JPWO2008093514A1 - 圧電薄膜共振子 - Google Patents
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 19
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract description 9
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910013641 LiNbO 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
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- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
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- H03H9/10—Mounting in enclosures
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- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/15—Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material
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- H03H9/171—Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material having a single resonator implemented with thin-film techniques, i.e. of the film bulk acoustic resonator [FBAR] type
- H03H9/172—Means for mounting on a substrate, i.e. means constituting the material interface confining the waves to a volume
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Abstract
一対の電極(13,15)の間に圧電薄膜(14)を配置し、絶縁層(12)および温度特性補償膜(16)とともに振動部(20)を構成し、振動部(20)を支持部(21,22)を介して素子ウエハ(11)上に支持するとともに振動部(20)と素子ウエハ(11)との間に空隙部Gaを設ける。この振動部(20)の角を面取り形状とし、振動部(20)の反りによる角部における上下方向の最大変位量を小さく抑える。これにより全体に小型化を図りながら特性劣化を回避し信頼性を確保する。
Description
この発明は、基板、圧電薄膜を有する振動部、および基板上で振動部を支持する支持部を備える圧電薄膜共振子に関するものである。
従来、機械的品質係数Qmが高く、共振周波数が1〜10MHz程度の比較的低い周波数に設定でき、且つマイクロデバイスとして使用できる程度に小型化した拡がり振動型の圧電振動子が特許文献1に示されている。
図1は特許文献1に開示されている拡がり振動型圧電振動子91の構成を示す図である。
図1において、拡がり振動型圧電振動子91は、シリコン材料からなる基板92と、該基板92上に位置し、前後方向に対向して設けられたシリコン材料からなる一対の支持部93,93と、各支持部93に対向する支持梁94,94を介して支持された振動部95とを備えている。そして、振動部95は各支持梁94によって基板92に対して上側に浮上した状態で支持されている。
図1において、拡がり振動型圧電振動子91は、シリコン材料からなる基板92と、該基板92上に位置し、前後方向に対向して設けられたシリコン材料からなる一対の支持部93,93と、各支持部93に対向する支持梁94,94を介して支持された振動部95とを備えている。そして、振動部95は各支持梁94によって基板92に対して上側に浮上した状態で支持されている。
一方、振動部95は、シリコン材料によって形成され、振動板96と、該振動板96上に絶縁膜97を介して設けられた圧電薄膜98と、該圧電薄膜98を上側表面と下側表面とにそれぞれ接触して配設された上側電極99Aと下側電極100Aとから構成されている。さらに、上側電極99A,下側電極100Aにそれぞれ導通し、外部からのリード線等を接続する端子部99B,100Bが支持部93,93に形成されている。また、下側電極100の端子部100B上にはコンタクトホール100Cが形成されている。
特開平8−186467号公報
図1に示した拡がり振動型圧電振動子の振動部が平面視で長方形である場合、振動部95は図2に示すような振動をする。
図2において実線(長方形)は振動前の状態、破線は振動時の最大変位の状態をそれぞれ示している。このように振動部の角部が最も大きく変位する。通常、複数の材料からなる薄膜構造体の振動子(振動部)は材料の剛性が弱く、また全体に薄いので振動部を構成する薄膜の応力により振動部が何らかの反りや撓みをもって振動する。このため、振動部の角部は下向きまたは上向きに変位し、下向きに変位して振動部の角部が基板に接触すると特性劣化を招くだけでなく振動部の変位量が大きい場合に角部が欠ける等、信頼性にも悪影響を与える。一方、上向きに反る場合、基板上部に大きな空間を確保しておく必要があり、たとえば低背化のためにチップサイズのパッケージングを行う場合に空間確保が難しく、振動部の角部が蓋部分に接触するおそれが生じる。
そこでこの発明の目的は、上述の問題を解消して特性劣化を回避し信頼性を確保した小型の圧電薄膜共振子を提供することにある。
前記課題を解決するためにこの発明は次のように構成する。
(1)基板と、一対の電極間に圧電薄膜が配置された振動部と、前記基板と前記振動部とを互いに接続するとともに前記基板と前記振動部との間に空隙部を設ける支持部と、を備えた圧電薄膜共振子において、前記振動部の角を面取り形状にしたことを特徴としている。
(1)基板と、一対の電極間に圧電薄膜が配置された振動部と、前記基板と前記振動部とを互いに接続するとともに前記基板と前記振動部との間に空隙部を設ける支持部と、を備えた圧電薄膜共振子において、前記振動部の角を面取り形状にしたことを特徴としている。
(2)例えば前記面取り形状は平面視で円弧状または直線状とする。
この発明によれば振動部の振動によって反りや撓みが生じても振動部の角部の最大変位量が小さくなって、基板または蓋と振動部の角部との間の空間を大きく確保しなくても、接触による特性劣化および信頼性低下の問題が解消できる。
そのため例えばチップサイズでパッケージングを行って低背化しても特性劣化を回避し信頼性を確保した小型の圧電薄膜共振子が得られる。
100−圧電薄膜共振子
11−素子ウエハ(基板)
12−絶縁層
13−下部電極
14−圧電薄膜
15−上部電極
16−温度特性補償膜
17a,17c−コンタクト
17b−封止部
18−蓋ウエハ
19−外部電極
20−振動部
21,22−支持部
11−素子ウエハ(基板)
12−絶縁層
13−下部電極
14−圧電薄膜
15−上部電極
16−温度特性補償膜
17a,17c−コンタクト
17b−封止部
18−蓋ウエハ
19−外部電極
20−振動部
21,22−支持部
《第1の実施形態》
第1の実施形態に係る圧電薄膜共振子について図3・図4を参照して説明する。
図3は第1の実施形態に係る圧電薄膜共振子の構成を示す図である。図3(A)は断面図、図3(B)は分解斜視図である。
第1の実施形態に係る圧電薄膜共振子について図3・図4を参照して説明する。
図3は第1の実施形態に係る圧電薄膜共振子の構成を示す図である。図3(A)は断面図、図3(B)は分解斜視図である。
この圧電薄膜共振子は、基板である素子ウエハ11の上部に振動部20およびこの振動部20を素子ウエハ11との間で空隙部Gaを設けるとともに支持する支持部21,22を形成している。素子ウエハ11の上部には蓋ウエハ18を配置するとともに、素子ウエハ11と蓋ウエハ18との間を封止部17bで封止して、振動部20の上部にも空隙部Gbを設けている。
素子ウエハ11はシリコンウエハである。特性劣化を防ぐために、素子との間にSiO2層を形成するなど、絶縁処理をしておくことが望ましい。また、シリコン以外に絶縁性の高いガラス基板、水晶基板、LiTaO3、LiNbO3などのセラミック基板を用いてもよい。図3に示す例では、素子ウエハ11の上部にはSiO2からなる絶縁層12を設け、この絶縁層12の上にPtからなる下部電極13を形成し、絶縁層12および下部電極13の上部にAlNからなる圧電薄膜14を形成している。さらにこの圧電薄膜14の上部にPtからなる上部電極15を形成している。
圧電薄膜14および上部電極15の上面にはSiO2からなる温度特性補償用の温度特性補償膜16を設けている。封止部17b、コンタクト17a,17cは共にCu,Sn等の金属材料からなる。コンタクト17aは、蓋ウエハ18に形成したコンタクトホールを介して外部電極19aと上部電極15の引き出し部とを導通させ、コンタクト17cは、外部電極19cと下部電極13の引き出し部とを導通させる。また封止部17bは、素子ウエハ11と蓋ウエハ18との周囲を囲む部分を封止するとともに、外部電極19b,19dは封止部17bに導通する。この外部電極19b,19dは接地端子として作用する。
蓋ウエハ18とコンタクト17aとの間は絶縁されていることが望ましい。また、素子ウエハ11側にコンタクトを形成してもよい。
図4は第1の実施形態に係る圧電薄膜共振子の振動部の平面図である。図中実線で示す形状は振動前の状態(輪郭線)であり、破線は振動時の最も変位した状態を示している。
図4に示すように振動部20の角部分Rを1/4円弧状の面取り形状としている。このようなラウンド状の面取り形状であるので、振動部20の上下方向への反り(撓み)による角部の上下方向の変位量が小さくなるので、振動部20の上下の空隙が狭くても接触による問題が生じない。
この振動部20の角に丸みをつけることによる特性変動を調べたところ、振動部20の寸法が396×266μmの場合に半径60μmのラウンドを付けても電気的特性の劣化が生じないことが分かった。相対的には、ラウンドの半径が振動部20の長辺方向の寸法の0.15倍(60/396)または振動部20の短辺方向の寸法の0.23倍(60/266)以下であれば特性上問題が生じないと言える。
なお、平面的な面取りだけでなく、素子断面を見たときに面取りされているとより効果的である。また、平面的な面取り形状は円弧だけでなく任意の曲線で形成されていてもよい。
《第2の実施形態》
図5は第2の実施形態に係る圧電薄膜共振子の振動部20の平面図である。図5に示すように、振動部20の4つの角部を45°方向に切り落とした斜辺Sを有する面取り形状としている。これによりそれぞれが90°以上の角度を有する8個の角部を備えることになる。
図5は第2の実施形態に係る圧電薄膜共振子の振動部20の平面図である。図5に示すように、振動部20の4つの角部を45°方向に切り落とした斜辺Sを有する面取り形状としている。これによりそれぞれが90°以上の角度を有する8個の角部を備えることになる。
このような形状であっても第1の実施形態の場合と同様に、振動部20の上下方向への反り(撓み)による角部の上下方向の変位量が小さくなるので、振動部20の上下の空隙が狭くても接触による問題が生じない。
この振動部20の角を直線状の面取り形状にすることによる特性変動を調べたところ、振動部20の寸法が396×266μmの場合に、斜辺の寸法を85μmにしても電気的特性の劣化が生じないことが分かった。相対的には、斜辺の寸法が振動部20の長辺方向の寸法の0.21倍(85/396)または振動部20の短辺方向の寸法の0.32倍(85/266)以下であれば特性上問題が生じないと言える。
なお、角の面取りは、この形状に限るものではなく、2辺以上の直線で面取りしてもよい。
Claims (3)
- 基板と、一対の電極間に圧電薄膜が配置された振動部と、前記基板と前記振動部とを互いに接続するとともに前記基板と前記振動部との間に空隙部を設ける支持部と、を備えた圧電薄膜共振子において、
前記振動部の角を面取り形状にしたことを特徴とする圧電薄膜共振子。 - 前記面取り形状は平面視で円弧状である請求項1に記載の圧電薄膜共振子。
- 前記面取り形状は平面視で直線状である請求項1に記載の圧電薄膜共振子。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007023741 | 2007-02-02 | ||
JP2007023741 | 2007-02-02 | ||
PCT/JP2008/050100 WO2008093514A1 (ja) | 2007-02-02 | 2008-01-09 | 圧電薄膜共振子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2008093514A1 true JPWO2008093514A1 (ja) | 2010-05-20 |
Family
ID=39673828
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008556033A Pending JPWO2008093514A1 (ja) | 2007-02-02 | 2008-01-09 | 圧電薄膜共振子 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPWO2008093514A1 (ja) |
WO (1) | WO2008093514A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FI20095988A0 (fi) * | 2009-09-28 | 2009-09-28 | Valtion Teknillinen | Mikromekaaninen resonaattori ja menetelmä sen valmistamiseksi |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0865051A (ja) * | 1994-08-23 | 1996-03-08 | Murata Mfg Co Ltd | 圧電式発振器 |
JPH08186467A (ja) * | 1994-12-29 | 1996-07-16 | Murata Mfg Co Ltd | 拡がり振動型圧電振動子およびその製造方法 |
JP2003273693A (ja) * | 2002-01-08 | 2003-09-26 | Murata Mfg Co Ltd | 圧電共振子及びそれを用いた圧電フィルタ・デュプレクサ・通信装置 |
-
2008
- 2008-01-09 JP JP2008556033A patent/JPWO2008093514A1/ja active Pending
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0865051A (ja) * | 1994-08-23 | 1996-03-08 | Murata Mfg Co Ltd | 圧電式発振器 |
JPH08186467A (ja) * | 1994-12-29 | 1996-07-16 | Murata Mfg Co Ltd | 拡がり振動型圧電振動子およびその製造方法 |
JP2003273693A (ja) * | 2002-01-08 | 2003-09-26 | Murata Mfg Co Ltd | 圧電共振子及びそれを用いた圧電フィルタ・デュプレクサ・通信装置 |
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---|---|
WO2008093514A1 (ja) | 2008-08-07 |
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