JPWO2012042608A1 - ３−アミノ安息香酸誘導体およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
殺虫及び殺ダニ活性を有する3-オキサモイルアミノベンズアミド誘導体の製造における中間体として有用な、新規な3-アミノ安息香酸誘導体及びその製造方法を提供する。3-アミノ安息香酸誘導体は、下記一般式[I]：・・・・・・[I]（式中、Ｒ1はＣ1〜Ｃ4のアルキル基を示す。Ｒ2はフッ素原子で置換されてもよいＣ1〜Ｃ4のアルキル基を示す。Ｒ3はＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基またはヒドロキシル基を示す。）で表される
Description
本発明は、新規な3-アミノ安息香酸誘導体およびその製造方法に関する。
3-オキサモイルアミノベンズアミド誘導体は、殺虫及び殺ダニ活性を有することが知られている（例えば特許文献１〜２）。
本発明は、3-オキサモイルアミノベンズアミド誘導体の製造における中間体として有用な、新規な3-アミノ安息香酸誘導体およびその製造法を提供することを目的とする。
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意努力した結果、下記一般式[I]で表される化合物を使用することにより、殺虫及び殺ダニ活性を有する3-オキサモイルアミノベンズアミド誘導体を高純度かつ高収率で容易に合成することができることを見出し、本発明に到達したものである。
即ち、本発明は、下記一般式[I]：
・・・・・・[I]
（式中、Ｒ1はＣ1〜Ｃ4のアルキル基を示す。Ｒ2はフッ素原子で置換されてもよいＣ1〜Ｃ4のアルキル基を示す。Ｒ3はＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基またはヒドロキシル基を示す。）で表される化合物及びその製造方法に関するものである。
即ち、本発明は、下記一般式[I]：
（式中、Ｒ1はＣ1〜Ｃ4のアルキル基を示す。Ｒ2はフッ素原子で置換されてもよいＣ1〜Ｃ4のアルキル基を示す。Ｒ3はＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基またはヒドロキシル基を示す。）で表される化合物及びその製造方法に関するものである。
以下、本発明について、詳細に説明する。
本発明の3-アミノ安息香酸誘導体は、下記一般式[I]で示される。
・・・・・・[I]
本発明の3-アミノ安息香酸誘導体は、下記一般式[I]で示される。
（式中、Ｒ1はＣ1〜Ｃ4のアルキル基を示す。Ｒ2はフッ素原子で置換されてもよいＣ1〜Ｃ4のアルキル基を示す。Ｒ3はＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基またはヒドロキシル基を示す。）
Ｒ1で表されるＣ1〜Ｃ4のアルキル基としては、直鎖状でも分岐を有していてもよいアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基などが好適に挙げられる。
Ｒ2で表されるフッ素原子で置換されてもよいＣ1〜Ｃ4のアルキル基のアルキル部分は、直鎖状でも分岐を有していてもよいアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基などが好適に挙げられる。フッ素原子による置換がなされている場合、フッ素原子の数は１〜９、好ましくは１〜５である。フッ素原子で置換されたＣ1〜Ｃ4のアルキル基としては、例えば、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、1-フルオロエチル基、2-フルオロエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3-フルオロプロピル基、1,3-ジフルオロ-2-プロピル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、1,1,1-トリフルオロ-2-プロピル基、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロピル基、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、ヘプタフルオロ-n-プロピル基、4-フルオロブチル基、4,4,4-トリフルオロブチル基、ノナフルオロ-n-ブチル基、ノナフルオロ-2-ブチル基などが好適に挙げられる。
Ｒ3で表されるＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基としては、直鎖状でも分岐を有していてもよいアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基などが好適に挙げられる。
Ｒ1で表されるＣ1〜Ｃ4のアルキル基としては、直鎖状でも分岐を有していてもよいアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基などが好適に挙げられる。
Ｒ2で表されるフッ素原子で置換されてもよいＣ1〜Ｃ4のアルキル基のアルキル部分は、直鎖状でも分岐を有していてもよいアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基などが好適に挙げられる。フッ素原子による置換がなされている場合、フッ素原子の数は１〜９、好ましくは１〜５である。フッ素原子で置換されたＣ1〜Ｃ4のアルキル基としては、例えば、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、1-フルオロエチル基、2-フルオロエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、3-フルオロプロピル基、1,3-ジフルオロ-2-プロピル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、1,1,1-トリフルオロ-2-プロピル基、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロピル基、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、ヘプタフルオロ-n-プロピル基、4-フルオロブチル基、4,4,4-トリフルオロブチル基、ノナフルオロ-n-ブチル基、ノナフルオロ-2-ブチル基などが好適に挙げられる。
Ｒ3で表されるＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基としては、直鎖状でも分岐を有していてもよいアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基などが好適に挙げられる。
一般式[I]で表される本発明の化合物は、下記一般式[II]：
・・・・・・[II]
（式中、Ｒ1およびＲ2は前記一般式[I]で定義したとおりであり、Ｘはハロゲン原子を示す。）
で表される酸ハライドを、
下記一般式[III]：
・・・・・・[III]
で表される酸ハライドを、
下記一般式[III]：
（式中、Ｒ3は前記一般式[I]で定義したとおりである。）
で表される3-アミノ安息香酸誘導体と反応させることにより得られる。
一般式[II]において、Ｒ1およびＲ2は前記一般式[I]で定義したとおりである。
一般式[III]において、Ｒ3は前記一般式[I]で定義したとおりである。Ｘのハロゲン原子としては、例えば、塩素や臭素などが好適に挙げられる。
一般式[II]の酸ハライド及び一般式[III]の3-アミノ安息香酸誘導体は、いずれも公知の化合物であるか、または公知の方法に従って容易に合成することができる。
で表される3-アミノ安息香酸誘導体と反応させることにより得られる。
一般式[II]において、Ｒ1およびＲ2は前記一般式[I]で定義したとおりである。
一般式[III]において、Ｒ3は前記一般式[I]で定義したとおりである。Ｘのハロゲン原子としては、例えば、塩素や臭素などが好適に挙げられる。
一般式[II]の酸ハライド及び一般式[III]の3-アミノ安息香酸誘導体は、いずれも公知の化合物であるか、または公知の方法に従って容易に合成することができる。
一般式[II]の酸ハライドと一般式[III]の3-アミノ安息香酸誘導体との反応は、溶媒の存在下、かつ、塩基の存在下又は非存在下行うことができる。
溶媒としては、本反応に直接関与しないものであれば、特に限定されず、例えばベンゼンや、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;アセトンや、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類;クロロホルムや、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類;酢酸メチルや、酢酸エチルなどのエステル類;又はテトラヒドロフランや、ジオキサン、ジエチルエーテル、1,2-ジメトキシエタンなどのエーテル類;水;アセトニトリルや、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシドなどの極性溶媒類又は前記溶媒の混合溶媒が挙げられる。
溶媒としては、本反応に直接関与しないものであれば、特に限定されず、例えばベンゼンや、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;アセトンや、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類;クロロホルムや、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類;酢酸メチルや、酢酸エチルなどのエステル類;又はテトラヒドロフランや、ジオキサン、ジエチルエーテル、1,2-ジメトキシエタンなどのエーテル類;水;アセトニトリルや、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシドなどの極性溶媒類又は前記溶媒の混合溶媒が挙げられる。
塩基としては、トリエチルアミンや、ピリジン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ‐7-エン(DBU)、4‐ジメチルアミノピリジンなどの有機塩基;水酸化ナトリウムや、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物;水酸化カルシウムなどのアルカリ土類金属水酸化物;炭酸ナトリウムや、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩;炭酸カルシウムなどのアルカリ土類金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ金属炭酸水素塩;ナトリウムメトキシドや、カリウムエトキシドなどの金属アルコキシドが挙げられる。
反応温度は、例えば、−30℃〜150℃、好ましくは、−5℃〜80℃である。
反応終了後、目的物は、常法により反応系から単離することができる。必要により、更に、溶媒による洗浄、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどで精製することができる。
反応温度は、例えば、−30℃〜150℃、好ましくは、−5℃〜80℃である。
反応終了後、目的物は、常法により反応系から単離することができる。必要により、更に、溶媒による洗浄、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどで精製することができる。
一般式[I]においてＲ3がヒドロキシル基である化合物は、下記一般式[IV]：
・・・・・・[IV]
（式中、Ｒ1およびＲ2は前記一般式[I]で定義したとおりであり、Ｒ4はＣ1〜Ｃ4のアルキル基を示す。）
で表されるエステルを、アルカリ金属塩を用いて加水分解反応することによっても得ることができる。
で表されるエステルを、アルカリ金属塩を用いて加水分解反応することによっても得ることができる。
一般式[IV]で表されるエステルは、一般式[I]においてＲ3がＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基である化合物である。したがって、一般式[IV]で表されるエステルは、上述の一般式[I]で表される化合物の製造方法に従い得ることができる。
一般式[IV]で表されるエステルの加水分解反応は、溶媒の存在下又は非存在下、かつ、塩基の存在下で行うことができる。
溶媒としては、例えば、水；メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール等のアルコール類又は上記溶媒の混合溶媒が挙げられる。
塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩が挙げられる。
反応温度は、例えば、5〜150℃、好ましくは、10〜110℃である。
加水分解反応後、目的の化合物の単離を、塩酸や硫酸等の鉱酸及び／又は酢酸やプロピオン酸等の有機酸で酸性にした後、析出物を濾取し、水洗後乾燥することで行うことができる。
溶媒としては、例えば、水；メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール等のアルコール類又は上記溶媒の混合溶媒が挙げられる。
塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩が挙げられる。
反応温度は、例えば、5〜150℃、好ましくは、10〜110℃である。
加水分解反応後、目的の化合物の単離を、塩酸や硫酸等の鉱酸及び／又は酢酸やプロピオン酸等の有機酸で酸性にした後、析出物を濾取し、水洗後乾燥することで行うことができる。
一般式[I]で表される本発明の化合物は、殺虫及び殺ダニ活性を有する3-オキサモイルアミノベンズアミド誘導体の製造中間体として利用することができる。
例えば、下記反応スキームに示すように、一般式[V]で表される3-オキサモイルアミノ安息香酸とハロゲン化剤とを反応させて一般式[VI]で表される酸ハライドとし、これを一般式[VII]で表されるアニリン誘導体と反応させることで一般式[VIII]で表される3-オキサモイルアミノベンズアミド誘導体を製造することができる。
例えば、下記反応スキームに示すように、一般式[V]で表される3-オキサモイルアミノ安息香酸とハロゲン化剤とを反応させて一般式[VI]で表される酸ハライドとし、これを一般式[VII]で表されるアニリン誘導体と反応させることで一般式[VIII]で表される3-オキサモイルアミノベンズアミド誘導体を製造することができる。
上記反応スキーム中、一般式[V]、[VI]及び[VIII]におけるＲ1およびＲ2は前記一般式[I]で定義したとおりである。一般式[VII]及び[VIII]におけるＲ5およびＲ6は、それぞれ独立にＣ1〜Ｃ4のアルキル基またはハロゲン原子を示す。Ｒ5およびＲ6で表されるＣ1〜Ｃ4のアルキル基としては、直鎖状でも分岐を有していてもよいアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基などが好適に挙げられる。ハロゲン原子としては、例えば、塩素や臭素などが好適に挙げられる。
なお、一般式[V]で表される化合物は、一般式[I]においてＲ3がヒドロキシル基である化合物である。
また、一般式[V]で表される化合物は、一般式[I]においてＲ3がＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基である化合物を上述のアルカリ金属塩を用いた加水分解反応に付することにより得ることができる。
なお、一般式[V]で表される化合物は、一般式[I]においてＲ3がヒドロキシル基である化合物である。
また、一般式[V]で表される化合物は、一般式[I]においてＲ3がＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基である化合物を上述のアルカリ金属塩を用いた加水分解反応に付することにより得ることができる。
一般式[V]で表される3-オキサモイルアミノ安息香酸と反応させるハロゲン化剤としては、例えば、塩化チオニル、オキシ塩化リンや臭化チオニルなどが好適に挙げられる。
一般式[V]で表される3-オキサモイルアミノ安息香酸とハロゲン化剤との反応は、溶媒の存在下又は非存在下、かつ、塩基の存在下又は非存在下で行うことができる。
溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエンやキシレンなどが挙げられる。
反応温度は、例えば、５０〜１４０℃、好ましくは７０〜１１０℃である。
反応終了後、目的物である一般式[VI]で表される酸ハライドは、常法により反応系から単離及び／又は精製することができる。
一般式[V]で表される3-オキサモイルアミノ安息香酸とハロゲン化剤との反応は、溶媒の存在下又は非存在下、かつ、塩基の存在下又は非存在下で行うことができる。
溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエンやキシレンなどが挙げられる。
反応温度は、例えば、５０〜１４０℃、好ましくは７０〜１１０℃である。
反応終了後、目的物である一般式[VI]で表される酸ハライドは、常法により反応系から単離及び／又は精製することができる。
一般式[VI]で表される酸ハライドと一般式[VII]で表されるアニリン誘導体との反応は、溶媒の存在下又は非存在下、かつ、塩基の存在下又は非存在下で行うことができる。
一般式[VII]で表されるアニリン誘導体は、公知の化合物であるか、または公知の方法に従って容易に合成することができる。
溶媒としては、例えば、ＤＭＩ(1,3‐ジメチル‐2‐イミダゾリジノン)やＮ−メチルピロリドンなどが挙げられる。
反応温度は、例えば、１０〜１５０℃、好ましくは２０〜１００℃である。
反応終了後、目的物である一般式[VIII]で表される3-オキサモイルアミノベンズアミド誘導体は、常法により反応系から単離及び／又は精製することができる。
一般式[VII]で表されるアニリン誘導体は、公知の化合物であるか、または公知の方法に従って容易に合成することができる。
溶媒としては、例えば、ＤＭＩ(1,3‐ジメチル‐2‐イミダゾリジノン)やＮ−メチルピロリドンなどが挙げられる。
反応温度は、例えば、１０〜１５０℃、好ましくは２０〜１００℃である。
反応終了後、目的物である一般式[VIII]で表される3-オキサモイルアミノベンズアミド誘導体は、常法により反応系から単離及び／又は精製することができる。
本発明の一般式[I]で表される3-アミノ安息香酸誘導体を製造中間体として用いることにより、3-オキサモイルアミノベンズアミド誘導体を高純度かつ高収率で得ることができる。
得られた3-オキサモイルアミノベンズアミド誘導体は、特許文献１及び２に記載されるように、殺虫剤及び殺ダニ剤の有効成分として利用することができる。
得られた3-オキサモイルアミノベンズアミド誘導体は、特許文献１及び２に記載されるように、殺虫剤及び殺ダニ剤の有効成分として利用することができる。
以下に、実施例及び参考例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明の範囲は、これらの実施例及び参考例によって何ら限定されるものではない。
実施例1
3-[ N-メチル-N-(2,2,2-トリフルオロエチル)オキサモイルアミノ]安息香酸の合成
3-アミノ安息香酸2.74gを水50mlに懸濁させ炭酸水素ナトリウム5.04gを加えた。氷冷下（５〜１０℃）、N-(2,2,2-トリフルオロエチル)-N-メチルオキサモイルクロリド3.34gのTHF溶液を滴下し2時間撹拌後、濃塩酸を加え酸性とし、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥して目的物3.21gを得た。融点は157〜159℃であった。
1H-NMR(CDCl3)δppm：3.22+3.64(3H,s)、4.15+4.88(2H,q)、7.50(1H,t)、7.91-7.97(2H,m)、8.28-8.32(1H,m)、9.37+9.47(1H,s)
3-[ N-メチル-N-(2,2,2-トリフルオロエチル)オキサモイルアミノ]安息香酸の合成
3-アミノ安息香酸2.74gを水50mlに懸濁させ炭酸水素ナトリウム5.04gを加えた。氷冷下（５〜１０℃）、N-(2,2,2-トリフルオロエチル)-N-メチルオキサモイルクロリド3.34gのTHF溶液を滴下し2時間撹拌後、濃塩酸を加え酸性とし、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥して目的物3.21gを得た。融点は157〜159℃であった。
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実施例2
3-[ N-メチル-N-(2,2,2-トリフルオロエチル)オキサモイルアミノ]安息香酸メチルの合成
3‐アミノ安息香酸メチル3.02gをＴＨＦ20mlに溶解させ、トリエチルアミン3.1mlを加えた後、N-(2,2,2-トリフルオロエチル)-N-メチルオキサモイルクロリド4.27gを氷冷下（５〜１０℃）滴下した。反応液に希塩酸を加え析出した沈殿を濾過、水洗、乾燥して目的物5.79ｇを得た。融点は117〜119℃であった。
1H-NMR(CDCl3)δppm：3.20+3.64(3H,s)、3.94(3H,s)、4.14+4.88(2H,q)、7.46(1H,t)、7.84-7.88(2H,m)、8.19-8.23(1H,m)、9.28+9.39(1H,bs)
3-[ N-メチル-N-(2,2,2-トリフルオロエチル)オキサモイルアミノ]安息香酸メチルの合成
3‐アミノ安息香酸メチル3.02gをＴＨＦ20mlに溶解させ、トリエチルアミン3.1mlを加えた後、N-(2,2,2-トリフルオロエチル)-N-メチルオキサモイルクロリド4.27gを氷冷下（５〜１０℃）滴下した。反応液に希塩酸を加え析出した沈殿を濾過、水洗、乾燥して目的物5.79ｇを得た。融点は117〜119℃であった。
1H-NMR(CDCl3)δppm：3.20+3.64(3H,s)、3.94(3H,s)、4.14+4.88(2H,q)、7.46(1H,t)、7.84-7.88(2H,m)、8.19-8.23(1H,m)、9.28+9.39(1H,bs)
実施例3
3-(N-エチル-N-メチルオキサモイルアミノ)安息香酸メチルの合成
N-(2,2,2-トリフルオロエチル)-N-メチルオキサモイルクロリドの代わりに、N-エチル-N-メチルオキサモイルクロリドを用いたことを除いて実施例2と同様の手順により合成した。
1H-NMR(CDCl3)δppm：1.22+1.33(3H,t)、3.08+3.49(3H,s)、3.53+3.94(2H,q)、3.93(3H,s)、7.44(1H,t)、7.82-7.89(2H,m)、8.22(1H,q)、9.39(1H,br)
3-(N-エチル-N-メチルオキサモイルアミノ)安息香酸メチルの合成
N-(2,2,2-トリフルオロエチル)-N-メチルオキサモイルクロリドの代わりに、N-エチル-N-メチルオキサモイルクロリドを用いたことを除いて実施例2と同様の手順により合成した。
1H-NMR(CDCl3)δppm：1.22+1.33(3H,t)、3.08+3.49(3H,s)、3.53+3.94(2H,q)、3.93(3H,s)、7.44(1H,t)、7.82-7.89(2H,m)、8.22(1H,q)、9.39(1H,br)
実施例4
3-(N-エチル-N-メチルオキサモイルアミノ)安息香酸の合成
N-(2,2,2-トリフルオロエチル)-N-メチルオキサモイルクロリドの代わりにN-エチル-N-メチルオキサモイルクロリドを用いたことを除いて実施例1と同様の手順により合成した。融点は168〜171℃であった。
1H-NMR(CDCl3)δppm：1.23+1.34(3H,t)、3.08+3.48(3H,s)、3.54+3.92(2H,q)、7.48(1H,t)、7.89(1H,dt)、7.99-8.03(1H,m)、8.31(1H,s)、9.56+9.59(1H,s)
3-(N-エチル-N-メチルオキサモイルアミノ)安息香酸の合成
N-(2,2,2-トリフルオロエチル)-N-メチルオキサモイルクロリドの代わりにN-エチル-N-メチルオキサモイルクロリドを用いたことを除いて実施例1と同様の手順により合成した。融点は168〜171℃であった。
1H-NMR(CDCl3)δppm：1.23+1.34(3H,t)、3.08+3.48(3H,s)、3.54+3.92(2H,q)、7.48(1H,t)、7.89(1H,dt)、7.99-8.03(1H,m)、8.31(1H,s)、9.56+9.59(1H,s)
実施例5
3-(N-(t-ブチル)-N-メチルオキサモイルアミノ)安息香酸メチルの合成
N-(2,2,2-トリフルオロエチル)-N-メチルオキサモイルクロリドの代わりに、N-(t-ブチル)-N-メチルオキサモイルクロリドを用いたことを除いて実施例2と同様の手順により合成した。融点は144〜146℃であった。
1H-NMR(CDCl3)δppm：1.48(9H,s)、3.24(3H,s)、3.92(3H,s)、7.44(1H,t)、7.81-7.88(2H,m)、8.24(1H,t)、9.10(1H,br)
3-(N-(t-ブチル)-N-メチルオキサモイルアミノ)安息香酸メチルの合成
N-(2,2,2-トリフルオロエチル)-N-メチルオキサモイルクロリドの代わりに、N-(t-ブチル)-N-メチルオキサモイルクロリドを用いたことを除いて実施例2と同様の手順により合成した。融点は144〜146℃であった。
1H-NMR(CDCl3)δppm：1.48(9H,s)、3.24(3H,s)、3.92(3H,s)、7.44(1H,t)、7.81-7.88(2H,m)、8.24(1H,t)、9.10(1H,br)
実施例6
3-[N-(t-ブチル)-N-メチルオキサモイルアミノ]安息香酸の合成
実施例5で得た安息香酸メチルエステル体1.75ｇをメタノール5mlと水2mlに懸濁させ、20％水酸化ナトリウム水溶液2.52gを氷冷下（５〜１０℃）滴下後、反応液を室温にした。希塩酸を加え反応液を酸性にし、析出した結晶を濾過、水洗、乾燥して目的物1.67gを得た。融点は174℃(分解)であった。
1H-NMR(CDCl3)δppm：1.50(9H,s)、3.24(3H,s)、7.47(1H,t)、7.87(1H,dt)、8.02-8.06(1H,m)、8.25(1H,t)、9.26(1H,br)
3-[N-(t-ブチル)-N-メチルオキサモイルアミノ]安息香酸の合成
実施例5で得た安息香酸メチルエステル体1.75ｇをメタノール5mlと水2mlに懸濁させ、20％水酸化ナトリウム水溶液2.52gを氷冷下（５〜１０℃）滴下後、反応液を室温にした。希塩酸を加え反応液を酸性にし、析出した結晶を濾過、水洗、乾燥して目的物1.67gを得た。融点は174℃(分解)であった。
1H-NMR(CDCl3)δppm：1.50(9H,s)、3.24(3H,s)、7.47(1H,t)、7.87(1H,dt)、8.02-8.06(1H,m)、8.25(1H,t)、9.26(1H,br)
参考例1
3-[ N-メチル-N-(2,2,2-トリフルオロエチル)オキサモイルアミノ]安息香酸クロリドの合成
実施例１で得た3-[N-メチルN-(2,2,2-トリフルオロエチル)オキサモイルアミノ]安息香酸2.55gをトルエン8mlに懸濁させ、塩化チオニル3mlを加え80℃で3時間撹拌した。トルエン等を減圧下留去して目的物2.61gを得た。融点は106〜108℃であった。
1H-NMR(CDCl3)δppm：3.22+3.65(3H,s)、4.15+4.87(2H,q)、7.54(1H,t)、7.93-7.98(2H,m)、8.34-8.40(1H,m)、9.38+9.48(1H,s)
3-[ N-メチル-N-(2,2,2-トリフルオロエチル)オキサモイルアミノ]安息香酸クロリドの合成
実施例１で得た3-[N-メチルN-(2,2,2-トリフルオロエチル)オキサモイルアミノ]安息香酸2.55gをトルエン8mlに懸濁させ、塩化チオニル3mlを加え80℃で3時間撹拌した。トルエン等を減圧下留去して目的物2.61gを得た。融点は106〜108℃であった。
1H-NMR(CDCl3)δppm：3.22+3.65(3H,s)、4.15+4.87(2H,q)、7.54(1H,t)、7.93-7.98(2H,m)、8.34-8.40(1H,m)、9.38+9.48(1H,s)
参考例2
3-[ N-メチル-N-(2,2,2-トリフルオロエチル)オキサモイルアミノ]-N-(2,6-ジメチル-4-ヘプタフルオロイソプロピル)フェニルベンズアミドの合成
2,6-ジメチル-4-ヘプタフルオロイソプロピルアニリン5.78gと参考例1で得た酸クロリド7.75gをＤＭＩ (1,3‐ジメチル‐2‐イミダゾリジノン)40mlに溶かし、室温（２０〜２５℃）で１０時間反応させ、反応液に水100mlを加え4時間撹拌後、酢酸エチルで抽出、水、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで脱水後、溶媒を減圧下留去して目的物11.8gを得た。無定形であった。
1H-NMR(CDCl3)δppm：2.33(6H,s)、3.20+3.61(3H,s)、4.13+4.85(2H,q)、7.35(2H,s) 、7.50(1H,t) 、7.60(1H,s)、7.70-7.80(2H,m)、8.25(1H,s)、9.39+9.49(1H,s)
3-[ N-メチル-N-(2,2,2-トリフルオロエチル)オキサモイルアミノ]-N-(2,6-ジメチル-4-ヘプタフルオロイソプロピル)フェニルベンズアミドの合成
2,6-ジメチル-4-ヘプタフルオロイソプロピルアニリン5.78gと参考例1で得た酸クロリド7.75gをＤＭＩ (1,3‐ジメチル‐2‐イミダゾリジノン)40mlに溶かし、室温（２０〜２５℃）で１０時間反応させ、反応液に水100mlを加え4時間撹拌後、酢酸エチルで抽出、水、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで脱水後、溶媒を減圧下留去して目的物11.8gを得た。無定形であった。
1H-NMR(CDCl3)δppm：2.33(6H,s)、3.20+3.61(3H,s)、4.13+4.85(2H,q)、7.35(2H,s) 、7.50(1H,t) 、7.60(1H,s)、7.70-7.80(2H,m)、8.25(1H,s)、9.39+9.49(1H,s)
参考例3
コナガの幼虫に対する殺虫効果
はくさいの種をジフィーポットに播種した後3週間育苗した。このポット植え植物の葉部に、参考例2で得た化合物を有効成分とする乳剤の水希釈液を茎葉部にエアーブラシを用いて十分散布した(1濃度、1反復）。薬液を風乾燥した後、25℃の恒温室内に保持し、放虫5日後に幼虫の生死及び苦悶を調査し、苦悶虫を死として殺虫率(％)を求めた。参考例2の化合物は、500ppmの濃度において100%の殺虫率を示した。
コナガの幼虫に対する殺虫効果
はくさいの種をジフィーポットに播種した後3週間育苗した。このポット植え植物の葉部に、参考例2で得た化合物を有効成分とする乳剤の水希釈液を茎葉部にエアーブラシを用いて十分散布した(1濃度、1反復）。薬液を風乾燥した後、25℃の恒温室内に保持し、放虫5日後に幼虫の生死及び苦悶を調査し、苦悶虫を死として殺虫率(％)を求めた。参考例2の化合物は、500ppmの濃度において100%の殺虫率を示した。
本発明は、殺虫及び殺ダニ活性を有する3-オキサモイルアミノベンズアミド誘導体の製造に利用することができる。
Claims (3)
- 一般式[I]で表される3-アミノ安息香酸誘導体。
・・・・・・[I]
（式中、Ｒ1はＣ1〜Ｃ4のアルキル基を示す。Ｒ2はフッ素原子で置換されてもよいＣ1〜Ｃ4のアルキル基を示す。Ｒ3はＣ1〜Ｃ4のアルコキシ基またはヒドロキシル基を示す。） - 請求項1に記載の3-アミノ安息香酸誘導体を製造する方法であって、
一般式[II]：
・・・・・・[II]
（式中、Ｒ1およびＲ2は前記一般式[I]で定義したとおりであり、Ｘはハロゲン原子を示す。）
で表される酸ハライドを、
一般式[III]：
・・・・・・[III]
（式中、Ｒ3は前記一般式[I]で定義したとおりである。）
で表される3-アミノ安息香酸誘導体と反応させることを特徴とする方法。 - 請求項1に記載の3-アミノ安息香酸誘導体（式中、Ｒ3はヒドロキシル基である）を製造する方法であって、
一般式[IV]：
・・・・・・[IV]
（式中、Ｒ1およびＲ2は前記一般式[I]で定義したとおりであり、Ｒ4はＣ1〜Ｃ4のアルキル基を示す。）
で表されるエステルを、アルカリ金属塩を用いて加水分解することを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/JP2010/066908 WO2012042608A1 (ja) | 2010-09-29 | 2010-09-29 | 3-アミノ安息香酸誘導体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2012042608A1 true JPWO2012042608A1 (ja) | 2014-02-03 |
Family
ID=45892112
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012536057A Pending JPWO2012042608A1 (ja) | 2010-09-29 | 2010-09-29 | ３−アミノ安息香酸誘導体およびその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPWO2012042608A1 (ja) |
| WO (1) | WO2012042608A1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| WO2016143652A1 (ja) * | 2015-03-06 | 2016-09-15 | 住友化学株式会社 | ３－アミノオキサリルアミノベンズアミド化合物及びその有害節足動物防除用途 |
| WO2016143650A1 (ja) * | 2015-03-06 | 2016-09-15 | 住友化学株式会社 | ３－アミノオキサリルアミノベンズアミド化合物及びその有害節足動物防除用途 |
| WO2016163383A1 (ja) * | 2015-04-09 | 2016-10-13 | 住友化学株式会社 | オキサリルアミド化合物及びその有害節足動物防除用途 |
| WO2016163379A1 (ja) * | 2015-04-09 | 2016-10-13 | 住友化学株式会社 | オキサリルアミド化合物及びその有害節足動物防除用途 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007082079A2 (en) * | 2006-01-12 | 2007-07-19 | The Scripps Research Institute | Piperidine amide derivatives as protein kinase inhibitors |
| WO2010090282A1 (ja) * | 2009-02-06 | 2010-08-12 | アグロカネショウ株式会社 | ３-アミノオキサリルアミノベンズアミド誘導体及びこれを有効成分とする殺虫、殺ダニ剤 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU2002323743A1 (en) * | 2001-08-01 | 2003-02-17 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Substituted amides and pest controllers |
-
2010
- 2010-09-29 JP JP2012536057A patent/JPWO2012042608A1/ja active Pending
- 2010-09-29 WO PCT/JP2010/066908 patent/WO2012042608A1/ja active Application Filing
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| WO2010090282A1 (ja) * | 2009-02-06 | 2010-08-12 | アグロカネショウ株式会社 | ３-アミノオキサリルアミノベンズアミド誘導体及びこれを有効成分とする殺虫、殺ダニ剤 |
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