JPWO2011145662A1 - 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

ガラス円板について、酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いる研磨工程を経て情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法において、酸化セリウム砥粒の残留を抑制し、さらに主表面の面荒れを少なくする。本発明は、ガラス円板をラッピングするラッピング工程と、その後に、酸化セリウム砥粒を用いて研磨する酸化セリウム研磨工程とを含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、酸化セリウム研磨工程に引き続いて、ガラス円板を乾燥する乾燥工程（ａ）または硫酸および硝酸からなる群から選ばれる１種以上の無機酸の濃度が５５質量％以上、温度が３０℃以下である第１の洗浄液を用いてガラス円板を洗浄する洗浄工程（ｂ）の後に、硫酸の濃度が５５〜８０質量％、過酸化水素の濃度が１〜１０質量％、温度が７０℃以上である第２の洗浄液を用いてガラス円板を洗浄する洗浄工程（ｃ）を有する情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に関する。

Description

本発明は情報記録媒体用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法、特にガラス基板製造時の洗浄工程に関する。

近年の磁気ディスクの高容量化の動きの中で、ガラス基板については２つの大きな技術課題が存在している。一つは高速回転時の振動特性および強度などの機械的特性の問題、もう一つはガラス基板に残留する異物除去である。

高速回転時の振動特性や強度を改善するためには、ヤング率、比弾性率、比重、熱膨張係数、傷つきにくさおよび破壊靭性など諸特性を考慮した、適切なガラス組成のガラス基板を用いる必要がある。これら特性を達成するには、アルカリアルミノシリケートガラスが好適であること、特にＡｌ_２Ｏ_３は機械的特性改善に有効な成分であることが知られている。

一方、ガラス基板に残留する異物としては、研磨レートが高いことなどの理由からガラス研磨に好適に用いられている酸化セリウム砥粒が異物として残りやすいことが知られている。

例えば、ガラス基板の製造工程では、ガラス板から切り出したガラス円板の主表面および端面を、酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いて研磨した後、主表面をさらに平坦化するためにコロイダルシリカ砥粒を含むスラリーによる仕上げ研磨（最終研磨）を行う。このとき、主表面に酸化セリウム砥粒が残留していても仕上げ研磨により除去される。しかし、端面に付着している酸化セリウム砥粒は除去されずに残留し、仕上げ研磨後の洗浄工程において主表面に再付着しガラス基板に異物として残留すると考えられる。

このような背景から、酸化セリウム砥粒を用いる研磨がすべて終了した段階では酸化セリウム砥粒が完全に除去されていることが望まれている。

このような要望に応えるべく、無機酸とアスコルビン酸を含有する洗浄液が提案されている（例えば、特許文献１および２参照）。この洗浄液では、無機酸とアスコルビン酸の作用によって、酸化セリウム砥粒を溶かして除去している。

また、加熱した硫酸を主成分とする洗浄液を最終工程の洗浄にて使用することも提案されている（例えば、特許文献３参照）。

日本国特開２００６−９９８４７号公報（特許請求の範囲） 日本国特開２００４−５９４１９号公報（特許請求の範囲） 日本国特開２００８−９０８９８号公報（特許請求の範囲）

しかしながら、本発明者らが上記の洗浄技術について検証したところ、アスコルビン酸と無機酸とを含む洗浄液による洗浄では、ガラス円板の端部に残留する酸化セリウム砥粒を少なくすることは可能であるものの、完全には除去できない場合があることを確認した。また、この洗浄液はｐＨが１〜２と低いため、アルカリアルミノシリケートガラスからなるガラス円板に適用すると大きな面荒れを引き起こす場合があることも確認した。

一方、加熱した硫酸を主成分とする洗浄液を最終研磨工程後の洗浄に使用する場合においては、ガラス基板の端部に残留する酸化セリウム砥粒をほぼ完全に除去できるが、大きな面荒れが起こる場合があることを確認した。このような面荒れを修復するためには研磨量を増加させる必要があるが、研磨量の増加は外周部の面ダレが顕著になるという品質問題またはコストが増加するという問題を引き起こす。

本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、典型的にはアルカリアルミノシリケートガラスであるがそれに限らずアルカリを含有しないアルミノシリケートガラスなどからなるガラス円板について、酸化セリウム砥粒を含むスラリーや固定砥粒などを用いる酸化セリウム研磨工程を経て情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法において、酸化セリウム砥粒の残留を抑制できる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法の提供を目的とする。

本発明者らは、加熱した硫酸を主成分とする洗浄液をガラス円板の最終研磨工程後の洗浄に使用したときに大きな面荒れが起こる現象を調べたところ、ガラス面に付着した水分と加熱された硫酸とによってガラス面が部分的にリーチングされ、その結果ガラス面に部分的な面荒れが発生することを見出した。

前記面荒れを抑制する方法を検討した結果、本発明者らは、酸化セリウム研磨工程後にガラス面に付着した水分を、スピン乾燥またはイソプロピルアルコール蒸気乾燥（以下、ＩＰＡ乾燥という。）等の方法によって乾燥して除去し、次に、加熱された硫酸および過酸化水素を含む洗浄液で洗浄することにより面荒れを抑制できることを見出した。

さらに、本発明者らは、酸化セリウム研磨工程後に低温の無機酸洗浄液で洗浄し、次に、加熱された硫酸および過酸化水素を含む洗浄液で洗浄することにより、前記面荒れを抑制できるとともに、ガラス表面への酸化セリウム砥粒残留（以下、酸化セリウム残渣ということがある。）を低減できることを見出した。

本発明者らは、これらの知見に基づいて本発明に至った。すなわち、本発明の要旨は以下である。
１．ガラス円板をラッピングするラッピング工程と、その後に、酸化セリウム砥粒を用いて研磨する酸化セリウム研磨工程とを含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
酸化セリウム研磨工程に引き続いて、
ガラス円板を乾燥する乾燥工程（ａ）または
硫酸および硝酸からなる群から選ばれる１種以上の無機酸の濃度が５５質量％以上、温度が３０℃以下である第１の洗浄液を用いてガラス円板を洗浄する洗浄工程（ｂ）の後に、
硫酸の濃度が５５〜８０質量％、過酸化水素の濃度が１〜１０質量％、温度が７０℃以上である第２の洗浄液を用いてガラス円板を洗浄する洗浄工程（ｃ）を有する情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
２．前記乾燥工程（ａ）において、スピン乾燥またはイソプロピルアルコール蒸気乾燥によってガラス円板を乾燥する前項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
３．前記洗浄工程（ｂ）において、前記無機酸が硫酸である前項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
４．第１の洗浄液の硫酸の濃度が９８質量％以下である前項１または３に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
５．前記洗浄工程（ｂ）において、前記無機酸が硝酸である前項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
６．第１の洗浄液の硝酸の濃度が７０質量％以下である前項１または５に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
７．前記洗浄工程（ｂ）において、第１の洗浄液にガラス円板を浸漬してガラス円板を洗浄する前項１、３〜６のいずれか１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
８．前記洗浄工程（ｃ）において、第２の洗浄液にガラス円板を浸漬してガラス円板を洗浄する前項１〜７のいずれか１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
９．前記洗浄工程（ｃ）の後に、ガラス円板の主表面を、コロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いて研磨する仕上げ研磨工程を有する前項１〜８のいずれか１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
１０．前記コロイダルシリカ砥粒の平均粒径が１０〜５０ｎｍである前項９に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
１１．前記仕上げ研磨工程が、ｐＨが１〜６であるコロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いてガラス円板の主表面を研磨するものである前項９または１０に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
１２．情報記録媒体が磁気ディスクである前項１〜１１のいずれか１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
１３．前項１２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって磁気ディスク用ガラス基板を製造し、当該磁気ディスク用ガラス基板の主表面に磁気記録層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。

本発明によれば、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、酸化セリウム研磨工程後に、ガラス面に付着した水分を乾燥して除去するか、または、無機酸を特定範囲の濃度で含む低温の第１の洗浄液でガラス円板を洗浄し、ガラス面に付着した水分を低温の無機酸洗浄液と置換して除去することができる。このことにより、後に続く加熱された硫酸および過酸化水素を含む第２の洗浄液で洗浄する工程において、ガラス面に付着した水分と加熱された硫酸とによって、ガラス面が部分的にリーチングされるのを抑制し、ガラス面に部分的な面荒れが生じるのを防ぐことができる。

また、本発明によれば、第２の洗浄液に含まれる硫酸および過酸化水素の濃度を特定の範囲とするとともに、第２の洗浄液の温度を特定の範囲とすることにより、ガラス面の面荒れを抑制するとともに、ガラス外周端面への酸化セリウム残渣を低減することができる。

すなわち、本発明によれば、酸化セリウム砥粒を含むスラリーなどにより研磨しても酸化セリウム残渣がないかほとんどない情報記録媒体用ガラス基板が得られる。

また、本発明によれば、リーチングムラによる主表面の面荒れが無いかほとんど無く、平坦性も良好であり、今後求められる高記録容量化にも十分に対応可能な磁気ディスク用ガラス基板が得られる。

図１は、面荒れの無いガラス基板を白色干渉法で観察した図である。撮影倍率は１倍とした。 図２は、白色干渉法で観察した、ガラス基板の面荒れを示す図である。撮影倍率は１倍とした。

本発明における情報記録媒体用ガラス基板は情報記録媒体に用いられるものであれば特に限定されないが、典型的には磁気ディスクに用いられる。

以下では磁気ディスク用ガラス基板を例にして説明するが、本発明はこの例に限定されない。

先ず、次の組成のガラスからなるガラス板からガラス円板を切り出す。ガラスの組成としては、典型的にはモル％表示で、ＳｉＯ_２を好ましくは５５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３を好ましくは５〜１７％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ（Ｒ_２Ｏ）を好ましくは４〜２７％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ（Ｒ’Ｏ）を好ましくは０〜２０％含有し、これら成分の含有量の合計が好ましくは９０％以上である。

上記ガラスにおいて、ＳｉＯ_２はガラスの骨格を形成する成分であり、必須である。ＳｉＯ_２の含有量を５５％以上とすることにより比重が低くなる、ガラスにキズが付きにくくなる、失透温度が低下しガラスが安定化する、または耐酸性が向上する。より好ましくは６０％以上、ＳｉＯ_２の含有量は、更に好ましくは６１％以上、特に好ましくは６２％以上、最も好ましくは６３％以上、典型的には６４％以上である。

但し、ＳｉＯ_２の含有量を７５％以下とすることによりヤング率が向上する、比弾性率が高くなる、熱膨張係数が大きくなる、または粘性を低減することができ、ガラスの溶解が容易になる。ＳｉＯ_２の含有量は、より好ましくは７１％以下、更に好ましくは７０％以下、最も好ましくは６８％以下である。耐酸性はＳｉＯ_２が６３モル％未満になると低下しやすくなる。

Ａｌ_２Ｏ_３はガラスの骨格を形成し、ヤング率、比弾性率または破壊靭性を高くする成分であり、必須である。Ａｌ_２Ｏ_３の含有量を５％以上とすることによりヤング率が高くなる、比弾性率が高くなる、また破壊靭性が高くなる。Ａｌ_２Ｏ_３の含有量は、より好ましくは６％以上、更に好ましくは７％以上、典型的には８％以上である。

但し、Ａｌ_２Ｏ_３の含有量を１７％以下とすることにより熱膨張係数が大きくなる、粘性が高くなりすぎることなくガラスの溶解が容易になる、または耐酸性が向上する。Ａｌ_２Ｏ_３の含有量は、より好ましくは１５％以下、更に好ましくは１４％以下である。Ａｌ_２Ｏ_３の含有量を１２．５％以下とすることにより、耐酸性を向上することができる。

上記の通り、ＳｉＯ_２が少なくＡｌ_２Ｏ_３が多いガラスは耐酸性が低くなる。このため、（ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３）が小さくなるとガラスの耐酸性は顕著に低下する。一方、ヤング率、比弾性率または破壊靭性などの機械特性を向上させるにはＡｌ_２Ｏ_３が多いことが有効であり、機械特性に優れたガラスは耐酸性が低い傾向がある。（ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３）は典型的には４８〜６２％であることが好ましい。

Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏはガラスの溶解性を改善し、熱膨張係数を高くする成分であり、いずれか１成分以上を含有しなければならない。これら３成分の含有量の合計Ｒ_２Ｏを４％以上とすることによりこの効果が大きくなる。Ｒ_２Ｏは、より好ましくは１３％以上、更に好ましくは１５％以上、特に好ましくは１６％以上、最も好ましくは１７％以上、典型的には１８％以上である。

なお、Ｒ_２Ｏを２７％以下とすることによりヤング率が高くなる、比弾性率が高くなる、破壊靭性が高くなる、または水分との反応でアルカリが溶出しにくくなるため、好ましい。Ｒ_２Ｏは、より好ましくは２５％以下、更に好ましくは２４％以下、特に好ましくは２２％以下である。Ｒ_２Ｏは典型的には１６〜２４％であることが好ましい。

また、上記アルカリ金属酸化物の中でもＬｉ_２Ｏは、ヤング率、比弾性率または破壊靭性を高くする効果が高いため、５％以上含有させることが好ましい。Ｌｉ_２Ｏの含有量は、より好ましくは７％以上、最も好ましくは８％以上である。

ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯはいずれも必須ではないが、ガラスの溶解性を改善し、熱膨張係数を高くする成分であり、これら４成分の含有量の合計Ｒ’Ｏが２０％までの範囲で含有してもよい。Ｒ’Ｏを２０％以下とすることにより比重が低減する、またはガラスが傷つきにくくなる。Ｒ’Ｏは、より好ましくは１０％以下、更に好ましくは８％以下、最も好ましくは６％以下、典型的には４％以下である。

また、ヤング率、比弾性率、比重、熱膨張係数、傷つきにくさおよび破壊靭性といった機械特性を高めるためには、ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｒ_２Ｏ＋Ｒ’Ｏを９０％以上とすることが好ましい。９０％以上とすることによりこの効果が大きくなる。ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｒ_２Ｏ＋Ｒ’Ｏは、より好ましくは９３％以上、更に好ましくは９５％以上、最も好ましくは９７％以上である。

この典型例のガラスは本質的に上記成分からなるが、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を含有してもよい。

例えば、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｔａ_２Ｏ_５およびＬａ_２Ｏ_３はヤング率、比弾性率および破壊靭性を高くする効果がある。これらの成分のいずれか１以上を含有する場合、合計含有量で７％以下が好ましい。これらの成分の合計含有量を７％以下とすることにより比重が低くなる、またはガラスを傷つきにくくすることができる。より好ましくは５％未満、特に好ましくは４％未満、最も好ましくは３％未満である。

Ｂ_２Ｏ_３はガラスの溶解性を改善し、比重を小さくし、またガラスを傷つきにくくする効果がある。Ｂ_２Ｏ_３を含有する場合３％以下が好ましい。３％以下とすることにより、ヤング率が向上する、比弾性率が高くなる、または揮散によるガラスの品質の低下を防ぐことができる。より好ましくは２％以下、特に好ましくは１％以下、最も好ましくは０．５％以下である。

ＳＯ_３、Ｃｌ、Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２およびＣｅＯ_２はガラスを清澄する効果がある。これらのいずれかを含有する場合、合計で２％以下が好ましい。

ガラス円板を構成するガラスはこれに限らず、例えば、アルカリ金属酸化物を含有しないアルミノシリケートガラスなどであってもよい。このようなアルミノシリケートガラスとしては、例えば、モル％表示で、ＳｉＯ_２を６２〜７４％、Ａｌ_２Ｏ_３を６〜１８％、Ｂ_２Ｏ_３を２〜１５％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯのいずれか１成分以上を合計で８〜２１％含有し、上記７成分の含有量合計が９５％以上であるもの、同表示で、ＳｉＯ_２を６７〜７２％、Ａｌ_２Ｏ_３を１１〜１４％、Ｂ_２Ｏ_３を０〜２％未満、ＭｇＯを４〜９％、ＣａＯを４〜６％、ＳｒＯを１〜６％、ＢａＯを０〜５％含有し、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの含有量合計が１４〜１８％、上記７成分の含有量合計が９５％以上であるもの、および質量百分率表示で、ＳｉＯ_２を５２〜６５％、Ａｌ_２Ｏ_３を１０〜１８％、Ｂ_２Ｏ_３を０〜８％、ＭｇＯを０〜１０％、ＣａＯを２〜１５％、ＳｒＯを０〜１５％、ＢａＯを０〜１６％、ＺｎＯを０〜１２％含有し、上記８成分の含有量合計が９５％以上であるものが挙げられる。

ガラス板の比重は２．６０以下であることが好ましい。ガラス板の比重を２．６０以下とすることにより、磁気ディスクドライブ回転時にモーター負荷がかかって消費電力が大きくなるのを防ぐ、またはドライブ回転を安定化することができる。ガラス板の比重は、より好ましくは２．５５以下、更に好ましくは２．５３以下、最も好ましくは２．５２以下である。

また、ガラス板の−５０〜＋７０℃の範囲における熱膨張係数（平均線膨張係数）は６０×１０^−７／℃以上であることが好ましい。該熱膨張係数を６０×１０^−７／℃以上とすることにより、金属製のドライブなど他の部材の熱膨張係数との差が低くなり、温度変動時の応力発生による基板の割れなどが起こりにくくなる。該熱膨張係数は、より好ましくは６２×１０^−７／℃以上、更に好ましくは６５×１０^−７／℃以上、最も好ましくは７０×１０^−７／℃以上である。

さらに、ガラス板のヤング率は８０ＧＰａ以上であることが好ましい。また、ガラス板の比弾性率は３２ＭＮｍ／ｋｇ以上であることが好ましい。ガラス板のヤング率が８０ＧＰａ以上であるか比弾性率が３２ＭＮｍ／ｋｇ以上であるとドライブ回転中に反りまたはたわみが発生しにくく、高記録密度の情報記録媒体を得易くなる。ガラス板のヤング率が８１ＧＰａ以上かつ比弾性率が３２．５ＭＮｍ／ｋｇ以上であることがより好ましい。

前記典型例のガラスからなるガラス板は、ヤング率、比弾性率、比重、熱膨張係数、傷つきにくさおよび破壊靭性等の諸特性が優れたものとなりやすい。

なお、ガラス板の製造方法は特に限定されず、各種方法を適用できる。例えば、通常使用される各成分の原料を目標組成となるように調合し、これをガラス溶融窯で加熱溶融する。

バブリング、撹拌および清澄剤の添加等によりガラスを均質化し、周知のフロート法、プレス法、フュージョン法またはダウンドロー法などの方法により所定の厚さの板ガラスに成形する。その後徐冷し、必要に応じて研削および研磨などの加工を行った後、所定の寸法および形状のガラス基板とする。

成形法としては、特に、大量生産に適したフロート法が好ましい。また、フロート法以外の連続成形法、例えば、フュージョン法およびダウンドロー法も好ましい。

次いで、ガラス円板の中央に円孔を開け、面取り、主表面ラッピングおよび端面鏡面研磨を順次行う。なお、主表面ラッピング工程を粗ラッピング工程と精ラッピング工程とに分け、それらの間に形状加工工程（円形ガラス板中央の孔開け、面取り、端面研磨）を設けてもよい。

また、端面鏡面研磨は、ガラス円板を積層して内周端面を酸化セリウム砥粒を用いたブラシ研磨を行い、エッチング処理をしてもよいし、内周端面のブラシ研磨の代わりにそのエッチング処理された内周端面に、例えばポリシラザン化合物含有液をスプレー法等によって塗布し、焼成して内周端面に被膜（保護被膜）形成を行ってもよい。

主表面ラッピングは通常、平均粒径が６〜８μｍである酸化アルミニウム砥粒または酸化アルミニウム質の砥粒を用いて行う。ラッピングされた主表面は通常両面の取り代で１５〜４０μｍ研磨されることが好ましく、３０〜４０μｍ研磨されることがより好ましい。

これらの加工において、中央に円孔を有さないガラス基板を製造する場合には当然、ガラス円板中央の孔開けおよび内周端面の鏡面研磨は不要である。

〔酸化セリウム研磨工程〕
その後、ガラス円板の主表面を、酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いて研磨する。この主表面研磨工程は、ウレタン製研磨パッドを用いて行い、例えば、三次元表面構造解析装置［例えば、ＡＤＥ社製Ｏｐｔｉ−ｆｌａｔ（商品名）］を用いて波長領域がλ≦５ｍｍの条件で測定されたうねり（Ｗａ）が１ｎｍ以下となるように研磨する。

また、研磨による板厚の減少量（研磨量）は、典型的には１５〜４０μｍであることが好ましい。主表面研磨工程は、１回の研磨で行ってもよいし、サイズの異なる酸化セリウム砥粒を用いて２回以上実施してもよい。

なお、酸化セリウム砥粒は公知のものでよく、通常は酸化セリウム以外にランタン等の希土類金属酸化物およびフッ素等を含むことが好ましい。また、本発明における酸化セリウム研磨工程はラッピング工程で発生したキズ除去を目的とする酸化セリウム主表面研磨工程を含むが、それに限らず、ラッピング工程後に酸化セリウムによる端面鏡面研磨が行われればそれも含む。

酸化セリウム研磨工程後のガラス円板は予備洗浄することが好ましい。予備洗浄は、例えば、純水での浸漬洗浄、弱酸またはアルカリ洗浄剤での超音波洗浄および純水でのリンスをこの順序で行うことが好ましい。純水での浸漬洗浄または純水でのリンスにおいては、超音波洗浄を併用したり、流水またはシャワー水を用いてもよい。

本発明の製造方法は、前記酸化セリウム研磨工程に引き続いて、ガラス円板を乾燥する乾燥工程（ａ）または第１の洗浄液でガラス円板を洗浄する工程（ｂ）の後に、第２の洗浄液でガラス円板を洗浄する洗浄工程（ｃ）を有する。以下、各工程について説明する。

〔ガラス円板を乾燥する工程（ａ）〕
工程（ａ）は、水分が付着したガラス円板を乾燥し、その水分を除去する工程である。ガラス円板を乾燥する方法としては、例えば、スピン乾燥およびイソプロピルアルコール蒸気乾燥（以下、ＩＰＡ乾燥ともいう）が挙げられる。

ガラス円板に付着した水分を乾燥により除去することで、後の工程（ｃ）においてガラス面に付着した水分と加熱された硫酸とによってガラス面が部分的にリーチングされるのを抑制し、ガラス面に部分的な面荒れが発生するのを防ぐことができる。

スピン乾燥によるガラス円板の乾燥は、具体的には、例えば、次のようにして行うことが好ましい。すなわち、好ましくはポリエーテルイミド樹脂などの高硬度を持つスーパーエンプラと呼称されている類の樹脂またはポリエーテルプラスティックのうち高い機械強度をもつ樹脂［例えば、ウルテム（登録商標）］製カセットにガラス円板を入れ、該カセットを雰囲気温度が好ましくは２０〜２５℃である乾燥機中で好ましくは１０００ｒｐｍ以上の回転速度で好ましくは１分間以上回転させる。この場合、乾燥を促進させるために乾燥機内を真空引きしてもよい。

ＩＰＡ乾燥によるガラス円板の乾燥は、具体的には、例えば、次のようにして行うことが好ましい。すなわち、ガラス円板と接触する部分が好ましくはポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素樹脂［例えば、テフロン（登録商標）］製であり、その他の部分が好ましくはステンレス鋼などの金属の冶具製であるカセットに、好ましくは２５枚またはそれ以下の枚数のガラス円板を入れる。該ガラス円板が入ったカセットを、温度が好ましくは８０〜８５℃のイソプロピルアルコール蒸気雰囲気下のイソプロピルアルコール中に好ましくは５０〜７５秒間静置する。その後カセットごと好ましくは１．０〜２．０ｍ／分間の速度で該イソプロピルアルコール蒸気中に引き上げる。

〔第１の洗浄液を用いてガラス円板を洗浄する工程（ｂ）〕
工程（ｂ）は、ガラス円板を、硫酸および硝酸からなる群から選ばれる１種以上の無機酸を含む第１の洗浄液で洗浄する工程である。工程（ｂ）の前に、純水による浸漬工程を経て、次に、第１の洗浄液に浸漬するなどしてガラス円板を洗浄することが好ましい。

低温の無機酸を含む第１の洗浄液でガラス円板を洗浄することにより、ガラス面に付着した水分を低温の第１の洗浄液と置換して除去することができる。このことにより、後の工程（ｃ）において、ガラス面に付着した水分と加熱された硫酸とによってガラス面が部分的にリーチングされるのを抑制し、ガラス面に部分的な面荒れが発生するのを防ぐことができる。

第１の洗浄液における無機酸としては、キレート能力のない硫酸または硝酸などの無機酸が好ましい。無機酸として、キレート能力のない無機酸を用いることにより、ガラス成分に含まれるシリカ以外の元素に対してリーチング作用がなく、面荒れが起きにくいと考えられる。硫酸と硝酸は通常はそれぞれ単独で使用することが好ましい。

無機酸として硫酸を使用すると、溶けにくい硫酸塩が発生するか、または発生しやすくなる場合には、硝酸を使用することが好ましいが、それ以外の場合には、高濃度品が入手しやすいという観点から、硫酸を使用することが好ましい。

第１の洗浄液における無機酸の濃度は５５質量％以上であり、好ましくは６０質量％以上である。無機酸の濃度が５５質量％未満では、乖離している酸が多くなり第１の洗浄でリーチングが起こるおそれがある。なお、無機酸が硫酸である場合、入手しやすさの観点から、その濃度は典型的には９８質量％以下であることが好ましく、９５質量％以下であることがより好ましい。無機酸が硝酸である場合、同じく入手しやすさの観点から、その濃度は典型的には７０質量％以下であることが好ましい。

また、第１の洗浄液の温度は３０℃以下である。第１の洗浄液の温度が３０℃超では、リーチングによってガラス面の面荒れが起こる可能性がある。第１の洗浄液の温度は典型的には２０℃以上であることが好ましい。

第１の洗浄液における無機酸以外の成分は、通常は水であることが好ましい。すなわち第１の洗浄液は、通常水溶液であることが好ましく、その他に例えば過酸化水素を含むものでもよい。

また、第１の洗浄の目的はガラス表面の水と酸との置換であり、この目的を達するために洗浄時間は通常３０秒以上であることが好ましく、典型的には５分間である。

〔第２の洗浄液を用いてガラス円板を洗浄する洗浄工程（ｃ）〕
工程（ｃ）は、硫酸および過酸化水素を含む、加熱された第２の洗浄液を用いてガラス円板を洗浄する工程である。工程（ｃ）においては、第２の洗浄液に浸漬するなどしてガラス円板を洗浄することが好ましい。

第２の洗浄液における硫酸の濃度は、５５質量％であり、好ましくは６０質量％以上、典型的には６５質量％以上であり、また、８０質量％以下である。第２の洗浄液における硫酸の濃度が５５質量％未満であると、ガラス円板に付着した酸化セリウム砥粒が溶解されずに残留するおそれがあるとともに、ガラス面に面荒れが発生するおそれがある。また、８０質量％超であると、リーチングによる面荒れが顕著になって、仕上げ研磨を行っても目的とする平坦性を得にくくなる、または、洗浄装置に汎用的に使用される樹脂製冶具が酸化または分解するおそれがある。

第２の洗浄液における過酸化水素の濃度は、１質量％以上であり、好ましくは２質量％以上、典型的には４質量％以上であり、また、１０質量％以下である。第２の洗浄液における過酸化水素の濃度が１質量％未満であると、ガラス円板に付着した酸化セリウム砥粒が溶解されずに残留するおそれがある。また、１０質量％超であると、リーチングによる面荒れが顕著になって、仕上げ研磨を行っても目的とする平坦性を得にくくなる、または、洗浄装置に汎用的に使用される樹脂製冶具が酸化または分解するおそれがある。

第２の洗浄液の温度は、７０℃以上であり、好ましくは７５℃以上であり、また、１００℃以下であることが好ましく、より好ましくは９０℃以下である。第２の洗浄液の温度が７０℃未満では酸化セリウム残渣が残りやすくなる。また、１００℃以下とすることにより、過酸化水素の分解が激しくなることによる著しい洗浄液組成の変化を防ぐことができる。

第２の洗浄液におけるその他の成分は通常は水であることが好ましい。その他の成分を水とすることにより、本発明を耐久性が弱いガラスに適用することが可能となる。第２の洗浄液における水の含有量は、通常５〜３５質量％であることが好ましい。すなわち第２の洗浄液は通常水溶液であるが、その場合でも本発明の目的を損なわない範囲で水以外の成分を含んでもよい。

また、第２の洗浄液による洗浄時間は典型的には５分間またはそれ以上であることが好ましく、通常は３０分間以下で洗浄目的を達することができる。

洗浄工程（ｂ）または洗浄工程（ｃ）において、ガラス円板を洗浄液に浸漬して洗浄する場合、用いる浸漬槽は複数でもよいし、１個でもよい。

また、洗浄工程（ｂ）および洗浄工程（ｃ）を後述する仕上げ研磨工程の後などに行ってもよい。なお、洗浄工程（ｃ）の後に、最後に純水でガラス円板をリンスすることが好ましい。

〔仕上げ研磨工程〕
仕上げ研磨工程では、通常、コロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いて最終研磨を行う。仕上げ研磨工程では、通常、平均粒径が１０〜５０ｎｍのコロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いてガラス円板を研磨するが、その前に平均粒径が５０ｎｍ超１００ｎｍ以下のコロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いて前研磨してもよい。また、コロイダルシリカ砥粒を含むスラリーでの研磨の前または後に化学強化を行ってもよい。

コロイダルシリカ砥粒を含むスラリーによる研磨では、水ガラスを原料とするコロイダルシリカでは、一般的に中性領域においてゲル化が進行しやすいため、スラリーのｐＨを１〜６または２〜６としてガラス円板を仕上げ研磨することが好ましい。

スラリーのｐＨを前記ｐＨ範囲とするためにｐＨ調整剤を用いることが好ましい。ｐＨ調整剤としては、例えば、酸であれば無機酸または有機酸が挙げられる。

無機酸としては、例えば、塩酸、硝酸、硫酸、燐酸、ポリ燐酸およびアミド硫酸等が挙げられる。また、有機酸としては、例えば、カルボン酸、有機燐酸およびアミノ酸等が挙げられる。

カルボン酸としては、例えば、酢酸、グリコール酸およびアスコルビン酸等の一価カルボン酸、蓚酸および酒石酸等の二価カルボン酸、並びにクエン酸等の三価カルボン酸が挙げられる。

特にスラリーのｐＨを１〜３とする場合は無機酸が好適に用いられる。また、ｐＨ３超においては、カルボン酸を用いるとコロイダルシリカ砥粒のゲル化を抑制できるため好ましい。さらに、スラリーにアニオンまたはノニオン界面活性剤を添加してもよい。

研磨具はスエードパッドであることが好ましい。スエードパッドは発泡樹脂層を有し、そのショアＡ硬度が２０°以上６０°以下であり、密度が０．２〜０．８ｇ／ｃｍ^３であることが好ましい。

仕上げ研磨工程によりガラス円板は、主表面の二乗平均粗さ（Ｒｍｓ）が好ましくは０．１５ｎｍ以下、より好ましくは０．１３ｎｍ以下の平坦性を有するように研磨することが好ましい。この研磨における板厚の減少量（研磨量）は、典型的には０．５〜２μｍであることが好ましい。

仕上げ研磨工程の後、コロダルシリカ砥粒を除去するために洗浄を行う。この洗浄工程では、少なくとも１回はｐＨ１０以上のアルカリ性洗浄剤による洗浄を行うことが好ましい。洗浄方法は、ガラス円板を浸漬して超音波振動を加えてもよいし、スクラブ洗浄を用いてもよい。また、両方を組み合わせてもよい。さらに、洗浄の前後に、純水による浸漬工程またはリンス工程を行うことが好ましい。

最終のリンス工程後にガラス円板を乾燥するが、乾燥方法としては、例えば、イソプロピルアルコール蒸気を用いる乾燥方法、スピン乾燥および真空乾燥などが用いられる。

上記一連の工程により、主表面に残留酸化セリウム砥粒がなく、あるいは残留酸化セリウム砥粒による問題が生ぜず、高度に平坦化されたガラス基板が得られる。このようなガラス基板の主表面に磁気記録層を形成した磁気ディスクにおいては、高密度記録が可能になる。

以下に本発明の実施例について具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。

モル％表示組成が概略、ＳｉＯ_２：６２％、Ａｌ_２Ｏ_３：１３％、ＭｇＯ：３％、ＴｉＯ_２：１％、ＺｒＯ_２：１％、Ｌｉ_２Ｏ：１１％、Ｎａ_２Ｏ：７％、Ｋ_２Ｏ：３％、であるガラス板から外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、板厚０．６３５ｍｍのドーナツ状ガラス円板を切り出した。該ガラス円板の内周面および外周面を、ダイヤモンド砥石を用いて研削加工し、上下主表面を、酸化アルミニウム砥粒を用いてラッピングした。

次に、内外周の端面について幅０．１５ｍｍ、角度４５°の面取り部を設ける面取り加工を行った。

面取り加工後、内外周の端面について、研磨材として酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用い、研磨具としてブラシを用いて、ブラシ研磨により鏡面加工を行った。研磨量は、半径方向の除去量で３０μｍであった。

鏡面加工後、研磨材として酸化セリウム砥粒（平均粒径：約２μｍ）を含むスラリーを用い、研磨具としてウレタンパッドを用いて、両面研磨装置により上下主表面の研磨加工を行った。研磨量は、上下主表面の厚さ方向で計３５μｍであった。

ガラス円板の主表面研磨後に予備洗浄として、純水での浸漬洗浄、アルカリ洗浄剤での超音波洗浄および純水でのリンスをこの順で実施した。

［実施例１］
（例１）
前記予備洗浄したガラス円板のうちの３０枚をスピン乾燥した。スピン乾燥はウルテム（登録商標）樹脂製カセットに３０枚のガラス円板を入れ、このカセットを雰囲気温度が室温（約２３℃であった。）で１０００ｒｐｍの回転速度で１分間回転させて行った。

このスピン乾燥した３０枚のガラス円板を、硫酸濃度が７１．４質量％、過酸化水素濃度が７．７質量％、温度が８０℃である水溶液に１０分間浸漬する洗浄を行った。例１は実施例である。

このようにして得られた３０枚のガラス円板Ａについて、次のようにして面荒れ発生頻度（％）を測定した。

ＡＤＥ社製Ｏｐｔｉ−ｆｌａｔを用いて白色干渉法によりガラス円板両面の表面形状を観察し、１ｍｍ×１ｍｍ以上の大きさの凹みがあるものを面荒れが発生したガラス板とした。このような面荒れが発生したガラス板面の数を測定面数３８で除して百分率表示したものを面荒れ発生頻度とした。ガラス円板Ａについては面荒れ発生頻度は０％であった。

また、１枚のガラス円板Ａについて外周端面の付着物の存在状況を次のようにして調べた。すなわち、ガラス円板の外周端面の円周方向ほぼ等間隔に並んだ８箇所についてＳＥＭ−ＥＤＸ（日立製作所社製Ｓ４７００）を用いて付着物の有無を５０００倍の倍率で観察した。

その結果、ガラス円板Ａの８箇所すべてにおいて付着物は認められなかった。図１は、例１において面荒れが発生しなかったガラス円板の１例である。

（例２）
比較のために、前記予備洗浄したガラス円板の残りの２０枚を水がガラス表面に付着した状態のまま乾燥することなく、硫酸濃度が７１．４質量％、過酸化水素濃度が７．７質量％、温度が８０℃である水溶液に５分間浸漬する洗浄を行った。例２は比較例である。

このようにして得られた２０枚のガラス円板Ｂについて、面荒れ発生頻度（％）を測定したところ１００％であった。

なお、図２は面荒れが発生したガラス円板の１例である。図２の線状に黒く見えている部分、すなわち、右上にある１本、下方にあるそれと概ね同じ長さのもの１本、その２倍強の長さのもの１本が面荒れ部分である。

また、ガラス円板Ａについて行ったのと同様にして１枚のガラス円板Ｂについて外周端面の付着物の存在状況を調べたところ、ガラス円板Ｂの８箇所すべてにおいて付着物は認められなかった。

例１および２の結果から、ガラス円板に付着した水分を乾燥により除去することで、後の洗浄工程においてガラス面に付着した水分と加熱された硫酸とによってガラス面が部分的にリーチングされるのを抑制し、ガラス面の部分的な面荒れを防ぐことができることがわかった。

［実施例２］
前記予備洗浄を行ったガラス円板について、第１の洗浄液として下記９種の水溶液を用い、第１の洗浄液に各々５分間浸漬して洗浄した。その後、第２の洗浄液として下記水溶液Ａを用い、８０℃に加熱した第２の洗浄液中に５分間浸漬して洗浄した（例３〜１１）。例３〜７は実施例、例８〜１１は比較例である。

さらに比較のために、第１の洗浄液によるガラス円板の洗浄をせずに、第２の洗浄液として８０℃に加熱した水溶液Ａを用いてガラス円板を洗浄した（例１２）。

第１の洗浄液として、無機酸が硫酸または硝酸であり、無機酸の濃度（単位：質量％）と洗浄液の温度（単位：℃）がそれぞれ表１に示すものである９種の水溶液を用いた。

また、第２の洗浄液として、硫酸の濃度が７１．４質量％、過酸化水素の濃度が７．７質量％である水溶液Ａを用いた。

このようにして得られた例３〜１２のガラス円板各１９枚について、実施例１と同様にして面荒れ発生頻度（％）を測定した。その結果を表１に示す。

なお、例３〜７においては、図１に示すのと同様にガラス面に面荒れが発生しなかった。一方、例８〜１２においては、図２に示すのと同様にガラス面に面荒れが発生した。

また、例３〜１２のガラス円板各１枚について外周端面の付着物の存在状況を調べた。すなわち、ガラス円板の外周端面において円周方向ほぼ等間隔に並んだ８箇所について、ＳＥＭ−ＥＤＸ（日立製作所社製Ｓ４７００）を用いて付着物の有無を５０００倍の倍率で観察した。

表１に示すように、第１の洗浄液に含まれる無機酸の濃度が５５質量％以上である例３〜７は、ガラス円板の面荒れは観察されなかった。一方、第１の洗浄液に含まれる無機酸の濃度が５５質量％より低い例８は、ガラス面の面荒れが観察された。これは、第１の洗浄液に含まれる無機酸の濃度が５５質量％を下回ると、無機酸とガラスに付着した水分とが十分に置換されないためと考えられる。

また、第１の洗浄液の温度が３０℃以下である例５はガラス円板の面荒れが観察されなかった。一方、第１の洗浄液の温度が３０℃より高い例９〜１１はいずれもガラス面の面荒れが観察された。これは、第１の洗浄液の温度が３０℃を超えると、反応性が高くなりガラス面のリーチング作用が発生するであるためと考えられる。

なお、例３〜１２のいずれのガラス円板についても、観察した８箇所すべてにおいて付着物は認められなかった。

これらの結果から、第１の洗浄液に含まれる無機酸の濃度を５５質量％以上とし、第１の洗浄液の温度を３０℃以下することにより、ガラス面の面荒れの発生を抑制できることがわかった。

［実施例３］
前記予備洗浄を行ったガラス円板（１ロットが１９枚）について、第１の洗浄液として下記水溶液Ｂを用い、水溶液Ｂに５分間浸漬する第１の洗浄を行った。その後、第２の洗浄液として下記１０種の第２の洗浄液を用い、第２の洗浄液中に５分間浸漬する第２の洗浄を行った（例１３〜２２）。例１３〜１６は実施例、例１７〜２２は比較例である。なお、例１３は例３と同じ処理をしたガラス円板である。

第１の洗浄液として、無機酸の濃度が７１．４質量％の硫酸であり、温度が２８℃である水溶液Ｂを用いた。

また、第２の洗浄液として、硫酸濃度（単位：質量％）、過酸化水素濃度（単位：質量％）、温度（単位：℃）がそれぞれ表２に示すものである１０種の水溶液を用意した。

このようにして得られた例１３〜２２のガラス円板各１９枚について、実施例１と同様にして面荒れ発生頻度と外周端面の付着物の存在状況を調べた。その結果を表２に示す。

なお、付着物の欄には前記８箇所のうち付着物の存在が確認された箇所数を示す。また、これら外周端面の付着物は粒子状であり、これら粒子状付着物の成分をＥＤＸにより調べたところ酸化セリウムであった。

表２に示すように、第２の洗浄液における硫酸の濃度が５５質量％以上である例１３および１６ではガラス面の面荒れが発生しなかった。一方、第２の洗浄液における硫酸の濃度が５５質量％を下回る例１９では、ガラス面の面荒れが発生した。これは、第２の洗浄液における硫酸の濃度が５５質量％を下回ると、水の割合が増加し、リーチングが起きたためと考えられる。

第２の洗浄液における過酸化水素の濃度が１質量％以上である例１４および１５ではガラス外周端面に付着物が確認されなかった。一方、第２の洗浄液における過酸化水素の濃度が１質量％を下回る例１７および１８では、ガラス外周端面に付着物の存在が確認された。これは、第２の洗浄液における過酸化水素の濃度が１質量％を下回ると、還元作用が小さくなりセリア砥粒が溶けにくくなったためと考えられる。

さらに、第２の洗浄液の温度が７０℃以上である例１３では、ガラス外周端面に付着物が確認されなかった。一方、第２の洗浄液の温度が７０℃を下回る例２０および２１では、ガラス外周端面に付着物の存在が確認された。これは、第２の洗浄液の温度が７０℃を下回ると、ガラス円板に付着した酸化セリウム砥粒が溶解されずに残留するためと考えられる。

また、第２の洗浄液における硫酸の濃度が５５質量％より低く、過酸化水素の濃度が１０質量％より高い例２２では、面荒れの発生頻度が７９％と高かった。

これらの結果から、第２の洗浄液に含まれる硫酸の濃度を５５〜８０質量％とし、過酸化水素の濃度を１〜１０質量％とし、第２の洗浄液の温度を７０℃以上とすることにより、ガラス面の面荒れを抑制するとともに、ガラス外周端面への酸化セリウム残渣による付着物を低減できることがわかった。

［実施例４］
モル％表示組成が概略、ＳｉＯ_２：６２％、Ａｌ_２Ｏ_３：１３％、ＭｇＯ：３％、ＴｉＯ_２：１％、ＺｒＯ_２：１％、Ｌｉ_２Ｏ：１１％、Ｎａ_２Ｏ：７％、Ｋ_２Ｏ：３％、であるガラス板から外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、板厚０．６３５ｍｍのドーナツ状ガラス円板を切り出し、内周面および外周面をダイヤモンド砥石を用いて研削加工し、上下主表面を酸化アルミニウム砥粒を用いてラッピングした。

次に、内外周の端面について幅０．１５ｍｍ、角度４５°の面取り部を設ける面取り加工を行った。面取り加工後、内外周の端面について、研磨材として酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用い、研磨具としてブラシを用いて、ブラシ研磨により鏡面加工を行った。研磨量は、半径方向の除去量で３０μｍであった。

鏡面加工後、研磨材として酸化セリウム砥粒（平均粒径：約２μｍ）を含むスラリーを用い、研磨具としてウレタンパッドを用いて、両面研磨装置により上下主表面の研磨加工を行った。研磨量は、上下主表面の厚さ方向で計３５μｍであった。

次に、研磨剤として酸化セリウム砥粒（平均粒径：約０．５μｍ）を含むスラリーを用い、研磨具としてスエードパッドを用いて両面研磨装置により上下主表面の研磨加工を行った。研磨量は、上下種表面の厚さ方向で計５μｍであった。

次に、研磨剤としてコロイダルシリカ（平均粒径：約３０ｎｍ）を含むスラリーを用い、研磨具としてスエードパッドを用いて両面研磨装置により上下主表面の研磨加工を行った。研磨量は、上下種表面の厚さ方向で計１μｍであった。その後、アルカリ洗剤による超音波洗浄、及び純水リンス後、ＩＰＡ乾燥を行った。

次に下記の２種類の洗浄方法にて洗浄を行った。

（例２３）
純水で軽く浸漬したのちに、２８℃の７０質量％の硫酸水溶液に５分浸漬した後に、８０℃の７１．４質量％の硫酸と７．７質量％の過酸化水素を含む水溶液に１０分間浸漬した。その後、純水リンスを行い、エアー乾燥を行った。例２３は実施例である。

（例２４）
純水で軽く浸漬した後に、８０℃の７１．４質量％の硫酸と７．７質量％の過酸化水素を含む水溶液に１０分間浸漬した。その後、純水リンスを行い、エアー乾燥を行った。例２４は比較例である。

得られたガラス円板をＡＤＥ社製Ｏｐｔｉ−ｆｌａｔを用いて白色干渉法によりガラス円板両面の表面形状を観察したところ、例２３に関しては図２のような大きな面荒れは観察されなかったが、例２４においては図２に示すもよりも大きな面荒れが観測された。

例２３および例２４の結果から、仕上げ研磨工程の後に、洗浄工程（ｂ）および洗浄工程（ｃ）を行った場合においても、効果的にガラス面における面荒れの発生を抑制できることがわかった。

本発明を特定の態様を用いて詳細に説明したが、本発明の意図と範囲を離れることなく様々な変更および変形が可能であることは、当業者にとって明らかである。なお本出願は、２０１０年５月２０日付で出願された日本特許出願（特願２０１０−１１６５８９）および２０１０年６月８日付で出願された日本特許出願（特願２０１０−１３０９９４）に基づいており、その全体が引用により援用される。

本発明の方法は、磁気ディスク用ガラス基板または磁気ディスクの製造に利用できる。

Claims (13)

1. ガラス円板をラッピングするラッピング工程と、その後に、酸化セリウム砥粒を用いて研磨する酸化セリウム研磨工程とを含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
   酸化セリウム研磨工程に引き続いて、
   ガラス円板を乾燥する乾燥工程（ａ）または
   硫酸および硝酸からなる群から選ばれる１種以上の無機酸の濃度が５５質量％以上、温度が３０℃以下である第１の洗浄液を用いてガラス円板を洗浄する洗浄工程（ｂ）の後に、
   硫酸の濃度が５５〜８０質量％、過酸化水素の濃度が１〜１０質量％、温度が７０℃以上である第２の洗浄液を用いてガラス円板を洗浄する洗浄工程（ｃ）を有する情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
2. 前記乾燥工程（ａ）において、スピン乾燥またはイソプロピルアルコール蒸気乾燥によってガラス円板を乾燥する請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
3. 前記洗浄工程（ｂ）において、前記無機酸が硫酸である請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
4. 第１の洗浄液の硫酸の濃度が９８質量％以下である請求項１または３に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
5. 前記洗浄工程（ｂ）において、前記無機酸が硝酸である請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
6. 第１の洗浄液の硝酸の濃度が７０質量％以下である請求項１または５に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
7. 前記洗浄工程（ｂ）において、第１の洗浄液にガラス円板を浸漬してガラス円板を洗浄する請求項１、３〜６のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
8. 前記洗浄工程（ｃ）において、第２の洗浄液にガラス円板を浸漬してガラス円板を洗浄する請求項１〜７のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
9. 前記洗浄工程（ｃ）の後に、ガラス円板の主表面を、コロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いて研磨する仕上げ研磨工程を有する請求項１〜８のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
10. 前記コロイダルシリカ砥粒の平均粒径が１０〜５０ｎｍである請求項９に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
11. 前記仕上げ研磨工程が、ｐＨが１〜６であるコロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いてガラス円板の主表面を研磨するものである請求項９または１０に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
12. 情報記録媒体が磁気ディスクである請求項１〜１１のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
13. 請求項１２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって磁気ディスク用ガラス基板を製造し、当該磁気ディスク用ガラス基板の主表面に磁気記録層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。

Images