JP2015090395A - Sunlight reflective film, and sunlight reflector and sunlight reflecting device having the same - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sunlight reflective film which is capable of efficiently reflecting sunlight and offers superior durability.SOLUTION: A sunlight reflective film of the present invention includes, in order from a light incident side, an ultraviolet blocking layer for partially blocking ultraviolet rays, an ultraviolet reflective laminate layer containing at least one type of inorganic oxide, and a silver reflective layer. The ultraviolet blocking layer has a light transmittance of 10% or less at a wavelength of 350 nm and 50% or greater at a wavelength of 370 nm.

Description

本発明は、太陽光を効率よく反射することが可能であり、耐久性に優れた太陽光反射フィルム、ならびにこれを用いた太陽光反射体および太陽光反射装置に関する。   The present invention relates to a sunlight reflecting film that can efficiently reflect sunlight and has excellent durability, and a sunlight reflector and a sunlight reflecting device using the same.

近年、地球温暖化は一層深刻化しており、その主因は、化石燃料の二酸化炭素といわれている。   In recent years, global warming has become more serious, and the main cause is said to be carbon dioxide, a fossil fuel.

化石燃料の代替エネルギーとして、太陽光、風力、地熱等の自然エネルギーを利用した発電技術の開発が行われているが、太陽光を利用した発電は、安定性およびエネルギー量の豊富さから特に注目されている。   Power generation technology that uses natural energy such as sunlight, wind power, and geothermal heat is being developed as an alternative energy to fossil fuels. However, power generation using sunlight is particularly focused because of its abundance of stability and energy. Has been.

太陽熱発電では、太陽光を反射体(鏡)により反射させて一か所に集光する集光装置が用いられる。当該反射体は太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐等に晒されるため、耐久性の観点から従来はガラス製光反射体が用いられてきた。しかしながら、ガラス製光反射体は、輸送時に破損する、重いため設置するのに高強度の架台が必要となりプラントの建設費がかさむ、といった問題を有していた。   In solar thermal power generation, a condensing device that reflects sunlight by a reflector (mirror) and condenses it in one place is used. Since the reflector is exposed to ultraviolet rays, heat, wind and rain, and sandstorms caused by sunlight, a glass light reflector has been conventionally used from the viewpoint of durability. However, the light reflector made of glass has a problem that it is damaged during transportation, and because it is heavy, a high-strength gantry is required to install it, which increases the construction cost of the plant.

上記問題を解決するために、ガラス製光反射体に代えて耐久性を高めた樹脂製光反射フィルムを支持体に貼付して光反射体として用いるという試みがなされている。例えば、特許文献1には、反射性金属層と、多層ポリマーフィルムとを含む金属被覆多層ミラーが開示されている。   In order to solve the above problems, an attempt has been made to attach a resin light reflecting film with improved durability instead of a glass light reflecting member to a support and use it as a light reflecting member. For example, Patent Document 1 discloses a metal-coated multilayer mirror including a reflective metal layer and a multilayer polymer film.

さらに、紫外光線エネルギーを発電に利用するために、紫外光を可視光や赤外光と同じ方向に反射させて受光部に集めるべく、紫外光を反射する手段として、特許文献2には高屈折率材料と低屈折率材料を積層させてなる誘電体多層膜(紫外線反射層)を形成する技術が開示されている。このような紫外線反射層と、金属蒸着膜とを有する積層体は、紫外〜赤外領域の光を反射することができるため、太陽光が効果的に反射できる。   Further, in order to use ultraviolet light energy for power generation, Patent Document 2 discloses a high refractive index as a means for reflecting ultraviolet light so that ultraviolet light is reflected in the same direction as visible light and infrared light and collected in the light receiving part. A technique for forming a dielectric multilayer film (ultraviolet reflective layer) formed by laminating a refractive index material and a low refractive index material is disclosed. Since the laminated body having such an ultraviolet reflective layer and a metal vapor deposition film can reflect light in the ultraviolet to infrared region, sunlight can be effectively reflected.

米国特許第6088163号明細書US Pat. No. 6088163 欧州特許出願公開第2204624号明細書European Patent Application No. 2204624

上記特許文献1の金属被覆多層ミラーや、特許文献2の積層体は、太陽光に含まれる紫外線を効率よく反射させて利用することができる。しかしながら、これらの技術による太陽光反射フィルムは、太陽光の反射効率に優れるものの、耐久性のさらなる向上が求められる。   The metal-coated multilayer mirror of Patent Document 1 and the laminate of Patent Document 2 can be used by efficiently reflecting ultraviolet rays contained in sunlight. However, although the solar reflective film by these techniques is excellent in the sunlight reflective efficiency, the further improvement of durability is calculated | required.

そこで本発明は、太陽光を効率よく反射することが可能であり、耐久性に優れた太陽光反射フィルムを提供することを目的とする。また、本発明の他の目的は、太陽光を効率よく反射することが可能であり、耐久性に優れた太陽光反射体および太陽光反射装置を提供することにある。   Therefore, an object of the present invention is to provide a sunlight reflecting film that can efficiently reflect sunlight and has excellent durability. Another object of the present invention is to provide a sunlight reflector and a sunlight reflector that can efficiently reflect sunlight and have excellent durability.

本発明者は、上記の問題を解決すべく、鋭意研究を行った。その結果、紫外線の一部を遮断する紫外線遮断層と、少なくとも1種の無機酸化物を含む紫外線反射積層部と、銀反射層とが、光が入射する側から順に配置された太陽光反射フィルムにおいて、前記紫外線遮断層の特定の波長における光透過率が特定の範囲内にあることで、太陽光を効率よく反射することが可能であり、耐久性に優れた太陽光反射フィルムが得られることを見出し、本発明を完成させるに至った。   The present inventor has intensively studied to solve the above problems. As a result, a solar reflective film in which an ultraviolet blocking layer that blocks a part of ultraviolet rays, an ultraviolet reflective laminated portion including at least one inorganic oxide, and a silver reflective layer are arranged in this order from the light incident side. In the above, the light transmittance at a specific wavelength of the ultraviolet blocking layer is within a specific range, so that it is possible to reflect sunlight efficiently and to obtain a solar reflective film excellent in durability. As a result, the present invention has been completed.

すなわち、本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。   That is, the above object of the present invention is achieved by the following configuration.

1.光が入射する側から順に、紫外線の一部を遮断する紫外線遮断層と、少なくとも1種の無機酸化物を含む紫外線反射積層部と、銀反射層と、を有し、
紫外線遮断層は、波長350nmにおける光透過率が10%以下であり、かつ、波長370nmにおける光透過率が50%以上である、太陽光反射フィルム。
1. In order from the light incident side, it has an ultraviolet blocking layer that blocks a part of ultraviolet rays, an ultraviolet reflecting laminated portion containing at least one inorganic oxide, and a silver reflecting layer,
The ultraviolet blocking layer has a light transmittance at a wavelength of 350 nm of 10% or less and a light reflection film at a wavelength of 370 nm of 50% or more.

2.紫外線遮断層が、2,4,6−トリス(4−ビフェニリル)−1,3,5−トリアジンまたはその誘導体を含む、上記1.に記載の太陽光反射フィルム。   2. 1. The ultraviolet blocking layer comprises 2,4,6-tris (4-biphenylyl) -1,3,5-triazine or a derivative thereof. The solar reflective film as described in 2.

3.紫外線遮断層が、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タングステンの少なくとも1種を含む、上記1.または2.に記載の太陽光反射フィルム。   3. 1. The ultraviolet shielding layer contains at least one of titanium oxide, zirconium oxide, and tungsten oxide. Or 2. The solar reflective film as described in 2.

4.紫外線反射積層部が、高屈折率層と低屈折率層とを積層したユニットを少なくとも1つ含み、
高屈折率層および低屈折率層はともに少なくとも1種のポリビニルアルコールを含有し、
低屈折率層中で最も含有量の多いポリビニルアルコールをポリビニルアルコール(A)とし、高屈折率層中で最も含有量の多いポリビニルアルコールをポリビニルアルコール(B)とした場合に、
ポリビニルアルコール(A)の鹸化度と、ポリビニルアルコール(B)の鹸化度とが異なる、上記1.〜3.のいずれかに記載の太陽光反射フィルム。
4). The ultraviolet reflective laminate includes at least one unit in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are laminated,
Both the high refractive index layer and the low refractive index layer contain at least one polyvinyl alcohol,
When the polyvinyl alcohol (A) having the highest content in the low refractive index layer is polyvinyl alcohol (A) and the polyvinyl alcohol having the highest content in the high refractive index layer is polyvinyl alcohol (B),
1. The saponification degree of polyvinyl alcohol (A) and the saponification degree of polyvinyl alcohol (B) are different. ~ 3. The solar reflective film in any one of.

5.上記1.〜4.のいずれかに記載の太陽光反射フィルムを有する、太陽光反射体。   5. Above 1. ~ 4. A solar reflector comprising the solar reflective film according to any one of the above.

6.上記5.に記載の太陽光反射体を有する、太陽光反射装置。   6). 5. above. A solar light reflection device having the solar light reflector described in 1.

本発明によれば、太陽光を効率よく反射することが可能であり、耐久性に優れた太陽光反射フィルムが提供されうる。また、本発明によれば、太陽光を効率よく反射することが可能であり、耐久性に優れた太陽光反射体および太陽光反射装置が提供されうる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, sunlight can be reflected efficiently and the sunlight reflective film excellent in durability can be provided. Moreover, according to this invention, sunlight can be reflected efficiently and the sunlight reflector and sunlight reflecting device excellent in durability can be provided.

本発明の実施形態に係る太陽光反射フィルムの一形態を模式的に表す断面図である。It is sectional drawing which represents typically one form of the sunlight reflective film which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る太陽光反射フィルムの他の形態を模式的に表す断面図である。It is sectional drawing which represents typically the other form of the sunlight reflective film which concerns on embodiment of this invention.

以下、本発明の好ましい形態について説明するが、本発明の技術的範囲は特許請求の範囲の記載に基づいて定められるべきであり、以下の形態のみに制限されない。   Hereinafter, although the preferable form of this invention is demonstrated, the technical scope of this invention should be defined based on description of a claim, and is not restrict | limited only to the following forms.

本発明の第一は、光が入射する側から順に、紫外線の一部を遮断する紫外線遮断層と、少なくとも1種の無機酸化物を含む紫外線反射積層部と、銀反射層と、を有し、紫外線遮断層は、波長350nmにおける光透過率が10%以下であり、かつ、波長370nmにおける光透過率が50%以上である、太陽光反射フィルムを提供する。   A first aspect of the present invention includes, in order from the light incident side, an ultraviolet blocking layer that blocks a part of ultraviolet rays, an ultraviolet reflecting laminated portion including at least one inorganic oxide, and a silver reflecting layer. The ultraviolet blocking layer provides a solar reflective film having a light transmittance of 10% or less at a wavelength of 350 nm and a light transmittance of 50% or more at a wavelength of 370 nm.

本発明の太陽光反射フィルムは、紫外領域の光もまた効率よく発電利用するために、赤外〜可視光線を反射する銀反射層だけでなく、少なくとも1種の無機酸化物を含む紫外線反射積層部を有している。しかしながら、本発明者は、少なくとも1種の無機酸化物を含む層を有する構造の太陽光反射フィルムについて、耐久性が必ずしも十分でなく、長期間太陽光に曝されると、太陽光を反射する効果が低下することがあることを見出した。   The solar reflective film of the present invention is not only a silver reflective layer that reflects infrared to visible light, but also an ultraviolet reflective laminate containing at least one inorganic oxide in order to efficiently use light in the ultraviolet region. Has a part. However, the present inventor does not necessarily have sufficient durability for a solar reflective film having a layer containing at least one inorganic oxide, and reflects sunlight when exposed to sunlight for a long period of time. It has been found that the effect may be reduced.

そして、上記問題点について検討を進めたところ、太陽光反射フィルムにおいて、特許文献2のように、高屈折率材料と低屈折率材料を積層させてなる誘電体多層膜からなる紫外線反射積層部を有する場合、特にその傾向が顕著になるという知見が得られた。   And when the above problems were studied, in the solar reflective film, as disclosed in Patent Document 2, an ultraviolet reflective laminated portion composed of a dielectric multilayer film obtained by laminating a high refractive index material and a low refractive index material was used. When it has, the knowledge that the tendency becomes remarkable was acquired.

かような知見に基づき、本発明者は、紫外線反射積層部よりも光の入射側に紫外線遮断層を設け、さらに、当該紫外線遮断層の透過率を上記の通り、ある領域では光透過率を高くし、またある領域は光透過率を低くすることにより、耐久性を向上させられることを見出し、本発明に至った次第である。   Based on such knowledge, the present inventor has provided an ultraviolet blocking layer on the light incident side of the ultraviolet reflecting laminated portion, and further, the transmittance of the ultraviolet blocking layer is as described above, and the light transmittance in a certain region is increased. It has been found that the durability can be improved by increasing the light transmittance and decreasing the light transmittance in a certain region, and as soon as the present invention has been achieved.

上記の本発明の構成による作用効果の発揮のメカニズムは、以下のように推測される。   The mechanism for exerting the operational effects of the above-described configuration of the present invention is presumed as follows.

太陽光反射フィルムでは、紫外線反射積層部において適当な波長の光を効率よく反射させることが求められる。そのため、紫外線反射積層部は、適当な波長の光の反射効率を高くするため、高屈折率層と低屈折率層とを多数積層させた構成が採用される。ここで、紫外線反射積層部を構成する高屈折率層と低屈折率層との間において有意に大きい屈折率差を得ることで効率よく紫外線を反射させるために、高屈折率層と低屈折率層のうち、少なくとも一方は、無機酸化物を用いて形成される。しかしながら、当該無機酸化物に紫外線が照射されると、無機酸化物が触媒作用を示し、その結果、紫外線反射積層部が劣化してしまう。より詳細には、無機酸化物は、適当な樹脂(バインダ)と共に紫外線反射積層部を構成するが、樹脂内に包含された無機酸化物に対して紫外線が照射されると、無機酸化物が触媒として作用し、樹脂(バインダ)を劣化させる反応が進行する。つまり、無機酸化物を含む紫外線反射積層部を設けることによって紫外領域の光を反射させて有効に利用することができる一方で、無機酸化物の触媒作用(光触媒作用)に起因して、紫外線反射積層部の劣化が進行すると考えられる。   A solar reflective film is required to efficiently reflect light having an appropriate wavelength in the ultraviolet reflective laminate. Therefore, in order to increase the reflection efficiency of light having an appropriate wavelength, the ultraviolet reflection laminated portion adopts a configuration in which a large number of high refractive index layers and low refractive index layers are laminated. Here, in order to reflect ultraviolet rays efficiently by obtaining a significantly large refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer constituting the ultraviolet reflective laminate, the high refractive index layer and the low refractive index At least one of the layers is formed using an inorganic oxide. However, when the inorganic oxide is irradiated with ultraviolet rays, the inorganic oxide exhibits a catalytic action, and as a result, the ultraviolet reflecting laminated portion is deteriorated. More specifically, the inorganic oxide and the appropriate resin (binder) constitute an ultraviolet reflection laminated portion. When the inorganic oxide included in the resin is irradiated with ultraviolet rays, the inorganic oxide becomes a catalyst. And a reaction for deteriorating the resin (binder) proceeds. In other words, by providing an ultraviolet reflective laminated portion containing an inorganic oxide, it is possible to effectively utilize light reflected in the ultraviolet region, while reflecting ultraviolet rays due to the catalytic action (photocatalytic action) of the inorganic oxide. It is considered that the deterioration of the laminated portion proceeds.

そこで本発明者は、紫外線反射積層部よりも光の入射側において、特定の透過率を有する紫外線遮断層を設けることにより、かような触媒作用による紫外線反射積層部の劣化を抑制することができるのではないかと考え、本発明を完成させた。より具体的には、本発明においては、紫外線遮断層において、無機酸化物の触媒作用を促進する波長(350nm)の光を吸収させて、当該波長における光透過率を10%以下とし、紫外線反射積層部に到達する波長350nmの紫外線量(より好ましくは、波長350nm以下の紫外線量)を極力少なくする。一方、太陽光発電利用の際にエネルギー的に有用である、波長370nm以上の光を有効に活用するため、波長370nmにおける紫外線遮断層の光透過率を50%以上とする。かような構成を有する本発明の太陽光反射フィルムは、紫外線反射積層部に含まれる無機酸化物の触媒作用が抑制されるため耐久性が向上し、かつ、可視〜赤外領域だけでなく、一部の紫外領域における光をも効率よく反射することが可能となると推察される。なお、本発明は、上記メカニズムに何ら制限されるものではない。   Therefore, the present inventor can suppress the deterioration of the ultraviolet reflection laminated portion due to the catalytic action by providing the ultraviolet blocking layer having a specific transmittance on the light incident side from the ultraviolet reflective laminated portion. The present invention has been completed. More specifically, in the present invention, the ultraviolet ray blocking layer absorbs light having a wavelength (350 nm) that promotes the catalytic action of the inorganic oxide so that the light transmittance at the wavelength is 10% or less, and the ultraviolet ray is reflected. The amount of ultraviolet light having a wavelength of 350 nm (more preferably, the amount of ultraviolet light having a wavelength of 350 nm or less) reaching the laminated portion is reduced as much as possible. On the other hand, the light transmittance of the ultraviolet blocking layer at a wavelength of 370 nm is set to 50% or more in order to effectively utilize light having a wavelength of 370 nm or more, which is energetically useful when using solar power. The solar reflective film of the present invention having such a configuration has improved durability because the catalytic action of the inorganic oxide contained in the ultraviolet reflective laminate is suppressed, and not only in the visible to infrared region, It is assumed that light in some ultraviolet regions can be efficiently reflected. The present invention is not limited to the above mechanism.

以下、本発明の太陽光反射フィルムに係る実施の形態を説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。また、図面の寸法比率は、説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。   Hereinafter, an embodiment according to the solar reflective film of the present invention will be described. In the description of the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. In addition, the dimensional ratios in the drawings are exaggerated for convenience of explanation, and may be different from the actual ratios.

また、本明細書において、範囲を示す「X〜Y」は「X以上Y以下」を意味し、また、「重量」と「質量」、「重量%」と「質量%」および「重量部」と「質量部」は同義語として扱う。特記しない限り、操作および物性等の測定は室温(20℃)/相対湿度40〜50%の条件で測定する。   In the present specification, “X to Y” indicating a range means “X or more and Y or less”, and “weight” and “mass”, “wt%”, “mass%”, and “part by weight”. And “parts by mass” are treated as synonyms. Unless otherwise specified, measurements such as operation and physical properties are performed under conditions of room temperature (20 ° C.) / Relative humidity 40 to 50%.

<太陽光反射フィルム>
図1は、本発明の実施形態に係る太陽光反射フィルムの一形態を模式的に表した断面図である。図1に示す太陽光反射フィルム10は、太陽光100の入射する側から順に、紫外線遮断層14と、少なくとも1種の無機酸化物11aを含む紫外線反射積層部11と、銀反射層13とを有している。
<Sunlight reflection film>
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing one embodiment of a solar reflective film according to an embodiment of the present invention. A solar reflective film 10 shown in FIG. 1 includes an ultraviolet blocking layer 14, an ultraviolet reflective laminated portion 11 including at least one inorganic oxide 11a, and a silver reflective layer 13 in this order from the incident side of sunlight 100. Have.

太陽光反射フィルム10において、太陽光100は矢印で示すように、紫外線遮断層14側から、無機酸化物11aおよび樹脂11bを含む紫外線反射積層部11を透過し、銀反射層13側へと入射する。このとき、太陽光100に含まれる紫外線の一部(主として波長350nm以下の光)は、紫外線遮断層14において吸収され、紫外線遮断層14に吸収されなかった紫外線やその他の波長の光は、紫外線反射積層部11および銀反射層13へ透過する。このように、紫外線遮断層14を設けることにより、無機酸化物11aを含む紫外線反射積層部11に対して、無機酸化物11aの触媒作用を促進する波長の光(主として波長350nm以下の光)の入射量を少なくすることができる。その結果、紫外線反射積層部11の劣化が抑制され、本発明の太陽光反射フィルム10は、長期間太陽光に曝されても、太陽光を反射する効果が低下することなく、高い耐久性を保持することができる。   In the solar reflective film 10, the sunlight 100 passes through the ultraviolet reflective laminated portion 11 including the inorganic oxide 11 a and the resin 11 b from the ultraviolet blocking layer 14 side and enters the silver reflective layer 13 side as indicated by an arrow. To do. At this time, a part of the ultraviolet rays contained in the sunlight 100 (mainly light having a wavelength of 350 nm or less) is absorbed by the ultraviolet blocking layer 14, and ultraviolet rays and other wavelengths that are not absorbed by the ultraviolet blocking layer 14 are ultraviolet rays. The light passes through the reflective laminate 11 and the silver reflective layer 13. In this way, by providing the ultraviolet blocking layer 14, light having a wavelength (mainly light having a wavelength of 350 nm or less) that promotes the catalytic action of the inorganic oxide 11a on the ultraviolet reflecting laminated portion 11 including the inorganic oxide 11a. The amount of incident can be reduced. As a result, the deterioration of the ultraviolet reflecting laminated portion 11 is suppressed, and the solar reflective film 10 of the present invention has high durability without reducing the effect of reflecting sunlight even when exposed to sunlight for a long time. Can be held.

そして、本発明の太陽光反射フィルム10は、太陽光100が入射する方向から順に供えられる、無機酸化物11aおよび樹脂11bを含む紫外線反射積層部11と、銀反射層13とにより、赤外〜紫外領域までの幅広い波長領域の光を反射させることができる。さらに、紫外線が無機酸化物11aを含む紫外線反射積層部11によって反射されるため、紫外線が紫外線反射積層部11よりも更に深部にまで透過するのを防ぎ、太陽光反射フィルム10の劣化を抑制することができる。   The solar reflective film 10 of the present invention is provided with an ultraviolet reflective laminated portion 11 including an inorganic oxide 11a and a resin 11b, which is provided in order from the direction in which the sunlight 100 is incident, and the silver reflective layer 13, so that the infrared- Light in a wide wavelength range up to the ultraviolet range can be reflected. Furthermore, since the ultraviolet rays are reflected by the ultraviolet reflecting laminated portion 11 containing the inorganic oxide 11a, the ultraviolet rays are prevented from penetrating deeper than the ultraviolet reflecting laminated portion 11, and the deterioration of the solar reflective film 10 is suppressed. be able to.

太陽光反射フィルム10において、無機酸化物11aおよび樹脂11bを含む紫外線反射積層部11は、以下で詳述するように、低屈折率層111および高屈折率層112が積層されたユニットを有する。   In the solar reflective film 10, the ultraviolet reflective laminated portion 11 including the inorganic oxide 11a and the resin 11b has a unit in which a low refractive index layer 111 and a high refractive index layer 112 are laminated, as will be described in detail below.

図1に示すように、互いに異なる屈折率を有する層111及び112を積層させることにより、その境界面で光の反射が起こり、紫外線反射射機能が発現する。なお、図1では、紫外線反射積層部11として、それぞれ光入射方向から順に高屈折率層112、低屈折率層111、・・・高屈折率層112の多層が積層されているが、紫外線反射積層部11は低屈折率層111および高屈折率層112が積層された少なくとも1つのユニットを有していればよく、低屈折率層111および高屈折率層112の層数や積層順は特に制限されない。   As shown in FIG. 1, by laminating layers 111 and 112 having different refractive indexes, light is reflected at the boundary surface, and an ultraviolet reflection function is exhibited. In FIG. 1, a multilayer of a high refractive index layer 112, a low refractive index layer 111,... The stacked portion 11 only needs to have at least one unit in which the low refractive index layer 111 and the high refractive index layer 112 are stacked, and the number of layers and the stacking order of the low refractive index layer 111 and the high refractive index layer 112 are particularly Not limited.

また図1に示す態様では、紫外線反射積層部11を構成する全ての低屈折率層111および高屈折率層112に無機酸化物11aが含まれている構成を示したが、本発明では、紫外線反射積層部11を構成する層の少なくとも1層において、少なくとも1種の無機酸化物が含まれていればよい。このとき、高屈折率層112中に無機酸化物112aを含む構成とすると、低屈折率層と高屈折率層の屈折率差が大きくなり、界面での紫外線反射効率を高めることができるため、有効である。また、図1に示すように、紫外線反射積層部11を構成する高屈折率層112、低屈折率層111ともに無機酸化物112a,111aを含有することにより、高屈折率層112と低屈折率層111の屈折率差が大きくなり、紫外線反射効率が高まる結果、より一層、効率よく太陽光を反射させることができる。なお、かような傾向は、図2の態様においても同様である。   Further, in the embodiment shown in FIG. 1, the configuration in which the inorganic oxide 11a is included in all the low refractive index layers 111 and the high refractive index layers 112 constituting the ultraviolet reflective laminated portion 11 is shown. It is sufficient that at least one inorganic oxide is included in at least one of the layers constituting the reflective laminated portion 11. At this time, if the high refractive index layer 112 includes the inorganic oxide 112a, the difference in refractive index between the low refractive index layer and the high refractive index layer becomes large, and the ultraviolet reflection efficiency at the interface can be increased. It is valid. Moreover, as shown in FIG. 1, the high refractive index layer 112 and the low refractive index layer 112 and the low refractive index layer 111 together contain inorganic oxides 112a and 111a, so that the high refractive index layer 112 and the low refractive index are formed. As a result of an increase in the refractive index difference of the layer 111 and an increase in ultraviolet reflection efficiency, sunlight can be reflected more efficiently. Such a tendency is the same in the embodiment of FIG.

図1に示す太陽光反射フィルム10の実施形態では、紫外線遮断層14、紫外線反射積層部11および銀反射層13を支持するように、樹脂フィルム状支持体(高分子フィルム)12が配置されている。即ち、樹脂フィルム状支持体12の一方の面側(光入射面側)に、紫外線遮断層14、紫外線反射積層部11および銀反射層13が形成されている。   In the embodiment of the sunlight reflecting film 10 shown in FIG. 1, a resin film-like support (polymer film) 12 is disposed so as to support the ultraviolet blocking layer 14, the ultraviolet reflecting laminated portion 11, and the silver reflecting layer 13. Yes. That is, the ultraviolet blocking layer 14, the ultraviolet reflecting laminated portion 11, and the silver reflecting layer 13 are formed on one surface side (light incident surface side) of the resin film-like support 12.

さらに上記樹脂フィルム状支持体12の他方の面(光入射面とは反対側)上には、支持基材(太陽光反射体の構成部材;図示せず)への貼付のために、粘着層15が配置されている。更に上記粘着層15上には、前記支持基材への貼付までの間、保管や輸送や取扱が容易なように剥離材(剥離フィルムや剥離紙など)16が備えられている。   Further, an adhesive layer is provided on the other surface (opposite to the light incident surface) of the resin film-like support 12 for attachment to a support substrate (a constituent member of a solar reflector; not shown). 15 is arranged. Further, a release material (release film, release paper, etc.) 16 is provided on the pressure-sensitive adhesive layer 15 so as to facilitate storage, transportation, and handling until sticking to the support substrate.

図2は、本発明の実施形態に係る太陽光反射フィルムの他の形態を模式的に表した断面図である。図2に示す太陽光反射フィルム10’においても、太陽光100の入射する側から順に、紫外線遮断層14と、少なくとも1種の無機酸化物11aを含む紫外線反射積層部11と、銀反射層13とを有しており、さらに本形態では、紫外線遮断層14に対して光の入射面側に、ハードコート層17が配置されている。このようにハードコート層17を備えることにより、擦傷等から紫外線反射積層部11を保護し、太陽光反射フィルム10の耐久性を向上させることができる。   FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing another embodiment of the solar reflective film according to the embodiment of the present invention. Also in the sunlight reflecting film 10 ′ shown in FIG. 2, the ultraviolet blocking layer 14, the ultraviolet reflecting laminated portion 11 including at least one inorganic oxide 11 a, and the silver reflecting layer 13 in this order from the incident side of the sunlight 100. Furthermore, in this embodiment, the hard coat layer 17 is disposed on the light incident surface side with respect to the ultraviolet blocking layer 14. By providing the hard coat layer 17 in this way, the ultraviolet reflective laminated portion 11 can be protected from scratches and the like, and the durability of the solar reflective film 10 can be improved.

図1と図2は、共に光入射面側から、紫外線遮断層14、紫外線反射積層部11、銀反射層13の順で形成されているが、ハードコート層17の有無という点で異なる態様(構成)となっている。しかし、図1、2のいずれの構成(態様)も本発明の作用効果を有効かつ効果的に発現し得るものである。図2に示す太陽光反射フィルム10’は、図1に示す太陽光反射フィルム10と比較して、ハードコート層17の有無という点で異なる以外は、図1と同様の構成を有するものである。したがって、重複する部分の説明は省略する。   1 and 2 are formed in the order of the ultraviolet blocking layer 14, the ultraviolet reflecting laminated portion 11, and the silver reflecting layer 13 from the light incident surface side, but differ in the presence or absence of the hard coat layer 17 ( Composition). However, any of the configurations (modes) shown in FIGS. 1 and 2 can effectively and effectively express the effects of the present invention. The solar reflective film 10 ′ shown in FIG. 2 has the same configuration as that of FIG. 1 except that the solar reflective film 10 ′ shown in FIG. . Therefore, the description of the overlapping part is omitted.

紫外線遮断層14、紫外線反射積層部11、銀反射層13の積層順を変更せず、かつ、以下で詳述する紫外線遮断層14および紫外線反射積層部11の間における光透過率の関係を損なわない限りにおいては、各層(または部分)の間に他の層を設けてもよい。たとえば、銀反射層13と紫外線反射積層部11との間に、当該銀反射層13を構成する銀の腐食を防止するために1層以上の腐食防止層が配置されていてもよい。さらに、樹脂フィルム状支持体12と、銀反射層13との間に、アンカーコート層(図示せず)を設けてもよい。アンカーコート層を設けることにより、樹脂フィルム状支持体12と、当該支持体上に形成される層との接着性を向上させることができる。   The order of lamination of the ultraviolet blocking layer 14, the ultraviolet reflecting laminated portion 11, and the silver reflecting layer 13 is not changed, and the light transmittance relationship between the ultraviolet blocking layer 14 and the ultraviolet reflecting laminated portion 11 described in detail below is impaired. As long as there is no other layer, you may provide another layer between each layer (or part). For example, one or more corrosion prevention layers may be disposed between the silver reflection layer 13 and the ultraviolet reflection laminated portion 11 in order to prevent corrosion of silver constituting the silver reflection layer 13. Furthermore, an anchor coat layer (not shown) may be provided between the resin film-like support 12 and the silver reflecting layer 13. By providing the anchor coat layer, the adhesiveness between the resin film-like support 12 and the layer formed on the support can be improved.

上記したように、本発明の太陽光反射フィルムは、図1、2に示す形態に何ら制限されるものではなく、本発明の要件を満足する範囲内において、いかなる構成をも取り得るものである。以下、本形態の太陽光反射フィルム10、10’の各構成部材について詳細に説明する。   As described above, the solar reflective film of the present invention is not limited to the form shown in FIGS. 1 and 2 and can take any configuration within the range satisfying the requirements of the present invention. . Hereinafter, each component of the solar reflective film 10, 10 'of the present embodiment will be described in detail.

[紫外線遮断層14]
本形態の太陽光反射フィルム10、10’は、銀反射層13および紫外線反射積層部11よりも光入射面側に紫外線遮断層14を必須に有する。紫外線遮断層14は、単層であってもよいし、複数の層を積層して形成されていてもよい。光透過率を所望の範囲内に制御しやすいという観点からは、複数の層が積層された形態が好ましい。
[UV blocking layer 14]
The solar reflective film 10, 10 ′ of this embodiment essentially has the ultraviolet blocking layer 14 on the light incident surface side with respect to the silver reflective layer 13 and the ultraviolet reflective laminated portion 11. The ultraviolet blocking layer 14 may be a single layer or may be formed by laminating a plurality of layers. From the viewpoint of easily controlling the light transmittance within a desired range, a form in which a plurality of layers are laminated is preferable.

紫外線遮断層14は、太陽光に含まれる紫外線領域(280〜400nmのうち、主として280nm以上370nm以下の波長領域)の少なくとも一部の波長(光)を吸収する機能を有し、波長350nmにおける光透過率が10%以下であり、かつ、波長370nmにおける光透過率が50%以上である。なお、このとき、波長350nmにおける光透過率の下限は0%であり、波長370nmにおける光透過率の上限は100%である。   The ultraviolet blocking layer 14 has a function of absorbing at least a part of wavelengths (light) in an ultraviolet region (a wavelength region of 280 nm to 370 nm mainly out of 280 to 400 nm) included in sunlight, and is light at a wavelength of 350 nm. The transmittance is 10% or less, and the light transmittance at a wavelength of 370 nm is 50% or more. At this time, the lower limit of the light transmittance at a wavelength of 350 nm is 0%, and the upper limit of the light transmittance at a wavelength of 370 nm is 100%.

換言すれば、紫外線遮断層14は、波長350nmの光を90%超の割合で吸収し、かつ、波長370nmの光を50%未満の割合で吸収する機能を有する。なお、このとき、波長350nmにおける吸収率の上限は100%であり、波長370nmにおける吸収率の下限は0%である。   In other words, the ultraviolet blocking layer 14 has a function of absorbing light having a wavelength of 350 nm at a rate exceeding 90% and absorbing light having a wavelength of 370 nm at a rate of less than 50%. At this time, the upper limit of the absorptance at a wavelength of 350 nm is 100%, and the lower limit of the absorptance at a wavelength of 370 nm is 0%.

なお、上記光透過率は、紫外線遮断層14が複数の層を積層した形態の場合は、これら複数の層をすべて積層させた状態での光透過率を指すものとする。   In addition, the said light transmittance shall point out the light transmittance in the state which laminated | stacked all these several layers, when the ultraviolet shielding layer 14 is the form which laminated | stacked several layers.

さらに、波長350nmにおける紫外線遮断層14の光透過率は、8%以下であると好ましく、6%以下であるとより好ましく、5%以下であると特に好ましい。また、波長370nmにおける紫外線遮断層14の光透過率は、60%以上であると好ましく、70%以上であるとより好ましく、80%以上であるとさらにより好ましく、90%以上であると特に好ましい。   Furthermore, the light transmittance of the ultraviolet blocking layer 14 at a wavelength of 350 nm is preferably 8% or less, more preferably 6% or less, and particularly preferably 5% or less. Further, the light transmittance of the ultraviolet blocking layer 14 at a wavelength of 370 nm is preferably 60% or more, more preferably 70% or more, still more preferably 80% or more, and particularly preferably 90% or more. .

太陽光に含まれる紫外線領域(280〜400nm)の光透過率は、実施例に記載の方法により測定することができる。なお、本明細書中、紫外線遮断層14の光透過率は、実施例に記載の方法により測定した値を採用するものとする。   The light transmittance in the ultraviolet region (280 to 400 nm) contained in sunlight can be measured by the method described in the examples. In the present specification, the light transmittance of the ultraviolet blocking layer 14 is a value measured by the method described in the examples.

上記の光透過率特性を有する紫外線遮断層14を備えることにより、波長350nmの光の大部分が紫外線遮断層14において吸収される。したがって、以下で詳述する紫外線反射積層部11にまで到達する波長350nmの光量が極めて軽減されるため、紫外線反射積層部11に含まれる無機酸化物11aの触媒作用を効果的に抑制することができる。一方で、紫外線遮断層14は、無機酸化物11aの触媒作用に影響しない波長370nmの光を透過させる。その結果、波長370nmの光は紫外線反射積層部11にまで到達し、当該波長の光が紫外線反射積層部11によって反射される。したがって、本形態の太陽光反射フィルム10、10’によれば、太陽光を効率よく反射し、利用することができるのである。   By providing the ultraviolet blocking layer 14 having the above light transmittance characteristics, most of the light having a wavelength of 350 nm is absorbed by the ultraviolet blocking layer 14. Therefore, since the amount of light having a wavelength of 350 nm reaching the ultraviolet reflection laminated portion 11 described in detail below is extremely reduced, the catalytic action of the inorganic oxide 11a included in the ultraviolet reflective laminated portion 11 can be effectively suppressed. it can. On the other hand, the ultraviolet blocking layer 14 transmits light having a wavelength of 370 nm that does not affect the catalytic action of the inorganic oxide 11a. As a result, the light having a wavelength of 370 nm reaches the ultraviolet reflecting laminated portion 11, and the light having the wavelength is reflected by the ultraviolet reflecting laminated portion 11. Therefore, according to the solar reflective film 10, 10 'of this embodiment, sunlight can be efficiently reflected and used.

紫外線遮断層14は、上記の光透過率特性を有する層であれば、いかなる組成を採用してもよいが、たとえば、(I)特定の吸収波長を有する有機化合物を含む構成、(II)特定の無機酸化物を含む構成のいずれかを含むと好ましい。   The ultraviolet blocking layer 14 may adopt any composition as long as it has the above light transmittance characteristics. For example, (I) a structure containing an organic compound having a specific absorption wavelength, (II) a specific It is preferable that any one of the structures including the inorganic oxide is included.

また、耐久性をさらに向上させるという観点から、(I)および(II)の構成を有する層を両方含んでいるとさらに好ましい。すなわち、本発明において、紫外線遮断層14は、特定の吸収波長を有する有機化合物を含む第一の紫外線遮断層と、特定の無機酸化物を含む第二の紫外線遮断層とを含んでいると好ましい。このように、本発明における紫外線遮断層14が第一の紫外線遮断層と第二の紫外線遮断層とを含む場合、それぞれが一層ずつ積層されてもよいし、それ以上積層されてもよい。また、第一の紫外線遮断層と第二の紫外線遮断層とはそれぞれ同数である必要はなく、一方の層が他方の層よりも多く設けられてもよい。   Further, from the viewpoint of further improving the durability, it is more preferable that both layers having the configurations (I) and (II) are included. That is, in the present invention, the ultraviolet blocking layer 14 preferably includes a first ultraviolet blocking layer containing an organic compound having a specific absorption wavelength and a second ultraviolet blocking layer containing a specific inorganic oxide. . Thus, when the ultraviolet blocking layer 14 in the present invention includes the first ultraviolet blocking layer and the second ultraviolet blocking layer, each may be stacked one by one or more. Further, the number of the first ultraviolet blocking layers and the number of the second ultraviolet blocking layers are not necessarily the same, and one layer may be provided more than the other layer.

紫外線遮断層14の厚みは、特に制限されないが、1〜50μmが好ましく、2〜30μmがより好ましく、2〜10μmであることがより好ましい。1μm以上であれば紫外線遮断層14において十分に紫外線を吸収することができ、さらに、応力による紫外線遮断層14の割れを防止することができる。また、50μm以下であれば十分な可撓性を維持できる。なお、紫外線遮断層14が第一の紫外線遮断層と第二の紫外線遮断層とを含む場合は、これら複数の層の厚みの和が上記範囲内であると好ましい。   The thickness of the ultraviolet blocking layer 14 is not particularly limited, but is preferably 1 to 50 μm, more preferably 2 to 30 μm, and more preferably 2 to 10 μm. If the thickness is 1 μm or more, the ultraviolet blocking layer 14 can sufficiently absorb ultraviolet rays, and further, the cracking of the ultraviolet blocking layer 14 due to stress can be prevented. Moreover, if it is 50 micrometers or less, sufficient flexibility can be maintained. When the ultraviolet blocking layer 14 includes the first ultraviolet blocking layer and the second ultraviolet blocking layer, it is preferable that the sum of the thicknesses of the plurality of layers is within the above range.

第一の紫外線遮断層および第二の紫外線遮断層の積層順は特に限定されないが、光の入射面側から、第二の紫外線遮断層(すなわち、構成(II)の層)、第一の紫外線遮断層(すなわち、構成(I)の層)の順で形成されると好ましい。さらにこの場合、第二の紫外線遮断層を最表層とすると好ましい。後述するように、第二の遮断層は、無機酸化物との反応性が低い樹脂を含みうるが、当該樹脂は、ハードコート(耐傷層)に用いられる樹脂と同じものを用いることができる。したがって、第二の遮断層が、ハードコート層の役割もまた果たし、別途ハードコート層を設けなくても、耐久性を向上させることができる。   The stacking order of the first ultraviolet blocking layer and the second ultraviolet blocking layer is not particularly limited, but from the light incident surface side, the second ultraviolet blocking layer (that is, the layer of the configuration (II)), the first ultraviolet blocking layer It is preferable to form in order of the blocking layer (that is, the layer of the configuration (I)). Furthermore, in this case, it is preferable that the second ultraviolet blocking layer is the outermost layer. As will be described later, the second blocking layer may include a resin having low reactivity with the inorganic oxide, and the same resin as that used in the hard coat (scratch resistant layer) can be used as the resin. Therefore, the second barrier layer also serves as a hard coat layer, and durability can be improved without providing a separate hard coat layer.

以下、(I)および(II)の構成について詳説する。   Hereinafter, the configurations of (I) and (II) will be described in detail.

(I)特定の吸収波長を有する有機化合物を含む構成
本形態の紫外線遮断層14は、上記光透過率特性を満たすため、特定の吸収波長を有する化合物(有機化合物)を含む。紫外線遮断層14は、所望の光透過率を得ることができると共に、大面積のフィルムを容易に製造するという観点から、樹脂(透明樹脂)をさらに含んでいると好ましい。
(I) Configuration including an organic compound having a specific absorption wavelength The ultraviolet blocking layer 14 of this embodiment includes a compound (organic compound) having a specific absorption wavelength in order to satisfy the above-described light transmittance characteristics. The ultraviolet blocking layer 14 preferably contains a resin (transparent resin) from the viewpoint of obtaining desired light transmittance and easily producing a large-area film.

本形態において、紫外線遮断層14の全質量に対して、特定の吸収波長を有する化合物は、0.1〜10質量部含まれると好ましく、1〜10質量部であるとより好ましい。0.1質量部以上であれば、特定の波長領域の光を十分に吸収することができる。一方で、10質量部以下とすることにより、ブリードアウト(添加剤が時間の経過によりフィルム(層)の表面に浮き出てくる現象)を抑制し、ヘイズ(曇り度)の悪化を防止することができる。   In this embodiment, the compound having a specific absorption wavelength with respect to the total mass of the ultraviolet blocking layer 14 is preferably contained in an amount of 0.1 to 10 parts by mass, and more preferably 1 to 10 parts by mass. If it is 0.1 mass part or more, the light of a specific wavelength range can fully be absorbed. On the other hand, by setting the amount to 10 parts by mass or less, it is possible to suppress bleed out (a phenomenon in which the additive emerges on the surface of the film (layer) over time) and to prevent deterioration of haze (cloudiness). it can.

本形態の紫外線遮断層14の厚みは、特に制限されないが、1〜50μmが好ましく、2〜30μmがより好ましく、2〜10μmであることがより好ましい。1μm以上であれば紫外線遮断層14において十分に紫外線を吸収することができ、さらに、応力による紫外線遮断層14の割れを防止することができる。また、50μm以下であれば十分な可撓性を維持できる。なお、紫外線遮断層14が複数の層を積層した形態の場合は、これら複数の層の厚みの和が上記範囲内であると好ましい。   The thickness of the ultraviolet blocking layer 14 of this embodiment is not particularly limited, but is preferably 1 to 50 μm, more preferably 2 to 30 μm, and more preferably 2 to 10 μm. If the thickness is 1 μm or more, the ultraviolet blocking layer 14 can sufficiently absorb ultraviolet rays, and further, the cracking of the ultraviolet blocking layer 14 due to stress can be prevented. Moreover, if it is 50 micrometers or less, sufficient flexibility can be maintained. In the case where the ultraviolet blocking layer 14 is formed by laminating a plurality of layers, the sum of the thicknesses of the plurality of layers is preferably within the above range.

・特定の吸収波長を有する有機化合物
本形態において、紫外線遮断層14に含まれる化合物は、特定の領域に吸収極大を有する。具体的には、280〜340nmの範囲に吸収極大を有する化合物であると好ましい。化合物の吸収極大波長(λmax)は、290〜330nmの範囲にあるとより好ましく、300〜320nmの範囲にあると特に好ましい。半値幅は、40〜100nmであると好ましく、50〜80nmであるとより好ましい。
-Organic compound which has a specific absorption wavelength In this form, the compound contained in the ultraviolet-ray blocking layer 14 has an absorption maximum in a specific area | region. Specifically, a compound having an absorption maximum in the range of 280 to 340 nm is preferable. The absorption maximum wavelength (λmax) of the compound is more preferably in the range of 290 to 330 nm, and particularly preferably in the range of 300 to 320 nm. The full width at half maximum is preferably 40 to 100 nm, and more preferably 50 to 80 nm.

紫外線遮断層14において含まれる化合物は、上記吸収特性を有する化合物であればいかなる化合物も使用可能であるが、2,4,6−トリス(4−ビフェニリル)−1,3,5−トリアジンまたはその誘導体であると好ましい。   Any compound can be used as the compound contained in the ultraviolet blocking layer 14 as long as it has the above-mentioned absorption characteristics. However, 2,4,6-tris (4-biphenylyl) -1,3,5-triazine or its compound can be used. A derivative is preferred.

「2,4,6−トリス(4−ビフェニリル)−1,3,5−トリアジンまたはその誘導体」とは、具体的には、下記の一般式(1)で表される化合物である。   Specifically, “2,4,6-tris (4-biphenylyl) -1,3,5-triazine or a derivative thereof” is a compound represented by the following general formula (1).

上記式中、R〜Rは、それぞれ独立して、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20個のアルキル基、炭素原子数2〜20個のアルケニル基、炭素原子数2〜20個のアルキニル基、炭素原子数1〜20個のアルコキシ基、エステル基(−COOR’:R’は、炭素原子数1〜20個のアルキル基である)、アミノ基、シアノ基またはニトロ基を表わし、k、m、pは、0〜5の整数であり、l、n、qは0〜4の整数である。 In the above formula, R 1 to R 6 are each independently a hydroxy group, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, or 2 to 20 carbon atoms. An alkynyl group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an ester group (—COOR ′: R ′ is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms), an amino group, a cyano group, or a nitro group. K, m, and p are integers of 0 to 5, and l, n, and q are integers of 0 to 4.

〜Rのハロゲン原子は特に制限されるものではなく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子のいずれも選択し得るものである。好ましくは、フッ素原子、塩素原子および臭素原子であり、特に好ましくはフッ素原子である。 The halogen atom of R 1 to R 6 is not particularly limited, and any of a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom can be selected. Preferred are a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom, and particularly preferred is a fluorine atom.

〜Rの炭素原子数1〜20個のアルキル基は、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれでもよい。R〜Rのアルキル基は、たとえば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、iso−アミル基、tert−ペンチル基、ネオペンチル基、n−へキシル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、n−デシル基、などの直鎖状のアルキル基、また、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などの環状のアルキル基が挙げられる。これらの中でも、紫外線遮断層14をコーティング(塗布法)により製膜する際の溶媒に対する溶解性を向上させるという観点から、炭素原子数1〜8個のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基がより好ましく、メチル基、エチル基がさらに好ましい。 The alkyl group having 1 to 20 carbon atoms of R 1 to R 6 may be linear, branched or cyclic. Examples of the alkyl group represented by R 1 to R 6 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, and iso. -Linear alkyl group such as amyl group, tert-pentyl group, neopentyl group, n-hexyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, n-decyl group, cyclohexyl group, cyclohexane Examples thereof include cyclic alkyl groups such as a heptyl group and a cyclooctyl group. Among these, from the viewpoint of improving the solubility in a solvent when the ultraviolet blocking layer 14 is formed by coating (coating method), an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is preferable, and a methyl group, an ethyl group, An n-propyl group and an isopropyl group are more preferable, and a methyl group and an ethyl group are more preferable.

〜Rの炭素原子数2〜20個のアルケニル基としては、1個以上の二重結合を有するものであれば、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれでもよい。たとえば、ビニル基、アリル基、1−プロペニル基、イソプロペニル基、2−ブテニル基、1,3−ブタジエニル基、2−ペンテニル基、2−ヘキセニル基等が挙げられる。これらの中でも、溶媒に対する溶解性を向上させるため、炭素原子数2〜8個のものが好ましく、炭素原子数2〜5個のアルケニル基がより好ましく、特に、ビニル基、アリル基が好ましい。 The alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms of R 1 to R 6 may be linear, branched or cyclic as long as it has one or more double bonds. For example, vinyl group, allyl group, 1-propenyl group, isopropenyl group, 2-butenyl group, 1,3-butadienyl group, 2-pentenyl group, 2-hexenyl group and the like can be mentioned. Among these, in order to improve solubility in a solvent, those having 2 to 8 carbon atoms are preferable, alkenyl groups having 2 to 5 carbon atoms are more preferable, and vinyl groups and allyl groups are particularly preferable.

〜Rの炭素原子数2〜20個のアルキニル基としては、1個以上の三重結合を有するものであれば、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれでもよい。たとえば、エチニル基、プロパルギル基等が挙げられる。これらの中でも、溶媒に対する溶解性を向上させるため、炭素原子数2〜8個のものが好ましく、炭素原子数2〜5個のアルキニル基がより好ましく、特に、エチニル基が好ましい。 The alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms of R 1 to R 6 may be linear, branched or cyclic as long as it has one or more triple bonds. For example, an ethynyl group, a propargyl group, etc. are mentioned. Among these, in order to improve solubility in a solvent, those having 2 to 8 carbon atoms are preferable, alkynyl groups having 2 to 5 carbon atoms are more preferable, and ethynyl groups are particularly preferable.

〜Rの炭素原子数1〜20個のアルコキシ基は、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれでもよい。R〜Rのアルコキシ基は、たとえば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、n−オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、が挙げられる。これらの中でも、溶媒に対する溶解性を向上させるため、炭素原子数1〜8個のものが好ましく、炭素原子数1〜5個のアルコキシ基がより好ましく、特に、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。 The alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms of R 1 to R 6 may be linear, branched or cyclic. Examples of the alkoxy group of R 1 to R 6 include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, an n-octyloxy group, and a 2-ethylhexyloxy group. Among these, in order to improve the solubility with respect to a solvent, a C1-C8 thing is preferable, a C1-C5 alkoxy group is more preferable, and a methoxy group and an ethoxy group are especially preferable.

〜Rのエステル基(−COOR’)について、R’は、上記R〜Rのアルキル基の説明と同様であるため、その説明を省略するが、溶媒に対する溶解性を向上させるため、R’は、炭素原子数1〜8個のアルキル基が好ましく、特に、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基が好ましい。 About R < 1 > -R < 6 > ester group (-COOR '), since R' is the same as that of the said alkyl group of R < 1 > -R < 6 >, the description is abbreviate | omitted, but improves the solubility with respect to a solvent. Therefore, R ′ is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and particularly preferably a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, or an isopropyl group.

〜Rのアミノ基は、−NH、−NHR”または−NR”で表される基である。R”は、炭素原子数1〜20のアルキル基より選択される。R”は、上記R〜Rのアルキル基の説明と同様であるため、その説明を省略するが、溶媒に対する溶解性を向上させるため、R”は、炭素原子数1〜8個のアルキル基が好ましく、特に、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基が好ましい。 The amino group of R 1 to R 6 is a group represented by —NH 2 , —NHR ″ or —NR ″ 2 . R ″ is selected from an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. R ″ is the same as the description of the alkyl group of R 1 to R 6 above, and thus the description thereof is omitted. R ″ is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, particularly preferably a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, or an isopropyl group.

k、l、m、n、p、qは、R〜R基がベンゼン環上にそれぞれ結合する数を表し、k、m、pは、0〜5の整数であり、l、n、qは0〜4の整数である。溶媒に対する溶解性を向上させるため、k、m、pは、0〜3が好ましく、0〜1がより好ましく、l、n、qは0〜2が好ましく、0または1がより好ましい。 k, l, m, n, p, and q represent the number of R 1 to R 6 groups bonded to the benzene ring, respectively, k, m, and p are integers of 0 to 5, l, n, q is an integer of 0-4. In order to improve solubility in a solvent, k, m, and p are preferably 0 to 3, more preferably 0 to 1, l, n, and q are preferably 0 to 2, and 0 or 1 is more preferable.

上記一般式(1)で表される化合物は、単独で使用されてもまたは2種以上の混合物の形態で使用されてもよい。   The compound represented by the general formula (1) may be used alone or in the form of a mixture of two or more.

・樹脂(透明樹脂)
本形態において、紫外線遮断層14は、上記化合物とともに、透明樹脂を含む。本明細書において、「樹脂が透明である」とは、可視光(400〜700nm)の光透過率が80%以上であることを示す。
・ Resin (transparent resin)
In this embodiment, the ultraviolet blocking layer 14 contains a transparent resin together with the above compound. In this specification, “the resin is transparent” indicates that the light transmittance of visible light (400 to 700 nm) is 80% or more.

本形態の紫外線遮断層14に含まれる透明樹脂は特に限定されないが、耐光性に優れていることが好ましく、具体的には、主鎖に芳香環を含まない樹脂であることが好ましく、芳香環を持たないモノマー成分から構成された樹脂であることがより好ましい。また、透明樹脂としては、生産性の観点から、紫外線遮断層14をコーティングにより形成するため、上記特定の吸収波長を有する化合物と共に、溶媒中における分散性が良好であるものであると好ましい。このような樹脂としては、たとえば、アクリル樹脂、オレフィン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、アクリル・ウレタン系樹脂、含フッ素ポリマー等が挙げられる。   The transparent resin contained in the ultraviolet blocking layer 14 of this embodiment is not particularly limited, but is preferably excellent in light resistance, and specifically, a resin containing no aromatic ring in the main chain is preferable. It is more preferable that the resin is composed of a monomer component that does not have any. Moreover, as a transparent resin, since the ultraviolet blocking layer 14 is formed by coating from the viewpoint of productivity, it is preferable that the transparent resin has good dispersibility in a solvent together with the compound having the specific absorption wavelength. Examples of such resins include acrylic resins, olefin resins, vinyl chloride resins, acrylic / urethane resins, and fluorine-containing polymers.

さらに、透明樹脂としては、水および水と相溶性を有する溶剤の少なくとも一方に可溶な樹脂(本明細書中、「水溶性樹脂」とも称することがある)であると好ましい。このような特定の樹脂を含むことにより、紫外線反射積層部11を大面積で生産することができ、かつ、短時間で生産することができる。すなわち、紫外線遮断層14をコーティングにより形成するのに水系塗布を用いることが可能になるという観点から、当該樹脂は水溶性樹脂であることが好ましい。   Further, the transparent resin is preferably a resin soluble in at least one of water and a solvent compatible with water (sometimes referred to as “water-soluble resin” in this specification). By including such a specific resin, the ultraviolet reflection laminated portion 11 can be produced in a large area and can be produced in a short time. That is, the resin is preferably a water-soluble resin from the viewpoint that aqueous coating can be used to form the ultraviolet blocking layer 14 by coating.

なお、本明細書において、「水と相溶性を有する溶剤」とは水と混合した際に界面を形成せず、その化学構造の中に水酸基、カルボニル基、カルボキシル基、アルデヒド基などを含む溶剤を意味する。また、「水および水と相溶性を有する溶剤の少なくとも一方に可溶な樹脂」とは、水または水と相溶性を有する溶剤と混合し撹拌した後に樹脂の沈降が発生せず白濁や光散乱が目視されない状態となる樹脂を意味する。   In the present specification, the term “solvent having compatibility with water” refers to a solvent that does not form an interface when mixed with water and contains a hydroxyl group, a carbonyl group, a carboxyl group, an aldehyde group, etc. in its chemical structure. Means. In addition, “resin soluble in at least one of water and a solvent compatible with water” means that the resin does not precipitate after mixing with water or a solvent compatible with water and agitation and light scattering. Means a resin that is not visible.

水溶性樹脂の重量平均分子量は、特に制限はないが、コーティング可能な粘度に調整して製造する観点から、1000〜200000が好ましく、3000〜40000がより好ましい。本明細書において、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて下記測定条件下で測定した値を採用する。   Although there is no restriction | limiting in particular in the weight average molecular weight of water-soluble resin, 1000-200000 are preferable and 3000-40000 are more preferable from a viewpoint which adjusts and manufactures the viscosity which can be coated. In this specification, the value measured on the following measurement conditions using gel permeation chromatography (GPC) is employ | adopted for a weight average molecular weight.

・溶媒:0.2M NaNOH,NaHPO,pH7
・カラム:Shodex Column Ohpak SB−802.5 HQ,8×300mmとShodex Column Ohpak SB−805 HQ,8×300mmの組み合わせ
・カラム温度:45℃
・試料濃度:0.1質量%
・検出器:RID−10A(株式会社島津製作所製)
・ポンプ:LC−20AD(株式会社島津製作所製)
・流量:1ml/min
・校正曲線: Shodex スタンダード GFC(水系 GPC)カラム用 Standard P−82 標準物質プルランによる校正曲線を使用。
Solvent: 0.2M NaNOH 3 , NaH 2 PO 4 , pH 7
Column: Combination of Shodex Column Ohpak SB-802.5 HQ, 8 × 300 mm and Shodex Column Ohpak SB-805 HQ, 8 × 300 mm Column temperature: 45 ° C.
Sample concentration: 0.1% by mass
・ Detector: RID-10A (manufactured by Shimadzu Corporation)
・ Pump: LC-20AD (manufactured by Shimadzu Corporation)
・ Flow rate: 1 ml / min
・ Calibration curve: Standard P-82 standard substance pullulan calibration curve for Shodex standard GFC (aqueous GPC) column is used.

水溶性樹脂としては、例えば、ポリアクリル酸、アクリル酸−アクリルニトリル共重合体、アクリル酸カリウム−アクリルニトリル共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、もしくはアクリル酸−アクリル酸エステル共重合体等のアクリル系樹脂、ポリビニルアルコール(PVA)類、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸共重合体、もしくはスチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体等のスチレンアクリル酸樹脂、スチレン−スチレンスルホン酸ナトリウム共重合体、スチレン−2−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、スチレン−2−ヒドロキシエチルアクリレート−スチレンスルホン酸カリウム共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ビニルナフタレン−アクリル酸共重合体、ビニルナフタレン−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体等の酢酸ビニル系共重合体およびこれらの塩等の合成水溶性樹脂;ゼラチン、増粘多糖類等の天然水溶性樹脂等が挙げられる。これらの中でも、耐候性の観点から、アクリル系樹脂が好ましい。   Examples of the water-soluble resin include polyacrylic acid, acrylic acid-acrylonitrile copolymer, potassium acrylate-acrylonitrile copolymer, vinyl acetate-acrylic ester copolymer, or acrylic acid-acrylic ester copolymer. Acrylic resins such as coalescence, polyvinyl alcohol (PVA), styrene-acrylic acid copolymer, styrene-methacrylic acid copolymer, styrene-methacrylic acid-acrylic acid ester copolymer, styrene-α-methylstyrene-acrylic Styrene acrylic acid resin such as acid copolymer, or styrene-α-methylstyrene-acrylic acid-acrylic acid ester copolymer, styrene-sodium styrenesulfonate copolymer, styrene-2-hydroxyethyl acrylate copolymer, Styrene-2-hydroxyethyla Chryrate-potassium styrenesulfonate copolymer, styrene-maleic acid copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, vinylnaphthalene-acrylic acid copolymer, vinylnaphthalene-maleic acid copolymer, vinyl acetate-maleic acid Synthetic water-soluble resins such as ester copolymers, vinyl acetate-crotonic acid copolymers, vinyl acetate-acrylic acid copolymers, and their salts; natural products such as gelatin and thickening polysaccharides Water-soluble resin etc. are mentioned. Among these, acrylic resins are preferable from the viewpoint of weather resistance.

水溶性樹脂に含まれるアクリル系樹脂を構成するモノマーとしては、たとえば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート等のアルキル(メタ)アクリレートのような側鎖中に官能性基を有しないモノマー(以下、非官能性モノマーという)から選ばれる1種または2種以上のモノマーを主成分とし、これに2−ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、等のモノマーから選ばれる1種または2種以上のモノマーの側鎖中にOHやCOOH等の官能性基を有するモノマー(以下、官能性モノマーという)の1種または2種以上を組み合せてもよい。   Examples of the monomer constituting the acrylic resin contained in the water-soluble resin include, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, One or more kinds selected from monomers having no functional group in the side chain (hereinafter referred to as non-functional monomers) such as alkyl (meth) acrylates such as butyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, and 2-ethylhexyl methacrylate. One type selected from monomers such as 2-hydroxyethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, acrylic acid, methacrylic acid, and itaconic acid. Monomers others having functional group such as OH or COOH in the side chain of two or more monomers (hereinafter, referred to as functional monomers) may be combined with one or more of.

上記モノマーは、溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法、塊状重合法等の公知の重合法により共重合させることができる。また、これにより得られる重量平均分子量は、4万〜100万、好ましくは10万〜40万である。   The monomer can be copolymerized by a known polymerization method such as a solution polymerization method, a suspension polymerization method, an emulsion polymerization method, or a bulk polymerization method. Moreover, the weight average molecular weight obtained by this is 40,000-1 million, Preferably it is 100,000-400,000.

また、市販のアクリル系樹脂を用いてもよく、例えば、三菱レイヨン製のBR−85、旭化成ケミカルズ製のデルペットSRB215等を使用することもできる。   Commercially available acrylic resins may be used, for example, BR-85 manufactured by Mitsubishi Rayon, Delpet SRB215 manufactured by Asahi Kasei Chemicals, and the like.

なお、上記の樹脂は、単独で使用してもまたは2種以上を混合して使用してもよい。   In addition, said resin may be used individually or may be used in mixture of 2 or more types.

(II)無機酸化物を含む構成
本形態の紫外線遮断層14は、上記光透過率特性を満たすため、特定の無機酸化物を含む。紫外線遮断層14は、所望の光透過率を得ることができると共に、大面積のフィルムを容易に製造するという観点から、樹脂(透明樹脂)をさらに含んでいると好ましい。本形態では、紫外線を遮断(吸収)するために用いられる材料が上記(I)と異なる。また、かような材料の違いに起因して、紫外線遮断層14に含まれうる樹脂の種類も上記(I)とは異なることがある。
(II) Configuration Containing Inorganic Oxide The ultraviolet blocking layer 14 of this embodiment contains a specific inorganic oxide in order to satisfy the above light transmittance characteristics. The ultraviolet blocking layer 14 preferably contains a resin (transparent resin) from the viewpoint of obtaining desired light transmittance and easily producing a large-area film. In this embodiment, the material used for blocking (absorbing) ultraviolet rays is different from the above (I). In addition, due to such a difference in material, the type of resin that can be included in the ultraviolet blocking layer 14 may be different from that in the above (I).

本形態において、紫外線遮断層14の全質量に対して、特定の無機酸化物は、1〜20質量部含まれると好ましく、2〜10質量部であるとより好ましい。1質量部以上であれば、特定の波長領域の光を十分に吸収することができる。一方で、20質量部以下とすることにより、ブリードアウトを抑制し、ヘイズ(曇り度)の悪化を防止することができる。   In this embodiment, the specific inorganic oxide is preferably contained in an amount of 1 to 20 parts by mass, more preferably 2 to 10 parts by mass with respect to the total mass of the ultraviolet blocking layer 14. If it is 1 mass part or more, the light of a specific wavelength range can fully be absorbed. On the other hand, by setting it as 20 mass parts or less, bleeding out can be suppressed and haze (cloudiness) deterioration can be prevented.

本形態の紫外線遮断層14の厚みは、特に制限されないが、1〜50μmが好ましく、2〜30μmがより好ましく、2〜10μmであることがより好ましい。1μm以上であれば紫外線遮断層14において十分に紫外線を吸収することができ、さらに、応力による紫外線遮断層14の割れを防止することができる。また、50μm以下であれば十分な可撓性を維持できる。なお、紫外線遮断層14が複数の層を積層した形態の場合は、これら複数の層の厚みの和が上記範囲内であると好ましい。   The thickness of the ultraviolet blocking layer 14 of this embodiment is not particularly limited, but is preferably 1 to 50 μm, more preferably 2 to 30 μm, and more preferably 2 to 10 μm. If the thickness is 1 μm or more, the ultraviolet blocking layer 14 can sufficiently absorb ultraviolet rays, and further, the cracking of the ultraviolet blocking layer 14 due to stress can be prevented. Moreover, if it is 50 micrometers or less, sufficient flexibility can be maintained. In the case where the ultraviolet blocking layer 14 is formed by laminating a plurality of layers, the sum of the thicknesses of the plurality of layers is preferably within the above range.

・無機酸化物
本形態において、紫外線遮断層14に含まれる無機酸化物としては、紫外線遮断層14の波長350nmにおける光透過率を10%以下、かつ、波長370nmにおける光透過率を50%以上とすることができるものであれば、特に制限されないが、たとえば、金属酸化物を用いることができ、なかでも、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タングステンの少なくとも1種を含んでいると好ましい。より詳細には、二酸化チタン(TiO)、二酸化ジルコニウム(ZrO)、酸化タングステン(WO)の少なくとも1種を含んでいると好ましい。
-Inorganic oxide In this form, as the inorganic oxide contained in the ultraviolet blocking layer 14, the light transmittance of the ultraviolet blocking layer 14 at a wavelength of 350 nm is 10% or less, and the light transmittance at a wavelength of 370 nm is 50% or more. The metal oxide is not particularly limited as long as it can be used. For example, a metal oxide can be used, and among these, at least one of titanium oxide, zirconium oxide, and tungsten oxide is preferably included. More specifically, it preferably contains at least one of titanium dioxide (TiO 2 ), zirconium dioxide (ZrO 2 ), and tungsten oxide (WO 3 ).

上記の無機酸化物は、波長350nmの光を効率よく吸収する一方で、波長370nmにおける光の透過率が高いため、本発明の紫外線遮断層14に好適に用いられる。波長選択性の観点からは、特に、酸化チタンであると好ましい。   The inorganic oxide efficiently absorbs light having a wavelength of 350 nm, but has high light transmittance at a wavelength of 370 nm, and thus is suitably used for the ultraviolet blocking layer 14 of the present invention. From the viewpoint of wavelength selectivity, titanium oxide is particularly preferable.

無機酸化物は、紫外線遮断層14において所望の透過率を得ることができるように、その平均粒径が1〜50nmの粒子であると好ましい。ここで、本明細書において平均粒径は、一次平均粒径を指す。本明細書でいう一次平均粒径とは、粒子そのものをレーザー回折散乱法、動的光散乱法、あるいは電子顕微鏡を用いて観察する方法や、紫外線遮断層14の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法により、1000個の任意の粒子の粒径を測定し、その平均を求めた値である。   The inorganic oxide is preferably a particle having an average particle diameter of 1 to 50 nm so that a desired transmittance can be obtained in the ultraviolet blocking layer 14. Here, in this specification, an average particle diameter refers to a primary average particle diameter. As used herein, the primary average particle size refers to a method of observing the particles themselves using a laser diffraction scattering method, a dynamic light scattering method, or an electron microscope, or a particle image appearing on the cross section or surface of the ultraviolet blocking layer 14. This is a value obtained by measuring the particle size of 1000 arbitrary particles by the method of observing with an electron microscope.

・樹脂(透明樹脂)
上記の通り、本形態では、紫外線遮断層14に無機酸化物を含む一方で、これらの無機酸化物は、波長350nmの光を吸収する傍ら、その光触媒作用により、その周囲に存在するバインダ樹脂を劣化させることがある。したがって、本形態において、紫外線遮断層14の形成に用いられる樹脂は、無機酸化物の触媒作用に影響を受けない透明樹脂であると好ましい。さらに、本形態に用いられる透明樹脂は、生産性の観点から、紫外線遮断層14をコーティングにより形成するため、無機酸化物と共に、溶媒中における分散性が良好なものであると好ましい。
・ Resin (transparent resin)
As described above, in the present embodiment, while the ultraviolet blocking layer 14 includes an inorganic oxide, these inorganic oxides absorb light having a wavelength of 350 nm, and at the same time, the photocatalytic action causes the binder resin present in the surroundings to be absorbed. May deteriorate. Therefore, in this embodiment, the resin used for forming the ultraviolet blocking layer 14 is preferably a transparent resin that is not affected by the catalytic action of the inorganic oxide. Furthermore, since the transparent resin used in this embodiment forms the ultraviolet blocking layer 14 by coating from the viewpoint of productivity, it is preferable that the transparent resin has good dispersibility in the solvent together with the inorganic oxide.

かような透明樹脂としては、特に制限されないが、ポリシロキサンに代表されるポリマー材料が挙げられる。なかでも、ポリシロキサン系ハードコート(耐傷層)に用いられる材料と同様の材料(シリコーン系樹脂)が好ましく用いられる。したがって、特定の無機酸化物を含む構成(II)からなる紫外線遮断層を設ける場合は、ハードコート層としての役割もまた果たすことができる。   Such a transparent resin is not particularly limited, and examples thereof include polymer materials typified by polysiloxane. Of these, the same material (silicone resin) as that used for the polysiloxane hard coat (scratch resistant layer) is preferably used. Therefore, in the case where an ultraviolet blocking layer composed of the structure (II) containing a specific inorganic oxide is provided, it can also serve as a hard coat layer.

ポリシロキサン(シリコーン系樹脂)は、一般式ASi(OA’)で示されるものが出発原料である。AおよびA’は、炭素数1〜10のアルキル基を表し、rおよびsは、r+s=4(ただし、sは1〜4の整数)の関係を満たす整数である。具体的には、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−ポロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。 Polysiloxane (silicone resin) are those represented by the general formula A r Si (OA ') s is the starting material. A and A ′ represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and r and s are integers satisfying the relationship r + s = 4 (where s is an integer of 1 to 4). Specifically, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, Tetra-tert-butoxysilane, tetrapentaethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-propoxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltriethoxy Silane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethyl Le propoxysilane, dimethyl-butoxy silane, dimethyl dimethoxy silane, dimethyl diethoxy silane, hexyl trimethoxy silane and the like.

また、紫外線遮断層14を構成する樹脂(透明樹脂)の形成においては、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、N−β−(N−アミノベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、オクタデシルジメチル[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウムクロライドを用いることもできる。これらのメトキシ基、エトキシ基等の加水分解性基が水酸基に置換した状態のものが、一般的にポリオルガノシロキサンといわれており、本形態の紫外線遮断層14に好適に使用される。これを基板上に塗布し、加熱硬化させることで、脱水縮合反応が促進し、硬化・架橋することで、紫外線遮断層14が製膜される。これらのポリオルガノシロキサン中でも、加水分解によって脱離しない有機基がメチル基のものが最も耐候性が高い。また、メチル基であれば、紫外線遮断層14製膜後の表面にメチル基が均一且つ密に分布するため、転落角も低い。そのため、本用途では、メチルポリシロキサンを用いることが好ましい。   Further, in the formation of the resin (transparent resin) constituting the ultraviolet blocking layer 14, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, β- ( 3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, N-β- (N-aminobenzylaminoethyl) -γ-aminopropylmethoxysilane hydrochloride, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, aminosilane, methylmethoxysilane , Vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrilymethoxysilane, hexamethyldisilazane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, octadecyldimethyl [3- (trimethoxysilyl) propyl] ammonium chloride Rye It can also be used. Those having a hydrolyzable group such as methoxy group or ethoxy group substituted with a hydroxyl group are generally referred to as polyorganosiloxane, and are suitably used for the ultraviolet blocking layer 14 of this embodiment. By applying this on a substrate and curing by heating, the dehydration condensation reaction is accelerated, and by curing and crosslinking, the ultraviolet blocking layer 14 is formed. Among these polyorganosiloxanes, those having a methyl group as the organic group that is not eliminated by hydrolysis have the highest weather resistance. In addition, in the case of a methyl group, the methyl group is uniformly and densely distributed on the surface after the ultraviolet blocking layer 14 is formed, so that the falling angle is also low. Therefore, in this application, it is preferable to use methylpolysiloxane.

紫外線遮断層14に用いられる材料として具体的には、サーコートシリーズ(動研製)、SR2441(東レ・ダウコーニング社)、KF−86(信越シリコーン社)、Perma‐New(登録商標)6000(California Hardcoating Company)等を利用することができる。   Specific examples of materials used for the ultraviolet blocking layer 14 include Surcoat Series (manufactured by Doken), SR2441 (Toray Dow Corning), KF-86 (Shin-Etsu Silicone), Perma-New (registered trademark) 6000 (California Hardcoating). Company) or the like can be used.

(紫外線遮断層14の形成方法)
上記(I)および(II)のいずれの形態においても、紫外線遮断層14の形成方法は特に制限されないが、たとえば、上記特定の吸収波長を有する有機化合物(または無機酸化物)および透明樹脂を含む紫外線遮断層形成用組成物(塗布液)を、ワイヤーバーによりコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング等により塗布する方法、蒸着等の乾式製膜法等が挙げられる。また、上記の組成物(塗布液)をダイコーター、グラビアコーター、コンマコーター等の連続塗布装置で塗布・製膜することも可能である。
(Method for forming ultraviolet blocking layer 14)
In any of the forms (I) and (II), the method for forming the ultraviolet blocking layer 14 is not particularly limited, and includes, for example, an organic compound (or inorganic oxide) having the specific absorption wavelength and a transparent resin. Examples thereof include a method of coating the composition for forming an ultraviolet blocking layer (coating solution) by coating with a wire bar, spin coating, dip coating, and the like, and a dry film forming method such as vapor deposition. Moreover, it is also possible to apply | coat and film-form the said composition (coating liquid) with continuous application apparatuses, such as a die coater, a gravure coater, and a comma coater.

上記組成物(塗布液)には溶媒が含まれていてもよく、必要に応じて適宜希釈されたものであってもよい。塗布液に含有される溶媒としては、例えば、水、炭化水素類(トルエン、キシレン、)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル)、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中から適宜選択し、またはこれらを混合し利用できる。上記の中でも、生産性の観点から、特に、水および水と相溶性を有する溶剤を用いると好ましい。   The composition (coating liquid) may contain a solvent, or may be appropriately diluted as necessary. Examples of the solvent contained in the coating solution include water, hydrocarbons (toluene, xylene), alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol), and ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone). , Esters (methyl acetate, ethyl acetate, methyl lactate), glycol ethers, and other organic solvents can be appropriately selected or mixed for use. Among these, from the viewpoint of productivity, it is particularly preferable to use water and a solvent compatible with water.

上記溶媒を含む塗布液を塗布した後は、形成した塗膜を、30℃以上で乾燥することが好ましい。例えば、湿球温度5〜50℃、膜面温度5〜100℃(好ましくは10〜95℃)の範囲で乾燥するのが好ましく、40〜90℃で乾燥するとより好ましい。また、乾燥方法は特に制限されず、たとえば、温風乾燥、赤外乾燥、マイクロ波乾燥が用いられるが、なかでも、温風乾燥が好ましい。乾燥時間は、生産性の観点から、0.5〜10分であると好ましく、1〜5分であるとより好ましい。   After coating the coating solution containing the solvent, the formed coating film is preferably dried at 30 ° C. or higher. For example, it is preferable to dry in the range of wet bulb temperature 5-50 degreeC and film surface temperature 5-100 degreeC (preferably 10-95 degreeC), and it is more preferable to dry at 40-90 degreeC. Further, the drying method is not particularly limited, and for example, warm air drying, infrared drying, and microwave drying are used. Among them, warm air drying is preferable. The drying time is preferably 0.5 to 10 minutes and more preferably 1 to 5 minutes from the viewpoint of productivity.

また、紫外線遮断層14を構成する樹脂としてシリコーン系樹脂を用いる場合、塗布後、溶剤を乾燥させた後、当該樹脂の硬化・架橋を促進するため、50℃以上、150℃以下の温度で30分〜数日間の熱処理を行うことが好ましい。塗布基材の耐熱性やロールにした時の基材の安定性を考慮して、40℃〜80℃で2日間以上処理することが好ましい。   Further, when a silicone resin is used as the resin constituting the ultraviolet blocking layer 14, after application, the solvent is dried, and then the curing / crosslinking of the resin is promoted, so that the temperature is 50 ° C. or higher and 150 ° C. or lower. It is preferable to perform heat treatment for minutes to several days. In consideration of the heat resistance of the coated substrate and the stability of the substrate when it is made into a roll, it is preferable to treat at 40 ° C. to 80 ° C. for 2 days or more.

塗布および乾燥方法の条件は、特に制限されないが、紫外線遮断層14が複数の層からなる場合は、例えば、逐次塗布法、同時重層塗布法等を用いることができる。   The conditions of the coating and drying method are not particularly limited, but when the ultraviolet blocking layer 14 is composed of a plurality of layers, for example, a sequential coating method, a simultaneous multilayer coating method, or the like can be used.

逐次塗布法を用いる場合は、まず、樹脂フィルム状支持体12の一方の面に銀反射層13および紫外線反射積層部11、さらに任意で設けられるその他の層を形成し、その後、当該紫外線反射積層部11(または任意で設けられるその他の層)上に、上記特定の有機化合物(または無機酸化物)を含む一の塗布液を塗布して、乾燥する。さらに、次に積層される層を形成するための他の塗布液を前記一方の塗布液からなる塗膜上に塗布、乾燥し、積層膜を形成する。そしてさらに、所望の光透過率を発現するために必要な層数となるまで、前記方法にて逐次塗布、乾燥を繰り返して積層膜を得る。このとき、乾燥条件は上述の単層の場合における条件と同様であるため、詳細な説明を省略する。   In the case of using the sequential coating method, first, the silver reflection layer 13 and the ultraviolet reflection laminate 11 and other optional layers are formed on one surface of the resin film-like support 12, and then the ultraviolet reflection laminate is formed. One coating solution containing the specific organic compound (or inorganic oxide) is applied onto the portion 11 (or other layer optionally provided) and dried. Further, another coating solution for forming a layer to be laminated next is applied on the coating film made of the one coating solution and dried to form a laminated film. Further, a multilayer film is obtained by repeating sequential application and drying by the above method until the number of layers necessary to develop a desired light transmittance is reached. At this time, since the drying conditions are the same as those in the case of the single layer described above, detailed description thereof is omitted.

同時重層塗布を行う場合は、複数種類の塗布液を30〜60℃に加温して、紫外線反射積層部11(または任意で設けられるその他の層)上に複数種類の塗布液の同時重層塗布を行った後、形成した塗膜の温度を好ましくは1〜15℃にいったん冷却し(セット)、その後10℃以上で乾燥することが好ましい。より好ましい乾燥条件は、湿球温度5〜50℃、膜面温度10〜90℃の範囲である。また、乾燥方法は特に制限されず、上記と同様の方法が用いられるが、なかでも、温風乾燥が好ましい。   When performing simultaneous multi-layer coating, a plurality of types of coating liquids are heated to 30 to 60 ° C., and a plurality of types of coating liquids are simultaneously coated on the ultraviolet reflective laminate 11 (or other layers optionally provided). After the above, it is preferable that the temperature of the formed coating film is preferably cooled (set) to 1 to 15 ° C. and then dried at 10 ° C. or higher. More preferable drying conditions are a wet bulb temperature of 5 to 50 ° C. and a film surface temperature of 10 to 90 ° C. Also, the drying method is not particularly limited, and the same method as described above is used, and among these, hot air drying is preferable.

乾燥時間は、特に制限されるものではないが、たとえば、生産性の観点から、1〜5秒程度が好ましい。また、塗布直後の冷却方式としては、形成された塗膜の均一性向上の観点から、水平セット方式で行うことが好ましい。   The drying time is not particularly limited, but for example, about 1 to 5 seconds is preferable from the viewpoint of productivity. Moreover, as a cooling method immediately after application | coating, it is preferable to carry out by a horizontal set system from a viewpoint of the uniformity improvement of the formed coating film.

(他の添加剤)
上記(I)および(II)のいずれの形態においても、必要に応じて、可塑剤、塗布助剤等の各種添加剤を用いることができる。以下、紫外線遮断層14に含まれうる添加剤について説明するが、これらに限定されるものではない。
(Other additives)
In any of the forms (I) and (II), various additives such as a plasticizer and a coating aid can be used as necessary. Hereinafter, although the additive which may be contained in the ultraviolet shielding layer 14 is demonstrated, it is not limited to these.

・可塑剤
紫外線遮断層14に含まれうる可塑剤としては、たとえば、一塩基性有機酸エステル、多塩基性有機酸エステル等の有機エステル可塑剤や、有機リン酸可塑剤、有機亜リン酸可塑剤等のリン酸可塑剤等が挙げられ、上記可塑剤は液状可塑剤であることが好ましい。
Plasticizer Plasticizers that can be included in the ultraviolet blocking layer 14 include, for example, organic ester plasticizers such as monobasic organic acid esters and polybasic organic acid esters, organic phosphate plasticizers, and organic phosphorous acid plastics. Examples thereof include phosphoric acid plasticizers, and the plasticizer is preferably a liquid plasticizer.

上記有機エステル可塑剤は特に限定されず、従来公知のものが使用可能であり、たとえば、トリエチレングリコール−ジ−2−エチルブチレート、トリエチレングリコール−ジ−2−エチルヘキサノエート、トリエチレングリコールジカプリレート、アジピン酸ジヘキシル、アジピン酸ジオクチル、アジピン酸ヘキシルシクロヘキシル、セバシン酸ジブチル、油変性セバシン酸アルキド、リン酸エステルとアジピン酸エステルとの混合物等が挙げられる。   The organic ester plasticizer is not particularly limited, and conventionally known plasticizers can be used. For example, triethylene glycol-di-2-ethylbutyrate, triethylene glycol-di-2-ethylhexanoate, triethylene Examples include glycol dicaprylate, dihexyl adipate, dioctyl adipate, hexyl cyclohexyl adipate, dibutyl sebacate, oil-modified sebacic acid alkyd, a mixture of phosphate ester and adipic acid ester, and the like.

上記リン酸可塑剤は特に限定されず、たとえば、トリブトキシエチルホスフェート、イソデシルフェニルホスフェート、トリイソプロピルホスフェート等が挙げられる。   The phosphate plasticizer is not particularly limited, and examples thereof include tributoxyethyl phosphate, isodecylphenyl phosphate, triisopropyl phosphate, and the like.

・塗布助剤
紫外線遮断層14に含まれうる塗布助剤としては、たとえば、シロキサン系界面活性剤を用いることができる。
-Coating aid As a coating aid which may be contained in the ultraviolet blocking layer 14, for example, a siloxane surfactant can be used.

これらシロキサン系界面活性剤は、市販品として入手することができ、たとえば、ビックケミー社のBYK−302、BYK−320、BYK−330、BYK−340、BYK−377、BYK−UV3500、信越化学社のKF−945、KF−352A、X−22−4272、EFKA社のEFKA−3030、EFKA−3232、EFKA−3035、EFKA−3580、EFKA−3883、EFKA−3522などを挙げることができる。   These siloxane-based surfactants can be obtained as commercially available products, such as BYK-302, BYK-320, BYK-330, BYK-340, BYK-377, BYK-UV3500, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Examples thereof include KF-945, KF-352A, X-22-4272, EFKA-3030, EFKA-3232, EFKA-3035, EFKA-3580, EFKA-3388, and EFKA-3522 from EFKA.

・その他の添加剤
本発明に係る紫外線遮断層14に適用可能な各種の添加剤を、以下に列挙する。たとえば、特開昭57−74192号、特開昭57−87989号公報、特開昭60−72785号公報、特開昭61−146591号公報、特開平1−95091号公報、および特開平3−13376号公報等に記載されている退色防止剤、アニオン、カチオンまたはノニオンの各種界面活性剤、特開昭59−42993号公報、特開昭59−52689号公報、特開昭62−280069号公報、特開昭61−242871号公報、および特開平4−219266号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のpH調整剤、消泡剤、潤滑剤、防腐剤、防黴剤、帯電防止剤、マット剤、熱安定剤、酸化防止剤、難燃剤、結晶核剤、減粘剤、滑剤等の公知の各種添加剤などが挙げられる。
Other additives Various additives applicable to the ultraviolet blocking layer 14 according to the present invention are listed below. For example, JP-A-57-74192, JP-A-57-87989, JP-A-60-72785, JP-A-61-146591, JP-A-1-95091, and JP-A-3-95091. Anti-fading agents, various anionic, cationic or nonionic surfactants described in JP-A-13376, etc., JP-A-59-42993, JP-A-59-52689, JP-A-62-280069 , Optical brighteners, sulfuric acid, phosphoric acid, acetic acid, citric acid, sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, etc. described in JP-A-61-228771 and JP-A-4-219266 PH adjusters, antifoaming agents, lubricants, antiseptics, antifungal agents, antistatic agents, matting agents, heat stabilizers, antioxidants, flame retardants, crystal nucleating agents, viscosity reducing agents, lubricants, etc. each Such as additives and the like.

[紫外線反射積層部11]
本形態の太陽光反射フィルム10、10’は、銀反射層13よりも光入射面側に配置された紫外線反射積層部11を必須に有する。また、紫外線反射積層部11は、銀反射層13と紫外線遮断層14との間に形成される。
[Ultraviolet reflective laminate 11]
The solar reflective film 10, 10 ′ of the present embodiment essentially has the ultraviolet reflective laminated portion 11 disposed on the light incident surface side with respect to the silver reflective layer 13. Further, the ultraviolet reflecting laminated portion 11 is formed between the silver reflecting layer 13 and the ultraviolet blocking layer 14.

紫外線反射積層部11は、太陽光に含まれる紫外線領域(280〜400nm)の少なくとも一部の波長(光)を反射する機能を有し、好ましくは、350〜400nmの紫外線の50%以上、好ましくは60%以上、より好ましくは70%以上、特に好ましくは80%以上を反射する機能を有する。太陽光に含まれる紫外線領域(280〜400nm)の反射率は、積分球を持つ分光光度計により測定することができる。   The ultraviolet reflection laminated portion 11 has a function of reflecting at least a part of the wavelength (light) in the ultraviolet region (280 to 400 nm) contained in sunlight, and preferably 50% or more of the ultraviolet rays of 350 to 400 nm, preferably Has a function of reflecting 60% or more, more preferably 70% or more, and particularly preferably 80% or more. The reflectance in the ultraviolet region (280 to 400 nm) contained in sunlight can be measured with a spectrophotometer having an integrating sphere.

また、光入射面側に設けられる紫外線反射積層部11は、より下層の銀反射層13によって太陽光(特に可視光〜赤外線領域の光線)を反射させることができるように、特に可視光〜赤外線領域の光を透過するのが望ましい。かかる観点から、紫外線反射積層部11の可視〜赤外線領域の光線(400〜2500nmの波長)の透過率は、50%以上が好ましく、より好ましくは60%以上、更に好ましくは70%以上、特に好ましくは80%以上の範囲である。波長400〜2500nmの透過率は、積分球を持つ分光光度計により測定することができる。   Moreover, the ultraviolet light reflection laminated portion 11 provided on the light incident surface side is particularly visible light to infrared light so that sunlight (especially visible light to light in the infrared region) can be reflected by the lower silver reflection layer 13. It is desirable to transmit the light in the area. From this point of view, the transmittance of light in the visible to infrared region (wavelength of 400 to 2500 nm) of the ultraviolet reflecting laminated portion 11 is preferably 50% or more, more preferably 60% or more, still more preferably 70% or more, and particularly preferably. Is in the range of 80% or more. The transmittance at a wavelength of 400 to 2500 nm can be measured with a spectrophotometer having an integrating sphere.

紫外線反射積層部11は、低屈折率層111および高屈折率層112が積層されたユニットを少なくとも1つ有するのが好ましい。   The ultraviolet reflecting laminated portion 11 preferably has at least one unit in which the low refractive index layer 111 and the high refractive index layer 112 are laminated.

紫外線反射積層部11は、低屈折率層111および高屈折率層112が交互に積層された交互積層体の形態を有する。このような低屈折率層111および高屈折率層112の屈折率差により紫外線反射機能が発現される。なお、本明細書において、「低屈折率層」および「高屈折率層」とは、隣接した2層の屈折率差を比較した場合に、屈折率が低い方の屈折率層を低屈折率層とし、高い方の屈折率層を高屈折率層とすることを意味する。   The ultraviolet reflection laminated portion 11 has a form of an alternate laminated body in which low refractive index layers 111 and high refractive index layers 112 are alternately laminated. The ultraviolet reflection function is expressed by the difference in refractive index between the low refractive index layer 111 and the high refractive index layer 112. In the present specification, “low refractive index layer” and “high refractive index layer” mean that a refractive index layer having a lower refractive index is a low refractive index when the difference in refractive index between two adjacent layers is compared. This means that the higher refractive index layer is the higher refractive index layer.

(樹脂11b(111bまたは112b))
本形態の太陽光反射フィルム10、10’は、紫外線反射積層部11を構成する低屈折率層111または高屈折率層112の少なくとも1層が水および水と相溶性を有する溶剤の少なくとも一方に可溶な樹脂(水溶性樹脂)11b(111bまたは112b)を含むと好ましい。このような特定の樹脂を含むことにより、紫外線反射積層部11を大面積で生産することができ、かつ、短時間で生産することができる。なお、「水および水と相溶性を有する溶剤の少なくとも一方に可溶な樹脂」の定義は上述の通りである。
(Resin 11b (111b or 112b))
The solar reflective film 10, 10 ′ of the present embodiment is formed of at least one of water and a solvent in which at least one of the low refractive index layer 111 or the high refractive index layer 112 constituting the ultraviolet reflective laminated portion 11 is compatible with water. It is preferable that soluble resin (water-soluble resin) 11b (111b or 112b) is included. By including such a specific resin, the ultraviolet reflection laminated portion 11 can be produced in a large area and can be produced in a short time. The definition of “resin soluble in at least one of water and a solvent compatible with water” is as described above.

水溶性樹脂11bは、低屈折率層111と高屈折率層112のいずれか一方のみに含まれていてもよいし、両方に含まれていても構わない。なお、低屈折率層111または高屈折率層112の少なくとも1層が水および水と相溶性を有する溶剤の少なくとも一方に可溶な樹脂を含む限りにおいては、低屈折率層111および/または高屈折率層112が水および水と相溶性を有する溶剤のいずれにも不溶な樹脂を微量で含んでもよいことは勿論である。   The water-soluble resin 11b may be included in only one of the low refractive index layer 111 and the high refractive index layer 112, or may be included in both. As long as at least one of the low refractive index layer 111 and the high refractive index layer 112 contains a resin soluble in at least one of water and a solvent compatible with water, the low refractive index layer 111 and / or the high refractive index layer 111 are used. Of course, the refractive index layer 112 may contain a small amount of a resin insoluble in both water and a solvent compatible with water.

本形態の太陽光反射フィルム10、10’においては、当該樹脂11bは耐光性に優れていることが好ましく、具体的には、主鎖に芳香環を含まない樹脂であることが好ましく、芳香環を持たないモノマー成分から構成された樹脂であることがより好ましい。このような樹脂としては、例えば、シリコーン系樹脂、アクリル系樹脂、オレフィン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、アクリル・ウレタン系樹脂、含フッ素ポリマー等が挙げられる。これらのなかでも、後述のように水溶性樹脂を使用することが好ましいが、水溶性樹脂以外の樹脂の中では、特に耐候性に優れる材料として、シロキサン結合を持ったシリコーン系樹脂、または少なくとも2種以上のアクリル系モノマーを共重合したアクリル系共重合体であるアクリル系樹脂(水溶性樹脂に含まれないもの)が好適に用いられる。   In the solar reflective films 10, 10 ′ of this embodiment, the resin 11b is preferably excellent in light resistance, and specifically, is preferably a resin that does not contain an aromatic ring in the main chain. It is more preferable that the resin is composed of a monomer component that does not have any. Examples of such resins include silicone resins, acrylic resins, olefin resins, vinyl chloride resins, acrylic / urethane resins, and fluorine-containing polymers. Among these, it is preferable to use a water-soluble resin as will be described later. Among resins other than the water-soluble resin, a silicone resin having a siloxane bond, or at least 2 is particularly preferable as a material having excellent weather resistance. An acrylic resin (not included in the water-soluble resin) that is an acrylic copolymer obtained by copolymerizing at least one kind of acrylic monomer is preferably used.

本形態の太陽光反射フィルム10、10’において、紫外線反射積層部11(各屈折率層111、112)は、コーティングにより形成されてなるものである。紫外線反射積層部11(各屈折率層111、112)をコーティングにより形成するのに水系塗布を用いることが可能になるという観点から、当該樹脂11bは水溶性樹脂であることが好ましい。紫外線反射積層部11をコーティングにより形成するのに水系塗布を用いることにより、被塗布層の有機溶剤による溶解を抑制することができる。水溶性樹脂の重量平均分子量は、特に制限はないが、コーティング可能な粘度に調整して製造する観点から、1000〜200000が好ましく、3000〜40000がより好ましい。   In the solar reflective films 10 and 10 ′ of the present embodiment, the ultraviolet reflection laminated portion 11 (respective refractive index layers 111 and 112) is formed by coating. The resin 11b is preferably a water-soluble resin from the viewpoint that aqueous coating can be used to form the ultraviolet reflecting laminated portion 11 (respective refractive index layers 111 and 112) by coating. By using water-based coating to form the ultraviolet reflecting laminated portion 11 by coating, dissolution of the coating layer with an organic solvent can be suppressed. Although there is no restriction | limiting in particular in the weight average molecular weight of water-soluble resin, 1000-200000 are preferable and 3000-40000 are more preferable from a viewpoint which adjusts and manufactures the viscosity which can be coated.

上記水溶性樹脂としては、上述の紫外線遮断層14の(I)の形態において挙げた樹脂と同様のものが使用可能であるが、なかでも、製造時のハンドリング性と膜の柔軟性の点から、ポリビニルアルコール類、およびこれを含有する共重合体、ゼラチン、増粘多糖類(特にセルロース類)が好ましく、なかでも、光学特性の観点からポリビニルアルコール類であることがより好ましい。これらの水溶性樹脂は、1種のみを単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用しても構わない。   As the water-soluble resin, the same resins as those mentioned in the above-mentioned form (I) of the ultraviolet blocking layer 14 can be used, and in particular, from the viewpoint of handling at the time of production and flexibility of the film. , Polyvinyl alcohols, and copolymers containing the same, gelatin, and thickening polysaccharides (particularly celluloses) are preferable, and polyvinyl alcohols are more preferable from the viewpoint of optical properties. These water-soluble resins may be used alone or in combination of two or more.

本形態で使用されるポリビニルアルコール類としては、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、一部が変性された変性ポリビニルアルコールも使用することができる。なお、以下で特に断りがない限り、変性ポリビニルアルコールと区別して、「ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコール」を単に「ポリビニルアルコール」とも称する。本形態の太陽光反射フィルム10においては、低屈折率層111および高屈折率層112が、ともに少なくとも1種のポリビニルアルコールを含有する際、低屈折率層111中で最も含有量の多いポリビニルアルコールをポリビニルアルコール(A)とし、高屈折率層112中で最も含有量の多いポリビニルアルコールをポリビニルアルコール(B)とした場合に、ポリビニルアルコール(A)の鹸化度と、ポリビニルアルコール(B)の鹸化度とが異なることが好ましい。ここで鹸化度とはポリビニルアルコール中のアセチルオキシ基(原料の酢酸ビニル由来のもの)と水酸基の合計数に対する水酸基の割合のことである。このように鹸化度の異なるポリビニルアルコールを用いることにより、高屈折率層112と低屈折率層111の層間混合が小さく、高反射率を得ることができる。詳しくは、水系の重層塗布により各屈折率層111、112を形成した場合の層間混合が抑制され、界面の乱れが小さくなることにより、所望の波長の紫外線反射性に優れ、ヘイズの少ない紫外線反射積層部11を形成することができる。   As polyvinyl alcohols used in this embodiment, modified polyvinyl alcohol partially modified can be used in addition to ordinary polyvinyl alcohol obtained by hydrolyzing polyvinyl acetate. Unless otherwise specified, “ordinary polyvinyl alcohol obtained by hydrolyzing polyvinyl acetate” is also simply referred to as “polyvinyl alcohol” unless otherwise specified. In the solar reflective film 10 of this embodiment, when both the low refractive index layer 111 and the high refractive index layer 112 contain at least one polyvinyl alcohol, the polyvinyl alcohol having the highest content in the low refractive index layer 111. Is the polyvinyl alcohol (A), and the polyvinyl alcohol (B) is the polyvinyl alcohol (B) having the highest content in the high refractive index layer 112, the saponification degree of the polyvinyl alcohol (A) and the saponification of the polyvinyl alcohol (B) The degree is preferably different. Here, the degree of saponification is the ratio of hydroxyl groups to the total number of acetyloxy groups (derived from the starting vinyl acetate) and hydroxyl groups in polyvinyl alcohol. By using polyvinyl alcohol having different saponification degrees as described above, the interlayer mixing between the high refractive index layer 112 and the low refractive index layer 111 is small, and a high reflectance can be obtained. Specifically, interfacial mixing when the refractive index layers 111 and 112 are formed by water-based multilayer coating is suppressed, and interface disturbance is reduced, so that UV reflection with a desired wavelength is excellent and UV reflection with less haze is achieved. The stacked portion 11 can be formed.

各屈折率層111、112中で鹸化度の相違を比較するポリビニルアルコールは、各屈折率層が複数のポリビニルアルコールを含む場合(すなわち、鹸化度または重合度が異なるポリビニルアルコールを2種以上含む場合)には、屈折率層中で最も含有量の多いポリビニルアルコールである。ここで、「屈折率層中で最も含有量が多いポリビニルアルコール」という際には、鹸化度の差が3mol%以内のポリビニルアルコールは同一のポリビニルアルコールであるとし、重合度を算出する。ただし、重合度1000以下の低重合度ポリビニルアルコールは異なるポリビニルアルコールとする(仮に鹸化度の差が3mol%以内のポリビニルアルコールがあったとしても同一のポリビニルアルコールとはしない)。具体的には、鹸化度が90mol%、鹸化度が91mol%、鹸化度が93mol%のポリビニルアルコールが同一層内にそれぞれ10質量%、40質量%、50質量%含まれる場合には、これら3つのポリビニルアルコールは同一のポリビニルアルコールとし、これら3つの混合物をポリビニルアルコール(A)または(B)とする。また、上記「鹸化度の差が3mol%以内のポリビニルアルコール」とは、いずれかのポリビニルアルコールに着目した場合に3mol%以内であれば足り、例えば、90、91、92、94mol%のビニルアルコールを含む場合には、91mol%のビニルアルコールに着目した場合にいずれのポリビニルアルコールも3mol%以内なので、同一のポリビニルアルコールとなる。   The polyvinyl alcohol for comparing the difference in saponification degree in each of the refractive index layers 111 and 112 is a case where each refractive index layer contains a plurality of polyvinyl alcohols (that is, two or more kinds of polyvinyl alcohols having different saponification degrees or polymerization degrees). ) Is polyvinyl alcohol having the highest content in the refractive index layer. Here, when “polyvinyl alcohol having the highest content in the refractive index layer” is referred to, the degree of polymerization is calculated assuming that the polyvinyl alcohol having a difference in saponification degree of 3 mol% or less is the same polyvinyl alcohol. However, a low polymerization degree polyvinyl alcohol having a polymerization degree of 1000 or less is a different polyvinyl alcohol (if the difference in saponification degree is 3 mol% or less, the same polyvinyl alcohol is not used). Specifically, when polyvinyl alcohol having a saponification degree of 90 mol%, a saponification degree of 91 mol%, and a saponification degree of 93 mol% is contained in the same layer by 10 mass%, 40 mass%, and 50 mass%, respectively, these 3 The two polyvinyl alcohols are the same polyvinyl alcohol, and the mixture of these three is polyvinyl alcohol (A) or (B). Further, the above-mentioned “polyvinyl alcohol having a saponification degree difference of 3 mol% or less” is sufficient if it is within 3 mol% when attention is paid to any polyvinyl alcohol, for example, 90, 91, 92, 94 mol% vinyl alcohol. In the case of containing 91 mol% of vinyl alcohol, since any polyvinyl alcohol is within 3 mol% when focusing on 91 mol% of vinyl alcohol, the same polyvinyl alcohol is obtained.

本形態において、含有量が最も高いポリビニルアルコールが、鹸化度差が3mol%以内の複数のポリビニルアルコール種から構成される場合、含有量が最も高いポリビニルアルコールの鹸化度は、含有量が最も高いポリビニルアルコールを構成する各ポリビニルアルコールの鹸化度に該ポリビニルアルコールの含有量を乗じたものの和を、各ポリビニルアルコール含有量の和で割ったものとする。具体的には以下のように平均鹸化度を算出する。含有量が最も高いポリビニルアルコールがポリビニルアルコール(1)およびポリビニルアルコール(2)から構成され、ポリビニルアルコール(1)(屈折率層全量(固形分)に対するポリビニルアルコール(1)の含有量:Wa、鹸化度:Sa(mol%))およびポリビニルアルコール(2)(屈折率層全量(固形分)に対するポリビニルアルコール(2)の含有量:Wb、鹸化度:Sb(mol%))である場合、含有量が最も高いポリビニルアルコールの平均鹸化度は下記式のようになる。   In this embodiment, when the polyvinyl alcohol having the highest content is composed of a plurality of polyvinyl alcohol species having a saponification degree difference of 3 mol% or less, the polyvinyl alcohol having the highest content has the highest polyvinyl alcohol content. The sum of the polyvinyl alcohol content multiplied by the saponification degree of each polyvinyl alcohol constituting the alcohol is divided by the sum of the polyvinyl alcohol contents. Specifically, the average saponification degree is calculated as follows. Polyvinyl alcohol having the highest content is composed of polyvinyl alcohol (1) and polyvinyl alcohol (2). Polyvinyl alcohol (1) (content of polyvinyl alcohol (1) with respect to the total amount (solid content) of the refractive index layer: Wa, saponification Degree: Sa (mol%)) and polyvinyl alcohol (2) (content of polyvinyl alcohol (2) with respect to the total amount (solid content) of the refractive index layer: Wb, saponification degree: Sb (mol%)) The average saponification degree of polyvinyl alcohol having the highest value is represented by the following formula.

1層内に鹸化度が3mol%を超える異なるポリビニルアルコールが含まれる場合、異なるポリビニルアルコールの混合物とみなし、それぞれに重合度と鹸化度を算出する。例えば、PVA103:5質量%、PVA117:25質量%、PVA217:10質量%、PVA220:10質量%、PVA224:10質量%、PVA235:20質量%、PVA245:20質量%が含まれる場合、最も含有量の多いPVAはPVA217〜245の混合物であり(PVA217〜245の鹸化度の差は3mol%以内なので同一のポリビニルアルコールである。ここで、PVA103〜PVA245は、いずれも株式会社クラレの商品名(クラレポバール(登録商標)=PVA)と銘柄(103〜245)を表しており、銘柄の始めの数字は鹸化度の分類を表し、次の二つの数字に100を掛けたものが重合度の目安を表す。銘柄の始めの数字1=鹸化度98〜99mol%、平均値98.5mol%、銘柄の始めの数字2=鹸化度87〜89mol%、平均値88mol%を表している。また、次の二つの数字が、例えば03=重合度300、17=重合度1700、45=重合度4500を表している。)、この混合物がポリビニルアルコール(A)または(B)となる。そして、PVA217〜245の混合物(ポリビニルアルコール(A)/(B))においては、重合度は、(1700×0.1+2000×0.1+2400×0.1+3500×0.2+4500×0.2)/0.7=3200であり、鹸化度は、88mol%となる。   When different polyvinyl alcohols having a saponification degree exceeding 3 mol% are contained in one layer, they are regarded as a mixture of different polyvinyl alcohols, and the polymerization degree and the saponification degree are respectively calculated. For example, PVA103: 5% by mass, PVA117: 25% by mass, PVA217: 10% by mass, PVA220: 10% by mass, PVA224: 10% by mass, PVA235: 20% by mass, PVA245: 20% by mass, most contained PVA having a large amount is a mixture of PVA 217 to 245 (the difference in the degree of saponification of PVA 217 to 245 is within 3 mol%, and thus is the same polyvinyl alcohol. Here, PVA103 to PVA245 are all trade names of Kuraray Co., Ltd. ( Kuraraypoval (registered trademark) = PVA) and brands (103 to 245). The number at the beginning of the brand represents the classification of the degree of saponification, and the next two numbers multiplied by 100 are the indication of the degree of polymerization. Number 1 at the beginning of the brand 1 = degree of saponification 98-99 mol%, average value 98.5 mol%, 2 = saponification degree 87-89 mol%, average value 88 mol%, and the following two numbers represent, for example, 03 = degree of polymerization 300, 17 = degree of polymerization 1700, 45 = degree of polymerization 4500 This mixture becomes polyvinyl alcohol (A) or (B). In the mixture of PVA 217 to 245 (polyvinyl alcohol (A) / (B)), the degree of polymerization is (1700 × 0.1 + 2000 × 0.1 + 2400 × 0.1 + 3500 × 0.2 + 4500 × 0.2) / 0. .7 = 3200, and the degree of saponification is 88 mol%.

また、含有量が最も高いポリビニルアルコール(群)が同一の含有量で複数存在する場合には、いずれか一つのポリビニルアルコール(群)の組合せが、低屈折率層111と高屈折率層112との異なる鹸化度に該当すればよい。例えば、低屈折率層111中に、ポリビニルアルコールとして、ポリビニルアルコール(1)(鹸化度98.5mol%):20質量%、ポリビニルアルコール(2)(鹸化度88mol%):20質量%、ポリビニルアルコール(3)(鹸化度79.5mol%):20質量%、が含有されている場合(含有量が最も高いポリビニルアルコール(群)が同一の含有量で複数存在する場合)、ポリビニルアルコール(1)、(2)及び(3)のいずれかが、高屈折率層112中に含有される最も含有量の高いポリビニルアルコール(B)の鹸化度と異なっていればよい。   Further, when a plurality of polyvinyl alcohol (group) having the highest content is present at the same content, the combination of any one of the polyvinyl alcohol (group) is obtained by combining the low refractive index layer 111 and the high refractive index layer 112. The degree of saponification may be different. For example, in the low refractive index layer 111, polyvinyl alcohol (1) (degree of saponification 98.5 mol%): 20% by mass, polyvinyl alcohol (2) (degree of saponification 88 mol%): 20% by mass, polyvinyl alcohol as polyvinyl alcohol. (3) (Saponification degree: 79.5 mol%): 20% by mass (when a plurality of polyvinyl alcohols (group) having the highest content are present in the same content), polyvinyl alcohol (1) Any one of (2) and (3) may be different from the saponification degree of the polyvinyl alcohol (B) having the highest content contained in the high refractive index layer 112.

ポリビニルアルコール(A)とポリビニルアルコール(B)との鹸化度の絶対値の差は、1mol%以上であることが好ましく、3mol%以上であることがより好ましい。さらに好ましくは5mol%以上である。また、さらに好ましくは8mol%以上であり、最も好ましくは10mol%以上である。かような範囲であれば、低屈折率層111と高屈折率層112との層間混合状態を好ましいレベルにするために好ましい。ポリビニルアルコール(A)とポリビニルアルコール(B)との鹸化度の差は大きいほど好ましいが、ポリビニルアルコールの水への溶解性の点からは20mol%以下であることが好ましい。   The difference in absolute value of the saponification degree between the polyvinyl alcohol (A) and the polyvinyl alcohol (B) is preferably 1 mol% or more, and more preferably 3 mol% or more. More preferably, it is 5 mol% or more. Further, it is more preferably 8 mol% or more, and most preferably 10 mol% or more. If it is such a range, it is preferable in order to make the interlayer mixing state of the low refractive index layer 111 and the high refractive index layer 112 into a preferable level. The difference in the degree of saponification between the polyvinyl alcohol (A) and the polyvinyl alcohol (B) is preferably as large as possible, but is preferably 20 mol% or less from the viewpoint of the solubility of polyvinyl alcohol in water.

ポリビニルアルコール(A)およびポリビニルアルコール(B)の鹸化度は水への溶解性の点で75mol%以上が好ましい。さらにポリビニルアルコール(A)およびポリビニルアルコール(B)のうち一方が鹸化度90mol%以上であり、他方が該鹸化度90mol%以上のポリビニルアルコールの鹸化度より低い鹸化度であることが好ましい。かような形態であると、層間混合がより抑制される。さらに、ポリビニルアルコール(A)およびポリビニルアルコール(B)のうち一方が鹸化度90mol%以上であり、他方が90mol%以下であることが低屈折率層111と高屈折率層112との層間混合状態をより好ましい状態とし、特定の波長(紫外線)の反射率が向上するために好ましい。ポリビニルアルコール(A)およびポリビニルアルコール(B)のうち一方が鹸化度95mol%以上であり、他方が90mol%以下であることが特定波長(紫外線)の反射率向上の観点からより好ましい。なお、ポリビニルアルコールの鹸化度の上限は特に限定されるものではないが、通常100mol%未満であり、99.9mol%以下程度である。   The saponification degree of polyvinyl alcohol (A) and polyvinyl alcohol (B) is preferably 75 mol% or more from the viewpoint of solubility in water. Furthermore, it is preferable that one of the polyvinyl alcohol (A) and the polyvinyl alcohol (B) has a saponification degree of 90 mol% or more and the other has a saponification degree lower than that of the polyvinyl alcohol having a saponification degree of 90 mol% or more. In such a form, interlayer mixing is further suppressed. Further, one of the polyvinyl alcohol (A) and the polyvinyl alcohol (B) has a saponification degree of 90 mol% or more and the other has a ratio of 90 mol% or less, which is an interlayer mixed state of the low refractive index layer 111 and the high refractive index layer 112. Is more preferable, and the reflectance at a specific wavelength (ultraviolet ray) is improved. One of the polyvinyl alcohol (A) and the polyvinyl alcohol (B) has a saponification degree of 95 mol% or more, and the other is preferably 90 mol% or less from the viewpoint of improving the reflectance at a specific wavelength (ultraviolet light). In addition, although the upper limit of the saponification degree of polyvinyl alcohol is not specifically limited, Usually, it is less than 100 mol% and is about 99.9 mol% or less.

さらに各屈折率層は、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、一部が変性された変性ポリビニルアルコールを含んでもよい。かような変性ポリビニルアルコールを含むと、膜(各屈折率層)の密着性や耐水性、柔軟性が改良される場合がある。このような変性ポリビニルアルコールとしては、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール、ビニルアルコール系ポリマーが挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコールは、重合度や変性の種類違うもの2種類以上を併用することもできる。   Furthermore, each refractive index layer may contain modified polyvinyl alcohol partially modified in addition to normal polyvinyl alcohol obtained by hydrolyzing polyvinyl acetate. When such modified polyvinyl alcohol is contained, the adhesion, water resistance, and flexibility of the film (each refractive index layer) may be improved. Examples of such modified polyvinyl alcohol include cation-modified polyvinyl alcohol, anion-modified polyvinyl alcohol, nonionic-modified polyvinyl alcohol, and vinyl alcohol polymers. These modified polyvinyl alcohols can be used in combination of two or more types having different degrees of polymerization and modification.

本形態においては、上記鹸化度の異なる2種のポリビニルアルコールは、屈折率層の全ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールの全質量に対し、40質量%以上、100質量%以下の範囲で含有させることが好ましく、60質量%以上、95質量%以下がより好ましい。含有量が40質量%以上であると、層間混合が抑制され界面の乱れが小さくなるという効果が顕著に表れる。一方、含有量が95質量%以下であれば、塗布液の安定性が向上する。   In this embodiment, the two types of polyvinyl alcohol having different saponification degrees may be contained in a range of 40% by mass to 100% by mass with respect to the total mass of the total polyvinyl alcohol and the modified polyvinyl alcohol in the refractive index layer. 60 mass% or more and 95 mass% or less are more preferable. When the content is 40% by mass or more, the effect that inter-layer mixing is suppressed and the turbulence of the interface is reduced is remarkably exhibited. On the other hand, if content is 95 mass% or less, stability of a coating liquid will improve.

本形態では、水溶性樹脂を硬化させるための硬化剤を使用してもよい。硬化剤の種類は特に制限はなく、水溶性樹脂と硬化反応を起こすものであればいずれの硬化剤も使用可能である。   In this embodiment, a curing agent for curing the water-soluble resin may be used. The kind of the curing agent is not particularly limited, and any curing agent can be used as long as it causes a curing reaction with the water-soluble resin.

水溶性樹脂がポリビニルアルコールの場合の硬化剤としては、ホウ素原子を有するホウ酸、ホウ酸塩、およびホウ砂等が挙げられる。これらを使用した場合、より優れた紫外線反射特性が発揮されうる。特に、低屈折率層111と高屈折率層112の多層重層をコーターで塗布後、一旦塗膜の膜面温度を15℃程度に冷やした後、膜面を乾燥させるセット系塗布プロセスを用いた場合には、より好ましく効果を発現することができる。   Examples of the curing agent when the water-soluble resin is polyvinyl alcohol include boric acid having a boron atom, borate, and borax. When these are used, more excellent ultraviolet reflection characteristics can be exhibited. In particular, after applying a multi-layered multilayer of a low refractive index layer 111 and a high refractive index layer 112 with a coater, the film surface temperature of the coating film was once cooled to about 15 ° C. and then the film surface was dried. In some cases, the effect can be expressed more preferably.

ホウ酸またはホウ酸塩とは、ホウ素原子を中心原子とする酸素酸およびその塩のことをいい、具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸および八ホウ酸およびこれらの塩が挙げられる。   Boric acid or borate refers to oxyacids and salts thereof having a boron atom as a central atom. Specifically, orthoboric acid, diboric acid, metaboric acid, tetraboric acid, pentaboric acid and octaboric acid are used. Examples include boric acid and salts thereof.

ホウ砂とは、Na(OH)・8HO(四ホウ酸ナトリウム Naの十水和物)で表される鉱物である。 Borax is a mineral represented by Na 2 B 4 O 5 (OH) 4 .8H 2 O (decahydrate of sodium tetraborate Na 2 B 4 O 7 ).

ホウ酸、ホウ酸塩、およびホウ砂は、1種のみを単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用しても構わない。   Boric acid, borate, and borax may be used alone or in combination of two or more.

これ以外にも、ポリビニルアルコールと反応し得る基を有する化合物あるいはポリビニルアルコールが有する異なる基同士の反応を促進するような化合物が硬化剤として適宜用いられる。具体例としては、エポキシ系硬化剤、活性ハロゲン系硬化剤、活性ビニル系化合物、アルミニウムミョウバン等が挙げられる。   In addition to this, a compound having a group capable of reacting with polyvinyl alcohol or a compound that accelerates the reaction between different groups of polyvinyl alcohol is suitably used as the curing agent. Specific examples include epoxy curing agents, active halogen curing agents, active vinyl compounds, and aluminum alum.

上記硬化剤の総使用量は、ポリビニルアルコール系樹脂1g当たり1〜600mgが好ましく、100〜500mgがより好ましい。   1-600 mg is preferable per 1 g of polyvinyl alcohol-type resin, and, as for the total usage-amount of the said hardening | curing agent, 100-500 mg is more preferable.

各屈折率層中の樹脂の含有量は、各屈折率層中に無機酸化物(111aないし112a)を含有しない場合においては、コーティング時の粘度調節の観点から、各屈折率層中の固形分の総量に対して50〜100質量%であることが好ましく、80〜100質量%であることが好ましい。50質量%以上であれば層形成が可能である。一方、各屈折率層中の樹脂の含有量は、各屈折率層中に無機酸化物(111aないし112a)を含有する場合においては、各屈折率層中の固形分の総量に対して5〜70質量%であることが好ましく、8〜50質量%であることが好ましい。無機酸化物(111aないし112a)を含有する場合でも、樹脂の含有量が3質量%以上であれば層形成が可能である。   When the refractive index layer does not contain an inorganic oxide (111a to 112a), the solid content in each refractive index layer is from the viewpoint of viscosity adjustment during coating. It is preferable that it is 50-100 mass% with respect to the total amount of, and it is preferable that it is 80-100 mass%. If it is 50 mass% or more, layer formation is possible. On the other hand, the content of the resin in each refractive index layer is 5 to the total solid content in each refractive index layer when each refractive index layer contains an inorganic oxide (111a to 112a). It is preferable that it is 70 mass%, and it is preferable that it is 8-50 mass%. Even when the inorganic oxide (111a to 112a) is contained, the layer can be formed if the resin content is 3% by mass or more.

(無機酸化物11a(111aまたは112a))
本形態の太陽光反射フィルム10、10’における紫外線反射部11の少なくとも1層は、少なくとも1種の無機酸化物を含む。かかる構成とすることで、紫外線反射積層部11が紫外線を効率的に反射し、太陽光の効率的利用が図られる。また紫外線を反射することで、さらに下層に配置される材料の劣化を防止し、耐久性を高めることができる。特に無機酸化物11aにより、無機酸化物11aを含有する層(屈折率層)を高屈折率化することができる。また、無機酸化物11aを含有する層(屈折率層)の形成に用いる塗布液(屈折率層用塗布液)の粘度を調整することができる点で優れている。好ましくは、前記紫外線線反射部11を構成する低屈折率層111または高屈折率層112の少なくとも一方は、それぞれ無機酸化物11a(111aないし112a)および上述の樹脂11bを含むのが好ましい。更に低屈折率層111または高屈折率層112の少なくとも一方は、それぞれ無機酸化物11a(111aないし112a)および樹脂成分を含む溶液を塗布することにより形成されてなることが好ましい。これにより、紫外線反射積層部11がコーティングによって形成し得るため、大面積生産を短時間で行うことが可能である。
(Inorganic oxide 11a (111a or 112a))
At least one layer of the ultraviolet reflecting portion 11 in the solar reflective films 10 and 10 ′ of this embodiment includes at least one inorganic oxide. By setting it as this structure, the ultraviolet-ray reflection lamination | stacking part 11 reflects an ultraviolet-ray efficiently, and the efficient utilization of sunlight is achieved. Further, by reflecting the ultraviolet rays, it is possible to further prevent deterioration of the material disposed in the lower layer and enhance durability. In particular, the inorganic oxide 11a can increase the refractive index of the layer (refractive index layer) containing the inorganic oxide 11a. Moreover, it is excellent at the point which can adjust the viscosity of the coating liquid (refractive index layer coating liquid) used for formation of the layer (refractive index layer) containing the inorganic oxide 11a. Preferably, at least one of the low-refractive index layer 111 or the high-refractive index layer 112 constituting the ultraviolet ray reflecting section 11 preferably includes the inorganic oxide 11a (111a to 112a) and the resin 11b described above. Further, at least one of the low refractive index layer 111 and the high refractive index layer 112 is preferably formed by applying a solution containing the inorganic oxide 11a (111a to 112a) and a resin component, respectively. Thereby, since the ultraviolet reflective laminated part 11 can be formed by coating, large area production can be performed in a short time.

無機酸化物粒子11aは、紫外線反射に適するように、平均粒径が100nm以下であることが好ましい。用いる無機酸化物粒子の平均粒径が100nm以下であることで、光散乱を抑制し、また紫外線反射フィルムにおける各屈折率層の膜厚制御の際の精度を向上させることができる。ここで、本明細書において平均粒径は、一次平均粒径を指す。なお、当該一次平均粒径は、上記紫外線遮断層に含まれうる無機酸化物粒子の一次平均粒径の測定方法と同様の方法を用いて測定される値である。無機酸化物粒子11aの平均粒径は、無機酸化物粒子11aが被覆処理されている場合(例えば、後述のシリカ付着二酸化チタンゾル等)、無機酸化物粒子11aの平均粒径とは母体(上記シリカ付着二酸化チタンゾルの場合は、処理前の二酸化チタン)の平均粒径を指すものとする。本実施形態において、低屈折率層111中の無機酸化物111a(例えば、コロイダルシリカ粒子など)は低屈折率材料として機能し、高屈折率層112中の無機酸化物112a(例えば、酸化チタン粒子など)は高屈折率材料として機能する。   The inorganic oxide particles 11a preferably have an average particle size of 100 nm or less so as to be suitable for ultraviolet reflection. When the average particle diameter of the inorganic oxide particles to be used is 100 nm or less, light scattering can be suppressed and the accuracy in controlling the film thickness of each refractive index layer in the ultraviolet reflective film can be improved. Here, in this specification, an average particle diameter refers to a primary average particle diameter. In addition, the said primary average particle diameter is a value measured using the method similar to the measuring method of the primary average particle diameter of the inorganic oxide particle which can be contained in the said ultraviolet shielding layer. When the inorganic oxide particles 11a are coated (for example, a silica-attached titanium dioxide sol described later), the average particle diameter of the inorganic oxide particles 11a is the matrix (the silica described above). In the case of an attached titanium dioxide sol, it means the average particle diameter of titanium dioxide before treatment). In this embodiment, the inorganic oxide 111a (for example, colloidal silica particles) in the low refractive index layer 111 functions as a low refractive index material, and the inorganic oxide 112a (for example, titanium oxide particles in the high refractive index layer 112). Etc.) function as a high refractive index material.

(低屈折率層111中の無機酸化物111a)
高屈折率層112に無機酸化物112aを含む場合、低屈折率層111には、無機酸化物111aを含んでいなくともよいが、低屈折率層111においても、無機酸化物111aが含まれていると好ましい。このとき、無機酸化物111aとしてシリカ(二酸化ケイ素)を用いることが好ましく、具体的な例として合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等が挙げられる。これらのうち、酸性のコロイダルシリカゾルを用いることがより好ましく、屈折率が低く小粒径であり更に透明性が高く、二次粒子を作らず扱いやすい観点から、有機溶媒に分散させたコロイダルシリカを用いることが特に好ましい。また、屈折率をより低減させるために、低屈折率層111の無機酸化物微粒子111aとして、粒子の内部に空孔を有する中空微粒子を用いてもよく、特にシリカ(二酸化ケイ素)の中空微粒子が好ましい。また、シリカ以外の公知の無機酸化物粒子も使用することができる。低屈折率層111において、無機酸化物111aとしては、屈折率が低く小粒径である観点から、二酸化ケイ素を用いることが好ましく、屈折率が低く小粒径であり更に透明性が高く、二次粒子を作らず扱いやすい観点から、コロイダルシリカを用いることが特に好ましい。
(Inorganic oxide 111a in the low refractive index layer 111)
When the high refractive index layer 112 includes the inorganic oxide 112a, the low refractive index layer 111 may not include the inorganic oxide 111a, but the low refractive index layer 111 also includes the inorganic oxide 111a. It is preferable. At this time, it is preferable to use silica (silicon dioxide) as the inorganic oxide 111a, and specific examples include synthetic amorphous silica and colloidal silica. Among these, it is more preferable to use acidic colloidal silica sol. From the viewpoint of low refractive index, small particle size, high transparency, and easy handling without forming secondary particles, colloidal silica dispersed in an organic solvent is used. It is particularly preferable to use it. In order to further reduce the refractive index, hollow fine particles having pores inside the particles may be used as the inorganic oxide fine particles 111a of the low refractive index layer 111. In particular, hollow fine particles of silica (silicon dioxide) may be used. preferable. Moreover, well-known inorganic oxide particles other than a silica can also be used. In the low refractive index layer 111, as the inorganic oxide 111a, it is preferable to use silicon dioxide from the viewpoint of a low refractive index and a small particle size, and a low refractive index, a small particle size, and high transparency. From the viewpoint of easy handling without forming secondary particles, it is particularly preferable to use colloidal silica.

本形態で用いられるコロイダルシリカは、珪酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであり、たとえば、特開昭57−14091号公報、特開昭60−219083号公報などに記載されているものである。   The colloidal silica used in the present embodiment is obtained by heating and aging a silica sol obtained by metathesis with an acid of sodium silicate or the like and passing through an ion exchange resin layer. For example, JP-A-57-14091, JP-A-60-219083 and the like.

この様なコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、日産化学工業(株)から販売されているスノーテックスシリーズ(スノーテックスOS、OXS、S、OS、20、30、40、O、N、C等)が挙げられる。   Such colloidal silica may be a synthetic product or a commercially available product. Examples of commercially available products include the Snowtex series (Snowtex OS, OXS, S, OS, 20, 30, 40, O, N, C, etc.) sold by Nissan Chemical Industries.

コロイダルシリカは、その表面をカチオン変性されたものであってもよく、また、Al、Ca、MgまたはBa等で処理された物であってもよい。   The surface of the colloidal silica may be cation-modified, or may be treated with Al, Ca, Mg, Ba or the like.

低屈折率層111における無機酸化物粒子111aの含有量は、低屈折率層の固形分100質量%に対して、20〜90質量%であることが好ましく、30〜85質量%であることがより好ましく、40〜70質量%であることがさらに好ましい。20質量%以上であると、所望の屈折率が得られ90質量%以下であると塗布性が良好となり好ましい。   The content of the inorganic oxide particles 111a in the low refractive index layer 111 is preferably 20 to 90% by mass and preferably 30 to 85% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the low refractive index layer. More preferably, it is more preferably 40 to 70% by mass. When it is 20% by mass or more, a desired refractive index is obtained, and when it is 90% by mass or less, the coatability is good, which is preferable.

(高屈折率層112中の無機酸化物112a)
本形態に係る高屈折率層112の無機酸化物粒子112aとしては、例えば、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズなどが挙げられる。中でも、透明でより屈折率の高い高屈折率層112を形成することのできる、二酸化チタン、酸化ジルコニウム等の無機酸化物粒子112aが好ましい。
(Inorganic oxide 112a in the high refractive index layer 112)
As the inorganic oxide particles 112a of the high refractive index layer 112 according to this embodiment, for example, titanium dioxide, zirconium oxide, zinc oxide, alumina, colloidal alumina, lead titanate, red lead, yellow lead, zinc yellow, chromium oxide, Examples thereof include ferric oxide, iron black, copper oxide, magnesium oxide, magnesium hydroxide, strontium titanate, yttrium oxide, niobium oxide, europium oxide, lanthanum oxide, zircon, and tin oxide. Among these, inorganic oxide particles 112a such as titanium dioxide and zirconium oxide that can form a transparent and higher refractive index layer 112 having a higher refractive index are preferable.

二酸化チタンとしては、ルチル型(正方晶形)酸化チタン粒子が好ましい。   As titanium dioxide, rutile (tetragonal) titanium oxide particles are preferable.

高屈折率層112で用いられる無機酸化物粒子112aに用いられる無機酸化物粒子112aの一次平均粒径は、30nm以下であることが好ましく、1〜30nmであることがより好ましく、5〜15nmであることがさらに好ましい。一次平均粒径が1nm以上30nm以下であれば、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。   The primary average particle diameter of the inorganic oxide particles 112a used for the inorganic oxide particles 112a used in the high refractive index layer 112 is preferably 30 nm or less, more preferably 1 to 30 nm, and 5 to 15 nm. More preferably it is. A primary average particle diameter of 1 nm or more and 30 nm or less is preferable from the viewpoint of low haze and excellent visible light transmittance.

本形態の酸化チタン粒子としては、水系の酸化チタンゾルの表面を変性して分散状態を安定にしたものを用いることが好ましい。   As the titanium oxide particles of this embodiment, it is preferable to use particles in which the surface of an aqueous titanium oxide sol is modified to stabilize the dispersion state.

さらに、酸化チタン粒子を含ケイ素の水和酸化物で被覆した、コアシェル構造を有する粒子を用いてもよい。ここで、「被覆」とは、酸化チタン粒子の表面の少なくとも一部に、含ケイ素の水和酸化物が付着されている状態を意味する。すなわち、無機酸化物粒子112aとして用いられる酸化チタン粒子の表面が、完全に含ケイ素の水和酸化物で被覆されていてもよく、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素の水和酸化物で被覆されていてもよい。被覆された酸化チタン粒子の屈折率が含ケイ素の水和酸化物の被覆量により制御される観点から、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素の水和酸化物で被覆されることが好ましい。以下ではこのような被覆された酸化チタン粒子を「シリカ付着二酸化チタンゾル」とも称する。   Furthermore, particles having a core-shell structure in which titanium oxide particles are coated with a silicon-containing hydrated oxide may be used. Here, the “coating” means a state in which a silicon-containing hydrated oxide is attached to at least a part of the surface of the titanium oxide particles. That is, the surface of the titanium oxide particles used as the inorganic oxide particles 112a may be completely covered with a silicon-containing hydrated oxide, and a part of the surface of the titanium oxide particles is a silicon-containing hydrated oxide. It may be covered with. From the viewpoint that the refractive index of the coated titanium oxide particles is controlled by the coating amount of the silicon-containing hydrated oxide, it is preferable that a part of the surface of the titanium oxide particles is coated with the silicon-containing hydrated oxide. . Hereinafter, such coated titanium oxide particles are also referred to as “silica-attached titanium dioxide sol”.

含ケイ素の水和酸化物で被覆された酸化チタン粒子の酸化チタンはルチル型であってもアナターゼ型であってもよいが、ルチル型がより好ましい。これは、ルチル型の酸化チタン粒子が、アナターゼ型の酸化チタン粒子より光触媒活性が低いため、高屈折率層112や隣接した低屈折率層111の耐候性が高くなり、さらに屈折率が高くなるためである。   The titanium oxide of the titanium oxide particles coated with the silicon-containing hydrated oxide may be a rutile type or an anatase type, but a rutile type is more preferable. This is because the rutile type titanium oxide particles have lower photocatalytic activity than the anatase type titanium oxide particles, so that the weather resistance of the high refractive index layer 112 and the adjacent low refractive index layer 111 is increased, and the refractive index is further increased. Because.

本明細書における「含ケイ素の水和酸化物」とは、無機ケイ素化合物の水和物、有機ケイ素化合物の加水分解物および/または縮合物のいずれでもよいが、本形態の効果を得るためにはシラノール基を有することがより好ましい。   The term “silicon-containing hydrated oxide” in the present specification may be any of a hydrate of an inorganic silicon compound, a hydrolyzate and / or a condensate of an organosilicon compound. More preferably has a silanol group.

含ケイ素の水和酸化物の被覆量は、3〜30質量%、好ましくは3〜10質量%、より好ましくは3〜8質量%である。被覆量が30質量%以下であると、高屈折率層の所望の屈折率化が得られ、被覆量が3%以上であると粒子を安定に形成することができるからである。   The coating amount of the silicon-containing hydrated oxide is 3 to 30% by mass, preferably 3 to 10% by mass, and more preferably 3 to 8% by mass. This is because when the coating amount is 30% by mass or less, the desired refractive index of the high refractive index layer can be obtained, and when the coating amount is 3% or more, particles can be stably formed.

酸化チタン粒子を含ケイ素の水和酸化物で被覆する方法としては、従来公知の方法により製造することができ、例えば、特開平10−158015号公報、特開2000−204301号公報、特開2007−246351号公報等に記載された事項を参照することができる。   As a method of coating the titanium oxide particles with a silicon-containing hydrated oxide, it can be produced by a conventionally known method. For example, JP-A-10-158015, JP-A-2000-204301, JP-A-2007 Reference can be made to the matters described in JP-A-246351.

高屈折率層112における無機酸化物粒子112aの含有量としては、高屈折率層112の固形分100質量%に対して、15〜90質量%であることが好ましく、20〜85質量%であることがより好ましく、30〜85質量%であることが反射率向上の観点から、さらに好ましい。   As content of the inorganic oxide particle 112a in the high refractive index layer 112, it is preferable that it is 15-90 mass% with respect to 100 mass% of solid content of the high refractive index layer 112, and is 20-85 mass%. It is more preferable, and it is further more preferable from a viewpoint of a reflectance improvement that it is 30-85 mass%.

(他の添加剤)
各屈折率層(111、112)は、塗布により形成する場合の塗布性の観点から界面活性剤等の他の添加剤を含有することが好ましい。塗布時の表面張力調整のため用いられる界面活性剤として、公知のアニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤等を用いることができるが、アニオン系界面活性剤がより好ましい。好ましい化合物としては、1分子中に炭素数8〜30の疎水性基とスルホン酸基またはその塩を含有するものが挙げられる。
(Other additives)
Each refractive index layer (111, 112) preferably contains another additive such as a surfactant from the viewpoint of applicability when formed by coating. As the surfactant used for adjusting the surface tension at the time of coating, known anionic surfactants, nonionic surfactants, amphoteric surfactants and the like can be used, and anionic surfactants are more preferable. Preferred compounds include those containing a hydrophobic group having 8 to 30 carbon atoms and a sulfonic acid group or a salt thereof in one molecule.

各屈折率層における界面活性剤の含有量は、各屈折率層中の固形分の総量に対して、0.001〜0.5質量%であることが好ましく、0.005〜0.3質量%であることがより好ましい。   The content of the surfactant in each refractive index layer is preferably 0.001 to 0.5% by mass, and preferably 0.005 to 0.3% by mass with respect to the total solid content in each refractive index layer. % Is more preferable.

各屈折率層(111、112)は、塗布液の分散安定性の観点から公知の高分子分散剤を含有することが好ましい。高分子分散剤とは、重量平均分子量が10,000以上の高分子の分散剤を指す。高分子分散剤の含有量は屈折率層に対して固形分換算で0.1〜10質量%であることが好ましい。   Each refractive index layer (111, 112) preferably contains a known polymer dispersant from the viewpoint of dispersion stability of the coating solution. The polymer dispersant refers to a polymer dispersant having a weight average molecular weight of 10,000 or more. The content of the polymer dispersant is preferably 0.1 to 10% by mass in terms of solid content with respect to the refractive index layer.

各屈折率層は、エマルジョン樹脂をさらに含有していてもよい。エマルジョン樹脂を含むことにより、膜の柔軟性が高くなりガラスへの貼りつけ等の加工性がよくなる。   Each refractive index layer may further contain an emulsion resin. By including the emulsion resin, the flexibility of the film is increased and the workability such as sticking to glass is improved.

各屈折率層は、上記以外にも、他の添加剤を含んでいてもよい。当該他の添加剤としては、上述の紫外線遮断層14の(I)の形態において挙げた「その他の添加剤」と同様のものが使用可能である他、ヒンダードアミン系などの光安定剤等の公知の各種添加剤を使用することができる。   Each refractive index layer may contain other additives besides the above. As the other additives, those similar to the “other additives” mentioned in the above-mentioned form (I) of the ultraviolet blocking layer 14 can be used, and light stabilizers such as hindered amines are known. These various additives can be used.

(膜設計)
本形態の太陽光反射フィルム10、10’は、低屈折率層111および高屈折率層112が積層されたユニットを少なくとも1つ有する紫外線反射積層部11を有する。低屈折率層111および高屈折率層112の総層数の範囲は、100層以下、より好ましくは45層以下である。下限は特に限定されるものではないが、5層以上であることが好ましい。光散乱および反射強度を考慮すると、1つの紫外線反射積層部11あたりの低屈折率層111および高屈折率層112の総層数の範囲は、7〜23層であることが好ましい。
(Membrane design)
The solar reflective film 10, 10 ′ of this embodiment has an ultraviolet reflective laminated portion 11 having at least one unit in which a low refractive index layer 111 and a high refractive index layer 112 are laminated. The range of the total number of layers of the low refractive index layer 111 and the high refractive index layer 112 is 100 layers or less, more preferably 45 layers or less. Although a minimum is not specifically limited, It is preferable that it is 5 layers or more. In consideration of light scattering and reflection intensity, the range of the total number of low refractive index layers 111 and high refractive index layers 112 per one ultraviolet reflection laminated portion 11 is preferably 7 to 23 layers.

また、低屈折率層111と高屈折率層112との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で所望の光線である紫外線に対する反射率を高くすることができるという観点から好ましい。本形態においては、少なくとも隣接した2層(低屈折率層111および高屈折率層112)の屈折率差が0.1以上であることが好ましく、より好ましくは0.25以上であり、さらに好ましくは0.3以上であり、よりさらに好ましくは0.35以上である。また、上限には特に制限はないが通常1.4以下である。ただし、例えば、最表層はフィルムを保護するための層として形成される場合または最下層が基板との接着性改良層として形成される場合等において、最表層や最下層に関しては、上記好適な屈折率差の範囲外の構成であってもよい。なお、紫外線反射積層部11における各屈折率層間の屈折率差と、必要な層数とについては、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。   In addition, it is preferable to design a large difference in refractive index between the low refractive index layer 111 and the high refractive index layer 112 from the viewpoint that the reflectance with respect to ultraviolet rays that are desired light beams can be increased with a small number of layers. In this embodiment, the difference in refractive index between at least two adjacent layers (low refractive index layer 111 and high refractive index layer 112) is preferably 0.1 or more, more preferably 0.25 or more, and further preferably Is 0.3 or more, more preferably 0.35 or more. The upper limit is not particularly limited, but is usually 1.4 or less. However, for example, when the outermost layer is formed as a layer for protecting the film or when the lowermost layer is formed as an adhesion improving layer with the substrate, the above-mentioned preferred refraction is performed with respect to the outermost layer and the lowermost layer. A configuration outside the range of the rate difference may be used. In addition, about the refractive index difference between each refractive index layer in the ultraviolet reflective lamination part 11, and a required number of layers, it can calculate using commercially available optical design software.

低屈折率層111は、屈折率が1.10〜1.60であることが好ましく、より好ましくは1.30〜1.55である。高屈折率層112は、屈折率が1.80〜2.50であることが好ましく、より好ましくは1.80〜2.20である。   The low refractive index layer 111 preferably has a refractive index of 1.10 to 1.60, more preferably 1.30 to 1.55. The high refractive index layer 112 preferably has a refractive index of 1.80 to 2.50, more preferably 1.80 to 2.20.

隣接した層界面での反射は、層間の屈折率比に依存するのでこの屈折率比が大きいほど、反射率が高まる。また、単層膜でみたとき層表面における反射光と、層底部における反射光の光路差を、n・d=波長/4、で表される関係にすると位相差により反射光を強めあうよう制御でき、反射率を上げることができる。ここで、nは屈折率、またdは層の物理膜厚、n・dは光学膜厚である。この光路差を利用することで、反射を制御できる。この関係を利用して、各層の屈折率と膜厚を制御して、可視光の透過や、紫外線の反射を制御する。   Since reflection at the interface between adjacent layers depends on the refractive index ratio between the layers, the larger the refractive index ratio, the higher the reflectance. In addition, when the optical path difference between the reflected light on the surface of the layer and the reflected light on the bottom of the layer is a relationship expressed by n · d = wavelength / 4 when viewed as a single layer film, the reflected light is controlled to be strengthened by the phase difference. The reflectance can be increased. Here, n is the refractive index, d is the physical film thickness of the layer, and n · d is the optical film thickness. By utilizing this optical path difference, reflection can be controlled. Using this relationship, the refractive index and film thickness of each layer are controlled to control the transmission of visible light and the reflection of ultraviolet light.

また、高屈折率層112の平均厚さdHと、低屈折率層111の平均厚さdLとの関係が、下記式(1)および(2)を満たすことが好ましい。   Moreover, it is preferable that the relationship between the average thickness dH of the high refractive index layer 112 and the average thickness dL of the low refractive index layer 111 satisfies the following expressions (1) and (2).

|dH−dL|<40nm 式(1)
|dH+dL|<150nm 式(2)
上記式(1)および(2)を満たすことで、紫外域の反射率を高くすることができる。|dH−dL|は25nm以下であることがより好ましい。|dH−dL|の下限は特に限定されないが、光路差を確保するために、5nm以上であることが好ましい。また、|dH+dL|は130nm以下であることがより好ましい。|dH+dL|の下限は通常100nm以上となる。
| DH−dL | <40 nm Formula (1)
| DH + dL | <150 nm Formula (2)
By satisfying the above formulas (1) and (2), the reflectance in the ultraviolet region can be increased. | DH−dL | is more preferably 25 nm or less. The lower limit of | dH−dL | is not particularly limited, but is preferably 5 nm or more in order to ensure an optical path difference. Further, | dH + dL | is more preferably 130 nm or less. The lower limit of | dH + dL | is usually 100 nm or more.

高屈折率層112の1層あたりの厚み(乾燥後の厚み)は、20〜80nmであることが好ましく、30〜70nmであることがより好ましく、40〜60nmであることがより好ましい。低屈折率層111の1層あたりの厚み(乾燥後の厚み)は、40〜100nmであることが好ましく、50〜90nmであることがより好ましく、60〜80nmであることがより好ましい。   The thickness per layer of the high refractive index layer 112 (thickness after drying) is preferably 20 to 80 nm, more preferably 30 to 70 nm, and more preferably 40 to 60 nm. The thickness per layer of the low refractive index layer 111 (thickness after drying) is preferably 40 to 100 nm, more preferably 50 to 90 nm, and more preferably 60 to 80 nm.

(紫外線反射積層部11の製造方法)
本形態の太陽光反射フィルム10、10’における紫外線反射積層部11の製造方法は特に制限はないが、大面積かつ大量生産が可能であること、および好適には水溶性樹脂を含むことから、塗布による膜形成法が好ましい。また、塗布の方法としては、逐次塗布でも同時重層塗布でもよいが、生産性が向上することから、同時重層塗布であることが好ましい。
(Manufacturing method of the ultraviolet reflection laminated part 11)
Although there is no restriction | limiting in particular in the manufacturing method of the ultraviolet reflective lamination | stacking part 11 in the solar reflective film 10, 10 'of this form, Since it is large area and mass production is possible, and suitably contains water-soluble resin, A film forming method by coating is preferred. The coating method may be sequential coating or simultaneous multi-layer coating, but simultaneous multi-layer coating is preferable because productivity is improved.

塗布方式としては、例えば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、カーテン塗布方法、あるいは米国特許第2,761,419号、同第2,761,791号公報に記載のホッパーを使用するスライドビード塗布方法、エクストルージョンコート法等が好ましく用いられる。   Examples of the coating method include a roll coating method, a rod bar coating method, an air knife coating method, a spray coating method, a curtain coating method, or US Pat. Nos. 2,761,419 and 2,761,791. A slide bead coating method using an hopper, an extrusion coating method, or the like is preferably used.

低屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液および樹脂層塗布液を調製するための溶媒は、特に制限されないが、水、有機溶媒、またはその混合溶媒が好ましい。本形態においては、好適な樹脂として水溶性樹脂を用いることができるために、水系溶媒を用いることができる。水系溶媒は、有機溶媒を用いる場合と比較して、大規模な生産設備を必要とすることがないため、生産性の点で好ましく、また環境保全の点でも好ましい。   The solvent for preparing the coating solution for the low refractive index layer, the coating solution for the high refractive index layer, and the coating solution for the resin layer is not particularly limited, but water, an organic solvent, or a mixed solvent thereof is preferable. In this embodiment, since a water-soluble resin can be used as a suitable resin, an aqueous solvent can be used. Compared to the case where an organic solvent is used, the aqueous solvent does not require a large-scale production facility, so that it is preferable in terms of productivity and also in terms of environmental conservation.

前記有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−ブタノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のエーテル類、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノン等のケトン類等が挙げられる。これら有機溶媒は、単独でもまたは2種以上混合して用いてもよい。環境面、操作の簡便性等から、塗布液の溶媒としては、特に水、または水とメタノール、エタノール、もしくは酢酸エチルとの混合溶媒が好ましく、水がより好ましい。   Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol, and 1-butanol, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethyl ether, Examples thereof include ethers such as propylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether, amides such as dimethylformamide and N-methylpyrrolidone, and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, acetylacetone and cyclohexanone. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more. From the viewpoint of environment, simplicity of operation, etc., the solvent of the coating solution is preferably water or a mixed solvent of water and methanol, ethanol, or ethyl acetate, and more preferably water.

低屈折率層用塗布液中の樹脂(水溶性樹脂等)の濃度は、0.5〜10質量%であることが好ましい。また、低屈折率層用塗布液中の無機酸化物粒子の濃度は、1〜50質量%であることが好ましい。高屈折率層用塗布液中の樹脂(水溶性樹脂等)の濃度は、0.5〜10質量%であることが好ましい。また、高屈折率層用塗布液中の無機酸化物粒子の濃度は、1〜50質量%であることが好ましい。   The concentration of the resin (water-soluble resin or the like) in the coating solution for the low refractive index layer is preferably 0.5 to 10% by mass. Moreover, it is preferable that the density | concentration of the inorganic oxide particle in the coating liquid for low refractive index layers is 1-50 mass%. The concentration of the resin (water-soluble resin or the like) in the coating solution for the high refractive index layer is preferably 0.5 to 10% by mass. Moreover, it is preferable that the density | concentration of the inorganic oxide particle in the coating liquid for high refractive index layers is 1-50 mass%.

低屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液の調製方法は、特に制限されず、例えば、無機酸化物粒子、樹脂(水溶性樹脂など)、および必要に応じて添加されるその他の添加剤を添加し、攪拌混合する方法が挙げられる。この際、各成分の添加順も特に制限されず、攪拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、攪拌しながら一度に添加し混合してもよい。必要に応じて、さらに溶媒を用いて、適当な粘度に調製される。   The method for preparing the coating solution for the low refractive index layer and the coating solution for the high refractive index layer is not particularly limited. For example, inorganic oxide particles, resins (such as water-soluble resins), and other additives added as necessary The method of adding an additive and stirring and mixing is mentioned. At this time, the order of addition of the respective components is not particularly limited, and the respective components may be sequentially added and mixed while stirring, or may be added and mixed at one time while stirring. If necessary, it is further adjusted to an appropriate viscosity using a solvent.

同時重層塗布を行う際の低屈折率層用塗布液および高屈折率層用塗布液の温度は、スライドビード塗布方式、カーテン塗布方式を用いる場合は、25〜60℃の温度範囲が好ましく、30〜45℃の温度範囲がより好ましい。   The temperature of the coating solution for the low refractive index layer and the coating solution for the high refractive index layer at the time of simultaneous multilayer coating is preferably 25 to 60 ° C. when using the slide bead coating method or the curtain coating method, and 30 A temperature range of ˜45 ° C. is more preferred.

塗布および乾燥方法の条件は、特に制限されないが、例えば、逐次塗布法、同時重層塗布法等を用いることができる。   The conditions for the coating and drying method are not particularly limited, and for example, a sequential coating method, a simultaneous multilayer coating method, or the like can be used.

[銀反射層13]
本形態の太陽光反射フィルム10、10’における銀反射層13は、特に可視光〜赤外線領域の光;280〜2500nmの波長を反射する機能を有する銀もしくは銀を主成分とする層である。銀反射層13は、図1、2に示すように、光入射面側の紫外線反射積層部11よりも下層側に設けられていればよい。ここで、銀を主成分とするとは、銀反射層13を構成する銀含有合金の中で最も銀の含有量が大きければよく、好ましくは銀の含有量が70質量%以上、より好ましくは80質量%以上、更に好ましくは90質量%以上であり、最も好ましくは100質量%である。なお、銀含有合金に含まれる他合金成分としては、製膜時の温度、太陽光反射率、耐食性の観点から、Al、Cr、Cu、Ni、Ti、Mg、Rh、Pt及びAuからなる元素群の中から選ばれるいずれかの元素を含む材料が好ましく、より好ましくはAlである。
[Silver reflective layer 13]
The silver reflective layer 13 in the solar reflective films 10, 10 ′ of this embodiment is a layer mainly composed of silver or silver having a function of reflecting light in the visible light to infrared region; a wavelength of 280 to 2500 nm. As shown in FIGS. 1 and 2, the silver reflecting layer 13 only needs to be provided on the lower layer side than the ultraviolet reflecting laminated portion 11 on the light incident surface side. Here, the main component of silver is that the silver content in the silver-containing alloy constituting the silver reflecting layer 13 is the largest, preferably the silver content is 70% by mass or more, more preferably 80%. It is 90 mass% or more, More preferably, it is 90 mass% or more, Most preferably, it is 100 mass%. The other alloy components contained in the silver-containing alloy are elements composed of Al, Cr, Cu, Ni, Ti, Mg, Rh, Pt, and Au from the viewpoint of film formation temperature, solar reflectance, and corrosion resistance. A material containing any element selected from the group is preferable, and Al is more preferable.

銀反射層13の表面反射率(詳しくは、可視光〜赤外線領域の反射率;400〜2500nmの波長の反射率)は好ましくは80%以上、さらに好ましくは90%以上である。銀反射層13の上記表面反射率は、市販の分光光度計を用いて測定することができる。   The surface reflectance of the silver reflective layer 13 (specifically, the reflectance in the visible light to infrared region; the reflectance at a wavelength of 400 to 2500 nm) is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more. The surface reflectance of the silver reflective layer 13 can be measured using a commercially available spectrophotometer.

また、銀反射層13上にSiO、TiO等の金属酸化物からなる層(図1、2中には図示せず)を設けてさらに反射率を向上させてもよい。 Further, a layer made of a metal oxide such as SiO 2 or TiO 2 (not shown in FIGS. 1 and 2) may be provided on the silver reflecting layer 13 to further improve the reflectance.

本発明における銀反射層13の形成法としては、例えば、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。   As a method for forming the silver reflective layer 13 in the present invention, for example, either a wet method or a dry method can be used.

湿式法とは、めっき法または金属錯体溶液塗布法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例を挙げると銀鏡反応や、銀錯体インクの焼成(詳しくは銀錯体化合物を含有する銀コーティング液組成物を塗布して形成した塗布膜の焼成)による銀層形成等がある。   The wet method is a general term for a plating method or a metal complex solution coating method, and is a method of forming a film by depositing a metal from a solution. Specific examples include silver mirror reaction and silver layer formation by firing of a silver complex ink (specifically, firing of a coating film formed by applying a silver coating liquid composition containing a silver complex compound).

一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的には、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法等がある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロールツーロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。すなわち、本発明の太陽光反射フィルム10の製造方法においては、銀反射層13を銀の蒸着により形成することが好ましい。   On the other hand, the dry method is a general term for a vacuum film forming method, and specifically includes a resistance heating vacuum deposition method, an electron beam heating vacuum deposition method, an ion plating method, an ion beam assisted vacuum deposition method, and a sputtering method. Etc. In particular, a vapor deposition method capable of a roll-to-roll method for continuously forming a film is preferably used in the present invention. That is, in the manufacturing method of the sunlight reflective film 10 of this invention, it is preferable to form the silver reflection layer 13 by vapor deposition of silver.

銀反射層13の厚さは、太陽光反射率、耐食性等の観点から、10〜200nmが好ましく、より好ましくは30〜150nmである。   The thickness of the silver reflective layer 13 is preferably 10 to 200 nm, more preferably 30 to 150 nm, from the viewpoints of solar reflectance, corrosion resistance, and the like.

(気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物)
銀反射層13を形成する際に、配位子が気化・脱離しうる銀錯体化合物を含有する塗布膜を加熱焼成することにより銀反射層13を形成するようにしてもよい。
(Silver complex compound having a ligand that can be vaporized and eliminated)
When the silver reflective layer 13 is formed, the silver reflective layer 13 may be formed by heating and firing a coating film containing a silver complex compound from which a ligand can be vaporized and desorbed.

「気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物」とは、溶液中では銀が安定に溶解するための配位子を有するが、溶媒を除去し、加熱焼成することによって、配位子が熱分解し、COや低分子量のアミン化合物となり、気化・脱離し、金属銀のみが残存することのできる銀錯体化合物のことをいう。 “Silver complex compound having a ligand that can be vaporized / desorbed” has a ligand for stably dissolving silver in a solution, but the ligand is removed by removing the solvent and heating and firing. Is a silver complex compound that can be thermally decomposed into CO 2 or a low molecular weight amine compound, vaporized / desorbed, and only metallic silver remains.

このような銀錯体化合物およびその製造方法については、例えば、公知である特開2012−137579号公報の段落「0064」〜「0089」に記載の銀錯体化合物およびその製造方法を適宜用いることができる。   As for such a silver complex compound and a method for producing the same, for example, a silver complex compound and a method for producing the same described in paragraphs “0064” to “0089” of JP-A-2012-137579, which are publicly known, can be used as appropriate. .

[樹脂フィルム状支持体12]
本形態の太陽光反射フィルム10、10’は、上記の紫外線遮断層14、紫外線反射積層部11、銀反射層13が、光の入射面側からこの順に形成されていれば、これらの各層(または部分)の間に樹脂フィルム状支持体12を含んでいてもよい。
[Resin film-like support 12]
If the above-described ultraviolet blocking layer 14, the ultraviolet reflecting laminated portion 11, and the silver reflecting layer 13 are formed in this order from the light incident surface side, each of these layers ( Alternatively, the resin film-like support 12 may be included between the portions).

樹脂フィルム状支持体12としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、特開2012−48102号公報の段落「0021」に記載のフィルムを用いることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルム、アクリルフィルムが好ましい。特にポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム又はアクリルフィルムを用いることが好ましく、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。   As the resin film-like support 12, various conventionally known resin films can be used. For example, the film described in paragraph “0021” of JP2012-48102A can be used. Among these, polycarbonate films, polyester films such as polyethylene terephthalate, norbornene resin films, cellulose ester films, and acrylic films are preferable. In particular, it is preferable to use a polyester film such as polyethylene terephthalate or an acrylic film, and it may be a film manufactured by melt casting film formation or a film manufactured by solution casting film formation.

図1に示すように、銀反射層13よりも光入射面側から遠い位置に樹脂フィルム状支持体12を配置する場合(すなわち、光の入射面側から紫外線遮断層14、紫外線反射積層部11、銀反射層13、樹脂フィルム状支持体12の順で積層されている場合)には、紫外線が樹脂フィルム状支持体12に到達しにくい。特に、樹脂フィルム状支持体12よりも光入射面側にある紫外線遮断層14および紫外線反射部11により紫外線を吸収・反射させることができるため、紫外線は樹脂フィルム状支持体12に、より到達しにくくなる。従って、樹脂フィルム状支持体12は、紫外線に対して劣化しやすい樹脂であっても用いることが可能となる。つまり、樹脂フィルム状支持体12は、紫外線に対する耐性によって制限されることなく、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。このような観点から、樹脂フィルム状支持体12として、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルムを用いることが可能となる。   As shown in FIG. 1, when the resin film-like support 12 is disposed at a position farther from the light incident surface side than the silver reflecting layer 13 (that is, from the light incident surface side, the ultraviolet blocking layer 14 and the ultraviolet reflecting laminated portion 11 are arranged. In the case where the silver reflection layer 13 and the resin film support 12 are laminated in this order), the ultraviolet rays hardly reach the resin film support 12. In particular, since the ultraviolet ray can be absorbed and reflected by the ultraviolet blocking layer 14 and the ultraviolet reflecting portion 11 on the light incident surface side of the resin film-like support 12, the ultraviolet rays reach the resin film-like support 12 more. It becomes difficult. Therefore, the resin film-like support 12 can be used even if it is a resin that easily deteriorates with respect to ultraviolet rays. That is, the resin film-like support 12 is not limited by resistance to ultraviolet rays, and various conventionally known resin films can be used. From such a viewpoint, a polyester film such as polyethylene terephthalate can be used as the resin film-like support 12.

一方、樹脂フィルム状支持体12の光入射面側とは反対側に銀反射層13を設ける場合(すなわち、光の入射面側から紫外線遮断層14、紫外線反射積層部11、樹脂フィルム状支持体12、銀反射層13の順で積層されている場合)には、当該樹脂フィルム状支持体12が太陽光(特に可視光〜赤外線領域の光線)を透過させることのできる樹脂フィルムを用いるのが望ましい。かかる観点から、樹脂フィルム状支持体12の太陽光(特に可視光〜赤外線領域の光線;400〜2500nmの波長)の透過率は、70%以上が好ましく、より好ましくは80%以上、更に好ましくは90%以上、特に好ましくは95%以上の範囲である。太陽光(400〜2500nmの波長)の透過率は、積分球を持つ分光光度計により測定することができる。   On the other hand, when the silver reflective layer 13 is provided on the side opposite to the light incident surface side of the resin film-shaped support 12 (that is, from the light incident surface side, the ultraviolet blocking layer 14, the ultraviolet reflective laminated portion 11, the resin film-shaped support body. 12 and when the silver reflective layer 13 is laminated in this order), it is preferable to use a resin film in which the resin film-like support 12 can transmit sunlight (particularly visible light to light in the infrared region). desirable. From this viewpoint, the transmittance of sunlight (particularly visible light to infrared light; wavelength of 400 to 2500 nm) of the resin film-like support 12 is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, and still more preferably. It is 90% or more, particularly preferably 95% or more. The transmittance of sunlight (wavelength of 400 to 2500 nm) can be measured with a spectrophotometer having an integrating sphere.

樹脂フィルム状支持体12の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、10〜250μmの範囲内である。好ましくは20〜200μmである。   The thickness of the resin film-like support 12 is preferably set to an appropriate thickness according to the type and purpose of the resin. For example, it is generally in the range of 10 to 250 μm. Preferably it is 20-200 micrometers.

[その他の層]
本形態の太陽光反射フィルム10、10’は、上記の紫外線遮断層14、紫外線反射積層部11、銀反射層13が、光の入射面側からこの順に形成されていれば、これらの各層(または部分)の間、または上下に他の層を含んでいてもよい。本形態の太陽光反射フィルム10、10’において、含まれうる他の層について詳細に説明するが、以下に挙げる層は例示であり、これらに限定されない。
[Other layers]
If the above-described ultraviolet blocking layer 14, the ultraviolet reflecting laminated portion 11, and the silver reflecting layer 13 are formed in this order from the light incident surface side, each of these layers ( Or other portions) or may be included above and below. In the solar reflective film 10, 10 ′ of the present embodiment, other layers that can be included will be described in detail, but the following layers are examples and are not limited to these.

(ハードコート層17)
本形態の太陽光反射フィルム10、10’は、紫外線反射積層部11を擦傷から保護する目的で、紫外線反射積層部11の光が入射する面側に、ハードコート層(HC層;耐傷層)17をさらに有していてもよい。すなわち、図2の態様であってもよい。
(Hard coat layer 17)
The solar reflective films 10 and 10 ′ of this embodiment are provided with a hard coat layer (HC layer; scratch-resistant layer) on the side of the ultraviolet reflective laminated portion 11 where light is incident for the purpose of protecting the ultraviolet reflective laminated portion 11 from scratches. 17 may be further included. That is, the aspect of FIG. 2 may be sufficient.

以下では、紫外線遮断層14の光入射面側に設けられるハードコート層17の構成について説明する。   Hereinafter, the configuration of the hard coat layer 17 provided on the light incident surface side of the ultraviolet blocking layer 14 will be described.

ハードコート層17で使用される硬化樹脂としては、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられるが、紫外線反射積層部の劣化を抑制する観点から、熱硬化性樹脂が好ましい。かような硬化性樹脂は、単独でもまたは2種以上組み合わせても用いることができる。また、硬化型樹脂は市販品を用いてもよいし、合成品を用いてもよい。   Examples of the curable resin used in the hard coat layer 17 include a thermosetting resin and an active energy ray curable resin, and a thermosetting resin is preferable from the viewpoint of suppressing deterioration of the ultraviolet reflection laminated portion. Such curable resins can be used singly or in combination of two or more. As the curable resin, a commercially available product may be used, or a synthetic product may be used.

熱硬化性樹脂としては、ポリシロキサンに代表される無機系材料が挙げられる。   Examples of the thermosetting resin include inorganic materials typified by polysiloxane.

ポリシロキサン系ハードコート(HC層17)は、上記の紫外線遮断層の(II)の形態において、無機酸化物と共に用いられる透明樹脂と同様のものを用いることができる。なかでも、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等が好ましく用いられる。これらのメトキシ基、エトキシ基等の加水分解性基が水酸基に置換した状態のものが、一般的にポリオルガノシロキサン系ハードコートといわれている。これを基板上に塗布し、加熱硬化させることで、脱水縮合反応が促進し、硬化・架橋することで、ハードコート(HC層17)が製膜される。これらのポリオルガノシロキサン系ハードコート中でも、加水分解によって脱離しない有機基がメチル基のものが最も耐候性が高い。また、メチル基であれば、ハードコート製膜後の表面にメチル基が均一且密に分布するため、転落角も低い。そのため、本用途では、メチルポリシロキサンを用いることが好ましい。   The polysiloxane hard coat (HC layer 17) may be the same as the transparent resin used together with the inorganic oxide in the form (II) of the ultraviolet blocking layer. Of these, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane and the like are preferably used. A state in which a hydrolyzable group such as methoxy group or ethoxy group is substituted with a hydroxyl group is generally called a polyorganosiloxane hard coat. When this is applied onto a substrate and cured by heating, the dehydration condensation reaction is promoted, and the hard coat (HC layer 17) is formed by curing and crosslinking. Among these polyorganosiloxane hard coats, those having an organic group that is not eliminated by hydrolysis are methyl groups have the highest weather resistance. Moreover, if it is a methyl group, since the methyl group is uniformly and densely distributed on the surface after the hard coat film formation, the falling angle is also low. Therefore, in this application, it is preferable to use methylpolysiloxane.

ポリシロキサン系ハードコート(HC層17)の膜厚として、厚すぎれば、応力によってハードコート層17が割れる危険性があり、薄すぎれば硬度を維持することが難しい。そのため、厚さとして、1〜5μmが好ましく、1.5〜3μmであることが好ましい。   If the polysiloxane hard coat (HC layer 17) is too thick, there is a risk that the hard coat layer 17 will break due to stress, and if it is too thin, it is difficult to maintain the hardness. Therefore, 1-5 micrometers is preferable as thickness, and it is preferable that it is 1.5-3 micrometers.

ポリオルガノシロキサン系ハードコート(HC層17)として具体的には、サーコートシリーズ(動研製)、SR2441(東レ・ダウコーニング社)、KF−86(信越シリコン社)、Perma‐New(登録商標)6000(California Hardcoating Company)等を利用することができる。   Specific examples of the polyorganosiloxane hard coat (HC layer 17) include Surcoat series (manufactured by Doken), SR2441 (Toray Dow Corning), KF-86 (Shin-Etsu Silicon), Perma-New (registered trademark) 6000. (California Hardcoating Company) or the like can be used.

ハードコート層17の厚みは0.1〜20μmが好ましく、1〜15μmがより好ましく、3〜10μmであることがより好ましい。0.1μm以上であればハードコート性が向上する傾向にあり、20μm以上であればハードコート層のカールが大きく、耐屈曲性が低下する傾向にある。   The thickness of the hard coat layer 17 is preferably 0.1 to 20 μm, more preferably 1 to 15 μm, and more preferably 3 to 10 μm. If it is 0.1 μm or more, the hard coat property tends to be improved, and if it is 20 μm or more, the curl of the hard coat layer is large and the bending resistance tends to be lowered.

ハードコート層17は、硬化樹脂層形成用組成物(塗布液)をワイヤーバーによるコーティング、スピンコーティング、ディップコーティングにより塗布することで作製することができ、蒸着等の乾式製膜法でも作製することができる。また、上記の組成物(塗布液)をダイコーター、グラビアコーター、コンマコーター等の連続塗布装置でも塗布・製膜することは可能である。ポリシロキサン系ハードコートの場合、塗布後、溶剤を乾燥させた後、該ハードコートの硬化・架橋を促進するため、50℃以上、150℃以下の温度で30分〜数日間の熱処理を必要とする。塗布基材の耐熱性やロールにした時の基材の安定性を考慮して、40℃以上80℃以下で2日間以上処理することが好ましい。活性エネルギー線硬化樹脂の場合、活性エネルギー線の照射波長、照度、光量によってその反応性が変わるため、使用する樹脂によって最適な条件を選択する必要がある。   The hard coat layer 17 can be prepared by applying a cured resin layer forming composition (coating solution) by wire bar coating, spin coating, or dip coating, and also by a dry film forming method such as vapor deposition. Can do. The composition (coating liquid) can be applied and formed into a film by a continuous coating apparatus such as a die coater, a gravure coater, or a comma coater. In the case of a polysiloxane hard coat, after application, after drying the solvent, heat treatment for 30 minutes to several days is required at a temperature of 50 ° C. or more and 150 ° C. or less in order to promote curing / crosslinking of the hard coat. To do. In consideration of the heat resistance of the coated substrate and the stability of the substrate when it is made into a roll, it is preferable to perform the treatment at 40 ° C. or more and 80 ° C. or less for 2 days or more. In the case of an active energy ray curable resin, the reactivity varies depending on the irradiation wavelength, the illuminance, and the light amount of the active energy ray, and therefore it is necessary to select an optimum condition depending on the resin used.

硬化樹脂層形成用組成物(塗布液)には溶媒が含まれていてもよく、必要に応じて適宜含有し、希釈されたものであってもよい。塗布液に含有される有機溶媒としては、例えば、炭化水素類(トルエン、キシレン、)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−プロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル)、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中から適宜選択し、またはこれらを混合し利用できる。   The composition for forming the cured resin layer (coating liquid) may contain a solvent, or may be appropriately contained and diluted as necessary. Examples of the organic solvent contained in the coating solution include hydrocarbons (toluene, xylene), alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, n-propanol, butanol, cyclohexanol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl). Isobutyl ketone), esters (methyl acetate, ethyl acetate, methyl lactate), glycol ethers, and other organic solvents can be appropriately selected or used by mixing them.

ハードコート層17の下層への密着性が得られない場合、硬化樹脂層を積層する前にプライマー層(図1、2中に図示せず)を形成することができる。プライマー層の膜厚は特に限定されるものではないが、0.1〜10μm程度である。好適な例として、プライマー層を構成する樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂が挙げられる。   When adhesion to the lower layer of the hard coat layer 17 is not obtained, a primer layer (not shown in FIGS. 1 and 2) can be formed before laminating the cured resin layer. Although the film thickness of a primer layer is not specifically limited, It is about 0.1-10 micrometers. Preferable examples of the resin constituting the primer layer include polyvinyl acetal resin and acrylic resin.

(粘着層15)
本形態の太陽光反射フィルム10、10’は、後述の支持基材(太陽光反射体の構成部材である自己支持性の基材)に接合するための粘着層15を有していてもよい。粘着層15を構成する粘着剤としては、特に制限されず、例えば、アクリル系粘着剤、シリコン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤等を例示することができる。
(Adhesive layer 15)
The solar reflective film 10, 10 ′ of this embodiment may have an adhesive layer 15 for bonding to a support base material (a self-supporting base material that is a constituent member of the solar reflector) described later. . It does not restrict | limit especially as an adhesive which comprises the adhesion layer 15, For example, an acrylic adhesive, a silicone adhesive, a urethane adhesive, a polyvinyl butyral adhesive, an ethylene-vinyl acetate adhesive etc. are illustrated. be able to.

アクリル系粘着剤としては、溶剤系およびエマルジョン系どちらでも良いが、粘着力等を高め易いことから、溶剤系粘着剤が好ましく、その中でも溶液重合で得られたものが好ましい。このような溶剤系アクリル系粘着剤を溶液重合で製造する場合の原料としては、例えば、骨格となる主モノマーとして、特開2012−53382号公報の段落「0077」に記載のものが挙げられる。さらに架橋を促進し、安定した粘着力を付与させ、また水の存在下でもある程度の粘着力を保持するために官能基含有モノマーとして、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート等が挙げられる。該積層フィルムの粘着剤層には、主ポリマーとして、特に高タック性を要するため、ブチルアクリレート等のような低いガラス転移温度(Tg)を有するものが特に有用である。   The acrylic pressure-sensitive adhesive may be either solvent-based or emulsion-based, but is preferably a solvent-based pressure-sensitive adhesive because it is easy to increase the adhesive strength and the like, and among them, those obtained by solution polymerization are preferable. Examples of the raw material for producing such a solvent-based acrylic pressure-sensitive adhesive by solution polymerization include, for example, those described in paragraph “0077” of JP 2012-53382 A as a main monomer serving as a skeleton. In addition, methacrylic acid, acrylic acid, itaconic acid, hydroxyethyl methacrylate, glycidyl methacrylate are used as functional group-containing monomers to promote crosslinking, provide stable adhesive strength, and maintain a certain level of adhesive strength even in the presence of water. Etc. Since the adhesive layer of the laminated film requires a particularly high tack as the main polymer, those having a low glass transition temperature (Tg) such as butyl acrylate are particularly useful.

この粘着層15には、添加剤として、例えば安定剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、難燃剤、帯電防止剤、抗酸化剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色剤、接着調整剤等を含有させることもできる。   In this adhesive layer 15, as additives, for example, stabilizers, surfactants, ultraviolet absorbers, flame retardants, antistatic agents, antioxidants, thermal stabilizers, lubricants, fillers, colorants, adhesion modifiers, etc. Can also be included.

粘着層15の厚みは1μm〜100μmが好ましく、より好ましくは3〜50μmである。1μm以上であれば粘着性が向上する傾向にあり、十分な粘着力が得られる。100μmよりも厚い場合には粘着層の局所的な収縮や膨張に影響され銀反射層の平面性が失われる傾向にあるため、100μm以下が望ましい。   The thickness of the adhesive layer 15 is preferably 1 μm to 100 μm, more preferably 3 to 50 μm. If it is 1 micrometer or more, there exists a tendency for adhesiveness to improve and sufficient adhesive force is acquired. When the thickness is larger than 100 μm, the flatness of the silver reflecting layer tends to be lost due to local shrinkage and expansion of the adhesive layer, and therefore it is preferably 100 μm or less.

(剥離材16)
本形態の太陽光反射フィルム10、10’は、粘着層15の光入射面側と逆側に剥離材16を有していてもよい。例えば、太陽光反射フィルム10の出荷時には剥離材16が粘着層15に張り付いた状態で出荷し、剥離材16から粘着層15を有する太陽光反射フィルム10を剥離し、太陽光反射体の構成部材である自己支持性の基材(支持基材)に貼り合わせて太陽光反射体、更には太陽光反射装置を形成することができる。
(Release material 16)
The solar reflective film 10, 10 ′ of this embodiment may have a release material 16 on the side opposite to the light incident surface side of the adhesive layer 15. For example, when the solar reflective film 10 is shipped, the release material 16 is shipped in a state of sticking to the adhesive layer 15, and the solar reflective film 10 having the adhesive layer 15 is peeled from the release material 16 to form a solar reflector. A solar reflector and further a solar reflector can be formed by bonding to a self-supporting base material (support base material) which is a member.

剥離材16としては、粘着層15の保護性を付与できるものであればよく、例えば、アクリルフィルム又はシート、ポリカーボネートフィルム又はシート、ポリアリレートフィルム又はシート、ポリエチレンナフタレートフィルム又はシート、ポリエチレンテレフタレートフィルム又はシート、フッ素フィルムなどのプラスチックフィルム又はシート、又は酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルム又はシート、これらが練り込まれた樹脂をコーティングした樹脂フィルム又はシート、アルミニウム等の金属を用いて金属蒸着などで表面加工を施した樹脂フィルム又はシート等が用いられる。   The release material 16 may be any material that can impart protection of the adhesive layer 15, for example, an acrylic film or sheet, a polycarbonate film or sheet, a polyarylate film or sheet, a polyethylene naphthalate film or sheet, a polyethylene terephthalate film or Sheet, plastic film or sheet such as fluorine film, resin film or sheet kneaded with titanium oxide, silica, aluminum powder, copper powder, resin film or sheet coated with resin kneaded with these, aluminum, etc. A resin film, a sheet, or the like that has been subjected to surface processing using metal deposition or the like is used.

剥離材16の厚さは、特に制限はないが、通常12〜250μmの範囲であることが好ましい。   The thickness of the release material 16 is not particularly limited, but is usually preferably in the range of 12 to 250 μm.

また、これらの剥離材16を太陽光反射フィルム10(剥離材16を除く)と貼り合わせる前に凹部や凸部を設けてから貼り合せてもよく、貼り合せた後で凹部や凸部を有するように成形してもよく、貼り合わせと凹部や凸部を有するように成形することを同時にしてもよいものである。   Moreover, you may bond after providing a recessed part and a convex part before bonding these peeling materials 16 with the sunlight reflective film 10 (except for the peeling material 16), and have a recessed part and a convex part after bonding. It may be formed in such a manner that the bonding and forming so as to have a concave portion or a convex portion may be performed simultaneously.

(腐食防止層)
空気中の水分や化学物質等の銀反射層13(ミラー面)への侵入を防止(ひいては銀反射層13の銀や銀含有合金材料(特に銀)の腐食を防止)し、更には外部からの機械的な圧力、例えば衝撃や引っ掻き等から保護する目的で、腐食防止層が設けられていてもよい。即ち、腐食防止層により、銀反射層13の銀の腐食を防止して太陽光の反射を維持することができる。その結果、太陽光反射フィルム10、10’の耐久性を向上させることができる。上記目的から、腐食防止層は、銀反射層3に隣接して設けられているのが望ましい。但し、上記目的を達成し得る範囲内であれば、銀反射層13から離して(隣接することなく)設けられていてもよく、そうした場合にも銀の腐食防止剤を含有していることが好ましい。
(Corrosion prevention layer)
Prevents moisture and chemicals in the air from entering the silver reflective layer 13 (mirror surface) (and thus prevents corrosion of silver and silver-containing alloy materials (especially silver) in the silver reflective layer 13), and from the outside For the purpose of protecting against mechanical pressure, such as impact and scratching, a corrosion prevention layer may be provided. That is, the corrosion prevention layer can prevent the silver reflection of the silver reflection layer 13 and maintain the reflection of sunlight. As a result, the durability of the sunlight reflecting films 10, 10 ′ can be improved. For the above purpose, the corrosion prevention layer is desirably provided adjacent to the silver reflection layer 3. However, as long as it is within the range that can achieve the above object, it may be provided apart from (without adjoining) the silver reflecting layer 13, and in such a case, it may contain a silver corrosion inhibitor. preferable.

腐食防止層は、1層のみからなっていてもよいし、複数層からなっていてもよい。   The corrosion prevention layer may consist of only one layer or may consist of a plurality of layers.

腐食防止層の厚さ(2層以上の場合は合計厚さ)は、1〜10μmが好ましく、より好ましくは2〜8μmである。腐食防止層の厚さが1μm以上であれば、空気中の水分や化学物質等の銀反射層13(ミラー面)への侵入、更には外部からの機械的な圧力、例えば衝撃や引っ掻き等から保護することができる。腐食防止層の厚さが10μm以下であれば、フレキシブル性を十分に維持することができるため、クラックや割れを効果的に防止することができる。   The thickness of the corrosion prevention layer (in the case of two or more layers, the total thickness) is preferably 1 to 10 μm, more preferably 2 to 8 μm. If the thickness of the corrosion prevention layer is 1 μm or more, it may be caused by intrusion of moisture or chemicals in the air into the silver reflecting layer 13 (mirror surface), and mechanical pressure from the outside, for example, impact or scratching. Can be protected. If the thickness of the corrosion prevention layer is 10 μm or less, the flexibility can be sufficiently maintained, and cracks and cracks can be effectively prevented.

(アンカーコート層)
本形態の太陽光反射フィルム10、10’では、アンカーコート層(図1、2中に図示せず)を設けてもよい。かかるアンカーコート層は、樹脂からなり、樹脂フィルム状支持体12と銀反射層13とを密着させるために設けられる層である。従って、アンカーコート層は樹脂フィルム状支持体12と銀反射層13とを密着させる密着性、銀反射層13を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び銀反射層13が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性、透明性(太陽光透過率)が必要である。
(Anchor coat layer)
In the solar reflective film 10, 10 ′ of this embodiment, an anchor coat layer (not shown in FIGS. 1 and 2) may be provided. The anchor coat layer is made of a resin and is a layer provided for closely attaching the resin film-like support 12 and the silver reflecting layer 13. Therefore, the anchor coat layer has an adhesion property that allows the resin film-like support 12 and the silver reflective layer 13 to adhere to each other, heat resistance that can withstand heat when the silver reflective layer 13 is formed by a vacuum deposition method, and the like. Therefore, smoothness and transparency (sunlight transmittance) are required to bring out the high reflection performance inherent in 13.

アンカーコート層に使用する樹脂は、上記の密着性、耐熱性、透明性及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂又はポリエステル系樹脂とアクリル系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。   The resin used for the anchor coat layer is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions of adhesion, heat resistance, transparency and smoothness, and polyester resin, acrylic resin, melamine resin, epoxy resin Resin, polyamide resin, vinyl chloride resin, vinyl chloride vinyl acetate copolymer resin, etc. can be used singly or as a mixed resin. From the viewpoint of weather resistance, polyester resin and melamine resin mixed resin or polyester resin A mixed resin of acrylic resin and acrylic resin is preferable, and a thermosetting resin in which a curing agent such as isocyanate is further mixed is more preferable.

アンカーコート層の厚さは、0.01〜3μmが好ましく、より好ましくは0.1〜2μmである。この範囲を満たすことにより、密着性を保ちつつ、樹脂フィルム状支持体11表面の凹凸を覆い隠すことができ、平滑性を良好にでき、アンカーコート層の硬化も十分に行えるため、結果として本形態の太陽光反射フィルム10の反射率を高めることが可能となる。   The thickness of the anchor coat layer is preferably 0.01 to 3 μm, more preferably 0.1 to 2 μm. By satisfying this range, it is possible to cover the unevenness on the surface of the resin film-like support 11 while maintaining adhesion, to improve smoothness, and to sufficiently cure the anchor coat layer. It becomes possible to raise the reflectance of the solar reflective film 10 of a form.

また、アンカーコート層は、上述の腐食防止層に含まれる腐食防止剤と同様の腐食防止剤を含有することが好ましい。   Moreover, it is preferable that an anchor coat layer contains the same corrosion inhibitor as the corrosion inhibitor contained in the above-mentioned corrosion prevention layer.

(ガスバリア層)
銀反射層13よりも光入射面側にガスバリア層(図1、2中に図示せず)を設けてもよい。ハードコート層17と銀反射層13の間にガスバリア層を設けることが好ましい。更には、粘着層15と腐食防止層の間にガスバリア層を設けることが好ましい。ガスバリア層の詳細については、例えば、公知である国際公開番号WO2011/096151 A1公報の段落「0044」〜「0096」を適用することができる。
(Gas barrier layer)
A gas barrier layer (not shown in FIGS. 1 and 2) may be provided on the light incident surface side of the silver reflecting layer 13. It is preferable to provide a gas barrier layer between the hard coat layer 17 and the silver reflective layer 13. Furthermore, it is preferable to provide a gas barrier layer between the adhesive layer 15 and the corrosion prevention layer. For details of the gas barrier layer, for example, paragraphs “0044” to “0096” of the publicly known international publication number WO2011 / 096151 A1 can be applied.

また、本形態の太陽光反射フィルム10、10’は、使用される環境や用途に応じて、易接着層(接着層)、導電性層、帯電防止層、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層等の機能層の1つ以上を有していてもよい。   In addition, the solar reflective film 10, 10 ′ of this embodiment has an easy-adhesion layer (adhesive layer), a conductive layer, an antistatic layer, an antifouling layer, a deodorizing layer, a flow according to the environment and application used. You may have 1 or more of functional layers, such as a droplet layer, a slippery layer, an abrasion-resistant layer, an antireflection layer, an electromagnetic wave shield layer, a printing layer, a fluorescence light emitting layer, and a hologram layer.

<太陽光反射体>
本発明の第二は、上述の太陽光反射フィルム10、10’を有する太陽光反射体を提供する。太陽反射体は、粘着層15を介して太陽光反射フィルム10、10’が自己支持性の基材(支持基材)に接合されてなる構造を有する。ここで、「自己支持性の基材」という場合の、「自己支持性」とは、太陽光反射体の基材として用いられる大きさに断裁された場合において、その対向する端縁部分を支持することで、基材を担持することが可能な程度の剛性を有することを表す。太陽光反射体の基材が自己支持性を有することで、後述の太陽光反射装置に設置する際に取り扱い性に優れるとともに、太陽光反射体を保持するための保持部材を簡素な構成とすることが可能となるため、太陽光反射装置を軽量化することが可能となり、例えば、太陽熱発電の太陽光反射装置として用いた際、太陽追尾の際の消費電力を抑制することが可能となる。
<Sunlight reflector>
The second aspect of the present invention provides a solar reflector having the above-described solar reflective film 10, 10 ′. The solar reflector has a structure in which the solar reflective films 10 and 10 ′ are bonded to a self-supporting base material (support base material) through the adhesive layer 15. Here, in the case of “self-supporting substrate”, “self-supporting” means supporting the opposite edge portions when cut to a size used as a substrate for a solar reflector. By doing this, it indicates that the substrate has rigidity enough to carry the substrate. Since the base material of the solar reflector has self-supporting properties, it is easy to handle when it is installed in a solar reflective device described later, and the holding member for holding the solar reflector has a simple configuration. Therefore, it is possible to reduce the weight of the solar reflective device. For example, when the solar reflective device is used as a solar reflective device for solar thermal power generation, power consumption during solar tracking can be suppressed.

[自己支持性の基材(支持基材)]
自己支持性の基材(支持基材)は、単層であってもよく、複数の層を積層させた形状であってもよい。また、単一構造であってもよく、複数に分割されていてもよい。当該支持基材の形状としては、凹面状の形状を有する又は凹面状の形状になり得ることが好ましい。そのために、平板状から凹面状の形状に可変である支持基材を用いてもよいし、凹面状の形状に固定されている支持基材を用いてもよい。凹面状の形状に可変である支持基材は、該支持基材の曲率を調整することで、接合されている太陽光反射フィルム10、10’の曲率も任意に調整することが可能となるため、反射効率を調整し高い正反射率を得ることができるため好ましい。凹面状の形状が固定されている支持基材は、曲率を調整する必要がなくなるため、調整費用の観点から好ましい。
[Self-supporting substrate (supporting substrate)]
The self-supporting base material (supporting base material) may be a single layer or a shape in which a plurality of layers are laminated. Moreover, a single structure may be sufficient and it may be divided | segmented into plurality. As the shape of the supporting base material, it is preferable that the supporting substrate has a concave shape or can be a concave shape. Therefore, a support base material that is variable from a flat shape to a concave shape may be used, or a support base material that is fixed to a concave shape may be used. Since the support base material which can be changed into the concave shape can adjust the curvature of the solar reflective films 10 and 10 'which are joined by adjusting the curvature of the support base material. It is preferable because the reflection efficiency can be adjusted and a high regular reflectance can be obtained. Since the support base material to which the concave shape is fixed is not necessary to adjust the curvature, it is preferable from the viewpoint of adjustment cost.

自己支持性の基材(支持基材)の素材としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板等の金属板、ベニヤ板(好ましくは防水処理がされたもの)等の木板、繊維強化プラスチック(FRP)板、樹脂板、等が挙げられる。前記材料の中でも金属板を用いることが、熱伝導率が高いという観点から好ましい。さらに好ましくは、高い熱伝導率だけでなく耐腐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などにすることである。最も好ましくは、樹脂と金属板を組み合わせた鋼板を用いることである。   Materials for self-supporting substrates (supporting substrates) include steel plates, copper plates, aluminum plates, aluminum-plated steel plates, aluminum-based alloy-plated steel plates, copper-plated steel plates, tin-plated steel plates, chrome-plated steel plates, stainless steel plates, etc. Examples thereof include wooden boards such as boards and plywood boards (preferably those that have been waterproofed), fiber reinforced plastic (FRP) boards, resin boards, and the like. Among these materials, it is preferable to use a metal plate from the viewpoint of high thermal conductivity. More preferably, it is a plated steel plate, stainless steel plate, aluminum plate or the like having not only high thermal conductivity but also good corrosion resistance. Most preferably, a steel plate combining a resin and a metal plate is used.

<太陽光反射装置>
本発明の第三は、太陽光反射体を有する太陽光反射装置を提供する。本形態の太陽光反射装置は、太陽熱発電において太陽光を集光に好適に用いられる。本形態の太陽光反射装置は、太陽光反射体および該太陽光反射体を保持する保持部材を有する。
<Sunlight reflector>
The third aspect of the present invention provides a sunlight reflecting device having a sunlight reflector. The solar light reflection device of this embodiment is suitably used for condensing sunlight in solar thermal power generation. The sunlight reflecting device of this embodiment has a sunlight reflector and a holding member that holds the sunlight reflector.

好ましい形態としては、当該太陽光反射装置を太陽熱発電用として場合、内部に流体を有する筒状部材を集熱部として太陽光反射フィルム(フィルムミラー)10の近傍に設け、筒状部材に太陽光を反射させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する、一般的にトラフ型と呼ばれる形態が挙げられる。また、その他の形態として、タワー型と呼ばれる形態も挙げられる。タワー型の形態は、少なくとも一つの集熱部と、太陽光を反射して集熱部に照射するための少なくとも一つの太陽熱発電用太陽光反射装置を有しており、集熱部に集められた熱を用いて液体を加熱しタービンを回して発電するものがある。なお、集熱部の周囲に、太陽熱発電用太陽光反射装置が複数配置されていることが好ましい。また、それぞれの太陽熱発電用太陽光反射装置が同心円状や、同心の扇状に複数配置されていることが好ましい。また、支持タワーの周囲に設置された太陽光反射体(太陽光反射用ミラー)により、太陽光が集光鏡へと反射され、その後、集光鏡によりさらに反射し、集熱部へと送られ熱交換施設へ送られる。本形態の太陽光反射装置はトラフ型、タワー型のどちらにも用いることができる。もちろん、それ以外の種々の太陽熱発電に用いることができる。   As a preferred embodiment, when the solar reflective device is used for solar thermal power generation, a cylindrical member having a fluid inside is provided as a heat collecting part in the vicinity of the solar reflective film (film mirror) 10, and sunlight is applied to the cylindrical member. The internal fluid is heated by reflecting the water, and the heat energy is converted to generate electricity to generate power. Moreover, the form called a tower type | mold is also mentioned as another form. The tower-type configuration has at least one heat collecting part and at least one solar power solar reflection device for reflecting sunlight and irradiating the heat collecting part, and is collected in the heat collecting part. There is one that uses liquid heat to heat a liquid and turn a turbine to generate electricity. In addition, it is preferable that a plurality of solar power generation solar reflective devices are arranged around the heat collection unit. Moreover, it is preferable that a plurality of solar reflective devices for solar thermal power generation are arranged concentrically or in a concentric fan shape. In addition, the sunlight is reflected by the sunlight reflector (sunlight reflecting mirror) installed around the support tower, then reflected by the collector mirror, and then further reflected by the collector mirror and sent to the heat collector. And sent to a heat exchange facility. The solar light reflection device of this embodiment can be used for both trough type and tower type. Of course, it can be used for various other types of solar thermal power generation.

太陽光反射装置は、太陽光反射体を保持する保持部材を有する。保持部材は、太陽光反射体が太陽を追尾可能な状態で保持する事が好ましい。保持部材の形態としては、特に制限はないが、例えば、太陽光反射体が所望の形状を保持できるように、複数個所を棒状の保持部材により、保持する形態が好ましい。保持部材は太陽を追尾可能な状態で太陽光反射体を保持する構成を有することが好ましいが、太陽追尾に際しては、手動で駆動させてもよいし、別途駆動装置を設けて自動的に太陽を追尾する構成としてもよい。   The sunlight reflecting device has a holding member that holds a sunlight reflector. The holding member is preferably held in a state where the sunlight reflector can track the sun. Although there is no restriction | limiting in particular as a form of a holding member, For example, the form which hold | maintains several places with a rod-shaped holding member so that a sunlight reflector can hold | maintain a desired shape is preferable. The holding member preferably has a configuration for holding the solar reflector in a state where the sun can be tracked. However, when tracking the sun, the holding member may be driven manually, or a separate driving device may be provided to automatically provide the sun. It is good also as a structure to track.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」または「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」または「質量%」を表す。また、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温(20℃)/相対湿度40〜50%の条件で測定した。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "part" or "%" is used in an Example, unless otherwise indicated, "mass part" or "mass%" is represented. Unless otherwise specified, measurements of operation and physical properties were performed under conditions of room temperature (20 ° C.) / Relative humidity 40 to 50%.

[塗布液の調製]
(低屈折率層用塗布液L1の調製)
3質量%ホウ酸水溶液10質量部を45℃で加熱・撹拌している中に、ポリビニルアルコール(PVA−235、重合度3500、鹸化度88mol%、株式会社クラレ製)の5質量%水溶液80質量部を添加した後、界面活性剤(ラピゾールA30、日油株式会社製)の1質量%水溶液1質量部を添加し、純水9質量部を加えて低屈折率層用塗布液L2を調製した。
[Preparation of coating solution]
(Preparation of coating liquid L1 for low refractive index layer)
While heating and stirring 10 parts by mass of 3% by weight boric acid aqueous solution at 45 ° C., 80% by weight of 5% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-235, polymerization degree 3500, saponification degree 88 mol%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 1 part by weight of a 1% by weight aqueous solution of a surfactant (Lapisol A30, manufactured by NOF Corporation) was added, and 9 parts by weight of pure water was added to prepare a coating solution L2 for a low refractive index layer. .

低屈折率層用塗布液L1により得られる低屈折率層の屈折率は1.50であった。なお、屈折率の測定方法は下記の通りである。   The refractive index of the low refractive index layer obtained by the coating liquid L1 for low refractive index layer was 1.50. In addition, the measuring method of a refractive index is as follows.

(シリカ付着二酸化チタンゾルの調製)
15.0質量%酸化チタンゾル(SRD−W、体積平均粒径5nm、ルチル型二酸化チタン粒子、堺化学工業株式会社製)0.5質量部に純水2質量部を加えた後、90℃に加熱した。次いで、ケイ酸水溶液(ケイ酸ソーダ4号(日本化学工業株式会社製)をSiO濃度が2.0質量%となるように純水で希釈したもの)1.3質量部を徐々に添加し、ついでオートクレーブ中、175℃で18時間加熱処理を行い、冷却後、限外濾過膜にて濃縮することにより、SiOを表面に付着させた(含ケイ素の水和物被覆量は4質量%)二酸化チタンゾル(以下シリカ付着二酸化チタンゾル)を固形分濃度で20質量%得た。
(Preparation of silica-attached titanium dioxide sol)
After adding 2 parts by mass of pure water to 0.5 parts by mass of 15.0% by mass titanium oxide sol (SRD-W, volume average particle size 5 nm, rutile titanium dioxide particles, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.), Heated. Next, 1.3 parts by mass of an aqueous silicic acid solution (sodium silicate 4 (manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) diluted with pure water so that the SiO 2 concentration becomes 2.0% by mass) was gradually added. Then, heat treatment was carried out at 175 ° C. for 18 hours in an autoclave, and after cooling, it was concentrated with an ultrafiltration membrane to adhere SiO 2 to the surface (the coating amount of silicon-containing hydrate was 4% by mass) ) Titanium dioxide sol (hereinafter, silica-attached titanium dioxide sol) was obtained in a solid content concentration of 20% by mass.

(高屈折率層用塗布液H1の調製)
無機酸化物微粒子112aとして上述のようにして得られたシリカ付着二酸化チタンゾル(固形分20.0質量%)45質量部に、ポリビニルアルコール(PVA−103、重合度300、鹸化度98.5mol%、株式会社クラレ製)の5質量%水溶液2質量部、3質量%ホウ酸水溶液10質量部、2質量%クエン酸水溶液10質量部をそれぞれ添加した後、45℃に加熱し、撹拌しながら、ポリビニルアルコール(PVA−117、重合度1700、鹸化度98.5mol%、株式会社クラレ製)の5質量%水溶液20質量部、界面活性剤(ラピゾールA30、日油株式会社製)の1質量%水溶液1質量部を添加し、純水12質量部を加えて高屈折率層用塗布液H1を調製した。
(Preparation of coating liquid H1 for high refractive index layer)
To 45 parts by mass of silica-attached titanium dioxide sol (solid content 20.0% by mass) obtained as described above as inorganic oxide fine particles 112a, polyvinyl alcohol (PVA-103, polymerization degree 300, saponification degree 98.5 mol%, (Made by Kuraray Co., Ltd.), 2 parts by weight of 5% by weight aqueous solution, 10 parts by weight of 3% by weight aqueous boric acid solution, and 10 parts by weight of 2% by weight aqueous citric acid solution were added. 20 parts by weight of a 5% by weight aqueous solution of alcohol (PVA-117, degree of polymerization 1700, saponification degree 98.5 mol%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.), 1% by weight aqueous solution 1 of a surfactant (Rapisol A30, manufactured by NOF Corporation) Mass parts were added, and 12 parts by mass of pure water were added to prepare a coating solution H1 for a high refractive index layer.

高屈折率層用塗布液H1により得られる高屈折率層の屈折率は1.95であった。なお、屈折率の測定方法は下記の通りである。   The refractive index of the high refractive index layer obtained by the coating liquid H1 for high refractive index layer was 1.95. In addition, the measuring method of a refractive index is as follows.

(ハードコート層用塗布液の調製)
合成容器に水20質量部と酢酸2質量部とを入れ、液温度を0〜10℃に保ちつつ充分に攪拌した。この中にメチルトリメトキシシラン(化学式:CHSi(OCH、関東化学株式会社製)50質量部とフッ素結合基及びメトキシ基含有FAS(KBM−7803、信越化学工業株式会社製)0.5質量部とを迅速に添加し、液温度を10℃に保ちつつ16時間攪拌した。その後、液温度を20℃とし、シリコーン系表面調整剤(BYK−300(有機変性ポリシロキサン)、ビックケミージャパン株式会社製)を0.1質量部と、酢酸ナトリウム0.05質量部と、n−プロパノール15質量部とを含有させ、ハードコート層用塗布液を得た。
(Preparation of coating solution for hard coat layer)
20 parts by mass of water and 2 parts by mass of acetic acid were placed in a synthesis container and sufficiently stirred while maintaining the liquid temperature at 0 to 10 ° C. In this, 50 parts by mass of methyltrimethoxysilane (chemical formula: CH 3 Si (OCH 3 ) 3 , manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.), fluorine-bonded group and methoxy group-containing FAS (KBM-7803, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0 0.5 parts by mass was rapidly added, and the mixture was stirred for 16 hours while maintaining the liquid temperature at 10 ° C. Thereafter, the liquid temperature was set to 20 ° C., 0.1 parts by mass of a silicone-based surface conditioner (BYK-300 (organically modified polysiloxane), manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.), 0.05 parts by mass of sodium acetate, and n -The coating liquid for hard-coat layers was obtained by containing 15 mass parts of propanol.

[太陽光反射フィルムの作製]
(銀蒸着フィルムの作製)
樹脂フィルム状支持体12として、2軸延伸ポリエステルフィルム(厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(A4300:両面易接着層を有するフィルム、東洋紡株式会社製))を用いた。
[Production of solar reflective film]
(Preparation of silver deposited film)
As the resin film-like support 12, a biaxially stretched polyester film (a polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm (A4300: a film having a double-sided easy-adhesive layer, manufactured by Toyobo Co., Ltd.)) was used.

ポリエステル樹脂(ポリエスター SP−181、日本合成化学工業株式会社製)、メラミン樹脂(スーパーベッカミンJ−820、DIC株式会社製)、TDI系イソシアネート(2,4−トリレンジイソシアネート)、HDMI系イソシアネート(1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート)を樹脂固形分比率で20:1:1:2(質量比)とし、固形分濃度10質量%となるようにトルエン中に混合した樹脂を、上記フィルムの片面に、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ0.1μmのアンカーコート層を形成した。   Polyester resin (Polyester SP-181, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), Melamine resin (Super Becamine J-820, manufactured by DIC Corporation), TDI isocyanate (2,4-tolylene diisocyanate), HDMI isocyanate (1,6-hexamethylene diisocyanate) in a resin solid content ratio of 20: 1: 1: 2 (mass ratio), a resin mixed in toluene so as to have a solid content concentration of 10% by mass, In addition, an anchor coat layer having a thickness of 0.1 μm was formed by coating by a gravure coat method.

次に、上記アンカーコート層上に、銀反射層13として、真空蒸着法により銀を蒸着スピード100m/secで真空蒸着し、厚さ80nmの銀反射層13とした。   Next, on the anchor coat layer, silver was vacuum-deposited at a deposition speed of 100 m / sec as a silver reflective layer 13 by a vacuum deposition method to form a silver reflective layer 13 having a thickness of 80 nm.

実施例1(太陽光反射フィルム10Aの作製)
剥離フィルム16(アクリプレンHBS010P、厚さ100μm、三菱レイヨン株式会社製)に、アクリル系の粘着剤(ニッセツSZ−7103、日本カーバイド工業株式会社製)を乾燥後25μmの膜厚になるように塗布した。当該剥離フィルム16を、上記銀蒸着フィルム10aの銀反射層13を蒸着した面とは反対側の面にラミネートして粘着層15を形成した。
Example 1 (Preparation of solar reflective film 10A)
An acrylic adhesive (Nissetsu SZ-7103, manufactured by Nippon Carbide Industries Co., Ltd.) was applied to the release film 16 (Acryprene HBS010P, thickness 100 μm, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) so as to have a film thickness of 25 μm after drying. . The release film 16 was laminated on the surface of the silver deposited film 10a opposite to the surface on which the silver reflective layer 13 was deposited to form an adhesive layer 15.

次に、樹脂フィルム状支持体12上に形成された銀反射層13上に、同時重層塗布法により、高屈折率層112および低屈折率層111を形成した。具体的には、高屈折率層112として高屈折率層用塗布液H1、低屈折率層111として低屈折率層用塗布液L1を用い、21層を重層塗布可能なスライドホッパー塗布装置を使用して各層を形成した。このとき、低屈折率層用塗布液L1および高屈折率層用塗布液H1を45℃に保温しながら、45℃に加温した樹脂フィルム状支持体12上に塗布した。なお、H1は銀反射層13に接するように、次いで、H1上にL1が形成されるように、かつ、H1とL1はそれぞれ交互に積層するように、同時重層塗布を行った。塗布直後、5℃の冷風を5分吹き付けたのち、80℃の温風を吹き付けて乾燥させて、21層(低屈折率層10層、高屈折率層11層)からなる紫外線反射積層部11を形成した。乾燥後の膜厚は、低屈折率層用塗布液L1を塗布した低屈折率層111は各層64nm、高屈折率用塗布液H1を塗布した高屈折率層112は各層47nmであった。   Next, a high refractive index layer 112 and a low refractive index layer 111 were formed on the silver reflective layer 13 formed on the resin film-like support 12 by a simultaneous multilayer coating method. Specifically, a high refractive index layer coating liquid H1 is used as the high refractive index layer 112, a low refractive index layer coating liquid L1 is used as the low refractive index layer 111, and a slide hopper coating apparatus capable of coating 21 layers in layers is used. Thus, each layer was formed. At this time, the coating liquid L1 for the low refractive index layer and the coating liquid H1 for the high refractive index layer were coated on the resin film-like support 12 heated to 45 ° C. while keeping the temperature at 45 ° C. Note that simultaneous multilayer coating was performed so that H1 was in contact with the silver reflective layer 13, L1 was formed on H1, and H1 and L1 were alternately laminated. Immediately after the coating, 5 ° C. cold air is blown for 5 minutes, and then 80 ° C. hot air is blown to dry, so that the ultraviolet reflecting laminated portion 11 composed of 21 layers (low refractive index layer 10 layers, high refractive index layer 11 layers). Formed. The film thickness after drying was 64 nm for each low refractive index layer 111 coated with the coating liquid L1 for low refractive index layer, and 47 nm for each high refractive index layer 112 coated with the coating liquid H1 for high refractive index.

上記の通り形成した紫外線反射積層部11上に、紫外線遮断層14を以下の通り作製した。すなわち、メチルエチルケトンに、紫外線吸収剤である2,4,6−トリス(4−ビフェニリル)−1,3,5−トリアジン(上記一般式(1)において、k、m、p、l、n、q=0である化合物)と、ポリメチルメタクリレート(BR−85、三菱レイヨン株式会社製)が20質量%となるように溶解させた塗布液を調製した。このとき、紫外線吸収剤であるトリアジンが、紫外線遮断層14の全質量に対して5質量%となるように塗布液を調製した。当該塗布液をマイクログラビアコーターによって塗布した後、これを85℃の温風を1分間吹き付けて乾燥させた。なお、この際、乾燥後の膜厚が3μmになるよう塗布した。   On the ultraviolet reflecting laminated portion 11 formed as described above, an ultraviolet blocking layer 14 was produced as follows. That is, 2,4,6-tris (4-biphenylyl) -1,3,5-triazine (in the above general formula (1), k, m, p, l, n, q) = 0) and polymethylmethacrylate (BR-85, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) were prepared so as to be dissolved at 20% by mass. At this time, the coating solution was prepared so that the triazine, which is an ultraviolet absorber, was 5 mass% with respect to the total mass of the ultraviolet blocking layer 14. The coating solution was applied by a micro gravure coater and then dried by blowing hot air at 85 ° C. for 1 minute. In addition, it apply | coated so that the film thickness after drying might be set to 3 micrometers at this time.

続いて、ハードコート層17を以下の通り作成した。   Subsequently, a hard coat layer 17 was prepared as follows.

上記の通り形成した紫外線遮断層14の表面に、上記の通り調製したハードコート層用塗布液を、乾燥膜厚3μmになるように塗布し、90℃で1分間乾燥させた。その後、45℃の恒温環境下に7日間置きハードコート層17を形成した。   The hard coat layer coating solution prepared as described above was applied to the surface of the ultraviolet blocking layer 14 formed as described above so as to have a dry film thickness of 3 μm, and dried at 90 ° C. for 1 minute. Thereafter, the hard coat layer 17 was formed in a constant temperature environment of 45 ° C. for 7 days.

以上のようにして、太陽光反射フィルム(試料1)を得た。   A solar reflective film (Sample 1) was obtained as described above.

実施例2
上記実施例1において、紫外線遮断層14の形成方法を以下のように変更すると共に、ハードコート層17を形成しなかったこと以外は、実施例1と同様にして太陽光反射フィルム(試料2)を得た。
Example 2
In Example 1, the solar reflective film (Sample 2) was changed in the same manner as in Example 1 except that the method of forming the ultraviolet blocking layer 14 was changed as follows and the hard coat layer 17 was not formed. Got.

紫外線遮断層14の作製は、以下のように行った。すなわち、二酸化チタン(平均粒径8nm)8質量部と、ポリオルガノシロキサン樹脂30質量部をメタノールに分散させ、紫外線遮断層用塗布液を調製した。このとき、紫外線吸収剤である酸化チタンが、紫外線遮断層14の全質量に対して5質量%となるように塗布液を調製した。当該塗布液を、実施例1と同様にして作製した紫外線反射積層部11上にグラビアコーターにより塗布した。このとき、乾燥後の膜厚が3μmになるよう塗布した。これを90℃の温風を1分間吹き付けて乾燥させた。その後、45℃の恒温環境下に7日間置き紫外線遮断層14を形成した。   The ultraviolet blocking layer 14 was produced as follows. That is, 8 parts by mass of titanium dioxide (average particle size 8 nm) and 30 parts by mass of a polyorganosiloxane resin were dispersed in methanol to prepare a coating solution for an ultraviolet blocking layer. At this time, the coating liquid was prepared so that the titanium oxide which is an ultraviolet absorber might be 5 mass% with respect to the total mass of the ultraviolet blocking layer 14. The said coating liquid was apply | coated with the gravure coater on the ultraviolet reflective lamination part 11 produced like Example 1. FIG. At this time, coating was performed so that the film thickness after drying was 3 μm. This was dried by blowing warm air of 90 ° C. for 1 minute. Thereafter, the ultraviolet blocking layer 14 was formed in a constant temperature environment of 45 ° C. for 7 days.

実施例3
上記実施例1において、ハードコート層17を形成しなかったこと以外は、実施例1と同様にして太陽光反射フィルム(試料3)を得た。
Example 3
In Example 1, a solar reflective film (Sample 3) was obtained in the same manner as Example 1 except that the hard coat layer 17 was not formed.

実施例4
上記実施例1において、紫外線遮断層14の形成を二回連続して繰り返す(逐次塗布する)と共に、ハードコート層17を形成しなかったこと以外は、実施例1と同様にして太陽光反射フィルム(試料4)を得た。すなわち、本実施例では、紫外線遮断層(1)および紫外線遮断層(2)からなる紫外線遮断層14を二層形成した。
Example 4
In Example 1 above, the solar light reflective film was formed in the same manner as in Example 1 except that the formation of the ultraviolet blocking layer 14 was repeated twice in succession (sequential application) and the hard coat layer 17 was not formed. (Sample 4) was obtained. In other words, in this example, two ultraviolet blocking layers 14 composed of the ultraviolet blocking layer (1) and the ultraviolet blocking layer (2) were formed.

実施例5
実施例1において、2,4,6−トリス(4−ビフェニリル)−1,3,5−トリアジンを含む紫外線遮断層(1)を作製した後、当該層の上に二酸化チタンを含む紫外線遮断層(2)を形成すると共に、ハードコート層を形成しなかったこと以外は、実施例1と同様にして太陽光反射フィルム(試料5)を得た。なお、紫外線遮断層(2)の形成方法は、実施例2と同様の方法で行い、厚さ3μmの紫外線遮断層(2)を形成した。
Example 5
In Example 1, after producing the ultraviolet blocking layer (1) containing 2,4,6-tris (4-biphenylyl) -1,3,5-triazine, the ultraviolet blocking layer containing titanium dioxide on the layer. A solar reflective film (Sample 5) was obtained in the same manner as in Example 1 except that (2) was formed and a hard coat layer was not formed. The ultraviolet blocking layer (2) was formed in the same manner as in Example 2, and the ultraviolet blocking layer (2) having a thickness of 3 μm was formed.

実施例6
上記実施例2において、紫外線遮断層14に含まれる二酸化チタンを二酸化ジルコニウム(平均粒径10nm)5質量部に変更したこと以外は、実施例2と同様にして太陽光反射フィルム(試料6)を得た。
Example 6
In Example 2 above, the solar reflective film (Sample 6) was prepared in the same manner as in Example 2 except that the titanium dioxide contained in the ultraviolet blocking layer 14 was changed to 5 parts by mass of zirconium dioxide (average particle size 10 nm). Obtained.

実施例7
上記実施例2において、紫外線遮断層14に含まれる酸化チタンを酸化タングステン(平均粒径10nm)5質量部に変更したこと以外は、実施例2と同様にして太陽光反射フィルム(試料7)を得た。
Example 7
In Example 2, the solar reflective film (Sample 7) was prepared in the same manner as in Example 2 except that the titanium oxide contained in the ultraviolet blocking layer 14 was changed to 5 parts by mass of tungsten oxide (average particle size 10 nm). Obtained.

比較例1
上記実施例1において、紫外線遮断層14を形成しなかったこと以外は、実施例1と同様にして太陽光反射フィルム(試料8)を得た。
Comparative Example 1
In Example 1 above, a solar reflective film (Sample 8) was obtained in the same manner as Example 1 except that the ultraviolet blocking layer 14 was not formed.

比較例2
上記実施例3において、紫外線吸収剤である2,4,6−トリス(4−ビフェニリル)−1,3,5−トリアジンをTinuvin234(ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、チバ・ジャパン株式会社製)に変更したこと以外は、実施例3と同様にして太陽光反射フィルム(試料9)を得た。
Comparative Example 2
In Example 3 above, 2,4,6-tris (4-biphenylyl) -1,3,5-triazine, which is an ultraviolet absorber, was changed to Tinuvin 234 (benzotriazole ultraviolet absorber, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.). Except having done, it carried out similarly to Example 3, and obtained the sunlight reflective film (sample 9).

比較例3
上記実施例1において、紫外線吸収剤である2,4,6−トリス(4−ビフェニリル)−1,3,5−トリアジンをTinuvin234(ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、チバ・ジャパン株式会社製)に変更したこと以外は、実施例1と同様にして太陽光反射フィルム(試料10)を得た。
Comparative Example 3
In the above Example 1, 2,4,6-tris (4-biphenylyl) -1,3,5-triazine, which is an ultraviolet absorber, was changed to Tinuvin 234 (benzotriazole ultraviolet absorber, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.). Except having done, it carried out similarly to Example 1, and obtained the sunlight reflective film (sample 10).

比較例4
上記実施例3において、紫外線吸収剤である2,4,6−トリス(4−ビフェニリル)−1,3,5−トリアジンをTinuvin1577(下記化学式Aで表される化合物、チバ・ジャパン株式会社製)に変更したこと以外は、実施例3と同様にして太陽光反射フィルム(試料11)を得た。
Comparative Example 4
In Example 3 above, 2,4,6-tris (4-biphenylyl) -1,3,5-triazine, which is an ultraviolet absorber, was tinuvin 1577 (compound represented by the following chemical formula A, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) A solar reflective film (sample 11) was obtained in the same manner as in Example 3 except that the change was made.

比較例5
上記実施例1において、紫外線吸収剤である2,4,6−トリス(4−ビフェニリル)−1,3,5−トリアジンをTinuvin1577(上記化学式Aで表される化合物、チバ・ジャパン株式会社製)に変更したこと以外は、実施例1と同様にして太陽光反射フィルム(試料12)を得た。
Comparative Example 5
In Example 1 above, 2,4,6-tris (4-biphenylyl) -1,3,5-triazine, which is an ultraviolet absorber, was tinuvin 1577 (a compound represented by the above chemical formula A, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.). A solar reflective film (sample 12) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the change was made.

比較例6
上記実施例4において、紫外線遮断層(1)に含まれる紫外線吸収剤をTinuvin1577(上記化学式Aで表される化合物、チバ・ジャパン株式会社製)に変更すると共に、紫外線遮断層(2)に含まれる紫外線吸収剤をTinuvin234(ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、チバ・ジャパン株式会社製)に変更したこと以外は、実施例4と同様にして太陽光反射フィルム(試料13)を得た。
Comparative Example 6
In Example 4 above, the ultraviolet absorber contained in the ultraviolet blocking layer (1) was changed to Tinuvin 1577 (compound represented by the above chemical formula A, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) and included in the ultraviolet blocking layer (2). A solar reflective film (sample 13) was obtained in the same manner as in Example 4 except that the ultraviolet absorber to be used was changed to Tinuvin 234 (benzotriazole ultraviolet absorber, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.).

[太陽光反射フィルムの評価]
上記で作製した各太陽光反射フィルム(試料1〜13)について、下記の性能評価を行った。
[Evaluation of solar reflective film]
The following performance evaluation was performed about each solar reflective film (samples 1-13) produced above.

(各層の単膜屈折率の測定)
紫外線反射積層部を構成する高屈折率層および低屈折率層の屈折率は、以下の方法で測定した。
(Measurement of single film refractive index of each layer)
The refractive indexes of the high refractive index layer and the low refractive index layer constituting the ultraviolet reflective laminate were measured by the following method.

基材上に屈折率を測定するため各層を単層で塗布したサンプルを作製し、このサンプルを10cm×10cmに裁断した後、下記の方法に従って屈折率を求めた。日立製作所製の分光光度計 U−4100(固体試料測定システム)を用いて、各サンプルの測定面とは反対側の面(裏面)を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、5度正反射の条件にて550nmの反射率を測定して平均値を求め、その結果より平均反射率を求め、さらに屈折率を求めた。   In order to measure the refractive index on the substrate, a sample in which each layer was applied as a single layer was prepared. After cutting this sample into 10 cm × 10 cm, the refractive index was determined according to the following method. Using a spectrophotometer U-4100 (solid sample measurement system) manufactured by Hitachi, Ltd., the surface opposite to the measurement surface (back surface) of each sample is roughened, and then light absorption treatment is performed with a black spray. Then, the reflection of light on the back surface was prevented, the reflectance at 550 nm was measured under the condition of regular reflection at 5 degrees, the average value was obtained, the average reflectance was obtained from the result, and the refractive index was further obtained.

(光透過率の測定)
光透過率の測定は、以下のようにして行った。まず、ガラス基板上に紫外線遮断層(紫外線遮断層が複数の層からなる場合は、その全ての層)のみからなる単膜を作製し試料(単膜サンプル)を得た。当該試料について、分光光度計(装置名:日立、U−4100社製)を用い、測定波長を350nmおよび370nmとして、光透過率を測定した。このとき、試料(作製した単膜サンプル)と同じ基材(ガラス基板)をベースラインとした。
(Measurement of light transmittance)
The light transmittance was measured as follows. First, a single film consisting only of an ultraviolet blocking layer (all layers when the ultraviolet blocking layer consists of a plurality of layers) was prepared on a glass substrate to obtain a sample (single film sample). With respect to the sample, the light transmittance was measured using a spectrophotometer (device name: Hitachi, manufactured by U-4100) at measurement wavelengths of 350 nm and 370 nm. At this time, the same base material (glass substrate) as the sample (produced single film sample) was used as the baseline.

(初期の5度正反射率の測定)
上記作製した各太陽光反射フィルムの透過率と光入射面側における5度正反射率(入射角を5度としたときの正反射率)を測定した。測定は日立製作所製の分光光度計 U−4100(固体試料測定システム)を用いた。反射率の波長範囲は350〜2500nmで測定した。反射率の波長範囲350〜2500nmの測定値から算出された平均反射率R(波長350〜2500nm)を測定した。
(Initial 5 degree specular reflectance measurement)
The transmittance of each of the solar reflective films prepared above and the 5 degree regular reflectance on the light incident surface side (regular reflectance when the incident angle is 5 degrees) were measured. The spectrophotometer U-4100 (solid sample measurement system) manufactured by Hitachi, Ltd. was used for the measurement. The wavelength range of the reflectance was measured at 350 to 2500 nm. The average reflectance R (wavelength 350-2500 nm) calculated from the measured values in the reflectance wavelength range 350-2500 nm was measured.

(耐候性の評価:紫外線照射後の5度正反射率の測定)
上記作製した各太陽光反射フィルムに、メタルハライドランプ方式の耐候性試験機(ダイプラ・ウィンテス社製)を使用し、試料面放射強度:2.16MJ/m以下、ブラックパネル温度63℃、相対湿度:50%、照射時間500時間の条件で紫外線を照射した(耐候性試験)。次いで、上記と同様の方法で5度正反射率の測定を測定し、初期の反射率と紫外線照射後の反射率とを比較し、下記評価にしたがって、フィルムを評価した。
(Evaluation of weather resistance: measurement of 5 degree regular reflectance after ultraviolet irradiation)
For each of the solar reflective films produced above, a metal halide lamp type weather resistance tester (manufactured by Daipura Wintes Co., Ltd.) was used. Sample surface radiation intensity: 2.16 MJ / m 2 or less, black panel temperature 63 ° C., relative humidity : UV irradiation was performed under the conditions of 50% and irradiation time of 500 hours (weather resistance test). Subsequently, the measurement of the regular reflectance of 5 degrees was measured by the same method as described above, the initial reflectance and the reflectance after ultraviolet irradiation were compared, and the film was evaluated according to the following evaluation.

≪初期最大反射率に対する耐候性試験後の最大反射率の低下(=初期最大反射率−耐候性試験後の最大反射率(%))≫
5:最大反射率低下が1%未満
4:最大反射率低下が1%以上2%未満
3:最大反射率低下が2%以上3%未満
2:最大反射率低下が3%以上5%未満
1:最大反射率低下が5%以上。
≪Reduction of maximum reflectance after weather resistance test with respect to initial maximum reflectance (= initial maximum reflectance−maximum reflectance after weather resistance test (%)) ≫
5: Maximum reflectance decrease is less than 1% 4: Maximum reflectance decrease is 1% or more and less than 2% 3: Maximum reflectance decrease is 2% or more and less than 3% 2: Maximum reflectance decrease is 3% or more and less than 5% 1 : Maximum reduction in reflectance is 5% or more.

(耐候性の評価:密着性の評価)
上記作製した各太陽光反射フィルムに、メタルハライドランプ方式の耐候性試験機(ダイプラ・ウィンテス社製)を使用し、試料面放射強度:2.16MJ/m以下、ブラックパネル温度63℃、相対湿度:50%、照射時間500時間の条件で紫外線を照射した。次いで、当該フィルムを60℃、90%RHの条件下で200時間保存した。
(Evaluation of weather resistance: Evaluation of adhesion)
For each of the solar reflective films produced above, a metal halide lamp type weather resistance tester (manufactured by Daipura Wintes Co., Ltd.) was used. Sample surface radiation intensity: 2.16 MJ / m 2 or less, black panel temperature 63 ° C., relative humidity : UV irradiation was performed under the conditions of 50% and irradiation time of 500 hours. The film was then stored for 200 hours under the conditions of 60 ° C. and 90% RH.

上記フィルムについて、JIS K 5600−5−6:1999に準拠した碁盤目試験を行った。具体的には、各太陽光反射フィルムの光入射面側に、1mm間隔で縦、横に11本の切れ目を入れ、1mm角の碁盤目を100個作製した。この上にセロハンテープを貼り付け、90度の角度で素早く剥がし、剥がれずに残った碁盤目の数を測定し、下記の基準に従って、紫外線反射積層部と銀反射層との密着性を評価した。   About the said film, the cross-cut test based on JISK5600-5-6: 1999 was done. Specifically, 11 cuts were made vertically and horizontally at intervals of 1 mm on the light incident surface side of each sunlight reflecting film to produce 100 1 mm square grids. A cellophane tape was affixed on this, peeled off quickly at an angle of 90 degrees, the number of grids remaining without peeling was measured, and the adhesion between the ultraviolet reflective laminate and the silver reflective layer was evaluated according to the following criteria: .

5:剥離がまったく認められない
4:剥離した碁盤目数が、1個以上、5個以下である
3:剥離した碁盤目数が、6個以上、10個以下である
2:剥離した碁盤目数が、11個以上、20個以下である
1:剥離した碁盤目数が、21個以上である。
5: No separation is observed 4: The number of peeled grids is 1 or more and 5 or less 3: The number of peeled grids is 6 or more and 10 or less 2: Stripped grids The number is 11 or more and 20 or less. 1: The number of peeled grids is 21 or more.

上記評価の結果を以下の表1に示す。なお、「紫外線遮断層の構成」について、「紫外線遮断層(2)」とは、樹脂フィルム状支持体(基材)を基準として、紫外線遮断層(1)の上に設けられるものであり、光入射面側に形成された層を指す。また、紫外線遮断層(1)および紫外線遮断層(2)の欄が分かれていないものは、単層の紫外線遮断層が形成されたことを示す。   The results of the evaluation are shown in Table 1 below. In addition, regarding the “configuration of the ultraviolet blocking layer”, the “ultraviolet blocking layer (2)” is provided on the ultraviolet blocking layer (1) on the basis of the resin film support (base material), It refers to the layer formed on the light incident surface side. In addition, when the UV blocking layer (1) and the UV blocking layer (2) are not separated, a single UV blocking layer is formed.

表1の結果から明らかなように、本発明に係る太陽光反射フィルムは、耐久性試験後であっても90%以上の反射率を維持していることから、反射率が高く、かつ、耐久性に優れていることが明らかとなった。また、試料2、6および7の比較から、紫外線遮断層に含まれる無機酸化物を酸化チタンとすると、特に良好な結果が得られることが示された。さらに、試料1〜7の比較により、試料5のように、紫外線遮断層を二層以上の構成とし、且つ、酸化チタンを含む紫外線遮断層を設けた場合、上記傾向が顕著となることが示された。   As is clear from the results in Table 1, the solar reflective film according to the present invention maintains a reflectance of 90% or more even after the durability test, and thus has a high reflectance and is durable. It became clear that it was excellent in property. Further, the comparison between Samples 2, 6 and 7 showed that particularly good results were obtained when the inorganic oxide contained in the ultraviolet blocking layer was titanium oxide. Further, the comparison between Samples 1 to 7 shows that the above tendency becomes remarkable when the ultraviolet blocking layer is composed of two or more layers as in Sample 5 and an ultraviolet blocking layer containing titanium oxide is provided. It was done.

一方、試料9〜13のように、一般的な紫外線吸収剤である、Tinuvin234およびTinuvin1577を用いた場合、十分な耐久性を得ることは難しいことが示された。   On the other hand, it was shown that it was difficult to obtain sufficient durability when Tinuvin 234 and Tinuvin 1577, which are general ultraviolet absorbers, were used as in Samples 9 to 13.

10、10’ 太陽光反射フィルム、
11 紫外線反射積層部、
11a 紫外線反射積層部内の無機酸化物(粒子)、
11b 樹脂、
12 樹脂フィルム状支持体、
13 銀反射層、
14 紫外線遮断層、
15 粘着層、
16 剥離材(剥離フィルム)、
17 ハードコート層、
100 太陽光、
111 低屈折率層、
111a 低屈折率層内の無機酸化物粒子、
112 高屈折率層、
112a 高屈折率層内の無機酸化物粒子。
10, 10 'solar reflective film,
11 UV reflective laminate,
11a Inorganic oxide (particles) in the ultraviolet reflective laminate,
11b resin,
12 resin film-like support,
13 Silver reflection layer,
14 UV blocking layer,
15 adhesive layer,
16 Release material (release film),
17 Hard coat layer,
100 sunlight,
111 low refractive index layer,
111a inorganic oxide particles in the low refractive index layer,
112 high refractive index layer,
112a Inorganic oxide particles in the high refractive index layer.

Claims (6)

光が入射する側から順に、紫外線の一部を遮断する紫外線遮断層と、少なくとも1種の無機酸化物を含む紫外線反射積層部と、銀反射層と、を有し、
前記紫外線遮断層は、波長350nmにおける光透過率が10%以下であり、かつ、波長370nmにおける光透過率が50%以上である、太陽光反射フィルム。
In order from the light incident side, it has an ultraviolet blocking layer that blocks a part of ultraviolet rays, an ultraviolet reflecting laminated portion containing at least one inorganic oxide, and a silver reflecting layer,
The ultraviolet blocking layer is a solar reflective film having a light transmittance of 10% or less at a wavelength of 350 nm and a light transmittance of 50% or more at a wavelength of 370 nm.
前記紫外線遮断層が、2,4,6−トリス(4−ビフェニリル)−1,3,5−トリアジンまたはその誘導体を含む、請求項1に記載の太陽光反射フィルム。   The solar reflective film according to claim 1, wherein the ultraviolet blocking layer contains 2,4,6-tris (4-biphenylyl) -1,3,5-triazine or a derivative thereof. 前記紫外線遮断層が、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タングステンの少なくとも1種を含む、請求項1または2に記載の太陽光反射フィルム。   The solar reflective film according to claim 1 or 2, wherein the ultraviolet blocking layer contains at least one of titanium oxide, zirconium oxide, and tungsten oxide. 前記紫外線反射積層部が、高屈折率層と低屈折率層とを積層したユニットを少なくとも1つ含み、
前記高屈折率層および前記低屈折率層はともに少なくとも1種のポリビニルアルコールを含有し、
前記低屈折率層中で最も含有量の多いポリビニルアルコールをポリビニルアルコール(A)とし、前記高屈折率層中で最も含有量の多いポリビニルアルコールをポリビニルアルコール(B)とした場合に、
前記ポリビニルアルコール(A)の鹸化度と、ポリビニルアルコール(B)の鹸化度とが異なる、請求項1〜3のいずれか1項に記載の太陽光反射フィルム。
The ultraviolet reflective laminate includes at least one unit in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are laminated,
The high refractive index layer and the low refractive index layer both contain at least one polyvinyl alcohol,
When the polyvinyl alcohol (A) having the highest content in the low refractive index layer is polyvinyl alcohol (A) and the polyvinyl alcohol having the highest content in the high refractive index layer is polyvinyl alcohol (B),
The solar reflective film according to any one of claims 1 to 3, wherein a saponification degree of the polyvinyl alcohol (A) is different from a saponification degree of the polyvinyl alcohol (B).
請求項1〜4のいずれか1項に記載の太陽光反射フィルムを有する、太陽光反射体。   The sunlight reflector which has a sunlight reflective film of any one of Claims 1-4. 請求項5に記載の太陽光反射体を有する、太陽光反射装置。   A solar light reflection device comprising the solar light reflector according to claim 5.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN109239820A (en) * 2018-10-19 2019-01-18 布勒莱宝光学设备(北京)有限公司 Light-permeable is used for the Photospot solar reflecting mirror of plant growth

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