JPWO2008053839A1 - 差圧式マスフローコントローラにおける診断機構 - Google Patents
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- 230000007246 mechanism Effects 0.000 title claims abstract description 26
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims abstract description 76
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 31
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 claims abstract description 23
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims abstract description 11
- 230000010354 integration Effects 0.000 claims abstract description 9
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 claims description 62
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 20
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 238000002405 diagnostic procedure Methods 0.000 claims description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 62
- 230000008859 change Effects 0.000 description 22
- 238000004092 self-diagnosis Methods 0.000 description 17
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 6
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 230000036962 time dependent Effects 0.000 description 3
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
Images
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-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
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- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
- G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
- G05D7/0635—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/05—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects
- G01F1/34—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects by measuring pressure or differential pressure
- G01F1/50—Correcting or compensating means
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/76—Devices for measuring mass flow of a fluid or a fluent solid material
- G01F1/86—Indirect mass flowmeters, e.g. measuring volume flow and density, temperature or pressure
- G01F1/88—Indirect mass flowmeters, e.g. measuring volume flow and density, temperature or pressure with differential-pressure measurement to determine the volume flow
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F25/00—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume
- G01F25/10—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume of flowmeters
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- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B23/00—Testing or monitoring of control systems or parts thereof
- G05B23/02—Electric testing or monitoring
- G05B23/0205—Electric testing or monitoring by means of a monitoring system capable of detecting and responding to faults
- G05B23/0218—Electric testing or monitoring by means of a monitoring system capable of detecting and responding to faults characterised by the fault detection method dealing with either existing or incipient faults
- G05B23/0221—Preprocessing measurements, e.g. data collection rate adjustment; Standardization of measurements; Time series or signal analysis, e.g. frequency analysis or wavelets; Trustworthiness of measurements; Indexes therefor; Measurements using easily measured parameters to estimate parameters difficult to measure; Virtual sensor creation; De-noising; Sensor fusion; Unconventional preprocessing inherently present in specific fault detection methods like PCA-based methods
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Abstract
Description
Claims (14)
- 流体が流れる流路(1)上に設けたバルブ(2Va)をクローズ状態にするための信号を出力するバルブ制御信号出力部(2e、2E)と、
前記流路(1)上に設けた差圧発生用抵抗体(3)において、その導入口(31)側及び導出口(32)側にそれぞれ設けられた圧力センサからの検出信号を受け付ける信号受付部(2a)と、
前記バルブ(2Va)のクローズ状態において、前記検出信号から得られる導入口(31)側又は導出口(32)側の圧力が所定の第1圧力から所定の第2圧力になるまでの間の、当該圧力の時間積分値に基づく値を有した診断用パラメータを算出する診断用パラメータ算出部(2f、2F)と、
その診断用パラメータの値と予め定められた規定値とを比較する比較部(2h)と、を具備していることを特徴とする流量制御装置(A)における診断機構。 - 前記診断用パラメータの値と前記規定値とが異なった場合に、異常である旨を出力する診断結果出力部(2i)をさらに具備していることを特徴とする請求項1記載の流量制御装置(A)における診断機構。
- 前記検出信号から得られる導入口(31)側及び導出口(32)側の各圧力に基づいて、前記流体の質量流量を算出する流量算出部をさらに備え、
前記診断用パラメータ算出部(2f、2F)が、前記第1圧力から第2圧力になるまでの間の質量流量積分値から診断用パラメータを算出するものである請求項1又は2記載の流量制御装置(A)における診断機構。 - 前記診断用パラメータが、前記第1圧力及び第2圧力の圧力差と前記質量流量積分値とから算出される、流体の体積値を示すものであり、
前記規定値が、前記バルブ(2Va)と前記差圧発生用抵抗体(3)との間の流路(1)の体積値である請求項3記載の流量制御装置(A)における診断機構。 - 前記バルブ(2Va)が、差圧発生用抵抗体(3)よりも上流側に設けられたものであり、
前記診断用パラメータ算出部(2f、2F)が、前記導入口(31)側の圧力が前記第1圧力から前記第2圧力まで下降する間の質量流量積分値を算出するようにしている請求項3又は4記載の流量制御装置(A)における診断機構。 - 前記バルブ(2Va)が、差圧発生用抵抗体(3)よりも下流側に設けられたものであり、
前記診断用パラメータ算出部(2f、2F)が、前記導入口(31)側の圧力が前記第1圧力から前記第2圧力まで上昇する間の質量流量積分値を算出するようにしている請求項3又は4記載の流量制御装置(A)における診断機構。 - 前記差圧発生用抵抗体(3)が、非直線性特性を有する層流素子であることを特徴とする請求項1乃至6いずれか記載の流量制御装置(A)における診断機構。
- 前記圧力センサが、差圧発生用抵抗体(3)の導入口(31)側及び導出口(32)側にそれぞれ設けられた絶対圧センサにより構成されるか、又は、差圧発生用抵抗体(3)の導入口(31)側又は導出口(32)側のいずれかに設けられた絶対圧センサ及びそれらの間に設けられた差圧式センサにより構成されている請求項1乃至7いずれか記載の流量制御装置(A)における診断機構。
- 前記バルブ制御信号出力部(2e、2E)は、前記圧力センサで検知する圧力が所定の値を示すことを条件に、前記クローズ状態にするための信号を出力する請求項1乃至8いずれか記載の流量制御装置(A)における診断機構。
- 前記バルブ(2Va)が、差圧発生用抵抗体(3)よりも上流側に設けられたものである場合、前記条件は、導入口(31)側の圧力センサで検知する圧力が、開始圧力である前記第1圧力よりも高い値を示すことである請求項9記載の流量制御装置(A)における診断機構。
- 前記バルブ(2Va)が、差圧発生用抵抗体(3)よりも下流側に設けられたものである場合、前記条件は、導出口(32)側の圧力センサで検知する圧力が、開始圧力である前記第1圧力よりも低い値を示すことである請求項9記載の流量制御装置(A)における診断機構。
- 流体が流れる流路(1)上に設けたバルブ(2Va)をオープン状態からクローズ状態にし、
前記流路(1)上に設けた差圧発生用抵抗体(3)の導入口(31)側及び導出口(32)側の圧力を検出する入口側センサ(4)及び出口側センサ(5)における検出値に基づき前記流体の質量流量値を求め、
その質量流量値を受け付けて、前記流量制御バルブ(2Va)をクローズ状態にしたときに、前記導入口(31)側または前記導出口(32)側の圧力が第1圧力から第2圧力になるまでの間の質量流量積分値から診断用パラメータを算出し、
その診断用パラメータの値と規定値とを比較することを特徴とする流量制御装置(A)における診断方法。 - 流体が流れる流路(1)上に設けた流量制御バルブ(2Va)と、
前記流量制御バルブ(2Va)から流れてくる流体を導入する導入口(31)及び導出する導出口(32)を備えて成りこれら導入出口間に差圧を発生させる差圧発生用抵抗体(3)と、
前記導入口(31)側の流路(1)に連絡して設けられ前記流路(1)を流れる流体の圧力を検出する入口側センサ(4)と、
前記導出口(32)側の流路(1)に連絡して設けられ前記流路(1)を流れる流体の圧力を検出する出口側センサ(5)と、
前記流量制御バルブ(2Va)を流量制御状態からクローズ状態した際に、前記入口側センサ(4)の下降する圧力値から質量流量積分値を積分演算により求め、さらに、この求めた質量流量積分値を気体の状態方程式に代入して診断用の体積値を求める診断用パラメータ算出部(2f、2F)と、
前記診断用パラメータ算出部(2f、2F)で求めた診断用の体積値と、規定の体積値とを比較する比較部(2h)とを具備して成ることを特徴とする差圧式マスフローコントローラ(A)。 - 流体が流れる流路(1)上に設けた上流側流量制御バルブ(2Vb)および下流側流量制御バルブ(2Vc)と、
前記上流側流量制御バルブ(2Vb)から流れてくる流体を導入する導入口(31)及び導出する導出口(32)を備えて成りこれら導入出口間に差圧を発生させる差圧発生用抵抗体(3)と、
前記導入口(31)側の流路(1)に連絡して設けられ前記流路(1)を流れる流体の圧力を検出する入口側センサ(4)と、
前記導出口(32)側の流路(1)に連絡して設けられ前記流路(1)を流れる流体の圧力を検出する出口側センサ(5)と、
前記下流側流量制御バルブ(2Vc)を流量制御状態からクローズ状態にした際に、前記出口側センサ(5)の上昇する圧力値から質量流量積分値を積分演算により求め、さらに、この求めた質量流量積分値を気体の状態方程式に代入して診断用の体積値を求める診断用パラメータ算出部(2f、2F)と、
前記診断用パラメータ算出部(2f、2F)で求めた診断用の体積値と、規定の体積値とを比較する比較部(2h)とを具備して成ることを特徴とする差圧式マスフローコントローラ(A)。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008542102A JP4881391B2 (ja) | 2006-11-02 | 2007-10-29 | 差圧式マスフローコントローラにおける診断機構 |
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006299701 | 2006-11-02 | ||
JP2006299701 | 2006-11-02 | ||
JP2006328664 | 2006-12-05 | ||
JP2006328664 | 2006-12-05 | ||
PCT/JP2007/071030 WO2008053839A1 (fr) | 2006-11-02 | 2007-10-29 | Mécanisme de diagnostic dans un régulateur de débit massique à pression différentielle |
JP2008542102A JP4881391B2 (ja) | 2006-11-02 | 2007-10-29 | 差圧式マスフローコントローラにおける診断機構 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2008053839A1 true JPWO2008053839A1 (ja) | 2010-02-25 |
JP4881391B2 JP4881391B2 (ja) | 2012-02-22 |
Family
ID=39344180
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008542102A Active JP4881391B2 (ja) | 2006-11-02 | 2007-10-29 | 差圧式マスフローコントローラにおける診断機構 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8744784B2 (ja) |
JP (1) | JP4881391B2 (ja) |
KR (2) | KR101572407B1 (ja) |
CN (1) | CN101529356B (ja) |
TW (1) | TWI450063B (ja) |
WO (1) | WO2008053839A1 (ja) |
Families Citing this family (42)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2007
- 2007-10-29 JP JP2008542102A patent/JP4881391B2/ja active Active
- 2007-10-29 CN CN2007800403161A patent/CN101529356B/zh active Active
- 2007-10-29 KR KR1020147023033A patent/KR101572407B1/ko active IP Right Grant
- 2007-10-29 WO PCT/JP2007/071030 patent/WO2008053839A1/ja active Application Filing
- 2007-10-29 KR KR1020097006922A patent/KR20090075816A/ko active Application Filing
- 2007-10-29 US US12/513,353 patent/US8744784B2/en active Active
- 2007-11-02 TW TW096141315A patent/TWI450063B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200839475A (en) | 2008-10-01 |
CN101529356A (zh) | 2009-09-09 |
KR20090075816A (ko) | 2009-07-09 |
WO2008053839A1 (fr) | 2008-05-08 |
JP4881391B2 (ja) | 2012-02-22 |
US20100070240A1 (en) | 2010-03-18 |
CN101529356B (zh) | 2013-04-10 |
KR20140105623A (ko) | 2014-09-01 |
KR101572407B1 (ko) | 2015-11-26 |
US8744784B2 (en) | 2014-06-03 |
TWI450063B (zh) | 2014-08-21 |
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A621 | Written request for application examination |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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