JP2005511292A - Infrared reflecting lacquer layer - Google Patents

Infrared reflecting lacquer layer Download PDF

Info

Publication number
JP2005511292A
JP2005511292A JP2003551215A JP2003551215A JP2005511292A JP 2005511292 A JP2005511292 A JP 2005511292A JP 2003551215 A JP2003551215 A JP 2003551215A JP 2003551215 A JP2003551215 A JP 2003551215A JP 2005511292 A JP2005511292 A JP 2005511292A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nanoparticles
ito
lacquer
coating
particle size
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2003551215A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
ブルガルト デトレフ
ナス リューディガー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nanogate Advanced Materials GmbH
Original Assignee
Nanogate Advanced Materials GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE10160356A external-priority patent/DE10160356A1/en
Priority claimed from DE2002128204 external-priority patent/DE10228204A1/en
Priority claimed from DE2002128626 external-priority patent/DE10228626A1/en
Application filed by Nanogate Advanced Materials GmbH filed Critical Nanogate Advanced Materials GmbH
Publication of JP2005511292A publication Critical patent/JP2005511292A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/24Electrically-conducting paints
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/006Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
    • C03C17/007Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/0427Coating with only one layer of a composition containing a polymer binder
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/043Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/044Forming conductive coatings; Forming coatings having anti-static properties
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/60Additives non-macromolecular
    • C09D7/61Additives non-macromolecular inorganic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/66Additives characterised by particle size
    • C09D7/67Particle size smaller than 100 nm
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/66Additives characterised by particle size
    • C09D7/68Particle size between 100-1000 nm
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/40Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/44Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the composition of the continuous phase
    • C03C2217/445Organic continuous phases
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/40Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/46Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
    • C03C2217/47Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
    • C03C2217/475Inorganic materials
    • C03C2217/476Tin oxide or doped tin oxide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

本発明は、透明なIR遮蔽膜を製造するための方法に関する。この方法によれば、担体は、活性物質を担持しており、かつ照射パス中に配置される。これを達成するために、ナノ粒子および通常のラッカー用溶剤を含有するラッカー系を、ウエット方法で基板に塗布する。  The present invention relates to a method for producing a transparent IR shielding film. According to this method, the carrier carries the active substance and is placed in the irradiation path. To achieve this, a lacquer system containing nanoparticles and a normal lacquer solvent is applied to the substrate by a wet process.

Description

本発明は、請求された対象物、すなわち、赤外線遮蔽膜に関する。   The present invention relates to the claimed object, ie an infrared shielding film.

赤外線遮蔽膜は、種々の分野においてますます重要になってきている。建築分野、たとえば高層建築の広いガラス表面においては、しばしば、ビルディング中への赤外線量を最小限に維持すること、さらに、南国においてはビルディング内を低い温度に維持しながら、日光の最大量を保持することが要求される。同様に、自動車用ガラス工業の分野においては、空気力学的に改良を加えると共に、ガラスのより広い範囲を同様の可視性で保持する必要がある。いずれにせよ、内部の温度上昇を回避することが望ましい。放射熱を十分に排除することができない場合には、家および車中でエアコンディショナーを使用しなければならない。したがって、これは高いエネルギー消費を必要とする。   Infrared shielding films are becoming increasingly important in various fields. In the architectural field, for example, on large glass surfaces in high-rise buildings, often the amount of infrared radiation into the building is kept to a minimum, and in southern countries the maximum amount of sunlight is maintained while keeping the building at a low temperature. It is required to do. Similarly, in the field of automotive glass industry, there is a need to make aerodynamic improvements and maintain a wider range of glass with similar visibility. In any case, it is desirable to avoid an internal temperature rise. If the radiant heat cannot be adequately eliminated, air conditioners must be used in homes and cars. This therefore requires high energy consumption.

さらに他の場合において、放射熱挙動に関して要求され、これは、特に、北の地方での、グリーンハウス等で要求される。その際、グリーンハウス中の放射熱は保持すべきであって、逃すべきではない。これは、特定シート材料、たとえば、たとえば温室、テント用材料、衣類等に適用される。また反対に、過剰の温度上昇自体を回避すべき場合には、内部の熱を放出することにより可能であり、好ましい場合には熱入射を防止すべきである。それぞれは、特定の場合にのみ望ましいことから、常に達成すべきものではない。さらに、熱の流れが完全に抑制され、すなわち、内部から外部へ、あるいは外部から内部への熱交換が完全に抑制される場合も考えられうる。たとえば、自動車においては、夏期は内部を太陽光から保護すべきであり、その一方で、冬期にはヒーターからの熱を可能な限り十分に内部に保持することで、迅速な温度上昇を支援し、冷却状態を回避しなければならない。   In still other cases, it is required with regard to radiant heat behavior, which is particularly required in green houses, etc., in the north region. At that time, the radiant heat in the green house should be maintained and should not be lost. This applies to specific sheet materials such as, for example, greenhouses, tent materials, clothing and the like. On the other hand, if excessive temperature rise itself should be avoided, it is possible to release the internal heat, and heat incidence should be prevented in the preferred case. Each should not always be achieved because it is desirable only in certain cases. Furthermore, it can be considered that the heat flow is completely suppressed, that is, heat exchange from the inside to the outside or from the outside to the inside is completely suppressed. For example, in automobiles, the interior should be protected from sunlight during the summer, while in the winter the heat from the heater is kept inside as much as possible to support a rapid temperature rise. , Cooling state must be avoided.

第1および第2透明ガラス板中に中間層を含む積層ガラスが提案されており(EP0727306A2)、その中間層には、0.2μmまでの粒子直径を示す機能性超微粒子が分散されている。この層は、特に、可塑性PVB(ポリビニルブチラール)またはエチレンビニルアセテート−コポリマー(EVA)から構成されていてもよい。機能性粒子としては、EP0727306A2において示すような、金属、金属含有化合物および複合材料から成る群から選択される。これらの金属は、Sn、Ti、Si、Zn、Zr、Fe、Al、Cr、Co、Ce、In、Ni、Ag、Cu、Pt、Nn、Ta、W、VおよびMoから成る。金属化合物としては、酸化物、窒化物、オキシニトリドおよびスルフィドが挙げられてもよく;複合材料は、少なくとも1個の物質でドープされていてもよく、かつ化合物は、少なくとも1個の物質でドープされていてもよい。酸化物として、SnO、TiO、SiO、ZrO、ZnO、FeO、Al、FeO、Cr、CO、CeO、In、NiO、MnOおよびCuOが挙げられてもよい。中間層のための出発材料樹脂中へのどのくらいの量を添加すべきか、得られた膜が、十分な電波透過性を達成するために最大の導電性を有することが検討されている。 A laminated glass including an intermediate layer in the first and second transparent glass plates has been proposed (EP 0727306A2), and functional ultrafine particles having a particle diameter of up to 0.2 μm are dispersed in the intermediate layer. This layer may in particular consist of plastic PVB (polyvinyl butyral) or ethylene vinyl acetate copolymer (EVA). The functional particles are selected from the group consisting of metals, metal-containing compounds and composite materials as shown in EP0727306A2. These metals consist of Sn, Ti, Si, Zn, Zr, Fe, Al, Cr, Co, Ce, In, Ni, Ag, Cu, Pt, Nn, Ta, W, V, and Mo. Metal compounds may include oxides, nitrides, oxynitrides and sulfides; the composite material may be doped with at least one substance, and the compound may be doped with at least one substance. It may be. As an oxide, SnO 2, TiO 2, SiO 2, ZrO 2, ZnO 2, FeO 3, Al 2 O 3, FeO, Cr 2 O 3, CO 2 O 3, CeO 2, In 2 O 3, NiO, MnO And CuO. It is considered how much amount should be added into the starting resin for the intermediate layer, and that the resulting film has maximum conductivity to achieve sufficient radio wave transmission.

従来の方法は、特定の使用下で適した性質を導くものであるが、すべての場合において、完全に満足できる状態のものではない。これは、特に、良好なIR−遮蔽性に加えて改善された導電性を有することが望ましい場合に、帯電防止特性を得るためであるか、あるいは、放散層を提供するのにあてはまる。さらに、赤外線遮断性複合成形体、たとえば、強力に屈曲したフロントガラス等を製造する場合には、困難である。   Conventional methods lead to properties that are suitable for a particular use, but in all cases are not completely satisfactory. This is especially true for obtaining antistatic properties or providing a dissipative layer where it is desirable to have improved conductivity in addition to good IR-shielding properties. Furthermore, it is difficult to produce an infrared shielding composite molded body such as a strongly bent windshield.

技術水準として公知の他の方法は、スパッタリング、CVD、PVD等によって実施することができる、板ガラス上の気相被覆である。フィルム材料としては、導電性または半導電性にドープされた酸化物の極めて薄い相を、たとえば、ATO(SnO:Sb)、FTO(SnO:F)、AZO(ZnO:Al)またはITO(In:Sn)をスパッタリングすることによって得られる。これらの層は、極めて薄く、可視光に対して透過性であり、かつ、赤外線透過性を減少させる。導電層としては、連続層を使用することができる。しかしながら、このような薄層を塗布するために使用される装置は、極めて高価であり、この場合、これは、多くの供給量、すなわち、多くの材料を用いての被覆には不向きであることを意味する。さらに、本質的に多くの標的材料が必要とされ、最終的に基板上で分離する。残分は、装置中に堆積するために、一般的には除去しなければならず、この場合、これは、高価な標的物の不完全な利用性のみならず、極めて望ましくない。 Another method known in the state of the art is vapor phase coating on sheet glass, which can be carried out by sputtering, CVD, PVD or the like. The film material can be a very thin phase of conductively or semiconductively doped oxide, for example ATO (SnO 2 : Sb), FTO (SnO 2 : F), AZO (ZnO: Al) or ITO ( It is obtained by sputtering In 2 O 3 : Sn). These layers are very thin, transparent to visible light, and reduce infrared transmission. A continuous layer can be used as the conductive layer. However, the equipment used to apply such thin layers is very expensive, which in this case is unsuitable for coating with a large supply, i.e. a large number of materials. Means. In addition, essentially a lot of target material is required and eventually separates on the substrate. The residue must generally be removed in order to accumulate in the device, in which case this is highly undesirable as well as incomplete availability of expensive targets.

このような型のスパッタリング装置は、技術的に極めて複雑なものであるにもかかわらず、複合成形体上に層を、少量または特定の順序で適用するために使用するのは極めて困難であり、それというのも、ジオメトリーにおけるそれぞれの変更は、系の主要部分での著しい再構築を必要とするためである。自動車用フロントガラスに平面的に被覆し、その後に、望ましい空力学的形状に曲げる試みは、失敗に終わってかわすでに長く経っている。さらにしばしば望まれるような、ポリマーまたはホイルの被覆は、条件付きでのみ可能である。   Such a type of sputtering device is extremely difficult to use to apply the layers in small quantities or in a specific order on the composite compact, despite being technically very complex, This is because each change in geometry requires a significant reconstruction in the main part of the system. Attempts to planarly cover an automotive windshield and then bend it into the desired aerodynamic shape have been unsuccessful and have already been long. Furthermore, polymer or foil coating, as often desired, is only possible conditionally.

本発明の目的は、商業的使用に新規技術を導入することである。   The object of the present invention is to introduce new technology for commercial use.

この目的は、独立請求項の特徴部分で明らかにされている。好ましい実施態様は以下の請求項において見出すことができる。   This object is made clear in the characterizing part of the independent claim. Preferred embodiments can be found in the following claims.

したがって、本発明は、第1の態様によれば、照射パス中に配置するために担体を作用物質で塗布する、透明なIR−遮断層を製造するための方法を提供し、この場合、これらは、ナノ粒子と、ナノ粒子不含の、薄膜に適用可能なラッカー系に含まれる通常のラッカー用溶剤とを、ウエット法で基板上に塗布することによって製造された。   The invention thus provides, according to a first aspect, a method for producing a transparent IR-blocking layer, in which the carrier is coated with an agent for placement in an irradiation pass, in which case these Was produced by applying nanoparticles and a normal lacquer solvent, which is free of nanoparticles and contained in a lacquer system applicable to a thin film, onto a substrate by a wet method.

驚くべきことに、ナノ粒子は、ラッカー系中に混合された場合であっても、良好な赤外遮蔽作用を生じることが確認された。これは、ウエット法で、ラッカー系にナノ粒子を適用させることを可能にする。これらの利点は、一方では、塗布のためのわずかな技術投資ですむことから、新規適用可能性を拡げ、かつ他方では、複雑な形状であっても取り扱うことができることである。より多くの材料、特にポリマーおよび/またはホイルを、技術水準により取り扱うことが可能である。   Surprisingly, it was confirmed that the nanoparticles produced a good infrared shielding effect even when mixed in a lacquer system. This makes it possible to apply nanoparticles to the lacquer system in a wet process. These advantages are, on the one hand, a small technological investment for the application, which opens up new applicability and, on the other hand, even complex shapes can be handled. More materials, in particular polymers and / or foils, can be handled according to the state of the art.

好ましくは、ナノ粒子をラッカー系に分散させる。ラッカー系の製造の際に使用されるナノ粒子は、このためのラッカー系に一度分散させるか、あるいは再分散させるために製造されたものである。好ましい再分散を達成するための方法は当業者に公知である。しかしながら、公知の方法を使用することにより得られる良好なIR遮蔽膜が重要である。   Preferably, the nanoparticles are dispersed in a lacquer system. The nanoparticles used in the production of the lacquer system are those that are once dispersed or redispersed in the lacquer system for this purpose. Methods for achieving preferred redispersion are known to those skilled in the art. However, a good IR shielding film obtained by using known methods is important.

適用範囲を広げるべく、多様なラッカー用溶剤に関してナノ粒子の赤外線遮蔽作用を達成することは可能であり、それというのも、ラッカー系は、特定の基板および/または使用条件、たとえば、内部、外部のファサードのための、異なる典型的な気候条件下、たとえば、湿気、激しい降雨下で、航空機、特にコックピットガラス、自動車等に関して、最適化されうるためである。特に温度耐性のラッカー系は、赤外線遮蔽性が高い温度適用中で達成されるべき場合に選択され、この場合、これは高温スペース、たとえば、オーブンであり、熱を逃すことなく加熱しなければならない。   In order to broaden the range of application, it is possible to achieve the infrared shielding action of nanoparticles with a variety of lacquer solvents, since the lacquer system is based on specific substrates and / or conditions of use, for example internal, external This is because it can be optimized for aircraft, especially cockpit glass, automobiles, etc. under different typical climatic conditions, for example under humidity and heavy rainfall. A particularly temperature-resistant lacquer system is selected when infrared shielding is to be achieved in high temperature applications, in which case this is a hot space, for example an oven, which must be heated without losing heat .

種々の最適化された性質、たとえば、摩耗性および強度、ピーリングまたはフレーキングに対する耐性、耐熱性、UV−耐性等を達成するために、種々の常用のラッカー用溶剤の混合物を使用することは可能である。   It is possible to use a mixture of various conventional lacquer solvents to achieve various optimized properties such as abrasion and strength, resistance to peeling or flaking, heat resistance, UV-resistance, etc. It is.

ラッカー系は、特に有機成分の形でのバインダとして使用することができる。この有機性成分は、モノマー、オリゴマーまたはポリマーの形で使用されてもよく、かつ、ポリアクリレート、特にPMMA、ポリビニルピロリドン(PVP)、ポリビニルブチラール(PVB)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリエチレングリコール、ポリウレタン、ビスフェノールを基礎とするポリマーおよびポリエステルであるポリマー群からの少なくとも1種、ならびに前記ポリマーのオリゴマーおよび/またはモノマー、および/またはセルロース誘導体、特にメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースおよび/またはニトロセルロースおよび/または金属有機化合物である。さらに、シリコーンおよび/またはシランをモノマー、オリゴマーおよび/またはポリマーの形で添加することができる。   Lacquer systems can be used in particular as binders in the form of organic components. This organic component may be used in the form of a monomer, oligomer or polymer and is a polyacrylate, in particular PMMA, polyvinyl pyrrolidone (PVP), polyvinyl butyral (PVB), polyvinyl alcohol (PVA), polyethylene glycol, polyurethane At least one from the group of polymers which are polymers based on bisphenols and polyesters, and oligomers and / or monomers of said polymers and / or cellulose derivatives, in particular methylcellulose, hydroxypropylcellulose and / or nitrocellulose and / or metals It is an organic compound. Furthermore, silicones and / or silanes can be added in the form of monomers, oligomers and / or polymers.

ナノ粒子は、典型的には、1〜200nmの大きさである。それによって、製造工程における取り扱いを良好し、かつラッカー系の性質を適切に定めることを保証する。   Nanoparticles are typically 1 to 200 nm in size. This ensures good handling in the production process and ensures that the properties of the lacquer system are appropriately defined.

200nmを下廻る粒子の場合には、透明度は、可視光の範囲内での影響を受けることなく、それによって、100nm以下の粒径の高い割合は、結果として、全粒子中で、良好な均一性の増加を生じる。ナノ粒子として、EP0727306に記載のものを考慮にいれることができる。   In the case of particles below 200 nm, the transparency is not affected within the range of visible light, so that a high proportion of particle sizes below 100 nm results in good uniformity in all particles. Cause an increase in sex. As nanoparticles, those described in EP 0727306 can be taken into account.

基板としては、板ガラスに典型的に使用されるシリケートガラスのような鉱物ガラスに加えて、特にPMMAおよびPVB等を使用することが可能である。これは、本発明によるポリマーを含むラッカー系が、有利には、ガラスを軽量化し、新規の適用可能性を拡げることを可能にする。この方法で、飲料容器に、簡単に赤外線遮蔽性を付与することができ、この場合、これらは、容器入り飲料を冷却したままにする場合には有利である。本発明によって得られる層はこれを保証する。   As the substrate, in addition to mineral glass such as silicate glass typically used for plate glass, PMMA, PVB, and the like can be used. This makes it possible for a lacquer system comprising a polymer according to the invention to advantageously reduce the weight of the glass and open up new applicability. In this way, it is possible to easily impart infrared shielding to the beverage container, in which case they are advantageous if the beverage in the container is left cooled. The layer obtained according to the invention ensures this.

本発明は、経済的に有利な多くの異なる技術を用いて、適用させることが可能である。含浸のような技術によって完全にカバーすると同時に、さらに形模様を対象物上に型押しすることができ、たとえばこれは、改善された導電性と組み合わせることで、特に有利である。この方法で、導電性、透明性を有し、さらに同時にIR遮蔽性を有するアンテナ部分を、ラジオ波受信のため、および/または自動車用ラジオ信号を送信および受信するために、自動車用フロントガラス中に組み込むことができる。さらにこれは、広い範囲に亘って適用することができる。   The present invention can be applied using many different technologies that are economically advantageous. At the same time it is completely covered by techniques such as impregnation, the shape pattern can be further embossed on the object, for example this is particularly advantageous in combination with improved conductivity. In this way, an antenna part that is electrically conductive, transparent and at the same time IR-shielded in an automotive windshield for receiving radio waves and / or for transmitting and receiving automotive radio signals. Can be incorporated into. Furthermore, this can be applied over a wide range.

極めて複雑な形状に適用される場合か、あるいは、別個の型模様が型押しされ、対象物間で反復されることがない場合か、あるいは、少量の製品に関して同一にのみ、たとえばシリアルナンバー、バッチナンバー等を型押しする場合には、インク−ジェット法を用いて塗布される。層は可視でないために、目にみえない暗号を生じさせることができる。この場合において、被覆対象物の表面層は、たとえば予め定められた位置に電極を組み込みのために導電性をスキャンすることができるか、および/または隠された情報を赤外線照射によってスキャンすることができ、その際、熱が、基板または被覆された基板の後ろのトランスミッションで記録されうる。このような場合には、被覆はさらに2つ表面の間、たとえば、耐熱ガラス等の内側等に挿入することができる。予め定められた導電性およびIR遮蔽性の組合わせは、特に信頼性の高いものである。   When applied to very complex shapes, or when a separate pattern is embossed and not repeated between objects, or only for a small amount of product, eg serial number, batch When embossing numbers or the like, it is applied using an ink-jet method. Since the layer is not visible, it can generate invisible encryption. In this case, the surface layer of the object to be coated can be scanned for conductivity, for example to incorporate electrodes at predetermined locations, and / or scan hidden information by infrared irradiation. In which case heat can be recorded in the transmission behind the substrate or coated substrate. In such a case, the coating can be further inserted between the two surfaces, for example, inside the heat-resistant glass or the like. The predetermined combination of conductivity and IR shielding is particularly reliable.

乾燥は、典型的にゆっくりであり、かつ、たとえば、100℃を下廻る温度で実施される。乾燥は室温でおこなわれてよいか、あるいは、高い温度で、50〜70℃で、層の任意の有利な特徴を損なうことなく加熱される。   Drying is typically slow and is carried out at a temperature below, for example, 100 ° C. Drying may be performed at room temperature or heated at an elevated temperature at 50-70 ° C. without compromising any advantageous characteristics of the layer.

少なくとも帯電防止の性質が、被覆または層で達成され、さらにそれにより誘発された、改善された導電性であるか、あるいは全体的に導電性の層を達成することは特に有利である。これは、高い導電性を有するナノ粒子が使用される場合には、特に可能である。ドープされたITOよりも比較的高い導電性を有するITOの使用は、特に好ましい。高価なITO材料が、かなり少ない量であっても高い導電性を有することは注目すべき点であり、かつ、標的作用は、特に、浸透極限下で生じうる。   It is particularly advantageous to achieve an improved or totally conductive layer, at least the antistatic properties being achieved in the coating or layer and further induced thereby. This is particularly possible when nanoparticles with high conductivity are used. The use of ITO, which has a relatively higher conductivity than doped ITO, is particularly preferred. It is noteworthy that expensive ITO materials have high conductivity even in fairly small amounts, and the target action can occur especially at the penetration limit.

最初に示したように、多くの適用は、熱放射の場合の型または熱放射のためのダイオード様挙動、すなわち、一方向のみであって、逆方向ではない放射熱を必要とする。本発明の一つの好ましい変法において、吸収定数を、被覆が、最大の太陽エネルギー入射で透明であるように選択する。この太陽エネルギー入射は、約800nm〜1100nmの範囲内でその最大値を示す。したがって、この範囲は加熱に関連する。吸収限界位置の選択によって、熱的太陽光線入射を高い程度にすることが可能である一方で、内部からの放散が十分に減少させることが可能であることが認められた。これは、放散されるべき熱放射が、本発明においては不可能であるが、入射したものよりも一般的に長い波長であるためである。したがって、特に好ましい変法においては、吸収限界を放射線の近赤外域(NIR)と、遠赤外域(FIR)との間にし、これによってすぐに反射するか、および/または吸収し、その後に透過させる。したがって、特に好ましくは、吸収限界の位置を離し、しかしながら1100nm近くに、特に1120〜1350の範囲にする。より短い波長の範囲内に吸収限界を有することによって、本発明において好ましいより多くの熱的太陽光線照射を遮蔽する。本発明による層は、視覚的に完全かまたは少なくともほぼ完全に透明であり、かつ、この場合、これは、ベース材料の黄色値とは関連のないものである。   As indicated at the outset, many applications require a type in the case of thermal radiation or a diode-like behavior for thermal radiation, ie radiant heat in only one direction and not in the reverse direction. In one preferred variant of the invention, the absorption constant is selected such that the coating is transparent at maximum solar energy incidence. This solar energy incidence shows its maximum value in the range of about 800 nm to 1100 nm. This range is therefore related to heating. It has been found that by selecting the absorption limit position, it is possible to increase the thermal solar radiation incidence to a high level, while the radiation from the inside can be sufficiently reduced. This is because the heat radiation to be dissipated is not possible in the present invention but is generally longer in wavelength than the incident one. Thus, in a particularly preferred variant, the absorption limit is between the near-infrared (NIR) and far-infrared (FIR) of radiation, thereby reflecting and / or absorbing immediately and subsequently transmitting. Let Therefore, particularly preferably, the absorption limit is separated, but close to 1100 nm, in particular in the range 1120 to 1350. By having an absorption limit in the shorter wavelength range, it shields more of the thermal solar radiation preferred in the present invention. The layer according to the invention is visually completely or at least almost completely transparent, and in this case it is not related to the yellow value of the base material.

他の変法において、他の目的のために好ましくは、約1100nmでの吸収限界を有するITOを使用すべきであり、その後に、900nmを下廻る範囲内で吸収する被覆中に、他の吸収材料を混合する。特に好ましくはUV耐性吸収体を使用する。同時に、有機性吸収体を使用すべきであり、この場合、これらは、一般的なラッカー系に問題なく導入することができる。フタロシアニン染料は、特に適しており、かつ視覚的に透明であり、さらにUV耐性であることが認められている。特に適した吸収体は、YKR50/10フタロシアニン染料と呼称され、この場合、これはYamamoto Chemicalsから入手可能である。ITO質量に対して10%の染料の量のみで、広いバンドの吸収層を達成するのに十分であることが測定された。   In other variations, for other purposes, preferably ITO with an absorption limit at about 1100 nm should be used, followed by other absorptions in the coating that absorb within 900 nm. Mix the ingredients. Particularly preferably, UV resistant absorbers are used. At the same time, organic absorbers should be used, in which case they can be introduced without problems in common lacquer systems. Phthalocyanine dyes are particularly suitable and have been found to be visually transparent and UV resistant. A particularly suitable absorber is referred to as YKR 50/10 phthalocyanine dye, which is available from Yamamoto Chemicals. It was determined that only 10% of the dye amount relative to the ITO mass was sufficient to achieve a broad band absorption layer.

本発明は以下の図によって例証される:
図1a 被覆されていないガラス基板の透過率;
図1b 被覆されたガラス基板の透過率;
図2a 被覆されていないPC基板の透過率;
図2b 被覆されたPC(ポリカーボネート)基板の透過率;
図3a 被覆されていないPMMA基板の透過率
図3b 被覆されたPMMA基板の透過率
図4a 被覆されていないホウケイ酸ガラス基板の透過率
図4b 被覆されたホウケイ酸ガラス基板の透過率
図5 ホウケイ酸ガラスの透過率
図6 被覆(層)の透過曲線、その際、ITOを製造するための種々の方法を使用した。
The present invention is illustrated by the following figure:
FIG. 1a. The transmittance of an uncoated glass substrate;
FIG. 1 b Transmittance of the coated glass substrate;
Fig. 2a Permeability of uncoated PC board;
Figure 2b Permeability of the coated PC (polycarbonate) substrate;
3a Permeability of uncoated PMMA substrate 3b Permeability of coated PMMA substrate 4a Permeability of uncoated borosilicate glass substrate 4b Permeation of coated borosilicate glass substrate 5 Borosilicate Glass transmission Figure 6 Transmission curve of the coating (layer), various methods for producing ITO were used.

ナノ結晶の形でインジウム錫酸化物粉末を製造した。粒径分析は、得られたナノ粒子が、100nmの粒径スペクトルで最大であることを示し、かつ、この最大値は200nmでほぼ0%になるが、その一方で、1nmを下廻る場合にはITO−粒子はもはや存在しない。その後に、ITO−粉末の導電性を、45ml容積の計量グラス、この場合、これは、直径35mmおよび高さ70mmを有するものに、半分まで粉末を注ぎ入れ、適したプレススタンプを、ゆるい粉末状にセットし、1kgの質量を30秒に亘って負荷した。スタンプを取り除き、直径1.5mmを有するピン形状の測定電極を、1cmの幅および0.7cmの深さにパックされた粉末中に押し入れた。電気的な直流抵抗は、電極間で測定された。選択された粉末は、30〜50Ωの粉末抵抗の範囲内で、良好な導電性を示した。   Indium tin oxide powder was produced in the form of nanocrystals. Particle size analysis shows that the resulting nanoparticles are largest in the 100 nm particle size spectrum, and this maximum is nearly 0% at 200 nm, while below 1 nm. ITO-particles no longer exist. Thereafter, the conductivity of the ITO-powder is poured into a weighing glass of 45 ml volume, in this case having a diameter of 35 mm and a height of 70 mm, and half of the powder is poured into a suitable press stamp in a loose powder form. And a 1 kg mass was loaded for 30 seconds. The stamp was removed and a pin-shaped measuring electrode having a diameter of 1.5 mm was pressed into the powder packed to a width of 1 cm and a depth of 0.7 cm. The electrical DC resistance was measured between the electrodes. The selected powder showed good conductivity within the range of 30-50 Ω powder resistance.

粉末は、以下のような例において使用される。   The powder is used in the following examples.

例1
n−ブタノール中のナノ結晶ITOの分散液50g(固体含量25質量%)を、酢酸エチル中の15質量%のポリマー溶液ParaloidB72 25gと一緒に混合した。ガラスを、この被覆溶液で噴霧コーティングし、得られた被覆を70℃で乾燥させた。層厚は1μmであった。この層は全く透明であった。これは、透過率曲線を記録した。これを図1aを示す。層の導電性を測定し、8x10Ωであった。
Example 1
50 g of a dispersion of nanocrystalline ITO in n-butanol (solid content 25% by weight) was mixed together with 25 g of 15% polymer solution Paraloid B72 in ethyl acetate. Glass was spray coated with this coating solution and the resulting coating was dried at 70 ° C. The layer thickness was 1 μm. This layer was completely transparent. This recorded a transmission curve. This is shown in FIG. Measuring the conductivity of the layer was 8x10 4 Ω 2.

例2
ナノ結晶ITO粉末のエタノール分散液 50g(固体含量25質量%)を、酢酸エチル中の15質量%ポリマー溶液ParaloidB72 50gと一緒に混合した。ガラス板をコーティング溶液でスピンコーティングした。その後にガラスを乾燥させた。層厚は1μmであった。この透過曲線は、図2aから得られた。層の導電率は、10Ωであった。
Example 2
50 g ethanol dispersion of nanocrystalline ITO powder (solid content 25% by weight) was mixed with 50 g 15% polymer solution Paraloid B72 in ethyl acetate. A glass plate was spin coated with the coating solution. Thereafter, the glass was dried. The layer thickness was 1 μm. This transmission curve was obtained from FIG. The conductivity of the layer was 10 5 Ω 2.

例3
例2からのラッカー系を使用し、かつPMMA板上に噴霧した。層厚を1μmに調整し、かつ乾燥を70℃でおこなった。透過率は図3に示した。導電率は、8x10Ωであった。
Example 3
The lacquer system from Example 2 was used and sprayed onto PMMA plates. The layer thickness was adjusted to 1 μm and drying was performed at 70 ° C. The transmittance is shown in FIG. The conductivity was 8x10 4 Ω 2.

例4
ナノ結晶ITOのエタノール分散液50g(固体含量25質量%)を、イソプロパノール中のポリビニルブチラール(PVB)10質量%ポリマー溶液 32gと一緒に混合した。このコーティング溶液をガラス板上に塗布し、かつ、50℃に乾燥させた。この得られた層は3μmの厚さを有し、高い透明度を有していた。透過率曲線を図4に示した。導電率は8x10Ωであった。
Example 4
50 g of ethanol dispersion of nanocrystalline ITO (solid content 25% by weight) was mixed with 32 g of a 10% by weight polymer solution of polyvinyl butyral (PVB) in isopropanol. This coating solution was applied on a glass plate and dried at 50 ° C. The resulting layer had a thickness of 3 μm and high transparency. The transmittance curve is shown in FIG. The conductivity was 8x10 3 Ω 2.

図は、赤外線域中の透過率が、被覆されていない基板と比較して著しく減少されたことを示す。   The figure shows that the transmittance in the infrared region is significantly reduced compared to the uncoated substrate.

その後に、得られた層についての導電率を測定した。例2に関しては、2x10Ωの導電率であった。例1および3に関しては、8x10Ωであった。例2と例4との比較は、表面抵抗がバインダに依存することを示した。層中のナノ結晶ITO量は、浸透限界を下廻る濃度を示した。 Thereafter, the conductivity of the resulting layer was measured. For Example 2, the conductivity was 2 × 10 5 Ω2. With respect to Examples 1 and 3 was 8x10 4 Ω 2. Comparison between Example 2 and Example 4 showed that the surface resistance was dependent on the binder. The amount of nanocrystalline ITO in the layer showed a concentration below the penetration limit.

他の例において、層厚1μmを有する純粋なITOの透過率は、この場合、水性分散液を噴霧し、最終的に500℃に加熱することによって得られたものであり、例1による被覆と比較した。図5に示された本発明による好ましい被覆は、より短い波長での透過率の低下を示し、すなわち、改善された赤外線遮蔽性を示した。   In another example, the transmission of pure ITO with a layer thickness of 1 μm was obtained in this case by spraying an aqueous dispersion and finally heating to 500 ° C. Compared. The preferred coating according to the invention shown in FIG. 5 showed a decrease in transmission at shorter wavelengths, i.e. improved infrared shielding.

他の実施例では、吸収限界をずらすことが可能であることを示す:
ナノ結晶In/SnO(ITO−)粉末は、共沈方法を用いて水性溶液から製造され、その際、可溶性のInまたはSn成分は、pH値を増加させることによって沈殿する。この例において、これらの化合物の濃度は、Inに対してSn−濃度が5質量%であるように選択されるが、原則として、Sn−濃度は任意に定めることができる。
Other examples show that the absorption limit can be shifted:
Nanocrystalline In 2 O 3 / SnO 2 (ITO-) powder is produced from an aqueous solution using a coprecipitation method, in which soluble In or Sn components are precipitated by increasing the pH value. In this example, the concentration of these compounds is selected such that the Sn-concentration is 5% by weight with respect to In, but in principle the Sn-concentration can be arbitrarily determined.

この選択は、種々のSn濃度が、ITOの吸収挙動上で強力な影響を及ぼすことが示されているためであり;この例において、Snの濃度は一定に保持されることにより、ITO−材料の吸収特性が、一定の配合で定めることができることを示した。反応生成物の分離後に、これを乾燥させ、かつ通常の大気条件下で300℃の温度で1時間に亘って加熱し、結晶相を調整した。   This choice is due to the fact that various Sn concentrations have been shown to have a strong influence on the absorption behavior of ITO; in this example, the concentration of Sn is kept constant, so that the ITO-material It was shown that the absorption characteristics of can be determined with a certain formulation. After separation of the reaction product, it was dried and heated at a temperature of 300 ° C. for 1 hour under normal atmospheric conditions to adjust the crystalline phase.

その後に、結晶In/SnOは、2個の試料中に分配し、かつ個々の試料を、300℃でのフォーミングガス下で、異なる時間に亘って再度加熱した(第1表参照)。 Thereafter, the crystalline In 2 O 3 / SnO 2 was distributed into two samples, and the individual samples were heated again for different times under forming gas at 300 ° C. (see Table 1). ).

それぞれの粉末試料(60g)を、それぞれ100gのイソプロピルエタノール(IPE)中に分散させ、かつ分散液を、それぞれ39gのニトロセルロースと置き換えた。その後に、平均50μmのコーティングスクレーバを用いて、分散液をガラス上に塗布した。120℃での加熱後に、層厚は4μmであった。   Each powder sample (60 g) was dispersed in 100 g of isopropyl ethanol (IPE), respectively, and the dispersion was replaced with 39 g of nitrocellulose, respectively. Thereafter, the dispersion was applied onto glass using an average 50 μm coating scraper. After heating at 120 ° C., the layer thickness was 4 μm.

その後に、色値および透過率曲線を、粉末を用いて得られた層に関して測定した。双方の層について、DIN6167およびASTM D1925にしたがって、カラーペンを用いて(Dr.Lange)、黄色値(Yellow value)を測定した(基準光源C;ノーマルビューアー2゜)。第1表に挙げられた最大値に含まれる色値を有する粉末(IT−50 HCBおよびIT−05−HCG)ならびに第1表のそれぞれの値中に含まれる黄色値を有する層は、種々の粉体の混合物で包含することができる。   Thereafter, color values and transmission curves were measured for the layers obtained with the powder. For both layers, according to DIN 6167 and ASTM D1925, the yellow value was measured using a color pen (Dr. Lange) (reference light source C; normal viewer 2 °). Powders having color values included in the maximum values listed in Table 1 (IT-50 HCB and IT-05-HCG) and layers having yellow values included in the respective values in Table 1 are It can be included in a mixture of powders.

粉末の相当するx、yの色値および層の黄色値は、第1表に示すものであり、透過率は図6で見出された。   The corresponding x and y color values of the powder and the yellow value of the layer are shown in Table 1 and the transmission was found in FIG.

Figure 2005511292
Figure 2005511292

黄色値と吸収限界の位置との間に相関関係が観察された。この結果から、0.15よりも大きい黄色値、特に0.5よりも大きい黄色値を有するITO−粉末が、IR中の吸収限界に亘って良好であることが認められた。これは、特定の適用において好ましいものである。   A correlation was observed between the yellow value and the position of the absorption limit. From this result, it was found that ITO powders having a yellow value greater than 0.15, in particular a yellow value greater than 0.5, are good over the absorption limit in IR. This is preferred in certain applications.

他の変法において、得られた粉末IT−05HCGを、10%YKR−50/10−フタロシアニン−染料(Yamamoto-Chemicals)で置き換えた。この方法で、層は、完全なIR遮断が望ましい適用に関して、特に適しているように製造された。   In another variation, the resulting powder IT-05HCG was replaced with 10% YKR-50 / 10-phthalocyanine-dye (Yamamoto-Chemicals). In this way, the layers were made to be particularly suitable for applications where complete IR blocking is desired.

a 被覆されていないガラス基板の透過率を示す図、b 被覆されたガラス基板の透過率を示す図a diagram showing the transmittance of an uncoated glass substrate, b diagram showing the transmittance of a coated glass substrate a 被覆されていないPC基板の透過率を示す図、b 被覆されたPC(ポリカーボネート)基板の透過率を示す図a Diagram showing the transmittance of an uncoated PC board, b Diagram showing the transmittance of a coated PC (polycarbonate) substrate a 被覆されていないPMMA基板の透過率を示す図、b 被覆されたPMMA基板の透過率を示す図a a diagram showing the transmittance of an uncoated PMMA substrate, b a diagram showing the transmittance of a coated PMMA substrate a 被覆されていないホウケイ酸ガラス基板の透過率を示す図、b 被覆されたホウケイ酸ガラス基板の透過率を示す図The figure which shows the transmittance | permeability of the borosilicate glass board | substrate which is not coat | covered, b ホウケイ酸ガラスの透過率を示す図Diagram showing transmittance of borosilicate glass ITO製造のための種々の方法を使用した、被覆または層の透過曲線を示す図Diagram showing transmission curves of coatings or layers using various methods for ITO production

Claims (27)

照射パス中に配置する目的で、担体に作用物質を担持させる、透明なIR−遮蔽膜を製造するための方法において、ナノ粒子と通常のラッカー用溶剤とをウエット法で、基板に塗布することを特徴とする、透明なIR−遮蔽膜を製造するための方法。   In a method for producing a transparent IR-shielding film in which an active substance is supported on a carrier for the purpose of placing in an irradiation path, nanoparticles and a normal lacquer solvent are applied to a substrate by a wet method. A method for producing a transparent IR-shielding film, characterized in that ラッカー系が、分散されたナノ粒子によって形成される、請求項1に記載の方法。   The method according to claim 1, wherein the lacquer system is formed by dispersed nanoparticles. 通常のラッカー用溶剤として、水、アルコール、特にエタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノールおよび/または他のアルキル−またはイソアルキルアルコール、ケトン、特にアセトンおよび/またはMEK、ジケトン、ジオール、カルビトール、グリコール、ジグリコール、トリグリコール、グリコールエーテル、特にエトキシ−、プロポキシ−、イソプロポキシ−、ブトキシエタノール−アセテート、エステル、特にグリコールエステル、特にエチルアセテート、ブチルアセテート、ブトキシエチルアセテート、ブトキシエトキシエチルアセテート、アルカンおよび/またはアルカン含有混合物、芳香族化合物、特にトルエン、キシレンからの少なくとも1種を使用する、請求項1または2に記載の方法。   Usual lacquer solvents include water, alcohols, especially ethanol, propanol, isopropanol, butanol and / or other alkyl- or isoalkyl alcohols, ketones, especially acetone and / or MEK, diketones, diols, carbitols, glycols, diesters. Glycols, triglycols, glycol ethers, especially ethoxy-, propoxy-, isopropoxy-, butoxyethanol-acetate, esters, especially glycol esters, especially ethyl acetate, butyl acetate, butoxyethyl acetate, butoxyethoxyethyl acetate, alkanes and / or The process according to claim 1 or 2, wherein at least one of alkane-containing mixtures, aromatic compounds, in particular toluene, xylene is used. 通常のラッカー用溶剤として、前記物質からの1個以上の混合物を使用する、請求項1から3までのいずれか1項に記載の方法。   4. The process according to claim 1, wherein one or more mixtures from the substances are used as the usual lacquer solvents. ラッカー系がバインダを含有する、請求項1から4までのいずれか1項に記載の方法。   5. A method according to any one of claims 1 to 4, wherein the lacquer system contains a binder. バインダ系が、少なくとも1種の有機成分を含有する、請求項1から5までのいずれか1項に記載の方法。   6. A method according to any one of the preceding claims, wherein the binder system contains at least one organic component. 有機成分として、ポリアクリレート、特にPMMA、ポリビニルピロリドン(PVP)、ポリビニルブチラール(PVB)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリエチレングリコール、ポリウレタン、ビスフェノールを基礎とするポリマー、ポリエステルのポリマーの群からの少なくとも1種、ならびに前記ポリマーのオリゴマーおよび/またはモノマー、および/またはセルロース誘導体、特にメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースおよび/またはニトロセルロースおよび/または金属有機化合物を使用する、請求項1から6までのいずれか1項に記載の方法。   As organic components, at least one from the group of polyacrylates, in particular PMMA, polyvinylpyrrolidone (PVP), polyvinyl butyral (PVB), polyvinyl alcohol (PVA), polyethylene glycol, polyurethane, polymers based on bisphenol, polyester polymers , And oligomers and / or monomers of the polymers and / or cellulose derivatives, in particular methylcellulose, hydroxypropylcellulose and / or nitrocellulose and / or metal organic compounds. The method described. 少なくとも1種のシリコーンおよび/またはシランが、モノマー、オリゴマーおよび/またはポリマーの形で、ラッカー系に含まれる、請求項5から7までのいずれか1項に記載の方法。   8. The process according to claim 5, wherein at least one silicone and / or silane is included in the lacquer system in the form of monomers, oligomers and / or polymers. >1nmの粒径のナノ粒子を使用する、請求項1から8までのいずれか1項に記載の方法。   9. The method according to any one of claims 1 to 8, wherein nanoparticles with a particle size> 1 nm are used. >1nmの粒径のナノ粒子のみを使用する、請求項1から9までのいずれか1項に記載の方法。   10. The method according to any one of claims 1 to 9, wherein only nanoparticles with a particle size> 1 nm are used. <200nmの粒径のナノ粒子を使用する、請求項1から10までのいずれか1項に記載の方法。   The method according to any one of claims 1 to 10, wherein nanoparticles having a particle size of <200 nm are used. <200nmの粒径のナノ粒子のみを使用する、請求項1から11までのいずれか1項に記載の方法。   The method according to any one of claims 1 to 11, wherein only nanoparticles with a particle size of <200 nm are used. ナノ粒子の>70%、特に>90%が、100nmを下廻る粒径を有する、請求項1から12までのいずれか1項に記載の方法。   13. A method according to any one of claims 1 to 12, wherein> 70%, in particular> 90% of the nanoparticles have a particle size below 100 nm. 基板として、PVC(ポリ塩化ビニル)、PE(ポリエチレン)、PU(ポリウレタン)、PC(ポリカルボネート)、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PMMA、PVBおよび/または透明ポリマー材料および/またはバインダ材料および/または鉱物ガラス、特にシリケートガラス、たとえば板ガラスを選択する、請求項1から13までのいずれか1項に記載の方法。   As substrates, PVC (polyvinyl chloride), PE (polyethylene), PU (polyurethane), PC (polycarbonate), PET (polyethylene terephthalate), PMMA, PVB and / or transparent polymer materials and / or binder materials and / or 14. A method according to any one of the preceding claims, wherein mineral glass, in particular silicate glass, for example flat glass, is selected. ウエット塗布を、プレス、スピンディップコーティング、スプレッディング、浸漬および/または噴霧、特にインクジェット法によりおこなう、請求項1から14までのいずれか1項に記載の方法。   15. The method according to any one of claims 1 to 14, wherein the wet application is performed by pressing, spin dip coating, spreading, dipping and / or spraying, in particular an ink jet method. ラッカー系に当業者に公知のレオロジー調整物質を添加することで、インクジェット適用を可能にする、ウエット塗布をインクジェット法によりおこなう、請求項15に記載の方法。   The method according to claim 15, wherein wet coating is performed by an ink jet method, which enables ink jet application by adding a rheology modifier known to those skilled in the art to the lacquer system. 塗布後に、100℃を下廻る温度で乾燥させる、請求項1から16までのいずれか1項に記載の方法。   The method according to any one of claims 1 to 16, wherein the coating is dried at a temperature lower than 100 ° C. 乾燥を、70℃を下廻る温度でおこなう、請求項1から17までのいずれか1項に記載の方法。   The process according to any one of claims 1 to 17, wherein the drying is carried out at a temperature below 70 ° C. 乾燥を、50℃を上廻る温度でおこなう、請求項1から18までのいずれか1項に記載の方法。   The process according to any one of claims 1 to 18, wherein the drying is carried out at a temperature above 50 ° C. 少なくとも帯電防止の性質を有する層、好ましくは少なくとも放散性の層を製造する、請求項1から19までのいずれか1項に記載の方法。   20. A method according to any one of the preceding claims, wherein a layer having at least antistatic properties, preferably at least a dissipative layer, is produced. ナノ粒子が、少なくとも部分的にITOから製造される、請求項1から20までのいずれか1項に記載の方法。   21. A method according to any one of claims 1 to 20, wherein the nanoparticles are produced at least partially from ITO. 浸透限界を下廻るITO量を添加する、請求項1から21までのいずれか1項に記載の方法。   The method according to any one of claims 1 to 21, wherein an amount of ITO below the penetration limit is added. 吸収限界が、1100nm〜1350nmの間である、請求項1から22までのいずれか1項に記載の方法。   23. A method according to any one of claims 1 to 22, wherein the absorption limit is between 1100 nm and 1350 nm. 長波長の吸収を示す無機性吸収体、特にITOの他に、さらに、900nm以下、特に近赤外線域での吸収を示す他の吸収体を使用する、請求項1から23までのいずれか項に記載の方法。   24. In addition to an inorganic absorber exhibiting long-wavelength absorption, particularly ITO, in addition, another absorber exhibiting absorption in the near-infrared region of 900 nm or less is used. The method described. 他の吸収体として、有機性吸収体、特にフタロシアニン−染料を、ITOに対して特に10%未満の質量で使用する、請求項1から24までのいずれか1項に記載の被覆。   25. Coating according to any one of claims 1 to 24, in which organic absorbers, in particular phthalocyanine-dyes, are used as other absorbers, in particular in a mass of less than 10% with respect to ITO. 少なくとも0.15、好ましくは少なくとも0.5の黄色値を有するITOを使用する、請求項1から25までのいずれか1項に記載の被覆。   26. A coating according to any one of claims 1 to 25, wherein ITO having a yellow value of at least 0.15, preferably at least 0.5 is used. 少なくとも0.5の黄色値を有するITO−粉末。   ITO-powder having a yellow value of at least 0.5.
JP2003551215A 2001-12-08 2002-12-09 Infrared reflecting lacquer layer Pending JP2005511292A (en)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10160356A DE10160356A1 (en) 2001-12-08 2001-12-08 Production of clear infrared screen, useful in architectural application, e.g. on large area of glass in skyscraper, car window, greenhouse or film for greenhouse, awning or clothing, uses wet application of lacquer containing nanoparticles
DE2002128204 DE10228204A1 (en) 2002-06-24 2002-06-24 Conductive, visibly-transparent, infra-red-absorbent coating material comprising indium tin oxide, has yellowness value exceeding fifteen
DE2002128626 DE10228626A1 (en) 2002-06-26 2002-06-26 Conductive, visibly-transparent, infra-red-absorbent coating material comprising indium tin oxide, has yellowness value exceeding fifteen
PCT/DE2002/004490 WO2003050193A1 (en) 2001-12-08 2002-12-09 Lacquer layer, which reflects infra-red radiation

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005511292A true JP2005511292A (en) 2005-04-28

Family

ID=27214676

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003551215A Pending JP2005511292A (en) 2001-12-08 2002-12-09 Infrared reflecting lacquer layer

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP1458823A1 (en)
JP (1) JP2005511292A (en)
AU (1) AU2002358427A1 (en)
WO (1) WO2003050193A1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015096570A (en) * 2013-11-15 2015-05-21 住友大阪セメント株式会社 Transparent resin composition, coating film and heat ray-shielding film
JP2016118632A (en) * 2014-12-19 2016-06-30 コニカミノルタ株式会社 Method for manufacturing optical control film

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005146143A (en) * 2003-11-17 2005-06-09 Seed Co Ltd Ultraviolet-curing heat-ray-shielding hard coat composition
US9464169B2 (en) 2004-09-01 2016-10-11 Ppg Industries Ohio, Inc. Polyurethanes, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same
US20090280709A1 (en) 2004-09-01 2009-11-12 Ppg Industries Ohio, Inc. Polyurethanes, Articles and Coatings Prepared Therefrom and Methods of Making the Same
US11008418B2 (en) 2004-09-01 2021-05-18 Ppg Industries Ohio, Inc. Polyurethanes, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same
US8178615B2 (en) * 2004-09-01 2012-05-15 Ppg Industries Ohio, Inc Process for making polymers having nanostructures incorporated into the matrix of the polymer
US11248083B2 (en) 2004-09-01 2022-02-15 Ppg Industries Ohio, Inc. Aircraft windows
US9598527B2 (en) 2004-09-01 2017-03-21 Ppg Industries Ohio, Inc. Polyurethanes, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same
US20090280329A1 (en) 2004-09-01 2009-11-12 Ppg Industries Ohio, Inc. Polyurethanes, Articles and Coatings Prepared Therefrom and Methods of Making the Same
US11149107B2 (en) 2004-09-01 2021-10-19 Ppg Industries Ohio, Inc. Polyurethanes, articles and coatings prepared therefrom and methods of making the same
US11591436B2 (en) 2004-09-01 2023-02-28 Ppg Industries Ohio, Inc. Polyurethane article and methods of making the same
CA2591994C (en) * 2004-12-20 2015-12-15 Meridian Research And Development Radiation detectable and protective articles
US7632568B2 (en) * 2005-01-07 2009-12-15 3M Innovative Properties Company Solar control multilayer film
EP2205665B1 (en) 2007-10-31 2012-10-17 DuPont Teijin Films U.S. Limited Partnership Coated articles
CN109609014A (en) * 2018-12-07 2019-04-12 中昊北方涂料工业研究设计院有限公司 A kind of ITO coated surface polyurethane high adhesion force wear-resistant coating and preparation method thereof

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3355733B2 (en) * 1992-12-28 2002-12-09 三菱マテリアル株式会社 Low resistance conductive pigment and method for producing the same
US5518810A (en) * 1993-06-30 1996-05-21 Mitsubishi Materials Corporation Infrared ray cutoff material and infrared cutoff powder use for same
DE4435376B4 (en) * 1993-10-05 2004-11-11 Dai Nippon Toryo Co., Ltd. Composition for forming conductive films
JPH11170442A (en) * 1997-12-17 1999-06-29 Tomoegawa Paper Co Ltd Transparent infrared ray cut-off film
JP2000117906A (en) * 1998-10-16 2000-04-25 Tomoegawa Paper Co Ltd Infrared ray cutting-off film
JP4096278B2 (en) * 1998-12-10 2008-06-04 住友金属鉱山株式会社 Solar shading film coating solution and solar shading film using the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015096570A (en) * 2013-11-15 2015-05-21 住友大阪セメント株式会社 Transparent resin composition, coating film and heat ray-shielding film
JP2016118632A (en) * 2014-12-19 2016-06-30 コニカミノルタ株式会社 Method for manufacturing optical control film

Also Published As

Publication number Publication date
WO2003050193A1 (en) 2003-06-19
EP1458823A1 (en) 2004-09-22
AU2002358427A1 (en) 2003-06-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2005511292A (en) Infrared reflecting lacquer layer
Al-Dahoudi et al. Transparent conducting, anti-static and anti-static–anti-glare coatings on plastic substrates
CN107076897B (en) Infrared shielding laminate and infrared shielding material using same
JP5633371B2 (en) Method for producing core-shell particles
KR100214428B1 (en) Infrared ray cutoff material and infrared cutoff powder used for the same
US4916014A (en) I.R. reflecting paint
CN102282229A (en) Infrared blocking particle, method for producing the same, infrared blocking particle dispersion using the same, and infrared blocking base
TWI807020B (en) Composite tungsten oxide film, manufacturing method thereof, and film-forming substrate and article having the same
JP2715860B2 (en) Infrared cutoff film and its forming material
US20040251451A1 (en) Lacquer layer, which reflects infra-red radiation
JPWO2018034261A1 (en) Coatings and articles
JP4600685B2 (en) UV and near infrared shielding glass
JP2006514143A (en) Heat ray shielding composition, heat ray shielding film using the same, and production method thereof
Iqbal et al. Investigations on ZnO/polymer nanocomposite thin film for polymer based devices
WO2019065316A1 (en) Coating composition and coating film
KR100471098B1 (en) Coating solution for heat shield film and how to manufacture the heat shield film using it
US5431966A (en) Process for enamelling a glass substrate
KR20160000391A (en) Light shielding material, light shielding structure and fabricating method thereof
JP2715859B2 (en) Infrared cutoff material
JP5471825B2 (en) Heat ray reflective laminate and heat ray reflective layer forming coating solution
JPH0770363A (en) Infrared cutting-off material
JPH0770445A (en) Infra red rays cutting off membrane and forming material thereof
Al-Dahoudi Wet chemical deposition of transparent conducting coatings made of redispersable crystalline ITO nanoparticles on glass and polymeric substrates
RU2485063C2 (en) Method of producing multifunctional coating on organic glass
Al-Dahoudi et al. Redispersable nanopowders for wet chemical coating processes. Application to transparent conducting coatings

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20051209

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20060623

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20060623

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080723

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20081226