecting film. More preferably, it is 1-100 micrometers, More preferably, it is 3-80 micrometers.

さらに、紫外線吸収層の厚みは、紫外線吸収層の性能、ならびに光反射フィルムの性能および耐候性の両立の観点から、好ましくは5〜30μmである。膜厚を5μm以上とすることで、さらなる高い紫外線吸収効果を得ることができる。膜厚を30μm以下とすることで、より高い写像性(DOI)値を得ることができ、また、初期の集光効率、ならびに屋外環境下経時による集光効率の低下、クラックの発生、および密着性の低下の改善効果をさらに高めることができる。かような効果が得られる理由は、膜厚を薄くすることで、巻き取り工程をはじめとする製造工程において、フィルムに印加される張力に起因する膜面への圧力の影響をより小さくすることができるからであると推測している。すなわち、薄膜化によって膜面への圧力による層の変形が小さくなり、膜面の凹凸および残留応力のムラも低減するために得られるからであると推測している。同様の観点から、紫外線吸収層の厚みが10〜25μmであることがより好ましく、15〜25μmであることがさらに好ましく、15〜20μmであることが特に好ましい。   Furthermore, the thickness of the ultraviolet absorbing layer is preferably 5 to 30 μm from the viewpoint of achieving both the performance of the ultraviolet absorbing layer and the performance and weather resistance of the light reflecting film. By setting the film thickness to 5 μm or more, an even higher ultraviolet absorption effect can be obtained. By setting the film thickness to 30 μm or less, a higher image clarity (DOI) value can be obtained. In addition, the initial light collection efficiency, as well as a decrease in light collection efficiency over time in the outdoor environment, the occurrence of cracks, and adhesion It is possible to further enhance the effect of improving the decrease in sex. The reason why such an effect can be obtained is to reduce the influence of the pressure on the film surface due to the tension applied to the film in the manufacturing process including the winding process by reducing the film thickness. I guess this is because I can do it. That is, it is presumed that the film thickness can be obtained by reducing the deformation of the layer due to the pressure on the film surface and reducing the unevenness of the film surface and the unevenness of the residual stress. From the same viewpoint, the thickness of the ultraviolet absorbing layer is more preferably 10 to 25 μm, further preferably 15 to 25 μm, and particularly preferably 15 to 20 μm.

上記より、本発明の好ましい一実施形態としては、紫外線吸収層の厚みが10〜25μmである、光反射フィルムが挙げられる。   From the above, a preferred embodiment of the present invention includes a light reflecting film in which the thickness of the ultraviolet absorbing layer is 10 to 25 μm.

紫外線吸収層の形成方法としては、特に制限されないが、たとえば塗布による方法等を挙げることができる。塗布による方法の一例としては、紫外線吸収層を構成する材料を適当な有機溶媒に溶解または懸濁させ、塗布液を調製する。次いで、塗布液を所定の塗布方式で塗布し、塗膜を形成する。塗膜を塗設する場合には、従来用いられる種々の塗布方法、たとえば、スプレーコート法、スピンコート法、バーコート法、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。   The method for forming the ultraviolet absorbing layer is not particularly limited, and examples thereof include a coating method. As an example of the method by coating, the material constituting the ultraviolet absorbing layer is dissolved or suspended in a suitable organic solvent to prepare a coating solution. Next, the coating solution is applied by a predetermined coating method to form a coating film. When coating a coating film, various conventionally used coating methods such as spray coating method, spin coating method, bar coating method, gravure coating method, reverse coating method, die coating method and the like are conventionally known coating methods. Can be used.

有機溶媒としては、従来公知の有機溶媒が使用でき、特に制限されないが、たとえばメタノール、エタノール、1−プロパノール、イソプロピルアルコール等のアルコール;ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、n−ヘキサン等の芳香族または脂肪族炭化水素;酢酸メチル、酢酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等のエステル化合物;アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン等のケトン化合物;テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル化合物等を適宜用いることができる。なお、上記溶剤は、1種単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。   As the organic solvent, conventionally known organic solvents can be used, and are not particularly limited. For example, alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol and isopropyl alcohol; aromatics such as benzene, toluene, xylene, cyclohexane and n-hexane; Aliphatic hydrocarbons; ester compounds such as methyl acetate, ethyl acetate, methyl acetoacetate, and ethyl acetoacetate; ketone compounds such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), and methyl isobutyl ketone; cyclic ether compounds such as tetrahydrofuran and dioxane are used as appropriate. be able to. In addition, the said solvent may be used individually by 1 type, and may be used together 2 or more types.

紫外線吸収層を構成する材料の固形分濃度は、紫外線吸収層用溶液の総質量に対して、好ましくは10〜40質量%、より好ましくは15〜35質量%、さらに好ましくは20〜30質量%である。   The solid content concentration of the material constituting the ultraviolet absorbing layer is preferably 10 to 40% by mass, more preferably 15 to 35% by mass, and further preferably 20 to 30% by mass with respect to the total mass of the solution for the ultraviolet absorbing layer. It is.

塗布後の乾燥温度としては、特に制限されないが、好ましくは65〜100℃、より好ましくは70〜90℃、さらに好ましくは75〜85℃であり、乾燥時間としては、好ましくは0.5〜5分、より好ましくは1〜3分、さらに好ましくは1.5〜2.5分である。   Although it does not restrict | limit especially as drying temperature after application | coating, Preferably it is 65-100 degreeC, More preferably, it is 70-90 degreeC, More preferably, it is 75-85 degreeC, As drying time, Preferably it is 0.5-5 Minutes, more preferably 1 to 3 minutes, still more preferably 1.5 to 2.5 minutes.

[樹脂基材]
本形態の光反射フィルムは、少なくとも1つの樹脂基材を必須に有する。樹脂基材は、光反射層を支持し、光反射フィルム全体の機械的強度を保持する役割を有する。また、樹脂基材は、光反射フィルムを製造する際には、他の層を形成するための基板としてもよい。
[Resin substrate]
The light reflecting film of this embodiment essentially has at least one resin substrate. The resin substrate has a role of supporting the light reflecting layer and maintaining the mechanical strength of the entire light reflecting film. Moreover, when manufacturing a light reflection film, a resin base material is good also as a board | substrate for forming another layer.

なお、光反射フィルムは、樹脂基材は複数有していてもよく、この場合、複数の樹脂基材が同じであっても異なっていてもよい。   In addition, the light reflection film may have a plurality of resin base materials, and in this case, the plurality of resin base materials may be the same or different.

樹脂基材を構成する樹脂としては、たとえば、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、変性ポリエステルなどのポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セルロース、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのセルロースエステル、ポリ塩化ビニル(軟質ポリ塩化ビニル、硬質ポリ塩化ビニル)、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリスチレン、シンジオタクティックポリスチレン、スチレン・アクリロニトリル共重合体、ポリアセタール、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シクロオレフィンポリマー、ポリノルボルネン、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、フッ素樹脂、ポリメチル(メタ)アクリレートなどのアクリル樹脂などを挙げることができる。なかでも、耐熱性と寸法安定性の観点から、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリノルボルネン、セルロースエステル、アクリル樹脂が好ましく、ポリエステル、アクリル樹脂がより好ましく、ポリエステルがさらに好ましく、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。これらの樹脂は、1種のみを単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用しても構わない。   Examples of the resin constituting the resin substrate include polycarbonate, polyarylate, polysulfone, polyethersulfone, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, modified polyester, and the like, polyethylene, polypropylene, cellulose, diacetylcellulose, triacetylcellulose, and cellulose. Cellulose esters such as acetate propionate and cellulose acetate butyrate, polyvinyl chloride (soft polyvinyl chloride, hard polyvinyl chloride), polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymer, polystyrene, syndiotactic polystyrene , Styrene / acrylonitrile copolymer, polyacetal, epoxy resin, phenol resin, cycloolefin polymer And acrylic resins such as mer, polynorbornene, polymethylpentene, polyetherketone, polyetheretherketone, polyetherketoneimide, polyamide, polyimide, polysulfone, polyethersulfone, fluororesin, polymethyl (meth) acrylate, etc. it can. Among these, from the viewpoint of heat resistance and dimensional stability, polycarbonate, polyester, polynorbornene, cellulose ester, and acrylic resin are preferable, polyester and acrylic resin are more preferable, polyester is more preferable, and polyethylene terephthalate is particularly preferable. These resins may be used alone or in combination of two or more.

また、樹脂基材は、紫外線吸収剤や酸化防止剤を含有してもよい。紫外線吸収剤や酸化防止剤としては、前述の紫外線吸収層で用いられる紫外線吸収剤や酸化防止剤を用いることができる。酸化防止剤と光安定剤を併用してもよい。ここで、酸化防止剤および併用する場合には光安定剤は、特に制限されないが、前述の紫外線吸収層の項で記載されたものと同様のものが使用できるため、ここでは説明を省略する。ただし、ブリードアウト発生の可能性を低減するとの観点から、紫外線吸収剤の添加量は少ない方が好ましい。これより、紫外線吸収剤を含有する樹脂基材が、ハードコート層および紫外線吸収層の間に存在する場合であっても、紫外線吸収層は別途必要となる。   Further, the resin base material may contain an ultraviolet absorber or an antioxidant. As the ultraviolet absorber or antioxidant, the ultraviolet absorber or antioxidant used in the aforementioned ultraviolet absorbing layer can be used. An antioxidant and a light stabilizer may be used in combination. Here, when the antioxidant and the light stabilizer are used in combination, the light stabilizer is not particularly limited, but the same light stabilizer as that described in the item of the ultraviolet absorbing layer described above can be used, and thus the description thereof is omitted here. However, from the viewpoint of reducing the possibility of occurrence of bleeding out, it is preferable that the addition amount of the ultraviolet absorber is small. Thus, even when the resin base material containing the ultraviolet absorber is present between the hard coat layer and the ultraviolet absorbing layer, the ultraviolet absorbing layer is separately required.

樹脂基材の厚さは、特に制限されず、樹脂の種類および目的などに応じて適宜設定できるが、光反射フィルムの機械的強度およびフレキシブル性を両立させる観点から、好ましくは10〜250μmであり、より好ましくは20〜200μmである。   The thickness of the resin substrate is not particularly limited and can be appropriately set according to the type and purpose of the resin, but is preferably 10 to 250 μm from the viewpoint of achieving both the mechanical strength and flexibility of the light reflecting film. More preferably, it is 20-200 micrometers.

本形態の樹脂基材の製造方法は特に制限されず、たとえば、溶融流延製膜法、溶液流延製膜法などの方法で製造されたフィルムを適宜使用できる。また、樹脂基材は、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルム(たとえば、1軸延伸フィルム、2軸延伸フィルム等)でもよい。   The manufacturing method of the resin base material of this embodiment is not particularly limited, and for example, a film manufactured by a method such as a melt casting film forming method or a solution casting film forming method can be appropriately used. The resin substrate may be an unstretched film or a stretched film (for example, a uniaxially stretched film, a biaxially stretched film, etc.).

また、樹脂基材としては、帝人デュポンフィルム株式会社製 テトロン(登録商標)フィルムHB、東洋紡株式会社製 A4300等の市販品を用いてもよい。   Commercially available products such as Tetoron (registered trademark) film HB manufactured by Teijin DuPont Films Ltd., A4300 manufactured by Toyobo Co., Ltd. may be used as the resin base material.

[光反射層]
本形態の光反射フィルムは、光反射層を必須に含む。
[Light reflection layer]
The light reflecting film of this embodiment essentially includes a light reflecting layer.

光反射層は、太陽光を反射する機能を有する金属等から構成される。光反射層の表面反射率は、好ましくは90%以上であり、より好ましくは93%以上である。   A light reflection layer is comprised from the metal etc. which have the function to reflect sunlight. The surface reflectance of the light reflection layer is preferably 90% or more, more preferably 93% or more.

光反射層を構成する材料としては、アルミニウム(Al)、銀(Ag)、クロム(Cr)、銅(Cu)、ニッケル(Ni)、チタン(Ti)、マグネシウム(Mg)、ロジウム(Rh)、白金(Pt)および金(Au)からなる元素群の中から選ばれる少なくとも1種の元素を含む金属が挙げられる。なかでも、反射率、耐食性などの観点からアルミニウム(Al)または銀(Ag)を主成分としていることが好ましく、銀(Ag)を主成分としていることがより好ましく、銀(Ag)からなることがさらに好ましい。なお、上記「主成分」とは、光反射層の構成成分のうち、50質量%超であることを意味し、好ましくは80質量%以上、より好ましくは90%以上、さらに好ましくは95%以上、特に好ましくは98質量%以上、最も好ましくは100質量%である。   As a material constituting the light reflection layer, aluminum (Al), silver (Ag), chromium (Cr), copper (Cu), nickel (Ni), titanium (Ti), magnesium (Mg), rhodium (Rh), Examples thereof include metals containing at least one element selected from the group consisting of platinum (Pt) and gold (Au). Especially, it is preferable that aluminum (Al) or silver (Ag) is the main component from viewpoints of a reflectance, corrosion resistance, etc., it is more preferable that silver (Ag) is the main component, and it consists of silver (Ag). Is more preferable. The “main component” means that the component of the light reflecting layer is more than 50% by mass, preferably 80% by mass or more, more preferably 90% or more, and further preferably 95% or more. Especially preferably, it is 98 mass% or more, Most preferably, it is 100 mass%.

光反射層は、上記の金属からなる層(金属反射層)が1層または2層以上積層された構成であってもよい。また、金属反射層上にSiO、TiOなどの金属酸化物からなる層を設けてさらに反射率を向上させてもよい。 The light reflection layer may have a configuration in which one or more layers made of the above metals (metal reflection layer) are laminated. Moreover, a layer made of a metal oxide such as SiO 2 or TiO 2 may be provided on the metal reflective layer to further improve the reflectance.

光反射層の厚さは、反射率などの観点から、10〜200nmが好ましく、30〜150nmがより好ましい。   The thickness of the light reflecting layer is preferably 10 to 200 nm, more preferably 30 to 150 nm, from the viewpoint of reflectance and the like.

光反射層の形成方法は、特に制限されず、湿式法および乾式法のいずれの方法も用いることができる。湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例を挙げると銀鏡反応などがある。一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的には、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法などの真空蒸着法、スパッタ法などがある。なかでも、ロール・ツー・ロール方式による製膜が可能な乾式法(特に真空蒸着法)を用いることが好ましい。   The method for forming the light reflecting layer is not particularly limited, and either a wet method or a dry method can be used. The wet method is a general term for a plating method, and is a method of forming a film by depositing a metal from a solution. Specific examples include silver mirror reaction. On the other hand, the dry method is a general term for a vacuum film-forming method. Specifically, a vacuum such as a resistance heating vacuum deposition method, an electron beam heating vacuum deposition method, an ion plating method, or an ion beam assisted vacuum deposition method is used. There are vapor deposition and sputtering. Especially, it is preferable to use the dry method (especially vacuum evaporation method) in which the film formation by a roll-to-roll system is possible.

[接着層]
本形態の光反射フィルムは、接着層を有していてもよい。接着層は、層間ならびに層および基材間を接着させるために設けられる層である。したがって、接着層は、各種層間を密着させる密着性、他の層を形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、および光反射フィルムの高い反射性能を引き出すための平滑性を有することが好ましい。
[Adhesive layer]
The light reflecting film of this embodiment may have an adhesive layer. An adhesive layer is a layer provided in order to adhere | attach an interlayer and between a layer and a base material. Therefore, it is preferable that the adhesive layer has adhesiveness for adhering various layers, heat resistance that can withstand heat when other layers are formed, and smoothness for drawing out high reflection performance of the light reflecting film.

本形態の光反射フィルムの好ましい一形態は、光反射層の紫外線吸収層側とは反対側に、さらに接着層を有する、光反射フィルムである。   One preferable form of the light reflecting film of this embodiment is a light reflecting film further having an adhesive layer on the side opposite to the ultraviolet absorbing layer side of the light reflecting layer.

接着層は、層間ならびに層および基材間の接着性を高める機能があるものであれば特に限定はないが、樹脂からなることが好ましい。接着層に使用するバインダーとしての樹脂は、密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独又はこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。   The adhesive layer is not particularly limited as long as it has a function of improving the adhesion between the layers and between the layer and the substrate, but is preferably made of a resin. The resin used as the binder for the adhesive layer is not particularly limited as long as it satisfies the conditions of adhesion, heat resistance, and smoothness, such as polyester resin, acrylic resin, melamine resin, epoxy resin, Polyamide resins, vinyl chloride resins, vinyl chloride vinyl acetate copolymer resins, etc. can be used alone or mixed resins thereof. From the viewpoint of weather resistance, mixed resins of polyester resins and melamine resins are preferred, and isocyanates etc. It is more preferable to use a thermosetting resin mixed with a curing agent.

接着層に使用する樹脂としては、ポリエステル系樹脂である日本合成化学工業株式会社製ポリエスター(登録商標)SP181、メラミン樹脂であるDIC株式会社製スーパーベッカミン(登録商標)J−820等の市販品を用いてもよい。   As the resin used for the adhesive layer, Polyester (registered trademark) SP181 manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., which is a polyester resin, and Superbecamine (registered trademark) J-820 manufactured by DIC, which is a melamine resin, are commercially available You may use goods.

接着層に使用するイソシアネート等の硬化剤としては、特に制限されないが、たとえばTDI(トルエンジイソシアネート)系イソシアネートである2,4−トリレンジイソシアネート、HMDI系イソシアネートである1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。   The curing agent such as isocyanate used for the adhesive layer is not particularly limited, but for example, 2,4-tolylene diisocyanate which is TDI (toluene diisocyanate) isocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate which is HMDI isocyanate, and the like. Can be mentioned.

接着層の厚みは、0.01〜150μmであることが好ましい。膜厚が0.01μm以上とすることは、層間ならびに層および基材間の密着性を十分にもたらす観点で好ましい。また、150μm以下とすることは、光反射フィルム全体の厚みを適度に保つことができる観点で好ましい。より好ましくは、0.1〜100μmであり、さらに好ましくは1〜80μmである。   The thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 to 150 μm. A film thickness of 0.01 μm or more is preferable from the viewpoint of sufficiently providing adhesion between the layers and between the layer and the substrate. Moreover, it is preferable to set it as 150 micrometers or less from a viewpoint which can maintain the thickness of the whole light reflection film moderately. More preferably, it is 0.1-100 micrometers, More preferably, it is 1-80 micrometers.

さらに、接着層の性能、ならびに光反射フィルムの性能および耐候性の両立の観点から、本発明の好ましい一実施形態は、接着層の厚みが3〜30μmであることが好ましい。膜厚を3μm以上とすることで、さらなる高い密着性を得ることができる。膜厚を30μm以下とすることで、より高い写像性(DOI)値を得ることができ、また、初期の集光効率、ならびに屋外環境下経時による集光効率の低下、クラックの発生、および密着性の低下の改善効果をさらに高めることができる。かような効果が得られる理由は、膜厚を薄くすることで、巻き取り工程をはじめとする製造工程において、フィルムに印加される張力に起因する膜面への圧力の影響をより小さくすることができるからである推測している。すなわち、薄膜化によって膜面への圧力による層の変形が小さくなり、膜面の凹凸および残留応力のムラも低減するために得られるからであると推測している。同様の観点から、接着層の厚みは、5〜25μmであることがより好ましく、10〜25μmであることがさらに好ましく、15〜20μmであることが特に好ましい。   Furthermore, from the viewpoint of compatibility between the performance of the adhesive layer and the performance and weather resistance of the light reflecting film, in a preferred embodiment of the present invention, the thickness of the adhesive layer is preferably 3 to 30 μm. By setting the film thickness to 3 μm or more, higher adhesion can be obtained. By setting the film thickness to 30 μm or less, a higher image clarity (DOI) value can be obtained. In addition, the initial light collection efficiency, as well as a decrease in light collection efficiency over time in the outdoor environment, the occurrence of cracks, and adhesion It is possible to further enhance the effect of improving the decrease in sex. The reason why such an effect can be obtained is to reduce the influence of the pressure on the film surface due to the tension applied to the film in the manufacturing process including the winding process by reducing the film thickness. I guess it is because you can. That is, it is presumed that the film thickness can be obtained by reducing the deformation of the layer due to the pressure on the film surface and reducing the unevenness of the film surface and the unevenness of the residual stress. From the same viewpoint, the thickness of the adhesive layer is more preferably 5 to 25 μm, further preferably 10 to 25 μm, and particularly preferably 15 to 20 μm.

上記より、本発明の好ましい一実施形態としては、接着層の厚みが5〜25μmである、光反射フィルムが挙げられる。   From the above, as a preferred embodiment of the present invention, there is a light reflecting film in which the thickness of the adhesive layer is 5 to 25 μm.

接着層の形成方法としては、特に制限されないが、たとえば塗布による方法等を挙げることができる。塗布による方法の一例としては、接着層を構成する材料を適当な有機溶媒に溶解または懸濁させ、塗布液を調製する。次いで、塗布液を所定の塗布方式で塗布し、塗膜を形成する。塗膜を塗設する場合には、従来用いられる種々の塗布方法、たとえば、スプレーコート法、スピンコート法、バーコート法、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。   The method for forming the adhesive layer is not particularly limited, and examples thereof include a coating method. As an example of the method by coating, a material constituting the adhesive layer is dissolved or suspended in a suitable organic solvent to prepare a coating solution. Next, the coating solution is applied by a predetermined coating method to form a coating film. When coating a coating film, various conventionally used coating methods such as spray coating method, spin coating method, bar coating method, gravure coating method, reverse coating method, die coating method and the like are conventionally known coating methods. Can be used.

有機溶媒としては、従来公知の有機溶媒が使用でき、特に制限されないが、たとえばメタノール、エタノール、1−プロパノール、イソプロピルアルコール等のアルコール;ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、n−ヘキサン等の芳香族または脂肪族炭化水素;酢酸メチル、酢酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等のエステル化合物;アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン等のケトン化合物;テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル化合物等を適宜用いることができる。なお、上記溶剤は、1種単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。   As the organic solvent, conventionally known organic solvents can be used, and are not particularly limited. For example, alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol and isopropyl alcohol; aromatics such as benzene, toluene, xylene, cyclohexane and n-hexane; Aliphatic hydrocarbons; ester compounds such as methyl acetate, ethyl acetate, methyl acetoacetate, and ethyl acetoacetate; ketone compounds such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), and methyl isobutyl ketone; cyclic ether compounds such as tetrahydrofuran and dioxane are used as appropriate. be able to. In addition, the said solvent may be used individually by 1 type, and may be used together 2 or more types.

接着層を構成する材料の固形分濃度は、紫外線吸収層用溶液の総質量に対して、好ましくは1〜40質量%、より好ましくは3〜30質量%、さらに好ましくは5〜20質量%である。   The solid content concentration of the material constituting the adhesive layer is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 3 to 30% by mass, and further preferably 5 to 20% by mass with respect to the total mass of the solution for the ultraviolet absorbing layer. is there.

塗布後の乾燥温度としては、特に制限されないが、好ましくは65〜100℃、より好ましくは70〜90℃、さらに好ましくは75〜85℃であり、乾燥時間としては、好ましくは0.5〜5分、より好ましくは1〜3分、さらに好ましくは1.5〜2.5分である。   Although it does not restrict | limit especially as drying temperature after application | coating, Preferably it is 65-100 degreeC, More preferably, it is 70-90 degreeC, More preferably, it is 75-85 degreeC, As drying time, Preferably it is 0.5-5 Minutes, more preferably 1 to 3 minutes, still more preferably 1.5 to 2.5 minutes.

[腐食防止層]
本形態の光反射フィルムは、腐食防止層を有することが好ましい。腐食防止層は、光反射層の腐食を防止するために設けられる層である。また、腐食防止層は、光反射層に直接隣接するよう配置することが好ましい。
[Corrosion prevention layer]
The light reflecting film of this embodiment preferably has a corrosion prevention layer. A corrosion prevention layer is a layer provided in order to prevent corrosion of a light reflection layer. Moreover, it is preferable to arrange | position a corrosion prevention layer so that it may adjoin directly to a light reflection layer.

腐食防止層は、腐食防止剤およびバインダーを含有していてもよい。   The corrosion prevention layer may contain a corrosion inhibitor and a binder.

腐食防止層のバインダーとしては、たとえば、セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ポリノルボルネン、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、メラミン樹脂またはアクリル樹脂(ポリメチルメタクリレートなど)等を挙げることができる。なかでも、メラミン樹脂、アクリル樹脂が好ましい。さらに、腐食防止層は、2.4−トリレンジイソシアネートなどの硬化剤を含んでもよい。   Examples of the binder for the corrosion prevention layer include cellulose ester, polycarbonate, polyarylate, polysulfone (including polyethersulfone), polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate and other polyesters, polyethylene, polypropylene, cellophane, cellulose diacetate, cellulose triacetate, Cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, ethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate, polynorbornene, polymethylpentene, polyether ketone, polyether ketone imide, polyamide, fluororesin, Nylon, melamine resin or acrylic resin (polymethyl methacrylate Etc.), and the like. Of these, melamine resin and acrylic resin are preferable. Further, the corrosion prevention layer may include a curing agent such as 2.4-tolylene diisocyanate.

バインダーとしては、メラミン樹脂であるDIC株式会社製スーパーベッカミン(登録商標)J−820等の市販品を用いてもよい。   As the binder, a commercial product such as Super Becamine (registered trademark) J-820 manufactured by DIC Corporation, which is a melamine resin, may be used.

腐食防止剤としては、光反射層を構成する金属に対する吸着性基を有することが好ましい。ここで、「腐食」とは、金属がそれをとり囲む環境物質によって、化学的もしくは電気化学的に浸食されるかまたは材質的に劣化する現象をいう(JIS Z0103:2004参照)。   As a corrosion inhibitor, it is preferable to have an adsorptive group with respect to the metal which comprises a light reflection layer. Here, “corrosion” refers to a phenomenon in which a metal is chemically or electrochemically eroded or deteriorated in material by an environmental substance surrounding it (see JIS Z0103: 2004).

金属に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、例えば、アミン類およびその誘導体、ピロール環を有する化合物、ベンゾトリアゾールなどトリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系化合物の少なくとも1種またはこれらの2種以上の混合物から選ばれることが好ましい。ベンゾトリアゾールなどの化合物においては、紫外線吸収剤が腐食防止剤を兼ねる場合もある。また、シリコーン変性樹脂を用いることも可能である。さらに具体的には、特開2012−232538号公報の段落「0063」〜「0072」に記載の腐食防止剤を使用することができる。   Examples of the corrosion inhibitor having an adsorptive group for metals include amines and derivatives thereof, compounds having a pyrrole ring, compounds having a triazole ring such as benzotriazole, compounds having a pyrazole ring, compounds having a thiazole ring, and imidazole rings. It is preferable to be selected from at least one of a compound having an indazole ring, a compound having an indazole ring, a copper chelate compound, a thiourea, a compound having a mercapto group, a naphthalene compound, or a mixture of two or more thereof. In compounds such as benzotriazole, the ultraviolet absorber may also serve as a corrosion inhibitor. It is also possible to use a silicone-modified resin. More specifically, corrosion inhibitors described in paragraphs “0063” to “0072” of JP2012-232538A can be used.

腐食防止剤としては、特に制限されないが、たとえばグリコールジメルカプトアセテート等が挙げられる。   The corrosion inhibitor is not particularly limited, and examples thereof include glycol dimercaptoacetate.

なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には0.1〜1.0g/mの範囲内であることが好ましい。 The optimum content of the corrosion inhibitor varies depending on the compound used, but is generally preferably in the range of 0.1 to 1.0 g / m 2 .

腐食防止層は、1層のみからなっていてもよいし、複数層からなっていてもよい。腐食防止層の厚さは、好ましくは30〜200nm、より好ましくは20nm〜100nmである。   The corrosion prevention layer may consist of only one layer or may consist of a plurality of layers. The thickness of the corrosion prevention layer is preferably 30 to 200 nm, more preferably 20 to 100 nm.

腐食防止層の形成方法としては、特に制限されないが、たとえば塗布による方法等を挙げることができる。塗布による方法の一例としては、腐食防止層を構成する材料を適当な有機溶媒に溶解または懸濁させ、塗布液を調製する。次いで、塗布液を所定の塗布方式で塗布し、塗膜を形成する。塗膜を塗設する場合には、従来用いられる種々の塗布方法、たとえば、スプレーコート法、スピンコート法、バーコート法、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。   The method for forming the corrosion prevention layer is not particularly limited, and examples thereof include a coating method. As an example of the method by coating, the material constituting the corrosion prevention layer is dissolved or suspended in a suitable organic solvent to prepare a coating solution. Next, the coating solution is applied by a predetermined coating method to form a coating film. When coating a coating film, various conventionally used coating methods such as spray coating method, spin coating method, bar coating method, gravure coating method, reverse coating method, die coating method and the like are conventionally known coating methods. Can be used.

有機溶媒としては、従来公知の有機溶媒が使用でき、特に制限されないが、たとえばメタノール、エタノール、1−プロパノール、イソプロピルアルコール等のアルコール;ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、n−ヘキサン等の芳香族または脂肪族炭化水素;酢酸メチル、酢酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等のエステル化合物;アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン等のケトン化合物;テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル化合物等を適宜用いることができる。なお、上記溶剤は、1種単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。   As the organic solvent, conventionally known organic solvents can be used, and are not particularly limited. For example, alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol and isopropyl alcohol; aromatics such as benzene, toluene, xylene, cyclohexane and n-hexane; Aliphatic hydrocarbons; ester compounds such as methyl acetate, ethyl acetate, methyl acetoacetate, and ethyl acetoacetate; ketone compounds such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), and methyl isobutyl ketone; cyclic ether compounds such as tetrahydrofuran and dioxane are used as appropriate. be able to. In addition, the said solvent may be used individually by 1 type, and may be used together 2 or more types.

腐食防止層を構成する材料の固形分濃度は、腐食防止層用溶液の総質量に対して、好ましくは1〜40質量%、より好ましくは1〜30質量%、さらに好ましくは1〜20質量%である。   The solid content concentration of the material constituting the corrosion prevention layer is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 1 to 30% by mass, and further preferably 1 to 20% by mass with respect to the total mass of the solution for the corrosion prevention layer. It is.

塗布後の乾燥温度としては、特に制限されないが、好ましくは65〜150℃、より好ましくは80〜140℃、さらに好ましくは90〜120℃であり、乾燥時間としては、好ましくは0.5〜5分、より好ましくは1〜3分、さらに好ましくは1.5〜2.5分である。   Although it does not restrict | limit especially as drying temperature after application | coating, Preferably it is 65-150 degreeC, More preferably, it is 80-140 degreeC, More preferably, it is 90-120 degreeC, As drying time, Preferably it is 0.5-5 Minutes, more preferably 1 to 3 minutes, still more preferably 1.5 to 2.5 minutes.

[アンカー層]
本形態の光反射フィルムは、アンカー層を有することが好ましい。アンカー層は樹脂からなり、各種の樹脂を含む層または樹脂基材と光反射層との間(たとえば、樹脂基材と光反射層との間)を密着させるために設けられる層である。したがって、アンカー層は、樹脂基材と光反射層とを密着させる密着性、光反射層を真空蒸着法などで形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、および光反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性を有することが好ましい。
[Anchor layer]
The light reflecting film of this embodiment preferably has an anchor layer. The anchor layer is made of a resin, and is a layer provided to bring a resin-containing layer or a resin base material and the light reflection layer into close contact (for example, between the resin base material and the light reflection layer). Therefore, the anchor layer has an adhesion property that allows the resin base material and the light reflection layer to adhere to each other, heat resistance that can withstand heat when the light reflection layer is formed by a vacuum deposition method, and the high reflection that the light reflection layer originally has. It is preferable to have smoothness for drawing out the performance.

アンカー層に使用する樹脂は、上記の密着性、耐熱性、および平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、例えば、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂などの単独またはこれらの混合樹脂などが使用できる。耐候性の点からポリエステル樹脂とメラミン樹脂との混合樹脂またはポリエステル樹脂とウレタン樹脂との混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート、エポキシなどの硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。   The resin used for the anchor layer is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions of adhesion, heat resistance, and smoothness. For example, polyester resin, polyurethane resin, acrylic resin, melamine resin, epoxy resin, Polyamide resin, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin or the like alone or a mixed resin thereof can be used. From the viewpoint of weather resistance, a mixed resin of a polyester resin and a melamine resin or a mixed resin of a polyester resin and a urethane resin is preferable, and a thermosetting resin in which a curing agent such as isocyanate or epoxy is further mixed is more preferable.

アンカー層に使用する樹脂としては、メラミン樹脂であるDIC株式会社製スーパーベッカミン(登録商標)J−820等の市販品を用いてもよい。   As the resin used for the anchor layer, a commercially available product such as Super Becamine (registered trademark) J-820 manufactured by DIC Corporation, which is a melamine resin, may be used.

また、アンカー層に、上述の「腐食防止層」の項に記載の腐食防止剤を含有させ腐食防止層としての機能も兼ね備えた層とすることができる。   Further, the anchor layer can be made to contain the corrosion inhibitor described in the above-mentioned section “Corrosion prevention layer” and also have a function as a corrosion prevention layer.

アンカー層の厚さは、好ましくは0.01〜3μm、より好ましくは0.05〜2μmである。この範囲を満たすことにより、密着性を保ちつつ、樹脂基材表面の凹凸を覆い隠すことができ、平滑性を良好にでき、アンカー層の硬化も十分に行えるため、結果として光反射フィルムの反射率を高めることが可能となる。   The thickness of the anchor layer is preferably 0.01 to 3 μm, more preferably 0.05 to 2 μm. By satisfying this range, the unevenness on the surface of the resin substrate can be covered while maintaining the adhesion, the smoothness can be improved, and the anchor layer can be sufficiently cured, resulting in the reflection of the light reflecting film. The rate can be increased.

アンカー層の形成方法としては、特に制限されないが、たとえば塗布による方法等を挙げることができる。塗布による方法の一例としては、アンカー層を構成する材料を適当な有機溶媒に溶解または懸濁させ、塗布液を調製する。次いで、塗布液を所定の塗布方式で塗布し、塗膜を形成する。塗膜を塗設する場合には、従来用いられる種々の塗布方法、たとえば、スプレーコート法、スピンコート法、バーコート法、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。   The method for forming the anchor layer is not particularly limited, and examples thereof include a coating method. As an example of the method by coating, the material constituting the anchor layer is dissolved or suspended in a suitable organic solvent to prepare a coating solution. Next, the coating solution is applied by a predetermined coating method to form a coating film. When coating a coating film, various conventionally used coating methods such as spray coating method, spin coating method, bar coating method, gravure coating method, reverse coating method, die coating method and the like are conventionally known coating methods. Can be used.

有機溶媒としては、従来公知の有機溶媒が使用でき、特に制限されないが、たとえばメタノール、エタノール、1−プロパノール、イソプロピルアルコール等のアルコール;ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、n−ヘキサン等の芳香族または脂肪族炭化水素;酢酸メチル、酢酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等のエステル化合物;アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン等のケトン化合物;テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル化合物等を適宜用いることができる。なお、上記溶剤は、1種単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。   As the organic solvent, conventionally known organic solvents can be used, and are not particularly limited. For example, alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol and isopropyl alcohol; aromatics such as benzene, toluene, xylene, cyclohexane and n-hexane; Aliphatic hydrocarbons; ester compounds such as methyl acetate, ethyl acetate, methyl acetoacetate, and ethyl acetoacetate; ketone compounds such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), and methyl isobutyl ketone; cyclic ether compounds such as tetrahydrofuran and dioxane are used as appropriate. be able to. In addition, the said solvent may be used individually by 1 type, and may be used together 2 or more types.

アンカー層を構成する材料の固形分濃度は、アンカー層用溶液の総質量に対して、好ましくは1〜40質量%、より好ましくは1〜30質量%、さらに好ましくは1〜20質量%である。   The solid content concentration of the material constituting the anchor layer is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 1 to 30% by mass, and further preferably 1 to 20% by mass with respect to the total mass of the anchor layer solution. .

塗布後の乾燥温度としては、特に制限されないが、好ましくは65〜150℃、より好ましくは80〜140℃、さらに好ましくは90〜120℃であり、乾燥時間としては、好ましくは0.5〜5分、より好ましくは1〜3分、さらに好ましくは1.5〜2.5分である。   Although it does not restrict | limit especially as drying temperature after application | coating, Preferably it is 65-150 degreeC, More preferably, it is 80-140 degreeC, More preferably, it is 90-120 degreeC, As drying time, Preferably it is 0.5-5 Minutes, more preferably 1 to 3 minutes, still more preferably 1.5 to 2.5 minutes.

[ガスバリア層]
本形態の光反射フィルムは、光反射層に対してハードコート層側にガスバリア層を有していてもよい。ガスバリア層は、湿度の変動、特に高湿度による樹脂基材および樹脂基材に支持される各構成層などの劣化を防止するためのものであるが、特別の機能・用途を持たせたものであってもよく、上記劣化防止機能を有する限りにおいて、種々の態様のガスバリア層を設けることができる。好ましい態様の一つでは、上述のハードコート層がガスバリア層として機能してもよい。
[Gas barrier layer]
The light reflecting film of this embodiment may have a gas barrier layer on the hard coat layer side with respect to the light reflecting layer. The gas barrier layer is intended to prevent deterioration of the humidity, especially the deterioration of the resin base material and each component layer supported by the resin base material due to high humidity, but it has special functions and uses. As long as it has the function of preventing deterioration, a gas barrier layer of various modes can be provided. In one preferred embodiment, the hard coat layer described above may function as a gas barrier layer.

ガスバリア層の防湿性としては、40℃、90%RHにおける水蒸気透過度が、1g/m・day以下であることが好ましく、0.5g/m・day以下であることがより好ましく、0.2g/m・day以下であることがさらに好ましい。また、ガスバリア層の酸素透過度としては、測定温度23℃、90%RHの条件下で、0.6ml/m/day/atm以下であることが好ましい。 The moisture-proof barrier layer, 40 ° C., the water vapor permeability at 90% RH, is preferably not more than 1g / m 2 · day, more preferably at most 0.5g / m 2 · day, 0 More preferably, it is 2 g / m 2 · day or less. In addition, the oxygen permeability of the gas barrier layer is preferably 0.6 ml / m 2 / day / atm or less under the conditions of a measurement temperature of 23 ° C. and 90% RH.

ガスバリア層の形成方法は、真空蒸着法、スパッタリング、イオンビームアシスト、化学気相成長法などの方法により無機酸化物を形成する方法が挙げられるが、ゾル−ゲル法による無機酸化物の前駆体を塗布した後に、その塗布膜に加熱処理および/または紫外線照射処理を施して、無機酸化物膜を形成する方法も好ましく用いられる。   Examples of the method for forming the gas barrier layer include a method of forming an inorganic oxide by a method such as vacuum vapor deposition, sputtering, ion beam assist, chemical vapor deposition, and the like. A precursor of an inorganic oxide by a sol-gel method is used. A method of forming an inorganic oxide film by applying heat treatment and / or ultraviolet irradiation treatment to the coating film after coating is also preferably used.

無機酸化物は、有機金属化合物を原料とするゾルから局所的加熱により形成されたものである。たとえば、有機金属化合物に含有されているケイ素(Si)、アルミニウム(Al)、ジルコニウム(Zr)、チタン(Ti)、タンタル(Ta)、亜鉛(Zn)、バリウム(Ba)、インジウム(In)、スズ(Sn)、ニオブ(Nb)などの元素の酸化物であり、たとえば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウムなどである。これらのうち、好ましくは酸化ケイ素である。   The inorganic oxide is formed by local heating from a sol using an organometallic compound as a raw material. For example, silicon (Si), aluminum (Al), zirconium (Zr), titanium (Ti), tantalum (Ta), zinc (Zn), barium (Ba), indium (In) contained in the organometallic compound, An oxide of an element such as tin (Sn) or niobium (Nb), such as silicon oxide, aluminum oxide, or zirconium oxide. Of these, silicon oxide is preferred.

無機酸化物を形成する方法としては、いわゆるゾル−ゲル法またはポリシラザン法を用いることが好ましい。ゾル−ゲル法は無機酸化物の前駆体である有機金属化合物から無機酸化物を形成する方法であり、ポリシラザン法は無機酸化物の前駆体であるポリシラザンから無機酸化物を形成する方法である。ゾル−ゲル法に用いられる化合物や詳細については、特開2012−232538号公報の段落「0174」〜「0191」に記載の化合物や方法を適宜採用することができる。   As a method for forming the inorganic oxide, it is preferable to use a so-called sol-gel method or a polysilazane method. The sol-gel method is a method of forming an inorganic oxide from an organometallic compound that is a precursor of an inorganic oxide, and the polysilazane method is a method of forming an inorganic oxide from a polysilazane that is a precursor of an inorganic oxide. For the compounds and details used in the sol-gel method, the compounds and methods described in paragraphs “0174” to “0191” of JP2012-232538A can be appropriately employed.

[粘着層]
本形態の光反射フィルムは、後述の支持基材に接合するための粘着層を有していてもよい。粘着層を構成する粘着剤としては、特に制限されず、たとえば、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤等を例示することができる。
[Adhesive layer]
The light reflecting film of this embodiment may have an adhesive layer for bonding to a support substrate described later. The pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, and examples thereof include acrylic pressure-sensitive adhesives, silicone pressure-sensitive adhesives, urethane pressure-sensitive adhesives, polyvinyl butyral pressure-sensitive adhesives, and ethylene-vinyl acetate pressure-sensitive adhesives. Can do.

アクリル系粘着剤としては、溶剤系およびエマルジョン系どちらでも良いが、粘着力等を高め易いことから、溶剤系粘着剤が好ましく、その中でも溶液重合で得られたものが好ましい。このような溶剤系アクリル系粘着剤を溶液重合で製造する場合の原料としては、たとえば、骨格となる主モノマーとして、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、オクリルアクリレート等のアクリル酸エステル、凝集力を向上させるためのコモノマーとして、酢酸ビニル、アクリルニトリル、スチレン、メチルメタクリレート等、さらに架橋を促進し、安定した粘着力を付与させ、また水の存在下でもある程度の粘着力を保持するために官能基含有モノマーとして、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート等が挙げられる。該積層フィルムの粘着剤層には、主ポリマーとして、特に高タック性を要するため、ブチルアクリレート等のような低いガラス転移温度(Tg)を有するものが特に有用である。   The acrylic pressure-sensitive adhesive may be either solvent-based or emulsion-based, but is preferably a solvent-based pressure-sensitive adhesive because it is easy to increase the adhesive strength and the like, and among them, those obtained by solution polymerization are preferable. As a raw material in the case of producing such a solvent-based acrylic pressure-sensitive adhesive by solution polymerization, for example, an acrylic ester such as ethyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, acryl acrylate, As a comonomer for improving the cohesive force, vinyl acetate, acrylonitrile, styrene, methyl methacrylate, etc., to further promote crosslinking, to give a stable adhesive force, and to maintain a certain adhesive force even in the presence of water Examples of the functional group-containing monomer include methacrylic acid, acrylic acid, itaconic acid, hydroxyethyl methacrylate, and glycidyl methacrylate. Since the adhesive layer of the laminated film requires a particularly high tack as the main polymer, those having a low glass transition temperature (Tg) such as butyl acrylate are particularly useful.

この粘着層には、添加剤として、たとえば安定剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、難燃剤、帯電防止剤、抗酸化剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着調整剤等を含有させることもできる。   This adhesive layer contains additives such as stabilizers, surfactants, UV absorbers, flame retardants, antistatic agents, antioxidants, thermal stabilizers, lubricants, fillers, coloring, adhesion modifiers, etc. It can also be made.

粘着層の厚さは1μm〜100μmが好ましく、より好ましくは3〜50μmである。1μm以上であれば粘着性が向上する傾向にあり、十分な粘着力が得られる。逆に100μm以下であれば光学フィルムの透明性が向上しうる。   The thickness of the adhesive layer is preferably 1 μm to 100 μm, more preferably 3 to 50 μm. If it is 1 micrometer or more, there exists a tendency for adhesiveness to improve and sufficient adhesive force is acquired. Conversely, if it is 100 μm or less, the transparency of the optical film can be improved.

[剥離層]
本形態の光反射フィルムは、ハードコート層に対して紫外線吸収層側の最表層に剥離層を有していてもよい。たとえば、光反射フィルムの出荷時には剥離層が粘着層に張り付いた状態で出荷し、剥離層から粘着層を有する光反射フィルムを剥離し、支持基材に貼り合わせて太陽光反射装置などの光反射体として用いられる。
[Peeling layer]
The light reflecting film of this embodiment may have a release layer on the outermost layer on the ultraviolet absorbing layer side with respect to the hard coat layer. For example, when a light reflecting film is shipped, it is shipped with the release layer attached to the adhesive layer, the light reflecting film having the adhesive layer is peeled off from the release layer, and the light reflecting film is attached to a support substrate and light from a solar reflective device or the like. Used as a reflector.

剥離層としては、光反射層の保護性を付与できるものであればよく、たとえば、アクリルフィルムもしくはシート、ポリカーボネートフィルムもしくはシート、ポリアリレートフィルムもしくはシート、ポリエチレンナフタレートフィルムもしくはシート、ポリエチレンテレフタレートフィルムもしくはシート、フッ素樹脂フィルムなどのプラスチックフィルムもしくはシート、または酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルムもしくはシート、これらを練り込んだ樹脂をコーティングしたりアルミニウムなどの金属を金属蒸着などの表面加工を施したりした樹脂フィルムもしくはシートを用いることができる。   The release layer is not particularly limited as long as it can provide protection of the light reflecting layer. For example, an acrylic film or sheet, a polycarbonate film or sheet, a polyarylate film or sheet, a polyethylene naphthalate film or sheet, a polyethylene terephthalate film or sheet , Plastic film or sheet such as fluororesin film, resin film or sheet kneaded with titanium oxide, silica, aluminum powder, copper powder, etc., coating the resin kneaded with these, or metal deposition such as aluminum by metal vapor deposition, etc. It is possible to use a resin film or sheet that has been surface-treated.

剥離層の厚さは、特に制限はないが通常12〜250μmの範囲であることが好ましい。   Although there is no restriction | limiting in particular in the thickness of a peeling layer, Usually, it is preferable that it is the range of 12-250 micrometers.

さらに、本形態の光反射フィルムは、使用される環境や用途に応じて、導電性層、帯電防止層、易接着層、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、赤外線吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、特定波長光カット層(金属層、液晶層等)、着色層(可視光線吸収層)、合わせガラスに利用される中間膜層などの機能層の1つ以上を有していてもよい。   Furthermore, the light reflecting film of the present embodiment has a conductive layer, an antistatic layer, an easy adhesion layer, an antifouling layer, a deodorizing layer, a droplet layer, an easy slip layer, and an abrasion resistance depending on the environment and application used. Layer, antireflection layer, electromagnetic wave shielding layer, infrared absorption layer, printing layer, fluorescent light emitting layer, hologram layer, specific wavelength light cut layer (metal layer, liquid crystal layer, etc.), colored layer (visible light absorption layer), laminated glass It may have one or more functional layers such as an intermediate film layer used in the above.

<光反射フィルムの製造方法>
上述した各構成層を適宜積層することによって、光反射フィルムを製造することができる。以下、例として本発明の好ましい形態である光反射フィルムについて、製造方法の実施形態を説明するが、本発明は下記形態に限定されるものではない。
<Method for producing light reflecting film>
A light reflecting film can be produced by appropriately laminating the above-described constituent layers. Hereinafter, although the embodiment of a manufacturing method is described about the light reflection film which is a desirable form of the present invention as an example, the present invention is not limited to the following form.

ここで、本発明の好ましい一形態である、図1に記載の光反射フィルムの製造方法を例に説明する。   Here, the manufacturing method of the light reflection film shown in FIG. 1, which is a preferable embodiment of the present invention, will be described as an example.

まず、樹脂基材14を準備する;
次いで、樹脂基材14の片面に、アンカー層16を形成するアンカー層形成工程を実施する;
次いで、形成したアンカー層16上に、光反射層13を形成する光反射層形成工程を実施する;
次いで、形成した光反射層13上に、腐食防止層17を形成する腐食防止層形成工程を実施する;
次いで、樹脂基材14のアンカー層16を形成した面とは逆面に、紫外線吸収層12を形成する紫外線吸収層形成工程を実施する;
次いで、形成した紫外線吸収層12上に、ハードコート層11を形成するハードコート層形成工程を実施する;
次いで、腐食防止層17上に接着層15を形成する接着層形成工程を実施する;
そして、形成した接着層15上に樹脂基材18を配置させ貼合する樹脂基材貼合工程を実施して積層体を形成することで、光反射フィルム10を形成する;
そして、必要に応じて、上記各工程を経て形成された積層体をロール状に巻き取る巻き取り工程を実施して、光反射フィルム10を製造することができる。
First, a resin base material 14 is prepared;
Next, an anchor layer forming step of forming the anchor layer 16 on one surface of the resin base material 14 is performed;
Next, a light reflection layer forming step of forming the light reflection layer 13 on the formed anchor layer 16 is performed;
Next, a corrosion prevention layer forming step of forming the corrosion prevention layer 17 on the formed light reflection layer 13 is performed;
Next, an ultraviolet absorption layer forming step for forming the ultraviolet absorption layer 12 is performed on the surface opposite to the surface on which the anchor layer 16 of the resin base material 14 is formed;
Next, a hard coat layer forming step for forming the hard coat layer 11 is performed on the formed ultraviolet absorbing layer 12;
Next, an adhesive layer forming step for forming the adhesive layer 15 on the corrosion prevention layer 17 is performed;
And the resin base material 18 is arrange | positioned on the formed contact bonding layer 15, and the resin base material bonding process of bonding is implemented and the light reflection film 10 is formed by forming a laminated body;
And the light reflection film 10 can be manufactured by implementing the winding-up process which winds up the laminated body formed through said each process in roll shape as needed.

また、本発明の他の好ましい一形態である、図2に記載の光反射フィルムの製造方法を例に説明する。   Moreover, the manufacturing method of the light reflection film of FIG. 2 which is another preferable form of this invention is demonstrated to an example.

まず、樹脂基材14を準備する;
次いで、樹脂基材14の片面に、アンカー層16を形成するアンカー層形成工程を実施する;
次いで、形成したアンカー層16上に、光反射層13を形成する光反射層形成工程を実施する;
次いで、形成した光反射層13上に、腐食防止層17を形成する腐食防止層形成工程を実施する;
次いで、形成した腐食防止層17上に、紫外線吸収層12を形成する紫外線吸収層形成工程を実施する;
次いで、形成した紫外線吸収層12上に、ハードコート層11を形成するハードコート層形成工程を実施して積層体を形成することで光反射フィルム10を形成する;
そして、必要に応じて、上記各工程を経て形成された積層体をロール状に巻き取る巻き取り工程を実施して、光反射フィルム10を製造することができる。
First, a resin base material 14 is prepared;
Next, an anchor layer forming step of forming the anchor layer 16 on one surface of the resin base material 14 is performed;
Next, a light reflection layer forming step of forming the light reflection layer 13 on the formed anchor layer 16 is performed;
Next, a corrosion prevention layer forming step of forming the corrosion prevention layer 17 on the formed light reflection layer 13 is performed;
Next, an ultraviolet absorption layer forming step of forming the ultraviolet absorption layer 12 on the formed corrosion prevention layer 17 is performed;
Next, the light reflecting film 10 is formed by performing a hard coat layer forming step of forming the hard coat layer 11 on the formed ultraviolet absorbing layer 12 to form a laminate.
And the light reflection film 10 can be manufactured by implementing the winding-up process which winds up the laminated body formed through said each process in roll shape as needed.

なお、図1および図2におけるハードコート層11、紫外線吸収層12、光反射層13および樹脂基材14または18のいずれか一方は本発明における必須の構成部材であるため、光学反射フィルムの製造方法においては、樹脂基材の準備、光反射層形成工程、紫外線吸収層形成工程、およびハードコート層形成工程は必須となる。そして、必要に応じて、他の構成部材の形成工程、さらなる樹脂基材の貼合工程等の他の工程を設けることができる。   In addition, since any one of the hard-coat layer 11, the ultraviolet absorption layer 12, the light reflection layer 13, and the resin base material 14 or 18 in FIG. 1 and FIG. 2 is an essential structural member in this invention, manufacture of an optical reflection film In the method, the preparation of the resin substrate, the light reflecting layer forming step, the ultraviolet absorbing layer forming step, and the hard coat layer forming step are essential. And other processes, such as the formation process of another structural member, the bonding process of the further resin base material, can be provided as needed.

ここで、光反射層の表面上に直接形成される層を、塗布による方法を用いて作製する場合、塗布後の乾燥温度としては、65〜150℃であることが好ましい。乾燥温度を65℃以上とすることで、より高い写像性(DOI)値を得ることができ、また、初期の集光効率、ならびに屋外環境下経時による集光効率の低下、クラックの発生、および密着性の低下の改善効果をさらに高めることができる。かような効果が得られる理由は、乾燥を早めることで、乾燥が遅い場合に形成される、塗布層中の海島構造等の不均一構造をさらに抑制することができるからであると推測している。また、乾燥温度を150℃以下とすることで、樹脂基材の変形をより低減することができる。同様の観点から、乾燥温度としては、80〜140℃であることが好ましく、さらに好ましくは90〜120℃である。また、乾燥時間としては、好ましくは0.5〜5分、より好ましくは1〜3分、さらに好ましくは1.5〜2.5分である。   Here, when the layer directly formed on the surface of the light reflection layer is produced by a method by coating, the drying temperature after coating is preferably 65 to 150 ° C. By setting the drying temperature to 65 ° C. or higher, a higher image clarity (DOI) value can be obtained, and the initial light collection efficiency, as well as the deterioration of light collection efficiency over time in the outdoor environment, the occurrence of cracks, and The effect of improving the decrease in adhesion can be further enhanced. The reason why such an effect can be obtained is presumed to be that it is possible to further suppress non-uniform structures such as sea-island structures in the coating layer, which are formed when drying is slow, by speeding up drying. Yes. Moreover, a deformation | transformation of a resin base material can be reduced more by making drying temperature into 150 degrees C or less. From the same viewpoint, the drying temperature is preferably 80 to 140 ° C, more preferably 90 to 120 ° C. The drying time is preferably 0.5 to 5 minutes, more preferably 1 to 3 minutes, and further preferably 1.5 to 2.5 minutes.

光反射層の表面上に直接形成する層としては、特に制限されないが、腐食防止層およびアンカー層であることが好ましく、腐食防止層であることがより好ましい。   The layer directly formed on the surface of the light reflecting layer is not particularly limited, but is preferably a corrosion prevention layer and an anchor layer, and more preferably a corrosion prevention layer.

[巻き取り工程]
巻き取り工程は、特に制限されないが、たとえば円筒形巻きフィルムの外周面とこれの直前の移動式搬送ロールの外周面との間の最短距離を一定に保持しながらフィルムを巻き取りロールに巻き取る方法等が挙げられる。巻き取りロールの手前には、フィルムの表面電位を除去または低減する除電ブロア等の手段が設けられてもよい。
[Winding process]
Although the winding process is not particularly limited, for example, the film is wound around the winding roll while keeping the shortest distance between the outer peripheral surface of the cylindrical winding film and the outer peripheral surface of the mobile transport roll immediately before this constant. Methods and the like. Means such as a static elimination blower for removing or reducing the surface potential of the film may be provided in front of the take-up roll.

巻き取り機は一般的に使用されているものを用いることができ、特に制限されないが、たとえば、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等の巻き取り方法で巻き取ることができる。   The winding machine can be a commonly used one, and is not particularly limited. For example, a winding method such as a constant tension method, a constant torque method, a taper tension method, a program tension control method with a constant internal stress, etc. Can be rolled up.

なお、光反射フィルムの巻き取り時の巻き取り張力は、50〜230N/mであることが好ましい。巻き取り張力を50N/m以上とすることで、巻き取り性がより良好となる。巻き取り張力を230N/m以下とすることで、より高い写像性(DOI)値を得ることができ、また、初期の集光効率、ならびに屋外環境下経時による集光効率の低下、クラックの発生、および密着性の低下の改善効果をさらに高めることができる。かような効果が得られる理由は、巻き取り張力を小さくすることで、巻き取り工程をはじめとする製造工程において、フィルムに印加される張力に起因する膜面への圧力の影響をより小さくすることができるからである推測している。すなわち、膜面への圧力による層の変形が小さくなり、膜面の凹凸および残留応力のムラも低減するために得られるからであると推測している。同様の観点から、巻き取り張力は、100〜200N/mであることがより好ましく、130〜170N/mであることがさらに好ましい。   In addition, it is preferable that the winding tension | tensile_strength at the time of winding of a light reflection film is 50-230 N / m. When the winding tension is 50 N / m or more, the winding property becomes better. By setting the take-up tension to 230 N / m or less, a higher image clarity (DOI) value can be obtained. In addition, the initial light collection efficiency, as well as the degradation of light collection efficiency over time in the outdoor environment, the occurrence of cracks And the improvement effect of the adhesive fall can be further enhanced. The reason why such an effect can be obtained is to reduce the influence of the pressure on the film surface due to the tension applied to the film in the manufacturing process including the winding process by reducing the winding tension. I guess it can be because. That is, it is presumed that this is because the deformation of the layer due to the pressure on the film surface is reduced and the unevenness of the film surface and the unevenness of the residual stress are reduced. From the same viewpoint, the winding tension is more preferably 100 to 200 N / m, and further preferably 130 to 170 N / m.

巻き取り工程の温湿度条件は、特に制限されないが、温度20〜30℃、湿度20〜60%RHの環境条件にて、フィルムを巻き取ることが好ましい。   The temperature and humidity conditions in the winding process are not particularly limited, but the film is preferably wound under environmental conditions of a temperature of 20 to 30 ° C. and a humidity of 20 to 60% RH.

フィルムをロール状に巻き取る際の巻きコアとしては、円筒上のコアであれは、どのような材質のものであってもよいが、好ましくは中空プラスチックコアであり、プラスチック材料としては加熱処理温度にも耐える耐熱性プラスチックであればどのようなものであってもよく、フェノール樹脂、キシレン樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げられる。またガラス繊維等の充填材により強化した熱硬化性樹脂が好ましい。   The winding core for winding the film into a roll may be any material as long as it is a cylindrical core, but is preferably a hollow plastic core, and the plastic material is a heat treatment temperature. As long as it is a heat resistant plastic that can withstand the above, any resin such as phenol resin, xylene resin, melamine resin, polyester resin, and epoxy resin can be used. A thermosetting resin reinforced with a filler such as glass fiber is preferred.

巻きコアの直径は特に制限されずないが、たとえば直径6インチ(1インチ=2.54cm)の巻きコア等を用いることができる。具体的には、たとえば、中空プラスチックコア:FRP製の外径6インチ、内径5インチの巻きコア等を用いることができる。   The diameter of the wound core is not particularly limited, and for example, a wound core having a diameter of 6 inches (1 inch = 2.54 cm) can be used. Specifically, for example, a hollow plastic core: a wound core made of FRP having an outer diameter of 6 inches and an inner diameter of 5 inches can be used.

巻きコアへの巻き数、巻き厚、および光反射フィルムの幅は、特に制限されないが、巻きコアへの巻き数は、100巻き以上であることが好ましく、500巻き以上であることがさらに好ましく、巻き厚は5cm以上であることが好ましく、光反射フィルムの幅は80cm以上であることが好ましく、1m以上であることが特に好ましい。   The number of windings to the winding core, the winding thickness, and the width of the light reflecting film are not particularly limited, but the number of windings to the winding core is preferably 100 windings or more, more preferably 500 windings or more, The winding thickness is preferably 5 cm or more, and the width of the light reflecting film is preferably 80 cm or more, and particularly preferably 1 m or more.

なお、光反射フィルムの製造方法において、各工程の組み合わせ、およびその順序としては、上記に限定されるものではなく、採用する構成に応じて最適な方法を適宜用いることができる。また、上記に記載した以外の他の工程についても適宜用いることができる。   In addition, in the manufacturing method of a light reflection film, as a combination of each process and its order, it is not limited above, The optimal method can be suitably used according to the structure to employ | adopt. Moreover, it can use suitably also about processes other than having described above.

<光反射体>
本発明の好ましい他の形態は、光反射フィルムが支持基材に接合されてなる、光反射体である。
<Light reflector>
Another preferable embodiment of the present invention is a light reflector in which a light reflecting film is bonded to a support substrate.

光反射体は、光反射フィルムが粘着層を介して自己支持性の基材(支持基材)に接合されてなる構造を有する。ここで、「自己支持性の基材」という場合の、「自己支持性」とは、光反射体の基材として用いられる大きさに断裁された場合において、その対向する端縁部分を支持することで、基材を担持することが可能な程度の剛性を有することを表す。光反射体の基材が自己支持性を有することで、後述の太陽光反射装置に設置する際に取り扱い性に優れるとともに、光反射体を保持するための保持部材を簡素な構成とすることが可能となるため、太陽光反射装置を軽量化することが可能となり、たとえば、太陽熱発電の太陽光反射装置として用いた際、太陽追尾の際の消費電力を抑制することが可能となる。   The light reflector has a structure in which a light reflecting film is bonded to a self-supporting base material (support base material) via an adhesive layer. Here, the term “self-supporting” in the case of “self-supporting base material” means that, when cut to a size used as a base material for a light reflector, the opposite edge portions are supported. This means that the substrate has rigidity enough to carry the substrate. When the base material of the light reflector has self-supporting properties, it can be easily handled when installed in the solar light reflection device described later, and the holding member for holding the light reflector can have a simple configuration. Therefore, it is possible to reduce the weight of the solar reflective device. For example, when the solar reflective device is used as a solar reflective device for solar thermal power generation, power consumption during solar tracking can be suppressed.

支持基材は、単層であってもよく、複数の層を積層させた形状であってもよい。また、単一構造であってもよく、複数に分割されていてもよい。基材の形状としては、凹面状の形状を有するまたは凹面状の形状になり得ることが好ましい。そのために、平板状から凹面状の形状に可変である基材を用いてもよいし、凹面状の形状に固定されている基材を用いてもよい。凹面状の形状に可変である基材は、基材の曲率を調整することで、接合されている光反射フィルムの曲率も任意に調整することが可能となるため、反射効率を調整し高い正反射率を得ることができるため好ましい。凹面状の形状が固定されている基材は曲率を調整する必要がなくなるため、調整費用の観点から好ましい。   The support substrate may be a single layer or a shape in which a plurality of layers are laminated. Moreover, a single structure may be sufficient and it may be divided | segmented into plurality. The shape of the substrate is preferably a concave shape or can be a concave shape. Therefore, a base material that is variable from a flat shape to a concave shape may be used, or a base material that is fixed to a concave shape may be used. A base material that can be changed into a concave shape can be adjusted arbitrarily by adjusting the curvature of the base material. It is preferable because reflectance can be obtained. The base material having the concave shape fixed is preferable from the viewpoint of adjustment cost because it is not necessary to adjust the curvature.

支持基材の素材としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板などの金属板、ベニヤ板(好ましくは防水処理がされたもの)などの木板、繊維強化プラスチック(FRP)板、樹脂板(樹脂フィルム)などが挙げられる。また、樹脂と金属板を組み合わせた鋼板を用いることも可能である。   Materials for the supporting substrate include steel plates, copper plates, aluminum plates, aluminum-plated steel plates, aluminum-based alloy-plated steel plates, copper-plated steel plates, tin-plated steel plates, chrome-plated steel plates, stainless steel plates, and veneer plates (preferably waterproofed) Wood board, fiber reinforced plastic (FRP) board, resin board (resin film) and the like. Moreover, it is also possible to use the steel plate which combined resin and a metal plate.

表面層としての樹脂フィルムの材料としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。たとえば、ポリカーボネート系フィルム、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、およびセルロースエステル系フィルム、アクリルフィルムが好ましく、特にポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系フィルムまたはアクリルフィルムを用いることが好ましい。この樹脂フィルムの厚さは、樹脂の種類および目的などに応じて適切な厚さにすることが好ましい。たとえば、一般的には、10〜250μmであり、好ましくは20〜200μmである。   As a material of the resin film as the surface layer, various conventionally known resin films can be used. For example, a polycarbonate film, a polyester film such as polyethylene terephthalate, a norbornene resin film, a cellulose ester film, and an acrylic film are preferable, and a polyester film such as polyethylene terephthalate or an acrylic film is particularly preferable. The thickness of the resin film is preferably an appropriate thickness depending on the type and purpose of the resin. For example, generally, it is 10-250 micrometers, Preferably it is 20-200 micrometers.

<太陽光反射装置>
本発明の好ましい他の形態は、光反射体を有する、太陽光反射装置である。
<Sunlight reflector>
Another preferable embodiment of the present invention is a sunlight reflecting device having a light reflector.

本形態の太陽光反射装置は、太陽熱発電において太陽光を集光に好適に用いられる。本形態の太陽光反射装置は、光反射体および光反射体を保持する保持部材を有する。   The solar light reflection device of this embodiment is suitably used for condensing sunlight in solar thermal power generation. The solar light reflection device of this embodiment includes a light reflector and a holding member that holds the light reflector.

好ましい形態としては、当該太陽光反射装置を太陽熱発電用として場合、内部に流体を有する筒状部材を集熱部として光反射フィルムの近傍に設け、筒状部材に太陽光を反射させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する、一般的にトラフ型と呼ばれる形態が挙げられる。また、その他の形態として、タワー型と呼ばれる形態も挙げられる。タワー型の形態は、少なくとも一つの集熱部と、太陽光を反射して集熱部に照射するための少なくとも一つの太陽熱発電用太陽光反射装置を有しており、集熱部に集められた熱を用いて液体を加熱しタービンを回して発電するものがある。なお、集熱部の周囲に、太陽熱発電用太陽光反射装置が複数配置されていることが好ましい。また、それぞれの太陽熱発電用太陽光反射装置が同心円状や、同心の扇状に複数配置されていることが好ましい。また、支持タワーの周囲に設置された太陽光反射用ミラーにより、太陽光が集光鏡へと反射され、その後、集光鏡によりさらに反射し、集熱部へと送られ熱交換施設へ送られる。本形態の太陽光反射装置はトラフ型、タワー型のどちらにも用いることができる。もちろん、それ以外の種々の太陽熱発電に用いることができる。   As a preferable form, when the solar light reflection device is used for solar power generation, a cylindrical member having a fluid inside is provided as a heat collecting part in the vicinity of the light reflecting film, and the solar light is reflected on the cylindrical member so as to reflect the sunlight. A form generally called a trough type is mentioned in which the fluid is heated and the heat energy is converted to generate electricity. Moreover, the form called a tower type | mold is also mentioned as another form. The tower-type configuration has at least one heat collecting part and at least one solar power solar reflection device for reflecting sunlight and irradiating the heat collecting part, and is collected in the heat collecting part. There is one that uses liquid heat to heat a liquid and turn a turbine to generate electricity. In addition, it is preferable that a plurality of solar power generation solar reflective devices are arranged around the heat collection unit. Moreover, it is preferable that a plurality of solar reflective devices for solar thermal power generation are arranged concentrically or in a concentric fan shape. In addition, sunlight is reflected to the collector mirror by the sunlight reflecting mirrors installed around the support tower, and then reflected further by the collector mirror and sent to the heat collector and sent to the heat exchange facility. It is done. The solar light reflection device of this embodiment can be used for both trough type and tower type. Of course, it can be used for various other types of solar thermal power generation.

太陽光反射装置は、光反射体を保持する保持部材を有する。保持部材は、光反射体が太陽を追尾可能な状態で保持する事が好ましい。保持部材の形態としては、特に制限はないが、たとえば、光反射体が所望の形状を保持できるように、複数個所を棒状の保持部材により、保持する形態が好ましい。保持部材は太陽を追尾可能な状態で光反射体を保持する構成を有することが好ましいが、太陽追尾に際しては、手動で駆動させてもよいし、別途駆動装置を設けて自動的に太陽を追尾する構成としてもよい。   The sunlight reflecting device has a holding member that holds the light reflector. The holding member is preferably held in a state in which the light reflector can track the sun. Although there is no restriction | limiting in particular as a form of a holding member, For example, the form which hold | maintains several places with a rod-shaped holding member is preferable so that a light reflector can hold | maintain a desired shape. The holding member preferably has a configuration for holding the light reflector in a state where the sun can be tracked. However, when the sun is tracked, it may be driven manually, or a separate driving device may be provided to automatically track the sun. It is good also as composition to do.

本発明の効果を、以下の実施例および比較例を用いて説明する。ただし、本発明の技術的範囲が以下の実施例のみに制限されるわけではない。なお、下記実施例において、また、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温(20〜25℃)/相対湿度40〜50%の条件で行われた。さらに、特記しない限り、「%」および「部」は、それぞれ、「質量%」および「質量部」を意味する。   The effects of the present invention will be described using the following examples and comparative examples. However, the technical scope of the present invention is not limited only to the following examples. In addition, in the following Examples, unless otherwise specified, measurements of operation and physical properties were performed under conditions of room temperature (20 to 25 ° C.) / Relative humidity 40 to 50%. Further, unless otherwise specified, “%” and “part” mean “% by mass” and “part by mass”, respectively.

<光反射フィルムの作製>
(実施例1)
(樹脂基材1)
樹脂基材として、2軸延伸ポリエステルフィルム(東洋紡株式会社製、易接着層付きポリエチレンテレフタレートA4300、厚み50μm)を用意した。
<Production of light reflecting film>
Example 1
(Resin substrate 1)
A biaxially stretched polyester film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., polyethylene terephthalate A4300 with an easy-adhesion layer, thickness 50 μm) was prepared as a resin substrate.

(樹脂基材2)
樹脂基材として、ポリエステルフィルム(帝人デュポンフィルム株式会社製、テトロン(登録商標)フィルムHB、厚み25μm)を用意した。
(Resin substrate 2)
A polyester film (manufactured by Teijin DuPont Films, Tetron (registered trademark) film HB, thickness 25 μm) was prepared as a resin substrate.

(アンカー層用溶液の調製)
スーパーベッカミン(登録商標)J−820(メラミン樹脂、DIC株式会社製)を固形分濃度が5質量%となるように、メチルエチルケトン(MEK)中に混合して、アンカー層用溶液を調製した。
(Preparation of anchor layer solution)
Super Becamine (registered trademark) J-820 (melamine resin, manufactured by DIC Corporation) was mixed in methyl ethyl ketone (MEK) so that the solid content concentration was 5% by mass to prepare an anchor layer solution.

(紫外線吸収層用溶液の調製)
ポリメチルメタクリレート(PMMA)樹脂(三菱レイヨン株式会社製、EMB457)、アクリルゴム(旭化成ケミカルズ株式会社製、SRB215)、酸化亜鉛紫外線吸収剤(住友大阪セメント株式会社製、ZnO−350)を、混合比が17:3:1.5(固形分質量比率)で、固形分濃度が25質量%となるように、メチルエチルケトン(MEK)中に混合して、紫外線吸収層用溶液を調製した。
(Preparation of UV absorbing layer solution)
Polymethyl methacrylate (PMMA) resin (Mitsubishi Rayon Co., Ltd., EMB457), acrylic rubber (Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd., SRB215), zinc oxide UV absorber (Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd., ZnO-350) Was mixed in methyl ethyl ketone (MEK) so that the solid concentration was 25: 3% by mass at 17: 3: 1.5 (solid content mass ratio) to prepare an ultraviolet absorbing layer solution.

(ハードコート層用溶液の調製)
シリコーン系ハードコート剤(サーコート(商標)B16N、株式会社動研製、固形分濃度45質量%)を、1−プロパノールで希釈して固形分濃度30質量%として、ハードコート層用溶液を調製した。
(Preparation of hard coat layer solution)
A solution for a hard coat layer was prepared by diluting a silicone hard coat agent (Surcoat (trademark) B16N, manufactured by Doken Co., Ltd., solid content concentration: 45% by mass) with 1-propanol to a solid content concentration of 30% by mass.

(腐食防止層用溶液の調製)
上記アンカー層用溶液に、さらに腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテートを、塗布後に厚み50nmにおいて0.3g/mとなる量で添加し、腐食防止層用溶液を調製した。
(Preparation of solution for corrosion prevention layer)
To the anchor layer solution, glycol dimercaptoacetate was further added as a corrosion inhibitor in an amount of 0.3 g / m 2 at a thickness of 50 nm after coating to prepare a solution for corrosion prevention layer.

(接着層用溶液の調製)
ポリエスター(登録商標)SP181(ポリエステル系樹脂、日本合成化学工業株式会社製)、スーパーベッカミン(登録商標)J−820(メラミン樹脂、DIC株式会社製)、TDI(トルエンジイソシアネート)系イソシアネートである2,4−トリレンジイソシアネート、HMDI系イソシアネートである1,6−ヘキサメチレンジイソシアネートを、混合比が20:1:1:2(固形分質量比)で、固形分濃度10質量%となるように、トルエン中に混合して、接着層用溶液を調整した。
(Preparation of adhesive layer solution)
Polyester (registered trademark) SP181 (polyester resin, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), Super Becamine (registered trademark) J-820 (melamine resin, manufactured by DIC Corporation), and TDI (toluene diisocyanate) based isocyanate. 2,4-tolylene diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, which is an HMDI-based isocyanate, so that the mixing ratio is 20: 1: 1: 2 (solid content mass ratio) and the solid content concentration is 10% by mass. The solution for adhesive layer was prepared by mixing in toluene.

(光反射フィルムの作製)
樹脂基材2の片面に、前記アンカー層用溶液を、バーコーターで塗布して、100℃で2分間乾燥することによって、厚み(乾燥膜厚)0.05μm(50nm)厚のアンカー層を形成した。さらに、前記アンカー層の上に、光反射層として、真空蒸着法にて厚み0.1μm(100nm)の銀反射層を形成した。その後、銀反射層の上に、前記腐食防止層用溶液を、バーコーターで塗布して、100℃で2分間乾燥することによって、厚み(乾燥膜厚)0.05μm(50nm)厚の腐食防止層を形成した。次いで、前記樹脂基材2のアンカー層を形成した面とは反対側の面に、前記紫外線吸収層用溶液を、バーコーターで塗布して、80℃で2分間乾燥することによって、厚み(乾燥膜厚)30μmの紫外線吸収層を形成した。その後、前記紫外線吸収層の上に、前記ハードコート層用溶液をバーコーターにてコーティングして、100℃で2分間乾燥することにより、厚み3μmのハードコート層を形成した。その後、前記腐食防止層上に、前記接着層用溶液をバーコーターで塗布して、80℃で2分間乾燥して接着層を形成した後、前記接着層と前記樹脂基材1とを貼合した。この際に塗布流量を調整することによって、接着層の厚み(乾燥膜厚)を30μmとした。そして巻き取り張力を150Nに設定して直径6インチのコアに巻き取り、実施例1の光反射フィルムを完成させた。
(Production of light reflecting film)
An anchor layer having a thickness (dry film thickness) of 0.05 μm (50 nm) is formed by applying the anchor layer solution on one surface of the resin base material 2 with a bar coater and drying at 100 ° C. for 2 minutes. did. Further, a silver reflective layer having a thickness of 0.1 μm (100 nm) was formed as a light reflective layer on the anchor layer by a vacuum deposition method. After that, the solution for corrosion prevention layer is coated on the silver reflective layer with a bar coater and dried at 100 ° C. for 2 minutes to prevent corrosion with a thickness (dry film thickness) of 0.05 μm (50 nm). A layer was formed. Next, the ultraviolet ray absorbing layer solution is applied to the surface of the resin base material 2 opposite to the surface on which the anchor layer is formed with a bar coater and dried at 80 ° C. for 2 minutes to obtain a thickness (dry). A film thickness of 30 μm ultraviolet absorbing layer was formed. Thereafter, the hard coat layer solution was coated on the ultraviolet absorbing layer with a bar coater and dried at 100 ° C. for 2 minutes to form a hard coat layer having a thickness of 3 μm. Thereafter, the adhesive layer solution is applied onto the corrosion prevention layer with a bar coater, dried at 80 ° C. for 2 minutes to form an adhesive layer, and then the adhesive layer and the resin substrate 1 are bonded together. did. At this time, the thickness (dry film thickness) of the adhesive layer was adjusted to 30 μm by adjusting the coating flow rate. And the winding tension | tensile_strength was set to 150 N and it wound up on a 6-inch diameter core, and the light reflection film of Example 1 was completed.

(実施例2)
実施例1の紫外線吸収層の厚みを5μmとした以外は同様にして、実施例2の光反射フィルムを作製した。
(Example 2)
A light reflecting film of Example 2 was produced in the same manner except that the thickness of the ultraviolet absorbing layer of Example 1 was changed to 5 μm.

(実施例3)
実施例1の紫外線吸収層の厚みを10μmとした以外は同様にして、実施例3の光反射フィルムを作製した。
Example 3
A light reflecting film of Example 3 was produced in the same manner except that the thickness of the ultraviolet absorbing layer of Example 1 was 10 μm.

(実施例4)
実施例1の紫外線吸収層の厚みを20μmとした以外は同様にして、実施例4の光反射フィルムを作製した。
Example 4
A light reflecting film of Example 4 was produced in the same manner except that the thickness of the ultraviolet absorbing layer of Example 1 was 20 μm.

(実施例5)
実施例4の接着層の厚みを3μmとした以外は同様にして、実施例5の光反射フィルムを作製した。
(Example 5)
A light reflecting film of Example 5 was produced in the same manner except that the thickness of the adhesive layer of Example 4 was 3 μm.

(実施例6)
実施例4の接着層の厚みを10μmとした以外は同様にして、実施例6の光反射フィルムを作製した。
(Example 6)
A light reflecting film of Example 6 was produced in the same manner except that the thickness of the adhesive layer of Example 4 was 10 μm.

(実施例7)
実施例4の接着層の厚みを20μmとした以外は同様にして、実施例7の光反射フィルムを作製した。
(Example 7)
A light reflecting film of Example 7 was produced in the same manner except that the thickness of the adhesive layer of Example 4 was 20 μm.

(比較例1)
実施例1の紫外線吸収層の形成を行わなかったこと、および巻き取り張力を、250Nに変更した以外は同様にして、比較例1の光反射フィルムを作製した。
(Comparative Example 1)
A light reflecting film of Comparative Example 1 was produced in the same manner except that the ultraviolet absorbing layer of Example 1 was not formed and the winding tension was changed to 250N.

(比較例2)
実施例1の腐食防止層用溶液をバーコーターで塗布した後の乾燥を、50℃で3分間に変更した以外は同様にして、比較例2の光反射フィルムを作製した。
(Comparative Example 2)
A light reflecting film of Comparative Example 2 was produced in the same manner except that the drying after applying the solution for the corrosion preventing layer of Example 1 with a bar coater was changed to 50 ° C. for 3 minutes.

(比較例3)
実施例1の巻き取り張力を、250Nに変更した以外は同様にして、比較例3の光反射フィルムを作製した。
(Comparative Example 3)
A light reflecting film of Comparative Example 3 was produced in the same manner except that the winding tension of Example 1 was changed to 250N.

(実施例8)
樹脂基材2、アンカー層用溶液、紫外線吸収層用溶液、ハードコート層用溶液、および腐食防止層用溶液として、実施例1と同様のものを用いた。
(Example 8)
As the resin substrate 2, the anchor layer solution, the ultraviolet absorbing layer solution, the hard coat layer solution, and the corrosion prevention layer solution, the same ones as in Example 1 were used.

(光反射フィルムの作製)
樹脂基材2の片面に、前記アンカー層用溶液を、バーコーターで塗布して、100℃で2分間乾燥することによって、厚み(乾燥膜厚)0.05μm(50nm)厚のアンカー層を形成した。さらに、前記アンカー層の上に、光反射層として、真空蒸着法にて厚み100nmの銀反射層を形成した。その後、銀反射層の上に、前記腐食防止層用溶液を、バーコーターで塗布して、100℃で2分間乾燥することによって、厚み(乾燥膜厚)0.05μm(50nm)厚の腐食防止層を形成した。次いで、前記腐食防止層の上に、前記紫外線吸収層用溶液を、バーコーターで塗布して、80℃で2分間乾燥することによって、厚み(乾燥膜厚)20μmの紫外線吸収層を形成した。その後、前記紫外線吸収層の上に、前記ハードコート層用溶液をバーコーターにてコーティングして、100℃で2分間乾燥することにより、厚み3μmのハードコート層を形成した。そして、巻き取り張力を150Nに設定して直径6インチのコアに巻き取り、実施例8の光反射フィルムを完成させた。
(Production of light reflecting film)
An anchor layer having a thickness (dry film thickness) of 0.05 μm (50 nm) is formed by applying the anchor layer solution on one surface of the resin base material 2 with a bar coater and drying at 100 ° C. for 2 minutes. did. Furthermore, a silver reflective layer having a thickness of 100 nm was formed as a light reflective layer on the anchor layer by a vacuum deposition method. After that, the solution for corrosion prevention layer is coated on the silver reflective layer with a bar coater and dried at 100 ° C. for 2 minutes to prevent corrosion with a thickness (dry film thickness) of 0.05 μm (50 nm). A layer was formed. Next, the ultraviolet absorbing layer solution was applied on the corrosion prevention layer with a bar coater and dried at 80 ° C. for 2 minutes to form an ultraviolet absorbing layer having a thickness (dry film thickness) of 20 μm. Thereafter, the hard coat layer solution was coated on the ultraviolet absorbing layer with a bar coater and dried at 100 ° C. for 2 minutes to form a hard coat layer having a thickness of 3 μm. And the winding tension | tensile_strength was set to 150 N and it wound up on a 6-inch diameter core, and the light reflection film of Example 8 was completed.

(比較例4)
前記実施例8の紫外線吸収層の形成を行わなかったこと、および巻き取り張力を、250Nに変更した以外は同様にして、比較例4の光反射フィルムを作製した。
(Comparative Example 4)
A light reflecting film of Comparative Example 4 was produced in the same manner except that the ultraviolet absorbing layer of Example 8 was not formed and the winding tension was changed to 250N.

上記作製した光反射フィルムの特徴を、下記表1に示す。   The characteristics of the produced light reflecting film are shown in Table 1 below.

<光反射フィルムの評価>
[写像性]
上記作製した各光反射フィルムを、RHOPOINT社製RHOPOINT IQを用いて、ASTM D5767−95(2012)に準拠した方法でハードコート層の紫外線吸収層とは反対の側から測定した。
<Evaluation of light reflecting film>
[Image clarity]
Each of the produced light reflecting films was measured from the opposite side of the hard coat layer to the ultraviolet absorbing layer by a method according to ASTM D5767-95 (2012) using RHOPOINT IQ manufactured by RHOPOINT.

[耐候性試験]
上記作製した各光反射フィルムを、 北緯33.5°西経112°海抜高度610mの米国アリゾナ州の屋外曝露試験場にてASTM G90 − 10 Standard Practice for Performing Accelerated Outdoor Weathering of Nonmetallic Materials Using Concentrated Natural Sunlightに沿って太陽光下曝露を6ヶ月間実施した。
[Weather resistance test]
Each of the produced light reflecting films was subjected to ASTM G90-10 Standard Practicing and Performing Outer Natural Heating of Natural Measured at an outdoor exposure test site in Arizona, USA at 33.5 ° N. 112 ° N. Altitude, 610m above sea level. Exposure to sunlight for 6 months.

[密着性の評価(クロスカット試験)]
上記耐候性試験の後、JIS K 5600−5−6:1999に準拠した碁盤目試験を行った。具体的には、ハードコート層を形成した面側に、1mm間隔で縦、横に11本の切れ目を入れ、1mm角の碁盤目を100個作製した。この上にセロハンテープを貼り付け、90度の角度で素早く剥がし、剥がれずに残った碁盤目の数を測定し、下記の基準に従って、樹脂基材と紫外線遮蔽層との密着性評価を評価した。なお、評価は4以上が実用的な特性であると判断した。
[Evaluation of adhesion (cross-cut test)]
After the weather resistance test, a cross-cut test based on JIS K 5600-5-6: 1999 was performed. Specifically, 11 cuts were made vertically and horizontally at intervals of 1 mm on the surface side on which the hard coat layer was formed, and 100 1 mm square grids were produced. A cellophane tape was affixed on this, peeled off quickly at an angle of 90 degrees, the number of grids remaining without peeling was measured, and the evaluation of adhesion between the resin substrate and the ultraviolet shielding layer was evaluated according to the following criteria. . In addition, the evaluation judged that 4 or more were practical characteristics.

5:剥離がまったく認められない
4:剥離した碁盤目数が、1個以上、5個以下である
3:剥離した碁盤目数が、6個以上、10個以下である
2:剥離した碁盤目数が、11個以上、20個以下である
1:剥離した碁盤目数が、21個以上である。
5: No separation is observed 4: The number of peeled grids is 1 or more and 5 or less 3: The number of peeled grids is 6 or more and 10 or less 2: Stripped grids The number is 11 or more and 20 or less. 1: The number of peeled grids is 21 or more.

[クラック観察]
上記耐候性試験の後、蛍光灯下において10cm×10cm内のクラックの本数を確認した。なお、評価は4以上が実用的な特性であると判断した。
[Crack observation]
After the weather resistance test, the number of cracks within 10 cm × 10 cm was confirmed under a fluorescent lamp. In addition, the evaluation judged that 4 or more were practical characteristics.

5:傷がまったく認められない
4:1センチ以上の傷が、1本以上、5本以下である
3:1センチ以上の傷が、6本以上、10本以下である
2:1センチ以上の傷が、11本以上、20本以下である
1:1センチ以上の傷が、21本以上である。
5: Scratches are not recognized at all 4: 1 cm or more scratches are 1 or more and 5 or less 3: 1 cm or more scratches are 6 or more and 10 or less 2: 1 cm or more The number of scratches is 11 or more and 20 or less. The number of scratches of 1: 1 cm or more is 21 or more.

[集熱管への集光効率]
上記耐候性試験の後、10cm×10cmの光反射フィルムを0.8mmのアルミ板に粘着層を介して貼りあわせ、開口部7cmの凹面状に曲げて光反射体を作製した。波長532nmのレーザー光を光反射フィルム表面で反射させ、反射光をパワーメータにて検出した。集光効率は、耐候光試験前の実施例1の光反射フィルムの反射光のパワーメータ検出量を100として、耐候試験前の光反射フィルム1の反射光のパワーメータ検出量を基準とした、各フィルムの耐候試験前および耐候性試験後のパワーメータにて検出された反射光量で表現した。
[Condensation efficiency to the heat collection tube]
After the weather resistance test, a 10 cm × 10 cm light reflecting film was bonded to a 0.8 mm aluminum plate via an adhesive layer, and bent into a concave shape with an opening of 7 cm to prepare a light reflector. Laser light having a wavelength of 532 nm was reflected on the surface of the light reflection film, and the reflected light was detected with a power meter. The light collection efficiency is based on the power meter detection amount of the reflected light of the light reflection film 1 before the weather test, with the power meter detection amount of the reflected light of the light reflection film of Example 1 before the weather resistance test as 100. The amount of reflected light detected by a power meter before and after the weather resistance test of each film was expressed.

以上の評価結果を表1に示す。   The above evaluation results are shown in Table 1.

表1に示す結果から、本発明の実施例1〜7の光反射フィルムは、本発明の構成を有していない比較例1〜3の光反射フィルムと比較して、初期の集光効率が良好であり、屋外環境下経時による集光効率の低下、クラックの発生、および密着性の低下が抑制されることが確認された。   From the results shown in Table 1, the light reflecting films of Examples 1 to 7 of the present invention have an initial light collection efficiency compared to the light reflecting films of Comparative Examples 1 to 3 that do not have the configuration of the present invention. It was confirmed that reduction in light collection efficiency, generation of cracks, and deterioration in adhesion due to aging in an outdoor environment were suppressed.

また、実施例1とは異なる構成の光反射フィルムの比較においても、本発明の実施例8の光反射フィルムは、本発明の構成を有していない比較例4の光反射フィルムと比較して、優れた特性を有することが確認された。   Moreover, also in the comparison of the light reflection film of a structure different from Example 1, the light reflection film of Example 8 of this invention is compared with the light reflection film of the comparative example 4 which does not have the structure of this invention. It was confirmed that it has excellent characteristics.

10 光反射フィルム
11 ハードコート層
12 紫外線吸収層
13 光反射層
14、18 樹脂基材
15 接着層
16 アンカー層
17 腐食防止層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Light reflection film 11 Hard coat layer 12 Ultraviolet absorption layer 13 Light reflection layers 14 and 18 Resin base material 15 Adhesive layer 16 Anchor layer 17 Corrosion prevention layer

Claims (6)

少なくとも1つの樹脂基材と、ハードコート層と、紫外線吸収層と、光反射層とを有し、前記ハードコート層と、前記紫外線吸収層と、前記光反射層とが、この順に配置され、且つASTM D5767−95(2012)に準拠した方法で、前記ハードコート層の前記紫外線吸収層とは反対の側から測定された写像性(DOI)値が97.0〜100.0である、光反射フィルム。   It has at least one resin base material, a hard coat layer, an ultraviolet absorption layer, and a light reflection layer, and the hard coat layer, the ultraviolet absorption layer, and the light reflection layer are arranged in this order, In addition, in a method according to ASTM D5767-95 (2012), the image clarity (DOI) value measured from the side opposite to the ultraviolet absorbing layer of the hard coat layer is 97.0 to 100.0. Reflective film. 前記光反射層の前記紫外線吸収層とは反対の側に、さらに接着層を有する、請求項1に記載の光反射フィルム。   The light reflecting film according to claim 1, further comprising an adhesive layer on a side of the light reflecting layer opposite to the ultraviolet absorbing layer. 前記接着層の厚みが、5〜25μmである、請求項1または2に記載の光反射フィルム。   The light reflecting film according to claim 1 or 2, wherein the adhesive layer has a thickness of 5 to 25 µm. 前記紫外線吸収層の厚みが、10〜25μmである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の光反射フィルム。   The light reflecting film according to claim 1, wherein the ultraviolet absorbing layer has a thickness of 10 to 25 μm. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の光反射フィルムが支持基材に接合されてなる、光反射体。   The light reflection body by which the light reflection film of any one of Claims 1-4 is joined to a support base material. 請求項5に記載の光反射体を有する、太陽光反射装置。   A solar light reflection device comprising the light reflector according to claim 5.
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