JPWO2011118544A1 - 無線モジュール及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
無線信号接続部が低挿入損失、かつ高信頼性である無線モジュールを提供する。無線モジュールは、第1の配線基板1と、第1の配線基板1の第1の面1aに対向して配置された第2の配線基板2を有する。さらに、第2の配線基板2には、内壁に導電体が形成された貫通穴3が設けられている。そして、第1の面1a、または、第1の面に対向する第2の配線基板2の第2の面2aの少なくとも一方に、貫通穴3に対応する位置に導電体からなる中空の柱4が設けられている。ここで、導電体3からなる中空の柱4の軸方向の高さは、第1の面1aと第2の面2aとの隙間より低い。また、導電体からなる中空の柱4の一方の端面は、固定されておらず、柱の中空部を無線信号が通過する。
Description
本発明は、無線モジュール及びその製造方法に関する。
近年、工程短縮あるいはコスト削減の観点から、高周波パッケージをマザーボードに実装して機器を組み立てる試みが行われている。特許第3969321号公報(特許文献1)では、高周波パッケージをリードレス化している。特許文献1の高周波パッケージの構成では、半導体は、金属ワイヤを介して多層誘電体基板の線路と電気接続され、気密用金属枠体がかぶせられている。その高周波パッケージが、はんだバンプにより樹脂基板に接続している。高周波パッケージの高周波信号は、多層誘電体基板から、はんだバンプ間の空間及び樹脂基板を介して、樹脂基板の下部に設けられた導波管回路の導波管に入出力される。その後、高周波パッケージの高周波信号は、導波管を介してアンテナに接続されている。また、その他の信号、接地、およびバイアス端子は、はんだバンプを介して樹脂基板に接続されている。この構造の利点は、リード接続に比べて接続工程のスループットが高いことである。加えて、導波管の位置あわせも、はんだバンプのセルフアライメントによって行われるため、組立コストを低くできることにある。
また、特開2002−164465号公報(特許文献2)では、高周波部品が搭載された誘電体基板のうち、高周波部品が搭載された面とは反対の面に、導波管用パッドが設けられている。この誘電体基板の導波管用パッドと誘電体ボードの導波管に設けた導波管用パッドがロウ材により接続されている。
特許第3969321号公報
特開2002−164465号公報
また、特開2002−164465号公報(特許文献2)では、高周波部品が搭載された誘電体基板のうち、高周波部品が搭載された面とは反対の面に、導波管用パッドが設けられている。この誘電体基板の導波管用パッドと誘電体ボードの導波管に設けた導波管用パッドがロウ材により接続されている。
特許文献1では、はんだバンプの配置を適切にすることによって、高周波パッケージ多層誘電体基板と樹脂基板との接続部(すなわち、はんだバンプの間)を通過する高周波の無線信号の挿入損失を低減していた。
しかし、多層誘電体基板と樹脂基板の間隙(はんだ厚み分の間隙)に高周波の無線信号が広がるため、損失が大きくなるという課題があった。また、特許文献2のロウ材を用いて、誘電体基板の導波管用パッドと誘電体ボードの導波管パッドを接続する構造では、高周波の無線信号の挿入損失が小さい。しかし、ロウ付けした高周波信号接続部には、誘電体基板や誘電体ボードと、ロウ材との間の熱膨張率の差から応力が生じるために信頼性が低いという課題があった。
本発明の目的は、上述した課題を解決し、無線信号接続部の挿入損失が小さく信頼性が高い、無線モジュール及びその製造方法を提供する事にある。
しかし、多層誘電体基板と樹脂基板の間隙(はんだ厚み分の間隙)に高周波の無線信号が広がるため、損失が大きくなるという課題があった。また、特許文献2のロウ材を用いて、誘電体基板の導波管用パッドと誘電体ボードの導波管パッドを接続する構造では、高周波の無線信号の挿入損失が小さい。しかし、ロウ付けした高周波信号接続部には、誘電体基板や誘電体ボードと、ロウ材との間の熱膨張率の差から応力が生じるために信頼性が低いという課題があった。
本発明の目的は、上述した課題を解決し、無線信号接続部の挿入損失が小さく信頼性が高い、無線モジュール及びその製造方法を提供する事にある。
本発明の無線モジュールは、第1の配線基板と、前記第1の配線基板の第1の面に対向して配置された第2の配線基板と、前記第2の配線基板に設けられ、内壁に導電体が形成された貫通穴と、前記第1の面、又は、前記第1の面に対向する前記第2の配線基板の第2の面の少なくとも一方の上に、前記貫通穴に対応する位置に設けられ、導電体からなる中空の柱と、を備え、前記柱の軸方向の高さは、前記第1の面と前記第2の面との隙間よりも低く、前記柱の一方の端面が固定されておらず、前記柱の中空部を無線信号が通過する。
本発明の無線モジュールの製造方法は、第1の配線基板の第1の面、又は、前記第1の面に対向する前記第2の配線基板の第2の面の少なくとも一方に、導電体からなる中空の柱を形成する工程と、前記第2の配線基板に貫通穴を形成し、前記貫通穴の内壁に導電体を形成する工程と、を備える。
本発明の無線モジュールの製造方法は、第1の配線基板の第1の面、又は、前記第1の面に対向する前記第2の配線基板の第2の面の少なくとも一方に、導電体からなる中空の柱を形成する工程と、前記第2の配線基板に貫通穴を形成し、前記貫通穴の内壁に導電体を形成する工程と、を備える。
本発明によれば、無線信号接続部の挿入損失を小さくでき、信頼性を高くすることができる。
[第1の実施の形態]
本発明の第1の実施の形態である、無線モジュールについて説明する。図1〜3に本発明の第1の実施の形態を示す無線モジュールの断面図を示す。図1に示す無線モジュールは、第1の配線基板1と、第1の配線基板1の第1の面1aに対向して配置された第2の配線基板2を有する。更に、第2の配線基板2には、内壁に導電体が形成されている貫通穴3が、設けられている。そして、導電体からなる中空の柱4が、第1の配線基板1の第1の面1a又は第2の配線基板2の第2の面2a(第2の面2aは第1の面に対向する)のうち、少なくとも一方の面上であって、貫通穴3に対応する位置に、設けられている。ここで、導電体からなる中空の柱4の軸方向の高さは、第1の面1aと第2の面2aとの隙間よりも低い。また、導電体からなる中空の柱4の一方の端面は固定されておらず、無線信号が柱の中空部を通過する。
以下では、「導電体からなる中空の柱4」を省略して、「中空の柱4」と記載する。しかし、「中空の柱4」が導電体からなることに変わりはない。また、「内壁に導電体が形成された貫通穴3」を省略して「貫通穴3」と記載する。しかし、「貫通穴3」の内壁に導電体が形成されていることに変わりはない。
図1では、中空の柱4が、第1の配線基板1の第1の面1aに設けられている。図2では、中空の柱4が、第2の配線基板2の第2の面2aに設けられている。図3では、中空の柱4が、第1の配線基板1および第2の配線基板2に設けられている。図3の場合は、両方の中空の柱4の高さを足した高さは、第1の面1aと第2の面2aとの隙間よりも低い。第1の配線基板1と第2の配線基板2は、図示していない固定部により、固定されている。固定部と配線基板は電気的に接続されていても、接続されていなくても良い。
図4〜6は、中空の柱4が第1の面1aに設けられている場合の、第1の面1aの平面図を示す。図4〜6のように、中空の柱4の開口の形状やサイズは、限定されない。例えば図4に示すような方形、図5、図6に示す楕円形や円形が、好適に用いられる。図7では、中空の柱4が第2の配線基板2の第2の面2aに設けられている場合の、第2の面2aの平面図を示す。図7では、中空の柱4が方形である場合を示している。図4〜7では送信1チャンネル、受信3チャンネルとなっているが、それぞれのチャネル数は限定されるものではない。
第1の配線基板1に実装された電子部品(図示せず)から出力される高周波信号は、中空の柱4の中空部を通り、第2の配線基板2の貫通穴3に出力され、その後、図示していない外部へアンテナ出力される。逆に、図示していない外部から貫通穴3にアンテナ入力される高周波信号は、中空の柱4の中空部を通り、第1の配線基板1に入力される。
なお、高周波信号を入出力する電子部品は、第1の配線基板1上に設けられていてもよく、第1の配線基板1内部に設けられても良い。電子部品から入出力される高周波信号が中空の柱4を通過する位置に、電子部品が実装されていれば良い。
図1のように、中空の柱4が第1の配線基板1に設けられている場合、第1の配線基板1に実装された電子部品(図示せず)から出力される高周波信号は、中空の柱4の中空部を伝播する。したがって、高周波信号の断面積は、中空の柱4の中空部より大きくはならない。そして、中空の柱4の第2の配線基板2側の端部と、貫通穴3との間隙部分で、高周波信号の断面積は広がる。しかし、その間隙が狭いため、その広がりはわずかである。従って、中空の柱4から出力された高周波信号のうち、多くの割合の高周波信号が貫通穴3と結合する。つまり、損失が低くなるという効果が得られる。
また、外部から貫通穴3に入力する高周波信号は、第2の配線基板2の第2の面2aから中空の柱4へ向けて出力する際に、高周波信号の断面積が広がる。しかし、貫通穴3と中空の柱4が狭い間隔で設けられているため、その広がりはわずかである。従って、貫通穴3から出力された高周波信号のうち、多くの割合の高周波信号が中空の柱4と結合する。つまり、損失が低くなるという効果が得られる。
また、図1に示す中空の柱4は、第1の配線基板1にのみ固定され、第2の配線基板2には固定されていない。したがって、中空の柱4と第2の配線基板2との間に熱膨張率の差が生じても、中空の柱4と第2の配線基板2の間に応力は生じず、高い信頼性が得られる。一方、特許文献2の図3に示されている配線基板は、2つの基板がロウ付けにより固定されているため、誘電体基板や誘電体ボードと、ロウ材との熱膨張差による応力が、固定されている箇所に生じるため、信頼性が低くなる。
図2、図3の場合も、中空の柱4の一方の端面は固定されていない。従って、熱膨張率差が、中空の柱4と、中空の柱4に相対する配線基板との間に生じても、中空の柱4と、中空の柱4に相対する配線基板との間に、応力は生じないので、高信頼性が得られる。
以上、高周波信号の場合について説明したが、信号は高周波に限定されない。したがって、貫通穴3と中空の柱4の接続部には、任意の周波数の無線信号を通過させることができる。
本実施の形態の無線モジュールの製造方法について、図1の構造を用いて説明する。最初に、図8(A)に示すように、第1の配線基板1の第1の面1aに、中空の柱4を形成する。例えば、金属箔を第1の配線基板1に貼り付け、中空の柱4となる部分を残してエッチングする。または、導電性樹脂を中空の柱4の形状のマスクを介して塗布し、熱処理することにより中空の柱4が形成される。次に、図8(B)に示すように、第2の配線基板2を貫通するように穴を形成する。例えば、第1の配線基板1をドリル、レーザー加工により穴を開け、めっき、スパッタ、蒸着により導電体を穴に形成する。そして、図8(A)に示すように、中空の柱4を形成した第1の配線基板1と、貫通穴3を形成した第2の配線基板2とを、中空の柱4と貫通穴3の位置が対応するように配置し固定する。この際、中空の柱4と貫通穴3が所定の間隔になるように配置し固定する。
以上の製造方法によると、簡易な工程で、電気接続と、高周波信号接続できる無線モジュールを製造できる。
[第2の実施の形態]
本発明の第2の実施の形態では、図7に示すように、第2の配線基板2を第2の面2aにおおよそ垂直な方向(上方向)から見て、中空の柱の開口6が、貫通穴の開口5を包含する構成をとっている。ここでは、図2の中空の柱4が第2の配線基板2に設けられた構成を示したが、それ以外に、中空の柱4が図1又は図3のいずれの配置でもよい。
中空の柱の開口6が貫通穴の開口5を包含する構成であることにより、貫通穴3から出力された高周波信号のうち、ほぼ全ての割合の高周波信号が中空の柱4と結合する。つまり、損失が低くなるという効果が得られる。また中空の柱4から出力された高周波信号についても、ほぼ全ての割合の高周波信号が貫通穴3と結合する。つまり、損失が低くなるという効果が得られる。
[第3の実施の形態]
本発明の第3の実施の形態について図9を用いて説明する。図9は、無線モジュールの断面図である。先に図1を用いて説明した部分については、説明を省略する。
無線モジュールは、図1の第1の面1a上に、第1の電極7を有し、第2の面2a上に、第1の電極2に対応した第2の電極8を有する。加えて、第1の電極7と第2の電極8は導電体9で接続されている。また、無線モジュールは、第1の配線基板1のうち、導電体9で電気接続されている面とは反対の面に、導波路10を備えている。また、半導体素子12が、導波路10上の接合材11を介して、第1の配線基板1に電気接続されている。導波路10のうち、半導体素子12と接続している端と反対側の端には、何も電気接続されていなくても良い。また、導波路10のうち、半導体素子12と接続している端と反対側の端には、ヴィアが接続されていても良い。また、アンテナ電極が、第1の配線基板1の第1の面1a上に、導波路10のうち、半導体素子12と接続している端と反対側の端の位置に対応するように、設けられていても良い。更に、蓋13が半導体素子12を覆うように設けられ、半導体素子12を封止している。図2、3の構成についても、上記導波路10、接合材11、半導体素子12、蓋13を設けることが可能である。
第1の配線基板1の第1の電極7と、第2の配線基板2の第2の電極8とを、導電体9により接続することにより、電源、バイアス信号等の複数の電気信号の接続が可能になる。また、第1の配線基板1と第2の配線基板2の間隔を一定に保って固定できる。
第1の配線基板1の導波路10の形態は、コプレーナ線路が適している。これにより、高周波信号伝搬損失が小さく、放熱性が良いという効果を得ることができる。
半導体素子12の接続方法には、フリップチップ接続やワイヤボンディングが用いられる。特に、ミリ波帯の信号を送受信する場合、フリップチップ接続とすることにより、接続部の伝送損失を小さくできる。
半導体素子12をフリップチップ接続する際の接合材11の材料は、限定されないが、金スタッドバンプや、はんだバンプが好適である。また、半導体素子12の種類、サイズや数、接合材11のサイズやピッチは限定されない。
半導体素子12の搭載面に蓋13を設け、封止することも可能である。封止することにより、EMI(Electromagnetic Interference:電磁干渉)やスプリアス(不要な目的外の電波)を抑制できる。
また、中空の柱4と貫通穴3を除いて、導電体9部にのみに、アンダーフィルを設けても良い。また、中空の柱4の一部が切断されていてもよい。
図9に示されるように、半導体素子12から出力される高周波信号は、接合材11を介して、導波路10を伝送する。また、この高周波信号の進行方向は、導波路10端部で、第1の配線基板1の第1の面1aの方向へ変換される。その後、高周波信号は、中空の柱4と貫通穴3を通り、図示していない外部に対してアンテナ出力される。外部から貫通穴3にアンテナ入力する高周波信号は、中空の柱4、導波路10、接合材11を通り、半導体素子12に入力される。
次に無線モジュールの製造方法について説明する。最初に図8(A)と同様に、第1の配線基板1に中空の柱4を形成する。更に、第1の電極7と導波路10を形成する。次に、図8(B)と同様に、第2の配線基板2を貫通する穴を形成する。貫通穴3の内壁には、銅、ニッケル、金等の導電体を形成する。更に、第2の電極8を形成する。第1の電極7、導波路10、第2の電極8は、金属箔等のエッチングや、めっきにより形成できる。
次に、半導体素子12を、接合材11により、第1の配線基板1の導波路10上に実装し、蓋13を第1の配線基板1に接合する。
次に、第1の配線基板1の第1の電極7に導電体9を形成する。例えば、導電体9がボールの場合、ボール供給装置により、第1の電極7の上にボールを供給する。導電体9が導電性樹脂の場合、マスクを介して導電性樹脂を塗布すればよい。次に、第1の配線基板1の第1の電極7と、第2の配線基板2の第2の電極8とを、導電体9により接続する。例えば、フリップチップマウンターを用いて、第1の配線基板1の導電体9と第2の配線基板2の第2の電極8の位置を合わせることができる。ただし、導電体9は第2の配線基板2の第2の電極8に形成しても良い。
図2の中空の柱4を第2の基板に形成する場合は、図8(B)に示した工程で、最初に中空の柱4を形成し、次に貫通穴3を形成すればよい。図3の中空の柱4を形成する場合も、同様の工程を用いることができる。
以上の製造方法によれば、簡易な工程で、電気接続と、高周波信号接続をすることができる無線モジュールを製造できる。
[第4の実施の形態]
本発明の第4の実施の形態では、中空の柱4に好適な材質について説明する。中空の柱4の材質は、第1の配線基板1の電極材質と同じであることが好ましい。第1の配線基板1がプリント配線基板の場合、電極が銅であるため、中空の柱4も銅が好適に用いられる。中空の柱4を第2の配線基板2に形成する場合も同様である。銅に金めっき等の表面処理を施して、中空の柱4としても良い。
中空の柱4を銅で形成する場合、電極を形成する工程で、電極と中空の柱4を一括形成できる。最初に、図10(A)で中空の柱4を形成する面に、目的の中空の柱4の厚みの銅箔15を積層する。この銅箔15の厚みは、通常、電極を形成する場合よりも厚みが大きい。
次に、図10(B)で、銅箔15の不要部分をエッチングすることにより、容易に中空の柱4を形成することができる。また、中空の柱4を形成する工程で、中空の柱4にマスクをかぶせる等によって、これを保護することができ、電極部のみエッチング量を増やすことができる。この工程により、電極を所定の薄さにできるため、中空の柱4と第1の電極7を同一工程で形成できる。
銅の中空の柱4を第2の配線基板2に形成する場合も、第1の配線基板1と同じ製造方法をとることができる。
また、中空の柱4を導電性樹脂で形成することも好適である。導電性樹脂ペーストを、マスクを介して、印刷、硬化させることにより、簡単なプロセスで中空の柱4を形成できる。更に、中空の柱4は、接合や接着によって形成できる。
[第5の実施の形態]
本発明の第5の実施の形態では、第1の配線基板1が、有機配線基板である場合と、導電体9が、はんだである場合について説明する。
第1の配線基板1には、有機配線基板が好ましい。その中で、高周波での誘電損失が小さい材料であるポリフェニレンエーテル(PPE:Polyphenylene ether)を主成分としたプリント基板、液晶ポリマー(LCP:Liquid Crystal Polymer)基板が望ましい。また、低温同時焼成セラミック(LTCC:Low Temperature Co−fired Ceramics)基板も用いられる。
中空の柱4により、高周波信号を低損失で接続できるため、第1の配線基板1に有機配線基板を用いることができ、必ずしも低損失のセラミック基板を用いる必要がない。更に、第1の配線基板1と第2の配線基板2の両方が、プリント基板等の有機配線基板である場合、第1の配線基板1と第2の配線基板2の熱膨張係数は、ほぼ同一である。したがって、導電体8に生じる応力が小さいため、信頼性が高い。加えて、有機配線基板の低コスト化という効果も得られる。
導電体9には、はんだ14が好ましく、Sn−Ag−Cu系の合金からなる鉛フリーはんだが好適に用いられる。
中空の柱4を有する構成により、高周波信号を低損失で接続しつつ、はんだ14を大きくして、はんだ14接続部の信頼性が高くできるという効果が得られる。一方、特許文献2の図1に示された高周波送受信モジュールでは、はんだ接続部の信頼性を高くするため、はんだを大きくすると、2つの基板の間の隙間が大きくなる。この隙間が大きくなると高周波信号の損失が大きくなるという問題が生じる。逆に、高周波信号の損失を小さくするために、はんだの大きさを小さくすると、はんだ接続部の信頼性が低くなるという問題が生じる。
本発明の第1の実施の形態である、無線モジュールについて説明する。図1〜3に本発明の第1の実施の形態を示す無線モジュールの断面図を示す。図1に示す無線モジュールは、第1の配線基板1と、第1の配線基板1の第1の面1aに対向して配置された第2の配線基板2を有する。更に、第2の配線基板2には、内壁に導電体が形成されている貫通穴3が、設けられている。そして、導電体からなる中空の柱4が、第1の配線基板1の第1の面1a又は第2の配線基板2の第2の面2a(第2の面2aは第1の面に対向する)のうち、少なくとも一方の面上であって、貫通穴3に対応する位置に、設けられている。ここで、導電体からなる中空の柱4の軸方向の高さは、第1の面1aと第2の面2aとの隙間よりも低い。また、導電体からなる中空の柱4の一方の端面は固定されておらず、無線信号が柱の中空部を通過する。
以下では、「導電体からなる中空の柱4」を省略して、「中空の柱4」と記載する。しかし、「中空の柱4」が導電体からなることに変わりはない。また、「内壁に導電体が形成された貫通穴3」を省略して「貫通穴3」と記載する。しかし、「貫通穴3」の内壁に導電体が形成されていることに変わりはない。
図1では、中空の柱4が、第1の配線基板1の第1の面1aに設けられている。図2では、中空の柱4が、第2の配線基板2の第2の面2aに設けられている。図3では、中空の柱4が、第1の配線基板1および第2の配線基板2に設けられている。図3の場合は、両方の中空の柱4の高さを足した高さは、第1の面1aと第2の面2aとの隙間よりも低い。第1の配線基板1と第2の配線基板2は、図示していない固定部により、固定されている。固定部と配線基板は電気的に接続されていても、接続されていなくても良い。
図4〜6は、中空の柱4が第1の面1aに設けられている場合の、第1の面1aの平面図を示す。図4〜6のように、中空の柱4の開口の形状やサイズは、限定されない。例えば図4に示すような方形、図5、図6に示す楕円形や円形が、好適に用いられる。図7では、中空の柱4が第2の配線基板2の第2の面2aに設けられている場合の、第2の面2aの平面図を示す。図7では、中空の柱4が方形である場合を示している。図4〜7では送信1チャンネル、受信3チャンネルとなっているが、それぞれのチャネル数は限定されるものではない。
第1の配線基板1に実装された電子部品(図示せず)から出力される高周波信号は、中空の柱4の中空部を通り、第2の配線基板2の貫通穴3に出力され、その後、図示していない外部へアンテナ出力される。逆に、図示していない外部から貫通穴3にアンテナ入力される高周波信号は、中空の柱4の中空部を通り、第1の配線基板1に入力される。
なお、高周波信号を入出力する電子部品は、第1の配線基板1上に設けられていてもよく、第1の配線基板1内部に設けられても良い。電子部品から入出力される高周波信号が中空の柱4を通過する位置に、電子部品が実装されていれば良い。
図1のように、中空の柱4が第1の配線基板1に設けられている場合、第1の配線基板1に実装された電子部品(図示せず)から出力される高周波信号は、中空の柱4の中空部を伝播する。したがって、高周波信号の断面積は、中空の柱4の中空部より大きくはならない。そして、中空の柱4の第2の配線基板2側の端部と、貫通穴3との間隙部分で、高周波信号の断面積は広がる。しかし、その間隙が狭いため、その広がりはわずかである。従って、中空の柱4から出力された高周波信号のうち、多くの割合の高周波信号が貫通穴3と結合する。つまり、損失が低くなるという効果が得られる。
また、外部から貫通穴3に入力する高周波信号は、第2の配線基板2の第2の面2aから中空の柱4へ向けて出力する際に、高周波信号の断面積が広がる。しかし、貫通穴3と中空の柱4が狭い間隔で設けられているため、その広がりはわずかである。従って、貫通穴3から出力された高周波信号のうち、多くの割合の高周波信号が中空の柱4と結合する。つまり、損失が低くなるという効果が得られる。
また、図1に示す中空の柱4は、第1の配線基板1にのみ固定され、第2の配線基板2には固定されていない。したがって、中空の柱4と第2の配線基板2との間に熱膨張率の差が生じても、中空の柱4と第2の配線基板2の間に応力は生じず、高い信頼性が得られる。一方、特許文献2の図3に示されている配線基板は、2つの基板がロウ付けにより固定されているため、誘電体基板や誘電体ボードと、ロウ材との熱膨張差による応力が、固定されている箇所に生じるため、信頼性が低くなる。
図2、図3の場合も、中空の柱4の一方の端面は固定されていない。従って、熱膨張率差が、中空の柱4と、中空の柱4に相対する配線基板との間に生じても、中空の柱4と、中空の柱4に相対する配線基板との間に、応力は生じないので、高信頼性が得られる。
以上、高周波信号の場合について説明したが、信号は高周波に限定されない。したがって、貫通穴3と中空の柱4の接続部には、任意の周波数の無線信号を通過させることができる。
本実施の形態の無線モジュールの製造方法について、図1の構造を用いて説明する。最初に、図8(A)に示すように、第1の配線基板1の第1の面1aに、中空の柱4を形成する。例えば、金属箔を第1の配線基板1に貼り付け、中空の柱4となる部分を残してエッチングする。または、導電性樹脂を中空の柱4の形状のマスクを介して塗布し、熱処理することにより中空の柱4が形成される。次に、図8(B)に示すように、第2の配線基板2を貫通するように穴を形成する。例えば、第1の配線基板1をドリル、レーザー加工により穴を開け、めっき、スパッタ、蒸着により導電体を穴に形成する。そして、図8(A)に示すように、中空の柱4を形成した第1の配線基板1と、貫通穴3を形成した第2の配線基板2とを、中空の柱4と貫通穴3の位置が対応するように配置し固定する。この際、中空の柱4と貫通穴3が所定の間隔になるように配置し固定する。
以上の製造方法によると、簡易な工程で、電気接続と、高周波信号接続できる無線モジュールを製造できる。
[第2の実施の形態]
本発明の第2の実施の形態では、図7に示すように、第2の配線基板2を第2の面2aにおおよそ垂直な方向(上方向)から見て、中空の柱の開口6が、貫通穴の開口5を包含する構成をとっている。ここでは、図2の中空の柱4が第2の配線基板2に設けられた構成を示したが、それ以外に、中空の柱4が図1又は図3のいずれの配置でもよい。
中空の柱の開口6が貫通穴の開口5を包含する構成であることにより、貫通穴3から出力された高周波信号のうち、ほぼ全ての割合の高周波信号が中空の柱4と結合する。つまり、損失が低くなるという効果が得られる。また中空の柱4から出力された高周波信号についても、ほぼ全ての割合の高周波信号が貫通穴3と結合する。つまり、損失が低くなるという効果が得られる。
[第3の実施の形態]
本発明の第3の実施の形態について図9を用いて説明する。図9は、無線モジュールの断面図である。先に図1を用いて説明した部分については、説明を省略する。
無線モジュールは、図1の第1の面1a上に、第1の電極7を有し、第2の面2a上に、第1の電極2に対応した第2の電極8を有する。加えて、第1の電極7と第2の電極8は導電体9で接続されている。また、無線モジュールは、第1の配線基板1のうち、導電体9で電気接続されている面とは反対の面に、導波路10を備えている。また、半導体素子12が、導波路10上の接合材11を介して、第1の配線基板1に電気接続されている。導波路10のうち、半導体素子12と接続している端と反対側の端には、何も電気接続されていなくても良い。また、導波路10のうち、半導体素子12と接続している端と反対側の端には、ヴィアが接続されていても良い。また、アンテナ電極が、第1の配線基板1の第1の面1a上に、導波路10のうち、半導体素子12と接続している端と反対側の端の位置に対応するように、設けられていても良い。更に、蓋13が半導体素子12を覆うように設けられ、半導体素子12を封止している。図2、3の構成についても、上記導波路10、接合材11、半導体素子12、蓋13を設けることが可能である。
第1の配線基板1の第1の電極7と、第2の配線基板2の第2の電極8とを、導電体9により接続することにより、電源、バイアス信号等の複数の電気信号の接続が可能になる。また、第1の配線基板1と第2の配線基板2の間隔を一定に保って固定できる。
第1の配線基板1の導波路10の形態は、コプレーナ線路が適している。これにより、高周波信号伝搬損失が小さく、放熱性が良いという効果を得ることができる。
半導体素子12の接続方法には、フリップチップ接続やワイヤボンディングが用いられる。特に、ミリ波帯の信号を送受信する場合、フリップチップ接続とすることにより、接続部の伝送損失を小さくできる。
半導体素子12をフリップチップ接続する際の接合材11の材料は、限定されないが、金スタッドバンプや、はんだバンプが好適である。また、半導体素子12の種類、サイズや数、接合材11のサイズやピッチは限定されない。
半導体素子12の搭載面に蓋13を設け、封止することも可能である。封止することにより、EMI(Electromagnetic Interference:電磁干渉)やスプリアス(不要な目的外の電波)を抑制できる。
また、中空の柱4と貫通穴3を除いて、導電体9部にのみに、アンダーフィルを設けても良い。また、中空の柱4の一部が切断されていてもよい。
図9に示されるように、半導体素子12から出力される高周波信号は、接合材11を介して、導波路10を伝送する。また、この高周波信号の進行方向は、導波路10端部で、第1の配線基板1の第1の面1aの方向へ変換される。その後、高周波信号は、中空の柱4と貫通穴3を通り、図示していない外部に対してアンテナ出力される。外部から貫通穴3にアンテナ入力する高周波信号は、中空の柱4、導波路10、接合材11を通り、半導体素子12に入力される。
次に無線モジュールの製造方法について説明する。最初に図8(A)と同様に、第1の配線基板1に中空の柱4を形成する。更に、第1の電極7と導波路10を形成する。次に、図8(B)と同様に、第2の配線基板2を貫通する穴を形成する。貫通穴3の内壁には、銅、ニッケル、金等の導電体を形成する。更に、第2の電極8を形成する。第1の電極7、導波路10、第2の電極8は、金属箔等のエッチングや、めっきにより形成できる。
次に、半導体素子12を、接合材11により、第1の配線基板1の導波路10上に実装し、蓋13を第1の配線基板1に接合する。
次に、第1の配線基板1の第1の電極7に導電体9を形成する。例えば、導電体9がボールの場合、ボール供給装置により、第1の電極7の上にボールを供給する。導電体9が導電性樹脂の場合、マスクを介して導電性樹脂を塗布すればよい。次に、第1の配線基板1の第1の電極7と、第2の配線基板2の第2の電極8とを、導電体9により接続する。例えば、フリップチップマウンターを用いて、第1の配線基板1の導電体9と第2の配線基板2の第2の電極8の位置を合わせることができる。ただし、導電体9は第2の配線基板2の第2の電極8に形成しても良い。
図2の中空の柱4を第2の基板に形成する場合は、図8(B)に示した工程で、最初に中空の柱4を形成し、次に貫通穴3を形成すればよい。図3の中空の柱4を形成する場合も、同様の工程を用いることができる。
以上の製造方法によれば、簡易な工程で、電気接続と、高周波信号接続をすることができる無線モジュールを製造できる。
[第4の実施の形態]
本発明の第4の実施の形態では、中空の柱4に好適な材質について説明する。中空の柱4の材質は、第1の配線基板1の電極材質と同じであることが好ましい。第1の配線基板1がプリント配線基板の場合、電極が銅であるため、中空の柱4も銅が好適に用いられる。中空の柱4を第2の配線基板2に形成する場合も同様である。銅に金めっき等の表面処理を施して、中空の柱4としても良い。
中空の柱4を銅で形成する場合、電極を形成する工程で、電極と中空の柱4を一括形成できる。最初に、図10(A)で中空の柱4を形成する面に、目的の中空の柱4の厚みの銅箔15を積層する。この銅箔15の厚みは、通常、電極を形成する場合よりも厚みが大きい。
次に、図10(B)で、銅箔15の不要部分をエッチングすることにより、容易に中空の柱4を形成することができる。また、中空の柱4を形成する工程で、中空の柱4にマスクをかぶせる等によって、これを保護することができ、電極部のみエッチング量を増やすことができる。この工程により、電極を所定の薄さにできるため、中空の柱4と第1の電極7を同一工程で形成できる。
銅の中空の柱4を第2の配線基板2に形成する場合も、第1の配線基板1と同じ製造方法をとることができる。
また、中空の柱4を導電性樹脂で形成することも好適である。導電性樹脂ペーストを、マスクを介して、印刷、硬化させることにより、簡単なプロセスで中空の柱4を形成できる。更に、中空の柱4は、接合や接着によって形成できる。
[第5の実施の形態]
本発明の第5の実施の形態では、第1の配線基板1が、有機配線基板である場合と、導電体9が、はんだである場合について説明する。
第1の配線基板1には、有機配線基板が好ましい。その中で、高周波での誘電損失が小さい材料であるポリフェニレンエーテル(PPE:Polyphenylene ether)を主成分としたプリント基板、液晶ポリマー(LCP:Liquid Crystal Polymer)基板が望ましい。また、低温同時焼成セラミック(LTCC:Low Temperature Co−fired Ceramics)基板も用いられる。
中空の柱4により、高周波信号を低損失で接続できるため、第1の配線基板1に有機配線基板を用いることができ、必ずしも低損失のセラミック基板を用いる必要がない。更に、第1の配線基板1と第2の配線基板2の両方が、プリント基板等の有機配線基板である場合、第1の配線基板1と第2の配線基板2の熱膨張係数は、ほぼ同一である。したがって、導電体8に生じる応力が小さいため、信頼性が高い。加えて、有機配線基板の低コスト化という効果も得られる。
導電体9には、はんだ14が好ましく、Sn−Ag−Cu系の合金からなる鉛フリーはんだが好適に用いられる。
中空の柱4を有する構成により、高周波信号を低損失で接続しつつ、はんだ14を大きくして、はんだ14接続部の信頼性が高くできるという効果が得られる。一方、特許文献2の図1に示された高周波送受信モジュールでは、はんだ接続部の信頼性を高くするため、はんだを大きくすると、2つの基板の間の隙間が大きくなる。この隙間が大きくなると高周波信号の損失が大きくなるという問題が生じる。逆に、高周波信号の損失を小さくするために、はんだの大きさを小さくすると、はんだ接続部の信頼性が低くなるという問題が生じる。
第1の配線基板1と第2の配線基板2間の高周波信号の伝搬に関して、本発明の導電体からなる中空の柱4の有無の効果を確認する。このために、2つの導波管17同士を、はんだ14で接続し、片方の導波管17に中空の柱4として金属リング18を形成した場合の電磁界解析を行った。導波管17は、内壁に導電体が形成された貫通穴3の機能を果たす構造の一例として用いた。そのモデルを図11の平面図および図12の断面斜視図に示す。1つの金属16の外形サイズは12mm×12mm、厚み5mmである。貫通穴3のサイズは2.54mm×1.27mmである。金属リング18は内径が3.14mm×1.87mmであり、その幅は0.3mmである。また、金属リング18の高さは、0mm〜0.5mmを0.1mm間隔で解析して、結果を比較した。はんだ14は、直径0.5mm、高さ0.5mmの円柱状に、導波管17の各辺に対して1個ずつ設けた。また、はんだ14は、各辺から、はんだ14までの距離が0.8mmとなる位置に設けた。周波数については、ミリ波帯の65GHzから85GHzまでを解析し、図12に示す入力面19と出力面20間の挿入損失を計算した。この結果を図13のグラフに示す。
また、76GHzにおける挿入損失が、中空の柱4の高さに依存する性質を表1に示す。これらの結果から明らかなように中空の柱4がない(中空の柱4の高さ0mm)場合と比較して、中空の柱4を形成することにより、大幅に挿入損失を低下させることができることがわかる。また、中空の柱4の高さが大きいほどその効果が大きいことがわかる。高さ0.5mmでは中空の柱4を形成しない側の導波管17に接触してしまうが、中空の柱4高さの影響をみるために計算した。この結果から、はんだ高さになるべく近い中空の柱4の高さがより望ましいことが明らかとなった。
以上、本発明の好適実施形態について説明したが、単なる例示に過ぎず、何ら本発明を限定するものではない。本発明は、要旨を逸脱しない範囲において、種々の変形が可能である。
なお、以上の説明に関して更に以下の付記を開示する。
(付記1)
第1の配線基板の第1の面、又は、前記第1の面に対向する前記第2の配線基板の第2の面の少なくとも一方に導電体からなる中空の柱を形成する工程と、
前記第2の配線基板に貫通穴を形成し、前記貫通穴の内壁に導電体を形成する工程と、
を備え
前記柱を形成する工程は、銅箔を前記第1の配線基板の第1の面、又は前記第2の配線基板の第2の面の少なくとも一方の上に積層する工程と、前記銅箔をエッチングする工程とを含む、
ことを特徴とする無線モジュールの製造方法。
この出願は、2010年3月24日に出願された日本出願特願2010−068127を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。
また、76GHzにおける挿入損失が、中空の柱4の高さに依存する性質を表1に示す。これらの結果から明らかなように中空の柱4がない(中空の柱4の高さ0mm)場合と比較して、中空の柱4を形成することにより、大幅に挿入損失を低下させることができることがわかる。また、中空の柱4の高さが大きいほどその効果が大きいことがわかる。高さ0.5mmでは中空の柱4を形成しない側の導波管17に接触してしまうが、中空の柱4高さの影響をみるために計算した。この結果から、はんだ高さになるべく近い中空の柱4の高さがより望ましいことが明らかとなった。
なお、以上の説明に関して更に以下の付記を開示する。
(付記1)
第1の配線基板の第1の面、又は、前記第1の面に対向する前記第2の配線基板の第2の面の少なくとも一方に導電体からなる中空の柱を形成する工程と、
前記第2の配線基板に貫通穴を形成し、前記貫通穴の内壁に導電体を形成する工程と、
を備え
前記柱を形成する工程は、銅箔を前記第1の配線基板の第1の面、又は前記第2の配線基板の第2の面の少なくとも一方の上に積層する工程と、前記銅箔をエッチングする工程とを含む、
ことを特徴とする無線モジュールの製造方法。
この出願は、2010年3月24日に出願された日本出願特願2010−068127を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。
1 第1の配線基板
1a 第1の面
2 第2の配線基板
2a 第2の面
3 貫通穴
4 中空の柱
5 貫通穴の開口
6 中空の柱の開口
7 第1の電極
8 第2の電極
9 導電体
10 導波路
11 接合材
12 半導体素子
13 蓋
14 はんだ
15 銅箔
16 金属
17 導波管
18 金属リング
19 入力面
20 出力面
1a 第1の面
2 第2の配線基板
2a 第2の面
3 貫通穴
4 中空の柱
5 貫通穴の開口
6 中空の柱の開口
7 第1の電極
8 第2の電極
9 導電体
10 導波路
11 接合材
12 半導体素子
13 蓋
14 はんだ
15 銅箔
16 金属
17 導波管
18 金属リング
19 入力面
20 出力面
Claims (10)
- 第1の配線基板と、
前記第1の配線基板の第1の面に対向して配置された第2の配線基板と、
前記第2の配線基板に設けられ、内壁に導電体が形成された貫通穴と、
前記第1の面、又は、前記第1の面に対向する前記第2の配線基板の第2の面の少なくとも一方の上に、前記貫通穴に対応する位置に設けられ、導電体からなる中空の柱と、
を備え、
前記柱の軸方向の高さは、前記第1の面と前記第2の面との隙間よりも低く、
前記柱の一方の端面が固定されておらず、
前記柱の中空部を無線信号が通過する、
ことを特徴とする無線モジュール。 - 前記柱の開口が、前記第2の面に垂直な方向から見て、前記貫通穴の開口を包含すること
を特徴とする請求項1に記載の無線モジュール。 - 前記第1の面に設けられた第1の電極と、
前記第2の面に、前記第1の電極に対応して設けられた第2の電極と、
前記第1の電極と前記第2の電極を接続する導電体と、
を備えることを特徴とする請求項1または2に記載の無線モジュール。 - 前記第1の配線基板の第1の面の反対側の面に、コプレーナ線路が設けられていることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の無線モジュール。
- 前記第1の配線基板の第1の面の反対側の面に、半導体素子がフリップチップ接続されていることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の無線モジュール。
- 前記第1の配線基板の第1の面の反対側の面に、前記半導体素子を封止する蓋が設けられていることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の無線モジュール。
- 前記柱が銅からなることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の無線モジュール。
- 前記第1の配線基板が有機配線基板であることを特徴とする請求項1から7のいずれか1項に記載の無線モジュール。
- 前記第1の電極と前記第2の電極を接続する前記導電体が、はんだであることを特徴とする請求項1から8のいずれか1項に記載の無線モジュール。
- 第1の配線基板の第1の面、又は、前記第1の面に対向する前記第2の配線基板の第2の面の少なくとも一方に導電体からなる中空の柱を形成する工程と、
前記第2の配線基板に貫通穴を形成し、前記貫通穴の内壁に導電体を形成する工程と、
を備えることを特徴とする無線モジュールの製造方法。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002164465A (ja) * | 2000-11-28 | 2002-06-07 | Kyocera Corp | 配線基板、配線ボード、それらの実装構造、ならびにマルチチップモジュール |
JP2003078310A (ja) * | 2001-09-04 | 2003-03-14 | Murata Mfg Co Ltd | 高周波用線路変換器、部品、モジュールおよび通信装置 |
WO2009017203A1 (ja) * | 2007-08-02 | 2009-02-05 | Mitsubishi Electric Corporation | 導波管の接続構造 |
WO2010023827A1 (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-04 | 日本電気株式会社 | 導波管、導波管接続構造および導波管接続方法 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002164465A (ja) * | 2000-11-28 | 2002-06-07 | Kyocera Corp | 配線基板、配線ボード、それらの実装構造、ならびにマルチチップモジュール |
JP2003078310A (ja) * | 2001-09-04 | 2003-03-14 | Murata Mfg Co Ltd | 高周波用線路変換器、部品、モジュールおよび通信装置 |
WO2009017203A1 (ja) * | 2007-08-02 | 2009-02-05 | Mitsubishi Electric Corporation | 導波管の接続構造 |
WO2010023827A1 (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-04 | 日本電気株式会社 | 導波管、導波管接続構造および導波管接続方法 |
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