JPWO2009011226A1 - 光学フィルムの製造方法、光学フィルム、及びそれを用いたバックライトユニット - Google Patents

Abstract

本発明はバックライトユニットの高輝度化と均一性を両立させる低コストな光学フィルムを提供する。本発明の光学フィルムの製造方法の特徴は、該光学フィルムは溶液キャスト法により製膜される樹脂フィルムであり、該樹脂フィルムは膜厚が４０〜５００μｍであり、フィルム中に光拡散性粒子を０．１〜４０質量％含有し、かつ該樹脂フィルムの少なくとも一方の面にインクジェット法により輝度ムラ補正ドットをバックライトの輝度ムラに対応して形成するものである。

Description

本発明は画像表示装置に使用される光学フィルム、及びそれを用いたバックライトユニットに関する。

液晶表示装置に代表される非発光型の画像表示装置には、光源としてバックライトユニットが使用されている。バックライトユニットは冷陰極菅（以下ＣＣＦＬとも記載する）に代表される線状光源や発光ダイオード（以下ＬＥＤとも記載する）に代表される点状光源を発光源としてこれを均一に拡散させて非発光型画像表示装置への光源としている。

線状及び点状光源を均一化するためには、光拡散機能を有する部材をバックライトユニットに組み込むのが一般的である。例えば特許文献１に記載の拡散板が挙げられる。

しかしながら、光源均一化のための光拡散能力を大きくすると透過率が低下し画像表示装置へ入射する光にロスが生じ、光源の均一化と光拡散能力の両立は困難な課題であった。

また、画像表示装置は、近年色再現性の改善のためＣＣＦＬに変わりＬＥＤに代表される点状光源の使用比率も高まっており、光均一化と高透過率との両立はますます重要性を増してきている。

特にＬＥＤは点状光源であることに加えて製品個々の輝度のばらつきが大きく、製品のばらつきを選別し出荷し対応しており、これにかかるコストによりバックライトユニットの価格上昇につながっている。

輝度の均一性を確保するため、インクジェットにより樹脂基板上に反射ドットを形成する手法は特許文献２に記載されている。しかしながら、光源のばらつきを補正する手法については触れられていない。本発明では、個々の光源の輝度ばらつきに関しても輝度の均一性を確保し、高輝度かつ低コスト化に貢献できる点で異なる。
特開２００４−１１４６０２号公報 特開２００４−３２５８６１号公報

従って、本発明の目的はバックライトユニットの高輝度化と均一性を両立させる低コストな光学フィルムを提供することにある。

本発明の上記課題は以下の構成により達成される。

１．バックライトユニットに使用される光学フィルムの製造方法において、該光学フィルムは溶液キャスト法により製膜される樹脂フィルムであり、該樹脂フィルムは膜厚が４０〜５００μｍであり、フィルム中に光拡散性粒子を０．１〜４０質量％含有し、かつ該樹脂フィルムの少なくとも一方の面にインクジェット法により輝度ムラ補正ドットをバックライトの輝度ムラに対応して形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法。

２．前記樹脂フィルムの一方の面にインクジェット法により輝度ムラ補正ドットを形成し、他方の面に集光構造面を形成することを特徴とする前記１に記載の光学フィルムの製造方法。

３．前記１または２に記載の光学フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする光学フィルム。

４．前記３に記載の光学フィルムが使用されるバックライトユニットの光源が、線状光源及び点状光源であることを特徴とするバックライトユニット。

本発明により、バックライトユニットの高輝度化と均一性を両立させる低コストな光学フィルムを提供することができる。

本発明に係るインクジェット法に用いることのできるインクジェットヘッドの一例を示す断面図である。 本発明で用いることのできるインクジェットヘッド部、ノズルプレートの一例を示す概略図である。 本発明で好ましく用いることのできるインクジェット法の一例を示す模式図である。 バックライトの輝度ムラを測定した図である。 輝度ムラ補正ドットをライン状に塗布した模式図である。 実施例１の液晶表示装置の輝度ムラを測定した図である。 実施例２の液晶表示装置の輝度ムラを測定した図である。

符号の説明

１０ 樹脂フィルム
１１ 基板
１２ 圧電素子
１３ 流路版
１３ａ インク流路
１３ｂ 壁部
１４ 共通液室構成部材
１５ インク供給パイプ
１６ ノズルプレート
１６ａ ノズル
１７ 駆動用回路プリント板
１８ リード部
１９ 駆動電極
２０ 溝
２１ 保護板
２２ 流体抵抗
２３、２４ 電極
２５ 上部隔壁
２６ ヒータ
２７ ヒータ電源
２８ 伝熱部材
２９ 活性光線照射部
３０ インクジェットヘッド
３１ 液滴
３２ ノズル
３５ バックロール

以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

本発明の光学フィルムは、バックライトユニットに使用される光学フィルムであり、光拡散機能を有するフィルムに関するものである。該光学フィルムは溶液キャスト法により製膜される樹脂フィルムであり、フィルム膜厚が４０〜５００μｍであり、フィルム中に光拡散性粒子を０．１〜４０質量％含有し、かつ該樹脂フィルムの少なくとも一方の面にインクジェット法により輝度ムラ補正ドットをバックライトの輝度ムラに対応して形成する光学フィルムの製造方法によって得られることを特徴とするもので、バックライトユニットの高輝度化と均一性を両立させる低コストな光学フィルム、該光学フィルムの製造方法、及び該光学フィルムを用いたバックライトユニットを提供するものである。

バックライトユニットは、反射板、冷陰極菅（ＣＣＦＬ）に代表される線状光源、もしくは発光ダイオード（ＬＥＤ）に代表される点状光源を用いた光源、及び本発明に係る光拡散機能を有する光学フィルムが、この順に積層されてなる構成を最小構成とし、更に本発明の光学フィルムの輝度ムラ補正ドットが形成されてなる面とは反対の面にプリズムのような集光構造面が形成されていることが好ましい。

以下、本発明について、具体的に説明する。

本発明に係る光学フィルムは、溶液キャスト法により製造される樹脂フィルムである。溶液キャスト法とは樹脂を溶解した溶液（以下、ドープともいう）を金属ロールや金属ベルト上にドープを流延し溶液を乾燥後剥離し、平面フィルムを得るフィルム製造法である。溶液キャスト法による製膜方法では、熱により樹脂を溶解しフィルムを製造する溶融流延法などに比較して表面性が高く輝度の均一性を保つ上で好ましい。また、光拡散板で一般的に使用される射出成型法ではバッチ方式のため生産スピードは低く連続的に生産可能な点で溶液キャスト法が好ましい。

以下、溶液キャスト法について説明する。

樹脂フィルムの製造は、樹脂及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状もしくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻取る工程により行われる。

ドープを調製する工程について述べる。ドープ中の樹脂の濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、樹脂の濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜３５質量％が好ましく、更に好ましくは、１５〜２５質量％である。

ドープで用いられる溶剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよいが、樹脂の良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方が樹脂の溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が７０〜９８質量％であり、貧溶剤が２〜３０質量％である。良溶剤、貧溶剤とは、使用する樹脂を単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤と定義している。

本発明に用いられる良溶剤は特に限定されないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる。特に好ましくはメチレンクロライドまたは酢酸メチルが挙げられる。

また、本発明に用いられる貧溶剤は特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。

上記記載のドープを調製する時の、樹脂の溶解方法としては、一般的な方法を用いることができる。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱できる。溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。また、樹脂を貧溶剤と混合して湿潤または膨潤させた後、更に良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。

加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。

溶剤を添加しての加熱温度は、高い方が樹脂の溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高過ぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。好ましい加熱温度は４５〜１２０℃であり、６０〜１１０℃がより好ましく、７０℃〜１０５℃が更に好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。

または冷却溶解法も好ましく用いられる。

次に、この樹脂溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生しやすいという問題がある。このため絶対濾過精度０．００８ｍｍ以下の濾材が好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの濾材がより好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの濾材が更に好ましい。

濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。

ドープの濾過は通常の方法で行うことができるが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差（差圧という）の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度は４５〜１２０℃であり、４５〜７０℃がより好ましく、４５〜５５℃であることが更に好ましい。

濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は１．６ＭＰａ以下であることが好ましく、１．２ＭＰａ以下であることがより好ましく、１．０ＭＰａ以下であることが更に好ましい。

ここで、ドープの流延について説明する。

流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルトもしくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は１〜４ｍとすることができる。流延時にフィルム表面に形状を付与するため、金属支持体にあらかじめ形状を付与しておくことも生産性向上の観点から好ましい。流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化したりする場合がある。好ましい金属支持体温度としては０〜１００℃で適宜決定され、５〜３０℃が更に好ましい。または、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で金属支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。

樹脂フィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０〜１５０質量％が好ましく、更に好ましくは２０〜４０質量％または６０〜１３０質量％であり、特に好ましくは、２０〜３０質量％または７０〜１２０質量％である。

本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。

残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
なお、Ｍはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。

次いで、樹脂フィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０〜０．０１質量％以下である。

フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式（上下に配置した多数のロールにウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。

本発明の樹脂フィルムを作製するためには、金属支持体より剥離した後のウェブの残留溶剤量の多いところで搬送方向に延伸し、更にウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅方向に延伸を行うことが特に好ましい。縦方向、横方向ともに好ましい延伸倍率は１．０５〜５倍であり、更に好ましくは１．０５〜３倍であり、１．０５〜２倍が更に好ましい。縦方向及び横方向延伸により面積が１．１〜４倍となっていることが好ましい。これは縦方向の延伸倍率×横方向の延伸倍率で求めることができる。

剥離直後に縦方向に延伸するために、剥離張力及びその後の搬送張力によって延伸することが好ましい。例えば剥離張力を２１０Ｎ／ｍ以上で剥離することが好ましく、特に好ましくは２２０〜３００Ｎ／ｍである。

ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で熱風で行うことが好ましい。

ウェブの乾燥工程における乾燥温度は３０〜１５０℃で段階的に高くしていくことが好ましく、５０〜１４０℃の範囲で行うことが寸法安定性をよくするため更に好ましい。

本発明の光学フィルムの膜厚は、４０〜５００μｍの範囲であることが好ましい。光量アップの観点からは樹脂中での光損失を最小限に抑えるため、膜厚は薄いほうが好ましい。しかしながら、フィルム自体の自己支持性を保つ上では樹脂の特性にもよるか４０μｍ以上が好ましい。また従来の拡散板はおおよそ２ｍｍ程度であるが、光量アップの観点から５００μｍ以下が好ましい。

本発明に使用される樹脂素材としては、光透過性、耐熱性、湿度変動安定性等が高い物が好ましい。光透過性はバックライトユニットの光量低下を防止する点で、耐熱性はバックライトユニットの熱によるフィルム変形による不具合を防止する点で、湿度変動安定性はフィルム表裏の温度差によるフィルム反りによる不具合を防止する点で重要である。

更に本発明の光学フィルムは、製造が容易であること、接着性が良好であること、光学的に透明であること等が好ましい要件として挙げられる。

本発明でいう透明とは、可視光の透過率６０％以上であることを指し、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。

上記の性質を有していれば特に限定はないが、例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン系樹脂、シクロオレフィンポリマー樹脂（例えば、アートン（ＪＳＲ社製）、ゼオネックス、ゼオノア（以上、日本ゼオン社製））、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素系樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル等の樹脂を挙げることができる。中でも、光透過性、耐熱性、湿度変動安定性などの観点でポリカーボネート系樹脂が好ましい。

ポリカーボネート系樹脂としては、特に制約はない。一般に、ポリカーボネートと総称される高分子材料は、その合成手法において重縮合反応が用いられて主鎖が炭酸結合で結ばれているものを総称するが、これらのうちでも一般に、ビスフェノール誘導体と、ホスゲン或いはジフェニルカーボネートから重縮合反応により得られるものを意味する。通常、経済性及び物性面からビスフェノールＡと呼称されている２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンをビスフェノール成分とする繰り返し単位で表される芳香族ポリカーボネートが好ましく使用されるが、適宜各種ビスフェノール誘導体を選択することで、ポリカーボネート共重合体を構成することができる。

かかる共重合成分として前記ビスフェノールＡ以外に、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−フェニルエタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）サルファイド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフォン等を挙げることができる。更に、これらのフェニル基の水素基が一部メチル基やハロゲン基で置換されているものも含む。また、一部にテレフタル酸及び／またはイソフタル酸成分を含むポリエステルカーボネートを使用することも可能である。このような構成単位をビスフェノールＡからなるポリカーボネートの構成成分の一部に使用することによりポリカーボネートの性質、例えば耐熱性、溶解性を改良することができるが、このような共重合体についても本発明は有効である。

本発明に係る光学フィルムはフィルム中に光拡散性粒子を含有する。

光拡散性粒子は、光線を拡散させる性質を有する粒子であり、無機フィラーと有機フィラーに大別される。無機フィラーとしては、具体的には、シリカ、水酸化アルミニウム、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウム、マグネシウムシリケート、又はこれらの混合物が挙げられる。有機フィラーの具体的な材料としては、アクリル系樹脂、アクリロニトリル、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン系樹脂、ポリアクリロニトリル、ポリアミド、ポリシロキサン系樹脂、メラミン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂又はこれらの架橋物等が挙げられる。これらの中で、ポリスチレン系樹脂、ポリシロキサン系樹脂又はこれらの架橋物からなる粒子は、高分散性、高耐熱性、成形時の着色（黄変）がないので、特に好適に用いることができる。またこれらの中でもポリシロキサン系樹脂の架橋物からなる粒子は、耐熱性により優れるので、更に好適に用いることができる。光拡散剤の粒子径は、特に制限されず、平均粒径で通常０．５〜１００μｍ、好ましくは０．５〜８０μｍの範囲である。

光拡散性粒子の形状としては、特に限定されず、球状、立方状、針状、棒状、紡錘形状、板状、鱗片状、繊維状などが挙げられるが、中でも光の拡散方向を等方的にすることのできる点で球状が好ましい。

前記光拡散性粒子は樹脂フィルム内部に含有された形で、均一かつ離間的に分散されて、使用されることが好ましい。

拡散性粒子の量は、樹脂及び拡散剤種や膜厚により所望の透過率及び光拡散度を得るために適宜調整してよいが、樹脂フィルム中に０．１〜４０質量％の範囲で含有することが好ましい。

光拡散性粒子を溶剤などと混合して分散するときの光拡散性粒子の濃度は５質量％〜３０質量％が好ましい。分散濃度は高い方が、添加量に対する液濁度は低くなる傾向があり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。

使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、前記ドープを調製時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。

分散機は通常の分散機が使用できる。分散機は大きく分けてメディア分散機とメディアレス分散機に分けられる。光拡散性樹脂の分散にはメディアレス分散機がヘイズが低く好ましい。

メディア分散機としてはボールミル、サンドミル、ダイノミルなどが挙げられる。

メディアレス分散機としては超音波型、遠心型、高圧型などがあるが、本発明においては高圧分散装置が好ましい。高圧分散装置は、微粒子と溶媒を混合した組成物を、細管中に高速通過させることで、高剪断や高圧状態など特殊な条件を作りだす装置である。高圧分散装置で処理する場合、例えば、管径１〜２０００μｍの細管中で装置内部の最大圧力条件が９．８０７ＭＰａ以上であることが好ましい。更に好ましくは１９．６１３ＭＰａ以上である。またその際、最高到達速度が１００ｍ／秒以上に達するもの、伝熱速度が４２０ｋＪ／時間以上に達するものが好ましい。

上記のような高圧分散装置にはＭｉｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製超高圧ホモジナイザ（商品名マイクロフルイダイザ）或いはナノマイザ社製ナノマイザがあり、他にもマントンゴーリン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホモジナイザ、三和機械（株）社製ＵＨＮ−０１等が挙げられる。

本発明にかかる光学フィルムは、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を含有することができる。

本発明に用いることのできる可塑剤としては、例えば多価アルコールエステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤等を用いることが出来るが、好ましくは多価アルコール系可塑剤、グリコレート系可塑剤等の可塑剤であり、より好ましくは多価アルコールエステル系可塑剤、特に２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有する多価アルコールエステル系可塑剤である。これら可塑剤は２種以上混合して用いることも出来る。

紫外線吸収剤は、例えば、液晶表示装置を太陽光線等に曝されるような室外での液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。本発明においては、特に波長３７０ｎｍでの透過率が１０％以下であることが好ましく、より好ましくは５％以下、更に好ましくは２％以下である。

本発明においては、分子内に芳香族環を２つ以上有する紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。

本発明に用いられる紫外線吸収剤は特に限定されないが、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。好ましく用いられる紫外線吸収剤は、透明性が高く、偏光板や液晶素子の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましい。本発明に用いられる紫外線吸収剤の具体例として、例えば、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチル−２−ヒドロキシルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、（２−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２，４−ベンジルオキシベンゾフェノンやチヌビン１０９、チヌビン１７１、チヌビン２３４、チヌビン３２６、ビン３２７、チヌビン３２８等のチヌビンは何れもチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の市販品で、好ましく使用出来る。紫外線吸収剤は２種以上の混合物であってもよい。

酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤等が挙げられ、これらの中でもフェノール系酸化防止剤、特にアルキル置換フェノール系酸化防止剤が好ましい。これらの酸化防止剤を配合することにより、透明性、耐熱性等を低下させることなく、成型時の酸化劣化等によるレンズの着色や強度低下を防止できる。これらの酸化防止剤は、それぞれ単独で、或いは２種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択されるが、樹脂１００質量部に対して好ましくは０．００１〜５質量部、より好ましくは０．０１〜１質量部である。

本発明の光学フィルムは、その他に光安定剤、滑り材、染料や顔料等の着色剤、帯電防止剤等を適宜用いることができる。

本発明では光学フィルムの少なくとも片面にインクジェット法により輝度ムラ補正ドットをバックライトの輝度ムラに対応して形成することを特徴とする。

輝度ムラ補正ドットの形成のフローの一例を下記に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。

〈バックライトユニットの準備〉
反射板、及びＣＣＦＬ、もしくはＬＥＤだけがある状態のバックライトユニットを準備する。

〈バックライト輝度ムラ測定〉
準備した反射板、及びＣＣＦＬ、もしくはＬＥＤの状態のバックライトユニットを点灯し、例えば、サイバネットシステム株式会社製 ＰｒｏＭｅｔｒｉｃ Ｃｏｌｏｒ １６００により光源の輝度をスキャン測定し、光源全体の輝度ムラの測定を行う。

〈インクジェット法による輝度ムラ補正ドットの作製〉
輝度ムラ補正インクとして、例えばコニカミノルタ社製インクＥｘ−ＵＶ Ｗｈｉｔｅ−０１を用いて、図１〜３で示すインクジェット法により樹脂フィルム上に塗布を行う。ＣＣＦＬ、の輝度ムラから、上記で得られた樹脂フィルム上に８．５ｍｍの間隔でラインアンドスペースの輝度ムラ補正ドットを作製し、本発明の光学フィルムを得ることができる。この時、ラインの反射率は、透明基材にインクジェット法により同条件で輝度ムラ補正ドットを作製した際に、反射率が３０％となるように調整を行うことが好ましい。

以上のフローにより、樹脂フィルムの一方の面に光源の輝度ムラに対応した輝度ムラ補正ドットが形成された本発明の光学フィルムが得られる。

次に、本発明に好適なインクジェット法に用いられるインクジェットヘッドの一例を示す。

図１（ａ）はインクジェットヘッドの断面図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ−Ａ線矢視拡大図である。図中、１１は基板、１２は圧電素子、１３は流路板、１３ａはインク流路、１３ｂは壁部、１４は共通液室構成部材、１４ａは共通液室、１５はインク供給パイプ、１６はノズルプレート、１６ａはノズル、１７は駆動用回路プリント板（ＰＣＢ）、１８はリード部、１９は駆動電極、２０は溝、２１は保護板、２２は流体抵抗、２３、２４は電極、２５は上部隔壁、２６はヒータ、２７はヒータ電源、２８は伝熱部材、３０はインクジェットヘッドである。

集積化されたインクジェットヘッド３０において、電極２３、２４を有する積層された圧電素子１２は、流路１３ａに対応して、該流路１３ａ方向に溝加工が施され、溝２０と駆動圧電素子１２ｂと非駆動圧電素子１２ａに区分される。溝２０には充填剤が封入されている。溝加工が施された圧電素子１２には、上部隔壁２５を介して流路板１３が接合される。すなわち、前記上部隔壁２５は、非駆動圧電素子１２ａと隣接する流路を隔てる壁部１３ｂとで支持される。駆動圧電素子１２ｂの幅は流路１３ａの幅よりも僅かに狭く、駆動用回路プリント板（ＰＣＢ）上の駆動回路により選択された駆動圧電素子１２ｂはパルス状信号電圧を印加すると、該駆動圧電素子１２ｂは厚み方向に変化し、上部隔壁２５を介して流路１３ａの容積が変化し、その結果ノズルプレート１６のノズル１６ａよりインク液滴を吐出する。

流路板１３上には、伝熱部材２８を介してヒータ２６がそれぞれ接着されている。伝熱部材２８はノズル面にまわり込んで設けられている。伝熱部材２８は、ヒータ２６からの熱を効率良く流路板１３に伝え、かつ、ヒータ２６からの熱をノズル面近傍に運びノズル面近傍の空気を温めることを目的としており、従って、熱伝導率の良い材料が用いられる。例えば、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、ステンレス等の金属、或いは、ＳｉＣ、ＢｅＯ、ＡｌＮ等のセラミックス等が好ましい材料として挙げられる。

圧電素子を駆動すると、流路の長手方向に垂直な方向に変位し、流路の容積が変化し、その容積変化によりノズルからインク液滴となって噴射する。圧電素子には常時流路容積が縮小するように保持する信号を与え、選択された流路に対して流路容積を増大する向きに変位させた後、再び流路の容積が縮小する変位を与えるパルス信号を印加することにより、流路と対応するノズルよりインクがインク液滴となって噴射する。

図２は、本発明で用いることのできるインクジェットヘッド部、ノズルプレートの一例を示す概略図である。

図２において、図２の（ａ）はヘッド部の断面図、図２の（ｂ）はノズルプレートの平面図である。図中、１０は樹脂フィルム、３１はインク液滴、３２はノズル、２９は活性光線照射部である。ノズル３２より噴射したインク液滴３１は樹脂フィルム１０方向に飛翔して付着する。樹脂フィルム１０上に着弾したインク液滴は、その上流部に配置されている活性光線照射部より、活性光線を直ちに照射され、硬化する。なお、３５は樹脂フィルム１０を保持するバックロールである。

本発明においては、図２の（ｂ）に記載のように、インクジェットヘッド部のノズルは、千鳥状に配置することが好ましく、また、樹脂フィルム１０の搬送方向に並列に多段に設けることが好ましい。

図３において、図３の（ａ）は、インクジェットヘッド３０を樹脂フィルム１０の幅手方向に配置し、樹脂フィルム１０を搬送しながらその表面に輝度ムラ補正ドットを形成する方法（ラインヘッド方式）であり、図３の（ｂ）はインクジェットヘッド３０が副走査方向に移動しながらその表面にドットを形成する方法（フラットヘッド方式）であり、図３の（ｃ）はインクジェットヘッド３０が、樹脂フィルム１０上の幅手方向を走査しながらその表面に輝度ムラ補正ドットを形成する方法（キャプスタン方式）であり、いずれの方式も用いることができるが、本発明においては、生産性の観点からラインヘッド方式が好ましい。

本発明において、輝度ムラ補正ドットを形成するため、インク液滴としては０．１〜２００ｐｌが好ましく、０．５〜１００ｐｌがより好ましく、０．５〜２０ｐｌが特に好ましい。また、異なるインクジェットヘッド部からそれぞれ異なる液滴量のインクを吐出してもよく、同じインクジェットヘッド部から液滴量を変えてインクを吐出してもよく、この時の吐出間隔も一定間隔でもランダムであってもよい。

また、インク液滴の粘度は、２５℃において０．１〜１００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、更に好ましくは０．１〜５０ｍＰａ・ｓである。

本発明に用いられる輝度ムラ補正インクは、光拡散性付与組成物を含有するインクであり、インクジェット法により微細な輝度ムラ補正ドットを形成することが特徴である。該光拡散性付与組成物としては、少なくとも活性光線硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、或いは熱硬化性樹脂をバインダーとして、前記光拡散性粒子を含有することが好ましい。

光拡散性粒子としては、無機フィラーが好ましく、具体的には、シリカ、水酸化アルミニウム、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウム、マグネシウムシリケート、又はこれらの混合物が挙げられる。中でも酸化チタンが好ましく、平均粒径５０〜５００ｎｍ、好ましくは平均粒径１００〜３００ｎｍの酸化チタン粒子を、５〜２０質量％、好ましくは７〜１５質量％含有させることが好ましい。

活性光線硬化型樹脂とは、紫外線や電子線のような活性光線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂である。活性光線硬化型樹脂としては、紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性光線照射によって硬化する樹脂でもよい。

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることができる。

紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭５９−１５１１１０号に記載の、ユニディック１７−８０６（大日本インキ（株）製）１００部とコロネートＬ（日本ポリウレタン（株）製）１部との混合物等が好ましく用いられる。

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシル基に２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなのモノマーを反応させることによって容易に得ることができる（例えば、特開昭５９−１５１１１２号）。

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。

紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂としては、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシ樹脂の例として、有用に用いられるエポキシ系活性光線反応性化合物を示す。

（ａ）ビスフェノールＡのグリシジルエーテル（この化合物はエピクロルヒドリンとビスフェノールＡとの反応により、重合度の異なる混合物として得られる）
（ｂ）ビスフェノールＡ等のフェノール性ＯＨを２個有する化合物に、エピクロルヒドリン、エチレンオキサイド及び／またはプロピレンオキサイドを反応させ末端にグリシジルエーテル基を有する化合物
（ｃ）４，４′−メチレンビスフェノールのグリシジルエーテル
（ｄ）ノボラック樹脂またはレゾール樹脂のフェノールフォルムアルデヒド樹脂のエポキシ化合物
（ｅ）脂環式エポキシドを有する化合物、例えば、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）オキザレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−シクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチルピメレート）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチルシクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−１′−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−６−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−６′−メチル−１′−シクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５′，５′−スピロ−３″，４″−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン
（ｆ）２塩基酸のジグリシジルエーテル、例えば、ジグリシジルオキザレート、ジグリシジルアジペート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート
（ｇ）グリコールのジグリシジルエーテル、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、コポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）ジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル
（ｈ）ポリマー酸のグリシジルエステル、例えば、ポリアクリル酸ポリグリシジルエステル、ポリエステルジグリシジルエステル
（ｉ）多価アルコールのグリシジルエーテル、例えば、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、グルコーストリグリシジルエーテル
（ｊ）２−フルオロアルキル−１，２−ジオールのジグリシジルエーテルとしては、前記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例と同様のもの
（ｋ）含フッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテルとしては、上記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物等を挙げることができる。

上記エポキシ化合物の分子量は、平均分子量として２０００以下で、好ましくは１０００以下である。

上記のエポキシ化合物を活性光線により硬化する場合、より硬度を上げるためには、（ｈ）または（ｉ）の多官能のエポキシ基を有する化合物を混合して用いると効果的である。

エポキシ系活性光線反応性化合物をカチオン重合させる光重合開始剤または光増感剤は、活性光線照射によりカチオン重合開始物質を放出することが可能な化合物であり、特に好ましくは、照射によりカチオン重合開始能のあるルイス酸を放出するオニウム塩の一群の複塩である。

活性光線反応性化合物エポキシ樹脂は、ラジカル重合によるのではなく、カチオン重合により重合、架橋構造または網目構造を形成する。ラジカル重合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため好ましい活性光線反応性樹脂である。

本発明に有用な活性光線反応性エポキシ樹脂は、活性光線照射によりカチオン重合を開始させる物質を放出する光重合開始剤または光増感剤により重合する。光重合開始剤としては、光照射によりカチオン重合を開始させるルイス酸を放出するオニウム塩の複塩の一群が特に好ましい。

かかる代表的なものは下記一般式（ａ）で表される化合物である。

一般式（ａ）
〔（Ｒ¹）_a（Ｒ²）_b（Ｒ³）_c（Ｒ⁴）_dＺ〕^w+〔ＭｅＸ_v〕^w-
式中、カチオンはオニウムであり、ＺはＳ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、ハロゲン（例えばＩ、Ｂｒ、Ｃｌ）、またはＮ＝Ｎ（ジアゾ）であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は同一であっても異なっていてもよい有機の基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０〜３の整数であって、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄはＺの価数に等しい。Ｍｅはハロゲン化物錯体の中心原子である金属または半金属（ｍｅｔａｌｌｏｉｄ）であり、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ等である。Ｘはハロゲンであり、ｗはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、ｖはハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。

上記一般式（ａ）の陰イオン〔ＭｅＸ_v〕^w-の具体例としては、テトラフルオロボレート（ＢＦ₄ ^-）、テトラフルオロホスフェート（ＰＦ₄ ^-）、テトラフルオロアンチモネート（ＳｂＦ₄ ^-）、テトラフルオロアルセネート（ＡｓＦ₄ ^-）、テトラクロロアンチモネート（ＳｂＣｌ₄ ^-）等を挙げることができる。

また、その他の陰イオンとしては過塩素酸イオン（ＣｌＯ₄ ^-）、トリフルオロメチル亜硫酸イオン（ＣＦ₃ＳＯ₃ ^-）、フルオロスルホン酸イオン（ＦＳＯ₃ ^-）、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼン酸陰イオン等を挙げることができる。

このようなオニウム塩の中でも特に芳香族オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが有効であり、中でも特開昭５０−１５１９９６号、同５０−１５８６８０号等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭５０−１５１９９７号、同５２−３０８９９号、同５９−５５４２０号、同５５−１２５１０５号等に記載のVIＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５６−８４２８号、同５６−１４９４０２号、同５７−１９２４２９号等に記載のオキソスルホキソニウム塩、特公昭４９−１７０４０号等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第４，１３９，６５５号等に記載のチオピリリュム塩等が好ましい。また、アルミニウム錯体や光分解性けい素化合物系重合開始剤等を挙げることができる。上記カチオン重合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサントン等の光増感剤を併用することができる。

また、エポキシアクリレート基を有する活性光線反応性化合物の場合は、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の光増感剤を用いることができる。この活性光線反応性化合物に用いられる光増感剤や光開始剤は、紫外線反応性化合物１００質量部に対して０．１質量部〜１５質量部で光反応を開始するには十分であり、好ましくは１質量部〜１０質量部である。この増感剤は近紫外線領域から可視光線領域に吸収極大のあるものが好ましい。

本発明に有用な活性光線硬化型樹脂組成物において、重合開始剤は、一般的には、活性光線硬化性エポキシ樹脂（プレポリマー）１００質量部に対して０．１質量部〜１５質量部の使用が好ましく、更に好ましくは、１質量部〜１０質量部の範囲の添加が好ましい。

また、エポキシ樹脂を上記ウレタンアクリレート型樹脂、ポリエーテルアクリレート型樹脂等と併用することもでき、この場合、活性光線ラジカル重合開始剤と活性光線カチオン重合開始剤を併用することが好ましい。

また、本発明に係るインクには、オキセタン化合物を用いることもできる。用いられるオキセタン化合物は、酸素または硫黄を含む３員環のオキセタン環を有する化合物である。中でも酸素を含むオキセタン環を有する化合物が好ましい。オキセタン環は、ハロゲン原子、ハロアルキル基、アリールアルキル基、アルコキシル基、アリルオキシ基、アセトキシ基で置換されていてもよい。具体的には、３，３−ビス（クロルメチル）オキセタン、３，３−ビス（ヨードメチル）オキセタン、３，３−ビス（メトキシメチル）オキセタン、３，３−ビス（フェノキシメチル）オキセタン、３−メチル−３クロルメチルオキセタン、３，３−ビス（アセトキシメチル）オキセタン、３，３−ビス（フルオロメチル）オキセタン、３，３−ビス（ブロモメチル）オキセタン、３，３−ジメチルオキセタン等が挙げられる。尚、本発明ではモノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよい。

本発明で用いることのできる紫外線硬化性樹脂の具体例としては、例えば、アデカオプトマーＫＲ、ＢＹシリーズのＫＲ−４００、ＫＲ−４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６７、ＢＹ−３２０Ｂ（以上、旭電化工業（株）製）、コーエイハードのＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１０１−ＷＳ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０１、Ｍ−１０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０２、ＮＳ−１０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ２０、ＡＧ−１０６、Ｍ−１０１−Ｃ（以上、広栄化学工業（株）製）、セイカビームのＰＨＣ２２１０（Ｓ）、ＰＨＣＸ−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１０、ＤＰ−２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１００、Ｐ１２００、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５００、Ｐ１６００、ＳＣＲ９００（以上、大日精化工業（株）製）、ＫＲＭ７０３３、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１３１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０２（以上、ダイセル・ユーシービー（株））、ＲＣ−５０１５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０３１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、オーレックスＮｏ．３４０クリヤ（中国塗料（株）製）、サンラッド Ｈ−６０１、ＲＣ−７５０、ＲＣ−７００、ＲＣ−６００、ＲＣ−５００、ＲＣ−６１１、ＲＣ−６１２（以上、三洋化成工業（株）製）、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７（以上、昭和高分子（株）製）、ＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・ジャパン（株）製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０（以上、東亞合成（株）製）、またはその他の市販のものから適宜選択して利用することができる。

本発明に係るインクには、公知の熱可塑性樹脂またはゼラチン等の親水性樹脂等のバインダーを上記記載の活性光線硬化型樹脂に混合して使用することができる。これらの樹脂は、その分子中に極性基を持っていることが好ましい。極性基としては、−ＣＯＯＭ、−ＯＨ、−ＮＲ₂、−ＮＲ₃Ｘ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−ＰＯ₃Ｍ₂、−ＯＰＯ₃Ｍ（ここで、Ｍは水素原子、アルカリ金属またはアンモニウム基を、Ｘはアミン塩を形成する酸を、Ｒは水素原子、アルキル基を表す）等を挙げることができる。

本発明に使用する上記活性光線反応性化合物を光重合または光架橋反応を開始させるには、上記活性光線反応性化合物のみでも開始するが、重合の誘導期が長かったり、重合開始が遅かったりするため、光増感剤や光開始剤を用いることが好ましく、それにより重合を早めることができる。

本発明に係るインクが、活性光線硬化型樹脂を含有する場合、活性光線の照射時においては、光反応開始剤、光増感剤を用いることができる。

具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。また、エポキシアクリレート系樹脂の合成に光反応剤を使用する際に、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。

また、活性光線硬化型樹脂として、紫外線硬化性樹脂を用いる場合、前記紫外線硬化性樹脂の光硬化を妨げない程度に、紫外線吸収剤を紫外線硬化性樹脂組成物に含ませてもよい。

紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。

本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。

以下に本発明に係る紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。

ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）
ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、Ｃｉｂａ製）
ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、Ｃｉｂａ製）
ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
ＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
ＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン
ＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）
本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。

また、特開２００１−１８７８２５号に記載されている分配係数が９．２以上の紫外線吸収剤は、支持体の面品質を向上させ、塗布性にも優れている。特に分配係数が１０．１以上の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。

また、特開平６−１４８４３０号に記載の一般式（１）または一般式（２）、特願２０００−１５６０３９号の一般式（３）、（６）、（７）記載の高分子紫外線吸収剤（または紫外線吸収性ポリマー）も好ましく用いられる。高分子紫外線吸収剤としては、ＰＵＶＡ−３０Ｍ（大塚化学（株）製）等が市販されている。

また、インクジェット法により形成した輝度ムラ補正ドットの耐熱性を高めるために、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選んで用いることができる。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げることができる。具体的には、例えば、４，４′−チオビス（６−ｔｅｒｔ−３−メチルフェノール）、４，４′−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）メシチレン、ジ−オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルホスフェート等を挙げることができる。

本発明において、インクジェット法により形成した輝度ムラ補正インクが活性光線硬化型樹脂を含む場合、活性光線の照射方法としては、インク液滴を樹脂フィルム上に着弾させた直後より、活性光線を照射することが好ましい。

本発明でいうインク液滴を樹脂フィルム上に着弾させた直後とは、具体的にはインク液滴が着弾後０．００１〜２．０秒の間が好ましく、より好ましくは０．００１〜１．０秒の間である。照射光源の照射間隔が０．００１秒より短いと、ノズル部と照射光源の距離が接近し過ぎて、硬化反応により昇華物質によるヘッドの汚染や、照射光のインク出射部への回り込みにより、ノズル部での硬化によりノズル詰まりを起こすため好ましくない。

上記照射時のノズル部への光の回り込みを防止するため、本発明のインクジェット法においては、活性光源照射部をインクジェットヘッドのノズル部に直接作用させない位置に配置することが好ましく、更に、照射される活性光線が、インクジェットヘッドのノズル部に作用しないように遮光板をその間に設けることが好ましい。

本発明に使用することができる活性光線としては、紫外線、電子線、γ線等で、光拡散性付与組成物である活性光線硬化型樹脂を活性化させる光源であれば制限なく使用できるが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は１ｍＪ／ｃｍ²以上が好ましく、更に好ましくは、２０ｍＪ／ｃｍ²〜１００００ｍＪ／ｃｍ²であり、特に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ²〜２０００ｍＪ／ｃｍ²である。

また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。

本発明においては、活性線照射の時の雰囲気中の酸素濃度が１％以下であることがより好ましい。また、窒素ガスでページすることによって酸素濃度を下げることもできる。

また、本発明においては、活性光線の硬化反応を効率的に進めるため、樹脂フィルム等を加熱することもできる。加熱方法としては、特に制限はないが、ヒートプレート、ヒートロール、サーマルヘッド、或いは着弾したインク表面に熱風を吹き付ける等の方法を使用するのが好ましい。また、インクジェット出射部の透明支持体を挟んで反対側に用いられるバックロールを、ヒートロールとして、連続的に加熱を施してもよい。

加熱温度としては、使用する活性光線硬化型樹脂の種類により一概には規定できないが、樹脂フィルムへの熱変形等の影響を与えない温度範囲であることが好ましく、３０〜２００℃が好ましく、更に５０〜１２０℃が好ましく、特に好ましくは７０〜１００℃である。

次いで、本発明に用いられる熱硬化性樹脂について説明する。

本発明で用いることのできる熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、フェノール樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、熱硬化性ポリアミドイミドなどを挙げることができる。

不飽和ポリエステル樹脂としては、例えば、オルソフタル酸系樹脂、イソフタル酸系樹脂、テレフタル酸系樹脂、ビスフェノール系樹脂、プロピレングリコール−マレイン酸系樹脂、ジシクロペンタジエンないしその誘導体を不飽和ポリエステル組成に導入して低分子量化した、或いは皮膜形成性のワックスコンパウンドを添加した低スチレン揮発性樹脂、熱可塑性樹脂（例えば、ポリ酢酸ビニル樹脂、スチレン・ブタジエン共重合体、ポリスチレン、飽和ポリエステルなど）を添加した低収縮性樹脂、不飽和ポリエステルを直接Ｂｒ₂でブロム化する、或いはヘット酸、ジブロムネオペンチルグリコールを共重合するなどした反応性タイプ、塩素化パラフィン、テトラブロムビスフェノール等のハロゲン化物と三酸化アンチモン、燐化合物の組み合わせや水酸化アルミニウムなどを添加剤として用いる添加タイプの難燃性樹脂、ポリウレタンやシリコーンとハイブリッド化、またはＩＰＮ化した強靭性（高強度、高弾性率、高伸び率）の強靭性樹脂等がある。

エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型、ノボラックフェノール型、ビスフェノールＦ型、臭素化ビスフェノールＡ型を含むグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系、グリシジルエステル系、環式脂肪系、複素環式エポキシ系を含む特殊エポキシ樹脂等を挙げることができる。

ビニルエステル樹脂としては、例えば、普通エポキシ樹脂とメタクリル酸等の不飽和一塩基酸とを開環付加反応して得られるオリゴマーをスチレン等のモノマーに溶解した物である。また、分子末端や側鎖にビニル基を持ちビニルモノマーを含有する等の特殊タイプもある。グリシジルエーテル系エポキシ樹脂のビニルエステル樹脂としては、例えば、ビスフェノール系、ノボラック系、臭素化ビスフェノール系等があり、特殊ビニルエステル樹脂としてはビニルエステルウレタン系、イソシアヌル酸ビニル系、側鎖ビニルエステル系等がある。

フェノール樹脂は、フェノール類とフォルムアルデヒド類を原料として重縮合して得られ、レゾール型とノボラック型がある。

熱硬化性ポリイミド樹脂としては、例えば、マレイン酸系ポリイミド、例えばポリマレイミドアミン、ポリアミノビスマレイミド、ビスマレイミド・Ｏ，Ｏ′−ジアリルビスフェノール−Ａ樹脂、ビスマレイミド・トリアジン樹脂等、またナジック酸変性ポリイミド、及びアセチレン末端ポリイミド等がある。

また、上述した活性光線硬化型樹脂の一部も、熱硬化性樹脂として用いることができる。

なお、本発明に係る熱硬化性樹脂からなるインクには、活性光線硬化型樹脂を含むインクに記載した酸化防止剤や紫外線吸収剤を適宜用いてもよい。

本発明において、インクジェット法により形成した輝度ムラ補正ドットが熱硬化性樹脂を含む場合、加熱方法としては、インク液滴を透明基体上に着弾させた直後に、加熱処理を行うことが好ましい。

本発明でいうインク液滴を透明基体上に着弾させた直後とは、具体的にはインク液滴が着弾と同時または５秒以内に加熱が開始されることが好ましく、より好ましくは０．００１〜２．０秒の間である。

上記加熱時のノズル部への熱の伝達を防止するため、本発明のインクジェット法においては、加熱部をインクジェットヘッドのノズル部に直接作用させない位置に配置することが好ましい。

加熱方法としては、特に制限はないが、ヒートプレート、ヒートロール、サーマルヘッド、或いは着弾したインク表面に熱風を吹き付ける等の方法を使用するのが好ましい。また、インクジェット出射部の樹脂フィルムを挟んで反対側にバックロールを設ける場合、ヒートロールとして、連続的に加熱を施してもよい。加熱温度としては、使用する熱硬化性樹脂の種類により一概には規定できないが、樹脂フィルムへの熱変形等の影響を与えない温度範囲であることが好ましく、３０〜２００℃が好ましく、更に５０〜１２０℃が好ましく、特に好ましくは７０〜１００℃である。

本発明に用いられるインクにおいては、光拡散性付与組成物として、上述した活性光線硬化型樹脂、熱硬化性樹脂のいずれも用いることができるが、好ましくは活性光線硬化型樹脂を用いることである。

本発明に用いられるインクには、必要に応じて溶媒を含有させることができる。例えば、水系溶媒に前記活性光線硬化型樹脂モノマー成分、或いは熱硬化性樹脂モノマー成分を溶解もしくは分散させてもよく、或いは有機溶媒を用いてもよい。有機溶媒は低沸点のものでも高沸点のものでも適宜選択して用いることができ、これらの溶媒の添加量や種類、組成はインク粘度や表面張力を調整するため適宜調整することが好ましい。

本発明のインクに用いることができる溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類；エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジエチルセルソルブ、ジエチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルフォルムアミド、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル等のエステル類；ジエチルエーテル等のエーテル類、水等が挙げられ、それらを単独または２種以上混合して使用することができる。また、分子内にエーテル結合をもつものが特に好ましく、グリコールエーテル類も好ましく用いられる。

グリコールエーテル類としては、具体的には下記の溶剤が挙げられるが、特にこれらに限定されない。プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルＡｃ、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルＡｃ、エチレングリコールジエチルエーテル等を挙げることができる、なおＡｃはアセテートを表す。本発明に係るインクにおいては、上記溶剤の中でも、沸点が１００℃未満の溶剤が好ましい。

本発明の光学フィルムは、一方の面にインクジェット法により輝度ムラ補正ドットが形成されており、他方の面に集光構造面が形成されていることが好ましい。

本発明の集光構造面とは、光の方向を実際に画像表示装置を使用する際に必要な方向へ向ける働きを持つものである。代表的なものとして、住友３Ｍ社製のＢＥＦシリーズなどのプリズム構造などが挙げられる。

集光構造面の作製には、光硬化性樹脂の塗布から集光構造面の形状転写及び紫外線硬化を用いた手法や熱インプリントによる集光構造など公知の手法で作製することが出来る。

本発明のバックライトユニットに用いる光源は、冷陰極菅（ＣＣＦＬ）に代表される線状光源、もしくは発光ダイオード（ＬＥＤ）に代表される点状光源であることが好ましい。

特に好ましいバックライトは、赤色（Ｒ）ＬＥＤ、緑色（Ｇ）ＬＥＤ、及び青色（Ｂ）ＬＥＤを有するカラー液晶表示装置用ＬＥＤバックライトであって、例えば、上記赤色（Ｒ）ＬＥＤのピーク波長が６１０ｎｍ以上であり、上記緑色（Ｇ）ＬＥＤのピーク波長が５３０±１０ｎｍの範囲内であり、上記青色（Ｂ）ＬＥＤのピーク波長が４８０ｎｍ以下であるものが好ましく用いられる。ピーク波長が上記範囲内の緑色（Ｇ）ＬＥＤの種類としては、例えば、ＤＧ１１１２Ｈ（スタンレー電気（株）製）、ＵＧ１１１２Ｈ（スタンレー電気（株）製）、Ｅ１Ｌ５１−３Ｇ（豊田合成（株）製）、Ｅ１Ｌ４９−３Ｇ（豊田合成（株）製）、ＮＳＰＧ５００Ｓ（日亜化学工業（株）製）等が挙げられる。赤色（Ｒ）ＬＥＤとして用いられるＬＥＤの種類としては、例えばＦＲ１１１２Ｈ（スタンレー電気（株）製）、ＦＲ５３６６Ｘ（スタンレー電気（株）製）、ＮＳＴＭ５１５ＡＳ（日亜化学工業（株）製）、ＧＬ３ＺＲ２Ｄ１ＣＯＳ（シャープ（株）製）、ＧＭ１ＪＪ３５２００ＡＥ（シャープ（株）製）等が挙げられる。青色（Ｂ）ＬＥＤとして用いられるＬＥＤの種類としては、ＤＢ１１１２Ｈ（スタンレー電気（株）製）、ＤＢ５３０６Ｘ（スタンレー電気（株）製）、Ｅ１Ｌ５１−３Ｂ（豊田合成（株）製）、Ｅ１Ｌ４Ｅ−ＳＢ１Ａ（豊田合成（株）製）、ＮＳＰＢ６３０Ｓ（日亜化学工業（株）製）、ＮＳＰＢ３１０Ａ（日亜化学工業（株）製）等が挙げられる。上述した３色のＬＥＤを組み合わせてバックライトとすることが出来る。或いは白色ＬＥＤを用いることも出来る。

本発明の光学フィルムを用いたバックライトユニットは、液晶表示装置に有用であり、例えばＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍｅｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＣＰＡ（Ｃｏｎｔｉｎｕｏｕｓ Ｐｉｎｗｈｅｅｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード等の液晶表示装置に好適である。

特に本発明により、液晶表示装置の表示品質が改良され、コントラストの改善や視認性の改善がなされる。

以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

〈光学フィルム１の作製〉
（ドープ液１の作製）
ポリカーボネート樹脂（パンライトＣ−１４００ＱＪ、帝人化成（株））
９０質量部
トスパール１２０（ＧＥ東芝シリコーン（株）社製、ポリシロキサン系重合体の架橋物からなる粒子、平均粒径２μｍ） １０質量部
ジクロロメタン ６００質量部
上記組成のドープ液を作製し、ガラス上にナイフコーターを用いて製膜を行い乾燥膜厚１００μｍのポリカーボネート樹脂フィルムを得た。

（バックライトユニット）
東芝（株）製ＦＡＣＥ ２３ＬＣ１００を分解し、反射板、冷陰極菅（ＣＣＦＬ）だけがある状態まで分解を行った。

（バックライト輝度ムラ測定）
分解した反射板及びＣＣＦＬの状態のバックライトユニットを点灯し、サイバネットシステム株式会社製 ＰｒｏＭｅｔｒｉｃ Ｃｏｌｏｒ １６００により測定し輝度ムラ測定を行った。

測定結果を図４に記載する。

（インクジェット法による輝度ムラ補正ドットの作製）
コニカミノルタ社製インクＥｘ−ＵＶ Ｗｈｉｔｅ−０１をインクジェット法により塗布を行った。ＣＣＦＬの輝度ムラから、上記で得られた樹脂フィルム状に８．５ｍｍの間隔でラインアンドスペースの輝度ムラ補正ドットを作製し（図５参照）、本発明の光学フィルム１を得た。この時、ラインの反射率は、透明基材にインクジェット法で同条件で輝度ムラ補正ドットを作製した際に反射率が３０％となるように調整を行った。

（評価）
東芝（株）製 ＦＡＣＥ ２３ＬＣに付属していた拡散板をＣＣＦＬのもとの配置に戻し、上記バックライト輝度ムラ測定と同条件で輝度ムラ測定を行った。

次に、付属の拡散板に替えて本発明の光学フィルムをバックライトユニットとして組み込み同一条件で輝度ムラの測定を行った。なお組み込みの際、輝度の高いＣＣＦＬ上に輝度ムラ補正ドット領域が重なるように本発明の光学フィルムを設置した。

得られた結果を図６に示す。

輝度ムラは以下の式、平均均斉度Ｌｕとして、また平均輝度はＬａとして評価し、結果を表１に示す。

輝度平均値 Ｌａ＝（Ｌ１＋Ｌ２）／２
輝度均斉度 Ｌｕ＝（（Ｌ１−Ｌ２）／Ｌａ）×１００
Ｌ１：複数本設置された光源真上での輝度極大値の平均
Ｌ２：極大値に挟まれた極小値の平均

図６及び表１から明らかなように、本発明の光学フィルム１は、従来型である付属の拡散板よりも高輝度かつ均一性において有効な結果が得られた。

実施例２
実施例１で得られた光学フィルム１の片面に熱インプリント法によりプリズム頂角１００°、プリズムピッチ５０μのプリズムを形成して集光構造面とした。

輝度ムラ補正ドットは正面から見た時にＣＣＦＬ間の上にくるように８．５ｍｍ間隔のラインアンドスペースで配置を行い、光学フィルム２を作製した。

実施例１と同様にして評価を行い平均輝度及び輝度均斉度を比較した結果を図７及び表２に示す。

図７及び表２から明らかなように、本発明の光学フィルム２は平均輝度及び輝度均斉度の観点から良好な結果が得られた。

Claims (4)

1. バックライトユニットに使用される光学フィルムの製造方法において、該光学フィルムは溶液キャスト法により製膜される樹脂フィルムであり、該樹脂フィルムは膜厚が４０〜５００μｍであり、フィルム中に光拡散性粒子を０．１〜４０質量％含有し、かつ該樹脂フィルムの少なくとも一方の面にインクジェット法により輝度ムラ補正ドットをバックライトの輝度ムラに対応して形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
2. 前記樹脂フィルムの一方の面にインクジェット法により輝度ムラ補正ドットを形成し、他方の面に集光構造面を形成することを特徴とする請求の範囲第１項に記載の光学フィルムの製造方法。
3. 請求の範囲第１項または第２項に記載の光学フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする光学フィルム。
4. 請求の範囲第３項に記載の光学フィルムが使用されるバックライトユニットの光源が、線状光源及び点状光源であることを特徴とするバックライトユニット。