JPWO2009119676A1 - ペースト塗布装置及びペースト塗布方法 - Google Patents

ペースト塗布装置及びペースト塗布方法 Download PDF

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Abstract

ペースト塗布装置（１）において、塗布対象物（Ｋ）にペーストを塗布する塗布ヘッド（３Ａ）と、塗布ヘッド（３Ａ）を支持する支持部材（５Ａ）と、支持部材（５Ａ）を塗布対象物（Ｋ）の表面に沿うように移動させる移動機構（６Ａ、６Ｂ）と、支持部材（５Ａ）の移動方向における支持部材（５Ａ）までの離間距離をレーザ光により測定するレーザ距離測定器（７Ａ）と、測定された離間距離に基づいて塗布対象物（Ｋ）上にペーストパターンを描画するように塗布ヘッド（３Ａ）及び移動機構（６Ａ、６Ｂ）を制御する制御部（１０）とを備える。

Description

本発明は、塗布対象物にペーストを塗布するペースト塗布装置及びペースト塗布方法に関する。
ペースト塗布装置は、液晶表示パネル等の様々な装置を製造するために用いられている。このペースト塗布装置は、塗布対象物に対してペーストを塗布する塗布ヘッドを備えており、その塗布ヘッドを移動させながら塗布対象物にペーストを塗布し、塗布対象物上に所定のペーストパターンを形成する（例えば、特許文献１参照）。特に、液晶表示パネルの製造では、２枚の基板を貼り合わせるため、ペースト塗布装置は、塗布対象物である基板に対して液晶表示パネルの表示領域を囲むように、シール剤等のシール性及び接着性を有するペーストを塗布する。
このようなペースト塗布装置は、塗布ヘッドを支持するコラムやそのコラムに沿って移動可能な塗布ヘッドが、ボールネジを用いた移動機構やリニアモータを用いた移動機構によりそれぞれ移動するように構成されている。このとき、コラムや塗布ヘッドの位置制御はリニアスケールを用いて行われている。このリニアスケールとしては、熱による変形を避けるため、熱膨張係数が小さいガラススケールを用いることが可能である。ところが、近年の基板の大型化に伴って動作ストローク（移動範囲）が長くなり、リニアスケールも長大になっていることから、そのリニアスケールとして精度高くガラススケールを大型化することは難しいため、リニアスケールとしては、ステンレス等の金属製のリニアスケールが用いられている。
特開２００２−３４６４５２号公報
しかしながら、金属製のリニアスケールは周囲環境（気温等）の変化により膨張あるいは収縮して変形するため、リニアスケールの目盛り間隔が変化し、位置検出誤差が生じて塗布精度が低下してしまう。特に、ボールネジやリニアモータがペースト塗布装置の運転に応じて徐々に発熱することから、その熱が周囲に広がってリニアスケールに伝わり、リニアスケールは線膨張するため、リニアスケールの目盛り間隔が広がって位置検出誤差が生じてしまう。また、近年の基板の大型化に伴って動作ストローク（移動範囲）が長くなり、リニアスケールも長大になっているため、リニアスケールの熱膨張によって目盛り間隔が広がることによる累積誤差も大きくなってしまう。
本発明は上記に鑑みてなされたものであり、その目的は、周囲環境の変化による塗布精度の低下を抑えることができるペースト塗布装置及びペースト塗布方法を提供することである。
本発明の実施の形態に係る第１の特徴は、ペースト塗布装置において、塗布対象物にペーストを塗布する塗布ヘッドと、塗布ヘッドを支持する支持部材と、支持部材を塗布対象物の表面に沿うように移動させる移動機構と、支持部材に設けられた反射部と、反射部に向けて支持部材の移動方向にレーザ光を出射し、反射部により反射されたレーザ光である反射光を受光し、反射部との離間距離を測定するレーザ部と、レーザ部により測定された離間距離に基づいて、塗布対象物上にペーストパターンを描画するように塗布ヘッド及び移動機構を制御する制御部とを備えることである。
本発明の実施の形態に係る第２の特徴は、ペースト塗布装置において、塗布対象物にペーストを塗布する塗布ヘッドと、塗布ヘッドを支持する支持部材と、支持部材を塗布対象物の表面に沿うように移動させる移動機構と、支持部材の移動方向に沿って徐々に高さが変化する傾斜面を有する反射部と、支持部材に設けられ、傾斜面に向けてレーザ光を出射して傾斜面により反射されたレーザ光である反射光を受光し、反射部との離間距離を測定するレーザ部と、レーザ部により測定された離間距離に基づいて、塗布対象物上にペーストパターンを描画するように塗布ヘッド及び移動機構を制御する制御部とを備えることである。
本発明の実施の形態に係る第３の特徴は、ペースト塗布装置において、塗布対象物にペーストを塗布する塗布ヘッドと、塗布ヘッドを支持する支持部材と、塗布ヘッドを支持部材に沿うように移動させる移動機構と、塗布ヘッドに設けられた反射部と、反射部に向けて塗布ヘッドの移動方向にレーザ光を出射し、反射部により反射されたレーザ光である反射光を受光し、反射部との離間距離を測定するレーザ部と、レーザ部により測定された離間距離に基づいて、塗布対象物上にペーストパターンを描画するように塗布ヘッド及び移動機構を制御する制御部とを備えることである。
本発明の実施の形態に係る第４の特徴は、ペースト塗布装置において、塗布対象物にペーストを塗布する塗布ヘッドと、塗布ヘッドを支持する支持部材と、塗布ヘッドを支持部材に沿うように移動させる移動機構と、支持部材に設けられ、塗布ヘッドの移動方向に沿って徐々に高さが変化する傾斜面を有する反射部と、塗布ヘッドに連結され、傾斜面に向けてレーザ光を出射して傾斜面により反射されたレーザ光である反射光を受光し、反射部との離間距離を測定するレーザ部と、レーザ部により測定された離間距離に基づいて、塗布対象物上にペーストパターンを描画するように塗布ヘッド及び移動機構を制御する制御部とを備えることである。
本発明の実施の形態に係る第５の特徴は、ペースト塗布方法において、塗布対象物にペーストを塗布する塗布ヘッドと、塗布ヘッドを支持する支持部材と、支持部材を塗布対象物の表面に沿うように移動させる移動機構と、支持部材に設けられた反射部と、反射部に向けて支持部材の移動方向にレーザ光を出射するレーザ部とを備えるペースト塗布装置を用いて、レーザ部により、反射部にレーザ光を照射して反射部により反射されたレーザ光である反射光を受光し、反射部との離間距離を測定する工程と、測定した離間距離に基づいて塗布ヘッド及び移動機構を制御し、塗布対象物上にペーストパターンを描画する工程とを有することである。
本発明の実施の形態に係る第６の特徴は、ペースト塗布方法において、塗布対象物にペーストを塗布する塗布ヘッドと、塗布ヘッドを支持する支持部材と、支持部材を塗布対象物の表面に沿うように移動させる移動機構と、支持部材の移動方向に沿って徐々に高さが変化する傾斜面を有する反射部と、支持部材に設けられ、傾斜面に向けてレーザ光を出射するレーザ部とを備えるペースト塗布装置を用いて、レーザ部により、傾斜面にレーザ光を照射して傾斜面により反射されたレーザ光である反射光を受光し、反射部との離間距離を測定する工程と、測定した離間距離に基づいて塗布ヘッド及び移動機構を制御し、塗布対象物上にペーストパターンを描画する工程とを有することである。
本発明の実施の形態に係る第７の特徴は、ペースト塗布方法において、塗布対象物にペーストを塗布する塗布ヘッドと、塗布ヘッドを支持する支持部材と、塗布ヘッドを支持部材に沿うように移動させる移動機構と、塗布ヘッドに設けられた反射部と、反射部に向けて塗布ヘッドの移動方向にレーザ光を出射するレーザ部とを備えるペースト塗布装置を用いて、レーザ部により、反射部にレーザ光を照射して反射部により反射されたレーザ光である反射光を受光し、反射部との離間距離を測定する工程と、測定した離間距離に基づいて塗布ヘッド及び移動機構を制御し、塗布対象物上にペーストパターンを描画する工程とを有することである。
本発明の実施の形態に係る第８の特徴は、ペースト塗布方法において、塗布対象物にペーストを塗布する塗布ヘッドと、塗布ヘッドを支持する支持部材と、塗布ヘッドを支持部材に沿うように移動させる移動機構と、支持部材に設けられ、塗布ヘッドの移動方向に沿って徐々に高さが変化する傾斜面を有する反射部と、塗布ヘッドに連結され、傾斜面に向けてレーザ光を出射するレーザ部とを備えるペースト塗布装置を用いて、レーザ部により、傾斜面にレーザ光を照射して傾斜面により反射されたレーザ光である反射光を受光し、反射部との離間距離を測定する工程と、測定した離間距離に基づいて塗布ヘッド及び移動機構を制御し、塗布対象物上にペーストパターンを描画する工程とを有することである。
図１は、本発明の第１の実施の形態に係るペースト塗布装置の概略構成を示す斜視図である。 図２は、環境（気温、湿度、気圧）と補正値との関係を説明するための説明図である。 図３は、本発明の第２の実施の形態に係るペースト塗布装置の一部の概略構成を示す斜視図である。 図４は、図３に示すペースト塗布装置の一部の変形例の概略構成を示す斜視図である。 図５は、本発明の第３の実施の形態に係るペースト塗布装置の一部の概略構成を示す斜視図である。 図６は、本発明の第４の実施の形態に係るペースト塗布装置の一部の概略構成を示す斜視図である。 図７は、本発明の第５の実施の形態に係るペースト塗布装置の一部の概略構成を示す斜視図である。 図８は、本発明の第６の実施の形態に係るペースト塗布装置の一部の概略構成を示す斜視図である。
（第１の実施の形態）
本発明の第１の実施の形態について図１及び図２を参照して説明する。
図１に示すように、本発明の第１の実施の形態に係るペースト塗布装置１は、塗布対象物である基板Ｋが水平状態（図１中、Ｘ軸方向とそれに直交するＹ軸方向に沿う状態）で載置される基板ステージ２と、その基板ステージ２上の基板Ｋにシール剤等のシール性及び接着性を有するペーストをそれぞれ塗布する複数の塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄと、各塗布ヘッド３Ａ〜３ＤをＸ軸方向（図１中）に移動可能に支持してＸ軸方向に沿って移動させるＸ軸移動機構４Ａ及びＸ軸移動機構４Ｂと、それらのＸ軸移動機構４Ａ及びＸ軸移動機構４Ｂをそれぞれ介して各塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄを支持する支持部材５Ａ及び支持部材５Ｂと、それらの支持部材５Ａ及び支持部材５ＢをＹ軸方向（図１中）に移動可能に支持してＹ軸方向に沿って移動させるＹ軸移動機構６Ａ及びＹ軸移動機構６Ｂと、支持部材５Ａの移動方向であるＹ軸方向における支持部材５Ａまでの離間距離を測定するレーザ距離測定器７Ａと、支持部材５Ｂの移動方向であるＹ軸方向における支持部材５Ｂまでの離間距離を測定するレーザ距離測定器７Ｂと、気温、湿度及び気圧を検出する環境検出器８と、基板ステージ２、Ｙ軸移動機構６Ａ及びＹ軸移動機構６Ｂ等を支持する架台９と、各部を制御する制御部１０とを備えている。
基板ステージ２は、架台９の上面に固定されて設けられた載置台である。この基板ステージ２は、基板Ｋを吸着する吸着機構（図示せず）を備えており、その吸着機構により上面の載置面に基板Ｋを固定して保持する。なお、吸着機構としては、例えばエアー吸着機構等を用いる。このような基板ステージ２の載置面には、ガラス基板等の基板Ｋが載置される。
各塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄは、ペーストを収容するシリンジ等の収容筒３ａと、その収容筒３ａに連通してペーストを吐出するノズル３ｂとをそれぞれ有している。これらの塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄは、気体供給チューブ等を介して気体供給部（いずれも図示せず）にそれぞれ接続されている。各塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄは、収容筒３ａ内に供給される気体により、その内部のペーストをノズル３ｂからそれぞれ吐出する。
このような塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄは、ＹＺ軸移動機構３ｃを介してＸ軸移動機構４Ａ及びＸ軸移動機構４Ｂにそれぞれ設けられている。このＹＺ軸移動機構３ｃは、１つの塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄを支持してＹ軸方向に移動させる移動機構であって、さらに、水平面に直交するＺ軸方向（図１中）、すなわち基板ステージ２に対して塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄを接離させる接離方向に移動させる移動機構である。なお、ＹＺ軸移動機構３ｃとしては、例えばボールネジを用いる送りネジ機構等を用いる。
Ｘ軸移動機構４Ａは支持部材５Ａの前面に設けられており、Ｘ軸移動機構４Ｂは支持部材５Ｂの前面に設けられている。Ｘ軸移動機構４Ａは、２つの塗布ヘッド３Ａ、３ＢをＸ軸方向に移動可能に支持しており、それらの塗布ヘッド３Ａ、３ＢをＸ軸方向、すなわち支持部材５Ａに沿って個別に移動させる移動機構である。同様に、Ｘ軸移動機構４Ｂも、２つの塗布ヘッド３Ｃ、３ＤをＸ軸方向に移動可能に支持しており、それらの塗布ヘッド３Ｃ、３ＤをＸ軸方向、すなわち支持部材５Ｂに沿って個別に移動させる移動機構である。なお、Ｘ軸移動機構４Ａ及びＸ軸移動機構４Ｂとしては、例えば、リニアモータを用いたリニアモータ機構やボールネジを用いた送りネジ機構等を用いる。このようなＸ軸移動機構４Ａ及びＸ軸移動機構４Ｂが、それぞれ各塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄを移動させる第２移動機構として機能する。ここで、支持部材５Ａ、５Ｂにおいて、互いに対向する面を前面、離反する面を背面とする。
支持部材５ＡはＸ軸移動機構４Ａを介して２つの塗布ヘッド３Ａ、３Ｂを支持するコラムであり、同様に、支持部材５ＢもＸ軸移動機構４Ｂを介して２つの塗布ヘッド３Ｃ、３Ｄを支持するコラムである。これらの支持部材５Ａ及び支持部材５Ｂは、その移動方向（Ｙ軸方向）に交差する方向、例えば直交する方向（Ｘ軸方向）に延伸させてそれぞれ形成されている。さらに、支持部材５Ａ及び支持部材５Ｂは、例えば直方体形状にそれぞれ形成されており、基板ステージ２の載置面に対して平行に設けられている。このような支持部材５Ａ及び支持部材５Ｂは、Ｙ軸移動機構６Ａ及びＹ軸移動機構６ＢによりＹ軸方向に移動し、基板ステージ２の載置面に対向する位置に各塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄを位置付ける。
Ｙ軸移動機構６Ａ及びＹ軸移動機構６Ｂは、基板ステージ２を両側から挟むように架台９の上面にそれぞれ設けられている。これらのＹ軸移動機構６Ａ及びＹ軸移動機構６Ｂは、それぞれ協働して支持部材５Ａ及び支持部材５ＢをＹ軸方向に移動可能に支持しており、それらの支持部材５Ａ及び支持部材５ＢをＹ軸方向に沿って個別に移動させる移動機構である。これらのＹ軸移動機構６Ａ及びＹ軸移動機構６Ｂには、支持部材５Ａ及び支持部材５Ｂが架け渡されて設けられている。なお、Ｙ軸移動機構６Ａ及びＹ軸移動機構６Ｂとしては、例えば、リニアモータを用いたリニアモータ機構やボールネジを用いた送りネジ機構等を用いる。このようなＹ軸移動機構６Ａ及びＹ軸移動機構６Ｂが、支持部材５Ａ、５Ｂを移動させる第１移動機構として機能する。
レーザ距離測定器７Ａは、レーザ光を出射して反射光を受光するレーザ部７ａ１と、出射されたレーザ光をレーザ部７ａ１に向けて反射する反射部７ｂ１とを備えている。同様に、レーザ距離測定器７Ｂも、レーザ光を出射して反射光を受光するレーザ部７ａ２と、出射されたレーザ光をレーザ部７ａ２に向けて反射する反射部７ｂ２とを備えている。これらのレーザ距離測定器７Ａ及びレーザ距離測定器７Ｂが、それぞれ支持部材５Ａ、５Ｂとの第１離間距離（支持部材５Ａ、５Ｂの移動方向における支持部材５Ａ、５Ｂまでの離間距離）を測定する第１レーザ距離測定器として機能する。
なお、レーザ距離測定器７Ａ、７Ｂは、具体的には、公知のレーザ干渉測長器である。レーザ干渉測長器は、ハーフミラー（レーザ部７ａ１、７ａ２に内蔵される）を用いて取り出した出射光の一部と反射部７ｂ１、７ｂ２で反射された反射光とを検出器（レーザ部７ａ１、７ａ２に内蔵される）によって検出し、出射光と反射光との光路長の違いによって生じる干渉縞を利用して反射部７ｂ１、７ｂ２の変位を検出するもので、反射部７ｂ１、７ｂ２の移動によって生じる干渉縞の周期的な変化をパルスに変換し、このパルスのカウント値に基づいて反射部７ｂ１、７ｂ２の移動量（移動距離）を測定する。したがって、リミットセンサ等によってＹ軸移動機構６Ａ上での支持部材５Ａ、５Ｂの原点位置（例えば、Ｙ軸移動機構６Ａにおける支持部材５Ａが位置する側の移動端を支持部材５Ａの原点位置、支持部材５Ｂが位置する側の移動端を支持部材５Ｂの原点位置とする）をメカ的にそれぞれ定め、それぞれの原点位置からの移動量をレーザ距離測定器７Ａ、７Ｂによって測定することで、各支持部材５Ａ、５Ｂとの第１離間距離を測定することが可能である。
レーザ距離測定器７Ａのレーザ部７ａ１は、レーザ光の光路がＹ軸方向に平行になるようにＹ軸移動機構６Ａにおける支持部材５Ａ側の端部近傍、具体的には、レーザ部７ａ１のレーザ光の投受光面とＹ軸移動機構６Ａの支持部材５Ａ側の端部とがほぼ同一平面上となるようにＹ軸移動機構６Ａの外側に並べて位置付けられ、架台９の上面に設けられている。また、レーザ距離測定器７Ａの反射部７ｂ１は、レーザ部７ａ１から出射されたレーザ光をレーザ部７ａ１に向けて反射可能に支持部材５Ａに固定され、その支持部材５Ａと一緒に移動可能に設けられている。同様に、レーザ距離測定器７Ｂのレーザ部７ａ２も、レーザ光の光路がＹ軸方向に平行になるようにＹ軸移動機構６Ａにおける支持部材５Ｂ側の端部近傍、具体的には、レーザ部７ａ２のレーザ光の投受光面とＹ軸移動機構６Ａの支持部材５Ｂ側の端部とがほぼ同一平面上となるようにＹ軸移動機構６Ａの外側に並べて位置付けられ、架台９の上面に設けられている。また、レーザ距離測定器７Ｂの反射部７ｂ２も、レーザ部７ａ２から出射されたレーザ光をレーザ部７ａ２に向けて反射可能に支持部材５Ｂに固定され、その支持部材５Ｂと一緒に移動可能に設けられている。ここで、各反射部７ｂ１、７ｂ２としては、例えばプリズム等を用いる。
これらのレーザ距離測定器７Ａ及びレーザ距離測定器７Ｂは、それぞれ制御部１０に電気的に接続されており、測定した離間距離をその制御部１０に信号として入力する。すなわち、レーザ部７ａ１と支持部材５Ａとの離間距離、及び、レーザ部７ａ２と支持部材５Ｂとの離間距離が測定され、制御部１０に入力される。これにより、制御部１０はそれらの離間距離（位置情報）に基づいて支持部材５Ａの位置及び支持部材５Ｂの位置を把握することが可能になる。
環境検出器８は、ペースト塗布装置１の周囲の気温、湿度及び気圧を検出するセンサである。この環境検出器８は、例えば架台９上におけるレーザ距離測定器７Ａ、７Ｂのレーザ光の光路の近傍、例えば、光路の真下に上方を向けて、それぞれ設けられている。環境検出器８は制御部１０に電気的に接続されており、検出した気温、湿度及び気圧をその制御部１０に信号として入力する。これにより、制御部１０はそれらの気温、湿度及び気圧（環境情報）に基づいて周囲環境、例えば、空気屈折率の変化を把握することが可能になる。
架台９は、床面上に設置され、基板ステージ２、Ｙ軸移動機構６Ａ及びＹ軸移動機構６Ｂ等を床面から所定の高さ位置に支持する架台である。架台９の上面は平面に形成されており、この架台９の上面には、基板ステージ２、Ｙ軸移動機構６Ａ及びＹ軸移動機構６Ｂ等が載置されている。
制御部１０は、各部を集中的に制御するマイクロコンピュータと、ペースト塗布に関する塗布情報や各種のプログラム等を記憶する記憶部と（いずれも図示せず）を備えている。塗布情報は、所定の塗布パターンや描画速度（基板Ｋとノズル３ｂとの水平方向における相対移動速度）、ペーストの吐出量等に関する情報を含んでいる。この制御部１０は、塗布情報や各種のプログラムに基づいてＸ軸移動機構４Ａ、Ｘ軸移動機構４Ｂ、Ｙ軸移動機構６Ａ及びＹ軸移動機構６Ｂ等を制御し、各塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄのノズル３ｂと基板ステージ２上の基板Ｋとを基板Ｋの表面方向に平行に相対移動させ、基板Ｋ上に所定の塗布パターンのペーストを塗布する。この塗布動作において、制御部１０は、レーザ距離測定器７Ａにより測定された離間距離に基づいてＹ軸移動機構６Ａ及びＹ軸移動機構６Ｂを制御して支持部材５Ａの位置制御を行い、さらに、レーザ距離測定器７Ｂにより測定された離間距離に基づいてＹ軸移動機構６Ａ及びＹ軸移動機構６Ｂを制御して支持部材５Ｂの位置制御を行う。
ここで、記憶部には、例えば、図２に示すような補正情報が格納されている。この補正情報は、環境検出器８により検出された気温、湿度及び気圧の環境情報に基づいて、レーザ距離測定器７Ａ及びレーザ距離測定器７Ｂにより測定された各離間距離を補正するための情報である。したがって、制御部１０は、検出された気温、湿度及び気圧に対応する補正値を補正情報から求め、その補正値に基づいて離間距離を補正する補正動作を随時行う。詳述すると、制御部１０は、検出された気温、湿度及び気圧により決まる定数を特定し、その特定した定数に対応する補正値を補正情報から求める。すなわち、図２に示す補正情報において、縦軸は補正値であり、横軸は気温、湿度及び気圧により決まる定数である。例えば、気温が２０℃、湿度が３０％及び気圧が１０００ｈＰａである場合、定数は数値Ａであり、気温が２５℃、湿度が４０％及び気圧が１００５ｈＰａである場合、定数は数値Ｂであるというように定数が複数設定され、さらに、それらの定数に対応する補正値が設定されて、図２に示す補正情報が生成されている。
次に、このようなペースト塗布装置１が行う塗布動作について説明する。
まず、ペースト塗布装置１は、Ｙ軸移動機構６Ａ及びＹ軸移動機構６Ｂにより支持部材５Ａ及び支持部材５ＢをＹ軸方向にそれぞれ移動させ、Ｘ軸移動機構４Ａ及びＸ軸移動機構４Ｂにより各塗布ヘッド３Ａ〜３ＤをＸ軸方向にそれぞれ移動させ、基板ステージ２上の基板Ｋの各塗布開始位置に各塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄをそれぞれ対向させる。次いで、ペースト塗布装置１は、各ＹＺ軸移動機構３ｃによりそれぞれ各塗布ヘッド３Ａ〜３ＤをＺ軸方向に移動させ、待機位置から塗布位置に各塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄを位置付ける。
ここで、待機位置及び塗布位置は、基板ステージ２上の基板Ｋに対して所定のギャップを隔てた高さ位置である。塗布位置は、塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄが塗布を行う際の高さ位置である。このとき、塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄのノズル３ｂの先端と基板Ｋの表面との間に形成されるギャップは、基板Ｋの表面にペーストを所定の塗布量で塗布するのに必要な大きさに設定される。また、待機位置は、塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄが塗布を行わない場合の高さ位置であり、このときのギャップは、塗布位置におけるギャップよりもはるかに大きい。
その後、ペースト塗布装置１は、塗布条件（吐出圧力や移動速度等）に基づいて、各塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄの各々のノズル３ｂからペーストを吐出させながら、Ｙ軸移動機構６Ａ及びＹ軸移動機構６Ｂにより支持部材５Ａ及び支持部材５ＢをＹ軸方向に移動させ、Ｘ軸移動機構４Ａ及びＸ軸移動機構４Ｂにより各塗布ヘッド３Ａ〜３ＤをＸ軸方向に移動させ、基板ステージ２上の基板Ｋの表面にペーストを塗布し、所定のペーストパターンを形成（描画）する。ここで、各塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄが形成するペーストパターン（塗布パターン）は同一であり、例えば矩形枠状である。所定のペーストパターンの形成が完了すると、ペースト塗布装置１は、各ＹＺ軸移動機構３ｃによりそれぞれ各塗布ヘッド３Ａ〜３ＤをＺ軸方向に移動させ、塗布位置から元の待機位置に各塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄを位置付ける。なお、吐出圧力は、各塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄの収容筒３ａ内のペーストを対応するノズル３ｂからそれぞれ吐出させるための気体圧力であり、移動速度は、ペーストを塗布する場合のノズル３ｂと基板Ｋとの相対移動速度である。
最後に、ペースト塗布装置１は、Ｙ軸移動機構６Ａ及びＹ軸移動機構６Ｂにより支持部材５Ａ及び支持部材５ＢをＹ軸方向の退避位置、すなわち各塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄが基板ステージ２上の基板Ｋに対向しない退避位置まで移動させ、基板ステージ２上の基板Ｋの交換に待機する。基板Ｋの交換が完了すると、前述の塗布動作を繰り返す。
このような塗布動作において、レーザ距離測定器７Ａ及びレーザ距離測定器７Ｂはそれぞれ離間距離を随時、この実施の形態では、常時、測定しており、制御部１０は、レーザ距離測定器７Ａにより測定された離間距離に基づいてＹ軸移動機構６Ａ及びＹ軸移動機構６Ｂを制御し、支持部材５Ａの位置制御を行い、さらに、レーザ距離測定器７Ｂにより測定された離間距離に基づいてＹ軸移動機構６Ａ及びＹ軸移動機構６Ｂを制御し、支持部材５Ｂの位置制御を行う。これにより、周囲環境の変化に応じて膨張あるいは収縮するリニアスケールを用いた位置制御を行う必要がなくなり、また、レーザ距離測定器７Ａ、７Ｂはリニアスケールに比べて測定精度が周囲環境の変化の影響を受け難いため、周囲環境の変化に影響されずに各支持部材５Ａ、５Ｂの位置制御を行うことが可能になるので、周囲環境が変化しても高い精度で位置制御を行うことができ、その結果、塗布精度の低下を抑えることができる。さらに、制御部１０は、検出された気温、湿度及び気圧に対応する補正値を補正情報から求め、その補正値に基づいて離間距離の測定値を補正する補正動作を随時行う。これにより、周囲環境の変化に応じて各支持部材５Ａ、５Ｂの位置を制御することが可能になるので、周囲環境が変化してもより高い精度で位置制御を行うことができ、その結果、塗布精度の低下を抑えるだけでなく、塗布精度を向上させることができる。
以上説明したように、本発明の第１の実施の形態によれば、各レーザ距離測定器７Ａ、７Ｂを設け、それらのレーザ距離測定器７Ａ、７Ｂにより測定した各離間距離に基づいてＹ軸移動機構６Ａ及びＹ軸移動機構６Ｂを制御し、各支持部材５Ａ、５Ｂの位置制御を行うことによって、周囲環境の変化に応じて膨張あるいは収縮するリニアスケールを用いた位置制御を行う場合に比べ、周囲環境の変化に影響されずに各支持部材５Ａ、５Ｂの位置制御を行うことが可能になるので、周囲環境が変化しても高い精度で位置制御を行うことができる。したがって、周囲環境の変化による塗布精度の低下を抑えることができ、その結果、基板Ｋの表面に、正確に所望する形状のペーストパターンを形成することが可能となり、製造される液晶表示パネルの品質を向上させることができる。
また、環境検出器８を設け、その環境検出器８により検出した気温、湿度及び気圧に基づいてレーザ距離測定器７Ａ、７Ｂにより測定した各離間距離を補正し、補正した各離間距離に基づいて各支持部材５Ａ、５Ｂの位置を制御することによって、周囲環境の変化に応じて各支持部材５Ａ、５Ｂの位置を制御することが可能になるので、周囲環境が変化してもより高い精度で位置制御を行うことができ、その結果、塗布精度の低下を抑えるだけでなく、塗布精度を向上させることができる。
なお、近年の液晶表示パネルの大型化に伴い基板Ｋのサイズが大きくなり、ペースト塗布装置１が大型化する傾向にある。このため、支持部材５Ａ及び支持部材５Ｂが大型化して重量が増すので、リニアモータ機構を用いた場合、それらを移動させるリニアモータもより大きな駆動力が得られる大きなものが用いられることになり、一方、送りネジ機構を用いた場合、ボールネジに対する負荷が増加することになる。したがって、大型のリニアモータでは運転に伴う発熱も大きくなり、ボールネジでも運転に伴う発熱が大きくなる。また、大きなサイズの基板Ｋに一度に多くのペーストパターンを形成して生産性を向上させる目的から、塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄの数が増加する傾向にある。塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄの数が増加するとそれに応じて可動子の数も増加するので、塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄの移動に伴う発熱がより大きくなる。これらのような場合であっても、本発明の実施の形態によれば、リニアモータの発熱あるいはボールネジの発熱に起因する位置検出誤差の発生を抑えることが可能であり、正確に所望する形状のペーストパターンを形成することができる。
また、環境検出器８をレーザ距離測定器７Ａ、７Ｂのレーザ光の光路の近傍に設けたので、レーザ光の光路の周囲環境の変化をその近傍において検出することが可能となるので、レーザ距離測定器７Ａ、７Ｂの測定値を光路の周囲環境の変化に合わせて的確に補正することができ、レーザ距離測定器７Ａ、７Ｂによる離間距離の測定精度をより向上させることができる。
また、支持部材５Ａとの離間距離を測定するレーザ距離測定器７Ａのレーザ部７ａ１をＹ軸移動機構６Ａにおける支持部材５Ａ側の端部近傍に配置し、支持部材５Ｂとの離間距離を測定するレーザ距離測定器７Ｂのレーザ部７ａ２をＹ軸移動機構６Ａにおける支持部材５Ｂ側の端部近傍に配置したので、それぞれのレーザ距離測定器７Ａ、７Ｂによる測定距離を極力短くすることができる、例えば、２つの支持部材５Ａ、５Ｂで基板Ｋ上をＹ軸方向に２等分した領域を２つの支持部材５Ａ、５Ｂで分担してペースト塗布する場合、レーザ距離測定器７Ａ、７Ｂによる測定距離を基板ＫのＹ軸方向寸法の半分程度に抑えることが可能となる。これにより、レーザ距離測定器７Ａ、７Ｂの測定値が周囲環境の変化の影響を受け難くなるので、その分、レーザ距離測定器７Ａ、７Ｂによる距離測定値の精度が向上し、これによってもペーストの塗布精度を向上させることが可能となる。
支持部材５Ａ、５Ｂとの離間距離をレーザ距離測定器７Ａ、７Ｂを用いて直接的に検出するようにしたので、リニアスケール等を用いた位置検出装置に比べて機械的誤差が測定値に介入することが防止されるので、測定精度の信頼性が向上し、これによってもペーストの塗布精度を向上させることが可能となる。
また、レーザ距離測定器７Ａ、７Ｂを、Ｙ軸移動機構６Ａ側にのみ配置したので、Ｙ軸移動機構６Ａ側を作業者によるシール塗布装置の操作側とした場合には、各レーザ部７ａ１、７ａ２が作業者による操作側に配置されることとなるので、レーザ距離測定器７Ａ、７Ｂのメンテナンスを容易に行なうことが可能となる。このため、レーザ距離測定器７Ａ、７Ｂによる距離測定精度を安定して維持することが可能となる。
（第２の実施の形態）
本発明の第２の実施の形態について図３を参照して説明する。本発明の第２の実施の形態では、第１の実施の形態と異なる部分について説明する。なお、第２の実施の形態においては、第１の実施の形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明は省略する。
本発明の第２の実施の形態に係るペースト塗布装置１は、前述の各部に加え、図３に示すように、塗布ヘッド３Ａの移動方向であるＸ軸方向における塗布ヘッド３Ａまでの離間距離を測定するレーザ距離測定器７Ｃと、塗布ヘッド３Ｂの移動方向であるＸ軸方向における塗布ヘッド３Ｂまでの離間距離を測定するレーザ距離測定器７Ｄと、塗布ヘッド３Ｃの移動方向であるＸ軸方向における塗布ヘッド３Ｃまでの離間距離を測定するレーザ距離測定器７Ｅと、塗布ヘッド３Ｄの移動方向であるＸ軸方向における塗布ヘッド３Ｄまでの離間距離を測定するレーザ距離測定器７Ｆとを備えている。これらのレーザ距離測定器７Ｃ〜７Ｆは、支持部材５Ａ及び支持部材５Ｂにそれぞれ設けられている。したがって、本発明の実施の形態では、塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄが４個設けられているため、それらに対応させてレーザ距離測定器７Ｃ〜７Ｆは４個設けられている。このような各レーザ距離測定器７Ｃ〜７Ｆが、それぞれ塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄとの第２離間距離（塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄの移動方向における塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄまでの離間距離）を測定する第２レーザ距離測定器として機能する。
レーザ距離測定器７Ｃは、レーザ光を出射して反射光を受光するレーザ部７ａ３と、出射されたレーザ光をレーザ部７ａ３に向けて反射する反射部７ｂ３とを備えている。同様に、レーザ距離測定器７Ｄも、レーザ光を出射して反射光を受光するレーザ部７ａ４と、出射されたレーザ光をレーザ部７ａ４に向けて反射する反射部７ｂ４とを備えている。さらに、レーザ距離測定器７Ｅも、レーザ光を出射して反射光を受光するレーザ部７ａ５と、出射されたレーザ光をレーザ部７ａ５に向けて反射する反射部７ｂ５とを備えている。加えて、レーザ距離測定器７Ｆも、レーザ光を出射して反射光を受光するレーザ部７ａ６と、出射されたレーザ光をレーザ部７ａ６に向けて反射する反射部７ｂ６とを備えている。
レーザ距離測定器７Ｃのレーザ部７ａ３は、レーザ光の光路がＸ軸方向（支持部材５Ａの延伸方向）に平行になるように支持部材５Ａにおける図３中の手前側（Ｙ軸移動機構６Ａ側）の端部に位置付けられ、支持部材５Ａの上面に設けられている。また、レーザ距離測定器７Ｃの反射部７ｂ３は、レーザ部７ａ３から出射されたレーザ光をレーザ部７ａ３に向けて反射可能に塗布ヘッド３Ａ用のＹＺ軸移動機構３ｃに固定され、Ｘ軸方向に移動する塗布ヘッド３Ａと一緒に移動可能に設けられている。同様に、レーザ距離測定器７Ｄのレーザ部７ａ４も、レーザ光の光路がＸ軸方向（支持部材５Ａの延伸方向）に平行になるように支持部材５Ａにおける図３中の奥側（Ｙ軸移動機構６Ｂ側）の端部に位置付けられ、支持部材５Ａの上面に設けられている。また、レーザ距離測定器７Ｄの反射部７ｂ４も、レーザ部７ａ４から出射されたレーザ光をレーザ部７ａ４に向けて反射可能に塗布ヘッド３Ｂ用のＹＺ軸移動機構３ｃに固定され、Ｘ軸方向に移動する塗布ヘッド３Ｂと一緒に移動可能に設けられている。ここで、各反射部７ｂ３、７ｂ４としては、例えばプリズム等を用いる。
レーザ距離測定器７Ｅのレーザ部７ａ５は、レーザ光の光路がＸ軸方向（支持部材５Ｂの延伸方向）に平行になるように支持部材５Ｂにおける図３中の手前側（Ｙ軸移動機構６Ａ側）の端部に位置付けられ、支持部材５Ｂの上面に設けられている。また、レーザ距離測定器７Ｅの反射部７ｂ５は、レーザ部７ａ５から出射されたレーザ光をレーザ部７ａ５に向けて反射可能に塗布ヘッド３Ｃ用のＹＺ軸移動機構３ｃに固定され、Ｘ軸方向に移動する塗布ヘッド３Ｃと一緒に移動可能に設けられている。同様に、レーザ距離測定器７Ｆのレーザ部７ａ６も、レーザ光の光路がＸ軸方向（支持部材５Ｂの延伸方向）に平行になるように支持部材５Ｂにおける図３中の奥側（Ｙ軸移動機構６Ｂ側）の端部に位置付けられ、支持部材５Ｂの上面に設けられている。また、レーザ距離測定器７Ｆの反射部７ｂ６も、レーザ部７ａ６から出射されたレーザ光をレーザ部７ａ６に向けて反射可能に塗布ヘッド３Ｄ用のＹＺ軸移動機構３ｃに固定され、Ｘ軸方向に移動する塗布ヘッド３Ｄと一緒に移動可能に設けられている。ここで、各反射部７ｂ５、７ｂ６としては、例えばプリズム等を用いる。
これらのレーザ距離測定器７Ｃ〜７Ｆは、それぞれ制御部１０に電気的に接続されており、測定した離間距離をその制御部１０に信号として入力する。すなわち、レーザ部７ａ３と塗布ヘッド３Ａとの離間距離、レーザ部７ａ４と塗布ヘッド３Ｂとの離間距離、レーザ部７ａ５と塗布ヘッド３Ｃとの離間距離、及び、レーザ部７ａ６と塗布ヘッド３Ｄとの離間距離が測定されて制御部１０に入力される。これにより、制御部１０はそれらの離間距離（位置情報）に基づいて各塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄの位置を把握することが可能になる。
なお、図示は省略するが、これらのレーザ距離測定器７Ｃ〜７Ｆに対しても、レーザ距離測定器７Ａ、７Ｂと同様に、レーザ光の光路の近傍に、例えば、光路の側方に光路側の水平方向に向けて環境検出器をそれぞれ配置する。
制御部１０は、各レーザ距離測定器７Ｃ〜７Ｆにより測定された各離間距離に基づいてＸ軸移動機構４Ａ及びＸ軸移動機構４Ｂを制御し、各塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄの位置制御を行う。これにより、周囲環境（温度等）の変化に影響されずに各塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄの位置制御を行うことが可能になるので、高い精度で位置制御を行うことができ、その結果、塗布精度の低下を抑えることができる。さらに、制御部１０は、環境検出器によって検出された気温、湿度及び気圧に対応する補正値を補正情報から求め、その補正値に基づいて各塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄとの各々の離間距離を補正する補正動作を随時行う。これにより、周囲環境の変化に応じて各塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄの位置を制御することが可能になるので、周囲環境が変化しても高い精度で位置制御を行うことができ、その結果、塗布精度の低下を抑えるだけでなく、塗布精度を向上させることができる。
以上説明したように、本発明の第２の実施の形態によれば、第１の実施の形態と同様の効果を得ることができる。さらに、各塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄ用に各レーザ距離測定器７Ｃ〜７Ｆを設け、それらのレーザ距離測定器７Ｃ〜７Ｆにより測定した各離間距離に基づいてＸ軸移動機構４Ａ及びＸ軸移動機構４Ｂを制御し、各塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄの位置制御を行うことによって、周囲環境の変化に応じて膨張あるいは収縮するリニアスケールを用いた位置制御を行う場合に比べ、周囲環境の変化に影響されずに各塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄの位置制御を行うことが可能になるので、高い精度で位置制御を行うことができ、その結果、周囲環境の変化による塗布精度の低下を抑えることができる。
また、環境検出器８を設け、その環境検出器８により検出した気温、湿度及び気圧に基づいて各離間距離を補正し、補正した各離間距離に基づいて各塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄの位置を制御することによって、周囲環境の変化に応じて各塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄの位置を制御することが可能になるので、周囲環境が変化してもより高い精度で位置制御を行うことができ、その結果、塗布精度の低下を抑えるだけでなく、塗布精度を向上させることができる。
なお、図４に示すように、２つの塗布ヘッド３Ａ、３Ｂを支持する支持部材５Ａに、新たに１つの塗布ヘッド３Ｅを設けた場合には、その塗布ヘッド３Ｅの移動方向であるＸ軸方向における塗布ヘッド３Ｅまでの離間距離を測定するレーザ距離測定器７Ｇを設ける。このレーザ距離測定器７Ｇはレーザ部７ａ７及び反射部７ｂ７を備えており、他のレーザ距離測定器７Ｃ〜７Ｆと同じ構造である。レーザ距離測定器７Ｇはレーザ距離測定器７Ｄと同じ側に位置付けられ、塗布ヘッド３Ｅの位置検出が可能に設けられている。
（第３の実施の形態）
本発明の第３の実施の形態について図５を参照して説明する。本発明の第３の実施の形態では、第１の実施の形態と異なる部分について説明する。なお、第３の実施の形態においては、第１の実施の形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明は省略する。
図５に示すように、支持部材５Ｂは、各塗布ヘッド３Ｃ、３Ｄを支持する門型（門形状）のコラムである。この支持部材５Ｂは、その延伸部がＸ軸方向に沿うように位置付けられ、その脚部がＹ軸移動機構６Ａ及びＹ軸移動機構６Ｂ上に設けられている。なお、支持部材５Ａも同様な構造に形成されている。
レーザ距離測定器７Ｂの反射部７ｂ２はＹ軸移動機構６Ａの内側、すなわち支持部材５Ｂの脚部の内側に設けられている。この反射部７ｂ２の位置に合わせてレーザ部７ａ２が支持台１１上に設けられている。この支持台１１は架台９上に載置されている。なお、支持部材５Ａ用のレーザ距離測定器７Ａの反射部７ｂ１及びレーザ部７ａ１も同様な構造に形成されている。
また、覆い部材１２が、基板Ｋが載置される基板ステージ２側とレーザ距離測定器７Ａ、７Ｂ側、すなわち、レーザ部７ａ１、７ａ２から出射されるレーザ光の光路側との間を仕切るようにＹ軸移動機構６Ａの内側面（基板ステージ２側に位置する面）に固定されて設けられている。特に、覆い部材１２は、レーザ部７ａ２及び反射部７ｂ２による離間距離の測定、レーザ部７ａ１及び反射部７ｂ１による離間距離の測定、さらに、支持部材５Ａ及び支持部材５Ｂの移動を妨げないように形成されている。
この覆い部材１２は、基板ステージ２上に向けて吹き降ろされるダウンフローの風（空気）がレーザ部７ａ２と反射部７ｂ２との間及びレーザ部７ａ１と反射部７ｂ１との間を通過することを防止している。これにより、ダウンフローの風がレーザ光の光路の周囲環境に変動を生じさせるなどの悪影響を与えることが抑えられるので、レーザ光による離間距離の測定精度が低下してしまうことを抑止することが可能となり、その結果、塗布精度を向上させることができる。
なお、ダウンフローは、架台９上の各部全体を覆うボックスの上面から基板ステージ２に向かって流れ、基板ステージ２の表面に沿って外側に流れてボックスの側面に向かい、その側面の架台９側に形成された複数の流出口からボックス外に出て行くような空気の流れである。
ここで、このようなダウンフローが生じている状態下であっても、前述の覆い部材１２を設けたことから、基板ステージ２側から流れてくるダウンフローの風がレーザ部７ａ２と反射部７ｂ２との間及びレーザ部７ａ１と反射部７ｂ１との間を直接通過することが防止されるので、レーザ距離測定器７Ａ、７Ｂのレーザ光の光路の周囲環境がダウンフローの通過に起因して変動することを防止することが可能となる。よって、レーザ距離測定器７Ａ、７Ｂの測定精度を精度良く維持することができる。
また、Ｙ軸移動機構６Ａの外側に配線用のケーブルベア（登録商標）が設けられることがあるが、このような場合でも、レーザ距離測定器７Ａ、７ＢをＹ軸移動機構６Ａの内側に設けたことにより、レーザ距離測定器７Ａ、７Ｂがケーブルベアの設置の妨げとなることが無く、また、内側に設けた分だけ、ケーブルベアの移動に伴うその周囲環境の変化の影響を受け難くなるので、これによってもレーザ距離測定器７Ａ、７Ｂの測定精度を精度良く維持することができる。
以上説明したように、本発明の第３の実施の形態によれば、第１の実施の形態と同様の効果を得ることができる。さらに、レーザ距離測定器７Ｂ及びレーザ距離測定器７ＡをＹ軸移動機構６Ａの内側に設けた場合、覆い部材１２を設けることによって、ダウンフローの風がレーザ光に悪影響を与えることが抑えられ、レーザ光による離間距離の測定精度が低下してしまうことを抑止することが可能となる。これにより、高い精度で位置制御を行うことができ、その結果、塗布精度を向上させることができる。
（第４の実施の形態）
本発明の第４の実施の形態について図６を参照して説明する。本発明の第４の実施の形態では、第１の実施の形態と異なる部分について説明する。なお、第４の実施の形態においては、第１の実施の形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明は省略する。
図６に示すように、レーザ距離測定器７Ｈは、レーザ光を出射して反射光を受光するレーザ部７ａ８及びレーザ部７ａ９と、出射されたレーザ光をレーザ部７ａ８及びレーザ部７ａ９に向けて反射する傾斜面Ｍを有する反射部７ｂ８とを備えている。
レーザ部７ａ８は支持部材５Ａの端部、すなわち端面に設けられており、反射部７ｂ８の傾斜面Ｍに向けてレーザ光を出射してその傾斜面Ｍにより反射されたレーザ光である反射光を受光し、反射部７ｂ８との離間距離を測定する。
レーザ部７ａ９は支持部材５Ｂの端部、すなわち端面に設けられており、前述のレーザ部７ａ８と同様、反射部７ｂ８の傾斜面Ｍに向けてレーザ光を出射してその傾斜面Ｍにより反射されたレーザ光である反射光を受光し、反射部７ｂ８との離間距離を測定する。
反射部７ｂ８は、Ｙ軸移動機構６Ａの外側であってそのＹ軸移動機構６Ａに沿うように架台９上に設けられている。この反射部７ｂ８は、支持部材５Ａ及び支持部材５Ｂの移動方向、すなわちＹ軸方向の一方の端部から他方の端部にかけてその高さが徐々に（連続的に）低くなるように変化する傾斜面Ｍを有している。反射部７ｂ８としては、例えば鏡等を用いる。すなわち、反射部７ｂ８は、上記傾斜面Ｍ上に、この傾斜面Ｍと同寸法、同形状（四角形状）で均一な厚みを有するガラス製の鏡を設けた構造とすることができる。なお、反射部７ｂ８は、前述の平坦な傾斜面Ｍをステンレス等の金属で形成し、その傾斜面Ｍを鏡面加工することによって形成されても良い。
制御部１０は、レーザ部７ａ８により測定された離間距離から支持部材５ＡのＹ軸方向の位置を把握し、さらに、レーザ部７ａ９により測定された離間距離から支持部材５ＢのＹ軸方向の位置を把握する。このとき、制御部１０は、支持部材５Ａ、５ＢのＹ軸方向の位置と離間距離との相対関係を示す距離情報を用いて、測定された離間距離から支持部材５Ａ、５ＢのＹ軸方向の位置を把握する。距離情報は記憶部に予め記憶されている。
ここで、レーザ部７ａ８と反射部７ｂ８との離間距離の最大値、さらに、レーザ部７ａ９と反射部７ｂ８との離間距離の最大値は、第１の実施の形態（図１参照）におけるレーザ部７ａ１と反射部７ｂ１との離間距離の最大値、及び、レーザ部７ａ２と反射部７ｂ２との離間距離の最大値に比べて非常に小さくなっている。
この離間距離の最大値が大きいほど、レーザ光の光路は長くなるため、レーザ光はダウンフローの風（空気）による悪影響を受けやすくなる。したがって、離間距離の最大値をできるだけ小さくすることによって、ダウンフローの風による悪影響が抑止されている。これにより、ダウンフローの風がレーザ光に悪影響を与えることが抑えられるので、レーザ光による離間距離の測定精度が低下してしまうことを防止することが可能となり、その結果、塗布精度を向上させることができる。
以上説明したように、本発明の第４の実施の形態によれば、第１の実施の形態と同様の効果を得ることができる。さらに、支持部材５Ａの端部にレーザ部７ａ８を設け、支持部材５Ｂの端部にレーザ部７ａ９を設け、さらに、反射部７ｂ８をＹ軸移動機構６Ａに沿うように設けることによって、レーザ部７ａ８と反射部７ｂ８との離間距離の最大値及びレーザ部７ａ９と反射部７ｂ８との離間距離の最大値が、第１の実施の形態におけるレーザ部７ａ１と反射部７ｂ１との離間距離の最大値及びレーザ部７ａ２と反射部７ｂ２との離間距離の最大値に比べて小さくなるので、ダウンフローの風がレーザ光に悪影響を与えることが抑えられ、離間距離の測定精度が低下してしまうことを抑止することが可能となる。これにより、高い精度で位置制御を行うことができ、その結果、塗布精度を向上させることができる。
（第５の実施の形態）
本発明の第５の実施の形態について図７を参照して説明する。本発明の第５の実施の形態では、第４の実施の形態と異なる部分について説明する。なお、第５の実施の形態においては、第４の実施の形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明は省略する。
図７に示すように、支持部材５Ｂは、各塗布ヘッド３Ｃ、３Ｄを支持する門型（門形状）のコラムである。この支持部材５Ｂは、その延伸部がＸ軸方向に沿うように位置付けられ、その脚部がＹ軸移動機構６Ａ及びＹ軸移動機構６Ｂ上に設けられている。なお、支持部材５Ａも同様な構造に形成されている。
レーザ部７ａ９は、Ｙ軸移動機構６Ａの内側、すなわち支持部材５Ｂの脚部の内側に設けられている。同様に、レーザ部７ａ８も支持部材５Ａの脚部の内側に設けられている。反射部７ｂ８は、Ｙ軸移動機構６Ａの内側であってそのＹ軸移動機構６Ａに沿うように架台９上に設けられている。
また、覆い部材１３が、レーザ部７ａ９を含めそのレーザ部７ａ９から反射部７ｂ８までのレーザ光の光路を覆って支持部材５Ｂに支持部材５Ｂと共に移動可能に設けられている。特に、覆い部材１３は、レーザ部７ａ９及び反射部７ｂ８による離間距離の測定、さらに、支持部材５Ｂの移動を妨げないように形成されている。同様に、支持部材５Ａにもレーザ部７ａ８用の覆い部材１３が設けられている。
レーザ部７ａ９用の覆い部材１３は、レーザ部７ａ９と反射部７ｂ８との間にダウンフローの風（空気）が通過することを抑止している。同様に、レーザ部７ａ８用の覆い部材１３も、レーザ部７ａ８と反射部７ｂ８との間にダウンフローの風（空気）が通過することを抑止している。これにより、ダウンフローの風がレーザ光に悪影響を与えることが抑えられるので、レーザ光による離間距離の測定精度が低下してしまうことを防止することが可能となり、その結果、塗布精度を向上させることができる。
以上説明したように、本発明の第５の実施の形態によれば、第４の実施の形態と同様の効果を得ることができる。さらに、反射部７ｂ８をＹ軸移動機構６Ａの内側に設けた場合に、覆い部材１３を設けることによって、ダウンフローの風がレーザ光に悪影響を与えることが抑えられ、離間距離の測定精度が低下してしまうことを抑止することが可能となる。これにより、高い精度で位置制御を行うことができ、その結果、塗布精度を向上させることができる。
（第６の実施の形態）
本発明の第６の実施の形態について図８を参照して説明する。本発明の第６の実施の形態では、第２の実施の形態と異なる部分について説明する。なお、第６の実施の形態においては、第２の実施の形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明は省略する。
図８に示すように、レーザ距離測定器７Ｉは、レーザ光を出射して反射光を受光するレーザ部７ａ１０及びレーザ部７ａ１１と、出射されたレーザ光をレーザ部７ａ１０及びレーザ部７ａ１１に向けて反射する傾斜面Ｍを有する反射部７ｂ９とを備えている。
レーザ部７ａ１０は塗布ヘッド３Ｃに連結部材１４ａにより連結されており、塗布ヘッド３ｃと共にＸ軸方向に移動する。このレーザ部７ａ１０は、反射部７ｂ９の傾斜面Ｍに向けてレーザ光を出射してその傾斜面Ｍにより反射されたレーザ光である反射光を受光し、反射部７ｂ９との離間距離を測定する。
レーザ部７ａ１１は塗布ヘッド３Ｄに連結部材１４ｂにより連結されており、塗布ヘッド３Ｄと共にＸ軸方向に移動する。このレーザ部７ａ１１は、前述のレーザ部７ａ１０と同様、反射部７ｂ９の傾斜面Ｍに向けてレーザ光を出射してその傾斜面Ｍにより反射されたレーザ光である反射光を受光し、反射部７ｂ９との離間距離を測定する。
反射部７ｂ９は、支持部材５Ｂの外側の面にその支持部材５Ｂの延伸方向に沿うように設けられている。この反射部７ｂ９は、支持部材５Ｂの延伸方向、すなわちＸ軸方向の一方の端部から他方の端部にかけてその高さが徐々に（連続的に）低くなるように変化する傾斜面Ｍを有している。反射部７ｂ９としては、例えば鏡等を用いる。すなわち、反射部７ｂ８は、上記傾斜面Ｍ上に、この傾斜面Ｍと同寸法、同形状（四角形状）で均一な厚みを有するガラス製の鏡を設けた構造とすることができる。なお、反射部７ｂ８は、前述の平坦な傾斜面Ｍをステンレス等の金属で形成し、その傾斜面Ｍを鏡面加工することによって形成されても良い。
制御部１０は、レーザ部７ａ１０により測定された離間距離から塗布ヘッド３ＣのＸ軸方向の位置を把握し、さらに、レーザ部７ａ１１により測定された離間距離から塗布ヘッド３ＤのＸ軸方向の位置を把握する。このとき、制御部１０は、塗布ヘッド３Ｃ、３ＤのＸ軸方向の位置と離間距離との相対関係を示す距離情報を用いて、測定された離間距離から塗布ヘッド３Ｃ、３ＤのＸ軸方向の位置を把握する。距離情報は記憶部に予め記憶されている。
ここで、レーザ部７ａ１０と反射部７ｂ９との離間距離の最大値、さらに、レーザ部７ａ１１と反射部７ｂ９との離間距離の最大値は、第２の実施の形態（図３参照）におけるレーザ部７ａ５と反射部７ｂ５との離間距離の最大値、及び、レーザ部７ａ６と反射部７ｂ６との離間距離の最大値に比べて非常に小さくなっている。
この離間距離の最大値が大きいほど、レーザ光の光路は長くなるため、レーザ光はダウンフローの風（空気）による悪影響を受けやすくなる。したがって、離間距離の最大値をできるだけ小さくすることによって、ダウンフローの風による悪影響が抑止されている。これにより、ダウンフローの風がレーザ光に悪影響を与えることが抑えられるので、レーザ光による離間距離の測定精度が低下してしまうことを防止することが可能となり、その結果、塗布精度を向上させることができる。
以上説明したように、本発明の第６の実施の形態によれば、第２の実施の形態と同様の効果を得ることができる。さらに、塗布ヘッド３Ｃにレーザ部７ａ１０を連結し、塗布ヘッド３Ｄにレーザ部７ａ１１を連結し、さらに、反射部７ｂ９を支持部材５Ｂに沿うように設けることによって、レーザ部７ａ１０と反射部７ｂ９との離間距離の最大値及びレーザ部７ａ１１と反射部７ｂ９との離間距離の最大値が、第２の実施の形態におけるレーザ部７ａ５と反射部７ｂ５との離間距離の最大値及びレーザ部７ａ６と反射部７ｂ６との離間距離の最大値に比べて小さくなるので、ダウンフローの風がレーザ光に悪影響を与えることが抑えられ、離間距離の測定精度が低下してしまうことを抑止することが可能となる。これにより、高い精度で位置制御を行うことができ、その結果、塗布精度を向上させることができる。
（他の実施の形態）
なお、本発明は、前述の実施の形態に限るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能である。
例えば、前述の実施の形態においては、４つの塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄを支持部材５Ａ及び支持部材５Ｂにそれぞれ２つずつ設けているが、これに限るものではなく、６つの塗布ヘッドを支持部材５Ａ及び支持部材５Ｂにそれぞれ３つずつ設けてもよく、その数は限定されない。加えて、前述の実施の形態においては、２つの支持部材５Ａ及び支持部材５Ｂを設けているが、これに限るものではなく、その数は限定されない。
また、前述の実施の形態においては、ペーストとしてシール性及び接着性を有するシール剤を用いているが、必ずしもシール性及び接着性を有する必要はなく、シール性及び接着性のいずれか一方のみを有するペースト等、他の性状を有するペーストであってもよい。
また、前述の実施の形態においては、レーザ距離測定器７Ａ、７Ｂを支持部材５Ａ、５Ｂの一方の端部側に配置したが、これに限るものではなく、支持部材５Ａ、５Ｂの他方の端部側にも配置するようにしてもよい。このようにした場合、支持部材５Ａ、５Ｂの両端部において離間距離がそれぞれ測定されるので、支持部材５Ａ、５Ｂ毎に両端部の離間距離を比較して差を求めることにより、各支持部材５Ａ、５Ｂの水平面内での回転ずれの有無を検出することができる。そのため、支持部材５Ａ、５Ｂの回転ずれ有が検出された場合には、この回転ずれを打ち消すようにＹ軸移動機構６Ａ、６Ｂを制御すれば、支持部材５Ａ、５Ｂが回転ずれを生じたままの状態で支持部材５Ａ、５ＢがＹ軸方向に移動したり、支持部材５Ａ、５Ｂ上で塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄが移動したりすることが防止されるので、基板Ｋ上にペーストを所定の塗布パターンでより精度良く塗布することが可能となる。
また、前述の実施の形態においては、基板ステージ２を架台９上に固定し、各塗布ヘッド３Ａ〜３Ｄ、支持部材５Ａ及び支持部材５Ｂを移動させて、基板Ｋの表面にペーストを塗布するもので説明しているが、これに限るものではなく、基板ステージ２をＹ軸方向やＸ軸方向、θ方向（Ｘ軸及びＹ軸を含む平面での回転方向）等に移動可能に構成するようにしてもよく、例えば、基板ステージ２を支持部材５Ａ及び支持部材５Ｂの移動方向（Ｙ軸方向）と同じ方向に移動可能に構成してもよい。この場合には、基板Ｋと各塗布ヘッド３Ａ〜３ＤとをＹ軸方向に相対移動させるときに、基板ステージ２と支持部材５Ａ、５Ｂとを互いに相反する方向に移動させれば、支持部材５Ａ、５Ｂのみの移動を行う場合に比べて、基板ステージ２及び支持部材５Ａ、５Ｂの移動速度を半分にすることができる。このため、基板ステージ２及び支持部材５Ａ、５Ｂの移動に伴う慣性力が小さくなるので、基板ステージ２及び支持部材５Ａ、５Ｂの加速あるいは減速に起因して生じる振動を低減させることができる。その結果、Ｙ軸方向に沿うペーストパターンの始端及び終端の形状や塗布方向が転換するペーストパターンのコーナー部の形状を所望の形状で精度良く塗布することが可能となり、品質の良い液晶表示パネルを製造することができる。
また、前述の実施の形態においては、支持部材５Ａ、５Ｂまでの離間距離や塗布ヘッド３Ａ〜３Ｅまでの離間距離を測定するレーザ距離測定器としてレーザ干渉測長器を用いた例で説明したが、他のレーザ距離測定器、例えば、反射部に向けてレーザ光を照射し、反射して戻ってくる時間によって、反射部までの距離を測定する方式のレーザ距離測定器を用いても良い。
また、上述の第１の実施の形態においては、レーザ距離測定器７Ａのレーザ部７ａ１をＹ軸移動機構６Ａにおける支持部材５Ａ側の端部近傍に配置し、レーザ距離測定器７Ｂのレーザ部７ａ２をＹ軸移動機構６Ａにおける支持部材５Ｂ側の端部近傍に配置するものとしたが、それぞれのレーザ部７ａ１、７ａ２をＹ軸移動機構６Ａの一方の端部側に集中配置するようにしても良い。例えば、それぞれのレーザ部７ａ１、７ａ２をＹ軸移動機構６Ａにおける支持部材５Ａ側の端部近傍に配置する場合、架台９の上面にレーザ部７ａ１を配置し、その上にレーザ部７ａ２を配置して、２つのレーザ部７ａ１、７ａ２を高さを違えて配置し、それぞれの反射部７ｂ１、７ｂ２も各レーザ部７ａ１、７ａ２から照射される光路に対応させて高さを違えて支持部材５Ａ、５Ｂの底面に固定配置する。このように、それぞれのレーザ部７ａ１、７ａ２をＹ軸移動機構６Ａの一方の端部側に集中配置した場合、その端部側を作業者によるシール塗布装置の操作側とした場合には、各レーザ部７ａ１、７ａ２が作業者による操作側に配置されることとなるので、レーザ距離測定器７Ａ、７Ｂのメンテナンスを容易に行なうことが可能となる。このため、レーザ距離測定器７Ａ、７Ｂによる距離測定精度を安定して維持することが可能となる。
 産業上の利用の可能性
以上、本発明の実施の形態を説明したが、具体例を例示したに過ぎず、特に本発明を限定するものではなく、各部の具体的構成等は、適宜変更可能である。また、実施形態に記載された作用及び効果は、本発明から生じる最も好適な作用及び効果を列挙したに過ぎず、本発明による作用及び効果は、本発明の実施形態に記載されたものに限定されるものではない。本発明は、例えば、塗布対象物にペーストを塗布する塗布装置や塗布方法、また、表示パネルを製造する製造装置や製造方法等で用いられる。

Claims (12)

  1. 塗布対象物にペーストを塗布する塗布ヘッドと、
    前記塗布ヘッドを支持する支持部材と、
    前記支持部材を前記塗布対象物の表面に沿うように移動させる移動機構と、
    前記支持部材に設けられた反射部と、
    前記反射部に向けて前記支持部材の移動方向にレーザ光を出射し、前記反射部により反射されたレーザ光である反射光を受光し、前記反射部との離間距離を測定するレーザ部と、
    前記レーザ部により測定された前記離間距離に基づいて、前記塗布対象物上にペーストパターンを描画するように前記塗布ヘッド及び前記移動機構を制御する制御部と、
    を備えることを特徴とするペースト塗布装置。
  2. 塗布対象物にペーストを塗布する塗布ヘッドと、
    前記塗布ヘッドを支持する支持部材と、
    前記支持部材を前記塗布対象物の表面に沿うように移動させる移動機構と、
    前記支持部材の移動方向に沿って徐々に高さが変化する傾斜面を有する反射部と、
    前記支持部材に設けられ、前記傾斜面に向けてレーザ光を出射して前記傾斜面により反射されたレーザ光である反射光を受光し、前記反射部との離間距離を測定するレーザ部と、
    前記レーザ部により測定された前記離間距離に基づいて、前記塗布対象物上にペーストパターンを描画するように前記塗布ヘッド及び前記移動機構を制御する制御部と、
    を備えることを特徴とするペースト塗布装置。
  3. 塗布対象物にペーストを塗布する塗布ヘッドと、
    前記塗布ヘッドを支持する支持部材と、
    前記塗布ヘッドを前記支持部材に沿うように移動させる移動機構と、
    前記塗布ヘッドに設けられた反射部と、
    前記反射部に向けて前記塗布ヘッドの移動方向にレーザ光を出射し、前記反射部により反射されたレーザ光である反射光を受光し、前記反射部との離間距離を測定するレーザ部と、
    前記レーザ部により測定された前記離間距離に基づいて、前記塗布対象物上にペーストパターンを描画するように前記塗布ヘッド及び前記移動機構を制御する制御部と、
    を備えることを特徴とするペースト塗布装置。
  4. 塗布対象物にペーストを塗布する塗布ヘッドと、
    前記塗布ヘッドを支持する支持部材と、
    前記塗布ヘッドを前記支持部材に沿うように移動させる移動機構と、
    前記支持部材に設けられ、前記塗布ヘッドの移動方向に沿って徐々に高さが変化する傾斜面を有する反射部と、
    前記塗布ヘッドに連結され、前記傾斜面に向けてレーザ光を出射して前記傾斜面により反射されたレーザ光である反射光を受光し、前記反射部との離間距離を測定するレーザ部と、
    前記レーザ部により測定された前記離間距離に基づいて、前記塗布対象物上にペーストパターンを描画するように前記塗布ヘッド及び前記移動機構を制御する制御部と、
    を備えることを特徴とするペースト塗布装置。
  5. 気温、湿度及び気圧を検出する環境検出器をさらに備え、
    前記制御部は、前記環境検出器により検出された前記気温、前記湿度及び前記気圧に基づいて、前記レーザ部により測定された前記離間距離を補正し、補正した前記離間距離に基づいて前記塗布ヘッド及び前記移動機構を制御することを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一に記載のペースト塗布装置。
  6. 前記移動機構は、前記支持部材の両端部を支持して前記支持部材を移動させる一対の移動機構により構成されており、
    前記反射部は前記一対の移動機構の内側であって前記支持部材に設けられており、
    前記塗布対象物側と前記レーザ部から出射されるレーザ光の光路側とを仕切る覆い部材をさらに備えることを特徴とする請求項１記載のペースト塗布装置。
  7. 前記移動機構は、前記支持部材の両端部を支持して前記支持部材を移動させる一対の移動機構により構成されており、
    前記レーザ部は前記一対の移動機構の内側であって前記支持部材に設けられており、
    前記支持部材と共に移動可能に前記支持部材に設けられ、前記塗布対象物側と前記レーザ部から出射されるレーザ光の光路側とを仕切る覆い部材をさらに備えることを特徴とする請求項２記載のペースト塗布装置。
  8. 塗布対象物にペーストを塗布する塗布ヘッドと、前記塗布ヘッドを支持する支持部材と、前記支持部材を前記塗布対象物の表面に沿うように移動させる移動機構と、前記支持部材に設けられた反射部と、前記反射部に向けて前記支持部材の移動方向にレーザ光を出射するレーザ部とを備えるペースト塗布装置を用いて、
    前記レーザ部により、前記反射部にレーザ光を照射して前記反射部により反射されたレーザ光である反射光を受光し、前記反射部との離間距離を測定する工程と、
    測定した前記離間距離に基づいて前記塗布ヘッド及び前記移動機構を制御し、前記塗布対象物上にペーストパターンを描画する工程と、
    を有することを特徴とするペースト塗布方法。
  9. 塗布対象物にペーストを塗布する塗布ヘッドと、前記塗布ヘッドを支持する支持部材と、前記支持部材を前記塗布対象物の表面に沿うように移動させる移動機構と、前記支持部材の移動方向に沿って徐々に高さが変化する傾斜面を有する反射部と、前記支持部材に設けられ、前記傾斜面に向けてレーザ光を出射するレーザ部とを備えるペースト塗布装置を用いて、
    前記レーザ部により、前記傾斜面にレーザ光を照射して前記傾斜面により反射されたレーザ光である反射光を受光し、前記反射部との離間距離を測定する工程と、
    測定した前記離間距離に基づいて前記塗布ヘッド及び前記移動機構を制御し、前記塗布対象物上にペーストパターンを描画する工程と、
    を有することを特徴とするペースト塗布方法。
  10. 塗布対象物にペーストを塗布する塗布ヘッドと、前記塗布ヘッドを支持する支持部材と、前記塗布ヘッドを前記支持部材に沿うように移動させる移動機構と、前記塗布ヘッドに設けられた反射部と、前記反射部に向けて前記塗布ヘッドの移動方向にレーザ光を出射するレーザ部とを備えるペースト塗布装置を用いて、
    前記レーザ部により、前記反射部にレーザ光を照射して前記反射部により反射されたレーザ光である反射光を受光し、前記反射部との離間距離を測定する工程と、
    測定した前記離間距離に基づいて前記塗布ヘッド及び前記移動機構を制御し、前記塗布対象物上にペーストパターンを描画する工程と、
    を有することを特徴とするペースト塗布方法。
  11. 塗布対象物にペーストを塗布する塗布ヘッドと、前記塗布ヘッドを支持する支持部材と、前記塗布ヘッドを前記支持部材に沿うように移動させる移動機構と、前記支持部材に設けられ、前記塗布ヘッドの移動方向に沿って徐々に高さが変化する傾斜面を有する反射部と、前記塗布ヘッドに連結され、前記傾斜面に向けてレーザ光を出射するレーザ部とを備えるペースト塗布装置を用いて、
    前記レーザ部により、前記傾斜面にレーザ光を照射して前記傾斜面により反射されたレーザ光である反射光を受光し、前記反射部との離間距離を測定する工程と、
    測定した前記離間距離に基づいて前記塗布ヘッド及び前記移動機構を制御し、前記塗布対象物上にペーストパターンを描画する工程と、
    を有することを特徴とするペースト塗布方法。
  12. 気温、湿度及び気圧を検出する工程をさらに有し、
    前記制御する工程では、検出した前記気温、前記湿度及び前記気圧に基づいて前記離間距離を補正し、補正した前記離間距離に基づいて前記塗布ヘッド及び前記移動機構を制御することを特徴とする請求項８ないし１１のいずれか一に記載のペースト塗布方法。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101364661B1 (ko) * 2011-03-07 2014-02-19 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤 페이스트 도포 장치 및 페이스트 도포 방법
CN104028438B (zh) * 2014-06-25 2015-08-19 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 一种可移动支撑脚位置的预烘烤炉
CN109382264B (zh) * 2018-10-23 2021-06-04 惠科股份有限公司 涂布机构、涂布工艺及显示面板
CN110560339A (zh) * 2019-09-04 2019-12-13 深圳市华讯方舟微电子科技有限公司 一种定位装置以及点胶工艺

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2703700B2 (ja) * 1992-10-01 1998-01-26 日立テクノエンジニアリング株式会社 ペースト塗布機
JP2004167365A (ja) * 2002-11-19 2004-06-17 Seiko Epson Corp 給液装置、排液装置、液滴吐出装置、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器
JP2006192410A (ja) * 2005-01-17 2006-07-27 Sharp Corp 液体噴射装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3318440B2 (ja) * 1994-06-22 2002-08-26 富士通株式会社 ステージ原点位置決定方法及び装置並びにステージ位置検出器原点決定方法及び装置
JP3701882B2 (ja) * 2001-05-25 2005-10-05 株式会社 日立インダストリイズ ペースト塗布機
JP4339290B2 (ja) * 2005-07-29 2009-10-07 アンリツ株式会社 変位測定装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2703700B2 (ja) * 1992-10-01 1998-01-26 日立テクノエンジニアリング株式会社 ペースト塗布機
JP2004167365A (ja) * 2002-11-19 2004-06-17 Seiko Epson Corp 給液装置、排液装置、液滴吐出装置、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器
JP2006192410A (ja) * 2005-01-17 2006-07-27 Sharp Corp 液体噴射装置

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