JPWO2011030902A1 - 水素分離膜及び水素分離法 - Google Patents

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Abstract

Nb−W−Mo系合金からなる新規水素分離膜を得る。この水素分離膜による水素分離法及び水素分離条件を特定の手法により選定する。このNb−W−Mo系合金膜からなる水素分離膜。このNb−W−Mo系合金膜による水素分離法、及び、それらNb−W−Mo系合金膜による水素の分離のための条件を、温度Tにおける、Nb−W−Mo系合金膜に対する水素雰囲気の水素圧力P、Nb−W−Mo系合金膜に対する固溶水素量Cを測定し、温度T、水素圧力P、固溶水素量Cの実測データを基にこれら3要件を関連付けたPCT曲線を作成し、当該PCT曲線を基に固溶水素量CとNb−W−Mo系合金膜の脆性破壊との関係を求めて耐水素脆性に係る限界固溶水素量を評価することにより、使用温度、一次側、二次側の水素圧力条件を設定する。

Description

本発明は、優れた水素透過性能及び耐水素脆性を有するNb−W−Mo系合金膜からなる水素分離膜、その水素分離膜による水素分離方法、及び、その水素分離膜による水素の分離のための条件設定法に関する。
水素含有ガスから水素を選択的に透過して分離する水素分離膜が知られている。水素分離膜の構成材料には各種金属、合金やセラミックス、あるいは分子ふるい炭素など各種あるが、その代表例としてPd系合金(特許文献1)がある。しかし、Pd系合金の水素分離膜では、Y、Gdなどの性能向上効果の大きい希土類系元素を添加した場合でも水素分離性能は2〜3倍しか向上せず、またPd自体が貴金属であるためコスト高になるという欠点がある。
特許文献2には、そのようなPd系合金膜に代わるものとして、Nbを主成分とし、V、Ta、Ni、Ti、Mo及びZrからなる群から選ばれる1種以上の元素で合金化してなるNb合金系水素分離膜が開示されている。特許文献3には、同じくNb合金からなる水素分離膜として、Pd、Ru、Re、Pt、Au及びRhからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素5〜25質量%とのNb合金からなる水素分離膜が開示されている。特許文献4には、Nb箔は、その両側にPd膜を被覆した場合、同じく両側にPd膜を被覆したTa箔、V箔に比べて水素透過量としては最も高い値を示すことが開示されている。
特許文献2にはNbとV、Ta、Ni、Ti、Mo、Zrの6種の元素の1種以上との合金からなるNb合金系水素分離膜が開示され、特許文献3にはNbとPd、Ru、Re、Pt、Au、Rhの6種の元素の1種以上との合金からなる水素分離膜が開示されているが、NbとWとの合金膜、またNbとWとTaとの合金膜が水素分離膜として有効であることについては開示されていない。
米国特許第2773561号公報 特開2000−159503号公報 特開2002−206135号公報 米国特許第3350846号公報
本発明は、Nb−W−Mo系合金膜からなる水素分離膜、Nb−W−Mo系合金膜からなる水素分離膜による水素分離法及びNb−W−Mo系合金膜からなる水素分離膜による水素の分離のための条件設定法を提供することを目的とするものである。
本発明の第1態様は、NbにWとMoを添加して合金化したNb−W−Mo合金膜からなることを特徴とする水素分離膜を提供する。
本発明の第2態様は、NbにWとMoを添加して合金化したNb−W−Mo合金膜からなる水素分離膜を使用して水素含有ガスから水素を選択的に分離することを特徴とするNb−W−Mo合金膜による水素含有ガスからの水素分離方法を提供する。
本発明の第3態様は、NbにWとMoを添加して合金化したNb−W−Mo合金膜からなる水素分離膜を使用して水素含有ガスから水素を選択的に分離する方法であって、
温度Tにおける、Nb−W−Mo合金膜に対する水素雰囲気の水素圧力P、Nb−W−Mo合金膜に対する固溶水素量Cを測定し、
温度T、水素圧力P、固溶水素量Cの実測データを基にこれら3要件を関連付けたPCT曲線を作成し、
前記PCT曲線を基に固溶水素量CとNb−W−Mo合金膜の脆性破壊との関係を求めて耐水素脆性に係る限界固溶水素量を評価することにより、水素分離膜としての使用温度、一次側、二次側の水素圧力条件を設定し、
Nb−W−Mo合金膜を前記設定条件を基に使用して水素含有ガスから水素を分離することを特徴とするNb−W−Mo合金膜による水素含有ガスからの水素分離方法を提供する。
本発明の第4態様は、Nb−W−Mo合金膜からなる水素分離膜を使用して水素含有ガスから水素を分離するための条件を設定する方法であって、
温度Tにおける、Nb−W−Mo合金膜に対する水素雰囲気の水素圧力P、Nb−W−Mo合金膜に対する固溶水素量Cを測定し、
温度T、水素圧力P、固溶水素量Cの実測データを基にこれら3要件を関連付けたPCT曲線を作成し、そして、
当該PCT曲線を基に固溶水素量CとNb−W−Mo合金膜の脆性破壊との関係を求めて耐水素脆性に係る限界固溶水素量を評価することにより、
前記Nb−W−Mo合金膜からなる水素分離膜の使用温度、一次側、二次側の水素圧力条件を設定することを特徴とするNb−W−Mo合金膜による水素の分離のための条件設定法を提供する。
本発明によれば、以下のa)〜e)の効果が得られる。
a)Nb−W−Mo合金膜からなる水素分離膜は、高い圧力(大気圧及びその前後)で水素を選択的に透過する分離膜として使用できる。
b)Nb−W−Mo合金膜からなる水素分離膜は、強度が大きく、水素透過性能が良好である。
c)Nb−W−Mo合金は安価であるので実用上有用である。
d)Nb−W−Mo合金膜からなる水素分離膜の使用温度、一次側と二次側の水素圧力をPCT曲線を利用して水素分離膜としての使用条件を最適化することができる。
e)PCT(圧力−固溶水素量−温度)曲線を利用して水素分離膜としての使用条件を最適化することができることから、Nb−W−Mo合金膜からなる水素分離膜による水素含有ガスからの水素分離の範囲を拡げることができる。
図1はスモールパンチ試験装置の構造、操作法を説明する縦断面図である。 図2は図1の装置の膜試料付近の拡大図である。 図3はNb系合金膜について、温度500℃における、雰囲気の水素圧力Pと固溶水素量Cの関係をプロットした図である。 図4はNb系合金膜について、温度400℃における、雰囲気の水素圧力Pと固溶水素量Cの関係をプロットした図である。 図5はNb−W−Mo合金の平衡水素圧とMo含有率との関係を示すグラフである。 図6はNb−5W−5Mo系合金膜について、温度500℃、450℃、400℃における、雰囲気の水素圧力Pと固溶水素量Cの関係をプロットした図である。 図7はスモールパンチ試験により求めた、純Nb、Nb−W系合金及びNb−W−Mo系合金の変形能(“荷重−変位”曲線)を示す図である。 図8は500℃におけるPd−26Ag合金、Nb−5W合金及びNb−5W−5Mo系合金について、水素透過試験の試験条件、結果を示す図である。 図9は450℃におけるNb−5W−5Mo系合金の、水素透過試験の試験条件、結果を示す図である。 図10は400℃におけるPd−26Ag合金及びNb−5W−5Mo系合金について、水素透過試験の試験条件、結果を示す図である。
以下、本発明に到達するに至る過程を含めて本発明を順次説明する。
Pd合金などの合金系の水素分離膜について、水素の透過速度を高めるためには、膜材料に対する水素の固溶量や水素の拡散速度を高くする必要がある。しかし、水素の固溶量を大きくすると、膜材料の種類如何によっては水素脆化が顕著になることが知られている。したがって、水素の透過速度と耐水素脆性との両特性を満たす膜材料を得るためには、膜材料に対する固溶水素量の確保に加えて、水素による脆化を避けるための条件を確かめ、把握することが必要となる。
NbはPd−Ag合金などのPd系合金と比較して高い水素透過係数Φを有しているが、水素脆化が起こるために水素分離膜としての使用が困難であると考えられている。特許文献2、3に記載のように、添加元素を加えて水素脆化を抑制する方法などが提案されているが、他成分を添加しNb系合金が脆化を起すことなく使用できる条件に関しては提案されていない。
Nb合金において、耐水素脆性と工業的に重要な高い水素透過速度との両立は(特許文献の請求項での記載でよく見掛ける)添加物質何%と言った単純な条件設定や制御によって単に高い溶解度や水素透過係数Φを得るだけでは困難であり、添加物質、添加量に加えて、適切な使用温度、使用圧力(一次側及び二次側)を選択することが必要である。
本発明者らは、PCT曲線(圧力組成温度曲線)を利用することで、他成分添加によって水素固溶量を抑制しつつ、高い水素濃度差を実現する最適条件を求める手法を開発し、Nb系合金でもH/M=0.2以下の領域で延性を示し、低固溶水素濃度でも使用できることを見出した。
ところで、Pd合金などの合金系の水素分離膜の性能については従来、水素透過係数Φのみを用いて評価されている。しかし、Nb合金の場合、水素の溶解反応がシーベルトの法則(シーベルツ則 Sievert's law:C=K×P1/2)に従わない場合があり、この場合には水素透過係数Φ(=DK)を用いて水素透過能を評価することは適切ではない。
シーベルツ則が成り立つ範囲では水素透過係数Φと水素透過速度Jが比例関係にあるが、前記特許文献2では“水素透過係数Φ=水素分離性能”であるとして説明され、前記特許文献3では、水素の溶解度がPd−Ag合金と比較して増加したことしか示されておらず、これでは工業的に重要な水素透過速度Jが増加するとは限らない。
しかし、本発明によれば、Nb−W−Mo合金膜については、水素分離膜としての使用温度範囲において、固溶水素量を低下させることによって耐水素脆性を改善できることがわかった。
本発明のNb−W−Mo合金膜において、好ましい組成は
W:30モル%以下、特に0.1〜30モル%とりわけ5〜15モル%
Mo:30モル%以下、特に0.1〜30モル%とりわけ5〜15モル%
Nb:残部
(Nb,W,Moの合計で100モル%)
である。Wを好ましくは30モル%以下、特に0.1〜30モル%配合することにより、純Nbよりなる膜に比べて耐水素脆性が改善される。Moを好ましくは30モル%以下、特に0.1〜30モル%配合することにより、Nb−Wよりなる膜に比べて耐水素脆性が改善される。なお、Taなどの不可避不純物を含むことがある。
本発明のNb−W−Mo合金膜は、Nb−W−Mo合金をアーク溶解法などにより溶製し、得られた合金塊に圧延加工、切削加工及び研磨加工の少なくとも1つを施して製造することができる。また、このNb−W−Mo合金膜は、多孔質体の表面にPVD、CVDなどの成膜方法によって成膜されたものであってもよい。多孔質体としては、金属材、セラミック材などのいずれでもよい。
この金属又は合金膜の膜厚は1〜500μm、特に10〜50μm程度が好適であるが、これに限定されない。なお、Nb−W−Mo合金膜の両面に、Pd又はPd合金(例えばPd−Ag合金(Ag含有量10〜30wt%))よりなる厚さ10〜500nmとりわけ50〜300nm程度の層を形成する。
水素分離膜を備えた水素製造装置としては、水素分離膜がハウジング、ケーシング又はベッセル等と称される容器内に設置され、水素分離膜で隔てられた1次室と2次室とを有し、必要に応じさらに加熱手段を有するものであれば、特にその構成は限定されない。膜の形態としても、平膜型、円筒型などのいずれの形態であってもよい。
この水素製造装置に供給される原料ガスとしては、水素を含むものであればよく、炭化水素の水蒸気改質ガス、燃料電池の燃料オフガス、水素を含むバイオガス、バイオマスガス化炉からの発生ガスなどが例示されるが、これに限定されない。
装置の運転温度(具体的には1次側のガス温度)は、膜の組成にもよるが、通常は300〜600℃特に400〜550℃程度とされる。
1次側のガス圧Pは0.1〜4.0MPa特に0.5〜0.9MPa程度が実用的であるが、これに限定されない。2次側のガス圧Pは、目標とする水素透過速度が得られるように1次圧Pを勘案して定められるのが好ましい。
Nb−W−Mo合金膜がどのような耐水素脆性をもつのかを確かめるには、その前提として、水素分離膜としての使用温度範囲における、一次側と二次側が同じ水素圧力である水素雰囲気中において、また水素透過中、すなわち一次側の水素圧力が二次側の水素圧力より大きい水素雰囲気中において、Nb合金膜の水素脆性等の機械的性質をその場で定量的に測定、評価できる試験装置が必要である。
そこで、本発明者らは、Nb−W−Mo合金膜の水素脆性等の機械的性質をその場で測定できる特殊な試験装置〔スモールパンチ試験装置〕を新たに開発し、当該スモールパンチ試験装置を用いてNb−W−Mo合金膜の水素脆性とその他の特性を定量的に測定し、評価した。
このスモールパンチ試験装置を使用することにより、Nb−W−Mo合金からなる水素分離膜材料について、その使用温度範囲において、対応するPCT(圧力−固溶水素量−温度)曲線に基づいた固溶水素量と変形、破壊形態との関係を求め、耐水素脆性についての限界固溶水素量を評価することができる。ここで、PCT曲線とは、当該Nb−W−Mo合金膜について言えば、使用温度:T、固溶水素量:C、水素圧力:Pとの関係を示したデータを意味する。
〈スモールパンチ試験装置の構造及び試験事項と、その操作法の概略〉
スモールパンチ試験装置の構造及び試験事項と、その操作法の概略を図1,2を参照して説明する。図1,2はスモールパンチ試験装置の構造、操作法を説明する図で、図1は縦断面図、図2は図1中のコア部分を拡大して示した図である。このスモールパンチ試験装置は全体としては円筒状である。
図1において、1は支持部材である。支持部材1は支持台とも言えるが、本明細書では支持部材と称している。支持部材1は縦断面が2段の凸状(2個のフランジを有する)を備えて構成され、その中央部に円筒状の空隙を有している。2は支持部材1に設けた導入水素貯留部、3は導入水素貯留部2から後述一次側水素雰囲気Yに連通する導管、5は支持部材1に設けた導出水素貯留部、4は後述二次側水素雰囲気Zから導出水素貯留部5に連通する導管である。
導入水素貯留部2は、弁Vを備える導入水素貯留部2への水素供給用の導管に連通し、導出水素貯留部5は、弁Vを備える当該導出水素貯留部5からの水素排出用の導管に連通している。
支持部材1における2段の凸状(2個のフランジを有する)のうち、1段目(図中、下の方)の凸状の外周には蛇腹(bellows)9の下端部を固定するフランジ部材(以下、固定部材と略称する。)6が配置されている。固定部材6はボルト7により支持部材1のフランジに固定され、固定部材6とフランジとの間はガスケット(銅製)8により気密シールされている。
12は支持部材1と相対する上部位置に置かれた上下動可能な上蓋部材である。上蓋部材12は縦断面が2段の逆凸状(2個のフランジを有する)に構成されている。上蓋部材12における2段の逆凸状のうち、1段目(図中、上の方)の逆凸状の外周には蛇腹9の上端部を固定するフランジ部材10が配置されている。固定部材10はボルト(図示は省略している。)により上蓋部材12のフランジに固定され、固定部材10と上蓋部材12のフランジとの間はガスケット(銅製)11により気密シールされている。
13は上蓋部材12を上下に移動させるスライディングシャフト(滑動軸)であり、その下端が支持部材1に固定されている。16はロードセルに接続された、上部から圧力を加える圧縮ロッドである。後述膜試料20をセットした後、上蓋部材12をスライディングシャフト13を介して下方に移動することにより、後述パンチャー24も下方へ移動し、後述膜試料20に所定の荷重(押圧力)を加えることができる。なお、14は閉空間Y内の圧力上昇時に上蓋部材12の脱落を防ぐためのロックナット(袋ナット)であり、13のスライディングシャフトに沿って15のスライドブッシュを介して上蓋部材12が下方に移動できる。
支持部材1、固定部材6、ガスケット8、蛇腹9、固定部材10、上蓋部材12、ガスケット11、導入水素貯留部5、後述膜試料20の上面及び後述固定部材21で囲まれた閉空間Yが、後述膜試料20に対する一次側の水素雰囲気Yとなり、後述膜試料20の下面、導管4及び導出水素貯留部5で囲まれた空間が二次側水素雰囲気Zとなる。
〈膜試料に対する水素圧力の負荷〉
導入水素貯留部2、導管3を経て供給する水素量を弁Vで調節することにより一次側の水素圧力を調節し、導管4、導出水素貯留部5を経て導出する水素量を弁Vで調節することにより二次側の水素雰囲気の水素圧力を調節する。これにより、後述膜試料20の一次側と二次側との水素雰囲気を同一の水素圧力に制御し、また異なる水素圧力に制御することができる。
〈膜試料に対する荷重の付与、計測〉
20は膜試料、19は膜試料20を支持するガスケット(ステンレス鋼製)である。21は膜試料20の固定部材、24はパンチャー、25は鋼球もしくは窒化珪素製の球である。固定部材21の下部は逆凹状に形成され、下端面から上端面に至る4箇所の貫通細孔22を有している。当該逆凹状の底部面は膜試料の上面との間にスペースを保ち、貫通細孔22は水素雰囲気Yと連通している。
固定部材21の中央部に上下貫通する円筒状の空隙と、その同心円上に4箇所の細孔を有している。固定部材21の中央部の円筒状空隙に内壁23に沿ってパンチャー24が嵌挿され、鋼もしくは窒化珪素製の球25は膜試料20の上面に当接、配置される。パンチャー24により球25を押し下げ、球25を膜試料20に押し付けることにより、所定の荷重に対応する膜試料の形状変化の有無、また形状変化有りのときの、その変化の程度を観察することができる。所定の荷重値はロードセルに接続された圧縮ロッド16により計測される。
支持部材1の中央部の円筒状空隙の近傍にはセラミックヒータ17が内蔵されており、膜試料20の近くまで熱電対18が挿入されている。セラミックヒータ17と熱電対18により膜試料の温度を測定、制御する。
本スモールパンチ試験装置は、Nb−W−Mo合金膜に対して真空〜0.3MPaの水素圧力を負荷することができ、室温〜600℃の範囲で温度制御が可能であり、それらの条件下における延性−脆性遷移を評価することが可能である。
〈スモールパンチ試験装置によるNb−W−Mo合金膜について試験〉
スモールパンチ試験装置を使用して、
サンプル1:純Nb膜、
サンプル2:Nb−5モル%W合金膜(NbとWとの合計量中、Wが5モル%のNb−W合金膜)、
サンプル3:Nb−7モル%W合金膜(NbとWとの合計量中、Wが7モル%のNb−W合金膜)、
サンプル4:Nb−5モル%W−5モル%Mo合金膜(NbとWとMoとの合計量中、Wが5モル%、Moが5モル%のNb−W−Mo合金膜)
サンプル5:Nb−5モル%W−10モル%Mo合金膜(W:5モル%、Mo:10モル%、Nb:85モル%)
サンプル6:Nb−5モル%W−15モル%Mo合金膜(W:5モル%、Mo:15モル%、Nb:80モル%)
の各試験片について試験した。これらのサンプルは、いずれも、アーク溶解法により合金塊を溶製し、次いでこの合金塊に切削加工及び研磨加工を施して製造した縦横の長さ10mm、厚さ0.5mm(体積:10mm×10mm×0.5mm=50mm3)の試験片である。
それら各試験片について、400℃、450℃又は500℃の温度において、PCT(圧力−固溶水素量−温度)測定装置により、0.001〜0.30(1×10−3〜3×10−1)MPaを超える範囲まで各水素圧力Pと固溶水素量C〔H/M(水素原子と金属原子の原子比、以下、同種の記載について同じ。)〕との間の関係を把握した上でスモールパンチ試験を行い、“荷重−変位”を測定して評価した。
一次側水素雰囲気Yと二次側水素雰囲気Zは同一の水素圧力とした。
スモールパンチ試験による水素脆性の定量評価は、以下のi)〜iii)のようにして行った。
i)“Nb−5モル%W−5モル%Mo合金膜”の試験片について、温度及び水素圧力を500℃及び0.01MPaとし、この雰囲気に1時間保持した後、当該試験片に鋼球もしくはSi製の球25による荷重により押圧力をかけながら試験片を変形させ、そのときの荷重とクロスヘッド(又は鋼球25)の移動量を試験片が破壊するまで記録を続け、“荷重−変位”曲線を作成する。
ii)当該試験片の固溶水素量〔H/M(H/Mは水素原子と金属原子の原子比)〕は、当該試験の温度500℃(≒773K)におけるPCT曲線に基づいて、当該試験で加えた水素圧力から見積もった。
iii)“荷重−変位”曲線から、膜試料が破壊に至るまでのスモールパンチ吸収エネルギーを求めた。ここで、スモールパンチ吸収エネルギーとは、試験片の変形開始から破壊に至るまでに要した仕事量に対応(相当)している。パンチャー24により鋼球もしくはSi製の球25を押し下げた圧力、つまり荷重(MPa)を変位量に対して積分する(=荷重−変位曲線の下の面積を計算する)ことでスモールパンチ吸収エネルギーを算出する。
〈PCT測定装置による測定〉
PCT(圧力−固溶水素量−温度)測定装置による測定結果の例として、前記各試験片について、500℃(773K)又は400℃(673K)の温度における固溶水素量Cと水素圧力Pの関係を図3,4に示す。また、サンプル4(Nb−5モル%W−5モル%Mo)の500℃、450℃及び400℃の各温度における固溶水素量Cと水素圧力Pの関係を図6に示す。図3,4,6中、縦軸は水素圧力P(MPa)、横軸は固溶水素量C(H/M)である。
ここで、PCT測定装置は、JIS H 7201(2007)に従ったものであり、ある温度Tにおいて、物質が水素を吸蔵、放出するときの特性(圧力P、水素吸蔵量C)を測定する装置である。図3,4における固溶水素量Cは水素吸蔵量Cに相当している。
Nb−5モル%W合金膜は、使用可能圧力範囲が400℃において0.005MPa(約0.05気圧)以下、500℃において0.05MPa(約0.5気圧)以下であり、限られた範囲でしか使えなかった。
これに対して、Nb−5モル%W合金膜の固溶水素量を抑制する元素としてMoを添加することにより、図3,4,6の通り、さらにPCT曲線を高水素圧力側へと移動させ、500℃において最高で0.6MPa(約6気圧)での使用を可能にすることができる。
図5にNb−5モル%W−5モル%Mo、Nb−5モル%W−10モル%Mo及びNb−5モル%W−15モル%Moの固溶水素濃度H/M=0.2における平衡水素圧とMo含有率との関係を示す。図5の773KのP値は、図3のH/M=0.2におけるP値であり、図5の673KのP値は、図4のH/M=0.2におけるP値である。
さらに、後述図8の通り、水素透過試験結果から、Nb−W−Mo合金膜によると、Nb−5モル%W合金膜より高い水素透過速度が得られることが分かった。
〈スモールパンチ試験〉
スモールパンチ試験結果の例として、Nb−5モル%W合金膜とNb−5モル%W−5モル%Mo合金膜の“荷重−変位”曲線を図7に示した。これらは水素圧力0.01MPaにおける結果である。比較のために、純Nbの場合についての結果も示している。試験機のクロスヘッドの移動速度(鋼球25の移動速度)Vは0.5mm/minとした。
図7の通り、500℃における水素中のその場スモールパンチ試験結果から、Nb−5モル%W−5モル%Mo合金膜は曲線下の面積が大であることからNb−5モル%W合金膜より高いスモールパンチ吸収エネルギーを持ち、高い延性を有していることが分かった。
〈水素透過試験〉
Nb−5モル%W合金膜とNb−5モル%W−5モル%Mo合金膜の水素透過試験の結果を図8〜10に示した。図8は500℃、図9は450℃、図10は400℃での結果である。図8にはNb−5モル%W合金膜及びPd−26モル%Ag合金膜についての結果も示し、図10にはPd−26モル%Ag合金膜についての結果も示している。図8〜10の横軸は試験開始からの時間、縦軸は単位時間(s)に単位面積(m)を透過する水素の量を膜厚(m)の逆数で規格化した水素透過速度J・d(mol・m−1・s−1)である。なお、図8の縦軸の記載中、符号“mol H”は水素原子としてのモル数(=原子数)の意味である。また、図8〜10中、Pは水素透過速度測定時の一次側の水素分圧(MPa)を示し、Pは二次側の水素分圧(MPa)を示す。
図8の通り、Nb−5モル%W合金膜の場合、水素透過速度は、43×10−6mol・m−1・s−1の値を示している。これに対して、Pd−26モル%Ag合金膜の透過速度は、12×10−6mol・m−1・s−1である。このようにNb−5モル%W合金膜は、良好な水素透過速度を示すが、本発明に係るNb−5モル%W−5モル%Mo合金膜においては57×10−6mol・m−1・s−1の値を示し、Pd−Ag合金膜に較べて低い圧力差しか負荷していないにも拘わらず、数倍も高い水素透過速度が得られている。
Pd−26モル%Ag合金膜等のPd系合金膜を用いた水素分離ではシーベルツ則:C=K×P1/2に従うため、高い水素透過量J〔J=D・ΔC/d(Dは拡散係数、ΔCは固溶水素濃度差、dは膜厚)〕を稼ぐためにある程度の水素分圧差(ΔP)が必要であるが、Nb系合金の場合、シーベルツ則に従わないため、低い水素分圧差(ΔP)でも高い固溶水素濃度差(ΔC)が得られ、高い水素透過量(J)を得ることができる。
使用温度でのPCT曲線を測定することで、本発明に係るNb−W−Mo系合金膜の使用可能な水素圧力条件を決定できる。前述の通り、500℃においては0.6MPa(約6気圧)以下の水素分圧であれば、水素分離膜として使用可能である。
また、Nb−W−Mo系合金膜の水素透過流束Jを膜厚dの逆数1/dで規格化した値であるJ・d値(=J×d値=Jd値)の評価から、Nb−W−Mo系合金膜がPd−Ag合金膜と比較して低分圧差で高い水素透過速度を得ることが分かった。500℃において、水素透過条件がプロセス側(一次側)/透過側(二次側)=0.1MPa/0.01MPaの場合、同じ面積、同じ厚さの水素分離膜であれば、Nb−W−Mo系合金膜はPd−26モル%Ag合金膜〔プロセス側(一次側)/透過側(二次側)=0.26MPa/0.06MPa〕に較べて5.7倍の水素透過量が得られる。また、Nb−W系合金膜〔プロセス側(一次側)/透過側(二次側)=0.05MPa/0.01MPa〕に対しても1.4倍の水素透過速度が得られる。見掛けの水素透過能Φは、Pd−26モル%Ag合金膜が2.3×10−8(mol−1・m−1・s−1・Pa−1/2)であるのに対し、Nb−W−Mo系合金膜は約5.7倍の1.3×10−7(mol−1・m−1・s−1・Pa−1/2)である。
本発明によれば、例えば水素分圧1気圧の水素を含むガスから、低い水素濃度差にもかかわらず、従来のPd−Ag合金膜などと比較して効率よく水素を分離することが可能になり、PdやAgなどの貴金属の使用量を低減することで水素分離膜の低コスト化につなげることができる。Nb−W−Mo系合金膜は、Nb−W系合金膜を上回る水素透過速度を有しているため、非Pd系水素分離膜として、より効率的な水素分離を用いた水素製造が可能となる。
本発明を特定の態様を用いて詳細に説明したが、本発明の意図と範囲を離れることなく様々な変更が可能であることは当業者に明らかである。
なお、本出願は、2009年9月14日付で出願された日本特許出願(特願2009−212357)に基づいており、その全体が引用により援用される。
1 支持部材
2 支持部材1に設けた導入水素貯留部
3 水素貯留部2から一次側水素雰囲気Yに連通する導管
4 二次側水素雰囲気Zから導出水素貯留部5に連通する導管
5 支持部材1に設けた導出水素貯留部
6 蛇腹9の下端部を固定するフランジ部材
7 ボルト
8 ガスケット
9 蛇腹
10 蛇腹9の上端部を固定するフランジ部材
11 ガスケット
12 支持部材1と相対する上部位置に置かれた上下動可能な上蓋部材
13 スライディングシャフト
14 袋ナット
15 スライドブッシュ
16 ロードセルに接続された圧縮ロッド
17 セラミックヒータ
18 熱電対
19 膜試料20の支持ガスケット
20 膜試料
21 膜試料20の固定部材
22 貫通細孔
23 固定部材21の中央部の円筒状空隙の内壁
24 パンチャー
25 鋼もしくはSi製の球
26 支持部材1の凸部

Claims (8)

  1. Nb、W及びMoを含有したNb−W−Mo合金膜からなることを特徴とする水素分離膜。
  2. 請求項1において、W30モル%以下、Mo30モル%以下、残部Nbよりなることを特徴とする水素分離膜。
  3. 請求項1において、W0.1〜30モル%、Mo0.1〜30モル%、残部Nbよりなることを特徴とする水素分離膜。
  4. 請求項1において、W5〜15モル%、Mo5〜15モル%、残部Nbよりなることを特徴とする水素分離膜。
  5. 請求項1ないし4のいずれか1項の水素分離膜を使用して水素含有ガスから水素を選択的に分離することを特徴とする水素分離方法。
  6. 請求項5において、
    温度Tにおける、Nb−W−Mo合金膜に対する水素雰囲気の水素圧力P、Nb−W−Mo合金膜に対する固溶水素量Cを測定する工程と、
    温度T、水素圧力P、固溶水素量Cの実測データを基にこれら3要件を関連付けたPCT曲線を作成する工程と、
    前記PCT曲線を基に固溶水素量CとNb−W−Mo合金膜の脆性破壊との関係を求めて耐水素脆性に係る限界固溶水素量を評価することにより、水素分離膜としての使用温度、一次側、二次側の水素圧力条件を設定する工程と、
    Nb−W−Mo合金膜を前記設定条件を基に使用して水素含有ガスから水素を分離する工程と、
    を有することを特徴とするNb−W−Mo合金膜による水素含有ガスからの水素分離方法。
  7. 請求項5又は6において、水素含有ガスからの水素の選択的分離を400〜500℃で行うことを特徴とするNb−W−Mo合金膜による水素含有ガスからの水素分離方法。
  8. Nb−W−Mo合金膜からなる水素分離膜を使用して水素含有ガスから水素を分離するための条件を設定する方法であって、
    温度Tにおける、Nb−W−Mo合金膜に対する水素雰囲気の水素圧力P、Nb−W−Mo合金膜に対する固溶水素量Cを測定する工程と、
    温度T、水素圧力P、固溶水素量Cの実測データを基にこれら3要件を関連付けたPCT曲線を作成する工程と、
    当該PCT曲線を基に固溶水素量CとNb−W−Mo合金膜の脆性破壊との関係を求めて耐水素脆性に係る限界固溶水素量を評価することにより、前記Nb−W−Mo合金膜からなる水素分離膜の使用温度、一次側、二次側の水素圧力条件を設定する工程と、
    を有することを特徴とするNb−W−Mo合金膜による水素の分離のための条件設定法。
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