JPWO2009084527A1 - 太陽電池の製造方法及び太陽電池 - Google Patents
太陽電池の製造方法及び太陽電池 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2009084527A1 JPWO2009084527A1 JP2009548037A JP2009548037A JPWO2009084527A1 JP WO2009084527 A1 JPWO2009084527 A1 JP WO2009084527A1 JP 2009548037 A JP2009548037 A JP 2009548037A JP 2009548037 A JP2009548037 A JP 2009548037A JP WO2009084527 A1 JPWO2009084527 A1 JP WO2009084527A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solar cell
- upper electrode
- sputtering
- electrode
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 39
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 134
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims abstract description 67
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 63
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 53
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 32
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 32
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 31
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims abstract description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 53
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 27
- 238000010248 power generation Methods 0.000 claims description 14
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 147
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 87
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 21
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 3
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 229910021424 microcrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- FMRLDPWIRHBCCC-UHFFFAOYSA-L Zinc carbonate Chemical compound [Zn+2].[O-]C([O-])=O FMRLDPWIRHBCCC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
- C23C14/0036—Reactive sputtering
- C23C14/0084—Producing gradient compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/086—Oxides of zinc, germanium, cadmium, indium, tin, thallium or bismuth
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0224—Electrodes
- H01L31/022466—Electrodes made of transparent conductive layers, e.g. TCO, ITO layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0224—Electrodes
- H01L31/022466—Electrodes made of transparent conductive layers, e.g. TCO, ITO layers
- H01L31/022483—Electrodes made of transparent conductive layers, e.g. TCO, ITO layers composed of zinc oxide [ZnO]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
- H01L31/1884—Manufacture of transparent electrodes, e.g. TCO, ITO
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Abstract
Description
本願は、2007年12月28日に、日本に出願された特願2007−339534号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
すなわち、本発明の第1の態様に係る太陽電池の製造方法は、光入射側に配置され、電力取り出電極として機能する上部電極が備えられた太陽電池の製造方法であって、酸化亜鉛系材料を含むターゲットを用いて、スパッタリングにより基板上に前記上部電極を形成する工程を備え、前記上部電極の形成工程では、水素ガス、酸素ガス、及び水蒸気の群から選択される2種または3種を含む雰囲気中で、前記スパッタリングを行う。
R=PH2/PO2≧2 ……(1)
この場合、比抵抗2000μΩ・cm以下の透明導電膜を得ることができる。
この場合、放電電圧を下げることにより結晶格子の整った酸化亜鉛系の透明導電膜を成膜することが可能になるので、比抵抗の低い透明導電膜を得ることができる。
また、前記スパッタリングを行う際に、直流電圧に高周波電圧を重畳したスパッタリング電圧を前記ターゲットに印加してもよい。
この場合、直流電圧に高周波電圧が重畳されたスパッタ電圧が用いられているため、放電電圧をさらに下げることができる。
前記スパッタリングを行う際の、前記ターゲットの表面における水平磁界の強度の最大値を、600ガウス以上とすることが好ましい。
この場合、水平磁界の強度の最大値が、600ガウス以上であるため、放電電圧を下げることができる。
前記酸化亜鉛系材料は、アルミニウム添加酸化亜鉛またはガリウム添加酸化亜鉛であることが好ましい。
上記の本発明の第2の態様によれば、上部電極及び中間電極に含有される酸素原子の量が適宜制御された上部電極及び中間電極が得られる。したがって、上記本発明の第1の態様で得られる効果に加え、光電変換効率を向上させるための特性が個別に最適化された上部電極及び中間電極を備える太陽電池を得ることができる。
上記の本発明の第3の態様によれば、上記本発明の第2の態様で得られる効果と同様の効果が得られる。
上記の本発明の第4の態様によれば、上記本発明の第2の態様で得られる効果と同様の効果が得られる。
したがって、上記の太陽電池の製造方法によれば、表面抵抗が低く、可視光線の透過性に優れた太陽電池の上部電極及び中間電極をなす酸化亜鉛系の透明導電膜を容易に成膜することができる。その結果、優れた光電変換効率をもつ太陽電池を製造することが可能になる。
51 ガラス基板(基板)
53 上部電極(酸化亜鉛系透明導電膜)
57 中間電極(酸化亜鉛系透明導電膜)
(スパッタ装置1)
図1は、本実施形態に係るスパッタ装置(成膜装置)を示す概略構成図(平面図)、図2は同スパッタ装置の成膜室の主要部を示す平面断面図である。スパッタ装置1は、インターバック式のスパッタ装置であり、例えば、無アルカリガラス基板(図示せず)等の基板を搬入/搬出する、仕込み/取り出し室2と、基板上に酸化亜鉛系の透明導電膜が成膜される成膜室(真空容器)3とを備えている。
電源14は、直流電源と高周波電源(図示略)とを備え、ターゲット7に、直流電圧に高周波電圧が重畳されたスパッタ電圧を印加する。
図3は、本実施形態に係る太陽電池の製造方法に用いられる他のスパッタ装置の一例、即ちインターバック式のマグネトロンスパッタ装置の成膜室の主要部を示す平面断面図である。図3に示すマグネトロンスパッタ装置21が、図1、2に示すスパッタ装置1と異なる点は、成膜室3の一方の側面3bに、酸化亜鉛系材料のターゲット7を保持し、かつ、所望の磁界を発生する縦置きのスパッタカソード機構(ターゲット保持手段)22が設けられている点である。
本実施形態に係る製造方法によって製造された太陽電池を、図3に基づいて説明する。図3は太陽電池の構成の一例を示す断面図である。太陽電池50は、表面に設けられたガラス基板51と、ガラス基板51上に設けられた酸化亜鉛系の透明導電膜からなる上部電極53と、アモルファスシリコン等で構成されたトップセル55と、トップセル55と後述するボトムセル59との間に設けられた透明導電膜からなる中間電極57と、微結晶シリコン等で構成されたボトムセル59と、透明導電膜からなるバッファ層61と、金属膜からなる裏面電極63とを備え、これらは積層されている。
上部電極53及び中間電極57には、i層で吸収するための光を透過する性質と光起電力で発生した電子を取り出す電気伝導性が要求される。すなわち、上部電極53及び中間電極57には、比抵抗の低さと可視光域での光透過性の高さとを両立することが要求されている。本実施形態に係るスパッタ装置を用いて、水素ガス、酸素ガス、及び水蒸気の群から選択される2種または3種を含む雰囲気中にてスパッタを行うことによって、ZnO系膜の中でも特に比抵抗が低く、かつ可視光域での光透過性の高い透明導電膜を得ることができる。これにより、優れた光電変換効率をもつ太陽電池50を実現することが可能になる。
そこで、下地へのダメージを抑制しつつ、中間電極57又はバッファ61を形成することが好ましい。また、バッファ層61を設けるのには、裏面電極63に用いられている金属膜の拡散防止を図るなどの目的もある。
次に、本実施形態に係る太陽電池の製造方法の一例として、図1、2に示すスパッタ装置1を用いて、太陽電池の上部電極及び中間電極をなす酸化亜鉛系の透明導電膜を基板上に成膜する方法について示す。
まず、ターゲット7をスパッタカソード機構12にロウ材等でボンディングして固定する。ここで、ターゲット材には、酸化亜鉛系材料、例えば、アルミニウム(Al)を0.1〜10質量%添加したアルミニウム添加酸化亜鉛(AZO)、ガリウム(Ga)を0.1〜10質量%添加したガリウム添加酸化亜鉛(GZO)等が用いられる。中でも、比抵抗の低い薄膜を成膜することができる点で、アルミニウム添加酸化亜鉛(AZO)が好ましい。
ここで、水素ガスと酸素ガスを選択した場合、水素ガスの分圧(PH2)と酸素ガスの分圧(PO2)との比R(PH2/PO2)は、
R=PH2/PO2≧2 ……(3)
を満たすことが好ましい。
これにより、成膜室3内の雰囲気は、水素ガス濃度が酸素ガス濃度の2倍以上の反応性ガス雰囲気となる。R=PH2/PO2≧2を満たすことで、比抵抗2000μΩ・cm以下の透明導電膜を得ることができる。なお、太陽電池50の上部電極53及び中間電極57は、比抵抗2000μΩ・cm以下であることが好ましい。
このように、比抵抗が低くかつ可視光線に対する透明性が良好な酸化亜鉛系の透明導電膜が形成された基板6が得られる。この基板6を太陽電池に用いる事で、低抵抗で、かつ可視光線の透過度が高い上部電極及び中間電極を備えた太陽電池を得ることが可能になる。すなわち、低コストで生産可能な酸化亜鉛系透明導電膜であっても、太陽電池の光電変換効率を向上させることが可能になる。
この場合、上部電極では光から変換された電気エネルギーの回収効率が向上し、中間電極ではトップセルを通過した長波長領域での光の透過率が向上する。その結果、太陽電池の光電変換効率をさらに向上させることが可能になる。
(実施例1)
図5は、無加熱成膜におけるH2Oガス(水蒸気)の効果を示すグラフである。図5中、Aは反応性ガスを導入しない場合の酸化亜鉛系透明導電膜の透過率を、BはH2Oガスをその分圧が5×10−5Torrになるように導入した場合の酸化亜鉛系透明導電膜の透過率を、CはO2ガスをその分圧が1×10−5Torrになるように導入した場合の酸化亜鉛系透明導電膜の透過率を、それぞれ示している。なお、直流(DC)電圧を印加する平行平板型のカソードを用いた。
また、H2Oガスを導入した場合、透明導電膜の膜厚は204.0nm、比抵抗は64464μΩcmであった。
更に、O2ガスを導入した場合、透明導電膜の膜厚は208.5nm、比抵抗は2406μΩcmであった。
また、H2Oガスを導入した場合、比抵抗が高く、抵抗劣化が大きくなるが、透過率が高い。すなわち、この場合に得られる透明導電膜は、電極面積が大きいため比較的低抵抗の要求が弱く、透過率に対する要求が強い太陽電池の電極や、ほとんど抵抗が問題にならない光学部材に適用可能であることが分かった。
更に、H2Oガスの無導入と導入、もしくは導入量を変化させた条件での成膜を繰り返し行うことで、層毎に屈折率が変化した積層構造の光デバイスを1枚のターゲットで得られることが分かった。
H2Oガスを導入することにより、透過率を上昇させることに加え、所望の周波数を有する光の透過率を選択的に高めることが可能となる。
図6は、基板温度を250℃とした加熱成膜におけるH2Oガス(水蒸気)の効果を示すグラフである。図6中、Aは反応性ガスを導入しない場合の酸化亜鉛系透明導電膜の透過率を、BはH2Oガスをその分圧が5×10−5Torrになるように導入した場合の酸化亜鉛系透明導電膜の透過率を、CはO2ガスをその分圧が1×10−5Torrになるように導入した場合の酸化亜鉛系透明導電膜の透過率を、それぞれ示している。なお、直流(DC)電圧を印加する平行平板型のカソードを用いた。
また、H2Oガスを導入した場合、透明導電膜の膜厚は183.0nm、比抵抗は6625μΩcmであった。
更に、O2ガスを導入した場合、透明導電膜の膜厚は197.3nm、比抵抗は2214μΩcmであった。
図7は、基板温度を250℃とした加熱成膜においてH2ガスとO2ガスとを同時に導入した場合の効果を示すグラフである。図7中、AはH2ガスの分圧が15×10−5Torr、O2ガスの分圧が1×10−5TorrになるようにH2ガス及びO2ガスを同時に導入した場合の酸化亜鉛系透明導電膜の透過率を、BはO2ガスをその分圧が1×10−5Torrになるように導入した場合の酸化亜鉛系透明導電膜の透過率を、それぞれ示している。なお、直流(DC)電圧と高周波(RF)電圧を重畳可能な平行平板型のカソードを用いた。
また、O2ガスのみを導入した場合、透明導電膜の膜厚は208.9nmであった。
図7に示す実験結果によれば、H2ガスとO2ガスとを同時に導入した場合、O2ガスのみを導入した場合と比べて、膜厚の干渉によるピーク波長のシフト以上に、ピーク波長がシフトしていることが分かった。また、透過率もO2ガスのみを導入した場合と比べて向上していることが分かった。
図8は、基板温度を250℃とした加熱成膜においてH2ガスとO2ガスを同時に導入した場合の効果を示すグラフであり、O2ガスの分圧を1×10−5Torr(流量換算の分圧)に固定し、H2ガスの分圧を0〜15×10−5Torr(流量換算の分圧)の間で変化させた場合の酸化亜鉛系透明導電膜の比抵抗を示している。なお、直流(DC)電圧と高周波(RF)電圧を重畳可能な平行平板型のカソードを用いた。また、得られた透明導電膜の膜厚は概ね200nmであった。
図9は、無加熱成膜におけるH2ガスの効果を示すグラフである。図9中、AはH2ガスをその分圧が3×10−5Torrになるように導入した場合の酸化亜鉛系透明導電膜の透過率を、BはO2ガスをその分圧が1.125×10−5Torr以下になるように導入した場合の酸化亜鉛系透明導電膜の透過率を、それぞれ示している。なお、直流(DC)電圧を印加する対向型のカソードを用いた。
また、O2ガスを導入した場合、透明導電膜の膜厚は206.4nm、比抵抗は3608μΩcmであった。
また、特に透過率と低抵抗を高いレベルで両立させたい場合には、酸素と水素を導入することが好ましい。
図10は、ITOを成膜した基板と、AZO(アルミニウム添加酸化亜鉛)を成膜した基板とについて、波長400〜700nmの範囲の光の透過率を測定した結果を示すグラフである。図10中、AはAZOを50.5nmの厚みで成膜した基板、BはITOを56.0nmの厚みで成膜した基板をそれぞれ示している。
図11は、ITOを成膜した基板と、AZO(アルミニウム添加酸化亜鉛)を成膜した基板とについて、波長400〜700nmの範囲の光の透過率を測定した結果を示すグラフである。図11中、AはAZOを183.0nmの厚みで成膜した基板、BはITOを173.0nmの厚みで成膜した基板をそれぞれ示している。
図12は、無加熱成膜におけるO2ガスの効果を示すグラフである。図12中、AはO2ガスを導入しない場合の酸化亜鉛系透明導電膜の透過率を、BはO2ガスをその分圧が2×10−5Torrになるように導入した場合の酸化亜鉛系透明導電膜の透過率を、CはO2ガスをその分圧が3×10−5Torrになるように導入した場合の酸化亜鉛系透明導電膜の透過率を、それぞれ示している。なお、A,B,Cいずれの場合も、H2ガスが、その分圧が3×10−5Torrになるように導入されている。また、直流(DC)電圧を印加する対向型のカソードを用いた。得られた透明導電膜の膜厚は概ね700nmであった。
また、O2ガスをその分圧が2×10−5Torrになるように導入した場合、透明導電膜の表面抵抗値は12Ω/□、比抵抗は850μΩcmであった。
また、O2ガスをその分圧が3×10−5Torrになるように導入した場合、透明導電膜の表面抵抗値は33Ω/□、比抵抗は2300μΩcmであった。
一方、中間電極には、特に長波長領域での光の透過率が高いことが求められる。図4に例示したようなタンデム型の太陽電池では、トップセル55で主に短波長領域の光の変換が行われ、ボトムセル59で主に長波長領域の光の変換が行われるためである。
本実施例より、中間電極に用いる透明導電膜を形成する際のO2ガスの導入量を、上部電極に用いる透明導電膜を形成する際のO2ガスの導入量よりも多くすることで、より抵抗の低い上部電極とより長波長領域での光の透過率の高い中間電極が得られることが分る。
Claims (12)
- 光入射側に配置され、電力取り出電極として機能する上部電極が備えられた太陽電池の製造方法であって、
酸化亜鉛系材料を含むターゲットを用いて、スパッタリングにより基板上に前記上部電極を形成する工程を備え、
前記上部電極の形成工程では、水素ガス、酸素ガス、及び水蒸気の群から選択される2種または3種を含む雰囲気中で、前記スパッタリングを行うことを特徴とする太陽電池の製造方法。 - 前記スパッタリングを行うに際して、少なくとも前記水素ガス及び前記酸素ガスを前記雰囲気中に含めた場合、前記水素ガスの分圧(PH2)と前記酸素ガスの分圧(PO2)との比R(PH2/PO2)が下式(1)を満たすことを特徴とする請求項1に記載の太陽電池の製造方法。
R=PH2/PO2≧2 ……(1) - 前記スパッタリングを行う際に、前記ターゲットに印加するスパッタリング電圧を、340V以下とすることを特徴とする請求項1に記載の太陽電池の製造方法。
- 前記スパッタリングを行う際に、直流電圧に高周波電圧を重畳したスパッタリング電圧を前記ターゲットに印加することを特徴とする請求項1に記載の太陽電池の製造方法。
- 前記スパッタリングを行う際の、前記ターゲットの表面における水平磁界の強度の最大値を、600ガウス以上とすることを特徴とする請求項1に記載の太陽電池の製造方法。
- 前記酸化亜鉛系材料は、アルミニウム添加酸化亜鉛またはガリウム添加酸化亜鉛であることを特徴とする請求項1に記載の太陽電池の製造方法。
- 基板上に、上部電極、第1発電層、中間電極、第2発電層、裏面電極が積層されたタンデム型の太陽電池の製造方法であって、
酸化亜鉛系材料を含むターゲットを用いて、スパッタリングにより前記上部電極及び前記中間電極を形成する工程を備え、
前記上部電極及び前記中間電極の形成工程では、水素ガス及び水蒸気のうちの少なくとも1種と、酸素ガスとが導入された雰囲気中で前記スパッタリングを行い;
前記中間電極を形成する際の前記酸素ガスの導入量を、前記上部電極を形成する際の前記酸素ガスの導入量よりも多くすることを特徴とする太陽電池の製造方法。 - 基板上に、上部電極、第1発電層、中間電極、第2発電層、裏面電極が積層されたタンデム型の太陽電池の製造方法であって、
酸化亜鉛系材料を含むターゲットを用いて、スパッタリングにより前記上部電極及び前記中間電極を形成する工程を備え、
前記上部電極及び前記中間電極の形成工程では、水蒸気と、水素ガス及び酸素ガスのうちの少なくとも1種とが導入された雰囲気中で前記スパッタリングを行い;
前記中間電極を形成する際の前記水蒸気の導入量を、前記上部電極を形成する際の前記水蒸気の導入量よりも多くすることを特徴とする太陽電池の製造方法。 - 基板上に、上部電極、第1発電層、中間電極、第2発電層、裏面電極が積層されたタンデム型の太陽電池であって、
前記上部電極及び前記中間電極は、酸化亜鉛系の材料を含み;
前記含有される酸素原子の量が、前記上部電極に含有される酸素原子の量よりも多いことを特徴とする太陽電池。 - 前記上部電極の抵抗は、前記中間電極の抵抗よりも低く;
前記中間電極の光の透過率は、波長800〜1200nmの範囲で、前記上部電極の光の透過率よりも高いことを特徴とする請求項9に記載の太陽電池。 - 前記上部電極の抵抗が30Ω/□以下であり;
前記中間電極の、波長800〜1200nmの範囲における透過率が80%以上であることを特徴とする請求項10に記載の太陽電池。 - 前記中間電極の抵抗が30Ω/□以上であることを特徴とする請求項11に記載の太陽電池。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009548037A JP5155335B2 (ja) | 2007-12-28 | 2008-12-24 | 太陽電池の製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007339534 | 2007-12-28 | ||
JP2007339534 | 2007-12-28 | ||
PCT/JP2008/073399 WO2009084527A1 (ja) | 2007-12-28 | 2008-12-24 | 太陽電池の製造方法及び太陽電池 |
JP2009548037A JP5155335B2 (ja) | 2007-12-28 | 2008-12-24 | 太陽電池の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2009084527A1 true JPWO2009084527A1 (ja) | 2011-05-19 |
JP5155335B2 JP5155335B2 (ja) | 2013-03-06 |
Family
ID=40824241
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009548037A Expired - Fee Related JP5155335B2 (ja) | 2007-12-28 | 2008-12-24 | 太陽電池の製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100269898A1 (ja) |
JP (1) | JP5155335B2 (ja) |
KR (1) | KR101136978B1 (ja) |
CN (1) | CN101911308B (ja) |
DE (1) | DE112008003495T5 (ja) |
TW (1) | TW200945612A (ja) |
WO (1) | WO2009084527A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2009084441A1 (ja) * | 2007-12-28 | 2011-05-19 | 株式会社アルバック | 透明導電膜の成膜方法及び成膜装置 |
KR20110127182A (ko) * | 2009-03-13 | 2011-11-24 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | 투명 도전막과 투명 도전막 적층체 및 그 제조 방법, 및 실리콘계 박막 태양전지 |
US20110132450A1 (en) * | 2009-11-08 | 2011-06-09 | First Solar, Inc. | Back Contact Deposition Using Water-Doped Gas Mixtures |
JP5423648B2 (ja) * | 2010-10-20 | 2014-02-19 | 住友金属鉱山株式会社 | 表面電極付透明導電基板の製造方法及び薄膜太陽電池の製造方法 |
CN103396010B (zh) * | 2013-08-15 | 2015-08-12 | 蚌埠玻璃工业设计研究院 | 一种自陷光azo薄膜玻璃的制备方法 |
JP6211557B2 (ja) * | 2014-04-30 | 2017-10-11 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルム及びその製造方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4623601A (en) * | 1985-06-04 | 1986-11-18 | Atlantic Richfield Company | Photoconductive device containing zinc oxide transparent conductive layer |
JPH06196738A (ja) * | 1992-12-24 | 1994-07-15 | Canon Inc | 太陽電池の製法 |
SG46607A1 (en) * | 1993-07-28 | 1998-02-20 | Asahi Glass Co Ltd | Method of an apparatus for sputtering |
JPH0987833A (ja) | 1995-09-26 | 1997-03-31 | Asahi Glass Co Ltd | 透明導電膜の製造方法 |
JPH10178193A (ja) * | 1996-12-18 | 1998-06-30 | Canon Inc | 光起電力素子の製造方法 |
US6224736B1 (en) * | 1998-01-27 | 2001-05-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Apparatus and method for forming thin film of zinc oxide |
JP2002237606A (ja) * | 2000-12-04 | 2002-08-23 | Canon Inc | 太陽電池用基板、それを用いた太陽電池及び太陽電池の製造方法 |
JP2002222972A (ja) * | 2001-01-29 | 2002-08-09 | Sharp Corp | 積層型太陽電池 |
JP3788613B2 (ja) * | 2002-12-06 | 2006-06-21 | 北海道電力株式会社 | ZnO透明導電膜の成膜方法 |
JP2004296615A (ja) * | 2003-03-26 | 2004-10-21 | Canon Inc | 積層型光起電力素子 |
JP2004311970A (ja) * | 2003-03-26 | 2004-11-04 | Canon Inc | 積層型光起電力素子 |
US7189917B2 (en) * | 2003-03-26 | 2007-03-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Stacked photovoltaic device |
-
2008
- 2008-12-22 TW TW097150074A patent/TW200945612A/zh unknown
- 2008-12-24 CN CN2008801225880A patent/CN101911308B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-12-24 WO PCT/JP2008/073399 patent/WO2009084527A1/ja active Application Filing
- 2008-12-24 DE DE112008003495T patent/DE112008003495T5/de not_active Ceased
- 2008-12-24 JP JP2009548037A patent/JP5155335B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-12-24 KR KR1020107014572A patent/KR101136978B1/ko active IP Right Grant
- 2008-12-24 US US12/810,060 patent/US20100269898A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5155335B2 (ja) | 2013-03-06 |
US20100269898A1 (en) | 2010-10-28 |
KR101136978B1 (ko) | 2012-04-19 |
CN101911308A (zh) | 2010-12-08 |
KR20100089897A (ko) | 2010-08-12 |
CN101911308B (zh) | 2012-08-29 |
WO2009084527A1 (ja) | 2009-07-09 |
DE112008003495T5 (de) | 2010-11-18 |
TW200945612A (en) | 2009-11-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20100258433A1 (en) | Film forming method and film forming apparatus for transparent electrically conductive film | |
JP5165765B2 (ja) | 太陽電池の製造方法 | |
JP5155335B2 (ja) | 太陽電池の製造方法 | |
WO2010084758A1 (ja) | 太陽電池の製造方法及び太陽電池 | |
JP2009176927A (ja) | 太陽電池の製造方法 | |
JPWO2009038091A1 (ja) | 太陽電池の製造方法 | |
JP2012049084A (ja) | 透明導電膜積層体及びその製造方法、並びに薄膜太陽電池及びその製造方法 | |
US8420436B2 (en) | Method for manufacturing solar cell, etching device, and CVD device | |
WO2010032490A1 (ja) | 太陽電池及びその製造方法 | |
US20100206719A1 (en) | Method for manufacturing solar cell | |
JP5193232B2 (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
JP2012146873A (ja) | 太陽電池、太陽電池用透明導電膜付き基板及びそれらの製造方法 | |
KR20100032921A (ko) | 광전 변환 장치 및 그 제조방법 | |
JP2012243981A (ja) | 太陽電池、太陽電池用透明導電膜付き基板及びそれらの製造方法 | |
JP2013058639A (ja) | 太陽電池の製造方法、及び太陽電池 | |
JP2011222634A (ja) | 太陽電池の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120911 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121017 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121113 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121206 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151214 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5155335 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |