JPWO2009022598A1 - 除草用組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
一般式(I)
(1)含窒素複素環系除草性化合物
ベナゾリン、メタベンズチアズロン等のベンゾチアゾロン系除草性化合物
ジクワット、パラコート等のビピリジニウム系除草性化合物
イマザメタベンズ、イマザモックス、イマザピク、イマザピル、イマザキン、イマゼタピル等のイミダゾリノン系除草性化合物
イソキサフルトール等のイソキサゾール系除草性化合物
ピラフルフェン・エチル、ピラスルホトール、トプラメゾン等のピラゾール系除草性化合物
ピリデート、マレイン酸ヒドラジド、ノルフルラゾン、クロリダゾン等のピリダジン系除草性化合物
チアゾピル、ピコリナフェン、クロピラリド、フルロキシピル、ピクロラム、トリクロピル、アミノピラリド等のピリジン系除草性化合物
ブタフェナシル、アンシミドール、フルルプリミドール、ピリチオバック・ナトリウム塩、クロランスラム・メチル、ジクロスラム、フロラスラム、フルメツラム、メトスラム、ブロマシル、レナシル、ターバシル、ピロクススラム、ベンズフェンジゾン等のピリミジン系除草性化合物
フルカルバゾン・ナトリウム塩、プロポキシカルバゾン・ナトリウム塩、プロポキシカルバゾン、アミカルバゾン、スルフェントラゾン、ベンカルバゾン、チエンカルバゾン等のトリアゾリノン系除草性化合物
クロリムロン・エチル、クロルスルフロン、エタメトスルフロン・メチル、フラザスルフロン、フルピルスルフロン、フォラムスルフロン、イオドスルフロン、メソスルフロン・メチル、ニコスルフロン、オキサスルフロン、ピリミスルフロン、スロスルフロン、リムスルフロン、スルホメツロン・メチル、スルフォスルフロン、チフェンスルフロン・メチル、トリアスルフロン、トリベニュロン・メチル、トリフロキシスルフロン・ナトリウム塩、トリスルフロン・メチル、トリトスルフロン、TH−547(試験番号)等のスルホニルウレア系除草性化合物
フルチアセット・メチル等のチアジアゾール系除草性化合物
アメトリン、アトラジン、シアナジン、プロメトン、プロメトリン、プロパジン、シマジン、テルブメトン、テルブチラジン、テルブトリン、トリエタジン、ヘキサジノン、メタミトロン、メトリブジン等のトリアジン系除草性化合物
アミトロール、フルポキサム等のトリアゾール系除草性化合物
(2)含芳香族環系除草性化合物
ジフェナミド、ナプロパミド、ペンタノクロール、フラムプロップ・M、イソキサベン、プロピザミド、アセトクロール、アラクロール、ジメタクロール、ジメテナミド、メタザクロール、メトラクロール、ペトキサミド、プロパクロール、プロピソクロール、S−メトラクロール、フルフェナセット、ナプタラム等の芳香族アミド系除草性化合物
MCPA・チオエチル、クロジナホップ、ジクロホップ・メチル、フルアジホップ、フルアジホップ・P、ハロキシホップ、ハロキシホップ・P、ハロキシホップ・P・メチル、プロパキザホップ、キザロホップ・エチル、キザロホップ・P、キザロホップ・P・エチル、キザロホップ・P・テフリル、2,4−DB、ジクロルプロップ、ジクロルプロップ−P、メコプロップ、メコプロップ−P・カリウム塩等のフェノキシカルボン酸系除草性化合物
クロルタル・ジメチル、2,3,6−TBA、ジカンバ、キンメラック等の芳香族カルボン酸系除草性化合物
エトフメセート等のベンゾフラン系除草性化合物
ジクロベニル、ブロモキシニル、アイオキシニル等のニトリル系除草性化合物
カルベタミド、クロルプロファム、プロファム、デスメディファム、フェンメディファム等のカルバマート系除草性化合物
ブトラリン、ジニトラミン、エタルフルラリン、オリザリン、トリフルラリン等のジニトロアニリン系除草性化合物
ジノテルブ、DNOC等のジニトロフェノール系除草性化合物
アシフルオルフェン、フルオログリコフェン、ホメサフェン、ラクトフェン、オキシフルオルフェン、アクロニフェン等のジフェニルエーテル系除草性化合物
シニドン・エチル、フルミクロラック・ペンチル、フルミオキサジン等のN−フェニルフタルイミド系除草性化合物
ホルクロルフェニュロン、チジアズロン、ジフルフェンゾピル、クロロトルロン、ジメフロン、ジウロン、フルオメツロン、イソウロン、カルブチレート、リニュロン、メタベンズチアズロン、メトキスロン、モノリニュロン、ネブロン、テブチウロン等の芳香族環含有ウレア系除草性化合物
スルコトリオン、テンボトリオン等のベンゾイルシクロヘキサジオン系除草性化合物
ピノキサデン等のフェニルピラゾリン系除草性化合物
インダノファン等のその他の含芳香族環系除草性化合物
(3)脂肪族又は脂環族含窒素官能基含有化合物系除草性化合物
アロキシジム、ブトロキシジム、クレトジム、シクロキシジム、テプラロキシジム、トラルコキシジム等のシクロヘキサンジオンオキシム系除草性化合物
ブチレート、シクロエート、EPTC、ペブレート、トリアレート等のチオカルバマート系除草性化合物
、メフェナセット、2,4−D、クロメプロップ、MCPA、 MCPB、ビラナホス、ブタミホス、ベンスリド、ベンゾフェナップ、ピラゾキシフェン、ジチオピル、ジフルフェニカン、ビスピリバック・ナトリウム塩、ピリベンゾキシム、ピリフタリド、ピリミノバックメチル、キンクロラック、アミドスルフロン、ベンスルフロン・メチル、シノスルフロン、シクロスルファムロン、エトキシスルフロン、ハロスルフロン・メチル、イマゾスルフロン、メトスルフロン・メチル、ピラゾスルフロン・エチル、フルセトスルフロン、ジメピペレート、エスプロカルブ、オルベンカルブ、プロスルホカルブ、チオベンカルブ、ピリブチカルブ、ジメタメトリン、シメトリン、カルフェントラゾン・エチル、フルメツラム、ペノキススラム、メソトリオン、テフリルトリオン、イソプロツロン、シデュロン、オキサジクロメホン、アニロホス、ベンゾビシクロン、プロジアミン、シンメチリン、ピラクロニル、キノクラミン、トリアジフラム、エトベンザニド、クミルロン、ブロモブチド、ダイムロン及びカフェンストロール等があげられ、これらの除草性化合物から少なくとも1種の化合物を混用してもよい。
化合物A−1 5部
インダノファン 15部
ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル 2部
β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩 2部
ケイソウ土 20部
クレー 56部
以上を混合粉砕し、水和剤を得た。
化合物A−1 5部
TH−547 10部
ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル 2部
β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩 2部
ケイソウ土 20部
クレー 56部
以上を混合粉砕し、水和剤を得た。
化合物A−1 10部
ニコスルフロン 10部
リグニンスルホン酸ナトリウム 5部
ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩 5部
ポリビニルアルコール 1部
ケイソウ土 30部
クレー 39部
以上を混合粉砕した後、適量の水を加えて混合し口径0.7mmのスクリーンを用いて押出し造粒し、得られた造粒物を乾燥し、顆粒水和剤を得た。
化合物A−1 15部
フルチアセット・メチル 5部
リグニンスルホン酸ナトリウム 5部
ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩 5部
ポリビニルアルコール 1部
ホワイトカーボン 2部
ケイソウ土 30部
クレー 37部
以上を混合粉砕した後、適量の水を加えて混合し口径0.7mmのスクリーンを用いて押出し造粒し、得られた造粒物を乾燥し、顆粒水和剤を得た。
化合物A−1 5部
アトラジン 30部
リグニンスルホン酸ナトリウム 5部
ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩 5部
ポリビニルアルコール 1部
ホワイトカーボン 2部
ケイソウ土 20部
クレー 32部
以上を混合粉砕した後、適量の水を加えて混合し口径0.7mmのスクリーンを用いて押出し造粒し、得られた造粒物を乾燥し、顆粒水和剤を得た。
化合物A−1 2部
インダノファン 4部
ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸アンモニウム 3部
アルキルスルホサクシネートナトリウム塩 1部
キタンサンガム 0.2部
ベントナイト 0.5部
プロピレングリコール 10部
水 79.3部
以上を高速撹拌機で混合し、湿式粉砕機(ビーズミル)で粉砕しフロアブル剤を得た。
化合物A−1 3部
アトラジン 20部
ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸アンモニウム 3部
アルキルスルホサクシネートナトリウム塩 1部
キタンサンガム 0.1部
ベントナイト 0.5部
プロピレングリコール 10部
水 62.4部
以上を高速撹拌機で混合し、湿式粉砕機(ビーズミル)で粉砕しフロアブル剤を得た。
化合物A−1 1部
TH−547 2部
アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム 1部
アルファー化デンプン 3部
ベントナイト 10部
炭酸カルシウム 83部
以上を混合した後、適量の水を加えて混合し口径1.0mmのスクリーンを用いて押出し造粒し、得られた造粒物を乾燥し、粒剤を得た。
1/20000アールのプラスチックポットに水田土壌を充填し、施肥、代かき後、タイヌビエ(ECHOR)、コナギ(MOOVA)、イヌホタルイ(SCIJO)、イボクサ(ANEKE)の各種子を播種、およびミズガヤツリ(CYPSE)の塊茎を埋めて水深1cmに湛水した。また、同じポットに2葉期の水稲(Or)を移植し、温室内で育成した。その後、タイヌビエが2.5葉期に達した段階で湛水深3cmとし、実施例1及び2に準じて調製した水和剤の所定量を水で希釈して水面に施用した。その後は湛水深3cmを維持して育成し、処理25日目に表1に示した基準に従って除草効果および薬害程度を指数で表示した。結果を表2に示す。尚、薬量は10アールあたりの有効成分量で示した。
1/2000アールのプラスチックコンテナに畑地土壌を充填し、トウモロコシ(ZEAMX)、マメアサガオ(IPOLA)、イチビ(ABUTH)、シロザ(CHEAL)の種子を播種、およびキハマスゲ(CYPES)の塊茎を埋めてポット底部より給水した。これらの種子及び塊茎を温室内で育成し、マメアサガオが4葉期に達した時点で、実施例3〜5に準じて調製した顆粒水和剤の所定量を水で希釈し、植物体全体に茎葉処理した。その後、再びガラス室内で育成し、処理後30日目に表1に示した基準に従って除草効果および薬害程度を指数で表示した。結果を表3に示す。なお、薬量はヘクタール(ha)あたりの有効成分量で示した。
Claims (7)
- 含窒素複素環系除草性化合物が、TH−547、ニコスルフロン、フルチアセット・メチル及びアトラジンから選ばれる少なくとも1種の化合物である請求の範囲第1項記載の除草用組成物。
- 含芳香族環系除草性化合物がインダノファンである請求の範囲第1項記載の除草用組成物。
- 成分Aと成分Bとを10:1ないし1:2000の範囲の質量割合で含有する請求の範囲第1項記載の除草用組成物。
- 請求の範囲第1項記載の除草用組成物の除草有効量を、有用植物を生育させようとするもしくは生育している場所に対して散布し、有用植物中の望ましくない雑草の成長を制御する方法。
- 有用植物が、水田作物、畑地作物、園芸作物、芝、果樹、非農耕地栽培植物である請求の範囲第5項記載の方法。
- 有用植物を生育させようとする若しくは生育している場所が水田、畑地、芝地又は非農耕地である請求の範囲第5項記載の方法。
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