JPWO2008023581A1 - 熱可塑性有機−無機ハイブリッド材料及びその製造方法 - Google Patents
熱可塑性有機−無機ハイブリッド材料及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2008023581A1 JPWO2008023581A1 JP2008530856A JP2008530856A JPWO2008023581A1 JP WO2008023581 A1 JPWO2008023581 A1 JP WO2008023581A1 JP 2008530856 A JP2008530856 A JP 2008530856A JP 2008530856 A JP2008530856 A JP 2008530856A JP WO2008023581 A1 JPWO2008023581 A1 JP WO2008023581A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hybrid material
- inorganic
- group
- functional group
- polymerizable
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 89
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 title claims abstract description 37
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 8
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 title claims description 32
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 claims abstract description 62
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 48
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 36
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 19
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 94
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 41
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 41
- -1 acryl group Chemical group 0.000 claims description 38
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 claims description 15
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 12
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 claims description 7
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 claims description 6
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 abstract description 14
- 239000004033 plastic Substances 0.000 abstract 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 55
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 51
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical group CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 description 22
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 11
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 7
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 7
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 238000012661 block copolymerization Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 5
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 5
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 5
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 5
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 4
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 3
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004342 Benzoyl peroxide Chemical group 0.000 description 2
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CHIHQLCVLOXUJW-UHFFFAOYSA-N benzoic anhydride Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OC(=O)C1=CC=CC=C1 CHIHQLCVLOXUJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013590 bulk material Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N methacryloyloxyethyl isocyanate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN=C=O RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PGGUSMVPPUCFQR-UHFFFAOYSA-N triethylsilylmethanol Chemical compound CC[Si](CC)(CC)CO PGGUSMVPPUCFQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LAYAKLSFVAPMEL-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxydodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC=C LAYAKLSFVAPMEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKDKWYQGLUUPBF-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyhexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCOC=C UKDKWYQGLUUPBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDXHBDVTZNMBEW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound CCOC(O)COCCO SDXHBDVTZNMBEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSCSROFYRUZJJH-UHFFFAOYSA-N 1-methoxyethane-1,2-diol Chemical compound COC(O)CO CSCSROFYRUZJJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYEPYBOXOPVJIH-UHFFFAOYSA-N 1-triethylsilylethanol Chemical compound CC[Si](CC)(CC)C(C)O KYEPYBOXOPVJIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHEWUJNOBUFVRY-UHFFFAOYSA-N 1-triphenylsilylethanol Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(C(O)C)C1=CC=CC=C1 HHEWUJNOBUFVRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 2-isocyanatoethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCN=C=O DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSSAWHFZNWVJEC-UHFFFAOYSA-N 3-(ethenoxymethyl)heptane Chemical compound CCCCC(CC)COC=C DSSAWHFZNWVJEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSOZORWBKQSQCJ-UHFFFAOYSA-N 3-[ethoxy(dimethyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(C)CCCOC(=O)C(C)=C JSOZORWBKQSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBDMKOVTOUIKFI-UHFFFAOYSA-N 3-[methoxy(dimethyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(C)CCCOC(=O)C(C)=C JBDMKOVTOUIKFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QURURPFUWRWGSN-UHFFFAOYSA-N 3-sulfanylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCS QURURPFUWRWGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQSNECNMKBTWCE-UHFFFAOYSA-N 3-sulfanylpropyl prop-2-enoate Chemical compound SCCCOC(=O)C=C DQSNECNMKBTWCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 4-ethenoxybutan-1-ol Chemical compound OCCCCOC=C HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZVQCMJNVPIDEA-UHFFFAOYSA-N [CH2]CN(CC)CC Chemical group [CH2]CN(CC)CC MZVQCMJNVPIDEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229940106691 bisphenol a Drugs 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- 125000006226 butoxyethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- AHVOFPQVUVXHNL-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C AHVOFPQVUVXHNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- MNKYQPOFRKPUAE-UHFFFAOYSA-N chloro(triphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(Cl)C1=CC=CC=C1 MNKYQPOFRKPUAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCRDXYSYPCEIAK-UHFFFAOYSA-N dibutylstannane Chemical compound CCCC[SnH2]CCCC WCRDXYSYPCEIAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000013213 extrapolation Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 238000009396 hybridization Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000002114 nanocomposite Substances 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000000452 restraining effect Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003011 styrenyl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- ZQKNBDOVPOZPLY-UHFFFAOYSA-N trimethylsilylmethanol Chemical compound C[Si](C)(C)CO ZQKNBDOVPOZPLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZBLAGLYKKRZNL-UHFFFAOYSA-N triphenylsilylmethanol Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(CO)C1=CC=CC=C1 RZBLAGLYKKRZNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F292/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to inorganic materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
- C08F220/14—Methyl esters, e.g. methyl (meth)acrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F230/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J3/00—Processes of treating or compounding macromolecular substances
- C08J3/12—Powdering or granulating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/28—Compounds of silicon
- C09C1/30—Silicic acid
- C09C1/3072—Treatment with macro-molecular organic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C3/00—Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
- C09C3/10—Treatment with macromolecular organic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/22—Rheological behaviour as dispersion, e.g. viscosity, sedimentation stability
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/60—Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
Abstract
Description
J.Phys.Chem.,93,6270(1989)
及び機械的強度に優れたものとなる。さらに、ゾル−ゲル反応のような脱水縮合は起こらないため、無機相の割合を多くしてもひび割れ等が生じ難く、均質なバルク材を製造することが容易である。
また、無機酸化物表面水酸基の一部を修飾することによって、疎水性を付与することもできる。疎水性を付与する化合物としては、トリメチルシリルメトキシド、トリエチルシリルメトキシド、トリエチルシリルメトキシド、トリエチルシリルエトキシド、トリフェニルシリルメトキシド、トリフェニルシリルエトキシド等のトリアルキルアルコキシドや、トリメチルシリルクロリド、トリエチルシリルクロリド、トリフェニルシリルクロリド等のトリアルキルハライド等が挙げられる。これら疎水性を付与する化合物は、無機粒子と重合性の官能基を有する化合物との反応の前に無機粒子表面の一部の水酸基と反応させても、無機粒子と重合性の官能基を有する化合物との反応後に残った無機粒子表面の水酸基と反応させてもどちらでも良い。
PMMA−シリカハイブリッド材料
<表面修飾工程>
3つ口フラスコにメチルエチルケトン分散コロイダルシリカ(日産化学工業(株)製MEK-ST粒子径10〜15nm、シリカ含有量30wt%、)と2-(メタクロイルオキシ)エチルイソシアネート(以下「MOI」という)とを種々の割合で加え、触媒としてジラウリル酸ジ-n-ブチルスズ(以下「DBTDL」という)をコロイダルシリカの重量に対して約650ppm添加し、室温で一日撹拌することにより、MOI修飾コロイダルシリカを得た。
4つ口フラスコに温度計、冷却管及び撹拌羽を取り付け、フラスコ内を窒素置換した後、メチルエチルケトンと過酸化ベンゾイルとMOI修飾コロイダルシリカとを加えた後、油浴中でフラスコを80℃まで加熱した後、約120rpmの速度で撹拌しながら、メタクリル酸メチルを15分かけて滴下し、滴下終了後、さらに6時間撹拌を行った。仕込量はメタクリル酸メチル:メチルエチルケトン=1:1.25(重量比)とし、過酸化ベンゾイルはメタクリル酸メチルに対して0.4mol%とした。撹拌終了後、反応溶液を20倍量のメタノール中に滴下し、再沈殿法により白色固体を採取した後、常温で24時間真空乾燥を行い、PMMA−シリカハイブリッド材料を得た。
上記のようにして得られたPMMA−シリカハイブリッド材料について、有機溶剤への溶解性試験を行った。溶解性試験はPMMA-シリカハイブリッド材料1.0gをサンプル瓶に計り取り、有機溶剤(メチルエチルケトン(MEK)、テトラヒドロフラン(THF)、アセトン、N’N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジクロロメタン)
9.0gを加えて室温で撹拌し、有機溶剤への溶解性を観察することにより行った。
(結 果)
<有機溶剤への溶解性及び成形性(熱可塑性)>
結果を表1に示す。この表から、シリカ表面水酸基のMOIによる修飾率が高いほどゲル化し易く、有機溶剤に対する溶解性および成形性(熱可塑性)が低下するということが分かる。また、MOI修飾シリカの含有量が高いほど、ゲル化し易く、有機溶剤に対する溶解性および成形性(熱可塑性)が低下する、ということが分かる。
表2に示すように、様々なMOI修飾率及びMOI修飾シリカ含量のPMMA−シリカハイブリッド材料を調製し(実施例1〜12、試験例1〜4及び比較例1)、耐熱性、成形性、伸び率、引っ張り強度、ヤング率、透過率、表面硬度など諸物性を測定した。PMMAについても同様の測定を行った。
表2から、成形性については、(1)シリカ表面水酸基のMOIによる修飾率が低いほど成形性に優れており、(2)MOI修飾シリカの含有量が少ないほど成形性に優れている、ということが分かる。この結果は、上記表1に示した、有機溶剤への溶解性試験から導かれた結果と整合するものである。
(耐熱性)
熱分解温度(Td値)は、(1)シリカ表面水酸基のMOIによる修飾率が高いほどTd値が高く、(2)ハイブリッド中のシリカ含有量が高いほどTd値が高い、ということが分かり、PMMAとMOI修飾シリカとの共重合により、耐熱性を高められることが分かった。これはMOI修飾シリカによってシリカを介した強固な分子間架橋が形成され、またMOI部位に起因する水素結合の形成により、高分子鎖の運動性が強く抑制され
たためと考えられる。
(透過率)
透過率については、いずれもPMMAとほぼ同等の透過率であり、シリカ粒子がポリマー中で良好に分散し、PMMA特有の高い透明性が維持されることが確認できた。
(ヤング率)
1)シリカ含有量との関係
MOI修飾シリカ含有量の増加に伴いヤング率は上昇した。PMMA−シリカ間が共有結合されているために、ポリマー鎖の運動性が強く束縛されることによってヤング率が大幅に上昇したと考えられる。
2)MOI修飾率との関係
MOI修飾率の増加に伴い、著しく上昇することがわかった。これは、MOI修飾率が増加するほど、PMMA−シリカ間の架橋が増し、ポリマーの運動性がより束縛されたためであると考えられる。
重合性モノマーとして、MMAとメチルアクリレートの2種類の化合物を用い、(MMA-MA)ランダム共重合体−シリカハイブリッド材料を合成した。合成法の詳細を以下に示す。
上述したPMMA−シリカハイブリッド材料の場合と同様の方法により、MOI修飾コロイダルシリカを得た。
<ランダム共重合工程>
4つ口フラスコに温度計、冷却管及び攪拌羽を取り付け、フラスコ内を窒素置換した後、後述するモノマー混合物の1.25倍量(重量比)のメチルエチルケトンと、モノマー混合物に対して0.4mol%の過酸化ベンゾイルと、所定量のMOI修飾コロイダルシリカとを加えた。そして、油浴中で80℃まで加熱した後、約120rpmの速度で攪拌しながら、所定の混合比のメタクリル酸メチルとアクリル酸メチルとの混合物(モノマー混合物)を15分かけて滴下し、滴下終了後6時間反応させた。反応終了後、反応溶液を20倍量のメタノール中に滴下し、再沈殿法により重合物を採取した後、常温で24時間真空乾燥を行い、実施例13〜実施例18の(MMA−MA)ランダム共重合体−シリカハイブリッド材料を60〜80%の収率で得た。
こうして得られた(MMA−MA)ランダム共重合体−シリカハイブリッド材料について、上述したPMMA−シリカハイブリッド材料の評価方法と同様の方法により、耐熱性、成形性、伸び率、引っ張り強度、ヤング率、透過率、表面硬度など諸物性を測定した。結果を表3に示す。この表から分かるように、重合性モノマーとしてMMAとメチルアクリレートとを混合してランダム共重合を行っても、優れた成形性と、優れた耐熱性及びヤング率とを兼ね備えたハイブリッド材料となることが分かる。
重合性モノマーとして、MMAとエチルアクリレートの2種類の化合物を用い、実施例19〜実施例21の(MMA−EA)ランダム共重合体−シリカハイブリッド材料を合成した。合成方法は、メチルアクリレートの代わりにエチルアクリレートを用いたこと以外は、上述した(MMA−MA)ランダム共重合体−シリカハイブリッド材料の場合と同様であり、説明を省略する。
こうして得られた(MMA−エチルアクリレート)ランダム共重合体−シリカハイブリッド材料について、上述したPMMA−シリカハイブリッド材料の評価方法と同様の方法により、耐熱性、成形性、伸び率、引っ張り強度、ヤング率、透過率、表面硬度など諸物性を測定した。結果を表4に示す。この表から分かるように、重合性モノマーとしてMMAとエチルアクリレートとを混合してランダム共重合を行っても、優れた成形性と、優れた耐熱性及びヤング率とを兼ね備えたハイブリッド材料となることが分かる。
重合性モノマーとして、MMAとブチルアクリレートの2種類の化合物を用い、実施例22〜実施例24の(MMA−BA)ランダム共重合体−シリカハイブリッド材料を合成した。合成方法は、メチルアクリレートの代わりにブチルアクリレートを用いたこと以外は、上述した(MMA−メチルアクリレート)ランダム共重合体−シリカハイブリッド材料の場合と同様であり、説明を省略する。
こうして得られた(MMA−ブチルアクリレート)ランダム共重合体−シリカハイブリッド材料について、上述したPMMA−シリカハイブリッド材料の評価方法と同様の方法により、耐熱性、成形性、伸び率、引っ張り強度、ヤング率、透過率、表面硬度など諸物性を測定した。結果を表5に示す。この表から分かるように、重合性モノマーとしてMMAとブチルアクリレートとを混合してランダム共重合を行っても、優れた成形性と、優れた耐熱性及びヤング率とを兼ね備えたハイブリッド材料となることが分かる。
重合性モノマーとして、MMAとメチルアクリレートとの混合物を用い、(MMA−MA)ブロック共重合体−シリカハイブリッド材料を合成した。合成法の詳細を以下に示す。
上述したPMMA−シリカハイブリッド材料の場合と同様の方法により、MOI修飾コロイダルシリカを得た。
4つ口フラスコに温度計、冷却管及び攪拌羽を取り付け、フラスコ内を窒素置換した後、重合性モノマーの1.25倍量(重量比)のメチルエチルケトンと、重合性モノマーに対して0.4mol%の過酸化ベンゾイルと、所定量のMOI修飾コロイダルシリカとを加えた。そして、油浴中で80℃まで加熱した後、約120rpmの速度で攪拌しながら、所定量のメチルアクリレートを15分かけて滴下し、滴下終了後1時間反応させた。反応終了後、さらにMMAモノマーを15分かけて滴下し、、滴下終了後6時間反応させた。反応溶液を20倍量のメタノール中に滴下し、再沈殿法により重合物を採取した後、常温で24時間真空乾燥を行い、実施例25〜実施例29の(MMA−MA)ブロック共重合体−シリカハイブリッド材料を60〜80%の収率で得た。
こうして得られた(MMA−MA)ブロック共重合体−シリカハイブリッド材料について、上述したPMMA−シリカハイブリッド材料の評価方法と同様の方法により、耐熱性、成形性、伸び率、引っ張り強度、ヤング率、透過率、表面硬度など諸物性を測定した。結果を表6に示す。この表から分かるように、重合性モノマーとしてMMAとメチルアクリレートとを混合してブロック共重合を行っても、優れた成形性と、優れた耐熱性及びヤン
重合性モノマーとして、MMAとエチルアクリレートの2種類の化合物を用い、実施例30〜実施例32の(MMA−EA)ブロック共重合体−シリカハイブリッド材料を合成した。合成方法は、メチルアクリレートの代わりにエチルアクリレートを用いたこと以外は、上述した(MMA−メチルアクリレート)ブロック共重合体−シリカハイブリッド材料の場合と同様であり、説明を省略する。
こうして得られた(MMA−EA)ブロック共重合体−シリカハイブリッド材料について、上述したPMMA−シリカハイブリッド材料の評価方法と同様の方法により、耐熱性、成形性、伸び率、引っ張り強度、ヤング率、透過率、表面硬度など諸物性を測定した。結果を表4に示す。この表から分かるように、重合性モノマーとしてMMAとエチルアクリレートとを混合してブロック共重合を行っても、優れた成形性と、優れた耐熱性及びヤング率とを兼ね備えたハイブリッド材料となることが分かる。
Claims (12)
- 重合性の官能基を有する修飾基が無機粒子表面の水酸基に共有結合した重合性官能基修飾無機粒子と、重合により熱可塑性ポリマーとなる重合性モノマーとが共重合されてなる熱可塑性有機−無機ハイブリッド材料において、
前記重合性官能基修飾無機粒子は、前記無機粒子表面の水酸基の一部にのみ前記重合性の官能基を有する修飾基が共有結合していることを特徴とする熱可塑性有機−無機ハイブリッド材料。 - 重合性官能基修飾無機粒子の、水酸基に対する修飾基の修飾率は1〜99%であること
を特徴とする請求項1記載の熱可塑性有機−無機ハイブリッド材料。 - 重合性官能基修飾無機粒子の含有量は1〜80重量%であることを特徴とする請求項2記載の熱可塑性有機−無機ハイブリッド材料。
- 重合性官能基修飾無機粒子の、水酸基に対する修飾基の修飾率は5〜80%であり、重合性官能基修飾無機粒子の含有量は3〜70重量%であることを特徴とする請求項2記載の熱可塑性有機−無機ハイブリッド材料。
- 無機粒子はシリカ粒子であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載の熱可塑性有機−無機ハイブリッド材料。
- 無機粒子はコロイダルシリカ粒子であることを特徴とする請求項5記載の熱可塑性有機−無機ハイブリッド材料。
- シリカ粒子の粒子径は1〜100nmであることを特徴とする請求項6記載の熱可塑性有機−無機ハイブリッド材料。
- 重合性の修飾基は(メタ)アクリル基又はビニル基のいずれかを有しており、重合性モノマーは(メタ)アクリル基又はビニル基のいずれかを有していることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項記載の熱可塑性有機−無機ハイブリッド材料。
- 重合性モノマーは複数種類の重合性モノマーからなり、それら重合性モノマーが共重合されていることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項記載の熱可塑性有機−無機ハイブリッド材料。
- 重合性モノマーの共重合体はブロック共重合体であることを特徴とする請求項9記載の熱可塑性有機−無機ハイブリッド材料。
- 無機粒子表面の水酸基の一部に重合性の官能基を有する修飾基を共有結合させて重合性官能基修飾無機粒子とする表面修飾工程と、
該重合性官能基修飾無機粒子と、重合により熱可塑性ポリマーとなる重合性モノマーとを共重合する共重合工程と、
を備えることを特徴とする熱可塑性有機−無機ハイブリッド材料の製造方法。 - 前記共重合工程において、複数種類の重合性モノマーを1種類づつ逐次添加してブロック共重合体とすることを特徴とする請求項11記載の熱可塑性有機−無機ハイブリッド材料の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008530856A JP5548971B2 (ja) | 2006-08-24 | 2007-08-10 | 熱可塑性有機−無機ハイブリッド材料 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006228489 | 2006-08-24 | ||
JP2006228489 | 2006-08-24 | ||
JP2008530856A JP5548971B2 (ja) | 2006-08-24 | 2007-08-10 | 熱可塑性有機−無機ハイブリッド材料 |
PCT/JP2007/065696 WO2008023581A1 (fr) | 2006-08-24 | 2007-08-10 | Matériau thermoplastique hybride organique-inorganique et son procédé de production |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2008023581A1 true JPWO2008023581A1 (ja) | 2010-01-07 |
JP5548971B2 JP5548971B2 (ja) | 2014-07-16 |
Family
ID=39106667
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008530856A Expired - Fee Related JP5548971B2 (ja) | 2006-08-24 | 2007-08-10 | 熱可塑性有機−無機ハイブリッド材料 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5548971B2 (ja) |
KR (1) | KR101456288B1 (ja) |
CN (1) | CN101506258B (ja) |
WO (1) | WO2008023581A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2417171B1 (en) * | 2009-04-10 | 2018-01-24 | Rensselaer Polytechnic Institute | Diblock copolymer modified nanoparticle-polymer nanocomposites for electrical insulation |
JP5780622B2 (ja) * | 2009-12-22 | 2015-09-16 | 国立大学法人 新潟大学 | 抗菌剤およびその製造方法 |
JP5607407B2 (ja) * | 2010-03-31 | 2014-10-15 | 株式会社アドマテックス | 有機−無機複合粒子及び塗料組成物、並びにそれらの製造方法 |
CN104540862B (zh) * | 2012-08-10 | 2016-11-16 | 国立大学法人东北大学 | 有机无机复合颗粒、含有该颗粒的分散液及树脂组合物、以及有机无机复合颗粒的制造方法 |
KR101659124B1 (ko) * | 2013-09-05 | 2016-09-22 | 주식회사 엘지화학 | 복합 수지의 제조방법 |
JP6360764B2 (ja) * | 2014-09-30 | 2018-07-18 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルムと清掃用布を含むキット |
JP7287626B2 (ja) * | 2019-08-21 | 2023-06-06 | 株式会社レゾナック | 発泡性粒子、発泡性粒子を製造する方法、発泡性樹脂組成物、及び、発泡体を製造する方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004143201A (ja) | 2002-10-22 | 2004-05-20 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 活性エネルギー線硬化性組成物、それを用いた硬化皮膜の形成方法およびその硬化物、ならびに反射防止体 |
JP3657588B2 (ja) * | 2003-02-27 | 2005-06-08 | 中西 英二 | コロイダルシリカ含有単量体の樹脂硬化物 |
JP2004331790A (ja) * | 2003-05-07 | 2004-11-25 | Nagoya Industrial Science Research Inst | 有機−無機ハイブリッド材料及びその製造方法 |
-
2007
- 2007-08-10 JP JP2008530856A patent/JP5548971B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-08-10 WO PCT/JP2007/065696 patent/WO2008023581A1/ja active Application Filing
- 2007-08-10 KR KR1020097001926A patent/KR101456288B1/ko active IP Right Grant
- 2007-08-10 CN CN2007800309579A patent/CN101506258B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20090046810A (ko) | 2009-05-11 |
WO2008023581A1 (fr) | 2008-02-28 |
JP5548971B2 (ja) | 2014-07-16 |
KR101456288B1 (ko) | 2014-11-03 |
CN101506258B (zh) | 2011-06-08 |
CN101506258A (zh) | 2009-08-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5548971B2 (ja) | 熱可塑性有機−無機ハイブリッド材料 | |
CN101617006B (zh) | 涂料用水性树脂组合物 | |
Canché-Escamilla et al. | Synthesis and characterization of hybrid silica/PMMA nanoparticles and their use as filler in dental composites | |
Xu et al. | Bio-based core–shell casein-based silica nano-composite latex by double-in situ polymerization: Synthesis, characterization and mechanism | |
US20170240676A1 (en) | Moisture-curable, semi-crystalline (meth) acrylic oligomers, and construction materials including the same | |
US8765889B2 (en) | Method for producing hybrid particles | |
Huang et al. | Synthesis and characterization of polyacrylate modified by polysiloxane latexes and films | |
CN103360540A (zh) | 一种长侧链的有机硅改性含氟(甲基)丙烯酸树脂 | |
CN102753618B (zh) | 由聚合物和纳米颗粒制成的杂化颗粒 | |
JP5465525B2 (ja) | 有機無機複合組成物及びその製造方法 | |
CN105694652B (zh) | 太阳能电池用涂膜 | |
Naghash et al. | Synthesis and properties of styrene–butylacrylate emulsion copolymers modified by silane compounds | |
Wanke et al. | Effects of POSS vertex group on structure, thermal and mechanical properties of PMMA/POSS hybrid materials | |
CN102007153B (zh) | 具有交联纳米粒子的可聚合物质 | |
CN109517312B (zh) | 一种双poss聚醚杂化pmma树脂及其制备、成型方法 | |
Aldakheel et al. | In Situ Formation of Silica Nanoparticles Decorated with Well-Defined Homopolymers and Block Copolymers | |
Guo et al. | Facile synthesis of silica nanoparticles grafted with quaternized linear, comblike and toothbrushlike copolymers | |
Zhai et al. | Facile fabrication and modification of polyacrylate/silica nanocomposite latexes prepared by silica sol and silane coupling agent | |
JP2004277512A (ja) | アクリル系ハイブリッドポリマー | |
CN111217968A (zh) | 一种对环境多重效应响应聚烯烃三嵌段共聚物及其制备方法 | |
Zhong et al. | Fabrication and characterization of chemically bonded polysilsesquioxane-polyacrylate hybrid latex particles | |
JP2009126972A (ja) | シリコーンコーティング組成物 | |
CN101479306A (zh) | 烷氧基甲硅烷基官能低聚物以及用其表面改性的颗粒 | |
KR100868881B1 (ko) | 내스크래치 특성이 우수한 열가소성 수지 및 그 제조 방법 | |
CN117004030A (zh) | 一种锆硅改性丙烯酸酯及其制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100619 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100621 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20100621 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100621 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130219 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130422 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130604 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130805 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20131224 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140311 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20140318 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140415 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140430 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5548971 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |