JPWO2012067126A1 - コンタクトプローブおよびプローブユニット - Google Patents
コンタクトプローブおよびプローブユニット Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2012067126A1 JPWO2012067126A1 JP2012544268A JP2012544268A JPWO2012067126A1 JP WO2012067126 A1 JPWO2012067126 A1 JP WO2012067126A1 JP 2012544268 A JP2012544268 A JP 2012544268A JP 2012544268 A JP2012544268 A JP 2012544268A JP WO2012067126 A1 JPWO2012067126 A1 JP WO2012067126A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plunger
- longitudinal direction
- contact probe
- contact
- probe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000523 sample Substances 0.000 title claims abstract description 94
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 21
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 15
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 3
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- 229910000952 Be alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- -1 or the like Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/06711—Probe needles; Cantilever beams; "Bump" contacts; Replaceable probe pins
- G01R1/06733—Geometry aspects
- G01R1/06738—Geometry aspects related to tip portion
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/073—Multiple probes
- G01R1/07307—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
- G01R1/07314—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card the body of the probe being perpendicular to test object, e.g. bed of nails or probe with bump contacts on a rigid support
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/04—Housings; Supporting members; Arrangements of terminals
- G01R1/0408—Test fixtures or contact fields; Connectors or connecting adaptors; Test clips; Test sockets
- G01R1/0433—Sockets for IC's or transistors
- G01R1/0483—Sockets for un-leaded IC's having matrix type contact fields, e.g. BGA or PGA devices; Sockets for unpackaged, naked chips
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Geometry (AREA)
- Measuring Leads Or Probes (AREA)
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
長手方向に沿って伸縮可能な針状をなす導電性のコンタクトプローブ(2)が、長手方向の少なくとも一方の端部に設けられ、長手方向に沿って錘状または山状をなしてそれぞれ突出し、長手方向における先端の高さが他と異なるものを含む複数の突出部を備えることによって、接触対象の球状電極の表面に存在する酸化被膜を確実に削り落とすことができるとともに、一段と安定した導通を確保することが可能となる。
Description
本発明は、半導体パッケージや液晶パネルなどの検査対象の導通状態検査または動作特性検査に用いられる導電性のコンタクトプローブおよび当該コンタクトプローブを備えたプローブユニットに関する。
従来より、半導体パッケージや液晶パネルなどの検査対象の導通状態検査や動作特性検査を行う際には、その検査対象が有する外部接続用電極の設置パターンに対応して、導電性の複数のコンタクトプローブを所定の位置に配置したプローブユニットが用いられる。プローブユニットでは、コンタクトプローブの両端部が、検査対象の電極と検査用信号を出力する配線基板の電極とにそれぞれ接触することにより、検査対象と配線基板との間を電気的に接続する(例えば、特許文献1を参照)。このようなプローブユニットにおいては、近年の半導体パッケージや液晶パネルの高集積化、微細化の進展に対応可能な技術として、隣り合うコンタクトプローブ間のピッチを狭小化する技術が進歩してきている。
ところで、検査対象の電極は球状をなしている場合がある。このような球状電極との接触に適したコンタクトプローブとして、特許文献1にも示されるように、互いに同じ錘状をなして長手方向へ突出し、該長手方向の中心軸に対して回転対称な位置に配置される複数の突出部が形成されたクラウン形状の先端部を有し、球状電極と接触する第1プランジャと、配線基板と接触する第2プランジャと、この2つのプランジャを連結するコイルばねとを備えたコンタクトプローブが用いられる。このコンタクトプローブのコイルばねは、線材が密着して巻かれ、端部が第1プランジャに取り付けられる密着巻き部と、密着巻き部から延びる線材が所定のピッチで巻かれ、端部が第2プランジャに取り付けられる粗巻き部とを有する。
上述したコンタクトプローブによれば、複数の突出部が球状電極の表面に存在する汚れや酸化被膜を削り落とすことができ、球状電極との間で確実な電気的接続を実現することができる。また、上述したコンタクトプローブによれば、検査時の荷重が外部から加わると、コイルばねの密着巻き部を介して第1および第2プランジャが導通するため、導通経路を短くしてインダクタンスや抵抗の低減、安定化を実現することができる。したがって、上述したコンタクトプローブを備えたプローブユニットを用いることにより、半導体パッケージ等の検査時に安定した導通を確保することができる。
上述した従来のコンタクトプローブの場合、第1プランジャの先端部では、複数の突出部が長手方向の中心軸に対して回転対称に配設されており、球状電極と接触する際のコンタクトプローブの動きは、長手方向に沿ってほぼ直線的であった。このため、荷重が加わった時のコイルばねの湾曲が少ないと、第2プランジャとコイルばねの密着巻き部との間で十分な接触が得られない可能性があった。このような場合、コイルばねの粗巻き部が導通経路に含まれてしまうため、インダクタンスや抵抗が増大してしまい、安定した導通を確保することができないおそれがあった。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、接触対象の球状電極の表面に存在する酸化被膜を確実に削り落とすことができるとともに、安定した導通を確保することができるコンタクトプローブおよび当該コンタクトプローブを備えたプローブユニットを提供することを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係るコンタクトプローブは、長手方向に沿って伸縮可能な針状をなす導電性のコンタクトプローブであって、前記長手方向の少なくとも一方の端部に設けられ、前記長手方向に沿って錘状または山状をなしてそれぞれ突出し、前記長手方向における先端の高さが他と異なるものを含む複数の突出部を備えたことを特徴とする。
また、本発明に係るコンタクトプローブは、上記発明において、前記複数の突出部を有する第1プランジャと、前記長手方向の端部であって前記第1プランジャが位置する端部と異なる端部に位置する第2プランジャと、前記第1プランジャと前記第2プランジャとを連結し、前記長手方向に沿って伸縮自在なコイルばねと、を備えたことを特徴とする。
また、本発明に係るコンタクトプローブは、上記発明において、前記コイルばねは、線材が密着して巻かれ、一端部が前記第1および第2プランジャの一方に取り付けられる密着巻き部と、前記密着巻き部の他端部から連続して延びる線材が所定のピッチで離間して巻かれ、前記密着巻き部に接続していない側の端部が前記第1および第2プランジャの他方に取り付けられる粗巻き部と、を有し、前記粗巻き部が取り付けられる前記第1および第2プランジャの他方は、少なくとも当該コンタクトプローブに検査時の荷重が加わって前記コイルばねが収縮した状態で、前記密着巻き部の内周側へ進入することを特徴とする。
また、本発明に係るコンタクトプローブは、上記発明において、前記第1プランジャは、前記コイルばねを挿通する第1基端部を有し、前記第2プランジャは、前記第1基端部よりも前記長手方向の長さが短く、前記コイルばねを挿通する第2基端部を有し、前記密着巻き部は前記第1プランジャに取り付けられることを特徴とする。
また、本発明に係るプローブユニットは、上記発明に記載の複数のコンタクトプローブと、前記コンタクトプローブの両端部を外部に表出させつつ抜け止めした状態で保持する保持孔が複数形成され、少なくとも表面が絶縁性を有するプローブホルダと、を備えたことを特徴とする。
本発明によれば、長手方向の少なくとも一方の端部に設けられ、長手方向に沿って錘状または山状をなしてそれぞれ突出し、長手方向に沿った先端の高さが他と異なるものを含む複数の突出部を備えているため、複数の突出部が接触対象の球状電極と接触するタイミングが一様ではなくなり、先に接触した方の突出端が球状電極を引っかきながら移動する。したがって、接触対象の球状電極の表面に存在する酸化被膜を確実に削り落とすことができるとともに、安定した導通を確保することが可能となる。
以下、添付図面を参照して本発明を実施するための形態(以下、「実施の形態」という)を説明する。なお、図面は模式的なものであって、各部分の厚みと幅との関係、それぞれの部分の厚みの比率などは現実のものとは異なる場合もあることに留意すべきであり、図面の相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれる場合があることは勿論である。
図1は、本発明の一実施の形態に係るプローブユニットの構成を示す斜視図である。図2は、本実施の形態に係るプローブユニットの要部の構成を示す部分断面図である。これらの図に示すプローブユニット1は、半導体パッケージ100と半導体パッケージ100へ検査用信号を出力する配線基板200との間を電気的に接続するものであり、検査対象物である半導体パッケージ100の電気特性検査を行う際に使用する装置(テストソケット)である。
プローブユニット1は、長手方向の両端で互いに異なる二つの被接触体である半導体パッケージ100および配線基板200とそれぞれ接触する導電性のコンタクトプローブ2と、複数のコンタクトプローブ2を所定のパターンにしたがって収容して保持し、少なくとも表面が絶縁性を有するプローブホルダ3と、プローブホルダ3の外周を包囲するように配置され、プローブホルダ3を固定して保持するとともに検査時における半導体パッケージ100の位置ずれを抑制する絶縁性のベース部材4と、を備える。
コンタクトプローブ2は、半導体パッケージ100の球状電極101と接触する第1プランジャ21と、コンタクトプローブ2の長手方向の端部であって第1プランジャ21が位置する端部と異なる端部に位置し、配線基板200の電極201と接触する第2プランジャ22と、第1プランジャ21と第2プランジャ22とを連結し、コンタクトプローブ2の長手方向に沿って伸縮自在なコイルばね23とを有する。第1プランジャ21、第2プランジャ22およびコイルばね23は、同一の軸線を有している。
第1プランジャ21は、半導体パッケージ100の球状電極101と接触する先端部21aと、先端部21aの基端側に設けられ、先端部21aの径よりも大きい径を有するフランジ部21bと、フランジ部21bに対して先端部21aと反対側に設けられ、フランジ部21bの径よりも径が小さくかつコイルばね23の内径とほぼ等しい径を有し、コイルばね23の一端部が圧入される円柱状のボス部21cと、ボス部21cに対してフランジ部21bと反対側に設けられ、コイルばね23の内径よりも径が小さい円柱状をなしてボス部21cから延びる基端部(第1基端部)21dとを有する。
図3は、図2の矢視A方向から先端部21aを見たときの上面図である。なお、図2に示す先端部21aは、図3の矢視B方向から見たときの側面を表している。図3に示すように、先端部21aは、コンタクトプローブ2の長手方向に沿って錘状をなしてそれぞれ突出した4つの突出部211aを有する。4つの突出部211aのうち、図3で中央部より左側に位置する2つの突出部211aの先端の長手方向における高さ(突出量)は、図3で中央部より右側に位置する2つの突出部211aの先端の長手方向における高さよりも大きい。この高さの差は、互いに高さが異なる2つの突出部211aの先端同士の距離の3〜25%程度であれば好ましい。
第2プランジャ22は、略円錘状をなす先端部22aと、先端部22aの基端側に設けられ、先端部22aの径よりも大きい径を有するフランジ部22bと、フランジ部22bに対して先端部22aと反対側に設けられ、フランジ部22bの径よりも小さくかつコイルばね23の内径とほぼ等しい径を有し、コイルばね23の他端部が圧入される円柱状のボス部22cと、ボス部22cに対してフランジ部22bと反対側に設けられ、ボス部22cよりも径が小さくかつコイルばね23の内径よりも径が小さい円柱状をなしてボス部22cから延びる基端部(第2基端部)22dとを有する。コンタクトプローブ2の長手方向における基端部22dの長さは、第1プランジャ21の基端部21dの長さよりも長い。
コイルばね23は、線材が密着して巻かれている密着巻き部23aと、密着巻き部23aの一端部から連続して延びる線材が所定のピッチで離間して巻かれた粗巻き部23bとを備える。密着巻き部23aの端部は第1プランジャ21のボス部21cに圧入される一方、粗巻き部23bの端部は第2プランジャ22のボス部22cに圧入されている。なお、第1プランジャ21および第2プランジャ22とコイルばね23とを、ばねの巻き付き力および/または半田付けによって接合してもよい。
以上の構成を有するコンタクトプローブ2において、第2プランジャ22の基端部22dの長さとコイルばね23の密着巻き部23aの長さは、少なくともコンタクトプローブ2に検査時の荷重が加わってコイルばね23が収縮した状態で、基端部22dの一部が密着巻き部23aの内周側へ進入するように設定される。
コンタクトプローブ2は、貴金属または貴金属合金を用いて形成される。ここでいう貴金属とは、例えば金(Au)、銀(Ag)、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)などである。本実施の形態で適用する貴金属または貴金属合金は、ビッカース硬さ(HV)が400以上であり、かつ電気抵抗率が5.00×10-8Ω・m以下であればより好ましい。なお、コンタクトプローブ2の材料として、銅、銅合金、鉄、タングステン、ベリリウム合金などを用いることも可能である。
コンタクトプローブ2の径は数十μm〜数百μm程度である。また、コンタクトプローブ2の長手方向の長さは、数mm〜数十mm程度である。
次に、プローブホルダ3の構成を説明する。プローブホルダ3は、第1基板31および第2基板32が厚さ方向(図2の上下方向)に積層されて成る。
第1基板31には、板厚方向に貫通された複数の保持孔33が設けられている。保持孔33の形成位置は、半導体パッケージ100の配線パターンに応じて定められる。保持孔33は、第1プランジャ21の先端部21aを挿通可能な円筒状の小径部33aと、小径部33aよりも径が大きく、かつ小径部33aと同軸をなす円筒状の大径部33bとを有する段付き孔である。大径部33bの径はコイルばね23の外径よりも大きく、コイルばね23に荷重が加わって収縮する際に湾曲することができる隙間を有している。小径部33aの径は、第1プランジャ21のフランジ部21bの径よりも小さい。このため、図2に示す状態で、フランジ部21bは、小径部33aと大径部33bとの境界壁面に当接することにより、プローブホルダ3から抜け止めされている。
第2基板32には、第1基板31が有する複数の保持孔33に対応する複数の保持孔34が設けられている。保持孔34は、第1基板31に設けられた複数の保持孔33のいずれかと同軸的に連通し、保持孔33とともにホルダ孔を形成している。保持孔34は、第2プランジャ22の先端部22aを挿通可能な円筒状の小径部34aと、小径部34aよりも径が大きく、かつ小径部34aと同軸をなす円筒状の大径部34bとを有する段付き孔である。小径部34aの径は、第2プランジャ22のフランジ部22bの径よりも小さい。このため、図2に示す状態で、フランジ部22bは、小径部34aと大径部34bとの境界壁面に当接することにより、プローブホルダ3から抜け止めされている。大径部34bの径は、保持孔33の大径部33bの径と等しく、コイルばね23の外径よりも大きい。
保持孔33、34は、ドリル加工、エッチング、打抜き成形を行うか、あるいはレーザ、電子ビーム、イオンビーム、ワイヤ放電等を用いた加工を行うことによって形成される。
以上の構成を有するプローブホルダ3は、樹脂、マシナブルセラミック、シリコンなどのうちいずれかの絶縁性材料を用いて形成してもよいし、金属または合金を母材とし、その母材の表面に樹脂等の絶縁被膜を設けることによって形成してもよい。
プローブホルダ3において、隣り合うホルダ孔のピッチは、数十μm〜数百μm程度である。
次に、半導体パッケージ100の検査時におけるコンタクトプローブ2の動作を説明する。半導体パッケージ100の球状電極101がプローブユニット1に接近してコンタクトプローブ2の第1プランジャ21と接触し始めたとき、コンタクトプローブ2においては、長手方向に沿って突出量が大きい先端を有する突出部211a(図3の中央部より左側の2つの突出部211a)のみが球状電極101と接触する。したがって、この状態では、先端部21aと球状電極101との接触が不安定な状況にある。
その後、半導体パッケージ100がコンタクトプローブ2にさらに接近していくと、コイルばね23は収縮し始める。この際、第1プランジャ21は、球状電極101と接触している突出部211aが球状電極101との接触を保つ一方、球状電極101と接触していない突出部211aは球状電極101へ徐々に近づいていく。その後、全ての突出部211aが球状電極101と接触すると、球状電極101は、4つの突出部211aによって安定的に保持された状態となる。この状態で、第1プランジャ21の長手方向は、保持孔33の長手方向に対してわずかに傾斜する。
先に球状電極101と接触する突出部211aは、残りの突出部211aが球状電極101と接触するまでの間、球状電極101の表面を引っかきながら移動するため、球状電極101の表面の酸化被膜を除去することができる。
全ての突出部211aが球状電極101と接触した状態において、コイルばね23は、第1プランジャ21の回転に伴って湾曲した態様で収縮している。このため、第2プランジャ22の基端部22dは、密着巻き部23aの内周側へ進入するだけでなく、その側面の一部が密着巻き部23aの内側面に押し付けられる。この結果、基端部22dと密着巻き部23aとの間には、コイルばね23が湾曲しない場合よりも大きい接触圧が発生することとなり、安定した導通を確保することができる。このようなコンタクトプローブ2においては、検査時に粗巻き部23bに信号が流れるのを防止し、インダクタンスや抵抗の低減および安定化を実現することができる。
以上説明した本発明の一実施の形態によれば、長手方向の少なくとも一方の端部に設けられ、長手方向に沿って錘状をなしてそれぞれ突出し、長手方向に沿った先端の高さが他と異なるものを含む複数の突出部を備えているため、複数の突出部が接触対象の球状電極と接触するタイミングが一様ではなくなり、先に接触した方の突出端が球状電極を引っかきながら移動する。したがって、接触対象の球状電極の表面に存在する酸化被膜を確実に削り落とすことができるとともに、安定した導通を確保することが可能となる。
なお、本発明において、上述した実施の形態と同様に第1プランジャの先端部を形成する際、互いに直交する2つのV字状の溝の底部が、加工後に先端部となる部分の端面の円の中心からそれぞれシフトした位置を通過するようにしてもよい。この場合には、長手方向における突出部の先端の高さが3通りとなる。また、2つのV字状の溝が互いに直交しないように形成してもよい。
また、本発明において、第1プランジャの先端部が、3つ以上のV字状の溝を有するようにしてもよい。この場合にも、少なくとも1つの溝の底部は、先端部の長手方向の中心軸からシフトした位置を通過するようにする。
また、本発明において、第1プランジャの先端部が、長手方向における高さが互いに異なる山状をなす2つの突起部を有するようにしてもよい。
また、本発明において、コンタクトプローブの長手方向における第1基端部の長さを第2基端部の長さより長くし、第1プランジャのボス部に粗巻き部の端部を圧入する一方、第2プランジャのボス部に密着巻き部の端部を圧入した構成としてもよい。この場合には、少なくともコンタクトプローブに検査時の荷重が加わってコイルばねが収縮した状態で、第1基端部が密着巻き部の内周側へ進入するようにする。このような構成を有するコンタクトプローブにおいては、検査時に第1プランジャが回転して傾斜した状態になり、第1プランジャの基端部がコイルばねの密着巻き部の内周部へ進入するため、第1プランジャの基端部の側面の一部が密着巻き部の内側面に押し付けられた状態で接触する。したがって、上記実施の形態と同様に、安定した導通を確保することが可能となる。
また、本発明において、先端部が第1プランジャ21の先端部21aと同様な先端形状を有する第2プランジャを適用することも可能である。この場合には、コイルばね23の湾曲も考慮して、第1プランジャ21の先端部21aと第2プランジャの先端部の位置関係を定めることが望ましい。
また、本発明において、少なくとも第1および第2突出部の表面を電界メッキや金メッキ等のメッキ被膜で被覆してもよい。これにより、第1および第2突出部の耐久性を向上させることができる。
なお、本発明に係るプローブユニットは、半導体パッケージ検査用のテストソケットにのみ適用が限られるわけではない。すなわち、本発明に係るプローブユニットは、液晶パネルやウェハ等の検査用としても適用可能である。
また、本発明に係るコンタクトプローブは、半導体パッケージ等の検査用として以外にも、例えばハイブリッド自動車の構成部品間を電気的に接続するコネクタとして適用することができる。このようなコネクタとして適用する場合のコンタクトプローブの径は、上記実施の形態で説明したコンタクトプローブの径より大きい。
このように、本発明は、ここでは記載していない様々な実施の形態等を含みうるものであり、特許請求の範囲により特定される技術的思想を逸脱しない範囲内において種々の設計変更等を施すことが可能である。
以上のように、本発明に係るプローブユニットは、接触対象の球状電極の表面に存在する酸化被膜を確実に削り落とすことができるとともに、安定した導通を確保するのに有用である。
1 プローブユニット
2 コンタクトプローブ
3 プローブホルダ
4 ベース部材
21 第1プランジャ
21a、22a 先端部
21b、22b フランジ部
21c、22c ボス部
21d、22d 基端部
22 第2プランジャ
23 コイルばね
23a 密着巻き部
23b 粗巻き部
31 第1基板
32 第2基板
33、34 保持孔
33a、34a 小径部
33b、34b 大径部
100 半導体パッケージ
101 球状電極
200 配線基板
201 電極
211a 突出部
2 コンタクトプローブ
3 プローブホルダ
4 ベース部材
21 第1プランジャ
21a、22a 先端部
21b、22b フランジ部
21c、22c ボス部
21d、22d 基端部
22 第2プランジャ
23 コイルばね
23a 密着巻き部
23b 粗巻き部
31 第1基板
32 第2基板
33、34 保持孔
33a、34a 小径部
33b、34b 大径部
100 半導体パッケージ
101 球状電極
200 配線基板
201 電極
211a 突出部
Claims (5)
- 長手方向に沿って伸縮可能な針状をなす導電性のコンタクトプローブであって、
前記長手方向の少なくとも一方の端部に設けられ、前記長手方向に沿って錘状または山状をなしてそれぞれ突出し、前記長手方向における先端の高さが他と異なるものを含む複数の突出部を備えたことを特徴とするコンタクトプローブ。 - 前記複数の突出部を有する第1プランジャと、
前記長手方向の端部であって前記第1プランジャが位置する端部と異なる端部に位置する第2プランジャと、
前記第1プランジャと前記第2プランジャとを連結し、前記長手方向に沿って伸縮自在なコイルばねと、
を備えたことを特徴とする請求項1に記載のコンタクトプローブ。 - 前記コイルばねは、
線材が密着して巻かれ、一端部が前記第1および第2プランジャの一方に取り付けられる密着巻き部と、
前記密着巻き部の他端部から連続して延びる線材が所定のピッチで離間して巻かれ、前記密着巻き部に接続していない側の端部が前記第1および第2プランジャの他方に取り付けられる粗巻き部と、
を有し、
前記粗巻き部が取り付けられる前記第1および第2プランジャの他方は、少なくとも当該コンタクトプローブに検査時の荷重が加わって前記コイルばねが収縮した状態で、前記密着巻き部の内周側へ進入することを特徴とする請求項1または2に記載のコンタクトプローブ。 - 前記第1プランジャは、前記コイルばねを挿通する第1基端部を有し、
前記第2プランジャは、前記第1基端部よりも前記長手方向の長さが短く、前記コイルばねを挿通する第2基端部を有し、
前記密着巻き部は前記第1プランジャに取り付けられることを特徴とする請求項3に記載のコンタクトプローブ。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載の複数のコンタクトプローブと、
前記コンタクトプローブの両端部を外部に表出させつつ抜け止めした状態で保持する保持孔が複数形成され、少なくとも表面が絶縁性を有するプローブホルダと、
を備えたことを特徴とするプローブユニット。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010257315 | 2010-11-17 | ||
JP2010257315 | 2010-11-17 | ||
PCT/JP2011/076335 WO2012067126A1 (ja) | 2010-11-17 | 2011-11-15 | コンタクトプローブおよびプローブユニット |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2012067126A1 true JPWO2012067126A1 (ja) | 2014-05-12 |
Family
ID=46084049
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012544268A Pending JPWO2012067126A1 (ja) | 2010-11-17 | 2011-11-15 | コンタクトプローブおよびプローブユニット |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPWO2012067126A1 (ja) |
TW (1) | TWI463141B (ja) |
WO (1) | WO2012067126A1 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9804198B2 (en) | 2012-08-03 | 2017-10-31 | Yamamoto Precious Metal Co., Ltd. | Alloy material, contact probe, and connection terminal |
CN103675395B (zh) * | 2012-09-05 | 2016-06-08 | 英华达(上海)科技有限公司 | 测量稳压组件电流的检测系统及检测方法 |
US9689825B1 (en) | 2013-09-09 | 2017-06-27 | Apple Inc. | Testing a layer positioned over a capacitive sensing device |
US9622357B2 (en) | 2014-05-06 | 2017-04-11 | Apple Inc. | Method for orienting discrete parts |
US9739696B2 (en) | 2015-08-31 | 2017-08-22 | Apple Inc. | Flexural testing apparatus for materials and method of testing materials |
JP6873780B2 (ja) * | 2017-03-28 | 2021-05-19 | 日本発條株式会社 | 導電性接触子、導電性接触子ユニット、および導電性接触子ユニットを備える半導体検査装置 |
WO2019069576A1 (ja) * | 2017-10-06 | 2019-04-11 | 株式会社村田製作所 | プローブ |
WO2020122006A1 (ja) * | 2018-12-13 | 2020-06-18 | 株式会社村田製作所 | プローブ |
JP2020180889A (ja) * | 2019-04-25 | 2020-11-05 | オムロン株式会社 | プローブピン、検査治具および検査ユニット |
KR102321112B1 (ko) * | 2020-05-22 | 2021-11-04 | 리노공업주식회사 | 검사소켓의 제조방법 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002107377A (ja) * | 2000-09-28 | 2002-04-10 | Nhk Spring Co Ltd | 可動ガイドプレート付き導電性接触子 |
JP2006343296A (ja) * | 2005-06-10 | 2006-12-21 | S Ii R:Kk | 集積回路用ソケットのプローブ |
JP2010038612A (ja) * | 2008-08-01 | 2010-02-18 | Hioki Ee Corp | コンタクトプローブ |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6396293B1 (en) * | 1999-02-18 | 2002-05-28 | Delaware Capital Formation, Inc. | Self-closing spring probe |
US7545159B2 (en) * | 2006-06-01 | 2009-06-09 | Rika Denshi America, Inc. | Electrical test probes with a contact element, methods of making and using the same |
JP5008582B2 (ja) * | 2008-02-04 | 2012-08-22 | 株式会社ヨコオ | コンタクトプローブ |
-
2011
- 2011-11-15 WO PCT/JP2011/076335 patent/WO2012067126A1/ja active Application Filing
- 2011-11-15 JP JP2012544268A patent/JPWO2012067126A1/ja active Pending
- 2011-11-17 TW TW100141985A patent/TWI463141B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002107377A (ja) * | 2000-09-28 | 2002-04-10 | Nhk Spring Co Ltd | 可動ガイドプレート付き導電性接触子 |
JP2006343296A (ja) * | 2005-06-10 | 2006-12-21 | S Ii R:Kk | 集積回路用ソケットのプローブ |
JP2010038612A (ja) * | 2008-08-01 | 2010-02-18 | Hioki Ee Corp | コンタクトプローブ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201229519A (en) | 2012-07-16 |
WO2012067126A1 (ja) | 2012-05-24 |
TWI463141B (zh) | 2014-12-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2012067126A1 (ja) | コンタクトプローブおよびプローブユニット | |
TWI422829B (zh) | 檢查治具、電極構造及電極構造之製造方法 | |
JP6116903B2 (ja) | コンタクトプローブおよびプローブユニット | |
JP5607934B2 (ja) | プローブユニット | |
US10877085B2 (en) | Inspection jig and inspection device | |
JP6041565B2 (ja) | 検査治具 | |
JP4833011B2 (ja) | 電気部品用ソケット | |
KR102498454B1 (ko) | 컨택트 프로브 및 검사 지그 | |
JP6850583B2 (ja) | ソケット | |
CN112600006B (zh) | 电触头、电连接结构及电连接装置 | |
WO2013018809A1 (ja) | プローブユニット | |
JP6546719B2 (ja) | 接触検査装置 | |
JP6283929B2 (ja) | 検査用治具及び検査用治具の製造方法 | |
JP5406310B2 (ja) | コンタクトプローブ | |
JP2021105547A (ja) | コンタクトプローブ | |
TWI806083B (zh) | 電性接觸子的電性接觸構造及電性連接裝置 | |
JP2005061851A (ja) | プローブカード用基板 | |
WO2018181273A1 (ja) | プローブ、プローブユニット、およびプローブユニットを備える半導体検査装置 | |
JP5088504B2 (ja) | 基板検査用接触子及びその製造方法 | |
JPWO2020026409A1 (ja) | コンタクトプローブおよびそれを備えた検査ソケット | |
JP5651333B2 (ja) | プローブユニット | |
WO2012067125A1 (ja) | プローブユニット | |
US20220178968A1 (en) | Contact terminal, inspection jig, and inspection device | |
JP2018165670A (ja) | 導電性接触子、導電性接触子ユニット、および導電性接触子ユニットを備える半導体検査装置 | |
US12055561B2 (en) | Contact terminal, inspection jig, and inspection device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140618 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150407 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150608 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20150915 |