JP2016118632A - Method for manufacturing optical control film - Google Patents

Method for manufacturing optical control film Download PDF

Info

Publication number
JP2016118632A
JP2016118632A JP2014257633A JP2014257633A JP2016118632A JP 2016118632 A JP2016118632 A JP 2016118632A JP 2014257633 A JP2014257633 A JP 2014257633A JP 2014257633 A JP2014257633 A JP 2014257633A JP 2016118632 A JP2016118632 A JP 2016118632A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
refractive index
index layer
layer
optical control
coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2014257633A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
洋一 斎藤
Yoichi Saito
洋一 斎藤
晃純 木村
Akiyoshi Kimura
晃純 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP2014257633A priority Critical patent/JP2016118632A/en
Publication of JP2016118632A publication Critical patent/JP2016118632A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Optical Filters (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing an optical control film capable of improving durability.SOLUTION: A method for manufacturing an optical control film containing at least one unit in which high refractive index layers and low refractive index layers are alternately laminated on a substrate includes forming a high refractive index layer (A) or a low refractive index layer (A') which is closest to the substrate using a coating liquid containing a resin, metal oxide particles and a hydrophilic organic solvent having a concentration of 0.1-8 mass%.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、光学制御フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing an optical control film.

近年、省エネルギー対策の一環として、冷房設備にかかる負荷を減らす観点から、建物や車両の窓ガラスに装着させて、太陽光の熱線の透過を遮蔽する近赤外遮蔽フィルムへの要望が高まってきている。   In recent years, as part of energy conservation measures, from the viewpoint of reducing the load on cooling equipment, there has been an increasing demand for a near-infrared shielding film that can be attached to a window glass of a building or vehicle to shield the transmission of solar heat rays. Yes.

近赤外遮蔽フィルムの形成方法としては、主には、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層させた構成からなる積層体ユニットを、蒸着法、スパッタ法などのドライ製膜法を用いて形成する方法が提案されている。しかし、ドライ製膜法は、形成に用いる真空装置等が大型になり、製造コストが高くなり、大面積化も困難であり、かつ適用可能な基材としては耐熱性素材に限定される等の課題を抱えている。   As a method for forming a near-infrared shielding film, a laminate unit composed of a structure in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are alternately laminated is used as a dry film forming method such as a vapor deposition method or a sputtering method. There has been proposed a method of forming the film by using. However, in the dry film forming method, the vacuum apparatus used for the formation becomes large, the manufacturing cost increases, the enlargement of the area is difficult, and the applicable base material is limited to a heat resistant material. I have a problem.

近年、上記のような課題を有しているドライ製膜法に代えて、湿式塗布法を用いて近赤外遮蔽フィルムを形成する方法の検討が盛んになされている。   In recent years, in place of the dry film forming method having the above-mentioned problems, a method for forming a near infrared shielding film using a wet coating method has been actively studied.

当該湿式塗布法の技術として、例えば、特許文献1には、酸化チタン粒子が含ケイ素の水和酸化物で被覆された金属酸化物粒子、水溶性高分子および水または水と少量の有機溶媒との混合溶媒を混合して、高屈折率層塗布液及び低屈折率層塗布液を調製し、これらの塗布液を同時重層塗布し、乾燥して、高屈折率層、および低屈折率層を含む近赤外遮蔽フィルムを形成する方法が開示されている。   As a technique of the wet coating method, for example, Patent Document 1 discloses metal oxide particles in which titanium oxide particles are coated with a silicon-containing hydrated oxide, water-soluble polymer and water or water and a small amount of an organic solvent. Are mixed to prepare a high refractive index layer coating liquid and a low refractive index layer coating liquid, and these coating liquids are simultaneously coated and dried to form a high refractive index layer and a low refractive index layer. A method of forming a near infrared shielding film is disclosed.

国際公開第2013/054912号International Publication No. 2013/054912

上記特許文献1に開示されている製造方法により得られる赤外遮蔽フィルムは、高い可視光透過性及び赤外反射性を示し、また、優れた耐久性に優れる。しかしながら、近年の温暖化による冷房設備にかかる負荷の増大や光熱費の高騰などを鑑みると、耐久性のさらなる向上が求められている。また、赤外遮蔽フィルムの高い可視光透過性や赤外反射性のさらなる向上も求められている。   The infrared shielding film obtained by the manufacturing method disclosed in Patent Document 1 exhibits high visible light transmittance and infrared reflectivity, and is excellent in excellent durability. However, in view of an increase in load on cooling facilities due to recent warming and a rise in utility costs, further improvements in durability are required. Moreover, the further improvement of the high visible-light transmittance and infrared reflectivity of an infrared shielding film is also calculated | required.

したがって、本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであり、耐久性を向上できる光学制御フィルムの製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, this invention is made | formed in view of the said situation, and it aims at providing the manufacturing method of the optical control film which can improve durability.

本発明の他の目的は、可視光透過性および赤外反射性を向上できる光学制御フィルムの製造方法を提供することを目的とする。   Another object of the present invention is to provide a method for producing an optical control film capable of improving visible light transmittance and infrared reflectivity.

本発明者らは、上記の問題を解決すべく、鋭意研究を行った結果、光学反射層を構成する高屈折率層及び低屈折率層のうち、基材に最も近い(最下層の)屈折率層を特定濃度の親水性有機溶剤を含む塗布液を用いて形成することによって、上記課題を解決できることを知得し、本発明を完成させた。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the refractive index closest to the base material (the lowermost layer) among the high refractive index layer and the low refractive index layer constituting the optical reflective layer. It has been found that the above problem can be solved by forming the rate layer using a coating solution containing a hydrophilic organic solvent having a specific concentration, and the present invention has been completed.

すなわち、上記諸目的は、基材上に高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層したユニットを少なくとも1つ含む光学制御フィルムの製造方法であって、前記基材に最も近い高屈折率層(A)または低屈折率層(A’)を、樹脂、金属酸化物粒子および0.1〜8質量%濃度の親水性有機溶剤を含む塗布液を用いて形成することを有する、光学制御フィルムの製造方法によって達成できる。   That is, the above-mentioned objects are a method for producing an optical control film including at least one unit in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are alternately laminated on a base material, and the high refractive index closest to the base material. Forming the refractive index layer (A) or the low refractive index layer (A ′) using a coating liquid containing a resin, metal oxide particles, and a hydrophilic organic solvent having a concentration of 0.1 to 8% by mass. This can be achieved by the control film manufacturing method.

本発明の方法によれば、耐久性を向上した光学制御フィルムを提供できる。また、本発明の光学制御フィルムは、高い可視光透過性および赤外反射性を示す光学制御フィルムを提供できる。   According to the method of the present invention, an optical control film with improved durability can be provided. Moreover, the optical control film of the present invention can provide an optical control film exhibiting high visible light transparency and infrared reflectivity.

本発明の光学制御フィルムの製造方法は、基材上に高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層したユニットを少なくとも1つ含む光学制御フィルムの製造方法であって、前記基材に最も近い高屈折率層(A)または低屈折率層(A’)を、樹脂、金属酸化物粒子および0.1〜8質量%濃度の親水性有機溶剤を含む塗布液を用いて形成することを有する。なお、本明細書では、「基材に最も近い層」を「最下層」とも称する。このため、「基材に最も近い高屈折率層(A)または低屈折率層(A’)」を「最下層に位置する(最下層の)高屈折率層(A)または低屈折率層(A’)」または単に「高屈折率層(A)または低屈折率層(A’)」とも称する。また、「高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層したユニット」を「光学反射層」とも称する。また、本明細書において、最下層に位置する高屈折率層(A)または低屈折率層(A’)以外の高屈折率層および低屈折率層を、それぞれ、単に「高屈折率層(B)」および「低屈折率層(B’)」とも称する。   The method for producing an optical control film of the present invention is a method for producing an optical control film comprising at least one unit in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are alternately laminated on a base material. The closest high refractive index layer (A) or low refractive index layer (A ′) is formed using a coating solution containing a resin, metal oxide particles and a hydrophilic organic solvent having a concentration of 0.1 to 8% by mass. Have In the present specification, the “layer closest to the substrate” is also referred to as the “lowermost layer”. For this reason, the “high refractive index layer (A) or low refractive index layer (A ′) closest to the substrate” is positioned as the “lowermost layer (lowermost layer) high refractive index layer (A) or low refractive index layer. (A ′) ”or simply“ high refractive index layer (A) or low refractive index layer (A ′) ”. Further, “a unit in which high refractive index layers and low refractive index layers are alternately laminated” is also referred to as “optical reflection layer”. In the present specification, a high refractive index layer and a low refractive index layer other than the high refractive index layer (A) or the low refractive index layer (A ′) located in the lowermost layer are simply referred to as “high refractive index layer ( B) ”and“ low refractive index layer (B ′) ”.

特許文献1によると、高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも1つの層に、水溶性高分子と、金属酸化物粒子を含有した水系の塗布液を用いることで、より低コストに赤外線反射フィルムを得ることが可能である。しかしながら、近年、温暖化による冷房設備にかかる負荷が増大しているにも関わらず、光熱費が高騰しており、家計にかかる負担が増大の一途をたどっている。このため、より耐久性に優れる赤外線反射フィルムが求められている。また、さらなる省エネルギー化が希求され、透明性や反射率のさらなる向上も求められる。さらに、長期間の使用では含水や熱によるフィルムの膨張収縮の繰り返しにより反射層のひび割れや膜の剥離が生じる場合もあり、耐候性のさらなる向上も求められている。生産性向上のため連続塗布や高速塗布化で塗布故障の発生頻度が高まる傾向もあった。このため、塗布故障の発生頻度を低減したフィルムの安定的な生産もまた求められている。   According to Patent Document 1, by using an aqueous coating liquid containing a water-soluble polymer and metal oxide particles in at least one of a high refractive index layer and a low refractive index layer, infrared reflection is performed at a lower cost. It is possible to obtain a film. However, in recent years, despite the increased load on cooling equipment due to global warming, the cost of utilities has soared, and the burden on households continues to increase. For this reason, the infrared reflective film which is more excellent in durability is calculated | required. Further, further energy saving is desired, and further improvement in transparency and reflectance is also required. Further, when the film is used for a long period of time, cracking of the reflective layer or peeling of the film may occur due to repeated expansion and contraction of the film due to moisture or heat, and further improvement in weather resistance is also demanded. In order to improve productivity, there was a tendency for the frequency of coating failures to increase with continuous coating and high-speed coating. For this reason, there is also a need for stable production of films with reduced frequency of coating failures.

本発明は、少なくとも最下層に位置する高屈折率層(A)または低屈折率層(A’)を、樹脂、金属酸化物粒子および0.1〜8質量%濃度の親水性有機溶剤を含む塗布液を用いて形成することを特徴とする。当該構成をとることによって、光学制御フィルムの耐久性を向上できる。また、光学制御フィルムの可視光透過性及び赤外反射性をも向上できる。本発明に係る光学制御フィルムが上記効果を奏する詳細なメカニズムは不明であるが、以下のように推測される。なお、本発明は下記メカニズムに何ら拘束されるものではない。   The present invention includes at least a high refractive index layer (A) or a low refractive index layer (A ′) located in the lowermost layer, a resin, metal oxide particles, and a hydrophilic organic solvent having a concentration of 0.1 to 8% by mass. It is formed using a coating liquid. By taking the said structure, durability of an optical control film can be improved. Moreover, the visible light transmittance and infrared reflectivity of the optical control film can also be improved. Although the detailed mechanism by which the optical control film according to the present invention exhibits the above-mentioned effects is unknown, it is presumed as follows. In addition, this invention is not restrained by the following mechanism at all.

すなわち、本発明者らは、上記課題について鋭意検討を行った結果、塗布液中に含まれる樹脂と金属酸化物粒子との相互作用(それぞれの水酸基(OH)同士の水素結合)により、ネットワークを形成し、樹脂及び金属酸化物粒子の凝集や塗布液の増粘を引き起こし、これにより塗布液の不均一性が増大して、塗布ムラが発生し、結果、耐久性、可視光透過率や赤外(特に近赤外)反射率の低下が誘発されることに着目した。これに対して、本発明によるように、特定の濃度の親水性有機溶剤の存在下で最下層を形成すると、水系の塗布液の表面張力を下げると共に、親水性有機溶剤が金属酸化物粒子表面に配位して樹脂と金属酸化物粒子との相互作用(水素結合)を切断して、塗布液中の樹脂および金属酸化物粒子による凝集物の形成を抑制する。このため、基材への着液性が向上し、塗布液の粘度上昇を抑制し、塗布ムラを抑制できる(平滑な塗膜を安定的に形成できる)。ゆえに、本発明の方法で製造される光学制御フィルムは、可視光透過性、赤外(特に近赤外)反射性および耐久性を向上できる。なお、上記効果は、親水性溶剤として炭素数2〜4のアルコールを使用した場合に特に顕著である。   That is, as a result of intensive studies on the above problems, the present inventors have found that the network is formed by the interaction between the resin and the metal oxide particles contained in the coating liquid (hydrogen bonding between the respective hydroxyl groups (OH)). This causes aggregation of resin and metal oxide particles and thickening of the coating liquid, thereby increasing the non-uniformity of the coating liquid and causing coating unevenness, resulting in durability, visible light transmittance and redness. It was noted that a decrease in external (particularly near infrared) reflectance was induced. On the other hand, according to the present invention, when the lowermost layer is formed in the presence of a hydrophilic organic solvent having a specific concentration, the surface tension of the aqueous coating liquid is lowered and the hydrophilic organic solvent is added to the surface of the metal oxide particles. Coordinating to cleave the interaction (hydrogen bond) between the resin and the metal oxide particles to suppress the formation of aggregates by the resin and the metal oxide particles in the coating solution. For this reason, the liquid landing property to a base material improves, it can suppress the viscosity raise of a coating liquid, and can suppress a coating nonuniformity (a smooth coating film can be formed stably). Therefore, the optical control film manufactured by the method of the present invention can improve visible light transmittance, infrared (particularly near infrared) reflectivity, and durability. In addition, the said effect is especially remarkable when C2-C4 alcohol is used as a hydrophilic solvent.

上述したように、本発明の方法によると、光学制御フィルムの耐候性を向上できる(当該品質を長期間維持できる)と共に、品質(透明性、近赤外反射率)を向上できる。加えて、本発明の方法によると、塗布性が向上して塗布故障を軽減できる。   As described above, according to the method of the present invention, the weather resistance of the optical control film can be improved (the quality can be maintained for a long time), and the quality (transparency, near infrared reflectance) can be improved. In addition, according to the method of the present invention, applicability is improved and application failure can be reduced.

したがって、本発明の方法によって製造される光学制御フィルムは、高い可視光透過性および赤外反射性を有し、耐候性に優れる。ゆえに、本発明に係る光学制御フィルムは、建築物の窓や車両用部材などに設置される熱線遮蔽フィルム(赤外遮蔽フィルムまたは近赤外遮蔽フィルム)として特に好適に使用できる。なお、本明細書において、「近赤外」とは、波長が約750nm〜2500nmの近赤外線のことである。このため、「近赤外遮蔽フィルム」とは、近赤外線を反射または吸収などをすることにより、近赤外線の全部または一部を遮ることができるフィルムである。   Therefore, the optical control film produced by the method of the present invention has high visible light transmittance and infrared reflectivity, and is excellent in weather resistance. Therefore, the optical control film according to the present invention can be particularly suitably used as a heat ray shielding film (infrared shielding film or near-infrared shielding film) installed on a building window, a vehicle member, or the like. In this specification, “near infrared” means near infrared having a wavelength of about 750 nm to 2500 nm. Therefore, the “near infrared shielding film” is a film that can block all or part of the near infrared rays by reflecting or absorbing the near infrared rays.

以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態のみには限定されない。本明細書において、範囲を示す「X〜Y」は「X以上Y以下」を意味する。また、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温(20〜25℃)/相対湿度40〜50%の条件で測定する。   Embodiments of the present invention will be described below. In addition, this invention is not limited only to the following embodiment. In this specification, “X to Y” indicating a range means “X or more and Y or less”. Unless otherwise specified, measurement of operation and physical properties is performed under conditions of room temperature (20 to 25 ° C.) / Relative humidity 40 to 50%.

本発明において、光学制御フィルムは、高屈折率層および低屈折率層を交互に積層したユニットを少なくとも1つ含む光学反射層を有する。ここで、高屈折率層および低屈折率層は、樹脂、金属酸化物粒子を含む。光学反射層は、熱線(赤外線)の侵入を防ぐことができる(すなわち、熱線反射層として機能する)限り、特に制限されない。光学反射層は、屈折率の異なる層の積層体である、即ち、高屈折率層および低屈折率層が交互に積層された積層体である。本明細書において、「高屈折率層」および「低屈折率層」なる用語は、隣接した2層の屈折率差を比較した場合に、屈折率が高い方の屈折率層を高屈折率層とし、低い方の屈折率層を低屈折率層とすることを意味する。したがって、「高屈折率層」および「低屈折率層」なる用語は、フィルムを構成する各屈折率層において、隣接する2つの屈折率層に着目した場合に、各屈折率層が同じ屈折率を有する形態以外のあらゆる形態を含むものである。   In the present invention, the optical control film has an optical reflection layer including at least one unit in which high refractive index layers and low refractive index layers are alternately laminated. Here, the high refractive index layer and the low refractive index layer include a resin and metal oxide particles. The optical reflection layer is not particularly limited as long as it can prevent intrusion of heat rays (infrared rays) (that is, functions as a heat ray reflection layer). The optical reflective layer is a laminate of layers having different refractive indexes, that is, a laminate in which high refractive index layers and low refractive index layers are alternately laminated. In this specification, the terms “high refractive index layer” and “low refractive index layer” refer to a refractive index layer having a higher refractive index when comparing the refractive index difference between two adjacent layers. It means that the lower refractive index layer is a low refractive index layer. Therefore, the terms “high refractive index layer” and “low refractive index layer” mean that each refractive index layer has the same refractive index when attention is paid to two adjacent refractive index layers. All forms other than the forms having the above are included.

前記高屈折率層と前記低屈折率層とは、以下のように考える。例えば、高屈折率層を構成する成分(以下、高屈折率層成分)と低屈折率層を構成する成分(以下、低屈折率層成分)とが、ふたつの層の界面で混合され、高屈折率層成分と低屈折率層成分とを含む層(混合層)が形成される場合がある。この場合、混合層において、高屈折率層成分が50質量%以上である部位の集合を高屈折率層とし、低屈折率層成分が50質量%を超える部位の集合を低屈折率層とする。具体的には、低屈折率層が、例えば、低屈折率成分として第1の金属酸化物を、また、高屈折率層は高屈折率成分として第2の金属酸化物を含有している場合、これらの積層膜における膜厚方向での金属酸化物濃度プロファイルを測定し、その組成によって、高屈折率層または低屈折率層とみなすことができる。積層膜の金属酸化物濃度プロファイルは、スパッタ法を用いて表面から深さ方向へエッチングを行い、XPS表面分析装置を用いて、最表面を0nmとして、0.5nm/minの速度でスパッタし、原子組成比を測定することで観測することが出来る。また、低屈折率成分または高屈折率成分に金属酸化物粒子が含有されておらず、高屈折率層または低屈折率層の一方が水溶性樹脂(有機バインダー)のみから形成されている積層体においても、同様にして、水溶性樹脂(有機バインダー)濃度プロファイルにて、例えば、膜厚方向での炭素濃度を測定することにより混合領域が存在していることを確認し、さらにその組成をEDXにより測定することで、スパッタでエッチングされた各層が、高屈折率層または低屈折率層とみなすことができる。   The high refractive index layer and the low refractive index layer are considered as follows. For example, a component that constitutes a high refractive index layer (hereinafter referred to as a high refractive index layer component) and a component that constitutes a low refractive index layer (hereinafter referred to as a low refractive index layer component) are mixed at the interface between the two layers. A layer (mixed layer) including a refractive index layer component and a low refractive index layer component may be formed. In this case, in the mixed layer, a set of portions where the high refractive index layer component is 50% by mass or more is defined as a high refractive index layer, and a set of portions where the low refractive index layer component exceeds 50% by mass is defined as a low refractive index layer. . Specifically, when the low refractive index layer contains, for example, a first metal oxide as a low refractive index component, and the high refractive index layer contains a second metal oxide as a high refractive index component The metal oxide concentration profile in the film thickness direction in these laminated films is measured, and can be regarded as a high refractive index layer or a low refractive index layer depending on the composition. The metal oxide concentration profile of the laminated film is sputtered from the surface in the depth direction using a sputtering method, and is sputtered at a rate of 0.5 nm / min using the XPS surface analyzer with the outermost surface being 0 nm. It can be observed by measuring the atomic composition ratio. In addition, a laminate in which metal oxide particles are not contained in the low refractive index component or the high refractive index component, and one of the high refractive index layer or the low refractive index layer is formed only from a water-soluble resin (organic binder). Similarly, in the water-soluble resin (organic binder) concentration profile, for example, the carbon concentration in the film thickness direction is measured to confirm that the mixed region exists, and the composition is further changed to EDX. Thus, each layer etched by sputtering can be regarded as a high refractive index layer or a low refractive index layer.

本発明の方法では、光学反射層(積層体)を構成する層のうち、前記基材に最も近い高屈折率層(A)または低屈折率層(A’)を、樹脂、金属酸化物粒子および0.1〜8質量%濃度の親水性有機溶剤を含む塗布液を用いて形成する。上記濃度の親水性有機溶剤は、水系の塗布液の表面張力を下げると共に、塗布液中で金属酸化物粒子表面に配位して樹脂と金属酸化物粒子との相互作用(水素結合)を切断して、樹脂および金属酸化物粒子による凝集物の形成を抑制する。このため、上記濃度の親水性有機溶剤を含む塗布液は基材への着液性に優れ、塗布液の粘度上昇を抑制して、塗布ムラの発生を有効に抑制できる。ゆえに、上記濃度の親水性有機溶剤を含む塗布液を用いて形成される最下層、さらには高屈折率層(B)及び低屈折率層(B’)を有する光学制御フィルムは、可視光透過性、赤外(特に近赤外)反射性および耐久性を向上できる。   In the method of the present invention, among the layers constituting the optical reflection layer (laminated body), the high refractive index layer (A) or the low refractive index layer (A ′) closest to the substrate is replaced with resin, metal oxide particles. And a coating solution containing a hydrophilic organic solvent having a concentration of 0.1 to 8% by mass. The hydrophilic organic solvent with the above concentration lowers the surface tension of the aqueous coating solution and coordinates with the surface of the metal oxide particles in the coating solution to break the interaction (hydrogen bonding) between the resin and the metal oxide particles. Thus, formation of aggregates by the resin and metal oxide particles is suppressed. For this reason, the coating liquid containing the hydrophilic organic solvent of the said density | concentration is excellent in the liquid landing property to a base material, can suppress the raise of the viscosity of a coating liquid, and can suppress generation | occurrence | production of coating unevenness effectively. Therefore, an optical control film having a lowermost layer formed by using a coating liquid containing a hydrophilic organic solvent having the above-mentioned concentration, and further having a high refractive index layer (B) and a low refractive index layer (B ′) is capable of transmitting visible light. , Infrared (particularly near infrared) reflectivity and durability can be improved.

ここで、本発明に係る光学反射層(積層体)の形成方法は、特に制限されないが、基材上に、低屈折率層用塗布液および高屈折率層用塗布液、または高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液を塗布する。なお、上記方法において、基材に最も近い最下層形成用の塗布液は、樹脂、金属酸化物粒子及び特定濃度の親水性有機溶剤を含む。塗布方法は、特に制限されず、例えば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、スライド型カーテン塗布法、または米国特許第2,761,419号明細書、米国特許第2,761,791号明細書などに記載のスライドホッパー塗布法、エクストルージョンコート法などが挙げられる。また、複数の層を重層塗布する方式としては、逐次重層塗布でもよいし同時重層塗布でもよい。   Here, the method for forming the optical reflective layer (laminate) according to the present invention is not particularly limited, but the coating liquid for the low refractive index layer and the coating liquid for the high refractive index layer, or the high refractive index layer are formed on the substrate. A coating solution for coating and a coating solution for low refractive index layer are coated. In the above method, the lowermost layer-forming coating solution closest to the substrate contains a resin, metal oxide particles, and a hydrophilic organic solvent having a specific concentration. The coating method is not particularly limited, and for example, roll coating method, rod bar coating method, air knife coating method, spray coating method, slide curtain coating method, or U.S. Pat. No. 2,761,419, U.S. Pat. Examples thereof include a slide hopper coating method and an extrusion coating method described in Japanese Patent No. 2,761,791. In addition, as a method of applying a plurality of layers in a multilayer manner, sequential multilayer coating or simultaneous multilayer coating may be used.

以下では、本発明の好ましい製造方法(塗布方法)であるスライドホッパー塗布法による同時重層塗布について詳細に説明する。なお、本発明は、下記方法に限定されるものではない。また、以下では、特記しない限り、低屈折率層用塗布液および高屈折率層用塗布液は、一括して「塗布液」とも称する。   Below, the simultaneous multilayer application | coating by the slide hopper application | coating method which is a preferable manufacturing method (application | coating method) of this invention is demonstrated in detail. Note that the present invention is not limited to the following method. Hereinafter, unless otherwise specified, the coating liquid for the low refractive index layer and the coating liquid for the high refractive index layer are also collectively referred to as “coating liquid”.

基材に最も近い最下層形成用の塗布液は、樹脂、金属酸化物粒子及び特定濃度の親水性有機溶剤を含む。この塗布液を構成する親水性有機溶剤としては、上記効果を奏するものであれば特に制限されない。なお、本明細書において、「親水性」とは、水100gに対して、5g以上溶解することを意味する。このため、「親水性有機溶剤」は、水100gに対して、5g以上溶解する有機溶剤を意図する。好ましくは、親水性有機溶剤は、水100gに対して、6g以上溶解する。また、塗膜の形成性などを考慮すると、沸点が70〜300℃であることが好ましく、70〜250℃であることがより好ましい。具体的には、親水性溶剤としては、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−ブタノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンなどのケトン類などが挙げられる。これらのうち、透明性(可視光透過率)、塗布性、層の柔軟性、耐候性のより向上効果を考慮すると、炭素数2〜4の1価アルコールおよびグリコールエーテルが好ましい。すなわち、親水性有機溶剤は、好ましくは、炭素数2〜4の1価アルコールまたはグリコールエーテルである。   The coating solution for forming the lowermost layer closest to the substrate contains a resin, metal oxide particles, and a hydrophilic organic solvent having a specific concentration. The hydrophilic organic solvent constituting the coating solution is not particularly limited as long as it exhibits the above effects. In the present specification, “hydrophilic” means that 5 g or more is dissolved in 100 g of water. For this reason, the “hydrophilic organic solvent” intends an organic solvent that dissolves 5 g or more in 100 g of water. Preferably, 6 g or more of the hydrophilic organic solvent is dissolved in 100 g of water. In consideration of the formability of the coating film, the boiling point is preferably 70 to 300 ° C, more preferably 70 to 250 ° C. Specifically, examples of the hydrophilic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol and 1-butanol, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate, Examples include ethers such as diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, and ethylene glycol monoethyl ether; amides such as dimethylformamide and N-methylpyrrolidone; and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, acetylacetone, and cyclohexanone. Of these, monohydric alcohols having 2 to 4 carbon atoms and glycol ethers are preferable in consideration of the effect of improving transparency (visible light transmittance), coating properties, layer flexibility, and weather resistance. That is, the hydrophilic organic solvent is preferably a monohydric alcohol or glycol ether having 2 to 4 carbon atoms.

上記好ましい例において、炭素数2〜4の1価アルコールとしては、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール(n−ブチルアルコール、ノルマルブタノール)、2−メチル−1−プロパノール(イソブチルアルコール)、2−ブタノール(sec−ブチルアルコール)、2−メチル−2−プロパノール(tert−ブチルアルコール)がある。上記アルコールのうち、ヘイズの向上効果などを考慮すると、炭素数3または4の1価のアルコールが好ましく、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノールがより好ましい。炭素数は長いアルコールを使用することによって、少量の添加量でも塗布性をさらに改善できる。   In the above preferred examples, the monohydric alcohol having 2 to 4 carbon atoms includes ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol (n-butyl alcohol, normal butanol), 2-methyl-1-propanol (isobutyl alcohol). ), 2-butanol (sec-butyl alcohol), 2-methyl-2-propanol (tert-butyl alcohol). Among the above alcohols, considering the haze improvement effect, monovalent alcohols having 3 or 4 carbon atoms are preferable, and 1-propanol, 2-propanol, and 1-butanol are more preferable. By using an alcohol having a long carbon number, the coating property can be further improved even with a small addition amount.

また、グリコールエーテルの好ましい例としては、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテルアセテート、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールヘキシルエーテル、エチレングリコール2−エキルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のエチレン系グリコールエーテル;プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールn−プロピルエーテル、プロピレングリコールn−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールn−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールnーブチルエーテル等のプロピレン系グリコールエーテルなどが挙げられる。これらのうち、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールn−プロピルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールn−プロピルエーテル、プロピレングリコールn−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテルが好ましく、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールn−プロピルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールn−プロピルエーテル、プロピレングリコールn−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテルがより好ましい。   Preferred examples of the glycol ether include ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol butyl ether, ethylene glycol butyl ether acetate, ethylene glycol isopropyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol hexyl ether, ethylene Ethylene glycol ethers such as glycol 2-ethyl hexyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate; propylene glycol methyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether, propylene glycol n Propyl ether, propylene glycol n- butyl ether, dipropylene glycol methyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol n- propyl ether, propylene glycol ethers such as dipropylene glycol n-butyl ether. Among these, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol butyl ether, propylene glycol methyl ether, propylene glycol n-propyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, dipropylene glycol n-propyl ether, Propylene glycol n-butyl ether and dipropylene glycol dimethyl ether are preferred, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol butyl ether, propylene glycol methyl ether, propylene glycol n-propyl ether, propylene glycol methyl Ether acetate, dipropylene glycol n- propyl ether, propylene glycol n- butyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether are more preferable.

上記親水性有機溶剤は、単独で使用されてもまたは2種以上の混合物の形態で使用されてよい。   The hydrophilic organic solvent may be used alone or in the form of a mixture of two or more.

本発明では、上記親水性有機溶剤は、塗布液中に0.1〜8質量%の濃度で存在する。ここで、上記濃度が0.1質量%未満であると、塗布液の表面張力が十分下がらず、また、親水性有機溶剤が十分金属酸化物粒子表面に配位しないため、樹脂と金属酸化物粒子との相互作用(水素結合)を十分切断できない。このため、樹脂および金属酸化物粒子による凝集物の形成を抑制できず、着液性が悪く、塗布ムラが発生してしまう。逆に、上記濃度が8質量%を超えると、着液性は改善されるものの、透明性(可視光透過率)が過度に低下してしまう。また、塗布後、乾燥・巻き取り後にブロッキングを引き起こしたり、吸湿により耐候性(特に膜割れ)が低下してしまう。加えて、また、生産性向上のため連続塗布や高速塗布化で塗布故障の発生頻度が高まる傾向がある。着液性、透明性、赤外反射性、耐候性のより向上効果、さらには塗布ムラのさらなる抑制効果を考慮すると、塗布液中の親水性有機溶剤の濃度は、好ましくは0.1〜4質量%であり、より好ましくは0.1〜2質量%である。   In the present invention, the hydrophilic organic solvent is present in the coating solution at a concentration of 0.1 to 8% by mass. Here, when the concentration is less than 0.1% by mass, the surface tension of the coating liquid is not sufficiently lowered, and the hydrophilic organic solvent is not sufficiently coordinated to the surface of the metal oxide particles. Interactions with particles (hydrogen bonds) cannot be broken sufficiently. For this reason, formation of the aggregate by resin and a metal oxide particle cannot be suppressed, liquid landing property is bad, and the coating nonuniformity will generate | occur | produce. On the other hand, when the concentration exceeds 8% by mass, the liquid landing property is improved, but the transparency (visible light transmittance) is excessively lowered. Moreover, after application | coating, drying and winding up cause blocking, and a weather resistance (especially film | membrane crack) will fall by moisture absorption. In addition, in order to improve productivity, the frequency of occurrence of coating failures tends to increase due to continuous coating and high-speed coating. Considering the effect of improving the liquid landing property, transparency, infrared reflectivity and weather resistance, and further the effect of further suppressing coating unevenness, the concentration of the hydrophilic organic solvent in the coating solution is preferably 0.1 to 4. It is mass%, More preferably, it is 0.1-2 mass%.

本発明の方法は、最下層の(基材に最も近い)高屈折率層(A)または低屈折率層(A’)を、少なくとも、樹脂、金属酸化物粒子および0.1〜8質量%濃度の親水性有機溶剤を含む塗布液を用いて形成する。ここで、親水性有機溶剤としてアルコールを使用すると、特に塗布液の着液性を向上できる。このため、最下層を、アルコール、特に炭素数2〜4の1価アルコールを用いて形成することが好ましい。一方で、親水性有機溶剤としてグリコールエーテルを使用すると、アルコールに比して沸点が高いため、塗膜乾燥速度が遅くなり、レベリング性が向上できる(膜の平滑化を向上し、塗布ムラをより軽減できる)。また、塗膜(屈折率層)中に微量であるがグリコールエーテルが残る。このため、塗膜の柔軟性を向上し、湿度等によるフィルムの膨脹時や乾燥時の収縮時の応力を緩和するため、耐候性(耐久性)をより向上できる。また、塗膜のひび割れ(膜割れ)を有効に抑制できる。ゆえに、最下層以外の高屈折率層(B)および/または低屈折率層(B’)をグリコールエーテルを用いて形成することが好ましく、最下層以外の高屈折率層(B)および低屈折率層(B’)双方を、グリコールエーテルを用いて形成することがより好ましい。すなわち、基材に最も近い高屈折率層(A)または低屈折率層(A’)を、樹脂、金属酸化物粒子および0.1〜8質量%濃度の炭素数2〜4の1価アルコールを含有する塗布液を用いて形成し、高屈折率層(A)または低屈折率層(A’)以外の高屈折率層および低屈折率層の少なくとも1層を、樹脂、金属酸化物粒子および0.1〜8質量%濃度のグリコールエーテルを含有する塗布液を用いて形成することが好ましい。   In the method of the present invention, the high refractive index layer (A) or the low refractive index layer (A ′) in the lowermost layer (closest to the base material) is at least a resin, metal oxide particles, and 0.1 to 8% by mass. It forms using the coating liquid containing the hydrophilic organic solvent of density | concentration. Here, when alcohol is used as the hydrophilic organic solvent, the liquid landing property of the coating liquid can be improved. For this reason, it is preferable to form the lowermost layer using an alcohol, particularly a monohydric alcohol having 2 to 4 carbon atoms. On the other hand, when glycol ether is used as the hydrophilic organic solvent, since the boiling point is higher than that of alcohol, the coating film drying rate is slowed, and the leveling property can be improved (improved film smoothing and more uneven coating). Can be reduced). Moreover, although it is trace amount in a coating film (refractive-index layer), glycol ether remains. For this reason, since the softness | flexibility of a coating film is improved and the stress at the time of expansion | swelling of a film by humidity etc. or shrinkage | contraction at the time of drying is improved, a weather resistance (durability) can be improved more. Moreover, the crack (film | membrane crack) of a coating film can be suppressed effectively. Therefore, it is preferable to form the high refractive index layer (B) and / or the low refractive index layer (B ′) other than the lowest layer using glycol ether, and the high refractive index layer (B) and the low refractive index other than the lowermost layer. It is more preferable to form both the rate layers (B ′) using glycol ether. That is, the high refractive index layer (A) or the low refractive index layer (A ′) closest to the substrate is replaced with a resin, metal oxide particles, and a monohydric alcohol having 2 to 4 carbon atoms and having a concentration of 0.1 to 8% by mass. Formed using a coating solution containing a resin, metal oxide particles, and at least one of a high refractive index layer and a low refractive index layer other than the high refractive index layer (A) or the low refractive index layer (A ′) And a coating solution containing glycol ether having a concentration of 0.1 to 8% by mass is preferable.

なお、上述したように、基材に最も近い最下層形成用の塗布液は、樹脂、金属酸化物粒子及び特定濃度の親水性有機溶剤を含むが、最下層以外の高屈折率層(B)および低屈折率層(B’)は本発明に係る形態から外れる塗布液を用いて形成してもよい。この場合の塗布液を構成する溶媒としては、特に制限されないが、水、有機溶媒、またはその混合溶媒が好ましい。前記有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−ブタノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でもまたは2種以上混合して用いてもよい。   As described above, the coating solution for forming the lowermost layer closest to the substrate contains a resin, metal oxide particles, and a hydrophilic organic solvent having a specific concentration, but a high refractive index layer (B) other than the lowermost layer. Further, the low refractive index layer (B ′) may be formed using a coating liquid deviating from the form according to the present invention. The solvent constituting the coating liquid in this case is not particularly limited, but water, an organic solvent, or a mixed solvent thereof is preferable. Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol and 1-butanol, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate, diethyl ether, Examples thereof include ethers such as propylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether, amides such as dimethylformamide and N-methylpyrrolidone, and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, acetylacetone and cyclohexanone. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

好ましくは、最下層以外の高屈折率層(B)および低屈折率層(B’)も、最下層同様、樹脂、金属酸化物粒子及び特定濃度の親水性有機溶剤を含む。   Preferably, the high refractive index layer (B) and the low refractive index layer (B ′) other than the lowermost layer also contain a resin, metal oxide particles, and a hydrophilic organic solvent having a specific concentration, as in the lowermost layer.

本発明において、少なくとも最下層は樹脂を含み、好ましくは光学反射層を構成する高屈折率層および低屈折率層が樹脂を含む。このように樹脂を用いることにより、金属酸化物材料のみで形成される無機膜の光学反射層に比して層の柔軟性が向上するため、膜割れを有効に防ぐことができる。また、各層間の密着性を向上させることができる。さらに、塗布等により光学反射層を製膜できるため、均一でかつ大面積な製膜が容易である。また、製膜速度を上げることができるため、製造コストや量産の点からも好ましい。加えて、高温で製膜する必要がないため、基材の選択範囲が広く、温度変化による光学反射層と他の層(例えば、基材)との間のまたは光学反射層(積層形態の場合)間の収縮率差に起因する層の剥離を有効に防止できる。さらに、樹脂を含む光学反射層は、上述したように、柔軟性に優れるため、柔軟な基板に対しても適用でき、曲げ部分などに割れやキズなどの発生を抑制できる。   In the present invention, at least the lowermost layer contains a resin, and preferably the high refractive index layer and the low refractive index layer constituting the optical reflection layer contain a resin. By using the resin in this manner, the flexibility of the layer is improved as compared with the optical reflective layer of the inorganic film formed only of the metal oxide material, and thus the film cracking can be effectively prevented. Moreover, the adhesiveness between each layer can be improved. Furthermore, since the optical reflection layer can be formed by coating or the like, uniform and large-area film formation is easy. Moreover, since the film forming speed can be increased, it is preferable from the viewpoint of manufacturing cost and mass production. In addition, since it is not necessary to form a film at a high temperature, the selection range of the substrate is wide, and the optical reflection layer between the optical reflection layer and another layer (for example, the substrate) due to temperature change or the optical reflection layer (in the case of a laminated form) ) Can be effectively prevented from peeling off due to the difference in shrinkage ratio between the two. Furthermore, since the optical reflection layer containing resin is excellent in flexibility as described above, it can be applied to a flexible substrate and can suppress the occurrence of cracks and scratches in a bent portion.

低屈折率層及び高屈折率層で使用される樹脂は特に制限されない。各屈折率層は、塗布やスピンコートなどの成膜方法で樹脂を用いて形成できる。これらの方法は簡便であり、基材の耐熱性を問わないので選択肢が広く、特に樹脂基材に対して有効な成膜方法といえる。たとえば塗布型ならばロール・ツー・ロール法などの大量生産方式が採用でき、コスト面でもプロセス時間面でも有利になる。また、樹脂材料を含む膜はフレキシブル性が高いため、生産時や運搬時に巻き取りを行っても、これらの欠陥が発生しづらく、取扱性に優れているという長所がある。   The resin used in the low refractive index layer and the high refractive index layer is not particularly limited. Each refractive index layer can be formed using a resin by a film forming method such as coating or spin coating. Since these methods are simple and do not ask the heat resistance of a base material, there are many choices, and it can be said that it is an effective film forming method particularly for a resin base material. For example, a mass production method such as a roll-to-roll method can be adopted for the coating type, which is advantageous in terms of cost and process time. Moreover, since the film | membrane containing a resin material is highly flexible, even if it winds up at the time of production or conveyance, these defects do not generate easily and there exists an advantage that it is excellent in handleability.

高屈折率層および低屈折率層に含まれる樹脂は、バインダーとして機能する水溶性高分子であることが好ましい。高屈折率層および低屈折率層に、水溶性高分子を含ませることで、有機溶剤の使用を抑えた層形成方法を採用できるため、有機溶剤による環境上の問題を解決することができ、また塗膜の柔軟性も達成することができるから好ましい。なお、高屈折率層および低屈折率層に含有される樹脂は、同じ構成成分であってもよく、異なる構成成分であってもよいが、異なることが好ましい。水溶性高分子としては、例えば、ポリビニルアルコールまたはその誘導体(ポリビニルアルコール系樹脂)、ゼラチン、セルロースまたは増粘多糖類などが挙げられるが、塗布ムラや膜厚均一性(ヘイズ)などの向上効果の観点から、屈折率層は樹脂としてポリビニルアルコールまたはその誘導体を含むことが好ましい。樹脂は、単独で用いてもよいし、2種以上組み合わせて用いてもよい。また、樹脂は、合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。   The resin contained in the high refractive index layer and the low refractive index layer is preferably a water-soluble polymer that functions as a binder. By including a water-soluble polymer in the high-refractive index layer and the low-refractive index layer, a layer formation method that suppresses the use of an organic solvent can be adopted, so that environmental problems due to the organic solvent can be solved. Moreover, since the softness | flexibility of a coating film can also be achieved, it is preferable. The resins contained in the high refractive index layer and the low refractive index layer may be the same component or different components, but are preferably different. Examples of the water-soluble polymer include polyvinyl alcohol or a derivative thereof (polyvinyl alcohol-based resin), gelatin, cellulose, or a thickening polysaccharide. However, the water-soluble polymer is effective in improving coating unevenness and film thickness uniformity (haze). From the viewpoint, the refractive index layer preferably contains polyvinyl alcohol or a derivative thereof as a resin. Resin may be used independently and may be used in combination of 2 or more type. Moreover, a synthetic product may be used for resin and a commercial item may be used.

樹脂は特に制限されず、WO 2012/128109、特開2013−121567号公報、特開2013−148849号公報等の、高屈折率層および前記低屈折率層に使用される公知の樹脂が同様にして使用できる。具体的には、ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他、各種の変性ポリビニルアルコールも含まれる。   The resin is not particularly limited, and known resins used for the high refractive index layer and the low refractive index layer, such as WO 2012/128109, JP2013-121567A, JP2013-148849A, and the like are the same. Can be used. Specifically, the polyvinyl alcohol-based resin includes various modified polyvinyl alcohols in addition to ordinary polyvinyl alcohol obtained by hydrolyzing polyvinyl acetate.

酢酸ビニルを加水分解して得られるポリビニルアルコールは、平均重合度が200以上であることが好ましく、平均重合度が300〜5,000であることが特に好ましい。また、ケン化度は、70〜100モル%であることが好ましく、80〜99.9モル%であることが特に好ましい。   The polyvinyl alcohol obtained by hydrolyzing vinyl acetate preferably has an average degree of polymerization of 200 or more, and particularly preferably has an average degree of polymerization of 300 to 5,000. Moreover, it is preferable that it is 70-100 mol%, and, as for saponification degree, it is especially preferable that it is 80-99.9 mol%.

変性ポリビニルアルコールとしては、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール、エチレン変性ポリビニルアルコール、ビニルアルコール系樹脂が挙げられる。また、酢酸ビニル系樹脂(例えば、株式会社クラレ製「エクセバール」)、ポリビニルアルコールにアルデヒドを反応させて得られるポリビニルアセタール樹脂(例えば、積水化学工業株式会社製「エスレック」)、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール(例えば、株式会社クラレ製「R−1130」)、分子内にアセトアセチル基を有する変性ポリビニルアルコール系樹脂(例えば、日本合成化学工業株式会社製「ゴーセファイマー(登録商標)Z/WRシリーズ」)等もポリビニルアルコール系樹脂に含まれる。   Examples of the modified polyvinyl alcohol include cation modified polyvinyl alcohol, anion modified polyvinyl alcohol, nonionic modified polyvinyl alcohol, ethylene modified polyvinyl alcohol, and vinyl alcohol resin. Also, vinyl acetate resins (for example, “Exeval” manufactured by Kuraray Co., Ltd.), polyvinyl acetal resins obtained by reacting polyvinyl alcohol with aldehydes (for example, “ESREC” manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.), silanols having silanol groups Modified polyvinyl alcohol (for example, “R-1130” manufactured by Kuraray Co., Ltd.), modified polyvinyl alcohol resin having an acetoacetyl group in the molecule (for example, “Gosefimer (registered trademark) Z / manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) WR series ") and the like are also included in the polyvinyl alcohol resin.

アニオン変性ポリビニルアルコールは、例えば、特開平1−206088号公報に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭61−237681号公報および同63−307979号公報に記載されているようなビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体、および特開平7−285265号公報に記載されているような水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。   Anion-modified polyvinyl alcohol is described in, for example, polyvinyl alcohol having an anionic group as described in JP-A-1-206088, JP-A-61-237681 and JP-A-63-307979. Examples thereof include a copolymer of such a vinyl alcohol and a vinyl compound having a water-soluble group, and a modified polyvinyl alcohol having a water-soluble group as described in JP-A-7-285265.

また、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平7−9758号公報に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平8−25795号公報に記載されているような疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基やカルボニル基、カルボキシル基などの反応性基を有する反応性基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。   Nonionic modified polyvinyl alcohol includes, for example, a polyvinyl alcohol derivative in which a polyalkylene oxide group as described in JP-A-7-9758 is added to a part of vinyl alcohol, and JP-A-8-25795. Block copolymer of vinyl compound having hydrophobic group and vinyl alcohol as described, silanol modified polyvinyl alcohol having silanol group, reactivity having reactive group such as acetoacetyl group, carbonyl group, carboxyl group Examples thereof include group-modified polyvinyl alcohol.

カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭61−10483号公報に記載されているような、第1級〜第3級アミノ基や第4級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖または側鎖中に有するポリビニルアルコールであり、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得られる。   Examples of the cation-modified polyvinyl alcohol include primary to tertiary amino groups and quaternary ammonium groups as described in JP-A No. 61-10383. Polyvinyl alcohol contained therein and obtained by saponifying a copolymer of an ethylenically unsaturated monomer having a cationic group and vinyl acetate.

カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、トリメチル−(2−アクリルアミド−2,2−ジメチルエチル)アンモニウムクロライド、トリメチル−(3−アクリルアミド−3,3−ジメチルプロピル)アンモニウムクロライド、N−ビニルイミダゾール、N−ビニル−2−メチルイミダゾール、N−(3−ジメチルアミノプロピル)メタクリルアミド、ヒドロキシルエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル−(2−メタクリルアミドプロピル)アンモニウムクロライド、N−(1,1−ジメチル−3−ジメチルアミノプロピル)アクリルアミド等が挙げられる。カチオン変性ポリビニルアルコールのカチオン変性基含有単量体の比率は、酢酸ビニルに対して0.1〜10モル%であることが好ましく、0.2〜5モル%であることがより好ましい。   Examples of the ethylenically unsaturated monomer having a cationic group include trimethyl- (2-acrylamido-2,2-dimethylethyl) ammonium chloride and trimethyl- (3-acrylamido-3,3-dimethylpropyl) ammonium chloride. N-vinylimidazole, N-vinyl-2-methylimidazole, N- (3-dimethylaminopropyl) methacrylamide, hydroxylethyltrimethylammonium chloride, trimethyl- (2-methacrylamidopropyl) ammonium chloride, N- (1, 1-dimethyl-3-dimethylaminopropyl) acrylamide and the like. The ratio of the cation-modified group-containing monomer of the cation-modified polyvinyl alcohol is preferably 0.1 to 10 mol%, more preferably 0.2 to 5 mol% with respect to vinyl acetate.

エチレン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開2009−107324号公報、特開2003−248123号公報、特開2003−342322号公報、特願2013−206813などに記載されるものが使用できる。または、エクセバール(商品名:株式会社クラレ製)等の市販品を使用してもよい。   As ethylene modified polyvinyl alcohol, what is described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-107324, Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-248123, Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-342322, Japanese Patent Application No. 2013-206913, etc. can be used, for example. Alternatively, commercially available products such as EXEVAL (trade name: manufactured by Kuraray Co., Ltd.) may be used.

ビニルアルコール系樹脂としては、エクセバール(商品名:株式会社クラレ製)やニチゴーG樹脂(商品名:日本合成化学工業株式会社製)などが挙げられる。   Examples of the vinyl alcohol-based resin include EXEVAL (trade name: manufactured by Kuraray Co., Ltd.) and Nichigo G resin (trade name: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.).

なお、上述のポリビニルアルコールは、単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、ポリビニルアルコールは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。   In addition, the above-mentioned polyvinyl alcohol may be used independently or may be used in combination of 2 or more type. Polyvinyl alcohol may be a synthetic product or a commercial product.

ポリビニルアルコールの重量平均分子量は、1,000〜200,000であることが好ましく、3,000〜60,000であることがより好ましい。なお、本明細書において、「重量平均分子量」の値は、静的光散乱法、ゲルパーミエーションクロマトグラフ法(GPC)、TOFMASSなどによって測定した値を採用するものとする。樹脂(水溶性高分子)の重量平均分子量が上記範囲にあると、湿式製膜法における塗布が可能となり、生産性を向上させることができることから好ましい。   The weight average molecular weight of polyvinyl alcohol is preferably 1,000 to 200,000, and more preferably 3,000 to 60,000. In this specification, the value measured by a static light scattering method, gel permeation chromatography (GPC), TOFMASS, or the like is adopted as the value of “weight average molecular weight”. It is preferable that the weight average molecular weight of the resin (water-soluble polymer) is in the above range because application in a wet film forming method is possible and productivity can be improved.

本発明に適用可能なゼラチンとしては、従来、ハロゲン化銀写真感光材料分野で広く用いられてきた各種ゼラチンを適用することができ、例えば、酸処理ゼラチン、アルカリ処理ゼラチンの他に、ゼラチンの製造過程で酵素処理をする酵素処理ゼラチンおよびゼラチン誘導体、すなわち分子中に官能基としてのアミノ基、イミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基を有し、それと反応して得る基を持った試薬で処理し改質したものでもよい。ゼラチンの一般的製造法に関してはよく知られており、例えば、T.H.James:The Theory of Photographic Process 4th. ed. 1977(Macmillan)55項、科学写真便覧(上)72〜75項(丸善)、写真工学の基礎−銀塩写真編119〜124頁(コロナ社)等の記載を参考にすることができる。また、リサーチ・ディスクロージャー誌第176巻、No.17643(1978年12月)のIX項に記載されているゼラチンを挙げることができる。   As the gelatin applicable to the present invention, various gelatins that have been widely used in the field of silver halide photographic light-sensitive materials can be applied. For example, in addition to acid-processed gelatin and alkali-processed gelatin, production of gelatin is possible. Enzyme-treated gelatin and gelatin derivatives that undergo enzyme treatment in the process, that is, modified with a reagent that has an amino group, imino group, hydroxyl group, carboxyl group as a functional group in the molecule and a group obtained by reaction with it. It may be quality. Well-known methods for producing gelatin are well known. H. James: The Theory of Photographic Process 4th. ed. Reference can be made to descriptions such as 1977 (Macmillan) 55, Science Photo Handbook (above) 72-75 (Maruzen), Fundamentals of Photographic Engineering-Silver Salt Photo Hen 119-124 (Corona). Also, Research Disclosure Magazine Vol. 176, No. And gelatin described in Section IX of 17643 (December, 1978).

ゼラチンを用いる場合、必要に応じてゼラチンの硬膜剤を添加することもできる。使用できる硬膜剤としては、通常の写真乳剤層の硬膜剤として使用されている公知の化合物を使用でき、例えば、ビニルスルホン化合物、尿素−ホルマリン縮合物、メラニン−ホルマリン縮合物、エポキシ系化合物、アジリジン系化合物、活性オレフィン類、イソシアネート系化合物などの有機硬膜剤、クロム、アルミニウム、ジルコニウムなどの無機多価金属塩類などを挙げることができる。   When gelatin is used, a gelatin hardener can be added as necessary. As the hardener that can be used, known compounds that are used as hardeners for ordinary photographic emulsion layers can be used. For example, vinylsulfone compounds, urea-formalin condensates, melanin-formalin condensates, epoxy compounds And organic hardeners such as aziridine compounds, active olefins and isocyanate compounds, and inorganic polyvalent metal salts such as chromium, aluminum and zirconium.

本発明で用いることのできるセルロースとしては、水溶性のセルロース誘導体が好ましく用いることができ、例えば、カルボキシメチルセルロース(セルロースカルボキシメチルエーテル)、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等の水溶性セルロース誘導体や、カルボン酸基含有セルロース類であるカルボキシメチルセルロース(セルロースカルボキシメチルエーテル)、カルボキシエチルセルロース等を挙げることができる。その他には、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、酢酸セルロース、セルロース硫酸エステル等のセルロース誘導体を挙げることができる。   As the cellulose that can be used in the present invention, a water-soluble cellulose derivative can be preferably used. For example, water-soluble cellulose such as carboxymethyl cellulose (cellulose carboxymethyl ether), methyl cellulose, hydroxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose and the like. Derivatives, carboxymethyl cellulose (cellulose carboxymethyl ether) and carboxyethyl cellulose, which are carboxylic acid group-containing celluloses, can be mentioned. Other examples include cellulose derivatives such as nitrocellulose, cellulose acetate propionate, cellulose acetate, and cellulose sulfate.

本発明で用いることのできる増粘多糖類としては、特に制限はなく、例えば、一般に知られている天然単純多糖類、天然複合多糖類、合成単純多糖類及び合成複合多糖類に挙げることができ、これら多糖類の詳細については、「生化学事典(第2版),東京化学同人出版」、「食品工業」第31巻(1988)21頁等を参照することができる。   The thickening polysaccharide that can be used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include generally known natural simple polysaccharides, natural complex polysaccharides, synthetic simple polysaccharides, and synthetic complex polysaccharides. The details of these polysaccharides can be referred to “Biochemical Encyclopedia (2nd edition), Tokyo Chemical Doujinshi”, “Food Industry”, Vol. 31 (1988), p.

本発明でいう増粘多糖類とは、糖類の重合体であり分子内に水素結合基を多数有するもので、温度により分子間の水素結合力の違いにより、低温時の粘度と高温時の粘度差が大きな特性を備えた多糖類であり、さらに金属酸化物微粒子を添加すると、低温時にその金属酸化物微粒子との水素結合によると思われる粘度上昇を起こすものであり、その粘度上昇幅は、添加することにより15℃における粘度が1.0mPa・s以上の上昇を生じる多糖類であり、好ましくは5.0mPa・s以上であり、更に好ましくは10.0mPa・s以上の粘度上昇能を備えた多糖類である。   The thickening polysaccharide referred to in the present invention is a polymer of saccharides and has many hydrogen bonding groups in the molecule, and the viscosity at low temperature and the viscosity at high temperature due to the difference in hydrogen bonding force between molecules depending on the temperature. It is a polysaccharide with a large difference in characteristics, and when adding metal oxide fine particles, it causes a viscosity increase that seems to be due to hydrogen bonding with the metal oxide fine particles at a low temperature. When added, it is a polysaccharide that increases its viscosity at 15 ° C. by 1.0 mPa · s or more, preferably 5.0 mPa · s or more, more preferably 10.0 mPa · s or more. Polysaccharides.

本発明に適用可能な増粘多糖類としては、例えば、ガラクタン(例えば、アガロース、アガロペクチン等)、ガラクトマンノグリカン(例えば、ローカストビーンガム、グアラン等)、キシログルカン(例えば、タマリンドガム等)、グルコマンノグリカン(例えば、蒟蒻マンナン、木材由来グルコマンナン、キサンタンガム等)、ガラクトグルコマンノグリカン(例えば、針葉樹材由来グリカン)、アラビノガラクトグリカン(例えば、大豆由来グリカン、微生物由来グリカン等)、グルコラムノグリカン(例えば、ジェランガム等)、グリコサミノグリカン(例えば、ヒアルロン酸、ケラタン硫酸等)、アルギン酸及びアルギン酸塩、寒天、κ−カラギーナン、λ−カラギーナン、ι−カラギーナン、ファーセレランなどの紅藻類に由来する天然高分子多糖類などが挙げられる。塗布液中に共存する金属酸化物粒子の分散安定性を低下させない観点から、好ましくは、その構成単位がカルボン酸基やスルホン酸基を有しないものが好ましい。その様な増粘多糖類としては、例えば、L−アラビトース、D−リボース、2−デオキシリボース、D−キシロースなどのペントース、D−グルコース、D−フルクトース、D−マンノース、D−ガラクトースなどのヘキソースのみからなる多糖類であることが好ましい。具体的には、主鎖がグルコースであり、側鎖もグルコースであるキシログルカンとして知られるタマリンドシードガムや、主鎖がマンノースで側鎖がグルコースであるガラクトマンナンとして知られるグアーガム、カチオン化グアーガム、ヒドロキシプロピルグアーガム、ローカストビーンガム、タラガムや、主鎖がガラクトースで側鎖がアラビノースであるアラビノガラクタンを好ましく使用することができる。本発明においては、特には、タマリンド、グアーガム、カチオン化グアーガム、ヒドロキシプロピルグアーガムが好ましい。   Examples of the thickening polysaccharide applicable to the present invention include galactan (eg, agarose, agaropectin, etc.), galactomannoglycan (eg, locust bean gum, guaran, etc.), xyloglucan (eg, tamarind gum, etc.), Glucomannoglycan (eg, salmon mannan, wood-derived glucomannan, xanthan gum, etc.), galactoglucomannoglycan (eg, softwood-derived glycan), arabinogalactoglycan (eg, soybean-derived glycan, microorganism-derived glycan, etc.), Red algae such as glucuronoglycan (eg gellan gum), glycosaminoglycan (eg hyaluronic acid, keratan sulfate etc.), alginic acid and alginates, agar, κ-carrageenan, λ-carrageenan, ι-carrageenan Derived from Such as natural polymer polysaccharides. From the viewpoint of not lowering the dispersion stability of the metal oxide particles coexisting in the coating solution, it is preferable that the structural unit does not have a carboxylic acid group or a sulfonic acid group. Examples of such thickening polysaccharides include pentoses such as L-arabitose, D-ribose, 2-deoxyribose and D-xylose, and hexoses such as D-glucose, D-fructose, D-mannose and D-galactose. It is preferable that it is a polysaccharide which consists only of. Specifically, tamarind seed gum known as xyloglucan whose main chain is glucose and side chain is glucose, guar gum known as galactomannan whose main chain is mannose and side chain is glucose, cationized guar gum, Hydroxypropyl guar gum, locust bean gum, tara gum, and arabinogalactan whose main chain is galactose and whose side chain is arabinose can be preferably used. In the present invention, tamarind, guar gum, cationized guar gum, and hydroxypropyl guar gum are particularly preferable.

屈折率層における樹脂の含有量は、屈折率層の全固形分に対して、5〜50質量%であることが好ましく、10〜40質量%であることがより好ましい。樹脂の含有量が5質量%以上であると、湿式製膜法で屈折率層を形成する場合に、塗布して得られた塗膜の乾燥時に、膜面が乱れによる透明性の劣化を防止できることから好ましい。一方、樹脂の含有量が50質量%以下であると、低屈折率層中に金属酸化物粒子を含有する場合に好適な含有量となり、低屈折率層と高屈折率層との屈折率差を大きくできることから好ましい。なお、本明細書において、樹脂の含有量は、蒸発乾固法の残固形分より求められる。具体的には、光学制御フィルムを95℃の熱水に2時間浸し、残ったフィルムを除去した後、熱水を蒸発させ、得られた固形物の量を樹脂量とする。この際、IR(赤外分光)スペクトルにおいて1700〜1800cm−1、900〜1000cm−1、および800〜900cm−1の領域にそれぞれ1つずつピークが見られる場合、その樹脂(水溶性高分子)はポリビニルアルコールであると断定することができる。 The resin content in the refractive index layer is preferably 5 to 50 mass%, more preferably 10 to 40 mass%, based on the total solid content of the refractive index layer. When the refractive index layer is formed by a wet film-forming method, the resin content is 5% by mass or more, and when the coating film obtained by coating is dried, the film surface is prevented from being deteriorated due to disturbance. It is preferable because it is possible. On the other hand, if the content of the resin is 50% by mass or less, it becomes a suitable content when metal oxide particles are contained in the low refractive index layer, and the refractive index difference between the low refractive index layer and the high refractive index layer. Is preferable because it can be increased. In addition, in this specification, content of resin is calculated | required from the residual solid content of the evaporation-drying method. Specifically, the optical control film is immersed in hot water at 95 ° C. for 2 hours, the remaining film is removed, the hot water is evaporated, and the amount of the obtained solid matter is defined as the resin amount. In this case, IR (infrared spectroscopy) 1700~1800Cm -1 in the spectrum, 900~1000Cm -1, and when the peak one each in the region of 800~900Cm -1 is observed, the resin (water-soluble polymer) Can be determined to be polyvinyl alcohol.

本発明において、少なくとも最下層は金属酸化物粒子を含み、好ましくは光学反射層を構成する高屈折率層および低屈折率層が金属酸化物粒子を含む。金属酸化物粒子を含有することで各屈折率層間の屈折率差を大きくすることができ、反射特性が向上する。低屈折率層および高屈折率層の双方が金属酸化物粒子を含有することにより、屈折率差をより大きくすることができる。金属酸化物粒子を含むことにより、積層数を低減することができ、薄膜とすることができる。層数を減らすことで、生産性が向上し、積層界面での散乱による透明性の減少を抑制することができる。   In the present invention, at least the lowermost layer contains metal oxide particles, and preferably, the high refractive index layer and the low refractive index layer constituting the optical reflection layer contain metal oxide particles. By containing metal oxide particles, the refractive index difference between the refractive index layers can be increased, and the reflection characteristics are improved. When both the low refractive index layer and the high refractive index layer contain metal oxide particles, the refractive index difference can be further increased. By including metal oxide particles, the number of stacked layers can be reduced and a thin film can be obtained. By reducing the number of layers, productivity can be improved and a decrease in transparency due to scattering at the lamination interface can be suppressed.

金属酸化物粒子としては、金属酸化物を構成する金属が、Li、Na、Mg、Al、Si、K、Ca、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Rb、Sr、Y、Nb、Zr、Mo、Ag、Cd、In、Sn、Sb、Cs、Ba、La、Ta、Hf、W、Ir、Tl、Pb、Bi及び希土類金属からなる群より選ばれる1種または2種以上の金属である金属酸化物を用いることができる。   As the metal oxide particles, the metal constituting the metal oxide is Li, Na, Mg, Al, Si, K, Ca, Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Rb, Sr, Y, Nb, Zr, Mo, Ag, Cd, In, Sn, Sb, Cs, Ba, La, Ta, Hf, W, Ir, Tl, Pb, Bi and a rare earth metal A metal oxide which is one kind or two or more kinds of metals can be used.

高屈折率層に用いる金属酸化物粒子としては、例えば、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ハフニウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化バリウム、酸化インジウム、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズ、酸化鉛、ならびにこれら酸化物より構成される複酸化物であるニオブ酸リチウム、ニオブ酸カリウム、タンタル酸リチウム、アルミニウム・マグネシウム酸化物(MgAl)などが挙げられる。 Examples of the metal oxide particles used in the high refractive index layer include titanium dioxide, zirconium oxide, zinc oxide, alumina, colloidal alumina, lead titanate, red lead, yellow lead, zinc yellow, chromium oxide, ferric oxide, Iron black, copper oxide, magnesium oxide, magnesium hydroxide, strontium titanate, yttrium oxide, hafnium oxide, niobium oxide, tantalum oxide, barium oxide, indium oxide, europium oxide, lanthanum oxide, zircon, tin oxide, lead oxide, and Examples thereof include lithium niobate, potassium niobate, lithium tantalate, and aluminum / magnesium oxide (MgAl 2 O 4 ), which are double oxides composed of these oxides.

また、金属酸化物粒子として、希土類酸化物を用いることもでき、具体的には、酸化スカンジウム、酸化イットリウム、酸化ランタン、酸化セリウム、酸化プラセオジム、酸化ネオジム、酸化サマリウム、酸化ユウロピウム、酸化ガドリニウム、酸化テルビウム、酸化ジスプロシウム、酸化ホルミウム、酸化エルビウム、酸化ツリウム、酸化イッテルビウム、酸化ルテチウム等も挙げられる。   In addition, rare earth oxides can also be used as the metal oxide particles. Specifically, scandium oxide, yttrium oxide, lanthanum oxide, cerium oxide, praseodymium oxide, neodymium oxide, samarium oxide, europium oxide, gadolinium oxide, and oxidation. Examples also include terbium, dysprosium oxide, holmium oxide, erbium oxide, thulium oxide, ytterbium oxide, and lutetium oxide.

高屈折率層に用いられる金属酸化物粒子としては、屈折率が1.90以上の金属酸化物粒子が好ましく、例えば、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化チタン、酸化亜鉛等を挙げることができる。中でも、透明でより屈折率の高い高屈折率層を形成することのできることから、二酸化チタンが好ましく、特にルチル型(正方晶形)酸化チタン粒子を用いることが好ましい。高屈折率層に用いられる金属酸化物粒子は、1種単独であってもよいし、2種以上併用してもよい。   The metal oxide particles used in the high refractive index layer are preferably metal oxide particles having a refractive index of 1.90 or more, and examples thereof include zirconium oxide, cerium oxide, titanium oxide, and zinc oxide. Among them, titanium dioxide is preferable because it can form a transparent and higher refractive index layer having a higher refractive index, and it is particularly preferable to use rutile (tetragonal) titanium oxide particles. The metal oxide particles used for the high refractive index layer may be used singly or in combination of two or more.

また、本発明において、高屈折率層の金属酸化物として酸化チタンが好ましいが、酸化チタンは含ケイ素の水和酸化物で被覆されたコアシェル粒子の形態であってもよい。当該コアシェル粒子は、酸化チタン粒子の表面を、コアとなる酸化チタンに含ケイ素の水和酸化物からなるシェルが被覆してなる構造を有する。かようなコアシェル粒子を高屈折率層に含有させることで、シェル層の含ケイ素の水和酸化物と水溶性樹脂との相互作用により、低屈折率層と高屈折率層との層間混合が抑制されうる。ここで、「被覆」とは、酸化チタン粒子の表面の少なくとも一部に、含ケイ素の水和酸化物が付着されている状態を意味する。すなわち、金属酸化物粒子として用いられる酸化チタン粒子の表面が、完全に含ケイ素の水和酸化物で被覆されていてもよく、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素の水和酸化物で被覆されていてもよい。被覆された酸化チタン粒子の屈折率が含ケイ素の水和酸化物の被覆量により制御される観点から、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素の水和酸化物で被覆されることが好ましい。以下ではこのような被覆された酸化チタン粒子を「シリカ付着二酸化チタンゾル」とも称する。酸化チタン粒子を含ケイ素の水和酸化物で被覆する方法としては、従来公知の方法により製造することができ、例えば、特開平10−158015号公報、特開2000−204301号公報、特開2007−246351号公報等に記載された事項を参照することができる。   In the present invention, titanium oxide is preferred as the metal oxide of the high refractive index layer, but the titanium oxide may be in the form of core-shell particles coated with a silicon-containing hydrated oxide. The core-shell particles have a structure in which the surface of the titanium oxide particles is coated with a shell made of a silicon-containing hydrated oxide on a titanium oxide serving as a core. By including such core-shell particles in the high refractive index layer, the intermixing of the low refractive index layer and the high refractive index layer is achieved by the interaction between the silicon-containing hydrated oxide of the shell layer and the water-soluble resin. Can be suppressed. Here, the “coating” means a state in which a silicon-containing hydrated oxide is attached to at least a part of the surface of the titanium oxide particles. That is, the surface of the titanium oxide particles used as the metal oxide particles may be completely covered with a silicon-containing hydrated oxide, and a part of the surface of the titanium oxide particles is a silicon-containing hydrated oxide. It may be coated. From the viewpoint that the refractive index of the coated titanium oxide particles is controlled by the coating amount of the silicon-containing hydrated oxide, it is preferable that a part of the surface of the titanium oxide particles is coated with the silicon-containing hydrated oxide. . Hereinafter, such coated titanium oxide particles are also referred to as “silica-attached titanium dioxide sol”. As a method of coating the titanium oxide particles with a silicon-containing hydrated oxide, it can be produced by a conventionally known method. For example, JP-A-10-158015, JP-A-2000-204301, JP-A-2007 Reference can be made to the matters described in JP-A-246351.

高屈折率層で用いられる金属酸化物粒子の体積平均粒径は、100nm以下であることが好ましく、80nm以下であることがより好ましく、ヘイズ値が低く可視光透過率に優れる観点から1〜70nmであることがさらに好ましく、10〜50nmであることがより好ましい。なお、ここで体積平均粒径とは、粒子そのものをレーザー回折散乱法、動的光散乱法、あるいは電子顕微鏡を用いて観察する方法や、屈折率層の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法により、1,000個の任意の粒子の粒径を測定し、それぞれd1、d2・・・di・・・dkの粒径を持つ粒子がそれぞれn1、n2・・・ni・・・nk個存在する粒子状の金属酸化物の集団において、粒子1個当りの体積をviとした場合に、体積平均粒径mv={Σ(vi・di)}/{Σ(vi)}で表される体積で重み付けされた平均粒径である。   The volume average particle size of the metal oxide particles used in the high refractive index layer is preferably 100 nm or less, more preferably 80 nm or less, and 1 to 70 nm from the viewpoint of a low haze value and excellent visible light transmittance. It is more preferable that it is 10 to 50 nm. Here, the volume average particle diameter means a method of observing the particle itself using a laser diffraction scattering method, a dynamic light scattering method, or an electron microscope, or a particle image appearing on the cross section or surface of the refractive index layer. The particle diameter of 1,000 arbitrary particles is measured by a method of observing with a microscope, and particles having particle diameters of d1, d2,. .. nk number of particulate metal oxides, where volume per particle is vi, volume average particle size mv = {Σ (vi · di)} / {Σ (vi)} The average particle diameter weighted by the volume represented by

高屈折率層における金属酸化物粒子の含有量としては、高屈折率層の固形分100質量%に対して、熱線遮蔽の観点および曲面形状のガラスにフィルムを適用した場合の色ムラ低減の観点から、30〜85質量%であることが好ましく、40〜80質量%であることがより好ましい。   The content of the metal oxide particles in the high refractive index layer is 100% by mass of the solid content of the high refractive index layer, from the viewpoint of heat ray shielding and from the viewpoint of reducing color unevenness when a film is applied to curved glass. Therefore, it is preferable that it is 30-85 mass%, and it is more preferable that it is 40-80 mass%.

また、低屈折率層に用いられる金属酸化物粒子としては、二酸化ケイ素を用いることが好ましく、コロイダルシリカを用いることが特に好ましい。低屈折率層に含まれる金属酸化物粒子(好ましくは二酸化ケイ素)は、その平均粒径が3〜100nmであることが好ましい。一次粒子の状態で分散された二酸化ケイ素の一次粒子の平均粒径(塗布前の分散液状態での粒径)は、3〜50nmであるのがより好ましく、3〜40nmであるのがさらに好ましく、3〜20nmであるのが特に好ましく、4〜10nmであるのが最も好ましい。また、二次粒子の平均粒径としては、30nm以下であることが、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。低屈折率層中の金属酸化物の平均粒径は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、1,000個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値(個数平均)として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。   Moreover, as a metal oxide particle used for a low refractive index layer, it is preferable to use silicon dioxide, and it is especially preferable to use colloidal silica. The metal oxide particles (preferably silicon dioxide) contained in the low refractive index layer preferably have an average particle size of 3 to 100 nm. The average particle size of primary particles of silicon dioxide dispersed in a primary particle state (particle size in a dispersion state before coating) is more preferably 3 to 50 nm, and further preferably 3 to 40 nm. 3 to 20 nm is particularly preferable, and 4 to 10 nm is most preferable. Moreover, as an average particle diameter of secondary particle | grains, it is preferable from a viewpoint with few hazes and excellent visible light transmittance | permeability that it is 30 nm or less. The average particle size of the metal oxide in the low refractive index layer is determined by observing the particles themselves or the cross section or surface of the refractive index layer with an electron microscope and measuring the particle size of 1,000 arbitrary particles. The simple average value (number average) is obtained. Here, the particle diameter of each particle is represented by a diameter assuming a circle equal to the projected area.

低屈折率層における金属酸化物粒子の含有量としては、低屈折率層の固形分に対して、屈折率の観点から、30〜85質量%であることが好ましく、40〜80質量%であることがさらに好ましい。   As content of the metal oxide particle in a low-refractive-index layer, it is preferable that it is 30-85 mass% with respect to solid content of a low-refractive-index layer from a refractive index viewpoint, and it is 40-80 mass%. More preferably.

コロイダルシリカは、珪酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであり、たとえば、特開昭57−14091号公報、特開昭60−219083号公報、特開昭60−219084号公報、特開昭61−20792号公報、特開昭61−188183号公報、特開昭63−17807号公報、特開平4−93284号公報、特開平5−278324号公報、特開平6−92011号公報、特開平6−183134号公報、特開平6−297830号公報、特開平7−81214号公報、特開平7−101142号公報、特開平7−179029号公報、特開平7−137431号公報、および国際公開第94/26530号パンフレットなどに記載されているものである。この様なコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。コロイダルシリカは、その表面をカチオン変性されたものであってもよく、また、Al、Ca、MgまたはBa等で処理された物であってもよい。   Colloidal silica is obtained by heating and aging a silica sol obtained by metathesis of sodium silicate with an acid or the like or passing through an ion exchange resin layer. For example, JP-A-57-14091 and JP-A-60- No. 219083, JP-A-60-218904, JP-A-61-20792, JP-A-61-188183, JP-A-63-17807, JP-A-4-93284, JP-A-5-278324, JP-A-6-92011, JP-A-6-183134, JP-A-6-297830, JP-A-7-81214, JP-A-7-101142, JP-A-7- 179029, JP-A-7-137431, and WO94 / 26530 pamphlet. That. Such colloidal silica may be a synthetic product or a commercially available product. The surface of the colloidal silica may be cation-modified, or may be treated with Al, Ca, Mg, Ba or the like.

このようなコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、日産化学工業(株)から販売されているスノーテックスシリーズ(スノーテックスOS、OXS、S、OS、20、30、40、O、N、C等)が挙げられる。   Such colloidal silica may be a synthetic product or a commercially available product. Examples of commercially available products include the Snowtex series (Snowtex OS, OXS, S, OS, 20, 30, 40, O, N, C, etc.) sold by Nissan Chemical Industries.

各屈折率層は、上記以外にも、例えば、特開昭57−74193号公報、同57−87988号公報および同62−261476号公報に記載の紫外線吸収剤、特開昭57−74192号公報、同57−87989号公報、同60−72785号公報、同61−146591号公報、特開平1−95091号公報および同3−13376号公報等に記載されている退色防止剤、特開昭59−42993号公報、同59−52689号公報、同62−280069号公報、同61−242871号公報および特開平4−219266号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のpH調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、帯電防止剤、マット剤等の公知の各種添加剤を含有していてもよい。これらの添加物の含有量は、屈折率層の固形分に対して、0.1〜10質量%であることが好ましい。   In addition to the above, each refractive index layer is composed of, for example, ultraviolet absorbers described in JP-A-57-74193, JP-A-57-87988, and JP-A-62-261476, and JP-A-57-74192. No. 57-87989, No. 60-72785, No. 61-146591, No. 1-95091, No. 3-13376, etc. No. 42993, 59-52689, 62-280069, 61-242871, and JP-A 4-219266, etc., whitening agent, sulfuric acid, phosphoric acid, acetic acid PH adjusters such as citric acid, sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, antifoaming agents, lubricants such as diethylene glycol, preservatives, antistatic agents, Various known additives such as DOO agent may contain. The content of these additives is preferably 0.1 to 10% by mass with respect to the solid content of the refractive index layer.

または、各屈折率層が水溶性高分子を含む場合には、水溶性高分子を硬化させるために、硬化剤を使用することもできる。硬化剤としては、ホウ酸及びその塩、エチレングリコールジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ジグリシジルシクロヘキサン、N,N−ジグリシジル−4−グリシジルオキシアニリン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル等)、アルデヒド系硬化剤(ホルムアルデヒド、グリオキザール等)、活性ハロゲン系硬化剤(2,4−ジクロロ−4−ヒドロキシ−1,3,5,−s−トリアジン等)、活性ビニル系化合物(1,3,5−トリスアクリロイル−ヘキサヒドロ−s−トリアジン、ビスビニルスルホニルメチルエーテル等)、アルミニウム明礬、ホウ砂等が挙げられる。屈折率層における硬化剤の含有量は、屈折率層の固形分に対して、1〜10質量%であることが好ましい。   Alternatively, when each refractive index layer contains a water-soluble polymer, a curing agent can be used to cure the water-soluble polymer. Curing agents include boric acid and its salts, ethylene glycol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-diglycidylcyclohexane, N, N-diglycidyl-4-glycidyloxyaniline, sorbitol polyglycidyl Ether, glycerol polyglycidyl ether, etc.), aldehyde-based curing agents (formaldehyde, glyoxal, etc.), active halogen-based curing agents (2,4-dichloro-4-hydroxy-1,3,5, -s-triazine, etc.), active Examples thereof include vinyl compounds (1,3,5-trisacryloyl-hexahydro-s-triazine, bisvinylsulfonylmethyl ether, etc.), aluminum alum, borax and the like. It is preferable that content of the hardening | curing agent in a refractive index layer is 1-10 mass% with respect to solid content of a refractive index layer.

または、各屈折率層は、塗布時の表面張力調整のために、界面活性剤を含んでもよい。ここで、界面活性剤としてアニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤などを用いることができるが、アニオン系界面活性剤がより好ましい。好ましい化合物としては、1分子中に炭素数8〜30の疎水性基とスルホン酸基又はその塩を含有するものが挙げられる。各屈折率層における界面活性剤の含有量は、屈折率層の固形分に対して、0.01〜5質量%であることが好ましい。   Alternatively, each refractive index layer may contain a surfactant for adjusting the surface tension at the time of application. Here, an anionic surfactant, a nonionic surfactant, an amphoteric surfactant, and the like can be used as the surfactant, and an anionic surfactant is more preferable. Preferred compounds include those containing a hydrophobic group having 8 to 30 carbon atoms and a sulfonic acid group or a salt thereof in one molecule. The content of the surfactant in each refractive index layer is preferably 0.01 to 5% by mass with respect to the solid content of the refractive index layer.

塗布液の調製方法は、特に制限されず、例えば、樹脂、金属酸化物粒子、親水性有機溶剤、および必要に応じて添加されるその他の添加剤を添加し、攪拌混合する方法が挙げられる。この際、各成分の添加順も特に制限されず、攪拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、攪拌しながら一度に添加し混合してもよい。必要に応じて、さらに溶媒を用いて、適当な粘度に調製される。   The method for preparing the coating liquid is not particularly limited, and examples thereof include a method in which a resin, metal oxide particles, a hydrophilic organic solvent, and other additives that are added as necessary are added and stirred. At this time, the order of addition of the respective components is not particularly limited, and the respective components may be sequentially added and mixed while stirring, or may be added and mixed at one time while stirring. If necessary, it is further adjusted to an appropriate viscosity using a solvent.

また、塗布液を基材に塗布(例えば、同時重層塗布)する際の塗布液の温度は、スライドビード塗布方式を用いる場合は、25〜60℃の温度範囲が好ましく、30〜45℃の温度範囲がより好ましい。また、カーテン塗布方式を用いる場合は、25〜60℃の温度範囲が好ましく、30〜45℃の温度範囲がより好ましい。   In addition, the temperature of the coating solution when applying the coating solution to the substrate (for example, simultaneous multi-layer coating) is preferably 25 to 60 ° C., and 30 to 45 ° C. when using the slide bead coating method. A range is more preferred. Moreover, when using a curtain application | coating system, the temperature range of 25-60 degreeC is preferable, and the temperature range of 30-45 degreeC is more preferable.

塗布(例えば、同時重層塗布)を行う際の塗布液の粘度は、特に制限されない。しかしながら、スライドビード塗布方式を用いる場合には、上記の塗布液の好ましい温度の範囲において、5〜100mPa・sの範囲であることが好ましく、10〜50mPa・sの範囲であることがより好ましい。また、カーテン塗布方式を用いる場合には、上記の塗布液の好ましい温度の範囲において、5〜1200mPa・sの範囲であることが好ましく、25〜500mPa・sの範囲であることがより好ましい。このような粘度の範囲であれば、効率よく同時重層塗布を行うことができる。また、塗布液の15℃における粘度としては、100mPa・s以上が好ましく、100〜30,000mPa・sがより好ましく、さらに好ましくは3,000〜30,000mPa・sであり、最も好ましいのは10,000〜30,000mPa・sである。   The viscosity of the coating solution at the time of coating (for example, simultaneous multilayer coating) is not particularly limited. However, when the slide bead coating method is used, it is preferably in the range of 5 to 100 mPa · s and more preferably in the range of 10 to 50 mPa · s in the preferable temperature range of the coating solution. Moreover, when using a curtain application | coating system, it is preferable that it is the range of 5-1200 mPa * s in the range of the preferable temperature of said coating liquid, and it is more preferable that it is the range of 25-500 mPa * s. If it is the range of such a viscosity, simultaneous multilayer coating can be performed efficiently. Further, the viscosity at 15 ° C. of the coating solution is preferably 100 mPa · s or more, more preferably 100 to 30,000 mPa · s, further preferably 3,000 to 30,000 mPa · s, and most preferably 10 , 30,000 to 30,000 mPa · s.

塗布および乾燥方法としては、塗布液を所望の温度に加温して、塗布を行った後、形成した塗膜の温度を1〜15℃に一旦冷却し、10℃以上で乾燥することが好ましく、より好ましくは、乾燥条件として、50〜90℃の温度で行うことが好ましい。また、塗布直後の冷却方式としては、形成された塗膜均一性の観点から、水平セット方式で行うことが好ましい。   As a coating and drying method, it is preferable that the coating liquid is heated to a desired temperature and coated, and then the temperature of the formed coating film is once cooled to 1 to 15 ° C and dried at 10 ° C or higher. More preferably, the drying is performed at a temperature of 50 to 90 ° C. Moreover, as a cooling method immediately after application | coating, it is preferable to carry out by a horizontal set system from a viewpoint of the formed coating-film uniformity.

上述したようにして、光学反射層が基材上に形成される。ここで、光学反射層は、高屈折率層および低屈折率層が交互に積層されたユニット(積層体)を少なくとも1つ有する構成であればよいが、高屈折率層および低屈折率層の層数(屈折率層の総数)は、特に制限はないが、好ましくは6〜2000(すなわち、3〜1000ユニット)であり、より好ましくは10〜1000(すなわち、5〜500ユニット)であり、さらに好ましくは10〜500(すなわち、5〜250ユニット)である。層数が2000を超えるとヘイズが高くなり、6未満であると所望の反射率に達しないことがある。また、本発明の光学制御フィルムは、上記基材上にユニットを少なくとも1つ以上有する構成であればよい。例えば、積層膜の最下層および最表層は、高屈折率層および低屈折率層のいずれであってもよい。しかしながら、低屈折率層が最下層および最表層に位置する層構成とすることにより、最下層の隣接層(例えば、基体、光学反射層)への密着性、最上層の耐久性に優れるという観点から、最下層および最表層が低屈折率層(即ち、屈折率層の総数が奇数)である層構成が好ましい。   As described above, the optical reflection layer is formed on the substrate. Here, the optical reflection layer may be configured to have at least one unit (stacked body) in which high refractive index layers and low refractive index layers are alternately stacked. The number of layers (total number of refractive index layers) is not particularly limited, but is preferably 6 to 2000 (that is, 3 to 1000 units), more preferably 10 to 1000 (that is, 5 to 500 units), More preferably, it is 10-500 (namely, 5-250 units). If the number of layers exceeds 2000, haze increases, and if it is less than 6, the desired reflectance may not be achieved. Moreover, the optical control film of this invention should just be a structure which has at least 1 or more units on the said base material. For example, the lowermost layer and the outermost layer of the laminated film may be either a high refractive index layer or a low refractive index layer. However, by adopting a layer configuration in which the low refractive index layer is located in the lowermost layer and the outermost layer, the viewpoint that the adhesion to the lowermost adjacent layer (for example, the substrate, the optical reflection layer) and the durability of the uppermost layer are excellent. Therefore, a layer configuration in which the lowermost layer and the outermost layer are low refractive index layers (that is, the total number of refractive index layers is an odd number) is preferable.

光学反射層において、高屈折率層は、より高い屈折率が好ましいが、屈折率が、好ましくは1.70〜2.50であり、より好ましくは1.80〜2.20である。また、低屈折率層は、より低い屈折率が好ましいが、屈折率が、好ましくは1.10〜1.60であり、より好ましくは1.30〜1.55であり、さらに好ましくは1.30〜1.50である。   In the optical reflection layer, the high refractive index layer preferably has a higher refractive index, but the refractive index is preferably 1.70 to 2.50, more preferably 1.80 to 2.20. The low refractive index layer preferably has a lower refractive index, but preferably has a refractive index of 1.10 to 1.60, more preferably 1.30 to 1.55, and even more preferably 1. 30 to 1.50.

光学反射層においては、高屈折率層と低屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で熱線反射率を高くすることができる観点から好ましい。高屈折率層および低屈折率層から構成されるユニットの少なくとも1つにおいて、隣接する該高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が0.1以上であることが好ましく、より好ましくは0.2以上であり、さらに好ましくは0.25以上である。光学反射層が低屈折率層および高屈折率層のユニットを複数有する場合には、全てのユニットにおける低屈折率層と高屈折率層との屈折率差が上記好適な範囲内にあることが好ましい。ただし、光学反射層の最表層や最下層に関しては、上記好適な範囲外の構成であってもよい。   In the optical reflection layer, it is preferable to design a large difference in refractive index between the high refractive index layer and the low refractive index layer from the viewpoint of increasing the heat ray reflectance with a small number of layers. In at least one of the units composed of the high refractive index layer and the low refractive index layer, the difference in refractive index between the adjacent high refractive index layer and low refractive index layer is preferably 0.1 or more, more preferably Is 0.2 or more, more preferably 0.25 or more. When the optical reflective layer has a plurality of units of the low refractive index layer and the high refractive index layer, the refractive index difference between the low refractive index layer and the high refractive index layer in all the units may be within the preferred range. preferable. However, the outermost layer and the lowermost layer of the optical reflection layer may have a configuration outside the above preferred range.

特定波長領域の反射率は、隣接する2層(高屈折率層と低屈折率層)の屈折率差と積層数で決まり、屈折率差が大きいほど、少ない層数で同じ反射率を得られる。この屈折率差と必要な層数については、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。例えば、赤外反射率(赤外遮蔽率)90%以上を得るためには、屈折率差が0.1より小さいと、100層を超える積層が必要になり、生産性が低下するだけでなく、積層界面での散乱が大きくなり、透明性が低下する。反射率の向上と層数を少なくする観点からは、屈折率差に上限はないが、実質的には1.4程度である。   The reflectance in a specific wavelength region is determined by the difference in refractive index between two adjacent layers (high refractive index layer and low refractive index layer) and the number of layers, and the larger the refractive index difference, the same reflectance can be obtained with a smaller number of layers. . The refractive index difference and the required number of layers can be calculated using commercially available optical design software. For example, in order to obtain an infrared reflectivity (infrared shielding rate) of 90% or more, if the difference in refractive index is smaller than 0.1, a laminate exceeding 100 layers is required, which not only reduces productivity. , Scattering at the laminated interface increases and transparency decreases. From the viewpoint of improving the reflectance and reducing the number of layers, there is no upper limit to the difference in refractive index, but it is substantially about 1.4.

上記屈折率は、高屈折率層、低屈折率層の屈折率を下記の方法に従って求め、両者の差分として求める。すなわち、(必要により基材を用いて)各屈折率層を単層で作製し、このサンプルを10cm×10cmに断裁した後、下記の方法に従って屈折率を求める。分光光度計として、U−4000型(日立製作所社製)を用いて、各サンプルの測定面とは反対側の面(裏面)を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、5度正反射の条件にて可視光領域(400nm〜700nm)の反射率を25点測定して平均値を求め、その測定結果より平均屈折率を求める。   The refractive index is obtained as the difference between the refractive indexes of the high refractive index layer and the low refractive index layer according to the following method. That is, each refractive index layer is formed as a single layer (using a base material if necessary), and after cutting this sample into 10 cm × 10 cm, the refractive index is obtained according to the following method. Using a U-4000 type (manufactured by Hitachi, Ltd.) as a spectrophotometer, the surface opposite to the measurement surface (back surface) of each sample is roughened, and then light absorption is performed with a black spray. Then, the reflection of light on the back surface is prevented, and the reflectance in the visible light region (400 nm to 700 nm) is measured at 25 points under the condition of regular reflection at 5 degrees to obtain an average value, and the average refractive index is determined from the measurement result. Ask.

また、単層膜でみたとき層表面における反射光と、層底部における反射光の光路差を、n・d=波長/4、で表される関係にすると位相差により反射光を強めあうよう制御出来、反射率を上げることができる。ここで、nは屈折率、またdは層の物理膜厚、n・dは光学膜厚である。この光路差を利用することで、反射を制御出来る。この関係を利用して、各層の屈折率と膜厚を制御して、可視光や、近赤外光の反射を制御する。即ち、各層の屈折率、各層の膜厚、各層の積層のさせ方で、特定波長領域の反射率をアップさせることができる。   In addition, when the optical path difference between the reflected light on the surface of the layer and the reflected light on the bottom of the layer is a relationship expressed by n · d = wavelength / 4 when viewed as a single layer film, the reflected light is controlled to be strengthened by the phase difference. And reflectivity can be increased. Here, n is the refractive index, d is the physical film thickness of the layer, and n · d is the optical film thickness. By using this optical path difference, reflection can be controlled. Using this relationship, the refractive index and film thickness of each layer are controlled to control the reflection of visible light and near infrared light. That is, the reflectance in a specific wavelength region can be increased by the refractive index of each layer, the film thickness of each layer, and the way of stacking each layer.

低屈折率層及び高屈折率層の1層あたりの厚み(乾燥後の厚み)は、20〜1000nmであることが好ましく、50〜500nmであることがより好ましく、100〜300nmであることがさらにより好ましく、100〜200nmであることが特に好ましい。低屈折率層および高屈折率層の厚みは、同じであってもまたは異なるものであってもよい。各屈折率層の1層あたりの厚みは、ダイスの押出口におけるフィルム厚さ方向の幅を変更すること、および/または延伸条件により、調節することができる。なお、積層体を延伸する場合は、上記膜厚は延伸後の厚さを示す。   The thickness (thickness after drying) of the low refractive index layer and the high refractive index layer is preferably 20 to 1000 nm, more preferably 50 to 500 nm, and further preferably 100 to 300 nm. More preferably, the thickness is particularly preferably 100 to 200 nm. The thickness of the low refractive index layer and the high refractive index layer may be the same or different. The thickness per layer of each refractive index layer can be adjusted by changing the width in the film thickness direction at the die extrusion port and / or by stretching conditions. In addition, when extending | stretching a laminated body, the said film thickness shows the thickness after extending | stretching.

本発明において、基材は、特に制限されず、フィルム支持体であることが好ましく、フィルム支持体は、透明であっても不透明であってもよく、種々の基材を用いることができる。   In the present invention, the substrate is not particularly limited and is preferably a film support. The film support may be transparent or opaque, and various substrates can be used.

例えば、ポリオレフィンフィルム(ポリエチレン、ポリプロピレン等)、ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリ塩化ビニル、3酢酸セルロース等を用いることができ、好ましくはポリエステルフィルムである。ポリエステルフィルム(以降ポリエステルと称す)としては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルであることが好ましい。   For example, polyolefin films (polyethylene, polypropylene, etc.), polyester films (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polyvinyl chloride, cellulose acetate, etc. can be used, and polyester films are preferred. Although it does not specifically limit as a polyester film (henceforth polyester), It is preferable that it is polyester which has the film formation property which has a dicarboxylic acid component and a diol component as main structural components.

本発明に用いられる基材の厚みは、10〜300μm、特に20〜150μmであることが好ましい。また、基材は、2枚以上重ねたものであっても良く、この場合、各基材は同じでも異なってもよい。さらに、基材が光学反射層の両面に配置される場合には、各基材は同じでも異なってもよい。   The thickness of the base material used in the present invention is preferably 10 to 300 μm, particularly 20 to 150 μm. Two or more substrates may be stacked, and in this case, each substrate may be the same or different. Furthermore, when a base material is arrange | positioned at both surfaces of an optical reflection layer, each base material may be the same or different.

上記方法によって、高い可視光透過性および赤外反射性を有し、耐候性に優れる光学制御フィルムが製造できる。   By the above method, an optical control film having high visible light transmittance and infrared reflectivity and excellent weather resistance can be produced.

本発明に係る光学制御フィルムは反射率をアップさせる特定波長領域を変えることにより、可視光反射フィルムや近赤外線反射フィルムとすることができる。即ち、反射率をアップさせる特定波長領域を可視光領域に設定すれば可視光線反射フィルムとなり、近赤外領域に設定すれば近赤外線反射フィルムとなる。近赤外反射フィルムの場合、JIS R3106:1998で示される可視光領域の550nmでの透過率が50%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましく、75%以上であることがさらに好ましい。また、1200nmでの透過率が35%以下であることが好ましく、25%以下であることがより好ましく、20%以下であることがさらに好ましい。かような好適な範囲となるように光学膜厚とユニットを設計することが好ましい。また、波長900nm〜1400nmの領域に反射率50%を超える領域を有することが好ましい。   The optical control film according to the present invention can be made into a visible light reflection film or a near-infrared reflection film by changing a specific wavelength region for increasing the reflectance. That is, if the specific wavelength region for increasing the reflectance is set to the visible light region, the visible light reflecting film is obtained, and if the specific wavelength region is set to the near infrared region, the near infrared reflecting film is obtained. In the case of a near-infrared reflective film, the transmittance at 550 nm in the visible light region shown in JIS R3106: 1998 is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, and 75% or more. Is more preferable. Further, the transmittance at 1200 nm is preferably 35% or less, more preferably 25% or less, and further preferably 20% or less. It is preferable to design the optical film thickness and unit so as to be in such a suitable range. Moreover, it is preferable to have the area | region which has a reflectance exceeding 50% in the area | region of wavelength 900nm-1400nm.

太陽光の入射スペクトルのうち赤外域が特に室内温度上昇に関係するため、近赤外光を遮蔽することが室内温度の上昇を抑えるのに特に有効である。日本工業規格JIS R3106:1998に記載された重価係数をもとに赤外の最短波長(760nm)から最長波長3200nmまでの累積エネルギー比率をみてみると、波長760nmから最長波長3200nmまでの赤外全域の総エネルギーを100としたときの、760nmから各波長までの累積エネルギーをみると、760から1300nmのエネルギー合計が赤外域全体の約75%を占めている。従って、1300nmまでの波長領域を遮蔽することが熱線遮蔽による省エネルギー効果の効率がよい。   Since the infrared region of the incident spectrum of sunlight is particularly related to the increase in indoor temperature, shielding near infrared light is particularly effective for suppressing the increase in indoor temperature. Looking at the cumulative energy ratio from the shortest infrared wavelength (760 nm) to the longest wavelength 3200 nm based on the weight coefficient described in Japanese Industrial Standard JIS R3106: 1998, the infrared from the wavelength 760 nm to the longest wavelength 3200 nm Looking at the cumulative energy from 760 nm to each wavelength when the total energy of the entire region is 100, the total energy from 760 to 1300 nm occupies about 75% of the entire infrared region. Therefore, shielding the wavelength region up to 1300 nm is efficient in energy saving effect by heat ray shielding.

本発明に係る光学制御フィルムの全体の厚みは、好ましくは12〜315μm、より好ましくは15〜200μm、さらに好ましくは20〜100μmである。   The total thickness of the optical control film according to the present invention is preferably 12 to 315 μm, more preferably 15 to 200 μm, and still more preferably 20 to 100 μm.

本発明に係る光学制御フィルムは、基材および光学反射層を必須に備えるが、他の構成部材を有していてもよい。例えば、本発明に係る光学制御フィルムは、光学反射層上あるいは、基材を介して光学反射層と反対側にハードコート層を有していてもよい。ハードコート層は、光学制御フィルムの耐擦過性を高めるための表面保護層として機能する。なお、本明細書において「ハードコート層」とは、JIS K 5600−5−4:1999に準じた鉛筆硬度がH以上の層である。   The optical control film according to the present invention essentially includes a base material and an optical reflection layer, but may have other constituent members. For example, the optical control film according to the present invention may have a hard coat layer on the optical reflective layer or on the opposite side of the optical reflective layer via the substrate. The hard coat layer functions as a surface protective layer for enhancing the scratch resistance of the optical control film. In the present specification, the “hard coat layer” is a layer having a pencil hardness of H or more according to JIS K 5600-5-4: 1999.

ハードコート層は、1層のみでもまたは2層以上の積層体であってもよい。光学制御フィルムが2層以上のハードコート層を有する場合、各ハードコート層の構成は同じでもよいし異なっていてもよい。   The hard coat layer may be a single layer or a laminate of two or more layers. When the optical control film has two or more hard coat layers, the configuration of each hard coat layer may be the same or different.

光学制御フィルムにハードコート層を有する際に、当該ハードコート層を構成するハードコート材料としては、特に制限されないが、活性エネルギー線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、ポリシロキサン系に代表される無機系材料(ポリシロキサン系ハードコート材料)などが好ましく使用される。上記ハードコート材料は、単独で使用されてもあるいは2種以上の混合物の形態で使用されてもよい。   When the optical control film has a hard coat layer, the hard coat material constituting the hard coat layer is not particularly limited, but is an inorganic represented by active energy ray curable resin, thermosetting resin, and polysiloxane. A material (polysiloxane hard coat material) or the like is preferably used. The hard coat material may be used alone or in the form of a mixture of two or more.

活性エネルギー線硬化性樹脂としては、特に制限されないが、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含むものであることが好ましく、紫外線硬化性樹脂であることがより好ましい。当該紫外線硬化樹脂としては、特に制限されないが、紫外線硬化型ウレタン(メタ)アクリレート樹脂、紫外線硬化型ポリエステル(メタ)アクリレート樹脂、紫外線硬化型エポキシ(メタ)アクリレート樹脂、紫外線硬化型ポリオール(メタ)アクリレート樹脂等が挙げられる。これらのうち、紫外線硬化型(メタ)アクリレート系樹脂を用いることが好ましい。   The active energy ray curable resin is not particularly limited, but preferably contains a monomer having an ethylenically unsaturated double bond, and more preferably an ultraviolet curable resin. The ultraviolet curable resin is not particularly limited, but is an ultraviolet curable urethane (meth) acrylate resin, an ultraviolet curable polyester (meth) acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy (meth) acrylate resin, an ultraviolet curable polyol (meth) acrylate. Examples thereof include resins. Among these, it is preferable to use an ultraviolet curable (meth) acrylate resin.

紫外線硬化型ウレタン(メタ)アクリレート樹脂は、ポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー又はプレポリマーを反応させて得られた生成物に、さらに2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等のヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭59−151110号公報に記載のユニディック17−806(DIC株式会社製)100部とコロネートL(日本ポリウレタン工業株式会社製)1部との混合物等が好ましく用いられる。   The ultraviolet curable urethane (meth) acrylate resin is obtained by reacting a polyester polyol with an isocyanate monomer or a prepolymer, and further adding 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2 It can be easily obtained by reacting a (meth) acrylate monomer having a hydroxy group such as hydroxypropyl (meth) acrylate. For example, a mixture of 100 parts of Unidic 17-806 (manufactured by DIC Corporation) and 1 part of Coronate L (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) described in JP-A-59-151110 is preferably used.

紫外線硬化型ポリエステル(メタ)アクリレート樹脂は、ポリエステル末端のヒドロキシ基やカルボキシ基に、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸等のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる(例えば、特開昭59−151112号公報)。   UV curable polyester (meth) acrylate resin is easy by reacting monomers such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid to the hydroxyl or carboxy group at the end of the polyester. (For example, JP-A-59-151112).

紫外線硬化型エポキシ(メタ)アクリレート樹脂は、エポキシ樹脂の末端のヒドロキシ基に、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸クロライド、グリシジル(メタ)アクリレート等のモノマーを反応させることによって得ることができる。例えばユニディックV−5500(DIC株式会社製)等が挙げられる。   The ultraviolet curable epoxy (meth) acrylate resin can be obtained by reacting a terminal hydroxyl group of the epoxy resin with a monomer such as (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid chloride, or glycidyl (meth) acrylate. . For example, Unidic V-5500 (manufactured by DIC Corporation) can be used.

紫外線硬化型ポリオール(メタ)アクリレート樹脂としては、特に制限されないが、エチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   The ultraviolet curable polyol (meth) acrylate resin is not particularly limited, but ethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol. Examples include tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and alkyl-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate.

また、ハードコート層の形成に適用可能なポリシロキサン系ハードコート材料としては、下記一般式(1)で表される化合物が好ましい。   Moreover, as a polysiloxane type | system | group hard-coat material applicable to formation of a hard-coat layer, the compound represented by following General formula (1) is preferable.

上記一般式(1)において、RおよびRは、それぞれ独立して、炭素数1〜10の直鎖状、分枝状、または環状のアルキル基を表し、mおよびnは、m+n=4の関係を満たす整数である。 In the general formula (1), R and R 1 each independently represent a linear, branched, or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and m and n are m + n = 4. An integer that satisfies the relationship.

具体的な化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−ポロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テロラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。また、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、N−β−(N−アミノベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、オクタデシルジメチル[3−(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウムクロライドを挙げることができる。これらのメトキシ基、エトキシ基などの加水分解性基がヒドロキシ基に置換した状態のものが、一般的にポリオルガノシロキサン系ハードコート材料といわれている。   Specific compounds include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-popropoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, tera Pentaethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-propoxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyl Tributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethylpropoxysilane, dimethylbutoxy Emissions, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, hexyl trimethoxysilane. In addition, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, N-β- ( N-aminobenzylaminoethyl) -γ-aminopropylmethoxysilane / hydrochloride, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, aminosilane, methylmethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-chloro Mention may be made of propyltrilimethoxysilane, hexamethyldisilazane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, octadecyldimethyl [3- (trimethoxysilyl) propyl] ammonium chloride. Those having a hydrolyzable group such as methoxy group or ethoxy group substituted with a hydroxy group are generally referred to as polyorganosiloxane hard coat materials.

前記ポリオルガノシロキサン系ハードコート材料は、具体的にはサーコートシリーズ、BP−16N(以上、株式会社動研製)、SR2441(東レ・ダウコーニング株式会社製)、Perma−New 6000(California Hardcoating Company社製)などを利用することができる。   Specifically, the polyorganosiloxane-based hard coat material is Surcoat series, BP-16N (manufactured by Doken Co., Ltd.), SR2441 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), Perma-New 6000 (California Hardcoating Company) ) Etc. can be used.

これらのうち、硬化後の硬さ及び収縮応力等を考慮すると、活性エネルギー線硬化性樹脂を使用することが好ましい。すなわち、ハードコート層は、活性エネルギー線硬化性樹脂を含むことが好ましい。   Among these, it is preferable to use an active energy ray-curable resin in consideration of hardness after curing, shrinkage stress, and the like. That is, the hard coat layer preferably contains an active energy ray curable resin.

ハードコート層中のハードコート材料の量は、特に制限されないが、ハードコート層の固形分に対して20〜100質量%であることが好ましく、30〜99.9質量%であることがより好ましい。   The amount of the hard coat material in the hard coat layer is not particularly limited, but is preferably 20 to 100% by mass and more preferably 30 to 99.9% by mass with respect to the solid content of the hard coat layer. .

また、太陽光曝露状況下においても、ハードコート層は収縮を促進しないような構成を有することが望ましい。このような収縮を抑制または防止することを目的として、該ハードコート層は、紫外線吸収剤および/または酸化防止剤を含有してもよい。ハードコート層が紫外線吸収剤または酸化防止剤を含む場合に使用できる紫外線吸収剤および/または酸化防止剤は、特に制限されず、公知の紫外線吸収剤および酸化防止剤を使用できる。具体的には、酸化防止剤としては、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、テトラキス−〔メチレン−3−(3’、5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕メタン等のフェノール系酸化防止剤;ジステアリル−3,3’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−(β−ラウリル−チオプロピオネート)等のチオール系酸化防止剤;トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ(2,6−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト等のホスファイト系酸化防止剤;ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート等のヒンダードアミン系酸化防止剤;などが挙げられる。なお、酸化防止剤は、単独でもまたは2種以上混合して用いてもよい。また、酸化防止剤は、合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。市販品の例としては、例えば、ノクラック(登録商標)シリーズ(大内新興化学工業株式会社製)、アデカスタブ(登録商標)シリーズ(以上、株式会社ADEKA製)、IRGANOX(登録商標)シリーズ、IRGAFOS(登録商標)シリーズ(以上いずれもチバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)、Sumilizer(登録商標)シリーズ(以上、住友化学株式会社製)等が挙げられる。   Moreover, it is desirable that the hard coat layer has a configuration that does not promote shrinkage even under sunlight exposure conditions. In order to suppress or prevent such shrinkage, the hard coat layer may contain an ultraviolet absorber and / or an antioxidant. The ultraviolet absorber and / or antioxidant that can be used when the hard coat layer contains an ultraviolet absorber or an antioxidant is not particularly limited, and known ultraviolet absorbers and antioxidants can be used. Specifically, as the antioxidant, 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl) butane, 2,2′-methylenebis (4-ethyl-6-t) -Butylphenol), tetrakis- [methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate] phenolic antioxidants such as methane; distearyl-3,3′-thio Thiol antioxidants such as dipropionate, pentaerythritol-tetrakis- (β-lauryl-thiopropionate); tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, distearyl pentaerythritol diphosphite Phosphite antioxidants such as di (2,6-di-t-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite; bis (2,2 6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) hindered amine antioxidants such sebacate; and the like. In addition, you may use antioxidant alone or in mixture of 2 or more types. As the antioxidant, a synthetic product or a commercially available product may be used. Examples of commercially available products include, for example, NOCRACK (registered trademark) series (manufactured by Ouchi Shinsei Chemical Co., Ltd.), ADK STAB (registered trademark) series (manufactured by ADEKA Corporation), IRGANOX (registered trademark) series, IRGAFOS ( (Registered trademark) series (all of which are manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and Sumilizer (registered trademark) series (which are manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.).

また、紫外線吸収剤としては、下記粘着層に記載されるのと同様のものが使用できる。   Moreover, as an ultraviolet absorber, the same thing as described in the following adhesion layer can be used.

ハードコート層が紫外線吸収剤または酸化防止剤を含む場合の、これらの含有量は、ハードコート層の全質量に対して、0.05〜10質量%であることが好ましく、0.1〜5質量%以下であることがより好ましい。これは、ハードコート層に紫外線が照射された場合、ハードコート層内の反応が促進し収縮応力が上昇する。また、ハードコート層内において、樹脂が分解することにより、ハードコート層自身が脆くなるという現象が起こりうる。そのため、ハードコート層内に紫外線吸収剤や酸化防止剤を含有させることで、ハードコート層の収縮や分解を抑えることができるため、耐候密着性を向上させることができる。なお、上記含有量は、ハードコート層が紫外線吸収剤および酸化防止剤双方を含む場合には、これらの合計量を意図する。   When the hard coat layer contains an ultraviolet absorber or an antioxidant, the content thereof is preferably 0.05 to 10% by mass with respect to the total mass of the hard coat layer, and 0.1 to 5 It is more preferable that the amount is not more than mass%. This is because when the hard coat layer is irradiated with ultraviolet rays, the reaction in the hard coat layer is accelerated and the shrinkage stress is increased. In addition, a phenomenon in which the hard coat layer itself becomes brittle due to decomposition of the resin in the hard coat layer may occur. Therefore, by including an ultraviolet absorber or an antioxidant in the hard coat layer, shrinkage and decomposition of the hard coat layer can be suppressed, so that weather resistance adhesion can be improved. In addition, the said content intends these total amounts, when a hard-coat layer contains both a ultraviolet absorber and antioxidant.

または、ハードコート層は、無機微粒子を含有してもよい。好ましい無機微粒子としては、チタン、シリカ、ジルコニウム、アルミニウム、マグネシウム、アンチモン、亜鉛またはスズなどの金属を含む無機化合物の微粒子が挙げられる。この無機微粒子の平均粒径は、可視光線の透過性を確保することから、1000nm以下が好ましく、10〜500nmの範囲にあるものがより好ましい。また、無機微粒子は、ハードコート層を形成する硬化性樹脂との結合力が高い方がハードコート層からの脱落を抑制できることから、単官能または多官能のアクリレートなどの光重合反応性を有する感光性基を表面に導入しているものが好ましい。   Alternatively, the hard coat layer may contain inorganic fine particles. Preferable inorganic fine particles include fine particles of an inorganic compound containing a metal such as titanium, silica, zirconium, aluminum, magnesium, antimony, zinc or tin. The average particle size of the inorganic fine particles is preferably 1000 nm or less, and more preferably in the range of 10 to 500 nm, in order to ensure visible light transmittance. In addition, since inorganic fine particles have a higher bonding strength with the curable resin forming the hard coat layer, they can be prevented from falling out of the hard coat layer, so that a photopolymerization reactivity such as monofunctional or polyfunctional acrylate is present. Those having a functional group introduced on the surface are preferred.

または、ハードコート層に染料や顔料を添加して色相を調整することができる。例えば、カドミウムレッド、モリブデンレッド、クロムパーミリオン、酸化クロム、ビリジアン、チタンコバルトグリーン、コバルトグリーン、コバルトクロムグリーン、ビクトリアグリーン、群青、ウルトラマリンブルー、紺青、ベルリンブルー、ミロリブルー、コバルトブルー、セルリアンブルー、コバルトシリカブルー、コバルト亜鉛ブルー、マンガンバイオレット、ミネラルバイオレッド、コバルトバイオレット等の有色無機顔料や、フタロシアニン顔料等の有機顔料、アントラキノン系染料が好ましく使用される。   Alternatively, the hue can be adjusted by adding a dye or a pigment to the hard coat layer. For example, cadmium red, molybdenum red, chromium permillion, chromium oxide, viridian, titanium cobalt green, cobalt green, cobalt chrome green, Victoria green, ultramarine blue, ultramarine blue, bitumen, Berlin blue, miloli blue, cobalt blue, cerulean blue, Colored inorganic pigments such as cobalt silica blue, cobalt zinc blue, manganese violet, mineral violet, and cobalt violet, organic pigments such as phthalocyanine pigments, and anthraquinone dyes are preferably used.

ハードコート層の層厚は0.1〜50μmが好ましく、0.5〜20μmがより好ましく、1〜10μmがさらに好ましい。0.1μm以上であればハードコート性が向上する傾向にあり、逆に50μm以下であれば光学制御フィルムの透明性が向上できる。   The layer thickness of the hard coat layer is preferably 0.1 to 50 μm, more preferably 0.5 to 20 μm, and still more preferably 1 to 10 μm. If it is 0.1 μm or more, the hard coat property tends to be improved. Conversely, if it is 50 μm or less, the transparency of the optical control film can be improved.

反射層膜上へのハードコート層の形成方法としては、ワイヤーバーによるコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング等によりハードコート層用塗布液を、高屈折率層及び低屈折率層からなる光学反射層上に塗布し製膜する方法が挙げられ、蒸着などの乾式製膜法でも形成することができる。また、ダイコーター、グラビアコーター、コンマコーターなどの連続塗布装置でも塗布、製膜することが可能である。例えば、ポリシロキサン系ハードコート材料の場合、塗布後、溶剤を乾燥させた後、該ハードコート材料の硬化、架橋を促進するため、50〜150℃の温度範囲内で30分〜数日間の熱処理を行うことが好ましい。塗布基材の耐熱性や積層ロール状にした時の基材の安定性を考慮して、40〜80℃の範囲内で2日間以上処理することが好ましい。活性エネルギー線硬化性樹脂を用いる場合、活性エネルギー線の照射波長、照度、光量によってその反応性が変わるため、使用する樹脂によって最適な条件を選択する必要があるため一概には言えない。しかしながら、例えば、活性エネルギー線として紫外線ランプを用いる場合、その照度は50〜1500mW/cmが好ましく、照射エネルギー量は50〜1500mJ/cmが好ましい。 As a method of forming a hard coat layer on the reflective layer film, a coating liquid for hard coat layer is applied by coating with a wire bar, spin coating, dip coating, etc. on an optical reflective layer composed of a high refractive index layer and a low refractive index layer. The film can be formed by a dry film forming method such as vapor deposition. Moreover, it is possible to apply and form a film using a continuous coating apparatus such as a die coater, a gravure coater, or a comma coater. For example, in the case of a polysiloxane-based hard coat material, after coating, after drying the solvent, heat treatment for 30 minutes to several days in a temperature range of 50 to 150 ° C. in order to promote curing and crosslinking of the hard coat material It is preferable to carry out. In consideration of the heat resistance of the coated substrate and the stability of the substrate when it is formed into a laminated roll, it is preferable to perform the treatment for 2 days or more within the range of 40 to 80 ° C. When an active energy ray curable resin is used, the reactivity varies depending on the irradiation wavelength, the illuminance, and the light amount of the active energy ray, and therefore it is necessary to select optimum conditions depending on the resin to be used. However, for example, when an ultraviolet lamp is used as the active energy ray, the illuminance is preferably 50 to 1500 mW / cm 2 and the irradiation energy amount is preferably 50 to 1500 mJ / cm 2 .

ハードコート層を塗布法により形成する際に用いる溶媒は、特に制限されず、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル(メチルセロソルブ)、エチレングリコールモノエチルエーテル(エチルセロソルブ)、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル等が挙げられる。これらの溶媒は、単独でまたは混合し利用できる。   The solvent used when the hard coat layer is formed by a coating method is not particularly limited, and examples thereof include toluene, xylene, cyclohexane, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol, acetone, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone, Examples include diisobutyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether (methyl cellosolve), ethylene glycol monoethyl ether (ethyl cellosolve), methyl acetate, ethyl acetate, and methyl lactate. . These solvents can be used alone or in combination.

ハードコート層形成のための塗布液は、界面活性剤を含んでもよい。界面活性剤を含むハードコート層形成用塗布液により塗膜が形成されると、レベリング性の高い塗膜となるため、残存溶媒量が部分的に多い箇所や少ない箇所が形成されることを防止し、ハードコート層の密着性が向上することが期待できる。また、ハードコート層に、撥水性、滑り性等を付与することができる。界面活性剤の種類として、特に制限はなく、フッ素系界面活性剤、アクリル系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等を用いることができる。特に塗布液のレベリング性、撥水性、滑り性という観点で、フッ素系界面活性剤を用いることが好ましい。これらの界面活性剤の例としては光学反射層で上述したものを利用可能である。   The coating liquid for forming the hard coat layer may contain a surfactant. When a coating film is formed with a coating liquid for forming a hard coat layer containing a surfactant, it becomes a highly leveled coating film, thus preventing the formation of parts with a high or low residual solvent amount. In addition, it can be expected that the adhesion of the hard coat layer is improved. Moreover, water repellency, slipperiness, etc. can be provided to the hard coat layer. There is no restriction | limiting in particular as a kind of surfactant, A fluorine-type surfactant, an acrylic surfactant, a silicone-type surfactant, etc. can be used. In particular, a fluorosurfactant is preferably used from the viewpoint of leveling properties, water repellency, and slipperiness of the coating solution. As examples of these surfactants, those described above for the optical reflection layer can be used.

ハードコート層中の界面活性剤の量は、ハードコート塗布液中の界面活性剤の配合量を変更することで調節でき、ハードコート層の乾燥質量当たり界面活性剤の質量が0.01〜5質量%であることが好ましい。   The amount of the surfactant in the hard coat layer can be adjusted by changing the blending amount of the surfactant in the hard coat coating solution, and the mass of the surfactant per dry mass of the hard coat layer is 0.01-5. It is preferable that it is mass%.

また、本発明に係る光学制御フィルムは、基材若しくは光学反射層またはハードコート層上に粘着層をさらに有してもよい。   Moreover, the optical control film according to the present invention may further have an adhesive layer on the substrate, the optical reflection layer, or the hard coat layer.

粘着層は、基体(例えば、ガラス)との貼付け時点の即粘着力が2〜8N/25mmであり、前記即粘着力が4〜8N/25mmであることが好ましい。即粘着力とは、光学制御フィルムをガラスに貼付けて24時間後に計測した粘着層の粘着力のことを示す。粘着層の粘着力は粘着層を構成する材料を適切に選択することで調整が可能である。   The adhesive layer preferably has an immediate adhesive force of 2 to 8 N / 25 mm at the time of application to the substrate (for example, glass), and the immediate adhesive force is 4 to 8 N / 25 mm. Immediate adhesive strength means the adhesive strength of the adhesive layer measured 24 hours after sticking the optical control film on glass. The adhesive strength of the adhesive layer can be adjusted by appropriately selecting the material constituting the adhesive layer.

また、貼付け時点の前記粘着層とガラスとの即粘着力が4〜8N/25mmであり、貼付け状態のまま、30℃、湿度60%の条件で1週間放置した時点の粘着層とガラスとの経時粘着力が7〜15N/25mmであることが曲面密着性の観点から好ましい。更に、前記経時粘着力が10〜15N/25mmであることが耐久性向上と糊残りが減少するという観点からより好ましい。経時粘着力とは、光学制御フィルムをガラスに貼付け、一定期間経過した後に計測した粘着層の粘着力のことを示す。   Moreover, the immediate adhesive force of the said adhesion layer and glass at the time of affixing is 4-8N / 25mm, and the adhesion layer and glass at the time of being left for one week on 30 degreeC and 60% of humidity with a sticking state remain | survived. The adhesive strength with time is preferably 7 to 15 N / 25 mm from the viewpoint of curved surface adhesion. Furthermore, it is more preferable that the adhesive strength with time is 10 to 15 N / 25 mm from the viewpoint of improving durability and reducing adhesive residue. The adhesive strength with time indicates the adhesive strength of the adhesive layer measured after a certain period of time after the optical control film was attached to glass.

本発明に係る光学制御フィルムは、窓ガラスに貼り合わせる場合、窓に水を吹き付け、濡れた状態のガラス面に光学制御フィルムの粘着層を合わせる貼り方、いわゆる水貼り法が張り直し、位置直し等の観点で好適に用いられる。そのため、水が存在する湿潤下では粘着力が弱い粘着剤が好ましい。   When the optical control film according to the present invention is attached to a window glass, water is sprayed on the window, and the attachment method of attaching the adhesive layer of the optical control film to the wet glass surface, the so-called water application method is re-adjusted and repositioned. Etc. from the viewpoint of the above. For this reason, a pressure-sensitive adhesive having a low adhesive strength in the presence of water is preferable.

粘着層を構成する粘着剤は、特に限定されず、公知の粘着剤が同様にして使用できる。具体的には、アクリル系粘着剤、シリコン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤などを例示することができる。これらのうち、アクリル系粘着剤が、耐久性、透明性、粘着特性の調整の容易さなどの面から好ましい。アクリル系粘着剤は、アクリル酸アルキルエステルを主成分とし、これに極性単量体成分を共重合したアクリル系樹脂を用いたものである。上記アクリル酸アルキルエステルとはアクリル酸またはメタクリル酸のアルキルエステルであって、特に限定されるものではないが、例えば、アクリル酸エチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸ラウリル等が挙げられる。また、粘着剤は、市販品を使用してもよく、具体的には、東洋インキ社製BPS5978、日本合成化学製コーポニール(例えば、N−2147、5697、5698、5705L)などが使用できる。   The adhesive which comprises an adhesion layer is not specifically limited, A well-known adhesive can be used similarly. Specific examples include acrylic adhesives, silicon adhesives, urethane adhesives, polyvinyl butyral adhesives, ethylene-vinyl acetate adhesives, and the like. Among these, acrylic pressure-sensitive adhesives are preferable from the viewpoints of durability, transparency, and ease of adjustment of adhesive properties. The acrylic pressure-sensitive adhesive uses an acrylic resin that is mainly composed of alkyl acrylate and copolymerized with a polar monomer component. The alkyl acrylate ester is an alkyl ester of acrylic acid or methacrylic acid and is not particularly limited. For example, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, (meth ) Pentyl acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, and the like. Commercially available products may be used as the pressure-sensitive adhesive, specifically, Toyo Ink BPS5978, Nippon Synthetic Chemical Coponil (for example, N-2147, 5697, 5698, 5705L) and the like can be used.

また、粘着剤層をアクリル系粘着剤で形成する場合には、アクリル系粘着剤の硬化剤を使用することができる。アクリル系粘着剤の硬化剤は、特に制限されないが、例えば、イソシアネート系、エポキシ系、アリジリン系硬化剤が利用できる。イソシアネート系硬化剤では、長期保存後も安定した粘着力を得ることと、より硬い粘着層とする目的で、トノレイレンジイソシアネート(TDI)等の芳香族系のタイプを好ましく用いることができる。具体的には、東洋インキ社製BXX5134を使用することができる。   Moreover, when forming an adhesive layer with an acrylic adhesive, the hardening | curing agent of an acrylic adhesive can be used. The curing agent for the acrylic pressure-sensitive adhesive is not particularly limited, and for example, an isocyanate-based, epoxy-based, or alidiline-based curing agent can be used. As the isocyanate curing agent, an aromatic type such as tonoleylene diisocyanate (TDI) can be preferably used in order to obtain a stable adhesive force even after long-term storage and to form a harder adhesive layer. Specifically, Toyo Ink BXX5134 can be used.

硬化剤の添加量(固形分換算)は、粘着剤に対して、2〜9質量%であることが好ましく、より好ましくは3〜7質量%である。このような範囲であれば、粘着剤が残りにくく、十分な接着力も確保できる。   It is preferable that the addition amount (solid content conversion) of a hardening | curing agent is 2-9 mass% with respect to an adhesive, More preferably, it is 3-7 mass%. If it is such a range, an adhesive will not remain easily and sufficient adhesive force can also be ensured.

粘着層は、上記粘着剤に加えて、添加剤を含んでもよい。ここで、添加剤としては、特に制限されないが、例えば、安定剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、難燃剤、帯電防止剤、抗酸化剤(酸化防止剤)、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着調整剤等が得られる。これらのうち、粘着層は、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。紫外線吸収剤を含む粘着層を光学反射層に対して太陽光の入射側に設けることによって、光学反射層に侵入する太陽光(特に赤外光)量(光学反射層の太陽光吸収量)はより低減する。また、本発明に係る光学制御フィルムを窓貼用として使用する場合には、紫外線による光反射フィルムの劣化を抑制できる。   The pressure-sensitive adhesive layer may contain an additive in addition to the pressure-sensitive adhesive. Here, the additive is not particularly limited. For example, a stabilizer, a surfactant, an ultraviolet absorber, a silane coupling agent, a flame retardant, an antistatic agent, an antioxidant (antioxidant), and a heat stabilizer. , Lubricants, fillers, coloring, adhesion regulators and the like. Among these, it is preferable that an adhesion layer contains a ultraviolet absorber. By providing an adhesive layer containing an ultraviolet absorber on the incident side of sunlight with respect to the optical reflection layer, the amount of sunlight (particularly infrared light) entering the optical reflection layer (the amount of sunlight absorbed by the optical reflection layer) is Reduce more. Moreover, when using the optical control film which concerns on this invention for window sticking, degradation of the light reflection film by an ultraviolet-ray can be suppressed.

ここで、紫外線吸収剤としては、特に制限されず、公知の紫外線吸収剤を使用できる。例えば、2,4−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤;2−(2’−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤;フェニルサリチレート、2−4−ジ−t−ブチルフェニル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート等のサリチル酸フェニル系紫外線吸収剤;ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)セバケート等のヒンダードアミン系紫外線吸収剤;2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−エトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン等のトリアジン系紫外線吸収剤;等が挙げられる。   Here, it does not restrict | limit especially as an ultraviolet absorber, A well-known ultraviolet absorber can be used. For example, benzophenone ultraviolet absorbers such as 2,4-dihydroxy-benzophenone and 2-hydroxy-4-methoxy-benzophenone; 2- (2′-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy -3 ', 5'-di-t-butylphenyl) benzotriazole UV absorbers such as benzotriazole; phenyl salicylate, 2-4-di-t-butylphenyl-3,5-di-t-butyl Phenyl salicylate UV absorbers such as -4-hydroxybenzoate; hindered amine UV absorbers such as bis (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) sebacate; 2,4-diphenyl-6- ( 2-hydroxy-4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2 Triazine-based UV absorbers such as hydroxy-4-ethoxyphenyl) -1,3,5-triazine; and the like.

紫外線吸収剤としては、上記以外に紫外線の保有するエネルギーを、分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを、熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物が含まれる。   In addition to the above, the ultraviolet absorber includes a compound having a function of converting the energy held by ultraviolet rays into vibrational energy in the molecule and releasing the vibrational energy as thermal energy or the like.

なお、紫外線吸収剤は、単独でもまたは2種以上混合して用いてもよい。また、紫外線吸収剤は、合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。市販品の例としては、例えば、Tinuvin(登録商標)320、Tinuvin(登録商標)328、Tinuvin(登録商標)234、Tinuvin(登録商標)477、Tinuvin(登録商標)1577、Tinuvin(登録商標)622(以上、BASFジャパン株式会社製)、アデカスタブ(登録商標)LA−31(以上、株式会社アデカ製)、SEESORB(登録商標)102、SEESORB(登録商標)103、SEESORB(登録商標)501(以上、シプロ化成株式会社製)などが挙げられる。   In addition, you may use a ultraviolet absorber individually or in mixture of 2 or more types. Moreover, as the ultraviolet absorber, a synthetic product or a commercially available product may be used. Examples of commercially available products include, for example, Tinuvin (registered trademark) 320, Tinuvin (registered trademark) 328, Tinuvin (registered trademark) 234, Tinuvin (registered trademark) 477, Tinuvin (registered trademark) 1577, and Tinuvin (registered trademark) 622. (Above, manufactured by BASF Japan Ltd.), ADK STAB (registered trademark) LA-31 (above, manufactured by ADEKA CORPORATION), SESORB (registered trademark) 102, SESORB (registered trademark) 103, SEESORB (registered trademark) 501 (or more, Cipro Kasei Co., Ltd.).

紫外線吸収剤の添加量(固形分換算)は、粘着剤に対して、0.1〜10質量%であることが好ましく、より好ましくは0.5〜5質量%である。このような範囲であれば、光学反射層の太陽光吸収量をより有効に低減できる。   It is preferable that the addition amount (in solid content conversion) of a ultraviolet absorber is 0.1-10 mass% with respect to an adhesive, More preferably, it is 0.5-5 mass%. If it is such a range, the sunlight absorption amount of an optical reflection layer can be reduced more effectively.

粘着層の厚さは、1〜100μmが好ましく、3〜50μmがより好ましい。1μm以上であれば粘着性が向上する傾向にあり、十分な粘着力が得られる。逆に100μm以下であれば光学制御フィルムの透明性が向上するだけでなく、光学制御フィルムを窓ガラスに貼り付けた後、剥がしたときに粘着層間で凝集破壊が起こらず、ガラス面への粘着剤残りが無くなる傾向にある。   1-100 micrometers is preferable and, as for the thickness of the adhesion layer, 3-50 micrometers is more preferable. If it is 1 micrometer or more, there exists a tendency for adhesiveness to improve and sufficient adhesive force is acquired. On the contrary, if the thickness is 100 μm or less, not only the transparency of the optical control film is improved, but also when the optical control film is attached to the window glass and then peeled off, no cohesive failure occurs between the adhesive layers, and adhesion to the glass surface There is a tendency that there is no remaining agent.

粘着層の形成方法としては、特に制限されないが、所望の構成部材(基材若しくは光学反射層またはハードコート層)とは別に、セパレーター上に粘着層用塗布液を塗布し乾燥させて粘着層を形成した後、当該部材と粘着層とを貼り合わせる方法が好ましい。   The method for forming the adhesive layer is not particularly limited, but separately from the desired component (base material, optical reflection layer or hard coat layer), the adhesive layer coating liquid is applied on the separator and dried to form the adhesive layer. After the formation, a method in which the member and the adhesive layer are bonded together is preferable.

この際用いられるセパレーターとしては、例えば、シリコーンコート離型PETフィルム、シリコーンコートPEフィルム等が挙げられる。セパレーター上への粘着層用塗布液の塗布方法は、特に制限されず、ワイヤーバーによるコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング等により塗布液を塗布し製膜する方法が挙げられ、また、ダイコーター、グラビアコーター、コンマコーターなどの連続塗布装置でも塗布、製膜することが可能である。   Examples of the separator used at this time include a silicone-coated release PET film and a silicone-coated PE film. The method of applying the coating solution for the adhesive layer on the separator is not particularly limited, and examples thereof include a method of applying the coating solution by wire bar coating, spin coating, dip coating, etc., and forming a film. It is possible to apply and form a film using a continuous coating apparatus such as a coater or a comma coater.

なお、本明細書において、「粘着力」は、JIS A 5759:2008 6.8粘着力試験に準じて測定することによって求められ、より具体的には、下記実施例に記載される方法に従って測定される。   In the present specification, “adhesive strength” is determined by measuring according to JIS A 5759: 2008 6.8 adhesive strength test, and more specifically, measured according to the method described in the following examples. Is done.

また、本発明係る光学制御フィルムは、他の層(例えば、導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易粘着層、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、赤外線カット層(金属層、液晶層)、着色層(可視光線吸収層)、合わせガラスに利用される中間膜層などの機能層の1つ以上)を単独もしくは適当に組み合わせて用いてもよい。   Further, the optical control film according to the present invention has other layers (for example, a conductive layer, an antistatic layer, a gas barrier layer, an easy-adhesion layer, an antifouling layer, a deodorant layer, a droplet layer, an easy-slip layer, and wear resistance. Layer, antireflection layer, electromagnetic wave shielding layer, ultraviolet absorbing layer, infrared absorbing layer, printed layer, fluorescent light emitting layer, hologram layer, release layer, adhesive layer, infrared cut layer (metal layer, liquid crystal layer), colored layer (visible light) Absorbing layer) and one or more functional layers such as an interlayer film used for laminated glass may be used alone or in appropriate combination.

(光学制御体)
本発明により提供される光学制御フィルムは、幅広い分野に応用することができる。例えば、建物の屋外の窓や自動車窓等長期間太陽光に晒らされる設備に貼り合せ、赤外遮蔽効果を付与する赤外遮蔽フィルム等の窓貼用フィルムとして用いることができる。
(Optical control body)
The optical control film provided by the present invention can be applied to a wide range of fields. For example, it can be used as a window pasting film such as an infrared shielding film which is attached to facilities exposed to sunlight for a long period of time such as an outdoor window of a building or an automobile window and imparts an infrared shielding effect.

すなわち、本発明のさらに他の形態によれば、本発明に係る光学制御フィルムを用いてなる光学制御体が提供される。具体的には、上述の光学制御フィルムを光透過性基体に貼り付けた光反射体も提供される。前記光反射体は、光学制御フィルムが粘着層を介して光透過性基体に接合されてなる構造を有する。   That is, according to the further another form of this invention, the optical control body which uses the optical control film which concerns on this invention is provided. Specifically, a light reflector in which the above-described optical control film is attached to a light-transmitting substrate is also provided. The light reflector has a structure in which an optical control film is bonded to a light-transmitting substrate via an adhesive layer.

前記光透過性基体の具体的な例としては、例えば、ガラス、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフィド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂等が挙げられる。また、前記光透過性基体は、全光透過性を有していても、部分的な波長領域に対する光透過性を有していてもよい。   Specific examples of the light transmissive substrate include, for example, glass, polycarbonate resin, polysulfone resin, acrylic resin, polyolefin resin, polyether resin, polyester resin, polyamide resin, polysulfide resin, unsaturated polyester resin, epoxy resin, Examples include melamine resin, phenol resin, diallyl phthalate resin, polyimide resin, urethane resin, polyvinyl acetate resin, polyvinyl alcohol resin, styrene resin, and vinyl chloride resin. Further, the light-transmitting substrate may have total light transmittance or may have light transmittance for a partial wavelength region.

本発明の作用効果は、前記光透過性基体が曲面であるときに、よりいっそう効果的に発現させられる。「曲面」とは、曲率半径が3m以下の範囲である面を意味する。曲率半径を3m以下とするのは、曲率半径が3mを超えると、平面状の基体との差異がなくなるからである。   The operational effects of the present invention can be expressed more effectively when the light-transmitting substrate is a curved surface. “Curved surface” means a surface having a radius of curvature of 3 m or less. The reason why the radius of curvature is 3 m or less is that when the radius of curvature exceeds 3 m, there is no difference from a planar substrate.

本発明の効果を、以下の実施例および比較例を用いて説明する。ただし、本発明の技術的範囲が以下の実施例のみに制限されるわけではない。なお、下記実施例において、特記しない限り、操作は室温(25℃)で行われた。また、特記しない限り、「%」および「部」は、それぞれ、「質量%」および「質量部」を意味する。   The effects of the present invention will be described using the following examples and comparative examples. However, the technical scope of the present invention is not limited only to the following examples. In the following examples, the operation was performed at room temperature (25 ° C.) unless otherwise specified. Unless otherwise specified, “%” and “part” mean “% by mass” and “part by mass”, respectively.

<低屈折率層用塗布液1の作製>
下記構成材料を、それぞれ、45℃でこの順に添加、混合した後、純水で1000部に仕上げて、低屈折率層用塗布液1を調製した。
<Preparation of coating solution 1 for low refractive index layer>
The following constituent materials were added and mixed in this order at 45 ° C., and then finished with 1000 parts of pure water to prepare a coating solution 1 for a low refractive index layer.

<低屈折率層用塗布液2〜6の作製>
上記で調製した低屈折率層用塗布液1に対して、それぞれ、エタノールの濃度が0.5質量%(低屈折率層用塗布液2)、1質量%(低屈折率層用塗布液3)、2質量%(低屈折率層用塗布液4)、4質量%(低屈折率層用塗布液5)および8質量%(低屈折率層用塗布液6)となるように、エタノールを添加し、低屈折率層用塗布液2〜6を調製した。
<Preparation of coating solutions 2 to 6 for low refractive index layer>
The ethanol concentration is 0.5 mass% (low refractive index layer coating liquid 2) and 1 mass% (low refractive index layer coating liquid 3) with respect to the low refractive index layer coating liquid 1 prepared above. ) Ethanol was added so as to be 2% by mass (low refractive index layer coating solution 4), 4% by mass (low refractive index layer coating solution 5) and 8% by mass (low refractive index layer coating solution 6). By adding, coating solutions 2 to 6 for the low refractive index layer were prepared.

<低屈折率層用塗布液7の作製>
上記で調製した低屈折率層用塗布液1に対して、1−プロパノールの濃度が2質量%となるように、1−プロパノールを添加し、低屈折率層用塗布液7を調製した。
<Preparation of coating solution 7 for low refractive index layer>
1-propanol was added to the coating solution 1 for the low refractive index layer prepared above so that the concentration of 1-propanol was 2% by mass to prepare a coating solution 7 for the low refractive index layer.

<低屈折率層用塗布液8の作製>
上記で調製した低屈折率層用塗布液1に対して、2−プロパノールの濃度が1.5質量%となるように、2−プロパノールを添加し、低屈折率層用塗布液8を調製した。
<Preparation of coating liquid 8 for low refractive index layer>
2-Propanol was added to the coating solution 1 for the low refractive index layer prepared above so that the concentration of 2-propanol was 1.5% by mass to prepare a coating solution 8 for the low refractive index layer. .

<低屈折率層用塗布液9の作製>
上記で調製した低屈折率層用塗布液1に対して、1−ブタノールの濃度が1質量%となるように、1−ブタノールを添加し、低屈折率層用塗布液9を調製した。
<Preparation of coating solution 9 for low refractive index layer>
1-butanol was added to the coating solution 1 for the low refractive index layer prepared above so that the concentration of 1-butanol was 1% by mass to prepare a coating solution 9 for the low refractive index layer.

<低屈折率層用塗布液10の作製>
上記で調製した低屈折率層用塗布液1に対して、ネオエタノールAP−11(大伸化学(株)製)の濃度が3質量%となるように、ネオエタノールAP−11を添加し、低屈折率層用塗布液10を調製した。なお、ネオエタノールAP−11は、エタノール 85.5±1.0体積%、メタノール 4.7±0.5体積%および2−プロパノール 9.8±0.5体積%からなる混合液である。
<Preparation of coating solution 10 for low refractive index layer>
Neoethanol AP-11 was added to the coating solution 1 for the low refractive index layer prepared above so that the concentration of Neoethanol AP-11 (manufactured by Daishin Chemical Co., Ltd.) was 3% by mass, A coating solution 10 for a low refractive index layer was prepared. Neoethanol AP-11 is a mixed liquid composed of ethanol 85.5 ± 1.0 vol%, methanol 4.7 ± 0.5 vol%, and 2-propanol 9.8 ± 0.5 vol%.

<低屈折率層用塗布液11の作製>
上記で調製した低屈折率層用塗布液1に対して、エチレングリコールブチルエーテルの濃度が1質量%となるように、エチレングリコールブチルエーテルを添加し、低屈折率層用塗布液11を調製した。
<Preparation of coating solution 11 for low refractive index layer>
Ethylene glycol butyl ether was added to the low refractive index layer coating solution 1 prepared above so that the concentration of ethylene glycol butyl ether was 1% by mass to prepare a low refractive index layer coating solution 11.

<低屈折率層用塗布液12の作製>
上記で調製した低屈折率層用塗布液1に対して、プロピレングリコールメチルエーテルの濃度が1質量%となるように、プロピレングリコールメチルエーテルを添加し、低屈折率層用塗布液12を調製した。
<Preparation of coating solution 12 for low refractive index layer>
Propylene glycol methyl ether was added to the low refractive index layer coating solution 1 prepared above so that the concentration of propylene glycol methyl ether was 1% by mass to prepare a low refractive index layer coating solution 12. .

<低屈折率層用塗布液13の作製>
上記で調製した低屈折率層用塗布液1に対して、ジプロピレングリコールn−プロピルエーテルの濃度が1質量%となるように、ジプロピレングリコールn−プロピルエーテルを添加し、低屈折率層用塗布液13を調製した。
<Preparation of coating solution 13 for low refractive index layer>
Dipropylene glycol n-propyl ether is added to the coating solution 1 for the low refractive index layer prepared above so that the concentration of dipropylene glycol n-propyl ether is 1% by mass. A coating solution 13 was prepared.

<低屈折率層用塗布液14〜16の作製>
上記で調製した低屈折率層用塗布液1に対して、それぞれ、プロピレングリコールブチルエーテルの濃度が1質量%(低屈折率層用塗布液14)、0.5質量%(低屈折率層用塗布液15)および2質量%(低屈折率層用塗布液16)となるように、プロピレングリコールブチルエーテルを添加し、低屈折率層用塗布液14〜16を調製した。
<Preparation of coating solutions 14 to 16 for the low refractive index layer>
The concentration of propylene glycol butyl ether is 1% by mass (low refractive index layer coating solution 14) and 0.5% by mass (low refractive index layer coating) with respect to the low refractive index layer coating solution 1 prepared above. Propylene glycol butyl ether was added so that it might become the liquid 15) and 2 mass% (coating liquid 16 for low refractive index layers), and the coating liquids 14-16 for low refractive index layers were prepared.

<低屈折率層用塗布液17の作製>
上記で調製した低屈折率層用塗布液1に対して、エタノールの濃度が10質量%となるように、1−プロパノールを添加し、低屈折率層用塗布液17を調製した。
<Preparation of coating liquid 17 for low refractive index layer>
1-propanol was added to the coating solution 1 for the low refractive index layer prepared above so that the concentration of ethanol was 10% by mass to prepare a coating solution 17 for the low refractive index layer.

<低屈折率層用塗布液18の作製>
上記で調製した低屈折率層用塗布液1に対して、2−プロパノールの濃度が10質量%となるように、2−プロパノールを添加し、低屈折率層用塗布液18を調製した。
<Preparation of coating liquid 18 for low refractive index layer>
2-Propanol was added to the coating solution 1 for a low refractive index layer prepared above so that the concentration of 2-propanol was 10% by mass to prepare a coating solution 18 for a low refractive index layer.

<低屈折率層用塗布液19の作製>
上記で調製した低屈折率層用塗布液1に対して、プロピレングリコールブチルエーテルの濃度が10質量%となるように、プロピレングリコールブチルエーテルを添加し、低屈折率層用塗布液19を調製した。
<Preparation of coating liquid 19 for low refractive index layer>
Propylene glycol butyl ether was added to the low refractive index layer coating solution 1 prepared above so that the concentration of propylene glycol butyl ether was 10% by mass to prepare a low refractive index layer coating solution 19.

<高屈折率層塗布液1の作製>
(シリカ変性酸化チタン粒子の分散液の調製)
シリカ変性酸化チタン粒子の分散液は、以下のように調製した。
<Preparation of high refractive index layer coating solution 1>
(Preparation of silica-modified titanium oxide particle dispersion)
A dispersion of silica-modified titanium oxide particles was prepared as follows.

すなわち、硫酸チタン水溶液を公知の方法により熱加水分解して、酸化チタン水和物を得た。得られた酸化チタン水和物を水に懸濁させて、酸化チタン水和物の水性懸濁液(TiO濃度:100g/L)10Lを得た。これに、水酸化ナトリウム水溶液(濃度10mol/L)30Lを撹拌下で添加し、90℃に昇温して、5時間熟成した。得られた溶液を塩酸で中和し、濾過、水洗することで、塩基処理チタン化合物を得た。 That is, a titanium sulfate aqueous solution was thermally hydrolyzed by a known method to obtain titanium oxide hydrate. The obtained titanium oxide hydrate was suspended in water to obtain 10 L of an aqueous suspension of titanium oxide hydrate (TiO 2 concentration: 100 g / L). To this, 30 L of an aqueous sodium hydroxide solution (concentration 10 mol / L) was added with stirring, the temperature was raised to 90 ° C., and the mixture was aged for 5 hours. The obtained solution was neutralized with hydrochloric acid, filtered and washed with water to obtain a base-treated titanium compound.

次に、塩基処理チタン化合物をTiO濃度20g/Lになるよう純水に懸濁させて撹拌した。撹拌下、TiO量に対し0.4mol%の量のクエン酸を添加した。95℃まで昇温し、濃塩酸を塩酸濃度が30g/Lとなるように加え、液温を維持して3時間撹拌した。ここで、得られた混合液のpH及びゼータ電位を測定したところ、25℃におけるpHは1.4、ゼータ電位は+40mVであった。また、ゼータサイザーナノ(マルバーン社製)により粒径測定を行ったところ、体積平均粒子径は20nm、単分散度は16%であった。 Next, the base-treated titanium compound was suspended in pure water and stirred so that the TiO 2 concentration was 20 g / L. Under stirring, it was added citric acid in an amount of 0.4 mol% with respect to TiO 2 weight. The temperature was raised to 95 ° C., concentrated hydrochloric acid was added so that the hydrochloric acid concentration was 30 g / L, and the solution temperature was maintained, followed by stirring for 3 hours. Here, when the pH and zeta potential of the obtained mixed liquid were measured, the pH at 25 ° C. was 1.4, and the zeta potential was +40 mV. Further, when the particle size was measured by Zetasizer Nano (manufactured by Malvern), the volume average particle size was 20 nm and the monodispersity was 16%.

上記したようにして調製されたルチル型酸化チタン粒子を含む20質量%の酸化チタンゾル水系分散液1kgに純水1kgを添加して、10質量%の酸化チタンゾル水系分散液を調製した。   1 kg of pure water was added to 1 kg of 20 mass% titanium oxide sol aqueous dispersion containing rutile-type titanium oxide particles prepared as described above to prepare a 10 mass% titanium oxide sol aqueous dispersion.

上記10質量%の酸化チタンゾル水系分散液の0.5kgに、純水2kgを加えた後、90℃に加熱した。その後、SiO濃度が2.0質量%のケイ酸水溶液1.3kgを徐々に添加した。得られた分散液をオートクレーブ中、175℃で18時間加熱処理を行い、さらに濃縮することで、SiOで被覆されたルチル型構造を有する酸化チタンを含む、固形分濃度が20質量%のSiOを表面に付着させた二酸化チタンゾル(以下、シリカ変性酸化チタン粒子)(体積平均粒径:35nm)の分散液(ゾル水分散液)を得た。 2 kg of pure water was added to 0.5 kg of the 10 mass% titanium oxide sol aqueous dispersion, and then heated to 90 ° C. Thereafter, 1.3 kg of an aqueous silicic acid solution having a SiO 2 concentration of 2.0 mass% was gradually added. The obtained dispersion is subjected to heat treatment at 175 ° C. for 18 hours in an autoclave, and further concentrated to contain SiO 2 coated titanium oxide having a rutile structure and having a solid content concentration of 20% by mass. A dispersion (sol water dispersion) of titanium dioxide sol (hereinafter referred to as silica-modified titanium oxide particles) (volume average particle size: 35 nm) having 2 attached to the surface was obtained.

(塗布液の調製)
上記調製したシリカ変性酸化チタン粒子のゾル水分散液に、下記構成材料を45℃で順次添加し、最後に純水で1000部に仕上げ、高屈折率層用塗布液1を調製した。
(Preparation of coating solution)
The following constituent materials were sequentially added at 45 ° C. to the sol dispersion of silica-modified titanium oxide particles prepared above, and finally finished with 1000 parts of pure water to prepare a coating solution 1 for a high refractive index layer.

<高屈折率層用塗布液2の作製>
上記で調製した高屈折率層用塗布液1に対して、エタノールの濃度が2質量%となるように、エタノールを添加し、高屈折率層用塗布液2を調製した。
<Preparation of coating liquid 2 for high refractive index layer>
Ethanol was added to the coating solution 1 for the high refractive index layer prepared above so that the ethanol concentration was 2% by mass to prepare the coating solution 2 for the high refractive index layer.

<高屈折率層用塗布液3の作製>
上記で調製した高屈折率層用塗布液1に対して、エチレングリコールブチルエーテルの濃度が1質量%となるように、エチレングリコールブチルエーテルを添加し、高屈折率層用塗布液3を調製した。
<Preparation of coating solution 3 for high refractive index layer>
Ethylene glycol butyl ether was added to the coating solution 1 for the high refractive index layer prepared above so that the concentration of ethylene glycol butyl ether was 1% by mass to prepare a coating solution 3 for the high refractive index layer.

<高屈折率層用塗布液4の作製>
上記で調製した高屈折率層用塗布液1に対して、プロピレングリコールメチルエーテルの濃度が1質量%となるように、プロピレングリコールメチルエーテルを添加し、高屈折率層用塗布液4を調製した。
<Preparation of coating solution 4 for high refractive index layer>
Propylene glycol methyl ether was added to the coating solution 1 for the high refractive index layer prepared above so that the concentration of propylene glycol methyl ether was 1% by mass to prepare a coating solution 4 for the high refractive index layer. .

<高屈折率層用塗布液5の作製>
上記で調製した高屈折率層用塗布液1に対して、ジプロピレングリコールn−プロピルエーテルの濃度が1質量%となるように、ジプロピレングリコールn−プロピルエーテルを添加し、高屈折率層用塗布液5を調製した。
<Preparation of coating liquid 5 for high refractive index layer>
Dipropylene glycol n-propyl ether is added to the coating solution 1 for the high refractive index layer prepared above so that the concentration of dipropylene glycol n-propyl ether is 1% by mass. A coating solution 5 was prepared.

<高屈折率層用塗布液6、7の作製>
上記で調製した高屈折率層用塗布液1に対して、それぞれ、プロピレングリコールブチルエーテルの濃度が1質量%(高屈折率層用塗布液6)および2質量%(高屈折率層用塗布液7)となるように、プロピレングリコールブチルエーテルを添加し、高屈折率層用塗布液6、7を調製した。
<Preparation of coating solutions 6 and 7 for the high refractive index layer>
The concentration of propylene glycol butyl ether is 1% by mass (high refractive index layer coating solution 6) and 2% by mass (high refractive index layer coating solution 7) with respect to the coating solution 1 for high refractive index layer prepared above. ), Propylene glycol butyl ether was added to prepare coating solutions 6 and 7 for the high refractive index layer.

<高屈折率層用塗布液8の作製>
上記で調製した高屈折率層用塗布液1に対して、プロピレングリコールブチルエーテルの濃度が10質量%となるように、プロピレングリコールブチルエーテルを添加し、高屈折率層用塗布液8を調製した。
<Preparation of coating liquid 8 for high refractive index layer>
Propylene glycol butyl ether was added to the coating solution 1 for a high refractive index layer prepared above so that the concentration of propylene glycol butyl ether was 10% by mass to prepare a coating solution 8 for a high refractive index layer.

(実施例1)
<透明基材の準備>
透明基材として、ポリエチレンテレフタレートフィルム(A4300、両面易接着層、厚さ:50μm、長さ200m×幅210mm、東洋紡績株式会社製、以下、「PETフィルム」とも略記する)を準備した。
Example 1
<Preparation of transparent substrate>
As a transparent substrate, a polyethylene terephthalate film (A4300, double-sided easy-adhesive layer, thickness: 50 μm, length 200 m × width 210 mm, manufactured by Toyobo Co., Ltd., hereinafter also abbreviated as “PET film”) was prepared.

<基材への光学反射層の形成>
15層重層塗布可能なスライドホッパー型湿式塗布装置を用い、上記で調製した低屈折率層用塗布液2、低屈折率層用塗布液1及び高屈折率層用塗布液1を40℃に保温しながら、前記透明基材上に、塗布速度(支持体搬送方向)100m/minで、15層の重層塗布を行った。各屈折率層用塗布液を塗布した直後、5℃の冷風を吹き付けてセットした。このとき、表面を指で触れても指に何もつかなくなるまでの時間(セット時間)は1分であった。セット完了後、80℃の温風を吹き付けて乾燥させて、15層からなる光学反射層を基材上に形成した(積層体1)。この際、最下層および最上層は低屈折率層とし、それ以外は低屈折率層および高屈折率層がそれぞれ交互に積層されるように設定した。また、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液2を、それ以外の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液1を、および高屈折率層の形成に高屈折率層用塗布液1を使用した。塗布量については、乾燥時の膜厚が低屈折率層は各層150nm、高屈折率層は各層130nmになるように調節した。なお、前記膜厚は、製造した積層体(基材および光学反射層)を切断し、その切断面を電子顕微鏡により観察することで確認した。この際、2つの層間の界面を明確に観測することができない場合には、XPS表面分析装置により得た層中に含まれるTiOの厚さ方向のXPSプロファイルにより界面を決定した。
<Formation of optical reflection layer on substrate>
Using a slide hopper type wet coating apparatus capable of 15-layer coating, the low refractive index layer coating liquid 2, the low refractive index layer coating liquid 1 and the high refractive index layer coating liquid 1 prepared above are kept at 40 ° C. On the other hand, 15 layers were applied on the transparent substrate at a coating speed (support conveyance direction) of 100 m / min. Immediately after coating each refractive index layer coating solution, cold air of 5 ° C. was blown and set. At this time, even if the surface was touched with a finger, the time until the finger was lost (set time) was 1 minute. After completion of the setting, warm air of 80 ° C. was blown and dried to form a 15-layer optical reflection layer on the substrate (laminate 1). At this time, the lowermost layer and the uppermost layer were low refractive index layers, and other than that, the low refractive index layers and the high refractive index layers were alternately laminated. Also, the low refractive index layer coating liquid 2 is used to form the lowest refractive index layer, the low refractive index layer coating liquid 1 is used to form the other low refractive index layers, and the high refractive index layer is formed. A coating solution 1 for a high refractive index layer was used. The coating amount was adjusted such that the film thickness during drying was 150 nm for each low refractive index layer and 130 nm for each high refractive index layer. In addition, the said film thickness was confirmed by cut | disconnecting the manufactured laminated body (a base material and an optical reflection layer), and observing the cut surface with an electron microscope. At this time, when the interface between the two layers could not be clearly observed, the interface was determined by the XPS profile in the thickness direction of TiO 2 contained in the layer obtained by the XPS surface analyzer.

上記低屈折率層用塗布液1及び高屈折率層用塗布液1の塗布時の、塗布先頭(最下層)の着液性及び塗布・乾燥後の塗膜全体としてのムラ(塗布ムラ)について、以下の評価基準に従って評価した結果を下記表2に示す。なお、下記表2において、「着液性」および「塗布ムラ」は、下記のように評価した。   About the liquid landing property of the coating head (lowermost layer) and the coating film after coating / drying (coating irregularity) during coating of the coating solution 1 for the low refractive index layer and the coating solution 1 for the high refractive index layer The results of evaluation according to the following evaluation criteria are shown in Table 2 below. In Table 2, “Liquidability” and “Coating unevenness” were evaluated as follows.

<光学反射層を形成した基材への粘着層形成>
(粘着層形成用塗布液1の調製)
ヒドロキシ基を有するアクリル樹脂100質量部、MKCメチルシリケートMS−56(三菱化学社製テトラメチルシリケート部分加水分解物縮合物、nの平均値=10)50質量部、ジブチルスズラウレート1質量部、キシレン700質量部、イソプロピルアルコール150質量部を混合、攪拌して、固形分10質量%の樹脂混合物を調製した。
<Adhesion layer formation on the base material on which the optical reflection layer is formed>
(Preparation of adhesive layer forming coating solution 1)
100 parts by mass of an acrylic resin having a hydroxy group, 50 parts by mass of MKC methyl silicate MS-56 (Mitsubishi Chemical's tetramethyl silicate partial hydrolyzate condensate, n average value = 10), 1 part by mass of dibutyltin laurate, xylene 700 parts by mass and 150 parts by mass of isopropyl alcohol were mixed and stirred to prepare a resin mixture having a solid content of 10% by mass.

得られた樹脂混合物に、チヌビン477(BASFジャパン社製の紫外線吸収剤)2.0質量部を混合して、粘着層形成用塗布液1を調製した。   The obtained resin mixture was mixed with 2.0 parts by mass of Tinuvin 477 (a UV absorber manufactured by BASF Japan Ltd.) to prepare a coating solution 1 for forming an adhesive layer.

上記調製した粘着層形成用塗布液1を、ワイヤーバーにて、上記にて形成された光学反射層上に乾燥膜厚が8μmになるように塗工し、80℃で2分間、乾燥して、粘着層を形成した。この粘着層表面にセパレーターフィルムとして25μm厚のポリエステルフィルム(セラピール、東洋メタライジング社製)を貼合機により貼合した。このようにして光学制御フィルム1を作製した。   The prepared coating solution 1 for forming an adhesive layer is coated with a wire bar on the optical reflective layer formed as described above so that the dry film thickness is 8 μm, and dried at 80 ° C. for 2 minutes. An adhesive layer was formed. A 25 μm thick polyester film (therapy, manufactured by Toyo Metallizing Co., Ltd.) was bonded as a separator film to the surface of the adhesive layer by a bonding machine. Thus, the optical control film 1 was produced.

<光学制御体の作製>
上記で作製した光学制御フィルム1を、幅10cm、長さ10cmに断裁した後、粘着層側を厚さ3mmの市販の青板ガラスに、ガラス板面に水を付与し、水貼り法により貼り合わせて、サンプルを作製した。このサンプルを、直径が15.2cm(6インチ)、幅が100mmのロール上に、厚さ6mmのゴムで被覆した鋼ローラーの自重のみが窓貼り用フィルム面にかかるように、ローラーでフィルムとガラスを圧着して、光学制御体1を作製した。
<Production of optical control body>
After cutting the optical control film 1 produced above to a width of 10 cm and a length of 10 cm, the adhesive layer side is applied to a commercially available blue plate glass having a thickness of 3 mm, and water is applied to the glass plate surface and bonded together by a water bonding method. A sample was prepared. The sample was placed on a roll with a roller so that only the weight of a steel roller covered with a 6 mm thick rubber was placed on a roll having a diameter of 15.2 cm (6 inches) and a width of 100 mm and covered with rubber having a thickness of 6 mm. Glass was pressure-bonded to produce the optical control body 1.

上記のようにして作製された光学制御フィルム1または光学制御体1について、以下方法によって、可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、耐候試験後の可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表2に示す。   About the optical control film 1 or the optical control body 1 produced as described above, visible light transmittance (%) and near-infrared reflectance (%), visible light transmittance (% ) And near-infrared reflectance (%), and cracks after the weather resistance test were evaluated. The results are shown in Table 2 below.

<可視光透過率および近赤外反射率の測定>
光学制御体1について、分光光度計(積分球使用、日立製作所社製、U−4000型)を用い、可視光透過率として、380nm〜750nmの領域における平均透過率を、近赤外反射率として、800〜1300nmにおける反射率を、それぞれ測定した。
<Measurement of visible light transmittance and near infrared reflectance>
About the optical control body 1, using the spectrophotometer (integral sphere use, the Hitachi Ltd. make, U-4000 type | mold), as a visible light transmittance | permeability, the average transmittance | permeability in the area | region of 380 nm-750 nm is set as a near-infrared reflectance. The reflectance at 800 to 1300 nm was measured.

〈ヘイズ〉
光学制御フィルム1 10枚について、ヘイズメーター(NDH2000型、日本電色工業社製)を用いてヘイズを測定し、その平均値を算出した。なお、ヘイズメーターの光源は、5V9Wのハロゲン球とし、受光部は、シリコンフォトセル(比視感度フィルター付き)を使用した。また、ヘイズの測定は、23℃で55%RHの条件下にて行った。
<Haze>
About ten optical control films 1, haze was measured using the haze meter (NDH2000 type | mold, Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.), and the average value was computed. The light source of the haze meter was a 5V9W halogen sphere, and a silicon photocell (with a relative visibility filter) was used as the light receiving part. The haze was measured at 23 ° C. and 55% RH.

<耐候性(可視光透過率および近赤外反射率)の評価>
光学制御フィルム1に、スーパーキセノンウェザーメーター(スガ試験機 SX75)を用いて、放射強度180W/m、降雨18分/40分のサイクル条件で、300時間照射を行い、耐候試験を行った。上記耐候試験後、上記<可視光透過率および近赤外反射率の測定>と同様にして、可視光透過率および近赤外反射率を測定した。なお、下記表2において、上記結果を、耐候試験後の可視光透過率および近赤外反射率として示す。
<Evaluation of weather resistance (visible light transmittance and near infrared reflectance)>
The optical control film 1 was irradiated with a super xenon weather meter (Suga Test Machine SX75) for 300 hours under a cycle condition with a radiation intensity of 180 W / m 2 and a rainfall of 18 minutes / 40 minutes to perform a weather resistance test. After the weather resistance test, the visible light transmittance and the near infrared reflectance were measured in the same manner as in the above <Measurement of visible light transmittance and near infrared reflectance>. In Table 2 below, the above results are shown as the visible light transmittance and the near infrared reflectance after the weather resistance test.

<耐候性(ひび割れ)の評価>
光学制御体1に、スーパーキセノンウェザーメーター(スガ試験機 SX75)を用いて、放射強度180W/m、降雨18分/40分のサイクル条件で、300時間照射を行い、耐候試験を行った。上記耐候試験後の光学制御体の光学反射層について膜割れの状態を5倍ルーぺで目視観察し、以下の評価基準に従って評価した。なお、「A」、「B」および「C」が実用可能である。なお、下記表2において、上記結果を、耐候試験後のひび割れとして示す。
<Evaluation of weather resistance (cracking)>
Using a super xenon weather meter (Suga Test Machine SX75), the optical control body 1 was irradiated for 300 hours under a cycle condition with a radiation intensity of 180 W / m 2 and a rainfall of 18 minutes / 40 minutes to perform a weather resistance test. The state of film cracking of the optical reflection layer of the optical control body after the weather resistance test was visually observed with a 5-fold magnifier and evaluated according to the following evaluation criteria. Note that “A”, “B”, and “C” are practical. In addition, in the following Table 2, the said result is shown as a crack after a weather resistance test.

(実施例2〜14)
実施例1において、低屈折率層用塗布液2の代わりに、低屈折率層用塗布液3〜15をそれぞれ最下層の低屈折率層の形成に使用した以外は、実施例1と同様にして、光学反射層を基材上に形成した(積層体2〜14)。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例1と同様にして評価し、その結果を表2に示す。
(Examples 2 to 14)
In Example 1, instead of the coating solution 2 for the low refractive index layer, the coating solutions 3 to 15 for the low refractive index layer were used for forming the lowermost low refractive index layer, respectively. Then, an optical reflection layer was formed on the substrate (laminates 2 to 14). In addition, the liquid landing property and coating unevenness at this time were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

次に、実施例1において、積層体1の代わりに、上記で作製した積層体2〜14をそれぞれ使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム2〜14を作製した。   Next, in Example 1, optical control films 2 to 14 were produced in the same manner except that the laminates 2 to 14 produced above were used instead of the laminate 1.

さらに、実施例1において、光学制御フィルム1の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム2〜14をそれぞれ使用する以外は、実施例1と同様にして、光学制御体2〜14を作製した。   Furthermore, in Example 1, the optical control bodies 2-14 were produced like Example 1 except using the optical control films 2-14 produced above instead of the optical control film 1, respectively.

上記したようにして作製された光学制御フィルム2〜14または光学制御体2〜14について、実施例1と同様にして、可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、耐候試験後の可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表2に示す。   About the optical control films 2-14 or the optical control bodies 2-14 produced as described above, in the same manner as in Example 1, the visible light transmittance (%) and the near infrared reflectance (%), the weather resistance test The visible light transmittance (%) and near-infrared reflectance (%) later, and cracks after the weather resistance test were evaluated. The results are shown in Table 2 below.

(実施例15)
実施例1において、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液4を、それ以外の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液4を、および高屈折率層の形成に高屈折率層用塗布液2を、それぞれ代わりに使用した以外は、実施例1と同様にして、光学反射層を基材上に形成した(積層体15)。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例1と同様にして評価し、その結果を表2に示す。
(Example 15)
In Example 1, the low-refractive-index layer coating liquid 4 is formed to form the lowermost low-refractive-index layer, the low-refractive-index layer coating liquid 4 is formed to form the other low-refractive-index layers, and the high-refractive-index layer. An optical reflective layer was formed on the substrate in the same manner as in Example 1 except that the high refractive index layer coating solution 2 was used instead for forming (Laminate 15). In addition, the liquid landing property and coating unevenness at this time were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

次に、実施例1において、積層体1の代わりに、上記で作製した積層体15を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム15を作製した。   Next, in Example 1, an optical control film 15 was produced in the same manner except that the laminate 15 produced above was used instead of the laminate 1.

さらに、実施例1において、光学制御フィルム1の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム15を使用する以外は、実施例1と同様にして、光学制御体15を作製した。   Furthermore, in Example 1, the optical control body 15 was produced like Example 1 except using the optical control film 15 produced above instead of the optical control film 1. FIG.

上記したようにして作製された光学制御フィルム15または光学制御体15について、実施例1と同様にして、可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、耐候試験後の可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表2に示す。   About the optical control film 15 or the optical control body 15 produced as described above, in the same manner as in Example 1, visible light transmittance (%) and near infrared reflectance (%), visible light after a weather resistance test The transmittance (%) and near-infrared reflectance (%), and cracks after the weather resistance test were evaluated. The results are shown in Table 2 below.

(実施例16)
実施例1において、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液14を、それ以外の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液4を、および高屈折率層の形成に高屈折率層用塗布液2を、それぞれ代わりに使用した以外は、実施例1と同様にして、光学反射層を基材上に形成した(積層体16)。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例1と同様にして評価し、その結果を表2に示す。
(Example 16)
In Example 1, the low-refractive-index layer coating liquid 14 is formed to form the lowermost low-refractive-index layer, the low-refractive-index layer coating liquid 4 is formed to form the other low-refractive-index layers, and the high-refractive-index layer. An optical reflective layer was formed on the base material in the same manner as in Example 1 except that the high refractive index layer coating solution 2 was used instead for forming (Laminate 16). In addition, the liquid landing property and coating unevenness at this time were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

次に、実施例1において、積層体1の代わりに、上記で作製した積層体16を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム16を作製した。   Next, in Example 1, an optical control film 16 was produced in the same manner except that the laminate 16 produced above was used instead of the laminate 1.

さらに、実施例1において、光学制御フィルム1の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム16を使用する以外は、実施例1と同様にして、光学制御体16を作製した。   Further, in Example 1, an optical control body 16 was produced in the same manner as in Example 1 except that the optical control film 16 produced above was used instead of the optical control film 1.

上記したようにして作製された光学制御フィルム16または光学制御体16について、実施例1と同様にして、可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、耐候試験後の可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表2に示す。   About the optical control film 16 or the optical control body 16 produced as described above, in the same manner as in Example 1, visible light transmittance (%) and near-infrared reflectance (%), visible light after weathering test The transmittance (%) and near-infrared reflectance (%), and cracks after the weather resistance test were evaluated. The results are shown in Table 2 below.

(実施例17)
実施例1において、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液8を、それ以外の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液11を、および高屈折率層の形成に高屈折率層用塗布液3を、それぞれ代わりに使用した以外は、実施例1と同様にして、光学反射層を基材上に形成した(積層体17)。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例1と同様にして評価し、その結果を表2に示す。
(Example 17)
In Example 1, the low refractive index layer coating liquid 8 is formed to form the lowermost low refractive index layer, the low refractive index layer coating liquid 11 is formed to form the other low refractive index layers, and the high refractive index layer. An optical reflective layer was formed on the substrate in the same manner as in Example 1 except that the coating solution 3 for the high refractive index layer was used instead for forming (Laminate 17). In addition, the liquid landing property and coating unevenness at this time were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

次に、実施例1において、積層体1の代わりに、上記で作製した積層体17を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム17を作製した。   Next, in Example 1, an optical control film 17 was produced in the same manner except that the laminate 17 produced above was used instead of the laminate 1.

さらに、実施例1において、光学制御フィルム1の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム17を使用する以外は、実施例1と同様にして、光学制御体17を作製した。   Furthermore, in Example 1, the optical control body 17 was produced like Example 1 except using the optical control film 17 produced above instead of the optical control film 1. FIG.

上記したようにして作製された光学制御フィルム17または光学制御体17について、実施例1と同様にして、可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、耐候試験後の可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表2に示す。   About the optical control film 17 or the optical control body 17 produced as described above, in the same manner as in Example 1, visible light transmittance (%) and near-infrared reflectance (%), visible light after weathering test The transmittance (%) and near-infrared reflectance (%), and cracks after the weather resistance test were evaluated. The results are shown in Table 2 below.

(実施例18)
実施例1において、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液8を、それ以外の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液12を、および高屈折率層の形成に高屈折率層用塗布液4を、それぞれ代わりに使用した以外は、実施例1と同様にして、光学反射層を基材上に形成した(積層体18)。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例1と同様にして評価し、その結果を表2に示す。
(Example 18)
In Example 1, the low refractive index layer coating solution 8 is used to form the lowermost low refractive index layer, the low refractive index layer coating solution 12 is used to form the other low refractive index layers, and the high refractive index layer. An optical reflective layer was formed on the substrate in the same manner as in Example 1 except that the coating solution 4 for the high refractive index layer was used in place of each other (Laminate 18). In addition, the liquid landing property and coating unevenness at this time were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

次に、実施例1において、積層体1の代わりに、上記で作製した積層体18を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム18を作製した。   Next, in Example 1, the optical control film 18 was produced in the same manner except that the laminate 18 produced above was used instead of the laminate 1.

さらに、実施例1において、光学制御フィルム1の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム18を使用する以外は、実施例1と同様にして、光学制御体18を作製した。   Further, in Example 1, an optical control body 18 was produced in the same manner as in Example 1 except that the optical control film 18 produced above was used instead of the optical control film 1.

上記したようにして作製された光学制御フィルム18または光学制御体18について、実施例1と同様にして、可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、耐候試験後の可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表2に示す。   About the optical control film 18 or the optical control body 18 produced as described above, in the same manner as in Example 1, visible light transmittance (%) and near-infrared reflectance (%), visible light after a weather resistance test The transmittance (%) and near-infrared reflectance (%), and cracks after the weather resistance test were evaluated. The results are shown in Table 2 below.

(実施例19)
実施例1において、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液8を、それ以外の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液13を、および高屈折率層の形成に高屈折率層用塗布液5を、それぞれ代わりに使用した以外は、実施例1と同様にして、光学反射層を基材上に形成した(積層体19)。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例1と同様にして評価し、その結果を表2に示す。
(Example 19)
In Example 1, the low-refractive-index layer coating liquid 8 is formed to form the lowermost low-refractive-index layer, the low-refractive-index layer coating liquid 13 is formed to form the other low-refractive-index layers, and the high-refractive-index layer. An optical reflective layer was formed on the substrate in the same manner as in Example 1 except that the high-refractive-index layer coating solution 5 was used instead for forming (Laminated body 19). In addition, the liquid landing property and coating unevenness at this time were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

次に、実施例1において、積層体1の代わりに、上記で作製した積層体19を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム19を作製した。   Next, in Example 1, an optical control film 19 was produced in the same manner except that the laminate 19 produced above was used instead of the laminate 1.

さらに、実施例1において、光学制御フィルム1の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム19を使用する以外は、実施例1と同様にして、光学制御体19を作製した。   Furthermore, in Example 1, the optical control body 19 was produced like Example 1 except using the optical control film 19 produced above instead of the optical control film 1. FIG.

上記したようにして作製された光学制御フィルム19または光学制御体19について、実施例1と同様にして、可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、耐候試験後の可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表2に示す。   About the optical control film 19 or the optical control body 19 produced as described above, in the same manner as in Example 1, visible light transmittance (%) and near-infrared reflectance (%), visible light after weathering test The transmittance (%) and near-infrared reflectance (%), and cracks after the weather resistance test were evaluated. The results are shown in Table 2 below.

(実施例20)
実施例1において、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液8を、それ以外の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液14を、および高屈折率層の形成に高屈折率層用塗布液6を、それぞれ代わりに使用した以外は、実施例1と同様にして、光学反射層を基材上に形成した(積層体20)。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例1と同様にして評価し、その結果を表2に示す。
(Example 20)
In Example 1, the low-refractive-index layer coating liquid 8 is formed to form the lowermost low-refractive-index layer, the low-refractive-index layer coating liquid 14 is formed to form the other low-refractive-index layers, and the high-refractive-index layer. An optical reflective layer was formed on the substrate in the same manner as in Example 1 except that the high-refractive index layer coating solution 6 was used instead for forming (Laminate 20). In addition, the liquid landing property and coating unevenness at this time were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

次に、実施例1において、積層体1の代わりに、上記で作製した積層体20を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム20を作製した。   Next, in Example 1, an optical control film 20 was produced in the same manner except that the laminate 20 produced above was used instead of the laminate 1.

さらに、実施例1において、光学制御フィルム1の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム20を使用する以外は、実施例1と同様にして、光学制御体20を作製した。   Furthermore, in Example 1, the optical control body 20 was produced like Example 1 except using the optical control film 20 produced above instead of the optical control film 1. FIG.

上記したようにして作製された光学制御フィルム20または光学制御体20について、実施例1と同様にして、可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、耐候試験後の可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表2に示す。   About the optical control film 20 or the optical control body 20 produced as described above, in the same manner as in Example 1, visible light transmittance (%) and near infrared reflectance (%), visible light after weathering test The transmittance (%) and near-infrared reflectance (%), and cracks after the weather resistance test were evaluated. The results are shown in Table 2 below.

(実施例21)
実施例1において、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液8を、それ以外の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液1を、および高屈折率層の形成に高屈折率層用塗布液7を、それぞれ代わりに使用した以外は、実施例1と同様にして、光学反射層を基材上に形成した(積層体21)。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例1と同様にして評価し、その結果を表2に示す。
(Example 21)
In Example 1, the low-refractive index layer coating liquid 8 is formed to form the lowermost low-refractive index layer, the low-refractive index layer coating liquid 1 is formed to form the other low-refractive index layers, and the high-refractive index layer. An optical reflective layer was formed on the base material in the same manner as in Example 1 except that the high refractive index layer coating solution 7 was used instead for forming (Laminate 21). In addition, the liquid landing property and coating unevenness at this time were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

次に、実施例1において、積層体1の代わりに、上記で作製した積層体21を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム21を作製した。   Next, in Example 1, an optical control film 21 was produced in the same manner except that the laminate 21 produced above was used instead of the laminate 1.

さらに、実施例1において、光学制御フィルム1の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム21を使用する以外は、実施例1と同様にして、光学制御体21を作製した。   Further, in Example 1, an optical control body 21 was produced in the same manner as in Example 1 except that the optical control film 21 produced above was used instead of the optical control film 1.

上記したようにして作製された光学制御フィルム21または光学制御体21について、実施例1と同様にして、可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、耐候試験後の可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表2に示す。   About the optical control film 21 or the optical control body 21 produced as described above, in the same manner as in Example 1, visible light transmittance (%) and near infrared reflectance (%), visible light after weathering test The transmittance (%) and near-infrared reflectance (%), and cracks after the weather resistance test were evaluated. The results are shown in Table 2 below.

(実施例22)
実施例1において、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液8を、それ以外の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液16を、および高屈折率層の形成に高屈折率層用塗布液1を、それぞれ代わりに使用した以外は、実施例1と同様にして、光学反射層を基材上に形成した(積層体22)。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例1と同様にして評価し、その結果を表2に示す。
(Example 22)
In Example 1, the low-refractive-index layer coating solution 8 is used to form the lowermost low-refractive-index layer, the low-refractive-index layer coating solution 16 is used to form the other low-refractive-index layers, and the high-refractive-index layer. An optical reflective layer was formed on the substrate in the same manner as in Example 1 except that the coating solution 1 for the high refractive index layer was used instead for forming (Laminate 22). In addition, the liquid landing property and coating unevenness at this time were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

次に、実施例1において、積層体1の代わりに、上記で作製した積層体22を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム22を作製した。   Next, in Example 1, an optical control film 22 was produced in the same manner except that the laminate 22 produced above was used instead of the laminate 1.

さらに、実施例1において、光学制御フィルム1の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム22を使用する以外は、実施例1と同様にして、光学制御体22を作製した。   Furthermore, in Example 1, instead of the optical control film 1, an optical control body 22 was produced in the same manner as in Example 1 except that the optical control film 22 produced above was used.

上記したようにして作製された光学制御フィルム22または光学制御体22について、実施例1と同様にして、可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、耐候試験後の可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表2に示す。   About the optical control film 22 or the optical control body 22 produced as described above, in the same manner as in Example 1, visible light transmittance (%) and near-infrared reflectance (%), visible light after weathering test The transmittance (%) and near-infrared reflectance (%), and cracks after the weather resistance test were evaluated. The results are shown in Table 2 below.

(比較例1)
実施例1において、低屈折率層用塗布液2の代わりに、低屈折率層用塗布液1を最下層の低屈折率層の形成に使用した以外は、実施例1と同様にして、光学反射層を基材上に形成した(積層体23)。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例1と同様にして評価し、その結果を表2に示す。
(Comparative Example 1)
In Example 1, in place of the low refractive index layer coating liquid 2, the low refractive index layer coating liquid 1 was used in the same manner as in Example 1 except that the lower refractive index layer coating liquid 1 was used for forming the lowest refractive index layer. A reflective layer was formed on the substrate (laminate 23). In addition, the liquid landing property and coating unevenness at this time were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

次に、実施例1において、積層体1の代わりに、上記で作製した積層体23を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム23を作製した。   Next, in Example 1, an optical control film 23 was produced in the same manner except that the laminate 23 produced above was used instead of the laminate 1.

さらに、実施例1において、光学制御フィルム1の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム23を使用する以外は、実施例1と同様にして、光学制御体23を作製した。   Further, in Example 1, an optical control body 23 was produced in the same manner as in Example 1 except that the optical control film 23 produced above was used instead of the optical control film 1.

上記したようにして作製された光学制御フィルム23または光学制御体23について、実施例1と同様にして、可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、耐候試験後の可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表2に示す。   About the optical control film 23 or the optical control body 23 produced as described above, in the same manner as in Example 1, visible light transmittance (%) and near infrared reflectance (%), visible light after a weather resistance test The transmittance (%) and near-infrared reflectance (%), and cracks after the weather resistance test were evaluated. The results are shown in Table 2 below.

(比較例2)
実施例1において、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液1を、および高屈折率層の形成に高屈折率層用塗布液2を、それぞれ代わりに使用した以外は、実施例1と同様にして、光学反射層を基材上に形成した(積層体24)。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例1と同様にして評価し、その結果を表2に示す。
(Comparative Example 2)
In Example 1, except that the low refractive index layer coating liquid 1 was used for forming the lowermost low refractive index layer, and the high refractive index layer coating liquid 2 was used instead for forming the high refractive index layer, respectively. In the same manner as in Example 1, an optical reflective layer was formed on the substrate (laminate 24). In addition, the liquid landing property and coating unevenness at this time were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

次に、実施例1において、積層体1の代わりに、上記で作製した積層体24を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム24を作製した。   Next, in Example 1, the optical control film 24 was produced in the same manner except that the laminate 24 produced above was used instead of the laminate 1.

さらに、実施例1において、光学制御フィルム1の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム24を使用する以外は、実施例1と同様にして、光学制御体24を作製した。   Furthermore, in Example 1, the optical control body 24 was produced like Example 1 except using the optical control film 24 produced above instead of the optical control film 1. FIG.

上記したようにして作製された光学制御フィルム24または光学制御体24について、実施例1と同様にして、可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、耐候試験後の可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表2に示す。   About the optical control film 24 or the optical control body 24 produced as described above, in the same manner as in Example 1, visible light transmittance (%) and near infrared reflectance (%), visible light after weathering test The transmittance (%) and near-infrared reflectance (%), and cracks after the weather resistance test were evaluated. The results are shown in Table 2 below.

(比較例3)
実施例1において、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液1を、およびそれ以外の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液4を、それぞれ代わりに使用した以外は、実施例1と同様にして、光学反射層を基材上に形成した(積層体25)。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例1と同様にして評価し、その結果を表2に示す。
(Comparative Example 3)
In Example 1, the low-refractive-index layer coating solution 1 is used instead for forming the lowermost low-refractive-index layer, and the low-refractive-index layer coating solution 4 is used instead for forming the other low-refractive-index layers. Except for this, an optical reflective layer was formed on the substrate in the same manner as in Example 1 (laminate 25). In addition, the liquid landing property and coating unevenness at this time were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

次に、実施例1において、積層体1の代わりに、上記で作製した積層体25を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム25を作製した。   Next, in Example 1, an optical control film 25 was produced in the same manner except that the laminate 25 produced above was used instead of the laminate 1.

さらに、実施例1において、光学制御フィルム1の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム25を使用する以外は、実施例1と同様にして、光学制御体25を作製した。   Further, in Example 1, an optical control body 25 was produced in the same manner as in Example 1 except that the optical control film 25 produced above was used instead of the optical control film 1.

上記したようにして作製された光学制御フィルム25または光学制御体25について、実施例1と同様にして、可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、耐候試験後の可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表2に示す。   About the optical control film 25 or the optical control body 25 produced as described above, in the same manner as in Example 1, visible light transmittance (%) and near-infrared reflectance (%), visible light after a weather resistance test The transmittance (%) and near-infrared reflectance (%), and cracks after the weather resistance test were evaluated. The results are shown in Table 2 below.

(比較例4)
実施例1において、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液1を、それ以外の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液14を、および高屈折率層の形成に高屈折率層用塗布液6を、それぞれ代わりに使用した以外は、実施例1と同様にして、光学反射層を基材上に形成した(積層体26)。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例1と同様にして評価し、その結果を表2に示す。
(Comparative Example 4)
In Example 1, the coating solution 1 for the low refractive index layer is formed for forming the lowest refractive index layer, the coating solution 14 for the low refractive index layer is formed for forming the other low refractive index layers, and the high refractive index layer. An optical reflective layer was formed on the substrate in the same manner as in Example 1 except that the high refractive index layer coating solution 6 was used instead for forming (Laminate 26). In addition, the liquid landing property and coating unevenness at this time were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

次に、実施例1において、積層体1の代わりに、上記で作製した積層体26を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム26を作製した。   Next, in Example 1, an optical control film 26 was produced in the same manner except that the laminate 26 produced above was used instead of the laminate 1.

さらに、実施例1において、光学制御フィルム1の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム26を使用する以外は、実施例1と同様にして、光学制御体26を作製した。   Further, in Example 1, an optical control body 26 was produced in the same manner as in Example 1 except that the optical control film 26 produced above was used instead of the optical control film 1.

上記したようにして作製された光学制御フィルム26または光学制御体26について、実施例1と同様にして、可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、耐候試験後の可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表2に示す。   About the optical control film 26 or the optical control body 26 manufactured as described above, in the same manner as in Example 1, visible light transmittance (%) and near-infrared reflectance (%), visible light after weathering test The transmittance (%) and near-infrared reflectance (%), and cracks after the weather resistance test were evaluated. The results are shown in Table 2 below.

(比較例5)
実施例1において、低屈折率層用塗布液2の代わりに、低屈折率層用塗布液17を最下層の低屈折率層の形成に使用した以外は、実施例1と同様にして、光学反射層を基材上に形成した(積層体27)。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例1と同様にして評価し、その結果を表2に示す。
(Comparative Example 5)
In Example 1, in place of the low refractive index layer coating solution 2, the low refractive index layer coating solution 17 was used in the same manner as in Example 1 except that the lower refractive index layer coating solution 17 was used for forming the lowest refractive index layer. A reflective layer was formed on the substrate (laminate 27). In addition, the liquid landing property and coating unevenness at this time were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

次に、実施例1において、積層体1の代わりに、上記で作製した積層体27を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム27を作製した。   Next, in Example 1, an optical control film 27 was produced in the same manner except that the laminate 27 produced above was used instead of the laminate 1.

さらに、実施例1において、光学制御フィルム1の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム27を使用する以外は、実施例1と同様にして、光学制御体27を作製した。   Furthermore, in Example 1, instead of the optical control film 1, an optical control body 27 was produced in the same manner as in Example 1 except that the optical control film 27 produced above was used.

上記したようにして作製された光学制御フィルム27または光学制御体27について、実施例1と同様にして、可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、耐候試験後の可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表2に示す。   About the optical control film 27 or the optical control body 27 manufactured as described above, in the same manner as in Example 1, visible light transmittance (%) and near-infrared reflectance (%), visible light after weathering test The transmittance (%) and near-infrared reflectance (%), and cracks after the weather resistance test were evaluated. The results are shown in Table 2 below.

(比較例6)
実施例1において、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液18を、それ以外の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液19を、および高屈折率層の形成に高屈折率層用塗布液8を、それぞれ代わりに使用した以外は、実施例1と同様にして、光学反射層を基材上に形成した(積層体28)。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例1と同様にして評価し、その結果を表2に示す。なお、本例では、塗膜を乾燥・巻き取り後にブロッキングが多く認められた。
(Comparative Example 6)
In Example 1, the low-refractive-index layer coating liquid 18 is formed to form the lowermost low-refractive-index layer, the low-refractive-index layer coating liquid 19 is formed to form the other low-refractive-index layers, and the high-refractive-index layer. An optical reflective layer was formed on the substrate in the same manner as in Example 1 except that the high refractive index layer coating solution 8 was used instead for forming (Laminate 28). In addition, the liquid landing property and coating unevenness at this time were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2. In addition, in this example, many blockings were recognized after drying and winding up the coating film.

次に、実施例1において、積層体1の代わりに、上記で作製した積層体28を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム28を作製した。   Next, in Example 1, an optical control film 28 was produced in the same manner except that the laminate 28 produced above was used instead of the laminate 1.

さらに、実施例1において、光学制御フィルム1の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム28を使用する以外は、実施例1と同様にして、光学制御体28を作製した。   Further, in Example 1, an optical control body 28 was produced in the same manner as in Example 1 except that the optical control film 28 produced above was used instead of the optical control film 1.

上記したようにして作製された光学制御フィルム28または光学制御体28について、実施例1と同様にして、可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、耐候試験後の可視光透過率(%)および近赤外反射率(%)、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表2に示す。   About the optical control film 28 or the optical control body 28 produced as described above, in the same manner as in Example 1, visible light transmittance (%) and near-infrared reflectance (%), visible light after weathering test The transmittance (%) and near-infrared reflectance (%), and cracks after the weather resistance test were evaluated. The results are shown in Table 2 below.

上記実施例1〜22および比較例1〜6で低屈折率層及び高屈折率層の形成に使用した親水性有機溶剤の種類および量を下記表1に要約する。   Table 1 below summarizes the types and amounts of the hydrophilic organic solvents used in Examples 1 to 22 and Comparative Examples 1 to 6 for forming the low refractive index layer and the high refractive index layer.

上記表1から、本発明の光学制御フィルムは、最下層を特定濃度の親水性有機溶剤を含む塗布液を用いて形成することによって、塗布液の着液性を向上し、塗布ムラの発生を抑制できることが分かる。また、このようにして得られる光学制御フィルム及び当該光学制御フィルムを備えた光学制御体は、高い熱線遮蔽性は維持しつつ、耐候性に優れることが分かる。   From Table 1 above, the optical control film of the present invention improves the liquid landing property of the coating liquid by forming the lowermost layer using a coating liquid containing a hydrophilic organic solvent having a specific concentration, and the occurrence of coating unevenness. It turns out that it can suppress. Moreover, it turns out that the optical control film provided in this way and the optical control body provided with the said optical control film are excellent in weather resistance, maintaining high heat ray shielding property.

Claims (3)

基材上に高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層したユニットを少なくとも1つ含む光学制御フィルムの製造方法であって、
前記基材に最も近い高屈折率層(A)または低屈折率層(A’)を、樹脂、金属酸化物粒子および0.1〜8質量%濃度の親水性有機溶剤を含む塗布液を用いて形成することを有する、光学制御フィルムの製造方法。
A method for producing an optical control film comprising at least one unit in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are alternately laminated on a substrate,
For the high refractive index layer (A) or low refractive index layer (A ′) closest to the substrate, a coating solution containing a resin, metal oxide particles, and a hydrophilic organic solvent having a concentration of 0.1 to 8% by mass is used. A method for producing an optical control film.
前記親水性有機溶剤が、炭素数2〜4の1価アルコールまたはグリコールエーテルである、請求項1に記載の光学制御フィルムの製造方法。   The manufacturing method of the optical control film of Claim 1 whose said hydrophilic organic solvent is a C2-C4 monohydric alcohol or glycol ether. 前記基材に最も近い高屈折率層(A)または低屈折率層(A’)を、樹脂、金属酸化物粒子および0.1〜8質量%濃度の炭素数2〜4の1価アルコールを含有する塗布液を用いて形成し、
前記高屈折率層(A)または低屈折率層(A’)以外の高屈折率層および低屈折率層の少なくとも1層を、樹脂、金属酸化物粒子および0.1〜8質量%濃度のグリコールエーテルを含有する塗布液を用いて形成する、請求項1または2に記載の光学制御フィルムの製造方法。
A high refractive index layer (A) or a low refractive index layer (A ′) closest to the substrate is made of resin, metal oxide particles and a monohydric alcohol having 2 to 4 carbon atoms and having a concentration of 0.1 to 8% by mass. Formed using a coating solution containing,
At least one of the high refractive index layer and the low refractive index layer other than the high refractive index layer (A) or the low refractive index layer (A ′) is made of resin, metal oxide particles, and 0.1 to 8% by mass concentration. The manufacturing method of the optical control film of Claim 1 or 2 formed using the coating liquid containing glycol ether.
JP2014257633A 2014-12-19 2014-12-19 Method for manufacturing optical control film Pending JP2016118632A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014257633A JP2016118632A (en) 2014-12-19 2014-12-19 Method for manufacturing optical control film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014257633A JP2016118632A (en) 2014-12-19 2014-12-19 Method for manufacturing optical control film

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2016118632A true JP2016118632A (en) 2016-06-30

Family

ID=56244200

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014257633A Pending JP2016118632A (en) 2014-12-19 2014-12-19 Method for manufacturing optical control film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2016118632A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019189066A1 (en) * 2018-03-26 2019-10-03 日本電気硝子株式会社 Optical filter, filter component, optical device, and method for manufacturing optical filter
WO2019240003A1 (en) * 2018-06-14 2019-12-19 コニカミノルタ株式会社 Optical property control film and display device using same

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005511292A (en) * 2001-12-08 2005-04-28 ナノゲート アドヴァンスド マテリアルズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Infrared reflecting lacquer layer
WO2013054912A1 (en) * 2011-10-12 2013-04-18 コニカミノルタホールディングス株式会社 Near infrared blocking film and near infrared blocking body
WO2014185386A1 (en) * 2013-05-16 2014-11-20 コニカミノルタ株式会社 Production method for infrared shielding film

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005511292A (en) * 2001-12-08 2005-04-28 ナノゲート アドヴァンスド マテリアルズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Infrared reflecting lacquer layer
WO2013054912A1 (en) * 2011-10-12 2013-04-18 コニカミノルタホールディングス株式会社 Near infrared blocking film and near infrared blocking body
WO2014185386A1 (en) * 2013-05-16 2014-11-20 コニカミノルタ株式会社 Production method for infrared shielding film

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019189066A1 (en) * 2018-03-26 2019-10-03 日本電気硝子株式会社 Optical filter, filter component, optical device, and method for manufacturing optical filter
WO2019240003A1 (en) * 2018-06-14 2019-12-19 コニカミノルタ株式会社 Optical property control film and display device using same
JPWO2019240003A1 (en) * 2018-06-14 2021-08-05 コニカミノルタ株式会社 Optical property control film and display device using it

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6443341B2 (en) Light reflecting film and light reflector using the same
JP6115675B2 (en) Optical reflection film and optical reflector using the same
US9519081B2 (en) Optical laminate film, infrared shielding film and infrared shielding body
WO2014024873A1 (en) Light-reflective film, and light reflector produced using same
JP5939257B2 (en) Near-infrared shielding film and near-infrared shielding body
WO2013111735A1 (en) Optical film
JP6673220B2 (en) Heat shield film, method of manufacturing the same, and heat shield using the same
WO2014069507A1 (en) Optical reflection film, infrared-shielding film, and process for producing same
JP6428608B2 (en) Infrared shielding film, infrared shielding film installation method and infrared shielding film iris prevention method
JPWO2014199872A1 (en) Infrared shielding film, infrared shielding body using the same and heat ray reflective laminated glass
JP2014201450A (en) Heat-ray shielding laminated glass and method for manufacturing heat-ray shielding laminated glass
WO2016194560A1 (en) Infrared-shielding film
JPWO2015056752A1 (en) Infrared shielding film, infrared shielding body using the same and heat ray reflective laminated glass
US20160062000A1 (en) Optical reflective film, method for manufacturing the same, and optical reflector using the same
JP6146410B2 (en) Infrared shielding film and infrared shielding body
JP2016118632A (en) Method for manufacturing optical control film
JP2016155256A (en) Heat shielding film, and method for producing the same
JP5817553B2 (en) Infrared shielding film and infrared shielding body
WO2017169810A1 (en) Optical reflection film
JP2013080178A (en) Light-shielding film and infrared shield using the same
JP2017219694A (en) Optical reflection film, method for producing optical reflection film, and optical reflection body
JP2017096990A (en) Method for producing light reflection film
JP2017090714A (en) Infrared shielding film, and infrared reflection body
JP2016090878A (en) Optical reflection film
JP2017003662A (en) Dielectric multilayer film

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170926

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180905

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180918

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20190402