JP2014214986A - Mirror for solar thermal power generation and reflection device for solar thermal power generation equipped with the same - Google Patents

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    • F24SSOLAR HEAT COLLECTORS; SOLAR HEAT SYSTEMS
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    • Y02E10/40Solar thermal energy, e.g. solar towers

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mirror for solar thermal power generation which hardly causes deterioration of reflectance due to corrosion and color change of a silver reflection layer even after being exposed in the outdoors for a long term and has high adhesiveness between the silver reflection layer and other constituent layers even with a load from such as cleaning.SOLUTION: A mirror for solar thermal power generation provided with a metal reflection layer on a resin substrate is characterized in that at least one layer of layers adjacent to the metal reflection layer contains triazine thiols represented by the following general formula (1) (in the formula, R, Rand Rrespectively represent hydrogen atom or substituent and either one of substituent represented by R, Rand Rrepresents thiol group or a substituent having thiol group.).

Description

本発明は、太陽熱発電用ミラー及びそれを具備した太陽熱発電用反射装置に関する。より詳しくは、長期間屋外に曝露された後でも金属反射層の腐食や変色による反射率の低下が小さく、また洗浄作業等による負荷をかけても金属反射層と他の構成層間で高い密着性を有する太陽熱発電用ミラー及びそれを具備した太陽熱発電用反射装置に関する。   The present invention relates to a solar power generation mirror and a solar power generation reflection device including the mirror. In more detail, even after being exposed to the outdoors for a long time, the reflectance of the metal reflective layer is small due to corrosion and discoloration, and high adhesion between the metal reflective layer and other constituent layers even under load due to cleaning work etc. The present invention relates to a solar power generation mirror having the above and a solar power generation reflection device including the mirror.

近年、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、かつ量の多い自然エネルギーは太陽エネルギーであると考えられており、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによってその熱エネルギーを媒体として発電する太陽熱発電が提案されている。   In recent years, solar energy has been considered to be the most stable and abundant amount of natural energy that can be used as an alternative to fossil fuels. By collecting solar energy with a huge reflector, power is generated using that thermal energy as a medium. Solar power generation has been proposed.

この反射装置は、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐等に晒されるため、従来ガラス製ミラーが用いられてきたが、最近では軽量で柔軟性が高く、かつ生産コスト及び輸送コストが低い太陽熱発電用のミラーとしてフィルムミラーの検討が進められている。   Since this reflector is exposed to sunlight, ultraviolet rays, heat, wind and rain, sandstorms, etc., glass mirrors have been used in the past, but recently it is light and flexible, and solar heat is low in production and transportation costs. A film mirror is being studied as a power generation mirror.

太陽熱発電用フィルムミラーは、フィルム基材に設けられた金属反射層、例えば銀反射層上に樹脂と腐食防止剤からなる樹脂コート層を積層して銀の腐食を抑制している。さらに、その上層に紫外線吸収剤を含んだ樹脂層を積層することによって、紫外線曝露に起因する樹脂層の変色による反射率低下の抑制や、最表面にハードコート層などを設けることによる傷つき抑制などによって、耐久性の向上を図っている。   The film mirror for solar power generation suppresses corrosion of silver by laminating a resin coat layer made of a resin and a corrosion inhibitor on a metal reflection layer provided on a film substrate, for example, a silver reflection layer. Furthermore, by laminating a resin layer containing an ultraviolet absorber on the upper layer, it is possible to suppress a decrease in reflectivity due to discoloration of the resin layer caused by UV exposure, and to suppress damage by providing a hard coat layer etc. on the outermost surface. As a result, durability is improved.

一方、太陽熱発電用のミラーは、屋外環境下に設置されるため、ミラー表面に付着する砂塵等に起因する反射率低下を抑制する目的で、定期的に高圧放水やブラッシングによる洗浄作業が行われている。しかしながら、長期間屋外曝露した太陽熱発電用フィルムミラーにこれらの洗浄を施した場合、洗浄時に生じる応力により銀反射層とその上層の樹脂コート層、又は銀反射層とフィルム基材との間で剥離が生じ、反射率が低下するという問題があった。   On the other hand, since mirrors for solar thermal power generation are installed in an outdoor environment, cleaning work is regularly performed by high-pressure water discharge or brushing in order to suppress a decrease in reflectance caused by dust or the like adhering to the mirror surface. ing. However, when these film cleaning is performed on solar power generation film mirrors that have been exposed outdoors for a long period of time, peeling occurs between the silver reflective layer and the upper resin coating layer, or between the silver reflective layer and the film substrate, due to the stress generated during the cleaning. This causes a problem that the reflectivity decreases.

上記の様に太陽熱発電用フィルムミラーにおいては、長期間の屋外使用に耐えうるとともに、洗浄作業時に発生する応力によって銀反射層と他の構成層間で剥離が生じないよう高い密着性が要求されている。   As described above, in the film mirror for solar power generation, it can withstand long-term outdoor use, and high adhesion is required so that no peeling occurs between the silver reflective layer and other constituent layers due to the stress generated during the cleaning operation. Yes.

例えば特許文献1では、フィルムの最表層に紫外線吸収剤を含んだアクリル樹脂層を設けており、紫外線曝露に起因する樹脂層の変色による反射率の低下を抑制している。しかしながら特許文献1の場合、銀反射層とアクリル樹脂層の間にポリエチレンテレフタレート(PET)層と粘着層とが挟まれており、半年間以上の屋外曝露後にブラッシングによる洗浄を行った場合に、銀反射層とPET層とに剥離が生じて、反射率が大きく低下するという問題があった。   For example, in Patent Document 1, an acrylic resin layer containing an ultraviolet absorber is provided on the outermost layer of the film, and a decrease in reflectance due to discoloration of the resin layer due to ultraviolet exposure is suppressed. However, in the case of Patent Document 1, a polyethylene terephthalate (PET) layer and an adhesive layer are sandwiched between a silver reflective layer and an acrylic resin layer, and when cleaning by brushing is performed after outdoor exposure for more than half a year, There is a problem that peeling occurs between the reflective layer and the PET layer, and the reflectance is greatly reduced.

また、特許文献2では、銀反射層と強固に密着する樹脂として、アクリル樹脂とシランカップリング剤からなるアクリルシリコーン樹脂を樹脂コート層に用いることで、銀反射層から樹脂コート層が剥離することを抑えている。しかしながら、一般的にフィルムミラーは複数の構成層が積層された構成を有している。そして、アクリルシリコーン樹脂からなる層は隣接して設けられた他の構成層との密着性が弱く、ブラッシングによる洗浄作業等で剥がれが生じ易いという問題があった。   Further, in Patent Document 2, the resin coat layer is peeled off from the silver reflection layer by using an acrylic silicone resin made of an acrylic resin and a silane coupling agent as a resin that adheres firmly to the silver reflection layer. Is suppressed. However, a film mirror generally has a configuration in which a plurality of constituent layers are laminated. And the layer which consists of acrylic silicone resins had the problem that the adhesiveness with the other structural layer provided adjacently was weak, and it was easy to peel off by the washing | cleaning operation | work etc. by brushing.

このため、長期間屋外に曝露された後でも銀反射層の腐食や変色による反射率の低下が小さく、また洗浄作業等による負荷をかけても銀反射層と他の構成層間で高い密着性を有するフィルムミラーが要望されている。   For this reason, even after being exposed to the outdoors for a long period of time, the reflectance of the silver reflective layer is not reduced significantly due to corrosion or discoloration, and high adhesion is achieved between the silver reflective layer and other constituent layers even when subjected to a load such as cleaning work. There is a need for a film mirror having the same.

特表2009−520174号公報Special table 2009-520174 特開2004−203014号公報JP 2004-203014 A

本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、長期間屋外に曝露された後でも金属反射層の腐食や変色による反射率の低下が小さく、また洗浄作業等による負荷をかけても金属反射層と他の構成層間で高い密着性を有する太陽熱発電用ミラーを提供することである。また、それを具備した耐久性に優れた太陽熱発電用反射装置を提供することである。   The present invention has been made in view of the above problems and situations, and the solution to the problem is that the decrease in reflectance due to corrosion or discoloration of the metal reflective layer is small even after being exposed to the outdoors for a long time, and the cleaning work or the like. The object is to provide a solar thermal power generation mirror having high adhesion between the metal reflective layer and other constituent layers even when a load is applied. Moreover, it is providing the solar power generation reflective apparatus excellent in durability provided with it.

本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、樹脂基材上に金属反射層が設けられた太陽熱発電用ミラーであって、当該金属反射層に隣接する層が特定の化合物を含有する太陽熱発電用ミラーによって、長期間屋外に曝露された後でも金属反射層の腐食や変色による反射率の低下が小さく、また洗浄作業等による負荷をかけても金属反射層と他の構成層間で高い密着性を発現することを見出し本発明に至った。   The present inventor is a solar power generation mirror in which a metal reflective layer is provided on a resin base material in the process of studying the cause of the above problem in order to solve the above-described problem, and is adjacent to the metal reflective layer. The mirror for solar power generation, which contains a specific compound, reduces the decrease in reflectivity due to corrosion or discoloration of the metal reflective layer even after being exposed to the outdoors for a long time. It has been found that high adhesion is developed between the layer and other constituent layers, and the present invention has been achieved.

すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。   That is, the said subject which concerns on this invention is solved by the following means.

1.樹脂基材上に金属反射層が設けられた太陽熱発電用ミラーであって、当該金属反射層に隣接する層の少なくとも一層が、下記一般式(1)で表されるトリアジンチオール類を含有することを特徴とする太陽熱発電用ミラー。   1. A mirror for solar power generation in which a metal reflective layer is provided on a resin base material, wherein at least one layer adjacent to the metal reflective layer contains a triazine thiol represented by the following general formula (1) Mirror for solar thermal power generation.

Figure 2014214986
(式中、R、R及びRは各々水素原子又は置換基を表し、R、R及びRで表される置換基のいずれか一つはチオール基又はチオール基を有する置換基を表す。)
2.前記R、R及びRで表される置換基のいずれか一つが、チオール基であることを特徴とする第1項に記載の太陽熱発電用ミラー。
Figure 2014214986
(Wherein R 1 , R 2 and R 3 each represent a hydrogen atom or a substituent, and any one of the substituents represented by R 1 , R 2 and R 3 has a thiol group or a thiol group) Represents a group.)
2. The solar power mirror according to claim 1, wherein any one of the substituents represented by R 1 , R 2, and R 3 is a thiol group.

3.前記R、R及びRで表される置換基の二つ以上が、チオール基であることを特徴とする第1項又は第2項に記載の太陽熱発電用ミラー。 3. The solar power mirror according to claim 1 or 2, wherein two or more of the substituents represented by R 1 , R 2 and R 3 are thiol groups.

4.前記太陽熱発電用ミラーがハードコート層を有し、当該ハードコート層がメタロキサン骨格を有するポリマー由来の無機酸化物又は無機窒化物を含有することを特徴とする第1項から第3項までのいずれか一項に記載の太陽熱発電用ミラー。   4). Any one of Items 1 to 3, wherein the solar power generation mirror has a hard coat layer, and the hard coat layer contains a polymer-derived inorganic oxide or inorganic nitride having a metalloxane skeleton. The solar power generation mirror according to claim 1.

5.第1項から第4項までのいずれか一項に記載の太陽熱発電用ミラーが、粘着層を介して支持基材に貼合され、具備されていることを特徴とする太陽熱発電用反射装置。   5. A solar power generation reflector, wherein the solar power generation mirror according to any one of items 1 to 4 is bonded to a support base material via an adhesive layer.

本発明の上記手段により、長期間屋外に曝露された後でも金属反射層の腐食や変色による反射率の低下が小さく、また洗浄作業等による負荷をかけても金属反射層と他の構成層間で高い密着性を有する太陽熱発電用ミラーを提供することができる。また、それを具備した耐久性に優れた太陽熱発電用反射装置を提供することができる。   By the above means of the present invention, even after being exposed to the outdoors for a long period of time, the decrease in reflectance due to corrosion and discoloration of the metal reflective layer is small, and even when a load is applied due to cleaning work etc., between the metal reflective layer and other constituent layers A mirror for solar power generation having high adhesion can be provided. Moreover, the reflective apparatus for solar power generation excellent in durability provided with it can be provided.

本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。   The expression mechanism or action mechanism of the effect of the present invention is not clear, but is presumed as follows.

太陽熱発電用ミラーは、長期間紫外線に晒されることによって、金属反射層に用いられる金属の腐食や変色、及び金属反射層と他の構成層の間で剥がれが発生し、反射性能の低下を生じやすい。これらを防止するため、腐食防止剤又は酸化防止剤として従来使用されてきたベンゾトリアゾール化合物やトリアジン化合物、及びチオール化合物を、それぞれ単独で金属反射層に隣接する他の構成層に含有させる手段では、より高い性能が得られず、特に層間剥がれを誘引する密着性については問題があった。   When solar power mirrors are exposed to ultraviolet rays for a long period of time, corrosion and discoloration of the metal used in the metal reflection layer and peeling between the metal reflection layer and other constituent layers occur, resulting in a decrease in reflection performance. Cheap. In order to prevent these, the benzotriazole compound and triazine compound, which have been conventionally used as a corrosion inhibitor or an antioxidant, and a thiol compound, each of which is contained alone in another constituent layer adjacent to the metal reflective layer, Higher performance could not be obtained, and there was a problem with the adhesiveness that particularly caused delamination.

本発明者は、金属反射層に隣接する層に、トリアジンチオール類を含有させることによって、当該トリアジンチオール類のチオール基が金属反射層の金属と単分子膜、又は多分子膜を形成して分子間接着することにより強固に結びついて、層間の密着性を大幅に改善できることを見出した。さらにトリアジンチオール類が有するトリアジン構造は、耐光性に優れるため、前記層間の密着性のみならず金属の腐食や変色に対して、長期間紫外線に晒しても安定で良好な性能を保持することができるため、金属の腐食や変色、及び金属反射層と他の構成層の間の密着性に、優れた耐久性を有する太陽熱発電用ミラーが得られるものと考えられる。   The present inventor has added triazine thiols to a layer adjacent to the metal reflective layer so that the thiol group of the triazine thiol forms a monomolecular film or a multimolecular film with the metal of the metal reflective layer. It has been found that the adhesiveness between the layers can be greatly improved by bonding them together. Furthermore, the triazine structure possessed by triazine thiols is excellent in light resistance, so that it can maintain stable and good performance even when exposed to ultraviolet rays for a long period of time against corrosion and discoloration of metals as well as adhesion between the layers. Therefore, it is considered that a solar power generation mirror having excellent durability in terms of corrosion and discoloration of metal and adhesion between the metal reflection layer and other constituent layers can be obtained.

本発明の技術は、密着性と耐光性を兼ね備えていることから、長期間の屋外曝露後での剥がれ等による層の変形が小さい。最外層のハードコート層は、比較的硬く割れやすい性質を持つ為、下層の変形により割れやひびを誘発し易いとの問題があったが、この問題の解消に対しても高い効果を得ることができる。   Since the technique of the present invention has both adhesion and light resistance, the deformation of the layer due to peeling after long-term outdoor exposure is small. Since the outermost hard coat layer is relatively hard and fragile, there is a problem that it is easy to induce cracks and cracks due to deformation of the lower layer, but it also has a high effect on solving this problem Can do.

本発明の太陽熱発電用ミラーの構成の一例を示す説明図Explanatory drawing which shows an example of a structure of the mirror for solar power generation of this invention 本発明の太陽熱発電用反射装置の構成の一例を示す説明図Explanatory drawing which shows an example of a structure of the reflective apparatus for solar thermal power generation of this invention

本発明の太陽熱発電用ミラーは、樹脂基材上に金属反射層が設けられた太陽熱発電用ミラーであって、当該金属反射層に隣接する層の少なくとも一層が前記一般式(1)で表されるトリアジンチオール類を含有することを特徴とし、かかる構成によって、長期間屋外に曝露された後でも金属反射層の腐食や変色による反射率の低下が小さく、また洗浄作業等による負荷をかけても金属反射層と他の構成層間で高い密着性を有する太陽熱発電用ミラーを提供するものである。この特徴は、請求項1から請求項5までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。本発明の形態としてはフィルムミラー、特にはフレキシブルな樹脂基材が用いられたミラーである時により大きな効果を奏する。以下、フィルムミラーとして説明する。   The solar power generation mirror of the present invention is a solar power generation mirror in which a metal reflection layer is provided on a resin base material, and at least one layer adjacent to the metal reflection layer is represented by the general formula (1). With such a structure, it is possible to reduce the decrease in reflectivity due to corrosion or discoloration of the metal reflection layer even after being exposed to the outdoors for a long time, and even when subjected to a load due to cleaning work etc. Provided is a solar power generation mirror having high adhesion between a metal reflection layer and other constituent layers. This feature is a technical feature common to the inventions according to claims 1 to 5. As a form of the present invention, a film mirror, in particular, a mirror using a flexible resin base material is more effective. Hereinafter, it demonstrates as a film mirror.

本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記一般式(1)で表されるトリアジンチオール類のR、R及びRで表される置換基のいずれか一つが、チオール基であることが好ましく、さらに前記一般式(1)のR、R及びRで表される置換基の二つ以上が、チオール基であることが、金属反射層の腐食や変色を防止し、金属反射層と高い密着性を有する観点から好ましい。 As an embodiment of the present invention, from the viewpoint of manifesting the effect of the present invention, any one of the substituents represented by R 1 , R 2 and R 3 of the triazine thiol represented by the general formula (1) is It is preferable that it is a thiol group, and that two or more of the substituents represented by R 1 , R 2 and R 3 in the general formula (1) are thiol groups, It is preferable from the viewpoint of preventing discoloration and having high adhesion to the metal reflective layer.

さらに、当該太陽熱発電用フィルムミラーがハードコート層を有し、当該ハードコート層がメタロキサン骨格を有するポリマー由来の無機酸化物又は無機窒化物を含有することが好ましく、これにより、本発明の効果に加えて表面の耐傷性が向上する。   Furthermore, it is preferable that the film mirror for solar power generation has a hard coat layer, and that the hard coat layer contains a polymer-derived inorganic oxide or inorganic nitride having a metalloxane skeleton. In addition, the scratch resistance of the surface is improved.

本発明の太陽熱発電用フィルムミラーは、耐久性に優れた太陽熱発電用反射装置に好適に具備される。   The film mirror for solar power generation according to the present invention is suitably provided in a solar power generation reflector excellent in durability.

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。   Hereinafter, the present invention, its components, and modes and modes for carrying out the present invention will be described in detail. In addition, in this application, "-" is used in the meaning which includes the numerical value described before and behind that as a lower limit and an upper limit.

<本発明の太陽熱発電用フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置の概要>
本発明の太陽熱発電用フィルムミラー(以下、単にフィルムミラーともいう。)は、樹脂基材上に金属反射層が設けられたフィルムミラーであって、当該金属反射層に隣接する層の少なくとも一方の層がトリアジンチオール類を含有することを特徴とする。
<Outline of Film Mirror for Solar Power Generation and Reflector for Solar Power Generation>
The film mirror for solar power generation of the present invention (hereinafter also simply referred to as a film mirror) is a film mirror in which a metal reflective layer is provided on a resin substrate, and is at least one of the layers adjacent to the metal reflective layer. The layer is characterized by containing triazine thiols.

〔1〕太陽熱発電用フィルムミラーの構成概要
本発明の太陽熱発電用フィルムミラー(以下、簡単にフィルムミラーという場合がある。)の概要を説明する。
[1] Outline of Configuration of Film Mirror for Solar Power Generation An outline of a film mirror for solar power generation of the present invention (hereinafter sometimes simply referred to as a film mirror) will be described.

太陽熱発電用フィルムミラーFの機能上の最小構成は、図1(a)に示すように、樹脂基材3上に金属反射層(例えば、銀反射層)5を形成し、その上に最表層としてハードコート層10を設ける構成である。したがってこの場合は、本発明でいう金属反射層に隣接する層とは、樹脂基材3及びハードコート層10がそれに該当する。   As shown in FIG. 1 (a), the minimum functional structure of the film mirror F for solar power generation is to form a metal reflective layer (for example, a silver reflective layer) 5 on a resin base material 3, and to form an outermost layer thereon. The hard coat layer 10 is provided. Therefore, in this case, the resin base material 3 and the hard coat layer 10 correspond to the layer adjacent to the metal reflection layer in the present invention.

太陽熱発電用フィルムミラーFには、実際上様々な機能層を設けることが好ましく、例えば図1(b)で示すように、樹脂基材3と金属反射層5の間にアンカー層4を設けてもよく、金属反射層5の光入射側に腐食防止剤や酸化防止剤を含有する樹脂コート層6を設けることも好ましく、樹脂コート層6上に接着層7を設けることも好ましい態様である。   It is preferable to provide various functional layers in the film mirror F for solar thermal power generation. For example, as shown in FIG. 1B, an anchor layer 4 is provided between the resin base material 3 and the metal reflective layer 5. In addition, it is also preferable to provide the resin coat layer 6 containing a corrosion inhibitor or an antioxidant on the light incident side of the metal reflective layer 5, and it is also preferable to provide the adhesive layer 7 on the resin coat layer 6.

接着層7上には、紫外線吸収剤を含むアクリル樹脂層8及び中間層9を設けることが好ましく、中間層9上にはハードコート層10を最表層として設けることが好ましい。   An acrylic resin layer 8 and an intermediate layer 9 containing an ultraviolet absorber are preferably provided on the adhesive layer 7, and a hard coat layer 10 is preferably provided as the outermost layer on the intermediate layer 9.

なお、ガスバリアー層11は金属反射層や樹脂コート層を保護するために、必要であれば設けることが好ましい。   The gas barrier layer 11 is preferably provided if necessary to protect the metal reflective layer and the resin coat layer.

また、樹脂基材3における光入射側とは反対側の面に粘着層2を設けることも好ましい態様である。粘着層2上には粘着層を保護するための剥離層12を形成することが好ましい。   Moreover, it is also a preferable aspect that the adhesive layer 2 is provided on the surface of the resin base 3 opposite to the light incident side. A release layer 12 for protecting the adhesive layer is preferably formed on the adhesive layer 2.

図1(b)の構成の場合は、金属反射層5に隣接する層とは、当該アンカー層4又は樹脂コート層6が該当し、当該層の少なくとも一層が本発明に係るトリアジンチオール類を含有する。なお、本発明の効果を高めるために、当該アンカー層4及び樹脂コート層6の両方に当該トリアジンチオール類を含有させることが好ましい。   In the case of the configuration of FIG. 1B, the layer adjacent to the metal reflection layer 5 corresponds to the anchor layer 4 or the resin coat layer 6, and at least one of the layers contains the triazine thiols according to the present invention. To do. In order to enhance the effect of the present invention, it is preferable that both the anchor layer 4 and the resin coat layer 6 contain the triazine thiols.

なお、金属反射層に隣接する層とは、直接当該金属反射層に接する層以外にも、本発明に係るトリアジンチオール類が金属反射層の金属に作用でき、本発明の効果を発現することができる場合は、層間に当該トリアジンチオールを含有しない薄膜層(例えば、樹脂層)等があってもよい。   In addition, the layer adjacent to the metal reflection layer is not limited to the layer directly in contact with the metal reflection layer, the triazine thiols according to the present invention can act on the metal of the metal reflection layer, and the effects of the present invention can be expressed. If possible, there may be a thin film layer (for example, a resin layer) that does not contain the triazine thiol between layers.

フィルムミラー全体の厚さは、ミラーのたわみ防止、正反射率、取り扱い性等の観点から75〜250μmの範囲内が好ましく、より好ましくは90〜230μmの範囲内、更に好ましくは100〜220μmの範囲内である。   The total thickness of the film mirror is preferably in the range of 75 to 250 μm, more preferably in the range of 90 to 230 μm, and still more preferably in the range of 100 to 220 μm, from the viewpoint of mirror deflection prevention, regular reflectance, handling properties, and the like. Is within.

以下、本発明のフィルムミラーを構成する各構成層について順次説明するが、最初に本発明の特徴である、トリアジンチオール類について説明する。   Hereinafter, although each structural layer which comprises the film mirror of this invention is demonstrated sequentially, the triazine thiols which are the characteristics of this invention are demonstrated first.

〔2〕トリアジンチオール類
本発明に係るトリアジンチオール類は、3個の窒素原子と3個の炭素原子からなるトリアジン環を有し、分子内に一つ又は好ましくは二つ以上のチオール基又はこれから誘導される基を有する化合物を指し、下記一般式(1)で表される化合物である。
[2] Triazine thiols The triazine thiols according to the present invention have a triazine ring consisting of three nitrogen atoms and three carbon atoms, and one or preferably two or more thiol groups in the molecule or from this It refers to a compound having a derived group, and is a compound represented by the following general formula (1).

Figure 2014214986
上記式中、R、R及びRは各々水素原子又は置換基を表し、R、R及びRで表される置換基のいずれか一つはチオール基又はチオール基を有する置換基を表す。
Figure 2014214986
In the above formula, R 1 , R 2 and R 3 each represent a hydrogen atom or a substituent, and any one of the substituents represented by R 1 , R 2 and R 3 has a thiol group or a thiol group. Represents a group.

、R及びRのうちチオール基を有さない置換基としては特に限定されるものではないが、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、アミノ基、−NR、−NHR、−OR又は−SRで表される基等が挙げられ、好ましくは、アルキル基又はフェニル基である。 Although it does not specifically limit as a substituent which does not have a thiol group among R < 1 >, R < 2 > and R < 3 >, An alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group, an aryl group, an amino group, -NR < 4 >. Examples include a group represented by R 5 , —NHR 6 , —OR 7 or —SR 8 , preferably an alkyl group or a phenyl group.

アルキル基としては、炭素原子数が1〜25、好ましくは1〜18のアルキル基が挙げられる。このようなアルキル基としては、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、へキシル基、へプチル基、オクチル基、2−エチルへキシル基、デシル基、セチル基、ステアリル基、1−メンチル基等が挙げられ、メチル基又はエチル基であることが好ましい。   Examples of the alkyl group include alkyl groups having 1 to 25 carbon atoms, preferably 1 to 18 carbon atoms. Such an alkyl group may be linear, branched, or cyclic. For example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert- A butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a 2-ethylhexyl group, a decyl group, a cetyl group, a stearyl group, a 1-menthyl group, etc. are mentioned, and it must be a methyl group or an ethyl group Is preferred.

また、アルケニル基としては、炭素原子数が1〜20、好ましくは1〜10のアルケニル基が挙げられる。このようなアルケニル基としては、例えば、プロパンジエニル基、イソプロペニル基、3−メチル−2−ブテニル基、アリル基、2−メチルアリル基等が挙げられ、イソプロペニル基であることが好ましい。   Moreover, as an alkenyl group, a C1-C20, Preferably 1-10 alkenyl group is mentioned. Examples of such an alkenyl group include a propanedienyl group, an isopropenyl group, a 3-methyl-2-butenyl group, an allyl group, and a 2-methylallyl group, and an isopropenyl group is preferable.

また、アルキニル基としては、炭素原子数が1〜20、好ましくは1〜10のアルキニル基が挙げられる。このようなアルキニル基としては、例えば、プロパルギル基、1−フェニルプロパルギル基等が挙げられ、プロパルギル基であることが好ましい。   Moreover, as an alkynyl group, a C1-C20, Preferably 1-10 alkynyl group is mentioned. Examples of such an alkynyl group include a propargyl group and 1-phenylpropargyl group, and a propargyl group is preferable.

また、アラルキル基としては、炭素原子数が1〜20、好ましくは1〜10のアラルキル基が挙げられる。このようなアラルキル基としては、例えば、4−フェニルブチル基等が挙げられる。   Moreover, as an aralkyl group, a C1-C20, Preferably 1-10 aralkyl group is mentioned. Examples of such an aralkyl group include a 4-phenylbutyl group.

また、アリール基としては、フェニル基(C−)、メトキシフェニル基、o−トリル基、p−ニトロフェニル基、2−ニトロフェニル基、3−ニトロフェニル基、p−フルオロフェニル基、p−メトキシフェニル基、p−アミノフェニル基、N−メチルアミノフェニル基、p−(ジメチルアミノ)フェニル基、4−アセチルフェニル基、p−ヨードフェニル基、p−クロロフェニル基、2,4,6−トリクロロフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、2,4,6−トリブロモフェニル基、2,4−ジクロロフェニル基、2,4−ジブロモフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基等が挙げられ、フェニル基であることが好ましい。 As the aryl group, a phenyl group (C 6 H 5 —), a methoxyphenyl group, an o-tolyl group, a p-nitrophenyl group, a 2-nitrophenyl group, a 3-nitrophenyl group, a p-fluorophenyl group, p-methoxyphenyl group, p-aminophenyl group, N-methylaminophenyl group, p- (dimethylamino) phenyl group, 4-acetylphenyl group, p-iodophenyl group, p-chlorophenyl group, 2,4,6 -Trichlorophenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, 2,4,6-tribromophenyl group, 2,4-dichlorophenyl group, 2,4-dibromophenyl group, 2,4-dimethylphenyl group, etc. And is preferably a phenyl group.

また、−NRで表される置換アミノ基としては、置換基R及びRがそれぞれ同一又は異なって、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はアラルキル基であり、アルキル基又はアルケニル基であることが好ましい。 As the substituted amino group represented by -NR 4 R 5, and substituents R 4 and R 5 are the same or different from each other, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or an aralkyl group, an alkyl group Or it is preferable that it is an alkenyl group.

ここで、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基及びアラルキル基としては、前記と同様の基が挙げられる。ここで、アルキル基としては、前記説明で挙げた基の他に、2−ピペリジノエチル基、フッ素置換されたフルオロアルキル基、環状のシクロアルキル基であることも好ましく、フルオロアルキル基としては、テトラフルオロエチル基等、シクロアルキル基としては、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等が挙げられる。また、アラルキル基としては、ベンジル基又は置換ベンジル基であることも好ましく、例えば、ベンジル基、メチルベンジル基、1−フェニルエチル基、2−フェニルエチル基等が挙げられる。   Here, examples of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, and aralkyl group include the same groups as described above. Here, the alkyl group is preferably a 2-piperidinoethyl group, a fluorine-substituted fluoroalkyl group, or a cyclic cycloalkyl group, in addition to the groups mentioned in the above description. Examples of the cycloalkyl group such as an ethyl group include a cyclohexyl group and a cyclopentyl group. The aralkyl group is preferably a benzyl group or a substituted benzyl group, and examples thereof include a benzyl group, a methylbenzyl group, a 1-phenylethyl group, and a 2-phenylethyl group.

また、−NHRで表されるモノ置換アミノ基としては、置換基Rが、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、アニリノ基、ヒドロキシアニリノ基、p−メチルアニリノ基及びモルホリノ基から選ばれる基を示し、これらのうちでは、アルキル基が好ましい。ヒドロキシアニリノ基としては、o−,m−,p−ヒドロキシアニリン誘導体に由来する基が挙げられる。 In addition, as the mono-substituted amino group represented by —NHR 6 , the substituent R 6 is an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group, an aryl group, an anilino group, a hydroxyanilino group, a p-methylanilino group, and A group selected from morpholino groups is shown, and among these, an alkyl group is preferred. Examples of the hydroxyanilino group include groups derived from o-, m-, p-hydroxyaniline derivatives.

ここで、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基としては、前記説明と同様の基が例示される。   Here, examples of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aralkyl group, and aryl group include the same groups as described above.

また、−ORで表される基としては、置換基Rがアルキル基、アルケニル基、アラルキル基又はアリール基から選ばれる基を示す。 Further, the group represented by -OR 7, represents a group substituent R 7 is an alkyl group, an alkenyl group, aralkyl group or aryl group.

ここで、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基は、前記説明と同様の基を挙げることができ、アラルキル基としては、例えば、4−フェニルブチル基等が挙げられ、アリール基としては、フェニル基、ハロゲノフェニル基等の置換フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。   Here, examples of the alkyl group, alkenyl group, and aralkyl group can include the same groups as described above. Examples of the aralkyl group include a 4-phenylbutyl group. Examples of the aryl group include a phenyl group, Examples thereof include a substituted phenyl group such as a halogenophenyl group, and a naphthyl group.

ここで、ハロゲノフェニル基としては、例えば、p−ヨードフェニル基、p−クロロフェニル基、p−ブロモフェニル基、2,4−ジクロロフェニル基、2,4−ジブロモフェニル基、2,4−ジヨードフェニル基、2,4,6−トリクロロフェニル基、2,4,6−トリブロモフェニル基等が挙げられる。   Here, as the halogenophenyl group, for example, p-iodophenyl group, p-chlorophenyl group, p-bromophenyl group, 2,4-dichlorophenyl group, 2,4-dibromophenyl group, 2,4-diiodophenyl Group, 2,4,6-trichlorophenyl group, 2,4,6-tribromophenyl group and the like.

また、−SRで表される基としては、置換基Rがアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基又はアリール基から選ばれる基を示す。これらの基としては、前記説明した置換基と同様の基を挙げることができる。 Further, the group represented by -SR 8, a substituted group R 8 is an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a group selected from aralkyl group or an aryl group. Examples of these groups include the same groups as the substituents described above.

、R及びRで表される置換基がチオール基を有する置換基の場合は、特に限定されるものではないが、上記置換基の説明で挙げた置換基にチオール基が結合している置換基であることが好ましく、当該置換基はアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、アミノ基であることが好ましく、より好ましくはアルキル基又はアリール基である。 In the case where the substituent represented by R 1 , R 2 and R 3 is a substituent having a thiol group, it is not particularly limited, but the thiol group is bonded to the substituents mentioned in the description of the substituent. The substituent is preferably an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an aryl group, or an amino group, and more preferably an alkyl group or an aryl group.

本発明に係るトリアジンチオール類は、前記R、R及びRで表される置換基のいずれか一つが、チオール基であることが好ましく、さらに前記R、R及びRで表される置換基の二つ以上がチオール基であるトリアジンジチオール化合物、又は前記R、R及びRで表される置換基のすべてがチオール基であるトリアジントリチオール化合物であることが、後述する金属反射層に含有される、例えば銀との親和性が高く、本発明の効果を高める観点から好ましい。 In the triazine thiols according to the present invention, any one of the substituents represented by R 1 , R 2 and R 3 is preferably a thiol group, and further represented by R 1 , R 2 and R 3 . A triazine dithiol compound in which two or more of the substituents to be used are thiol groups, or a triazine trithiol compound in which all of the substituents represented by R 1 , R 2 and R 3 are thiol groups. It is preferable from the viewpoint of enhancing the effect of the present invention because it has a high affinity with, for example, silver contained in the reflective metal layer.

本発明で好ましく用いられる前記一般式(1)で表されるジチオール化合物の具体例としては、例えばs−トリアジン−2,4−ジチオール、6−メチル−s−トリアジン−2,4−ジチオール、6−フェニル−s−トリアジン−2,4−ジチオール、6−アミノ−s−トリアジン−2,4−ジチオール、6−ジへキシルアミノ−s−トリアジン−2,4−ジチオール、6−[ビス(2−ヘキシル)アミノ]−s−トリアジン−2,4−ジチオール、6−ジエチルアミノ−s−トリアジン−2,4−ジチオール、6−ジシクロへキシルアミノ−s−トリアジン−2,4−ジチオール、6−ジフェニルアミノ−s−トリアジン−2,4−ジチオール、6−ジベンジルアミノ−s−トリアジン−2,4−ジチオール、6−ジアリルアミノ−s−トリアジン−2,4−ジチオール、6−ジドデシルアミノ−s−トリアジン−2,4−ジチオール、6−ジブチルアミノ−s−トリアジン−2,4−ジチオール、6−ジメチルアミノ−s−トリアジン−2,4−ジチオール、6−フェニルアミノ−s−トリアジン−2,4−ジチオール、2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−s−トリアジン−2,4−ジチオール、6−ステアリルアミノ−s−トリアジン−2,4−ジチオール、6−エチルアミノ−s−トリアジン−2,4−ジチオール、6−へキシルアミノ−s−トリアジン−2,4−ジチオール、6−(cis−9−オクタデセニルアミノ)−s−トリアジン−2,4−ジチオール、6−シクロヘキシルアミノ−s−トリアジン−2,4−ジチオール、6−アニリノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジチオール、6−(4−アニリノ−N−イソプロピルアニリノ)−s−トリアジン−2,4−ジチオール、6−メトキシ−s−トリアジン−2,4−ジチオール、6−(1−ナフチルオキシ)−s−トリアジン−2,4−ジチオール、6−(m−クロロフェノキシ)−s−トリアジン−2,4−ジチオール、6−(2,4−ジメチルフェノキシ)−s−トリアジン−2,4−ジチオール、6−フェノキシ−s−トリアジン−2,4−ジチオール等が挙げられる。   Specific examples of the dithiol compound represented by the general formula (1) preferably used in the present invention include, for example, s-triazine-2,4-dithiol, 6-methyl-s-triazine-2,4-dithiol, 6 -Phenyl-s-triazine-2,4-dithiol, 6-amino-s-triazine-2,4-dithiol, 6-dihexylamino-s-triazine-2,4-dithiol, 6- [bis (2- Hexyl) amino] -s-triazine-2,4-dithiol, 6-diethylamino-s-triazine-2,4-dithiol, 6-dicyclohexylamino-s-triazine-2,4-dithiol, 6-diphenylamino- s-triazine-2,4-dithiol, 6-dibenzylamino-s-triazine-2,4-dithiol, 6-diallylamino-s-to Azine-2,4-dithiol, 6-didodecylamino-s-triazine-2,4-dithiol, 6-dibutylamino-s-triazine-2,4-dithiol, 6-dimethylamino-s-triazine-2, 4-dithiol, 6-phenylamino-s-triazine-2,4-dithiol, 2- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyanilino) -s-triazine-2,4-dithiol, 6 -Stearylamino-s-triazine-2,4-dithiol, 6-ethylamino-s-triazine-2,4-dithiol, 6-hexylamino-s-triazine-2,4-dithiol, 6- (cis-9) -Octadecenylamino) -s-triazine-2,4-dithiol, 6-cyclohexylamino-s-triazine-2,4-dithiol, 6- Nilino-1,3,5-triazine-2,4-dithiol, 6- (4-anilino-N-isopropylanilino) -s-triazine-2,4-dithiol, 6-methoxy-s-triazine-2, 4-dithiol, 6- (1-naphthyloxy) -s-triazine-2,4-dithiol, 6- (m-chlorophenoxy) -s-triazine-2,4-dithiol, 6- (2,4-dimethyl) Phenoxy) -s-triazine-2,4-dithiol, 6-phenoxy-s-triazine-2,4-dithiol and the like.

また、前記一般式(1)で表されるトリチオール化合物の具体例としては、1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリチオール、1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリチオール・モノナトリウム、1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリチオール・トリエタノールアミン、1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリチオール・ジ(テトラブチルアンモニウム塩)も好ましい例として挙げることができる。   Specific examples of the trithiol compound represented by the general formula (1) include 1,3,5-triazine-2,4,6-trithiol, 1,3,5-triazine-2,4,6- Trithiol monosodium, 1,3,5-triazine-2,4,6-trithiol triethanolamine, and 1,3,5-triazine-2,4,6-trithiol di (tetrabutylammonium salt) are also preferable. As an example.

以上の中でも、6−アニリノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジチオール、及び6−ジブチルアミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジチオールが本発明の効果が高く好ましい。   Among these, 6-anilino-1,3,5-triazine-2,4-dithiol and 6-dibutylamino-1,3,5-triazine-2,4-dithiol are preferable because of the high effect of the present invention.

本発明に係るトリアジンチオール類は、金属反射層に含まれる金属の腐食や変色を防止し、密着性を改良するために十分となる量で用いられ、通常、金属反射層に隣接する層の少なくとも一層に、0.1〜5質量%の範囲内で含有させることが好ましい。より好ましくは1〜5質量%の範囲内である。前記範囲内であれば、金属の腐食や変色を防止し、特に密着性を十分に改良でき、コスト上のメリットも高い。   The triazine thiols according to the present invention are used in an amount sufficient to prevent corrosion and discoloration of the metal contained in the metal reflective layer and improve adhesion, and are usually at least of the layer adjacent to the metal reflective layer. It is preferable to make it contain in the range of 0.1-5 mass% to one layer. More preferably, it exists in the range of 1-5 mass%. If it is in the said range, corrosion and discoloration of a metal can be prevented, especially adhesiveness can fully be improved, and the merit on cost is also high.

トリアジンチオール類は、後述するアンカー層、又は樹脂コート層へ含有させることが好ましく、より好ましくは当該アンカー層及び樹脂コート層の両方が、トリアジンチオール類を含有する層であることが好ましい。   The triazine thiols are preferably contained in the anchor layer or the resin coat layer described below, and more preferably both the anchor layer and the resin coat layer are layers containing triazine thiols.

〔3〕樹脂基材
樹脂基材としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルム、アクリルフィルムが好ましい。特にポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム又はアクリルフィルムを用いることが好ましい。また樹脂フィルムは、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
[3] Resin base material As the resin base material, various conventionally known resin films can be used. For example, cellulose ester film, polyester film, polycarbonate film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone) film, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate polyester film, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, Cellulose diacetate film, cellulose triacetate film, cellulose acetate propionate film, cellulose acetate butyrate film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol film, syndiotactic polystyrene film, polycarbonate film, norbornene resin film , Polymethylpentenef Can Lum, polyether ketone film, polyether ketone imide film, a polyamide film, a fluororesin film, a nylon film, polymethyl methacrylate film, and acrylic films. Among these, polycarbonate films, polyester films such as polyethylene terephthalate, norbornene resin films, cellulose ester films, and acrylic films are preferable. It is particularly preferable to use a polyester film such as polyethylene terephthalate or an acrylic film. The resin film may be a film manufactured by melt casting film formation or a film manufactured by solution casting film formation.

樹脂基材に本発明に係るトリアジンチオール類を含有させるには、例えば溶液流延製膜であれば、調製する有機溶媒を含むドープに当該化合物を所定量添加し、次いで金属支持体上に流延することが好ましい。   In order to contain the triazine thiols according to the present invention in a resin base material, for example, in the case of solution casting film formation, a predetermined amount of the compound is added to a dope containing an organic solvent to be prepared, and then the solution is flowed on a metal support. It is preferable to extend.

樹脂基材は、反射層よりも光入射側から遠い位置にあるため、樹脂基材に紫外線は到達しにくい。特に、樹脂基材よりも光入射側にある層に紫外線吸収剤を含有させたり、紫外線吸収剤を含有するアクリル樹脂層を設けたりすることで、紫外線が樹脂基材により到達しにくくなる。その場合には、紫外線によって劣化しやすい樹脂であっても樹脂基材に用いることが可能となる。そのような観点から、樹脂基材として、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルムを用いることが可能となる。   Since the resin substrate is located farther from the light incident side than the reflective layer, ultraviolet rays hardly reach the resin substrate. In particular, it is difficult for ultraviolet rays to reach the resin base material by adding an ultraviolet absorber to the layer on the light incident side of the resin base material or providing an acrylic resin layer containing the ultraviolet absorber. In that case, even a resin that is easily deteriorated by ultraviolet rays can be used for the resin base material. From such a viewpoint, a polyester film such as polyethylene terephthalate can be used as the resin base material.

樹脂基材の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、10〜300μmの範囲である。好ましくは20〜200μmの範囲であり、より好ましくは30〜100μm範囲である。   The thickness of the resin base material is preferably an appropriate thickness according to the type and purpose of the resin. For example, generally, it is the range of 10-300 micrometers. Preferably it is the range of 20-200 micrometers, More preferably, it is the range of 30-100 micrometers.

また、本発明の太陽熱発電用フィルムミラーは長尺状フィルムを用いて製造することが好ましく、長さ1000m以上であることが好ましく、生産性やハンドリングの観点から5000m程度の長尺状フィルムを用いることが好ましい。   Moreover, it is preferable to manufacture the film mirror for solar power generation of this invention using a elongate film, it is preferable that it is 1000 m or more in length, and uses a long film of about 5000 m from a viewpoint of productivity or handling. It is preferable.

〔3〕アンカー層
アンカー層は、樹脂からなり、樹脂基材と金属反射層とを密着させるものであり、本発明に係るトリアジン誘導体を含有する層である。従って、アンカー層は、樹脂基材と金属反射層とを密着する密着性、金属反射層を真空蒸着法等で形成する際の熱にも耐え得る耐熱性、及び金属反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
[3] Anchor layer The anchor layer is made of a resin, and adheres the resin base material and the metal reflective layer, and is a layer containing the triazine derivative according to the present invention. Therefore, the anchor layer has a close adhesion between the resin base material and the metal reflective layer, heat resistance that can withstand heat when the metal reflective layer is formed by a vacuum deposition method, etc., and high reflection inherent in the metal reflective layer. Smoothness is required to bring out performance.

アンカー層に使用する樹脂材料は、上記の密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独又はこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。   The resin material used for the anchor layer is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions of adhesion, heat resistance, and smoothness, polyester resin, acrylic resin, melamine resin, epoxy resin, Polyamide resins, vinyl chloride resins, vinyl chloride vinyl acetate copolymer resins, etc. can be used alone or mixed resins thereof. From the viewpoint of weather resistance, mixed resins of polyester resins and melamine resins are preferred, and isocyanates etc. It is more preferable to use a thermosetting resin mixed with a curing agent.

アンカー層の形成方法としては、所定の樹脂材料を塗布、塗工するグラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。   As a method for forming the anchor layer, conventionally known coating methods such as a gravure coating method in which a predetermined resin material is applied and applied, a reverse coating method, and a die coating method can be used.

アンカー層の厚さは、0.01〜3μmの範囲が好ましく、より好ましくは0.1〜1μmの範囲である。厚さが0.01μmより厚いと、密着性が良くなり、また樹脂基材表面の凹凸を覆い隠し、平滑性が良好になり、結果的には金属反射層の反射率を高める効果を発現する。また、厚さが3μm以下であると、アンカー層の形成ムラがなく平滑性が高く、またアンカー層の硬化状態として十分なものとなり好ましい。   The thickness of the anchor layer is preferably in the range of 0.01 to 3 μm, more preferably in the range of 0.1 to 1 μm. When the thickness is greater than 0.01 μm, the adhesion is improved, the unevenness on the surface of the resin substrate is covered and smoothness is improved, and as a result, the effect of increasing the reflectance of the metal reflective layer is exhibited. . Moreover, it is preferable that the thickness is 3 μm or less because there is no uneven formation of the anchor layer and the smoothness is high, and the anchor layer is sufficiently cured.

アンカー層へは、トリアジンチオール類を0.1〜5質量%の範囲内で含有させることが好ましく、より好ましくは1〜5質量%の範囲である。当該化合物をメタノール、グリコール類、ケトン類等の有機溶媒に適宜溶解させて樹脂材料に添加することが好ましい。   The anchor layer preferably contains triazine thiols within a range of 0.1 to 5% by mass, and more preferably 1 to 5% by mass. The compound is preferably dissolved in an organic solvent such as methanol, glycols, and ketones and added to the resin material.

〔4〕金属反射層
金属反射層は、太陽光を反射する機能を有する金属等からなる層である。
[4] Metal reflective layer The metal reflective layer is a layer made of metal or the like having a function of reflecting sunlight.

金属反射層の表面反射率は好ましくは80%以上、さらに好ましくは90%以上である。この反射層は、Al、Ag、Cr、Cu、Ni、Ti、Mg、Rh、Pt及びAuからなる元素群の中から選ばれるいずれかの元素を含む材料により形成されることが好ましい。中でも、反射率の観点からアルミニウム(Al)又は銀(Ag)を主成分としていることが好ましく、このような金属の薄膜を二層以上形成するようにしてもよい。   The surface reflectance of the metal reflective layer is preferably 80% or more, more preferably 90% or more. This reflective layer is preferably formed of a material containing any element selected from the element group consisting of Al, Ag, Cr, Cu, Ni, Ti, Mg, Rh, Pt, and Au. Among these, aluminum (Al) or silver (Ag) is preferably the main component from the viewpoint of reflectivity, and two or more such metal thin films may be formed.

本発明においては金属反射層として、銀を主成分とする銀反射層を用いることが特に好ましい(以下、金属反射層を銀反射層という場合がある。)。   In the present invention, it is particularly preferable to use a silver reflective layer mainly composed of silver as the metal reflective layer (hereinafter, the metal reflective layer may be referred to as a silver reflective layer).

銀反射層の厚さは、反射率等の観点から、10〜200nmの範囲が好ましく、より好ましくは30〜150nmの範囲である。   The thickness of the silver reflective layer is preferably in the range of 10 to 200 nm, more preferably in the range of 30 to 150 nm, from the viewpoint of reflectance and the like.

この反射層の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。湿式法の代表例としては、めっき法があり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応などがある。一方、乾式法の代表例としては、真空製膜法があり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続的に製膜するロール・ツー・ロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。例えば、太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法において、銀反射層を銀蒸着によって形成する手法が好ましく用いられる。   As a method for forming this reflective layer, either a wet method or a dry method can be used. A typical example of the wet method is a plating method, in which a film is formed by depositing a metal from a solution. Specific examples include silver mirror reaction. On the other hand, as a typical example of the dry method, there is a vacuum film forming method, and concrete examples include a resistance heating vacuum deposition method, an electron beam heating vacuum deposition method, an ion plating method, an ion beam assisted vacuum deposition. Method and sputtering method. In particular, a vapor deposition method capable of a roll-to-roll method for continuously forming a film is preferably used in the present invention. For example, in a method for manufacturing a film mirror for solar power generation, a method of forming a silver reflective layer by silver vapor deposition is preferably used.

なお、上記したように銀反射層の厚さを、例えば30〜300nmの範囲とすれば、その銀反射層を有する機能性フィルムを太陽熱発電用フィルムミラーとして使用することが可能になる。より好ましくは耐久性の観点から、80〜200nmの範囲である。銀反射層の層厚を上記範囲とすることにより、光の透過や、表面に凹凸が生じることによる光の散乱等を原因とする可視光領域での反射率の低下を抑えることが可能となる。   In addition, if the thickness of a silver reflection layer shall be 30-300 nm as mentioned above, it will become possible to use the functional film which has the silver reflection layer as a film mirror for solar power generation. More preferably, it is in the range of 80 to 200 nm from the viewpoint of durability. By making the layer thickness of the silver reflective layer in the above range, it is possible to suppress a decrease in reflectance in the visible light region due to light transmission or light scattering due to unevenness on the surface. .

〔5〕樹脂コート層
樹脂コート層は、銀反射層の光入射側に設けられており、銀反射層に隣接していることが好ましい。
[5] Resin Coat Layer The resin coat layer is provided on the light incident side of the silver reflective layer and is preferably adjacent to the silver reflective layer.

本発明に係るトリアジンチオール類を樹脂コート層に含有させることで、銀反射層と樹脂コート層との密着性を大幅に向上することができ、さらに銀反射層の腐食や変色を防止することができる。   By containing the triazine thiols according to the present invention in the resin coat layer, the adhesion between the silver reflective layer and the resin coat layer can be greatly improved, and further, corrosion and discoloration of the silver reflective layer can be prevented. it can.

当該樹脂コート層へのトリアジンチオール類の含有量は、0.1〜5質量%の範囲である。より好ましくは、1〜5質量%の範囲である。   Content of the triazine thiols to the said resin coat layer is the range of 0.1-5 mass%. More preferably, it is the range of 1-5 mass%.

加えて、樹脂コート層は、本発明に係るトリアジンチオール類の効果を阻害しない範囲で銀の腐食防止剤又は酸化防止剤を含有し、銀反射層の腐食、劣化を防止する機能を付与することも好ましい。   In addition, the resin coat layer contains a silver corrosion inhibitor or antioxidant as long as the effect of the triazine thiols according to the present invention is not impaired, and imparts a function of preventing corrosion and deterioration of the silver reflective layer. Is also preferable.

樹脂コート層は、1層のみからなっていてもよいし、複数層からなっていてもよい。樹脂コート層の厚さは、1〜10μmの範囲が好ましく、より好ましくは2〜8μmの範囲である。   The resin coat layer may consist of only one layer or may consist of a plurality of layers. The thickness of the resin coat layer is preferably in the range of 1 to 10 μm, more preferably in the range of 2 to 8 μm.

樹脂コート層のバインダーとしては、以下の樹脂を好ましく用いることができる。例えば、セルロースエステル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン系、ポリカーボネート、ノルボルネン系、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂等を挙げることができる。中でも、耐光性の観点から紫外線に耐性の高いアクリル樹脂が好ましい。   As the binder of the resin coat layer, the following resins can be preferably used. For example, cellulose ester, polyester, polycarbonate, polyarylate, polysulfone (including polyethersulfone), polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyester, polyethylene, polypropylene, cellophane, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose acetate propionate , Cellulose acetate butyrate, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, ethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate, norbornene, polymethylpentene, polyetherketone, polyetherketoneimide, polyamide, fluororesin, nylon, polymethyl A methacrylate, an acrylic resin, etc. can be mentioned. Among them, an acrylic resin having high resistance to ultraviolet rays is preferable from the viewpoint of light resistance.

(5−1)腐食防止剤
腐食防止剤としては、銀に対する吸着性基を有することが好ましい。ここで、「腐食」とは、金属(銀)がそれをとり囲む環境物質によって、化学的又は電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう(JIS Z0103−2004参照)。
(5-1) Corrosion inhibitor The corrosion inhibitor preferably has an adsorptive group for silver. Here, “corrosion” refers to a phenomenon in which a metal (silver) is chemically or electrochemically eroded or deteriorated by an environmental material surrounding it (see JIS Z0103-2004).

なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には0.1〜1.0g/mの範囲内であることが好ましい。 The optimum content of the corrosion inhibitor varies depending on the compound used, but is generally preferably in the range of 0.1 to 1.0 g / m 2 .

銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、ベンゾトリアゾール等トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオール基を有する化合物、チオ尿素類、ナフタレン系の少なくとも一種又はこれらの混合物から選ばれることが望ましい。   Corrosion inhibitors having an adsorptive group for silver include amines and derivatives thereof, compounds having a pyrrole ring, compounds having a triazole ring such as benzotriazole, compounds having a pyrazole ring, compounds having a thiazole ring, and having an imidazole ring It is desirable to be selected from a compound, a compound having an indazole ring, a copper chelate compound, a compound having a thiol group, a thiourea, a naphthalene-based compound, or a mixture thereof.

ベンゾトリアゾール等の化合物においては、紫外線吸収剤が腐食防止剤を兼ねる場合もある。また、シリコーン変性樹脂を用いることも可能である。シリコーン変性樹脂として特に限定されない。   In compounds such as benzotriazole, the ultraviolet absorber may also serve as a corrosion inhibitor. It is also possible to use a silicone-modified resin. It does not specifically limit as a silicone modified resin.

これらの化合物については、特開2012−232538号公報段落(0061)〜(0073)に記載の化合物を好ましく用いることができる。   As these compounds, compounds described in paragraphs (0061) to (0073) of JP2012-232538A can be preferably used.

市販品の例としては、株式会社ADEKAのLA31、BASFジャパン株式会社のチヌビン234などが挙げられる。   Examples of commercially available products include LA31 from ADEKA Corporation, Tinuvin 234 from BASF Japan Corporation, and the like.

(5−2)酸化防止剤
酸化防止能を有する腐食防止剤である酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤を使用することが好ましい。また、光安定剤としてヒンダードアミン系光安定剤、ニッケル系紫外線安定剤を好ましく使用することができる。
(5-2) Antioxidant It is preferable to use a phenol-based antioxidant, a thiol-based antioxidant, or a phosphite-based antioxidant as the antioxidant that is a corrosion inhibitor having antioxidant ability. Moreover, a hindered amine light stabilizer and a nickel ultraviolet stabilizer can be preferably used as the light stabilizer.

これらの化合物については、特開2012−232538号公報段落(0046)〜(0053)に記載の化合物を好ましく用いることができる。   As these compounds, compounds described in paragraphs (0046) to (0053) of JP2012-232538A can be preferably used.

酸化防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には0.1〜1.0g/mの範囲内であることが好ましい。 The optimum content of the antioxidant varies depending on the compound used, but generally it is preferably in the range of 0.1 to 1.0 g / m 2 .

〔6〕接着層
接着層は、層同士の接着性を高める機能があるものであれば特に限定はない。図1(b)に示す例においては、樹脂コート層とアクリル樹脂層との接着性を高めるために形成される。したがって、接着層は、層同士を密着する密着性及び銀反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
[6] Adhesive layer The adhesive layer is not particularly limited as long as it has a function of enhancing the adhesion between the layers. In the example shown in FIG.1 (b), it forms in order to improve the adhesiveness of a resin coat layer and an acrylic resin layer. Therefore, the adhesive layer needs to have adhesiveness for bringing the layers into close contact with each other and smoothness for drawing out the high reflection performance inherent in the silver reflective layer.

接着層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、0.01〜10μmの範囲が好ましく、より好ましくは0.1〜10μmの範囲である。   The thickness of the adhesive layer is preferably in the range of 0.01 to 10 μm, more preferably in the range of 0.1 to 10 μm, from the viewpoints of adhesion, smoothness, reflectance of the reflective material, and the like.

接着層が樹脂である場合、樹脂として、上記の密着性、平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独又はこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。   When the adhesive layer is a resin, the resin is not particularly limited as long as it satisfies the above adhesiveness and smoothness conditions, polyester resin, urethane resin, acrylic resin, melamine resin, epoxy resin Resin, polyamide resin, vinyl chloride resin, vinyl chloride vinyl acetate copolymer resin or the like can be used alone or a mixed resin thereof. From the viewpoint of weather resistance, a mixed resin of a polyester resin and a melamine resin is preferable. It is more preferable to use a thermosetting resin mixed with a curing agent such as isocyanate. As a method for forming the adhesive layer, conventionally known coating methods such as a gravure coating method, a reverse coating method, and a die coating method can be used.

また、接着層が金属酸化物である場合、例えば酸化シリコン、酸化アルミニウム、窒化シリコン、窒化アルミニウム、酸化ランタン、窒化ランタン等を各種真空製膜法によって製膜することで接着層を形成できる。例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などによる製膜が可能である。   When the adhesive layer is a metal oxide, for example, silicon oxide, aluminum oxide, silicon nitride, aluminum nitride, lanthanum oxide, lanthanum nitride, or the like can be formed by various vacuum film forming methods to form the adhesive layer. For example, a film can be formed by resistance heating vacuum deposition, electron beam heating vacuum deposition, ion plating, ion beam assisted vacuum deposition, sputtering, or the like.

〔7〕アクリル樹脂層
アクリル樹脂層は、太陽光や紫外線によるフィルムミラーの劣化防止の目的で紫外線吸収剤を含有してなる層であることが好ましい。アクリル樹脂層は、樹脂基材よりも光入射側に設けることが好ましく、金属反射層よりも光入射側に設けることが好ましい。
[7] Acrylic resin layer The acrylic resin layer is preferably a layer containing an ultraviolet absorber for the purpose of preventing deterioration of the film mirror caused by sunlight or ultraviolet rays. The acrylic resin layer is preferably provided on the light incident side of the resin base material, and is preferably provided on the light incident side of the metal reflective layer.

アクリル樹脂層はバインダーとしてアクリル樹脂を用いる層であり、アクリル樹脂層の厚さは、1〜200μmの範囲であることが好ましい。   The acrylic resin layer is a layer using an acrylic resin as a binder, and the thickness of the acrylic resin layer is preferably in the range of 1 to 200 μm.

アクリル樹脂層としては、市販の紫外線吸収剤を含有したアクリルフィルムである、スミペックス テクノロイ S001G 75μm(住友化学株式会社製)等が好ましく用いることができる。   As the acrylic resin layer, Sumipex Technoloy S001G 75 μm (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), which is an acrylic film containing a commercially available ultraviolet absorber, can be preferably used.

また、フィルムミラーに上記アクリル樹脂層を設ける以外に、樹脂基材よりも光入射側に設けられた構成層のうちのいずれか一層に紫外線吸収剤を添加し、アクリル樹脂層を兼ねるようにしてもよい。例えば、ハードコート層に紫外線吸収剤を添加することが好ましい。   Moreover, in addition to providing the acrylic resin layer on the film mirror, an ultraviolet absorber is added to any one of the constituent layers provided on the light incident side of the resin substrate so that it also serves as the acrylic resin layer. Also good. For example, it is preferable to add an ultraviolet absorber to the hard coat layer.

紫外線吸収剤には大別して、有機系と無機系がある。   The ultraviolet absorber is roughly classified into an organic type and an inorganic type.

有機系の紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系等が挙げられ、また無機系の紫外線吸収剤としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄等が挙げられる。ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物が好ましい。また、特開平10−182621号公報、同8−337574号公報記載の紫外線吸収剤、特開平6−148430号公報、特開2003−113317号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもよい。また、好ましく用いられる紫外線吸収剤としては、特開2012−232528号公報段落(0036)〜(0045)に記載の化合物が挙げられる。   Examples of organic ultraviolet absorbers include benzophenone, benzotriazole, phenyl salicylate, and triazine, and inorganic ultraviolet absorbers include titanium oxide, zinc oxide, cerium oxide, and iron oxide. Can be mentioned. A benzophenone compound, a benzotriazole compound and a triazine compound with little coloring are preferred. Moreover, you may use the ultraviolet absorber of Unexamined-Japanese-Patent No. 10-182621, 8-337574, and the polymeric ultraviolet absorber of Unexamined-Japanese-Patent No. 6-148430, 2003-113317. Moreover, as an ultraviolet absorber used preferably, the compound as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-232528 Paragraph (0036)-(0045) is mentioned.

紫外線吸収剤の使用量は、0.1〜20質量%の範囲、好ましくは1〜15質量%の範囲、より好ましくは3〜10質量%の範囲である。これらの範囲内にすることで、他の構成層の密着性を良好に保ちつつ、耐候性を向上させることが可能となる。   The usage-amount of a ultraviolet absorber is the range of 0.1-20 mass%, Preferably it is the range of 1-15 mass%, More preferably, it is the range of 3-10 mass%. By making it within these ranges, it becomes possible to improve the weather resistance while maintaining good adhesion of the other constituent layers.

〔8〕中間層
中間層は、アクリル樹脂層と後述するハードコート層の密着力を向上させる構成層である。
[8] Intermediate layer The intermediate layer is a constituent layer that improves the adhesion between the acrylic resin layer and a hard coat layer described later.

この中間層は、ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、水溶性セルロース、水ガラスのうち、少なくとも1つを含有している。ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、水溶性セルロース、水ガラスは、反応性基としてヒドロキシ基を有している。   This intermediate layer contains at least one of polyvinyl alcohol resin, vinyl acetate resin, water-soluble cellulose, and water glass. Polyvinyl alcohol resin, vinyl acetate resin, water-soluble cellulose, and water glass have a hydroxy group as a reactive group.

中間層の形成方法としては、例えば塗布による方法を挙げることができる。塗布方式で中間層となる塗膜を塗設する場合には、従来用いられる種々の塗布方法、例えば、スプレーコート、スピンコート、バーコート等の方法を用いることができ、ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、水溶性セルロース、水ガラスのうち、少なくとも1つを含有している溶液を、例えばアクリル樹脂層上に塗布・塗工することで、中間層を形成することができる。   Examples of the method for forming the intermediate layer include a method by coating. When coating a coating film to be an intermediate layer by a coating method, various conventionally used coating methods such as spray coating, spin coating, bar coating, etc. can be used, such as polyvinyl alcohol resin, vinyl acetate. The intermediate layer can be formed by applying and applying a solution containing at least one of resin, water-soluble cellulose, and water glass on, for example, an acrylic resin layer.

中間層の膜厚は0.1〜5μmが好ましく、特に好ましくは0.1〜1μmである。   The film thickness of the intermediate layer is preferably from 0.1 to 5 μm, particularly preferably from 0.1 to 1 μm.

中間層が、ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、水溶性セルロース、水ガラスのうち、少なくとも1つを含有していることで、それらとアクリル樹脂層表面の反応性基(ヒドロキシ基やカルボキシ基など)とが化学結合し、また、それらとハードコート層がポリシロキサン化合物を含有する場合は、当該化合物と化学結合することで、中間層とアクリル樹脂層の層間結合、中間層とハードコート層の層間結合がより強固な結合となる。その結果、中間層を介したアクリル樹脂層とハードコート層の密着力が向上する。   The intermediate layer contains at least one of polyvinyl alcohol resin, vinyl acetate resin, water-soluble cellulose, and water glass, so that they and reactive groups on the surface of the acrylic resin layer (hydroxy group, carboxy group, etc.) And when the hard coat layer and the hard coat layer contain a polysiloxane compound, the intermediate bond between the intermediate layer and the acrylic resin layer and the interlayer between the intermediate layer and the hard coat layer are obtained by chemically bonding with the compound. The bond becomes a stronger bond. As a result, the adhesion between the acrylic resin layer and the hard coat layer via the intermediate layer is improved.

また、中間層がポリイソシアネートを含有することも好ましい。特にポリビニルアルコール樹脂及び水溶性セルロースを用いた場合においては、水分散型のポリイソシアネートが好ましい。   Moreover, it is also preferable that an intermediate | middle layer contains polyisocyanate. In particular, when a polyvinyl alcohol resin and water-soluble cellulose are used, a water-dispersed polyisocyanate is preferable.

中間層が、ポリイソシアネートを含有することで、中間層とアクリル樹脂層の層間結合や、中間層とハードコート層の層間結合がより一層強化される。   When the intermediate layer contains polyisocyanate, the interlayer bond between the intermediate layer and the acrylic resin layer and the interlayer bond between the intermediate layer and the hard coat layer are further strengthened.

また、中間層が、導電性微粒子を含有することも好ましい。   The intermediate layer preferably contains conductive fine particles.

中間層が、導電性微粒子を含有した場合、中間層が帯電防止層の機能を兼ねることができる。   When the intermediate layer contains conductive fine particles, the intermediate layer can also function as an antistatic layer.

〔9〕ハードコート層
ハードコート層は、フィルムミラーの最表層に設けられる構成層(保護層)である。フィルムミラーが最小構成の場合は、当該ハードコート層に、本発明に係るトリアジンチオール類を、0.1〜5質量%の範囲で含有させることが好ましい。
[9] Hard coat layer The hard coat layer is a constituent layer (protective layer) provided on the outermost layer of the film mirror. When the film mirror has a minimum configuration, the hard coat layer preferably contains the triazine thiols according to the present invention in the range of 0.1 to 5% by mass.

ハードコート層の膜厚は、厚すぎれば応力によって割れる危険性があり、また、ハードコート層の膜厚が薄すぎれば硬度を維持できない。そのため、膜厚は0.5〜10μmの範囲であることが好ましく、より好ましくは、1〜5μmの範囲である。   If the film thickness of the hard coat layer is too thick, there is a risk of cracking due to stress, and if the film thickness of the hard coat layer is too thin, the hardness cannot be maintained. Therefore, the film thickness is preferably in the range of 0.5 to 10 μm, more preferably in the range of 1 to 5 μm.

特に、本発明に用いられるハードコート層は、耐侯性、耐傷性、防汚性を有することが好ましい。耐傷性に関しては、ハードコート層表面の鉛筆硬度はH以上6H未満、加重500g/cmのスチールウール試験における傷が30本以下であることが好ましい。防汚性に関しては、ハードコート層の転落角が0°より大きく30°以下であれば水滴が落ちやすく防汚性に優れるため好ましい。 In particular, the hard coat layer used in the present invention preferably has weather resistance, scratch resistance, and antifouling properties. Regarding scratch resistance, it is preferable that the pencil hardness of the hard coat layer surface is H or more and less than 6H and 30 or less scratches in a steel wool test with a load of 500 g / cm 2 . Regarding the antifouling property, it is preferable that the falling angle of the hard coat layer is larger than 0 ° and not more than 30 ° because water droplets are easily dropped and the antifouling property is excellent.

鉛筆硬度は鉛筆硬度試験JIS−K5400に基づいて、各サンプルの45°傾斜、1Kg荷重における鉛筆硬度を評価する。スチールウール試験は往復摩耗試験機(新東科学(株)製HEIDON−14DR)に摩耗材としてスチールウール(#0000)を取り付け、荷重500g/cmの条件で各撥水・防汚性物品の表面を速度10mm/secで10回往復させ、傷本数を評価する試験である。また、転落角は、接触角計DM501(協和界面化学)に滑落法キットDM‐SA01を取り付け、水50μl滴下し、支持体を水平状態から0.5°/秒の速度で傾けていき、水滴が転がり落ちるときの角度を転落角として測定する。転落角の小さい方が水滴が落ちやすく防汚性に優れ、好ましい。 The pencil hardness is evaluated based on the pencil hardness test JIS-K5400. In the steel wool test, steel wool (# 0000) was attached as a wear material to a reciprocating abrasion tester (HEIDON-14DR manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd.), and each water-repellent / antifouling article was subjected to a load of 500 g / cm 2 . In this test, the surface is reciprocated 10 times at a speed of 10 mm / sec to evaluate the number of scratches. The sliding angle was measured by attaching a sliding method kit DM-SA01 to a contact angle meter DM501 (Kyowa Interface Chemistry), dropping 50 μl of water, tilting the support from a horizontal state at a speed of 0.5 ° / second, The angle at which the rolls down is measured as the fall angle. A smaller rolling angle is preferable because water droplets can be easily dropped and have excellent antifouling properties.

(9−1)メタロキサン骨格を有するポリマー
このハードコート層は、少なくともメタロキサン骨格を有するポリマー由来の無機酸化物又は無機窒化物を含有する層であることが好ましい。
(9-1) Polymer having a metalloxane skeleton This hard coat layer is preferably a layer containing at least a polymer-derived inorganic oxide or inorganic nitride having a metalloxane skeleton.

本発明でいうメタロキサン骨格とは、メタル原子と酸素原子との結合、すなわちM−O結合を有する骨格であり、メタロキサン骨格を有するポリマーとは、このM−O結合の繰り返しを主鎖骨格とする高分子化合物であり、高分子化する方法としては、ゾル−ゲル法が好ましい。ポリメタロキサンとしては、ポリシロキサン、ポリチタノキサン、ポリアルミノキサン、ポリジルコノキサン等が挙げられる。   The metalloxane skeleton in the present invention is a skeleton having a bond between a metal atom and an oxygen atom, that is, a MO bond, and a polymer having a metalloxane skeleton has a repeating main chain skeleton of this MO bond. A sol-gel method is preferable as a method for polymerizing the polymer compound. Examples of the polymetalloxane include polysiloxane, polytitanoxane, polyaluminoxane, polyzircoxane and the like.

メタロキサン骨格を有するポリマー材料としては、珪素、チタン、ジルコニウム、アルミ等のポリメトキサン、又はポリシラザン、パーヒドロポリシラザン、アルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン、ポリシロキサン等を挙げることができる。好ましくは、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム及びチタンから選ばれる少なくとも1種の元素を含むメタロキサン骨格を有するポリマーである。   Examples of the polymer material having a metalloxane skeleton include polymethoxane such as silicon, titanium, zirconium, and aluminum, or polysilazane, perhydropolysilazane, alkoxysilane, alkylalkoxysilane, and polysiloxane. Preferably, it is a polymer having a metalloxane skeleton containing at least one element selected from silicon, aluminum, zirconium and titanium.

本発明に係るメタロキサン骨格を有するバインダーとしては、金属アルコキシドから形成されたポリメタロキサンから構成されるポリシロキサン、ポリチタノキサン、ポリアルミノキサン、ポリジルコノキサンであることが好ましい。金属アルコキシドは、Si(O
、Al(OC、Ti(OCH、Ti(OC、Ti(iso−OC、Ti(OC、Zr(OC、Zr(iso−OC、Zr(OC)4等の単一金属アルコキシドが挙げられる。
The binder having a metalloxane skeleton according to the present invention is preferably a polysiloxane, a polytitanoxane, a polyaluminoxane, or a polyzirconoxane composed of a polymetalloxane formed from a metal alkoxide. Metal alkoxide is Si (O
C 2 H 5) 4, Al (OC 2 H 5) 4, Ti (OCH 3) 4, Ti (OC 2 H 5) 4, Ti (iso-OC 3 H 7) 4, Ti (OC 4 H 9) 4, Zr (OC 2 H 5 ) 4, Zr (iso-OC 3 H 7) 4, Zr single metal alkoxides such as (OC 4 H 9) 4 and the like.

上記の中でも、好ましくは、ポリシロキサンであり、特に好ましくは、下記一般式(2)で表されるポリシロキサンである。これらのメタロキサン骨格を含む材料を塗布乾燥して最表層を形成することが好ましい。また、最表層はゾルゲル法を用いた熱硬化反応によって形成されることが好ましい。   Among the above, polysiloxane is preferable, and polysiloxane represented by the following general formula (2) is particularly preferable. It is preferable to form the outermost layer by applying and drying a material containing these metalloxane skeletons. The outermost layer is preferably formed by a thermosetting reaction using a sol-gel method.

Figure 2014214986
一般式(2)中、R11、R12は同一であっても異なっていてもよく、水素もしくはアルキル基又はアリール基等の有機基を表す。pは繰り返し単位を表す。
Figure 2014214986
In general formula (2), R 11 and R 12 may be the same or different and each represents hydrogen, an organic group such as an alkyl group or an aryl group. p represents a repeating unit.

また、ポリシロキサンとしては、例えば、以下のいずれかを用いてもよい。テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトキエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の加水分解性シリル基を有するシラン化合物の部分加水分解物や、有機溶媒中に無水ケイ酸の微粒子を安定に分散させたオルガノシリカゾル、又はオルガノシリカゾルにラジカル重合性を有する上記シラン化合物を付加させたもの等を使用することができる。但し、これに限られるものではない。   Moreover, as polysiloxane, you may use any of the following, for example. Tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltoxiethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycyl Sidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropyl Partial hydrolysates of silane compounds having hydrolyzable silyl groups such as methyldiethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, γ-acryloxypropylmethyldimethoxysilane , It can be used such as those obtained by adding the silane compound having a radical polymerizable organo silica sol, or organosilica sol fine particles of silicic anhydride was stably dispersed in an organic solvent. However, the present invention is not limited to this.

上記バインダーは、ゾル−ゲル法を用いた熱硬化反応によって無機酸化物が形成される方法を適用することが好ましい。   As the binder, it is preferable to apply a method in which an inorganic oxide is formed by a thermosetting reaction using a sol-gel method.

ゾル−ゲル法は、無機酸化物の前駆体である有機金属化合物から無機酸化物を形成する方法である。すなわち、有機金属化合物の一種である金属アルコキシドを出発物質とし、その溶液を加水分解、縮重合させゾルを形成した後、空気中の水分などによって更に反応を進めてゲル化させ、固体の無機酸化物が得られる。例えば、シリカガラス膜の形成過程では、珪素の金属アルコキシドであるテトラエトキシシラン(Si(OC)を用いる場合、テトラエトキシシランをアルコール等の溶媒に溶解し、酸等の触媒と少量の水を加えて十分に混合することにより下記の反応式に従い液状のポリシロキサン・ゾルが形成される。 The sol-gel method is a method of forming an inorganic oxide from an organic metal compound that is a precursor of an inorganic oxide. In other words, a metal alkoxide, which is a kind of organometallic compound, is used as a starting material, and after the solution is hydrolyzed and polycondensed to form a sol, the reaction is further gelled by moisture in the air, etc. Things are obtained. For example, in the process of forming a silica glass film, when tetraethoxysilane (Si (OC 2 H 5 ) 4 ), which is a metal alkoxide of silicon, is used, tetraethoxysilane is dissolved in a solvent such as alcohol, and a catalyst such as an acid is used. By adding a small amount of water and mixing well, a liquid polysiloxane sol is formed according to the following reaction formula.

加水分解反応
Si(OC+4HO→Si(OH)+4COH
脱水縮合反応
nSi(OH)→[SiO]n+2nH
ポリシロキサン・ゾルを、樹脂基材に塗布して乾燥させると、溶媒や反応によって生じたエチルアルコール(COH)と水の蒸発に伴いゾルの体積が収縮し、その結果、隣り合うポリマー末端の残留OH基同士が脱水縮合反応を起こして結合し、塗膜はゲル(固化体)となる。更に、得られたゲル被膜を焼成して、ポリシロキサン粒子同士の結合を強化すると、強度の強いゲル被膜を得ることができる。
Hydrolysis reaction Si (OC 2 H 5 ) 4 + 4H 2 O → Si (OH) 4 + 4C 2 H 5 OH
Dehydration condensation reaction nSi (OH) 4 → [SiO 2 ] n + 2nH 2 O
When a polysiloxane sol is applied to a resin substrate and dried, the volume of the sol shrinks with the evaporation of water and ethyl alcohol (C 2 H 5 OH) generated by the solvent and reaction. Residual OH groups at the ends of the polymer undergo a dehydration condensation reaction and are bonded, and the coating film becomes a gel (solidified body). Furthermore, when the obtained gel film is baked to strengthen the bond between the polysiloxane particles, a strong gel film can be obtained.

ゾル−ゲル法において、上記した有機金属化合物は、そのまま反応に用いてもよいが、反応の制御を容易にするため溶媒で希釈して用いることが好ましい。希釈用溶媒は、有機金属化合物を溶解することができ、かつ水と均一に混合することができるものであればよい。そのような希釈用溶媒としては、脂肪族の低級アルコール、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、及びそれらの混合物が好適に挙げられる。また、ブタノールとセロソルブとブチルセロソルブの混合溶媒、あるいはキシロールとセロソルブアセテートとメチルイソブチルケトンとシクロヘキサンの混合溶媒などを使用することもできる。   In the sol-gel method, the above-described organometallic compound may be used for the reaction as it is, but it is preferably diluted with a solvent for easy control of the reaction. The dilution solvent may be any solvent that can dissolve the organometallic compound and can be uniformly mixed with water. Preferred examples of such a solvent for dilution include aliphatic lower alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, ethylene glycol, propylene glycol, and mixtures thereof. Further, a mixed solvent of butanol, cellosolve, and butyl cellosolve, or a mixed solvent of xylol, cellosolve acetate, methyl isobutyl ketone, and cyclohexane may be used.

また、好ましいハードコート層の形成方法にポリシラザンを塗布製膜し、50〜200℃程度の温度で加熱硬化して硬化膜を得る方法がある。ハードコートの前駆体が、ポリシラザンを含有する場合、例えば下記の一般式(3)で表されるポリシラザンを含む有機溶剤中に必要に応じて触媒を加えた溶液を塗布した後、溶剤を蒸発させて除去し、それによってフィルムミラーF上に0.05〜3.0μmの範囲の層厚を有するポリシラザン層を残す。そして、水蒸気を含む雰囲気中で酸素、活性酸素、場合によっては窒素の存在下で、上記のポリシラザン層を局所的加熱することによって、フィルムミラーF上にガラス様の透明なハードコートの被膜を形成する方法を採用することが好ましい。   Further, as a preferable method for forming a hard coat layer, there is a method in which polysilazane is coated and formed, and is cured by heating at a temperature of about 50 to 200 ° C. to obtain a cured film. When the hard coat precursor contains polysilazane, for example, after applying a solution to which a catalyst is added if necessary in an organic solvent containing polysilazane represented by the following general formula (3), the solvent is evaporated. Thereby removing a polysilazane layer having a layer thickness in the range of 0.05 to 3.0 μm on the film mirror F. Then, a glass-like transparent hard coat film is formed on the film mirror F by locally heating the polysilazane layer in the atmosphere containing water vapor in the presence of oxygen, active oxygen, or in some cases nitrogen. It is preferable to adopt the method to do.

一般式(3)
−(SiR−NR
一般式(3)中、R、R、及びRは、同一か又は異なり、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は(トリアルコキシシリル)アルキル基、好ましくは水素、メチル、エチル、プロピル、iso−プロピル、ブチル、iso−ブチル、tert−ブチル、フェニル、ビニル又は3−(トリエトキシシリル)プロピル、3−(トリメトキシシリルプロピル)からなる群から選択される基を表す。この際、nは整数であり、nは、ポリシラザンが150〜150,000g/モルの範囲の数平均分子量を有するように定められる。
General formula (3)
-(SiR 1 R 2 -NR 3 ) n-
In general formula (3), R 1 , R 2 , and R 3 are the same or different and independently of each other, hydrogen, or an optionally substituted alkyl group, aryl group, vinyl group, or (trialkoxysilyl) ) From an alkyl group, preferably hydrogen, methyl, ethyl, propyl, iso-propyl, butyl, iso-butyl, tert-butyl, phenyl, vinyl or 3- (triethoxysilyl) propyl, 3- (trimethoxysilylpropyl) Represents a group selected from the group consisting of In this case, n is an integer, and n is determined so that the polysilazane has a number average molecular weight in the range of 150 to 150,000 g / mol.

触媒としては、好ましくは、塩基性触媒、特にN,N−ジエチルエタノールアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、3−モルホリノプロピルアミン又はN−複素環式化合物が使用される。触媒濃度は、ポリシラザンを基準にして通常0.1〜10モル%の範囲、好ましくは0.5〜7モル%の範囲である。   As catalysts, preferably basic catalysts, in particular N, N-diethylethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, triethanolamine, triethylamine, 3-morpholinopropylamine or N-heterocyclic compounds are used. . The catalyst concentration is usually in the range of 0.1 to 10 mol%, preferably in the range of 0.5 to 7 mol%, based on polysilazane.

なお、好ましい態様の一つでは、一般式(3)中のR、R及びRの全てが水素原子であるパーヒドロポリシラザンを含む溶液が使用される。 In one preferred embodiment, a solution containing perhydropolysilazane in which all of R 1 , R 2 and R 3 in the general formula (3) are hydrogen atoms is used.

また、別の好ましい態様の一つでは、本発明におけるハードコート層は、下記の一般式(4)で表される少なくとも一種のポリシラザンを含む。   In another preferred embodiment, the hard coat layer in the invention contains at least one polysilazane represented by the following general formula (4).

一般式(4)
−(SiR−NR−(SiR−NR
一般式(4)中、R、R、R、R、R及びRは、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は(トリアルコキシシリル)アルキル基を表す。この際、n及びpは整数であり、特にnは、ポリシラザンが150〜150,000g/モルの範囲の数平均分子量を有するように定められる。
General formula (4)
- (SiR 1 R 2 -NR 3 ) n - (SiR 4 R 5 -NR 6) p -
In general formula (4), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are independently of each other hydrogen, optionally substituted alkyl group, aryl group, vinyl group or ( Represents a trialkoxysilyl) alkyl group; In this case, n and p are integers, and in particular, n is determined so that polysilazane has a number average molecular weight in the range of 150 to 150,000 g / mol.

特に好ましいものは、R、R及びRが水素を表し、そしてR、R及びRがメチルを表す化合物。またR、R及びRが水素を表し、そしてR、Rがメチルを表し、そしてRがビニルを表す化合物。また、R、R、R及びRが水素を表し、そしてR及びRがメチルを表す化合物である。 Particularly preferred are compounds in which R 1 , R 3 and R 6 represent hydrogen and R 2 , R 4 and R 5 represent methyl. A compound in which R 1 , R 3 and R 6 represent hydrogen, R 2 and R 4 represent methyl, and R 5 represents vinyl. Further, R 1 , R 3 , R 4 and R 6 represent hydrogen, and R 2 and R 5 represent methyl.

さらに、別の好ましい態様の一つでは、本発明におけるハードコート層は、下記の一般式(5)で表される少なくとも一種のポリシラザンを含む。   Furthermore, in another preferable aspect, the hard coat layer in the present invention contains at least one polysilazane represented by the following general formula (5).

一般式(5)
−(SiR−NR−(SiR−NR−(SiR−NR
一般式(5)中、R、R、R、R、R、R、R、R及びRは、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は(トリアルコキシシリル)アルキル基を表す。この際、n、p及びqは整数であり、特にnは、ポリシラザンが150〜150,000g/モルの範囲の数平均分子量を有するように定められる。
General formula (5)
- (SiR 1 R 2 -NR 3 ) n - (SiR 4 R 5 -NR 6) p - (SiR 7 R 8 -NR 9) q -
In general formula (5), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 are independently of one another hydrogen or optionally substituted alkyl. Represents a group, an aryl group, a vinyl group or a (trialkoxysilyl) alkyl group. In this case, n, p and q are integers, and in particular, n is determined so that the polysilazane has a number average molecular weight in the range of 150 to 150,000 g / mol.

特に好ましいものは、R、R及びRが水素を表し、そしてR、R、R及びRがメチルを表し、Rが(トリエトキシシリル)プロピルを表し、そしてRがアルキル又は水素を表す化合物である。 Particularly preferred are R 1 , R 3 and R 6 represent hydrogen and R 2 , R 4 , R 5 and R 8 represent methyl, R 9 represents (triethoxysilyl) propyl and R 7 Is a compound in which represents alkyl or hydrogen.

溶剤中のポリシラザンの割合は、一般的には、ポリシラザン1〜80質量%の範囲、好ましくは5〜50質量%の範囲、特に好ましくは10〜40質量%の範囲である。   The ratio of polysilazane in the solvent is generally in the range of 1 to 80% by mass of polysilazane, preferably in the range of 5 to 50% by mass, particularly preferably in the range of 10 to 40% by mass.

溶剤としては、特に、水及び反応性基(例えばヒドロキシ基又はアミン基)を含まず、ポリシラザンに対して不活性の有機系で好ましくは非プロトン性の溶剤が好適である。これは、例えば、脂肪族又は芳香族炭化水素、ハロゲン炭化水素、エステル、例えば酢酸エチル又は酢酸ブチル、ケトン、例えばアセトン又はメチルエチルケトン、エーテル、例えばテトラヒドロフラン又はジブチルエーテル、並びにモノ−及びポリアルキレングリコールジアルキルエーテル(ジグライム類)又はこれらの溶剤からなる混合物である。   As the solvent, water and a reactive group (for example, a hydroxy group or an amine group) are not included, and an organic system that is inert to polysilazane and preferably an aprotic solvent is preferable. This includes, for example, aliphatic or aromatic hydrocarbons, halogen hydrocarbons, esters such as ethyl acetate or butyl acetate, ketones such as acetone or methyl ethyl ketone, ethers such as tetrahydrofuran or dibutyl ether, and mono- and polyalkylene glycol dialkyl ethers. (Diglymes) or a mixture of these solvents.

ハードコートの形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。   Conventionally known coating methods such as a gravure coating method, a reverse coating method, and a die coating method can be used as the method for forming the hard coat.

ハードコート層の表面の水の接触角は、80〜170°の範囲であることが好ましい。好ましくは90〜150°の範囲である。また、ハードコート層の表面の動摩擦係数が0.10〜0.35の範囲であることが好ましい。   The contact angle of water on the surface of the hard coat layer is preferably in the range of 80 to 170 °. Preferably it is the range of 90-150 degrees. Moreover, it is preferable that the dynamic friction coefficient of the surface of a hard-coat layer is the range of 0.10-0.35.

例えば、ハードコート層にフッ素化合物、ケイ素化合物、フッ素又はケイ素を含ませることにより、ハードコート層の表面の水の接触角が80〜170°の範囲とするようにしてもよい。より具体的には、フッ素化合物及び珪素化合物の混合ガス、またフッ素及び珪素を有する化合物を用いた蒸着により、表面エネルギーを低くし、ハードコート層の水の接触角を80〜170°の範囲とすることができる。   For example, the hard coat layer may contain a fluorine compound, a silicon compound, fluorine or silicon so that the contact angle of water on the surface of the hard coat layer is in the range of 80 to 170 °. More specifically, the surface energy is lowered by vapor deposition using a mixed gas of a fluorine compound and a silicon compound, or a compound containing fluorine and silicon, and the water contact angle of the hard coat layer is in the range of 80 to 170 °. can do.

また、ハードコート層は耐傷性を向上するために、動摩擦係数が0.10〜0.35の範囲であることが好ましく、より好ましくは0.15〜0.30の範囲の範囲である。   The hard coat layer preferably has a dynamic friction coefficient in the range of 0.10 to 0.35, more preferably in the range of 0.15 to 0.30, in order to improve the scratch resistance.

メタロキサン骨格を有する材料をハードコート層に用いることで、フィルム表面同士の動摩擦係数を0.10〜0.35の範囲にすることが可能となる。   By using a material having a metalloxane skeleton for the hard coat layer, the dynamic friction coefficient between the film surfaces can be in the range of 0.10 to 0.35.

(9−2)紫外線吸収剤
ハードコート層は、紫外線吸収剤を含有していることも好ましい。
(9-2) Ultraviolet absorber It is also preferable that the hard coat layer contains an ultraviolet absorber.

有機系の紫外線吸収剤としては、前述のアクリル樹脂層で挙げたベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系等が挙げられる。   Examples of the organic ultraviolet absorber include benzophenone-based, benzotriazole-based, phenyl salicylate-based, triazine-based, etc. mentioned in the above-mentioned acrylic resin layer.

また無機系の紫外線吸収剤としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄等の金属酸化物粒子が挙げられる。   Examples of the inorganic ultraviolet absorber include metal oxide particles such as titanium oxide, zinc oxide, cerium oxide, and iron oxide.

特に、ハードコート層は、250〜300nmの範囲に吸収極大波長を有する紫外線吸収剤を含有していることが好ましい。このような紫外線吸収剤を含有しているハードコート層は、中間層との界面の劣化が抑制されて、ハードコート層と中間層の密着力を長期に亘って維持でき、ハードコート層の耐久性を向上させることができる。   In particular, the hard coat layer preferably contains an ultraviolet absorber having an absorption maximum wavelength in the range of 250 to 300 nm. The hard coat layer containing such an ultraviolet absorber suppresses the deterioration of the interface with the intermediate layer, and can maintain the adhesion between the hard coat layer and the intermediate layer over a long period of time. Can be improved.

(9−3)
本発明に係るハードコート層は、耐傷性や滑り性を向上させる観点から微粒子を含有することも好ましい。微粒子としては、特に制限はないが、無機酸化物から構成される無機微粒子であることが好ましく、無機酸化物微粒子としては、金属酸化物を構成する金属が、Li、Na、Mg、Al、Si、K、Ca、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Rb、Sr、Y、Nb、Zr、Mo、Ag、Cd、In、Sn、Sb、Cs、Ba、La、Ta、Hf、W、Ir、Tl、Pb、Bi等を挙げることができ、具体的には、酸化珪素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化インジウム、酸化錫、酸化鉛等が挙げられるが、本発明においては、無機酸化物微粒子が、シリカ、アルミナ、酸化チタン、酸化亜鉛及び酸化ジルコニウムから選ばれる少なくとも1種の透明な無機酸化物微粒子であることが好ましい。また、本発明に用いられる微粒子は、透明性が高いことが好ましい。
(9-3)
The hard coat layer according to the present invention preferably contains fine particles from the viewpoint of improving scratch resistance and slipperiness. The fine particles are not particularly limited, but are preferably inorganic fine particles composed of an inorganic oxide. As the inorganic oxide fine particles, the metal constituting the metal oxide is Li, Na, Mg, Al, Si. , K, Ca, Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Rb, Sr, Y, Nb, Zr, Mo, Ag, Cd, In, Sn, Sb, Cs, Ba La, Ta, Hf, W, Ir, Tl, Pb, Bi, etc., specifically, silicon oxide, titanium oxide, zinc oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, niobium oxide, oxidation Examples include tantalum, magnesium oxide, calcium oxide, strontium oxide, barium oxide, indium oxide, tin oxide, and lead oxide. In the present invention, the inorganic oxide fine particles are silica. Alumina, titanium oxide, is preferably at least one of the transparent inorganic oxide fine particles selected from zinc oxide and zirconium oxide. The fine particles used in the present invention preferably have high transparency.

また、微粒子の平均粒径は、10〜180nmの範囲であることが、表面の二乗平均平方根粗さRqを5〜50nmの範囲に制御することができる観点から好ましく、更に好ましくは、10〜100nmの範囲である。   In addition, the average particle diameter of the fine particles is preferably in the range of 10 to 180 nm from the viewpoint that the root mean square roughness Rq of the surface can be controlled in the range of 5 to 50 nm, and more preferably 10 to 100 nm. Range.

平均粒径が10nm以上であれば、二乗平均平方根粗さRqを5nm以上とすることができ、十分な表面粗さを確保することができる。また、平均粒径が180nm以下であれば、二乗平均平方根粗さRqを50nm以下とすることができ、かつフィルムの透明性を損なうことがない。   If the average particle diameter is 10 nm or more, the root mean square roughness Rq can be 5 nm or more, and sufficient surface roughness can be ensured. Moreover, if an average particle diameter is 180 nm or less, the root mean square roughness Rq can be 50 nm or less, and the transparency of a film is not impaired.

また、本発明に係るハードコート層においては、上記メタロキサン骨格を有するバインダーを100質量%としたときの微粒子の割合としては、30〜90質量%の範囲であることが好ましい。   Moreover, in the hard-coat layer which concerns on this invention, it is preferable that it is the range of 30-90 mass% as a ratio of microparticles when the binder which has the said metalloxane skeleton is 100 mass%.

(9−4)ハードコート層の形成
上記した樹脂材料を、樹脂基材上に設けた中間層上に塗工し、加熱硬化させることで、脱水縮合反応が促進し、硬化・架橋することでハードコート層が製膜される。
(9-4) Formation of hard coat layer By applying the above-mentioned resin material on the intermediate layer provided on the resin base material and curing it by heating, the dehydration condensation reaction is promoted and cured / crosslinked. A hard coat layer is formed.

このハードコート層となる塗膜の形成方法として、ワイヤーバーによるコーティング、スピンコーティング、ディップコーティングなどによる塗布・塗工方式で形成することができる。また、ダイコーター、グラビアコーター、コンマコーターなどの連続塗布装置でも製膜することが可能である。   As a method of forming a coating film to be the hard coat layer, it can be formed by a coating method using a wire bar coating, spin coating, dip coating, or the like. The film can also be formed by a continuous coating apparatus such as a die coater, a gravure coater, or a comma coater.

〔10〕ガスバリアー層
本発明のフィルムミラーでは、必要であればガスバリアー層を形成することが好ましく、図1(b)の層11としてフィルムミラーの構成内に形成することが好ましい。
[10] Gas Barrier Layer In the film mirror of the present invention, a gas barrier layer is preferably formed if necessary, and is preferably formed as the layer 11 in FIG.

ガスバリアー層は、銀反射層よりも光入射側に設けることが好ましい。   The gas barrier layer is preferably provided on the light incident side of the silver reflective layer.

ガスバリアー層は、湿度の変動、特に高湿度による樹脂基材及び樹脂基材に支持される各構成層等の劣化を防止するためのものであるが、特別の機能・用途を持たせたものであってもよく、劣化防止機能を有する限りにおいて、種々の態様のガスバリアー層を設けることができる。   The gas barrier layer is intended to prevent the deterioration of humidity, especially the deterioration of the resin base material and each component layer supported by the resin base material due to high humidity, but with special functions and applications. As long as it has a function of preventing deterioration, a gas barrier layer of various modes can be provided.

ガスバリアー層の防湿性としては、40℃、90%RHにおける水蒸気透過度が、1g/m・day以下であることが好ましく、より好ましくは0.5g/m・day以下、更に好ましくは0.2g/m・day以下である。 As the moisture resistance of the gas barrier layer, the water vapor permeability at 40 ° C. and 90% RH is preferably 1 g / m 2 · day or less, more preferably 0.5 g / m 2 · day or less, still more preferably It is 0.2 g / m 2 · day or less.

また、ガスバリアー層の酸素透過度としては、測定温度23℃、湿度90%RHの条件下で、0.6ml/m/day/atm以下であることが好ましい。 In addition, the oxygen permeability of the gas barrier layer is preferably 0.6 ml / m 2 / day / atm or less under the conditions of a measurement temperature of 23 ° C. and a humidity of 90% RH.

ガスバリアー層の形成方法は、真空蒸着法、スパッタリング、イオンビームアシスト、化学気相成長法等の方法により無機酸化物又は無機窒化物を形成する方法が挙げられるが、ゾル−ゲル法による無機酸化物の前駆体(ポリシラザン等)を塗布した後に、その塗布膜に加熱処理及び/又は紫外線照射処理を施して、無機酸化物膜を形成する方法が好ましく用いられる。   Examples of the method for forming the gas barrier layer include a method of forming an inorganic oxide or an inorganic nitride by a method such as vacuum deposition, sputtering, ion beam assist, chemical vapor deposition, etc., but inorganic oxidation by a sol-gel method. A method of forming an inorganic oxide film by applying a heat treatment and / or ultraviolet irradiation treatment to the coating film after applying a precursor of the product (polysilazane or the like) is preferably used.

無機酸化物の前駆体、及びゾル−ゲル法の詳細については、特開2012−047861号公報段落(0049)〜(0072)に、無機酸化物の前駆体、及びゾル−ゲル法について、また段落(0073)〜(0085)にはポリシラザン法について記載されている方法を採用することが好ましい。   Regarding the details of the precursor of the inorganic oxide and the sol-gel method, paragraphs (0049) to (0072) of JP2012-047661A, the precursor of the inorganic oxide and the sol-gel method, and paragraph For (0073) to (0085), it is preferable to employ the method described for the polysilazane method.

〔11〕粘着層
粘着層は、フィルムミラーを金属基材に接着し、固定するための構成層である。
[11] Adhesive layer The adhesive layer is a constituent layer for adhering and fixing the film mirror to the metal substrate.

この粘着層としては、フィルムミラーを金属基材に接着することができるものであれば特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などを用いることができる。また、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴムなどを用いてもよい。   The adhesive layer is not particularly limited as long as it can adhere a film mirror to a metal substrate. For example, a dry laminating agent, a wet laminating agent, an adhesive, a heat sealing agent, a hot melt agent, or the like is used. Can do. Further, a polyester resin, a urethane resin, a polyvinyl acetate resin, an acrylic resin, a nitrile rubber, or the like may be used.

樹脂基材の裏面に粘着層を設けるラミネート方法は特に制限されず、例えばロール式で連続的に行う方法が経済性及び生産性の点から好ましい。   The laminating method for providing the adhesive layer on the back surface of the resin substrate is not particularly limited, and for example, a roll-type continuous method is preferable from the viewpoint of economy and productivity.

粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常1〜50μm程度の範囲であることが好ましい。   The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is usually preferably in the range of about 1 to 50 μm from the viewpoints of the pressure-sensitive adhesive effect, the drying speed, and the like.

粘着層に用いる具体的な材料としては、例えば、綜研化学社製「SKダインシリーズ」、東洋インキ社製Oribain BPWシリーズ、BPSシリーズ、荒川化学社製「アルコン」「スーパーエステル」「ハイペール」等の粘着剤を好適に用いることができる。   Specific materials used for the adhesive layer include, for example, “SK Dyne Series” manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., “Oribain BPW Series”, “BPS Series” manufactured by Toyo Ink Co., Ltd. An adhesive can be suitably used.

なお、フィルムミラーを金属基材に接着するまで、粘着層は剥離シートで覆われており、粘着層の粘着力を保つようになっている。   Note that the adhesive layer is covered with the release sheet until the film mirror is bonded to the metal substrate, so that the adhesive force of the adhesive layer is maintained.

粘着層には前述の腐食防止剤である、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、ベンゾトリアゾール等トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、メルカプト基を有する化合物、チオ尿素類、ナフタレン系の少なくとも一種又はこれらの混合物を含有させることも好ましい。   In the adhesive layer, the aforementioned corrosion inhibitors, amines and derivatives thereof, compounds having a pyrrole ring, compounds having a triazole ring such as benzotriazole, compounds having a pyrazole ring, compounds having a thiazole ring, compounds having an imidazole ring It is also preferable to contain a compound having an indazole ring, a copper chelate compound, a compound having a mercapto group, a thiourea, a naphthalene-based compound, or a mixture thereof.

〔12〕剥離層
本発明のフィルムミラーは、粘着層の光入射側と逆側に剥離層を有していてもよい。例えば、フィルムミラーの出荷時には剥離層が粘着層に張り付いた状態で出荷し、剥離層から粘着層を有するフィルムミラーを剥離し、他の基材に貼り合わせて太陽光反射用ミラーを形成することができる。
[12] Release layer The film mirror of the present invention may have a release layer on the side opposite to the light incident side of the adhesive layer. For example, when a film mirror is shipped, it is shipped with the release layer attached to the adhesive layer, the film mirror having the adhesive layer is peeled off from the release layer, and is bonded to another substrate to form a solar reflective mirror. be able to.

剥離層としては、銀反射層層の保護性を付与できるものであればよく、例えば、アクリルフィルム又はシート、ポリカーボネートフィルム又はシート、ポリアリレートフィルム又はシート、ポリエチレンナフタレートフィルム又はシート、ポリエチレンテレフタレートフィルム又はシート、フッ素フィルムなどのプラスチックフィルム又はシート、又は酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルム又はシート、これらを練り込んだ樹脂をコーティングしたりアルミニウム等の金属を金属蒸着などの表面加工を施した樹脂フィルム又はシートが用いられる。   The release layer may be any layer that can impart protection to the silver reflective layer, for example, an acrylic film or sheet, a polycarbonate film or sheet, a polyarylate film or sheet, a polyethylene naphthalate film or sheet, a polyethylene terephthalate film or Plastic film or sheet such as sheet, fluorine film, or resin film or sheet kneaded with titanium oxide, silica, aluminum powder, copper powder, etc., coating the resin kneaded with these, metal deposition such as aluminum, etc. A resin film or sheet subjected to the above surface treatment is used.

剥離層の厚さは、特に制限はないが通常12〜250μmの範囲であることが好ましい。   Although there is no restriction | limiting in particular in the thickness of a peeling layer, It is preferable that it is the range of 12-250 micrometers normally.

また、これらの剥離層をフィルムミラーと貼り合わせる前に凹部や凸部を設けてから貼り合せてもよく、貼り合せた後で凹部や凸部を有するように成形してもよく、貼り合わせと凹部や凸部を有するように成形することを同時にしてもよい。   In addition, it may be bonded after providing a recess or projection before bonding these release layers to the film mirror, or may be molded to have a recess or projection after bonding, You may simultaneously shape | mold so that it may have a recessed part and a convex part.

〔13〕太陽熱発電用反射装置
太陽熱発電用反射装置は、フィルムミラーと自己支持性の支持基材とを有しており、粘着層を介してフィルムミラーが支持基材に接合されてなる反射鏡である。
[13] Reflector for solar power generation A reflective device for solar power generation includes a film mirror and a self-supporting support base material, and the reflector is formed by bonding the film mirror to the support base material via an adhesive layer. It is.

なお、ここでいう「自己支持性」とは、太陽熱発電用反射装置の支持基材として用いられる大きさに断裁された状態で、支持基材がフィルムミラーの端縁部分を支持することで、フィルムミラーを担持することが可能な程度の剛性を有することを表す。太陽熱発電用反射装置の支持基材が自己支持性を有することで、太陽熱発電用反射装置を設置する際に取り扱い性に優れるとともに、太陽熱発電用反射装置を保持するための保持部材を簡素な構成とすることが可能となるため、反射装置自体を軽量化することが可能となり、太陽追尾の際の消費電力を抑制することが可能となる。   In addition, the "self-supporting property" referred to here is a state in which the supporting base material supports the edge portion of the film mirror in a state of being cut to a size used as a supporting base material for the solar power generation reflection device, This means that the film mirror has rigidity enough to support the film mirror. The support base material of the solar power generation reflecting device has self-supporting properties, so that it is easy to handle when installing the solar power generation reflecting device, and the holding member for holding the solar power generation reflecting device has a simple configuration. Therefore, it is possible to reduce the weight of the reflection device itself, and it is possible to suppress power consumption during solar tracking.

太陽熱発電用反射装置Rは、例えば、図2に示すように、フィルムミラーFと、支持部材としての金属基材1とから構成されている。具体的には、フィルムミラーFの粘着層2を金属基材1に接着させて、太陽熱発電用反射装置Rが形成されている。   For example, as shown in FIG. 2, the solar power generation reflection device R includes a film mirror F and a metal substrate 1 as a support member. Specifically, the reflective layer R for solar power generation is formed by bonding the adhesive layer 2 of the film mirror F to the metal substrate 1.

(13−1)金属基材
金属基材は、貼付されたフィルムミラーを支持し、フィルムミラーの反射面を好適に維持するための支持部材である。
(13-1) Metal base material A metal base material is a support member for supporting the stuck film mirror and maintaining the reflective surface of a film mirror suitably.

太陽熱発電用反射装置の金属基材としては、例えば、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板などの金属材料を用いることができる。本発明においては、特に耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などを用いることが好ましい。   As a metal substrate of the solar power generation reflector, for example, a metal material such as a steel plate, a copper plate, an aluminum plate, an aluminum-plated steel plate, an aluminum-based alloy-plated steel plate, a copper-plated steel plate, a tin-plated steel plate, a chrome-plated steel plate, or a stainless steel plate. Can be used. In the present invention, it is particularly preferable to use a plated steel plate, a stainless steel plate, an aluminum plate, or the like having good corrosion resistance.

これらの金属基材の厚みは、取扱性、熱伝導性、熱容量等の観点から、0.05mm〜3mm程度が好ましい。   The thickness of these metal substrates is preferably about 0.05 mm to 3 mm from the viewpoints of handleability, thermal conductivity, heat capacity, and the like.

(13−2)保持部材
太陽熱発電用反射装置は、太陽光反射用ミラーを保持する保持部材を有する。保持部材は、太陽光反射用のフィルムミラーを太陽を追尾可能な状態で保持することが好ましい。保持部材の形態としては、特に制限はないが、例えば、太陽光反射用のフィルムミラーが所望の形状を保持できるように、複数個所を棒状の保持部材により、保持する形態が好ましい。保持部材は太陽を追尾可能な状態で太陽光反射用ミラーを保持する構成を有するが、太陽追尾に際しては、手動で駆動させてもよいし、別途駆動装置を設けて自動的に太陽を追尾する構成としてもよい。
(13-2) Holding member The solar power generation reflective device includes a holding member that holds a solar reflective mirror. The holding member preferably holds the film mirror for reflecting sunlight in a state where the sun can be tracked. Although there is no restriction | limiting in particular as a form of a holding member, For example, the form which hold | maintains several places with a rod-shaped holding member is preferable so that the film mirror for sunlight reflection can hold | maintain a desired shape. The holding member has a configuration for holding the sunlight reflecting mirror in a state in which the sun can be tracked. However, when the sun is tracked, it may be driven manually, or a separate driving device is provided to automatically track the sun. It is good also as a structure.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量%」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "part" or "%" is used in an Example, unless otherwise indicated, "part by mass" or "mass%" is represented.

[フィルムミラーの作製方法]
以下の手法により、銀反射層の腐食(変色)、耐光性及び密着性を検証するための、本発明及び比較例のフィルムミラーを作製した。
[Production method of film mirror]
The film mirrors of the present invention and comparative examples for verifying corrosion (discoloration), light resistance and adhesion of the silver reflective layer were prepared by the following method.

[フィルムミラー1;比較例]
樹脂基材3として、二軸延伸ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ25μm)を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル樹脂(ポリエスター SP−181 日本合成化学製)、メラミン樹脂(スーパーベッカミンJ−820 DIC製)、TDI系イソシアネート(2,4−トリレンジイソシアネート)、HDMI系イソシアネート(1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート)を樹脂固形分比率で20:1:1:2に、固形分濃度10質量%となるようにトルエン中に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ0.1μmのアンカー層4を形成し、アンカー層4上に、銀反射層5として、真空蒸着法により厚さ100nmの銀反射層を形成した。更に、上記銀反射層5上に、ポリエステル系樹脂とTDI(トリレンジイソシアネート)系イソシアネートを樹脂固形分比率で10:2に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ3.0μmの樹脂コート層6を形成した。
[Film Mirror 1; Comparative Example]
A biaxially stretched polyester film (polyethylene terephthalate film, thickness 25 μm) was used as the resin substrate 3. On one side of the polyethylene terephthalate film, a polyester resin (Polyester SP-181, manufactured by Nippon Synthetic Chemical), a melamine resin (manufactured by Super Becamine J-820 DIC), a TDI-based isocyanate (2,4-tolylene diisocyanate), and an HDMI system A resin mixed with isocyanate (1,6-hexamethylene diisocyanate) in a resin solid content ratio of 20: 1: 1: 2 in toluene to a solid content concentration of 10% by mass was coated by a gravure coating method. Then, an anchor layer 4 having a thickness of 0.1 μm was formed, and a silver reflective layer having a thickness of 100 nm was formed on the anchor layer 4 as a silver reflective layer 5 by a vacuum deposition method. Further, a resin in which a polyester resin and a TDI (tolylene diisocyanate) isocyanate are mixed at a resin solid content ratio of 10: 2 is coated on the silver reflective layer 5 by a gravure coating method to obtain a thickness of 3.0 μm. The resin coat layer 6 was formed.

次に、樹脂コート層6上に、ドライラミネーションプロセスにより、接着層7と、アクリル樹脂層8として紫外線吸収剤を含有したアクリルフィルム、スミペックス テクノロイ S001G 75μm(住友化学株式会社製)を、ラミネート温度60℃にて貼合した。   Next, on the resin coat layer 6, an adhesive layer 7, an acrylic film containing an ultraviolet absorber as the acrylic resin layer 8, Sumipex Technoloy S001G 75 μm (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) is laminated at a lamination temperature of 60 by a dry lamination process. Bonding was performed at ° C.

前記アクリル樹脂層のドライラミネーションプロセスの前に、アクリル樹脂層8上に、PVA−403(クラレ株式会社製)を水に5質量%溶解した中間層塗工液を塗布し、80℃で2分乾燥して中間層9を形成した。中間層8の乾燥膜厚は0.5μmであった。   Prior to the dry lamination process of the acrylic resin layer, an intermediate layer coating solution in which 5% by mass of PVA-403 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) was dissolved in water was applied on the acrylic resin layer 8 at 80 ° C. for 2 minutes. The intermediate layer 9 was formed by drying. The dry film thickness of the intermediate layer 8 was 0.5 μm.

上記中間層9の上に、ジブチルエーテル中の3%パーヒドロポリシラザン液(AZエレクトリックマテリアル社製 NL120)を用いて、乾燥後の厚さが500nmとなるようにバーコーティングし、3分間自然乾燥した後、90℃のオーブンで30分間アニールし、ハードコート層10を形成した。   On the intermediate layer 9, using a 3% perhydropolysilazane liquid (NL120 manufactured by AZ Electric Materials Co.) in dibutyl ether, bar coating was performed so that the thickness after drying was 500 nm, followed by natural drying for 3 minutes. Thereafter, the hard coat layer 10 was formed by annealing in an oven at 90 ° C. for 30 minutes.

次いで重量平均分子量50万の付加反応型シリコーン系粘着剤100部に白金系触媒1部を加えて35質量%トルエン溶液としたものを、剥離層12である厚さ25μmのポリエステル製セパレートフィルムの片面に塗布し、130℃で5分間加熱して厚さ25μmのシリコーン系粘着層2(Si系)を形成した後、上記ポリエチレンテレフタレートフィルムのアンカー層及び銀反射層とは反対面側にラミネートし、比較例1のフィルムミラーを得た。   Next, one side of a 25 μm thick polyester separate film as a release layer 12 was prepared by adding 1 part of a platinum catalyst to 100 parts of an addition reaction type silicone pressure-sensitive adhesive having a weight average molecular weight of 500,000 to form a 35 mass% toluene solution. After coating at 130 ° C. for 5 minutes to form a silicone adhesive layer 2 (Si system) having a thickness of 25 μm, it is laminated on the side opposite to the anchor layer and the silver reflective layer of the polyethylene terephthalate film, A film mirror of Comparative Example 1 was obtained.

[フィルムミラー2〜5;比較例]
フィルムミラー1の作製において、アンカー層4及び樹脂コート層6に、表1に記載の化合物を記載の量で含有させた以外は同様にして、比較例のフィルムミラー2〜5を作製した。
[Film mirrors 2 to 5; comparative example]
In the production of the film mirror 1, comparative film mirrors 2 to 5 were produced in the same manner except that the compounds shown in Table 1 were contained in the anchor layer 4 and the resin coat layer 6 in the amounts described.

用いた化合物と表中の略記は以下のとおりである。
T−234 :チヌビン234、BASFジャパン(株)製
T−1557:チヌビン1577、BASFジャパン(株)製

Figure 2014214986
TMPT :トリメチロールプロパントリス(β−チオプロピオネート) The compounds used and the abbreviations in the table are as follows.
T-234: Tinuvin 234, manufactured by BASF Japan K.K. T-1557: Tinuvin 1577, manufactured by BASF Japan K.K.
Figure 2014214986
TMPT: trimethylolpropane tris (β-thiopropionate)

[フィルムミラー6〜13;本発明]
フィルムミラー1の作製において、アンカー層4及び樹脂コート層6に、表1に記載の化合物を記載の量で含有させた以外は同様にして、本発明のフィルムミラー6〜13を作製した。
[Film mirrors 6 to 13; the present invention]
In the production of the film mirror 1, the film mirrors 6 to 13 of the present invention were produced in the same manner except that the compounds described in Table 1 were contained in the anchor layer 4 and the resin coat layer 6 in the amounts described.

用いた化合物の構造と表中の略記は以下のとおりである。   The structure of the compound used and the abbreviations in the table are as follows.

TS−1:1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリチオール
TS−2:6−ジブチルアミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジチオール
TS−3:6−アニリノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジチオール
TS―4:下記化合物

Figure 2014214986
≪フィルムミラーの評価≫
上記のように作製したフィルムミラー1〜13について、下記の方法に従って、銀反射層の腐食耐性、紫外線照射後の反射率と、銀反射層と樹脂コート層間、又は銀反射層とアンカー層間での密着性について評価した。 TS-1: 1,3,5-triazine-2,4,6-trithiol TS-2: 6-dibutylamino-1,3,5-triazine-2,4-dithiol TS-3: 6-anilino-1 , 3,5-Triazine-2,4-dithiol TS-4:
Figure 2014214986
≪Evaluation of film mirror≫
About the film mirrors 1-13 produced as described above, according to the following method, the corrosion resistance of the silver reflective layer, the reflectance after ultraviolet irradiation, and between the silver reflective layer and the resin coat layer, or between the silver reflective layer and the anchor layer The adhesion was evaluated.

<銀の腐食耐性>
作製したフィルムミラーをはさみで5cm□に切断した後、密閉のバイアル管に、硫黄粉末と一緒に入れて、110℃オーブンで加熱し、銀反射面の損傷(腐食)を目視で確認した。黒色に変化した面積の割合を測定した。黒色の面積が小さいほど良好な腐食耐性を持つ。
<Silver corrosion resistance>
The produced film mirror was cut into 5 cm □ with scissors, put in a sealed vial tube together with sulfur powder, and heated in a 110 ° C. oven to visually confirm damage (corrosion) of the silver reflecting surface. The ratio of the area changed to black was measured. The smaller the black area, the better the corrosion resistance.

下記の基準に従って、面積の割合を1〜5の5段階で評価した。数字が大きいほど優れており、評価3以上が実用上可である。   According to the following criteria, the ratio of the area was evaluated in five stages of 1 to 5. The larger the number, the better, and a rating of 3 or higher is practical.

5:黒色変色部面積割合が5%未満
4:黒色変色部面積割合が5%以上10%未満
3:黒色変色部面積割合が10%以上15%未満
2:黒色変色部面積割合が15%以上20%未満
1:黒色変色部面積割合が20%以上
<耐光性>
上記作製したフィルムミラーの太陽光入射面側に対し、23℃・55%RHの環境下でキセノンランプ照射(スガ試験機SX75を使用、放射強度180W/m×1000時間)を行った。
5: Black discolored area area ratio is less than 5% 4: Black discolored area area ratio is 5% or more and less than 10% 3: Black discolored area area ratio is 10% or more and less than 15% 2: Black discolored area area ratio is 15% or more Less than 20% 1: Black discoloration area ratio is 20% or more <Light resistance>
Xenon lamp irradiation (using Suga Test Machine SX75, radiation intensity 180 W / m 2 × 1000 hours) was performed on the sunlight incident surface side of the produced film mirror in an environment of 23 ° C. and 55% RH.

このキセノンランプ照射後に下記の方法で5度正反射率を測定した。   After the xenon lamp irradiation, the regular reflectance was measured at 5 degrees by the following method.

日立ハイテクノロジーズ社製の分光光度計U−4100(固体試料測定システム)を使って、入射角5度の基準サンプルに対する相対反射率測定を行なった。波長範囲は250〜2500nmで測定し、部分的に反射率が落ちる波長範囲が無いかどうかを確認した。可視光領域(400〜800nm)における反射率を平均し、これを5度正反射率とした。   Using a spectrophotometer U-4100 (solid sample measurement system) manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation, a relative reflectance measurement with respect to a reference sample having an incident angle of 5 degrees was performed. The wavelength range was measured at 250 to 2500 nm, and it was confirmed whether there was any wavelength range in which the reflectance dropped partially. The reflectance in the visible light region (400 to 800 nm) was averaged, and this was defined as a regular reflectance of 5 degrees.

上記耐光試験前のフィルムミラーの5度正反射率を測定し、変動幅が少ないほど耐光性に優れていることを表す。   The 5-degree regular reflectance of the film mirror before the light resistance test was measured, and the smaller the fluctuation range, the better the light resistance.

下記の基準に従って、反射率の変動を1〜5の5段階で評価した。数字が大きいほど優れており、評価3以上が実用上可である。   According to the following criteria, the change in reflectance was evaluated in five stages of 1 to 5. The larger the number, the better, and a rating of 3 or higher is practical.

5:反射率の変動幅が3%未満。
4:反射率の変動幅が3%以上5%未満
3:反射率の変動幅が5%以上8%未満
2:反射率の変動幅が8%以上10%未満
1:反射率の変動幅が10%以上
<密着性>
上記作製したフィルムミラーにメタルハライドランプにて500時間照射後、60℃・90%RHの環境下に、200hr保存後に、クロスカットテープ剥離法を用いて、銀反射層と他の構成層との密着性を評価した。
5: The fluctuation range of the reflectance is less than 3%.
4: Reflectance fluctuation range of 3% to less than 5% 3: Reflectance fluctuation range of 5% to less than 8% 2: Reflectance fluctuation range of 8% to less than 10% 1: Reflectance fluctuation range 10% or more <Adhesion>
The film mirror produced above is irradiated with a metal halide lamp for 500 hours, stored in an environment of 60 ° C. and 90% RH for 200 hours, and then adhered to the silver reflective layer and other constituent layers using a cross-cut tape peeling method. Sex was evaluated.

膜の密着性測定する方法は、JIS K 5600に準拠し、試料にカッターでクロス状に傷をつけ、100マスの切り目を入れる。セロハンテープを切れ目部分に貼り付けた後、45°方向に引っ張り、銀反射層に隣接する層が剥がれていないマス数を計測した。密着性は以下の基準で、1〜5の5段階で評価した。数字が大きいほど優れており、評価3以上が実用上可である。   The method for measuring the adhesion of the film is based on JIS K 5600, in which the sample is scratched in a cross shape with a cutter, and a 100 square cut is made. After applying the cellophane tape to the cut portion, it was pulled in the 45 ° direction, and the number of squares where the layer adjacent to the silver reflective layer was not peeled was measured. Adhesion was evaluated according to the following criteria in five stages of 1 to 5. The larger the number, the better, and a rating of 3 or higher is practical.

5:剥がれていないマス数が95以上
4:剥がれていないマス数が85以上95未満
3:剥がれていないマス数が75以上85未満
2:剥がれていないマス数が65以上75未満
1:剥がれていないマス数が65未満
作製したフィルムミラー1〜13の構成及び上記評価結果を表1に示す。
5: The number of cells not peeled is 95 or more 4: The number of cells not peeled is 85 or more and less than 95 3: The number of cells not peeled is 75 or more and less than 85 2: The number of cells not peeled is 65 or more and less than 75 1: Table 1 shows the configuration of the film mirrors 1 to 13 and the evaluation results.

Figure 2014214986
表1から、本発明に係るトリアジンチオール類を、銀反射層に隣接するアンカー層、又は樹脂コート層、若しくはその両層に添加したフィルムミラー6〜13は、腐食耐性、耐光性、及び密着性が、比較例に対して優れていることが明らかである。
Figure 2014214986
From Table 1, the film mirrors 6 to 13 in which the triazine thiols according to the present invention are added to the anchor layer adjacent to the silver reflecting layer, the resin coating layer, or both of them are corrosion resistant, light resistant, and adhesive. However, it is clear that it is superior to the comparative example.

したがって、本発明の太陽熱発電用フィルムミラーを用いれば、砂漠のような紫外線照射量が非常に多い環境でも、銀反射層の腐食や変色に伴う反射率の低下、銀反射層と他の構成層間での剥がれという、本発明の課題を解決可能な太陽熱発電用反射装置を提供することができる。   Therefore, if the film mirror for solar power generation according to the present invention is used, even in an environment where the amount of ultraviolet irradiation is very large such as a desert, the reflectance of the silver reflecting layer decreases due to corrosion or discoloration, and the silver reflecting layer and other constituent layers It is possible to provide a solar power generation reflecting device capable of solving the problem of the present invention, i.e., peeling-off.

F 太陽熱発電用フィルムミラー
1 金属基材
2 粘着層
3 樹脂基材
4 アンカー層
5 金属反射層
6 樹脂コート層
7 接着層
8 アクリル樹脂層(紫外線球種層)
9 中間層
10 ハードコート層
11 ガスバリアー層
12 剥離層
R 太陽熱発電用反射装置
F Film mirror for solar power generation 1 Metal base material 2 Adhesive layer 3 Resin base material 4 Anchor layer 5 Metal reflective layer 6 Resin coat layer 7 Adhesive layer 8 Acrylic resin layer (ultraviolet spherical layer)
9 Intermediate layer 10 Hard coat layer 11 Gas barrier layer 12 Release layer R Reflector for solar power generation

Claims (5)

樹脂基材上に金属反射層が設けられた太陽熱発電用ミラーであって、当該金属反射層に隣接する層の少なくとも一層が、下記一般式(1)で表されるトリアジンチオール類を含有することを特徴とする太陽熱発電用ミラー。
Figure 2014214986
(式中、R、R及びRは各々水素原子又は置換基を表し、R、R及びRで表される置換基のいずれか一つはチオール基又はチオール基を有する置換基を表す。)
A mirror for solar power generation in which a metal reflective layer is provided on a resin base material, wherein at least one layer adjacent to the metal reflective layer contains a triazine thiol represented by the following general formula (1) Mirror for solar thermal power generation.
Figure 2014214986
(Wherein R 1 , R 2 and R 3 each represent a hydrogen atom or a substituent, and any one of the substituents represented by R 1 , R 2 and R 3 has a thiol group or a thiol group) Represents a group.)
前記R、R及びRで表される置換基のいずれか一つが、チオール基であることを特徴とする請求項1に記載の太陽熱発電用ミラー。 2. The solar power generation mirror according to claim 1 , wherein any one of the substituents represented by R 1 , R 2, and R 3 is a thiol group. 前記R、R及びRで表される置換基の二つ以上が、チオール基であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の太陽熱発電用ミラー。 The solar power generation mirror according to claim 1 , wherein two or more of the substituents represented by R 1 , R 2, and R 3 are thiol groups. 前記太陽熱発電用ミラーがハードコート層を有し、当該ハードコート層がメタロキサン骨格を有するポリマー由来の無機酸化物又は無機窒化物を含有することを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の太陽熱発電用ミラー。   4. The solar power generation mirror has a hard coat layer, and the hard coat layer contains an inorganic oxide or inorganic nitride derived from a polymer having a metalloxane skeleton. The solar power generation mirror according to claim 1. 請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載の太陽熱発電用ミラーが、粘着層を介して支持基材に貼合され、具備されていることを特徴とする太陽熱発電用反射装置。   The solar power generation reflecting device, wherein the solar power generation mirror according to any one of claims 1 to 4 is bonded to a support base material via an adhesive layer.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018198722A1 (en) * 2017-04-25 2018-11-01 コニカミノルタ株式会社 Ink, method for forming image, image-formed object
CN113306250A (en) * 2020-02-10 2021-08-27 南京工业大学 Passive orientation-independent cold and hot double-effect material
WO2023135972A1 (en) * 2022-01-13 2023-07-20 パナソニックホールディングス株式会社 Multilayer structure, package component and optical semiconductor device

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018198722A1 (en) * 2017-04-25 2018-11-01 コニカミノルタ株式会社 Ink, method for forming image, image-formed object
JPWO2018198722A1 (en) * 2017-04-25 2020-05-14 コニカミノルタ株式会社 Ink, image forming method and image formed product
CN113306250A (en) * 2020-02-10 2021-08-27 南京工业大学 Passive orientation-independent cold and hot double-effect material
CN113306250B (en) * 2020-02-10 2022-04-08 南京工业大学 Passive orientation-independent cold and hot double-effect material
WO2023135972A1 (en) * 2022-01-13 2023-07-20 パナソニックホールディングス株式会社 Multilayer structure, package component and optical semiconductor device

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