JPWO2013121536A1 - 半導体記憶装置 - Google Patents
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Abstract
縦型トランジスタSGTで構成されたLoadless4T−SRAMにおいて、小さいSRAMセル面積を実現する。
4個のMOSトランジスタを用いて構成されたスタティック型メモリセルにおいて、前記MOSトランジスタはSOI基板上に形成されたドレイン、ゲート、ソースが垂直方向に配置されたSGTであり、アクセストランジスタのゲートをワードラインとして横方向に隣接する複数のセルで共通化し、ワードラインへのコンタクトを複数のセルごとに1個形成することにより、非常に小さいメモリセル面積を持つCMOS型Loadless4T−SRAMを実現することができる。
4個のMOSトランジスタを用いて構成されたスタティック型メモリセルにおいて、前記MOSトランジスタはSOI基板上に形成されたドレイン、ゲート、ソースが垂直方向に配置されたSGTであり、アクセストランジスタのゲートをワードラインとして横方向に隣接する複数のセルで共通化し、ワードラインへのコンタクトを複数のセルごとに1個形成することにより、非常に小さいメモリセル面積を持つCMOS型Loadless4T−SRAMを実現することができる。
Description
本発明は半導体記憶装置に関し、特にSRAM(Static Random Access Memory)からなる半導体記憶装置に関する。
半導体装置の高集積化、高性能化を実現するため、半導体基板の表面に柱状半導体を形成し、その側壁に柱状半導体層を取り囲むように形成されたゲートを有する縦型ゲートトランジスタであるSGT(Surrounding Gate Transistor)が提案された(例えば、特許文献1:特開平2−188966)。SGTではドレイン、ゲート、ソースが垂直方向に配置されるため、従来のプレーナー型トランジスタに比べて占有面積を大幅に縮小することができる。
SGTを用いてLSI(大規模集積回路)を構成する場合、それらのキャッシュ用メモリとしてSGTの組み合わせで構成されるSRAMを用いることが必須である。近年、LSIに搭載されるSRAMに対する大容量化の要求は非常に強いため、SGTを用いた場合にも小さいセル面積を持つSRAMを実現することが必須である。
特許文献2(国際公開番号W02009/096466)に4個のSGTを用いてSOI基板上に形成されたLoadless4T−SRAMが示されている。Loadless4T−SRAMの等価回路図を図1に示す。また、特許文献2のLoadless4T−SRAMの平面図を図21に、断面図を図22に示す。
図1に示したLoadless4T−SRAMの等価回路を用いて、Loadless4T−SRAMの動作原理について以下に示す。Loadless4T−SRAMはPMOSであるメモリにアクセスするための2個のアクセストランジスタとNMOSであるメモリを駆動するための2個のドライバトランジスタの計4個のトランジスタにより構成されている。
以下に図1のメモリセルの動作の一例として、記憶ノードQa1に“L”のデータが、記憶ノードQb1に“H”のデータが記憶されている場合のデータの保持動作について説明する。データ保持中はワード線WL1、ビット線BL1およびBLB1はすべて“H”電位に駆動されている。アクセストランジスタ(Qp11、Qp21)のオフリーク電流はドライバトランジスタのオフリーク電流より、例えば10倍〜1000倍程度大きくなるように設定されている。このため、記憶ノードQb1の“H”レベルはアクセストランジスタQp21を通してビット線BLB1から記憶ノードQb1にOffリーク電流が流れることにより保持される。一方、記憶ノードQa1の“L”レベルはドライバトランジスタQn11により安定して保持される。
以下に図1のメモリセルの動作の一例として、記憶ノードQa1に“L”のデータが、記憶ノードQb1に“H”のデータが記憶されている場合のデータの保持動作について説明する。データ保持中はワード線WL1、ビット線BL1およびBLB1はすべて“H”電位に駆動されている。アクセストランジスタ(Qp11、Qp21)のオフリーク電流はドライバトランジスタのオフリーク電流より、例えば10倍〜1000倍程度大きくなるように設定されている。このため、記憶ノードQb1の“H”レベルはアクセストランジスタQp21を通してビット線BLB1から記憶ノードQb1にOffリーク電流が流れることにより保持される。一方、記憶ノードQa1の“L”レベルはドライバトランジスタQn11により安定して保持される。
図21に従来のSRAMメモリセルのレイアウト図を示す。SRAMセルアレイ内においては図21に示したユニットセルUCが繰り返し配置されている。図22(a)〜(d)に図21のレイアウト図のカットラインA−A’、B−B’、C−C’及びD−D’における断面構造をそれぞれ示す。
まず、図21及び図22を用いて特許文献2の実施例1のSRAMセルのレイアウトについて説明する。
記憶ノード(602a、602b)は埋め込み酸化膜層601上に形成されたシリコン層により形成されており、上記シリコン層は不純物注入等を行うことにより、N+拡散層領域(604a、604b)およびP+拡散層領域(603a、603b)から構成されている。Qp16およびQp26はアクセストランジスタ、Qn16およびQn26はドライバトランジスタを示している。記憶ノード602a上に形成されるコンタクト610aはノード接続配線Na6によりドライバトランジスタQn26のゲート電極より延在するゲート配線上に形成されるコンタクト611bと接続され、記憶ノード602b上に形成されるコンタクト610bはノード接続配線Nb6によりドライバトランジスタQn16のゲート電極より延在するゲート配線上に形成されるコンタクト611aと接続される。アクセストランジスタQp16上部に形成されるコンタクト606aはビット線BL6に接続され、アクセストランジスタQp26上部に形成されるコンタクト606bはビット線BLB6に接続される。アクセストランジスタQp16およびQp26のゲート電極から延在するゲート配線上に形成されるコンタクト607はワード線WL6に接続される。また、ドライバトランジスタ(Qn16、Qn26)上部に形成されるコンタクト(608a、608b)はともに接地電位である配線層Vss6に接続される。
記憶ノード(602a、602b)は埋め込み酸化膜層601上に形成されたシリコン層により形成されており、上記シリコン層は不純物注入等を行うことにより、N+拡散層領域(604a、604b)およびP+拡散層領域(603a、603b)から構成されている。Qp16およびQp26はアクセストランジスタ、Qn16およびQn26はドライバトランジスタを示している。記憶ノード602a上に形成されるコンタクト610aはノード接続配線Na6によりドライバトランジスタQn26のゲート電極より延在するゲート配線上に形成されるコンタクト611bと接続され、記憶ノード602b上に形成されるコンタクト610bはノード接続配線Nb6によりドライバトランジスタQn16のゲート電極より延在するゲート配線上に形成されるコンタクト611aと接続される。アクセストランジスタQp16上部に形成されるコンタクト606aはビット線BL6に接続され、アクセストランジスタQp26上部に形成されるコンタクト606bはビット線BLB6に接続される。アクセストランジスタQp16およびQp26のゲート電極から延在するゲート配線上に形成されるコンタクト607はワード線WL6に接続される。また、ドライバトランジスタ(Qn16、Qn26)上部に形成されるコンタクト(608a、608b)はともに接地電位である配線層Vss6に接続される。
続いて、図22の断面図を用いて特許文献2の実施例1のSRAMセルの構造について説明する。
図22(a)より、埋め込み酸化膜層601上に記憶ノード(602a、602b)であるシリコン層よりなるP+ソース拡散層(603a、603b)がそれぞれ形成されている。ソース拡散層上にはシリサイド層(613a、613b)が形成されている。P+ソース拡散層領域603a上にアクセストランジスタQp16を形成する柱状シリコン層621aが形成され、P+ソース拡散層領域603b上にアクセストランジスタQp26を形成する柱状シリコン層621bが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にはゲート絶縁膜617およびゲート電極618が形成されている。柱状シリコン層上部にはP+ドレイン拡散層領域616が不純物注入などにより形成され、ドレイン拡散層領域表面にはシリサイド層615が形成されている。アクセストランジスタQp16上に形成されるコンタクト606aはビット線BL6に接続され、アクセストランジスタQp26上に形成されるコンタクト606bはビット線BLB6に接続され、アクセストランジスタQp16およびQp26のゲートより延在するゲート配線618a上に形成されるコンタクト607はワード線WL6に接続される。
図22(a)より、埋め込み酸化膜層601上に記憶ノード(602a、602b)であるシリコン層よりなるP+ソース拡散層(603a、603b)がそれぞれ形成されている。ソース拡散層上にはシリサイド層(613a、613b)が形成されている。P+ソース拡散層領域603a上にアクセストランジスタQp16を形成する柱状シリコン層621aが形成され、P+ソース拡散層領域603b上にアクセストランジスタQp26を形成する柱状シリコン層621bが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にはゲート絶縁膜617およびゲート電極618が形成されている。柱状シリコン層上部にはP+ドレイン拡散層領域616が不純物注入などにより形成され、ドレイン拡散層領域表面にはシリサイド層615が形成されている。アクセストランジスタQp16上に形成されるコンタクト606aはビット線BL6に接続され、アクセストランジスタQp26上に形成されるコンタクト606bはビット線BLB6に接続され、アクセストランジスタQp16およびQp26のゲートより延在するゲート配線618a上に形成されるコンタクト607はワード線WL6に接続される。
図22(b)より、埋め込み酸化膜層601上に記憶ノード(602a、602b)であるシリコン層よりなるN+ソース拡散層(604a、604b)がそれぞれ形成されている。ソース拡散層上にはシリサイド層(613a、613b)が形成されている。ドライバトランジスタQn16のゲート電極から延在するゲート配線618b上に形成されるコンタクト611aは記憶ノード接続配線Na6を通じてN+ソース拡散層604b上に形成されるコンタクト610bに接続される。
図22(c)より、埋め込み酸化膜層601上に記憶ノードであるシリコン層よりなるN+ソース拡散層(604a、604b)が形成されている。N+ソース拡散層上にはシリサイド層(613a、613b)が形成されている。N+ソース拡散層領域604aにドライバトランジスタQn16を形成する柱状シリコン層622aが形成され、N+ソース拡散層領域604bにドライバトランジスタQn26を形成する柱状シリコン層622bが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にゲート絶縁膜617およびゲート電極618が形成されている。柱状シリコン層上部にはN+ドレイン拡散層領域614が不純物注入などにより形成され、ドレイン拡散層領域表面にはシリサイド層615が形成されている。ドライバトランジスタ(Qn16、Qn26)上に形成されるコンタクト(608a、608b)はともに配線層を通して接地電位Vss6に接続される。
図22(d)より、埋め込み酸化膜層601上に記憶ノードであるシリコン層よりなるP+ソース拡散層603aおよびN+ソース拡散層604aが形成される。ソース拡散層上にはシリサイド層613aが形成され、シリサイド層613aによってP+ソース拡散層603aとN+ソース拡散層604aは接続されている。
図21及び図22の4T−SRAMセルにおいては、アクセストランジスタ間のゲート上に形成されるワード線コンタクトにより、上下方向にデッドスペースが発生し、効率的に小さいSRAMセルを形成することができない。
本発明は上記の事情を鑑みてなされたもので、従来提案されていたSGTを用いたLoadless4T−SRAMより、さらにセル面積の小さいSGTを用いたLoadless4T−SRAMセルを実現することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明は、4個のMOSトランジスタが基板上に形成された絶縁膜上に配列された複数のスタティック型メモリセルを備えた半導体記憶装置であって、
前記4個のMOSトランジスタの各々は、
メモリセルデータを保持するために電荷を供給すると共にメモリにアクセスするための第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタと、メモリセルのデータを書き込み及び読み出しするために記憶ノードを駆動する第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタとして機能し、
前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタにおいて、
P型の導電型を持つ第1の拡散層、第1の柱状半導体層及びP型の導電型を持つ第2の拡散層が、基板上に形成された絶縁膜上に垂直方向に階層的に配置され、前記第1の柱状半導体層は前記第1の柱状半導体層の底部に形成される前記第1の拡散層と前記第1の柱状半導体層の上部に形成される前記第2の拡散層の間に配置され、前記第1の柱状半導体層の側壁にゲート絶縁膜及びゲートが形成されており、
前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタにおいて、
N型の導電型を持つ第3の拡散層、第2の柱状半導体層及びN型の導電型を持つ第4の拡散層が、基板上に形成された絶縁膜上に垂直方向に階層的に配置され、前記第2の柱状半導体層は前記第2の柱状半導体層の底部に形成される前記第3の拡散層と前記第1の柱状半導体層の上部に形成される前記第4の拡散層の間に配置され、前記第2の柱状半導体層の側壁にゲート絶縁膜及びゲートが形成されており、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタ及び前記第1のNMOSのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
前記第2のPMOSのアクセストランジスタ及び前記第2のNMOSのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
データを保持する第1の記憶ノードとして機能する、前記第1のPMOSのアクセストランジスタの底部に形成されるP型の導電型を持つ前記第1の拡散層及び前記第1のNMOSのドライバトランジスタの底部に形成されるN型の導電型を持つ前記第3の拡散層を前記絶縁膜上に配置し、
前記第1の記憶ノードとして機能する、前記第1の拡散層、前記第3の拡散層は相互に接続され、
データを保持する第2の記憶ノードとして機能する、前記第2のPMOSのアクセストランジスタの底部に形成されるP型の導電型を持つ前記第1の拡散層及び前記第2のNMOSのドライバトランジスタの底部に形成されるN型の導電型を持つ前記第3の拡散層を前記絶縁膜上に配置し、
前記第2の記憶ノードとして機能する、前記第1の拡散層、前記第3の拡散層は相互に接続され、
前記第1及び前記第2のPMOSのドライバトランジスタのそれぞれのゲートは第1のゲート配線により互いに接続され、前記第1のゲート配線は隣接する複数のメモリセルにおける前記第1及び前記第2のPMOSのアクセストランジスタのそれぞれのゲートと互いに接続されることによりワード線を形成しており、
隣接する複数のメモリセルごとに、ワード線である前記第1のゲート配線上に第1のコンタクトが形成されることを特徴とする半導体記憶装置を提供する。
本発明の好ましい態様では、前記ワード線である前記第1のゲート配線上に前記第1のコンタクトが形成される領域において、メモリセルと同様にピラーが配置されていることを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
別の好ましい態様では、前記第1のNMOSのドライバトランジスタのゲートより延在する第2のゲート配線が、前記第2の記憶ノードとして機能する拡散層と共通の第2のコンタクトにより接続され、前記第2のNMOSのドライバトランジスタのゲートより延在する第3のゲート配線が、前記第1の記憶ノードとして機能する拡散層と共通の第3のコンタクトにより接続されることを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
更に別の好ましい態様では、前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以上の値を持つこと、又は前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以下の値を持つことを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
更に別の好ましい態様では、前記4個のMOSトランジスタは、前記絶縁膜上に2行2列に配列され、前記第1のPMOSのアクセストランジスタは1行1列目に配列され、前記第1のNMOSのドライバトランジスタは2行1列目に配列され、前記第2のPMOSのアクセストランジスタは1行2列目に配列され、前記第2のNMOSのドライバトランジスタは2行2列目に配列されていることを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
更に別の好ましい態様では、前記4個のMOSトランジスタは前記絶縁膜上に配列され、前記第1のPMOSのアクセストランジスタと前記第2のPMOSのアクセストランジスタは隣接して配列され、前記第1のPMOSのアクセストランジスタと前記第2のPMOSのアクセストランジスタの隣接方向に直交する一方の方向において前記第1のNMOSのドライバトランジスタは前記第1のPMOSのアクセストランジスタと隣接して配列され、前記第1のPMOSのアクセストランジスタと前記第2のPMOSのアクセストランジスタの隣接方向に直交する他方の方向において前記第2のNMOSのドライバトランジスタは前記第2のPMOSのアクセストランジスタと隣接して配列されていることを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
前記4個のMOSトランジスタの各々は、
メモリセルデータを保持するために電荷を供給すると共にメモリにアクセスするための第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタと、メモリセルのデータを書き込み及び読み出しするために記憶ノードを駆動する第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタとして機能し、
前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタにおいて、
P型の導電型を持つ第1の拡散層、第1の柱状半導体層及びP型の導電型を持つ第2の拡散層が、基板上に形成された絶縁膜上に垂直方向に階層的に配置され、前記第1の柱状半導体層は前記第1の柱状半導体層の底部に形成される前記第1の拡散層と前記第1の柱状半導体層の上部に形成される前記第2の拡散層の間に配置され、前記第1の柱状半導体層の側壁にゲート絶縁膜及びゲートが形成されており、
前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタにおいて、
N型の導電型を持つ第3の拡散層、第2の柱状半導体層及びN型の導電型を持つ第4の拡散層が、基板上に形成された絶縁膜上に垂直方向に階層的に配置され、前記第2の柱状半導体層は前記第2の柱状半導体層の底部に形成される前記第3の拡散層と前記第1の柱状半導体層の上部に形成される前記第4の拡散層の間に配置され、前記第2の柱状半導体層の側壁にゲート絶縁膜及びゲートが形成されており、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタ及び前記第1のNMOSのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
前記第2のPMOSのアクセストランジスタ及び前記第2のNMOSのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
データを保持する第1の記憶ノードとして機能する、前記第1のPMOSのアクセストランジスタの底部に形成されるP型の導電型を持つ前記第1の拡散層及び前記第1のNMOSのドライバトランジスタの底部に形成されるN型の導電型を持つ前記第3の拡散層を前記絶縁膜上に配置し、
前記第1の記憶ノードとして機能する、前記第1の拡散層、前記第3の拡散層は相互に接続され、
データを保持する第2の記憶ノードとして機能する、前記第2のPMOSのアクセストランジスタの底部に形成されるP型の導電型を持つ前記第1の拡散層及び前記第2のNMOSのドライバトランジスタの底部に形成されるN型の導電型を持つ前記第3の拡散層を前記絶縁膜上に配置し、
前記第2の記憶ノードとして機能する、前記第1の拡散層、前記第3の拡散層は相互に接続され、
前記第1及び前記第2のPMOSのドライバトランジスタのそれぞれのゲートは第1のゲート配線により互いに接続され、前記第1のゲート配線は隣接する複数のメモリセルにおける前記第1及び前記第2のPMOSのアクセストランジスタのそれぞれのゲートと互いに接続されることによりワード線を形成しており、
隣接する複数のメモリセルごとに、ワード線である前記第1のゲート配線上に第1のコンタクトが形成されることを特徴とする半導体記憶装置を提供する。
本発明の好ましい態様では、前記ワード線である前記第1のゲート配線上に前記第1のコンタクトが形成される領域において、メモリセルと同様にピラーが配置されていることを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
別の好ましい態様では、前記第1のNMOSのドライバトランジスタのゲートより延在する第2のゲート配線が、前記第2の記憶ノードとして機能する拡散層と共通の第2のコンタクトにより接続され、前記第2のNMOSのドライバトランジスタのゲートより延在する第3のゲート配線が、前記第1の記憶ノードとして機能する拡散層と共通の第3のコンタクトにより接続されることを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
更に別の好ましい態様では、前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以上の値を持つこと、又は前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以下の値を持つことを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
更に別の好ましい態様では、前記4個のMOSトランジスタは、前記絶縁膜上に2行2列に配列され、前記第1のPMOSのアクセストランジスタは1行1列目に配列され、前記第1のNMOSのドライバトランジスタは2行1列目に配列され、前記第2のPMOSのアクセストランジスタは1行2列目に配列され、前記第2のNMOSのドライバトランジスタは2行2列目に配列されていることを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
更に別の好ましい態様では、前記4個のMOSトランジスタは前記絶縁膜上に配列され、前記第1のPMOSのアクセストランジスタと前記第2のPMOSのアクセストランジスタは隣接して配列され、前記第1のPMOSのアクセストランジスタと前記第2のPMOSのアクセストランジスタの隣接方向に直交する一方の方向において前記第1のNMOSのドライバトランジスタは前記第1のPMOSのアクセストランジスタと隣接して配列され、前記第1のPMOSのアクセストランジスタと前記第2のPMOSのアクセストランジスタの隣接方向に直交する他方の方向において前記第2のNMOSのドライバトランジスタは前記第2のPMOSのアクセストランジスタと隣接して配列されていることを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
図2に本発明の第1の実施例におけるSRAMメモリセルのレイアウト図を示す。SRAMメモリセルアレイ内においては図2に示したユニットセルUCが繰り返し配置されている。図3(a)〜(d)に図2のレイアウト図のカットラインA−A’、B−B’、C−C’及びD−D’における断面構造をそれぞれ示す。
まず図2のレイアウト図を参考にして本実施例について説明する。
Qp11およびQp21はPMOSであるメモリセルにアクセスするためのアクセストランジスタであり、Qn11およびQn21はNMOSであるメモリセルを駆動するドライバトランジスタである。
本実施例では、1つのユニットセルUCは、基板上に2行2列に配列されたトランジスタを備えている。1列目には、第1の記憶ノードQa1上に、図の上側からアクセストランジスタQp11及びドライバトランジスタQn11がそれぞれ配列されている。また、2列目には、第2の記憶ノードQb1上に、図の上側からアクセストランジスタQp21及びドライバトランジスタQn21がそれぞれ配列されている。また、アクセストランジスタのゲートから延在するゲート配線134は横方向に隣接する複数のメモリセルと共通化され、ワード線を形成している。本実施例のSRAMセルアレイは、このような4個のトランジスタを備えたユニットセルUCを図の上下方向に連続的に配列することにより構成される。
Qp11およびQp21はPMOSであるメモリセルにアクセスするためのアクセストランジスタであり、Qn11およびQn21はNMOSであるメモリセルを駆動するドライバトランジスタである。
本実施例では、1つのユニットセルUCは、基板上に2行2列に配列されたトランジスタを備えている。1列目には、第1の記憶ノードQa1上に、図の上側からアクセストランジスタQp11及びドライバトランジスタQn11がそれぞれ配列されている。また、2列目には、第2の記憶ノードQb1上に、図の上側からアクセストランジスタQp21及びドライバトランジスタQn21がそれぞれ配列されている。また、アクセストランジスタのゲートから延在するゲート配線134は横方向に隣接する複数のメモリセルと共通化され、ワード線を形成している。本実施例のSRAMセルアレイは、このような4個のトランジスタを備えたユニットセルUCを図の上下方向に連続的に配列することにより構成される。
記憶ノード(102a、102b)は埋め込み酸化膜層101上に形成されたシリコン層により形成されており、上記シリコン層は不純物注入等を行うことにより、N+拡散層領域(104a、104b)およびP+拡散層領域(103a、103b)から構成されている。Qp11およびQp21はアクセストランジスタ、Qn11およびQn21はドライバトランジスタを示している。記憶ノード102a上に形成されるコンタクト110aはノード接続配線Na1によりドライバトランジスタQn21のゲート電極より延在するゲート配線上に形成されるコンタクト111bと接続され、記憶ノード102b上に形成されるコンタクト110bはノード接続配線Nb1によりドライバトランジスタQn11のゲート電極より延在するゲート配線上に形成されるコンタクト111aと接続される。ドライバトランジスタ(Qn11、Qn21)上部に形成されるコンタクト(108a、108b)はともに接地電位である配線層Vss1に接続される。アクセストランジスタQp11上部に形成されるコンタクト106aはビット線BL1に接続され、アクセストランジスタQp21上部に形成されるコンタクト106bはビット線BLB1に接続される。アクセストランジスタQp11およびQp21のゲート電極から延在するゲート配線(118a)はワード線として横方向に隣接する複数のメモリセルに接続されている。
階層的な配線の構成の一例として、ノード接続配線Na1、ノード接続配線Nb1、及び接地電位の配線Vss1を下層の配線で形成し、ビット線(BL1、BLB1)を上層の配線で形成する構成が実現可能である。
階層的な配線の構成の一例として、ノード接続配線Na1、ノード接続配線Nb1、及び接地電位の配線Vss1を下層の配線で形成し、ビット線(BL1、BLB1)を上層の配線で形成する構成が実現可能である。
図3(a)に複数のSRAMメモリセルからなるSRAMメモリセルアレイの一部の平面図を示す。
図におけるCell array Areaにおいては複数のメモリセルが横方向に配置されており、横方向に配置された複数のメモリセルにおいて、ワード線118aが共通化されている。ワード線はContact Areaに形成されたコンタクト107により上層の配線に接続され、必要に応じて配線層で裏打ちされる。このため、特許文献2のSRAMセルとは異なり、各々のセルにワード線へのコンタクトを形成する必要がないので、SRAMセル面積を縮小することができる。
ワード線118aに複数のセルを接続することにより、ワード線コンタクト107から遠い側のセルにおいてはワード線の信号の遅延による読み出しや書き込みの遅延が問題になる可能性がある。このため、ワード線に接続するセルの数は、各デバイスの設計仕様等に基づいて読み出しや書き込みの遅延が問題ない範囲で決めることができる。
図3(b)に他の場合における複数のSRAMセルからなるSRAMセルアレイの一部の平面図を示す。図におけるCell array Areaにおいても同様に、複数のメモリセルが横方向に配置されており、横方向に配置されたメモリセルにおいて、ワード線118aが共通化されている。しかし、図3(b)においてはContact Areaにおいても、Cell array Areaと同様にピラーが配置されている。このようにContact Areaにおいてもピラーをメモリセル領域と同じパターンで配置することにより、Contact AreaにおいてもCell array内と同じピラー配置の規則性を保つことができるため、Contact Areaに隣接するピラーとContact Areaに隣接していないピラー間の寸法の差を小さくすることができ、Contact Areaに隣接するSGTの特性とContact Areaに隣接していないSGT特性の誤差を最小限に抑えることができる。
図3においては、一例として実施例1のレイアウトを用いてワード線及びワード線コンタクトの構成について述べたが、実際には実施例1のレイアウトに限定されるものではなく、他の実施例のレイアウトにおいても同様なワード線及びワード線コンタクトの構成を適用することができる。
図におけるCell array Areaにおいては複数のメモリセルが横方向に配置されており、横方向に配置された複数のメモリセルにおいて、ワード線118aが共通化されている。ワード線はContact Areaに形成されたコンタクト107により上層の配線に接続され、必要に応じて配線層で裏打ちされる。このため、特許文献2のSRAMセルとは異なり、各々のセルにワード線へのコンタクトを形成する必要がないので、SRAMセル面積を縮小することができる。
ワード線118aに複数のセルを接続することにより、ワード線コンタクト107から遠い側のセルにおいてはワード線の信号の遅延による読み出しや書き込みの遅延が問題になる可能性がある。このため、ワード線に接続するセルの数は、各デバイスの設計仕様等に基づいて読み出しや書き込みの遅延が問題ない範囲で決めることができる。
図3(b)に他の場合における複数のSRAMセルからなるSRAMセルアレイの一部の平面図を示す。図におけるCell array Areaにおいても同様に、複数のメモリセルが横方向に配置されており、横方向に配置されたメモリセルにおいて、ワード線118aが共通化されている。しかし、図3(b)においてはContact Areaにおいても、Cell array Areaと同様にピラーが配置されている。このようにContact Areaにおいてもピラーをメモリセル領域と同じパターンで配置することにより、Contact AreaにおいてもCell array内と同じピラー配置の規則性を保つことができるため、Contact Areaに隣接するピラーとContact Areaに隣接していないピラー間の寸法の差を小さくすることができ、Contact Areaに隣接するSGTの特性とContact Areaに隣接していないSGT特性の誤差を最小限に抑えることができる。
図3においては、一例として実施例1のレイアウトを用いてワード線及びワード線コンタクトの構成について述べたが、実際には実施例1のレイアウトに限定されるものではなく、他の実施例のレイアウトにおいても同様なワード線及びワード線コンタクトの構成を適用することができる。
本発明において、SRAMを構成する各トランジスタのソースおよびドレインを以下のように定義する。ドライバトランジスタ(Qn11、Qn21)については、接地電圧に接続される柱状半導体層の上部に形成される拡散層をソース拡散層、柱状半導体層の下部に形成される拡散層をドレイン拡散層と定義する。アクセストランジスタ(Qp11、Qp21)については、動作状態によっては柱状半導体層の上部に形成される拡散層および下部に形成される拡散層がともにソースまたはドレインになるが、便宜的に柱状半導体層の上部に形成される拡散層をソース拡散層、柱状半導体層の下部に形成される拡散層をドレイン拡散層と定義する。
続いて、図4の断面構造を参照して本発明について説明する。
図4(a)より、埋め込み酸化膜層101上に記憶ノード(102a、102b)であるシリコン層よりなるP+ソース拡散層(103a、103b)がそれぞれ形成されている。ソース拡散層上にはシリサイド層(113a、113b)が形成されている。P+ソース拡散層領域103a上にアクセストランジスタQp11を形成する柱状シリコン層121aが形成され、P+ソース拡散層領域103b上にアクセストランジスタQp21を形成する柱状シリコン層121bが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にはゲート絶縁膜117およびゲート電極118が形成されている。柱状シリコン層上部にはP+ドレイン拡散層領域116が不純物注入などにより形成され、ドレイン拡散層領域表面にはシリサイド層115が形成されている。アクセストランジスタQp11上に形成されるコンタクト106aはビット線BL1に接続され、アクセストランジスタQp21上に形成されるコンタクト106bはビット線BLB1に接続される。
図4(a)より、埋め込み酸化膜層101上に記憶ノード(102a、102b)であるシリコン層よりなるP+ソース拡散層(103a、103b)がそれぞれ形成されている。ソース拡散層上にはシリサイド層(113a、113b)が形成されている。P+ソース拡散層領域103a上にアクセストランジスタQp11を形成する柱状シリコン層121aが形成され、P+ソース拡散層領域103b上にアクセストランジスタQp21を形成する柱状シリコン層121bが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にはゲート絶縁膜117およびゲート電極118が形成されている。柱状シリコン層上部にはP+ドレイン拡散層領域116が不純物注入などにより形成され、ドレイン拡散層領域表面にはシリサイド層115が形成されている。アクセストランジスタQp11上に形成されるコンタクト106aはビット線BL1に接続され、アクセストランジスタQp21上に形成されるコンタクト106bはビット線BLB1に接続される。
図4(b)より、埋め込み酸化膜層101上に記憶ノード(102a、102b)であるシリコン層よりなるN+ソース拡散層(104a、104b)がそれぞれ形成されている。ソース拡散層上にはシリサイド層(113a、113b)が形成されている。ドライバトランジスタQn11のゲート電極から延在するゲート配線118b上に形成されるコンタクト111aは記憶ノード接続配線Naを通じてN+ソース拡散層104b上に形成されるコンタクト110bに接続される。
図4(c)より、埋め込み酸化膜層101上に記憶ノードであるシリコン層よりなるN+ソース拡散層(104a、104b)が形成されている。N+ソース拡散層上にはシリサイド層(113a、113b)が形成されている。N+ソース拡散層領域104aにドライバトランジスタQn11を形成する柱状シリコン層122aが形成され、N+ソース拡散層領域104bにドライバトランジスタQn21を形成する柱状シリコン層122bが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にゲート絶縁膜117およびゲート電極118が形成されている。柱状シリコン層上部にはN+ドレイン拡散層領域114が不純物注入などにより形成され、ドレイン拡散層領域表面にはシリサイド層115が形成されている。ドライバトランジスタ(Qn11、Qn21)上に形成されるコンタクト(108a、108b)はともに配線層を通して接地電位Vss1に接続される。
図4(d)より、埋め込み酸化膜層101上に記憶ノードであるシリコン層よりなるP+ソース拡散層103aおよびN+ソース拡散層104aが形成される。ソース拡散層上にはシリサイド層113aが形成され、シリサイド層113aによってP+ソース拡散層103aとN+ソース拡散層104aは接続されている。
本実施例においてはシリサイドによってN+ソース拡散層とP+ソース拡散層が接続されているが、N+ソース拡散層とP+ソース拡散層間の接触抵抗が十分小さい場合にはシリサイドを形成する必要はない。また、シリサイドでN+ソース拡散層とP+ソース拡散層を接続する代わりにコンタクトでN+ソース拡散層とP+ソース拡散層で裏打ちすることによって接続したり、他の方法でN+ソース拡散層とP+ソース拡散層を接続してもよい。
本実施例においてはシリサイドによってN+ソース拡散層とP+ソース拡散層が接続されているが、N+ソース拡散層とP+ソース拡散層間の接触抵抗が十分小さい場合にはシリサイドを形成する必要はない。また、シリサイドでN+ソース拡散層とP+ソース拡散層を接続する代わりにコンタクトでN+ソース拡散層とP+ソース拡散層で裏打ちすることによって接続したり、他の方法でN+ソース拡散層とP+ソース拡散層を接続してもよい。
図4(e)に図3(a)のE−E’における断面構造を示す。
埋め込み酸化膜層101上に左側のセル及び右側のセルのシリコン層よりなるP+ソース拡散層103が形成されている。それぞれのソース拡散層上にはシリサイド層113が形成されている。それぞれのP+ソース拡散層領域103上にアクセストランジスタを形成する柱状シリコン層121が形成され、P+ソース拡散層領域103上にアクセストランジスタを形成する柱状シリコン層121が形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にはゲート絶縁膜117およびゲート電極118が形成されている。柱状シリコン層上部にはP+ドレイン拡散層領域116が不純物注入などにより形成され、ドレイン拡散層領域表面にはシリサイド層115が形成されている。それぞれのアクセストランジスタ上に形成されるコンタクト106はビット線に接続され、ワード線118a上に形成されるコンタクト107は上層の配線層により形成されるより低抵抗なワード線に接続される。
埋め込み酸化膜層101上に左側のセル及び右側のセルのシリコン層よりなるP+ソース拡散層103が形成されている。それぞれのソース拡散層上にはシリサイド層113が形成されている。それぞれのP+ソース拡散層領域103上にアクセストランジスタを形成する柱状シリコン層121が形成され、P+ソース拡散層領域103上にアクセストランジスタを形成する柱状シリコン層121が形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にはゲート絶縁膜117およびゲート電極118が形成されている。柱状シリコン層上部にはP+ドレイン拡散層領域116が不純物注入などにより形成され、ドレイン拡散層領域表面にはシリサイド層115が形成されている。それぞれのアクセストランジスタ上に形成されるコンタクト106はビット線に接続され、ワード線118a上に形成されるコンタクト107は上層の配線層により形成されるより低抵抗なワード線に接続される。
以下に本発明の半導体装置を形成するための製造方法の一例を図5〜図13を参照して説明する。各図において(a)は平面図、(b)はD−D’間の断面図を示している。
図5に示されるように、SOI基板上にシリコン窒化膜等を成膜して、柱状シリコン層(121a、122a、121b、122b)のパターンをリソグラフィーにより形成し、エッチングすることにより、シリコン窒化膜マスク119および柱状シリコン層(121a、122a、121b、122b)を形成する。
図6に示されるように、シリコン層(120)を分離して、記憶ノード(102a、102b)であるシリコン層を形成する。
図7に示されるように、P+注入領域124およびN+注入領域125にそれぞれイオン注入などにより不純物を導入し、基板上に柱状シリコン層下部のドレイン拡散層(103a、103b、104a、104b)を形成する。
図8に示されるように、ゲート絶縁膜117およびゲート導電膜118を成膜する。ゲート絶縁膜117は酸化膜やHigh−k膜により形成される。また、ゲート導電膜はポリシリコンや金属膜により形成される。
図9に示されるように、レジスト等133を用いて、リソグラフィーによりゲート配線パターンを形成する。
図10に示されるように、レジスト133をマスクにして、ゲート導電膜117及びゲート絶縁膜118をエッチングし、除去する。これによりゲート配線(118a〜118c)が形成される。
図11に示されるように、ピラー上のマスク119をウェットエッチやドライエッチでなどで除去する。
図12に示されるように、シリコン窒化膜等の絶縁膜を成膜後、エッチバックして、柱状シリコン層の側壁およびゲート電極の側壁をシリコン窒化膜等の絶縁膜134で覆う構造にする。
図13に示されるように、P+注入領域124およびN+注入領域125にそれぞれイオン注入などにより不純物を導入し、柱状シリコン層上部のソース拡散層(114、116)を形成する。
図14に示されるように、Niなどの金属をスパッタして、熱処理を行うことにより、ドレイン拡散層上のシリサイド層(113a、113b)および柱状シリコン層上部のソース拡散層上のシリサイド層115を形成する。
ここで、柱状シリコン層およびゲート電極の側壁を覆っているシリコン窒化膜等の絶縁膜134により、シリサイド層に起因するドレイン−ゲート間およびソース−ゲート間のショートを抑制することができる。
ここで、柱状シリコン層およびゲート電極の側壁を覆っているシリコン窒化膜等の絶縁膜134により、シリサイド層に起因するドレイン−ゲート間およびソース−ゲート間のショートを抑制することができる。
図15に示されるように、層間膜であるシリコン酸化膜を形成後にコンタクト(106a、106b、108a、108b、110a、110b、111a、111b)を形成する。
図16に本実施例のSRAMレイアウトを示す。本実施例において実施例1と異なる点は、アクセストランジスタを形成する柱状シリコン層の形状とドライバトランジスタを形成する柱状シリコン層の大きさが異なる点である。本発明のLoadless4T−SRAMでは、アクセストランジスタのリーク電流をドライバトランジスタのリーク電流より大きく設定する必要がある。アクセストランジスタのリーク電流を増加させる一つの手段として、図16のようにアクセストランジスタを形成する柱状シリコン層の周囲長を、ドライバトランジスタを形成する柱状シリコン層の周囲長より大きく設定することによってリーク電流を増加させることができる。
一方、読み出しマージンを改善したい場合には、ドライバトランジスタの柱状シリコン層の周囲長を、アクセストランジスタを形成する柱状シリコン層の周囲長より大きく形成して、ドライバトランジスタの電流を大きくすることによって読み出しマージンを改善することができる。
本実施例においては、一例として実施例1と同様のピラーのレイアウトを用いたが、実際には実施例1のレイアウトに限定されるものではなく、他の実施例のレイアウトにおいても同様に本実施例を適用することができる。
これ以外の点に関しては実施例1に示す構成と同一であるので説明を省略する。
一方、読み出しマージンを改善したい場合には、ドライバトランジスタの柱状シリコン層の周囲長を、アクセストランジスタを形成する柱状シリコン層の周囲長より大きく形成して、ドライバトランジスタの電流を大きくすることによって読み出しマージンを改善することができる。
本実施例においては、一例として実施例1と同様のピラーのレイアウトを用いたが、実際には実施例1のレイアウトに限定されるものではなく、他の実施例のレイアウトにおいても同様に本実施例を適用することができる。
これ以外の点に関しては実施例1に示す構成と同一であるので説明を省略する。
図17に本実施例のSRAMセルレイアウトを示す。本実施例においては以下の点において、実施例1と異なる。基板上の第1の拡散層により形成される記憶ノードであるQa3と、ドライバトランジスタQn23のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト310aにより接続され、基板上の第2の拡散層により形成される記憶ノードであるQb3と、ドライバトランジスタQn13のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト310bにより接続される。上記のようにゲートと記憶ノードを配線層ではなくコンタクトで直接接続することによって、SRAMセル内におけるコンタクトの数を減らすことができるので、柱状シリコン層やコンタクトの配置を調整することによりセル面積を縮小することができる。
階層的な配線の構成の一例として、Vss3を下層の配線で形成し、ビット線(BL3、BLB3)を上層の配線で形成する構成が実現可能である。なお、本実施例ではノード接続配線Na1、ノード接続配線Nb1はコンタクトにより形成されている。
本実施例においては、一例として実施例1と同様のピラーのレイアウトを用いたが、実際にはこのレイアウトに限定されるものではなく、他のレイアウトにおいても同様に本実施例を適用することができる。
これ以外の点に関しては実施例1に示す構成と同一であるので説明を省略する。
階層的な配線の構成の一例として、Vss3を下層の配線で形成し、ビット線(BL3、BLB3)を上層の配線で形成する構成が実現可能である。なお、本実施例ではノード接続配線Na1、ノード接続配線Nb1はコンタクトにより形成されている。
本実施例においては、一例として実施例1と同様のピラーのレイアウトを用いたが、実際にはこのレイアウトに限定されるものではなく、他のレイアウトにおいても同様に本実施例を適用することができる。
これ以外の点に関しては実施例1に示す構成と同一であるので説明を省略する。
図18に本実施例のSRAMセルレイアウトを示す。本実施例においては以下の点において、実施例1と異なる。実施例1においては、記憶ノードQa1上においては、コンタクト110aはドライバトランジスタQn11にのみ隣接して配置されているが、記憶ノードQb1上においては、コンタクト110bはドライバトランジスタQn21とアクセストランジスタQp21の間の拡散層上に配置されている。このようなレイアウトの非対称性により、SRAMセルの特性に非対称性が生じ、動作マージンが狭くなる可能性がある。本実施例においては、第1の記憶ノードQa4上のアクセストランジスタQp14、コンタクト(410a、411a)及びドライバトランジスタQn14と第2の記憶ノードQb4上のアクセストランジスタQp24、コンタクト(410b、411b)及びドライバトランジスタQn24のレイアウトが対称であるため、上記のような非対称性に起因する動作マージンの劣化はなく、広い動作マージンを持つSRAMセルが可能である。
階層的な配線の構成の一例として、ノード接続配線Na4、ノード接続配線Nb4、及び接地電位の配線Vss4を下層の配線で形成し、ビット線(BL1、BLB1)を上層の配線で形成する構成が実現可能である。
階層的な配線の構成の一例として、ノード接続配線Na4、ノード接続配線Nb4、及び接地電位の配線Vss4を下層の配線で形成し、ビット線(BL1、BLB1)を上層の配線で形成する構成が実現可能である。
図19に本実施例のSRAMセルレイアウトを示す。
本実施例は実施例4と同様にレイアウトが対称であるため、広い動作マージンを持つSRAMセルが可能である。
また、実施例2と同様に、基板上の第1の拡散層により形成される記憶ノードであるQa5と、ドライバトランジスタQn25のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト510aにより接続され、基板上の第2の拡散層により形成される記憶ノードであるQb5と、ドライバトランジスタQn15のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト510bにより接続される。
なお、ビット線の配線及び接地電位の配線は、望ましくは、他のメモリセルの配線と共用するために、各メモリセル内での配線であるノード接続配線より上位の層に配置される。本実施例ではノード接続配線はコンタクトにより形成されている。
階層的な配線の構成の一例として、Vss3を下層の配線で形成し、ビット線(BL5、BLB5)を上層の配線で形成する構成が実現可能である。なお、本実施例ではノード接続配線Na5、ノード接続配線Nb5はコンタクトにより形成されている。
本実施例は実施例4と同様にレイアウトが対称であるため、広い動作マージンを持つSRAMセルが可能である。
また、実施例2と同様に、基板上の第1の拡散層により形成される記憶ノードであるQa5と、ドライバトランジスタQn25のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト510aにより接続され、基板上の第2の拡散層により形成される記憶ノードであるQb5と、ドライバトランジスタQn15のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト510bにより接続される。
なお、ビット線の配線及び接地電位の配線は、望ましくは、他のメモリセルの配線と共用するために、各メモリセル内での配線であるノード接続配線より上位の層に配置される。本実施例ではノード接続配線はコンタクトにより形成されている。
階層的な配線の構成の一例として、Vss3を下層の配線で形成し、ビット線(BL5、BLB5)を上層の配線で形成する構成が実現可能である。なお、本実施例ではノード接続配線Na5、ノード接続配線Nb5はコンタクトにより形成されている。
図20(a)に複数のSRAMメモリセルからなるSRAMメモリセルアレイの一部の平面図を示す。
図におけるCell array Areaにおいては複数のメモリセルが横方向に配置されており、横方向に配置された複数のメモリセルにおいて、ワード線518aが共通化されている。ワード線はContact Areaに形成されたコンタクト507により上層の配線に接続され、必要に応じて配線層で裏打ちされる。このため、特許文献2のSRAMセルとは異なり、各々のセルにワード線へのコンタクトを形成する必要がないので、SRAMセル面積を縮小することができる。
ワード線518aに複数のセルを接続することにより、ワード線コンタクト507から遠い側のセルにおいてはワード線の信号の遅延による読み出しや書き込みの遅延が問題になる可能性がある。このため、ワード線に接続するセルの数は読み出しや書き込みの遅延が問題ない範囲で決めることができる。
図20(b)に他の場合における複数のSRAMセルからなるSRAMセルアレイの一部の平面図を示す。図におけるCell array Areaにおいても同様に、複数のメモリセルが横方向に配置されており、横方向に配置されたメモリセルにおいて、ワード線518aが共通化されている。しかし、図20(b)においてはContact Areaにおいても、Cell array Areaと同様にピラーが配置されている。このようにContact Areaにおいてもピラーを配置することにより、Contact Areaに隣接するSGTの特性とContact Areaに隣接していないSGTとの特性の誤差を最小限に抑えることができる。
図におけるCell array Areaにおいては複数のメモリセルが横方向に配置されており、横方向に配置された複数のメモリセルにおいて、ワード線518aが共通化されている。ワード線はContact Areaに形成されたコンタクト507により上層の配線に接続され、必要に応じて配線層で裏打ちされる。このため、特許文献2のSRAMセルとは異なり、各々のセルにワード線へのコンタクトを形成する必要がないので、SRAMセル面積を縮小することができる。
ワード線518aに複数のセルを接続することにより、ワード線コンタクト507から遠い側のセルにおいてはワード線の信号の遅延による読み出しや書き込みの遅延が問題になる可能性がある。このため、ワード線に接続するセルの数は読み出しや書き込みの遅延が問題ない範囲で決めることができる。
図20(b)に他の場合における複数のSRAMセルからなるSRAMセルアレイの一部の平面図を示す。図におけるCell array Areaにおいても同様に、複数のメモリセルが横方向に配置されており、横方向に配置されたメモリセルにおいて、ワード線518aが共通化されている。しかし、図20(b)においてはContact Areaにおいても、Cell array Areaと同様にピラーが配置されている。このようにContact Areaにおいてもピラーを配置することにより、Contact Areaに隣接するSGTの特性とContact Areaに隣接していないSGTとの特性の誤差を最小限に抑えることができる。
以上説明したように、本発明によれば4個のMOSトランジスタを用いて構成されたスタティック型メモリセルにおいて、前記MOSトランジスタはドレイン、ゲート、ソースが垂直方向に配置されたSGTであり、アクセストランジスタのゲートをワードラインとして一列(図面では横方向)に隣接する複数のセルで共通化し、ワード線へのコンタクトを複数のセルごとに1個形成することにより、非常に小さいメモリセル面積を持つCMOS型Loadless4T−SRAMを実現することができる。
101、201、301、401、501:埋め込み酸化膜
102、102a、102b、202a、202b、302a、302b、402a、402b、502a、502b、602a、602b:シリコン層
103、103a、103b、203a、203b、603a、603b:p+拡散層
104a、104b、204a、204b、604a、604b:n+拡散層
106、106a、206a、306a、406a、506a、106b、206b、306b、406b、506b:アクセストランジスタ柱状シリコン層上コンタクト
107:ワード線コンタクト
108a、208a、308a、408a、508a、108b、208b、308b、408b、508b:ドライバトランジスタ柱状シリコン層上コンタクト
110a、210a、310a、410a、110b、210b、310b、410b:記憶ノード上コンタクト
111a、211a、111b、211b:ゲート配線上コンタクト
113、113a、113b、115、513a、513b、515:シリサイド層
114、514:ピラー上部N+拡散層
116、516:ピラー上部P+拡散層
117、517:ゲート絶縁膜
118、518:ゲート電極
118a、118b、118c、518a、518b、518c:ゲート配線
118a、218a、318a、418a:ワード線
119:シリコン酸化膜等のマスク層
120:シリコン層
121、121a、121b、521a、521b:アクセストランジスタ柱状シリコン層
122a、122b、522a、522b:ドライバトランジスタ柱状シリコン層
124、524:P+注入領域
125、525:N+注入領域
131:シリコン酸化膜
132:シリコン窒化膜サイドウォール
133:レジスト
134:シリコン窒化膜
Qp11、Qp21、Qp12、Qp22、Qp13、Qp23、Qp14、Qp24、Qp15、Qp25:アクセストランジスタ
Qn11、Qn21、Qn12、Qn22、Qn13、Qn23、Qn14、Qn24、Qn15、Qn25:ドライバトランジスタ
BL1、BL3、BL4、BL5、BLB1、BLB3、BLB4、BLB5:ビット線
Vss1、Vss2、Vss3、Vss4、Vss5:接地電位線
Na1、Nb1、Na2、Nb2、Na5、Nb5:ノード接続配線
102、102a、102b、202a、202b、302a、302b、402a、402b、502a、502b、602a、602b:シリコン層
103、103a、103b、203a、203b、603a、603b:p+拡散層
104a、104b、204a、204b、604a、604b:n+拡散層
106、106a、206a、306a、406a、506a、106b、206b、306b、406b、506b:アクセストランジスタ柱状シリコン層上コンタクト
107:ワード線コンタクト
108a、208a、308a、408a、508a、108b、208b、308b、408b、508b:ドライバトランジスタ柱状シリコン層上コンタクト
110a、210a、310a、410a、110b、210b、310b、410b:記憶ノード上コンタクト
111a、211a、111b、211b:ゲート配線上コンタクト
113、113a、113b、115、513a、513b、515:シリサイド層
114、514:ピラー上部N+拡散層
116、516:ピラー上部P+拡散層
117、517:ゲート絶縁膜
118、518:ゲート電極
118a、118b、118c、518a、518b、518c:ゲート配線
118a、218a、318a、418a:ワード線
119:シリコン酸化膜等のマスク層
120:シリコン層
121、121a、121b、521a、521b:アクセストランジスタ柱状シリコン層
122a、122b、522a、522b:ドライバトランジスタ柱状シリコン層
124、524:P+注入領域
125、525:N+注入領域
131:シリコン酸化膜
132:シリコン窒化膜サイドウォール
133:レジスト
134:シリコン窒化膜
Qp11、Qp21、Qp12、Qp22、Qp13、Qp23、Qp14、Qp24、Qp15、Qp25:アクセストランジスタ
Qn11、Qn21、Qn12、Qn22、Qn13、Qn23、Qn14、Qn24、Qn15、Qn25:ドライバトランジスタ
BL1、BL3、BL4、BL5、BLB1、BLB3、BLB4、BLB5:ビット線
Vss1、Vss2、Vss3、Vss4、Vss5:接地電位線
Na1、Nb1、Na2、Nb2、Na5、Nb5:ノード接続配線
続いて、図22の断面図を用いて特許文献2の実施例1のSRAMセルの構造について説明する。
図22(a)より、埋め込み酸化膜層601上に記憶ノード(602a、602b)であるシリコン層よりなるP+ドレイン拡散層(603a、603b)がそれぞれ形成されている。ドレイン拡散層上にはシリサイド層(613a、613b)が形成されている。P+ドレイン拡散層領域603a上にアクセストランジスタQp16を形成する柱状シリコン層621aが形成され、P+ドレイン拡散層領域603b上にアクセストランジスタQp26を形成する柱状シリコン層621bが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にはゲート絶縁膜617およびゲート電極618が形成されている。柱状シリコン層上部にはP+ソース拡散層領域616が不純物注入などにより形成され、ソース拡散層領域表面にはシリサイド層615が形成されている。アクセストランジスタQp16上に形成されるコンタクト606aはビット線BL6に接続され、アクセストランジスタQp26上に形成されるコンタクト606bはビット線BLB6に接続され、アクセストランジスタQp16およびQp26のゲートより延在するゲート配線618a上に形成されるコンタクト607はワード線WL6に接続される。
図22(a)より、埋め込み酸化膜層601上に記憶ノード(602a、602b)であるシリコン層よりなるP+ドレイン拡散層(603a、603b)がそれぞれ形成されている。ドレイン拡散層上にはシリサイド層(613a、613b)が形成されている。P+ドレイン拡散層領域603a上にアクセストランジスタQp16を形成する柱状シリコン層621aが形成され、P+ドレイン拡散層領域603b上にアクセストランジスタQp26を形成する柱状シリコン層621bが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にはゲート絶縁膜617およびゲート電極618が形成されている。柱状シリコン層上部にはP+ソース拡散層領域616が不純物注入などにより形成され、ソース拡散層領域表面にはシリサイド層615が形成されている。アクセストランジスタQp16上に形成されるコンタクト606aはビット線BL6に接続され、アクセストランジスタQp26上に形成されるコンタクト606bはビット線BLB6に接続され、アクセストランジスタQp16およびQp26のゲートより延在するゲート配線618a上に形成されるコンタクト607はワード線WL6に接続される。
図22(b)より、埋め込み酸化膜層601上に記憶ノード(602a、602b)であるシリコン層よりなるN+ドレイン拡散層(604a、604b)がそれぞれ形成されている。ドレイン拡散層上にはシリサイド層(613a、613b)が形成されている。ドライバトランジスタQn16のゲート電極から延在するゲート配線618b上に形成されるコンタクト611aは記憶ノード接続配線Na6を通じてN+ドレイン拡散層604b上に形成されるコンタクト610bに接続される。
図22(c)より、埋め込み酸化膜層601上に記憶ノードであるシリコン層よりなるN+ドレイン拡散層(604a、604b)が形成されている。N+ドレイン拡散層上にはシリサイド層(613a、613b)が形成されている。N+ドレイン拡散層領域604aにドライバトランジスタQn16を形成する柱状シリコン層622aが形成され、N+ドレイン拡散層領域604bにドライバトランジスタQn26を形成する柱状シリコン層622bが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にゲート絶縁膜617およびゲート電極618が形成されている。柱状シリコン層上部にはN+ソース拡散層領域614が不純物注入などにより形成され、ソース拡散層領域表面にはシリサイド層615が形成されている。ドライバトランジスタ(Qn16、Qn26)上に形成されるコンタクト(608a、608b)はともに配線層を通して接地電位Vss6に接続される。
図22(d)より、埋め込み酸化膜層601上に記憶ノードであるシリコン層よりなるP+ドレイン拡散層603aおよびN+ドレイン拡散層604aが形成される。ドレイン拡散層上にはシリサイド層613aが形成され、シリサイド層613aによってP+ドレイン拡散層603aとN+ドレイン拡散層604aは接続されている。
上記課題を解決するために、本発明は、4個のMOSトランジスタが基板上に形成された絶縁膜上に配列された複数のスタティック型メモリセルを備えた半導体記憶装置であって、
前記4個のMOSトランジスタの各々は、
メモリセルデータを保持するために電荷を供給すると共にメモリにアクセスするための第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタと、メモリセルのデータを書き込み及び読み出しするために記憶ノードを駆動する第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタとして機能し、
前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタにおいて、
P型の導電型を持つ第1の拡散層、第1の柱状半導体層及びP型の導電型を持つ第2の拡散層が、基板上に形成された絶縁膜上に垂直方向に階層的に配置され、前記第1の柱状半導体層は前記第1の柱状半導体層の底部に形成される前記第1の拡散層と前記第1の柱状半導体層の上部に形成される前記第2の拡散層の間に配置され、前記第1の柱状半導体層の側壁にゲート絶縁膜及びゲートが形成されており、
前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタにおいて、
N型の導電型を持つ第3の拡散層、第2の柱状半導体層及びN型の導電型を持つ第4の拡散層が、基板上に形成された絶縁膜上に垂直方向に階層的に配置され、前記第2の柱状半導体層は前記第2の柱状半導体層の底部に形成される前記第3の拡散層と前記第2の柱状半導体層の上部に形成される前記第4の拡散層の間に配置され、前記第2の柱状半導体層の側壁にゲート絶縁膜及びゲートが形成されており、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタ及び前記第1のNMOSのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
前記第2のPMOSのアクセストランジスタ及び前記第2のNMOSのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
データを保持する第1の記憶ノードとして機能する、前記第1のPMOSのアクセストランジスタの底部に形成されるP型の導電型を持つ前記第1の拡散層及び前記第1のNMOSのドライバトランジスタの底部に形成されるN型の導電型を持つ前記第3の拡散層を前記絶縁膜上に配置し、
前記第1の記憶ノードとして機能する、前記第1の拡散層、前記第3の拡散層は相互に接続され、
データを保持する第2の記憶ノードとして機能する、前記第2のPMOSのアクセストランジスタの底部に形成されるP型の導電型を持つ前記第1の拡散層及び前記第2のNMOSのドライバトランジスタの底部に形成されるN型の導電型を持つ前記第3の拡散層を前記絶縁膜上に配置し、
前記第2の記憶ノードとして機能する、前記第1の拡散層、前記第3の拡散層は相互に接続され、
前記第1及び前記第2のPMOSのドライバトランジスタのそれぞれのゲートは第1のゲート配線により互いに接続され、前記第1のゲート配線は隣接する複数のメモリセルにおける前記第1及び前記第2のPMOSのアクセストランジスタのそれぞれのゲートと互いに接続されることによりワード線を形成しており、
隣接する複数のメモリセルごとに、ワード線である前記第1のゲート配線上に第1のコンタクトが形成されることを特徴とする半導体記憶装置を提供する。
本発明の好ましい態様では、前記ワード線である前記第1のゲート配線上に前記第1のコンタクトが形成される領域において、メモリセルの領域と同様にピラーが配置されていることを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
別の好ましい態様では、前記第1のNMOSのドライバトランジスタのゲートより延在する第2のゲート配線が、前記第2の記憶ノードとして機能する拡散層と共通の第2のコンタクトにより接続され、前記第2のNMOSのドライバトランジスタのゲートより延在する第3のゲート配線が、前記第1の記憶ノードとして機能する拡散層と共通の第3のコンタクトにより接続されることを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
更に別の好ましい態様では、前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以上の値を持つこと、又は前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以下の値を持つことを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
更に別の好ましい態様では、前記4個のMOSトランジスタは、前記絶縁膜上に2行2列に配列され、前記第1のPMOSのアクセストランジスタは1行1列目に配列され、前記第1のNMOSのドライバトランジスタは2行1列目に配列され、前記第2のPMOSのアクセストランジスタは1行2列目に配列され、前記第2のNMOSのドライバトランジスタは2行2列目に配列されていることを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
更に別の好ましい態様では、前記4個のMOSトランジスタは前記絶縁膜上に配列され、前記第1のPMOSのアクセストランジスタと前記第2のPMOSのアクセストランジスタは隣接して配列され、前記第1のPMOSのアクセストランジスタと前記第2のPMOSのアクセストランジスタの隣接方向に直交する一方の方向において前記第1のNMOSのドライバトランジスタは前記第1のPMOSのアクセストランジスタと隣接して配列され、前記第1のPMOSのアクセストランジスタと前記第2のPMOSのアクセストランジスタの隣接方向に直交する他方の方向において前記第2のNMOSのドライバトランジスタは前記第2のPMOSのアクセストランジスタと隣接して配列されていることを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
前記4個のMOSトランジスタの各々は、
メモリセルデータを保持するために電荷を供給すると共にメモリにアクセスするための第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタと、メモリセルのデータを書き込み及び読み出しするために記憶ノードを駆動する第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタとして機能し、
前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタにおいて、
P型の導電型を持つ第1の拡散層、第1の柱状半導体層及びP型の導電型を持つ第2の拡散層が、基板上に形成された絶縁膜上に垂直方向に階層的に配置され、前記第1の柱状半導体層は前記第1の柱状半導体層の底部に形成される前記第1の拡散層と前記第1の柱状半導体層の上部に形成される前記第2の拡散層の間に配置され、前記第1の柱状半導体層の側壁にゲート絶縁膜及びゲートが形成されており、
前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタにおいて、
N型の導電型を持つ第3の拡散層、第2の柱状半導体層及びN型の導電型を持つ第4の拡散層が、基板上に形成された絶縁膜上に垂直方向に階層的に配置され、前記第2の柱状半導体層は前記第2の柱状半導体層の底部に形成される前記第3の拡散層と前記第2の柱状半導体層の上部に形成される前記第4の拡散層の間に配置され、前記第2の柱状半導体層の側壁にゲート絶縁膜及びゲートが形成されており、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタ及び前記第1のNMOSのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
前記第2のPMOSのアクセストランジスタ及び前記第2のNMOSのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
データを保持する第1の記憶ノードとして機能する、前記第1のPMOSのアクセストランジスタの底部に形成されるP型の導電型を持つ前記第1の拡散層及び前記第1のNMOSのドライバトランジスタの底部に形成されるN型の導電型を持つ前記第3の拡散層を前記絶縁膜上に配置し、
前記第1の記憶ノードとして機能する、前記第1の拡散層、前記第3の拡散層は相互に接続され、
データを保持する第2の記憶ノードとして機能する、前記第2のPMOSのアクセストランジスタの底部に形成されるP型の導電型を持つ前記第1の拡散層及び前記第2のNMOSのドライバトランジスタの底部に形成されるN型の導電型を持つ前記第3の拡散層を前記絶縁膜上に配置し、
前記第2の記憶ノードとして機能する、前記第1の拡散層、前記第3の拡散層は相互に接続され、
前記第1及び前記第2のPMOSのドライバトランジスタのそれぞれのゲートは第1のゲート配線により互いに接続され、前記第1のゲート配線は隣接する複数のメモリセルにおける前記第1及び前記第2のPMOSのアクセストランジスタのそれぞれのゲートと互いに接続されることによりワード線を形成しており、
隣接する複数のメモリセルごとに、ワード線である前記第1のゲート配線上に第1のコンタクトが形成されることを特徴とする半導体記憶装置を提供する。
本発明の好ましい態様では、前記ワード線である前記第1のゲート配線上に前記第1のコンタクトが形成される領域において、メモリセルの領域と同様にピラーが配置されていることを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
別の好ましい態様では、前記第1のNMOSのドライバトランジスタのゲートより延在する第2のゲート配線が、前記第2の記憶ノードとして機能する拡散層と共通の第2のコンタクトにより接続され、前記第2のNMOSのドライバトランジスタのゲートより延在する第3のゲート配線が、前記第1の記憶ノードとして機能する拡散層と共通の第3のコンタクトにより接続されることを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
更に別の好ましい態様では、前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以上の値を持つこと、又は前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以下の値を持つことを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
更に別の好ましい態様では、前記4個のMOSトランジスタは、前記絶縁膜上に2行2列に配列され、前記第1のPMOSのアクセストランジスタは1行1列目に配列され、前記第1のNMOSのドライバトランジスタは2行1列目に配列され、前記第2のPMOSのアクセストランジスタは1行2列目に配列され、前記第2のNMOSのドライバトランジスタは2行2列目に配列されていることを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
更に別の好ましい態様では、前記4個のMOSトランジスタは前記絶縁膜上に配列され、前記第1のPMOSのアクセストランジスタと前記第2のPMOSのアクセストランジスタは隣接して配列され、前記第1のPMOSのアクセストランジスタと前記第2のPMOSのアクセストランジスタの隣接方向に直交する一方の方向において前記第1のNMOSのドライバトランジスタは前記第1のPMOSのアクセストランジスタと隣接して配列され、前記第1のPMOSのアクセストランジスタと前記第2のPMOSのアクセストランジスタの隣接方向に直交する他方の方向において前記第2のNMOSのドライバトランジスタは前記第2のPMOSのアクセストランジスタと隣接して配列されていることを特徴とする半導体記憶装置が提供される。
まず図2のレイアウト図を参考にして本実施例について説明する。
Qp11およびQp21はPMOSであるメモリセルにアクセスするためのアクセストランジスタであり、Qn11およびQn21はNMOSであるメモリセルを駆動するドライバトランジスタである。
本実施例では、1つのユニットセルUCは、基板上に2行2列に配列されたトランジスタを備えている。1列目には、第1の記憶ノードQa1上に、図の上側からアクセストランジスタQp11及びドライバトランジスタQn11がそれぞれ配列されている。また、2列目には、第2の記憶ノードQb1上に、図の上側からアクセストランジスタQp21及びドライバトランジスタQn21がそれぞれ配列されている。また、アクセストランジスタのゲートから延在するゲート配線118aは横方向に隣接する複数のメモリセルと共通化され、ワード線を形成している。本実施例のSRAMセルアレイは、このような4個のトランジスタを備えたユニットセルUCを図の上下方向に連続的に配列することにより構成される。
Qp11およびQp21はPMOSであるメモリセルにアクセスするためのアクセストランジスタであり、Qn11およびQn21はNMOSであるメモリセルを駆動するドライバトランジスタである。
本実施例では、1つのユニットセルUCは、基板上に2行2列に配列されたトランジスタを備えている。1列目には、第1の記憶ノードQa1上に、図の上側からアクセストランジスタQp11及びドライバトランジスタQn11がそれぞれ配列されている。また、2列目には、第2の記憶ノードQb1上に、図の上側からアクセストランジスタQp21及びドライバトランジスタQn21がそれぞれ配列されている。また、アクセストランジスタのゲートから延在するゲート配線118aは横方向に隣接する複数のメモリセルと共通化され、ワード線を形成している。本実施例のSRAMセルアレイは、このような4個のトランジスタを備えたユニットセルUCを図の上下方向に連続的に配列することにより構成される。
続いて、図4の断面構造を参照して本発明について説明する。
図4(a)より、埋め込み酸化膜層101上に記憶ノード(102a、102b)であるシリコン層よりなるP+ドレイン拡散層(103a、103b)がそれぞれ形成されている。ドレイン拡散層上にはシリサイド層(113a、113b)が形成されている。P+ドレイン拡散層領域103a上にアクセストランジスタQp11を形成する柱状シリコン層121aが形成され、P+ドレイン拡散層領域103b上にアクセストランジスタQp21を形成する柱状シリコン層121bが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にはゲート絶縁膜117およびゲート電極118が形成されている。柱状シリコン層上部にはP+ソース拡散層領域116が不純物注入などにより形成され、ソース拡散層領域表面にはシリサイド層115が形成されている。アクセストランジスタQp11上に形成されるコンタクト106aはビット線BL1に接続され、アクセストランジスタQp21上に形成されるコンタクト106bはビット線BLB1に接続される。
図4(a)より、埋め込み酸化膜層101上に記憶ノード(102a、102b)であるシリコン層よりなるP+ドレイン拡散層(103a、103b)がそれぞれ形成されている。ドレイン拡散層上にはシリサイド層(113a、113b)が形成されている。P+ドレイン拡散層領域103a上にアクセストランジスタQp11を形成する柱状シリコン層121aが形成され、P+ドレイン拡散層領域103b上にアクセストランジスタQp21を形成する柱状シリコン層121bが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にはゲート絶縁膜117およびゲート電極118が形成されている。柱状シリコン層上部にはP+ソース拡散層領域116が不純物注入などにより形成され、ソース拡散層領域表面にはシリサイド層115が形成されている。アクセストランジスタQp11上に形成されるコンタクト106aはビット線BL1に接続され、アクセストランジスタQp21上に形成されるコンタクト106bはビット線BLB1に接続される。
図4(b)より、埋め込み酸化膜層101上に記憶ノード(102a、102b)であるシリコン層よりなるN+ドレイン拡散層(104a、104b)がそれぞれ形成されている。ドレイン拡散層上にはシリサイド層(113a、113b)が形成されている。ドライバトランジスタQn11のゲート電極から延在するゲート配線118b上に形成されるコンタクト111aは記憶ノード接続配線Na1を通じてN+ドレイン拡散層104b上に形成されるコンタクト110bに接続される。
図4(c)より、埋め込み酸化膜層101上に記憶ノードであるシリコン層よりなるN+ドレイン拡散層(104a、104b)が形成されている。N+ドレイン拡散層上にはシリサイド層(113a、113b)が形成されている。N+ドレイン拡散層領域104aにドライバトランジスタQn11を形成する柱状シリコン層122aが形成され、N+ドレイン拡散層領域104bにドライバトランジスタQn21を形成する柱状シリコン層122bが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にゲート絶縁膜117およびゲート電極118が形成されている。柱状シリコン層上部にはN+ソース拡散層領域114が不純物注入などにより形成され、ソース拡散層領域表面にはシリサイド層115が形成されている。ドライバトランジスタ(Qn11、Qn21)上に形成されるコンタクト(108a、108b)はともに配線層を通して接地電位Vss1に接続される。
図4(d)より、埋め込み酸化膜層101上に記憶ノードであるシリコン層よりなるP+ドレイン拡散層103aおよびN+ドレイン拡散層104aが形成される。ドレイン拡散層上にはシリサイド層113aが形成され、シリサイド層113aによってP+ドレイン拡散層103aとN+ドレイン拡散層104aは接続されている。
本実施例においてはシリサイドによってN+ドレイン拡散層とP+ドレイン拡散層が接続されているが、N+ドレイン拡散層とP+ドレイン拡散層間の接触抵抗が十分小さい場合にはシリサイドを形成する必要はない。また、シリサイドでN+ドレイン拡散層とP+ドレイン拡散層を接続する代わりにコンタクトでN+ドレイン拡散層とP+ドレイン拡散層で裏打ちすることによって接続したり、他の方法でN+ドレイン拡散層とP+ドレイン拡散層を接続してもよい。
本実施例においてはシリサイドによってN+ドレイン拡散層とP+ドレイン拡散層が接続されているが、N+ドレイン拡散層とP+ドレイン拡散層間の接触抵抗が十分小さい場合にはシリサイドを形成する必要はない。また、シリサイドでN+ドレイン拡散層とP+ドレイン拡散層を接続する代わりにコンタクトでN+ドレイン拡散層とP+ドレイン拡散層で裏打ちすることによって接続したり、他の方法でN+ドレイン拡散層とP+ドレイン拡散層を接続してもよい。
図4(e)に図3(a)のE−E’における断面構造を示す。
埋め込み酸化膜層101上に左側のセル及び右側のセルのシリコン層よりなるP+ドレイン拡散層103が形成されている。それぞれのドレイン拡散層上にはシリサイド層113が形成されている。それぞれのP+ドレイン拡散層領域103上にアクセストランジスタを形成する柱状シリコン層121が形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にはゲート絶縁膜117およびゲート電極118が形成されている。柱状シリコン層上部にはP+ソース拡散層領域116が不純物注入などにより形成され、ソース拡散層領域表面にはシリサイド層115が形成されている。それぞれのアクセストランジスタ上に形成されるコンタクト106はビット線に接続され、ワード線118a上に形成されるコンタクト107は上層の配線層により形成されるより低抵抗なワード線に接続される。
埋め込み酸化膜層101上に左側のセル及び右側のセルのシリコン層よりなるP+ドレイン拡散層103が形成されている。それぞれのドレイン拡散層上にはシリサイド層113が形成されている。それぞれのP+ドレイン拡散層領域103上にアクセストランジスタを形成する柱状シリコン層121が形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にはゲート絶縁膜117およびゲート電極118が形成されている。柱状シリコン層上部にはP+ソース拡散層領域116が不純物注入などにより形成され、ソース拡散層領域表面にはシリサイド層115が形成されている。それぞれのアクセストランジスタ上に形成されるコンタクト106はビット線に接続され、ワード線118a上に形成されるコンタクト107は上層の配線層により形成されるより低抵抗なワード線に接続される。
図9に示されるように、レジスト133等を用いて、リソグラフィーによりゲート配線パターンを形成する。
図10に示されるように、レジスト133をマスクにして、ゲート導電膜118及びゲート絶縁膜117をエッチングし、除去する。これによりゲート配線(118a〜118c)が形成される。
図17に本実施例のSRAMセルレイアウトを示す。本実施例においては以下の点において、実施例1と異なる。基板上の第1の拡散層により形成される記憶ノードと、ドライバトランジスタQn23のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト310aにより接続され、基板上の第2の拡散層により形成される記憶ノードと、ドライバトランジスタQn13のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト310bにより接続される。上記のようにゲートと記憶ノードを配線層ではなくコンタクトで直接接続することによって、SRAMセル内におけるコンタクトの数を減らすことができるので、柱状シリコン層やコンタクトの配置を調整することによりセル面積を縮小することができる。
階層的な配線の構成の一例として、Vss3を下層の配線で形成し、ビット線(BL3、BLB3)を上層の配線で形成する構成が実現可能である。なお、本実施例ではノード接続配線Na1、ノード接続配線Nb1はコンタクトにより形成されている。
本実施例においては、一例として実施例1と同様のピラーのレイアウトを用いたが、実際にはこのレイアウトに限定されるものではなく、他のレイアウトにおいても同様に本実施例を適用することができる。
これ以外の点に関しては実施例1に示す構成と同一であるので説明を省略する。
階層的な配線の構成の一例として、Vss3を下層の配線で形成し、ビット線(BL3、BLB3)を上層の配線で形成する構成が実現可能である。なお、本実施例ではノード接続配線Na1、ノード接続配線Nb1はコンタクトにより形成されている。
本実施例においては、一例として実施例1と同様のピラーのレイアウトを用いたが、実際にはこのレイアウトに限定されるものではなく、他のレイアウトにおいても同様に本実施例を適用することができる。
これ以外の点に関しては実施例1に示す構成と同一であるので説明を省略する。
図18に本実施例のSRAMセルレイアウトを示す。本実施例においては以下の点において、実施例1と異なる。実施例1においては、記憶ノードQa1上においては、コンタクト110aはドライバトランジスタQn11にのみ隣接して配置されているが、記憶ノードQb1上においては、コンタクト110bはドライバトランジスタQn21とアクセストランジスタQp21の間の拡散層上に配置されている。このようなレイアウトの非対称性により、SRAMセルの特性に非対称性が生じ、動作マージンが狭くなる可能性がある。本実施例においては、第1の記憶ノード上のアクセストランジスタQp14、コンタクト(410a、411a)及びドライバトランジスタQn14と第2の記憶ノード上のアクセストランジスタQp24、コンタクト(410b、411b)及びドライバトランジスタQn24のレイアウトが対称であるため、上記のような非対称性に起因する動作マージンの劣化はなく、広い動作マージンを持つSRAMセルが可能である。
階層的な配線の構成の一例として、ノード接続配線Na4、ノード接続配線Nb4、及び接地電位の配線Vss4を下層の配線で形成し、ビット線(BL4、BLB4)を上層の配線で形成する構成が実現可能である。
階層的な配線の構成の一例として、ノード接続配線Na4、ノード接続配線Nb4、及び接地電位の配線Vss4を下層の配線で形成し、ビット線(BL4、BLB4)を上層の配線で形成する構成が実現可能である。
図19に本実施例のSRAMセルレイアウトを示す。
本実施例は実施例4と同様にレイアウトが対称であるため、広い動作マージンを持つSRAMセルが可能である。
また、実施例3と同様に、基板上の第1の拡散層により形成される記憶ノードと、ドライバトランジスタQn25のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト510aにより接続され、基板上の第2の拡散層により形成される記憶ノードと、ドライバトランジスタQn15のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト510bにより接続される。
なお、ビット線の配線及び接地電位の配線は、望ましくは、他のメモリセルの配線と共用するために、各メモリセル内での配線であるノード接続配線より上位の層に配置される。本実施例ではノード接続配線はコンタクトにより形成されている。
階層的な配線の構成の一例として、Vss5を下層の配線で形成し、ビット線(BL5、BLB5)を上層の配線で形成する構成が実現可能である。なお、本実施例ではノード接続配線Na5、ノード接続配線Nb5はコンタクトにより形成されている。
本実施例は実施例4と同様にレイアウトが対称であるため、広い動作マージンを持つSRAMセルが可能である。
また、実施例3と同様に、基板上の第1の拡散層により形成される記憶ノードと、ドライバトランジスタQn25のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト510aにより接続され、基板上の第2の拡散層により形成される記憶ノードと、ドライバトランジスタQn15のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト510bにより接続される。
なお、ビット線の配線及び接地電位の配線は、望ましくは、他のメモリセルの配線と共用するために、各メモリセル内での配線であるノード接続配線より上位の層に配置される。本実施例ではノード接続配線はコンタクトにより形成されている。
階層的な配線の構成の一例として、Vss5を下層の配線で形成し、ビット線(BL5、BLB5)を上層の配線で形成する構成が実現可能である。なお、本実施例ではノード接続配線Na5、ノード接続配線Nb5はコンタクトにより形成されている。
Claims (6)
- 4個のMOSトランジスタが基板上に形成された絶縁膜上に配列された複数のスタティック型メモリセルを備えた半導体記憶装置であって、
前記4個のMOSトランジスタの各々は、
メモリセルデータを保持するために電荷を供給すると共にメモリにアクセスするための第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタと、メモリセルのデータを書き込み及び読み出しするために記憶ノードを駆動する第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタとして機能し、
前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタにおいて、
P型の導電型を持つ第1の拡散層、第1の柱状半導体層及びP型の導電型を持つ第2の拡散層が、基板上に形成された絶縁膜上に垂直方向に階層的に配置され、前記第1の柱状半導体層は前記第1の柱状半導体層の底部に形成される前記第1の拡散層と前記第1の柱状半導体層の上部に形成される前記第2の拡散層の間に配置され、前記第1の柱状半導体層の側壁にゲート絶縁膜及びゲートが形成されており、
前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタにおいて、
N型の導電型を持つ第3の拡散層、第2の柱状半導体層及びN型の導電型を持つ第4の拡散層が、基板上に形成された絶縁膜上に垂直方向に階層的に配置され、前記第2の柱状半導体層は前記第2の柱状半導体層の底部に形成される前記第3の拡散層と前記第1の柱状半導体層の上部に形成される前記第4の拡散層の間に配置され、前記第2の柱状半導体層の側壁にゲート絶縁膜及びゲートが形成されており、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタ及び前記第1のNMOSのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
前記第2のPMOSのアクセストランジスタ及び前記第2のNMOSのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
データを保持する第1の記憶ノードとして機能する、前記第1のPMOSのアクセストランジスタの底部に形成されるP型の導電型を持つ前記第1の拡散層及び前記第1のNMOSのドライバトランジスタの底部に形成されるN型の導電型を持つ前記第3の拡散層を前記絶縁膜上に配置し、
前記第1の記憶ノードとして機能する、前記第1の拡散層、前記第3の拡散層は相互に接続され、
データを保持する第2の記憶ノードとして機能する、前記第2のPMOSのアクセストランジスタの底部に形成されるP型の導電型を持つ前記第1の拡散層及び前記第2のNMOSのドライバトランジスタの底部に形成されるN型の導電型を持つ前記第3の拡散層を前記絶縁膜上に配置し、
前記第2の記憶ノードとして機能する、前記第1の拡散層、前記第3の拡散層は相互に接続され、
前記第1及び前記第2のPMOSのドライバトランジスタのそれぞれのゲートは第1のゲート配線により互いに接続され、前記第1のゲート配線は隣接する複数のメモリセルにおける前記第1及び前記第2のPMOSのアクセストランジスタのそれぞれのゲートと互いに接続されることによりワード線を形成しており、
隣接する複数のメモリセルごとに、ワード線である前記第1のゲート配線上に第1のコンタクトが形成されることを特徴とする半導体記憶装置。 - 前記ワード線である前記第1のゲート配線上に前記第1のコンタクトが形成される領域において、メモリセルの領域と同様にピラーが配置されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。
- 前記第1のNMOSのドライバトランジスタのゲートより延在する第2のゲート配線が、前記第2の記憶ノードとして機能する拡散層と共通の第2のコンタクトにより接続され、
前記第2のNMOSのドライバトランジスタのゲートより延在する第3のゲート配線が、前記第1の記憶ノードとして機能する拡散層と共通の第3のコンタクトにより接続されることを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。 - 前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以上の値を持つこと、
又は前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以下の値を持つことを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。 - 前記4個のMOSトランジスタは、前記絶縁膜上に2行2列に配列され、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタは1行1列目に配列され、
前記第1のNMOSのドライバトランジスタは2行1列目に配列され、
前記第2のPMOSのアクセストランジスタは1行2列目に配列され、
前記第2のNMOSのドライバトランジスタは2行2列目に配列されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。 - 前記4個のMOSトランジスタは前記絶縁膜上に配列され、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタと前記第2のPMOSのアクセストランジスタは隣接して配列され、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタと前記第2のPMOSのアクセストランジスタの隣接方向に直交する一方の方向において前記第1のNMOSのドライバトランジスタは前記第1のPMOSのアクセストランジスタと隣接して配列され、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタと前記第2のPMOSのアクセストランジスタの隣接方向に直交する他方の方向において前記第2のNMOSのドライバトランジスタは前記第2のPMOSのアクセストランジスタと隣接して配列されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013537717A JPWO2013121536A1 (ja) | 2012-02-15 | 2012-02-15 | 半導体記憶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013537717A JPWO2013121536A1 (ja) | 2012-02-15 | 2012-02-15 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2013121536A1 true JPWO2013121536A1 (ja) | 2015-05-11 |
Family
ID=53194857
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013537717A Pending JPWO2013121536A1 (ja) | 2012-02-15 | 2012-02-15 | 半導体記憶装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPWO2013121536A1 (ja) |
-
2012
- 2012-02-15 JP JP2013537717A patent/JPWO2013121536A1/ja active Pending
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Legal Events
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