JPWO2011078295A1

JPWO2011078295A1 - ベンジル化合物

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Publication number: JPWO2011078295A1
Application number: JP2011547615A
Authority: JP
Inventors: 高橋　大輔; 大輔高橋
Original assignee: Ajinomoto Co Inc
Current assignee: Ajinomoto Co Inc
Priority date: 2009-12-25
Filing date: 2010-12-22
Publication date: 2013-05-09
Anticipated expiration: 2030-12-22
Also published as: US20140371424A1; US20110160433A1; WO2011078295A1; EP2518041A1; JP5803674B2; US9206230B2; EP2518041A4; US8859732B2

Abstract

ペプチド合成等の有機合成において、酸性条件下でも高収率で脱保護が出来、生成物を高純度で得ることができる保護化試薬を提供する点にある。脂肪族炭化水素基を有する総炭素数１４以上の有機基により置換された水酸基を１個のみ有する式（Ｉ）で表されるベンジル化合物を保護化試薬として使用することにより上記課題が解決できることを見出した。［式中、Ｙはヒドロキシル基または−ＮＨＲ（Ｒは水素原子、アルキル基、またはアラルキル基を示す）を示し；Ｒａは、脂肪族炭化水素基を有する有機基を示し、当該有機基中の総炭素数が１４以上であり；ｎ個のＲｂは、独立してそれぞれ、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子、または１個以上のハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜６のアルキル基を示し；かつｎは、０〜４の整数を示す。］

Description

本発明は、有機合成、特に、ペプチド合成等、においてアミノ酸またはペプチドのカルボキシル基またはＣ末端等の保護化試薬として使用可能な特定のベンジル化合物、および当該ベンジル化合物を用いるペプチド合成方法に関する。

ペプチド合成方法には、固相法と液相法の他に、近年、反応を均一な液相で行い、反応後に溶媒組成を変化させ単離・精製を濾過および洗浄だけで行える保護基（以下、アンカーともいう。）を用いた製造方法が提案されてきた。

特許文献１および非特許文献１には、それぞれ３，４，５−トリス（ｎ−オクタデシルオキシ）ベンジルアルコール型化合物をカルボキシル基等の保護化試薬とする手法が開示されている。しかしながら、該保護基の除去時のアルキル化抑制効果については一切の記載はなかった。

特許文献２〜４には、それぞれ３，５−ジ（ドコシルオキシ）ベンジルアルコール型化合物、２，４−ジ（ドコシルオキシ）ベンジルアルコール型化合物等の保護化試薬が開示されている。しかしながら、該保護基の除去時のアルキル化抑制効果については一切の記載はなかった。

特許文献４にはトリチル型の保護化試薬も開示されている。しかしながら、該保護基はメタノール中でさえも脱落してしまう副反応が発生するなど、アンカーとして必ずしも満足のいくものではなかった。

特開２０００−４４４９３号公報国際公開第２００６／１０４１６６号パンフレット国際公開第２００７／０３４８１２号パンフレット国際公開第２００７／１２２８４７号パンフレット

Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，７４，７３３−７３８（２００１）

本発明の課題は、有機合成反応を均一な液相で行い、反応後に溶媒組成を変化させ単離・精製を濾過および洗浄だけで行える保護基（アンカー）として使用し得、酸性条件でもアルキル化反応を抑制しつつ、高収率で脱保護が出来、高純度の生成物を得ることが出来る有用なベンジル化合物を提供することである。

本発明者は、炭素数１４以上の脂肪族炭化水素基を有する有機基により置換された水酸基を１個のみ有する特定のベンジル化合物により上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。本発明は以下の通りである。
［１］式（Ｉ）：

［式中、
Ｙは、ヒドロキシル基または−ＮＨＲ基（Ｒは水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。）を示し；
Ｒ^ａは、脂肪族炭化水素基を有する有機基を示し、当該有機基中の総炭素数が１４以上であり；
ｎ個のＲ^ｂは、独立してそれぞれ、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子、または１個以上のハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜６のアルキル基を示し；かつ
ｎは、０〜４の整数を示す。］
で表されるベンジル化合物。
［２］Ｒ^ａの脂肪族炭化水素基を有する有機基中の総炭素数が１４〜２００である、［１］記載のベンジル化合物。
［３］Ｒ^ａの脂肪族炭化水素基を有する有機基中の総炭素数が３０〜８０である、［１］記載のベンジル化合物。
［４］ｎが、０〜２の整数であり、かつ、
ｎ個のＲ^ｂが、独立してそれぞれ、炭素数１〜４のアルコキシ基である、
［１］〜［３］のいずれかに記載のベンジル化合物。
［５］Ｒ^ａが、式（ａ）：

［式中、
^＊は、結合位置を示し；
ｍ_１は、１〜１０の整数を示し；
ｍ_１個のＸ_１は、独立してそれぞれ、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−または−ＣＯＮＨ−を示し；
Ｒ_１およびｍ_１個のＲ_２は、独立してそれぞれ、炭素数５以上の２価の脂肪族炭化水素基を示し；かつ
Ｒ_３は、水素原子、または式（Ｉ’）：

（式中、^＊は、結合位置を示し；
他の記号は、［１］と同意義を示す。）で表される基である。］で表される基；
式（ｂ）：

（式中、
^＊は、結合位置を示し；
ｍ_２は、１または２を示し；
ｎ_１、ｎ_２、ｎ_３およびｎ_４は、独立してそれぞれ、０〜２の整数を示し；
ｍ_２個のＸ_２、ｍ_２個のＸ_２ ^’およびｍ_２個のＸ_２ ^’’は、それぞれ独立して、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−または−ＣＯＮＨ−を示し；
ｍ_２個のＲ_４およびｍ_２個のＲ_６は、独立してそれぞれ、水素原子、メチル基または炭素数５以上の脂肪族炭化水素基を示し；かつ
Ｒ_５は、炭素数５以上の脂肪族炭化水素基を示す。）で表される基；
式（ｃ）：

（式中、
^＊は、結合位置を示し；
ｍ_３は、０〜１５の整数を示し；
ｎ_５は、０〜１１の整数を示し；
ｎ_６は、０〜５の整数を示し；
ｍ_３個のＸ_３は、それぞれ独立して、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−または−ＣＯＮＨ−を示し；かつ
ｍ_３個のＲ_７は、独立してそれぞれ、水素原子、メチル基または炭素数５以上の脂肪族炭化水素基を示す。）で表される基；または
式（ｄ）：

（式中、
^＊は、結合位置を示し；
ｎ_７個のＸ_４は、独立してそれぞれ、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−または−ＣＯＮＨ−を示し；
Ｒ_８は、２価の脂肪族炭化水素基を示し；
ｎ_７個のＲ_９は、独立してそれぞれ、１価の脂肪族炭化水素基を示し；
ｎ_７は、１〜５の整数を示し；かつ
Ａｒは、アリーレン基を示す。）で表される基
である、［１］〜［４］のいずれかに記載のベンジル化合物。
［６］Ｒ^ａが、式（ａ）［式中、ｍ_１は、１であり；Ｘ_１は、単結合を示すか、または−Ｏ−であり；Ｒ_１およびＲ_２は、独立してそれぞれ、炭素数５〜８０の２価の脂肪族炭化水素基であり；かつＲ_３は、水素原子、または、式（Ｉ’’）：

（式中、^＊は、結合位置を示し；Ｙは［１］と同意義を示す。）若しくは式（Ｉ’’’）：

（式中、^＊は、結合位置を示し；Ｙは［１］と同意義を示す。）で表される基である。］で表される基；
式（ｂ）（式中、ｍ_２は、１であり；ｎ_１、ｎ_２、ｎ_３およびｎ_４は、それぞれ独立して、０または１であり；Ｘ_２、Ｘ_２ ^’およびＸ_２ ^’’は、それぞれ独立して、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−であり；Ｒ_４およびＲ_６は、独立してそれぞれ、水素原子、メチル基または炭素数５〜８０の脂肪族炭化水素基であり；かつＲ_５は、炭素数５〜８０の脂肪族炭化水素基である。）で表される基；
式（ｃ）（式中、ｍ_３は、１〜５の整数であり；ｎ_５は、０〜２の整数であり；
ｎ_６は、０〜３の整数であり；ｍ_３個のＸ_３は、いずれも−Ｏ−であり；かつ、ｍ_３個のＲ_７は、独立してそれぞれ、炭素数５〜８０の脂肪族炭化水素基である。）で表される基；または
式（ｄ）（式中、ｎ_７個のＸ_４は、いずれも−Ｏ−であり；Ｒ_８およびｎ_７個のＲ_９は、独立してそれぞれ、炭素数５〜８０の１価または２価の脂肪族炭化水素基であり；ｎ_７は、１〜３の整数であり；かつＡｒが、フェニレンである。）で表される基
である、［５］記載のベンジル化合物。
［７］Ｒ^ａが、式（ａ）（式中、ｍ_１は、１であり；Ｘ_１は、−Ｏ−であり；Ｒ_１およびＲ_２は、独立してそれぞれ、炭素数８〜６０のアルキレン基であり；かつＲ_３は、水素原子である。）で表される基；
式（ｂ）（式中、ｍ_２は、１であり；ｎ_１、ｎ_２、ｎ_３およびｎ_４は、いずれも１であり；Ｘ_２、Ｘ_２ ^’およびＸ_２ ^’’は、いずれも−Ｏ−であり；かつＲ_４、Ｒ_５およびＲ_６は、独立してそれぞれ、炭素数８〜６０のアルキル基である。）で表される基；
式（ｃ）（式中、ｍ_３は、２または３であり；ｎ_５は、１であり；ｎ_６は、２または３であり；ｍ_３個のＸ_３は、いずれも−Ｏ−であり；かつ、ｍ_３個のＲ_７は、独立してそれぞれ、炭素数８〜６０のアルキル基である。）で表される基；または
式（ｄ）（式中、ｎ_７個のＸ_４は、いずれも−Ｏ−であり；Ｒ_８は、炭素数１〜３のアルキレン基であり；ｎ_７個のＲ_９は、独立してそれぞれ、炭素数８〜６０のアルキル基であり；ｎ_７は、１〜３の整数であり；かつＡｒは、フェニレンである。）で表される基
である、［５］記載のベンジル化合物。
［８］Ｒ^ａが、式（ａ）（式中、ｍ_１は、１であり；Ｘ_１は、−Ｏ−であり；Ｒ_１およびＲ_２は、独立してそれぞれ、炭素数１４〜３０のアルキレン基であり；かつＲ_３は、水素原子である。）で表される基；
式（ｂ）（式中、ｍ_２は、１であり；ｎ_１、ｎ_２、ｎ_３およびｎ_４は、いずれも１であり；Ｘ_２、Ｘ_２ ^’およびＸ_２ ^’’は、いずれも−Ｏ−であり；かつＲ_４、Ｒ_５およびＲ_６は、独立してそれぞれ、炭素数１４〜３０のアルキル基である。）で表される基；
式（ｃ）（式中、ｍ_３は、２または３であり；ｎ_５は、１であり；ｎ_６は、３であり；ｍ_３個のＸ_３は、いずれも−Ｏ−であり；かつ、ｍ_３個のＲ_７は、独立してそれぞれ、炭素数１４〜３０のアルキル基である。）で表される基；または
式（ｄ）（式中、ｎ_７個のＸ_４は、いずれも−Ｏ−であり；Ｒ_８は、炭素数１〜３のアルキレン基であり；ｎ_７個のＲ_９は、独立してそれぞれ、炭素数１４〜３０のアルキル基であり；ｎ_７は、２または３であり；かつＡｒは、フェニレンである。）で表される基
である、［５］記載のベンジル化合物。
［９］基ＯＲ^ａがベンゼン環上の２位または４位に存在する、［１］〜［８］のいずれかに記載のベンジル化合物。
［１０］基Ｒ^ｂが、メトキシ基である、［１］〜［９］のいずれかに記載のベンジル化合物。
［１１］Ｙがヒドロキシル基である、［１］〜［１０］のいずれかに記載のベンジル化合物。
［１２］Ｙが−ＮＨＲ基（式中、Ｒは［１］記載と同意義である。）である、［１］〜［１０］のいずれかに記載のベンジル化合物。
［１３］４−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）ベンジルアルコール；
４−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）−２−メトキシベンジルアルコール；
４−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）−２−メトキシベンジルアミン；
２−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）−４−メトキシベンジルアルコール；
２−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）−４−メトキシベンジルアミン；
４−メトキシ−２−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ］ベンジルアルコール；
２−［３’，５’−ジ（ドコシルオキシ）ベンジルオキシ］−４−メトキシベンジルアルコール；
２−メトキシ−４−［２’，２’，２’−トリス（オクタデシルオキシメチル）エトキシ］ベンジルアルコール；
２−メトキシ−４−［２’，２’，２’−トリス（オクタデシルオキシメチル）エトキシ］ベンジルアミン；
４−メトキシ−２−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンジルアルコール；
４−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンジルアルコール；
１，２２−ビス［１２−（４−ヒドロキシメチル−３−メトキシフェノキシ）ドデシルオキシ］ドコサン；および
１，２２−ビス［１２−（２−ヒドロキシメチル−５−メトキシフェノキシ）ドデシルオキシ］ドコサン
からなる群から選択される、［１１］または［１２］のいずれかに記載のベンジル化合物。
［１４］２−ドコシルオキシ−４−メトキシベンジルアルコール；
２−メトキシ−４−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンジルアルコール；
３，５−ジメトキシ−４−[３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ]ベンジルアルコール；
Ｎ−（４−ヒドロキシメチル−３−メトキシフェニル）−３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルカルボキサミド；
Ｎ−（５−ヒドロキシメチル−２−メトキシフェニル）−３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルカルボキサミド；および
Ｎ−（４−ヒドロキシメチルフェニル）−３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルカルボキサミド
からなる群から選択される、［１１］または［１２］のいずれかに記載のベンジル化合物。
［１５］［１１］に記載のベンジル化合物からなるアミノ酸またはペプチドのカルボキシル基保護化試薬。
［１６］［１１］に記載のベンジル化合物からなるアミノ酸またはペプチドのＣ末端保護化試薬。
［１７］以下の工程を含む、液相合成法によるペプチドの製造方法；
（１）［１］〜［１４］のいずれかに記載のベンジル化合物を、アミノ酸またはペプチドに結合させる工程（結合工程）、および
（２）上記工程で得られた、アミノ酸またはペプチドとベンジル化合物との結合物を沈殿させる工程（沈殿工程）。
［１８］以下の工程を含む、液相合成法によるペプチドの製造方法；
（１）［１］〜［１４］のいずれかに記載のベンジル化合物を、Ｎ−保護アミノ酸またはＮ−保護ペプチドのＣ末端と縮合し、Ｃ−保護アミノ酸またはＣ−保護ペプチドを得る工程（Ｃ末端保護工程）、
（２）上記工程で得られたアミノ酸またはペプチドのＮ末端の保護基を除去する工程（Ｎ末端の脱保護工程）、
（３）上記工程で得られたアミノ酸またはペプチドのＮ末端に、Ｎ−保護アミノ酸またはＮ−保護ペプチドを縮合させる工程（ペプチド鎖伸長工程）、および
（４）上記工程で得られたペプチドを沈殿させる工程（沈殿工程）。
［１９］さらに以下の工程（５）〜（７）の繰り返しを１以上含む、［１８］記載のペプチドの製造方法；
（５）沈殿工程で得られたペプチドのＮ末端の保護基を除去する工程（Ｎ末端の脱保護工程）、
（６）上記工程で得られたペプチドのＮ末端に、Ｎ−保護アミノ酸またはＮ−保護ペプチドを縮合させる工程（ペプチド鎖伸長工程）、および
（７）上記工程で得られたペプチドを沈殿させる工程（沈殿工程）。
［２０］沈殿工程の後に、Ｃ−保護ペプチドのＣ末端保護基（アンカー）を除去する工程をさらに含む、［１８］または［１９］記載のペプチドの製造方法。
［２１］［１］〜［１４］のいずれかに記載のベンジル化合物を用いるペプチド化合物の製造方法。
［２２］［１］〜［１４］のいずれかに記載のベンジル化合物を用いる有機化合物の製造方法。
［２３］［１］〜［１４］のいずれかに記載のベンジル化合物によって保護されることを特徴とする、ベンジル化合物付加体。
［２４］下記式（ＩＩＩ）：

（式中、ｍ_３’は１〜３の整数を示し；ｍ_３’個のＲ_７’は、独立してそれぞれ、炭素数１４〜３０のアルキレン基を示し、かつＺ’は水酸基、または脱離基を示す。）で表される化合物。
［２５］式（ＩＩＩ）において、ｍ_３’が３であり、かつＺ’が水酸基、ハロゲン原子、１個以上のハロゲン原子で置換されていてもよいアルキルスルホニルオキシ基、または置換されていてもよいアリールスルホニルオキシ基である、［２４］記載の化合物。

本発明の特定のベンジル化合物をカルボキシル基等の保護化試薬として用いれば、ペプチド合成等の有機合成反応において、反応を均一な液相中で行うことが出来、また反応後に溶媒組成を変化させ単離・精製を濾過および洗浄だけで行え、さらに脱保護時に酸性条件下においてもアルキル化反応を抑制しつつ、高収率かつ高純度で生成物を得ることができる。

文中で特に断らない限り、本明細書で用いるすべての技術用語および科学用語は、本発明が属する技術分野の当業者に一般に理解されるのと同じ意味をもつ。本明細書に記載されたものと同様または同等の任意の方法および材料は、本発明の実施または試験において使用することができるが、好ましい方法および材料を以下に記載する。本明細書で言及したすべての刊行物および特許は、例えば、記載された発明に関連して使用されうる刊行物に記載されている、構築物および方法論を記載および開示する目的で、参照として本明細書に組み入れられる。

本発明は、特定のベンジル化合物(以下、本発明化合物と略称する)に関する。
〔本発明化合物〕
本発明化合物は、有機合成反応、好ましくはペプチド合成等、において、カルボキシル基等、すなわち、アミノ酸またはペプチドのＣ末端等、の保護基（アンカー）として導入される保護化試薬であり、目的に応じて適切な本発明化合物が選択され得る。

本発明化合物は、下記式（Ｉ）で表されるベンジル化合物である。

式（Ｉ）：

［式中、
Ｙは、ヒドロキシル基または−ＮＨＲ基（Ｒは水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。）を示し；
Ｒ^ａは、脂肪族炭化水素基を有する有機基を示し、当該有機基中の総炭素数が１４以上であり；
ｎ個のＲ^ｂは、独立してそれぞれＣ_１−６アルコキシ基、ハロゲン原子、または１個以上のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ_１−６アルキル基であり、Ｒ^ｂが複数存在する場合の各Ｒ^ｂはそれぞれ同一でも異なっていてもよく；かつ
ｎは、０〜４の整数である。］で表されるベンジル化合物。

本発明の式（Ｉ）で表される化合物は、Ｙ基を介して、保護化を意図する化合物と結合する。
すなわち、Ｙがヒドロキシル基、または−ＮＨＲ基である本発明化合物は、アミノ酸またはペプチドのＣ末端等と結合して保護化する。

本明細書中、Ｒで示される「アルキル基」としては、Ｃ_１−３０アルキル基が挙げられ、好ましくはＣ_１−１０アルキル基、より好ましくはＣ_１−６アルキル基である。好適な具体例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等が挙げられ、特にメチル、エチルが好ましい。

本明細書中、Ｒで示される「アラルキル基」としては、Ｃ_７−３０アラルキル基が挙げられ、好ましくはＣ_７−２０アラルキル基、より好ましくはＣ_７−１６アラルキル基（Ｃ_６−１０アリール−Ｃ_１−６アルキル基）である。好適な具体例としては、ベンジル、１−フェニルエチル、２−フェニルエチル、１−フェニルプロピル、ナフチルメチル、１−ナフチルエチル、１−ナフチルプロピル等が挙げられ、特にベンジルが好ましい。

Ｒとしては、水素原子、Ｃ_１−６アルキル基またはＣ_７−１６アラルキル基が好ましく、水素原子、メチル、エチルまたはベンジルがより好ましく、水素原子が特に好ましい。

本明細書中、Ｒ^ａとして示される「脂肪族炭化水素基を有する有機基」とは、その分子構造中に脂肪族炭化水素基を有する１価の有機基である。

「脂肪族炭化水素基を有する有機基」における「脂肪族炭化水素基」とは、直鎖または分岐鎖状の飽和または不飽和の脂肪族炭化水素基であり、炭素数５以上の脂肪族炭化水素基が好ましく、特に炭素数５〜６０の脂肪族炭化水素基が好ましく、炭素数５〜３０の脂肪族炭化水素基がより好ましく、炭素数１０〜３０の脂肪族炭化水素基がいっそう好ましい。
「脂肪族炭化水素基を有する有機基」における「脂肪族炭化水素基」の部位は、特に限定されず、末端に存在しても（１価基）、それ以外の部位に存在してもよい（例えば２価基）。

「脂肪族炭化水素基」としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基等の１価基およびそれらから誘導される２価基が挙げられ、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ラウリル基、トリデシル基、ミリスチル基、セチル基、ステアリル基、アラキル基、ベヘニル基、オレイル基、イソステアリル基等の１価基およびそれらから誘導される２価基が挙げられる。

「脂肪族炭化水素基を有する有機基」中の「脂肪族炭化水素基」以外の部位は任意に設定することができる。例えば、リンカーとして−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＨ−、および−ＣＯＮＨ−、並びに、炭化水素基（１価基または２価基）等の部位を有していてもよい。「炭化水素基」としては、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香脂肪族炭化水素基、単環式飽和炭化水素基および芳香族炭化水素基等が挙げられ、具体的には、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基等の１価基およびそれらから誘導される２価基が用いられる。「アルキル基」としては、例えば、Ｃ_１−６アルキル基等が好ましく、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル等が挙げられる。「アルケニル基」としては、例えば、Ｃ_２−６アルケニル基等が好ましく、例えば、ビニル、１−プロペニル、アリル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル等が挙げられる。「アルキニル基」としては、例えば、Ｃ_２−６アルキニル基等が好ましく、例えば、エチニル、プロパルギル、１−プロピニル等が挙げられる。「シクロアルキル基」としては、例えば、Ｃ_３−６シクロアルキル基等が好ましく、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルが挙げられる。「アリール基」は、例えば、Ｃ_６−１４アリール基等が好ましく、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、ビフェニリル、２−アンスリル等が挙げられる。中でもＣ_６−１０アリール基がより好ましく、フェニルが特に好ましい。「アラルキル基」としては、例えば、Ｃ_７−２０アラルキル基が好ましく、例えば、ベンジル、１−フェニルエチル、２−フェニルエチル、１−フェニルプロピル、ナフチルメチル、１−ナフチルエチル、１−ナフチルプロピル等が挙げられる。中でも、Ｃ_７−１６アラルキル基（Ｃ_６−１０アリール−Ｃ_１−６アルキル基）がより好ましく、ベンジルが特に好ましい。当該「炭化水素基」は、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨウ素原子）、１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよい炭素数１〜６のアルキル基、オキソ基等から選択される置換基で置換されていてもよい。

本発明化合物は、１個のＯＲ^ａ基を有する。ここで、ＯＲ^ａ基を構成する「脂肪族炭化水素基を有する有機基」は、分岐等によって複数の「脂肪族炭化水素基」が存在してもよい。「脂肪族炭化水素基を有する有機基」中に「脂肪族炭化水素基」が複数存在する場合には、その各々は同一のものであっても異なるものであってもよい。

ＯＲ^ａ基は、最終の脱アンカーが容易となる点から、本発明化合物のベンゼン環上の２位または４位に結合することが好ましいが、それらに限定されるわけではない。

本発明化合物においては、Ｒ^ａとして示される「脂肪族炭化水素基を有する有機基」における、炭素数合計の下限は１４以上が好ましく、１６以上がより好ましく、２０以上が更に好ましく、２４以上が更に一層好ましく、３０以上が殊更好ましい。一方、Ｒ^ａとして示される「脂肪族炭化水素基を有する有機基」における、炭素数合計の上限は、２００以下が好ましく、１５０以下がより好ましく、１２０以下が更に好ましく、１００以下が更に一層好ましく、８０以下が殊更好ましく、６０以下が特に好ましい。当該炭素数が大きいほど、ペプチド鎖が長鎖となった場合でも本発明化合物の極性有機溶媒における結晶性が良好となる。

Ｒ^ａとして示される「脂肪族炭化水素基を有する有機基」としては、例えば下記式（ａ）〜（ｄ）から選択されるいずれかの基が挙げられる。

式（ａ）：

［式（ａ）中、
^＊は結合位置を示し；
ｍ_１は、１〜１０の整数を示し；
ｍ_１個のＸ_１は、独立してそれぞれ、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−または−ＣＯＮＨ−を示し；
Ｒ_１およびｍ_１個のＲ_２は、独立してそれぞれ、炭素数５以上の２価の脂肪族炭化水素基を示し；かつ
Ｒ_３は、水素原子、または式（Ｉ’）：

（式中、^＊は結合位置を示し、他の記号は、前記と同義を示す。）を示す。］で表される基である。

Ｒ_１またはＲ_２で示される「炭素数５以上の脂肪族炭化水素基」としては、上記「脂肪族炭化水素基を有する有機基」における「脂肪族炭化水素基」のうち、炭素数が５以上のものが挙げられ、好ましくは炭素数５〜８０である。

式（ａ）において、
ｍ_１が、１であり；
Ｘ_１が、単結合を示すか、または−Ｏ−であり；
Ｒ_１およびＲ_２が、独立してそれぞれ、炭素数５〜８０の２価の脂肪族炭化水素基であり；かつ
Ｒ_３が、水素原子、または、式（Ｉ’’）：

（式中、^＊およびＹは前記と同義である。）若しくは式（Ｉ’’’）：

（式中、^＊およびＹは前記と同義である。）である、基が好ましく、中でも、
ｍ_１が、１であり；
Ｘ_１が、−Ｏ−であり；
Ｒ_１およびＲ_２が、独立してそれぞれ、炭素数８〜６０のアルキレン基であり；かつ
Ｒ_３が、水素原子である、基がより好ましい。

特に好適な式（ａ）の基は、
ｍ_１が、１であり；
Ｘ_１が、−Ｏ−であり；
Ｒ_１およびＲ_２が、独立してそれぞれ、炭素数１４〜３０のアルキレン基であり；かつ
Ｒ_３が、水素原子である、基である。

式（ｂ）：

（式（ｂ）中、
^＊は結合位置を示し；
ｍ_２は、１または２を示し；
ｎ_１、ｎ_２、ｎ_３およびｎ_４は、独立してそれぞれ、０〜２の整数を示し；
ｍ_２個のＸ_２、ｍ_２個のＸ_２ ^’およびｍ_２個のＸ_２ ^’’は、独立してそれぞれ、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−または−ＣＯＮＨ−を示し；
ｍ_２個のＲ_４およびｍ_２個のＲ_６は、独立してそれぞれ、水素原子、メチル基または炭素数５以上の脂肪族炭化水素基を示し；
Ｒ_５は、炭素数５以上の脂肪族炭化水素基を示す。）で表される基である。

Ｒ_４、Ｒ_５またはＲ_６で示される「炭素数５以上の脂肪族炭化水素基」としては、上記「脂肪族炭化水素基を有する有機基」における「脂肪族炭化水素基」のうち、炭素数が５以上のものが挙げられ、好ましくは炭素数５〜８０である。

式（ｂ）において、
ｍ_２が、１であり；
ｎ_１、ｎ_２、ｎ_３およびｎ_４が、独立してそれぞれ、０または１であり；
Ｘ_２、Ｘ_２’およびＸ_２’’が、独立してそれぞれ、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−であり；
Ｒ_４およびＲ_６が、独立してそれぞれ、水素原子、メチル基または炭素数５〜８０の脂肪族炭化水素基であり；かつ
Ｒ_５が、炭素数５〜８０の脂肪族炭化水素基である、基が好ましく、中でも、
ｍ_２が、１であり；
ｎ_１、ｎ_２、ｎ_３およびｎ_４が、いずれも１であり；
Ｘ_２、Ｘ_２’およびＸ_２’’が、いずれも−Ｏ−であり；
Ｒ_４、Ｒ_５、およびＲ_６が、独立してそれぞれ、炭素数８〜６０のアルキル基である、基がより好ましい。

特に好適な式（ｂ）の基は、
ｍ_２が、１であり；
ｎ_１、ｎ_２、ｎ_３およびｎ_４が、いずれも１であり；
Ｘ_２、Ｘ_２’およびＸ_２’’が、いずれも−Ｏ−であり；
Ｒ_４、Ｒ_５およびＲ_６が、独立してそれぞれ、炭素数１４〜３０のアルキル基である、基である。

式（ｃ）：

（式中、
^＊は結合位置を示し；
ｍ_３は、０〜１５の整数を示し；
ｎ_５は、０〜１１の整数を示し；
ｎ_６は、０〜５の整数を示し；
ｍ_３個のＸ_３は、独立してそれぞれ、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−または−ＣＯＮＨ−を示し；
ｍ_３個のＲ_７は、独立してそれぞれ、水素原子、メチル基または炭素数５以上の脂肪族炭化水素基を示す。）で表される基である。

Ｒ_７で示される「炭素数５以上の脂肪族炭化水素基」としては、上記「脂肪族炭化水素基を有する有機基」における「脂肪族炭化水素基」のうち、炭素数が５以上のものが挙げられ、好ましくは炭素数５〜８０である。

式（ｃ）において、
ｍ_３が、１〜５の整数であり；
ｎ_５が、０〜２の整数であり；
ｎ_６が、０〜３の整数であり；
ｍ_３個のＸ_３が、いずれも−Ｏ−であり；かつ
ｍ_３個のＲ_７が、独立してそれぞれ、炭素数５〜８０の脂肪族炭化水素基である、基が好ましく、中でも、
ｍ_３が、２または３であり；
ｎ_５が、１であり；
ｎ_６が、２または３であり；
ｍ_３個のＸ_３が、いずれも−Ｏ−であり；かつ
ｍ_３個のＲ_７が、独立してそれぞれ、炭素数８〜６０の脂肪族炭化水素基である、基がより好ましい。

特に好適な式（ｃ）の基は、
ｍ_３が、２または３であり；
ｎ_５が、１であり；
ｎ_６が、３であり；
ｍ_３個のＸ_３が、いずれも−Ｏ−であり；かつ
ｍ_３個のＲ_７が、独立してそれぞれ、炭素数１４〜３０のアルキル基である、基である。

式（ｄ）：

（式（ｄ）中、
^＊は結合位置を示し；
ｎ_７個のＸ_４は、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−または−ＣＯＮＨ−を示し；
Ｒ_８は、２価の脂肪族炭化水素基を示し；
ｎ_７個のＲ_９は、１価の脂肪族炭化水素基を示し；
ｎ_７は、１〜５の整数を示し；かつ
Ａｒは、アリーレン基を示す。）で表される基である。

Ｒ_８またはＲ_９で示される「脂肪族炭化水素基」としては、上記「脂肪族炭化水素基を有する有機基」における「脂肪族炭化水素基」と同様のものが挙げられる。好ましくは炭素数が５以上であり、より好ましくは炭素数５〜８０、特に好ましくは８〜６０である。

Ａｒで示される「アリーレン基」としては、例えば、フェニレン、ナフチレン、ビフェニレン等が挙げられ、好ましくはフェニレンである。

式（ｄ）において、
ｎ_７個のＸ_４が、いずれも−Ｏ−であり；
Ｒ_８およびｎ_７個のＲ_９が、独立してそれぞれ炭素数８〜６０の１価または２価の脂肪族炭化水素基であり；
ｎ_７が、１〜３の整数であり；かつ
Ａｒが、フェニレンである、基が好ましく、中でも、
ｎ_７個のＸ_４が、いずれも−Ｏ−であり；
Ｒ_８が、炭素数１〜３のアルキレン基であり；
ｎ_７個のＲ_９が、独立してそれぞれ、炭素数１４〜３０のアルキル基であり、
ｎ_７が、２または３であり；かつ
Ａｒが、フェニレンである、基がより好ましい。

特に好適な式（ｄ）の基は、
ｎ_７個のＸ_４が、いずれも−Ｏ−であり；
Ｒ_８が、メチレン基であり；
ｎ_７個のＲ_９が、独立してそれぞれ、炭素数１４〜３０のアルキル基であり、
ｎ_７が、２または３であり；かつ
Ａｒが、フェニレンである、基である。

「脂肪族炭化水素基を有する有機基」の具体例として、以下の炭素数１８〜１００の脂肪族炭素鎖を有する基が挙げられる。各基中の^＊は結合位置を示す。

本明細書中、「Ｒ^ｂ基」の好適な具体例としては、Ｃ_１−６アルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシ等のＣ_１−４アルコキシ基）、１個以上のハロゲンで置換されていてもよいＣ_１−６アルキル基（例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、ヘキシル等のＣ_１−６アルキル基、トリフルオロメチル、トリクロロメチル等のハロゲン置換されたＣ_１−６アルキル基）、またはハロゲン原子が挙げられ、中でもＣ_１−６アルコキシ基（特にメトキシ基）が好ましい。本発明のベンジル化合物は、好ましくは、ベンゼン環上に当該「Ｒ^ｂ基」を有しないか、または、Ｃ_１−６アルコキシ基を有する。「Ｒ^ｂ基」は合計でｎ個存在し（ｎは０乃至４の整数である。）、好ましくは０乃至２個、より好ましくは０または１個である。

本発明ベンジル化合物の好ましい例としては、以下のベンジル化合物が挙げられる。

４−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）ベンジルアルコール；
４−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）−２−メトキシベンジルアルコール；
４−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）−２−メトキシベンジルアミン；
２−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）−４−メトキシベンジルアルコール；
２−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）−４−メトキシベンジルアミン；
２−ドコシルオキシ−４−メトキシベンジルアルコール；
４−メトキシ−２−[３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ）ベンジルアルコール；
２−[３’，５’−ジ（ドコシルオキシ）ベンジルオキシ]−４−メトキシベンジルアルコール；
２−メトキシ−４−［２’，２’，２’−トリス（オクタデシルオキシメチル）エトキシ）ベンジルアルコール；
２−メトキシ−４−［２’，２’，２’−トリス（オクタデシルオキシメチル）エトキシ］ベンジルアミン；
４−メトキシ−２−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンジルアルコール；
２−メトキシ−４−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンジルアルコール；
４−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンジルアルコール；
３，５−ジメトキシ−４−[３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ]ベンジルアルコール；
Ｎ−（４−ヒドロキシメチル−３−メトキシフェニル）−３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルカルボキサミド；
Ｎ−（５−ヒドロキシメチル−２−メトキシフェニル）−３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルカルボキサミド；
Ｎ−（４−ヒドロキシメチルフェニル）−３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルカルボキサミド；
１，２２−ビス［１２−（４−ヒドロキシメチル−３−メトキシフェノキシ）ドデシルオキシ］ドコサン；または
１，２２−ビス［１２−（２−ヒドロキシメチル−５−メトキシフェノキシ）ドデシルオキシ］ドコサン。

〔本発明化合物の製造方法〕
本発明化合物の製造方法としては、特に限定されないが、例えば次のような反応を経て合成することができる。
原料化合物は、特に述べない限り、市販品として容易に入手できるか、あるいは、自体公知の方法またはこれらに準ずる方法に従って製造することができる。
以下の各方法で得られる化合物の収率は用いる反応条件によって異なりうるが、これらの生成物から通常の手段（再結晶、カラムクロマトグラフィー等）によって単離・精製し、次いで、溶液温度を変化させる手段や溶液組成を変化させる手段等によって沈殿化することができる。
また、各反応において、原料化合物がヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシ基、カルボニル基等を有する場合、これらの基にペプチド化学等で一般的に用いられるような保護基が導入されていてもよく、反応後に必要に応じて保護基を除去することにより目的化合物を得ることができる。

本発明化合物は、例えば、以下の工程により製造することができる。

［式中のＲ’は、水素原子またはＯＲ’’基（ここで、Ｒ’’はＣ_１−６アルキル基等のアルキル基、ベンジル基等のアラルキル基等を示す。）を、Ｒ’’’はアルキル基またはアラルキル基を、Ｚはハロゲン原子等の脱離基を示し、他の記号は、前記と同義である。］

工程（ａ）
当該工程は、式（ＩＩ）で表される化合物（以下、化合物（ＩＩ）と略称する。）のヒドロキシル基に基Ｒ^ａを導入することにより、式（ＩＩａ）で表される化合物（以下、化合物（ＩＩａ）と略称する。）を製造する工程である。
当該反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、塩基の存在下、基Ｒ^ａに対応するハロゲン化物（塩化物、臭化物、またはヨウ化物）、または基Ｒ^ａに対応するアルキルスルホニルオキシ化物（例えば、メタンスルホニルオキシ化物等）若しくはアリールスルホニルオキシ化物（例えば、ｐ−トルエンスルホニルオキシ化物等）を用いて行われるか、あるいは、化合物（ＩＩ）と基Ｒ^ａに対応するアルコールをトリフェニルホスフィン及びアゾジカルボン酸ジイソプロピル存在下で反応させる光延反応条件下で行われる。

塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属塩；ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン等の有機塩基類等が挙げられ、中でも炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等が好ましい。

溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類；アセトニトリル等のニトリル類等あるいはそれらの混合物が挙げられ、中でも、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、トルエン、Ｎ−メチルピロリドン等が好ましい。

反応温度は、通常５０℃〜１５０℃であり、好ましくは６０℃〜１３０℃である。反応時間は、通常２〜３０時間であり、好ましくは３〜１０時間である。

工程（ｂ）
当該工程は、化合物（ＩＩａ）を還元することにより、式（Ｉ−ａ）で表される化合物（以下、化合物（Ｉ−ａ）と略称する。）を製造する工程である。当該還元反応は、還元剤を用いる方法により行うことができる。

当該還元反応に用いる還元剤としては、例えば、金属水素化物（水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム、水素化ジブチルアルミニウム、水素化アルミニウム、水素化アルミニウムリチウム等）等が挙げられ、中でも、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ジブチルアルミニウム等が好ましい。

当該反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中で行われる。溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；あるいはそれらの混合物が挙げられ、中でもテトラヒドロフラン、トルエン、等が好ましい。

反応温度は、通常０℃〜１００℃であり、好ましくは３０℃〜７０℃であり、反応時間は、通常１〜２４時間であり、好ましくは２〜５時間である。

工程（ｃ−１）
当該工程は、化合物（ＩＩａ）（式（ＩＩａ）中、Ｒ’が水素原子である）を、オキシム化することにより、式（Ｉ’−ａ）で表される化合物（以下、化合物（Ｉ’−ａ）と略称する。）を製造する工程である。
当該オキシム化反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、塩基存在下で化合物（ＩＩａ）とヒドロキシルアミン酸付加塩とを反応させることにより行われる。

ヒドロキシルアミンの酸付加塩としては、例えば、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩等の鉱酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩等の有機酸塩等が挙げられるが、塩酸塩が特に好ましい。

かかる塩基としては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属塩；ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エンなどの有機塩基類等が挙げられ、中でも、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等が好ましい。

溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン溶媒；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；および／または、それらの混合物が挙げられ、中でも、ジクロロメタン、クロロホルム、トルエン等が好ましい。

反応温度は、通常１０℃〜１００℃、好ましくは２０℃〜６０℃であり、反応時間は、通常０．５〜３０時間、好ましくは２〜２０時間である。

工程（ｃ−２）
当該工程は、化合物（Ｉ’−ａ）を、パラジウム−炭素、ラネーニッケル等の金属触媒存在下、接触水素添加反応、または前記工程（ｂ）と同様の金属水素化物等の還元剤により還元することにより、本発明化合物である式（Ｉ−ｂ）で表される化合物（以下、化合物（Ｉ−ｂ）と略称する。）を製造する工程である。

化合物（Ｉ−ｂ）は、工程（ｃ−３）から工程（ｃ−４）および工程（ｃ−５）を経て製造することもできる。

工程（ｃ−３）
当該工程は、化合物（Ｉ−ａ）を例えば、塩化アセチル、塩化チオニル等のクロル化剤、または例えば、臭化アセチル、三臭化リン、ジフェニルホスフィン／臭素等のブロム化剤を用いてハロゲン化することにより、式（Ｉ’−ｂ）で表される化合物（以下、化合物（Ｉ’−ｂ）と略称する。）を製造する工程である。

溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；それらの混合物が挙げられ、中でも、クロロホルム、テトラヒドロフラン、トルエン等が好ましい。

反応温度は、通常１０℃〜１５０℃、好ましくは３０℃〜８０℃であり、反応時間は、通常０．５〜３０時間、好ましくは２〜２０時間である。

工程（ｃ−４）
当該工程は、化合物（Ｉ’−ｂ）をアジ化ナトリウム等のアジド化剤を用いてアジド化することにより、式（Ｉ’−ｃ）で表される化合物（以下、化合物（Ｉ’−ｃ）と略称する。）を製造する工程である。
当該反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、化合物（Ｉ’−ｂ）をアジド化剤と反応させることにより行われる。

溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類；それらの混合物が挙げられ、中でも、クロロホルム、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が好ましい。

反応温度は、通常１０℃〜１５０℃、好ましくは２０℃〜１００℃であり、反応時間は、通常０．５〜３０時間、好ましくは２〜２０時間である。

工程（ｃ−５）
当該工程は、化合物（Ｉ’−ｃ）をアミノ化することにより、化合物（Ｉ−ｂ）を製造する工程である。
当該反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、水存在下、化合物（Ｉ’−ｃ）をトリフェニルホスフィンと反応させるか、接触水素化還元により行われる。

トリフェニルホスフィンの使用量としては、化合物（Ｉ’−ｃ）１モルに対して、好ましくは１〜１０モル、特に好ましくは１〜５モルである。

水の使用量は、化合物（Ｉ’−ｃ）１モルに対して、好ましくは１〜１０モル、特に好ましくは１〜５モルである。

溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；および、それらの混合物が挙げられ、中でも、トルエン、テトラヒドロフラン等が好ましい。

反応温度は、通常１０〜１５０℃、好ましくは２０〜１００℃であり、反応時間は、通常０．５〜３０時間、好ましくは２〜２０時間である。

工程（ｃ−６）
当該工程は、化合物（Ｉ’−ｂ）をＲ’’’ＮＨ_２（Ｒ’’’は前記と同義である）と反応させることにより、本発明化合物においてＹが−ＮＨＲ’’’基である、式（Ｉ−ｃ）で表される化合物（以下、化合物（Ｉ−ｃ）と略称する。）を製造する工程である。
当該反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、必要により、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第３級アミン等の塩基の存在下、化合物（Ｉ’−ｂ）をＲ’’’−ＮＨ_２で表されるアミンと反応させることにより行われる。

溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；および、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、または、それらの混合物が挙げられ、中でも、トルエン、テトラヒドロフラン、クロロホルム等が好ましい。

反応温度は、通常１０〜１００℃、好ましくは２０〜６０℃であり、反応時間は、通常０．５〜３０時間、好ましくは２〜２０時間である。

なお、原料化合物として使用した基Ｒ^ａに対応するハロゲン化物は、市販品として入手可能であるか、あるいは、例えば、以下の工程（ｄ−１）、（ｄ−２）、（ｅ）、（ｆ）、（ｇ）、またはそれらと類似の方法により製造することができる。

工程（ｄ−１）

［式中、Ｈａｌはハロゲン原子（塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子；好ましくは臭素原子またはヨウ素原子）を示し、Ｒ_１およびＲ_２は前記と同義である。］

化合物（１）１モルに対して、１〜５モルの化合物（２）を反応させて化合物（３）を得る工程である。本工程は、塩基の存在下、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行われる。

かかる塩基としては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属塩；ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エンなどの有機塩基類；水素化カリウム、水素化ナトリウムなどの金属水素化物；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシドなどが挙げられる。

かかる溶媒としては、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類；１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等の非極性有機溶媒が挙げられる。これらの溶媒は２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。好ましくはテトラヒドロフランである。

反応温度は、通常２０℃〜１５０℃、好ましくは５０℃〜１００℃である。反応時間は、通常１〜３０時間である。

工程（ｄ−２）

（式中の各記号は前記と同義である。）

化合物（５）１モルに対して、化合物（４）を０．３〜５モル反応させて化合物（６）を得る工程である。本工程は、工程（ｄ−１）と同様の塩基の存在下、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行われる。Ｒ^ａが式（ａ）で表される基であって、該式（ａ）中のＲ_３が式（Ｉ’）である化合物（Ｉ）は、化合物（ＩＩ）１モルに対して、化合物（６）を０．５〜５モル反応させた後、還元工程を経て合成することができる。

工程（ｅ）

（式中の各基は、前記と同義である。）

化合物（７）１モルに対して、０．２〜５モルの化合物（８）を反応させて化合物（９）を得、化合物（９）のヒドロキシル基をハロゲンに置換することにより化合物（１０）を得る工程である。化合物（７）と化合物（８）の反応においては、塩基の存在下、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行われる。

かかる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル類；アセトン、２−ブタノンなどのケトン類；クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられる。これらの溶媒は２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。好ましくはジメチルホルムアミドである。溶媒の使用量は、化合物（７）に対し、２〜５０倍容量が好適である。

化合物（９）のヒドロキシル基をハロゲンに置換し、化合物（１０）を得る工程は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中、化合物（９）を、トリフェニルホスフィンおよびハロゲン源を反応させることによって行うことができる。本工程は、イミダゾールの存在下で行うことが好ましい。ハロゲン源としては四塩化炭素、ヘキサクロロアセトンやトリホスゲン（塩素源）、四臭化炭素（臭素源）、ヨードメタンやヨウ素（ヨウ素源）等が挙げられる。トリフェニルホスフィンの使用量は、化合物（９）１モルに対し、好ましくは０．１〜５モル、ハロゲン源の使用量は、化合物（９）１モルに対し、好ましくは１〜５モルである。イミダゾールを用いる場合にはその使用量は、化合物（９）１モルに対し、好ましくは０．１〜５モルである。

かかる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル類；アセトン、２−ブタノンなどのケトン類；クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられる。これらの溶媒は２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。好ましくはトルエンである。溶媒の使用量は、化合物（９）に対し、好ましくは３〜５０倍容量である。

反応温度は、通常３０℃〜１５０℃、好ましくは４０℃〜１２０℃である。反応時間は、通常０．５〜２４時間である。

工程（ｆ）

（式中の各基は、前記と同義である。）

化合物（１１）１モルに対して、１〜５モルの塩化アセチル、塩化チオニル等のクロル化剤、臭化アセチル、三臭化リン、ジフェニルホスフィン／臭素等のブロム化剤等のハロゲン化剤を反応させて化合物（１２）を得る工程である。本反応は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行われる。

かかる溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；１，４−ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル類；などが挙げられる。これらの溶媒は２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。好ましくはクロロホルムまたはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。溶媒の使用量は、化合物（１１）に対し、２〜５０倍容量が好適である。

反応温度は、通常０℃〜１００℃、好ましくは０℃〜３０℃である。反応時間は、通常０．５〜３０時間である。

工程（ｇ）

（式中、Ｚ’は水酸基、または脱離基を示し、ｍ_３’は１〜３、好ましくは３を示し、Ｒ_７’は前記と同義である。）

化合物（１３）に対して、ロジウム−炭素（Ｒｈ／Ｃ）等の触媒により接触水素化反応させて化合物（１４）を得、化合物（１４）のエステル部分を更に還元し、Ｚ’が水酸基である化合物（ＩＩＩ）を得る工程である。当該工程は、水酸基からハロゲン基、１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいアルキルスルホニルオキシ基（例えば、メタンスルホニルオキシ基等）、置換されていてもよいアリールスルホニルオキシ基（例えば、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基等）等への変換によりＺ’が脱離基である化合物（ＩＩＩ）を得る工程も包含する。本反応は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行われる。

「１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよいアルキルスルホニルオキシ基」、「アリールスルホニルオキシ基」における「アルキル」または「アリール」は前記で定義した基を示し、「置換されていてもよいアリールスルホニルオキシ基」の「置換基」は、ハロゲン原子、１個以上のハロゲン原子により置換されていてもよい炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基等を示す。

当該還元反応に用いる還元剤としては、例えば、金属水素化物（水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム、水素化ジブチルアルミニウム、水素化アルミニウム、水素化アルミニウムリチウム等）等が挙げられ、中でも、水素化ジブチルアルミニウム等が好ましい。

反応温度は、通常−１０℃〜１００℃、好ましくは０℃〜７０℃であり、反応時間は、通常１〜２４時間、好ましくは２〜５時間である。

当該脱離基への変換に用いる試薬としては、例えば、上記工程（ｆ）で例示したクロル化剤、ブロム化剤の他、塩化メタンスルホニル、塩化トリフルオロメタンスルホニル等のアルキルスルホニル化剤、塩化ベンゼンスルホニル、塩化ｐ−トルエンスルホニル等のアリールスルホニル化剤等が挙げられ、中でも、アリールスルホニル化剤が好ましい。

当該反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中で行われ、溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル類が挙げられ、中でもクロロホルム等のハロゲン化炭化水素類が好ましい。

当該反応は、好適には、化合物（１５）１モルに対して、１〜５モルのピリジン等の有機塩基、および０．０５〜０．８モルのＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン触媒共存下で行われる。

反応温度は、通常０℃〜１００℃、好ましくは０℃〜７０℃であり、反応時間は、通常１〜２４時間、好ましくは２〜５時間である。

工程（ｄ−１）、（ｄ−２）、（ｅ）、（ｆ）、および（ｇ）で得られた化合物（３）、（６）、（１０）、（１２）および（１６）を用いて、上記工程（ａ）の反応を実施することにより、本発明化合物を製造するための、有用な中間体である化合物（ＩＩａ）を得ることができる。尚、スキーム中、脂肪族炭化水素基の炭素数やハロゲン原子の種類、反応試薬等は便宜上示されたものであって、上記した定義の範囲内で適宜変更することができる。

〔有機合成反応〕
本発明化合物は、有機合成反応、好ましくはペプチド合成等、において、カルボキシル基等、すなわち、アミノ酸またはペプチドにおける保護化試薬として使用することができる。具体的には、カルボキシル基やカルボキサミド基、チオール基などＣ末端官能基、及び、側鎖官能基(以下、Ｃ末端等という。)の保護基（アンカー）として導入されることが好ましい。保護化試薬として使用する場合には、保護される置換基と反応させる目的で活性化したり、等価体に変換して反応させても構わない。なお、「本発明のベンジル化合物によって保護された有機化合物」を、「ベンジル化合物付加体」と呼ぶ。

本発明のベンジル化合物は、各種有機合成反応用保護化試薬（アンカー）として使用できる。例えば、以下の工程により実施することができる。
工程（ｉ）本発明化合物を可溶性溶媒に溶解する工程（溶解工程）、
工程（ｉｉ）上記工程で得られた可溶性溶媒に溶解された本発明化合物と反応基質を結合させる工程（結合工程）、
工程（ｉｉｉ）上記工程で得られた結合物を沈殿させる工程、または上記工程で得られた結合物を可溶性溶媒に溶解させて反応に供し、当該反応後の生成物を沈殿させる工程（沈殿化工程）、および
工程（ｉｖ）上記工程で得られた結合物または反応後の生成物を可溶性溶媒に再溶解させ、当該結合物または反応後の生成物からアンカーを除去する工程（脱保護工程）。

工程（ｉ）（溶解工程）
本工程は、本発明化合物を可溶性溶媒に溶解する工程である。

溶媒としては、一般的な有機溶媒を反応に用いることができるが、当該溶媒における溶解度が高い程、優れた反応性が期待できるため、本発明化合物の溶解度の高い溶媒を選択することが好ましい。具体的にはクロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類；１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等の非極性有機溶媒が挙げられる。これらの溶媒は２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。また、上記ハロゲン化炭素類や非極性有機溶媒に、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類；アセトン、２−ブタノン等のケトン類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類を、本発明化合物が溶解し得る限り、適宜の割合で混合して用いてもよい。

工程（ｉｉ）（結合工程）
本工程は、上記工程（ｉ）で得られた可溶性溶媒に溶解された本発明化合物と反応基質を結合させる工程である。

ここで反応基質とは、保護アミノ酸等の−ＣＯＯＨ基を有するものであり、反応基質の使用量は、本発明化合物１モルに対し、１〜１０モル使用することができ、好ましくは１〜５モルである。

Ｙがヒドロキシル基の場合は、反応に影響を及ぼさない溶媒中、ジメチルアミノピリジン触媒下、縮合剤を添加することによりエステル結合が形成される。

Ｙが基ＮＨＲの場合、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）、１−ヒドロキシ−１Ｈ−１，２，３−トリアゾール−５−カルボン酸エチルエステル（ＨＯＣｔ）、１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡｔ）等の縮合添加剤（縮合促進剤）存在下、縮合剤を添加してアミド結合が形成される。

縮合添加剤の使用量は、本発明化合物１モルに対して、好ましくは０．０５〜１．５モルである。

縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、ジイソプロピルカルボジイミド（ＤＩＣ）、Ｎ−エチル−Ｎ’−３−ジメチルアミノプロピルカルボジイミドおよびその塩酸塩（ＥＤＣ・ＨＣｌ）、ヘキサフルオロリン酸（ベンゾトリアゾール-1-イルオキシ）トリピロリジノホスホニウム(ＰｙＢｏｐ)、Ｏ−（ベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート（ＴＢＴＵ）、１−［ビス（ジメチルアミノ）メチレン］−５−クロロ−１Ｈ−ベンゾトリアゾリウム３−オキシドヘキサフルオロホスフェート（ＨＣＴＵ）、Ｏ−ベンゾトリアゾール−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロボレート（ＨＢＴＵ）等が挙げられる。

縮合剤の使用量は、本発明化合物１モルに対して、１〜１０モル使用することができ、好ましくは１〜５モルである。

溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類等あるいはそれらの混合物が挙げられ、中でも、トルエン、テトラヒドロフラン等が好ましい。

反応温度は、通常−１０℃〜３０℃、好ましくは０℃〜２０℃であり、反応時間は、通常１〜３０時間である。

反応の進行の確認は一般的な液相有機合成反応と同様の方法を適用できる。即ち、薄層シリカゲルクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー等を用いて反応を追跡することができる。

工程（ｉｉｉ）（沈殿化工程）
本工程は、上記工程（ｉｉ）で得られた結合物、または該結合物を可溶性溶媒に溶解させ、所望の有機合成反応を行った後に得られる生成物を単離するために、該結合物、または該生成物が溶解している溶媒を変化させ（例、溶媒組成の変更、溶媒の種類の変更）、沈殿化させる工程である。即ち、結合物が溶解するような条件下にて反応を行い、反応後、溶媒を留去後、溶媒置換することによって結合物を沈殿化し不純物を淘汰する。置換溶媒としては、メタノールやアセトニトリル等の極性有機溶媒を用いる。すなわち化合物が溶解するような条件下にて反応を行い、反応後、溶媒置換としては、例えば溶解にはハロゲン化溶媒やＴＨＦ等を用いて、沈殿化にはメタノールやアセトニトリル等の極性有機溶媒を用いる。

工程（iｖ）（脱保護工程）
本工程は、上記工程（ｉｉｉ）の沈殿化により単離された結合物または生成物から、最終的に本発明化合物由来の保護化試薬（アンカー）を除去し、目的物を得る工程である。

ここで除去されるアンカーは、式（Ｉ−ｄ）：

（式中の各基は、前記と同義である）
で表される基である。

Ｙがヒドロキシル基である場合、最初の反応基質の−ＣＯＯＨと反応し、エステル結合を形成しているが、脱保護され、ペプチドのＣ末端が−ＣＯＯＨとなる。一方、Ｙが−ＮＨＲ基である場合、反応基質の−ＣＯＯＨ基はアミド結合となり、脱アンカーされると、Ｃ末端が−ＣＯＮＨＲ基に変換される。

Ｙがヒドロキシル基の場合のアンカーのみを選択的に除去したい場合には、本発明化合物としてベンゼン環上の基ＯＲ^ａが２位または４位に位置しているアンカーを使用し、脱保護は好適には酸処理により行われる。使用する酸としては、トリフルオロ酢酸（以下、ＴＦＡという。）、塩酸、硫酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等が挙げられ、中でも、ＴＦＡが好ましく、これらの酸の濃度が０．１％〜５％のクロロホルムやジクロロメタン、又はＴＨＦ溶液の溶液条件下に行うことができる。

Ｙがヒドロキシル基、または−ＮＨＲ基であるアンカーを、他のペプチドの保護基と同時に除去することも可能である。その場合には、当該分野、特にペプチド合成において行われている慣用の方法が用いられるが、酸などを加える方法が好適に採用される。酸としてＴＦＡ、塩酸、硫酸、メシル酸、トシル酸、トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が使用される。中でもＴＦＡが特に好ましい。
酸の使用量は、用いる酸の種類によって適宜設定され、アンカーを除去するのに適当な量が用いられる。結合物１モルに対して、３〜１００モル使用することができ、好ましくは５〜５０モルである。これらの使用とともに、更なる強酸源として、トリフルオロメタンスルホン酸や、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル、ＢＦ_３・エーテラートなどを加えることもできる。

反応温度は、通常０℃〜８０℃、好ましくは０℃〜３０℃である。反応時間は、通常０．５〜２４時間である。

上記工程を利用することによりペプチドを製造することができる。本発明のベンジル化合物は、アミノ酸またはペプチドのＣ末端等の保護化試薬として主に使用することができるが、それに限定されるわけではない。また、Ｙがヒドロキシル基である本発明のベンジル化合物は、当該分野における慣用の方法、例えば、ホスゲンとの反応、により対応するクロロホルメート体へと変換することができるので、当該クロロホルメート体をＮ末端等の保護化試薬として使用することも可能である。

上記工程を利用したペプチドの製造方法は、具体的には以下の工程を含む。
（１）本発明のベンジル化合物を、Ｎ−保護アミノ酸またはＮ−保護ペプチドのＣ末端等と縮合し、Ｃ−保護アミノ酸またはＣ−保護ペプチドを得る工程（Ｃ末端保護工程）、
（２）上記工程で得られたアミノ酸またはペプチドのＮ末端の一時保護基を除去する工程（Ｎ末端の脱保護工程）、
（３）上記工程で得られたアミノ酸またはペプチドのＮ末端に、Ｎ−保護アミノ酸またはＮ−保護ペプチドを縮合させる工程（ペプチド鎖伸長工程）、および
（４）上記工程で得られたペプチドを沈殿させる工程（沈殿工程）。

工程（１）（Ｃ末端保護工程）
当該工程は、本発明のベンジル化合物を、Ｎ−保護アミノ酸またはＮ−保護ペプチドのＣ末端と縮合し、Ｃ−保護アミノ酸またはＣ−保護ペプチド、すなわち、ベンジル化合物付加体、を得る工程である。例えば、上記した結合工程に準じて実施することができる。

本発明において「Ｎ−保護アミノ酸」および「Ｎ−保護ペプチド」とは、アミノ基が保護されており、カルボキシル基が無保護のアミノ酸およびペプチドを意味し、「Ｐ−ＡＡ−ＯＨ」と表示され得る（Ｐはアミノ基の保護基（または、場合により一時保護基ともいう。））。

（式中、Ｐはアミノ基の保護基を、ＡＡはアミノ酸由来の基を示し、Ｙ’はＯまたはＮＲを示す。他の記号は上記と同義を示す。）
本発明のベンジル化合物とＮ−保護アミノ酸またはＮ−保護ペプチドとのＣ末端での縮合反応は、好適には反応に影響を及ぼさない溶媒中で行われる。例えば、Ｙがヒドロキシル基、および−ＮＨＲ基のいずれの場合にも、縮合剤の存在下で行われ、Ｙがヒドロキシルの場合はエステル結合、Ｙが−ＮＨＲ基の場合はアミド結合を形成する。縮合剤としては、例えば、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、Ｎ−エチル−Ｎ’−３−ジメチルアミノプロピルカルボジイミドおよびその塩酸塩（ＥＤＣ・ＨＣｌ）等が挙げられる。エステル結合形成反応の際には、ジメチルアミノピリジン存在下で、アミド結合形成反応の際には、ＨＯＢｔやＨＯＣｔ等の縮合添加剤存在下で実施される。

本工程に用いる溶媒としては、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類；１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等の非極性有機溶媒が挙げられる。これらの溶媒は２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。好ましくはクロロホルムである。溶媒の使用量は、本発明のベンジル化合物に対し、好適には、２〜５０倍容量である。

反応温度は、通常−１０〜４０℃、好ましくは０〜３０℃である。反応時間は、通常１〜７０時間である。

工程（２）（Ｎ末端の脱保護工程）
当該工程は、上記工程（１）で得られたアミノ酸またはペプチドのＮ末端の一時保護基を除去する工程である。

Ｎ末端の一時保護基としては、ペプチド化学等の技術分野で一般的に用いられる後述のアミノ基の保護基が使用可能であるが、本願発明においては、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（以下、Ｂｏｃ基ともいう。）、ベンジルオキシカルボニル基、および／または９−フルオレニルメトキシカルボニル基（以下、Ｆｍｏｃ基ともいう。）が好適に用いられる。

脱保護条件は、当該一時保護基の種類により適宜選択されるが、本発明化合物由来の保護化試薬の除去とは異なる条件により脱保護できる基が好ましい。例えばＦｍｏｃ基の場合は、塩基で処理することにより行なわれ、Ｂｏｃ基の場合は、酸で処理することにより行われる。当該反応は、反応に影響を及ぼさない溶媒中で行われる。

塩基としては、ジメチルアミン、ジエチルアミン等が挙げられる。溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；アセトニトリル等のニトリル類等、あるいはそれらの混合物が挙げられる。

工程（３）（ペプチド鎖伸長工程）
当該工程は、工程（２）で得られたＮ−末端が脱保護されたアミノ酸またはペプチドのＮ末端に、Ｎ−保護アミノ酸またはＮ−保護ペプチドを縮合させる工程である。

当該工程は、前記工程（１）に記載の縮合剤、縮合添加剤等を使用し、ペプチド化学の分野において一般的に用いられるペプチド合成条件下で行われる。

工程（４）（沈殿工程）
当該工程は、上記工程（ｉｉｉ）における沈殿工程と同様にして行われる。

本発明のペプチドの製造方法において、工程（４）で得られたＮ−保護アミノ酸またはＮ−保護ペプチドに対して、工程（５）〜（７）を所望の回数繰返すことができる。
（５）沈殿工程で得られたペプチドのＮ末端の一時保護基を除去する工程、
（６）上記工程で得られた、ペプチドのＮ末端に、Ｎ−保護アミノ酸またはＮ−保護ペプチドを縮合させる工程、および
（７）上記工程で得られたペプチドを沈殿させる工程。

工程（５）
当該工程は工程（２）におけるＮ末端の脱保護工程と同様にして行われる。

工程（６）
当該工程は工程（３）におけるペプチド鎖伸長工程と同様にして行われる。

工程（７）
当該工程は、工程（ｉｉｉ）における沈殿工程と同様にして行われる。

本発明のペプチドの製造方法において、工程（４）または工程（７）の沈殿工程の後に、Ｃ末端がベンジル化合物で保護されたペプチドの該Ｃ末端を脱保護する工程をさらに含むことができる。例えば、上記した、本発明のアンカーを脱保護する工程（ｉｖ）に準じて行われる。

本発明の有機合成反応またはペプチド合成反応が多工程を含む場合には、次工程の反応に影響を及ぼさない範囲で前記沈殿工程を適宜省略することも可能である。

各反応において、原料化合物がヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシ基、カルボニル基を有する場合(特にアミノ酸またはペプチドの側鎖に官能基を有する場合)、これらの基にペプチド化学等で一般的に用いられるような保護基が導入されていてもよく、反応後に必要に応じて保護基を除去することにより目的化合物を得ることができる。

ヒドロキシル基の保護基としては、例えば、（Ｃ_１−Ｃ_６）アルキル基（例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル）、フェニル基、トリチル基、（Ｃ_７−Ｃ_１０）アラルキル基（例、ベンジル）、ホルミル基、（Ｃ_１−Ｃ_６）アルキル−カルボニル基（例、アセチル、プロピオニル）、ベンゾイル基、（Ｃ_７−Ｃ_１０）アラルキル−カルボニル基（例、ベンジルカルボニル）、２−テトラヒドロピラニル基、２−テトラヒドロフラニル基、シリル基（例、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ジメチルフェニルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジエチルシリル）、（Ｃ_２−Ｃ_６）アルケニル基（例、１−アリル）等が挙げられる。これらの基は、ハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、（Ｃ_１−Ｃ_６）アルキル基（例、メチル、エチル、プロピル）、（Ｃ_１−Ｃ_６）アルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ）、ニトロ基等から選ばれる１ないし３個の置換基で置換されていてもよい。

アミノ基の保護基としては、例えば、ホルミル基、（Ｃ_１−Ｃ_６）アルキル−カルボニル基（例、アセチル、プロピオニル）、（Ｃ_１−Ｃ_６）アルコキシ−カルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、Ｂｏｃ基）、ベンゾイル基、（Ｃ_７−Ｃ_１０）アラルキル−カルボニル基（例、ベンジルカルボニル）、（Ｃ_７−Ｃ_１４）アラルキルオキシ−カルボニル基（例、ベンジルオキシカルボニル、Ｆｍｏｃ基）、トリチル基、フタロイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチレン基、シリル基（例、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ジメチルフェニルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジエチルシリル）、（Ｃ_２−Ｃ_６）アルケニル基（例、１−アリル）等が挙げられる。これらの基は、ハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、（Ｃ_１−Ｃ_６）アルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ）、ニトロ基等から選ばれる１ないし３個の置換基で置換されていてもよい。

カルボキシ基の保護基としては、例えば、（Ｃ_１−Ｃ_６）アルキル基（例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル）、（Ｃ_７−Ｃ_１０）アラルキル基（例、ベンジル）、フェニル基、トリチル基、シリル基（例、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ジメチルフェニルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジエチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル）、（Ｃ_２−Ｃ_６）アルケニル基（例、１−アリル）等が挙げられる。これらの基は、ハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、（Ｃ_１−Ｃ_６）アルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ）、ニトロ基等から選ばれる１ないし３個の置換基で置換されていてもよい。

カルボニル基の保護基としては、例えば、環状アセタール（例、１，３−ジオキサン）、非環状アセタール（例、ジ−（Ｃ_１−Ｃ_６）アルキルアセタール）等が挙げられる。

また、これらの保護基の除去方法は、自体公知の方法、例えば、ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓｉｎＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ，ＪｏｈｎＷｉｌｅｙａｎｄＳｏｎｓ刊（１９８０）に記載の方法等に準じて行えばよい。例えば、酸、塩基、紫外光、ヒドラジン、フェニルヒドラジン、Ｎ−メチルジチオカルバミン酸ナトリウム、テトラブチルアンモニウムフルオリド、酢酸パラジウム、トリアルキルシリルハライド（例、トリメチルシリルヨージド、トリメチルシリルブロミド等）等を使用する方法、還元法等が用いられる。

〔ペプチドの液相合成用キット〕
本発明は、また、本発明化合物を必須の構成成分として含む、ペプチドの液相合成用キットを提供する。当該キットには、本発明化合物に加えて、ペプチドの液相合成反応を実施するのに必要な他の成分、例えば反応に用いる各種溶媒、原料となるアミノ酸（またはペプチド）等が含められていてもよい。所望により本発明化合物を用いたペプチドの液相合成の為のマニュアルを添付することもできる。

以下、実施例に沿って本発明をさらに詳細に説明するが、これら実施例は本発明の範囲を何ら限定するものではない。また、本発明において使用する試薬や装置、材料は特に言及されない限り、商業的に入手可能である。また、本明細書において、アミノ酸等を略号で表示する場合、各表示は、ＩＵＰＡＣ−ＩＵＢＣｏｍｍｉｓｓｉｏｎｏｎＢｉｏｃｈｅｍｉｃａｌＮｏｍｅｎｃｌａｔｕｒｅによる略号あるいは当該分野における慣用略号に基づくものである。

実施例１：４−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）−２−メトキシベンジルアルコールの合成

（ｉ）１２−ドコシルオキシ−１−ブロモドデカン(１．００ｇ,１．７４ｍｍｏｌ)、４−ヒドロキシ−２−メトキシベンズアルデヒド（２９２ｍｇ,１．９２ｍｍｏｌ）、および炭酸カリウム（３６１ｍｇ,２．６１ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１０ｍｌ）に懸濁させ、７０℃で２日間攪拌した。反応液を室温に戻し、クロロホルム（２０ｍｌ）で抽出し、１Ｎ塩酸（１０ｍｌ）で１回、水（１０ｍｌ）で３回洗浄した。有機層を合わせて減圧留去し、残渣をメタノール（１０ｍｌ）で沈殿させ、４−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）−２−メトキシベンズアルデヒド（１．０５ｇ，１．６３ｍｍｏｌ,９３％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８(３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ,−ＯＣ_２１Ｈ_４２−Ｍｅ)，１．１５−１．６５（５８Ｈ，ｂｒ，Ａｌｋｙｌ−Ｈ)，１．８０(２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２−)，３．３９(４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，−Ｃ_１１Ｈ_２２−ＣＨ _２−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_２１Ｈ_４３)，３．９０(３Ｈ，ｓ，−ＯＭｅ)，４．０２(２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ _２−)，６．４４(１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ３−Ｈ)，６．５４(１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８，８．７Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ５−Ｈ)，７．７９(１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ６−Ｈ)，１０．２８(１Ｈ，ｓ，Ａｒ−ＣＨＯ)
（ｉｉ）４−(１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ)−２−メトキシベンズアルデヒド(１．０２ｇ，１．５８ｍｍｏｌ)をＴＨＦ−ＭｅＯＨ(１０ｍｌ＋０．５ｍｌ)に懸濁させ、水素化ホウ素ナトリウム(８０ｍｇ，２．１１ｍｍｏｌ)を加えて５０℃で一晩攪拌した。反応液に１Ｎ塩酸を滴下して反応を停止し、クロロホルム（２０ｍｌ）で抽出、１Ｎ塩酸（１０ｍｌ）で１回、水（１０ｍｌ）で３回洗浄した。溶媒を留去して得られた残渣をメタノール（１０ｍｌ）で沈殿させ、アセトニトリルで洗浄して４−(１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ)−２−メトキシベンジルアルコール(９７２ｍｇ，１．５０ｍｍｏｌ，９５％)を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８(３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，−ＯＣ_２１Ｈ_４２−Ｍｅ)，１．１５−１．６５（５８Ｈ，ｂｒ，Ａｌｋｙｌ−Ｈ)，１．７７(２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２−)，２．１０(１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，−ＯＨ)，３．３９(４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，−Ｃ_１１Ｈ_２２−ＣＨ _２−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_２１Ｈ_４３)，３．８４(３Ｈ，ｓ，−ＯＭｅ)，３．９５(２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ _２−)，４．６１(２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，ｂｅｎｚｙｌ−Ｈ)，６．４３(１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，８．１Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ５−Ｈ)，６．４７(１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ３−Ｈ)，７．１４(１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ６−Ｈ)

実施例２：４−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）−２−メトキシベンジルアミンの合成

（ｉ）４−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）−２−メトキシベンズアルデヒド（１．０７ｇ，１．６６ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１５ｍｌ）に溶解させ、塩酸ヒドロキシルアミン（３４４ｍｇ，４．８０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（１．１５ｍｌ，８．２６ｍｍｏｌ）を加え、室温下で攪拌した。原料消失確認後、溶媒を減圧留去し、残渣をアセトニトリルで沈殿させ、４−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）−２−メトキシベンズアルデヒドオキシム（１．０８ｇ，１．６４ｍｍｏｌ，９８％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８(３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，−Ｃ_２１Ｈ_４２−Ｍｅ)，１．００−１．７０（５８Ｈ，ｂｒ，ｍ，ａｌｋｙｌ−Ｈ），１．７０−１．８５(２Ｈ，ｍ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２−Ｃ_２０Ｈ_４１)，３．３９(４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，−Ｃ_１１Ｈ_２２−ＣＨ _２−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_２１Ｈ_４３)，３．８３(３Ｈ，ｓ，−ＯＭｅ)，３．９７(２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_１１Ｈ_２２−)，６．４４(１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，Ｃ３−Ｈ)，６．４８(１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，８．６Ｈｚ，Ｃ５−Ｈ)，７．０３(１Ｈ，ｂｒ，−ＣＨＮＯＨ)，７．６２(１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，Ｃ６−Ｈ)，８．４１(１Ｈ，ｓ，−ＣＨＮＯＨ)
（ｉｉ）（ｉ）で得られた４−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）−２−メトキシベンズアルデヒドオキシム（７８０ｍｇ,１．１８ｍｍｏｌ）にＴＨＦ（２０ｍｌ）、メタノール（１０ｍｌ）、１０％パラジウム−炭素（Ｐｄ／Ｃ）（８０ｍｇ）を加え、水素雰囲気下で一晩攪拌した。反応液をろ過してＰｄ／Ｃを除去し、ろ液を減圧濃縮後、残渣をメタノールで沈殿させ、４−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）−２−メトキシベンジルアミン（７４４ｍｇ,１．１５ｍｍｏｌ,９７％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）δ：０．８８(３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，−Ｃ_２１Ｈ_４２−Ｍｅ)，１．００−１．９０(６０Ｈ，ｂｒ，ｍ，ａｌｋｙｌ−Ｈ)，３．３９(４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，−Ｃ_１１Ｈ_２２−ＣＨ _２−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_２１Ｈ_４３)，３．７８(２Ｈ，ｓ，Ａｒ−ＣＨ _２−ＮＨ_２)，３．８２(３Ｈ，ｓ，−ＯＭｅ)，３．９４(２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_１１Ｈ_２２−)，６．４１(１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，８．１Ｈｚ，Ｃ５−Ｈ)，６．４６(１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，Ｃ３−Ｈ)，７．１０(１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，Ｃ６−Ｈ)

実施例３：２−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）−４−メトキシベンジルアルコールの合成

表題化合物は、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンズアルデヒドから、実施例１の合成で記載したものと類似の手順に従って合成した。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８(３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，−ＯＣ_２１Ｈ_４２−Ｍｅ)，１．１５−１．６５（５８Ｈ，ｂｒ，Ａｌｋｙｌ−Ｈ)，１．８１(２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２−)，２．２１(１Ｈ，ｂｒ，ｓ，−ＯＨ)，３．３９（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，−Ｃ_１１Ｈ_２２−ＣＨ _２−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_２１Ｈ_４３)，３．８０（３Ｈ，ｓ，−ＯＭｅ)，３．９８(２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ _２−)，４．６１(２Ｈ，ｂｒ，ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ，ｂｅｎｚｙｌ−Ｈ)，６．４４(１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，８．１Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ５−Ｈ)，６．４５（１Ｈ，ｓ，Ｐｈ，Ｃ３−Ｈ），７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ６−Ｈ）

実施例４：４−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）ベンジルアルコールの合成

表題化合物は、４−ヒドロキシベンズアルデヒドから、実施例１の合成で記載したものと類似の手順に従って合成した。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，−ＯＣ_２１Ｈ_４２−Ｍｅ），１．１５−１．６５（５８Ｈ，ｂｒ，Ａｌｋｙｌ−Ｈ），１．７７（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２−），３．３９（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，−Ｃ_１１Ｈ_２２−ＣＨ _２−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_２１Ｈ_４３），３．９５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ _２−），４．６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，ｂｅｎｚｙｌ−Ｈ），６．８８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ３，５−Ｈ），７．２７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ２，６−Ｈ）

実施例５：２−ドコシルオキシ−４−メトキシベンジルアルコールの合成

２−ヒドロキシ−４−メトキシベンズアルデヒド（５ｇ，３２．９ｍｍｏｌ）、１−ブロモドコサン（１６．６ｇ，４２．７ｍｍｏｌ）、及び、炭酸カリウム（１４．８ｇ，１０７ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１５０ｍｌ）に混合させ１００℃で７時間攪拌した。反応液にクロロホルム４００ｍｌと１Ｎ塩酸３００ｍｌを加え洗浄し、有機層を１Ｎ塩酸、飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を濃縮し、メタノールを加えてスラリー洗浄し、沈殿物をろ過して減圧乾燥した。得られた乾燥結晶をＴＨＦ（１５０ｍｌ）に溶解させホウ素化水素ナトリウム（３．７ｇ）を加えて、４０℃で３時間攪拌した。反応液に１Ｎ塩酸を加え、濃縮し、クロロホルムで抽出し、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、有機層を濃縮した。得られた残査にアセトニトリルを加えて洗浄し、沈殿物をろ取し、減圧乾燥し、２−ドコシルオキシ−４−メトキシベンジルアルコール（９．８ｇ）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），１．２１−１．５５（３８Ｈ，ｍ），１．７６−１．８５（２Ｈ，ｍ），３．８０（３Ｈ，ｓ），３．９８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），４．６２（２Ｈ，ｓ），６．４２−６．４２（２Ｈ，ｍ），７．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）

実施例６：４−メトキシ−２−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ］ベンジルアルコールの合成

（ｉ）３，４，５−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルアルコール(８３．０ｇ，９０．８ｍｍｏｌ)をクロロホルム(８３０ｍｌ)に溶解し、０℃で塩化チオニル(２１．６ｇ，０．１８２ｍｏｌ)を加えて１．５時間室温で攪拌した。溶媒を留去し、残渣をアセトニトリル(８００ｍｌ)で沈殿させて、３，４，５−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルクロリド９３．６ｇを湿晶として得た。
（ｉｉ）３，４，５−トリ（オクタデシルオキシ）ベンジルクロリド(９３．６ｇ，ｗｅｔ，<９０．８ｍｍｏｌ)、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンズアルデヒド(１５．２ｇ，０．１０ｍｏｌ)、炭酸カリウム(３１．４ｇ，０．２３ｍｏｌ)をＤＭＦ(８３０ｍｌ)に懸濁し、８０℃で一晩攪拌した。反応液をクロロホルム(１６００ｍｌ)に溶解し、１Ｎ塩酸(８００ｍｌ)で３回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液(８００ｍｌ)で１回、２０％食塩水(８００ｍｌ)で１回洗浄した。溶媒を留去し、残渣をメタノール(８００ｍｌ)で沈殿させ、アセトニトリル(８００ｍｌ)で洗浄して、４−メトキシ−２−［３’，４'，５’−トリス（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ］ベンズアルデヒド(９３．５ｇ,８９．２ｍｍｏｌ，９８％)を得た。
（ｉｉｉ）４−メトキシ−２−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ］ベンズアルデヒド(９３．５ｇ，８９．２ｍｍｏｌ)をＴＨＦ−メタノール(１８７０ｍｌ＋９４ｍｌ)に溶解し、０℃で水素化ホウ素ナトリウム(４．０５ｇ，１０７ｍｍｏｌ)を加えた。室温で１．５時間攪拌した後、０℃で０．２Ｎ塩酸（１００ｍｌ）を加えて反応を停止した。溶媒を半分程度留去し、クロロホルム(２４００ｍｌ)に溶解して０．１Ｎ塩酸(１２００ｍｌ)で２回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液(１２００ｍｌ)で１回、２０％食塩水(１２００ｍｌ)で１回洗浄した。溶媒を留去し、残渣をメタノール(９００ｍｌ)で沈殿させ、アセトニトリルで洗浄して４−メトキシ−２−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ］ベンジルアルコール(９２．４ｇ，８８．０ｍｍｏｌ，収率９７％ vs ３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）ベンジルアルコール)を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８(９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，Ｃ_１７Ｈ_３４−Ｍｅ)，１．１５−１．４０(８４Ｈ，ｂｒ，Ｃ３’，４’，５’-ＯＣ_３Ｈ_６−Ｃ_１４Ｈ _２８−ＣＨ_３)，１．４０−１．５５(６Ｈ，ｂｒ，Ｃ３’，４’，５’−ＯＣ_２Ｈ_４−ＣＨ _２−Ｃ_１５Ｈ_３１)，１．７０−１．８５(６Ｈ，ｍ，Ｃ３’，４’，５’−ＯＣＨ_２−ＣＨ _２−Ｃ_１６Ｈ_３３)，２．１８(１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，ＯＨ)，３．７９(３Ｈ，ｓ，Ｃ４−ＯＭｅ)，３．９０−４．０３(６Ｈ，ｍ，Ｃ３’，４’，５’−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_１７Ｈ_３５)，４．６５(２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，Ａｒ−ＣＨ _２−ＯＨ)，４．９７(２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ _２−Ａｒ)，６．４７(１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，８．１Ｈｚ，Ｃ５−Ｈ)，６．５３(１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，Ｃ３−Ｈ)，６．６０(２Ｈ，ｓ，Ｃ２’，６’−Ｈ)，７．１９(１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ｃ６−Ｈ)

実施例７：２−［３’，５’−ジ（ドコシルオキシ）ベンジルオキシ］−４−メトキシベンジルアルコールの合成

（ｉ）３，５−ジ（ドコシルオキシ）ベンジルアルコール(５００ｍｇ，０．６６ｍｍｏｌ)をクロロホルム(５ｍｌ)に溶解し、塩化チオニル(７１μｌ，０．９９ｍｍｏｌ)、ＤＭＦ（１０μｌ，０．１３ｍｍｏｌ)を滴下して室温で１時間攪拌した。溶媒を留去し、残渣をアセトニトリルで沈殿させて３，５−ジ（ドコシルオキシ）ベンジルクロリド(５０５ｍｇ，０．６５ｍｍｏｌ，９９％)を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８(３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，−ＯＣ_２１Ｈ_４２−Ｍｅ)，１．２０−１．６０(７６Ｈ，ｂｒ，Ａｌｋｙｌ−Ｈ)，１．７６(２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２−)，３．９３(４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_２１Ｈ_４３)，４．４９(２Ｈ，ｓ，ｂｅｎｚｙｌ−Ｈ)，６．３９(１Ｈ，ｂｒ，ｔ，Ｐｈ，Ｃ４−Ｈ)，６．５１(２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ２，６−Ｈ)
（ｉｉ）３，５−ジ（ドコシルオキシ）ベンジルクロリド(４５０ｍｇ，０．５８ｍｍｏｌ)、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンズアルデヒド(１８５ｍｇ，１．２２ｍｍｏｌ)、炭酸カリウム(２００ｍｇ，１．４５ｍｍｏｌ)をＤＭＦ（４．５ｍｌ)に懸濁し、８０℃で６時間攪拌した。反応液をクロロホルム（２０ｍｌ）で抽出し、１Ｎ塩酸(７ｍｌ)で３回洗浄した。溶媒を留去して得られた残渣をメタノール(５ｍｌ)で沈殿させて、２−［３’，５’−ジ（ドコシルオキシ）ベンジルオキシ］−４−メトキシベンズアルデヒド(５０２ｇ，０．５６ｍｍｏｌ，９７％)を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８(３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，−ＯＣ_２１Ｈ_４２−Ｍｅ)，１．１５−１．６５(７６Ｈ，ｂｒ，Ａｌｋｙｌ−Ｈ)，１．７６(２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２−)，３．８４(３Ｈ，ｓ，−ＯＭｅ)，３．９３(４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_２１Ｈ_４３)，５．０８(２Ｈ，ｓ，ｂｅｎｚｙｌ−Ｈ)，６．４１(１Ｈ，ｂｒ，ｓ，Ｐｈ，Ｃ３ｏｒＣ５ｏｒＣ４’−Ｈ)，６．４９(１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ３ｏｒＣ５ｏｒＣ４’−Ｈ)，６．５３−６．６０(３Ｈ，ｍ，Ｐｈ，Ｃ２’，Ｃ６’−Ｈ，Ｃ３ｏｒＣ５ｏｒＣ４’−Ｈ)，７．１６(１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ６−Ｈ)
（ｉｉｉ）２−[３’，５’−ジ（ドコシルオキシ）ベンジルオキシ]−４−メトキシベンズアルデヒド(４５０ｍｇ，０．５０ｍｍｏｌ)をＴＨＦ−ＥｔＯＨ(４ｍｌ＋０．５ｍｌ)に溶解し、水素化ホウ素ナトリウム(３４ｍｇ，０．９０ｍｍｏｌ)を加えて３．５時間攪拌した。反応液に１Ｎ塩酸を滴下して反応を停止し、クロロホルム（１５ｍｌ）で抽出、１Ｎ塩酸（１０ｍｌ）で１回、水(５ｍｌ)で３回洗浄した。溶媒を留去して得られた残渣をメタノール(５ｍｌ)で沈殿させて、２−[３’，５’−ジ（ドコシルオキシ）ベンジルオキシ]−４−メトキシベンジルアルコール(４２４ｍｇ，０．４７ｍｍｏｌ，９４％)を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８(３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，−ＯＣ_２１Ｈ_４２−Ｍｅ)，１．１５−１．６５(７６Ｈ，ｂｒ，Ａｌｋｙｌ−Ｈ)，１．７６(２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２−)，３．７９(３Ｈ，ｓ，−ＯＭｅ)，３．９５(４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_２１Ｈ_４３)，４．６６(２Ｈ，ｓ，Ａｒ−ＣＨ _２−ＯＨ)，５．００(２Ｈ，ｓ，Ａｒ−ＣＨ _２−Ｏ−Ａｒ)，６．４０(１Ｈ，ｂｒ，ｔ，Ｐｈ，Ｃ３ｏｒＣ５ｏｒＣ４’−Ｈ)，６．４７(１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，８．１Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ３ｏｒＣ５ｏｒＣ４’−Ｈ)，６．５０−６．６０(３Ｈ，ｍ，Ｐｈ，Ｃ２’，６’−Ｈ，Ｃ３ｏｒＣ５ｏｒＣ４’−Ｈ)，７．１９(１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ６−Ｈ)

実施例８：２−メトキシ−４−［２’，２’，２’−トリス（オクタデシルオキシメチル）エトキシ］ベンジルアルコールの合成

（ｉ）ペンタエリスリトール(１．５ｇ，１１．０ｍｍｏｌ)にＤＭＦ（１００ｍｌ）、１−ブロモオクタデカン(１１．４ｇ，３４．２ｍｍｏｌ)、水素化ナトリウム(６０ｗｔ％，１．５４ｇ，３８．５ｍｍｏｌ)を加え、１００℃で２２時間攪拌した。反応液を室温に戻し、クロロホルム（１５０ｍｌ）を加え、さらに１Ｎ塩酸（１５０ｍｌ）を滴下し、攪拌後、水層を除去し、有機層をさらに１Ｎ塩酸（１００ｍｌ）および水（１００ｍｌ）で洗浄した。有機層を減圧留去した後、残渣をメタノール（１５０ｍｌ）で沈殿させ、得られた沈殿物をメタノール（１５０ｍｌ）で洗浄した。粗結晶を乾燥させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:クロロホルム＝１：１→ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１)で精製し、２，２，２−トリス（オクタデシルオキシメチル）エタノール(２．２１ｇ，２．４７ｍｍｏｌ，収率２３％)を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８(３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，−ＯＣ_１７Ｈ_３４−Ｍｅ)，１．１０−１．６５(９６Ｈ，ｂｒ，Ｃ_１８Ａｌｋｙｌ−Ｈ)，３．１２(１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，ＯＨ)，３．３８(６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，−Ｃ−(ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_１７Ｈ_３５)_３)，３．４３(６Ｈ，ｓ，−Ｃ−(ＣＨ _２−Ｏ−Ｃ_１８Ｈ_３７)_３)，３．７０(２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，ＨＯ−ＣＨ _２−)
（ｉｉ）２，２，２−トリス（オクタデシルオキシメチル）エタノール（５００ｍｇ，５６０μｍｏｌ）をトルエン（１０ｍｌ）に溶解させ、トリフェニルホスフィン(２９４ｍｇ，１．１２ｍｍｏｌ)、イミダゾール(７６．２ｍｇ，１．１２ｍｍｏｌ)、ヨウ素(２８４ｍｇ，１．１２ｍｍｏｌ)を加え、１００℃で一晩攪拌した。反応液を室温に戻し、トルエン（１０ｍｌ）を追加し、水（５ｍｌ）で３回分液洗浄した。有機層を減圧留去し残渣をアセトニトリル（１０ｍｌ）で沈殿させて、１−［３−ヨード−２，２−ビス（オクタデシルオキシメチル）プロポキシ］オクタデカン(５５５ｍｇ，５５３μｍｏｌ，収率９８％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８(３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，−ＯＣ_１７Ｈ_３４−Ｍｅ)，１．１０−１．６５(９６Ｈ，ｂｒ，Ｃ_１８Ａｌｋｙｌ−Ｈ)，３．３３(６Ｈ，ｓ，−Ｃ−(ＣＨ _２−Ｏ−Ｃ_１８Ｈ_３７)_３)，３．３８(６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，−Ｃ−(ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_１７Ｈ_３５)_３)，３．４８(２Ｈ，ｓ，Ｉ−ＣＨ _２−)
（ｉｉｉ）４−ヒドロキシ−２−メトキシベンズアルデヒド(１３６ｍｇ，８９４μｍｏｌ)をＤＭＦ（１０ｍｌ）に溶解させ、１−［３−ヨード−２，２−ビス（オクタデシルオキシメチル）プロポキシ］オクタデカン(６００ｍｇ，５９８μｍｏｌ)、炭酸カリウム(１６５ｍｇ，１．１９ｍｍｏｌ)を加え、１３０℃で３日間攪拌した。反応液を室温に戻し、１Ｎ塩酸（１０ｍｌ）、クロロホルム（１０ｍｌ）を加えて攪拌後、水層を除去し、有機層を精製水（１０ｍｌ）で２回さらに洗浄した。有機層を減圧留去し、残渣をメタノールで沈殿させて、２−メトキシ−４−［２’，２’，２’−トリス（オクタデシルオキシメチル)エトキシ］ベンズアルデヒドの粗結晶(５９２ｍｇ，９６％)を得た。得られた粗結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム−ヘキサン＝２：１〜クロロホルム→ヘキサン−酢酸エチル＝１０：１)で精製した。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８(３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，−ＯＣ_１７Ｈ_３４−Ｍｅ)，１．１０−１．６０(９６Ｈ，ｂｒ，Ｃ_１８Ａｌｋｙｌ−Ｈ)，３．３８(６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，−Ｃ−(ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_１７Ｈ_３５)_３)，３．４８(６Ｈ，ｓ，−Ｃ−(ＣＨ _２−Ｏ−Ｃ_１８Ｈ_３７)_３)，３．９０(３Ｈ，ｓ，−ＯＭｅ)，４．０３(２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ _２−)，６．４３(１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ３−Ｈ)，６．５７(１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，９．０Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ５−Ｈ)，７．７８(１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ６−Ｈ)，１０．２８(１Ｈ，ｓ，Ａｒ−ＣＨＯ)
（ｉｖ）２−メトキシ−４−[２’，２’，２’−トリス（オクタデシルオキシメチル)エトキシ]ベンズアルデヒド(２８８ｍｇ，２８０μｍｏｌ)をＴＨＦ(３ｍｌ)に溶解させ、メタノール(０．３ｍｌ)、水素化ホウ素ナトリウム(３１．８ｍｇ，８４１μｍｏｌ)を加え、６０℃で２時間攪拌した。反応液を室温に戻し、１Ｎ塩酸(５ｍｌ)、クロロホルム(５ｍｌ)を加えて、攪拌後、水層を除去し、有機層を精製水(５ｍｌ)で２回さらに洗浄した。有機層を減圧留去し、残渣をアセトニトリルで共沸、真空乾燥させ、２−メトキシ−４−[２’，２’，２’−トリス（オクタデシルオキシメチル）エトキシ]ベンジルアルコールを得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８(３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，−ＯＣ_１７Ｈ_３４−Ｍｅ)，１．１０−１．６０(９６Ｈ，ｂｒ，Ｃ_１８Ａｌｋｙｌ−Ｈ)，２．０９(１Ｈ，ｂｒ，ＯＨ)，３．３８(６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，−Ｃ−(ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_１７Ｈ_３５)_３)，３．４８(６Ｈ，ｓ，−Ｃ−(ＣＨ _２−Ｏ−Ｃ_１８Ｈ_３７)_３)，３．８５(３Ｈ，ｓ，−ＯＭｅ)，３．９５(２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ_２−)，４．６０(１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，ｂｅｎｚｙｌ−Ｈ)，６．４０−６．５５(２Ｈ，ｍ，Ｐｈ，Ｃ３，５−Ｈ)，６．５７(１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，９．０Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ５−Ｈ)，７．１２(１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ６−Ｈ)

実施例９：２−メトキシ−４−［２’，２’，２’−トリス（オクタデシルオキシメチル）エトキシ］ベンジルアミンの合成

（ｉ）２−メトキシ−４−［２’，２’，２’−トリス（オクタデシルオキシメチル）エトキシ］ベンズアルデヒド(５０ｍｇ，０．０４９ｍｍｏｌ)をジクロロメタン(１ｍｌ)に溶解し、ヒドロキシルアミン塩酸塩(１８ｍｇ，０．２６ｍｍｏｌ)、トリエチルアミン(５１μｌ，０．３７ｍｍｏｌ)を加えて室温で４時間攪拌した。溶媒を留去し、残渣をアセトニトリルで沈殿させて、２−メトキシ−４−［２’，２’，２’−トリス（オクタデシルオキシメチル）エトキシ］ベンズアルデヒドオキシム(４３ｍｇ，０．０４１ｍｍｏｌ，８５％)を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８(３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，−ＯＣ_１７Ｈ_３４−Ｍｅ)，１．１０−１．６０(９６Ｈ，ｂｒ，Ｃ１８Ａｌｋｙｌ−Ｈ)，３．３８(６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，−Ｃ−(ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_１７Ｈ_３５)_３)，３．４８(６Ｈ，ｓ，−Ｃ−(ＣＨ _２−Ｏ−Ｃ_１８Ｈ_３７)_３)，３．８３(３Ｈ，ｓ，−ＯＭｅ)，３．９８(２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ _２−)，６．４３(１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ３−Ｈ)，６．５２(１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，８．７Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ５−Ｈ)，６．９４(１Ｈ，ｂｒ，Ｎ−ＯＨ)，７．６１(１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ６−Ｈ)，８．４１(１Ｈ，ｓ，−ＣＨ＝Ｎ−)
（ｉｉ）２−メトキシ−４−［２’，２’，２’−トリス（オクタデシルオキシメチル）エトキシ］ベンズアルデヒドオキシム(４０ｍｇ，０．０３８ｍｍｏｌ)をＴＨＦ(１ｍｌ)に溶解し、水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＬ)−トルエン溶液(１２７μｌ，０．１３ｍｍｏｌ)を滴下して２．５時間攪拌した。反応液に１Ｎ塩酸(２ｍｌ)を滴下して反応を停止し、クロロホルム(２ｍｌ)で抽出、１０％炭酸ナトリウム水溶液(１ｍｌ)で洗浄した。溶媒を留去し、残渣にアセトニトリル(１ｍｌ)を加え、沈殿物を濾取し、シリカゲルクロマトグラフィーで精製して２−メトキシ−４−［２’，２’，２’−トリス（オクタデシルオキシメチル）エトキシ］ベンジルアミン(４３ｍｇ，０．０４１ｍｍｏｌ，８５％)を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８(３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，−ＯＣ_１７Ｈ_３４−Ｍｅ)，１．１０−１．６０(９６Ｈ，ｂｒ，Ｃ_１８Ａｌｋｙｌ−Ｈ)，２．８２(２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，−ＮＨ _２)，３．３８(６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，−Ｃ−(ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_１７Ｈ_３５)_３)，３．４８(６Ｈ，ｓ，−Ｃ−(ＣＨ _２−Ｏ−Ｃ_１８Ｈ_３７)_３)，３．８２(３Ｈ，ｓ，−ＯＭｅ)，３．７０−４．００(２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ_２−，ｂｅｎｚｙｌ−Ｈ)，６．４０−６．５０(３Ｈ，ｍ，Ｐｈ，Ｃ３，５，６−Ｈ)

実施例１０：４−メトキシ−２−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンジルアルコールの合成

（ｉ）３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）安息香酸メチル（１ｇ,１０．６ｍｍｏｌ)にシクロヘキサンを加え、５％ロジウム−炭素（０．８ｇ）を添加し８０℃、１０気圧にて水素還元を実施し、テトラヒドロフラン（１０ｍｌ）を加えて触媒を濾過し、濾液を濃縮してメタノール（８ｍｌ）を加え攪拌させた。沈殿物を濾取して乾燥させ３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルカルボン酸メチル（８２０ｍｇ，０．８７ｍｍｏｌ，８２％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８９(９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，Ｃ_１７Ｈ_３４−Ｍｅ)，１．２５−１．４４(９０Ｈ，ｍ)，１．５２−１．６０(６Ｈ，ｍ)，１．８６−１．９４(４Ｈ，ｍ)，２．２３（１Ｈ，ｍ），３．０９−３．１４（２Ｈ，ｍ），３．４１−３．４７(４Ｈ，ｍ)，３．６４−３．６８（５Ｈ，ｍ），３．８６（１Ｈ，ｓ）
（ｉｉ）３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルカルボン酸メチル(７０．０ｇ，７３．９ｍｍｏｌ)をＴＨＦ(１０５０ｍｌ)に溶解し、窒素雰囲気下、０℃でＤＩＢＡＬ(１．０ｍｏｌ／Ｌトルエン溶液，２００ｍｌ，２００ｍｍｏｌ)を４０分間かけて滴下した。室温で２時間攪拌した後、０℃で０．２Ｎ塩酸（５０ｍｌ）を滴下して反応を停止した。溶媒を半分程度留去し、クロロホルム(７００ｍｌ)に溶解して１Ｎ塩酸(３００ｍｌ)で３回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液(３００ｍｌ)で１回、２０％食塩水(３００ｍｌ)で１回洗浄した。溶媒を留去し、残渣をメタノール(７００ｍｌ)で沈殿させて、アセトニトリルで洗浄して３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルアルコール(６８．２ｇ，７４．２ｍｍｏｌ，１００％)を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８(９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，Ｃ_１７Ｈ_３４−Ｍｅ)，１．１５−１．８０(１０１Ｈ，ｂｒ，ｍ，Ｃ１−Ｈ，Ｃ２，６−Ｈ _２，Ｃ３，４，５−ＯＣＨ_２−Ｃ_１６Ｈ _３２−ＣＨ_３)，３．１０−３．２０(２Ｈ，ｂｒ，ｍ，Ｃ３，５−Ｈ)，３．３５−３．６０(６Ｈ，ｍ，Ｃ３，５−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_１７Ｈ_３５，Ｃｙ−ＣＨ _２−ＯＨ)，３．６７(２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，Ｃ４−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_１７Ｈ_３５)，３．９０(１Ｈ，ｓ，Ｃ４−Ｈ)
（ｉｉｉ）３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルアルコール(６８．５ｇ，７４．５ｍｍｏｌ)をクロロホルム(７００ｍｌ)に溶解し、ピリジン(２６．９ｍｌ，０．３３ｍｏｌ)、ＤＭＡＰ(９０３ｍｇ，７．３９ｍｍｏｌ)、ｐ−トルエンスルホニルクロリド(４４．９ｇ，０．２３６ｍｏｌ)を加えて５日間攪拌した。溶媒を留去し、残渣をアセトニトリル(７００ｍｌ)で沈殿させた後、アセトニトリル(７００ｍｌ)で洗浄して、３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルトシレート(７６．９ｇ，７１．６ｍｍｏｌ，９６％)を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８(９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，Ｃ_１７Ｈ_３４−Ｍｅ)，１．１５−１．８０(１０１Ｈ，ｂｒ，ｍ，Ｃ１−Ｈ，Ｃ２，６−Ｈ _２，Ｃ３，４，５−ＯＣＨ_２−Ｃ_１６Ｈ _３２−ＣＨ_３)，２．４５(３Ｈ，ｓ，Ｍｅ(Ｔｓ))，３．０５−３．１２(２Ｈ，ｂｒ，ｍ，Ｃ３，５−Ｈ)，３．３０−３．５５(４Ｈ，ｍ，Ｃ３，５−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_１７Ｈ_３５)，３．６２(２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，Ｃ４−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_１７Ｈ_３５)，３．８０−３．９０(３Ｈ，ｍ，Ｃ４−Ｈ，Ｃｙ−ＣＨ _２−ＯＴｓ)，７．３４(２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ｃ２’，６’−Ｈ)，７．７８(２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，Ｃ３’，５’−Ｈ)
（ｉｖ）３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルトシレート(７６．９ｇ，７１．６ｍｍｏｌ)、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンズアルデヒド(１６．９ｇ，０．１１ｍｏｌ)、炭酸カリウム(２５．６ｇ，０．１８ｍｏｌ)をＤＭＦ（７００ｍｌ)に懸濁し、８０℃で一晩攪拌した。反応液をクロロホルム(７００ｍｌ)に溶解し、０．５Ｎ塩酸(３００ｍｌ)で２回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液(３００ｍｌ)で１回、純水(３００ｍｌ)で１回洗浄した。溶媒を留去し、残渣をメタノール(７００ｍｌ)で沈殿させて４−メトキシ−２−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンズアルデヒド(７３．５６ｇ，６９．８ｍｍｏｌ，９７％)を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８(９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，Ｃ_１７Ｈ_３４−Ｍｅ)，１．１５−１．９０(１０１Ｈ，ｂｒ，ｍ，Ｃ１’−Ｈ，Ｃ２’，６’−Ｈ _２，Ｃ３’，４’，５’−ＯＣＨ_２−Ｃ_１６Ｈ _３２−ＣＨ_３)，３．１５−３．２５(２Ｈ，ｂｒ，ｍ，Ｃ３’，５’−Ｈ)，３．３５−３．５５(４Ｈ，ｍ，Ｃ３’，５’−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_１７Ｈ_３５)，３．６８(２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，Ｃ４’−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_１７Ｈ_３５)，３．８７(３Ｈ，ｓ，Ｃ４−ＯＭｅ)，３．９０(２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，Ｃｙ−ＣＨ _２−ＯＡｒ)，３．９５(１Ｈ，ｓ，Ｃ４’−Ｈ)，６．４１(１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，Ｃ３−Ｈ)，６．５４(１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，８．７Ｈｚ，Ｃ５−Ｈ)，７．８１(１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，Ｃ６−Ｈ)，１０．３５(１Ｈ，ｓ，ＣＨＯ)
（ｖ）４−メトキシ−２−[３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ]ベンズアルデヒド(７３．５６ｇ，６９．８ｍｍｏｌ)をＴＨＦ−メタノール(１１００ｍｌ＋５５ｍｌ)に溶解し、０℃で水素化ホウ素ナトリウム(３．１７ｇ，８３．８ｍｍｏｌ)を加えた。室温で１．５時間攪拌した後、０℃で０．２Ｎ塩酸（１５０ｍｌ）を加えて反応を停止した。溶媒を半分程度留去し、クロロホルム(１４００ｍｌ)に溶解して０．１Ｎ塩酸(７００ｍｌ)で２回、純水(７００ｍｌ)で２回洗浄した。溶媒を留去し、残渣をメタノール(８００ｍｌ)で沈殿させた後、アセトニトリル(８００ｍｌ)で洗浄して、４−メトキシ−２−[３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ]ベンジルアルコール(７１．５ｇ，６７．７ｍｍｏｌ，収率９２％ｖｓ３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキサンカルボン酸メチル)を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８(９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，Ｃ_１７Ｈ_３４−Ｍｅ)，１．１５−１．４５(１０１Ｈ，ｂｒ，ｍ，Ｃ１’−Ｈ，Ｃ２’，６’−Ｈ _２，Ｃ３’，４’，５’−ＯＣＨ_２−Ｃ_１６Ｈ _３２−ＣＨ_３)，２．１０(１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，ＯＨ)，３．１８(２Ｈ，ｂｒ，ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，Ｃ３’，５’−Ｈ)，３．３７−３．５７(４Ｈ，ｍ，Ｃ３’，５’−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_１７Ｈ_３５)，３．６８(２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，Ｃ４’−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_１７Ｈ_３５)，３．８０(３Ｈ，ｓ，Ｃ４−ＯＭｅ)，３．８６(２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，Ｃｙ−ＣＨ _２−ＯＡｒ)，３．９４(１Ｈ，ｓ，Ｃ４’−Ｈ)，４．６２(２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，Ａｒ−ＣＨ _２−ＯＨ)，６．３９−６．４９(２Ｈ，ｍ，Ｃ３−Ｈ，Ｃ５−Ｈ)，７．１７(１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，Ｃ６−Ｈ)

実施例１１：２−メトキシ−４−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンジルアルコールの合成

（ｉ）３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルアルコール（２３８ｍｇ，０．２６ｍｍｏｌ）、４−ヒドロキシ−２−メトキシベンズアルデヒド（７９ｍｇ，０．５２ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（１４９ｍｇ，０．５７ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（６ｍｌ）に溶解し、アゾジカルボン酸ジイソプロピル（１１５ｍｇ，０．５７ｍｍｏｌ）を加えて５．５時間攪拌した。反応液に水（１ｍｌ）を加えた後濃縮し、残渣をアセトニトリル（２．５ｍｌ）で沈殿させて、２−メトキシ−４−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンズアルデヒド（２７２ｍｇ，０．２６ｍｍｏｌ，１００％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８(９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，Ｃ_１７Ｈ_３４−Ｍｅ)，１．１５−１．９０（１０１Ｈ，ｂｒ, ｍ，Ｃ１’−Ｈ，Ｃ２’，６’−Ｈ _２，Ｃ３’，４’，５’−ＯＣＨ_２−Ｃ_１６Ｈ _３２−ＣＨ_３)，３．１８(２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，Ｃ３’，５’−Ｈ)，３．３５−３．５５（４Ｈ，ｍ，Ｃ３’，５’−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_１７Ｈ_３５），３．６８(２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，Ｃ４’−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_１７Ｈ_３５)，３．７５−４．００(３Ｈ，ｍ，Ｃｙ−ＣＨ _２−ＯＡｒ，Ｃ４’−Ｈ)，３．９０(３Ｈ，ｓ，Ｃ４−ＯＭｅ)，６．４２(１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，Ｃ３−Ｈ)，６．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，Ｃ５−Ｈ），７．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，Ｃ６−Ｈ），１０．２８（１Ｈ，ｓ，ＣＨＯ）
（ｉｉ）２−メトキシ−４−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンズアルデヒド(２７２ｍｇ，０．２６ｍｍｏｌ)をクロロホルム-メタノール(６ｍｌ＋０．５ｍｌ)に懸濁し、水素化ホウ素ナトリウム(２９ｍｇ，０．７７ｍｍｏｌ)を加えた。６０℃で一晩攪拌した後、クロロホルム(１２ｍｌ)に溶解して０．５Ｎ塩酸(８ｍｌ)、純水(８ｍｌ)で洗浄した。溶媒を留去し、残渣をアセトニトリル(２．５ｍｌ)で沈殿させて、２−メトキシ−４−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンジルアルコール(２６０ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ，９５％)を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，Ｃ_１７Ｈ_３４−Ｍｅ），１．１５−１．４５（１０１Ｈ，ｂｒｍ，Ｃ１’−Ｈ，Ｃ２’，６’−Ｈ _２，Ｃ３’，４’，５’−ＯＣＨ_２−Ｃ_１６Ｈ _３２−ＣＨ_３），２．１１(１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，ＯＨ)，３．１８(２Ｈ，ｂｒ，ｄ，Ｊ＝１０．３Ｈｚ，Ｃ３’，５’−Ｈ)，３．３５−３．５７(４Ｈ，ｍ，Ｃ３’，５’−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_１７Ｈ_３５)，３．６８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，Ｃ４’−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_１７Ｈ_３５），３．７５−３．９０（２Ｈ，ｍ，Ｃｙ−ＣＨ _２−ＯＡｒ)，３．８４(３Ｈ，ｓ，Ｃ４−ＯＭｅ)，３．９３ (１Ｈ，ｓ，Ｃ４’−Ｈ)，４．６０ (２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，Ａｒ−ＣＨ _２−ＯＨ)，６．３８−６．５０(２Ｈ，ｍ，Ｃ３−Ｈ，Ｃ５−Ｈ)，７．１３(１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，Ｃ６−Ｈ)

実施例１２：３，５−ジメトキシ−４−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンジルアルコールの合成

（ｉ）３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルトシレート（１０３ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、４−ヒドロキシ−３，５−ジメトキシベンズアルデヒド（２８ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（３２ｍｇ，０．２３ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１ｍｌ）に懸濁し、８０℃で一晩攪拌した。反応液をクロロホルム（５ｍｌ）に溶解し、０．５Ｎ塩酸（３ｍｌ）で２回、５％炭酸水素ナトリウム水溶液（３ｍｌ）で１回、純水（３ｍｌ）で１回洗浄した。溶媒を留去し、残渣をメタノール（１０ｍｌ）で沈殿させて、３，５−ジメトキシ−４−［３’，４'，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンズアルデヒド（７３ｍｇ，０．０７ｍｍｏｌ，収率７０％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．１５−１．８０（９９Ｈ，ｂｒ，ｍ），３．１８−３．２１（２Ｈ，ｍ），３．４３−３．４９（４Ｈ，ｍ），３．６９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），３．７８−３．８７（９Ｈ，ｍ），６．０５（２Ｈ，ｓ），１０．３４（１Ｈ，ｓ）
（ｉｉ）３，５−ジメトキシ−４−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンズアルデヒド（７３ｍｇ，０．０７ｍｍｏｌ）をＴＨＦ２ｍｌに溶解させ、４等量の水素化ホウ素ナトリウムを加えて、４０℃で３時間攪拌した。溶媒を留去してクロロホルムを加え、１Ｎ塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。有機層の溶媒を留去して、アセトニトリルを加え、沈殿物をろ取し、乾燥させ、３，５−ジメトキシ−４−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンジルアルコール（７０ｍｇ，０．０６ｍｍｏｌ）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．１５−１．８０（９９Ｈ，ｂｒ，ｍ），３．１８−３．２１（２Ｈ，ｍ），３．４３−３．５０（４Ｈ，ｍ），３．６９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），３．７８−３．８７（９Ｈ，ｍ），４．６９（２Ｈ，ｍ），６．０３（２Ｈ，ｓ）

実施例１３：Ｎ−（４−ヒドロキシメチル−３−メトキシフェニル）−３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルカルボキサミドの合成

（ｉ）４−アミノ−２−メトキシ安息香酸メチル（７９ｍｇ，０．４４ｍｍｏｌ）をクロロホルム（１ｍｌ）に溶解させ、ＨＯＢｔ（７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）、３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルカルボン酸（２０１ｍｇ，０．２２ｍｍｏｌ）を加えた後、氷冷下にてＥＤＣ・ＨＣｌ（４５ｍｇ，０．２３ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。反応終了後、溶媒を留去して、残渣をアセトニトリル（１０ｍｌ）で沈殿させた。その後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／酢酸エチル＝１０：１）にて、Ｎ−（３−メトキシ−４−メトキシカルボニルフェニル）−３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルカルボキサミド（７０ｍｇ，０．０６ｍｍｏｌ，収率２７％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．１５−１．８０（９９Ｈ，ｍ），３．１９−３．２２（２Ｈ，ｍ），３．３９−３．４９（４Ｈ，ｍ），３．６９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），３．７（１Ｈ，ｂｒ, ｓ），３．８３（３Ｈ，ｓ），３．９２（３Ｈ，ｓ），６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｓ），７．６３（１Ｈ，ｓ），７．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）
（ｉｉ）Ｎ−（３−メトキシ−４−メトキシカルボニルフェニル）−３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルカルボキサミド（７０ｍｇ，０．０６ｍｍｏｌ）を脱水ＴＨＦ（１ｍｌ）に溶解させ、１ＭＤＩＢＡＬ／トルエン（０．２ｍｌ，０．０１２ｍｍｏｌ）を滴下し、５時間攪拌した。反応終了後、１Ｎ塩酸にて反応を停止し、クロロホルム（５ｍｌ）で抽出後、１Ｎ塩酸（３ｍｌ）で洗浄して溶媒を留去した。残渣をメタノール（１０ｍｌ）にて沈殿させ、アセトニトリル（５ｍｌ）、１Ｎ塩酸（５ｍｌ）でスラリー洗浄し、Ｎ−（４−ヒドロキシメチル−３−メトキシフェニル）−３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルカルボキサミド（６０ｍｇ，０．０６ｍｍｏｌ，収率１００％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．１５−１．８０（９９Ｈ，ｍ），３．１９−３．２２（２Ｈ，ｍ），３．３９−３．４９（４Ｈ，ｍ），３．６９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），３．８８−３．９２（４Ｈ，ｍ），４．６３（２Ｈ，ｓ），６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．５１（１Ｈ，ｓ），７．６１（１Ｈ，ｓ）

実施例１４：Ｎ−（５−ヒドロキシメチル−２−メトキシフェニル）−３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルカルボキサミドの合成

（ｉ）３−アミノ−４−メトキシ安息香酸メチル（８１ｍｇ，０．４４ｍｍｏｌ）をクロロホルム（１ｍｌ）に溶解させ、ＨＯＢｔ（７ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）、３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルカルボン酸（１９９ｍｇ，０．２２ｍｍｏｌ）を加えた後、氷冷下にてＥＤＣ・ＨＣｌ（４５ｍｇ，０．２３ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。反応終了後溶媒を留去して、残渣をアセトニトリル（１０ｍｌ）で沈殿させて、Ｎ−（２−メトキシ−５−メトキシカルボニルフェニル）−３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルカルボキサミド（２２５ｍｇ，０．２１ｍｍｏｌ，収率９５％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．１５−１．８０（９９Ｈ，ｍ），３．１９−３．２２（２Ｈ，ｍ），３．３９−３．４９（４Ｈ，ｍ），３．６９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），３．７３（１Ｈ，ｂｒ, ｓ），３．８８（３Ｈ，ｓ），３．９４（３Ｈ，ｓ），６．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．７９−８６（２Ｈ，ｍ），７．６３（１Ｈ，ｓ）
（ｉｉ）Ｎ−（２−メトキシ−５−メトキシカルボニルフェニル）−３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルカルボキサミド（２２５ｍｇ，０．２１ｍｍｏｌ）を脱水ＴＨＦ（２．５ｍｌ）に溶解させ、１ＭＤＩＢＡＬ／トルエン（０．６ｍｌ，０．６ｅｑ）を滴下し、５時間攪拌した。反応終了後、１Ｎ塩酸にて反応を停止し、クロロホルム（１０ｍｌ）で抽出後、１Ｎ塩酸（５ｍｌ）で洗浄して溶媒を留去した。残渣をメタノール（１５ｍｌ）で沈殿させて、アセトニトリル（１０ｍｌ）、１Ｎ塩酸（１０ｍｌ）でスラリー洗浄し、Ｎ−（５−ヒドロキシメチル−２−メトキシフェニル）−３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルカルボキサミド（２００ｍｇ，０．１８ｍｍｏｌ，収率８６％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．１５−１．８０（９９Ｈ，ｍ），３．１９−３．２２（２Ｈ，ｍ），３．３９−３．４９（４Ｈ，ｍ），３．６９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），３．８３−３．９４（４Ｈ，ｍ），４．５９（２Ｈ，ｍ），６．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．９０（１Ｈ，ｓ），８．３７（１Ｈ，ｓ）

実施例１５：Ｎ−（４−ヒドロキシメチルフェニル）−３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルカルボキサミドの合成

４−アミノベンジルアルコール（２８２ｍｇ，２．２９ｍｍｏｌ）をクロロホルム（４０ｍｌ）に溶解させ、ＨＯＢｔ（３２ｍｇ，０．２３ｍｍｏｌ）、３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルカルボン酸（１．１１ｇ，１．１９ｍｍｏｌ）を加えた後、氷冷下にてＥＤＣ・ＨＣｌ（３５６ｍｇ，１．８６ｍｍｏｌ）、純水（１２０μｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。反応終了後、溶媒を留去して、残渣をアセトニトリル（１０ｍｌ）で沈殿させた。その後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／酢酸エチル＝１０：１）にて単離し、Ｎ−（４−ヒドロキシメチルフェニル）−３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルカルボキサミド（５５６ｍｇ，０．５４ｍｍｏｌ，収率４５％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８７（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．１２−１．８３（９９Ｈ，ｍ），３．２０−３．２４（２Ｈ，ｍ），３．３８−３．４５（４Ｈ，ｍ），３．６９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），３．８８−３．９２（１Ｈ，ｍ），４．６３（２Ｈ，ｓ），７．２７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．５９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），８．０１（１Ｈ，ｓ）

実施例１６：４−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）−２−メトキシベンジルアルコールとＦｍｏｃ−Ｃｙｓ（Ｔｒｔ）−ＯＨとの縮合
４−(１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ)−２−メトキシベンジルアルコール(３００ｍｇ，０．４６ｍｍｏｌ)、Ｆｍｏｃ−Ｃｙｓ(Ｔｒｔ)−ＯＨ(３２６ｍｇ，０．５６ｍｍｏｌ)、ＤＭＡＰ(１１ｍｇ，０．０９０ｍｍｏｌ)をクロロホルム（６ｍｌ）に溶解し、０℃でＥＤＣ・ＨＣｌ(１１６ｍｇ，０．６１ｍｍｏｌ)を加えて室温で２．５時間攪拌した。溶媒を留去し、残渣をメタノールで沈殿させて、縮合体(５８６ｍｇ，０．４８ｍｍｏｌ，１００％)を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，−ＯＣ_２１Ｈ_４２−Ｍｅ），１．１５−１．６５（５８Ｈ，ｂｒ，Ａｌｋｙｌ−Ｈ），１．７６（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−ＯＣＨ_２−ＣＨ _２−），２．５０−２．７０（２Ｈ，ｍ，Ｓ−ＣＨ _２−），３．３９(４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，−Ｃ_１１Ｈ_２２−ＣＨ _２−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_２１Ｈ_４３)，３．７１ (３Ｈ，ｓ，ＯＭｅ)，３．９１(２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．２Ｈｚ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ _２−)，４．１５−４．２５（１Ｈ，ｍ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ９−Ｈ），４．２５−４．４０（３Ｈ，ｍ，ｆｌｕｏｒｅｎｅ−ＣＨ _２−Ｏ−，Ｃｙｓ α-Ｈ)，５．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ，ｂｅｎｚｙｌ−Ｈ），５．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，Ｆｍｏｃ−ＮＨ−），６．３５−６．４５(２Ｈ，ｍ，Ｐｈ，Ｃ３，５−Ｈ)、７．１０−７．４５（２１Ｈ，ｍ，Ｃ２，６−Ｈ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ２，３，６，７−Ｈ，Ｔｒｔ），７．５９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ１，８−Ｈ)，７．７６(２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ４，５−Ｈ)

実施例１７：２−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）−４−メトキシベンジルアルコールとＦｍｏｃ−Ｃｙｓ（Ｔｒｔ）−ＯＨとの縮合
表題化合物は、２−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）−４−メトキシベンジルアルコールから、実施例１６の合成で記載したものと同様の手順に従って合成した。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，−ＯＣ_２１Ｈ_４２−Ｍｅ)，１．１５−１．６５（５８Ｈ，ｂｒ，Ａｌｋｙｌ−Ｈ)，１．７６（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２−)，２．５０−２．７０（２Ｈ，ｍ，Ｓ−ＣＨ _２−），３．３８（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ,−Ｃ_１１Ｈ_２２−ＣＨ _２−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_２１Ｈ_４３），３．７８（３Ｈ，ｓ，ＯＭｅ），３．８６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ _２−)，４．１５−４．２５（１Ｈ，ｍ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ９−Ｈ)，４．２５−４．３５（３Ｈ，ｍ，ｆｌｕｏｒｅｎｅ−ＣＨ _２−Ｏ−，Ｃｙｓ α−Ｈ），５．１６（２Ｈ，ｓ，ｂｅｎｚｙｌ−Ｈ)，５．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ｆｍｏｃ−ＮＨ−)，６．３５−６．４３（２Ｈ，ｍ，Ｐｈ，Ｃ３，５−Ｈ)，７．１０−７．４５（２１Ｈ，ｍ，Ｃ２，６−Ｈ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ２，３，６，７−Ｈ，Ｔｒｔ），７．５９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ１，８−Ｈ），７．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ４，５−Ｈ）

実施例１８：４−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）ベンジルアルコールとＦｍｏｃ−Ｃｙｓ（Ｔｒｔ）−ＯＨとの縮合
表題化合物は、４−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）ベンジルアルコールから、実施例１６の合成で記載したものと同様の手順に従って合成した。

^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，−ＯＣ_２１Ｈ_４２−Ｍｅ)，１．１５−１．６５（５８Ｈ，ｂｒ，Ａｌｋｙｌ−Ｈ)，１．７６（２Ｈ，ｍ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２−），２．５０−２．７０（２Ｈ，ｍ，Ｓ−ＣＨ _２−），３．３９（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，−Ｃ_１１Ｈ_２２−ＣＨ _２−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_２１Ｈ_４３），３．９０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．２Ｈｚ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ _２−），４．１５−４．２５（１Ｈ，ｍ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ９−Ｈ），４．２５−４．３５（３Ｈ，ｍ，ｆｌｕｏｒｅｎｅ−ＣＨ _２−Ｏ−，Ｃｙｓ α−Ｈ），５．０８（２Ｈ，ｓ，ｂｅｎｚｙｌ−Ｈ），５．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，Ｆｍｏｃ−ＮＨ−），６．８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ３，５−Ｈ），７．１５−７．４５（２１Ｈ，ｍ，Ｃ２，６−Ｈ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ２，３，６，７−Ｈ，Ｔｒｔ），７．５９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ１，８−Ｈ），７．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ４，５−Ｈ）

実施例１９：４−メトキシ−２−[３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ]ベンジルアルコールとＦｍｏｃ−Ｃｙｓ（Ｔｒｔ）−ＯＨとの縮合
表題化合物は、４−メトキシ−２−[３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ]ベンジルアルコールから、実施例１６の合成で記載したものと同様の手順に従って合成した。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，ＯＣ_１８Ｈ_３７Ｃ１８−Ｈ），１．１０−１．６０（９０Ｈ，ｂｒ，ＯＣ_１８Ｈ_３７Ｃ３〜１７−Ｈ），１．７５（６Ｈ，ｍ，ＯＣ_１８Ｈ_３７Ｃ２−Ｈ），２．５４−２．６８（２Ｈ，ｍ，Ｔｒｔ−Ｓ−ＣＨ_２−），３．７５（３Ｈ，ｓ，−Ｂｚｌ−ＯＭｅ），３．９２（６Ｈ，ｍ，ＯＣ_１８Ｈ_３７Ｃ１−Ｈ），４．１９（１Ｈ，ｍ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ９−Ｈ），４．２６−４．３８（３Ｈ，ｍ，ｆｌｕｏｒｅｎｅ−ＣＨ _２−，Ｃｙｓ α−Ｈ），４．８８（２Ｈ，ｓ，Ａｒ_１−ＣＨ _２−Ｏ−Ａｒ_２)，５．１６−５．２８（３Ｈ，ｍ，ＮＨ，ＣｙｓＯ−ＣＨ _２−Ａｒ_１），６．４２−６．４５（２Ｈ，ｍ，Ｐｈ，Ｃ３，５−Ｈ)，６．５７(２Ｈ，ｓ，Ｐｈ，Ｃ２’，６’−Ｈ)，７．１０−７．４５（２０Ｈ，ｍ，Ｐｈ，Ｃ６−Ｈ，Ｔｒｔ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ２，３，６，７−Ｈ），７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ１，８−Ｈ），７．７５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ４，５−Ｈ）

実施例２０：２−ドコシルオキシ−４−メトキシベンジルアルコールとＦｍｏｃ−Ｍｅｔ−ＯＨとの縮合
２−ドコシルオキシ−４−メトキシベンジルアルコール（２１３ｍｇ，０．４６ｍｍｏｌ）をクロロホルム（３ｍｌ）に溶解し、Ｆｍｏｃ−Ｍｅｔ−ＯＨ（１８８ｍｇ，０．５１ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（６ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）を加えた後、氷冷下にてＥＤＣ・ＨＣｌ（１０７ｍｇ，０．５６ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応終了後溶媒を留去して、残渣をアセトニトリル（１０ｍｌ）で沈殿させて、縮合体（３４９ｍｇ，０．４３ｍｍｏｌ，収率９３％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２１−１．７９（４０Ｈ，ｍ），１．９６−２．１６（５Ｈ，ｍ），２．４３−２．４８（２Ｈ，ｍ），３．７８（３Ｈ，ｓ），３．９３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），４．２１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝３．７Ｈｚ），４．３８−４．５１（３Ｈ，ｍ），５．１２−５．２４（２Ｈ，ｍ），６．４１−６．４３（２Ｈ，ｍ），７．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２８−７．４２（４Ｈ，ｍ），７．５９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）

実施例２１：４−メトキシ−２−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンジルアルコールとＦｍｏｃ−Ｍｅｔ−ＯＨとの縮合
表題化合物は、４−メトキシ−２−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンジルアルコールから、実施例２０の合成で記載したものと同様の手順に従って合成した。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２１−１．８１（９６Ｈ，ｍ），１．９５−２．１６（５Ｈ，ｍ），２．４５−２．４６（２Ｈ，ｍ），３．６４−３．６８（２Ｈ，ｍ），３．７７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），４．１７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝３．７Ｈｚ），４．３７−４．４８（３Ｈ，ｍ），５．１２−５．２３（２Ｈ，ｍ），６．３９−６．４２（２Ｈ，ｍ），７．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２９−７．４２（４Ｈ，ｍ），７．５９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．７５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）

実施例２２：２−ドコシルオキシ−４−メトキシベンジルアルコールとＦｍｏｃ−Ｔｒｐ（Ｂｏｃ）−ＯＨとの縮合
２−ドコシルオキシ−４−メトキシベンジルアルコール（２００ｍｇ，０．４３ｍｍｏｌ）をクロロホルム（３ｍｌ）に溶解し、Ｆｍｏｃ−Ｔｒｐ（Ｂｏｃ）−ＯＨ（２５０ｍｇ，０．４７ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（６ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）を加えた後、氷冷下にてＥＤＣ・ＨＣｌ（１０８ｍｇ，０．５６ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間半攪拌した。反応終了後溶媒を留去して、残渣をアセトニトリル（１０ｍｌ）で沈殿させて、縮合体（３５５ｍｇ，０．３７ｍｍｏｌ，収率８５％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２２−１．７７（４９Ｈ，ｍ），３．２１−３．２８（２Ｈ，ｍ），３．７９（３Ｈ，ｓ），３．９１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），４．１８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝３．７Ｈｚ），４．２８−４．３７（３Ｈ，ｍ），４．７６−４．７９（１Ｈ，ｍ），５．０７−５．２１（２Ｈ，ｍ），６．３８−６．４１（２Ｈ，ｍ），７．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２７−７．５５（１１Ｈ，ｍ），７．７５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｍ）

実施例２３：４−メトキシ−２−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンジルアルコールとＦｍｏｃ−Ｔｒｐ（Ｂｏｃ）−ＯＨとの縮合
表題化合物は、４−メトキシ−２−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンジルアルコールから、実施例２２の合成で記載したものと同様の手順に従って合成した。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２０−１．７６（１０５Ｈ，ｍ），３．２４−３．２８（２Ｈ，ｍ），３．６３−３．６７（６Ｈ，ｍ），３．７８（３Ｈ，ｓ），４．１６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝３．７Ｈｚ），４．３２−４．３５（３Ｈ，ｍ），４．７４−４．７６（１Ｈ，ｍ），５．０９−５．２０（２Ｈ，ｍ），６．３７−６．３９（２Ｈ，ｍ），７．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．２６−７．５２（１１Ｈ，ｍ），７．７４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），８．０９（１Ｈ，ｍ）

比較例１：３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）ベンジルアルコールとＦｍｏｃ−Ｃｙｓ（Ｔｒｔ）−ＯＨとの縮合
表題化合物は、３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）ベンジルアルコールから、実施例１６の合成で記載したものと同様の手順に従って合成した。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，−Ｃ_１７Ｈ_３４−Ｍｅ），１．００−１．６０（９０Ｈ，ａｌｋｙｌ−Ｈ），１．６５−１．８０（６Ｈ，ｂｒ，−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ _２−Ｃ_１６Ｈ_３３），２．５０−２．７５（２Ｈ，ｂｒ，Ｔｒｔ−Ｓ−ＣＨ _２−），３．９０（６Ｈ，ｂｒ，ｓ，−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_１７Ｈ_３５），４．２１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．２Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ９−Ｈ），４．２５−４．４５（３Ｈ，ｂｒ，ｆｌｕｏｒｅｎｅ−ＣＨ _２−，Ｃｙｓ α−Ｈ），５．０４（２Ｈ，ｓ，ｂｅｎｚｙｌ−Ｈ），５．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，Ｎ−Ｈ），６．５０（２Ｈ，ｓ，Ｐｈ，Ｃ２，６−Ｈ），７．１０−７．４５（１３Ｈ，ｍ，Ｔｒｔ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ３，４，５，６−Ｈ），７．５９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ１，８−Ｈ)，７．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ４，５−Ｈ）

比較例２：２，４−ジ（ドコシルオキシ）ベンジルアルコールとＦｍｏｃ−Ｃｙｓ（Ｔｒｔ）−ＯＨとの縮合
表題化合物は、２，４−ジ（ドコシルオキシ）ベンジルアルコールから、実施例１６の合成で記載したものと同様の手順に従って合成した。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８８（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，ＯＣ_２２Ｈ_４５Ｃ２２−Ｈ），１．１０−１．６０（７６Ｈ，ｂｒ，ＯＣ_２２Ｈ_４５Ｃ３〜２１−Ｈ），１．７３（４Ｈ，ｍ，ＯＣ_２２Ｈ_４５Ｃ２−Ｈ），２．６３（２Ｈ，ｍ，Ｔｒｔ−Ｓ−ＣＨ _２−），３．８８（４Ｈ，ｍ，ＯＣ_２２Ｈ_４５Ｃ１−Ｈ），４．２２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ９−Ｈ），４．２７−４．３５（３Ｈ，ｍ，ｆｌｕｏｒｅｎｅ−ＣＨ _２−，Ｃｙｓ α−Ｈ），５．１５（２Ｈ，ｓ，ＣｙｓＯ−ＣＨ _２−Ａｒ_１），５．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，ＮＨ），６．３７−６．３９（２Ｈ，ｍ，Ｐｈ，Ｃ３，５−Ｈ），７．１０−７．４１（２０Ｈ，ｍ，Ｐｈ，Ｃ６−Ｈ，Ｔｒｔ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ２，３，６，７−Ｈ），７．５９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ１，８−Ｈ），７．７５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ４，５−Ｈ）

比較例３：３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）ベンジルアルコールとＦｍｏｃ−Ｍｅｔ−ＯＨとの縮合
表題化合物は、３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）ベンジルアルコールから、実施例２０の合成で記載したものと同様の手順に従って合成した。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８７（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．４４−１．７９（１０５Ｈ，ｍ），３．２０−３．２８（２Ｈ，ｍ），３．８９−３．９１（６Ｈ，ｍ），４．２１（１Ｈ，ｍ），４．３６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），４．７８−５．０９（３Ｈ，ｍ），６．４６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．１８−７．５５（１１Ｈ，ｍ），７．７５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），８．１１（１Ｈ，ｍ）

比較例４：３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）ベンジルアルコールとＦｍｏｃ−Ｔｒｐ（Ｂｏｃ）−ＯＨとの縮合
表題化合物は、３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）ベンジルアルコールから、実施例２２の合成で記載したものと同様の手順に従って合成した。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８７（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２１−１．８４（９６Ｈ，ｍ），２．００−２．０４（５Ｈ，ｍ），２．４８（２Ｈ，ｍ），３．９２−３．９６（６Ｈ，ｍ），４．１９−４．２４（１Ｈ，ｍ），４．４０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），４．５３−４．５５（１Ｈ，ｍ），５．０８（２Ｈ，ｍ），６．５２（ｓ，２Ｈ），７．２７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．３８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．５８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）

実施例２４：ベンジルアルコール化合物（アンカー）へのＦｍｏｃ−Ｌｅｕ−ＯＨの導入
４−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）−２−メトキシベンジルアルコール（以下、Ｂｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ_１２ＯＣ_２２）−ＯＨということもある。）（６５１ｍｇ，１．０１ｍｍｏｌ）をクロロホルム（７ｍＬ）に溶解させ、室温下でＦｍｏｃ−Ｌｅｕ−ＯＨ（７１１ｍｇ，２．０１ｍｍｏｌ）およびジメチルアミノピリジン（２４．６ｍｇ，２０１μｍｏｌ）を加え、氷浴中でＥＤＣ・ＨＣｌ（４２４ｍｇ，２．２１ｍｍｏｌ）を加えた。室温に戻し、一晩攪拌した後、反応液を減圧濃縮し、残渣にメタノールを加え、沈殿した結晶を濾取することにより、Ｆｍｏｃ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ_１２ＯＣ_２２）（９４２ｍｇ，Ｂｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ_１２ＯＣ_２２）−ＯＨに対して収率９５％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８０−１．００（９Ｈ，ｍ，−ＯＣ_２１Ｈ_４２−Ｍｅ，ＬｅｕＭｅ），１．１５−１．８５（６１Ｈ，ｂｒ，Ａｌｋｙｌ−Ｈ，Ｌｅｕ−ＣＨ _２−ＣＨＭｅ_２），３．３９（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，−Ｃ_１１Ｈ_２２−ＣＨ _２−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_２１Ｈ_４３），３．７８（３Ｈ，ｓ，ＯＭｅ），３．９２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ _２−），４．１５−４．２５（１Ｈ，ｍ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ９−Ｈ），４．３０−４．５０（３Ｈ，ｍ，ｆｌｕｏｒｅｎｅ−ＣＨ _２−Ｏ−，Ｌｅｕ α−Ｈ），５．０５−５．２５（３Ｈ，ｍ，ｂｅｎｚｙｌ−Ｈ，Ｆｍｏｃ−ＮＨ−），６．３５−６．４５（２Ｈ，ｍ，Ｐｈ，Ｃ３，５−Ｈ），７．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ６−Ｈ），７．３１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ２，７−Ｈ），７．４０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ３，６−Ｈ），７．５９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ１，８−Ｈ），７．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ４，５−Ｈ）

実施例２５：Ｆｍｏｃ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ _１２ＯＣ _２２）の脱Ｆｍｏｃ化に続く、Ｆｍｏｃ−Ｌｅｕ−ＯＨとの縮合
（ｉ）Ｆｍｏｃ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ_１２ＯＣ_２２）の粗結晶（９４２ｍｇ）をクロロホルム（９ｍＬ）に溶解させ、ジエチルアミン（１．９９ｍＬ，１９．２ｍｍｏｌ）を氷冷下で滴下した。室温まで戻した後、アセトニトリル（４．５ｍＬ）を加え、３．５時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、残渣をアセトニトリル（１０ｍＬ）で沈殿させることにより、Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ_１２ＯＣ_２２）の湿結晶を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８０−１．００（９Ｈ，ｍ，−ＯＣ_２１Ｈ_４２−Ｍｅ，ＬｅｕＭｅ)，１．１５−１．８５（６１Ｈ，ｂｒ，Ａｌｋｙｌ−Ｈ，Ｌｅｕ−ＣＨ _２−ＣＨＭｅ_２），３．３９（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，−Ｃ_１１Ｈ_２２−ＣＨ _２−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_２１Ｈ_４３），３．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．９，８．４Ｈｚ，Ｌｅｕ α−Ｈ），３．８１（３Ｈ，ｓ，ＯＭｅ），３．９５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ _２−），５．１１（２Ｈ，ｓ，ｂｅｎｚｙｌ−Ｈ），６．４０−６．５０（２Ｈ，ｍ，Ｐｈ，Ｃ３，５−Ｈ），７．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ６−Ｈ)
（ｉｉ）得られたＬｅｕ−ＯＢｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ_１２ＯＣ_２２）の湿結晶をクロロホルム（１３ｍＬ）に溶解させ、室温下でＦｍｏｃ−Ｌｅｕ−ＯＨ（３７３ｍｇ，１．０６ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ（１４．３ｍｇ，１０６μｍｏｌ）を加え、さらに、氷冷下でＥＤＣ・ＨＣｌ（２２３ｍｇ，１．１６ｍｍｏｌ）を加えた。室温に戻して、一晩攪拌した後、反応液を減圧濃縮し、残渣にメタノール（１０ｍＬ）を加え、沈殿物を濾取することで、Ｆｍｏｃ−Ｌｅｕ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ_１２ＯＣ_２２）（１．０２ｇ，Ｂｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ_１２ＯＣ_２２）ＯＨに対して収率９３％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８０−１．００(１５Ｈ，ｍ， −ＯＣ_２１Ｈ_４２−Ｍｅ，ＬｅｕＭｅ)，１．１５−１．８５（６４Ｈ，ｂｒ，Ａｌｋｙｌ−Ｈ，Ｌｅｕ −ＣＨ _２−ＣＨＭｅ_２），３．３９（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，−Ｃ_１１Ｈ_２２−ＣＨ _２−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_２１Ｈ_４３），３．７９（３Ｈ，ｓ，ＯＭｅ），３．９４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ _２−），４．１０−４．３０（２Ｈ，ｍ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ９−Ｈ，Ｌｅｕ α−Ｈ），４．３９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅ−ＣＨ _２−Ｏ−），４．５５−４．７０（１Ｈ，ｂｒ，Ｌｅｕ α−Ｈ），５．００−５．３０（３Ｈ，ｍ，ｂｅｎｚｙｌ−Ｈ，−ＮＨ−），６．２０−６．３０（１Ｈ，ｂｒ，−ＮＨ−），６．４０−６．５０（２Ｈ，ｍ，Ｐｈ，Ｃ３，５−Ｈ），７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ６−Ｈ），７．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ２，７−Ｈ），７．４０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ３，６−Ｈ），７．５８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ１，８−Ｈ），７．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ４，５−Ｈ）

実施例２６：Ｆｍｏｃ−Ｌｅｕ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ _１２ＯＣ _２２）の脱Ｆｍｏｃ化に続く、Ｆｍｏｃ−Ｄ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−ＯＨとの縮合
（ｉ）Ｆｍｏｃ−Ｌｅｕ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ_１２ＯＣ_２２）（１．０２ｇ）をクロロホルム（１０ｍＬ）に溶解させ、ジエチルアミン（１．９４ｍＬ，１８．７ｍｍｏｌ）を氷冷下で滴下した。室温まで戻した後、アセトニトリル（５ｍＬ）を加え、２．５時間攪拌した。ジエチルアミン（９７０μＬ，９．３５ｍｍｏｌ）を追加し、さらに１時間攪拌した後、反応液を減圧濃縮し、残渣をアセトニトリル（１０ｍＬ）で沈殿させることにより、Ｌｅｕ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ_１２ＯＣ_２２）の湿結晶を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８０−１．００（１５Ｈ，ｍ，−ＯＣ_２１Ｈ_４２−Ｍｅ，ＬｅｕＭｅ)，１．１５−１．８５（７０Ｈ，ｂｒ，Ａｌｋｙｌ−Ｈ，Ｌｅｕ −ＣＨ _２−ＣＨＭｅ_２），３．３９（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，−Ｃ_１１Ｈ_２２−ＣＨ _２−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_２１Ｈ_４３)，３．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．９，８．４Ｈｚ，Ｌｅｕ α−Ｈ），３．８１（３Ｈ，ｓ，ＯＭｅ），３．９５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ _２−)，５．１１（２Ｈ，ｓ，ｂｅｎｚｙｌ−Ｈ），６．４０−６．５０（２Ｈ，ｍ，Ｐｈ，Ｃ３，５−Ｈ），７．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ６−Ｈ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，Ｎ−Ｈ）
（ｉｉ）得られたＬｅｕ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ_１２ＯＣ_２２）の湿結晶をクロロホルム（１３ｍＬ）に溶解させ、室温下でＦｍｏｃ−Ｄ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−ＯＨ（４８１ｍｇ，１．０３ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ（１３．９ｍｇ，１０３μｍｏｌ）を加え、さらに、氷冷下でＥＤＣ・ＨＣｌ（２１６ｍｇ，１．１３ｍｍｏｌ）を加えた。室温に戻して、一晩攪拌した後、反応液を減圧濃縮し、残渣をメタノール（１０ｍＬ）で沈殿させることにより、Ｆｍｏｃ−Ｄ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ｌｅｕ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ_１２ＯＣ_２２）（１．１４ｇ，Ｂｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ_１２ＯＣ_２２）ＯＨに対して収率８６％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８０−１．００（１５Ｈ，ｍ，−ＯＣ_２１Ｈ_４２−Ｍｅ，ＬｅｕＭｅ），１．１５−１．８５（７９Ｈ，ｂｒ，Ａｌｋｙｌ−Ｈ，Ｌｅｕ −ＣＨ _２−ＣＨＭｅ_２，ＬｙｓＢｏｃ−ＮＨ−ＣＨ_２−(ＣＨ _２ ) _３−），３．０５−３．２０（２Ｈ，ｂｒ，Ｂｏｃ−ＮＨ−ＣＨ _２−），３．３９（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，−Ｃ_１１Ｈ_２２−ＣＨ _２−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_２１Ｈ_４３），３．７７（３Ｈ，ｓ，ＯＭｅ），３．９３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ _２−），４．０５−４．１５（１Ｈ，ｂｒ，−ＮＨ−ＣＨＲ−ＣＯ−），４．１５−４．２５（１Ｈ，ｍ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ９−Ｈ），４．３５−４．５０（３Ｈ，ｂｒ，ｆｌｕｏｒｅｎｅ−ＣＨ _２−，−ＮＨ−ＣＨＲ−ＣＯ− ｏｒ −ＮＨ−），４．５０−４．７０（２Ｈ，ｂｒ，−ＮＨ−ＣＨＲ−ＣＯ− ｏｒ −ＮＨ−），５．０９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ，ｂｅｎｚｙｌ−Ｈ），５．４５−５．５５（１Ｈ，ｂｒ，−ＮＨ−），６．３５−６．５５（４Ｈ，ｍ，Ｐｈ，Ｃ３，５−Ｈ，−ＮＨ−），７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ６−Ｈ），７．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ２，７−Ｈ），７．４０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ３，６−Ｈ），７．５９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ１，８−Ｈ），７．７６(２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ４，５−Ｈ)

実施例２７：Ｆｍｏｃ−Ｄ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ｌｅｕ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ _１２ＯＣ _２２）の脱Ｆｍｏｃ化に続く、Ｆｍｏｃ−Ｄ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−ＯＨとの縮合
（ｉ）Ｆｍｏｃ−Ｄ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ｌｅｕ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ_１２ＯＣ_２２）（１．１４ｇ）をクロロホルム（１２ｍＬ）に溶解させ、ジエチルアミン（２．６８ｍＬ，２５．８ｍｍｏｌ）を氷冷下で滴下した。室温まで戻した後、アセトニトリル（４ｍＬ）を加え、２時間攪拌した。ジエチルアミン（８９０μＬ，８．５８ｍｍｏｌ）を追加し、さらに０．５時間攪拌した後、反応液を減圧濃縮し、残渣をアセトニトリル（１０ｍＬ）で沈殿させることにより、Ｄ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ｌｅｕ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ_１２ＯＣ_２２）の湿結晶を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８０−１．００（１５Ｈ，ｍ，−ＯＣ_２１Ｈ_４２−Ｍｅ，ＬｅｕＭｅ），１．１５−１．８５（７９Ｈ，ｂｒ，Ａｌｋｙｌ−Ｈ，Ｌｅｕ −ＣＨ _２−ＣＨＭｅ_２，ＬｙｓＢｏｃ−ＮＨ−ＣＨ_２−(ＣＨ _２ ) _３−），３．１１（２Ｈ，ｂｒ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，Ｂｏｃ−ＮＨ−ＣＨ _２−），３．３９（５Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，−Ｃ_１１Ｈ_２２−ＣＨ _２−Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_２１Ｈ_４３，−ＮＨ−ＣＨＲ−ＣＯ−），３．８０（３Ｈ，ｓ，ＯＭｅ），３．９５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ _２−，−ＮＨ−ＣＨＲ−ＣＯ−），４．３０−４．４５（１Ｈ，ｂｒ，−ＮＨ−ＣＨＲ−ＣＯ−），４．５０−４．７０（２Ｈ，ｂｒ，−ＮＨ _２），５．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．９Ｈｚ，ｂｅｎｚｙｌ−Ｈ），５．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．９Ｈｚ，ｂｅｎｚｙｌ−Ｈ），６．３５−６．５０（３Ｈ，ｍ，Ｐｈ，Ｃ３，５−Ｈ，Ｎ−Ｈ），６．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，Ｎ−Ｈ），７．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ６−Ｈ），７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）
（ｉｉ）得られたＤ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ｌｅｕ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ_１２ＯＣ_２２）の湿結晶をクロロホルム（１５ｍＬ）に溶解させ、室温下でＦｍｏｃ−Ｄ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−ＯＨ（４４４ｍｇ，９４８μｍｏｌ）、ＨＯＢｔ（１２．８ｍｇ，９４．７μｍｏｌ）を加え、さらに、氷冷下でＥＤＣ・ＨＣｌ（２００ｍｇ，１．０４ｍｍｏｌ）を加えた。室温に戻して、一晩攪拌した後、クロロホルム（２０ｍＬ）、Ｆｍｏｃ−Ｄ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−ＯＨ（８９ｍｇ，１９０μｍｏｌ）、ＥＤＣ・ＨＣｌ（４０ｍｇ，２１０μmol）をそれぞれ追加し、さらに１時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、残渣をメタノール（１５ｍＬ）で沈殿させることにより、Ｆｍｏｃ−Ｄ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ｄ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ｌｅｕ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ_１２ＯＣ_２２）（１．３５ｇ，Ｂｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ_１２ＯＣ_２２）ＯＨに対して収率８５％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８０−１．００（１５Ｈ，ｍ，−ＯＣ_２１Ｈ_４２−Ｍｅ，ＬｅｕＭｅ)，１．１５−２．００（９４Ｈ，ｂｒ，Ａｌｋｙｌ−Ｈ，−Ｌｅｕ −ＣＨ _２−ＣＨＭｅ_２，ＬｙｓＢｏｃ−ＮＨ−ＣＨ_２−(ＣＨ _２ ) _３−)，３．００−３．２０（４Ｈ，ｂｒ，Ｂｏｃ−ＮＨ−ＣＨ _２−），３．１０−３．３０（１Ｈ，ｍ，−ＮＨ−ＣＨＲ−ＣＯ−)，３．３９（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，−Ｃ_１１Ｈ_２２−ＣＨ _２-Ｏ−ＣＨ _２−Ｃ_２１Ｈ_４３)，３．７７（３Ｈ，ｓ，ＯＭｅ），３．９３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，Ａｒ−Ｏ−ＣＨ _２−），４．０５−４．２０（１Ｈ，ｂｒ，−ＮＨ−ＣＨＲ−ＣＯ−），４．１５−４．２５（１Ｈ，ｍ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ９−Ｈ），４．３０−４．５０（３Ｈ，ｂｒ，ｆｌｕｏｒｅｎｅ−ＣＨ _２−，−ＮＨ−ＣＨＲ−ＣＯ− ｏｒ −ＮＨ−），４．５０−４．７５（２Ｈ，ｂｒ，−ＮＨ−ＣＨＲ−ＣＯ− ｏｒ −ＮＨ−），５．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．９Ｈｚ，ｂｅｎｚｙｌ−Ｈ），５．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．９Ｈｚ，ｂｅｎｚｙｌ−Ｈ），５．６０−５．８０（１Ｈ，ｂｒ，−ＮＨ−），６．４０−６．６０（３Ｈ，ｍ，Ｐｈ，Ｃ３，５−Ｈ，−ＮＨ−），６．７０−６．８０（１Ｈ，ｂｒ，−ＮＨ−），７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，Ｐｈ，Ｃ６−Ｈ），７．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ２，７−Ｈ)，７．３９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ３，６−Ｈ)，７．６１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ１，８−Ｈ），７．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，ｆｌｕｏｒｅｎｅＣ４，５−Ｈ)

実施例２８：Ｆｍｏｃ−Ｄ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ｄ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ｌｅｕ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ _１２ＯＣ _２２）の脱アンカー
Ｆｍｏｃ−Ｄ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ｄ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ｌｅｕ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ_１２ＯＣ_２２）の粗結晶（１．２３ｇ）をクロロホルム（１２ｍＬ）とヘプタン（１２ｍＬ）の混合液に溶解させ、氷冷下で３％トリフルオロ酢酸／（クロロホルム−ヘプタン＝１：１）溶液を滴下した。反応液を１０〜１５℃の水浴中で３時間攪拌した後、２．５％重曹水（１８ｍＬ）、クロロホルム（１８ｍＬ）を加えた。０．１Ｎ塩酸を加え、水層のｐＨを２に調整し、水層を除去し、有機層を精製水（１０ｍＬ）で３回洗浄した。有機層を合わせて減圧濃縮し、残渣にヘプタン（３０ｍＬ）を加えて、沈殿した結晶を４０℃で洗浄し、濾取することで、Ｆｍｏｃ−Ｄ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ｄ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ｌｅｕ−Ｌｅｕ−ＯＨ（８００ｍｇ，９３％）を得た。
ＭＳ（ＭＨ⁻）９２１．５

実施例２９：Ｆｍｏｃ−Ｄ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ｄ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ｌｅｕ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ _１２ＯＣ _２２）の脱アンカー（Ｂｏｃ基の脱保護を伴う脱アンカー）
Ｆｍｏｃ−Ｄ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ｄ−Ｌｙｓ（Ｂｏｃ）−Ｌｅｕ−Ｌｅｕ−ＯＢｚｌ（２−ＭｅＯ−４−ＯＣ_１２ＯＣ_２２）の粗結晶（１００ｍｇ）を氷冷下でトリフルオロ酢酸：トリイソプロピルシラン：水＝９５：２．５：２．５の溶液（２ｍｌ）中へ添加して室温で２時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、残渣にメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）/シクロヘキサンを加えて、４０℃で結晶を洗浄し濾取することで、Ｆｍｏｃ−Ｄ−Ｌｙｓ−Ｄ−Ｌｙｓ−Ｌｅｕ−Ｌｅｕ−ＯＨ２９ｍｇを得た。
ＭＳ（ＭＨ^＋）７２３．３

実験例１：Ｆｍｏｃ−Ｃｙｓ（Ｔｒｔ）−ＯＨのアンカー保護体の脱アンカー反応の収率における本発明アンカーと公知アンカーとの比較

試験化合物
本発明の４種のアンカーに、Ｆｍｏｃ−Ｃｙｓ（Ｔｒｔ）−ＯＨを導入した前述の実施例１６、１７、１８および１９に記載の化合物（以下、実施例化合物１６、１７、１８および１９という。）を試験化合物として使用した。

また、前述の非特許文献１および特許文献１に記載のアンカー分子である下記式：

（以下、Ｂｚｌ（３，４，５−ｔｒｉ−ＯＣ_１８）ＯＨという。）、および前述の特許文献３記載のアンカー分子である下記式：

（以下、Ｂｚｌ（２，４−ｄｉ−ＯＣ_２２）ＯＨという。）にＦｍｏｃ−Ｃｙｓ（Ｔｒｔ）−ＯＨをそれぞれ導入したＦｍｏｃ−Ｃｙｓ（Ｔｒｔ）−ＯＢｚｌ（３，４，５−ｔｒｉ−ＯＣ_１８）、およびＦｍｏｃ−Ｃｙｓ（Ｔｒｔ）−ＯＢｚｌ（２，４−ｄｉ−ＯＣ_２２）、すなわち、前述の比較例１および２に記載の化合物を試験化合物（以下、比較例化合物１および２という。）として使用した。

実験方法
（ｉ）各試験化合物に、室温下、トリイソプロピルシラン−水中でトリフルオロ酢酸（ＴＦＡ：Ｈ_２Ｏ：ＴＩＳ＝９５：２．５：２．５）を加え、２時間攪拌後の脱アンカー体、すなわち、Ｆｍｏｃ−Ｃｙｓ−ＯＨおよびＦｍｏｃ−Ｃｙｓ（Ｔｒｔ）−ＯＨ、の総収量を測定し、収率を算出した（表１）。
（ｉｉ）各試験化合物を、室温下、２％トリフルオロ酢酸−クロロホルム溶液中に加え、１時間攪拌後の脱アンカー体、すなわち、Ｆｍｏｃ−Ｃｙｓ−ＯＨおよびＦｍｏｃ−Ｃｙｓ（Ｔｒｔ）−ＯＨ、の総収量を測定し、収率を算出した（表２）。

実験結果
上記（ｉ）、（ｉｉ）のいずれの場合にも原料は消失し、実施例化合物１６〜１９の脱アンカー反応は、高収率で脱アンカー体のみを与えたが、２ないし３個の長鎖脂肪族炭化水素基により置換された水酸基がアンカー基に導入された比較例化合物１または２の反応においては、脱保護体の収率は低下した（表１および表２参照）。このことから、長鎖脂肪族炭化水素基により置換された水酸基を１個のみ有する本発明のアンカー化合物は、反応基質中にチオール基等の反応活性な官能基を有する場合にも脱アンカー反応が収率良く進行する汎用性の高い保護化試薬であることが確認された。

実験例２：Ｆｍｏｃ−Ｔｒｐ（Ｂｏｃ）−ＯＨのアンカー保護体、およびＦｍｏｃ−Ｍｅｔ−ＯＨのアンカー保護体の脱アンカー反応における脱保護体および副生するアルキル化体の収率についての本発明アンカーと公知アンカーとの比較

試験化合物
本発明の２種のアンカーに、Ｆｍｏｃ−Ｍｅｔ−ＯＨ、およびＦｍｏｃ−Ｔｒｐ（Ｂｏｃ）−ＯＨを導入した前述の実施例２０および２１、並びに実施例２２および２３に記載の化合物（以下、実施例化合物２０、２１、２２および２３という。）を試験化合物としてそれぞれ使用した。

また、前述の非特許文献１に記載のアンカー分子である下記式：

（以下、Ｂｚｌ（３，４，５−ｔｒｉ−ＯＣ_１８）ＯＨという。）にＦｍｏｃ−Ｍｅｔ−ＯＨ、およびＦｍｏｃ−Ｔｒｐ（Ｂｏｃ）−ＯＨをそれぞれ導入したＦｍｏｃ−Ｍｅｔ−ＯＢｚｌ（３，４，５−ｔｒｉ−ＯＣ_１８）、およびＦｍｏｃ−Ｔｒｐ（Ｂｏｃ）−ＯＢｚｌ（３，４，５−ｔｒｉ−ＯＣ_１８）、すなわち、前述の比較例３および４に記載の化合物を試験化合物（以下、比較例化合物３および４という。）として使用した。

実験方法
（ｉｉｉ）各試験化合物に、室温下、トリイソプロピルシラン−水中でトリフルオロ酢酸（ＴＦＡ：Ｈ_２Ｏ：ＴＩＳ＝９５：２．５：２．５）を加え、４時間攪拌後の脱アンカー体、すなわち、Ｆｍｏｃ−Ｍｅｔ−ＯＨ、及びアルキル化体（下記式Ａの化合物）の収量を測定し、収率を算出した（表３）。
（ｉｖ）各試験化合物に、室温下、トリイソプロピルシラン−水中でトリフルオロ酢酸（ＴＦＡ：Ｈ_２Ｏ：ＴＩＳ＝９５：２．５：２．５）を加え、４時間攪拌後の脱アンカー体、すなわち、Ｆｍｏｃ−Ｔｒｐ−ＯＨ、及びアルキル化体（下記式Ｂの化合物）の収量を測定し、収率を算出した（表４）。

実験結果
上記（ｉｉｉ）、（ｉｖ）のいずれの場合にも原料は消失し、実施例化合物２０〜２３の脱アンカー反応は、高収率で脱アンカー体（Ｆｍｏｃ−Ｍｅｔ−ＯＨ、又はＦｍｏｃ−Ｔｒｐ−ＯＨ）のみを与えたが、３個の長鎖脂肪族炭化水素基により水酸基が置換されたアンカーを導入した比較例化合物３または４の反応においては、脱アンカー体の収率は顕著に低下し（表３および表４参照）、アンカー基由来の３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）ベンジル基が、Ｆｍｏｃ−Ｍｅｔ−ＯＨのメチルチオ基、またはＦｍｏｃ−Ｔｒｐ−ＯＨのインドリル基にそれぞれ導入されたアルキル化体（Ａ、Ｂ）が多く副生することが分かった。
上記各アルキル化体の化学構造は、^１Ｈ−ＮＭＲにより確認された。
Ａの^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８７（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．３９−１．８７（９６Ｈ，ｍ），２．０１−２．２５（７Ｈ，ｍ），３．４２−４．５２（２Ｈ，ｍ），３．８８−３．９６（６Ｈ，ｍ），４．２１−４．２６（１Ｈ，ｍ），４．３４−４．３６（１Ｈ，ｍ），４．４２−４．５１（２Ｈ，ｍ），６．５３（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ，３．１Ｈｚ），７．２７−７．４３（４Ｈ，ｍ），７．６０（２Ｈ，ｍ），７．７８（２Ｈ，ｍ）；
Ｂの^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ０．８６（９Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．２０−１．７７（９６Ｈ，ｍ），３．２９（２Ｈ，ｍ），３．７９−３．９０（８Ｈ，ｍ），４．２０−４．２３（１Ｈ，ｍ），４．２７−４．５１（３Ｈ，ｍ），６．４８（２Ｈ，ｍ），７．３１−７．７５（１２Ｈ，ｍ）

このことから、長鎖脂肪族炭化水素基により置換された水酸基を１個のみ有する本発明のアンカー化合物は、反応基質中にメチルチオ基やインドリル基等の反応活性な官能基を有する場合にも、アンカー基に由来するアルキル化（ベンジル化）等の副反応を抑制することができ、脱アンカー反応が収率良く進行する汎用性の高い保護化試薬であることが確認された。

Ｎ．Ｄ．：不検出

Ｎ．Ｄ．：不検出

以上のように、前記公知の保護化試薬（アンカー）、すなわち、２個または３個の長鎖アルコキシ基を同一ベンゼン環上に有するベンジルアルコール型アンカー、を用いれば、酸性条件下での当該アンカーの除去時にアンカー由来のアルキルカチオン（ベンジルカチオン）等によりアミノ酸残基がアルキル化される等の副反応が起こり、アンカー脱保護生成物の収率が著しく低下することが分かった。これらの結果から、長鎖アルコキシ基を複数有することによりベンゼン環上の電子供与性が高まるため酸性条件下での脱アンカー時に切断されたアンカー由来のベンジルカチオン種が安定化し、該カチオン種により反応基質中のシステイン残基のチオール基、メチオニン残基のメチルチオ基、トリプトファン残基のインドリル基等の求核性基へのアルキル化が進行したと考えられる。従って、脱離したアンカー由来のベンジルカチオンと反応し得るアミノ酸残基（例えば、Ｃｙｓ、Ｔｒｐ、Ｈｉｓ、Ｍｅｔ等）を含むペプチド合成においては、前記公知の保護化試薬を用いれば、最終脱保護時等に高収率を確保できないという問題点を有することが明らかになった。

本発明の特定のベンジル化合物を用いれば、反応を均一な液相で行い、反応後に溶媒組成を変化させ単離・精製を濾過および洗浄だけで行える保護基（アンカー）として使用し得、酸性条件下での脱保護の際にもアルキル化反応を抑制しつつ、高収率で脱保護が出来、高純度の生成物を得ることが出来る有用なベンジル化合物を提供することができる。さらに、本発明はまた上記特定のベンジル化合物を使用することにより有用なペプチド合成反応、更には有用な有機合成反応（オリゴヌクレオチド合成反応を含む）を提供する。

以上、本発明の具体的な態様のいくつかを詳細に説明したが、当業者であれば示された特定の態様には、本発明の教示と利点から実質的に逸脱しない範囲で様々な修正と変更をなすことは可能である。従って、そのような修正及び変更も、すべて後記の請求の範囲で請求される本発明の精神と範囲内に含まれるものである。

本出願は、特願２００９−２９６３６６を基礎としており、その内容は本明細書に全て包含されるものである。

Claims

式（Ｉ）：

［式中、
Ｙは、ヒドロキシル基または−ＮＨＲ基（Ｒは水素原子、アルキル基またはアラルキル基を示す。）を示し；
Ｒ^ａは、脂肪族炭化水素基を有する有機基を示し、当該有機基中の総炭素数が１４以上であり；
ｎ個のＲ^ｂは、独立してそれぞれ、炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子、または１個以上のハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜６のアルキル基を示し；かつ
ｎは、０〜４の整数を示す。］
で表されるベンジル化合物。
Ｒ^ａの脂肪族炭化水素基を有する有機基中の総炭素数が１４〜２００である、請求項１記載のベンジル化合物。
Ｒ^ａの脂肪族炭化水素基を有する有機基中の総炭素数が３０〜８０である、請求項１記載のベンジル化合物。
ｎが、０〜２の整数であり、かつ、
ｎ個のＲ^ｂが、独立してそれぞれ、炭素数１〜４のアルコキシ基である、
請求項１〜３のいずれか１項記載のベンジル化合物。
Ｒ^ａが、式（ａ）：

［式中、
^＊は、結合位置を示し；
ｍ_１は、１〜１０の整数を示し；
ｍ_１個のＸ_１は、独立してそれぞれ、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−または−ＣＯＮＨ−を示し；
Ｒ_１およびｍ_１個のＲ_２は、独立してそれぞれ、炭素数５以上の２価の脂肪族炭化水素基を示し；かつ
Ｒ_３は、水素原子、または式（Ｉ’）：

（式中、^＊は、結合位置を示し；
他の記号は、請求項１と同意義を示す。）で表される基である。］で表される基；
式（ｂ）：

（式中、
^＊は、結合位置を示し；
ｍ_２は、１または２を示し；
ｎ_１、ｎ_２、ｎ_３およびｎ_４は、独立してそれぞれ、０〜２の整数を示し；
ｍ_２個のＸ_２、ｍ_２個のＸ_２ ^’およびｍ_２個のＸ_２ ^’’は、それぞれ独立して、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−または−ＣＯＮＨ−を示し；
ｍ_２個のＲ_４およびｍ_２個のＲ_６は、独立してそれぞれ、水素原子、メチル基または炭素数５以上の脂肪族炭化水素基を示し；かつ
Ｒ_５は、炭素数５以上の脂肪族炭化水素基を示す。）で表される基；
式（ｃ）：

（式中、
^＊は、結合位置を示し；
ｍ_３は、０〜１５の整数を示し；
ｎ_５は、０〜１１の整数を示し；
ｎ_６は、０〜５の整数を示し；
ｍ_３個のＸ_３は、それぞれ独立して、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−または−ＣＯＮＨ−を示し；かつ
ｍ_３個のＲ_７は、独立してそれぞれ、水素原子、メチル基または炭素数５以上の脂肪族炭化水素基を示す。）で表される基；または
式（ｄ）：

（式中、
^＊は、結合位置を示し；
ｎ_７個のＸ_４は、独立してそれぞれ、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−または−ＣＯＮＨ−を示し；
Ｒ_８は、２価の脂肪族炭化水素基を示し；
ｎ_７個のＲ_９は、独立してそれぞれ、１価の脂肪族炭化水素基を示し；
ｎ_７は、１〜５の整数を示し；かつ
Ａｒは、アリーレン基を示す。）で表される基
である、請求項１〜４のいずれか１項記載のベンジル化合物。
Ｒ^ａが、式（ａ）［式中、ｍ_１は、１であり；Ｘ_１は、単結合を示すか、または−Ｏ−であり；Ｒ_１およびＲ_２は、独立してそれぞれ、炭素数５〜８０の２価の脂肪族炭化水素基であり；かつＲ_３は、水素原子、または、式（Ｉ’’）：

（式中、^＊は、結合位置を示し；Ｙは請求項１と同意義を示す。）若しくは式（Ｉ’’’）：

（式中、^＊は、結合位置を示し；Ｙは請求項１と同意義を示す。）で表される基である。］で表される基；
式（ｂ）（式中、ｍ_２は、１であり；ｎ_１、ｎ_２、ｎ_３およびｎ_４は、それぞれ独立して、０または１であり；Ｘ_２、Ｘ_２ ^’およびＸ_２ ^’’は、それぞれ独立して、単結合を示すか、あるいは−Ｏ−であり；Ｒ_４およびＲ_６は、独立してそれぞれ、水素原子、メチル基または炭素数５〜８０の脂肪族炭化水素基であり；かつＲ_５は、炭素数５〜８０の脂肪族炭化水素基である。）で表される基；
式（ｃ）（式中、ｍ_３は、１〜５の整数であり；ｎ_５は、０〜２の整数であり；
ｎ_６は、０〜３の整数であり；ｍ_３個のＸ_３は、いずれも−Ｏ−であり；かつ、ｍ_３個のＲ_７は、独立してそれぞれ、炭素数５〜８０の脂肪族炭化水素基である。）で表される基；または
式（ｄ）（式中、ｎ_７個のＸ_４は、いずれも−Ｏ−であり；Ｒ_８およびｎ_７個のＲ_９は、独立してそれぞれ、炭素数５〜８０の１価または２価の脂肪族炭化水素基であり；ｎ_７は、１〜３の整数であり；かつＡｒが、フェニレンである。）で表される基
である、請求項５記載のベンジル化合物。
Ｒ^ａが、式（ａ）（式中、ｍ_１は、１であり；Ｘ_１は、−Ｏ−であり；Ｒ_１およびＲ_２は、独立してそれぞれ、炭素数８〜６０のアルキレン基であり；かつＲ_３は、水素原子である。）で表される基；
式（ｂ）（式中、ｍ_２は、１であり；ｎ_１、ｎ_２、ｎ_３およびｎ_４は、いずれも１であり；Ｘ_２、Ｘ_２ ^’およびＸ_２ ^’’は、いずれも−Ｏ−であり；かつＲ_４、Ｒ_５およびＲ_６は、独立してそれぞれ、炭素数８〜６０のアルキル基である。）で表される基；
式（ｃ）（式中、ｍ_３は、２または３であり；ｎ_５は、１であり；ｎ_６は、２または３であり；ｍ_３個のＸ_３は、いずれも−Ｏ−であり；かつ、ｍ_３個のＲ_７は、独立してそれぞれ、炭素数８〜６０のアルキル基である。）で表される基；または
式（ｄ）（式中、ｎ_７個のＸ_４は、いずれも−Ｏ−であり；Ｒ_８は、炭素数１〜３のアルキレン基であり；ｎ_７個のＲ_９は、独立してそれぞれ、炭素数８〜６０のアルキル基であり；ｎ_７は、１〜３の整数であり；かつＡｒは、フェニレンである。）で表される基
である、請求項５記載のベンジル化合物。
Ｒ^ａが、式（ａ）（式中、ｍ_１は、１であり；Ｘ_１は、−Ｏ−であり；Ｒ_１およびＲ_２は、独立してそれぞれ、炭素数１４〜３０のアルキレン基であり；かつＲ_３は、水素原子である。）で表される基；
式（ｂ）（式中、ｍ_２は、１であり；ｎ_１、ｎ_２、ｎ_３およびｎ_４は、いずれも１であり；Ｘ_２、Ｘ_２ ^’およびＸ_２ ^’’は、いずれも−Ｏ−であり；かつＲ_４、Ｒ_５およびＲ_６は、独立してそれぞれ、炭素数１４〜３０のアルキル基である。）で表される基；
式（ｃ）（式中、ｍ_３は、２または３であり；ｎ_５は、１であり；ｎ_６は、３であり；ｍ_３個のＸ_３は、いずれも−Ｏ−であり；かつ、ｍ_３個のＲ_７は、独立してそれぞれ、炭素数１４〜３０のアルキル基である。）で表される基；または
式（ｄ）（式中、ｎ_７個のＸ_４は、いずれも−Ｏ−であり；Ｒ_８は、炭素数１〜３のアルキレン基であり；ｎ_７個のＲ_９は、独立してそれぞれ、炭素数１４〜３０のアルキル基であり；ｎ_７は、２または３であり；かつＡｒは、フェニレンである。）で表される基
である、請求項５記載のベンジル化合物。
基ＯＲ^ａがベンゼン環上の２位または４位に存在する、請求項１〜８のいずれか１項記載のベンジル化合物。
基Ｒ^ｂが、メトキシ基である、請求項１〜９のいずれか１項記載のベンジル化合物。
Ｙがヒドロキシル基である、請求項１〜１０記載のいずれか１項記載のベンジル化合物。
Ｙが−ＮＨＲ基（式中、Ｒは請求項１記載と同意義である。）である、請求項１〜１０記載のいずれか１項記載のベンジル化合物。
４−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）ベンジルアルコール；
４−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）−２−メトキシベンジルアルコール；
４−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）−２−メトキシベンジルアミン；
２−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）−４−メトキシベンジルアルコール；
２−（１２’−ドコシルオキシ−１’−ドデシルオキシ）−４−メトキシベンジルアミン；
４−メトキシ−２−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）ベンジルオキシ］ベンジルアルコール；
２−［３’，５’−ジ（ドコシルオキシ）ベンジルオキシ］−４−メトキシベンジルアルコール；
２−メトキシ−４−［２’，２’，２’−トリス（オクタデシルオキシメチル）エトキシ］ベンジルアルコール；
２−メトキシ−４−［２’，２’，２’−トリス（オクタデシルオキシメチル）エトキシ］ベンジルアミン；
４−メトキシ−２−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンジルアルコール；
４−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンジルアルコール；
１，２２−ビス［１２−（４−ヒドロキシメチル−３−メトキシフェノキシ）ドデシルオキシ］ドコサン；および
１，２２−ビス［１２−（２−ヒドロキシメチル−５−メトキシフェノキシ）ドデシルオキシ］ドコサン
からなる群から選択される、請求項１１または１２のいずれか１項に記載のベンジル化合物。
２−ドコシルオキシ−４−メトキシベンジルアルコール；
２−メトキシ−４−［３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ］ベンジルアルコール；
３，５−ジメトキシ−４−[３’，４’，５’−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルメチルオキシ]ベンジルアルコール；
Ｎ−（４−ヒドロキシメチル−３−メトキシフェニル）−３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルカルボキサミド；
Ｎ−（５−ヒドロキシメチル−２−メトキシフェニル）−３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルカルボキサミド；および
Ｎ−（４−ヒドロキシメチルフェニル）−３，４，５−トリス（オクタデシルオキシ）シクロヘキシルカルボキサミド
からなる群から選択される、請求項１１または１２のいずれか１項に記載のベンジル化合物。
請求項１１に記載のベンジル化合物からなるアミノ酸またはペプチドのカルボキシル基保護化試薬。
請求項１１に記載のベンジル化合物からなるアミノ酸またはペプチドのＣ末端保護化試薬。
以下の工程を含む、液相合成法によるペプチドの製造方法；
（１）請求項１〜１４のいずれか１項に記載のベンジル化合物を、アミノ酸またはペプチドに結合させる工程（結合工程）、および
（２）上記工程で得られた、アミノ酸またはペプチドとベンジル化合物との結合物を沈殿させる工程（沈殿工程）。
以下の工程を含む、液相合成法によるペプチドの製造方法；
（１）請求項１〜１４のいずれか１項に記載のベンジル化合物を、Ｎ−保護アミノ酸またはＮ−保護ペプチドのＣ末端と縮合し、Ｃ−保護アミノ酸またはＣ−保護ペプチドを得る工程（Ｃ末端保護工程）、
（２）上記工程で得られたアミノ酸またはペプチドのＮ末端の保護基を除去する工程（Ｎ末端の脱保護工程）、
（３）上記工程で得られたアミノ酸またはペプチドのＮ末端に、Ｎ−保護アミノ酸またはＮ−保護ペプチドを縮合させる工程（ペプチド鎖伸長工程）、および
（４）上記工程で得られたペプチドを沈殿させる工程（沈殿工程）。
さらに以下の工程（５）〜（７）の繰り返しを１以上含む、請求項１８記載のペプチドの製造方法；
（５）沈殿工程で得られたペプチドのＮ末端の保護基を除去する工程（Ｎ末端の脱保護工程）、
（６）上記工程で得られたペプチドのＮ末端に、Ｎ−保護アミノ酸またはＮ−保護ペプチドを縮合させる工程（ペプチド鎖伸長工程）、および
（７）上記工程で得られたペプチドを沈殿させる工程（沈殿工程）。
沈殿工程の後に、Ｃ−保護ペプチドのＣ末端保護基（アンカー）を除去する工程をさらに含む、請求項１８または１９に記載のペプチドの製造方法。
請求項１〜１４のいずれか１項に記載のベンジル化合物を用いるペプチド化合物の製造方法。
請求項１〜１４のいずれか１項に記載のベンジル化合物を用いる有機化合物の製造方法。
請求項１〜１４のいずれか１項に記載のベンジル化合物によって保護されることを特徴とする、ベンジル化合物付加体。
下記式（ＩＩＩ）：

（式中、ｍ_３’は１〜３の整数を示し；ｍ_３’個のＲ_７’は、独立してそれぞれ、炭素数１４〜３０のアルキレン基を示し、かつＺ’は水酸基、または脱離基を示す。）で表される化合物。
式（ＩＩＩ）において、ｍ_３’が３であり、かつＺ’が水酸基、ハロゲン原子、１個以上のハロゲン原子で置換されていてもよいアルキルスルホニルオキシ基、または置換されていてもよいアリールスルホニルオキシ基である、請求項２４記載の化合物。