JPWO2008053940A1 - プラズマ発生体及び装置、並びにプラズマ発生体の製造方法 - Google Patents

プラズマ発生体及び装置、並びにプラズマ発生体の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JPWO2008053940A1
JPWO2008053940A1 JP2008542167A JP2008542167A JPWO2008053940A1 JP WO2008053940 A1 JPWO2008053940 A1 JP WO2008053940A1 JP 2008542167 A JP2008542167 A JP 2008542167A JP 2008542167 A JP2008542167 A JP 2008542167A JP WO2008053940 A1 JPWO2008053940 A1 JP WO2008053940A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
cell
plasma generator
column
insulating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008542167A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4763059B2 (ja
Inventor
福田 憲次郎
憲次郎 福田
古本 雄一
雄一 古本
佐藤 慎吾
慎吾 佐藤
陽介 森山
陽介 森山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP2008542167A priority Critical patent/JP4763059B2/ja
Publication of JPWO2008053940A1 publication Critical patent/JPWO2008053940A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4763059B2 publication Critical patent/JP4763059B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/48Generating plasma using an arc
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/46Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
    • H05H1/4645Radiofrequency discharges
    • H05H1/466Radiofrequency discharges using capacitive coupling means, e.g. electrodes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2255/00Catalysts
    • B01D2255/10Noble metals or compounds thereof
    • B01D2255/102Platinum group metals
    • B01D2255/1021Platinum
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2258/00Sources of waste gases
    • B01D2258/01Engine exhaust gases
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2259/00Type of treatment
    • B01D2259/80Employing electric, magnetic, electromagnetic or wave energy, or particle radiation
    • B01D2259/818Employing electrical discharges or the generation of a plasma
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/86Catalytic processes
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H2245/00Applications of plasma devices
    • H05H2245/10Treatment of gases
    • H05H2245/15Ambient air; Ozonisers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Exhaust Gas After Treatment (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)

Abstract

周囲の雰囲気や稼動時の熱に起因する熱応力によっても、セルが変形しにくいプラズマ発生体、ならびに、これを用いた装置等を提供することにある。平板状の第1電極3を支持してなる第1電極部1と、第1電極部1に対向して配置されるとともに、平板状の第2電極4を支持してなる第2電極部2と、平面視で第1絶縁部3および第2絶縁部4対向面の外周部に設けられ、第1電極部1及び第2電極部2を支持する一対の壁部7とからなるセル8を備え、セル8内を流体が流れるプラズマ発生体であって、セル8内に、一端が第1電極部1に接合され、他端が第2電極部2に向かって延在された柱部9が形成されている。

Description

本発明は、ディーゼルエンジンなどの排気ガスに含まれるカーボンを主とする粒子状物質(Particulate matter:以下PMという)や窒素酸化物(NOx)、硫黄酸化物(SOx)の酸化性成分及び、炭化水素(Hydorocarbon:以下、HC)等の流体を効率良く浄化できるプラズマ発生体および装置、並びにプラズマ発生体の製造方法に関するものである。
一般家庭で使用されている湯沸かし器の不完全燃焼時に排出されるCOガスやディーゼルエンジン、ガソリンエンジンからの排ガス、或いは焼却炉から出される排ガス等の流体中には、CO、カーボン、SOF(Soluble Organic Fraction)、高分子有機化合物、硫酸ミスト等のPM、NOxやSOxの酸化性成分、HC等が含まれている。このようなPMや酸化性成分、HC等の排出を抑制する方法として、プラズマ反応を利用してCOやPM等を浄化するという技術が提案されている。
このようなプラズマ反応により流体を浄化するための装置は、一対の電極を一定の距離だけ離間して対向させた構造を有している。そして、プラズマ反応による浄化は、対向する一対の電極間に高電圧を印加させてプラズマ場を発生させ、このプラズマ場内に上述した流体を通過させることにより、流体を分解させるものである。なお、一対の電極は、それぞれ絶縁体により覆われており、この絶縁体の両端部のそれぞれを、一対の壁部のそれぞれが支持している。
特開2003−286829号公報 特開2004−092589号公報 特開2005−093107号公報 国際公開2004/072445号パンフレット 国際公開2005/001250号パンフレット
しかしながら、処理される流体が高温である場合には、流体の通過に伴って、装置が作動直後に高温の状態へと急激に昇温される。また、装置を稼動した際、電極等から発生した熱が装置に蓄積されていくことにより装置が高温になることがある。このような装置の急激な温度変化や装置の極端な温度上昇により、装置の絶縁体や支持部に大きな熱応力がかかってしまう。そして、この熱応力により、PMや酸化成分等の流体を通過させるセルが変形してしまうことが考えられる。セルが変形すると、一対の電極間の距離が部分的に異なり、セル内に発生するプラズマ場の強度がばらついてしまう。このため、セル内を通過するPMや酸化性成分等の流体の反応、分解が、通過する領域によってばらついてしまうこととなる。また、セルの変形により電極が破損すると、破損した領域においてプラズマ場が発生せず、流体を良好に浄化することができないという懸念を有していた。
本発明は、上記想定に鑑み案出されたもので、その目的は、周囲の雰囲気や稼動時の熱に起因する熱応力によっても、セルが変形しにくいプラズマ発生体、および、これを用いた装置、並びに、プラズマ発生体の製造方法を提供することにある。
本発明のプラズマ発生体は、平板状の第1電極を支持してなる第1電極部と、該第1電極部に対向して配置されるとともに、平板状の第2電極を支持してなる第2電極部と、平面視でこれら電極部同士の対向面の外周部に設けられ、前記第1電極部及び第2電極部を支持する一対の壁部とからなるセルを備え、前記セル内を流体が流れるプラズマ発生体であって、前記セル内に、一端が前記第1電極部に接合され、他端が前記第2電極部に向かって延在された柱部が形成されていることを特徴とするものである。
また、好ましくは、前記セルが複数積層されており、第1のセル内に設けられた第1の柱部と、前記第1のセル上に積層された第2のセル内に設けられた第2の柱部とは、平面視において重畳して配置されていることを特徴とするものである。
また、好ましくは、前記柱部は、一つの前記セル内に複数設けられていることを特徴とするものである。
また、好ましくは、前記柱部は、その平面視形状が、円形状をなしていることを特徴とするものである。
また、好ましくは、前記複数の柱部、前記流体が流れる方向からみたときに、互いに重畳しないようにずれて配置されていることを特徴とするものである。
また、好ましくは、前記第1電極部は、平板状の第1電極及び、これを支持する第1絶縁部を備え、前記第2電極部は、平板状の第2電極及び、これを支持する第2絶縁部を備え、前記柱部は、平面視で前記前記第1電極と前記第2電極との対向面の外側に設けられていることを特徴とするものである。
また、好ましくは、前記第1電極部は、平板状の第1電極及び、これを支持する第1絶縁部を備え、前記第2電極部は、平板状の第2電極及び、これを支持する第2絶縁部を備え、前記第1絶縁部、前記第2絶縁部、前記壁部、前記柱部が、同一材料からなることを特徴とするものである。
また、好ましくは、前記柱部は、前記第1電極部から前記第2電極部に向かう方向において、前記セルの中央部における前記柱部の太さが、前記セルの両端部における前記柱部の太さよりも太くなしていることを特徴とするものである。
また、好ましくは、前記柱部は、前記第1電極部から前記第2電極部に向かう方向において、前記セルの両端から前記セルの中央に向かうにつれて、漸次太くなることを特徴とするものである。
また、好ましくは、前記一対の壁部の内壁面は、前記第1電極部から前記第2電極部に向かう方向における中央部が両端部よりも内側に向かって突出している領域を有することを特徴とするものである。
本発明の装置は、本発明のプラズマ発生体と、前記プラズマ発生体の前記第1電極と前記第2電極とに接続され、前記第1電極と前記第2電極との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加するための電圧印加部とを備えたものである。
また、好ましくは、前記第1電極と前記第2電極との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加することにより、前記セル内にプラズマを発生させるとともに、前記セル内に流体を流入させるものである。
また、好ましくは、前記流体が酸素であり、前記セル内に酸素を流入させることにより、オゾンを発生させるものである。
また、好ましくは、前記流体が、炉或いは内燃機関からの排ガスであり、前記セル内に、前記排ガスを流入させる第1の流路と、前記セルから排出される被処理ガスを、前記セルから流出させる第2の流路とをさらに備えたものである。
本発明のプラズマ発生体の製造方法は、前記第1絶縁部、第2絶縁部、前記壁部、前記柱部が、セラミック生成形体を同時焼成することにより形成され、前記第1電極及び前記第2電極が、メタライズペーストを前記セラミック生成形体と同時に焼成することにより形成されることを特徴とするものである。
本発明のプラズマ発生体は、セル内に、第1電極部から第2電極部に向かって延在された柱部が形成されている。これにより、柱部により第1電極部と第2電極部とを支持して熱応力や圧力によりセルが変形することを抑制できる。従って、第1電極部と第2電極部との間隔を一定に保持することができ、セル内に発生するプラズマ場の強度のばらつきやプラズマ発生体の破損を抑制することができる。
また、柱部を設けることにより、セル内を通過する流体が柱部の表面に接触しながら流れていくため、プラズマ発生体を稼動させた際に発生し、柱部に蓄積された熱を、流体に良好に伝達させて、セル内を通過するPMや酸化性成分等の流体の反応、分解を促進させることができる。
また、好ましくは、セルが複数積層されており、第1のセル内に設けられた第1の柱部と、第1のセル上に積層された第2のセル内に設けられた第2の柱部とは、平面視において重畳して配置されている。これにより、セルが複数積層されたプラズマ発生体においても、積層方向からの応力に対して強固な構造にできる。従って、セルが変形することを抑制することができ、第1電極部と第2電極部との間隔を一定に保持して、セル内に発生するプラズマ場の強度のばらつきやプラズマ発生体の破損を抑制することができる。これにより、プラズマ発生体のそれぞれのセル内を通過するPMや酸化性成分等の流体を良好に反応、分解させて浄化することができる。
また、好ましくは、前記柱部は、一つの前記セル内に複数設けられている。これにより、第1電極部と第2電極部とを安定して支持し、セルが変形することをより良好に抑制することができる。したがって、第1電極部と第2電極部との間隔が一定に保持され、セル内に発生するプラズマ場の強度のばらつきやプラズマ発生体の破損を抑制することができる。
また、好ましくは、柱部は、その平面視形状が、円形状をなしていることから、熱や圧力による応力が柱部にどの方向から印加されたとしても、柱部が容易に損壊しにくい。このように柱部の耐久性を高めることから、長期間や高温等の環境下での使用において、柱部をセル内に安定して配設させ、セルの形状を安定したものとすることができる。
また、好ましくは、前記複数の柱部が、前記流体が流れる方向からみたときに、互いに重畳しないようにずれて配置されていることから、セル内を通過する流体が柱部に均等に接触しやすくなるので、プラズマ発生体を稼動させた際に発生し、柱部に蓄積された熱を、セル内を通過する流体により確実に伝達でき、セル内を通過するPMや酸化性成分等の流体の反応、分解を促進させることができる。
また、好ましくは、前記柱部が、平面視で前記第1電極と前記第2電極との前記対向面の外側に設けられている。これにより、柱部が、セル内に発生するプラズマ場よりも外側に設けられることとなり、プラズマ場が柱部に与える影響は小さくなる。従って、プラズマにより柱部が分解されて、その形状が変化して柱部の支持機能が損なわれ、結果としてセルが変形することを抑制することができる。またセル内に発生するプラズマ場の強度のばらつきやプラズマ発生体の破損を抑制することができる。
また、好ましくは、第1絶縁部、第2絶縁部、壁部、柱部が、同一材料からなる。これにより、これら各部材の熱特性を同一のものとできる。すなわち、これら部材間の熱膨張率の差が小さく、或いは熱膨張率が等しくなるので、これら各部材間に熱応力が発生することを抑制し、セルが熱により変形することを抑制できる。
また、好ましくは、第1電極部から第2電極部に向かう方向において、セルの中央部における柱部の太さが、セルの両端部における柱部の太さよりも太い。このことから、柱部間におけるセルを通過する流体の前記中央部における流速が、両端部における流速よりも早くなり、セル内のプラズマを移動させて柱部間におけるセルの中心付近にプラズマ集中することが低減される。従って、セル内のプラズマ場のばらつきが小さくなり、セル内を通過するPMや酸化性成分等の流体を反応、分解させて、効率よく処理することができる。
また、好ましくは、柱部が、セルの両端からセルの中央に向かうにつれて、漸次太くなる。このことから、セル内を通過するPMや酸化性成分等の流体を効率よく処理することができるとともに、柱部への局所的な応力の集中を抑制し、プラズマ発生体の破損を抑制することができる。
また、好ましくは、一対の壁部の内壁面は、第1電極部から第2電極部に向かう方向における中央部が両端部よりも内側に向かって突出している領域を有する。このことから、壁部と柱部との間に位置するセルにおいて、柱部の太さを太くなしている柱部間に位置するセルと同様にセルの中心へのプラズマ集中を低減することができる。
本発明の装置は、本発明のプラズマ発生体と、プラズマ発生体の第1電極と第2電極とに接続され、第1電極と第2電極との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加するための電圧印加部とを備えたものである。これにより、第1電極と第2電極との間にプラズマ場を発生させることができる装置が得られる。
また、好ましくは、第1電極と第2電極との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加することにより、セル内にプラズマを発生させるとともに、セル内に流体を流入させるものである。これにより、第1電極と第2の電極との間のセル内を流れる流体に対して、良好にプラズマ反応をさせることができる。
また、好ましくは、流体が酸素であり、セル内に酸素を流入させることにより、オゾンを発生させるものである。これにより、プラズマ反応により酸素をオゾンに変化させることができるオゾン発生器となる。
また、好ましくは、流体が、炉或いは内燃機関からの排ガスであり、セル内に、排ガスを流入させる第1の流路と、セルから排出される被処理ガスを、セルから流出させる第2の流路とをさらに備えたものである。これにより、第1の流路を介して排ガスをプラズマ発生体のセルに良好に流入させることができる。したがってプラズマ発生体において排ガスをプラズマ反応により良好に浄化した被処理ガスとすることができる。そして、被処理ガスを第2の流路を介して放出させることができる。
本発明のプラズマ発生体の製造方法は、第1絶縁部、第2絶縁部、壁部、柱部が、セラミック生成形体を同時焼成することにより形成され、第1電極及び第2電極が、メタライズペーストをセラミック生成形体と同時に焼成することにより形成される。これによりプラズマ発生体を構成するセラミックスやメタライズが一体化し、長期間の使用や高温環境下での使用においても、プラズマ発生体の変形を小さなものにでき、セルの形状が安定する。
また、第1絶縁部、第2絶縁部、壁部、柱部は、セラミックスからなる。これにより、流体がセル内を通過する際に流体が接触する部位が、セラミックスとなるので、耐食性の高いプラズマ発生体が得られる。
これにより、セル内を通過するPMや酸化性成分等の流体を長期間にわたって安定して反応、分解させて良好に浄化することができる。
図1Aは、本発明のプラズマ発生体の実施の形態の一例を示す側面図であり、図1Bは、図1AのA方向から見た側面図である。 図2Aは、図1Aのプラズマ発生体のB−B’線における断面図、図2Bは、図1BのC−C’線における断面図、図2Cは、図1BのD−D’線における断面図である。 図3は、本発明のプラズマ発生体の実施の形態の一例を示す斜視図である。 図4は、本発明のプラズマ発生体の実施の形態の一例を示す断面図である。 図5は、本発明のプラズマ発生体の実施の形態の一例を示す断面図である。 図6は、本発明のプラズマ発生体の実施の形態の一例を示す断面図である。 図7は、本発明のプラズマ発生体の実施の形態の一例を示す断面図である。 図8Aは、第1電極の形成領域における本発明のプラズマ発生体の実施の形態の一例を示す断面図である。図8Bは、第2電極の形成領域における本発明のプラズマ発生体の実施の形態の一例を示す断面図である。図8Cは、セルの形成領域における本発明のプラズマ発生体の実施の形態の一例を示す断面図である。 図9Aおよび図9Bは、本発明のプラズマ発生体の実施の形態の一例を示す断面図である。 図10Aは、第1電極の形成領域における本発明のプラズマ発生体の実施の形態の一例を示す断面図である。図10Bは、第2電極の形成領域における本発明のプラズマ発生体の実施の形態の一例を示す断面図である。図10Cは、セルの形成領域における本発明のプラズマ発生体の実施の形態の一例を示す断面図である。 図11Aは、本発明のプラズマ発生体の実施の形態の一例を示す側面図であり、図11Bは、図11AのE方向から見た側面図、図11Cは、図11BのI部における要部拡大側面図である。 図12Aは、図11Aのプラズマ発生体のF−F’線における断面図、図12Bは、図11BのG−G’線における断面図、図12Cは、図11BのH−H’線における断面図である。 図13は、本発明のプラズマ発生体の実施の形態の一例を示す斜視図である。 図14Aは、は、本発明のプラズマ発生体の実施の形態の一例を示す側面図であり、図14Bは、は、図14AのJ方向から見た側面図、図14Cは、図14BのN部における要部拡大側面図である。 図15Aは、は、図14Aのプラズマ発生体のK−K’線における断面図、図15Bは、図14BのL−L’線における断面図、図15Cは、図14BのM−M’線における断面図である。 図16は、本発明のプラズマ発生体の実施の形態の一例を示す斜視図である。 図17は、本発明の装置の一例を示す斜視図である。 図18は、本発明の装置の一例を示す斜視図である。 図19は、本発明のプラズマ発生体の実施の形態の一例を示す断面図である。 図20は、本発明のプラズマ発生体の実施形態の変形例の要部を示す横断面図である。 図21は、本発明のプラズマ発生体の実施形態の変形例の要部を示す横断面図である。 図22は、本発明のプラズマ発生体の実施形態の変形例の要部を示す横断面図である。 図23は、本発明のプラズマ発生体の実施形態の変形例の要部を示す横断面図である。
符号の説明
1・・・第1電極部
2・・・第2電極部
3・・・第1電極
4・・・第2電極
5・・・第1絶縁部
6・・・第2絶縁部
7・・・壁部
8、8a〜8e・・・セル
9・・・柱部
10・・・外部端子
11・・・電圧印加部
12・・・第1の流路
13・・・第2の流路
14・・・仕切り
本発明のプラズマ発生体について説明する。図1Aは、本発明のプラズマ発生体の実施の形態の一例を示す平面図である。図1Bは、図1AのA方向から見た側面図である。図2Aは、図1AのB−B’線における縦断面図である。図2Bは、図1BのC−C’線における横断面図である。図2Cは、図1BのD−D’線における横断面図である。図3は、図1Aおよび図1Bにおけるプラズマ発生体の斜視図である。これらの図において、1は第1電極部、2は第2電極部、3は第1電極、4は第2電極、5は第1絶縁部、6は第2絶縁部、7は壁部、8はセル、9は柱部、10は外部端子である。
本発明のプラズマ発生体は、平板状の第1電極3を支持してなる第1電極部1と、第1電極部1に対向して配置されるとともに、平板状の第2電極4を支持してなる第2電極部2と、平面視でこれら電極部同士の対向面の外周部に設けられ、第1電極部1及び第2電極部2を支持する一対の壁部7とからなるセル8を備え、セル8内を流体が流れるプラズマ発生体であって、セル8内に、一端が第1電極部1に接合され、他端が第2電極部2に向かって延在された柱部9が形成されている。
なお、第1電極部1は、第1電極3とともに、第1電極3を支持するための第1絶縁部5を備えている。また、第2電極部2は、第2電極4とともに、第2電極4を支持するための第2絶縁部6を備えている。
第1絶縁部5および第2絶縁部6は、例えば、セラミックスから成る場合、酸化アルミニウム質焼結体、ムライト(mullite)質焼結体、窒化アルミニウム質焼結体、炭化珪素質焼結体、低温焼成セラミックス等の電気絶縁材料から成る。第1絶縁部5および第2絶縁部6が、酸化アルミニウム質焼結体から成る場合には、まず、アルミナ(Al)の原料粉末に適当な有機溶剤、溶媒を添加混合して泥漿状物を作製する。次に、この泥漿状物が、従来周知のドクターブレード(doctor blade)法やカレンダーロール(calender roll)法等により、例えば、シート状やブロック状に成形されて、セラミックグリーンシート等のセラミック生成形体が得られる。次に、これらのセラミック生成形体に、適当な打ち抜き加工が施される。なお、これらのセラミック生成形体は、必要に応じて複数枚あるいは複数個が積層される。そして、最後に高温(約1500〜1800℃)で焼成することによって製作される。
第1電極3および第2電極4は、第1絶縁部5および第2絶縁部6にそれぞれ支持されており、後述するセル8内にプラズマ場を発生させるための電極として機能する。すなわち、第1電極3や第2電極4は、第1絶縁部5や第2絶縁部6の互いの対向面側の表面や内部にそれぞれ被着されている。そして、第1電極3と第2電極4とが、互いに対向するように、第1絶縁部と第2絶縁部が対向して配置される。
そして、第1電極3および第2電極4は、それぞれその端部が第1絶縁部5、第2絶縁部6、壁部7の外表面まで導出されており、後述する外部端子10に電気的に接続される。これら第1電極3および第2電極4は、タングステンやモリブデン、銅、銀、白金、パラジウム、金等の金属粉末メタライズからなる場合、以下のようにして作製される。すなわち、スクリーン印刷法等の印刷手段を用いて、第1絶縁部5および第2絶縁部6用のセラミック生成形体の所定の位置に第1電極3および第2電極4用のメタライズペーストを塗布する。次に第1絶縁部5および第2絶縁部6用のセラミック生成形体と同時に焼成する。これにより第1電極部1および第2電極部2を所定のパターンに形成することができる。メタライズペーストは、主成分の金属粉末に有機バインダー、有機溶剤、必要に応じて分散剤等を加えてボールミル、三本ロールミル、プラネタリーミキサー等の混練手段により混合および混練することで製作される。セラミック生成形体の焼結挙動に合わせたり、焼結後の絶縁基板との接合強度を高めたりするためにガラスやセラミックスの粉末を添加しても良い。
そして、図2に示すように、第1電極3および第2電極4は、第1電極部1および第2電極部2の内部に配設されている、すなわち、第1電極3および第2電極4は、第1絶縁部5および第2絶縁部6により覆われており、表面には、露出しない。これにより、第1電極3および第2電極4がセル8内を通過する例えば腐食性の流体に直接接触することを抑制することができる。従って、流体により第1電極3および第2電極4が腐食し、プラズマ場の強度が低下する可能性を抑制することができる。なお、第1電極3および第2電極4が、酸化しやすいあるいは腐食しやすい金属、たとえばタングステンやモリブデン等からなり、第1電極3および第2電極4を第1絶縁部5および第2絶縁部6の表面に形成する際には、第1電極3および第2電極4の露出する表面には、ニッケルや金等の耐蝕性に優れる金属を被着しておくことが好ましい。また、プラズマ発生体を423K以上の高温の環境下にて使用する場合は、熱により金属同士の拡散が行われやすくなるので、ニッケルや金、白金等の耐蝕性に優れる金属を単層で被着しておいても構わない。例えば、ニッケル層と金層とを順次被着している場合、熱によりニッケルと金とが互いに拡散しあい、第1電極3または第2電極4が劣化してプラズマ場の強度が低下する可能性やプラズマ場の強度がばらつく可能性がある。このため、プラズマ発生体を高温の環境下にて使用する場合は、第1電極3および第2電極4の露出する表面に金層のみを0.1〜10μm程度被着させておいても構わない。なお、ニッケルと金との間にニッケルの拡散を防止するコバルトを含む拡散防止層を設けておいてもよい。
また、第1電極3と第2電極4との間隔は、必要とするプラズマ場の強度や第1電極3および第2電極4に印加する電圧等によって適宜決定される。例えば、ディーゼルエンジンの排気ガス中のPMや酸化成分等の流体を反応、分解して、浄化するプラズマ発生体における第1電極3と第2電極4との間隔は、0.5mm〜2.0mm程度とされる。
第1電極部1および第2電極部2の対向面の外周部には、一対をなす壁部7が設けられ、これにより第1電極部1および第2電極部2が、電極部1,2間の間隔が所定のものとなるように、側方から支持される。また、壁部7は、第1電極部1と第2電極部2との対向領域を両側から挟むことにより、第1電極部1と第2電極部2と壁部7とにより囲まれた領域であるセル8を形成し、壁部7が形成されていない2つの開口面を介して、このセル8内を流体が通過する。そして、このセル8内部に第1電極3と第2電極4とによりプラズマ場を発生させるとともに、PMや酸化性成分等の流体を通過させて、これらを良好に浄化することができる。
この壁部7は、例えば、セラミックスから成る場合、酸化アルミニウム質焼結体、ムライト質焼結体、窒化アルミニウム質焼結体、炭化珪素質焼結体、低温焼成セラミックス、窒化珪素質焼結体等の電気絶縁材料から成る。壁部7が、酸化アルミニウム質焼結体から成る場合には、まず、アルミナ(Al2O3)の原料粉末に適当な有機溶剤、溶媒を添加混合して泥漿状物を作製する。次に、この泥漿状物が、従来周知のドクターブレード法やカレンダーロール法等により、例えばシート状やブロック状に成形されて、セラミック生成形体が得られる。次に、これらのセラミック生成形体に適当な打ち抜き加工が施される。なお、これらのセラミック生成形体は、必要に応じて複数枚、或いは複数個積層される。そして、最後に高温(約1500〜1800℃)で焼成することによって製作される。
そして、上述した第1絶縁部5、第2絶縁部6、壁部7の外表面の所定の領域には、外部端子10が被着されている。外部端子10は、第1電極3と第2電極4との間に所定の電位差を生じさせるために、第1電極3および第2電極4のそれぞれと、外部電源やグランドとを電気的に接続している。外部端子10は、タングステンやモリブデン、銅、銀、白金、パラジウム、金等の金属粉末メタライズからなる。そして、以下の手法により作製される。すなわち、スクリーン印刷法等の印刷手段を用いて、第1絶縁部5、第2絶縁部6、壁部7用のセラミック生成形体の所定の位置に外部端子10用のメタライズペーストを塗布する。次に第1絶縁部5、第2絶縁部6、壁部7用のセラミック生成形体と同時に焼成する。これにより外部端子10がプラズマ発生体の所定の位置に形成される。外部端子10用のメタライズペーストは、第1電極3および第2電極4用のメタライズペーストと同様にして作製されるが、有機バインダーや有機溶剤の量により印刷に適した粘度に調製される。
あるいは、外部端子10は、種々の薄膜手法、たとえば、スパッタリングやCVD法により形成された薄膜金属からなっていてもよい。この場合、たとえば、焼成後のセラミック成形体の所定の領域に、薄膜パターンを形成することにより、容易に外部端子10が形成できる。
なお、外部端子10の露出する表面には、ニッケルや金等の耐蝕性に優れる金属を被着しておくことが好ましい。この場合、外部端子10が酸化腐食するのを防止するとともに、外部端子10と外部電源の電源端子との接合を強固なものとするために、厚みが1〜10μm程度のニッケルめっき層と厚みが0.1〜3μm程度の金めっき層とが順次被着されていることが好ましい。なお、外部端子10においても、上述と同様に、高温の環境下にて使用する場合には、ニッケルや金等の耐蝕性に優れる金属を単層として被着しておいても構わない。
そして、外部電源の電源端子が、圧接やろう付け等の接合手段により外部端子10に電気的に接続される。そして、外部端子10を通じて第1電極3と第2電極4との間に電位差を生じさせると、第1電極3と第2電極4との対向領域(平面視で第1電極3と第2電極4とが重畳する領域)にプラズマ場を発生させることができる。これによりセル8内を通過する流体は、第1電極3と第2電極4との間のプラズマ場を通過する。このプラズマ場で、流体の反応、分解等の浄化作用が生じる。例えばNO(窒素酸化物)の場合は、下記の反応(1)および(2)によりNOが分解、NおよびOが生成される。
2NO → 2NO+O ・・・・・・・・・・・(1)
2NO+O → N+2O・・・・・・・・・・(2)
なお、第1電極3と第2電極4との間にプラズマ場を発生させるために、周波数の高い交流電圧が印加される。印加される交流電圧は、必要とされるプラズマ場の強度等によって適宜選択される。例えば、ディーゼルエンジンの排気ガス中のPMや酸化成分等の流体を反応、分解して、浄化するプラズマ発生体において印加される交流電圧は、0.3KV〜50KV、その周波数は、例えば、10MHz〜100MHzである。
そして、本発明においては、セル8内に、一端が第1電極部1に接合され、他端が第2電極部2に向かって延在された柱部9が形成されている。この柱部9により第1電極部1および第2電極部2とを支持して熱応力や圧力によりセル8が変形することを抑制できる。従って第1電極部1と第2電極部2との間隔が大きく変化することを抑制することができ、セル内8に発生するプラズマ場の強度のばらつきやプラズマ発生体の破損を抑制することができる。
尚、本発明において、柱部9とは、セル8内に設けられており、流体の入り口となるセル8の一方側の開口面から、流体の出口となるセル8の他方側の開口面まで到達するように延在され、セル8を複数の空間に分割する仕切りとなるものは含まない。
この柱部9が第1電極部1から第2電極部2まで延在されている場合は、柱部9が第2電極部2まで到達しない場合、すなわち柱部9の先端と第2電極部2との間に間隙がある場合に比較して、プラズマ発生体の変形を抑制する効果が大きい。或いは、応力緩和のために若干の変形は許容するものの一定以上の変形は抑制したい場合は、柱部9と第2電極部2との間に間隙を設け、一定以上の変形が生じた場合に初めて、柱部9が第2電極部に当接するように成せばよい。
また、流体の温度が高くなると、流体の反応、分解は促進されやすくなる。プラズマ発生体を稼動させた際に発生した熱は、第1電極部1、第2電極部2、壁部7、柱部9に蓄積され、これらの熱は、セル8内を流体が通過する際に、流体に伝達される。従って、柱部9を設けることにより、セル8内を通過する流体は、柱部9の表面にも接触しながら流れていくため、より多くの熱量を流体に伝達させて、セル8内を通過するPMや酸化性成分等の流体の反応、分解を促進させることができる。
これにより、セル6内を通過するPMや酸化性成分等の流体を良好に反応、分解させて浄化することができる。
また、セル8内を通過する流体により、プラズマ発生体の熱を伝達させて放出しやすくなるので、プラズマ発生体が高温になりすぎて破損する可能性を低減することができる。
柱部9は、例えばセラミックスから成る場合、酸化アルミニウム質焼結体、ムライト質焼結体、窒化アルミニウム質焼結体、炭化珪素質焼結体、低温焼成セラミックス等の電気絶縁材料が好適に用いられる。柱部9が、酸化アルミニウム質焼結体から成る場合には、アルミナ(Al)、シリカ(SiO)、カルシア(CaO)、マグネシア(MgO)等の原料粉末に適当な有機溶剤、溶媒を添加混合して泥漿状となすとともにこれを従来周知のドクターブレード法やカレンダーロール法等を採用し、シート状に成形することによってセラミック生成形体を得、次にセラミック生成形体に適当な打ち抜き加工を施すとともに必要に応じて複数枚積層し、高温(約1800K〜2100K)で焼成することによって製作される。
次に、本発明のプラズマ発生体の他の実施の形態を、図4に示す。この図に示すように、プラズマ発生体は、複数のセル8が複数積層されたものであっても良い。ここで複数のセル8が積層されるとは、第1電極部1と第2電極部2との間のセル8が複数積み重ねられた状態、すなわちPMや酸化性成分等の流体を通過させる領域であるセル8が、第1電極部1から第2電極部2に向かう方向に沿って複数形成されている状態をいう。具体的には、第1電極3の上下にそれぞれ第2電極4,4’を配置して、第1電極3と第2電極4との間および第1電極3と第2電極4’との間にそれぞれプラズマ場を発生させられるようにすることをいい、第1のセル8’内と第2のセル8’’内とを通過する流体を反応、分解させて浄化することができる。なお、図4においては、複数のセル8のそれぞれを第1のセル8’および第2のセル8’’として示しており、第1のセル8’内および第2のセル8’’内に配設されたそれぞれの柱部9を第1の第1の柱部9’および第2の柱部9’’として示している。
また、図4に示すように、セル8が複数積層されており、第1のセル8’内に設けられた第1の柱部9’と、第1のセル8’上に積層された第2のセル8’’内に設けられた第2の柱部9’’とは、平面視において重畳して配置されていることが好ましい。上記構成により、セル8が複数積層されたプラズマ発生体においても、積層方向からの応力に対して強固な構造とできるので、セル8が変形することを抑制することができ、第1電極部1と第2電極部2との間隔を一定に保持して、セル6内に発生するプラズマ場の強度のばらつきやプラズマ発生体の破損を抑制することができる。これにより、プラズマ発生体のそれぞれのセル8内を通過するPMや酸化性成分等の流体を良好に反応、分解させて浄化することができる。
また、図5、図6の縦断面図に示すように、より多くのセル8が積層されたものであっても構わない。このように多数のセル8を積層したとしても、柱部9があることにより、変形に対して十分な強度を持つプラズマ発生体が得られる。そして、それぞれのセル8内にPMや酸化性成分等の流体を通過させるとともに、反応、分解させて浄化することができるので、効率良く流体の浄化を行うことができる。なお、図5に示すように、第1電極3(3、3’、3’’)同士や第2電極4(4、4’、4’’)同士は、第1絶縁部5、第2絶縁部6、壁部7等の外表面に導出された外部端子10に共通に接続してもよいし、図6に示すように、第1絶縁部5、第2絶縁部6、壁部7等の内部を貫通する貫通導体により外部端子8に共通に接続してもよい。
なお、このような貫通導体は、第1電極3および第2電極部4用のメタライズペーストの塗布に先立って第1絶縁部5、第2絶縁部6、壁部7用のセラミック生成形体に金型やパンチングによる打ち抜き方法またはレーザ加工法等の加工方法により貫通導体用の貫通孔を形成し、この貫通導体用の貫通孔にメタライズペーストをスクリーン印刷法等の印刷手段により充填しておくとともに、これを第1絶縁部5、第2絶縁部6、壁部7用のセラミック生成形体と同時焼成することによって形成される。貫通導体用のメタライズペーストは、第1電極3および第2電極4用のメタライズペーストと同様にして作製されるが、有機バインダーや有機溶剤の量により充填に適した粘度に調製される。
なお、図4〜図6に示したように、複数のセル8を積層させる場合、第1電極3および第2電極4とは、交互に対向して配設される。
また、柱部9は、一つのセル8内に複数設けられていることが好ましい。この構成により、複数の柱部9により第1絶縁部5と第2絶縁部6とを安定して支持し、セル6が変形することをより良好に抑制することができるので、第1電極部1と第2電極部2との間隔を一定に保持することができ、セル8内に発生するプラズマ場の強度のばらつきやプラズマ発生体の破損を抑制することができる。これにより、セル8内を通過するPMや酸化性成分等の流体をより良好に反応、分解させて良好に浄化することができる。
また、図7に示すように、柱部9は、その平面視形状が、円形状をなしていることが好ましい。これにより、熱や圧力による応力がどの方向から印加されたとしても、柱部9の損壊が抑制される。このように柱部9の耐久性を高めたことから、長期間の使用や高温環境下での使用等において、柱部9をセル8内に安定して配設させ、セル8の形状を安定したものとすることができる。これにより、長期間にわたって、セル8内を通過するPMや酸化性成分等の流体を良好に反応、分解させて良好に浄化することができる。
また、柱部9を円形状とすることにより、柱部9を三角形状や四角形状等に形成した場合と比較して、流体が柱部9に円滑に沿って流れやすくするので、柱部9によりセル8内において流体9の密度や流速のばらつきが発生してしまうことを抑制して、セル8内に流体を均一に通過させることができる。
また、複数の柱部9は、流体が流れる方向からみたときに、互いに重畳しないようにずれて配置されていることが好ましい。この構成により、セル8内を通過する流体がそれぞれの柱部8に接触しやすくなるので、プラズマ発生体を稼動させた際に発生する熱や、柱部9に蓄積された熱を、セル8内を通過する流体に伝達させやすくなり、セル8内を通過するPMや酸化性成分等の流体の反応、分解を促進させることができる。これにより、セル8内を通過するPMや酸化性成分等の流体をより良好に反応、分解させて良好に浄化することができる。例えば、流体の流れる方向に直交する方向(直交方向)に配列された隣接する柱部9に対して、これよりも下流側に位置する柱部9が、直交方向において隣接する柱部9間に位置するように配置されているとよい。なお、柱部9を均等に点在させて配列していると、上記効果をより向上させやすくすることができるので好ましい。
また、図8〜図10に示すように、柱部9は、平面視で第1電極3と第2電極4との対向面の外側に設けられていてもよい。図8は、本発明のプラズマ発生体の他の実施の形態である。図8Aは、第1電極3の形成領域における横断面図である。図8Bは、第2電極4の形成領域における横断面図である。図8Cは、セル8の形成領域における横断面図を示している。図9A、図9Bともにセル8内部におけるプラズマ発生体の一例を示す横断面図である。なお、図8C、図9A、図9Bにおいて、破線は第1電極3と重畳する領域、点線は第2電極4と重畳する領域を示しており、図8A、図8Bにおいて、一点鎖線は、柱部9と重畳する領域を示している。これらの図に示されるように、柱部9は、破線および点線の両方にて囲まれた領域外(平面視で第1の電極3と第2電極4との対向面と重ならない領域)に形成される。上記構成により、柱部9は、セル8内に発生するプラズマ場よりも外側に設けられ、セル8内の第1電極3と第2電極4との対向面に発生するプラズマ場が柱部9に与える影響は小さくなる。従って長期間プラズマに晒されることにより柱部9が徐々に削られてしまい、柱部9の機能が損なわれ、その結果、セル8が変形することを抑制することができる。従ってセル8内に発生するプラズマ場の強度のばらつきやプラズマ発生体の破損を抑制することができる。これにより、セル8内を通過するPMや酸化性成分等の流体を極めて長期間にわたって良好に反応、分解させて浄化することができる。
また、図10に示すように、柱部9は、セル8の開口部とセル8の内側とに設けられている際、柱部9と重畳する領域の周囲を、第1電極3または第2電極4の非形成領域とし、柱部9は、平面視で第1電極3と第2電極4との対向面と重ならないようにしても構わない。図10は、本発明のプラズマ発生体の実施の形態の一例である。図10Aは、第1電極3の形成領域における横断面図である。図10Bは、第2電極4の形成領域における横断面図である。図10Cは、セル8の形成領域における横断面図を示している。なお、上述の図8および図9と同様に、図10Cにおける破線は、第1電極3が重畳する領域、点線は、第2電極4が重畳する領域を示しており、図10A、図10Bにおける一点鎖線は、柱部9が重畳する領域を示している。
また、第1絶縁部5、第2絶縁部6、壁部7、柱部9は、同一材料からなることが好ましい。第1絶縁部5、第2絶縁部6、壁部7、柱部9の熱特性を同一なものとできる。すなわち、第1絶縁部5、第2絶縁部6、壁部7、柱部9の熱膨張の差が小さい、或いは熱膨張率を等しくできるので、第1絶縁部5、第2絶縁部6、壁部7、柱部9間における熱応力が発生することを抑制し、セル8の形状が熱により変形することを抑制することができる。これにより、セル8内を通過するPMや酸化性成分等の流体を均一に反応、分解させて浄化することができる。
また、図11〜図13に示すように、柱部9がセル内に設けられており、且つ第1電極部1から第2電極部2に向かう方向(図11〜図13では上下方向)において、セル8の中央部における柱部9の太さW1が、セル8の両端部における柱部9の太さW2、W3よりも太いことが好ましい。なお、ここでいう太さとは、流体の流れる方向に直交する平面で、柱部9を切断した場合の太さをいう。
図11Aは、本発明のプラズマ発生体の実施の形態の一例を示す平面図である。図11Bは、図11AのE方向から見た側面図である。図11Cは、図11BのI部における要部拡大側面図である。また、図12Aは、図11AのF−F’線における縦断面図である。図12Bは、図11BのG−G’線における横断面図である。図12Cは、図11BのH−H’線における横断面図である。また、図13は、図11におけるプラズマ発生体の斜視図である。なお、上述において、セル8を第1電極部1から第2電極部2に向かう方向(図11〜図13では上下方向)に均等な高さの3つの領域に分けた時に、中央部に位置する領域を中央部、その周囲(図13では上下)に位置する領域を両端部という。
そして上記構成により、柱部9間におけるセル8を通過する流体の前記中央部における流速が、両端部における流速よりも早くなり、セル8内のプラズマを移動させて柱部9間におけるセル8の中心付近にプラズマ集中することが低減される。従ってセル8内のプラズマ場のばらつきが小さくなり、セル8内を通過するPMや酸化性成分等の流体を反応、分解させて、効率よく処理することができる。
このような柱部9は、例えば、3枚以上のセラミック生成形体を積層することにより形成される。例えば、3枚のセラミック生成形体を積層して形成する場合、まず、柱部9となる中央部用のセラミック生成形体1枚と両端部用のセラミック生成形体2枚とをそれぞれ準備する。なお、中央部用のセラミック生成形体は、両端部用のセラミック生成形体よりも、平面視における径が大きく形成されている。そして、これらのセラミック生成形体を、上述の条件(W1>W2、W1>W3)となるように積層することにより柱部9が作製される。なお、更に多くのセラミック生成形体を積層して形成するであっても、上述と同様に中央部或いは両端部において、中央部寄りのセラミック生成形体の幅が両端部寄りのセラミック生成形体の幅よりも幅広となるようにして積層しても構わない。
また、図14〜図16に示すように、柱部9は、第1電極部1から第2電極部2に向かう方向において、セル8の両端からセル8の中央に向かうにつれて、漸次太くなることが好ましい。なお、図14Aは、本発明のプラズマ発生体の実施の形態の一例を示す平面図である。図14Bは、図14AのJ方向から見た側面図である。図14Cは、図14BのN部における要部拡大側面図である。図15Aは、図14AのK−K’線における縦断面図である。図15Bは、図14BのL−L’線における横断面図である。図15Cは、図14BのM−M’線における横断面図である。図16は、図14におけるプラズマ発生体の斜視図である。
そして、上記構成により、セル8内を通過するPMや酸化性成分等の流体を効率よく処理することができるとともに、柱部9への局所的な応力の集中を抑制し、プラズマ発生体の破損を抑制することができる。
このような柱部9は、柱部9となるセラミック生成形体の厚み方向(第1電極部1から第2電極部2に向かう方向;あるいは積層方向)に柱部9が両端から中央に向かうにつれて漸次太くなるように圧力を印加することによりに製作することができる。例えば、この柱部9となるセラミック生成形体に、第1絶縁部5あるいは第2絶縁部6となるセラミック生成形体を積層する際に、漸次太くなるように圧力を印加しながら積層すればよい。なお、柱部9となるセラミック生成形体に予め圧力を印加して漸次太くなるように形成した後、柱部9となるセラミック生成形体に第1絶縁部5あるいは第2絶縁部6のセラミック生成形体を積層しても良い。
また、図11〜図16で示したように、一対の壁部7の内壁面は、第1電極部1から第2電極部2に向かう方向(図11〜図16では上下方向)における中央部が両端部よりも内側に向かって突出している領域を有することが好ましい。これにより、壁部7と柱部9との間に位置するセル8において、上述のような柱部9の太さを太くなしている柱部9間に位置するセル8と同様にセル8の中心へのプラズマ集中を低減することができる。
次に本発明のプラズマ発生体の製造方法の一例を説明する。本発明のプラズマ発生体の製造方法は、上述で縷々述べた製造方法のほかに、以下のようにして作製してもよい。すなわち、第1絶縁部5、第2絶縁部6、壁部7、柱部8が、セラミック生成形体を同時焼成することにより形成され、また第1電極3及び第2電極4が、メタライズペーストを第1絶縁部5、第2絶縁部6用のセラミック生成形体と同時に焼成することにより形成されてもよい。このような製造方法に得られたプラズマ発生体は、各部材同士、例えば第1絶縁部5と壁部7等が、ネジ留めや嵌合されたものと異なり、同時焼成により一体化しているので、セル内の機密性が高く、流体が、開口面以外の部位から、例えばネジ留め部から外部に漏れるといったことが抑制できる。
また、第1絶縁部5、第2絶縁部6、壁部7、柱部9がセラミックスからなることから、流体がセル8内を通過する際に接触する第1絶縁部5、第2絶縁部6、壁部7、柱部9は耐蝕性に優れている。このため、PMや酸化性成分等の流体によりプラズマ発生体が腐食する可能性を低減させることができる。これにより、セル8内を通過するPMや酸化性成分等の流体を長期間にわたって安定して反応、分解させて良好に浄化することができる。
以下に、プラズマ発生体の製造方法を説明する。まず、第1絶縁部5、第2絶縁部6、壁部7、柱部9用のセラミック生成形体を準備する。次に、第1絶縁部5および第2絶縁部6用のセラミック生成形体に、スクリーン印刷法等の印刷手段により第1電極3及び第2電極4用のメタライズペーストを塗布する。この後、第1絶縁部5、第2絶縁6、壁部7、柱部9用のセラミック生成形体を積層してセラミック生積層体を作製する。そして、セラミック生積層体に外部端子10用のメタライズペーストを塗布する。この後、高温で焼成することにより、第1絶縁部5、第2絶縁部6、壁部7、柱部9、第1電極3、第2電極4、外部端子10が焼結一体化したプラズマ発生体を形成することができる。なお、第1絶縁部5、第2絶縁部6、壁部7、柱部9が酸化アルミニウム質焼結体からなる場合は、約1800K〜2100Kにて焼成することにより焼結一体化することができる。
なお、壁部7および柱部9は同一積層面に形成されるので、壁部7用と柱部9用のセラミック生成形体をそれぞれ別に用意する必要は無く、単一のセラミック生成形体に適当な打ち抜き加工等を施すことにより、効率良く壁部7用と柱部9用のセラミック生成形体を得ることができる。そして、第2絶縁部6用のセラミック生成形体上に柱部用及び壁部用のセラミック生成形体を積層し、さらにこの上に第1絶縁部5用のセラミック生成形体を積層することによりセラミック生積層体を形成することができる。セラミック生積層体を焼成することにより、プラズマ発生体が形成される。
なお、上述で示したような第1絶縁部5用のセラミック生成形体の内部に第1電極3を形成する場合は、以下のようにして形成することができる。すなわち、2枚の第1絶縁部5用のセラミック生成形体を準備し、1枚目の第1絶縁部5用のセラミック生成形体上に第1電極3用のメタライズペーストを塗布した後、2枚目の第1絶縁部5用のセラミック生成形体を第1電極3用のメタライズペーストを被覆するようにして1枚目の第1絶縁部5用のセラミック生成形体上に積層しておくことにより、第1絶縁部5の内部に第1電極3を形成することができる。第2電極4についても同様な方法により第2絶縁部6の内部に形成することができる。
上述のようにセラミック生成形体を積層する方法を採用することにより、プラズマ発生体の強度やセル8の形状および柱部9の位置精度等を容易に良好なものとできるが、その他の方法によりプラズマ発生体を形成しても構わない。例えば、柱部9は、セラミック生成形体よりも粘性の低い液状のセラミックペーストを焼結させて形成したものであっても構わない。
このようなセラミックペーストは、主成分のセラミック粉末に有機バインダー、有機溶剤、必要に応じて分散剤等を加えてボールミル、三本ロールミル、プラネタリーミキサー等の混練手段により混合および混練することで製作される。
このセラミックペーストも、第1絶縁部5、第2絶縁部6、壁部7とともに同時に焼成して形成されるため、焼結後にはこれら第1絶縁部5、第2絶縁部6、壁部7と実質的に同一成分からなっていることが好ましい。
そして、本発明の装置は、図17に例示的に示すように、上述のプラズマ発生体と、プラズマ発生体の第1電極3と第2電極4とに接続され、第1電極3と第2電極4との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加するための電圧印加部11とを備えている。これにより、第1電極3と第2電極4との間にプラズマ場を発生させることができる。
そして、本発明の装置において、第1電極3と第2電極4との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加することにより、第1の絶縁部5と第2の絶縁部6とが対向するセル8内にプラズマを発生させるとともに、セル8に流体を流入させるものである。これにより、第1電極3と第2電極4との間のセル8を流れる流体に対して、良好にプラズマ反応をさせることができる。このような装置は、例えば、流体をプラズマ反応させるプラズマ発生体として使用される。
具体的な一例としては、本発明の装置は、流体が酸素であり、セル8に酸素を流入させるものである。これにより、プラズマ反応により良好に酸素をオゾンに変化させることができる。このような装置は、例えば、オゾン発生器として使用することができる。
或いは、本発明の装置は、流体がタバコの煙やカビ、埃等を含んだ空気であり、セル8に前記空気を流入させるものである。そして、プラズマ反応により良好に前記空気を浄化することができる。このような装置は、例えば、空気清浄機として使用することができる。
或いは、図18に示すように本発明の装置は、流体が、炉或いは内燃機関からの排ガスであり、セル8に排ガスを流入させる第1の流路12と、セル8から排出される被処理ガスを、セル8から流出させる第2の流路13とをさらに備えている。このような装置は、例えば、自動車、船舶、発電機等に使用されるエンジン等の排ガスを浄化する排ガス処理装置として使用することができる。これにより、第1の流路12を介して排ガスをプラズマ発生体のセル8に良好に流入させることができるので、プラズマ発生体において排ガスを、プラズマ反応により良好に浄化された被処理ガスとすることができる。そして、被処理ガスを第2の流路13を介して放出させることができる。
なお、上述の装置にプラズマ発生体以外の排気ガスの浄化機構を取り付けておいても良い。例えば、プラズマ発生体の前後にフィルターや触媒を付着しても良く、これにより排気ガス中のPMや酸化成分等の流体の排出をさらに低減させることができる。このようなフィルターとして、セラミック製のDPF(Diesel Particulate Filter)等があり、触媒として白金等を用いることができる。
また、本発明のプラズマ発生体を構成する第1、2絶縁部5,6、壁部7、柱部9等の各部材がセラミックスからなる場合、これら各部材と上述のDPFを構成するセラミックスとを再焼結することにより一体化させてもよい。これにより、プラズマ発生体とDPFとをネジ等により固定する場合と比較して、両者の接合部から流体が漏れることを抑制できる。
なお、本発明は、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば種々の変更は可能である。例えば、上述の実施例以外の用途に使用されプラズマ発生体や装置に適用しても良い。
たとえば、図19に示すように、セル8を複数の空間8a〜8dに区分けし、流体が流れる複数の空間8a〜8dを、流体が一方の開口面から他方の開口面まで完全に別れて流れるようになした仕切り14が形成されていてもよい。なお、このような仕切り14は、上述の柱部9の場合と同様な方法により形成することができる。
図20は、本発明のプラズマ発生体の実施形態の変形例の要部を示す横断面図である。図20においては、図2Cと同様に、プラズマ発生体をy方向に切断した際に、z方向を視線として示される断面の要部について図示している。
本変形例のプラズマ発生体は、図20に示すように、柱部9および仕切り14の形態が、他の実施形態と異なる。この点を除き、他の実施形態と同様である。このため、他の実施形態と重複する個所に関しては、説明を省略する。
図20に示すように、本変形例のプラズマ発生体は、壁部7と、柱部9と、仕切り14とを有している。
本変形例のプラズマ発生体において、壁部7は、他の実施形態と同様に、図20に示すように、一対がセル8を隔てて互いに対面している。この一対の壁部7は、その対面する面7sが互いに平行であって、そのセル8に流入する流体の流れ方向FLに延在している。すなわち、互いに対面する一対の壁部7によって区画される空間であるセル8において、流体が流入する入口の面S1と、その流体が流出する出口の面S2とに対して垂直な方向yに沿うように、その一対の壁部7が互いに対面する面7sが対面している。
柱部9は、他の実施形態と同様に、図20に示すように、セル8に設けられている。柱部9は、図20に示すように、板状であって、複数が設けられている。たとえば、柱部9は、そのセル8の内部において、3つ配置されている。そして、この複数の柱部9のそれぞれは、いずれも同じ厚みであり、流体が流入する入口の面S1と、その流体が流出する出口の面S2との間において、そのセル8に流入する流体の流れ方向FLに対して、平行ではなく、傾斜する傾斜面9sを含むように延在している。たとえば、柱部9は、セル8に流入する流体の流れ方向FLに対して傾斜する角度αが、45°になるように、その傾斜面9sが形成されている。また、この複数の柱部9のそれぞれは、流体が流入する入口の面S1の側に位置する一端部が、その入口の面S1から間隔を隔てるように配置されている。そして、さらに、複数の柱部9のそれぞれは、流体が流出する出口の面S2の側に位置する他端部が、その出口の面S2から間隔を隔てるように配置されている。
仕切り14は、柱部9と同様に、図20に示すように、セル8に設けられている。仕切り14は、図20に示すように、板状であって、単数であり、複数の柱部9の間に介在しており、セル8を複数に区分けしている。この仕切り14は、柱部9と同様な厚みであり、図20に示すように、セル8に流入する流体の流れ方向FLに対して、平行ではなく、傾斜する傾斜面14sを含むように延在している。たとえば、仕切り14は、柱部9と同様に、セル8に流入する流体の流れ方向FLに対して傾斜する角度αが、45°になるように、その傾斜面14sが形成されている。しかし、仕切り14は、柱部9と異なり、流体が流入する入口の面S1の側に位置する一端部が、その入口の面S1から間隔を隔てずに、入口の面S1に接するように配置されている。そして、さらに、仕切り14は、柱部9と異なり、一対の壁部7によって区画されるセル8において、流体が流出する出口の面S2の側に位置する他端部が、その出口の面S2から間隔を隔てずに、出口の面S2に接するように配置されている。なお、仕切り14は、セル8において、複数配置されていても良い。
以上のように、本変形例のプラズマ発生体は、図20に示すように、柱部9と仕切り14とが、セル8に流入する流体の流れ方向FLに対して傾斜する傾斜面9s,14sを有している。このため、本変形例においてセル8に流入された流体は、その傾斜面9s,14sによって、入口から出口へ通過する間の距離が長くなり、そのセル8の内部に滞留する滞留時間が長くなる。したがって、本変形例によれば、このセル8において発生するプラズマ場を効果的に利用できるので、セル8に流入された流体を好適に処理することができる。
図21は、本発明のプラズマ発生体の実施形態の変形例の要部を示す横断面図である。図21においては、プラズマ発生体をy方向にて切断した際に、z方向を視線として示される断面の要部について図示している。
本変形例のプラズマ発生体は、図21に示すように、壁部7の形態が、図20を用いて示した変形例と異なる。この点を除き、図20を用いて示した変形例と同様である。このため、図20を用いて示した変形例と重複する個所に関しては、説明を省略する。
本変形例のプラズマ発生体において、壁部7は、図21に示すように、一対がセル8を隔てて互いに対面している。この一対の壁部7は、その対面する面7sが互いに平行になるように形成されている。しかしながら、この一対の壁部7において対面する面7sは、図21に示すように、そのセル8に流入する流体の流れ方向FLに平行でなく、傾斜している。ここでは、一対の壁部7は、柱部9および仕切り14と同様に、セル8に流入する流体の流れ方向FLに対して傾斜する角度αが、たとえば、45°になるように、その面7sが形成されている。
以上のように、本変形例のプラズマ発生体は、図21に示すように、壁部7が、柱部9および仕切り14と同様に、セル8に流入する流体の流れ方向FLに対して傾斜する面7sを有している。このため、本変形例においてセル8に流入された流体は、壁部7の近傍においても、入口から出口へ通過する間の距離が長くなり、そのセル8の内部に滞留する滞留時間が長くなる。したがって、本変形例によれば、さらに、このセル8において発生するプラズマ場を効果的に利用できるので、セル8に流入された流体を好適に処理することができる。
図22は、本発明のプラズマ発生体の実施形態の変形例の要部を示す横断面図である。図22においては、プラズマ発生体をy方向に切断した際に、z方向を視線として示される断面の要部について図示している。
本変形例のプラズマ発生体は、図22に示すように、柱部9および仕切り14の形態が、図20を用いて示した変形例と異なる。この点を除き、図20を用いて示した変形例と同様である。このため、図20を用いて示した変形例と重複する個所に関しては、説明を省略する。
本変形例のプラズマ発生体において、柱部9は、図22に示すように、板状であって、一対の壁部7によって区画されるセル8に、複数が設けられている。たとえば、柱部9は、そのセル8の内部に3つ配置されている。しかしながら、本変形例においては、図20を用いて示した変形例と異なり、この複数の柱部9のそれぞれは、そのセル8に流入する流体の流れ方向FLに対して、平行な面9sを含むように延在している。
仕切り14は、図22に示すように、板状であって、一対の壁部7によって区画されるセル8に、設けられている。しかしながら、本変形例においては、仕切り14は、図20を用いて示した変形例と異なり、そのセル8の内部に複数配置されている。そして、さらに、この複数の仕切り14のそれぞれは、柱部9と同様に、そのセル8に流入する流体の流れ方向FLに対して、平行な面14sを含むように延在している。
そして、本変形例においては、柱部9と仕切り14とのそれぞれは、柱部9と仕切り14とのそれぞれの間の距離が、一対の壁部7が対面する間の中央部よりも、端部の側において長くなるように、配置されている。具体的には、図22に示すように、2つの仕切り14は、その一対の壁部7が対面するx方向において、その一対の壁部7の間の中央部に第1の距離D1を隔てて並ぶように配置されている。そして、複数の柱部9において、2つの柱部9は、その一対の壁部7が対面するx方向において、その仕切り14から端部の側にて、中央部に配置された2つの仕切り14のそれぞれから、第1の距離D1よりも長い第2の距離D2を隔てて並ぶように配置されている。そして、さらに、他の柱部9は、その一対の壁部7が対面するx方向において、別の柱部9から端部の側に、その第2の距離D1よりも長い第3の距離D3を隔てて並ぶように配置されている。
以上のように、本変形例のプラズマ発生体は、図22に示すように、柱部9と仕切り14とのそれぞれの間の距離が、一対の壁部7が対面する間の中央部よりも端部の側において長くなるように、柱部9と仕切り14とがセル8に配置されている。このように、本変形例のプラズマ発生体は、セル8において変形しやすい中央部において、柱部9または仕切り14が密に設けられている。したがって、本変形例によれば、プラズマ発生体の機械的強度を向上させることができるので、セル8が変形することを効果的に防止することができる。
図23は、本発明のプラズマ発生体の実施形態の変形例の要部を示す横断面図である。図23においては、プラズマ発生体をy方向に切断した際に、z方向を視線として示される断面の要部について図示している。
本変形例のプラズマ発生体は、図23に示すように、柱部9および仕切り14の形態が、図22を用いて示した変形例と異なる。この点を除き、図22を用いて示した変形例と同様である。このため、図22を用いて示した変形例と重複する個所に関しては、説明を省略する。
本変形例のプラズマ発生体において、柱部9は、図23に示すように、板状であって、一対の壁部7によって区画されるセル8に、複数が設けられている。たとえば、柱部9は、そのセル8の内部に3つ配置されており、図22を用いて示した変形例と同様に、この複数の柱部9のそれぞれは、そのセル8に流入する流体の流れ方向FLに対して、平行な面9sを含むように延在している。
仕切り14は、図23に示すように、板状であって、一対の壁部7によって区画されるセル8に、設けられている。本変形例においては、仕切り14は、セル8の内部に1つ配置されており、柱部9と同様に、そのセル8に流入する流体の流れ方向FLに対して、平行な面14sを含むように延在している。
この柱部9と仕切り14とのそれぞれは、厚みが、一対の壁部7が対面する間の中央部よりも、端部の側において厚くなるように、配置されている。具体的には、図23に示すように、その一対の壁部7が対面するx方向において、その一対の壁部7の間の中央部に配置された柱部9と仕切り14とのそれぞれは、第1の厚みT1になるように配置されている。その一対の壁部7が対面するx方向において、その一対の壁部7の間の端部に配置された柱部9のそれぞれは、第1の厚みT1よりも薄い第2の厚みT2になるように配置されている。
以上のように、本変形例のプラズマ発生体は、図23に示すように、柱部9と仕切り14とのそれぞれは、一対の壁部7が対面する間の中央部よりも、端部の側において厚い。このように、本変形例のプラズマ発生体は、セル8において変形しやすい中央部において、
端部に配置したものよりも、厚みが厚い柱部9または仕切り14を配置している。したがって、本変形例によれば、プラズマ発生体の機械的強度を向上させることができるので、セル8が変形することを効果的に防止することができる。

Claims (15)

  1. 平板状の第1電極を支持してなる第1電極部と、
    該第1電極部に対向して配置されるとともに、平板状の第2電極を支持してなる第2電極部と、
    平面視でこれら電極部同士の対向面の外周部に設けられ、前記第1電極部及び前記第2電極部を支持する一対の壁部と、からなるセルを備え、
    前記セル内を流体が流れるプラズマ発生体であって、
    前記セル内に、一端が前記第1電極部に接合され、他端が前記第2電極部に向かって延在された柱部が形成されていることを特徴とするプラズマ発生体。
  2. 前記セルが複数積層されており、第1のセル内に設けられた第1の柱部と、前記第1のセル上に積層された第2のセル内に設けられた第2の柱部とは、平面視において重畳して配置されていることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ発生体。
  3. 前記柱部は、一つの前記セル内に複数設けられていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のプラズマ発生体。
  4. 前記柱部は、その平面視形状が、円形状をなしていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載のプラズマ発生体。
  5. 前記複数の柱部は、前記流体が流れる方向からみたときに、互いに重畳しないようにずれて配置されていることを特徴とする請求項3に記載のプラズマ発生体。
  6. 前記第1電極部は、平板状の第1電極及び、これを支持する第1絶縁部を備え、前記第2電極部は、平板状の第2電極及び、これを支持する第2絶縁部を備え、
    前記柱部は、平面視で前記前記第1電極と前記第2電極との対向面の外側に設けられていることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに記載のプラズマ発生体。
  7. 前記第1電極部は、平板状の第1電極及び、これを支持する第1絶縁部を備え、前記第2電極部は、平板状の第2電極及び、これを支持する第2絶縁部を備え、
    前記第1絶縁部、前記第2絶縁部、前記壁部、前記柱部が、同一材料からなることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれかに記載のプラズマ発生体。
  8. 前記柱部は、前記第1電極部から前記第2電極部に向かう方向において、前記セルの中央部における前記柱部の太さが、前記セルの両端部における前記柱部の太さよりも太いことを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれかに記載のプラズマ発生体。
  9. 前記柱部は、前記第1電極部から前記第2電極部に向かう方向において、前記セルの両端から前記セルの中央に向かうにつれて、漸次太くなることを特徴とする請求項8に記載のプラズマ発生体。
  10. 前記一対の壁部の内壁面は、前記第1電極部から前記第2電極部に向かう方向における中央部が両端部よりも内側に向かって突出している領域を有することを特徴とする請求項8または9に記載のプラズマ発生体。
  11. 請求項1乃至請求項10のいずれかに記載のプラズマ発生体と、
    前記プラズマ発生体の前記第1電極と前記第2電極とに接続され、前記第1電極と前記第2電極との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加するための電圧印加部と、を備えた装置。
  12. 前記第1電極と前記第2電極との間に交流電圧あるいは直流電圧もしくは直流パルス電圧を印加することにより、前記セル内にプラズマを発生させるとともに、
    前記セル内に流体を流入させる請求項11に記載の装置。
  13. 前記流体が酸素であり、前記セル内に酸素を流入させることにより、オゾンを発生させる請求項12に記載の装置。
  14. 前記流体が、炉或いは内燃機関からの排ガスであり、前記セル内に、前記排ガスを流入させる第1の流路と、
    前記セルから排出される被処理ガスを、前記セルから流出させる第2の流路とをさらに備えた請求項12に記載の装置。
  15. 請求項7に記載のプラズマ発生体を製造するための方法であって、
    前記第1絶縁部、第2絶縁部、前記壁部、前記柱部が、セラミック生成形体を同時焼成することにより形成され、前記第1電極及び前記第2電極が、メタライズペーストを前記セラミック生成形体と同時に焼成することにより形成されることを特徴とするプラズマ発生体の製造方法。
JP2008542167A 2006-10-31 2007-10-31 プラズマ発生体及び装置、並びにプラズマ発生体の製造方法 Expired - Fee Related JP4763059B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008542167A JP4763059B2 (ja) 2006-10-31 2007-10-31 プラズマ発生体及び装置、並びにプラズマ発生体の製造方法

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006295345 2006-10-31
JP2006295345 2006-10-31
JP2007223468 2007-08-30
JP2007223468 2007-08-30
PCT/JP2007/071260 WO2008053940A1 (fr) 2006-10-31 2007-10-31 Corps de génération de plasma et appareil et procédé permettant de fabriquer un corps de génération de plasma
JP2008542167A JP4763059B2 (ja) 2006-10-31 2007-10-31 プラズマ発生体及び装置、並びにプラズマ発生体の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2008053940A1 true JPWO2008053940A1 (ja) 2010-02-25
JP4763059B2 JP4763059B2 (ja) 2011-08-31

Family

ID=39344281

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008542167A Expired - Fee Related JP4763059B2 (ja) 2006-10-31 2007-10-31 プラズマ発生体及び装置、並びにプラズマ発生体の製造方法

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP4763059B2 (ja)
WO (1) WO2008053940A1 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5379656B2 (ja) * 2009-11-24 2013-12-25 カルソニックカンセイ株式会社 排気浄化装置
JP5664792B2 (ja) * 2011-09-20 2015-02-04 株式会社村田製作所 オゾン発生装置およびその製造方法
WO2022172426A1 (ja) * 2021-02-15 2022-08-18 三菱電機株式会社 オゾン発生装置およびオゾン発生方法
JP7154363B2 (ja) * 2021-02-15 2022-10-17 三菱電機株式会社 オゾン発生装置
EP4365130A1 (en) * 2021-07-02 2024-05-08 Niterra Co., Ltd. Ozone generating body, ozone generating unit, and ozone generator
JP7360422B2 (ja) * 2021-07-02 2023-10-12 日本特殊陶業株式会社 オゾン発生体及びオゾン発生器

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003286829A (ja) * 2002-03-19 2003-10-10 Hyundai Motor Co Ltd プラズマ反応器及びその製造方法とプラズマ反応器を備えた車両の排気ガス低減装置
JP2004092589A (ja) * 2002-09-03 2004-03-25 Toyota Central Res & Dev Lab Inc 内燃機関の排ガス浄化装置
JP2005093107A (ja) * 2003-09-12 2005-04-07 Ngk Insulators Ltd プラズマ発生電極及びプラズマ反応器
JP2005093423A (ja) * 2003-08-08 2005-04-07 Ngk Insulators Ltd プラズマ発生電極及びプラズマ反応器
JP2006278652A (ja) * 2005-03-29 2006-10-12 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4448095B2 (ja) * 2003-06-27 2010-04-07 日本碍子株式会社 プラズマ発生電極及びプラズマ反応器
JP4895824B2 (ja) * 2004-12-27 2012-03-14 日本碍子株式会社 プラズマ発生電極及びプラズマ反応器

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003286829A (ja) * 2002-03-19 2003-10-10 Hyundai Motor Co Ltd プラズマ反応器及びその製造方法とプラズマ反応器を備えた車両の排気ガス低減装置
JP2004092589A (ja) * 2002-09-03 2004-03-25 Toyota Central Res & Dev Lab Inc 内燃機関の排ガス浄化装置
JP2005093423A (ja) * 2003-08-08 2005-04-07 Ngk Insulators Ltd プラズマ発生電極及びプラズマ反応器
JP2005093107A (ja) * 2003-09-12 2005-04-07 Ngk Insulators Ltd プラズマ発生電極及びプラズマ反応器
JP2006278652A (ja) * 2005-03-29 2006-10-12 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2008053940A1 (fr) 2008-05-08
JP4763059B2 (ja) 2011-08-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4863743B2 (ja) プラズマ発生電極、プラズマ反応器及び排ガス浄化装置
JP4763059B2 (ja) プラズマ発生体及び装置、並びにプラズマ発生体の製造方法
JP2009110752A (ja) プラズマ発生体、プラズマ発生装置、オゾン発生装置、排ガス処理装置
US7635824B2 (en) Plasma generating electrode, plasma generation device, and exhaust gas purifying device
EP1638377B1 (en) Plasma generating electrode, plasma generation device, and exhaust gas purifying apparatus
US7648683B2 (en) Plasma generating electrode, plasma generator, and exhaust gas purifying device
US7771673B2 (en) Plasma generating electrode and plasma reactor
JP5058199B2 (ja) 放電装置および放電装置を用いた反応装置
EP1645730B1 (en) Plasma generating electrode and plasma reactor
JP5164500B2 (ja) プラズマ発生体、プラズマ発生装置、オゾン発生装置、排ガス処理装置
JP2006185715A (ja) プラズマ発生電極及びプラズマ反応器
JP2005203362A (ja) プラズマ発生電極及びプラズマ反応器
JP4869041B2 (ja) プラズマ発生体および反応装置
JP2009107883A (ja) プラズマ発生体およびプラズマ発生装置
JP2009006283A (ja) 構造体および装置
JP2009087699A (ja) プラズマ発生体、プラズマ発生体の製造方法、および反応装置
JP2008186687A (ja) プラズマ発生体およびプラズマ発生体の製造方法
JP5053292B2 (ja) プラズマ発生体及び反応装置
JP4268484B2 (ja) プラズマ発生電極及びプラズマ反応器
US20090049821A1 (en) Exhaust gas purifier
JP4818219B2 (ja) 構造体およびこれを用いた装置
JP2009032574A (ja) 構造体およびこれを用いた装置
JP2008272615A (ja) 配線構造体、装置および流体処理装置、ならびに車両
US20070045246A1 (en) Plasma generating electrode and plasma reactor
JP2009087700A (ja) プラズマ発生体、プラズマ発生体の製造方法、および反応装置

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101130

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110124

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110222

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110331

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110510

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110608

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140617

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4763059

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees