JPWO2012105263A1 - アミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法及びその合成中間体 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、特殊な反応装置を用いることなく、簡便な操作で且つ穏やかな条件下で実施可能なアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法及びその合成中間体を提供する。【解決手段】 本発明は、一般式（１）（式中、Ｘは水素原子又はハロゲン原子を示し、Ｒはアルコキシメチル基を示す。）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体のカルボニル基を還元することにより、一般式（２）（式中、Ｘ、Ｒは前記と同じ意味を示す。）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を製造した後、このアルコール誘導体を還元することを特徴とする、一般式（３）（式中、Ｒは前記と同じ意味を示す。）で表されるアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法、及び、上記式（２）で表わされるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を提供する。【選択図】なし

Description

本発明は、特殊な反応装置を用いることなく、簡便な操作で且つ穏やかな条件下で実施可能なアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法及びその合成中間体に関するものである。

アミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体である（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール

は、除草剤の合成中間体であることが知られている（特許文献１、２及び３参照）。

この（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールを得る方法としては、（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）ケトンのニトロ基を、触媒としての酢酸の存在下、鉄粉により還元して（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトンとした後、続いて金属水素化錯化合物類によりカルボニル基を還元する方法が知られている（特許文献１及び３参照）。

しかし、この方法は、例えば特許文献３の実施例によれば、鉄粉を大量に使用しているために経済的ではなく、廃棄物も多くなり、更には酢酸を使用するために酸性の廃水を生じることから、経済面、環境面や操作面等からも改善が望まれている。

（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールを得る別法として、（５−クロロ−３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトンの塩素原子、ニトロ基、カルボニル基の３箇所を、接触水素添加法により同一系内にて１工程で還元する方法も知られている（特許文献２参照）。しかし、この方法は、約２ＭＰａもの高い水素圧を要するために好ましくない。

一方、特許文献３、４１ページの反応スキーム（化９）に、（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（２−ニトロフェニル）ケトンに代表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体である中間体[Ｖａ]から、（２−アミノフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールに代表されるアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体である中間体[ＶＩＩｂ]を製造する方法として、
（１）ニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体である中間体[Ｖａ]のニトロ基を先に還元することにより、（２−アミノフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトンに代表されるアミノフェニルピリミジニルケトン誘導体である中間体[Ｖｂ]を経由する２工程のルートと、
（２）ニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体である中間体[Ｖａ]のカルボニル基を先に還元することにより、（２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールに代表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体である中間体[ＶＩＩａ]を経由する２工程のルートとが一般式で記載されている。

ここで、（２−アミノ−３−アルコキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールの製造方法について、中間体[Ｖａ]のニトロ基を先に還元してアミノフェニルピリミジニルケトン誘導体である中間体[Ｖｂ]を経由する上記ルート（１）は、特許文献３、参考例３にばかりでなく、特許文献１、参考例２、（４）及び（５）に具体的に記載されている。しかしながら、中間体[Ｖａ]のカルボニル基を先に還元してニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体である中間体[ＶＩＩａ]を経由する上記ルート（２）は、具体的に記載されていない。更に、（３−アルコキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)メタノールについての具体的な記載はなく、当該中間体[ＶＩＩａ]を経由するルートの工業的な利点は示唆さえもされていない。

ＷＯ ００／０６５５３ 特開２００３−２１２８６１ 特開平１１−６０５６２

本発明の目的は、上記した従来技術における難点を解決することが可能な、（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）ケトン又は（５−クロロ−３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトンに代表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体から、（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールに代表されるアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体を製造する方法を提供することにある。

本発明の他の目的は、効率が良く、簡便な操作による工業的規模での実施が可能であり、しかも高収率であるために工業的に好ましく、更には環境負荷を低減した当該アミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法を提供することにある。

本発明の更に他の目的は、入手容易である鉄粉に代表される還元剤としての金属の適切な量又はパラジウム触媒の適切な量を用いて、特殊な反応装置を用いることなく、穏やかな条件下で実施が可能な、工業的に好ましい当該アミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体を製造する方法を提供することにある。

本発明の更に他の目的は、上記アミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体を製造する方法において有用な中間体を提供することにある。

上記のような状況に鑑み、本発明者が（２−アミノ−３−アルコキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールを製造する方法について鋭意研究を重ねた結果、意外にも、下記一般式（２）

で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を経由する、つまり、特許文献１及び特許文献３に参考例で具体的に記載されている製造方法における、カルボニル基及びニトロ基の還元の順番を変えることにより、同時に、一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を提供することにより、上記課題の解決が可能であることを見出し、この知見に基づき本発明を完成するに至った。

即ち、本発明は、下記〔１〕乃至〔６６〕項に記載の発明を提供することにより前記課題を解決したものである。

〔１〕 一般式（１）

（式中、Ｘは水素原子又はハロゲン原子を示し、Ｒはアルコキシメチル基を示す。）
で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体のカルボニル基を還元することにより、一般式（２）

（式中、Ｘ、Ｒは前記と同じ意味を示す。）
で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を製造した後、このアルコール誘導体を還元することを特徴とする、一般式（３）

（式中、Ｒは前記と同じ意味を示す。）
で表されるアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔２〕 一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体を、金属水素化物を用いて還元する〔１〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔３〕 一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体を、水素化ホウ素ナトリウムを用いて還元する〔１〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔４〕 一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体におけるＸが水素原子である〔２〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔５〕 一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体におけるＸが水素原子である〔３〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔６〕 一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体におけるＸがハロゲン原子である〔２〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔７〕 一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体におけるＸがハロゲン原子である〔３〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔８〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、金属を用いて還元する〔１〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔９〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、金属を用いて還元する〔４〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔１０〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、金属を用いて還元する〔５〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔１１〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、鉄粉を用いて還元する〔１〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔１２〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、鉄粉を用いて還元する〔４〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔１３〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、鉄粉を用いて還元する〔５〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔１４〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、塩の存在下に還元する〔１３〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔１５〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、アンモニウム塩又はアルカリ土類金属塩の存在下に還元する〔１３〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔１６〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、ハロゲン化アンモニウム塩、炭酸アンモニウム塩、カルボン酸アンモニウム塩、ハロゲン化アルカリ土類金属塩又は炭酸アルカリ土類金属塩の存在下に還元する〔１３〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔１７〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、ハロゲン化アンモニウム塩、カルボン酸アンモニウム塩又はハロゲン化アルカリ土類金属塩の存在下に還元する〔１３〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔１８〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体の還元を、遊離の酸を仕込むことなく行う〔１３〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔１９〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体の還元を、遊離のカルボン酸を仕込むことなく行う〔１３〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔２０〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体の還元を、遊離の酢酸を仕込むことなく行う〔１３〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔２１〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体の還元を、遊離の酸を仕込むことなく行う〔１４〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔２２〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体の還元を、遊離のカルボン酸を仕込むことなく行う〔１４〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔２３〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体の還元を、遊離の酢酸を仕込むことなく行う〔１４〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔２４〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体の還元を、遊離の酸を仕込むことなく行う〔１５〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔２５〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体の還元を、遊離のカルボン酸を仕込むことなく行う〔１５〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔２６〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体の還元を、遊離の酢酸を仕込むことなく行う〔１５〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔２７〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体の還元を、遊離の酸を仕込むことなく行う〔１６〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔２８〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体の還元を、遊離のカルボン酸を仕込むことなく行う〔１６〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔２９〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体の還元を、遊離の酢酸を仕込むことなく行う〔１６〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔３０〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体の還元を、遊離の酸を仕込むことなく行う〔１７〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔３１〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体の還元を、遊離のカルボン酸を仕込むことなく行う〔１７〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔３２〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体の還元を、遊離の酢酸を仕込むことなく行う〔１７〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔３３〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、塩化アンモニウム、酢酸アンモニウム、塩化カルシウム又は塩化バリウムの存在下に還元する〔２０〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔３４〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、塩化アンモニウム又は酢酸アンモニウムの存在下に還元する〔２０〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔３５〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、塩化アンモニウムの存在下に還元する〔２０〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔３６〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、酢酸アンモニウムの存在下に行還元する〔２０〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔３７〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体１モルに対して、鉄粉２．０〜３．０モルを使用して還元する〔１１〕から〔３６〕のいずれか１項に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔３８〕 Ｒがメトキシメチル基である〔１〕から〔３７〕のいずれか１項に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔３９〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、パラジウム触媒の存在下に還元する〔１〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔４０〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、パラジウム触媒の存在下に還元する〔３〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔４１〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、パラジウム触媒の存在下に還元する〔５〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔４２〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、パラジウム触媒の存在下に還元する〔７〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔４３〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、ギ酸化合物の存在下に還元する〔３９〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔４４〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、ギ酸化合物の存在下に還元する〔４０〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔４５〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、ギ酸化合物の存在下に還元する〔４１〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔４６〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、ギ酸化合物の存在下に還元する〔４２〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔４７〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、ギ酸アンモニウム又はギ酸カリウムの存在下に還元する〔３９〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔４８〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、ギ酸アンモニウム又はギ酸カリウムの存在下に還元する〔４０〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔４９〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、ギ酸アンモニウム又はギ酸カリウムの存在下に還元する〔４１〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔５０〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、ギ酸アンモニウム又はギ酸カリウムの存在下に還元する〔４２〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔５１〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、水素の存在下に還元する〔３９〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔５２〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、水素の存在下に還元する〔４０〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔５３〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、水素の存在下に還元する〔４１〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔５４〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、水素の存在下に還元する〔４２〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔５５〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、常圧の水素の存在下に還元する〔３９〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔５６〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、常圧の水素の存在下に還元する〔４０〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔５７〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、常圧の水素の存在下に還元する〔４１〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔５８〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、常圧の水素の存在下に還元する〔４２〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔５９〕 Ｒがメトキシメチル基である〔４１〕、〔４５〕、〔４９〕、〔５３〕又は〔５７〕のいずれか１項に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔６０〕 Ｒがメトキシメチル基である〔４２〕、〔４６〕、〔５０〕、〔５４〕又は〔５８〕のいずれか１項に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔６１〕 Ｘが塩素原子である〔６０〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔６２〕 一般式（２）

（式中、Ｘは水素原子又はハロゲン原子を示し、Ｒはアルコキシメチル基を示す。）
で表されることを特徴とするニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体。

〔６３〕 Ｘが水素原子である〔６２〕に記載のニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体。

〔６４〕 Ｘがハロゲン原子である〔６２〕に記載のニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体。

〔６５〕 Ｘが塩素原子である〔６２〕に記載のニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体。

〔６６〕 Ｒがメトキシメチル基である〔６２〕から〔６５〕のいずれか１項に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

〔６７〕 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体におけるＸがハロゲン原子であり、ニトロ基とハロゲン原子を別工程で還元する〔１〕に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。

本発明により、一般式（３）で表されるアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の新規な工業的製造法及び一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体が提供される。

本発明方法によれば、一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体において、Ｘが水素原子である場合、そのカルボニル基を先に還元することで、続くニトロ基の還元が、入手容易な鉄粉に代表される金属を還元剤として、しかも特許文献１の実施例に記載の反応のように大過剰ではなく、理論量程度を用いて行うことが可能であり、特殊な反応装置を必要とせず、高圧の水素を使用しないという穏やかな条件下、効率良く、簡便な操作で、しかも高い収率で目的とする一般式（３）で表されるアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体を製造することができる。更には、上記還元剤に由来する廃棄物量を低減することで、環境負荷を低減することができる。

上記ニトロ基の還元は、特許文献１に記載の反応で使用されている酢酸を必要とせず、遊離の酸を仕込まないで、即ち実質的に中性の反応条件下に行うことが可能であり、廃棄物の性質を好ましいものとすることでも、環境負荷を低減することができる。尚、特許文献１及び特許文献３において参考例として具体的に記載されている、ニトロ基の還元を先に行ってアミノフェニルピリミジニルケトン誘導体である中間体[Ｖｂ]を経由するルートでは、後述する比較例１に示すように、酢酸等のカルボン酸に代表される遊離の酸を仕込まないで、即ち実質的に中性条件下でニトロ基の還元を行ったところ、反応は十分には進行しなかった。

更に、本発明方法によれば、一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体において、Ｘが水素原子である場合、そのカルボニル基を先に還元することで、続くニトロ基の還元が、入手容易なパラジウム触媒を適切な量で用いても行うことが可能であり、特殊な反応装置を必要とせず、高圧の水素を使用しないという穏やかな条件下、効率良く、簡便な操作で、しかも高い収率で目的とする一般式（３）で表されるアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体を製造できる。更には、廃棄物量を低減したり、廃棄物の性質を好ましいものとしたりすることで、環境負荷を低減できる。

更に、本発明方法によれば、一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体において、Ｘがハロゲン原子である場合、そのカルボニル基を先に還元することで、続くニトロ基の還元とハロゲン原子の還元が、入手容易なパラジウム触媒を適切な量で用いて可能であり、特殊な反応装置を必要とせず、高圧の水素を使用しないという穏やかな条件下、効率良く、簡便な操作で、しかも高い収率で目的とする一般式（３）で表されるアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体を製造できる。更には、廃棄物量を低減したり、廃棄物の性質を好ましいものとしたりすることで、環境負荷を低減できる。

従って、特許文献１及び特許文献３に参考例で具体的に記載されている製造方法における、カルボニル基及びニトロ基の還元の順番を変えることにより、同時に、一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を提供することにより、これらの性質が異なる複数の効果が得られ、複数の難点を同時に解決することができた。

以下、本発明について詳細に説明する。

本発明は、一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体のカルボニル基を先に還元して、一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を製造した後、当該誘導体を還元するアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法、及び有用な中間体である一般式（２）で表されることを特徴とするニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体に関するものである。

尚、上記の通り、一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体において、Ｘがハロゲン原子のときには、一般式（２）で表されるアルコール誘導体のニトロ基の還元と当該ハロゲン原子の還元による除去を一工程で行うことができるが、工程数の増加や収率の低下等の不利益を無視すれば、一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体のニトロ基とハロゲン原子を別工程で還元しても良い。

｛一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体｝
まず、本発明製造方法の原料として用いる、一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体について説明する。

一般式（１）における置換基Ｘは、水素原子、又はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子よりなるハロゲン原子を示す。

一般式（１）中の基Ｒはアルコキシメチル基を示す。

アルコキシメチル基とは、例えば、（直鎖又は分岐Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）−メチル基を示す。尚、「Ｃ１〜Ｃ４」はこれに続く置換基の炭素数が１から４であることを意味し、例えば（直鎖又は分岐Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ）−メチル基とは、例えばメトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、ブトキシメチル基、イソブトキシメチル基、ｓｅｃ−ブトキシメチル基、ｔｅｒｔ−ブトキシメチル基を示す。

従って、一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体としては、具体的には例えば、
（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）ケトン、
（５−ブロモ−３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン、
（５−クロロ−３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン、
（５−フルオロ−３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン、
（５−ヨード−３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン、
（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−エトキシメチル−２−ニトロフェニル）ケトン、
（５−ブロモ−３−エトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン、
（５−クロロ−３−エトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン、
（３−エトキシメチル−５−フルオロ−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン、
（３−エトキシメチル−５−ヨード−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン、
（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−プロポキシメチル−２−ニトロフェニル）ケトン、
（５−ブロモ−２−ニトロ−３−プロポキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン、
（５−クロロ−２−ニトロ−３−プロポキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン、
（５−フルオロ−２−ニトロ−３−プロポキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン、
（５−ヨード−２−ニトロ−３−プロポキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン、
（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−イソプロポキシメチル−２−ニトロフェニル）ケトン、
（５−ブロモ−３−イソプロポキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン、
（５−クロロ−３−イソプロポキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン、
（５−フルオロ−３−イソプロポキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン、
（５−ヨード−３−イソプロポキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン、
（５−ブロモ−３−イソプロポキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ブトキシトキシピリミジン−２−イル）ケトン、
（３−ブトキシメチル−５−クロロ−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン、
（３−ブトキシメチル−５−フルオロ−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン、
（３−ブトキシメチル−５−ヨード−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン、
（５−ブロモ−３−イソプロポキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン、
（３−ｓｅｃ−ブトキシメチル−５−クロロ−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン、
（３−ｔｅｒｔ−ブトキシメチル−５−フルオロ−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン
を挙げることができる。

一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体は公知の化合物であるか、或いは、例えば特許文献１、２、及び３に記載の方法等により製造することができる化合物である。

｛一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法｝
続いて、一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体のカルボニル基を還元することによる、一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造工程について説明する。

（還元剤）
当工程の反応には、一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体のカルボニル基を還元できればいかなる還元剤を用いても良く、具体的には金属水素化物を例示することができるが、これに限定されるものではない。

（金属水素化物）
当反応に還元剤として使用できる金属水素化物としては、具体的には例えば、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリ(sec-ブチル)ホウ素リチウム、水素化ホウ素カルシウム、又はボラン・テトラヒドロフラン錯体等の水素化ホウ素化合物；水素化リチウムアルミニウム又は水素化ジイソブチルアルミニウム等の水素化アルミニウム化合物；トリエチルシラン又はトリクロロシラン等の水素化ケイ素化合物等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。尚、これらの金属水素化物等の還元剤は、単独で又は２種以上を任意の割合で混用しても良い。

入手性や取り扱いの簡便さ、反応性、価格等の観点からは、水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カルシウム、ボラン・テトラヒドロフラン錯体又は水素化リチウムアルミニウムの使用が好ましく、水素化ホウ素ナトリウム又は水素化リチウムアルミニウムの使用がより好ましく、水素化ホウ素ナトリウムの使用が更に好ましい。

（金属水素化物等の還元剤の使用量）
当反応における還元剤の使用モル比は、一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体（原料化合物）に対して反応が充分に進行する範囲であれば良いが、一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体（原料化合物）１モルに対して、通常０．１〜１０．０モル、好ましくは０．２〜１０．０モル、より好ましくは０．２５〜５モル、更に好ましくは０．２５〜３．０モル、特に好ましくは０．２５〜１．５モルの範囲を例示することができる。

（アルコール）
当反応において、水素化ホウ素化合物を用いる場合にはアルコールを用いることが好ましい。当反応に用いるアルコールとしては、具体的には例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノールに代表されるＣ１〜Ｃ６アルカノール；エチレングリコールに代表されるＣ１〜Ｃ６アルカンジオール等を挙げることができる。これらのアルコールは単独で又は任意の割合で用いても良い。尚、入手性や取り扱いの簡便さ、反応性等の観点から、メタノール、エタノールの使用が好ましく、メタノールの使用がより好ましい。

（アルコールの使用量）
当反応における、アルコールの使用モル比は、反応が充分に進行する範囲であれば良いが、一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体（原料化合物）に対して、通常０．０１モル以上、好ましくは０．１〜２０．０モル、より好ましくは０．１〜１０．０モル、更に好ましくは０．１〜５．０モルの範囲を例示することができる。但し、後述する溶媒を兼ねてアルコールを使用する場合は、ここに例示の範囲と関係なく、大過剰量を用いても差し支えない。

（溶媒）
当反応は無溶媒でも実施することができるが、反応を円滑に進行させるためには溶媒を用いることが好ましい。

当反応に用いることができる溶媒としては、反応を阻害しないものであれば良く、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、アセトニトリル又はプロピレンカーボネート等の非プロトン性極性溶媒類；ジフェニルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）又はジオキサン等のエーテル類；トルエン、キシレン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；ペンタン又はヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン等の含ハロゲン炭化水素類；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はエチレングリコール等のアルコール類；水等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

中でも溶媒としては、ジフェニルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）又はジオキサン等のエーテル類；トルエン、キシレン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はエチレングリコール等のアルコール類；水が好ましく、トルエン、キシレン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はエチレングリコール等のアルコール類が更に好ましく、トルエン又はメタノールが特に好ましい。尚、溶媒は単独で又は任意の混合割合の混合溶媒として用いることができる。

（溶媒量）
溶媒量としては、反応系の撹拌が充分にできる量であれば良いが、一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体（原料化合物）１モルに対して、通常０〜２０Ｌ、好ましくは０．１〜１０Ｌ、より好ましくは０．３〜２．０Ｌ、更に好ましくは０．５〜１．５Ｌの範囲を例示することができる。

（反応温度）
当反応の反応温度としては、−１０℃〜使用する溶媒の還流温度の範囲を例示することができるが、−１０℃〜３０℃の範囲が好ましく、−１０℃〜２０℃の範囲がより好ましく、−５℃〜１０℃の範囲が更に好ましい。

（反応時間）
当反応の反応時間は特に制限されないが、副生物抑制の観点等から、好ましくは１時間〜４８時間を例示することができ、更に好ましくは１時間〜３０時間を例示することができる。

（一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体）
続いて、上述のごとく一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体より製造される、一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体について説明する。尚、一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体は新規化合物である。

一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体中のＸ及びＲは、前記一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体におけるそれらと同じ意味を示す。

一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体としては、具体的には例えば、
（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）メタノール、
（５−ブロモ−３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（５−クロロ−３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（５−フルオロ−３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（５−ヨード−３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−エトキシメチル−２−ニトロフェニル）メタノール、
（５−ブロモ−３−エトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（５−クロロ−３−エトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（３−エトキシメチル−５−フルオロ−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（３−エトキシメチル−５−ヨード−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（２−ニトロ−３−プロポキシメチルフェニル）メタノール、
（５−ブロモ−２−ニトロ−３−プロポキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（５−クロロ−２−ニトロ−３−プロポキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（５−フルオロ−２−ニトロ−３−プロポキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（５−ヨード−２−ニトロ−３−プロポキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−イソプロポキシメチル−２−ニトロフェニル）メタノール、
（５−ブロモ−３−イソプロポキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（５−クロロ−３−イソプロポキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（５−フルオロ−３−イソプロポキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（５−ヨード−３−イソプロポキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（５−ブロモ−３−イソプロポキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ブトキシトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（３−ブトキシメチル−５−クロロ−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（３−ブトキシメチル−５−フルオロ−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（３−ブトキシメチル−５−ヨード−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（５−ブロモ−３−イソプロポキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（３−ｓｅｃ−ブトキシメチル−５−クロロ−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（５−フルオロ−３−ｔｅｒｔ−ブトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール
を挙げることができる。

｛一般式（３）で表されるアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法｝
続いて、一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を還元することによる、一般式（３）で表されるアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造工程について説明する。

（還元反応）
当工程の反応には、Ｘが水素原子のときは一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体のニトロ基を還元できれば、或いは、Ｘがハロゲン原子のときは一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体のニトロ基とハロゲン原子を還元できれば、いかなる還元反応を用いても良いが、当反応に用いる還元反応としては、還元剤として鉄粉に代表される金属を用いる還元反応、或いは、パラジウム触媒を用いる還元反応が、特殊な反応装置や高圧の水素等は必要がなく、好ましい。

（還元剤として金属を用いる還元反応）
（金属）
還元剤として金属を用いる還元反応において、還元剤として使用できる金属としては、当該反応が可能な金属であれば何れでも構わず、鉄、亜鉛、スズ又は銅等を例示することができ、これらに限定されるものではないが、入手性や取り扱いの簡便さ、反応性、価格等の観点から鉄の使用が好ましい。

これらの還元剤として金属は、反応が進行するのであれば如何なる形態のものでも使用することができるが、入手性や取り扱いの簡便さ、反応性、価格等の観点から、粉状の金属が好ましく、従って、当反応に使用できる金属としては、具体的には例えば鉄粉の使用がより好ましい。

（鉄粉等の金属の使用量）
当反応における、鉄粉に代表される還元剤としての金属の使用量は、反応が充分に進行する量であれば良いが、一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体（原料化合物）１モルに対して、通常０．５〜５０．０モル、好ましくは０．５〜２０．０モル、より好ましくは２．０〜５．０モル、更に好ましくは２．０〜４．０モル、特に好ましくは２．０〜３．０モルの範囲を例示することができる。尚、還元剤としての金属の理論量は２当量であり、理論量程度の還元剤を使用することにより、還元剤に由来する廃棄物量を低減することができる。

（塩）
還元剤として鉄粉に代表される金属を用いる上記還元反応には、他にいかなる試剤を用いても良いが、好ましくは塩を用いる。

当反応に使用できる塩としては、カチオンとアニオンから形成される化合物を示すことができるが、これらに限定されるものではない。

当該化合物（塩）を形成するカチオンとしては、金属イオン、アンモニウムイオン(NH₄ ⁺)、アミニウムイオン、４級アンモニウムイオン又は４級ホスホニウムイオン等を例示することができるが、これらに限定されるものではない。

上記金属イオンにおける金属原子としては、リチウム原子、ナトリウム原子又はカリウム原子のアルカリ金属原子;マグネシウム原子、カルシウム原子又はバリウム原子等のアルカリ土類金属原子;亜鉛等の亜鉛族金属原子;鉄原子、スズ原子又は銅原子等の遷移金属原子を例示することができるが、これらに限定されるものではない。

上記アミニウムイオンにおけるアミンとしては、メチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、キノリン、アニリン又はＮ，Ｎ−ジエチルアニリン等のアミン類を例示することができるが、これらに限定されるものではない。

上記４級アンモニウムイオンとしては、テトラブチルアンモニウムイオン、トリメチルブチルアンモニウムイオン、トリオクチルメチルアンモニウムイオン等の直鎖若しくは分岐Ｃ１〜Ｃ８アルキル基又はフェニル基を有する４級アンモニウムイオンを例示することができるが、これらに限定されるものではない。

上記４級ホスホニウムイオンとしては、テトラブチルホスホニウムイオン、テトラフェニルホスホニウムイオン等の直鎖若しくは分岐Ｃ１〜Ｃ８アルキル基又はフェニル基を有する４級ホスホニウムイオンを例示することができるが、これらに限定されるものではない。

当該化合物（塩）を形成するアニオンとしては、酸由来のアニオンを例示することができるが、これらに限定されるものではない。

上記アニオンにおける酸としては、塩酸、臭化水素酸若しくはフッ化水素酸等のハロゲン化水素酸や、硫酸、硝酸又はリン酸等の無機酸；ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸又は安息香酸等のカルボン酸；メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸又はｐ−トルエンスルホン酸等のスルホン酸等を例示することができるが、これらに限定されるものではない。

従って、当反応に使用できる塩としては、アンモニウム塩、４級アンモニウム塩、４級ホスホニウム塩、アミン塩、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、亜鉛族金属塩又は遷移金属塩を示すことができるが、これらに限定されるものではない。

上記塩としては、具体的には、塩化アンモニウム又は臭化アンモニウム等のハロゲン化アンモニウム塩；臭化テトラブチルアンモニウム、塩化トリメチルブチルアンモニウムイオン又は塩化トリオクチルメチルアンモニウムイオン等のハロゲン化４級アンモニウム塩；臭化テトラフェニルホスホニウム等のハロゲン化４級ホスホニウム塩；トリエチルアミン塩酸塩又はピリジン塩酸塩等のアミンハロゲン化水素酸塩；塩化リチウム、塩化ナトリウム又は塩化カリウム等のハロゲン化アルカリ金属塩；塩化マグネシウム、塩化バリウム又は塩化カルシウム等のハロゲン化アルカリ土類金属塩；塩化亜鉛等のハロゲン化亜鉛族金属塩；塩化鉄（ＩＩ）、塩化鉄（ＩＩＩ）、塩化スズ（ＩＩ）、塩化スズ（ＩＶ）塩化銅（Ｉ）又は塩化銅（ＩＩ）等のハロゲン化遷移金属塩；炭酸アンモニウム又は炭酸水素アンモニウム等の炭酸アンモニウム塩；炭酸ナトリウム又は炭酸水素ナトリウム等の炭酸アルカリ金属塩；炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム又は炭酸水素カルシウム等の炭酸アルカリ土類金属塩；炭酸鉄（ＩＩ）、炭酸水素鉄（ＩＩ）又は炭酸銅（ＩＩ）等の炭酸遷移金属塩；硫酸アンモニウム又は硫酸水素アンモニウムの硫酸アンモニウム塩；硫酸水素テトラブチルアンモニウム等の硫酸４級アンモニウム塩；硫酸ナトリウム又は硫酸カリウム等の硫酸アルカリ金属塩；硫酸バリウム、硫酸カルシウム又は硫酸水素カルシウム等の硫酸アルカリ土類金属塩；硫酸鉄（ＩＩ）、硫酸鉄（ＩＩＩ）、硫酸スズ（ＩＩ）、硫酸スズ（ＩＶ）硫酸銅（Ｉ）又は硫酸銅（ＩＩ）等の硫酸遷移金属塩；硝酸アンモニウム；硝酸鉄（ＩＩ）又は硝酸鉄（ＩＩＩ）等の硝酸遷移金属塩；リン酸アンモニウム；リン酸ナトリウム、リン酸二水素ナトリウム又はリン酸水素二ナトリウム等のリン酸アルカリ金属塩；ギ酸アンモニウム、酢酸アンモニウム、プロピオン酸アンモニウム、トリフルオロ酢酸アンモニウム又は安息香酸アンモニウム等のカルボン酸アンモニウム塩；酢酸テトラブチルアンモニウム等のカルボン酸４級アンモニウム塩；酢酸テトラブチルホスホニウム等のカルボン酸４級ホスホニウム塩；トリエチルアミン酢酸塩又はピリジン酢酸塩等のカルボン酸アミン塩；酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、プロピオン酸ナトリウム、酢酸カリウム又はプロピオン酸カリウム等のカルボン酸アルカリ金属塩；酢酸マグネシウム、プロピオン酸マグネシウム、酢酸カルシウム又はプロピオン酸カルシウム等のカルボン酸アルカリ土類金属塩；カルボン酸鉄（ＩＩ）又はカルボン酸鉄（ＩＩＩ）等のカルボン酸遷移金属塩；ベンゼンスルホン酸アンモニウム等のスルホン酸アンモニウム塩；トリフルオロメタンスルホン酸テトラブチルアンモニウム等のスルホン酸４級アンモニウム塩；トリエチルアミンベンゼンスルホン酸塩等のアミンスルホン酸塩；ｐ−トルエンスルホン酸ナトリウム等のスルホン酸アルカリ金属塩；ベンゼンスルホン酸バリウム等のスルホン酸アルカリ土類金属塩を例示することができるが、これらに限定されるものではない。

尚、入手性や取り扱いの簡便さ、反応性、価格等の観点から、アンモニウム塩又はアルカリ土類金属塩の使用が好ましく、ハロゲン化アンモニウム塩、炭酸アンモニウム塩、カルボン酸アンモニウム塩、ハロゲン化アルカリ土類金属塩又は炭酸アルカリ土類金属塩の使用がより好ましく、ハロゲン化アンモニウム塩、カルボン酸アンモニウム塩又はハロゲン化アルカリ土類金属塩の使用が更に好ましく、塩化アンモニウム、酢酸アンモニウム、塩化カルシウム又は塩化バリウムの使用が更に好ましく、塩化アンモニウム又は酢酸アンモニウムの使用が特に好ましい。

これらの塩は無水物であっても水和物であっても良く、これらの塩は単塩であっても複塩であっても良い。又、これらの塩は単独で又は２種以上を任意の割合で混用しても良い。

（塩の使用量）
当反応における塩の使用モル比は、反応が充分に進行する範囲であれば何れでも良いが、一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体（原料化合物）１モルに対して、通常０．０１〜５０．０モル、好ましくは０．０１〜１０．０モル、より好ましくは０．０５〜５．０モル、更に好ましくは０．１〜３．０モル、特に好ましくは０．１〜１．０モルの範囲を例示することができる。

（遊離の酸）
（遊離のカルボン酸）
還元剤として鉄粉に代表される金属を用いる当該還元反応は、特許文献１等の従来技術と異なり、酢酸等の遊離のカルボン酸に代表される酸を仕込むことなくニトロ基の還元が十分に進行する。言い換えれば、実質的に中性の反応条件下にニトロ基の還元が十分に進行する。従って、酸性の廃液を排出したり、又、これを中和したりする必要がないために、環境負荷を低減することができる。

（水又はアルコール類）
還元剤として鉄粉に代表される金属を用いる当該還元反応には、水又はアルコール類を用いることが好ましい。当反応に用いることができるアルコール類としては、当反応に用いることができる溶媒として後述するアルコール類を例示することができる。

（水又はアルコール類の使用量）
当反応における、水又はアルコール類の使用モル比は、反応が充分に進行する範囲であれば良いが、一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体（原料化合物）に対して、通常０モル以上、好ましくは０．０１モル以上、より好ましくは０.０１〜２０００モル、更に好ましくは１〜１００モル、特に好ましくは５〜２０モルの範囲を例示することができる。但し、後述する溶媒を兼ねて使用する場合は、上記例示の範囲に拘わらず、大過剰量を用いても差し支えない。

（溶媒）
還元剤として鉄粉に代表される金属を用いる当反応は、無溶媒でも実施することができるが、反応を円滑に進行させるために溶媒を用いることが好ましい。

当反応に用いうることができる溶媒としては、反応を阻害しないものであれば良く、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、アセトニトリル又はプロピレンカーボネート等の非プロトン性極性溶媒類；ジフェニルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）又はジオキサン等のエーテル類；トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタン又はヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等の含ハロゲン炭化水素類；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はエチレングリコール等のアルコール類：水等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。中でも溶媒としては、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はエチレングリコール等のアルコール類又は水が好ましく、トルエン、キシレン、メタノール、エタノール、イソプロパノール又は水が更に好ましい。尚、溶媒は単独で、又は任意の混合割合の混合溶媒として用いることができる。

（溶媒量）
溶媒量としては、反応系の撹拌が充分にできる量であれば良いが、一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体（原料化合物）１モルに対して、通常０〜１０Ｌ、好ましくは０．０５〜１０Ｌ、より好ましくは０．１〜５Ｌ、更に好ましくは０．２〜２Ｌ、特に好ましくは０．２〜１．５Ｌの範囲を例示することができる。

（反応温度）
当反応の反応温度としては、通常０℃〜使用する溶媒の還流温度の範囲を例示できるが、好ましくは０℃〜１５０℃、より好ましくは２０℃〜１００℃、更に好ましくは４０℃〜１００℃、特に好ましくは６０〜１００℃の範囲を例示することができる。

（反応時間）
当反応の反応時間は特に制限されないが、副生物抑制の観点等から、好ましくは１時間〜４８時間を例示することができ、更に好ましくは１時間〜３０時間を例示することができる。

（パラジウム触媒を用いる還元反応）
（パラジウム触媒）
当該還元反応に用いるパラジウム触媒としては、当該反応が可能なパラジウム触媒であれば何れでも構わないが、具体的には例えば、パラジウムカーボン、パラジウム担持アルミナ、パラジウム担持硫酸バリウム、パラジウム担持炭酸カルシウム等のパラジウム触媒を挙げることができる。

中でも、反応性が高く、高価なパラジウム触媒を反応後に容易に回収可能なパラジウムカーボン、パラジウム担持アルミナの使用が好ましく、入手性や取り扱いの簡便さ、反応性等の観点からは、パラジウムカーボンの使用がより好ましい。これらのパラジウム触媒は単独で又は任意の割合で混用しても良い。

（パラジウム触媒の使用量）
当反応におけるパラジウム触媒は、反応が充分に進行する量であれば良いが、その使用量は、一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール（原料化合物）に対して、モル比（金属パラジウム換算）で、通常０．００００１〜１．０モル、好ましくは０．０００１〜０．１モル、より好ましくは０．００５〜０．１モル、更に好ましくは０．００５〜０．０５モル、特に好ましくは０．００５〜０．０３モルの範囲を例示することができる。

（水素源としての還元剤）
パラジウム触媒を用いる当該還元反応には還元剤（水素源）を用いる。当反応に用いる還元剤としては、当反応が可能な還元剤であればいずれでも構わないが、具体的には例えば、ギ酸、ギ酸アンモニウム、ギ酸ナトリウム若しくはギ酸カリウム等のギ酸塩、又はギ酸メチル若しくはギ酸エチル等のギ酸エステルのギ酸化合物；水素；水素化ホウ素ナトリウム等のホウ素水素化物；水素化リチウムアルミニウム等のアルミニウム水素化物；メタノール、エタノール又はイソプロパノール等のアルコール類等を挙げることができる。

中でも、入手性や取り扱いの簡便さ、反応性等の観点からギ酸、ギ酸アンモニウム、ギ酸ナトリウム、ギ酸カリウム、ギ酸メチル、ギ酸エチル又は水素の使用が好ましく、ギ酸アンモニウム、ギ酸ナトリウム、ギ酸カリウム又は水素の使用がより好ましく、ギ酸アンモニウム、ギ酸カリウム又は水素の使用が更に好ましい。尚、これらの還元剤は単独で、又は任意の割合で混用しても良い。

（還元剤の使用量）
当反応における還元剤（水素源）の使用モル比は、反応が充分に進行する量であれば良いが、一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体（原料化合物）１モルに対して、通常１〜２０モル、好ましくは１〜１０モル、より好ましくは１〜６モルの範囲を例示することができる。但し、後述する溶媒を兼ねて使用する場合は、ここに例示の範囲と関係なく、大過剰量を用いても差し支えない。

（水素）
パラジウム触媒を用いる当該還元反応において、還元剤に水素を用いるときは、水素の圧力は特に限定されないが、工業的な要望から高圧の水素ではなく、常圧の水素の使用が好ましい。

（塩基性物質）
パラジウム触媒を用いる当該還元反応において還元剤に水素を用いるときは、目的の反応が進行すれば、他にいかなる試剤を用いても良いが、Ｘがハロゲン原子であるときには好ましくは塩基性物質を用いる。

当反応に使用できる塩基性物質としては、具体的には例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム又は水酸化バリウム等のアルカリ土類金属水酸化物；炭酸リチウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類；炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム又は炭酸バリウム等のアルカリ土類金属炭酸塩；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩；炭酸水素マグネシウム又は炭酸水素カルシウム等のアルカリ土類金属重炭酸塩；ナトリウムメトキシド又はｔｅｒｔ−ブトキシカリウム等のアルコール金属塩類；ギ酸ナトリウム、ギ酸カリウム、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、プロピオン酸ナトリウム又はプロピオン酸カリウム等のカルボン酸アルカリ金属塩；酢酸マグネシウム、プロピオン酸マグネシウム、酢酸カルシウム、プロピオン酸カルシウム等のカルボン酸アルカリ土類金属塩；ピリジン、トリエチルアミン又は１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類；水素化ナトリウム等の金属水素化物類；ナトリウムアミド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類を示すことができるが、これらに限定されるものではない。

中でも、入手性や取り扱いの簡便さ、反応性、価格等の観点からは、ギ酸ナトリウム、ギ酸カリウム、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、プロピオン酸ナトリウム、プロピオン酸カリウム等のカルボン酸アルカリ金属塩又は酢酸マグネシウム、プロピオン酸マグネシウム、酢酸カルシウム又はプロピオン酸カルシウム等のカルボン酸アルカリ土類金属塩等のカルボン酸塩の使用が好ましく、ギ酸ナトリウム、ギ酸カリウム、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、プロピオン酸ナトリウム又はプロピオン酸カリウム等のカルボン酸アルカリ金属塩の使用がより好ましく、酢酸ナトリウムの使用が更に好ましい。

（塩基性物質の使用量）
当反応におけるカルボン酸塩等の塩基性物質の使用モル比は、反応が充分に進行する範囲であれば何れでも良いが、一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体（原料化合物）１モルに対して、通常０.５〜１０モル、好ましくは１〜５モル、より好ましくは１〜２モルの範囲を例示することができる。

（溶媒）
当反応は反応を円滑に進行するために溶媒を用いることが好ましい。当反応に用いることができる溶媒としては、反応を阻害しないものであれば良く、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はエチレングリコール等のアルコール類；水；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、アセトニトリル又はプロピレンカーボネート等の非プロトン性極性溶媒類；トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素；ジフェニルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）又はジオキサン等のエーテル類；ジクロロメタン等の含ハロゲン溶媒；ペンタン又はヘキサン等の脂肪族炭化水素類等が挙げられる。入手性や取り扱いの簡便さ、反応性、価格等の観点から好ましくはメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール又はエチレングリコール等のアルコール類又は水を用いることが良く、より好ましくはメタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール又は水を用いることが良く、更に好ましくはメタノール又は水を用いることが良く、メタノールを溶媒として用いると特に好ましい。尚、溶媒は単独で、又は任意の混合割合の混合溶媒として用いることができる。

（溶媒量）
溶媒量としては、反応系の撹拌が充分にできる量であれば良いが、一般式（２）で表されるピリミジニルアルコール誘導体（原料化合物）１モルに対して、通常０．０５〜１０Ｌ、好ましくは０．２〜２Ｌの範囲を例示することができる。

（反応温度）
当反応の反応温度は、通常−１０℃〜使用する溶媒の還流温度の範囲を例示できるが、好ましくは−１０〜１００℃、より好ましくは０〜８０℃、更に好ましくは０〜６０℃、特に好ましくは０〜５０℃の範囲が良い。

（反応時間）
反応の反応時間は特に制限されないが、副生物抑制の観点等から、好ましくは１時間〜４８時間を例示することができ、更に好ましくは１時間〜３０時間を例示することができる。

｛一般式（３）で表されるアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体｝
続いて、本発明方法により得られる、一般式（３）で表されるアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体について説明する。

一般式（３）で表されるアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体中のＸ及びＲは、前記一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体におけるそれらと同じ意味を示す。

一般式（３）で表されるアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体としては、具体的には例えば、
（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（２−アミノ−３−エトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（２−アミノ−３−プロポキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（２−アミノ−３−イソプロポキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（２−アミノ−３−ブトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（２−アミノ−３−イソブトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（２−アミノ−３−ｓｅｃ−ブトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール、
（２−アミノ−３−ｔｅｒｔ−ブトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール
を挙げることができる。

次に、実施例を挙げて本発明化合物の製造方法を具体的に説明するが、本発明は、これら実施例によって何ら限定されるものではない。

実施例１
（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）メタノール｛一般式（２）において、Ｘ＝Ｈ、Ｒ＝メトキシメチルの化合物｝の製造：水素化ホウ素ナトリウムによるカルボニル基の還元
撹拌器、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた１００ｍｌの四つ口フラスコに、（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）ケトン９．３３ｇ（２８．０ｍｍоｌ)、トルエン２８ｍｌ、メタノール３．２ｍｌ（７８ｍｍоｌ)を加え、撹拌しながら０〜５℃に冷却し、水素化ホウ素ナトリウム０．３２ｇ（８．４ｍｍоｌ)を少量ずつ分割して仕込んだ。その後０〜５℃で1時間撹拌した。反応液に２％塩酸１４．９ｍｌ（８．４ｍｍоｌ）を滴下し、５０℃で分液した後、トルエン層を水１４ｍｌで洗浄し、減圧下でトルエンを留去した。その後イソプロパノール１２ｍｌ、水５ｍｌを加えて再結晶することにより精製した。（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）メタノールを類白色固体として９１％の収率で得た。
融点：９３．３℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，σ）：７．４３〜７．５７（ｍ，３Ｈ），６．０１（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），５．８７（ｓ，１Ｈ）４．９１（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），４．５０（ｓ，２Ｈ），３．９０（ｓ，６Ｈ），３．３５（ｓ，３Ｈ）
ＬＣ−ＭＳ（ｍ／ｚ）：３３６．１［Ｍ＋Ｈ］^＋

実施例２
（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール｛一般式（３）において、Ｘ＝Ｈ、Ｒ＝メトキシメチルの化合物｝の製造：鉄粉によるニトロ基の還元
撹拌器、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた１００ｍｌの四つ口フラスコに、（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）メタノール１３．３３ｇ（０．０４ｍоｌ)、鉄粉５．５８ｇ（０．１０ｍоｌ、２．５当量)、エタノール４０ｍｌを加え、撹拌しながら８０℃に昇温した。そこへ塩化アンモニウム１．０７ｇ（０．０２ｍоｌ）、水１２ｍｌの混合液を滴下し、８０℃で１時間撹拌した。反応液を２５℃まで冷却した後、セライトを用いてろ過した。ろ液から減圧下でエタノールを留去した後、クロロベンゼン２０ｍｌ、水２０ｍｌを加えて撹拌し、分液した。クロロベンゼン層を水４０ｍｌで洗浄し、（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールを黄色のクロロベンゼン溶液として得た。この溶液をＨＰＬＣ絶対検量線法で分析した結果、収率は９３％であった。

実施例３
（実施例２の塩化アンモニウムに代わり、酢酸アンモニウムを使用した例）
撹拌器、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた１００ｍｌの四つ口フラスコに、鉄粉６．９８ｇ（０．１２５ｍоｌ、２．５当量)、酢酸アンモニウム１．９３ｇ（０．０２５ｍоｌ）、水１５ｍｌを加え、撹拌しながら８０℃に昇温した。そこへ（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）メタノール３９ｇ（０．０５ｍоｌ)、イソプロパノール５０ｍｌのスラリー液を滴下し、８０℃で４時間攪拌した。反応液を２５℃まで冷却した後、セライトを用いてろ過した。ろ液から減圧下でイソプロパノールを留去した後、クロロベンゼン２５ｍｌを加えて攪拌し、分液した。クロロベンゼン層を水５０ｍｌで洗浄し、（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールを黄色のクロロベンゼン溶液として得た。この溶液をＨＰＬＣ絶対検量線法で分析した結果、収率は９１％であった。

実施例４
（実施例２の塩化アンモニウムに代わり、酢酸アンモニウムを使用した例）
撹拌器、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた１０００ｍｌの四つ口フラスコに、鉄粉１２１．４５ｇ（２．１７ｍоｌ、２．５当量)、酢酸アンモニウム３３．５３ｇ（０．４３５ｍоｌ）、水２６１ｍｌを加え、撹拌しながら８０℃に昇温した。そこへ（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）メタノール２９１．７１ｇ（０．８７ｍоｌ)、イソプロパノール２９２ｍｌのスラリー液を滴下し、８０℃で４時間撹拌した。反応液を２５℃まで冷却した後、セライトを用いてろ過した。ろ液から減圧下でイソプロパノールを留去した後、クロロベンゼン４３５ｍｌを加えて撹拌し、分液した。このときの水層のｐＨは７．９であった。クロロベンゼン層を水４３５ｍｌで洗浄し、（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールを黄色のクロロベンゼン溶液として得た。この溶液をＨＰＬＣ絶対検量線法で分析した結果、収率は９５％であった。

遊離の酸を仕込んでいない実施例４の上記水相、即ち廃水のｐＨは７．９であり酸性ではないため、特に中和を必要としない。又、使用している化合物や試薬等に照らし、他の実施例でも水相の液性は中性と予想される。

実施例５
（実施例２の塩化アンモニウムに代わり、塩化カルシウムを使用した例。）
マグネットスターラー、滴下ロートを備えた５０ｍｌのナス型フラスコに、（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）メタノール１．６８ｇ（５ｍｍоｌ)、鉄粉０．７ｇ（１３ｍｍоｌ、２．６当量)、エタノール５ｍｌを加え、撹拌しながら８０℃に昇温した。そこへ塩化カルシウム０．２８ｇ（３ｍｍоｌ）、水１．５ｍｌを滴下し、８０℃で６時間撹拌した。反応液をＨＰＬＣ分析した結果、（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールの収率はＨＰＬＣ面積百分率で９３．４％であった。

実施例６
（実施例２の塩化アンモニウムに代わり、塩化バリウムを使用した例。）
マグネットスターラー、滴下ロートを備えた５０ｍｌのナス型フラスコに、（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）メタノール１．６８ｇ（５ｍｍоｌ)、鉄粉０．７ｇ（１３ｍｍоｌ、２．６当量)、エタノール５ｍｌを加え、撹拌しながら８０℃に昇温した。そこへ塩化バリウム０．５２ｇ（３ｍｍоｌ）、水１．５ｍｌを滴下し、８０℃で２時間撹拌した。反応液をＨＰＬＣ分析した結果、（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールの収率はＨＰＬＣ面積百分率で９１．９％であった。

実施例７
（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール｛一般式（３）において、Ｘ＝Ｈ、Ｒ＝メトキシメチルの化合物｝の製造：パラジウム触媒によるニトロ基の還元
撹拌器、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた２００ｍｌの四つ口フラスコに、（３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール１３．３ｇ（０．０４ｍоｌ)、５％Ｐｄ/Ｃ（５０％含水）２．６９ｇ（０．６ｍｍоｌ)、ギ酸アンモニウム２２．７ｇ（０．２４ｍоｌ）、メタノール４０ｍｌを加え、４０℃に保ちながら３時間撹拌した。室温まで冷却し反応液をろ過した。ろ液から減圧下でメタノールを留去した後、クロロベンゼン２０ｍｌ、水２０ｍｌ加えて撹拌し、分液した。クロロベンゼン層を水８ｍｌで洗浄し、（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールを黄色のクロロベンゼン溶液として得た。この溶液をＨＰＬＣ絶対検量線法で分析した結果、収率は９５％であった。

実施例８
（５−クロロ−３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール｛一般式（２）において、Ｘ＝Ｃｌ、Ｒ＝メトキシメチルの化合物｝の製造
実施例１と同様の方法で、（５−クロロ−３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトンを原料に用いて、（５−クロロ−３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールを得た。
融点：９２．５℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，σ）：７．５９（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），７．５１（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），６．０７（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），５．９１（ｓ，１Ｈ），４．９７（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ），４．５４（ｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ，１Ｈ），４．４６（ｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ，１Ｈ）３．９２（ｓ，６Ｈ），３．４０（ｓ，３Ｈ）ｐｐｍ．
ＬＣ−ＭＳ（ｍ／ｚ）：３７０．８［Ｍ＋Ｈ］^＋

実施例９
（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール｛一般式（３）において、Ｘ＝Ｃｌ、Ｒ＝メトキシメチルの化合物｝の製造：パラジウム触媒によるニトロ基とＣｌ基の還元
撹拌器、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた１００ｍｌの四つ口フラスコに、（５−クロロ−３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール２２．３ｇ（０．０６０ｍоｌ)、５％Ｐｄ/Ｃ（５０％含水）４．０３ｇ（０．９４ｍｍоｌ)、ギ酸アンモニウム２２．７ｇ（０．３６ｍоｌ）、メタノール６０ｍｌを加え、２０〜２５℃に保ちながら１７時間撹拌した。反応液をろ過し、ろ液から減圧下でメタノールを留去した後、クロロベンゼン３０ｍｌ、水３０ｍｌを加えて攪拌し、分液した。クロロベンゼン層を水３０ｍｌで洗浄し、（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールを黄色のクロロベンゼン溶液として得た。この溶液をＨＰＬＣ絶対検量線法で分析した結果、収率は９７％であった。

実施例１０
（実施例９のギ酸アンモニウムに代わり、ギ酸カリウムを使用した例）
撹拌器、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた１００ｍｌの四つ口フラスコに、（５−クロロ−３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール２２．３ｇ（０．０６０ｍоｌ)、５％Ｐｄ/Ｃ（５０％含水）４．０３ｇ（０．９４ｍｍоｌ)、ギ酸カリウム３０．２８ｇ（０．３６ｍоｌ）、水９．６ｇ、メタノール６０ｍｌを加え、１０〜１５℃に保ちながら１８時間攪拌した。反応液をろ過し、ろ液から減圧下でメタノールを留去した後、クロロベンゼン３０ｍｌ、水３０ｍｌを加えて撹拌し、分液した。クロロベンゼン層を水１２ｍｌで洗浄し、（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールを黄色のクロロベンゼン溶液として得た。この溶液をＨＰＬＣ絶対検量線法で分析した結果、収率は９７％であった。

実施例１１
（実施例９のギ酸アンモニウムに代わり、常圧の水素を使用した例）
マグネットスターラー、滴下ロートを備えた２５ｍｌのナス型フラスコに、（５−クロロ−３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール０．５１ｇ（１．５ｍｍоｌ)、１０％Ｐｄ/Ｃ（ｄｒｙ品）０．０２５ｇ（０．０２４ｍｍоｌ)、酢酸ナトリウム０．２５ｇ（３ｍｍｏｌ）、アセトニトリル１．５ｍｌを加え、常圧で水素を吹き込みながら５時間、室温で撹拌した。反応液をＨＰＬＣ分析した結果、（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールの収率はＨＰＬＣ面積百分率で９３％であった。

実施例１２
（実施例９のギ酸アンモニウムに代わり、常圧の水素を使用した例）
マグネットスターラー、滴下ロートを備えた２５ｍｌのナス型フラスコに、（５−クロロ−３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール０．５１ｇ（１．５ｍｍоｌ)、１０％Ｐｄ/Ｃ（ｄｒｙ品）０．０２５ｇ（０．０２４ｍｍоｌ)、酢酸ナトリウム０．２５ｇ（３ｍｍｏｌ）、メタノール１．５ｍｌを加え、常圧で水素を吹き込みながら８時間、室温で撹拌した。反応液をＨＰＬＣ分析した結果、（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールの収率はＨＰＬＣ面積百分率で９４％であった。

比較例１
｛実施例３及び４と同様の反応条件で、原料に（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）メタノールではなく、（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）ケトンを使用した例｝
（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトンの製造
撹拌器、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた１００ｍｌの四つ口フラスコに、鉄粉０．７ｇ(１２．５ｍｍｏｌ、２．５当量)、酢酸アンモニウム０．１９３ｇ（２．５ｍｍоｌ）、水１．５ｍｌを加え、撹拌しながら８０℃に昇温した。そこへ（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）ケトン１．６７ｇｇ（５ｍｍоｌ)、イソプロパノール５ｍｌのスラリー液を滴下し、８０℃で４時間加熱撹拌した。反応液をＨＰＬＣ分析した結果、目的の（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトンは検出されず、原料の（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）ケトンが残存していた。

更に、同温度で４時間加熱撹拌した。反応液をＨＰＬＣ分析した結果、目的の（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトンの生成はＨＰＬＣ面積百分率で３２％と少量であった。又、ＨＰＬＣ面積百分率で４３％もの大量の原料である（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）ケトンが残存していた。更には、ＨＰＬＣ面積百分率で２５％もの大量の不純物が副生していた。

上記のように、実施例３及び４と同じ反応時間では反応が進行しなかったため、反応時間を実施例３及び４の２倍に延長すると、反応が進行したが、実施例３及び４の高い収率に比較して大幅に低い収率しか得られず、大量の不純物が副生した。

比較例２
｛ＷＯ ００／０６５５３（特許文献１）、１７ページ、参考例２（４）に記載の方法｝
（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトンの製造：鉄粉によるケトン体のニトロ基の還元
（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）ケトン３．３ｇ（１０ミリモル）と、鉄粉３ｇ（５４ミリモル）と、水２０ｍｌと、酢酸エチル１５０ｍｌと酢酸１ｍｌの混合物を５０℃において５時間反応させた。反応液中の不溶物をろ過助剤を用いてろ別し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、乾燥した。溶媒を減圧留去し結晶残査をジイソプロピルエーテルで洗浄することにより、（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン２．４ｇ（収率８０％）を黄色結晶（融点１００〜１０１℃）として得た。

上記のように、鉄粉の使用量が多いため、鉄由来の廃棄物が多くなり、更には酢酸を使用するため、酸性の廃水を生じ、廃棄のためには中和が必要となる。

比較例３ （Ｘ＝Ｈ）
｛特許文献記載１、ＷＯ ００／０６５５３（特許文献記載１）、１７〜１８ページ、参考例２（５）に記載の方法｝
（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールの製造
（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン３．１ｇ（１０ミリモル）をテトラヒドロフランと水との混合溶媒（容量比１：１）５０ｍｌに溶解し、室温で撹拌しながらこの中へ水素化ホウ素ナトリウム０．６ｇ（１６ミリモル）を加え、更に２時間室温で撹拌を続けた。次いで氷水５０ｍｌを加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄、乾燥した。溶媒を減圧留去し、結晶残査をジイソプロピルエーテルで洗浄することにより、（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノール２．８ｇ（収率９２％）を白色粉末（融点４０〜４２℃）として得た。

上記比較例２及び３を連続して行うことにより、本願に係る製造方法の目的化合物に含まれる（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールを得ることができるが、比較例２及び３を連続して行った場合の収率は７３．６％であり、例えば上記実施例１及び２を連続して行った場合の収率である８４．６％には及ばない。

比較例４
（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールの製造
撹拌器、還流冷却器、温度計、滴下ロートを備えた１００ｍｌの四つ口フラスコに、（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）ケトン１６．７ｇ（０．０５ｍоｌ)、鉄粉２２．３ｇ（０．４０ｍоｌ、８当量)、エタノール５０ｍｌを加え、撹拌しながら８０℃に昇温した。そこへ酢酸５０ｍｌ（０．８６ｍоｌ、１７．２当量）を滴下し、８０℃で１時間撹拌した。反応液を２５℃まで冷却した後、セライトを用いてろ過した。反応で生じた酢酸鉄を含むろ液を２５％水酸化ナトリウムで中和し、析出した水酸化鉄をろ別した。当該水酸化鉄のろ過には１７時間もの長時間を要した。ろ液から減圧下でエタノールを留去した後、クロロベンゼンゼン５０ｍｌ、水５０ｍｌを加えて撹拌し、分液した。クロロベンゼン層を水５０ｍｌで洗浄し、（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールを黄色のクロロベンゼン溶液として得た。この溶液をＨＰＬＣ絶対検量線法で分析した結果、収率は５０％であった。

上記比較例４に示される製造方法は、（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル)（３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）ケトンから（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールを製造する際に、１工程でニトロ基とカルボニル基を還元するものであるが、当該製造方法は、大量の鉄粉と大量の酢酸を使用しているために経済的ではなく、廃棄物も多くなるし、又、酢酸を使用していることから中和が必要となる。更には当該中和の際に生成した水酸化鉄のろ過性は非常に悪く、ろ別に長時間を要するばかりか、収率も芳しくない。従って、大量の鉄粉と大量の酢酸を使用する当該製造方法は、工業的規模での実施には好ましくない。

比較例５
１．（２−アミノ−５−クロロ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールの製造
メカニカルスターラー、温度計、還流管を備えた１００ｍｌの四つ口フラスコに、（５−クロロ−３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトン７．３６ｇ（２０ｍｍｏｌ）、鉄粉８．９３ｇ（１６０ｍｍｏｌ、８当量）、エタノール２０ｍｌ、酢酸２０ｍｌ（３４９ｍｍｏｌ、１７．５当量）を加え、反応系を５０℃に昇温した。発熱が収まった後、系の温度７５〜８０℃で２時間撹拌した。室温まで冷却した後、反応系に水１００ｍｌ、トルエン１００ｍｌを加え１０分間撹拌した後、セライトを用いてろ過した。ろ液を分液し、水層をトルエン１００ｍｌで再抽出した。トルエン層を併せ、水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下でトルエンを留去し、褐色オイルを得た。このオイルにトルエン５０ｍｌ、シリカゲル３．４ｇを加え、１０分間撹拌した後、ろ過した。ろ液から減圧下でトルエンを留去し、６．４ｇの淡黄色オイルを得た。粗収率は９４．２％であった。この粗オイルのＨＰＬＣ純度は９３．９％であった。この粗オイルをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル−へキサン）で精製し、更にイソプロピルアルコールで再結晶し、４．７ｇの（２−アミノ−５―クロロ―３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールの白色結晶を収率６９．３％で得た。（ＨＰＬＣ純度９８．９％）
融点：８０〜８２℃
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３、δ）：７．２０（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ），６．９９（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ），５．９５（ｓ，１Ｈ），５．７９（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ），５．１８（ｂｒ，２Ｈ），４．７３（ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１Ｈ），４．４６（ｄｄ，Ｊ＝１５．２，１２．３Ｈｚ，２Ｈ），３．９５（ｓ，６Ｈ），３．３１（ｓ，３Ｈ）ｐｐｍ．
ＧＣ−ＭＳ（ｍ／ｚ）：Ｍ^＋＝３４０．１

２．（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールの製造
マグネットスターラー、滴下ロートを備えた５０ｍｌのナス型フラスコに、（２−アミノ−５−クロロ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールの粗オイル６．４ｇ（１８．８ｍｍｏｌ）、ギ酸アンモニウム２．３８ｇ（３７．６ｍｍｏｌ）、メタノール１９ｍｌを加え、反応系内を窒素置換した後、１０％パラジウムカーボン３２０ｍｇ（Ａｌｄｒｉｃｈ社製）を加え、４０℃で３時間攪拌した。反応終了後、反応系を室温まで冷却し、ろ過した。減圧下でメタノールを回収した後、反応系に酢酸エチル３０ｍｌ、水５０ｍｌを加え分液し、水層を酢酸エチル３０ｍｌで再抽出した。酢酸エチル層を水、次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下で酢酸エチルを留去し、５．６８ｇの淡黄色オイルとして（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールを収率９９．０％で得た。（ＨＰＬＣ純度９６．０％）
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３、δ）：７．３０（ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．５Ｈｚ，1Ｈ），７．０１（ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．５Ｈｚ，１Ｈ），６．７１（ｄｄ，Ｊ＝７．５，７．５Ｈｚ，１Ｈ），５．９３（ｓ，１Ｈ），５．８４（ｂｒ，１Ｈ），５．１６（ｂｒ，２Ｈ），４．５１（ｄｄ，Ｊ＝１６．２，１２．０Ｈｚ，２Ｈ），３．９４（ｓ，６Ｈ），３．３２（ｓ，３Ｈ）ｐｐｍ．
ＧＣ−ＭＳ（ｍ／ｚ）：Ｍ^＋＝３０５．

比較例５に示される製造方法は、（５−クロロ−３−メトキシメチル−２−ニトロフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ケトンのニトロ基及びカルボニル基の２箇所を１工程で還元した後に、ハロゲン原子を還元することにより、（２−アミノ−３−メトキシメチルフェニル）（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）メタノールを得るものである。

当該製造方法は、特許文献２記載の塩素原子、ニトロ基、カルボニル基の３箇所を１工程で還元する製造方法における、高い水素圧を要するとの難点を解決できる優れた製造方法であるが、当該製造方法も、大量の鉄粉と大量の酢酸を使用しているために、工業的な実施においては、後処理の操作が煩雑になる上に長時間を要し、更には廃棄物も多く、比較的に収率が低いことから、更なる改善が望まれていた。

（ＨＰＬＣ分析方法）
上記したＨＰＬＣ分析方法の詳細に関しては、必要に応じて、以下の文献を参照することができる。
（ａ）：（社）日本化学会編「新実験化学講座９ 分析化学 ＩＩ」、第８６〜１１２頁（１９７７年）、発行者 飯泉新吾、丸善株式会社（例えば、カラムに使用可能な充填剤−移動相の組合せに関しては、第９３〜９６頁を参照することができる。）
（ｂ）（社）日本化学会編、「実験化学講座２０−１ 分析化学」第５版、第１３０〜１５１頁（２００７年）、発行者 村田誠四郎、丸善株式会社（例えば、逆相クロマトグラフィー分析の具体的な使用方法・条件に関しては、第１３５〜１３７頁を参照することができる。）

（ｐＨの測定方法）
ｐＨはガラス電極式水素イオン濃度指示計により測定した。ガラス電極式水素イオン濃度指示計としては、具体的には例えば東亜ディーケーケー株式会社製、形式：ＨＭ−２０Ｐが使用することができる。

本発明によれば、一般式（３）で表されるアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の新規な工業的製造法と有用な製造中間体が提供される。

即ち、本発明によれば、原料として入手容易な一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体を用いることが可能であり、特殊な反応装置を用いることなく、簡便な操作で且つ穏やかな条件下で、目的とするアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体を効率良く、高収率で製造することができ、更には、廃棄物量を低減したり、廃棄物の性質を好ましいものとしたりすることで、環境にも優しい。

得られる一般式（３）で表されるアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体は、除草剤の合成中間体として有用な化合物であり、従って、本発明は工業的な利用価値が高い。

Claims (26)

1. 一般式（１）
   

   

   
   （式中、Ｘは水素原子又はハロゲン原子を示し、Ｒはアルコキシメチル基を示す。）
   で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体のカルボニル基を還元することにより、一般式（２）
   

   

   
   （式中、Ｘ、Ｒは前記と同じ意味を示す。）
   で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を製造した後、このアルコール誘導体を還元することを特徴とする、一般式（３）
   

   

   
   （式中、Ｒは前記と同じ意味を示す。）
   で表されるアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。
2. 一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体を、金属水素化物を用いて還元する請求項１に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。
3. 一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体を、水素化ホウ素ナトリウムを用いて還元する請求項１に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。
4. 一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体におけるＸが水素原子である請求項３に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。
5. 一般式（１）で表されるニトロフェニルピリミジニルケトン誘導体におけるＸがハロゲン原子である請求項３に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。
6. 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、金属を用いて還元する請求項４に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。
7. 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、鉄粉を用て還元する請求項４に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。
8. 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、塩の存在下に還元する請求項７に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。
9. 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、アンモニウム塩又はアルカリ土類金属塩の存在下に還元する請求項７に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。
10. 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、ハロゲン化アンモニウム塩、炭酸アンモニウム塩、カルボン酸アンモニウム塩、ハロゲン化アルカリ土類金属塩又は炭酸アルカリ土類金属塩の存在下に還元する請求項７に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。
11. 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体の還元を、遊離の酸を仕込むことなく行う請求項１０に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。
12. 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体の還元を、遊離の酢酸を仕込むことなく行う請求項１０に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。
13. 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、パラジウム触媒の存在下に還元する請求項１に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。
14. 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、パラジウム触媒の存在下に還元する請求項３に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。
15. 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、パラジウム触媒の存在下に還元する請求項４に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。
16. 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、パラジウム触媒の存在下に還元する請求項５に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。
17. 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、ギ酸化合物の存在下に還元する請求項１５に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。
18. 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、ギ酸化合物の存在下に還元する請求項１６に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。
19. 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、水素の存在下に還元する請求項１５に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。
20. 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、水素の存在下に還元する請求項１６に記載のアミノフェニル
21. 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、常圧の水素の存在下に還元する請求項１５に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。
22. 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体を、常圧の水素の存在下に還元する請求項１６に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。
23. 一般式（２）
    

    

    
    （式中、Ｘは水素原子又はハロゲン原子を示し、Ｒはアルコキシメチル基を示す。）
    で表されることを特徴とするニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体。
24. Ｘが水素原子である請求項２３に記載のニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体。
25. Ｘがハロゲン原子である請求項２３に記載のニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体。
26. 一般式（２）で表されるニトロフェニルピリミジニルアルコール誘導体におけるＸがハロゲン原子であり、ニトロ基とハロゲン原子を別工程で還元する請求項１に記載のアミノフェニルピリミジニルアルコール誘導体の製造方法。