JPWO2012026531A1 - ハイドロゲル乾燥体、ビトリゲル膜乾燥体およびこれらの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
<1>不定形外周縁部をもたないことを特徴とするビトリゲル膜乾燥体。
<2>基板に付着していることを特徴とする前記<1>のビトリゲル膜乾燥体。
<3>ビトリゲル膜乾燥体が、剥離可能なフィルムと重層化されていることを特徴とする前記<1>のビトリゲル膜乾燥体。
<4>フィルムがパラフィルムであることを特徴とする前記<3>のビトリゲル膜乾燥体。
<5>不定形外周縁部をもたないことを特徴とするハイドロゲル乾燥体。
<6>基板に付着していることを特徴とする前記<5>のハイドロゲル乾燥体。
<7>ハイドロゲル乾燥体が、剥離可能なフィルムと重層化されていることを特徴とする前記<5>のハイドロゲル乾燥体。
<8>フィルムがパラフィルムであることを特徴とする前記<7>のハイドロゲル乾燥体。
<9>所望形状のビトリゲル膜乾燥体の製造方法であって、以下の工程:
(1)基板上に配置された、前記所望形状と同形状の壁面鋳型内部にハイドロゲルを保持して、ハイドロゲル内の自由水の一部を基板と壁面鋳型の間隙から流出させる工程;
(2)壁面鋳型を基板上から除去する工程;
(3)ハイドロゲルを乾燥させて残留する自由水を除去し、ガラス化したハイドロゲル乾燥体を作製する工程;
(4)ハイドロゲル乾燥体を再水和してビトリゲル膜を作製する工程;および
(5)ビトリゲル膜を再乾燥させて自由水を除去し、ガラス化したビトリゲル膜乾燥体を作製する工程
を含むことを特徴とするビトリゲル膜乾燥体の製造方法。
<10>前記工程(1)において、壁面鋳型内部のハイドロゲルに、支持体を導入することを特徴とする前記<9>のビトリゲル膜乾燥体の製造方法。
<11>前記工程(1)において、ハイドロゲル内の自由水を1/4〜3/4程度に減じることを特徴とする前記<9>のビトリゲル膜乾燥体の製造方法。
<12>前記工程(5)において、ビトリゲル膜を、ビトリゲル膜乾燥体が剥離可能なフィルム上でガラス化することを特徴とする前記<9>のビトリゲル膜乾燥体の製造方法。
<13>フィルムがパラフィルムであることを特徴とする前記<12>のビトリゲル膜乾燥体の製造方法。
<14>所望形状に成形可能なビトリゲル膜乾燥体の製造方法であって、以下の工程:
(1)ビトリゲル膜乾燥体が剥離可能なフィルムが敷かれた基板上に配置された、任意形状の壁面鋳型内部にハイドロゲルを保持して、ハイドロゲル内の自由水の一部を基板上のフィルムと壁面鋳型の間隙から流出させる工程;
(2)壁面鋳型を基板上から除去する工程;
(3)ハイドロゲルを乾燥させて残留する自由水を除去し、ガラス化したハイドロゲル乾燥体を作製する工程;
(4)ハイドロゲル乾燥体を再水和してビトリゲル膜を作製する工程;
(5)ビトリゲル膜を再乾燥させて自由水を除去し、ガラス化したビトリゲル膜乾燥体を作製する工程
を含むことを特徴とするビトリゲル膜乾燥体の製造方法。
<15>前記工程(5)の後、
(6)フィルムと重層化されているビトリゲル膜乾燥体を所望形状に切断する工程を含むことを特徴とする前記<14>のビトリゲル膜乾燥体の製造方法。
<16>前記工程(6)の後、ビトリゲル膜乾燥体をフィルムから剥離させる工程を含むことを特徴とする前記<15>のビトリゲル膜乾燥体の製造方法。
<17>フィルムがパラフィルムであることを特徴とする前記<14>のビトリゲル膜乾燥体の製造方法。
<18>前記工程(1)において、壁面鋳型内部のハイドロゲルに、支持体を導入することを特徴とする前記<14>のビトリゲル膜乾燥体の製造方法。
<19>前記工程(1)において、ハイドロゲル内の自由水を1/4〜3/4程度に減じることを特徴とする前記<14>のビトリゲル膜乾燥体の製造方法。
<20>所望形状のハイドロゲル乾燥体の製造方法であって、以下の工程:
(1)基板上に配置された、前記所望形状と同形状の壁面鋳型内部にハイドロゲルを保持して、ハイドロゲル内の自由水の一部を基板と壁面鋳型の間隙から流出させる工程;
(2)壁面鋳型を基板上から除去する工程;
(3)ハイドロゲルを乾燥させて残留する自由水を除去し、ガラス化したハイドロゲル乾燥体を作製する工程;
を含むことを特徴とするハイドロゲル乾燥体の製造方法。
<21>前記工程(1)において、壁面鋳型内部のハイドロゲルに、支持体を導入することを特徴とする前記<20>のハイドロゲル乾燥体の製造方法。
<22>前記工程(1)において、ハイドロゲル内の自由水を1/4〜3/4程度に減じることを特徴とする前記<20>のハイドロゲル乾燥体の製造方法。
<23>前記工程(3)において、ハイドロゲル乾燥体が剥離可能なフィルム上でガラス化することを特徴とする前記<20>のハイドロゲル乾燥体の製造方法。
<24>フィルムがパラフィルムであることを特徴とする前記<23>のハイドロゲル乾燥体の製造方法。
<25>所望形状に成形可能なハイドロゲル乾燥体の製造方法であって、以下の工程:
(1)ハイドロゲル乾燥体が剥離可能なフィルムが敷かれた基板上に配置された、任意形状の壁面鋳型内部にハイドロゲルを保持して、ハイドロゲル内の自由水の一部を基板上のフィルムと壁面鋳型の間隙から流出させる工程;
(2)壁面鋳型を基板上から除去する工程;
(3)ハイドロゲルを乾燥させて残留する自由水を除去し、ガラス化したハイドロゲル乾燥体を作製する工程
を含むことを特徴とするハイドロゲル乾燥体の製造方法。
<26>前記工程(3)の後、
(4)フィルムと重層化されているハイドロゲル乾燥体を所望形状に切断する工程、を含むことを特徴とする前記<25>のハイドロゲル乾燥体の製造方法。
<27>前記工程(4)の後、ハイドロゲル乾燥体をフィルムから剥離させる工程を含むことを特徴とする前記<26>のハイドロゲル乾燥体の製造方法。
<28>前記工程(1)において、壁面鋳型内部のハイドロゲルに、支持体を導入することを特徴とする前記<25>のハイドロゲル乾燥体の製造方法。
<29>前記工程(1)において、ハイドロゲル内の自由水を1/4〜3/4程度に減じることを特徴とする前記<25>のハイドロゲル乾燥体の製造方法。
<30>フィルムがパラフィルムであることを特徴とする前記<25>のハイドロゲル乾燥体の製造方法。
<31>前記<1>のビトリゲル膜乾燥体が重層化し、一体化していることを特徴とする積層体。
<32>前記<1>のビトリゲル膜乾燥体はコラーゲンを原料としており、このビトリゲル膜乾燥体を再水和したビトリゲル膜を複数枚重ねて得られる積層体を用いた角膜の主に実質を構成しているコラーゲンの模倣物。
<33>前記<1>のビトリゲル膜乾燥体はコラーゲンを原料としており、このビトリゲル膜乾燥体が重層化し、一体化している積層体を再水和して得られたビトリゲル膜を用いた角膜の主に実質を構成しているコラーゲンの模倣物。
(1)基板上に配置された、前記所望形状と同形状の壁面鋳型内部にハイドロゲルを保持して、ハイドロゲル内の自由水の一部を基板と壁面鋳型の間隙から流出させる工程;
(2)壁面鋳型を基板上から除去する工程;および
(3)ハイドロゲルを乾燥させて残留する自由水を除去し、ガラス化したハイドロゲル乾燥体を作製する工程
を含む。さらに、本発明のビトリゲル膜乾燥体の製造方法の第1の実施形態は、所望形状のビトリゲル膜乾燥体の製造方法であって、前記工程(3)に続いて、
(4)ハイドロゲル乾燥体を再水和してビトリゲル膜を作製する工程、および
(5)ビトリゲル膜を再乾燥させて自由水を除去し、ガラス化したビトリゲル膜乾燥体を作製する工程
を含む。
工程(4)ハイドロゲル乾燥体を再水和してビトリゲル膜を作製する。
(1)ハイドロゲル乾燥体が剥離可能なフィルムが敷かれた基板上に配置された、任意形状の壁面鋳型内部にハイドロゲルを保持して、ハイドロゲル内の自由水の一部を基板上のフィルムと壁面鋳型の間隙から流出させる工程;
(2)壁面鋳型を基板上から除去する工程;
(3)ハイドロゲルを乾燥させて残留する自由水を除去し、ガラス化したハイドロゲル乾燥体を作製する工程;
を含む。
(1)ハイドロゲル乾燥体が剥離可能なフィルムが敷かれた基板上に配置された、任意形状の壁面鋳型内部にハイドロゲルを保持して、ハイドロゲル内の自由水の一部を基板上のフィルムと壁面鋳型の間隙から流出させる工程;
(2)壁面鋳型を基板上から除去する工程;
(3)ハイドロゲルを乾燥させて残留する自由水を除去し、ガラス化したハイドロゲル乾燥体を作製する工程;
(4)ハイドロゲル乾燥体を再水和してビトリゲル膜を作製する工程;および
(5)ビトリゲル膜を再乾燥させて自由水を除去し、ガラス化したビトリゲル膜乾燥体を作製する工程;
を含む。前記工程(3)で得られた、フィルムと重層化したハイドロゲル乾燥体を再水和することで、フィルムと重層化したビトリゲル膜を得ることができる(工程(4))。このフィルムと重層化した状態のビトリゲル膜を再度、乾燥してガラス化することで、フィルムに重層化したビトリゲル膜乾燥体を得ることができる(工程(5))。
ウシ真皮由来I型コラーゲンの0.25% ゾルは、氷上で冷却した50ml容量の滅菌コニカルチューブ(Falcon # 35-2070)内で0.5%I型コラーゲン酸性溶液(KOKEN # IAC-50;5mg/ml)と細胞培養液を均一に等量混合することで調製した。なお、ここで用いた細胞培養液は、10% 非動化ウシ胎仔血清(SIGMA # F2442)、20mM HEPES(GIBCO BRL # 15630-080)、および100 units/ml ペニシリンと100μg/ml ストレプトマイシン(GIBCO BRL # 15140-148)を含有するダルベッコ改変イーグル培養液(GIBCO BRL # 11885-084)である。
なお、この環状ナイロン膜支持体付きコラーゲンビトリゲル膜は、図4の左から、コラーゲンを5.0 mg (コラーゲンゾル2.0ml由来)、10.0 mg (コラーゲンゾル4.0ml由来)、15.0 mg (コラーゲンゾル6.0ml由来)、および20.0 mg (コラーゲンゾル8.0ml由来)含有している。
<比較例1>従来の培養シャーレを利用した環状ナイロン膜支持体付きコラーゲンビトリゲル膜乾燥体の作製
実施例1で基板と分離できる壁面鋳型を利用した代わりに従来の直径35mmの疎水性ポリスチレン製培養シャーレ(Falcon # 35-1008)を使用して、実施例1と同様に実験を行った。
基板としては、直径60mmの疎水性ポリスチレン製培養シャーレ(Falcon # 35-1007)の底表面を用いた。また、壁面鋳型としては、外円の直径が39mmで内円の直径が35mmで高さが10.0mmのアクリルを用いた。パラフィルム(Pechiney Plastic Packaging社製)は、直径50mmの円形に切断して用いた。なお、壁面鋳型およびパラフィルムともに70% エタノールを噴霧して拭き取る滅菌処理を施してから使用した。具体的には、直径60mmの疎水性ポリスチレン製培養シャーレの底表面上に直径50mmの円形に切断した1枚のパラフィルムを敷いて、その上に1つの壁面鋳型を設置することで、基板上に敷いたパラフィルムと壁面鋳型を分離できる1つの容器を作製した。
基板としては、100mmx100mmの疎水性ポリスチレン製培養シャーレ(Falcon # 35-1112)の底表面を用いた。また、壁面鋳型としては、外円の直径が38mmで内円の直径が34mm外円で高さが10.0mmのアクリルを4つ用いた。また、壁面鋳型は70% エタノールを噴霧して拭き取る滅菌処理を施してから使用した。
実施例1の基板と壁面鋳型を分離できる容器において、10.0mlから40.0ml までの0.25% コラーゲンゾルを注入できるようにするために、実施例1で使用した壁面鋳型より高さが高い壁面鋳型を作製して、実施例1と同様の実験を行った。
実施例4で基板と分離できる壁面鋳型を利用した代わりに従来の直径35mmの疎水性ポリスチレン製培養シャーレ(Falcon # 35-1008)を使用して、実施例4と同様に実験を行った。
実施例4において、外円の直径が39mmで内円の直径が35mmで高さが60.0mmのアクリルからなる壁面鋳型、および基板として100mmx100mmの疎水性ポリスチレン製培養シャーレ(Falcon # 35-1112)の底表面を用いて、1つの基板上に1つの壁面鋳型を設置することで基板と壁面鋳型を分離できる1つの容器を作製した。各容器内には環状ナイロン膜を挿入せずに、20.0ml、24.0ml、28.0ml、32.0ml、36.0ml、あるいは40.0ml の0.25% コラーゲンゾルを注入して、5.0% CO2/95%空気存在下の37.0 ℃ の保湿インキュベーター内でゲル化すると共に、8時間にわたりコラーゲンゲル内の自由水を基板と壁面鋳型との間隙から壁面鋳型の外側へ流出させ除去した。その後、10.0 ℃ 40%湿度の条件下のクリーンベンチ内に移し入れて1時間半後(ゲル作製後の9時間半目)には、各コラーゲンゲルについて外側へ流出した自由水を除去した。さらに、3日間かけて各コラーゲンゲル内に残留する自由水を自然乾燥により完全に除去し、ガラス化したコラーゲンゲル乾燥体を得た。ガラス化後1日目の各コラーゲンゲル乾燥体を室温下のクリーンベンチに移し入れ、基板のシャーレ内に20.0mlのPBSを加えて再水和して基板より剥離することでコラーゲンビトリゲル膜を作製した。そして、数回PBSでリンスすることで、PBSに平衡化したコラーゲンビトリゲル膜を作製した。各コラーゲンビトリゲル膜は壁面鋳型の直径35mmの内円(面積:9.6 cm2)形状を反映しており、不定形外周縁部をもたないものであった。
基板としては、100mm×100mmの疎水性ポリスチレン製培養シャーレの底面、壁面鋳型としては、外円の直径が38mmで内円の直径が34mmで高さが30mmのアクリルを4つ用いた。1つの基板上に4つの壁面鋳型を設置することで、基板と壁面鋳型を分離できる4つの容器を作製した。各容器に1枚の環状ナイロン膜支持体を挿入し、2.0mlの0.25%コラーゲンゾルを注入して基板にシャーレの蓋をした後、5.0% CO2/95%空気存在下の37.0℃の保湿インキュベーター内でゲル化することで、1つの基板上に4つのコラーゲンゲルを作製した。
以下、先と同様に各容器に2.0mlの0.25%コラーゲンゾルを注入して、ゲル化、コラーゲンゲル内の自由水の流出、10.0℃ 40%湿度の条件下での自由水の完全に除去、10mlの細胞培養液による再水和の一連の操作を2回繰り返した(最後の再水和は10mlの細胞培養液の代わりに20mlのPBSで行った)後、数回PBSでリンスすることで、PBSで平衡化した。これによって、環状ナイロン膜支持体を有しコラーゲンビトリゲル膜が重層化した積層体(0.25%コラーゲンゾル2.0ml×3層由来)を4つ作製することができた。
基板としては、100mm×100mmの疎水性ポリスチレン製培養シャーレの底面、壁面鋳型としては、外円の直径が38mmで内円の直径が34mmで高さが30mmのアクリルを4つ用いた。1つの基板上に4つの壁面鋳型を設置することで、基板と壁面鋳型を分離できる4つの容器を作製した。各容器に2.0mlの0.25%コラーゲンゾルを注入した後、実施例4に従い作製したビトリゲル膜乾燥体(0.25%コラーゲンゾル10.0ml由来)を挿入し、そこに再度2.0mlの0.25%コラーゲンゾルを注入した後、さらに実施例4に従い作製したビトリゲル膜乾燥体(0.25%コラーゲンゾル10.0ml由来)を挿入して、最後に2.0mlの0.25%コラーゲンゾルを注入して、基板にシャーレの蓋をした後、5.0% CO2/95%空気存在下の37.0℃の保湿インキュベーター内でゲル化することで、1つの基板上に4つのコラーゲンゲルを作製した。
基板としては、100mm×100mmの疎水性ポリスチレン製培養シャーレの底面、壁面鋳型としては、外円の直径が38mmで内円の直径が34mmで高さが30mmのアクリルを4つ用いた。1つの基板上に4つの壁面鋳型を設置することで、基板と壁面鋳型を分離できる4つの容器を作製した。各容器に1枚の環状ナイロン膜支持体を挿入し、2.0mlの0.25%コラーゲンゾルを注入して基板にシャーレの蓋をした後、5.0% CO2/95%空気存在下の37.0℃の保湿インキュベーター内でゲル化することで、1つの基板上に4つのコラーゲンゲルを作製した。
基板としては、100mm×100mmの疎水性ポリスチレン製培養シャーレの底面、壁面鋳型としては、外円の直径が38mmで内円の直径が34mmで高さが30mmのアクリルを4つ用いた。1つの基板上に4つの壁面鋳型を設置することで、基板と壁面鋳型を分離できる4つの容器を作製した。各容器に1枚の環状ナイロン膜支持体を挿入し、2.0mlの0.25%コラーゲンゾルを注入して基板にシャーレの蓋をした後、5.0% CO2/95%空気存在下の37.0℃の保湿インキュベーター内でゲル化することで、1つの基板上に4つのコラーゲンゲルを作製した。
室温でゲル化後、10.0℃ 40%湿度の条件下での自由水の完全に除去、10mlの細胞培養液による再水和の一連の操作を行い、コラーゲンビトリゲル膜とFITC標識ヤギ抗マウスIgG抗体を含有したアガロースゲル膜が重層化された積層体(環状ナイロン膜支持体付きコラーゲン−アガロースビトリゲル膜)を作製した。
実施例4において、従来よりも厚さの厚いビトリゲル膜を作製することができたことから、より実用性を高めるため、ビトリゲル膜の特性の一つである透明性を改善することを検討した。
基板として、100mm×100mmの疎水性ポリスチレン製培養シャーレの底面、壁面鋳型としては、外円の直径が38mmで内円の直径が34mmで高さが18mmのアクリル容器を用いた。容器に、1.0mlの0.25%コラーゲンゾルを注入した後、実施例1に従い作製したガラス化期間の長い(3ヶ月間以上)ビトリゲル膜乾燥体(0.25 %コラーゲンゾル2ml由来)9枚を挿入した。挿入後、1.0mlの0.25%コラーゲンゾルを注入し、基板にシャーレの蓋をした後、5.0%・CO2/95%空気存在下の37℃の保温インキュベーター内で2時間ゲル化した。
Claims (33)
- 不定形外周縁部をもたないことを特徴とするビトリゲル膜乾燥体。
- 基板に付着していることを特徴とする請求項1のビトリゲル膜乾燥体。
- ビトリゲル膜乾燥体が、剥離可能なフィルムと重層化されていることを特徴とする請求項1のビトリゲル膜乾燥体。
- フィルムがパラフィルムであることを特徴とする請求項3のビトリゲル膜乾燥体。
- 不定形外周縁部をもたないことを特徴とするハイドロゲル乾燥体。
- 基板に付着していることを特徴とする請求項5のハイドロゲル乾燥体。
- ハイドロゲル乾燥体が、剥離可能なフィルムと重層化されていることを特徴とする請求項5のハイドロゲル乾燥体。
- フィルムがパラフィルムであることを特徴とする請求項7のハイドロゲル乾燥体。
- 所望形状のビトリゲル膜乾燥体の製造方法であって、以下の工程:
(1)基板上に配置された、前記所望形状と同形状の壁面鋳型内部にハイドロゲルを保持して、ハイドロゲル内の自由水の一部を基板と壁面鋳型の間隙から流出させる工程;
(2)壁面鋳型を基板上から除去する工程;
(3)ハイドロゲルを乾燥させて残留する自由水を除去し、ガラス化したハイドロゲル乾燥体を作製する工程;
(4)ハイドロゲル乾燥体を再水和してビトリゲル膜を作製する工程;および
(5)ビトリゲル膜を再乾燥させて自由水を除去し、ガラス化したビトリゲル膜乾燥体を作製する工程
を含むことを特徴とするビトリゲル膜乾燥体の製造方法。 - 前記工程(1)において、壁面鋳型内部のハイドロゲルに、支持体を導入することを特徴とする請求項9のビトリゲル膜乾燥体の製造方法。
- 前記工程(1)において、ハイドロゲル内の自由水を1/4〜3/4程度に減じることを特徴とする請求項9のビトリゲル膜乾燥体の製造方法。
- 前記工程(5)において、ビトリゲル膜を、ビトリゲル膜乾燥体が剥離可能なフィルム上でガラス化することを特徴とする請求項9のビトリゲル膜乾燥体の製造方法。
- フィルムがパラフィルムであることを特徴とする請求項12のビトリゲル膜乾燥体の製造方法。
- 所望形状に成形可能なビトリゲル膜乾燥体の製造方法であって、以下の工程:
(1)ビトリゲル膜乾燥体が剥離可能なフィルムが敷かれた基板上に配置された、任意形状の壁面鋳型内部にハイドロゲルを保持して、ハイドロゲル内の自由水の一部を基板上のフィルムと壁面鋳型の間隙から流出させる工程;
(2)壁面鋳型を基板上から除去する工程;
(3)ハイドロゲルを乾燥させて残留する自由水を除去し、ガラス化したハイドロゲル乾燥体を作製する工程;
(4)ハイドロゲル乾燥体を再水和してビトリゲル膜を作製する工程;
(5)ビトリゲル膜を再乾燥させて自由水を除去し、ガラス化したビトリゲル膜乾燥体を作製する工程
を含むことを特徴とするビトリゲル膜乾燥体の製造方法。 - 前記工程(5)の後、
(6)フィルムと重層化されているビトリゲル膜乾燥体を所望形状に切断する工程を含むことを特徴とする請求項14のビトリゲル膜乾燥体の製造方法。 - 前記工程(6)の後、ビトリゲル膜乾燥体をフィルムから剥離させる工程を含むことを特徴とする請求項15のビトリゲル膜乾燥体の製造方法。
- フィルムがパラフィルムであることを特徴とする請求項14のビトリゲル膜乾燥体の製造方法。
- 前記工程(1)において、壁面鋳型内部のハイドロゲルに、支持体を導入することを特徴とする請求項14のビトリゲル膜乾燥体の製造方法。
- 前記工程(1)において、ハイドロゲル内の自由水を1/4〜3/4程度に減じることを特徴とする請求項14のビトリゲル膜乾燥体の製造方法。
- 所望形状のハイドロゲル乾燥体の製造方法であって、以下の工程:
(1)基板上に配置された、前記所望形状と同形状の壁面鋳型内部にハイドロゲルを保持して、ハイドロゲル内の自由水の一部を基板と壁面鋳型の間隙から流出させる工程;
(2)壁面鋳型を基板上から除去する工程;
(3)ハイドロゲルを乾燥させて残留する自由水を除去し、ガラス化したハイドロゲル乾燥体を作製する工程;
を含むことを特徴とするハイドロゲル乾燥体の製造方法。 - 前記工程(1)において、壁面鋳型内部のハイドロゲルに、支持体を導入することを特徴とする請求項20のハイドロゲル乾燥体の製造方法。
- 前記工程(1)において、ハイドロゲル内の自由水を1/4〜3/4程度に減じることを特徴とする請求項20のハイドロゲル乾燥体の製造方法。
- 前記工程(3)において、ハイドロゲル乾燥体が剥離可能なフィルム上でガラス化することを特徴とする請求項20のハイドロゲル乾燥体の製造方法。
- フィルムがパラフィルムであることを特徴とする請求項23のハイドロゲル乾燥体の製造方法。
- 所望形状に成形可能なハイドロゲル乾燥体の製造方法であって、以下の工程:
(1)ハイドロゲル乾燥体が剥離可能なフィルムが敷かれた基板上に配置された、任意形状の壁面鋳型内部にハイドロゲルを保持して、ハイドロゲル内の自由水の一部を基板上のフィルムと壁面鋳型の間隙から流出させる工程;
(2)壁面鋳型を基板上から除去する工程;
(3)ハイドロゲルを乾燥させて残留する自由水を除去し、ガラス化したハイドロゲル乾燥体を作製する工程
を含むことを特徴とするハイドロゲル乾燥体の製造方法。 - 前記工程(3)の後、
(4)フィルムと重層化されているハイドロゲル乾燥体を所望形状に切断する工程、を含むことを特徴とする請求項25のハイドロゲル乾燥体の製造方法。 - 前記工程(4)の後、ハイドロゲル乾燥体をフィルムから剥離させる工程を含むことを特徴とする請求項26のハイドロゲル乾燥体の製造方法。
- 前記工程(1)において、壁面鋳型内部のハイドロゲルに、支持体を導入することを特徴とする請求項25のハイドロゲル乾燥体の製造方法。
- 前記工程(1)において、ハイドロゲル内の自由水を1/4〜3/4程度に減じることを特徴とする請求項25のハイドロゲル乾燥体の製造方法。
- フィルムがパラフィルムであることを特徴とする請求項25のハイドロゲル乾燥体の製造方法。
- 請求項1のビトリゲル膜乾燥体が重層化し、一体化していることを特徴とする積層体。
- 請求項1のビトリゲル膜乾燥体はコラーゲンを原料としており、このビトリゲル膜乾燥体を再水和したビトリゲル膜を複数枚重ねて得られる積層体を用いた角膜の主に実質を構成しているコラーゲンの模倣物。
- 請求項1のビトリゲル膜乾燥体はコラーゲンを原料としており、このビトリゲル膜乾燥体が重層化し、一体化している積層体を再水和して得られたビトリゲル膜を用いた角膜の主に実質を構成しているコラーゲンの模倣物。
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