JPWO2009119757A1 - 被覆金属微粒子及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
TiN含有率(質量%)=[TiN(質量%)]/[TiC(質量%)+TiN(質量%)] ・・・式(1)
金属の核粒子にTi酸化物とケイ素酸化物とを順に被覆してなる被覆金属微粒子は、金属にTi酸化物を被覆したTi被覆金属微粒子に、さらにケイ素酸化物を被覆して製造する。得られたシリカ被覆金属微粒子(「磁性シリカ粒子」とも言う。)を、分級することによりメディアン径(d50)が0.4〜0.7μm、及び粒径分布幅を表す変動係数(=標準偏差/平均粒径)が35%以下のシリカ被覆金属微粒子が得られる。
(1) Ti被覆金属微粒子の作製
Ti被覆金属微粒子は、標準生成自由エネルギー(ΔGM-O)がΔGM-O>ΔGTiO2の関係を満たす金属Mの酸化物粉末と、TiC及びTiNを含む粉末とを混合し、得られた混合粉末を非酸化性雰囲気中で熱処理することにより、金属Mの酸化物をTiC及びTiNにより還元するとともに、得られた金属Mの粒子表面を、TiO2を主体とするTi酸化物で被覆することによって作製する。
金属Mの酸化物粉末の粒径は、被覆金属微粒子の目標粒径に合わせて選択し得るが、0.001〜5μmの範囲内であるのが好ましい。粒径が0.001μm未満では、2次凝集が著しく起こるため、以下の製造工程での取り扱いが困難である。また5μm超では、金属酸化物粉末の比表面積が小さすぎるため、還元反応の進行が遅い。金属酸化物粉末の実用的な粒径は0.005〜1μmである。金属Mは遷移金属、貴金属及び希土類金属から選ばれるが、磁性材用であればFe、Co、Ni又はこれらの合金が好ましく、その酸化物としてはFe2O3、Fe3O4、CoO、Co3O4、NiO等が挙げられる。特にFeは飽和磁化が高いため好ましく、酸化物としてはFe2O3が安価である点で好ましい。TiはFeより酸化物の標準生成エネルギーが小さいため、Fe酸化物を効率良くかつ確実に還元することができる。
M酸化物を還元し、Ti酸化物で被覆され、MとTiO2以外の相が低減したM金属の微粒子を形成するために、TiC及びTiNを含む粉末を用いる。TiNをTiCと併用することによってC残存量が低減する。
M酸化物の粉末に対するTiC及びTiNを含む粉末の比率は、少なくとも還元反応の化学量論比であることが好ましい。Tiが不足すると、熱処理中にM酸化物粉末が焼結し、バルク化してしまう。
得られる磁性被覆金属微粒子は非磁性成分(TiO2を主体とするTi酸化物のみからなる粒子)を含んでいる場合があるため、必要に応じて永久磁石を用いて磁気分離操作を複数回行い、磁性粒子だけを回収するのが好ましい。
Ti被覆金属微粒子に、さらにシリカを被覆し、シリカ被覆金属微粒子を作製する。アルコール溶媒(メタノール、エタノール、n-プロパノール、i-プロパノール、ブタノール等)中に分散したTi被覆金属微粒子に、アルコキシシラン(テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、ジエトキシジメトキシシラン、アミノプロピルトリメトキシシラン等)を添加し、塩基性触媒(アンモニア、アミン、NaOH又はKOH)下で加水分解及び縮重合することによりTi被覆金属微粒子表面にシリカが被覆される。得られたシリカ被覆金属微粒子は、必要に応じて永久磁石を用いて磁気分離操作を複数回行い、磁性粒子だけを回収するのが好ましい。
シリカ被覆金属微粒子を、磁気分離による方法、デカンテーションによる方法、フィルターによる方法、遠心分離装置による方法、又はそれらの組み合わせにより、メディアン径(d50)が0.4〜0.7μm、及び粒径分布幅を表す変動係数(=標準偏差/平均粒径)が35%以下となるように分級する。分級の際には予め凝集を解消しておくのが好ましく、上記分級処理の前に分散処理を施すのが好ましい。分散処理としては、機械的解砕処理、超音波照射分散処理、気圧差を利用した分散処理等が挙げられる。
(1)被覆金属微粒子の粒径及び粒径分布
上記方法により得られる被覆金属微粒子の粒径は、M酸化物粉末の粒径に依存する。高い耐食性及び分散性を得るために、被覆金属微粒子のメディアン径(d50)は0.4〜0.7μmである。メディアン径が0.4μm未満であると、十分な厚さの被覆を確保できずに耐食性が低くなるだけでなく、1粒子当たりの磁化が極めて小さくなり磁気応答性が低くなってしまう。メディアン径(d50)が0.7μmを超えると、分散性が低下し、液体中での粒子沈降が速くなりハンドリングが難しくなる。
被覆金属微粒子は、M金属粒子の周りに順にTi酸化物被覆層とケイ素酸化物を主体とする被覆層(「ケイ素酸化物被覆層」ともいう。)とを有する三重構造となっている。M金属粒子とTi酸化物被覆層とは1対1のコア-シェル構造になっている必要はなく、TiO2を主体とするTi酸化物層中に2個以上のM金属粒子が分散した構造であっても良い。Ti酸化物の中に2個以上のM金属粒子が含まれていると、金属Mは高含有率で、かつ確実に被覆されるので好ましい。本発明の方法では、M酸化物の還元によるM金属微粒子の形成と、Ti酸化物被覆の形成とが同時に行われるので、M金属微粒子とTi酸化物被覆との間にM金属酸化物層が認められない。また650℃以上の熱処理により得られるTi酸化物被覆の結晶性は高く、ゾル-ゲル法等により得られる非晶質又は低結晶性のTi酸化物被覆より高い耐食性を示す。またTiO2を主体とした被覆を有する本発明の被覆金属微粒子は、被覆に欠陥が少ないので、不定比組成のTinO2n-1の被覆を有するものより高い耐食性を示す。
TiO2を主体とするTi酸化物被覆の厚さは1〜1000 nmが好ましい。厚さが1 nm未満であると、被覆金属微粒子は十分な耐食性を有さない。また厚さが1000 nm超であると、被覆金属微粒子が大きすぎ、液中での分散性が低いだけでなく、磁性金属微粒子の場合は飽和磁化が低い。より好ましいTi酸化物被覆の厚さは5〜300 nmである。ケイ素酸化物被覆の厚さは5〜500 nmが好ましく、5〜100 nmがより好ましい。被覆の厚さは被覆金属微粒子の透過電子顕微鏡(TEM)写真により求める。被覆の厚さが不均一な場合、最大厚さと最小厚さの平均を被覆の厚さとする。なお、金属微粒子は、TiO2を主体とするTi酸化物及びケイ素酸化物で完全に被覆されておらず、部分的に金属粒子が表面に露出しても構わないが、完全に被覆されているのが好ましい。
被覆金属微粒子のX線回折パターンにおけるTiO2の最大ピークの半値幅が0.3°以下で、金属Mの最大ピークに対するTiO2の最大ピークの強度比が0.03以上である場合に、Ti酸化物の結晶性が良く、被覆金属微粒子は耐食性を示す。TiO2が非晶質又は低結晶性の場合、回折ピークは観察されないかブロードであるため、最大ピーク強度比は小さく、半値幅は広い。最大ピーク強度比はより好ましくは0.05以上である。最大ピーク強度比が高くなると被覆の割合が多くなり、飽和磁化が低下する。そのため、最大ピーク強度比は3以下が好ましい。
金属Mが磁性金属Feの場合、前記製法により得られた被覆金属微粒子は50〜180 Am2/kgの範囲の飽和磁化を有し、磁性粒子として機能する。これは、被覆金属微粒子が磁性金属FeとTiO2から形成されているとしたとき、Fe+Tiに対するTiの比率が11〜67質量%である場合に相当する。磁性粒子の飽和磁化が50 Am2/kg未満と小さいと、磁界に対する応答が鈍い。また180 Am2/kg超であるとTi酸化物及びケイ素酸化物の含有率が小さく、金属Fe粒子を十分にTi酸化物及びケイ素酸化物で被覆できていないために耐食性が低く、磁気特性が劣化しやすい。従って、高い飽和磁化及び十分な耐食性を同時に得るために、被覆金属微粒子の飽和磁化は180 Am2/kg以下であるのが好ましい。磁気ビーズ等に用いる場合の回収効率や磁気分離性能に優れるためには、被覆金属微粒子の飽和磁化は95〜180 Am2/kgであるのがより好ましい。この範囲の飽和磁化は、92 Am2/kg程度の飽和磁化しか有さないマグネタイト(Fe3O4)粒子を磁気ビーズ等に用いる場合には得られない。この範囲の飽和磁化であると粒子表面に対象物質を捕捉して磁気捕集する際に十分な磁界応答性が得られる。分散性の観点から、被覆金属微粒子の保磁力は15 kA/m以下が好ましく、8 kA/m(100 Oe)以下がより好ましく、4 kA/m以下が最も好ましい。保磁力が大きい場合でもTiO2被覆を厚くすれば高分散性が得られるが、被覆金属微粒子の飽和磁化は低下してしまう。保磁力が8 kA/mを超えると、磁性粒子は無磁界でも磁気的に凝集するので、液中での分散性が低下する。
被覆金属微粒子に含有されるCの量は0.2〜1.4質量%が好ましい。含有されているCは主に原料として用いたTiC粉の余剰分の残留が原因である。金属Mの酸化物を主としてTiが還元剤となって金属Mへと還元する本発明の製法において、TiC中のCも還元剤の役割を果たし、金属Mの酸化物を補助的に還元している。C量が0.2質量%未満であることは、M酸化物の還元が不十分であることを意味しており好ましくない。C量が1.4質量%超であると金属成分の含有率が低下し、その金属がFe、Co及びNiから選ばれる少なくとも一つの元素を主成分としている場合は、飽和磁化の低下を招く。またCの残留によって被覆金属微粒子が疎水性となり、水溶液中での分散性が低下するので磁気ビーズ等の用途に用いる場合には特に好ましくない。C含有量はより好ましくは0.2〜1.1質量%である。
モル濃度が6 Mのグアニジン塩酸塩水溶液1 mL中に、金属MがFeである被覆金属微粒子25 mgを25℃で24時間浸漬したときのFeイオン溶出量は50 mg/L以下であるのが好ましい。この様なFeイオン溶出量を有する被覆金属微粒子は高カオトロピック塩濃度においても高い耐食性を示すため、カオトロピック塩水溶液中での処理を必要とするDNA抽出等の用途に好適である。Feイオン溶出量が50 mg/L以下の耐食性レベルは、アルカリ処理を施さない場合でも発現することがあるが、確実に上記耐食性レベルを得るためにはアルカリ処理を行うのが好ましい。なお、本願明細書の耐食性やX線回折に係る記述から判るとおり、本発明の被覆金属微粒子は被覆金属微粒子集合体(粉末)に相当する用語として用いている。
被覆金属微粒子表面に、アミノ基、カルボキシル基、アルデヒド基、チオール基、トシル基、ヒドロキシル基の少なくとも1種が固定化されていることが好ましい。これらの官能基が固定化されていることにより簡便に様々なリガンドを固定化できる。また官能基により溶液への分散性を調整することも可能である。
核酸抽出あるいは抗原捕捉担体として用いる場合、被覆金属微粒子は溶液中で沈降速度が遅いことが好ましい。沈降速度は、PBSバッファー中に均一分散させた被覆金属微粒子の分散液の吸光度を静置状態で測定し、1秒当たりに低下する吸光度の割合(%)で表す。対象物質を粒子と十分に反応させて捕捉するためには、沈降速度(1秒当たりの吸光度の低下率)が0.01〜0.03%であるのが好ましい。沈降速度が0.03%を超えると粒子沈降速度が速いため粒子と対象物質との反応が不十分となってしまう。沈降速度が0.01%未満であると粒子の溶液中での移動距離が小さすぎて溶液中の対象物質を均一に捕捉することができない。
メディアン径0.03μmのα-Fe2O3粉末とメディアン径1μmのTiC粉末とを、7:3の質量比でボールミルにより10時間混合し、得られた混合粉末をアルミナボート内で、窒素ガス中700℃で2時間熱処理した。得られた試料粉末のX線回折パターンを図1に示す。図1の横軸は回折の2θ(°)を示し、縦軸は回折強度(相対値)を示す。MDI社製解析ソフト「Jade,Ver.5」による解析の結果、回折ピークはα-Fe及びTiO2(ルチル構造)と同定された。
α-Fe2O3粉末とTiC粉末の質量比を、表1に示すように変更した以外参考例1と同様にして試料粉末の作製及び精製を行い、磁性粒子を得た。これらの磁性粒子の組成及び磁気特性を参考例1と同様にして測定した。結果を表1に示す。
(2)精製した磁性粒子中のFe:Tiの質量比。
熱処理温度を800℃とした以外は参考例1と同様にして磁性被覆金属微粒子を得た。この試料粉末について磁気特性を参考例1と同様にして測定した。試料粉末中のC量は高周波加熱赤外吸収法(HORIBA製EMIA-520)によって測定し、N量は不活性ガス中加熱熱伝導法(HORIBA製EMGA-1300)によって測定した。結果を表2に示す。
表2に示す原料配合比で、TiC粉末の一部をメディアン径2.8μmのTiN粉末に置換した以外は参考例6と同様にして磁性被覆金属微粒子を得た。この試料粉末の磁気特性、及びC、Nの含有量を参考例6と同様にして評価した。結果を表2に示す。
原料混合にビーズミルを用いて表3に示す時間混合した以外は参考例10と同様にして磁性被覆金属粒子を得た。この磁性粉末のメディアン径(d50)をレーザー回折型粒度分布測定装置(HORIBA製LA-920)にて測定した。結果を表3に示す。また磁気特性、及びC及びNの含有量も表3に示した。Cの含有量は参考例6と同様の手法でコクサイ電子工業製HFT-9を用いて測定した。Nの含有量はケルダール法を用いて試料に含有されるNをアンモニア化した後、インドフェノール青吸光光度法により分光光度計(島津製作所製UV-1600)にて測定した。これらの実施例のC及びNの含有量は、表2の結果に比べると全体的に低く、Cは0.24〜0.54質量%、Nは0.01〜0.02質量%であった。またCとNの含有量の合計は最小で参考例15の0.26質量%、最大で参考例17の0.55質量%であった。
参考例6、参考例8、参考例9及び参考例10で得られた各試料粉末1 gを50 mLのNaOH水溶液(濃度1 M)中に投入し、60℃で24時間浸漬処理を行った(アルカリ処理)。このアルカリ処理後、水洗して試料粉末を乾燥させた。得られた各試料粉末25 mgを1 mLのグアニジン塩酸塩水溶液(濃度6 M)中に25℃で24時間浸漬させた(浸漬試験)後のFeイオン溶出量をICP分析装置(エスアイアイナノテクノロジー社製:SPS3100H)により測定した。結果を表5に示す。
参考例10で得られた被覆金属微粒子に、以下に手法でシリカ被覆処理を施した。被覆金属微粒子5 gを100 mLのエタノール溶媒中に分散し、テトラエトキシシランを1 mL添加した。得られた分散液を攪拌しながら22 gの純水と4 gのアンモニア水(25%)の混合溶液を添加し1時間攪拌した。攪拌後、磁性粒子を磁石でビーカ内壁に捕捉しながら上澄み液を除去した。得られた磁性粒子に対して上述のシリカ被覆処理をさらに2回繰り返し、最後にイソプロピルアルコールで溶媒置換を行った後、乾燥して磁性シリカ粒子を得た。
市販の磁気ビーズ(Roche製、MagNAPure LC DNA Isolation Kit Iに付属)を用いて参考例22と同様にDNAを抽出した結果、DNA抽出量は2.7μgであった。
原料粉末の混合時間を100分とした以外は参考例10と同様に被覆金属微粒子を作製し、この金属微粒子に参考例22と同様にシリカ被覆処理を施し、磁性シリカ粒子を得た。この磁性シリカ粒子のメディアン径(d50)、比表面積及び磁気特性を表7に示す。なお、比表面積は窒素ガスの吸着を利用したBET法(株式会社マウンテック製Macsorb-1201)により測定した。
原料粉末の混合時間を100分とした以外は参考例6と同様に被覆金属微粒子を作製し、この金属微粒子に参考例22と同様にシリカ被覆処理を施し、磁性シリカ粒子を得た。この磁性シリカ粒子のメディアン径(d50)、比表面積及び磁気特性を参考例23と同様に評価した。結果を表7に示す。
参考例17で得られた被覆金属微粒子に参考例22と同様にしてシリカ被覆処理を施し、磁性シリカ粒子を得た。この磁性シリカ粒子の磁気ビーズとしての性能安定性を評価するため、以下に述べる耐久試験を実施し、試験後の磁性シリカ粒子のDNA抽出性能を評価した。耐久試験は、0.32 gの磁性シリカ粒子と4 mLのイソプロピルアルコール(IPA)を6 mL容量のスクリュー缶瓶に充填し、60℃で1、10、50、100hの各時間保持して行った。通常、磁気ビーズは室温又は冷蔵保存するのに対し、このように60℃で保温することにより強制的に劣化させ耐久度を評価できる。耐久試験後の各磁気ビーズを用いて参考例16と同様に馬血100μLからDNAを抽出した。図3にDNA抽出量と耐久試験時間の関係を示す。
参考例17で得られた被覆金属微粒子に対して、1 mLのテトラエトキシシランと同時に0.05gのアルミニウムイソプロポキシド(テトラエトキシシランの5質量%に相当)を添加した以外は参考例22と同様にしてシリカ被覆処理を施し、磁性シリカ粒子を得た。この磁性シリカ粒子に参考例25と同様の耐久試験を実施し、耐久試験後のDNA抽出性能を評価することにより磁気ビーズ性能の安定性を調べた。結果を図3に示す。
原料配合時にビーズミルを用いた以外は参考例10と同様にして磁性被覆金属微粒子を得た。この試料粉末の粒径をレーザー回折型粒度分布測定装置(HORIBA製:LA-920)で測定すると0.8μmであった。
参考例27で得られた被覆金属微粒子を用いた以外は参考例22と同様にしてシリカ被覆処理を行い、磁性シリカ粒子を得た。
参考例27で得られた被覆金属微粒子を用いた以外は参考例22と同様にしてシリカ被覆処理を行い、磁性シリカ粒子を得た。得られた磁性シリカ粒子0.1gと2 mLの3-アミノプロピルトリエトキシシラン(APS)水溶液とを混和し、1時間攪拌した後、大気中で乾燥しアミノ基が固定化された磁気ビーズ(アミノ基コート磁気ビーズ)を得た。得られたアミノ基コート磁気ビーズに、Bang Laboratories社製のBioMag Plus Amine Particle Protein Coupling Kitを用いて、下記の手順でにストレプトアビジンを固定化した。まず15 mgのアミノ基コート磁気ビーズと、キット付属ピリジンウォッシュバッファー(PWB)により5%に調整した600μLのグルタルアルデヒドとを混合し3時間室温で攪拌した。この分散液の非磁性成分を磁気分離により除去しPWBで4回洗浄した。得られた磁気ビーズをPWBに懸濁させた液とストレプトアビジン(和光純薬社製)を混合し、4℃で16時間攪拌した。600μLのキット付属クエンチング溶液を加え30分室温で攪拌し、非磁性成分を磁気分離により除去し、PWBで4回洗浄し、ストレプトアビジンを固定化した被覆金属微粒子(ストレプトアビジンコート磁気ビーズ)を得た。
参考例28と同様の方法で作製したアミノ基コート磁気ビーズに、無水コハク酸を用いカルボキシル基を固定化し、さらにカルボジイミドを用いて活性化することによりストレプトアビジンを固定化した被覆金属微粒子(ストレプトアビジンコート磁気ビーズ)を得た。
参考例28のストレプトアビジンコート磁気ビーズにビオチン化された抗体(biomeda社製Epithelial Specific Antigen-Biotin Labeled,Affinity Pure)を反応させて抗体を固定化した被覆金属微粒子(抗体固定磁気ビーズ)を得た。2次抗体(Beckman Coulter社製PE標識Goat F(ab')2 Anti Mouse IgG(H+L))で染色しフローサイトメトリーを用い測定を行った。結果を図5に示す。
ストレプトアビジンの代わりにVU-1D9抗体を用いた以外は参考例29と同様の方法でVU-1D9抗体を固定化した被覆金属微粒子(抗体固定磁気ビーズ)を得た。2次抗体(Beckman Coulter社製PE標識Goat F(ab')2 Anti Mouse IgG(H+L))で染色しフローサイトメトリーを用い測定を行った。結果を図5に示す。
ストレプトアビジンの代わりにMouse IgG抗体を用いた以外は参考例29と同様の方法でMouse IgG抗体を固定化した被覆金属微粒子を作製し、これをブロックング剤(雪印乳業株式会社製Block Ace)の溶液に一晩浸漬し、ブロッキング剤コート磁気ビーズを得た。固定化されているMouse IgG抗体と特異的に反応する2次抗体(Beckman Coulter社製PE標識Goat F(ab')2 Anti Mouse IgG(H+L))で染色した参考例32A、特異的に反応をしない2次抗体(Beckman Coulter社製PE標識Goat F(ab')2Anti Mouse IgM)で染色した参考例32B、及び無染色の参考例32(比較例C)をフローサイトメトリーを用いて測定した。結果を図6に示す。
図7に示すように、参考例29で作製したストレプトアビジン16を固定化した被覆金属微粒子17に、ビオチン標識抗ヒトアディポネクチン抗体 (マウス)15 (R&D SYSTEMS社製Anti-human Adiponectin/Acrp30 Antibody Biotin labeled)を30分インキュベートし、抗体15が固定化された被覆金属微粒子17を得た。この被覆金属微粒子17を用いてサンドイッチ式ELISA(Enzyme-Linked ImmunoSorbent Assay)法を行った。最初に、抗体15が固定化された被覆金属微粒子17とヒトアディポネクチン14(BioVendor社製Human Adiponectin,His-Tagged Fusion Protein)をインキュベートした。その後、被覆金属微粒子17をヒトアディポネクチンELISAキット(大塚製薬)付属の抗ヒトアディポネクチン抗体(ラビット)13(第一抗体液)とインキュベートし洗浄後、さらに西洋ワサビペルオキシダーゼ(HRP)標識ラビットIgGポリクローナル抗体(ゴート)12(酵素標識抗体液)とインキュベートし洗浄を行った。基質と反応させた後反応停止液で反応を停止させ、UVスペクトル測定機を用いシグナル強度(450 nmの吸光度)を測定した。ヒトアディポネクチン14の濃度を変更し同様の操作を行い、ヒトアディポネクチン14濃度とシグナル強度との関係を得た。その結果を図8に示す。
参考例26の磁性シリカ粒子を用いた以外は参考例35と同様の方法で、ビオチン標識抗ヒトアディポネクチン抗体(マウス)が固定化された被覆金属微粒子を得た。前記被覆金属微粒子を用い参考例35と同様の方法で、サンドイッチ式ELISA(Enzyme-Linked ImmunoSorbent Assay)法を行った。結果を図9に示す。
参考例25の磁性シリカ粒子を用いた以外は参考例35と同様の方法で、ビオチン標識抗ヒトアディポネクチン抗体(マウス)が固定化された被覆金属微粒子を得た。前記被覆金属微粒子を用い参考例35と同様の方法で、サンドイッチ式ELISA(Enzyme-Linked ImmunoSorbent Assay)法を行った。結果を図9に示す。
参考例17の被覆金属微粒子に、以下の方法でシリカを被覆した。被覆金属微粒子5 gを100 mLのエタノールに分散し、1 mLのテトラエトキシシラン及び0.05gのアルミニウムイソプロポキシドを添加した。得られた分散液を攪拌しながら、22 gの純水と4 gのアンモニア水(25%)の混合溶液を添加し1時間攪拌した。攪拌後、磁性粒子を磁石でビーカ内壁に捕捉しながら上澄み液を除去した。得られた磁性粒子に対して上述のシリカ被覆処理をさらに2回繰り返し、最後に溶媒をイソプロピルアルコールで溶媒置換を行った後、乾燥して磁性シリカ粒子を得た。この磁性シリカ粒子のメディアン径(d50)は0.8μm、変動係数は47%であった。なおメディアン径(d50)及び変動係数はレーザー回折型粒度分布測定装置(HORIBA製LA-920)にて測定した。
参考例38で得られたシリカ磁性粒子30 gを500 mLのイソプロピルアルコール(IPA)と混合して30分間超音波を照射して分散した。分散液を24時間かけて自然沈降させた後、上澄み液を回収し、その中に含まれる磁性粒子を磁気分離した。得られた磁性粒子のメディアン径(d50)は0.5μm、変動係数は27%であった。
参考例38の磁性シリカ粒子1 gを50 mLのイソプロピルアルコール(IPA)と混合し、実施例1と同様の分散処理を施した後、3000 rpmの回転数で120秒間遠心分離し粗大粒子を沈降させ、上澄み中に含まれる磁性粒子を磁気分離した。得られた磁性粒子のメディアン径(d50)は0.5μm、変動係数は26%であった。
参考例38の磁性シリカ粒子0.1 gを100 mLのIPAと混合し、実施例1と同様の分散処理を施した。孔径1μmのろ紙(whatman製GF/B)を用いて分散液を吸引ろ過し、濾液の中に含まれる磁性粒子を磁気分離した。得られた磁性粒子のメディアン径(d50)は0.6μm、変動係数は28%であった。
実施例1の磁性シリカ微粒子の表面に、参考例29と同様にしてストレプトアビジンを固定化した。得られた磁性粒子のメディアン径(d50)は0.5μm、変動係数は27%であった。このストレプトアビジンコート磁気ビーズを、PBSバッファー中に0.25 mg/mLの粒子濃度で分散し、1分間超音波を照射して分散処理した。この分散液1 mLの波長550 nmにおける吸光度変化を、UVスペクトル測定機(日立ハイテクノロジーズ社製ダイオードアレー型バイオ光度計U-0080D)で900秒間測定し、磁気ビーズの沈降速度を測定した。結果を図10に示す。直線近似すると、吸光度の時間変化の傾きは-0.0001 s-1であった。すなわち1秒当たりの吸光度の低下率は0.01%であった。
参考例38の磁性シリカ粒子の表面に、参考例29と同様にしてストレプトアビジンを固定化した。得られた磁性粒子のメディアン径(d50)は0.8μm、変動係数は47%であった。このストレプトアビジンコート磁気ビーズの沈降速度を実施例4と同様にして測定した。結果を図10に示す。実施例4と同様にして求めた吸光度の低下率は0.04%であった。
混合時間を200分とした以外は参考例1と同様にして被覆金属微粒子を作製し、参考例22と同様の手法でシリカ被覆処理を施すことにより、平均粒径4.1μm、変動係数56%のシリカ磁性粒子を得た。このシリカ磁性粒子に参考例29と同様にしてストレプトアビジンを固定化した。
混合時間を100分とした以外は参考例1と同様にして被覆金属微粒子を作製し、参考例22と同様の手法でシリカ被覆処理を施すことにより、平均粒径6.7μm、変動係数44%のシリカ磁性粒子を得た。このシリカ磁性粒子に参考例29と同様にしてストレプトアビジンを固定化した。
0.3 mM biotin-4-fluorescein(Invitrogen社、B10570)のDimethyl sulfoxide溶液をBuffer A-T(100 mM NaCl, 50 mM NaH2PO4, 1 mM ethylenediaminetetraacetic acid, 0.1% Tween 20)で15μMに希釈しwork液を作製した。600μlマイクロチューブに磁気ビーズ0.1 mgを分注し、純水200μlを加えて超音波を10秒印加してビーズ粒子を分散させた。磁気分離して上澄みを捨てた後、buffer A-T 液で1回洗浄し、再びbuffer A-T 液300μlを加えて攪拌した。このビーズ懸濁液を100μlに、上記work液8μlを加え、全量が400μlとなるようにbuffer A-T液を添加した。この懸濁液を遮光し1時間室温で攪拌し、磁気分離した上澄み中に残存する未反応のbiotin-4-fluoresceinを、日立製Fluorescence Spectrophotometer F-4500を用いて、490 nmの励起光を照射したときの525 nmの蛍光強度を測定することにより定量した。上澄み中に残存する未反応のbiotin-4-fluorescein量から、磁気ビーズのビオチン結合量を求めた。
熱処理時間を8時間に変えた以外は参考例17と同様にして作製した磁性被覆金属微粒子に、参考例38と同様にしてシリカを被覆し、シリカ被覆微粒子を作製した。
TiCとTiNの配合比を表10に示すように変更し、原料の混合をボールミルで72時間行った以外は比較例5と同様にしてシリカ被覆微粒子を作製した。
実施例5、実施例6及び比較例5のシリカ被覆微粒子の表面に、参考例29と同様にしてストレプトアビジンを固定化し、それぞれ実施例7、実施例8及び比較例6のストレプトアビジン固定化磁気ビーズを得た。得られたストレプトアビジン固定化磁気ビーズのメディアン径(d50)及び変動係数を表11に示す。
Claims (11)
- 金属の核粒子にTi酸化物とケイ素酸化物とを順に被覆してなる被覆金属微粒子を製造する方法であって、TiC及びTiNを含有する粉末と、標準生成自由エネルギー(ΔGM-O)がΔGM-O>ΔGTiO2の関係を満たす金属Mの酸化物粉末とを混合し、非酸化性雰囲気中で熱処理することにより、前記金属Mの酸化物を前記TiC及びTiNを含有する粉末により還元するとともに、得られた金属Mの粒子表面をTi酸化物で被覆した後、さらに前記Ti酸化物の被覆の表面をケイ素酸化物で被覆し、得られた粒子をメディアン径(d50)が0.4〜0.7μm、及び粒径分布幅を表す変動係数(=標準偏差/平均粒径)が35%以下となるように分級することを特徴とする被覆金属微粒子の製造方法。
- 請求項1に記載の被覆金属微粒子の製造方法において、前記分級を、磁気分離による方法、デカンテーションによる方法、フィルターによる方法、遠心分離装置による方法、又はそれらの組み合わせにより行うことを特徴とする被覆金属微粒子の製造方法。
- 請求項1又は2に記載の被覆金属微粒子の製造方法において、前記TiC及びTiNを含有する粉末は10〜50質量%のTiNを含有することを特徴とする被覆金属微粒子の製造方法。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の被覆金属微粒子の製造方法において、前記Ti酸化物がTiO2を主体とすることを特徴とする被覆金属微粒子の製造方法。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の被覆金属微粒子の製造方法において、前記熱処理を650〜900℃で行うことを特徴とする被覆金属微粒子の製造方法。
- 金属の核粒子にTi酸化物とケイ素酸化物とを順に被覆してなる被覆金属微粒子であって、メディアン径(d50)が0.4〜0.7μmであり、粒径分布幅を表す変動係数(=標準偏差/平均粒径)が35%以下であることを特徴とする被覆金属微粒子。
- 請求項6に記載の被覆金属微粒子において、炭素含有量が0.2〜1.4質量%及び窒素含有量が0.01〜0.2質量%であることを特徴とする被覆金属微粒子。
- 請求項7に記載の被覆金属微粒子において、炭素と窒素との含有量の合計が0.24〜0.6質量%であることを特徴とする被覆金属微粒子。
- 請求項6〜8のいずれかに記載の被覆金属微粒子において、飽和磁化が80 Am2/kg以上であることを特徴とする被覆金属微粒子。
- 請求項6〜9のいずれかに記載の被覆金属微粒子において、PBSバッファー中に分散させてなる分散液の吸光度を静置状態で測定したときの吸光度の減少速度が1秒当たり0.01〜0.03%であることを特徴とする被覆金属微粒子。
- 請求項6〜10のいずれかに記載の被覆金属微粒子において、免疫検査における抗原の検出に用いられることを特徴とする被覆金属微粒子。
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