JPWO2008096622A1 - 真空ポンプ - Google Patents
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Abstract
Description
この高真空の環境を実現する真空ポンプは、吸気口及び排気口を備えた外装体を形成するケーシングを備えている。そして、このケーシングの内部(中空部)には、当該真空ポンプに排気機能を発揮させる構造物が収納されている。この排気機能を発揮させる構造物は、大きく分けて回転自在に軸支された回転部(ロータ部)とケーシングに対して固定された固定部(ステータ部)から構成されている。
ターボ分子ポンプには、回転軸を高速回転させるためのモータが設けられており、このモータの働きにより回転軸が高速回転すると、ロータ翼とステータ翼との作用により気体が吸気口から吸引され、排気口から排出されるようになっている。
このように構成されたポンプ本体は、制御装置(コントロールユニット)によって各種動作が制御されている。
また、ポンプ本体と制御装置とが互いに遠く離れた場所に配置される環境においては、必然的に専用ケーブルも長くなるため、ケーブルを通過する間に信号が減衰してしまうおそれがあった。
従来、このような専用ケーブルに起因する不具合を解消するために、専用ケーブルを用いずにポンプ本体と制御装置を接続する技術、即ち、ポンプ本体と制御装置を一体化する技術が下記の特許文献1に提案されている。
ベース底面の中央部には、モータや磁気軸受などの電気部品を収納する収納部の開口部を塞ぐための裏蓋が設けられている。つまり、特許文献1に記載のターボ分子ポンプ装置では、この裏蓋にコネクタが設けられている。
しかしながら、このようにコネクタが裏蓋に設けられている場合、配線が裏蓋と繋がっているため、修理や点検時にポンプを分解する際の作業性が低下してしまう。
なお、請求項1では、例えば、モータ、磁気軸受、センサ等が電気部品(電装部品)に相当する。
請求項2記載の発明では、請求項1記載の真空ポンプにおいて、前記電気部品収納部へパージガスを供給する、前記電気部品収納部から前記ポンプ本体の外装体の周壁まで貫通して形成されたガス供給路を備え、前記電気部品の配線は、少なくとも前記ガス供給路の一部に配設されていることを特徴とする。
請求項3記載の発明では、請求項2記載の真空ポンプにおいて、開口端部に前記コネクタが配設された、前記ガス供給路と連通する連通穴を備え、前記電気部品の配線は、前記連通穴、及び、少なくとも前記ガス供給路の一部に渡って配設されていることを特徴とする。
2 ケーシング
3 ベース
4 ロータ部
5 吸気口
6 排気口
7 シャフト
8 ロータ翼
9 円筒部材
10 ボルト
11 モータ部
12〜14 磁気軸受部
15〜17 変位センサ
18 ステータ翼
19 ねじ溝スペーサ
20 スペーサ
21 ステータコラム
22 裏蓋
23 コネクタ
24 パージポート
25 パージガス流路
26 連通穴
30 制御装置
31 コネクタ
図1は、本実施形態に係るターボ分子ポンプ1の概略構成を示した図である。図1は、ターボ分子ポンプ1の軸線方向の断面図を示している。
本実施形態では、ターボ分子ポンプの一例としてターボ分子ポンプ部Tとねじ溝式ポンプ部Sを備えた、いわゆる複合翼タイプの分子ポンプを例にとり説明する。
なお、ターボ分子ポンプ1には、高速回転するロータ部と、固定したステータ部との排気作用により、排気機能を発揮する真空ポンプであって、ターボ分子ポンプ、ねじ溝式ポンプ、あるいはこれら両方の構造を合わせ持ったポンプなどがある。
ケーシング2は、円筒形状(中空円柱状)であり、開口部を有する円形のベース3と共にターボ分子ポンプ1の外装体を構成する。ケーシング2における一方の開口端は、ターボ分子ポンプ1の吸気口5を構成し、他方の開口端にベース3が設けられている。
このケーシング2(外装体)の内部には、ターボ分子ポンプ1に排気機能を発揮させる構造物つまり気体移送機構が収納されている。
これら排気機能を発揮する構造物は、大きく分けて回転自在に軸支されたロータ部4とケーシング2に対して固定されたステータ部から構成されている。
また、吸気口5側がターボ分子ポンプ部Tにより構成され、排気口6側がねじ溝式ポンプ部Sから構成されている。
さらに、ロータ部4には、外周面が円筒形状をした部材からなる円筒部材9が排気口6側(ねじ溝式ポンプ部S)に設けられている。
また、ターボ分子ポンプ1には、ロータ翼8が軸線方向に複数段形成されている。
シャフト7の軸線方向中程には、シャフト7を回転させるモータ部11が配設されている。
モータ部11の吸気口5側及び排気口6側には、シャフト7をラジアル方向に軸支するための磁気軸受部12及び磁気軸受部13が設けられている。
シャフト7の下端には、シャフト7を軸線方向(スラスト方向)に軸支するための磁気軸受部14が設けられている。
シャフト7は、磁気軸受部12、13、14から構成される5軸制御型の磁気軸受によって非接触で支持されている。
また、磁気軸受部12、13の近傍には、それぞれ変位センサ15、16が形成されており、シャフト7のラジアル方向の変位が検出できるようになっている。さらに、シャフト7の下端には変位センサ17が形成されており、シャフト7の軸線方向の変位が検出できるようになっている。
後述する制御装置30は、変位センサ15〜17によってシャフト7の変位を検出すると、磁気軸受部12〜14における各電磁石の磁力を調節して、シャフト7を所定の位置へ戻すように動作する。
ステータ翼18は、シャフト7の軸線に垂直な平面から所定の角度だけ傾斜してケーシング2の内周面からシャフト7に向かって伸びたブレードから構成されている。ターボ分子ポンプ部Tでは、これらステータ翼18が軸線方向に、ロータ翼8と互い違いに複数段形成されている。各段のステータ翼18は、円筒形状をしたスペーサ20により互いに隔てられている。
これらステータ部はステンレスやアルミニウム合金などの金属を用いて構成されている。
なお、ロータ部4、ロータ翼8、円筒部材9、ステータ翼18、スペーサ20、ベース3などの吸気口5から取り込まれる気体の流路が形成される領域には、耐蝕処理が施されている。
図1に示すように、モータ部11、磁気軸受部12〜14、及び変位センサ15〜17などの電気部品(電装部品)は、ステータコラム21及びベース3の内部(中空部)に格納(収納)されている。
なお、これらの電気部品が配設される領域、即ち、ステータコラム21及びベース3の内部は、電気部品収納部として機能する。
ベース3の底部(ステータコラム21の開口部)には、ベース3の開口部、即ち、電気部品収納部の開口部を覆うように裏蓋(カバー)22が取り付けられている。
このコネクタ23は、修理や点検時などにターボ分子ポンプ1を分解する際の作業性を考慮して、ベース3の開口部よりも外側の領域、詳しくは、裏蓋22の配設領域の外側に設けられている。
このように本実施形態では、コネクタ23が裏蓋22に設けられないため、即ち、内部配線が裏蓋22に接続されないため、裏蓋22を外す作業を容易に行うことができる。
本実施の形態に係るターボ分子ポンプ1には、このポンプ本体を制御するための制御装置30がポンプ本体に装着されている。つまり、ターボ分子ポンプ1は、ポンプ本体と制御装置30が一体化されている。
制御装置30は、ポンプ本体における各種動作を制御する制御回路を備えたコントロールユニットを構成する。
制御装置30は、ベース3の底部(ステータコラム21の開口部)、即ち裏蓋22と対向する領域に配設(装着)されている。
このように本実施形態では、ポンプ本体と制御装置30との間における電気的接続を、コネクタ23とコネクタ31とを結合することにより行うように構成されている。そのため、ポンプ本体と制御装置30とを接続する専用ケーブルを用いることなく、制御装置30は、モータ部11や磁気軸受部12〜14、変位センサ15〜17の駆動信号や電力をポンプ本体へ供給したり、ポンプ本体から各種信号などを受信したりすることができる。
パージポート24は、パージガス流路25を介してベース3の内部領域、即ち、電気部品収納部と連通している。
パージガス流路25は、ベース3の外周壁面から内周壁面まで径方向に沿って貫通して形成された貫通横孔であり、パージポート24から供給(導入)されるパージガスを、電気部品収納部へ送り込むパージガスの供給路として機能する。
なお、図示されていないが、パージポート24の他端は、パージガスをパージポート24へ供給するガス供給装置に接続されている。
ターボ分子ポンプ1を用いて、半導体製造装置が設けられた真空容器、例えばエッチング装置や化学気相成長装置(CVD)における真空容器の排気を行う際に、真空容器から排気する気体にプロセスガスとして用いられた腐食性ガスが含まれる場合がある。
このような腐食性ガスが吸気口5からターボ分子ポンプ1の内部に取り込まれると、そのガスによって、ターボ分子ポンプ1の内部における、耐蝕処理が施されていない電気部品(電装品)、保護ベアリング、シャフト7などが腐食されてしまう。
そこで、パージポート24からパージガス、例えば窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガスを電気部品収納部に供給することにより、電気部品を腐食性ガスから保護するように構成されている。
なお、電気部品収納部に供給されたパージガスは、変位センサ15の配設部を通過した後、ステータコラム21の吸気口5側の開口部からステータコラム21の外部へ流出する。そして、パージガスは、ステータコラム21の外周壁とロータ部4との間の空隙を介して排気口6まで送られ、吸気口5から取り込まれた気体と共にターボ分子ポンプ1から排出される。
連通穴26は、ベース3の底面(制御装置30との対向面)から軸方向に沿って形成された穴であり、その先端近傍において垂直にパージガス流路25と交わって(連通して)いる。
連通穴26におけるベース3の底面に形成された開口部は、コネクタ23によって密閉されている。
図2において、破線(点線)は、ターボ分子ポンプ1における電気部品(モータ部11、磁気軸受部12〜14、及び変位センサ15〜17など)と制御装置30とを電気的に接続するための配線を示し、矢印は、パージポート24から供給されるパージガスの流れを示す。
なお、図中では、簡略化のため電気部品の配線を4本の破線で示しているが、実際のターボ分子ポンプ1においては、約40〜50本の配線が設けられている。
図2に示すように、ターボ分子ポンプ1における電気部品の接続配線は、ベース3の中空部、即ち電気部品収納部から、パージガス流路25及び連通穴26を介してコネクタ23まで引き出されている。
また、図2に示すように、パージポート24から供給されたパージガスは、パージガス流路25を介してベース3の中空部、即ち電気部品収納部まで送り込まれる。
つまり、本実施の形態では、パージガス流路25の一部、詳しくは、パージガス流路25における連通穴26との結合部よりパージガスの流れの下流側の領域、即ち、パージガス流路25における連通穴26との結合部からベース3の内側(軸中心側)の領域を、電気部品の接続配線の配設部と兼用させている。
縦穴の開口端は、コネクタ23によって密閉することができるものの、一方の横穴の外装体に形成された開口部には、この開口部を密閉する構造が新たに必要となる。
このように本実施形態によれば、電気部品の接続配線を引き回すための穴の数を低減させることができるため、穴を形成(加工)する工程の作業負荷を軽減することができる。これによりターボ分子ポンプ1の製作(製造)コストの低減を図ることができる。
また、パージガス流路25に配設された配線の腐食を防止することができる。
Claims (3)
- 吸気口から排気口まで気体を移送する気体移送機構を内包するポンプ本体と、前記ポンプ本体に装着される制御装置と、を備えた真空ポンプであって、
前記ポンプ本体は、
前記制御装置と対向する領域に開口部を有し、電気部品が配設された電気部品収納部と、
前記電気部品収納部の開口部を覆うカバーと、
前記カバーの配設領域の外側であり、かつ、前記制御装置と対向する部位に設けられた、前記電気部品の配線を前記制御装置に接続するコネクタと、を備えたことを特徴とする真空ポンプ。 - 前記電気部品収納部へパージガスを供給する、前記電気部品収納部から前記ポンプ本体の外装体の周壁まで貫通して形成されたガス供給路を備え、
前記電気部品の配線は、少なくとも前記ガス供給路の一部に配設されていることを特徴とする請求項1記載の真空ポンプ。 - 開口端部に前記コネクタが配設された、前記ガス供給路と連通する連通穴を備え、
前記電気部品の配線は、前記連通穴、及び、少なくとも前記ガス供給路の一部に渡って配設されていることを特徴とする請求項2記載の真空ポンプ。
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JP7244328B2 (ja) * | 2019-03-28 | 2023-03-22 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプ及び該真空ポンプの制御装置 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5923098A (ja) * | 1982-07-30 | 1984-02-06 | Hitachi Ltd | タ−ボ分子ポンプ |
JPS61145394A (ja) * | 1984-12-18 | 1986-07-03 | Tokuda Seisakusho Ltd | 分子ポンプ |
JPH05248386A (ja) * | 1992-03-04 | 1993-09-24 | Osaka Shinku Kiki Seisakusho:Kk | ねじ溝型真空ポンプ |
JPH0683990U (ja) * | 1993-05-06 | 1994-12-02 | セイコー精機株式会社 | ターボ分子ポンプ |
JP2006090251A (ja) * | 2004-09-27 | 2006-04-06 | Boc Edwards Kk | 真空ポンプ |
JP2007508492A (ja) * | 2003-10-16 | 2007-04-05 | ソシエテ・ドゥ・メカニーク・マグネティーク | ターボ分子真空ポンプ |
JP2007278278A (ja) * | 2006-04-07 | 2007-10-25 | Pfeiffer Vacuum Gmbh | 駆動装置を有する真空ポンプ |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5923098A (ja) * | 1982-07-30 | 1984-02-06 | Hitachi Ltd | タ−ボ分子ポンプ |
JPS61145394A (ja) * | 1984-12-18 | 1986-07-03 | Tokuda Seisakusho Ltd | 分子ポンプ |
JPH05248386A (ja) * | 1992-03-04 | 1993-09-24 | Osaka Shinku Kiki Seisakusho:Kk | ねじ溝型真空ポンプ |
JPH0683990U (ja) * | 1993-05-06 | 1994-12-02 | セイコー精機株式会社 | ターボ分子ポンプ |
JP2007508492A (ja) * | 2003-10-16 | 2007-04-05 | ソシエテ・ドゥ・メカニーク・マグネティーク | ターボ分子真空ポンプ |
JP2006090251A (ja) * | 2004-09-27 | 2006-04-06 | Boc Edwards Kk | 真空ポンプ |
JP2007278278A (ja) * | 2006-04-07 | 2007-10-25 | Pfeiffer Vacuum Gmbh | 駆動装置を有する真空ポンプ |
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