JPWO2012099164A1 - ウレタン化合物を含む高耐擦傷性インプリント材料 - Google Patents

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Abstract

【課題】パターンが転写された後も高い耐擦傷性を有する膜を形成するインプリント材料を提供することであり、具体的には、パターンを転写した後の膜に対してスチールウール擦傷試験を行ったときに傷の本数が少ない前記膜を形成するインプリント材料を提供する。【解決手段】（Ａ）成分：エチレンオキサイドユニットを少なくとも１つ有し、かつ少なくとも１つの重合性基を有する化合物、（Ｂ）成分：炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキル基及び重合性基を少なくとも１つ有し、ポリカプロラクトン変性されたウレタン化合物、及び（Ｃ）成分：光重合開始剤を含むインプリント材料。【選択図】なし

Description

本発明は、インプリント材料及び当該材料から作製され、パターンが転写された膜に関する。より詳しくは、パターンが転写された後も高い耐擦傷性を有する膜を形成するインプリント材料、並びに当該材料から作製され、パターンが転写された膜に関するものである。
１９９５年、現プリンストン大学のチョウ教授らがナノインプリントリソグラフィという新たな技術を提唱した（特許文献１）。ナノインプリントリソグラフィは、任意のパターンを有する、モールドを樹脂膜が形成された基材と接触させ、当該樹脂膜を加圧すると共に、熱又は光を外部刺激として用い、目的のパターンを硬化された当該樹脂膜に形成する技術であり、このナノインプリントリソグラフィは、従来の半導体デバイス製造における光リソグラフィ等に比べて簡便・安価にナノスケールの加工が可能であるという利点を有する。
したがって、ナノインプリントリソグラフィは、光リソグラフィ技術に代わり、半導体デバイス、オプトデバイス、ディスプレイ、記憶媒体、バイオチップ等の製造への適用が期待されている技術であることから、ナノインプリントリソグラフィに用いる光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物について様々な報告がなされている（特許文献２、特許文献３）。
しかし、これまでにナノインプリントリソグラフィに用いる材料（以下、本明細書では「インプリント材料」という。）として種々の材料が開示されているものの、凹凸パターン等の構造物を作製した後に擦傷性試験を行い、その結果高い耐擦傷性を保持していることを示した材料の報告はなされていない。一方で、固体撮像装置、太陽電池、ＬＥＤデバイス、ディスプレイなどの製品では、その内部または表面に作製した構造物に対して耐擦傷性を求められることがある。
米国特許第５７７２９０５号明細書 特開２００８−１０５４１４号公報 特開２００８−２０２０２２号公報
本発明は、上記の事情に基づいてなされたものであり、その解決しようとする課題は、パターンが転写された後も高い耐擦傷性を有する膜を形成するインプリント材料を提供することであり、当該材料から作製され、パターンが転写された膜を提供することである。具体的には、パターンを転写した後の膜に対してスチールウール擦傷試験を行ったときに傷の本数が少ない、例えば２０本以下の前記膜を形成するインプリント材料を提供することを目的とする。
また、本明細書では、形成されるパターンサイズがナノメートルオーダーに限らず、例えば、マイクロメートルオーダーである場合を含む光ナノインプリント技術を光インプリントと称する。
本発明者らは、上記の課題を解決するべく鋭意検討を行った結果、エチレンオキサイドユニットを含有しかつ重合性基を有する化合物、ウレタン化合物、及び光重合開始剤を含む材料をインプリント材料として使用することにより、該材料より作製したパターン転写された膜はパターン上でスチールウール擦傷試験を行っても傷の発生が少ないという驚くべき知見を得、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、第１観点として、
（Ａ）成分：エチレンオキサイドユニットを少なくとも１つ有し、かつ少なくとも１つの重合性基を有する化合物、
（Ｂ）成分：炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキル基及び重合性基を少なくとも１つ有し、ポリカプロラクトン変性されたウレタン化合物、及び
（Ｃ）成分：光重合開始剤
を含むインプリント材料に関する。
第２観点として、前記（Ａ）成分の化合物１分子あたりのエチレンオキサイドユニット濃度は２０％以上８０％以下である、第１観点に記載のインプリント材料に関する。
第３観点として、前記（Ｂ）成分は、１分子中に少なくとも３つのイソシアネート基を有する有機イソシアネートと炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキル基を有するアルコールとの反応生成物及びポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを反応させることにより得られる化合物である、第１観点又は第２観点に記載のインプリント材料に関する。
第４観点として、前記（Ａ）成分が少なくとも２種の化合物からなる、第１観点乃至第３観点のいずれか一つに記載のインプリント材料に関する。
第５観点として、前記（Ａ）成分及び前記（Ｂ）成分の総質量に対する該（Ｂ）成分の割合は１０乃至９０質量％である、第１観点乃至第４観点のいずれか一つに記載のインプリント材料に関する。
第６観点として、（Ｄ）成分として界面活性剤をさらに含有する、第１観点乃至第５観点のいずれか一つに記載のインプリント材料に関する。
第７観点として、（Ｅ）成分として溶剤をさらに含有する、第１観点乃至第６観点のいずれか一つに記載のインプリント材料に関する。
第８観点として、前記（Ａ）成分および（Ｂ）成分は重合性基として、アクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、ビニル基及びアリル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有する化合物であることを特徴とする、第１観点又は第２観点に記載のインプリント材料に関する。
第９観点として、第１観点乃至第８観点のいずれか一つに記載のインプリント材料から作製され、パターンが転写された膜に関する。
第１０観点として、第９観点に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた部材に関する。
第１１観点として、第９観点に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた固体撮像装置に関する。
第１２観点として、第９観点に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えたＬＥＤデバイスに関する。
第１３観点として、第９観点に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた太陽電池に関する。
第１４観点として、第９観点に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えたディスプレイに関する。
第１５観点として、第９観点に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた電子デバイスに関する。
本発明のインプリント材料では、分子内にエチレンオキサイドユニットを少なくとも１つ有し、かつ少なくとも１つの重合性基を有する化合物、及び炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキル基と重合性基を少なくとも１つ有し、ポリカプロラクトン変性されたウレタン化合物を使用しているため、当該インプリント材料から作製され、パターンが転写された膜はパターン上でスチールウール擦傷試験を行っても傷の発生が少ない。
本発明のインプリント材料は、光硬化が可能であり、かつモールドの離型時にパターンの一部の剥がれが生じないため、所望のパターンが正確に形成された膜が得られる。したがって、良好な光インプリントのパターン形成が可能である。
また、本発明のインプリント材料は、任意の基材上に製膜することができ、インプリント後に形成されるパターンが転写された膜は、太陽電池、ＬＥＤデバイス、ディスプレイなどの、耐擦傷性が求められる部材を使用する製品へ好適に用いることができる。
さらに、本発明のインプリント材料は、上記（Ａ）成分の化合物の種類及び含有割合を変更することで、硬化速度、動的粘度、膜厚をコントロールすることができる。したがって、本発明のインプリント材料は、製造するデバイス種と露光プロセス及び焼成プロセスの種類に対応した材料の設計が可能であり、プロセスマージンを拡大できるため、光学部材の製造に好適に用いることができる。
本発明は、パターン転写後の膜へ耐擦傷性を付与するという課題の解決を目的とし、インプリント材料においてエチレンオキサイドユニットを少なくとも１つ有し、かつ少なくとも１つの重合性基を有する化合物、及び炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキル基と重合性基を少なくとも１つ有し、ポリカプロラクトン変性されたウレタン化合物を採用した点に特徴がある。
すなわち本発明は、（Ａ）成分：エチレンオキサイドユニットを少なくとも１つ有し、かつ少なくとも１つの重合性基を有する化合物、（Ｂ）成分：炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキル基及び重合性基を少なくとも１つ有し、ポリカプロラクトン変性されたウレタン化合物、及び（Ｃ）成分：光重合開始剤を含有するインプリント材料である。また本発明は、前記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分に加えて、更に、（Ｄ）成分として界面活性剤、及び（Ｅ）成分として溶剤、更には所望によりその他成分をも含有することのできるインプリント材料である。
以下、各成分について詳細に説明する。
＜（Ａ）成分＞
（Ａ）成分である化合物は、１分子内にエチレンオキサイドユニットを１つ以上有し、かつ重合性基を分子末端に１つ以上有する化合物である。本発明に含まれる（Ａ）成分は、パターン転写後の膜に対して耐擦傷性を付与することができる。
上記重合性基としては、例えば、アクリロイルオキシ基、アクリロイル基、メタアクリロイルオキシ基、メタアクリロイル基、ビニル基及びアリル基からなる群から選ばれる少なくとも１種類の有機基のことを指す。ここで、アクリロイルオキシ基はアクリロキシ基と、メタアクリロイルオキシ基はメタアクリロキシ基と表現されることがある。
（Ａ）成分の化合物１分子あたりのエチレンオキサイドユニットの含有量は、分子量計算において１分子あたりのエチレンオキサイドユニット濃度が、好ましくは２０％以上８０％以下である。ここで本発明において、エチレンオキサイドユニット濃度とは、（Ａ）成分である化合物の分子量に対する当該化合物のエチレンオキサイドユニットの分子量の割合を表す。本発明に含まれる（Ａ）成分が２種の化合物からなる場合は、後述する式（Ｆ）を適用したエチレンオキサイドユニット濃度が２０％以上８０％以下である。
上記（Ａ）成分が化合物Ａ1及び化合物Ａ2から成り、当該化合物Ａ1をｘ質量％（ｘは０＜ｘ≦１００を満たす正数）及び化合物Ａ2を（１００−ｘ）質量％含む場合の、エチレンオキサイドユニット濃度（％）は、下記式（Ｆ）で表される。ただし、化合物Ａ1及び化合物Ａ2のエチレンオキサイドユニット１個当たりの分子量を４４、化合物Ａ1及びＡ2の１分子当たりのエチレンオキサイドユニットの数をそれぞれｎA1，ｎA2、化合物Ａ1及びＡ2の分子量をそれぞれＭA1，ＭA2とする。
１００[（４４×ｎA1×ｘ）＋〔４４×ｎA2×（１００−ｘ）]／[（ＭA1×ｘ）＋〔ＭA2×（１００−ｘ）〕]・・・（Ｆ）
上記（Ａ）成分が１種の化合物Ａ1から成る場合のエチレンオキサイドユニット濃度は、上記式（Ｆ）においてｘ＝１００が適用された下記式（Ｇ）で表される。
１００（４４×ｎA1）／ＭA1・・・（Ｇ）
上記（Ａ）成分である化合物としては、例えば、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリメタクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート、エトキシ化グリセリントリメタクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが挙げられる。
上記（Ａ）成分である化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＮＫエステルＡＭ−３０Ｇ、同ＡＭ−９０Ｇ、同ＡＭ−１３０Ｇ、同ＡＭ−２３０Ｇ、同ＡＭＰ−１０Ｇ、同ＡＭＰ−２０ＧＹ、同ＡＭＰ−６０Ｇ、同ＰＨＥ−１Ｇ、同Ａ−２００、同Ａ−４００、同Ａ−６００、同Ａ−１０００、同１Ｇ、同２Ｇ、同３Ｇ、同４Ｇ、同９Ｇ、同１４Ｇ、同２３Ｇ、同ＡＢＥ−３００、同Ａ−ＢＰＥ−４、同Ａ−ＢＰＥ−６、同Ａ−ＢＰＥ−１０、同Ａ−ＢＰＥ−２０、同Ａ−ＢＰＥ−３０、同ＢＰＥ−８０Ｎ、同ＢＰＥ−１００Ｎ、同ＢＰＥ−２００、同ＢＰＥ−５００、同ＢＰＥ−９００、同ＢＰＥ−１３００Ｎ、同Ａ−ＧＬＹ−３Ｅ、同Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ、同Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ、同Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ、同Ａ−ＴＭＰＴ−９ＥＯ、同ＡＴＭ−４Ｅ、同ＡＴＭ−３５Ｅ（以上、新中村化学工業株式会社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＥＡ−１２、同ＰＥＧ４００ＤＡ、同ＴＨＥ−３３０、同ＲＰ−１０４０（以上、日本化薬株式会社製）、Ｍ−２１０、Ｍ−３５０（以上、東亞合成株式会社製）を挙げることができる。
上記（Ａ）成分である化合物は、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。
＜（Ｂ）成分＞
（Ｂ）成分であるウレタン化合物は、炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキル基と重合性基を１つ以上有し、ポリカプロラクトン変性されたことを特徴としている。
上記重合性基としては、（Ａ）成分の化合物の説明において挙げた基、例えば、アクリロイルオキシ基、アクリロイル基、メタアクリロイルオキシ基、メタアクリロイル基、ビニル基及びアリル基からなる群から選ばれる少なくとも１種類の有機基を挙げることができる。
上記本発明の（Ｂ）成分であるウレタン化合物は、後述するように、１分子中に３個以上のイソシアネート基を有する有機イソシアネート（ａ）と炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキル基を有するアルコール（以下、本明細書において「長鎖アルキルアルコール」とも称する）（ｂ）を混合して両者を反応させた後、さらにポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート（ｃ）を加えて反応させることによって得られるウレタン化合物であることが好ましい。
上記有機イソシアネート（ａ）は、イソシアネート基を２個有するジイソシアネートモノマー（ａ−１）を変性することによって得られるもので、１分子中に少なくとも３つのイソシアネート基を有している。ジイソシアネートモノマー（ａ−１）の変性方法としては、例えば、イソシアヌレート変性、アダクト変性、ビウレット変性が挙げられる。
ジイソシアネートモノマー（ａ−１）としては、例えば下記式（１）で表されるトリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、
Figure 2012099164
下記式（２）で表されるナフタレンジイソシアネート（ＮＤＩ）、
Figure 2012099164
下記式（３）で表されるナフタレンジイソシアネート（ＭＤＩ）、
Figure 2012099164
下記式（４）で表されるイソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、
Figure 2012099164
下記式（５）で表されるキシレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、
Figure 2012099164
下記式（６）で表されるヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、
Figure 2012099164
下記式（７）で表されるジシクロヘキシルメタンジイソシアネート（ＨＤＩ）、
Figure 2012099164
その他、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネートメチルなどが挙げられる。
上記ジイソシアネートモノマー（ａ−１）をイソシアヌレート変性した有機イソシアネート（ａ）としては、例えば、下記一般式（８）で表される化合物が挙げられる。
Figure 2012099164
 上記一般式（８）中、Ｒはそれぞれ独立に、下記７種の二価の炭化水素基のいずれかを表す。
Figure 2012099164
上記ジイソシアネートモノマー（ａ−１）をアダクト変性した有機イソシアネート（ａ）としては、例えば、下記一般式（９）で表される化合物が挙げられる。
Figure 2012099164
 上記一般式（９）中、Ｒはそれぞれ独立に、前記７種の二価の炭化水素基のいずれかを表す。
上記イソシアネートモノマー（ａ−１）をビウレット変性した有機イソシアネート（ａ）としては、例えば、下記一般式（１０）で表される化合物が挙げられる。
Figure 2012099164
上記炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキルアルコール（ｂ）としては、例えば、トリデカノール、ミスチリルアルコール、セチルアルコール、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコール、ポリオキシエチレンモノステアリレート、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、グリセロールモノステアレートなどの炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキル基を有する化合物が挙げられる。
上記ポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート（ｃ）としては、例えば、下記一般式（１１）で表される化合物が挙げられ、当該化合物はイソシアネート基と反応性を有するヒドロキシ基を有するとともに、ＣＨ2＝ＣＨ−又はＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−で表される重合性基を有している。
Figure 2012099164
 上記一般式（１１）中、Ｒ1はＨ又はＣＨ3基を表し、ｎは１乃至２５の整数を表すが、好ましいｎの値は２乃至５の整数である。ｎの値が２乃至５の整数の式（１１）で表される化合物を使用することにより、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含有する組成物の硬化不良がより抑制されるとともに、良好な耐擦傷性及び自己修復機能がより発揮されることとなる。
本発明のインプリント材料における（Ｂ）成分の含有量は、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総質量に対して、好ましくは１０乃至９０質量％、より好ましくは４０乃至６０質量％である。
＜（Ｂ）成分の合成＞
前述のとおり、（Ｂ）成分であるウレタン化合物として、１分子中に少なくとも３つのイソシアネート基を有する有機イソシアネート（ａ）と炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキルアルコール（ｂ）を混合して両者を反応させた後、さらにポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート（ｃ）を加えて反応させることにより得られるウレタン化合物であることが好ましい。
上記両反応は、通常溶液中で行うことができ、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソブチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶剤などが単独又は混合溶剤として用いられる。
また、上記両反応は、無溶剤系で行うこともでき、あるいは、重合性基を有する化合物、例えば、スチレン、イソボルニルアクリレート、アクリロイルモルホリン、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート中で行うこともできる。
上記両反応の反応温度は、常温乃至１００℃であるのが好ましく、反応時間は１乃至１０時間であるのが好ましい。有機イソシアネート（ａ）とポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート（ｃ）と長鎖アルキルアルコール（ｂ）の混合比は、有機イソシアネート（ａ）のイソシアネート基とポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート（ｃ）の水酸基と長鎖アルキルアルコール（ｂ）の水酸基のモル比が１：（０．８〜１．２０）：（０．０２〜０．３３）となる混合比であるのが好ましい。
上記両反応に際し、必要に応じてジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジエチルヘキソエート、ジブチル錫サルファイトなどの触媒を使用してもよい。触媒の添加量は、有機イソシアネート（ａ）、長鎖アルキルアルコール（ｂ）及びポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート（ｃ）の合計１００質量部に対して０．０１乃至１質量部であるのが好ましく、０．１乃至０．５質量部であるのがより好ましい。また、ハイドロキノンモノメチルエーテルなどの重合禁止剤を使用してもよい。重合禁止剤の添加量は、有機イソシアネート（ａ）、長鎖アルキルアルコール（ｂ）及びポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート（ｃ）の合計１００質量部に対して０．０１乃至１質量部であるのが好ましい。
＜（Ｃ）成分＞
（Ｃ）成分である光重合開始剤としては、光硬化時に使用する光源に吸収をもつものであれば、特に限定されるものではないが、例えば、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−ｉｓｏ−ブタレート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ベンゾイルジオキシ）ヘキサン、１，４−ビス［α−（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）−ｉｓｏ−プロポキシ］ベンゼン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）ヘキセンヒドロペルオキシド、α−（ｉｓｏ−プロピルフェニル）−ｉｓｏ−プロピルヒドロペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ブチル−４，４−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）バレレート、シクロヘキサノンペルオキシド、２，２’，５，５’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）−４，４’−ジカルボキシベンゾフェノン、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシベンゾエート、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジペルオキシイソフタレート等の有機過酸化物；９，１０−アントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−クロロアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン等のキノン類；ベンゾインメチル、ベンゾインエチルエーテル、α−メチルベンゾイン、α−フェニルベンゾイン等のベンゾイン誘導体；２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−[４−｛４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）ベンジル｝−フェニル]−２−メチル−プロパン−１−オン、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチル−ベンジル）−１−（４−モルホリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン等のアルキルフェノン系化合物；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系化合物；１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等のオキシムエステル系化合物が挙げられる。
上記化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）６５１、同１８４、同５００、同２９５９、同１２７、同７５４、同９０７、同３６９、同３７９、同３７９ＥＧ、同８１９、同８１９ＤＷ、同１８００、同１８７０、同７８４、同ＯＸＥ０１、同ＯＸＥ０２、同２５０、ＤＡＲＯＣＵＲ（登録商標） １１７３、同ＭＢＦ、同４２６５、Ｌｕｃｉｒｉｎ（登録商標）ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、ＫＡＹＡＣＵＲＥ（登録商標）ＤＥＴＸ、同ＭＢＰ、同ＤＭＢＩ、同ＥＰＡ、同ＯＡ（以上、日本化薬株式会社製）、ＶＩＣＵＲＥ−１０、同５５（以上、ＳＴＡＵＦＦＥＲ Ｃｏ．ＬＴＤ製）、ＥＳＡＣＵＲＥ（登録商標）ＫＩＰ１５０、同ＴＺＴ、同１００１、同ＫＴＯ４６、同ＫＢ１、同ＫＬ２００、同ＫＳ３００、同ＥＢ３、トリアジン−ＰＭＳ、トリアジンＡ、トリアジンＢ（以上、日本シイベルヘグナー株式会社製）、アデカオプトマーＮ−１７１７、同Ｎ−１４１４、同Ｎ−１６０６（株式会社ＡＤＥＫＡ（旧旭電化工業株式会社）製）が挙げられる。
上記光重合開始剤は、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。
本発明のインプリント材料における（Ｃ）成分の含有量は、上記（Ａ）成分及び上記（Ｂ）成分の総質量に対して、０．５ｐｈｒ乃至３０ｐｈｒであることが好ましく、１ｐｈｒ乃至２０ｐｈｒであることがより好ましい。（Ｃ）成分の含有量の割合が０．１ｐｈｒ以下の場合には、十分な硬化性が得られず、パターニング特性の悪化および耐擦傷性の低下が起こるからである。ここで、ｐｈｒとは、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総質量１００ｇに対する、光重合開始剤の質量を表す。
＜（Ｄ）成分＞
本発明においては（Ｄ）成分として界面活性剤を含有しても良い。（Ｄ）成分である界面活性剤は、得られる塗膜の製膜性を調整する役割を果たす。
上記界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤；商品名エフトップ（登録商標）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（三菱マテリアル電子化成株式会社製）、商品名メガファック（登録商標）Ｆ１７１、同Ｆ１７３、同Ｒ−０８、同Ｒ−３０（ＤＩＣ株式会社製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（住友スリーエム株式会社製）、商品名アサヒガード（登録商標）ＡＧ７１０、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０２、同ＳＣ１０３、同ＳＣ１０４、同ＳＣ１０５、同ＳＣ１０６（旭硝子株式会社製）等のフッ素系界面活性剤；及びオルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業株式会社製）、ＢＹＫ（登録商標）−３０２、同−３０７、同−３２２、同−３２３、同−３３０、同−３３３、同−３７０、同−３７５、同−３７８、同−ＵＶ３５００、同−ＵＶ３５７０（ビックケミー・ジャパン株式会社製）を挙げることができる。
上記界面活性剤は、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。界面活性剤が使用される場合、その割合は、上記（Ａ）成分及び上記（Ｂ）成分の総質量に対して、好ましくは０．０１ｐｈｒ乃至４０ｐｈｒ、より好ましくは０．０１ｐｈｒ乃至１０ｐｈｒである。
＜（Ｅ）成分＞
本発明においては（Ｅ）成分として溶剤を含有しても良い。（Ｅ）成分である溶剤は、（Ａ）成分および（Ｂ）成分である化合物の粘度調節の役割を果たす。
上記溶剤としては、例えば、トルエン、ｐ−キシレン、ｏ−キシレン、スチレン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコ−ルジメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、１−オクタノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、プロピレングリコール、ベンジルアルコール、１，３−ブタンジオール、１,４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、γ−ブチロラクトン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルｎ−ブチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、酢酸エチル、酢酸イソプロピルケトン、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ−ブチル、乳酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アリルアルコール、ｎ−プロパノール、２−メチル−２−ブタノール、イソブタノール、ｎ−ブタノール、２−メチル−１−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−１−ペンタノール、２−エチルヘキサノール、トリメチレングリコール、１−メトキシ−２−ブタノール、イソプロピルエーテル、１，４−ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、Ｎ−シクロヘキシル−２−ピロリジンが挙げられ、上記（Ａ）成分および（Ｂ）成分の粘度を調節することができるものであれば、特に限定されるものではない。
上記溶剤は、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。
＜その他添加剤＞
本発明のインプリント材料は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、エポキシ化合物、光酸発生剤、光増感剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、密着補助剤及び離型性向上剤から選ばれる少なくとも１種の添加剤をさらに含有することができる。
上記エポキシ化合物は、エポキシ基又はオキシラン環を有する化合物であり、例えば、エポリード（登録商標）ＧＴ−４０１、同ＰＢ３６００、セロキサイド（登録商標）２０２１Ｐ、同２０００、同３０００、ＥＨＰＥ３１５０、ＥＨＰＥ３１５０ＣＥ、サイクロマー（登録商標）Ｍ１００（以上、ダイセル化学工業株式会社（現 株式会社ダイセル）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ（登録商標）８４０、同８４０−Ｓ、同Ｎ−６６０、同Ｎ−６７３−８０Ｍ（以上、ＤＩＣ株式会社製）が挙げられる。
上記光酸発生剤としては、例えば、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＰＡＧ１０３、同ＰＡＧ１０８、同ＰＡＧ１２１、同ＰＡＧ２０３、同ＣＧＩ７２５（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、ＷＰＡＧ−１４５、ＷＰＡＧ−１７０、ＷＰＡＧ−１９９、ＷＰＡＧ−２８１、ＷＰＡＧ−３３６、ＷＰＡＧ−３６７（以上、和光純薬工業株式会社製）、ＴＦＥ−トリアジン、ＴＭＥ−トリアジン、ＭＰ−トリアジン、ジメトキシトリアジン、ＴＳ−９１、ＴＳ−０１（株式会社三和ケミカル製）が挙げられる。
上記光増感剤としては、例えば、チオキサンテン系、キサンテン系、ケトン系、チオピリリウム塩系、ベーススチリル系、メロシアニン系、３−置換クマリン系、３，４−置換クマリン系、シアニン系、アクリジン系、チアジン系、フェノチアジン系、アントラセン系、コロネン系、ベンズアントラセン系、ペリレン系、ケトクマリン系、フマリン系、ボレート系が挙げられる。
上記光増感剤は、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。当該光増感剤を用いることによって、ＵＶ領域の吸収波長を調整することもできる。
上記紫外線吸収剤としては、例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）ＰＳ、同９９−２、同１０９、同３２８、同３８４−２、同４００、同４０５、同４６０、同４７７、同４７９、同９００、同９２８、同１１３０、同１１１ＦＤＬ、同１２３、同１４４、同１５２、同２９２、同５１００、同４００−ＤＷ、同４７７−ＤＷ、同９９−ＤＷ、同１２３−ＤＷ、同５０５０、同５０６０、同５１５１（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社）が挙げられる。
上記紫外線吸収剤は、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。当該紫外線吸収剤を用いることによって、光硬化時に膜の最表面の硬化速度を制御することができ、離型性を向上できる場合がある。
上記酸化防止剤としては、例えば、ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）１０１０、同１０３５、同１０７６、同１１３５、同１５２０Ｌ（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）等が挙げられる。
上記酸化防止剤は、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。当該酸化防止剤を用いることで、酸化によって膜が黄色に変色することを防止することができる。
上記密着補助剤としては、例えば、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランが挙げられる。当該密着補助剤を用いることによって、基材との密着性が向上する。当該密着補助剤の含有量は、上記（Ａ）成分及び上記（Ｂ）成分の総質量に対して、好ましくは５ｐｈｒ乃至５０ｐｈｒ、より好ましくは１０ｐｈｒ乃至５０ｐｈｒである。
上記離型性向上剤としては、シリコーンユニット含有化合物又はフッ素含有化合物が挙げられる。シリコーンユニット含有化合物としては、Ｘ−２２−１６４、Ｘ−２２−１６４ＡＳ、Ｘ−２２−１６４Ａ、Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ−２２−１６４Ｃ、Ｘ−２２−１６４Ｅ、Ｘ−２２−１６３、Ｘ−２２−１６９ＡＳ、Ｘ−２２−１７４ＤＸ、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−９００２、Ｘ−２２−２４７５、Ｘ−２２−４９５２、ＫＦ−６４３、Ｘ−２２−３４３、Ｘ−２２−２０４６（以上、信越化学工業株式会社製）が挙げられる。フッ素含有化合物としては、Ｒ−５４１０、Ｒ−１４２０、Ｍ−５４１０、Ｍ−１４２０、Ｅ−５４４４、Ｅ−７４３２、Ａ−１４３０、Ａ−１６３０（以上ダイキン工業株式会社製）が挙げられる。
本発明のインプリント材料は、少なくとも１つの重合性基を有し、かつエチレンオキサイドユニットを有さない化合物をさらに含有することができる。当該化合物の含有量は、上記（Ａ）成分及び上記（Ｂ）成分の総質量に対して、好ましくは０．０１ｐｈｒ乃至２００ｐｈｒ、より好ましくは０．１ｐｈｒ乃至１００ｐｈｒである。
上記少なくとも１つの重合性基を有し、かつエチレンオキサイドユニットを有さない化合物としては、例えば、アクリル酸、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＮＰＧＤＡ、同ＰＥＴ−３０、同ＤＰＨＡ（以上、日本化薬株式会社製）が挙げられる。これらのうち何れかを用いることで、本発明のインプリント材料の粘度を調整することができる。
＜インプリント材料の調製＞
本発明のインプリント材料の調製方法は、特に限定されないが、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、並びに任意成分である（Ｄ）成分及び（Ｅ）成分並びに所望によりその他添加剤が均一に混合した状態であれば良い。また、（Ａ）成分乃至（Ｅ）成分並びに所望によりその他添加剤を混合する際の順序は、均一な溶液が得られるなら問題なく、特に限定されない。当該調製方法としては、例えば、（Ａ）成分に（Ｂ）成分を所定の割合で混合する方法が挙げられる。また、これに更に（Ｃ）成分、（Ｄ）成分及び（Ｅ）成分を混合し、均一な溶液とする方法も挙げられる。さらに、この調製方法の適当な段階において、必要に応じて、その他の添加剤を更に添加して混合する方法が挙げられる。
本発明のインプリント材料は、基材に塗布し光硬化することで所望の被膜を得ることができる。塗布方法としては、公知又は周知の方法、例えば、スピンコート法、ディップ法、フローコート法、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、スリットコート法、ロールコート法、転写印刷法、刷毛塗り、ブレードコート法、エアーナイフコート法を挙げることができる。
本発明のインプリント材料を塗布するための基材としては、例えば、シリコン、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）が成膜されたガラス（ＩＴＯ基板）、シリコンナイトライド（ＳｉＮ）が成膜されたガラス（ＳｉＮ基板）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）が成膜されたガラス、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、アクリル、プラスチック、ガラス、石英、セラミックス等からなる基材を挙げることができる。また、可撓性を有するフレキシブル基材を用いることも可能である。
本発明のインプリント材料を硬化させる光源としては、特に限定されないが、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦエキシマーレーザー、ＡｒＦエキシマーレーザー、Ｆ2エキシマーレーザー、電子線（ＥＢ）、極端紫外線（ＥＵＶ）等を挙げることができる。また、波長は、一般的には、４３６ｎｍのＧ線、４０５ｎｍのＨ線、３６５ｎｍのＩ線、又はＧＨＩ混合線を用いることができる。さらに、露光量は、好ましくは、３０乃至２０００ｍＪ／ｃｍ2、より好ましくは３０乃至１０００ｍＪ／ｃｍ2である。
なお、前述の（Ｅ）成分である溶剤を用いる場合には、光照射前の被膜及び光照射後の被膜の少なくとも一方に対し、溶剤を蒸発させる目的で、焼成工程を加えても良い。焼成機器としては、特に限定されるものではなく、例えば、ホットプレート、オーブン、ファーネスを用いて、適切な雰囲気下、すなわち大気、窒素等の不活性ガス、又は真空中で焼成することができるものであればよい。焼成温度は、溶媒を蒸発させる目的では、特に限定されないが、例えば、４０℃乃至２００℃で行うことができる。
光インプリントを行う装置は、目的のパターンが得られれば、特に限定されないが、例えば、東芝機械株式会社のＳＴ５０、Ｏｂｄｕｃａｔ社製のＳｉｎｄｒｅ（登録商標）６０、明昌機工株式会社製のＮＭ−０８０１ＨＢ等の市販されている装置を用いることができる。
また、本発明で用いる光インプリント用に使用するモールド材としては、例えば、石英、シリコン、ニッケル、アルミナ、カルボニルシラン、グラッシーカーボンを挙げることができるが、目的のパターンが得られるなら、特に限定されない。また、モールドは、離型性を高めるために、その表面にフッ素系化合物等の薄膜を形成する離型処理を行っても良い。離型処理に用いる離型剤としては、例えば、ダイキン工業株式会社製のオプツール（登録商標）ＨＤが挙げられるが、目的のパターンが得られるなら、特に限定されない。
光インプリントのパターンは、目的の電子デバイスに適合したパターンを選択すればよく、パターンサイズもこれに準ずる。パターンサイズは、例えば、ナノメートルオーダー及びマイクロメートルオーダーである。
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を更に詳しく説明するが、本発明は、これら実施例に限定されるものでない。
（合成例１）
攪拌機、温度計及びコンデンサーを備えた５００ｍＬ容のフラスコにトルエン６０．８質量部、ステアリルアルコール（ＮＡＡ−４６；日本油脂株式会社製、水酸基価：２０７）８．４質量部を仕込み４０℃まで昇温した。その後ステアリルアルコールが完全に溶解したのを確認し、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート変性タイプ（タケネート（登録商標）Ｄ−１７０Ｎ；三井化学株式会社製、ＮＣＯ％：２０．９）５０質量部を仕込み７０℃まで昇温させた。同温度で３０分反応後、ジブチル錫ジラウレートを０．０２質量部仕込み同温度で３時間保持した。その後、ポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチルアクリレート（プラクセル（登録商標）ＦＡ２Ｄ；ダイセル化学工業株式会社（現 株式会社ダイセル）製、水酸基価：１６３）８３．５質量部、ジブチル錫ジラウレート０．０２質量部、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．０２質量部を仕込み、７０℃で３時間保持して反応を終了した後、エバポレーターでトルエンを除去し、固形分１００質量％のウレタンアクリレート（Ｉ）を得た。
（合成例２）
合成例１と同様のフラスコにトルエン４８．２質量部、ステアリルアルコール（ＮＡＡ−４６）４．２質量部を仕込み４０℃まで昇温した。その後ステアリルアルコールが完全に溶解したのを確認し、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート変性タイプ（タケネート（登録商標）Ｄ−１７０Ｎ）２５質量部を仕込み７０℃まで昇温させた。同温度で３０分反応後、ジブチル錫ジラウレートを０．０２質量部仕込み同温度で３時間保持した。その後、ポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチルアクリレート（プラクセル（登録商標）ＦＡ５；ダイセル化学工業株式会社（現 株式会社ダイセル）製、水酸基価：８１．８）８３．３質量部、ジブチル錫ジラウレート０．０２質量部、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．０２質量部を仕込み、７０℃で３時間保持して反応を終了した後、エバポレーターでトルエンを除去し、固形分１００質量％のウレタンアクリレート（ＩＩ）を得た。
（合成例３）
合成例１と同様のフラスコにトルエン４４．８質量部、ステアリルアルコール（ＮＡＡ−４６）４．６質量部を仕込み４０℃まで昇温した。その後ステアリルアルコールが完全に溶解したのを確認し、キシリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト変性タイプ（タケネート（登録商標）Ｄ−１１０Ｎ；三井化学株式会社製、Ｎ.Ｖ.：７５、ＮＣＯ％：１１．５）５０質量部を仕込み７０℃まで昇温させた。同温度で３０分反応後、ジブチル錫ジラウレートを０．０２質量部仕込み同温度で３時間保持した。その後、ポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチルアクリレート（プラクセル（登録商標）ＦＡ５）９１．７質量部、ジブチル錫ジラウレート０．０２質量部、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．０２質量部を仕込み、７０℃で３時間保持して反応を終了した後、エバポレーターでトルエンを除去し、固形分１００質量％のウレタンアクリレート（ＩＩＩ）を得た。
（合成例４）
合成例１と同様のフラスコにトルエン６１．３質量部、ベヘニルアルコール（ＮＡＡ−４２２；日本油脂株式会社製、水酸基価：１８０）９．７質量部を仕込み４０℃まで昇温した。その後ベヘニルアルコールが完全に溶解したのを確認し、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート変性タイプ（タケネート（登録商標）Ｄ−１７０Ｎ）５０質量部を仕込み７０℃まで昇温させた。同温度で３０分反応後、ジブチル錫ジラウレートを０．０２質量部仕込み同温度で３時間保持した。その後、ポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチルアクリレート（プラクセル（登録商標）ＦＡ２Ｄ）８３．４質量部、ジブチル錫ジラウレート０．０２質量部、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．０２質量部を仕込み、７０℃で３時間保持して反応を終了した後、エバポレーターでトルエンを除去し、固形分１００質量％のウレタンアクリレート（ＩＶ）を得た。
［膜形成用塗布液の調製］
＜実施例１＞
ＮＫエステルＡ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ（以下、本明細書では「Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ」と略称する。）（新中村化学株式会社製）４．５ｇと合成例１で得たウレタンアクリレート（Ｉ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ（登録商標）１１７３（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）（以下、本明細書では「ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３」と略称する。）を０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯとウレタンアクリレート（Ｉ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−１Ａを調製した。本実施例及び後述する実施例で使用するＡ−ＴＭＰＴ−３ＥＯは（Ａ）成分に該当する。本実施例並びに後述する実施例及び比較例で使用する、ウレタンアクリレート（Ｉ）は（Ｂ）成分に該当し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３は（Ｃ）成分に該当する。
＜実施例２＞
実施例１のＡ−ＴＭＰＴ−３ＥＯを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（Ｉ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ−２Ａを調製した。
＜実施例３＞
実施例１のＡ−ＴＭＰＴ−３ＥＯを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（Ｉ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ−３Ａを調製した。
＜実施例４＞
ＮＫエステル（登録商標）Ａ−ＴＭＰＴ−９ＥＯ（以下、本明細書では「Ａ−ＴＭＰＴ−９ＥＯ」と略称する。）（新中村化学株式会社製）４．５ｇと合成例１で得たウレタンアクリレート（Ｉ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ−９ＥＯとウレタンアクリレート（Ｉ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−４Ａを調製した。本実施例及び後述する実施例で使用するＡ−ＴＭＰＴ−９ＥＯは（Ａ）成分に該当する。
＜実施例５＞
実施例４のＡ−ＴＭＰＴ−９ＥＯを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（Ｉ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例４と同様にインプリント材料ＰＮＩ−５Ａを調製した。
＜実施例６＞
実施例４のＡ−ＴＭＰＴ−９ＥＯを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（Ｉ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例４と同様にインプリント材料ＰＮＩ−６Ａを調製した。
＜実施例７＞
ＮＫエステル（登録商標）ＡＴＭ−４Ｅ（以下、本明細書では「ＡＴＭ−４Ｅ」と略称する。）（新中村化学株式会社製）４．５ｇと合成例１で得たウレタンアクリレート（Ｉ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ＡＴＭ−４Ｅとウレタンアクリレート（Ｉ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−７Ａを調製した。本実施例及び後述する実施例で使用するＡＴＭ−４Ｅは（Ａ）成分に該当する。
＜実施例８＞
実施例７のＡＴＭ−４Ｅを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（Ｉ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例７と同様にインプリント材料ＰＮＩ−８Ａを調製した。
＜実施例９＞
実施例７のＡＴＭ−４Ｅを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（Ｉ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例７と同様にインプリント材料ＰＮＩ−９Ａを調製した。
＜実施例１０＞
ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＥＡ−１２（以下、本明細書では「ＤＰＥＡ−１２」と略称する。）（日本化薬株式会社製）４．５ｇと合成例１で得たウレタンアクリレート（Ｉ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ＤＰＥＡ−１２とウレタンアクリレート（Ｉ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−１０Ａを調製した。本実施例及び後述する実施例で使用するＤＰＥＡ−１２は（Ａ）成分に該当する。
＜実施例１１＞
実施例１０のＤＰＥＡ−１２を２．５ｇ、ウレタンアクリレート（Ｉ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例１０と同様にインプリント材料ＰＮＩ−１１Ａを調製した。
＜実施例１２＞
実施例１０のＤＰＥＡ−１２を０．５ｇ、ウレタンアクリレート（Ｉ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例１０と同様にインプリント材料ＰＮＩ−１２Ａを調製した。
＜実施例１３＞
Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ４．５ｇと合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯとウレタンアクリレート（ＩＩ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−１３Ａを調製した。本実施例並びに後述する実施例及び比較例で使用するウレタンアクリレート（ＩＩ）は（Ｂ）成分に該当する。
＜実施例１４＞
実施例１３のＡ−ＴＭＰＴ−３ＥＯを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例１３と同様にインプリント材料ＰＮＩ−１４Ａを調製した。
＜実施例１５＞
実施例１３のＡ−ＴＭＰＴ−３ＥＯを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例１３と同様にインプリント材料ＰＮＩ−１５Ａを調製した。
＜実施例１６＞
Ａ−ＴＭＰＴ−９ＥＯ４．５ｇと合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ−９ＥＯとウレタンアクリレート（ＩＩ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−１６Ａを調製した。
＜実施例１７＞
実施例１６のＡ−ＴＭＰＴ−９ＥＯを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例１６と同様にインプリント材料ＰＮＩ−１７Ａを調製した。
＜実施例１８＞
実施例１６のＡ−ＴＭＰＴ−９ＥＯを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例１６と同様にインプリント材料ＰＮＩ−１８Ａを調製した。
＜実施例１９＞
ＡＴＭ−４Ｅ４．５ｇと合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ＡＴＭ−４Ｅとウレタンアクリレート（ＩＩ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−１９Ａを調製した。
＜実施例２０＞
実施例１９のＡＴＭ−４Ｅを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例１９と同様にインプリント材料ＰＮＩ−２０Ａを調製した。
＜実施例２１＞
実施例１９のＡＴＭ−４Ｅを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例１９と同様にインプリント材料ＰＮＩ−２１Ａを調製した。
＜実施例２２＞
ＤＰＥＡ−１２ ４．５ｇと合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ＤＰＥＡ−１２とウレタンアクリレート（ＩＩ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−２２Ａを調製した。
＜実施例２３＞
実施例２２のＤＰＥＡ−１２を２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例２２と同様にインプリント材料ＰＮＩ−２３Ａを調製した。
＜実施例２４＞
実施例２２のＤＰＥＡ−１２を０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例２２と同様にインプリント材料ＰＮＩ−２４Ａを調製した。
＜実施例２５＞
Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ４．５ｇと合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯとウレタンアクリレート（ＩＩＩ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−２５Ａを調製した。本実施例並びに後述する実施例及び比較例で使用するウレタンアクリレート（ＩＩＩ）は（Ｂ）成分に該当する。
＜実施例２６＞
実施例２５のＡ−ＴＭＰＴ−３ＥＯを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩＩ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例２５と同様にインプリント材料ＰＮＩ−２６Ａを調製した。
＜実施例２７＞
実施例２５のＡ−ＴＭＰＴ−３ＥＯを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩＩ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例２５と同様にインプリント材料ＰＮＩ−２７Ａを調製した。
＜実施例２８＞
Ａ−ＴＭＰＴ−９ＥＯ４．５ｇと合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ−９ＥＯとウレタンアクリレート（ＩＩＩ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−２８Ａを調製した。
＜実施例２９＞
実施例２８のＡ−ＴＭＰＴ−９ＥＯを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩＩ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例２８と同様にインプリント材料ＰＮＩ−２９Ａを調製した。
＜実施例３０＞
実施例２８のＡ−ＴＭＰＴ−９ＥＯを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩＩ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例２８と同様にインプリント材料ＰＮＩ−３０Ａを調製した。
＜実施例３１＞
ＡＴＭ−４Ｅ４．５ｇと合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ＡＴＭ−４Ｅとウレタンアクリレート（ＩＩＩ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−３１Ａを調製した。
＜実施例３２＞
実施例３１のＡＴＭ−４Ｅを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩＩ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例３１と同様にインプリント材料ＰＮＩ−３２Ａを調製した。
＜実施例３３＞
実施例３１のＡＴＭ−４Ｅを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩＩ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例３１と同様にインプリント材料ＰＮＩ−３３Ａを調製した。
＜実施例３４＞
ＤＰＥＡ−１２ ４．５ｇと合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ＤＰＥＡ−１２とウレタンアクリレート（ＩＩＩ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−３４Ａを調製した。
＜実施例３５＞
実施例３４のＤＰＥＡ−１２を２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩＩ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例３４と同様にインプリント材料ＰＮＩ−３５Ａを調製した。
＜実施例３６＞
実施例３４のＤＰＥＡ−１２を０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩＩ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例３４と同様にインプリント材料ＰＮＩ−３６Ａを調製した。
＜実施例３７＞
Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ４．５ｇと合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯとウレタンアクリレート（ＩＶ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−３７Ａを調製した。本実施例並びに後述する実施例及び比較例で使用するウレタンアクリレート（ＩＶ）は（Ｂ）成分に該当する。
＜実施例３８＞
実施例３７のＡ−ＴＭＰＴ−３ＥＯを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＶ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例３７と同様にインプリント材料ＰＮＩ−３８Ａを調製した。
＜実施例３９＞
実施例３７のＡ−ＴＭＰＴ−３ＥＯを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＶ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例３７と同様にインプリント材料ＰＮＩ−３９Ａを調製した。
＜実施例４０＞
Ａ−ＴＭＰＴ−９ＥＯ４．５ｇと合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（Ａ−ＴＭＰＴ−９ＥＯとウレタンアクリレート（ＩＶ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−４０Ａを調製した。
＜実施例４１＞
実施例４０のＡ−ＴＭＰＴ−９ＥＯを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＶ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例４０と同様にインプリント材料ＰＮＩ−４１Ａを調製した。
＜実施例４２＞
実施例４０のＡ−ＴＭＰＴ−９ＥＯを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＶ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例４０と同様にインプリント材料ＰＮＩ−４２Ａを調製した。
＜実施例４３＞
ＩＶＡＴＭ−４Ｅ４．５ｇと合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ＡＴＭ−４Ｅとウレタンアクリレート（ＩＶ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−４３Ａを調製した。
＜実施例４４＞
ＩＶ実施例４３のＡＴＭ−４Ｅを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＶ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例４３と同様にインプリント材料ＰＮＩ−４４Ａを調製した。
＜実施例４５＞
実施例４３のＡＴＭ−４Ｅを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＶ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例４３と同様にインプリント材料ＰＮＩ−４５Ａを調製した。
＜実施例４６＞
ＤＰＥＡ−１２ ４．５ｇと合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．５ｇ（ＤＰＥＡ−１２とウレタンアクリレート（ＩＶ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−４６Ａを調製した。
＜実施例４７＞
実施例４６のＤＰＥＡ−１２を２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＶ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例４６と同様にインプリント材料ＰＮＩ−４７Ａを調製した。
＜実施例４８＞
実施例４６のＤＰＥＡ−１２を０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＶ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例４６と同様にインプリント材料ＰＮＩ−４８Ａを調製した。
＜実施例４９＞
ＤＰＥＡ−１２ ２．５ｇ、合成例１で得たウレタンアクリレート（Ｉ）２．５ｇ及びアクリル酸０．００５ｇを混合し、Ｌｕｃｉｒｉｎ（登録商標）ＴＰＯ（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）（以下、本明細書では「Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ」と略称する。）を０．１２５ｇ（ＤＰＥＡ−１２、ウレタンアクリレート（Ｉ）及びアクリル酸の総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−４９Ａを調製した。本実施例及び後述する実施例で使用するＬｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯは（Ｃ）成分に該当する。
＜実施例５０＞
ＤＰＥＡ−１２ １．２５ｇ、ウレタンアクリレート（Ｉ）１．２５ｇ及びアクリル酸２．５ｇを混合し、Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯを０．１２５ｇ（ＤＰＥＡ−１２、ウレタンアクリレート（Ｉ）及びアクリル酸の総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−５０Ａを調製した。
＜実施例５１＞
実施例４９のアクリル酸をＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＮＰＧＤＡ（日本化薬株式会社製）（以下、本明細書では「ＮＰＧＤＡ」と略称する。）に変更した以外は、実施例４９と同様にインプリント材料ＰＮＩ−５１Ａを調製した。本実施例及び後述する実施例で使用するＮＰＧＤＡは、重合性基を２つ有するが、エチレンオキサイドユニットを有さないため、（Ａ）成分に該当しない。
＜実施例５２＞
実施例５０のアクリル酸をＮＰＧＤＡに変更した以外は、実施例５０と同様にインプリント材料ＰＮＩ−５２Ａを調製した。
＜実施例５３＞
実施例４９のアクリル酸をＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＰＥＴ−３０（日本化薬株式会社製）（以下、本明細書では「ＰＥＴ−３０」と略称する。）に変更した以外は、実施例４９と同様にインプリント材料ＰＮＩ−５３Ａを調製した。本実施例及び後述する実施例で使用するＰＥＴ−３０は、重合性基を複数有するが、エチレンオキサイドユニットを有さないため、（Ａ）成分に該当しない。
＜実施例５４＞
実施例５０のアクリル酸をＰＥＴ−３０に変更した以外は、実施例５０と同様にインプリント材料ＰＮＩ−５４Ａを調製した。
＜実施例５５＞
実施例４９のアクリル酸をＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）（以下、本明細書では「ＤＰＨＡ」と略称する。）に変更した以外は、実施例４９と同様にインプリント材料ＰＮＩ−５５Ａを調製した。本実施例及び後述する実施例並びに比較例で使用するＤＰＨＡは、重合性基を複数有するが、エチレンオキサイドユニットを有さないため、（Ａ）成分に該当しない。
＜実施例５６＞
実施例５０のアクリル酸をＤＰＨＡに変更した以外は、実施例５０と同様にインプリント材料ＰＮＩ−５６Ａを調製した。
＜実施例５７＞
ＤＰＥＡ−１２ ２．５ｇ、ウレタンアクリレート（Ｉ）２．５ｇ、ＮＫエステルＡＭ−３０Ｇ（新中村化学工業株式会社製）（以下、本明細書では「ＡＭ−３０Ｇ」と略称する。）０．２５ｇ及びＮＰＧＤＡ２．７５ｇを混合し、Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯを０．２ｇ（ＤＰＥＡ−１２、ウレタンアクリレート（Ｉ）、ＡＭ−３０Ｇ及びＮＰＧＤＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−５７Ａを調製した。本実施例及び後述する実施例で使用するＡＭ−３０Ｇは（Ａ）成分に該当する。
＜実施例５８＞
実施例５７のＡＭ−３０Ｇを０．５ｇに、ＮＰＧＤＡを２．５ｇに変更した以外は、実施例５７と同様にインプリント材料ＰＮＩ−５８Ａを調製した。
＜実施例５９＞
実施例５７のＡＭ−３０Ｇを０．７５ｇに、ＮＰＧＤＡを２．２５ｇに変更した以外は、実施例５７と同様にインプリント材料ＰＮＩ−５９Ａを調製した。
＜実施例６０＞
Ｉ実施例５７のＡＭ−３０Ｇを１ｇに、ＮＰＧＤＡを２ｇに変更した以外は、実施例５７と同様にインプリント材料ＰＮＩ−６０Ａを調製した。
＜実施例６１＞
実施例４９のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）に変更した以外は、実施例４９と同様にインプリント材料ＰＮＩ−６１Ａを調製した。
＜実施例６２＞
実施例５０のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）に変更した以外は、実施例５０と同様にインプリント材料ＰＮＩ−６２Ａを調製した。
＜実施例６３＞
実施例５１のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）に変更した以外は、実施例５１と同様にインプリント材料ＰＮＩ−６３Ａを調製した。
＜実施例６４＞
実施例５２のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）に変更した以外は、実施例５２と同様にインプリント材料ＰＮＩ−６４Ａを調製した。
＜実施例６５＞
実施例５３のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）に変更した以外は、実施例５３と同様にインプリント材料ＰＮＩ−６５Ａを調製した。
＜実施例６６＞
実施例５４のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）に変更した以外は、実施例５４と同様にインプリント材料ＰＮＩ−６６Ａを調製した。
＜実施例６７＞
実施例５５のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）に変更した以外は、実施例５５と同様にインプリント材料ＰＮＩ−６７Ａを調製した。
＜実施例６８＞
実施例５６のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）に変更した以外は、実施例５６と同様にインプリント材料ＰＮＩ−６８Ａを調製した。
＜実施例６９＞
実施例５７のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）に変更した以外は、実施例５７と同様にインプリント材料ＰＮＩ−６９Ａを調製した。
＜実施例７０＞
実施例５８のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）に変更した以外は、実施例５８と同様にインプリント材料ＰＮＩ−７０Ａを調製した。
＜実施例７１＞
実施例５９のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）に変更した以外は、実施例５９と同様にインプリント材料ＰＮＩ−７１Ａを調製した。
＜実施例７２＞
実施例６０のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）に変更した以外は、実施例６０と同様にインプリント材料ＰＮＩ−７２Ａを調製した。
＜実施例７３＞
実施例４９のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）に変更した以外は、実施例４９と同様にインプリント材料ＰＮＩ−７３Ａを調製した。
＜実施例７４＞
実施例５０のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）に変更した以外は、実施例５０と同様にインプリント材料ＰＮＩ−７４Ａを調製した。
＜実施例７５＞
実施例５１のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）に変更した以外は、実施例５１と同様にインプリント材料ＰＮＩ−７５Ａを調製した。
＜実施例７６＞
実施例５２のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）に変更した以外は、実施例５２と同様にインプリント材料ＰＮＩ−７６Ａを調製した。
＜実施例７７＞
実施例５３のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）に変更した以外は、実施例５３と同様にインプリント材料ＰＮＩ−７７Ａを調製した。
＜実施例７８＞
実施例５４のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）に変更した以外は、実施例５４と同様にインプリント材料ＰＮＩ−７８Ａを調製した。
＜実施例７９＞
実施例５５のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）に変更した以外は、実施例５５と同様にインプリント材料ＰＮＩ−７９Ａを調製した。
＜実施例８０＞
実施例５６のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）に変更した以外は、実施例５６と同様にインプリント材料ＰＮＩ−８０Ａを調製した。
＜実施例８１＞
実施例５７のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）に変更した以外は、実施例５７と同様にインプリント材料ＰＮＩ−８１Ａを調製した。
＜実施例８２＞
実施例５８のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）に変更した以外は、実施例５８と同様にインプリント材料ＰＮＩ−８２Ａを調製した。
＜実施例８３＞
実施例５９のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）に変更した以外は、実施例５９と同様にインプリント材料ＰＮＩ−８３Ａを調製した。
＜実施例８４＞
実施例６０のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）に変更した以外は、実施例６０と同様にインプリント材料ＰＮＩ−８４Ａを調製した。
＜実施例８５＞
実施例４９のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）に変更した以外は、実施例４９と同様にインプリント材料ＰＮＩ−８５Ａを調製した。
＜実施例８６＞
実施例５０のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）に変更した以外は、実施例５０と同様にインプリント材料ＰＮＩ−８６Ａを調製した。
＜実施例８７＞
実施例５１のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）に変更した以外は、実施例５１と同様にインプリント材料ＰＮＩ−８７Ａを調製した。
＜実施例８８＞
実施例５２のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）に変更した以外は、実施例５２と同様にインプリント材料ＰＮＩ−８８Ａを調製した。
＜実施例８９＞
実施例５３のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）に変更した以外は、実施例５３と同様にインプリント材料ＰＮＩ−８９Ａを調製した。
＜実施例９０＞
実施例５４のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）に変更した以外は、実施例５４と同様にインプリント材料ＰＮＩ−９０Ａを調製した。
＜実施例９１＞
実施例５５のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）に変更した以外は、実施例５５と同様にインプリント材料ＰＮＩ−９１Ａを調製した。
＜実施例９２＞
実施例５６のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）に変更した以外は、実施例５６と同様にインプリント材料ＰＮＩ−９２Ａを調製した。
＜実施例９３＞
実施例５７のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）に変更した以外は、実施例５７と同様にインプリント材料ＰＮＩ−９３Ａを調製した。
＜実施例９４＞
実施例５８のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）に変更した以外は、実施例５８と同様にインプリント材料ＰＮＩ−９４Ａを調製した。
＜実施例９５＞
実施例５９のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）に変更した以外は、実施例５９と同様にインプリント材料ＰＮＩ−９５Ａを調製した。
＜実施例９６＞
実施例６０のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）に変更した以外は、実施例６０と同様にインプリント材料ＰＮＩ−９６Ａを調製した。
＜比較例１＞
ＤＰＨＡ４．５ｇと合成例１で得たウレタンアクリレート（Ｉ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．５ｇ（ＤＰＨＡとウレタンアクリレート（Ｉ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−１Ｂを調製した。本比較例及び後述する比較例は、本発明の必須成分である（Ａ）成分を含まない例である。
＜比較例２＞
比較例１のＤＰＨＡを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（Ｉ）を２．５ｇに変更した以外は、比較例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ−２Ｂを調製した。
＜比較例３＞
比較例１のＤＰＨＡを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（Ｉ）を４．５ｇに変更した以外は、比較例１３と同様にインプリント材料ＰＮＩ−３Ｂを調製した。
＜比較例４＞
合成例１で得たウレタンアクリレート（Ｉ）５ｇへＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ウレタンアクリレート（Ｉ）の質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−４Ｂを調製した。
＜比較例５＞
ＤＰＨＡ４．５ｇと合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ＤＰＨＡとウレタンアクリレート（ＩＩ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−５Ｂを調製した。
＜比較例６＞
比較例５のＤＰＨＡを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩ）を２．５ｇに変更した以外は、比較例５と同様にインプリント材料ＰＮＩ−６Ｂを調製した。
＜比較例７＞
比較例５のＤＰＨＡを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩ）を４．５ｇに変更した以外は、比較例５と同様にインプリント材料ＰＮＩ−７Ｂを調製した。
＜比較例８＞
合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）５ｇへＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ウレタンアクリレート（ＩＩ）の質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−８Ｂを調製した。
＜比較例９＞
ＤＰＨＡ４．５ｇと合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ＤＰＨＡとウレタンアクリレート（ＩＩＩ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−９Ｂを調製した。
＜比較例１０＞
比較例９のＤＰＨＡを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩＩ）を２．５ｇに変更した以外は、比較例９と同様にインプリント材料ＰＮＩ−１０Ｂを調製した。
＜比較例１１＞
比較例９のＤＰＨＡを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩＩ）を４．５ｇに変更した以外は、比較例９と同様にインプリント材料ＰＮＩ−１１Ｂを調製した。
＜比較例１２＞
合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）５ｇへＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ウレタンアクリレート（ＩＩＩ）の質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−１２Ｂを調製した。
＜比較例１３＞
ＤＰＨＡ４．５ｇと合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ＤＰＨＡとウレタンアクリレート（ＩＶ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−１３Ｂを調製した。
＜比較例１４＞
比較例１３のＤＰＨＡを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＶ）を２．５ｇに変更した以外は、比較例１３と同様にインプリント材料ＰＮＩ−１４Ｂを調製した。
＜比較例１５＞
比較例１３のＤＰＨＡを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＶ）を４．５ｇに変更した以外は、比較例１３と同様にインプリント材料ＰＮＩ−１５Ｂを調製した。
＜比較例１６＞
合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）５ｇへＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ウレタンアクリレート（ＩＶ）の質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−１６Ｂを調製した。
［光インプリント］
ナノインプリント装置は、ＮＭ−０８０１ＨＢ（明昌機工株式会社製）を使用した。実施例１乃至実施例９６並びに比較例１乃至比較例１６で得られた各インプリント材料を用い、パターニング試験した。パターニング試験に用いたモールドはシリコン製であり、パターンは１００ｎｍのラインアンドスペースパターン（以下、本明細書ではＬ／Ｓと略称する。）、およびピッチ２７０ｎｍ、高さ３５０ｎｍである正三角形配列のモスアイパターン（ＮＴＴアドバンステクノロジ株式会社製）（以下、本明細書ではモスアイと略称する。）の２種類を使用した。モールドは事前にオプツール（登録商標）ＤＳＸ（ダイキン工業株式会社製）をノベックＨＦＥ−７１００（住友スリーエム株式会社）（以下、本明細書ではノベックＨＦＥ−７１００と略称する。）で０．１質量％に希釈した溶液へ浸漬し、温度が９０℃、湿度が９０ＲＨ％の高温高湿装置を用いて１時間処理し、ノベックＨＦＥ−７１００でリンス後、エアーで乾燥させたものを使用した。
［スチールウール擦傷試験］
試験機は大栄精機（有）製を使用し、♯００００のスチールウールを使用した。単位面積当たりの荷重は３８０ｇ／ｃｍ2とし、上記スチールウールを１０往復させた。また、Ｌ／Ｓパターンについてはラインと垂直方向に上記スチールウールを往復させた。擦傷後の傷本数について以下のように評価した結果を表１乃至表４に示す。
０〜１０本：Ａ
１１〜２０本：Ｂ
２１〜３０本：Ｃ
３１〜４０本：Ｄ
４１本以上：Ｅ
実施例１で得たインプリント材料ＰＮＩ−１Ａをガラス基板上にスピンコートし、シリコン製モールドを接着させた状態で、光インプリント装置に設置した。光インプリントは、常時２３℃の条件で、ａ）１０秒間かけて１０００Ｎまで加圧、ｂ）高圧水銀ランプを用いて５００ｍＪ／ｃｍ2の露光、ｃ）１０秒間かけて除圧、ｄ）モールドと基板を分離して離型、というシーケンスで行い、Ｌ／Ｓおよびモスアイが転写された膜をそれぞれ得た。そしてそれぞれの膜について、スチールウール擦傷試験を行った。このとき、Ｌ／Ｓについてはラインと垂直方向に擦傷試験を行った。そして試験後の傷本数を観察した。
実施例２乃至実施例９６で得た各インプリント材料を使用した以外は上記と同様の方法で、光インプリントおよびスチールウール擦傷試験を行った。
比較例１乃至比較例１６で得た各インプリント材料を使用した以外は上記と同様の方法で、光インプリントおよびスチールウール擦傷試験を行った。
Figure 2012099164
Figure 2012099164
Figure 2012099164
Figure 2012099164
表１乃至表３の結果から実施例１乃至実施例９６で得たインプリント材料を用いた場合は、いずれもスチールウール擦傷試験後に発生する傷の本数は少なく、耐擦傷性が確認された。一方、表４の結果から比較例１乃至比較例１６で得たインプリント材料を用いた場合は、いずれも傷が多数発生し、十分な耐擦傷性は見られなかった。以上の結果から、本発明のインプリント材料を基材に塗布して得られる膜は、インプリント後も耐擦傷性を有するものとなる。
本発明のインプリント材料により得られる膜は、固体撮像装置（ＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサ等）、太陽電池、ＬＥＤデバイス、ディスプレイ（液晶ディスプレイ、ＥＬディスプレイ等）、屋外に設置される看板（表示板）などの、耐擦傷性が求められる部材を使用する製品へ好適に用いることができる。

Claims (15)

  1. （Ａ）成分：エチレンオキサイドユニットを少なくとも１つ有し、かつ少なくとも１つの重合性基を有する化合物、
    （Ｂ）成分：炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキル基及び重合性基を少なくとも１つ有し、ポリカプロラクトン変性されたウレタン化合物、及び
    （Ｃ）成分：光重合開始剤
    を含むインプリント材料。
  2. 前記（Ａ）成分の化合物１分子あたりのエチレンオキサイドユニット濃度は２０％以上８０％以下である、請求項１に記載のインプリント材料。
  3. 前記（Ｂ）成分は、１分子中に少なくとも３つのイソシアネート基を有する有機イソシアネートと炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキル基を有するアルコールとの反応生成物及びポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを反応させることにより得られる化合物である、請求項１又は請求項２に記載のインプリント材料。
  4. 前記（Ａ）成分が少なくとも２種の化合物からなる、請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のインプリント材料。
  5. 前記（Ａ）成分及び前記（Ｂ）成分の総質量に対する該（Ｂ）成分の割合は１０乃至９０質量％である、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のインプリント材料。
  6. （Ｄ）成分として界面活性剤をさらに含有する、請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載のインプリント材料。
  7. （Ｅ）成分として溶剤をさらに含有する、請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載のインプリント材料。
  8. 前記（Ａ）成分および（Ｂ）成分は重合性基として、アクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、ビニル基及びアリル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有する化合物であることを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載のインプリント材料。
  9. 請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載のインプリント材料から作製され、パターンが転写された膜。
  10. 請求項９に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた部材。
  11. 請求項９に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた固体撮像装置。
  12. 請求項９に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えたＬＥＤデバイス。
  13. 請求項９に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた太陽電池。
  14. 請求項９に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えたディスプレイ。
  15. 請求項９に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた電子デバイス。
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