JPWO2013121537A1 - 半導体記憶装置 - Google Patents
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Abstract
縦型トランジスタSGTで構成されたLoadless4T−SRAMにおいて、小さいSRAMセル面積を実現する。4個のMOSトランジスタを用いて構成されたスタティック型メモリセルにおいて、前記MOSトランジスタはバルク基板上に形成されたドレイン、ゲート、ソースが垂直方向に配置されたSGTであり、アクセストランジスタのゲートをワードラインとして横方向に隣接する複数のセルで共通化し、ワードラインへのコンタクトを複数のセルごとに1個形成することにより、非常に小さいメモリセル面積を持つCMOS型Loadless4T−SRAMを実現することができる。
Description
本発明は半導体記憶装置に関し、特にSRAM(Static Random Access Memory)からなる半導体記憶装置に関する。
半導体装置の高集積化、高性能化を実現するため、半導体基板の表面に柱状半導体を形成し、その側壁に柱状半導体層を取り囲むように形成されたゲートを有する縦型ゲートトランジスタであるSGT(Surrounding Gate Transistor)が提案された(例えば、特許文献1:特開平2−188966号公報)。SGTではドレイン、ゲート、ソースが垂直方向に配置されるため、従来のプレーナー型トランジスタに比べて占有面積を大幅に縮小することができる。
SGTを用いてLSI(大規模集積回路)を構成する場合、それらのキャッシュ用メモリとしてSGTの組み合わせで構成されるSRAMを用いることが必須である。近年、LSIに搭載されるSRAMに対する大容量化の要求は非常に強いため、SGTを用いた場合にも小さいセル面積を持つSRAMを実現することが必須である。
特許文献2(特開2011−61110号公報)に4個のSGTを用いてバルク基板上に形成されたLoadless4T−SRAMが示されている。Loadless4T−SRAMの等価回路図を図1に示す。また、特許文献2のLoadless4T−SRAMの平面図を図20に、断面図を図21に示す。
図1に示したLoadless4T−SRAMの等価回路を用いて、Loadless4T−SRAMの動作原理について以下に示す。Loadless4T−SRAMはPMOSであるメモリにアクセスするための2個のアクセストランジスタとNMOSであるメモリを駆動するための2個のドライバトランジスタの計4個のトランジスタにより構成されている。
以下に図1のメモリセルの動作の一例として、記憶ノードQa1に“L”のデータが、記憶ノードQb1に“H”のデータが記憶されている場合のデータの保持動作について説明する。データ保持中はワード線WL1、ビット線BL1およびBLB1はすべて“H”電位に駆動されている。アクセストランジスタ(Qp11、Qp21)のオフリーク電流はドライバトランジスタのオフリーク電流より、例えば10倍〜1000倍程度大きくなるように設定されている。このため、記憶ノードQb1の“H”レベルはアクセストランジスタQp21を通してビット線BLB1から記憶ノードQb1にOffリーク電流が流れることにより保持される。一方、記憶ノードQa1の“L”レベルはドライバトランジスタQn11により安定して保持される。
図20に特許文献2の実施例1のSRAMメモリセルのレイアウト図を示す。SRAMセルアレイ内においては図20に示したユニットセルUCが繰り返し配置されている。図21(a)〜(d)に図20のレイアウト図のカットラインA−A’、B−B’、C−C’及びD−D’における断面構造をそれぞれ示す。
まず、図20及び図21を用いて特許文献2の実施例1のSRAMセルのレイアウトについて説明する。基板のSRAMセルアレイ内には第1のウェル601aであるn−wellが形成され、素子分離層602により基板上の拡散層は分離されている。基板上の拡散層により形成される第1の記憶ノードQa6は第1のp+拡散層603aと第1のn+拡散層604aにより形成され、基板表面に形成される第1のシリサイド層613aによって接続される。同様に、基板上の拡散層により形成される第2の記憶ノードQb6は第2のp+拡散層603bと第2のn+拡散層604bにより形成され、基板表面に形成される第2のシリサイド層613bによって接続される。第1のウェル601aであるn−wellと同一の導電型を持つn+拡散層から基板へのリークを抑制するために、第1のウェルの上部に第1のウェルと異なる導電型の拡散層である第1のリーク防止拡散層601bまたは第2のリーク防止拡散層601cが形成される。第1及び第2のリーク防止拡散層は素子分離層102により各々の基板上の拡散層ごとに分離されている。
Qp16およびQp26はPMOSであるメモリセルにアクセスするためのアクセストランジスタであり、Qn16およびQn26はNMOSであるメモリセルを駆動するドライバトランジスタである。
1つのユニットセルUCは、基板上に2行2列に配列されたトランジスタを備えている。1列目には、第1の記憶ノードQa6上に、図の上側からアクセストランジスタQp16及びドライバトランジスタQn16がそれぞれ配列されている。また、2列目には、第2の記憶ノードQb6上に、図の上側からアクセストランジスタQp26及びドライバトランジスタQn26がそれぞれ配列されている。本実施例のSRAMセルアレイは、このような4個のトランジスタを備えたユニットセルUCを図の上下方向に連続的に配列することにより構成される。
第1の記憶ノードQa6上に形成されるコンタクト610aはノード接続配線Na6によりドライバトランジスタQn26のゲート電極より延在するゲート配線上に形成されるコンタクト611bと接続される。また、第2の記憶ノードQb6上に形成されるコンタクト610bはノード接続配線Nb6によりドライバトランジスタQn16のゲート電極より延在するゲート配線上に形成されるコンタクト611aと接続される。アクセストランジスタQp16上部に形成されるコンタクト606aはビット線BL6に接続され、アクセストランジスタQp26上部に形成されるコンタクト606bはビット線BLB6に接続される。アクセストランジスタQp16及びアクセストランジスタQp26のゲート電極から延在するゲート配線上に形成される共通のコンタクト607はワード線WL6に接続される。ドライバトランジスタ(Qn16、Qn26)上部に形成されるコンタクト(608a、608b)は接地電位である配線層Vss6に接続される。
続いて、図21の断面図を用いて特許文献2のSRAMセルの構造について説明する。図21(a)に示されるように、基板にSRAMセルアレイに共通な第1のウェル601aであるn−wellが形成され、素子分離層602により基板上の拡散層が分離されている。基板上の拡散層により形成される第1の記憶ノードQa6には不純物注入等により第1のp+ドレイン拡散層603aが形成され、基板上の拡散層により形成される第2の記憶ノードQb6には不純物注入等により第2のp+ドレイン拡散層603bが形成されている。また、第1、第2のp+ドレイン拡散層(603a、603b)上には第1、第2のシリサイド層(613a、613b)がそれぞれ形成されている。p+ドレイン拡散層603a上にアクセストランジスタQp16を構成する柱状シリコン層621aが形成され、p+ドレイン拡散層603b上にアクセストランジスタQp26を構成する柱状シリコン層621bが形成される。
それぞれの柱状シリコン層の周囲にはゲート絶縁膜617およびゲート電極618が形成されている。柱状シリコン層上部にはp+ソース拡散層616が不純物注入などにより形成され、ソース拡散層表面にはシリサイド層615が形成されている。アクセストランジスタQp16上に形成されるコンタクト606aはビット線BL6に接続され、アクセストランジスタQp26上に形成されるコンタクト606bはビット線BLB6に接続され、アクセストランジスタQp16およびQp26のゲートより延在するゲート配線618a上に形成されるコンタクト607はワード線WL6に接続される。
図21(b)に示されるように、基板にSRAMセルアレイに共通な第1のウェル601aであるn−wellが形成され、素子分離層602により基板上の拡散層が分離されている。基板上の拡散層により形成される第1の記憶ノードQa6には不純物注入等により第1のn+ドレイン拡散層604aが形成され、基板上の拡散層により形成される第2の記憶ノードQb6には不純物注入等により第2のn+ドレイン拡散層604bが形成されている。また、第1、第2のn+ドレイン拡散層上には第1、第2のシリサイド層(613a、613b)がそれぞれ形成されている。第1のドレイン拡散層604a上に形成されるコンタクト611aは第1のp+ドレイン拡散層603aと第1のn+ドレイン拡散層604aの境界付近上に形成され、記憶ノード接続配線Nb6を通じてドライバトランジスタQn16のゲート電極から延在するゲート配線618b上に形成されるコンタクト611aに接続される。
第1のウェルと同一の導電型を持つ第1のn+拡散層604aから基板へのリークを抑制するために、第1のn+拡散層の下部かつ第1のウェルの上部に第1のウェルと異なる導電型を持つ第1のリーク防止拡散層601bが形成され、第1のウェルと同一の導電型を持つ第2のn+拡散層604bから基板へのリークを抑制するために、第2のn+拡散層の下部かつ第1のウェルの上部に第1のウェルと異なる導電型を持つ第2のリーク防止拡散層601cが形成される。
図21(c)に示されるように、基板にSRAMセルアレイに共通な第1のウェルであるn−wellが形成され、素子分離層602により基板上の拡散層が分離されている。基板上の拡散層により形成される第1の記憶ノードQa6には不純物注入等により第1のn+ドレイン拡散層604aが形成され、基板上の拡散層により形成される第2の記憶ノードQb6には不純物注入等により第2のn+ドレイン拡散層604bが形成されている。また、第1、第2のn+ドレイン拡散層(604a、604b)表面には第1、第2のシリサイド層(613a、613b)がそれぞれ形成されている。第1のウェルと同一の導電型を持つ第1のn+拡散層604aから基板へのリークを抑制するために、第1のn+拡散層の下部かつ第1のウェルの上部に第1のウェルと異なる導電型を持つ第1のリーク防止拡散層601bが形成され、第1のウェルと同一の導電型を持つ第2のn+拡散層604bから基板へのリークを抑制するために、第2のn+拡散層の下部かつ第1のウェルの上部には第1のウェルと異なる導電型を持つ第2のリーク防止拡散層601cが形成される。
第1のn+ドレイン拡散層604aにドライバトランジスタQn16を形成する柱状シリコン層622aが形成され、第2のn+ドレイン拡散層604bにドライバトランジスタQn26を形成する柱状シリコン層622bが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にゲート絶縁膜617およびゲート電極618が形成されている。柱状シリコン層上部にはn+ソース拡散層614が不純物注入などにより形成され、ソース拡散層表面にはシリサイド層615が形成されている。ドライバトランジスタ(Qn16、Qn26)上に形成されるコンタクト(608a、608b)はともに配線層を通して接地電位Vss6に接続される。
図21(d)に示されるように、基板にSRAMセルアレイに共通な第1のウェルであるn−wellが形成され、素子分離層602により基板上の拡散層が分離されている。基板上の拡散層により形成される第2の記憶ノードQb6には不純物注入等により、第2のp+ドレイン拡散層603bおよび第2のn+ドレイン拡散層604bが形成される。ドレイン拡散層上には第2のシリサイド層613bが形成され、第2のシリサイド層613bによって第2のp+ドレイン拡散層603bと第2のn+ドレイン拡散層604bは直接接続されている。第1のウェルと同一の導電型を持つ第2のn+拡散層604bから基板へのリークを抑制するために、第2のn+拡散層の下部かつ第1のウェルの上部に第1のウェル601aと異なる導電型を持つ第2のリーク防止拡散層が形成される。
第2のp+ドレイン拡散層603b上にアクセストランジスタQp26を構成する柱状シリコン層622bが形成され、第2のn+ドレイン拡散層604b上にドライバトランジスタQn26を構成する柱状シリコン層622bが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にゲート絶縁膜617およびゲート電極618が形成され、それぞれの柱状シリコン層上部にはソース拡散層が不純物注入などにより形成され、ソース拡散層表面にはシリサイド層615が形成されている。アクセストランジスタQp26上に形成されるコンタクト608bはビット線BLB6に接続され、ドライバトランジスタQn26上に形成されるコンタクト608bは電源電位配線Vss6に接続される。
ドライバトランジスタQn26のゲート電極から延在するゲート配線618c上にはコンタクト610bが形成され、コンタクト610bは記憶ノード接続配線Na6を通じて第1のドレイン拡散層上に形成されるコンタクト611aに接続される。第2のn+ドレイン拡散層604b上にはコンタクト611bが形成され、記憶ノード接続配線Nb6を通じてドライバトランジスタQn16のゲート電極から延在するゲート配線618b上に形成されたコンタクト611aに接続される。
図20及び図21の4T−SRAMセルにおいては、アクセストランジスタ間のゲート上に形成されるワード線コンタクトにより、上下方向にデッドスペースが発生し、効率的に小さいSRAMセルを形成することができない。
本発明は上記の事情に鑑みてなされたものであり、従来提案されていたSGTを用いたLoadless4T−SRAMより、さらにセル面積の小さいSGTを用いたLoadless4T−SRAMセルを実現することを目的とする。
本発明に係る半導体記憶装置は、
4個のMOSトランジスタが基板上に配列された複数のスタティック型メモリセルを備えた半導体記憶装置であって、
前記4個のMOSトランジスタの各々は、メモリセルデータを保持するために電荷を供給すると共にメモリにアクセスするための第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタと、メモリセルのデータを読み出しするために記憶ノードを駆動する第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタとして機能し、
メモリセルデータを保持するために電荷を供給すると共にメモリにアクセスするための第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタは、
P型の第1の拡散層、第1の柱状半導体層及びP型の第2の拡散層が、基板上に垂直方向に階層的に配置され、前記第1の柱状半導体層は前記第1の柱状半導体層の底部に形成される前記第1の拡散層と前記第1の柱状半導体層の上部に形成される前記第2の拡散層の間に配置され、前記第1の柱状半導体層の側壁に第1のゲートが形成されており、
メモリセルのデータを読み出しするために記憶ノードを駆動する第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタは、
N型の第3の拡散層、第2の柱状半導体層及びN型の第4の拡散層が、基板上に垂直方向に階層的に配置され、前記第2の柱状半導体層は前記第2の柱状半導体層の底部に形成される前記第3の拡散層と前記第1の柱状半導体層の上部に形成される前記第4の拡散層の間に配置され、前記第2の柱状半導体層の側壁に第2のゲートが形成されており、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタ及び前記第1のNMOSのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
前記第2のPMOSのアクセストランジスタ及び前記第2のNMOSのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
前記基板には該基板に電位を与えるための複数のメモリセルに共通の第1のウェルが形成され、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタの底部に形成される前記P型の第1の拡散層及び前記第1のNMOSのドライバトランジスタの底部に形成される前記N型の第3の拡散層は相互に接続され、
前記相互に接続された前記P型の第1の拡散層及びN型の第3の拡散層は、メモリセルに記憶されるデータを保持するための第1の記憶ノードとして機能し、
前記N型の第3の拡散層又はP型の第1の拡散層と前記第1のウェル間のリークを防止するために、前記N型の第3の拡散層又はP型の第1の拡散層と前記第1のウェルの間に前記第1のウェルと反対の導電型を持つ第1のリーク防止拡散層の底部が素子分離層より浅くなるように形成され、
前記第1のリーク防止拡散層は、前記P型の第1の拡散層又はN型の第3の拡散層と直接接続され、
前記第2のPMOSのアクセストランジスタの底部に形成される前記P型の第1の拡散層及び前記第2のNMOSのドライバトランジスタの底部に形成される前記N型の第3の拡散層は相互に接続され、
前記相互に接続された前記P型の第1の拡散層及びN型の第3の拡散層は、メモリセルに記憶されるデータを保持するための第2の記憶ノードとして機能し、
前記N型の第3の拡散層又はP型第1の拡散層と前記第1のウェル間のリークを防止するために、前記N型の第3の拡散層又はP型の第1の拡散層と前記第1のウェルの間に前記第1のウェルと反対の導電型を持つ第2のリーク防止拡散層の底部が素子分離層より浅くなるように形成され、
前記第2のリーク防止拡散層は、前記P型の第1の拡散層又はN型の第3の拡散層と直接接続されており、
前記第1及び前記第2のPMOSのドライバトランジスタのそれぞれのゲートは第1のゲート配線により互いに接続され、前記第1のゲート配線は隣接する2以上の複数のメモリセルにおける前記第1及び前記第2のPMOSのアクセストランジスタのそれぞれのゲートと互いに接続されることによりワード線を形成しており、
2以上の隣接する複数のメモリセルごとに、ワード線である前記第1のゲート配線上に第1のコンタクトが形成されることを特徴とする。
4個のMOSトランジスタが基板上に配列された複数のスタティック型メモリセルを備えた半導体記憶装置であって、
前記4個のMOSトランジスタの各々は、メモリセルデータを保持するために電荷を供給すると共にメモリにアクセスするための第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタと、メモリセルのデータを読み出しするために記憶ノードを駆動する第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタとして機能し、
メモリセルデータを保持するために電荷を供給すると共にメモリにアクセスするための第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタは、
P型の第1の拡散層、第1の柱状半導体層及びP型の第2の拡散層が、基板上に垂直方向に階層的に配置され、前記第1の柱状半導体層は前記第1の柱状半導体層の底部に形成される前記第1の拡散層と前記第1の柱状半導体層の上部に形成される前記第2の拡散層の間に配置され、前記第1の柱状半導体層の側壁に第1のゲートが形成されており、
メモリセルのデータを読み出しするために記憶ノードを駆動する第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタは、
N型の第3の拡散層、第2の柱状半導体層及びN型の第4の拡散層が、基板上に垂直方向に階層的に配置され、前記第2の柱状半導体層は前記第2の柱状半導体層の底部に形成される前記第3の拡散層と前記第1の柱状半導体層の上部に形成される前記第4の拡散層の間に配置され、前記第2の柱状半導体層の側壁に第2のゲートが形成されており、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタ及び前記第1のNMOSのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
前記第2のPMOSのアクセストランジスタ及び前記第2のNMOSのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
前記基板には該基板に電位を与えるための複数のメモリセルに共通の第1のウェルが形成され、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタの底部に形成される前記P型の第1の拡散層及び前記第1のNMOSのドライバトランジスタの底部に形成される前記N型の第3の拡散層は相互に接続され、
前記相互に接続された前記P型の第1の拡散層及びN型の第3の拡散層は、メモリセルに記憶されるデータを保持するための第1の記憶ノードとして機能し、
前記N型の第3の拡散層又はP型の第1の拡散層と前記第1のウェル間のリークを防止するために、前記N型の第3の拡散層又はP型の第1の拡散層と前記第1のウェルの間に前記第1のウェルと反対の導電型を持つ第1のリーク防止拡散層の底部が素子分離層より浅くなるように形成され、
前記第1のリーク防止拡散層は、前記P型の第1の拡散層又はN型の第3の拡散層と直接接続され、
前記第2のPMOSのアクセストランジスタの底部に形成される前記P型の第1の拡散層及び前記第2のNMOSのドライバトランジスタの底部に形成される前記N型の第3の拡散層は相互に接続され、
前記相互に接続された前記P型の第1の拡散層及びN型の第3の拡散層は、メモリセルに記憶されるデータを保持するための第2の記憶ノードとして機能し、
前記N型の第3の拡散層又はP型第1の拡散層と前記第1のウェル間のリークを防止するために、前記N型の第3の拡散層又はP型の第1の拡散層と前記第1のウェルの間に前記第1のウェルと反対の導電型を持つ第2のリーク防止拡散層の底部が素子分離層より浅くなるように形成され、
前記第2のリーク防止拡散層は、前記P型の第1の拡散層又はN型の第3の拡散層と直接接続されており、
前記第1及び前記第2のPMOSのドライバトランジスタのそれぞれのゲートは第1のゲート配線により互いに接続され、前記第1のゲート配線は隣接する2以上の複数のメモリセルにおける前記第1及び前記第2のPMOSのアクセストランジスタのそれぞれのゲートと互いに接続されることによりワード線を形成しており、
2以上の隣接する複数のメモリセルごとに、ワード線である前記第1のゲート配線上に第1のコンタクトが形成されることを特徴とする。
上記発明に係る半導体記憶装置において、前記ワード線である前記第1のゲート配線上に前記第1のコンタクトが形成される領域において、メモリセルと同様にピラーを配置することができる。
上記発明に係る半導体記憶装置において、
前記第1のNMOSのドライバトランジスタのゲートより延在する第2のゲート配線が、前記第2の記憶ノードとして機能する拡散層と共通の第2のコンタクトにより接続され、
前記第2のNMOSのドライバトランジスタのゲートより延在する第3のゲート配線が、前記第1の記憶ノードとして機能する拡散層と共通の第3のコンタクトにより接続されるようにすることができる。
前記第1のNMOSのドライバトランジスタのゲートより延在する第2のゲート配線が、前記第2の記憶ノードとして機能する拡散層と共通の第2のコンタクトにより接続され、
前記第2のNMOSのドライバトランジスタのゲートより延在する第3のゲート配線が、前記第1の記憶ノードとして機能する拡散層と共通の第3のコンタクトにより接続されるようにすることができる。
上記発明に係る半導体記憶装置において、
前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以上の値を持つこと、
又は、
又は前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以下の値を持つこととすることができる。
前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以上の値を持つこと、
又は、
又は前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以下の値を持つこととすることができる。
上記発明に係る半導体記憶装置において、
前記4個のMOSトランジスタは、前記絶縁膜上に2行2列に配列され、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタは1行1列目に配列され、
前記第1のNMOSのドライバトランジスタは2行1列目に配列され、
前記第2のPMOSのアクセストランジスタは1行2列目に配列され、
前記第2のNMOSのドライバトランジスタは2行2列目に配列されていることとすることができる。
前記4個のMOSトランジスタは、前記絶縁膜上に2行2列に配列され、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタは1行1列目に配列され、
前記第1のNMOSのドライバトランジスタは2行1列目に配列され、
前記第2のPMOSのアクセストランジスタは1行2列目に配列され、
前記第2のNMOSのドライバトランジスタは2行2列目に配列されていることとすることができる。
上記発明に係る半導体記憶装置において、
前記4個のMOSトランジスタは、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタと前記第2のPMOSのアクセストランジスタは隣接して配列され、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタと前記第2のPMOSのアクセストランジスタの隣接方向に直交する一方の方向において前記第1のNMOSのドライバトランジスタは前記第1のPMOSのアクセストランジスタと隣接して配列され、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタと前記第2のPMOSのアクセストランジスタの隣接方向に直交する他方の方向において前記第2のNMOSのドライバトランジスタは前記第2のPMOSのアクセストランジスタと隣接して配列されていることとすることができる。
前記4個のMOSトランジスタは、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタと前記第2のPMOSのアクセストランジスタは隣接して配列され、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタと前記第2のPMOSのアクセストランジスタの隣接方向に直交する一方の方向において前記第1のNMOSのドライバトランジスタは前記第1のPMOSのアクセストランジスタと隣接して配列され、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタと前記第2のPMOSのアクセストランジスタの隣接方向に直交する他方の方向において前記第2のNMOSのドライバトランジスタは前記第2のPMOSのアクセストランジスタと隣接して配列されていることとすることができる。
〔実施例1〕
図1に本発明に用いたLoadless4T−SRAMのメモリセルの等価回路図を示す。図1において、BL1およびBLB1はビット線、WL1はワード線、Vss1は接地電位、Qp11およびQp21はメモリセルにアクセスするためおよび記憶ノードを“H”にチャージする機能を備えたアクセストランジスタ、Qn11およびQn21はメモリセルのデータをReadするために記憶ノードを駆動するドライバトランジスタ、Qa1およびQb1はデータを記憶するための記憶ノードを示している。
図1に本発明に用いたLoadless4T−SRAMのメモリセルの等価回路図を示す。図1において、BL1およびBLB1はビット線、WL1はワード線、Vss1は接地電位、Qp11およびQp21はメモリセルにアクセスするためおよび記憶ノードを“H”にチャージする機能を備えたアクセストランジスタ、Qn11およびQn21はメモリセルのデータをReadするために記憶ノードを駆動するドライバトランジスタ、Qa1およびQb1はデータを記憶するための記憶ノードを示している。
図2に本発明の実施例1におけるSRAMメモリセルのレイアウト図を示す。SRAMセルアレイ内においては図2に示したユニットセルUCが繰り返し配置されている。図4(a)〜(d)に図2のレイアウト図のカットラインA−A’、B−B’、C−C’及びD−D’における断面構造をそれぞれ示す。
まず図2及び図4を参考にして本実施例のレイアウトについて説明する。基板のSRAMセルアレイ内には第1のウェル101aであるn−wellが形成され、酸化膜などの絶縁膜によりなる素子分離層102により基板上の拡散層は分離されている。基板上の拡散層により形成される第1の記憶ノードQa1は第1のp+拡散層103aと第1のn+拡散層104aにより形成され、基板表面に形成される第1のシリサイド層113aによって接続される。同様に、基板上の拡散層により形成される第2の記憶ノードQb1は第2のp+拡散層103bと第2のn+拡散層104bにより形成され、基板表面に形成される第2のシリサイド層113bによって接続される。第1のウェル101aであるn−wellと同一の導電型を持つn+拡散層から基板へのリークを抑制するために、第1及び第2のn+拡散層の下部かつ第1のウェル101aの上部に第1のウェルと異なる導電型を持つ第2のリーク防止拡散層101b及び第3のリーク防止拡散層101cが形成される。第1及び第2のリーク防止拡散層は素子分離層102により各々の基板上の拡散層ごとに分離されている。
Qp11およびQp21はPMOSであるメモリセルにアクセスするためのアクセストランジスタであり、Qn11およびQn21はNMOSであるメモリセルを駆動するドライバトランジスタである。
本実施例では、1つのユニットセルUCは、基板上に2行2列に配列されたトランジスタを備えている。1列目には、第1の記憶ノードQa1上に、図の上側からアクセストランジスタQp11及びドライバトランジスタQn11がそれぞれ配列されている。また、2列目には、第2の記憶ノードQb1上に、図の上側からアクセストランジスタQp21及びドライバトランジスタQn21がそれぞれ配列されている。本実施例のSRAMセルアレイは、このような4個のトランジスタを備えたユニットセルUCを図の上下方向に連続的に配列することにより構成される。
第1の記憶ノードQa1上に形成されるコンタクト110aはノード接続配線Na1によりドライバトランジスタQn21のゲート電極より延在するゲート配線上に形成されるコンタクト111bと接続される。また、第2の記憶ノードQb1上に形成されるコンタクト110bはノード接続配線Nb1によりドライバトランジスタQn11のゲート電極より延在するゲート配線上に形成されるコンタクト111aと接続される。アクセストランジスタQp11上部に形成されるコンタクト106aはビット線BL1に接続され、アクセストランジスタQp21上部に形成されるコンタクト106bはビット線BLB1に接続される。アクセストランジスタQp11およびQp21のゲート電極から延在するゲート配線118aはワード線として横方向に隣接する複数のメモリセルに接続されている。ドライバトランジスタ(Qn11、Qn21)上部に形成されるコンタクト(108a、108b)は接地電位である配線層Vss1に接続される。
ビット線の配線及び接地電位の配線は、他のメモリセルの配線と共用するために、望ましくは、各メモリセル内での配線であるノード接続配線より上位の層で接続される。
なお、上記の階層的な配線の構成の一例として、各配線が接触すべきでないコンタクトと接触しないように、ノード接続配線(Na1)、ノード接続配線(Nb1)、及び接地電位の配線Vss1は、ビット線(BL1、BLB1)より下位の層で配線する構成が実現可能である。
図2にn+注入領域125およびp+注入領域124を示す。本実施例のSRAMセルアレイ領域においてはn+注入領域125およびp+注入領域124を形成するパターンは単純なライン&スペースにより形成される。このため寸法ズレや位置合わせのズレの影響が小さく、n+注入領域とp+注入領域の境界付近の寸法のマージンを最小に抑えることができ、図面上で言えば、SRAMセルの縦方向の長さ(各SRAMセルの接続方向の長さ)の縮小に有効である。
図3(a)に複数のSRAMメモリセルからなるSRAMメモリセルアレイの一部の平面図を示す。同図におけるCell array Areaにおいては複数のメモリセルが横方向に配置されており、横方向に配置された複数のメモリセルにおいて、ワード線118aが共通化されている。ワード線はContact Areaに形成されたコンタクト107により上層の配線に接続され、必要に応じて配線層で裏打ちされる。このため、特許文献2のSRAMセルとは異なり、各々のセルにワード線へのコンタクトを形成する必要がないので、SRAMセル面積を縮小することができる。
ワード線118aに複数のセルを接続することにより、ワード線コンタクト107から遠い側のセルにおいてはワード線の信号の遅延による読み出しや書き込みの遅延が問題になる可能性がある。このため、ワード線に接続するセルの数は読み出しや書き込みの遅延が問題ない範囲で決めることができる。
図3(b)に他の場合における複数のSRAMセルからなるSRAMセルアレイの一部の平面図を示す。図におけるCell array Areaにおいても同様に、複数のメモリセルが横方向に配置されており、横方向に配置されたメモリセルにおいて、ワード線118aが共通化されている。しかし、図3(b)においてはContact Areaにおいても、Cell array Areaと同様にピラーが配置されている。このようにContact Areaにおいてもピラーをメモリセル領域と同じパターンで配置することにより、Contact AreaにおいてもCell array内と同じピラー配置の規則性を保つことができるため、Contact Areaに隣接するピラーとContact Areaに隣接していないピラー間の寸法の差を小さくすることができ、Contact Areaに隣接するSGTの特性とContact Areaに隣接していないSGT特性の誤差を最小限に抑えることができる。
図3(a)(b)においては、一例として実施例1のレイアウトを用いてワード線及びワード線コンタクトの構成について述べたが、実際には実施例1のレイアウトに限定されるものではなく、他の実施例のレイアウトにおいても同様なワード線及びワード線コンタクトの構成を適用することができる。
本発明において、SRAMを構成する各トランジスタのソースおよびドレインを以下のように定義する。ドライバトランジスタ(Qn11、Qn21)については、接地電圧に接続される柱状半導体層の上部に形成される拡散層をソース拡散層、柱状半導体層の下部に形成される拡散層をドレイン拡散層と定義する。アクセストランジスタ(Qp11、Qp21)については、動作状態によっては柱状半導体層の上部に形成される拡散層および下部に形成される拡散層がともにソースまたはドレインになるが、便宜的に柱状半導体層の上部に形成される拡散層をソース拡散層、柱状半導体層の下部に形成される拡散層をドレイン拡散層と定義する。
続いて、図4の断面構造を参照して本発明のSRAMの構造について説明する。図4(a)に示されるように、基板にSRAMセルアレイに共通な第1のウェル101aであるn−wellが形成され、酸化膜などの絶縁膜により形成される素子分離層102により基板上の拡散層が分離されている。基板上の拡散層により形成される第1の記憶ノードQa1には不純物注入等により第1のp+ドレイン拡散層103aが形成され、基板上の拡散層により形成される第2の記憶ノードQb1には不純物注入等により第2のp+ドレイン拡散層103bが形成されている。また、第1、第2のp+ドレイン拡散層(103a、103b)上には第1、第2のシリサイド層(113a、113b)がそれぞれ形成されている。p+ドレイン拡散層103a上にアクセストランジスタQp11を構成する柱状シリコン層121aが形成され、p+ドレイン拡散層103b上にアクセストランジスタQp21を構成する柱状シリコン層121bが形成される。
それぞれの柱状シリコン層の周囲にはゲート絶縁膜117およびゲート電極118が形成されている。柱状シリコン層上部にはp+ソース拡散層116が不純物注入などにより形成され、ソース拡散層表面にはシリサイド層115が形成されている。アクセストランジスタQp11上に形成されるコンタクト106aはビット線BL1に接続され、アクセストランジスタQp21上に形成されるコンタクト106bはビット線BLB1に接続される。アクセストランジスタQp11およびQp21のゲート電極から延在するゲート配線118aはワード線として横方向に隣接する複数のメモリセルに接続されている。
図4(b)に示されるように、基板にSRAMセルアレイに共通な第1のウェル101aであるn−wellが形成され、酸化膜などの絶縁膜により形成される素子分離層102により基板上の拡散層が分離されている。基板上の拡散層により形成される第1の記憶ノードQa1には不純物注入等により第1のn+ドレイン拡散層104aが形成され、基板上の拡散層により形成される第2の記憶ノードQb1には不純物注入等により第2のn+ドレイン拡散層104bが形成されている。また、第1、第2のn+ドレイン拡散層上には第1、第2のシリサイド層(113a、113b)がそれぞれ形成されている。第1のドレイン拡散層104a上に形成されるコンタクト111aは第1のp+ドレイン拡散層103aと第1のn+ドレイン拡散層104aの境界付近上に形成され、記憶ノード接続配線Na1を通じてドライバトランジスタQn11のゲート電極から延在するゲート配線118b上に形成されるコンタクト111aに接続される。
第1のウェルと同一の導電型を持つ第1のn+拡散層104aから基板へのリークを抑制するために、第1のn+拡散層の下部かつ第1のウェルの上部には第1のウェルと異なる導電型を持つ第1のリーク防止拡散層101bが形成され、第1のウェルと同一の導電型を持つ第2のn+拡散層104bから基板へのリークを抑制するために、第2のn+拡散層の下部かつ第1のウェルの上部には第1のウェルと異なる導電型を持つ第2のリーク防止拡散層101cが形成される。第1及び第2のリーク防止拡散層の底部は素子分離層の底部より浅く形成されており、第1及び第2のリーク防止拡散層は素子分離層により分離されている。
図4(c)に示されるように、基板にSRAMセルアレイに共通な第1のウェルであるn−wellが形成され、素子分離層102により基板上の拡散層が分離されている。基板上の拡散層により形成される第1の記憶ノードQa1には不純物注入等により第1のn+ドレイン拡散層104aが形成され、基板上の拡散層により形成される第2の記憶ノードQb1には不純物注入等により第2のn+ドレイン拡散層104bが形成されている。また、第1、第2のn+ドレイン拡散層(104a、104b)表面には第1、第2のシリサイド層(113a、113b)がそれぞれ形成されている。第1のウェルと同一の導電型を持つ第1のn+拡散層104aから基板へのリークを抑制するために、第1のn+拡散層の下部かつ第1のウェルの上部には第1のウェルと異なる導電型を持つ第1のリーク防止拡散層101bが形成され、第1のウェルと同一の導電型を持つ第2のn+拡散層104bから基板へのリークを抑制するために、第2のn+拡散層の下部かつ第1のウェルの上部には第1のウェルと異なる導電型を持つ第2のリーク防止拡散層101cが形成される。第1及び第2のリーク防止拡散層の底部は素子分離層の底部より浅く形成されており、第1及び第2のリーク防止拡散層は素子分離層により分離されている。
第1のn+ドレイン拡散層104aにドライバトランジスタQn11を形成する柱状シリコン層122aが形成され、第2のn+ドレイン拡散層104bにドライバトランジスタQn21を形成する柱状シリコン層122bが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にゲート絶縁膜117およびゲート電極118が形成されている。柱状シリコン層上部にはn+ソース拡散層114が不純物注入などにより形成され、ソース拡散層表面にはシリサイド層115が形成されている。ドライバトランジスタ(Qn11、Qn21)上に形成されるコンタクト(108a、108b)はともに配線層を通して接地電位Vss1に接続される。
図4(d)に示されるように、基板にSRAMセルアレイに共通な第1のウェルであるn−wellが形成され、素子分離層102により基板上の拡散層が分離されている。基板上の拡散層により形成される第2の記憶ノードQb1には不純物注入等により、第2のp+ドレイン拡散層103bおよび第2のn+ドレイン拡散層104bが形成される。ドレイン拡散層上には第2のシリサイド層113bが形成され、第2のシリサイド層113bによって第2のp+ドレイン拡散層103bと第2のn+ドレイン拡散層104bは直接接続されている。第1のウェルと同一の導電型を持つ第2のn+拡散層104bから基板へのリークを抑制するために、第2のn+拡散層の下部かつ第1のウェルの上部には第1のウェル101aと異なる導電型を持つ第2のリーク防止拡散層101cが形成される。本実施例においてはシリサイドによってN+ソース拡散層とP+ソース拡散層が接続されているが、N+ソース拡散層とP+ソース拡散層間の接触抵抗が十分小さい場合にはシリサイドを形成する必要はない。また、シリサイドでN+ソース拡散層とP+ソース拡散層を接続する代わりにコンタクトでN+ソース拡散層とP+ソース拡散層で裏打ちすることによって接続したり、他の方法でN+ソース拡散層とP+ソース拡散層を接続してもよい。
図4(e)に図3(a)のE−E’における断面構造を示す。基板上に左側のセル及び右側のセルのシリコン層よりなるP+ソース拡散層103が形成されている。それぞれのソース拡散層上にはシリサイド層113が形成されている。それぞれのP+ソース拡散層領域103上にアクセストランジスタを形成する柱状シリコン層121が形成され、P+ソース拡散層領域103上にアクセストランジスタを形成する柱状シリコン層121が形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にはゲート絶縁膜117およびゲート電極118が形成されている。柱状シリコン層上部にはP+ドレイン拡散層領域116が不純物注入などにより形成され、ドレイン拡散層領域表面にはシリサイド層115が形成されている。それぞれのアクセストランジスタ上に形成されるコンタクト106はビット線に接続され、ワード線118a上に形成されるコンタクト107は上層の配線層により形成されるより低抵抗なワード線に接続される。
第2のp+ドレイン拡散層103b上にアクセストランジスタQp21を構成する柱状シリコン層122bが形成され、第2のn+ドレイン拡散層104b上にドライバトランジスタQn21を構成する柱状シリコン層122bが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にゲート絶縁膜117およびゲート電極118が形成され、それぞれの柱状シリコン層上部にはソース拡散層が不純物注入などにより形成され、ソース拡散層表面にはシリサイド層115が形成されている。アクセストランジスタQp21上に形成されるコンタクト106bはビット線BLB1に接続され、ドライバトランジスタQn21上に形成されるコンタクト108bは電源電位配線Vss1に接続される。
ドライバトランジスタQn21のゲート電極から延在するゲート配線118c上にはコンタクト111bが形成され、コンタクト111bは記憶ノード接続配線Na1を通じて第1のドレイン拡散層上に形成されるコンタクト110aに接続される。第2のn+ドレイン拡散層104b上または第2のp+ドレイン拡散層103b上にはコンタクト110bが形成され、記憶ノード接続配線Nb1を通じてドライバトランジスタQn11のゲート電極から延在するゲート配線118b上に形成されたコンタクト111aに接続される。
図5(a)〜(d)に示されるように、第1のウェル201aがp−wellであり、p+拡散層と第1のウェルとの間に第1のリーク防止拡散層201b及び第2のリーク防止拡散層201cであるN型拡散層が形成される構造においても、同様にSRAMセルを形成することができる。この場合には、p+ドレイン拡散層203aの下部かつ第1のウェルの上部に第1のリーク防止拡散層201bが形成され、p+ドレイン拡散層203bの下部かつと第1のウェルの上部に第2のリーク防止拡散層201cが形成されることにより、拡散層から第1のウェルへのリークを抑制することができる。
以下に本発明の半導体装置を形成するための製造方法の一例を図6〜図14を参照して説明する。各図において(a)は平面図、(b)はD−D’間の断面図を示している。
図6に示されるように、基板上にシリコン窒化膜等を成膜して、柱状シリコン層(121a、122a、121b、122b)のパターンをリソグラフィーにより形成し、エッチングすることにより、シリコン窒化膜マスク119および柱状シリコン層(121a、122a、121b、122b)を形成する。続いて、不純物注入などにより、SRAMセルアレイ内に第1のウェル101aであるn−wellを形成する。
図7に示されるように、素子分離層102を形成する。素子分離層は、まず溝パターンをエッチングして、CVD等により溝パターンに酸化膜などの絶縁膜を埋め込み、余分な基板上の酸化膜をドライエッチやウェットエッチなどにより取り除く方法等により形成する。これにより、基板上に第1の記憶ノードQa1および第2の記憶ノードQb1となる拡散層のパターンが形成される。
図8に示されるように、p+注入領域124およびn+注入領域125にそれぞれイオン注入などにより不純物を導入し、基板上に柱状シリコン層下部のドレイン拡散層(103a、103b、104a、104b)を形成する。第1のウェル101aであるn−wellと同一の導電型を持つn+拡散層104bから基板へのリークを抑えるために第2のリーク防止拡散層101cが形成される。第2のリーク防止拡散層101cはn+注入領域125のマスクを用いて不純物注入などを行うことなどにより形成することができる。
図9に示されるように、ゲート絶縁膜117およびゲート導電膜118を成膜する。ゲート絶縁膜117は酸化膜やHigh−k膜により形成される。また、ゲート導電膜はポリシリコンや金属膜またはそれらの積層構造により形成される。
図10に示されるように、レジスト等133を用いて、リソグラフィーによりゲート配線パターンを形成する。
図11に示されるように、レジスト133をマスクにして、ゲート導電膜117及びゲート絶縁膜118をエッチングし、除去する。これによりゲート配線(118a〜118c)が形成される。その後、ピラー上のマスク119を除去する。
図12に示されるように、シリコン窒化膜等の絶縁膜を成膜後、エッチバックして、柱状シリコン層の側壁およびゲート電極の側壁をシリコン窒化膜等の絶縁膜134で覆う構造にする。
図13に示されるようにp+注入領域124およびn+注入領域125にそれぞれイオン注入などにより不純物を導入し、柱状シリコン層上部のソース拡散層(114、116)を形成する。続いて、Niなどの金属をスパッタして、熱処理を行うことにより、ドレイン拡散層上のシリサイド層(113a、113b)および柱状シリコン層上部のソース拡散層上のシリサイド層115を形成する。
ここで、柱状シリコン層およびゲート電極の側壁を覆っているシリコン窒化膜等の絶縁膜134により、シリサイド層に起因するドレイン−ゲート間およびソース−ゲート間のショートを抑制することができる。
図14に示されるように、層間膜であるシリコン酸化膜を形成後にコンタクト(106a、106b、108a、108b、110a、110b、111a、111b)を形成する。
〔実施例2〕
図15に実施例2のSRAMレイアウトを示す。本実施例において実施例1と異なる点は、アクセストランジスタを形成する柱状シリコン層の形状とドライバトランジスタを形成する柱状シリコン層の大きさが異なる点である。本発明のLoadless4T−SRAMでは、アクセストランジスタのリーク電流をドライバトランジスタのリーク電流より大きく設定する必要がある。アクセストランジスタのリーク電流を増加させる一つの手段として、図15のようにアクセストランジスタを形成する柱状シリコン層を大きく設定することによってリーク電流を増加させることができる。柱状シリコン層の形状は円形でなくとも、楕円形状などでもよい。
図15に実施例2のSRAMレイアウトを示す。本実施例において実施例1と異なる点は、アクセストランジスタを形成する柱状シリコン層の形状とドライバトランジスタを形成する柱状シリコン層の大きさが異なる点である。本発明のLoadless4T−SRAMでは、アクセストランジスタのリーク電流をドライバトランジスタのリーク電流より大きく設定する必要がある。アクセストランジスタのリーク電流を増加させる一つの手段として、図15のようにアクセストランジスタを形成する柱状シリコン層を大きく設定することによってリーク電流を増加させることができる。柱状シリコン層の形状は円形でなくとも、楕円形状などでもよい。
一方、読み出しマージンを改善したい場合には、ドライバトランジスタの柱状シリコン層を大きく形成して、ドライバトランジスタの電流を大きくすることによって読み出しマージンを改善することができる。
本実施例においては、一例として実施例1と同様のピラーのレイアウトを用いたが、実際には実施例1のレイアウトに限定されるものではなく、他の実施例のレイアウトにおいても同様に本実施例を適用することができる。
これ以外の点に関しては実施例1に示す構成と同一であるので説明を省略する。
〔実施例3〕
図16に実施例3のSRAMセルレイアウトを示す。本実施例においては以下の点において、実施例1と異なる。基板上の第1の拡散層により形成される記憶ノードであるQa3と、ドライバトランジスタQn23のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト310aにより接続され、基板上の第2の拡散層により形成される記憶ノードであるQb3と、ドライバトランジスタQn13のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト310bにより接続される。上記のようにゲートと記憶ノードを配線層ではなくコンタクトで直接接続することによって、SRAMセル内におけるコンタクトの数を減らすことができるので、柱状シリコン層やコンタクトの配置を調整することによりセル面積を縮小することができる。
図16に実施例3のSRAMセルレイアウトを示す。本実施例においては以下の点において、実施例1と異なる。基板上の第1の拡散層により形成される記憶ノードであるQa3と、ドライバトランジスタQn23のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト310aにより接続され、基板上の第2の拡散層により形成される記憶ノードであるQb3と、ドライバトランジスタQn13のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト310bにより接続される。上記のようにゲートと記憶ノードを配線層ではなくコンタクトで直接接続することによって、SRAMセル内におけるコンタクトの数を減らすことができるので、柱状シリコン層やコンタクトの配置を調整することによりセル面積を縮小することができる。
階層的な配線の構成の一例として、Vss3を下層の配線で形成し、ビット線(BL3、BLB3)を上層の配線で形成する構成が実現可能である。なお、本実施例ではノード接続配線Na3、ノード接続配線Nb3はコンタクトにより形成されている。
本実施例においては、一例として実施例1と同様のピラーのレイアウトを用いたが、実際にはこのレイアウトに限定されるものではなく、他のレイアウトにおいても同様に本実施例を適用することができる。
これ以外の点に関しては実施例1に示す構成と同一であるので説明を省略する。
〔実施例4〕
図17に実施例4のSRAMセルレイアウトを示す。本実施例においては以下の点において、実施例1と異なる。実施例1においては、記憶ノードQa1上においては、コンタクト110aはドライバトランジスタQn11にのみ隣接して配置されているが、記憶ノードQb1上においては、コンタクト110bはドライバトランジスタQn21とアクセストランジスタQp21の間の拡散層上に配置されている。このようなレイアウトの非対称性により、SRAMセルの特性に非対称性が生じ、動作マージンが狭くなる可能性がある。本実施例においては、第1の記憶ノードQa4上のアクセストランジスタQp14、コンタクト(410a、411a)及びドライバトランジスタQn14と第2の記憶ノードQb4上のアクセストランジスタQp24、コンタクト(410b、411b)及びドライバトランジスタQn24のレイアウトが対称であるため、上記のような非対称性に起因する動作マージンの劣化はなく、広い動作マージンを持つSRAMセルが可能である。
図17に実施例4のSRAMセルレイアウトを示す。本実施例においては以下の点において、実施例1と異なる。実施例1においては、記憶ノードQa1上においては、コンタクト110aはドライバトランジスタQn11にのみ隣接して配置されているが、記憶ノードQb1上においては、コンタクト110bはドライバトランジスタQn21とアクセストランジスタQp21の間の拡散層上に配置されている。このようなレイアウトの非対称性により、SRAMセルの特性に非対称性が生じ、動作マージンが狭くなる可能性がある。本実施例においては、第1の記憶ノードQa4上のアクセストランジスタQp14、コンタクト(410a、411a)及びドライバトランジスタQn14と第2の記憶ノードQb4上のアクセストランジスタQp24、コンタクト(410b、411b)及びドライバトランジスタQn24のレイアウトが対称であるため、上記のような非対称性に起因する動作マージンの劣化はなく、広い動作マージンを持つSRAMセルが可能である。
なお、ビット線の配線及び接地電位の配線は、望ましくは、他のメモリセルの配線と共用するために、各メモリセル内での配線であるノード接続配線より上位の層に配置される。本実施例ではノード接続配線はコンタクトにより形成されている。
階層的な配線の構成の一例として、Vss4を下層の配線で形成し、ビット線(BL4、BLB4)を上層の配線で形成する構成が実現可能である。
〔実施例5〕
図18に実施例5のSRAMセルレイアウトを示す。本実施例は実施例4と同様にレイアウトが対称であるため、広い動作マージンを持つSRAMセルが可能である。また、実施例2と同様に、基板上の第1の拡散層により形成される記憶ノードであるQa5と、ドライバトランジスタQn25のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト510aにより接続され、基板上の第2の拡散層により形成される記憶ノードであるQb5と、ドライバトランジスタQn15のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト510bにより接続される。
図18に実施例5のSRAMセルレイアウトを示す。本実施例は実施例4と同様にレイアウトが対称であるため、広い動作マージンを持つSRAMセルが可能である。また、実施例2と同様に、基板上の第1の拡散層により形成される記憶ノードであるQa5と、ドライバトランジスタQn25のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト510aにより接続され、基板上の第2の拡散層により形成される記憶ノードであるQb5と、ドライバトランジスタQn15のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト510bにより接続される。
なお、ビット線の配線及び接地電位の配線は、望ましくは、他のメモリセルの配線と共用するために、各メモリセル内での配線であるノード接続配線より上位の層に配置される。本実施例ではノード接続配線はコンタクトにより形成されている。
階層的な配線の構成の一例として、Vss5を下層の配線で形成し、ビット線(BL5、BLB5)を上層の配線で形成する構成が実現可能である。なお、本実施例ではノード接続配線Na5、ノード接続配線Nb5はコンタクトにより形成されている。
図19(a)に複数のSRAMメモリセルからなるSRAMメモリセルアレイの一部の平面図を示す。同図におけるCell array Areaにおいては複数のメモリセルが横方向に配置されており、横方向に配置された複数のメモリセルにおいて、ワード線518aが共通化されている。ワード線はContact Areaに形成されたコンタクト507により上層の配線に接続され、必要に応じて配線層で裏打ちされる。このため、特許文献2のSRAMセルとは異なり、各々のセルにワード線へのコンタクトを形成する必要がないので、SRAMセル面積を縮小することができる。
ワード線518aに複数のセルを接続することにより、ワード線コンタクト507から遠い側のセルにおいてはワード線の信号の遅延による読み出しや書き込みの遅延が問題になる可能性がある。このため、ワード線に接続するセルの数は読み出しや書き込みの遅延が問題ない範囲で決めることができる。
図19(b)に他の場合における複数のSRAMセルからなるSRAMセルアレイの一部の平面図を示す。図におけるCell array Areaにおいても同様に、複数のメモリセルが横方向に配置されており、横方向に配置されたメモリセルにおいて、ワード線518aが共通化されている。しかし、図19(b)においてはContact Areaにおいても、Cell array Areaと同様にピラーが配置されている。このようにContact Areaにおいてもピラーを配置することにより、Contact Areaに隣接するSGTの特性とContact Areaに隣接していないSGTとの特性の誤差を最小限に抑えることができる。
以上説明したように、本発明によれば4個のMOSトランジスタを用いて構成されたスタティック型メモリセルにおいて、前記MOSトランジスタはドレイン、ゲート、ソースが垂直方向に配置されたSGTであり、アクセストランジスタのゲートをワードラインとして横方向に隣接する複数のセルで共通化し、ワード線へのコンタクトを複数のセルごとに1個形成することにより、非常に小さいメモリセル面積を持つCMOS型Loadless4T−SRAMを実現することができる。
101a、201a、601a:第1のウェル
101b、201b、601b:第1のリーク防止拡散層
101c、201c、601c:第2のリーク防止拡散層
102、202、302、402、502、602:素子分離層
103、103a、103b、203a、203b、603a、603b:p+拡散層
104a、104b、204a、204b、604a、604b:n+拡散層
106、106a、206a、306a、406a、506a、606a、106b、206b、306b、406b、506b、606b:アクセストランジスタ柱状シリコン層上コンタクト
107:ワード線コンタクト
108a、208a、308a、408a、508a、608a、108b、208b、308b、408b、508b、608b:ドライバトランジスタ柱状シリコン層上コンタクト
110a、210a、410a、610a、110b、210b、410b、610b:記憶ノード上コンタクト
111a、211a、411a、611a、111b、211b、411b、611b:ゲート配線上コンタクト
310a、310b、510a、510b:共通コンタクト
107、507:ワード線コンタクト
113、113a、113b、115、213a、213b、215、613a、613b、615:シリサイド層
114、214、614:ピラー上部N+拡散層
116、216、616:ピラー上部P+拡散層
117、217、617:ゲート絶縁膜
118、218、618:ゲート電極
118a、118b、218c、218a、218b、118c、618a、618b、618c:ゲート配線
118a、218a、318a、418a、518a:ワード線
119:シリコン酸化膜等のマスク層
120:シリコン層
121、121a、121b、221a、221b、621a、621b:アクセストランジスタ柱状シリコン層
122a、122b、222a、222b、622a、622b:ドライバトランジスタ柱状シリコン層
124、224、624:P+注入領域
125、225、625:N+注入領域
131:シリコン酸化膜
132:シリコン窒化膜サイドウォール
133:レジスト
134:シリコン窒化膜
Qa1、Qb1、Qa2、Qb2、Qa3、Qb3、Qa4、Qb4、Qa5、Qb5、Qa6、Qb6:記憶ノード
Qp11、Qp21、Qp12、Qp22、Qp13、Qp23、Qp14、Qp24、Qp15、Qp25、Qp16、Qp26:アクセストランジスタ
Qn11、Qn21、Qn12、Qn22、Qn13、Qn23、Qn14、Qn24、Qn15、Qn25、Qn16、Qn26:ドライバトランジスタ
BL1、BL3、BL4、BL5、BL6、BLB1、BLB3、BLB4、BLB5、BLB6:ビット線
Vss1、Vss2、Vss3、Vss4、Vss5、Vss6:接地電位線
Na1、Nb1、Na2、Nb2、Na4、Nb4、Nb6、Nb6:ノード接続配線
101b、201b、601b:第1のリーク防止拡散層
101c、201c、601c:第2のリーク防止拡散層
102、202、302、402、502、602:素子分離層
103、103a、103b、203a、203b、603a、603b:p+拡散層
104a、104b、204a、204b、604a、604b:n+拡散層
106、106a、206a、306a、406a、506a、606a、106b、206b、306b、406b、506b、606b:アクセストランジスタ柱状シリコン層上コンタクト
107:ワード線コンタクト
108a、208a、308a、408a、508a、608a、108b、208b、308b、408b、508b、608b:ドライバトランジスタ柱状シリコン層上コンタクト
110a、210a、410a、610a、110b、210b、410b、610b:記憶ノード上コンタクト
111a、211a、411a、611a、111b、211b、411b、611b:ゲート配線上コンタクト
310a、310b、510a、510b:共通コンタクト
107、507:ワード線コンタクト
113、113a、113b、115、213a、213b、215、613a、613b、615:シリサイド層
114、214、614:ピラー上部N+拡散層
116、216、616:ピラー上部P+拡散層
117、217、617:ゲート絶縁膜
118、218、618:ゲート電極
118a、118b、218c、218a、218b、118c、618a、618b、618c:ゲート配線
118a、218a、318a、418a、518a:ワード線
119:シリコン酸化膜等のマスク層
120:シリコン層
121、121a、121b、221a、221b、621a、621b:アクセストランジスタ柱状シリコン層
122a、122b、222a、222b、622a、622b:ドライバトランジスタ柱状シリコン層
124、224、624:P+注入領域
125、225、625:N+注入領域
131:シリコン酸化膜
132:シリコン窒化膜サイドウォール
133:レジスト
134:シリコン窒化膜
Qa1、Qb1、Qa2、Qb2、Qa3、Qb3、Qa4、Qb4、Qa5、Qb5、Qa6、Qb6:記憶ノード
Qp11、Qp21、Qp12、Qp22、Qp13、Qp23、Qp14、Qp24、Qp15、Qp25、Qp16、Qp26:アクセストランジスタ
Qn11、Qn21、Qn12、Qn22、Qn13、Qn23、Qn14、Qn24、Qn15、Qn25、Qn16、Qn26:ドライバトランジスタ
BL1、BL3、BL4、BL5、BL6、BLB1、BLB3、BLB4、BLB5、BLB6:ビット線
Vss1、Vss2、Vss3、Vss4、Vss5、Vss6:接地電位線
Na1、Nb1、Na2、Nb2、Na4、Nb4、Nb6、Nb6:ノード接続配線
まず、図20及び図21を用いて特許文献2の実施例1のSRAMセルのレイアウトについて説明する。基板のSRAMセルアレイ内には第1のウェル601aであるn−wellが形成され、素子分離層602により基板上の拡散層は分離されている。基板上の拡散層により形成される第1の記憶ノードQa6は第1のp+拡散層603aと第1のn+拡散層604aにより形成され、基板表面に形成される第1のシリサイド層613aによって接続される。同様に、基板上の拡散層により形成される第2の記憶ノードQb6は第2のp+拡散層603bと第2のn+拡散層604bにより形成され、基板表面に形成される第2のシリサイド層613bによって接続される。第1のウェル601aであるn−wellと同一の導電型を持つn+拡散層から基板へのリークを抑制するために、第1のウェルの上部に第1のウェルと異なる導電型の拡散層である第1のリーク防止拡散層601bまたは第2のリーク防止拡散層601cが形成される。第1及び第2のリーク防止拡散層は素子分離層602により各々の基板上の拡散層ごとに分離されている。
図21(b)に示されるように、基板にSRAMセルアレイに共通な第1のウェル601aであるn−wellが形成され、素子分離層602により基板上の拡散層が分離されている。基板上の拡散層により形成される第1の記憶ノードQa6には不純物注入等により第1のn+ドレイン拡散層604aが形成され、基板上の拡散層により形成される第2の記憶ノードQb6には不純物注入等により第2のn+ドレイン拡散層604bが形成されている。また、第1、第2のn+ドレイン拡散層上には第1、第2のシリサイド層(613a、613b)がそれぞれ形成されている。第1のドレイン拡散層604a上に形成されるコンタクト611aは第1のp+ドレイン拡散層603aと第1のn+ドレイン拡散層604aの境界付近上に形成され、記憶ノード接続配線Nb6を通じてドライバトランジスタQn16のゲート電極から延在するゲート配線618b上に接続される。
第2のp+ドレイン拡散層603b上にアクセストランジスタQp26を構成する柱状シリコン層622bが形成され、第2のn+ドレイン拡散層604b上にドライバトランジスタQn26を構成する柱状シリコン層622bが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にゲート絶縁膜617およびゲート電極618が形成され、それぞれの柱状シリコン層上部にはソース拡散層が不純物注入などにより形成され、ソース拡散層表面にはシリサイド層615が形成されている。アクセストランジスタQp26上に形成されるコンタクト608bはビット線BLB6に接続され、ドライバトランジスタQn26上に形成されるコンタクト608bは接地電位Vss6に接続される。
本発明に係る半導体記憶装置は、
4個のMOSトランジスタが基板上に配列された複数のスタティック型メモリセルを備えた半導体記憶装置であって、
前記4個のMOSトランジスタの各々は、メモリセルデータを保持するために電荷を供給すると共にメモリにアクセスするための第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタと、メモリセルのデータを読み出しするために記憶ノードを駆動する第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタとして機能し、
メモリセルデータを保持するために電荷を供給すると共にメモリにアクセスするための第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタは、
P型の第1の拡散層、第1の柱状半導体層及びP型の第2の拡散層が、基板上に垂直方向に階層的に配置され、前記第1の柱状半導体層は前記第1の柱状半導体層の底部に形成される前記第1の拡散層と前記第1の柱状半導体層の上部に形成される前記第2の拡散層の間に配置され、前記第1の柱状半導体層の側壁に第1のゲートが形成されており、
メモリセルのデータを読み出しするために記憶ノードを駆動する第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタは、
N型の第3の拡散層、第2の柱状半導体層及びN型の第4の拡散層が、基板上に垂直方向に階層的に配置され、前記第2の柱状半導体層は前記第2の柱状半導体層の底部に形成される前記第3の拡散層と前記第2の柱状半導体層の上部に形成される前記第4の拡散層の間に配置され、前記第2の柱状半導体層の側壁に第2のゲートが形成されており、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタ及び前記第1のNMOSのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
前記第2のPMOSのアクセストランジスタ及び前記第2のNMOSのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
前記基板には該基板に電位を与えるための複数のメモリセルに共通の第1のウェルが形成され、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタの底部に形成される前記P型の第1の拡散層及び前記第1のNMOSのドライバトランジスタの底部に形成される前記N型の第3の拡散層は相互に接続され、
前記相互に接続された前記P型の第1の拡散層及びN型の第3の拡散層は、メモリセルに記憶されるデータを保持するための第1の記憶ノードとして機能し、
前記N型の第3の拡散層又はP型の第1の拡散層と前記第1のウェル間のリークを防止するために、前記N型の第3の拡散層又はP型の第1の拡散層と前記第1のウェルの間に前記第1のウェルと反対の導電型を持つ第1のリーク防止拡散層の底部が素子分離層より浅くなるように形成され、
前記第1のリーク防止拡散層は、前記P型の第1の拡散層又はN型の第3の拡散層と直接接続され、
前記第2のPMOSのアクセストランジスタの底部に形成される前記P型の第1の拡散層及び前記第2のNMOSのドライバトランジスタの底部に形成される前記N型の第3の拡散層は相互に接続され、
前記相互に接続された前記P型の第1の拡散層及びN型の第3の拡散層は、メモリセルに記憶されるデータを保持するための第2の記憶ノードとして機能し、
前記N型の第3の拡散層又はP型第1の拡散層と前記第1のウェル間のリークを防止するために、前記N型の第3の拡散層又はP型の第1の拡散層と前記第1のウェルの間に前記第1のウェルと反対の導電型を持つ第2のリーク防止拡散層の底部が素子分離層より浅くなるように形成され、
前記第2のリーク防止拡散層は、前記P型の第1の拡散層又はN型の第3の拡散層と直接接続されており、
前記第1及び前記第2のPMOSのドライバトランジスタのそれぞれのゲートは第1のゲート配線により互いに接続され、前記第1のゲート配線は隣接する2以上の複数のメモリセルにおける前記第1及び前記第2のPMOSのアクセストランジスタのそれぞれのゲートと互いに接続されることによりワード線を形成しており、
2以上の隣接する複数のメモリセルごとに、ワード線である前記第1のゲート配線上に第1のコンタクトが形成されることを特徴とする。
4個のMOSトランジスタが基板上に配列された複数のスタティック型メモリセルを備えた半導体記憶装置であって、
前記4個のMOSトランジスタの各々は、メモリセルデータを保持するために電荷を供給すると共にメモリにアクセスするための第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタと、メモリセルのデータを読み出しするために記憶ノードを駆動する第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタとして機能し、
メモリセルデータを保持するために電荷を供給すると共にメモリにアクセスするための第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタは、
P型の第1の拡散層、第1の柱状半導体層及びP型の第2の拡散層が、基板上に垂直方向に階層的に配置され、前記第1の柱状半導体層は前記第1の柱状半導体層の底部に形成される前記第1の拡散層と前記第1の柱状半導体層の上部に形成される前記第2の拡散層の間に配置され、前記第1の柱状半導体層の側壁に第1のゲートが形成されており、
メモリセルのデータを読み出しするために記憶ノードを駆動する第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタは、
N型の第3の拡散層、第2の柱状半導体層及びN型の第4の拡散層が、基板上に垂直方向に階層的に配置され、前記第2の柱状半導体層は前記第2の柱状半導体層の底部に形成される前記第3の拡散層と前記第2の柱状半導体層の上部に形成される前記第4の拡散層の間に配置され、前記第2の柱状半導体層の側壁に第2のゲートが形成されており、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタ及び前記第1のNMOSのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
前記第2のPMOSのアクセストランジスタ及び前記第2のNMOSのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
前記基板には該基板に電位を与えるための複数のメモリセルに共通の第1のウェルが形成され、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタの底部に形成される前記P型の第1の拡散層及び前記第1のNMOSのドライバトランジスタの底部に形成される前記N型の第3の拡散層は相互に接続され、
前記相互に接続された前記P型の第1の拡散層及びN型の第3の拡散層は、メモリセルに記憶されるデータを保持するための第1の記憶ノードとして機能し、
前記N型の第3の拡散層又はP型の第1の拡散層と前記第1のウェル間のリークを防止するために、前記N型の第3の拡散層又はP型の第1の拡散層と前記第1のウェルの間に前記第1のウェルと反対の導電型を持つ第1のリーク防止拡散層の底部が素子分離層より浅くなるように形成され、
前記第1のリーク防止拡散層は、前記P型の第1の拡散層又はN型の第3の拡散層と直接接続され、
前記第2のPMOSのアクセストランジスタの底部に形成される前記P型の第1の拡散層及び前記第2のNMOSのドライバトランジスタの底部に形成される前記N型の第3の拡散層は相互に接続され、
前記相互に接続された前記P型の第1の拡散層及びN型の第3の拡散層は、メモリセルに記憶されるデータを保持するための第2の記憶ノードとして機能し、
前記N型の第3の拡散層又はP型第1の拡散層と前記第1のウェル間のリークを防止するために、前記N型の第3の拡散層又はP型の第1の拡散層と前記第1のウェルの間に前記第1のウェルと反対の導電型を持つ第2のリーク防止拡散層の底部が素子分離層より浅くなるように形成され、
前記第2のリーク防止拡散層は、前記P型の第1の拡散層又はN型の第3の拡散層と直接接続されており、
前記第1及び前記第2のPMOSのドライバトランジスタのそれぞれのゲートは第1のゲート配線により互いに接続され、前記第1のゲート配線は隣接する2以上の複数のメモリセルにおける前記第1及び前記第2のPMOSのアクセストランジスタのそれぞれのゲートと互いに接続されることによりワード線を形成しており、
2以上の隣接する複数のメモリセルごとに、ワード線である前記第1のゲート配線上に第1のコンタクトが形成されることを特徴とする。
上記発明に係る半導体記憶装置において、前記ワード線である前記第1のゲート配線上に前記第1のコンタクトが形成される領域において、メモリセルの領域と同様にピラーを配置することができる。
上記発明に係る半導体記憶装置において、
前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以上の値を持つこと、
又は、
前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以下の値を持つこととすることができる。
前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以上の値を持つこと、
又は、
前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以下の値を持つこととすることができる。
上記発明に係る半導体記憶装置において、
前記4個のMOSトランジスタは、2行2列に配列され、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタは1行1列目に配列され、
前記第1のNMOSのドライバトランジスタは2行1列目に配列され、
前記第2のPMOSのアクセストランジスタは1行2列目に配列され、
前記第2のNMOSのドライバトランジスタは2行2列目に配列されていることとすることができる。
前記4個のMOSトランジスタは、2行2列に配列され、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタは1行1列目に配列され、
前記第1のNMOSのドライバトランジスタは2行1列目に配列され、
前記第2のPMOSのアクセストランジスタは1行2列目に配列され、
前記第2のNMOSのドライバトランジスタは2行2列目に配列されていることとすることができる。
まず図2及び図4を参考にして本実施例のレイアウトについて説明する。基板のSRAMセルアレイ内には第1のウェル101aであるn−wellが形成され、酸化膜などの絶縁膜によりなる素子分離層102により基板上の拡散層は分離されている。基板上の拡散層により形成される第1の記憶ノードQa1は第1のp+拡散層103aと第1のn+拡散層104aにより形成され、基板表面に形成される第1のシリサイド層113aによって接続される。同様に、基板上の拡散層により形成される第2の記憶ノードQb1は第2のp+拡散層103bと第2のn+拡散層104bにより形成され、基板表面に形成される第2のシリサイド層113bによって接続される。第1のウェル101aであるn−wellと同一の導電型を持つn+拡散層から基板へのリークを抑制するために、第1及び第2のn+拡散層の下部かつ第1のウェル101aの上部に第1のウェルと異なる導電型を持つ第1のリーク防止拡散層101b及び第2のリーク防止拡散層101cが形成される。第1及び第2のリーク防止拡散層は素子分離層102により各々の基板上の拡散層ごとに分離されている。
図3(b)に他の場合における複数のSRAMセルからなるSRAMセルアレイの一部の平面図を示す。図におけるCell array Areaにおいても同様に、複数のメモリセルが横方向に配置されており、横方向に配置されたメモリセルにおいて、ワード線118aが共通化されている。しかし、図3(b)においてはContact Areaにおいても、Cell array Areaと同様にピラーが配置されている。このようにContact AreaにおいてもピラーをCell array Areaと同じパターンで配置することにより、Contact AreaにおいてもCell array内と同じピラー配置の規則性を保つことができるため、Contact Areaに隣接するピラーとContact Areaに隣接していないピラー間の寸法の差を小さくすることができ、Contact Areaに隣接するSGTの特性とContact Areaに隣接していないSGT特性の誤差を最小限に抑えることができる。
図4(b)に示されるように、基板にSRAMセルアレイに共通な第1のウェル101aであるn−wellが形成され、酸化膜などの絶縁膜により形成される素子分離層102により基板上の拡散層が分離されている。基板上の拡散層により形成される第1の記憶ノードQa1には不純物注入等により第1のn+ドレイン拡散層104aが形成され、基板上の拡散層により形成される第2の記憶ノードQb1には不純物注入等により第2のn+ドレイン拡散層104bが形成されている。また、第1、第2のn+ドレイン拡散層上には第1、第2のシリサイド層(113a、113b)がそれぞれ形成されている。第1のドレイン拡散層104a上に形成されるコンタクト111aは第1のp+ドレイン拡散層103aと第1のn+ドレイン拡散層104aの境界付近上に形成され、記憶ノード接続配線Na1を通じてドライバトランジスタQn11のゲート電極から延在するゲート配線118b上に接続される。
図4(d)に示されるように、基板にSRAMセルアレイに共通な第1のウェルであるn−wellが形成され、素子分離層102により基板上の拡散層が分離されている。基板上の拡散層により形成される第2の記憶ノードQb1には不純物注入等により、第2のp+ドレイン拡散層103bおよび第2のn+ドレイン拡散層104bが形成される。ドレイン拡散層上には第2のシリサイド層113bが形成され、第2のシリサイド層113bによって第2のp+ドレイン拡散層103bと第2のn+ドレイン拡散層104bは直接接続されている。第1のウェルと同一の導電型を持つ第2のn+拡散層104bから基板へのリークを抑制するために、第2のn+拡散層の下部かつ第1のウェルの上部には第1のウェル101aと異なる導電型を持つ第2のリーク防止拡散層101cが形成される。本実施例においてはシリサイドによってN+ドレイン拡散層とP+ドレイン拡散層が接続されているが、N+ドレイン拡散層とP+ドレイン拡散層間の接触抵抗が十分小さい場合にはシリサイドを形成する必要はない。また、シリサイドでN+ドレイン拡散層とP+ドレイン拡散層を接続する代わりにコンタクトでN+ドレイン拡散層とP+ドレイン拡散層で裏打ちすることによって接続したり、他の方法でN+ドレイン拡散層とP+ドレイン拡散層を接続してもよい。
図4(e)に図3(a)のE−E’における断面構造を示す。基板上に左側のセル及び右側のセルのシリコン層よりなるP+ドレイン拡散層103が形成されている。それぞれのドレイン拡散層上にはシリサイド層113が形成されている。それぞれの柱状シリコン層の周囲にはゲート絶縁膜117およびゲート電極118が形成されている。柱状シリコン層上部にはP+ソース拡散層領域116が不純物注入などにより形成され、ソース拡散層領域表面にはシリサイド層115が形成されている。それぞれのアクセストランジスタ上に形成されるコンタクト106はビット線に接続され、ワード線118a上に形成されるコンタクト107は上層の配線層により形成されるより低抵抗なワード線に接続される。
第2のp+ドレイン拡散層103b上にアクセストランジスタQp21を構成する柱状シリコン層121bが形成され、第2のn+ドレイン拡散層104b上にドライバトランジスタQn21を構成する柱状シリコン層122bが形成される。それぞれの柱状シリコン層の周囲にゲート絶縁膜117およびゲート電極118が形成され、それぞれの柱状シリコン層上部にはソース拡散層が不純物注入などにより形成され、ソース拡散層表面にはシリサイド層115が形成されている。アクセストランジスタQp21上に形成されるコンタクト106bはビット線BLB1に接続され、ドライバトランジスタQn21上に形成されるコンタクト108bは接地電位Vss1に接続される。
図10に示されるように、レジスト133等を用いて、リソグラフィーによりゲート配線パターンを形成する。
図11に示されるように、レジスト133をマスクにして、ゲート導電膜118及びゲート絶縁膜117をエッチングし、除去する。これによりゲート配線(118a〜118c)が形成される。その後、ピラー上のマスク119を除去する。
階層的な配線の構成の一例として、Vss3を下層の配線で形成し、ビット線(BL3、BLB3)を上層の配線で形成する構成が実現可能である。なお、本実施例ではノード接続配線、ノード接続配線はコンタクトにより形成されている。
〔実施例5〕
図18に実施例5のSRAMセルレイアウトを示す。本実施例は実施例4と同様にレイアウトが対称であるため、広い動作マージンを持つSRAMセルが可能である。また、実施例3と同様に、基板上の第1の拡散層により形成される記憶ノードであるQa5と、ドライバトランジスタQn25のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト510aにより接続され、基板上の第2の拡散層により形成される記憶ノードであるQb5と、ドライバトランジスタQn15のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト510bにより接続される。
図18に実施例5のSRAMセルレイアウトを示す。本実施例は実施例4と同様にレイアウトが対称であるため、広い動作マージンを持つSRAMセルが可能である。また、実施例3と同様に、基板上の第1の拡散層により形成される記憶ノードであるQa5と、ドライバトランジスタQn25のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト510aにより接続され、基板上の第2の拡散層により形成される記憶ノードであるQb5と、ドライバトランジスタQn15のゲート電極より延在するゲート配線は両者にまたがって形成される共通のコンタクト510bにより接続される。
101a、201a、601a:第1のウェル
101b、201b、601b:第1のリーク防止拡散層
101c、201c、601c:第2のリーク防止拡散層
102、202、302、402、502、602:素子分離層
103、103a、103b、203a、203b、603a、603b:p+拡散層
104a、104b、204a、204b、604a、604b:n+拡散層
106、106a、206a、306a、406a、506a、606a、106b、206b、306b、406b、506b、606b:アクセストランジスタ柱状シリコン層上コンタクト
107:ワード線コンタクト
108a、208a、308a、408a、508a、608a、108b、208b、308b、408b、508b、608b:ドライバトランジスタ柱状シリコン層上コンタクト
110a、210a、410a、610a、110b、210b、410b、610b:記憶ノード上コンタクト
111a、211a、411a、611a、111b、211b、411b、611b:ゲート配線上コンタクト
310a、310b、510a、510b:共通コンタクト
107、507:ワード線コンタクト
113、113a、113b、115、213a、213b、215、613a、613b、615:シリサイド層
114、214、614:ピラー上部N+拡散層
116、216、616:ピラー上部P+拡散層
117、217、617:ゲート絶縁膜
118、218、618:ゲート電極
118a、118b、218c、218a、218b、118c、618a、618b、618c:ゲート配線
118a、218a、318a、418a、518a:ワード線
119:シリコン酸化膜等のマスク層
120:シリコン層
121、121a、121b、221a、221b、621a、621b:アクセストランジスタ柱状シリコン層
122a、122b、222a、222b、622a、622b:ドライバトランジスタ柱状シリコン層
124、224、624:P+注入領域
125、225、625:N+注入領域
131:シリコン酸化膜
132:シリコン窒化膜サイドウォール
133:レジスト
134:シリコン窒化膜
Qa1、Qb1、Qa2、Qb2、Qa3、Qb3、Qa4、Qb4、Qa5、Qb5、Qa6、Qb6:記憶ノード
Qp11、Qp21、Qp12、Qp22、Qp13、Qp23、Qp14、Qp24、Qp15、Qp25、Qp16、Qp26:アクセストランジスタ
Qn11、Qn21、Qn12、Qn22、Qn13、Qn23、Qn14、Qn24、Qn15、Qn25、Qn16、Qn26:ドライバトランジスタ
BL1、BL3、BL4、BL5、BL6、BLB1、BLB3、BLB4、BLB5、BLB6:ビット線
Vss1、Vss2、Vss3、Vss4、Vss5、Vss6:接地電位線
Na1、Nb1、Na2、Nb2、Na4、Nb4、Na6、Nb6:ノード接続配線
101b、201b、601b:第1のリーク防止拡散層
101c、201c、601c:第2のリーク防止拡散層
102、202、302、402、502、602:素子分離層
103、103a、103b、203a、203b、603a、603b:p+拡散層
104a、104b、204a、204b、604a、604b:n+拡散層
106、106a、206a、306a、406a、506a、606a、106b、206b、306b、406b、506b、606b:アクセストランジスタ柱状シリコン層上コンタクト
107:ワード線コンタクト
108a、208a、308a、408a、508a、608a、108b、208b、308b、408b、508b、608b:ドライバトランジスタ柱状シリコン層上コンタクト
110a、210a、410a、610a、110b、210b、410b、610b:記憶ノード上コンタクト
111a、211a、411a、611a、111b、211b、411b、611b:ゲート配線上コンタクト
310a、310b、510a、510b:共通コンタクト
107、507:ワード線コンタクト
113、113a、113b、115、213a、213b、215、613a、613b、615:シリサイド層
114、214、614:ピラー上部N+拡散層
116、216、616:ピラー上部P+拡散層
117、217、617:ゲート絶縁膜
118、218、618:ゲート電極
118a、118b、218c、218a、218b、118c、618a、618b、618c:ゲート配線
118a、218a、318a、418a、518a:ワード線
119:シリコン酸化膜等のマスク層
120:シリコン層
121、121a、121b、221a、221b、621a、621b:アクセストランジスタ柱状シリコン層
122a、122b、222a、222b、622a、622b:ドライバトランジスタ柱状シリコン層
124、224、624:P+注入領域
125、225、625:N+注入領域
131:シリコン酸化膜
132:シリコン窒化膜サイドウォール
133:レジスト
134:シリコン窒化膜
Qa1、Qb1、Qa2、Qb2、Qa3、Qb3、Qa4、Qb4、Qa5、Qb5、Qa6、Qb6:記憶ノード
Qp11、Qp21、Qp12、Qp22、Qp13、Qp23、Qp14、Qp24、Qp15、Qp25、Qp16、Qp26:アクセストランジスタ
Qn11、Qn21、Qn12、Qn22、Qn13、Qn23、Qn14、Qn24、Qn15、Qn25、Qn16、Qn26:ドライバトランジスタ
BL1、BL3、BL4、BL5、BL6、BLB1、BLB3、BLB4、BLB5、BLB6:ビット線
Vss1、Vss2、Vss3、Vss4、Vss5、Vss6:接地電位線
Na1、Nb1、Na2、Nb2、Na4、Nb4、Na6、Nb6:ノード接続配線
Claims (6)
- 4個のMOSトランジスタが基板上に配列された複数のスタティック型メモリセルを備えた半導体記憶装置であって、
前記4個のMOSトランジスタの各々は、メモリセルデータを保持するために電荷を供給すると共にメモリにアクセスするための第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタと、メモリセルのデータを読み出しするために記憶ノードを駆動する第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタとして機能し、
前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタにおいて、
P型の第1の拡散層、第1の柱状半導体層及びP型の第2の拡散層が、基板上に垂直方向に階層的に配置され、前記第1の柱状半導体層は前記第1の柱状半導体層の底部に形成される前記第1の拡散層と前記第1の柱状半導体層の上部に形成される前記第2の拡散層の間に配置され、前記第1の柱状半導体層の側壁に第1のゲートが形成されており、
前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタにおいて、
N型の第3の拡散層、第2の柱状半導体層及びN型の第4の拡散層が、基板上に垂直方向に階層的に配置され、前記第2の柱状半導体層は前記第2の柱状半導体層の底部に形成される前記第3の拡散層と前記第1の柱状半導体層の上部に形成される前記第4の拡散層の間に配置され、前記第2の柱状半導体層の側壁に第2のゲートが形成されており、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタ及び前記第1のNMOSのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
前記第2のPMOSのアクセストランジスタ及び前記第2のNMOSのドライバトランジスタは、互いに隣接して配列され、
前記基板には該基板に電位を与えるための複数のメモリセルに共通の第1のウェルが形成され、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタの底部に形成される前記P型の第1の拡散層及び前記第1のNMOSのドライバトランジスタの底部に形成される前記N型の第3の拡散層は相互に接続され、
前記相互に接続された前記P型の第1の拡散層及びN型の第3の拡散層は、メモリセルに記憶されるデータを保持するための第1の記憶ノードとして機能し、
前記N型の第3の拡散層又はP型の第1の拡散層と前記第1のウェル間のリークを防止するために、前記N型の第3の拡散層又はP型の第1の拡散層と前記第1のウェルの間に前記第1のウェルと反対の導電型を持つ第1のリーク防止拡散層の底部が素子分離層より浅くなるように形成され、
前記第1のリーク防止拡散層は、前記P型の第1の拡散層又はN型の第3の拡散層と直接接続され、
前記第2のPMOSのアクセストランジスタの底部に形成される前記P型の第1の拡散層及び前記第2のNMOSのドライバトランジスタの底部に形成される前記N型の第3の拡散層は相互に接続され、
前記相互に接続された前記P型の第1の拡散層及びN型の第3の拡散層は、メモリセルに記憶されるデータを保持するための第2の記憶ノードとして機能し、
前記N型の第3の拡散層又はP型第1の拡散層と前記第1のウェル間のリークを防止するために、前記N型の第3の拡散層又はP型の第1の拡散層と前記第1のウェルの間に前記第1のウェルと反対の導電型を持つ第2のリーク防止拡散層の底部が素子分離層より浅くなるように形成され、
前記第2のリーク防止拡散層は、前記P型の第1の拡散層又はN型の第3の拡散層と直接接続されており、
前記第1及び前記第2のPMOSのドライバトランジスタのそれぞれのゲートは第1のゲート配線により互いに接続され、前記第1のゲート配線は隣接する2以上の複数のメモリセルにおける前記第1及び前記第2のPMOSのアクセストランジスタのそれぞれのゲートと互いに接続されることによりワード線を形成しており、
隣接する複数のメモリセルごとに、ワード線である前記第1のゲート配線上に第1のコンタクトが形成されることを特徴とする半導体記憶装置。 - 前記ワード線である前記第1のゲート配線上に前記第1のコンタクトが形成される領域において、メモリセルの領域と同様にピラーが配置されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。
- 前記第1のNMOSのドライバトランジスタのゲートより延在する第2のゲート配線が、前記第2の記憶ノードとして機能する拡散層と共通の第2のコンタクトにより接続され、
前記第2のNMOSのドライバトランジスタのゲートより延在する第3のゲート配線が、前記第1の記憶ノードとして機能する拡散層と共通の第3のコンタクトにより接続されることを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。 - 前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以上の値を持つこと、
又は、
又は前記第1及び第2のNMOSのドライバトランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長は、前記第1及び第2のPMOSのアクセストランジスタを形成する柱状半導体層の側壁の周囲長以下の値を持つことを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。 - 前記4個のMOSトランジスタは、前記絶縁膜上に2行2列に配列され、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタは1行1列目に配列され、
前記第1のNMOSのドライバトランジスタは2行1列目に配列され、
前記第2のPMOSのアクセストランジスタは1行2列目に配列され、
前記第2のNMOSのドライバトランジスタは2行2列目に配列されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。 - 前記4個のMOSトランジスタは、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタと前記第2のPMOSのアクセストランジスタは隣接して配列され、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタと前記第2のPMOSのアクセストランジスタの隣接方向に直交する一方の方向において前記第1のNMOSのドライバトランジスタは前記第1のPMOSのアクセストランジスタと隣接して配列され、
前記第1のPMOSのアクセストランジスタと前記第2のPMOSのアクセストランジスタの隣接方向に直交する他方の方向において前記第2のNMOSのドライバトランジスタは前記第2のPMOSのアクセストランジスタと隣接して配列されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013537719A JPWO2013121537A1 (ja) | 2012-02-15 | 2012-02-15 | 半導体記憶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2013537719A JPWO2013121537A1 (ja) | 2012-02-15 | 2012-02-15 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2013121537A1 true JPWO2013121537A1 (ja) | 2015-05-11 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013537719A Pending JPWO2013121537A1 (ja) | 2012-02-15 | 2012-02-15 | 半導体記憶装置 |
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Country | Link |
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-
2012
- 2012-02-15 JP JP2013537719A patent/JPWO2013121537A1/ja active Pending
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