JPWO2008004668A1 - 光拡散シート - Google Patents
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Abstract
寸法安定性、耐光性、光拡散性、熱安定性、輝度、及びリサイクル性の優れた光拡散シートを提供すること。多層構成の光拡散シートであって、表層ａ及び裏層ｃが下記（A）成分：スチレン系単量体単位20〜100質量％及び（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位80〜0質量％を含むスチレン系共重合体100質量部に対して、そのスチレン系共重合体との屈折率差が0.005以内であり、平均粒子径が5〜15μｍの未溶融化合物を1〜10質量部と、ヒンダードアミン系化合物を0.1〜2質量部と、ベンゾトリアゾール系化合物を0.1〜2質量部とを含有してなるスチレン系樹脂組成物からなり、中間層ｂが（B）成分：スチレン系単量体単位90〜99質量％と（メタ）アクリル酸系単量体単位10〜1質量％とを含むスチレン系共重合体100質量部に対して、そのスチレン系共重合体との屈折率差が0.05〜0.15で平均粒子径が2〜10μｍの未溶融化合物を1〜10質量部もしくは粒子径1〜10μｍのポリオルガノシロキサン架橋ビーズを０．５〜２．５質量部含有してなるスチレン系樹脂組成物からなる多層シート。
Description
本発明は、光拡散性、寸法安定性、耐光性、熱安定性、輝度、及びリサイクル性に優れた多層シートに関する。特に、プロジェクションテレビなどの画面の透過型スクリーンや液晶テレビの光拡散板として使用される光拡散シートに関するものである。
プロジェクションテレビに用いられる透過型スクリーン等のスクリーンレンズは、それに画像を投影し、画像を表示するものである。このスクリーンレンズは、観察者にとって明るくて視野角が広いことが望まれるため、一般的にレンチキュラーレンズやフレネルレンズ等のレンズ成形体を組み合わされた構成となっている。これらレンズ成形体には、透明性、耐光性、耐傷付き性、成形加工性等に優れたメタクリル樹脂が広く使用され、それらの成形体は、プレス成形、押出し成形、キャスト成形、射出成形等により一般的に成形されている。
このようなスクリーンレンズに使用されるメタクリル樹脂は、吸水率が高いため、スクリーンレンズ用成形体の寸法変化が生じ、スクリーンの反りや浮きが生じ、光学特性が損なわれたり、枠体からのスクリーンレンズの脱落が生じるという問題を有していた。また、スクリーンレンズの輸送時の温度や使用環境温度が高くなると変形する問題を有していた。
さらに、ランプの光を長時間照射することにより、スクリーンレンズや光拡散板が熱変形するという問題を有していた。
さらに、ランプの光を長時間照射することにより、スクリーンレンズや光拡散板が熱変形するという問題を有していた。
これらの問題を解決するために、特許文献１には、芳香族ビニル単量体、（メタ）アクリル酸エステル系単量体、及び多官能性不飽和単量体の混合物にスチレン−ジエン系共重合体を溶存させて重合し、フレネルレンズを得る方法が開示されている。しかしながらこの技術では、光拡散性の優れたスクリーンレンズ用成形体を得るには不十分であった。
また、液晶テレビの光拡散板の基材として使用されるメタクリル樹脂についても吸水率が高いため、光拡散板成形体の寸法変化が生じ、光拡散板の反りが生じ、光学特性が損なわれる問題を有していた。また、映像やランプの光を長時間照射するとスクリーンレンズや光拡散板に使用される樹脂の劣化により変色が起こり、画像が変色するという問題を有していた。
また、液晶テレビの光拡散板の基材として使用されるメタクリル樹脂についても吸水率が高いため、光拡散板成形体の寸法変化が生じ、光拡散板の反りが生じ、光学特性が損なわれる問題を有していた。また、映像やランプの光を長時間照射するとスクリーンレンズや光拡散板に使用される樹脂の劣化により変色が起こり、画像が変色するという問題を有していた。
本発明の課題は、光拡散性、寸法安定性、耐光性、熱安定性、輝度、リサイクル性に優れた多層シート、特にスクリーンレンズ用成形体や光拡散板用成形体などの光拡散板として使用される多層シートを提供することである。
本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討をした結果、スチレン系単量体単位及びメタクリル酸単量体単位を主成分とする共重合体と特定の未溶融化合物若しくはポリオルガノシロキサン架橋ビーズとを含有する樹脂組成物を中間層とし、スチレン系単量体単位及び（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位を主成分とする共重合体と特定の未溶融化合物と特定の耐光剤とを含有する樹脂組成物を表層及び裏層とする多層シートが、光拡散性、寸法安定性、耐光性、熱安定性、輝度、及びリサイクル性に優れることを見出し、本発明に到達したものである。
すなわち、本発明は以下の要旨を有する。
１．多層構成の光拡散シートであって、表層ａ及び裏層ｃが下記（Ａ）成分を含み、中間層ｂが（Ｂ）成分を含む多層シート。
（Ａ）成分：スチレン系単量体単位２０〜１００質量％及び（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位８０〜０質量％を含むスチレン系共重合体１００質量部に対して、そのスチレン系共重合体との屈折率差が０．００５以内であり、平均粒子径が５〜１５μｍの未溶融化合物を１〜１０質量部と、ヒンダードアミン系化合物を０．１〜２質量部と、ベンゾトリアゾール系化合物を０．１〜２質量部とを含むスチレン系樹脂組成物。
（Ｂ）成分：スチレン系単量体単位９０〜９９質量％と（メタ）アクリル酸系単量体単位１０〜１質量％とを含むスチレン系共重合体１００質量部に対して、そのスチレン系共重合体との屈折率差が０．０５〜０．１５で平均粒子径が２〜１０μｍの未溶融化合物を１〜１０質量部もしくは平均粒子径１〜１０μｍのポリオルガノシロキサン架橋ビーズを０．５〜２．５質量部含有してなるスチレン系樹脂組成物。
２．表層ａ及び裏層ｃが上記（Ａ）成分からなり、中間層ｂが請求項１に記載の多層シートを粉砕したもの０〜４０質量％と、スチレン系単量体単位９０〜９９質量％とメタクリル酸単量体単位１０〜１質量％とを含むスチレン系共重合体１００質量部に対して、そのスチレン系共重合体との屈折率差が０．０５〜０．１５で平均粒子径が２〜１０μｍの未溶融化合物を１〜１０質量部とを含有してなるスチレン系樹脂組成物１００〜６０質量％を含む多層シート。
３．（Ａ）成分に含有される未溶融化合物が、単量体単位としてスチレン及びメタクリル酸メチルを含む架橋共重合体である上記１又は２に記載の多層シート。
４．（Ｂ）成分に含有される未溶融化合物が、単量体単位としてメタクリル酸メチルを含む架橋重合体である上記１〜３のいずれか１項に記載の多層シート。
５．ヒンダードアミン系化合物が、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケートである上記１〜４のいずれか１項に記載の多層シート。
６．ベンゾトリアゾール系化合物が、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノールである上記１〜５のいずれか１項に記載の多層シート。
７．（Ａ）成分と（Ｂ）成分の少なくとも一方に、スチレン系共重合体１００質量部に対して、さらに、ベンゾキサゾール系化合物を０．０００５〜０．５質量部含有する、上記１〜６のいずれか１項に記載の多層シート。
８．ベンゾキサゾール系化合物が、２，５−チオフェンジイル（５−ｔ−ブチル−１，３−ベンゾキサゾール）である、上記７に記載の多層シート。
９．（Ａ）成分のスチレン系共重合体１００質量部に対して、さらに、アミン系界面活性剤を０．１〜３質量部含有する、上記１〜８のいずれか１項に記載の多層シート。
１０．アミン系界面活性剤が、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−（２−ヒドロキシアルキル）アミンである、上記９に記載の多層シート。
１１．（Ａ）成分のスチレン系共重合体１００質量部に対して、スチレン系共重合体との屈折率差が０．０２以下のポリエーテルエステルアミドブロック共重合体を７〜２０質量部と、アニオン系界面活性剤及び非アミンノニオン系界面活性剤を２質量部以下とを含有する、上記１〜８のいずれか１項に記載の多層シート。
１２．ポリエーテルエステルアミドブロック共重合体が、単量体単位として次の（Ｆ−Ａ）、（Ｆ−Ｂ）及び（Ｆ−Ｃ）を含むポリエーテルエステルアミドブロック共重合体である上記１１に記載の多層シート。
（Ｆ−Ａ）：炭素数６以上のアミノカルボン酸もしくはラクタム、又は炭素数６以上のジアミンとジカルボン酸の塩。
（Ｆ−Ｂ）：一般式（化１）〜式（化３）の少なくとも１種のジオール化合物。
式中、Ｒ1はエチレンオキシド基、Ｒ２はエチレンオキシド基またはプロピレンオキシド基、Ｘはハロゲン、アルキル基（炭素数＝１〜６）又はスルホン酸基もしくはその金属塩、Ｌは０〜４の整数、ｍ及びｎは１６以上の整数を表す。
式中、Ｒ1はエチレンオキシド基、Ｒ２はエチレンオキシド基またはプロピレンオキシド基、Ｘはハロゲン、アルキル基（炭素数＝１〜６）又はスルホン基もしくはその金属塩、Ｙはアルキレン基（炭素数＝１〜６）、アルキリデン基（炭素数＝１〜６）、シクロアルキリデン基（炭素数＝７〜１７）、アリールアルキリデン基（炭素数＝７〜１７）、Ｏ、ＳＯ、ＳＯ２、ＣＯ、Ｓ、ＣＦ２、Ｃ（ＣＦ３）２またはＮＨ、Ｌは０〜４の整数、ｍ及びｎは１６以上の整数を表す。
式中、Ｒ1はエチレンオキシド基、Ｒ２はエチレンオキシド基またはプロピレンオキシド基、ｍ及びｎは１６以上の整数を表す。
（Ｆ−Ｃ）：炭素数４〜２０のジカルボン酸。
１３．（Ａ）成分中のアニオン系界面活性剤及び非アミンノニオン系界面活性剤の配合比（質量比）が、アニオン系界面活性剤／非アミンノニオン系界面活性剤＝０．５／９９．５〜１５／８５である上記１１又は１２に記載の多層シート。
１４．（Ａ）成分中のアニオン系界面活性剤が、炭素数１０〜１４の有機スルホン酸金属塩であり、非アミンノニオン系界面活性剤が、グリセリン脂肪酸エステルである上記１１〜１３のいずれか１項に記載の多層シート。
１５．多層構成の各厚みが、表層ａ及び裏層ｃ：０．００５〜０．５ｍｍ、中間層ｂ：１〜７ｍｍである上記１〜１４のいずれか１項に記載の多層シート。
１６．表層ａ、中間層ｂ及び裏層ｃを、同時に押出し加工して得られる上記１〜１５のいずれか１項に記載の多層シート。
１．多層構成の光拡散シートであって、表層ａ及び裏層ｃが下記（Ａ）成分を含み、中間層ｂが（Ｂ）成分を含む多層シート。
（Ａ）成分：スチレン系単量体単位２０〜１００質量％及び（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位８０〜０質量％を含むスチレン系共重合体１００質量部に対して、そのスチレン系共重合体との屈折率差が０．００５以内であり、平均粒子径が５〜１５μｍの未溶融化合物を１〜１０質量部と、ヒンダードアミン系化合物を０．１〜２質量部と、ベンゾトリアゾール系化合物を０．１〜２質量部とを含むスチレン系樹脂組成物。
（Ｂ）成分：スチレン系単量体単位９０〜９９質量％と（メタ）アクリル酸系単量体単位１０〜１質量％とを含むスチレン系共重合体１００質量部に対して、そのスチレン系共重合体との屈折率差が０．０５〜０．１５で平均粒子径が２〜１０μｍの未溶融化合物を１〜１０質量部もしくは平均粒子径１〜１０μｍのポリオルガノシロキサン架橋ビーズを０．５〜２．５質量部含有してなるスチレン系樹脂組成物。
２．表層ａ及び裏層ｃが上記（Ａ）成分からなり、中間層ｂが請求項１に記載の多層シートを粉砕したもの０〜４０質量％と、スチレン系単量体単位９０〜９９質量％とメタクリル酸単量体単位１０〜１質量％とを含むスチレン系共重合体１００質量部に対して、そのスチレン系共重合体との屈折率差が０．０５〜０．１５で平均粒子径が２〜１０μｍの未溶融化合物を１〜１０質量部とを含有してなるスチレン系樹脂組成物１００〜６０質量％を含む多層シート。
３．（Ａ）成分に含有される未溶融化合物が、単量体単位としてスチレン及びメタクリル酸メチルを含む架橋共重合体である上記１又は２に記載の多層シート。
４．（Ｂ）成分に含有される未溶融化合物が、単量体単位としてメタクリル酸メチルを含む架橋重合体である上記１〜３のいずれか１項に記載の多層シート。
５．ヒンダードアミン系化合物が、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケートである上記１〜４のいずれか１項に記載の多層シート。
６．ベンゾトリアゾール系化合物が、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノールである上記１〜５のいずれか１項に記載の多層シート。
７．（Ａ）成分と（Ｂ）成分の少なくとも一方に、スチレン系共重合体１００質量部に対して、さらに、ベンゾキサゾール系化合物を０．０００５〜０．５質量部含有する、上記１〜６のいずれか１項に記載の多層シート。
８．ベンゾキサゾール系化合物が、２，５−チオフェンジイル（５−ｔ−ブチル−１，３−ベンゾキサゾール）である、上記７に記載の多層シート。
９．（Ａ）成分のスチレン系共重合体１００質量部に対して、さらに、アミン系界面活性剤を０．１〜３質量部含有する、上記１〜８のいずれか１項に記載の多層シート。
１０．アミン系界面活性剤が、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−（２−ヒドロキシアルキル）アミンである、上記９に記載の多層シート。
１１．（Ａ）成分のスチレン系共重合体１００質量部に対して、スチレン系共重合体との屈折率差が０．０２以下のポリエーテルエステルアミドブロック共重合体を７〜２０質量部と、アニオン系界面活性剤及び非アミンノニオン系界面活性剤を２質量部以下とを含有する、上記１〜８のいずれか１項に記載の多層シート。
１２．ポリエーテルエステルアミドブロック共重合体が、単量体単位として次の（Ｆ−Ａ）、（Ｆ−Ｂ）及び（Ｆ−Ｃ）を含むポリエーテルエステルアミドブロック共重合体である上記１１に記載の多層シート。
（Ｆ−Ａ）：炭素数６以上のアミノカルボン酸もしくはラクタム、又は炭素数６以上のジアミンとジカルボン酸の塩。
（Ｆ−Ｂ）：一般式（化１）〜式（化３）の少なくとも１種のジオール化合物。
（Ｆ−Ｃ）：炭素数４〜２０のジカルボン酸。
１３．（Ａ）成分中のアニオン系界面活性剤及び非アミンノニオン系界面活性剤の配合比（質量比）が、アニオン系界面活性剤／非アミンノニオン系界面活性剤＝０．５／９９．５〜１５／８５である上記１１又は１２に記載の多層シート。
１４．（Ａ）成分中のアニオン系界面活性剤が、炭素数１０〜１４の有機スルホン酸金属塩であり、非アミンノニオン系界面活性剤が、グリセリン脂肪酸エステルである上記１１〜１３のいずれか１項に記載の多層シート。
１５．多層構成の各厚みが、表層ａ及び裏層ｃ：０．００５〜０．５ｍｍ、中間層ｂ：１〜７ｍｍである上記１〜１４のいずれか１項に記載の多層シート。
１６．表層ａ、中間層ｂ及び裏層ｃを、同時に押出し加工して得られる上記１〜１５のいずれか１項に記載の多層シート。
本発明の光拡散シートは、光拡散性、寸法安定性、耐光性、熱安定性、輝度に優れていることより、光学的表示用途に好適に用いることができる。また、リサイクル性に優れているため、収率の向上およびそれに伴いコストダウンが可能となる。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明に用いられるスチレン系単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−ｔ−ブチルスチレン等が挙げられるが、好ましくはスチレンである。
本発明に用いられるスチレン系単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−ｔ−ブチルスチレン等が挙げられるが、好ましくはスチレンである。
本発明における、（メタ）アクリル酸エステル系単量体としては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、２−メチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート等が挙げられる。これらは、単独で使用してもよく、また２種類以上を併用してもよい。好ましくは、メチルメタクリレート、エチルアクリレートもしくはｎ−ブチルアクリレートまたはこれらの混合物である。
本発明の表層及び裏層に使用される（Ａ）成分中のスチレン系共重合体は、スチレン系単量体単位２０〜１００質量％、好ましくは５０〜９０質量％と、（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位８０〜０質量％、好ましくは５０〜１０質量％とを含む。スチレン系単量体単位が２０質量％未満では、得られる光拡散シートが吸湿により反る場合がある。スチレン系共重合体がスチレン系単量体単位５０〜９０質量％と、及び（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位１０〜５０質量％とを含むと、（Ｂ）成分中の共重合体との相溶性が向上するために、得られる光拡散シートのリサイクル性が優れる。
本発明の中間層に使用される（Ｂ）成分中のスチレン系共重合体は、スチレン系単量体単位を９０〜９９質量％、好ましくは９１〜９７質量％とメタクリル酸単量体単位を１０〜１質量％、好ましくは３〜９質量％とを含有する。スチレン系単量体単位が９９質量％を超えると得られる光拡散シートの熱安定性が低下する場合があり、９０質量％未満では吸湿により変形する場合がある。
本発明における（メタ）アクリル酸系単量体とは、メタクリル酸、アクリル酸、エタクリル酸等が挙げられる。好ましくは、メタクリル酸である。
本発明における（メタ）アクリル酸系単量体とは、メタクリル酸、アクリル酸、エタクリル酸等が挙げられる。好ましくは、メタクリル酸である。
本発明の中間層に使用される（Ｂ）成分中のスチレン系共重合体は、スチレン系単量体及びメタクリル酸単量体の他に、これらと共重合可能なビニル系単量体が共重合していてもよく、その量はスチレン系単量体と（メタ）アクリル酸系単量体の合計量１００質量部に対して、１０質量部以下が好ましい。この共重合可能なビニル系単量体としては、例えば、アクリロニトリルやメタクリロニトリル等のシアン化ビニル単量体；アクリル酸、無水マレイン酸、マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等の不飽和カルボン酸単量体；マレイミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド等のマレイミド単量体等が挙げられる。これらは、単独で使用してもよく、または２種類以上を併用してもよい。
（Ａ）成分中の未溶融化合物は、１気圧の雰囲気下で、２００℃以上、好ましくは２２０〜３２０℃の融点または軟化点を有する化合物が好ましい。融点または軟化点が２００℃未満では、スチレン系共重合体との溶融混練時、またはスチレン系樹脂組成物のシート化時に該化合物が溶融しやすく、優れた光学特性を保持することができない場合がある。（Ａ）成分中のスチレン系共重合体と未溶融化合物の屈折率差は０．００５以内、好ましくは０．００３以内である。屈折率差が０．００５を超えると、全光線透過率及び光拡散率が低下する。また、未溶融化合物の平均粒子径は１〜１５μｍ、好ましくは５〜１４μｍである。平均粒子径が１μｍ未満では、曇り度や拡散率が小さくなり光拡散性が低下し、１５μｍを超えると全光線透過率及び光拡散率が低下する。なお、未溶融化合物の平均粒子径は、コールター・マルチサイザー（ベックマン・コールター社製）を用いて測定して得られる値である。測定はレーザー回折光散乱法により行い、溶媒には水を用い、１分間、ホモジナイザーを用いて２００Ｗの出力をかけて試料を分散させ、ＰＩＤＳ（Ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ Ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ Ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ）濃度を４５〜５５％に調整、水の屈折率を１．３３として測定を行い、体積分布より算出したものを平均粒子径とした。
未溶融化合物は、（Ａ）成分中のスチレン系共重合体１００質量部に対して１〜１０質量部、好ましくは２〜９質量部含有することが必要である。未溶融化合物の含有量が１質量部未満では、曇り度や拡散率が小さくなり光拡散性が低下し、１０質量部を超えると全光線透過率及び光拡散率が低下する傾向にある。（Ａ）成分中の未溶融化合物は、特に限定されるものでは無いが、単量体単位としてスチレンとメタクリル酸メチルを含む架橋共重合体が好ましい。
未溶融化合物は、（Ａ）成分中のスチレン系共重合体１００質量部に対して１〜１０質量部、好ましくは２〜９質量部含有することが必要である。未溶融化合物の含有量が１質量部未満では、曇り度や拡散率が小さくなり光拡散性が低下し、１０質量部を超えると全光線透過率及び光拡散率が低下する傾向にある。（Ａ）成分中の未溶融化合物は、特に限定されるものでは無いが、単量体単位としてスチレンとメタクリル酸メチルを含む架橋共重合体が好ましい。
（Ａ）成分中には、スチレン系共重合体１００質量部に対してヒンダードアミン系化合物０．１〜２質量部、好ましくは０．２〜１．２質量部及びベンゾトリアゾール系化合物０．１〜２質量部、好ましくは０．２〜１．２質量部を含有する必要がある。
ヒンダードアミン系化合物及びベンゾトリアゾール系化合物が、それぞれ０．１質量部未満では耐光性が低下し、２質量部を超えると、得られる光拡散シートの黄色度が強くなる傾向がある。
ヒンダードアミン系化合物は、アミン系の光安定性向上剤であって、例えば、デカンニ酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−１（オクチルオキシ）−４−ピペリジニル）エステル、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドリキシフェニル］メチル］ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、メチル１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルセバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート等がある。これらを単独で使用してもよく、また２種類以上を混合して使用してもよい。
また、ベンゾトリアゾール系化合物は、紫外線吸収剤であって、例えば、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ｐ−クレゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−［５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチル］−６−（ｔ−ブチル）フェノール、２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−（５−クロロベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール等である。これらを単独で使用してもよく、また２種類以上を混合して使用してもよい。
ヒンダードアミン系化合物及びベンゾトリアゾール系化合物が、それぞれ０．１質量部未満では耐光性が低下し、２質量部を超えると、得られる光拡散シートの黄色度が強くなる傾向がある。
ヒンダードアミン系化合物は、アミン系の光安定性向上剤であって、例えば、デカンニ酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−１（オクチルオキシ）−４−ピペリジニル）エステル、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドリキシフェニル］メチル］ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、メチル１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルセバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート等がある。これらを単独で使用してもよく、また２種類以上を混合して使用してもよい。
また、ベンゾトリアゾール系化合物は、紫外線吸収剤であって、例えば、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ｐ−クレゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−［５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチル］−６−（ｔ−ブチル）フェノール、２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−（５−クロロベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール等である。これらを単独で使用してもよく、また２種類以上を混合して使用してもよい。
本発明においては（Ａ）成分中、もしくは（Ａ）成分中または（Ｂ）成分中の少なくとも一方に、着色剤であっていわゆる蛍光増白剤であるベンゾキサゾール系化合物をスチレン系共重合体１００質量部に対して好ましくは０．０００５〜０．５質量部、さらに好ましくは０．０００８〜０．２質量部含有することが望ましい。ベンゾキサゾール系化合物含有量が０．０００５質量部以上であると、０．０００５質量部未満と比べて、得られるシートの黄色度が低減され、外観がより改善されるとともに、得られる多層シートの輝度が上がる傾向があり好ましい。０．５質量部以下では、０．５質量部を超える場合と比較して、得られる多層シートの耐光性がより向上するため好ましい。
ベンゾキサゾール系化合物としては、例えば、２，５−チオフェンジイル（５−ｔ−ブチル−１，３−ベンゾキサゾール、２，５−チオフェンジイル（５−ｔ−ブチル−１，３−ベンゾキサゾール１０％とジシクロヘキシルフタレート９０％の混合物、４，４‘−ビス（ベンゾオキサゾール−２−イル）スチルベン等が挙げられ、これらを単独で用いてもよく、またはこれらを併用してもよい。
ベンゾキサゾール系化合物としては、例えば、２，５−チオフェンジイル（５−ｔ−ブチル−１，３−ベンゾキサゾール、２，５−チオフェンジイル（５−ｔ−ブチル−１，３−ベンゾキサゾール１０％とジシクロヘキシルフタレート９０％の混合物、４，４‘−ビス（ベンゾオキサゾール−２−イル）スチルベン等が挙げられ、これらを単独で用いてもよく、またはこれらを併用してもよい。
本発明の多層シートに防塵のため帯電防止性能を付与したい場合は、（Ａ）成分中にアミン系界面活性剤をスチレン系共重合体１００質量部に対して０．１〜３質量部含有することが好ましい。アミン系界面活性剤が０．１質量部以上であると、０．１質量部未満と比べて十分な帯電防止効果を得ることができる。３質量部を超えると３質量部以下の場合と比べて得られるシートが変色する可能性がある。
アミン系界面活性剤としては、例えば、アルキルジエタノールアミン、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルキルジエタノールアミド、ポリオキシエチレンアルキルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−（２−ヒドロキシアルキル）アミンなどが挙げられ、それらを単独で用いてもよく、また２種類以上を併用してもよい。
アミン系界面活性剤としては、例えば、アルキルジエタノールアミン、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルキルジエタノールアミド、ポリオキシエチレンアルキルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−（２−ヒドロキシアルキル）アミンなどが挙げられ、それらを単独で用いてもよく、また２種類以上を併用してもよい。
本発明の多層シートに耐傷つき性および帯電防止性能を付与したい場合は、（Ａ）成分中に、スチレン系共重合体との屈折率差が０．０２以下のポリエーテルエステルアミドブロック共重合体を、スチレン系共重合体１００質量部に対して７〜２０質量部、好ましくは８〜１７質量部、アニオン系界面活性剤および非アミンノニオン系界面活性剤を含み、その量は２質量部以下、好ましくは０．５〜１．５質量部であることが好適である。
ポリエーテルエステルアミドブロック共重合体が７質量部以上あると、７質量部未満の場合と比べて得られる多層シートの耐傷つき性がより向上し、また十分な帯電防止効果が得られるため、好ましい。ポリエーテルエステルアミドブロック共重合体の含有量が２０質量部以下であると、２０質量部を超える場合と比べて、得られる多層シートの黄色度が低減されるため好ましい。また、屈折率差が０．０２以下であれば、０．０２を超える場合と比べて、光透過性が向上するため好ましい。
ポリエーテルエステルアミドブロック共重合体が７質量部以上あると、７質量部未満の場合と比べて得られる多層シートの耐傷つき性がより向上し、また十分な帯電防止効果が得られるため、好ましい。ポリエーテルエステルアミドブロック共重合体の含有量が２０質量部以下であると、２０質量部を超える場合と比べて、得られる多層シートの黄色度が低減されるため好ましい。また、屈折率差が０．０２以下であれば、０．０２を超える場合と比べて、光透過性が向上するため好ましい。
ポリエーテルエステルアミドブロック共重合体中の単量体（Ｆ−Ａ）は、炭素数６以上のアミノカルボン酸もしくはラクタム、又は炭素数６以上のジアミンとジカルボン酸の塩である。炭素数６以上のアミノカルボン酸としては、例えば、ω−アミノカプロル酸、ω−アミノカプリル酸、ω−アミノエナント酸、１，２アミノドデカン酸が挙げられ、ラクタムとしては、例えば、カプロラクタム、エナントラクタム、カプリルラクタムが挙げられる。炭素数６以上のジアミンとジカルボン酸の塩としては、例えば、ヘキサメチレンジアミン−アジピン酸塩、ヘキサメチレンジアミン−セバシン酸塩、ヘキサメチレンジアミン−イソフタル酸塩等が挙げられる。単量体（Ｆ−Ａ）としては、カプロラクタム、１，２アミノドデカン酸あるいはヘキサメチレンジアミン−アジピン酸塩が特に好ましい。
ポリエーテルエステルアミドブロック共重合体中の単量体（Ｆ−Ｂ）は、ジオール化合物であって、一般式（１）〜（３）で示される。
（式中、Ｒ1はエチレンオキシド基、Ｒ２はエチレンオキシド基またはプロピレンオキシド基、Ｘはハロゲン、アルキル基（炭素数＝１〜６）又はスルホン酸基もしくはその金属塩、Ｌは０〜４の整数、ｍ及びｎは１６以上の整数を表す。）
（式中、Ｒ1はエチレンオキシド基、Ｒ２はエチレンオキシド基またはプロピレンオキシド基、Ｘはハロゲン、アルキル基（炭素数＝１〜６）又はスルホン基もしくはその金属塩、Ｙはアルキレン基（炭素数＝１〜６）、アルキリデン基（炭素数＝１〜６）、
シクロアルキリデン基（炭素数＝７〜１７）、アリールアルキリデン基（炭素数＝７〜１７）、Ｏ、ＳＯ、ＳＯ２、ＣＯ、Ｓ、ＣＦ２、Ｃ（ＣＦ３）２またはＮＨ、
Ｌは０〜４の整数、ｍ及びｎは１６以上の整数を表す。）
（式中、Ｒ1はエチレンオキシド基、Ｒ２はエチレンオキシド基またはプロピレンオキシド基、ｍ及びｎは１６以上の整数を表す。）
シクロアルキリデン基（炭素数＝７〜１７）、アリールアルキリデン基（炭素数＝７〜１７）、Ｏ、ＳＯ、ＳＯ２、ＣＯ、Ｓ、ＣＦ２、Ｃ（ＣＦ３）２またはＮＨ、
Ｌは０〜４の整数、ｍ及びｎは１６以上の整数を表す。）
これらのジオール化合物としては、例えば、ビスフェノールＡのエチレンオキシド及び／又はプロピオンオキシド付加物、２，２−ビス（４，４’−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパンのエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキシド付加物、ジメチルビスフェノールＡのエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキシド付加物、テトラメチルビスフェノールＡのエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキシド付加物、２，２−ビス（４，４’−ヒドロキシフェニル−３，３’−スルホン酸ナトリウム）プロパンのエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキシド付加物、ビスフェノールＳのエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキシド付加物、４，４’−（ヒドロキシ）ビフェニルのエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキシド付加物、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィドのエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキシド付加物、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタンのエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキシド付加物、ビス（４−ヒドロキシフェニル）アミンのエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキシド付加物、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテルのエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキシド付加物、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクリヘキサンのエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキシド付加物、１，４−ジヒドロキシシクロヘキサンのエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキシド付加物、ハイドロキノンのエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキシド付加物、ジヒドロキシナフタレンのエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキシド付加物が挙げられ、あるいはこれらのブロック共重合体でもよい。
好ましい単量体（Ｆ−Ｂ）のジオール化合物は、ハイドロキノンのエチレンオキシド付加物や、ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物、ビスフェノールＳのエチレンオキシド付加物、ジヒドロキシナフタレンのエチレンオキシド付加物であり、あるいはそのブロック重合体でもよい。特に好ましいのは、ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物である。
ポリエーテルエステルアミドブロック共重合体中の単量体（Ｆ−Ｃ）は、ジカルボン酸であって、炭素数４〜２０のジカルボン酸が好ましく、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、ナフタレン−２，６−ジカルボン酸、ナフタレン−２，７−ジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸；１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環族ジカルボン酸；及びコハク酸、シュウ酸、アジピン酸、セバシン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸などが挙げられる。特に好ましくはアジピン酸である。
（Ｆ−Ａ）、（Ｆ−Ｂ）及び（Ｆ−Ｃ）のポリエーテルエステルアミドブロック共重合体中の単量体単位の割合は、（Ｆ−Ａ）が２５〜８５質量部、（Ｆ−Ｂ）が１５〜７０質量部、（Ｆ−Ｃ）が５〜６０質量部の割合が好ましい。
ポリエーテルエステルアミドブロック共重合体の重合方法は、例えば（Ｆ−Ａ）であるアミノカルボン酸又はラクタムと（Ｆ−Ｃ）であるジカルボン酸を反応させて、両末端がカルボン酸基のポリアミドプレポリマーをつくり、これに（Ｆ−Ｂ）ジオール化合物を真空下に反応させる方法や前記（Ｆ−Ａ）、（Ｆ−Ｂ）及び（Ｆ−Ｃ）の各化合物を反応槽に仕込み、高温で反応させ、ジカルボン酸末端のポリアミドプレポリマーを生成させ、その後常圧又は減圧下で重合を進める方法がある。
上述の通り、（Ａ）成分中には、スチレン系共重合体１００質量部に対してアニオン系界面活性剤及び非アミンノニオン系界面活性剤を含み、その量は２質量部以下、好ましくは０．５〜１．５質量部であることが望ましい。アニオン系界面活性剤及び非アミンノニオン系界面活性剤を含み、その量が２質量部以下であれば、２質量部より多い場合と比べ、得られる多層シートの黄色味が低減されるため好ましい。
アニオン系界面活性剤としては、有機スルホン酸金属塩が挙げられ、具体的には、例えば、アルキルスルホン酸ナトリウム、アルキルスルホン酸リチウム、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、アルキルベンゼンスルホン酸リチウム等である。この中でもアルキルスルホン酸ナトリウムが好適に使用される。更に好ましくは、炭素数１０〜１４のアルキルスルホン酸ナトリウムである。これらは単独で使用してもよく、また２種類以上を併用してもよい。
非アミンノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステルが挙げられる。その中でもグリセリン脂肪酸エステルが好適に用いられる。これらは単独で使用してもよく、また２種類以上を併用してもよい。
上記したアニオン系界面活性剤と非アミンノニオン系界面活性剤を併用する場合は、アニオン系界面活性剤／非アミンノニオン系界面活性剤が０．５／９９．５〜１５／８５（質量比）、好ましくは５／９５〜１２／８８（質量比）の割合で用いると、優れた帯電防止性能が得られる。
（Ｂ）成分に用いられる未溶融化合物は１気圧の雰囲気下で、２００℃以上、好ましくは２２０〜３２０℃に融点または軟化点を有する化合物が好ましい。融点、軟化点が２００℃未満では、スチレン系共重合体との溶融混練時、またはスチレン系樹脂組成物のシート化時に未溶融化合物が溶融しやすく、優れた光学特性を保持することができない場合がある。また、（Ｂ）成分中のスチレン系共重合体と未溶融化合物の屈折率差は、０．０５〜０．１５、好ましくは０．０７〜０．１３である。屈折率差が０．０５未満では、得られる光拡散シートの曇り度や拡散率が小さくなり光拡散性が低下し、０．１５を超えると全光線透過率及び光拡散率が低下する。また、未溶融化合物の平均粒子径は２〜１０μｍ、好ましくは３〜９μｍである。未溶融化合物の平均粒子径が２μｍ未満では、得られた光拡散シートの曇り度が小さくなるとともに光拡散性が低下し、１０μｍを超えると全光線透過率が低下する。なお、未溶融化合物の平均粒子径は、コールター・マルチサイザー（ベックマン・コールター社製）を用いて測定して得られる値である。
また、未溶融化合物は、（Ｂ）成分中のスチレン系共重合体１００質量部に対して１〜１０質量部、好ましくは２〜９質量部含有することが必要である。未溶融化合物の含有量が１質量部未満では、得られる光拡散シートの曇り度が小さくなるとともに光拡散性が低下し、１０質量部を超えると全光線透過率が低下する。（Ｂ）成分中の未溶融化合物としては、特に限定されるものでは無いが、メタクリル酸メチルを主体とした架橋共重合体が好ましい。
また、未溶融化合物は、（Ｂ）成分中のスチレン系共重合体１００質量部に対して１〜１０質量部、好ましくは２〜９質量部含有することが必要である。未溶融化合物の含有量が１質量部未満では、得られる光拡散シートの曇り度が小さくなるとともに光拡散性が低下し、１０質量部を超えると全光線透過率が低下する。（Ｂ）成分中の未溶融化合物としては、特に限定されるものでは無いが、メタクリル酸メチルを主体とした架橋共重合体が好ましい。
また、（Ｂ）成分に用いられる未溶融化合物としては、スチレン系共重合体１００質量部に対してポリオルガノシロキサン架橋ビーズを０．５〜２．５質量部、好ましくは０．８〜２．２質量部含有される。ポリオルガノシロキサン架橋ビーズの含有量が０．５質量部未満では曇り度や拡散率が小さくなり光拡散性が低下し、２．５質量部を超えると全光線透過率が低下する。
（Ａ）成分中のスチレン系共重合体及び（Ｂ）成分中のスチレン系共重合体の製法に特に制限はないが、塊状重合法、懸濁重合法、溶液重合法、乳化重合法を好適に採用できる。
（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の各素材の配合方法に特に制限はなく、それぞれのスチレン系共重合体の重合前、重合途中、重合直後に配合する方法、分離したスチレン系共重合体と溶融混合により配合する方法等が挙げられる。
それぞれのスチレン系共重合体をペレット化した後に、それと未溶融化合物またはポリオルガノシロキサン架橋ビーズを溶融混合する場合も、その混合方法に特に制限はなく、例えば、ヘンシェルミキサーやタンブラーミキサー等の公知の混合装置にて予備混合した後、単軸押出機または二軸押出機等の押出機を用いて溶融混練を行うことにより、均一に混合することができる。
また、スチレン系共重合体に未溶融化合物またはポリオルガノシロキサン架橋ビーズを高濃度に混合した高濃度混合物を作製しておき、光拡散シートの製造時に、この高濃度混合物とスチレン系共重合体をドライブレンドし、未溶融化合物またはポリオルガノシロキサン架橋ビーズの含有量が規定の濃度となるようにしたものを原料に用いてもよい。
また、スチレン系共重合体に未溶融化合物またはポリオルガノシロキサン架橋ビーズを高濃度に混合した高濃度混合物を作製しておき、光拡散シートの製造時に、この高濃度混合物とスチレン系共重合体をドライブレンドし、未溶融化合物またはポリオルガノシロキサン架橋ビーズの含有量が規定の濃度となるようにしたものを原料に用いてもよい。
（Ａ）成分中のスチレン系共重合体及び（Ｂ）成分中のスチレン系共重合体には、必要に応じて添加剤を配合することができる。例えば、流動性や離型性を向上させるために、可塑剤、滑剤、シリコンオイル等を配合することができる。また、さらなる熱安定性を付与するため、熱安定剤を配合することができる。その他、着色剤を配合することもできる。
本発明の光拡散シートは多層構成を有しており、各層の厚みは、（Ａ）成分を含む表層ａ及び裏層ｃが０．００５〜０．５ｍｍが好ましく、さらに好ましくは０．０３〜０．２ｍｍであり、（Ｂ）成分を含む中間層ｂが、１〜７ｍｍであることが好ましく、１．２〜２．５ｍｍがさらに好ましい。表層ａ及び裏層ｃが０．００５ｍｍ未満では、得られる光拡散シートが光照射により変色する場合があり、０．５ｍｍを超えると吸湿により変形する場合がある。また、中間層ｂが１ｍｍ未満や７ｍｍを超えると、優れた光学特性が得られない場合がある。
光拡散シートは、表層ａ、中間層ｂ及び裏層ｃを別々に押出し加工して得られたシートを熱融着等により貼り合せてもよく、またフィードブロックを用いたＴダイやマルチマニホールドダイを用いて同時に押出し加工してもよい。後者による手法の方が、経済的に有利である他、貼り合せ時のシート表面への傷や異物の混入等を防ぎやすいという品質面においても有利である。
本発明の光拡散シートはリサイクル性を有しており、表層ａ及び裏層ｃは、上記（Ａ）成分からなり、中間層ｂが上記（Ｂ）成分を含む多層シートを粉砕したのを中間層ｂに０〜４０質量％、好ましくは５〜２５質量％含有するようにリサイクルすることができる。中間層ｂの残部（１００〜６０質量％）は上記（Ｂ）成分を含む。中間層ｂに含まれる上記多層シートの粉砕物の量が４０質量％を超えると得られるシートの全光線透過率が低下してしまう。なお、中間層ｂに上記多層シートの粉砕物が含まれる場合にも、本発明の多層シートにおける表層ａ及び裏層ｃは上記（Ａ）成分を含むのが好ましい。
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定して解釈されるものではない。
スチレン系共重合体（Ａ）の製造方法
製造に用いた槽は、容積約５Ｌの第１完全混合槽と約１５Ｌの第２完全混合槽を直列に接続し、さらに予熱器を付した第１脱揮槽と第２脱揮槽を２基直列に接続して構成した。スチレン１０質量％、メチルメタクリレート９０質量％で構成する単量体溶液１００質量部に対し、エチルベンゼン１５質量部、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート０．０１質量部、２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン０．２質量部を混合し原料溶液とした。この原料溶液を毎時６．０ｋｇで１３５℃に制御した第１完全混合槽に供給した。第１完全混合槽出口での転化率は２８質量％であった。次に第１完全混合槽より連続的に抜き出し、１３５℃に制御した第２完全混合槽に供給した。第２完全混合槽出口での転化率は６３％であった。次に第２完全混合槽より連続的に抜き出し、予熱器で加温し、６７ｋＰａ、１６０℃に制御した第１脱揮槽に導入した。さらに第１脱揮槽より連続的に抜き出し、予熱器で加温し、１．３ｋＰａ、２３０℃に制御した第２脱揮槽に導入し単量体を除去した。これをストランド状に押出し切断することによりペレット形状のスチレン系共重合体（Ａ−１）を得た。
製造に用いた槽は、容積約５Ｌの第１完全混合槽と約１５Ｌの第２完全混合槽を直列に接続し、さらに予熱器を付した第１脱揮槽と第２脱揮槽を２基直列に接続して構成した。スチレン１０質量％、メチルメタクリレート９０質量％で構成する単量体溶液１００質量部に対し、エチルベンゼン１５質量部、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート０．０１質量部、２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン０．２質量部を混合し原料溶液とした。この原料溶液を毎時６．０ｋｇで１３５℃に制御した第１完全混合槽に供給した。第１完全混合槽出口での転化率は２８質量％であった。次に第１完全混合槽より連続的に抜き出し、１３５℃に制御した第２完全混合槽に供給した。第２完全混合槽出口での転化率は６３％であった。次に第２完全混合槽より連続的に抜き出し、予熱器で加温し、６７ｋＰａ、１６０℃に制御した第１脱揮槽に導入した。さらに第１脱揮槽より連続的に抜き出し、予熱器で加温し、１．３ｋＰａ、２３０℃に制御した第２脱揮槽に導入し単量体を除去した。これをストランド状に押出し切断することによりペレット形状のスチレン系共重合体（Ａ−１）を得た。
スチレン４０質量％、メチルメタクリレート６０質量％で構成する単量体溶液を用いた以外は、（Ａ−１）と同様に実施し、スチレン系共重合体（Ａ−２）を得た。
スチレン８０質量％、メチルメタクリレート２０質量％で構成する単量体溶液を用いた以外は、（Ａ−１）と同様に実施し、スチレン系共重合体（Ａ−３）を得た。
スチレン９５質量％、メチルメタクリレート５質量％で構成する単量体溶液を用いた以外は、（Ａ−１）と同様に実施し、スチレン系共重合体（Ａ−４）を得た。
スチレン１００質量％で構成する単量体溶液を用いた以外は、（Ａ−１）と同様に実施し、スチレン系共重合体（Ａ−５）を得た。
スチレン系共重合体（Ｂ）の製造
製造に用いた槽は、容積約５Ｌの第１完全混合槽と約１５Ｌの第２完全混合槽を直列に接続し、さらに予熱器を付した第１脱揮槽と第２脱揮槽を２基直列に接続して構成した。４−ｔ−ブチルカテコールが０．１ｐｐｍ含まれるスチレン８５質量％、メタクリル酸（以下ＭＡＡ）１５質量％で構成する単量体溶液１００質量部に対し、エチルベンゼン１５質量部、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート０．０１質量部、２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン０．２質量部を混合し原料溶液とした。この原料溶液を毎時６．０ｋｇで１３５℃に制御した第１完全混合槽に供給した。第１完全混合槽出口での転化率は２８質量％であった。次に第１完全混合槽より連続的に抜き出し、１３５℃に制御した第２完全混合槽に供給した。第２完全混合槽出口での転化率は６３質量％であった。次に第２完全混合槽より連続的に抜き出し、予熱器で加温し、６７ｋＰａ、１６０℃に制御した第１脱揮槽に導入した。さらに第１脱揮槽より連続的に抜き出し、予熱器で加温し、１．３ｋＰａ、２３０℃に制御した第２脱揮槽に導入し単量体を除去した。これをストランド状に押出し切断することによりペレット形状のスチレン系共重合体（Ｂ−１）を得た。
製造に用いた槽は、容積約５Ｌの第１完全混合槽と約１５Ｌの第２完全混合槽を直列に接続し、さらに予熱器を付した第１脱揮槽と第２脱揮槽を２基直列に接続して構成した。４−ｔ−ブチルカテコールが０．１ｐｐｍ含まれるスチレン８５質量％、メタクリル酸（以下ＭＡＡ）１５質量％で構成する単量体溶液１００質量部に対し、エチルベンゼン１５質量部、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート０．０１質量部、２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン０．２質量部を混合し原料溶液とした。この原料溶液を毎時６．０ｋｇで１３５℃に制御した第１完全混合槽に供給した。第１完全混合槽出口での転化率は２８質量％であった。次に第１完全混合槽より連続的に抜き出し、１３５℃に制御した第２完全混合槽に供給した。第２完全混合槽出口での転化率は６３質量％であった。次に第２完全混合槽より連続的に抜き出し、予熱器で加温し、６７ｋＰａ、１６０℃に制御した第１脱揮槽に導入した。さらに第１脱揮槽より連続的に抜き出し、予熱器で加温し、１．３ｋＰａ、２３０℃に制御した第２脱揮槽に導入し単量体を除去した。これをストランド状に押出し切断することによりペレット形状のスチレン系共重合体（Ｂ−１）を得た。
スチレン９２質量％、メタクリル酸８質量％で構成する単量体溶液を用いた以外は、（Ｂ−１）と同様に実施し、スチレン系共重合体（Ｂ−２）を得た。
スチレン９６質量％、メタクリル酸４質量％で構成する単量体溶液を用いた以外は、（Ｂ−１）と同様に実施し、スチレン系共重合体（Ｂ−３）を得た。
スチレン９９．５質量％、メタクリル酸０．５質量％で構成する単量体溶液を用いた以外は、（Ｂ−１）と同様に実施し、スチレン系共重合体（Ｂ−４）を得た。
未溶融化合物であるポリオルガノシロキサン架橋ビーズ（Ｃ）
未溶融化合物としてポリオルガノシロキサン架橋ビーズは、ＧＥ東芝シリコーン社製シリコーンビーズであるトスパール１２０（平均粒子径２μｍ、屈折率１．４２０）（Ｃ−１）、トスパール２０００Ｂ（平均粒子径６μｍ、屈折率１．４２０）（Ｃ−２）、トスパール３１２０（平均粒子径１２μｍ、屈折率１．４２０）（Ｃ−３）を使用した。
未溶融化合物としてポリオルガノシロキサン架橋ビーズは、ＧＥ東芝シリコーン社製シリコーンビーズであるトスパール１２０（平均粒子径２μｍ、屈折率１．４２０）（Ｃ−１）、トスパール２０００Ｂ（平均粒子径６μｍ、屈折率１．４２０）（Ｃ−２）、トスパール３１２０（平均粒子径１２μｍ、屈折率１．４２０）（Ｃ−３）を使用した。
未溶融化合物であるＭＭＡ−ｎＢＡ共重合架橋ビーズ（Ｄ）の製造方法
攪拌機付きオートクレーブにメタクリル酸メチル２０質量部、ｎ−ブチルアクリレート８０質量部、架橋剤としてジビニルベンゼン５質量部、重合開始剤として、ベンゾイルパーオキサイド０．２質量部、懸濁安定剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム０．００１質量部及び第三リン酸カルシウム０．５質量部、純水２００質量部を仕込み、温度９５℃にて６時間、さらに温度１３０℃にて２時間重合した。反応終了後、洗浄、脱水、乾燥を行い、架橋ビーズ（Ｄ）を得た。未溶融化合物の架橋ビーズ（Ｄ）の平均粒子径は４μｍ、屈折率は、１．４６０であった。
攪拌機付きオートクレーブにメタクリル酸メチル２０質量部、ｎ−ブチルアクリレート８０質量部、架橋剤としてジビニルベンゼン５質量部、重合開始剤として、ベンゾイルパーオキサイド０．２質量部、懸濁安定剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム０．００１質量部及び第三リン酸カルシウム０．５質量部、純水２００質量部を仕込み、温度９５℃にて６時間、さらに温度１３０℃にて２時間重合した。反応終了後、洗浄、脱水、乾燥を行い、架橋ビーズ（Ｄ）を得た。未溶融化合物の架橋ビーズ（Ｄ）の平均粒子径は４μｍ、屈折率は、１．４６０であった。
未溶融化合物であるスチレン架橋ビーズ（Ｅ）の製造方法
攪拌機付きオートクレーブにスチレン１００質量部、架橋剤としてジビニルベンゼン５質量部、重合開始剤として、ベンゾイルパーオキサイド０．２質量部、懸濁安定剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム０．００１質量部及び第三リン酸カルシウム０．５質量部、純水２００質量部を仕込み、温度９５℃にて６時間、さらに温度１３０℃にて２時間重合した。反応終了後、洗浄、脱水、乾燥を行い、架橋ビーズ（Ｅ）を得た。（Ｅ）の平均粒子径は８μｍ、屈折率は、１．５９３であった。
攪拌機付きオートクレーブにスチレン１００質量部、架橋剤としてジビニルベンゼン５質量部、重合開始剤として、ベンゾイルパーオキサイド０．２質量部、懸濁安定剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム０．００１質量部及び第三リン酸カルシウム０．５質量部、純水２００質量部を仕込み、温度９５℃にて６時間、さらに温度１３０℃にて２時間重合した。反応終了後、洗浄、脱水、乾燥を行い、架橋ビーズ（Ｅ）を得た。（Ｅ）の平均粒子径は８μｍ、屈折率は、１．５９３であった。
未溶融化合物であるスチレン−ＭＭＡ架橋ビーズ（Ｆ）の製造方法
攪拌機付きオートクレーブにスチレン４０質量部、メタクリル酸メチル６０質量部、架橋剤としてジビニルベンゼン５質量部、重合開始剤として、ベンゾイルパーオキサイド０．２質量部、懸濁安定剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム０．００１質量部及び第三リン酸カルシウム０．５質量部、純水２００質量部を仕込み、温度９５℃にて６時間、さらに温度１３０℃にて２時間重合した。反応終了後、洗浄、脱水、乾燥を行い、架橋ビーズ（Ｆ−１）を得た。（Ｆ−１）の平均粒子径は８μｍ、屈折率は、１．５３５であった。
第三リン酸カルシウム１．０部を用いた以外は（Ｆ−１）と同様な製法により平均粒子径３μｍ、屈折率１．５３５の架橋ビーズ（Ｆ−２）を得た。
また、第三リン酸カルシウム０．２部を用いた以外は（Ｆ−１）と同様な製法により平均粒子径１３μｍ、屈折率１．５３５の架橋ビーズ（Ｆ−３）を得た。
第三リン酸カルシウム０．１部を用いた以外は（Ｆ−１）と同様な製法により平均粒子径１８μｍ、屈折率１．５３５の架橋ビーズ（Ｆ−４）を得た。
スチレン１０質量部、メタクリル酸メチル９０質量部を用いた以外は（Ｆ−１）と同様な製法により平均粒子径８μｍ、屈折率１．５０５の架橋ビーズ（Ｆ−５）を得た。
さらに、スチレン８０質量部、メタクリル酸メチル２０質量部を用いた以外は（Ｆ−１）と同様な製法により平均粒子径８μｍ、屈折率１．５７２の架橋ビーズ（Ｆ−６）を得た。
攪拌機付きオートクレーブにスチレン４０質量部、メタクリル酸メチル６０質量部、架橋剤としてジビニルベンゼン５質量部、重合開始剤として、ベンゾイルパーオキサイド０．２質量部、懸濁安定剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム０．００１質量部及び第三リン酸カルシウム０．５質量部、純水２００質量部を仕込み、温度９５℃にて６時間、さらに温度１３０℃にて２時間重合した。反応終了後、洗浄、脱水、乾燥を行い、架橋ビーズ（Ｆ−１）を得た。（Ｆ−１）の平均粒子径は８μｍ、屈折率は、１．５３５であった。
第三リン酸カルシウム１．０部を用いた以外は（Ｆ−１）と同様な製法により平均粒子径３μｍ、屈折率１．５３５の架橋ビーズ（Ｆ−２）を得た。
また、第三リン酸カルシウム０．２部を用いた以外は（Ｆ−１）と同様な製法により平均粒子径１３μｍ、屈折率１．５３５の架橋ビーズ（Ｆ−３）を得た。
第三リン酸カルシウム０．１部を用いた以外は（Ｆ−１）と同様な製法により平均粒子径１８μｍ、屈折率１．５３５の架橋ビーズ（Ｆ−４）を得た。
スチレン１０質量部、メタクリル酸メチル９０質量部を用いた以外は（Ｆ−１）と同様な製法により平均粒子径８μｍ、屈折率１．５０５の架橋ビーズ（Ｆ−５）を得た。
さらに、スチレン８０質量部、メタクリル酸メチル２０質量部を用いた以外は（Ｆ−１）と同様な製法により平均粒子径８μｍ、屈折率１．５７２の架橋ビーズ（Ｆ−６）を得た。
また、攪拌機付きオートクレーブにスチレン８０質量部、メタクリル酸メチル２０質量部、架橋剤としてジビニルベンゼン５質量部、重合開始剤として、ベンゾイルパーオキサイド０．２質量部、懸濁安定剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム０．００１質量部及び第三リン酸カルシウム０．５質量部、純水２００質量部を仕込み、温度９５℃にて６時間、さらに温度１３０℃にて２時間重合した。反応終了後、洗浄、脱水、乾燥を行い、架橋ビーズ（Ｆ−７）を得た。（Ｆ−７）の平均粒子径は８μｍ、屈折率は、１．５７５であった。
第三リン酸カルシウム１．０部を用いた以外は（Ｆ−７）と同様な製法により平均粒子径３μｍ、屈折率１．５７５の架橋ビーズ（Ｆ−８）を得た。
また、第三リン酸カルシウム０．２部を用いた以外は（Ｆ−７）と同様な製法により平均粒子径１３μｍ、屈折率１．５７５の架橋ビーズ（Ｆ−９）を得た。
更に第三リン酸カルシウム０．１部を用いた以外は（Ｆ−７）と同様な製法により平均粒子径１８μｍ、屈折率１．５７５の架橋ビーズ（Ｆ−１０）を得た。
第三リン酸カルシウム１．０部を用いた以外は（Ｆ−７）と同様な製法により平均粒子径３μｍ、屈折率１．５７５の架橋ビーズ（Ｆ−８）を得た。
また、第三リン酸カルシウム０．２部を用いた以外は（Ｆ−７）と同様な製法により平均粒子径１３μｍ、屈折率１．５７５の架橋ビーズ（Ｆ−９）を得た。
更に第三リン酸カルシウム０．１部を用いた以外は（Ｆ−７）と同様な製法により平均粒子径１８μｍ、屈折率１．５７５の架橋ビーズ（Ｆ−１０）を得た。
未溶融化合物であるＰＭＭＡ架橋ビーズ（Ｇ）の製造方法
攪拌機付きオートクレーブにメタクリル酸メチル１００質量部、架橋剤としてジビニルベンゼン５質量部、重合開始剤として、ベンゾイルパーオキサイド０．２質量部、懸濁安定剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム０．００１質量部及び第三リン酸カルシウム０．５質量部、純水２００質量部を仕込み、温度９５℃にて６時間、さらに温度１３０℃にて２時間重合した。反応終了後、洗浄、脱水、乾燥を行い、架橋ビーズ（Ｇ−１）を得た。（Ｇ−１）の平均粒子径は８μｍ、屈折率は、１．４９４であった。
第三リン酸カルシウム１．５部を用いた以外は（Ｇ−１）と同様な製法により平均粒子径１μｍ、屈折率１．４９４の架橋ビーズ（Ｇ−２）を得た。
また、第三リン酸カルシウム１．０部を用いた以外は（Ｇ−１）と同様な製法により平均粒子径３μｍ、屈折率１．４９４の架橋ビーズ（Ｇ−３）を得た。
更に、第三リン酸カルシウム０．２部を用いた以外は（Ｇ−１）と同様な製法により平均粒子径１３μｍ、屈折率１．４９４の架橋ビーズ（Ｇ−４）を得た。
攪拌機付きオートクレーブにメタクリル酸メチル１００質量部、架橋剤としてジビニルベンゼン５質量部、重合開始剤として、ベンゾイルパーオキサイド０．２質量部、懸濁安定剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム０．００１質量部及び第三リン酸カルシウム０．５質量部、純水２００質量部を仕込み、温度９５℃にて６時間、さらに温度１３０℃にて２時間重合した。反応終了後、洗浄、脱水、乾燥を行い、架橋ビーズ（Ｇ−１）を得た。（Ｇ−１）の平均粒子径は８μｍ、屈折率は、１．４９４であった。
第三リン酸カルシウム１．５部を用いた以外は（Ｇ−１）と同様な製法により平均粒子径１μｍ、屈折率１．４９４の架橋ビーズ（Ｇ−２）を得た。
また、第三リン酸カルシウム１．０部を用いた以外は（Ｇ−１）と同様な製法により平均粒子径３μｍ、屈折率１．４９４の架橋ビーズ（Ｇ−３）を得た。
更に、第三リン酸カルシウム０．２部を用いた以外は（Ｇ−１）と同様な製法により平均粒子径１３μｍ、屈折率１．４９４の架橋ビーズ（Ｇ−４）を得た。
着色剤（Ｈ）
着色剤として、蛍光増白剤２，５−チオフェンジイル（５−ｔ−ブチル−１，３−ベンゾキサゾール）（チバスペシャルティケミカルズ社製ユビテックスＯＢ）（Ｈ−１）、また樹脂着色剤であるアンスラキノン系誘導品（三菱化学社製ダイアレジンＢＬＵＥ Ｊ）（Ｈ−２）を用いた。
着色剤として、蛍光増白剤２，５−チオフェンジイル（５−ｔ−ブチル−１，３−ベンゾキサゾール）（チバスペシャルティケミカルズ社製ユビテックスＯＢ）（Ｈ−１）、また樹脂着色剤であるアンスラキノン系誘導品（三菱化学社製ダイアレジンＢＬＵＥ Ｊ）（Ｈ−２）を用いた。
アミン系界面活性剤として、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−（２−ヒドロキシアルキル）アミン（ミヨシ油脂社製ダスパー１２５Ｂ）を（Ｉ）として用いた。
ポリエーテルエステルアミドブロック共重合体（Ｊ）の製造
カプロラクタム５５質量部、ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物３０質量部及びアジピン酸１５質量部からポリエーテルエステルアミド（Ｊ−１）を得た。このポリエーテルエステルアミドの屈折率は１．５３０であった。また、カプロラクタム４０質量部、ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物４５質量部及びアジピン酸１５質量部からポリエーテルエステルアミド（Ｊ−２）を得た。このポリエーテルエステルアミドの屈折率は１．４９０であった。
カプロラクタム５５質量部、ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物３０質量部及びアジピン酸１５質量部からポリエーテルエステルアミド（Ｊ−１）を得た。このポリエーテルエステルアミドの屈折率は１．５３０であった。また、カプロラクタム４０質量部、ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物４５質量部及びアジピン酸１５質量部からポリエーテルエステルアミド（Ｊ−２）を得た。このポリエーテルエステルアミドの屈折率は１．４９０であった。
アニオン系界面活性剤及び／または非アミンノニオン系界面活性剤（Ｋ）
アニオン系界面活性剤としてドデシルスルホン酸ナトリウム（Ｋ−１）を、非アミン系ノニオン系界面活性剤としてグリセリンステアリン酸ジエステル（Ｋ−２）を用いた。
アニオン系界面活性剤としてドデシルスルホン酸ナトリウム（Ｋ−１）を、非アミン系ノニオン系界面活性剤としてグリセリンステアリン酸ジエステル（Ｋ−２）を用いた。
スチレン系共重合体として（Ａ−１）〜（Ａ−３）、（Ａ−５）、（Ｂ−１）〜（Ｂ−４）、未溶融化合物として架橋ビーズＣ−２、Ｄ、Ｅ、（Ｆ−１）〜（Ｆ−６）、（Ｇ−１）〜（Ｇ−４）、ヒンダードアミン系化合物としてビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ベンゾトリアゾール系化合物として２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェノール、着色剤として（Ｈ−１）〜（Ｈ−２）、アミン系界面活性剤としてＮ−ヒドロキシエチル−Ｎ−（２−ヒドロキシアルキル）アミン（Ｉ）、ポリエーテルエステルアミドブロック共重合体として（Ｊ−１）と（Ｊ−２）、アニオン系界面活性剤としてドデシルスルホン酸ナトリウム（Ｋ−１）、非アミン系ノニオン系界面活性剤としてグリセリンステアリン酸ジエステル（Ｋ−２）を、表１−３〜１−５に示す配合比にて混合した。得られた混合物を４０ｍｍ径の単軸押出し機にて、温度２４０℃、スクリュー回転数１００ｒｐｍにて混練し、ペレット化を行い、表１−２〜１−５に示したスチレン系樹脂組成物１−１〜１−４９のペレットを得た。
実施例１−１〜１−２５、比較例１−１〜１−２８
スチレン系樹脂組成物１−１〜１−４９を用いて、フィードブロックを有するＴダイ方式の多層押出機にて表１−６〜１−１１に示した多層構成の３層構成の光拡散シートを作製した。尚、多層押出機は、中間層用が６５ｍｍφのフルフライトスクリューの単軸押出機１台、表裏層用に３０ｍｍφのフルフライトスクリューの単軸押出機各１台からなり各々の溶融樹脂がフィードブロックで合流多層化される試験押出機を使用した。シート化の各シリンダー温度は２３０℃にて運転、成形した。
得られた光拡散シートの光学特性、耐光性、吸水反り、熱安定性、帯電防止性、耐傷付き性を評価し、そのデータを表１−６〜１−１１に示した。
スチレン系樹脂組成物１−１〜１−４９を用いて、フィードブロックを有するＴダイ方式の多層押出機にて表１−６〜１−１１に示した多層構成の３層構成の光拡散シートを作製した。尚、多層押出機は、中間層用が６５ｍｍφのフルフライトスクリューの単軸押出機１台、表裏層用に３０ｍｍφのフルフライトスクリューの単軸押出機各１台からなり各々の溶融樹脂がフィードブロックで合流多層化される試験押出機を使用した。シート化の各シリンダー温度は２３０℃にて運転、成形した。
得られた光拡散シートの光学特性、耐光性、吸水反り、熱安定性、帯電防止性、耐傷付き性を評価し、そのデータを表１−６〜１−１１に示した。
また、スチレン系共重合体として（Ａ−１）〜（Ａ−３）、（Ａ−５）、（Ｂ−１）〜（Ｂ−４）、未溶融化合物として架橋ビーズ（Ｃ−１）〜（Ｃ−３）、Ｅ、（Ｆ−１）〜（Ｆ−６）、Ｇ−１、ヒンダードアミン系化合物としてビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ベンゾトリアゾール系化合物として２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェノール、着色剤として（Ｈ−１）〜（Ｈ−２）、アミン系界面活性剤としてＮ−ヒドロキシエチル−Ｎ−（２−ヒドロキシアルキル）アミン（Ｉ）、ポリエーテルエステルアミドブロック共重合体として（Ｊ−１）〜（Ｊ−２）、アニオン系界面活性剤としてドデシルスルホン酸ナトリウム（Ｋ−１）、非アミン系ノニオン系界面活性剤としてグリセリンステアリン酸ジエステル（Ｋ−２）を、表２−３〜２−５に示す配合比にて混合した。得られた混合物を４０ｍｍ径の単軸押出し機にて、温度２４０℃、スクリュー回転数１００ｒｐｍにて混練し、ペレット化を行い、表２−３〜２−５に示したスチレン系樹脂組成物２−１〜２−４３のペレットを得た。
実施例２−１〜２−２１、比較例２−１〜２−２６
スチレン系樹脂組成物２−１〜２−４３を用いて、フィードブロックを有するＴダイ方式の多層押出機にて表２−６〜２−１０に示した多層構成の３層構成の光拡散シートを作製した。尚、多層押出機は、中間層用が６５ｍｍφのフルフライトスクリューの単軸押出機１台、表裏層用に３０ｍｍφのフルフライトスクリューの単軸押出機各１台からなり各々の溶融樹脂がフィードブロックで合流多層化される試験押出機を使用した。シート化の各シリンダー温度は２３０℃にて運転、成形した。
得られた光拡散シートの光学特性、耐光性、吸水反り、熱安定性、帯電防止性、耐傷付き性を評価し、そのデータを表２−６〜２−１０に示した。
スチレン系樹脂組成物２−１〜２−４３を用いて、フィードブロックを有するＴダイ方式の多層押出機にて表２−６〜２−１０に示した多層構成の３層構成の光拡散シートを作製した。尚、多層押出機は、中間層用が６５ｍｍφのフルフライトスクリューの単軸押出機１台、表裏層用に３０ｍｍφのフルフライトスクリューの単軸押出機各１台からなり各々の溶融樹脂がフィードブロックで合流多層化される試験押出機を使用した。シート化の各シリンダー温度は２３０℃にて運転、成形した。
得られた光拡散シートの光学特性、耐光性、吸水反り、熱安定性、帯電防止性、耐傷付き性を評価し、そのデータを表２−６〜２−１０に示した。
さらに、スチレン系共重合体として（Ａ−２）〜（Ａ−４）、（Ｂ−１）〜（Ｂ−４）、未溶融化合物として架橋ビーズＣ−２、Ｄ、（Ｆ−７）〜（Ｆ−１０）、（Ｇ−１）〜（Ｇ−４）、ヒンダードアミン系化合物としてビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ベンゾトリアゾール系化合物として２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェノール、着色剤として（Ｈ−１）〜（Ｈ−２）、アミン系界面活性剤としてＮ−ヒドロキシエチル−Ｎ−（２−ヒドロキシアルキル）アミン（Ｉ）を、表３−３、３−４に示す配合比にて混合した。得られた混合物を４０ｍｍ径の単軸押出し機にて、温度２４０℃、スクリュー回転数１００ｒｐｍにて混練し、ペレット化を行い、表３−３、３−４に示したスチレン系樹脂組成物３−１〜３−３２のペレットを得た。
実施例３−１〜３−１３、比較例３−１〜３−２５
スチレン系樹脂組成物３−１〜３−３２を用いて、フィードブロックを有するＴダイ方式の多層押出機にて表３−５〜３−１２に示した３層構成の光拡散シート３−１〜３−３８を作製した。尚、多層押出機は、中間層用が６５ｍｍφのフルフライトスクリューの単軸押出機１台、表裏層用に３０ｍｍφのフルフライトスクリューの単軸押出機各１台からなり各々の溶融樹脂がフィードブロックで合流多層化される試験押出機を使用した。シート化の各シリンダー温度は２３０℃にて運転、成形した。
また、シートの中間層に用いるスチレン系樹脂組成物に、得られた光拡散シート３−１〜３−３８を粉砕したものを２〜３０質量％添加して、再度同様に多層押出機にて３層構成の光拡散シート３−１‘〜３−３８’を作製した。
得られた光拡散シートの光学特性、耐光性、吸水反り、熱安定性、帯電防止性、リサイクル性を評価し、そのデータを表３−５〜３−１２に示した。
曇り度９９％以上、全光線透過率６５％以上、拡散率１７％以上、黄色度を示すｂ値が１未満、輝度３５００ｃｍ／ｍ２以上である場合、さらに耐光性は色差ΔＥ値が１未満である場合、光学特性が良好と判断できる。また優れた寸法安定性を発現するには吸水反りが１ｍｍ未満、優れた熱安定性を発現するには加熱変形が１ｍｍ未満、優れた帯電防止性を発現するには表面固有抵抗値が１０１２Ω以下であることが必要である。
スチレン系樹脂組成物３−１〜３−３２を用いて、フィードブロックを有するＴダイ方式の多層押出機にて表３−５〜３−１２に示した３層構成の光拡散シート３−１〜３−３８を作製した。尚、多層押出機は、中間層用が６５ｍｍφのフルフライトスクリューの単軸押出機１台、表裏層用に３０ｍｍφのフルフライトスクリューの単軸押出機各１台からなり各々の溶融樹脂がフィードブロックで合流多層化される試験押出機を使用した。シート化の各シリンダー温度は２３０℃にて運転、成形した。
また、シートの中間層に用いるスチレン系樹脂組成物に、得られた光拡散シート３−１〜３−３８を粉砕したものを２〜３０質量％添加して、再度同様に多層押出機にて３層構成の光拡散シート３−１‘〜３−３８’を作製した。
得られた光拡散シートの光学特性、耐光性、吸水反り、熱安定性、帯電防止性、リサイクル性を評価し、そのデータを表３−５〜３−１２に示した。
曇り度９９％以上、全光線透過率６５％以上、拡散率１７％以上、黄色度を示すｂ値が１未満、輝度３５００ｃｍ／ｍ２以上である場合、さらに耐光性は色差ΔＥ値が１未満である場合、光学特性が良好と判断できる。また優れた寸法安定性を発現するには吸水反りが１ｍｍ未満、優れた熱安定性を発現するには加熱変形が１ｍｍ未満、優れた帯電防止性を発現するには表面固有抵抗値が１０１２Ω以下であることが必要である。
得られた光拡散シートの各測定方法は以下の通りである。
（１）透過率、曇り度：ＡＳＴＭ Ｄ−１００３に準じて、日本電色工業社製ＨＡＺＥメーター（ＮＤＨ−２０００）を用いて測定した。
（２）：日本電色工業社製変角光度計（ＧＣ５０００Ｌ）を用いて、受光角０°の光線透過率Ｉ０、受光角７０°の光線透過率Ｉ７０を測定し、次式により算出した。
拡散率（％）＝（Ｉ７０／Ｉ０）×１００
（３）耐光性：東洋精機製作所社製アトラスＵＶ２０００を用いて、ＵＶＢ−３１３の波長の光を４００時間照射後の色差△Ｅを測定した。
（４）寸法安定性（吸水反り）：１８０ｍｍ×１８０ｍｍの大きさに切削した光拡散シートを５０℃、湿度８０％の雰囲気下に７日間放置、放置前後の四隅の変形量をノギスで測定、その平均値を吸水反りの値とし、この値を寸法安定性の尺度とした。
（５）黄色度、色差：日本電色社製色差計（Σ―８０）を用いて、Ｌ，ａ，ｂを測定し、黄色度の尺度としてｂ値を示した。また耐光性評価の色差△Ｅは次式により求めた。
△Ｅ＝（（Ｌ−Ｌ‘）２＋（ａ−ａ’）２＋（ｂ−ｂ‘）２）１／２
但し、Ｌ，ａ，ｂは、耐光性評価前の色相、Ｌ‘，ａ’，ｂ‘は、耐光性評価後（４００Ｈｒ照射後）の色相である。
（６）加熱変形：３００ｍｍ×３００ｍｍの大きさに切削した光拡散シートを８０℃の雰囲気下に７日間放置し、放置後の四隅の変形量をノギスで測定、その平均値を加熱変形の値とし、この値を熱安定性の尺度とした。
（７）帯電防止性：成形体をＪＩＳ Ｋ−６９１１に準拠して温度２３℃、湿度５０％ＲＨで２４時間調湿したものの表面固有抵抗値を、ＫＡＷＡＧＵＣＨＩ社製表面固有抵抗測定機（Ｒ５０３）を用いて測定し、この値を帯電防止性の尺度とした。
（８）傷付き性：同種材の光拡散シートを２枚重ね、底面積１０ｃｍ２で３００ｇの荷重をかけて、１ｃｍ幅を１分間に６０回の速度で６０回振動させた後の表面を観察した。傷の有無を観察し、無しのものを耐傷付き性良好（良）とした。
（９）輝度：反射シートの上に直径５ｍｍ、長さ２００ｍｍの冷陰極管９本を２０ｍｍ間隔で並べ、冷陰極管上５ｍｍのところに１８０ｍｍ×１８０ｍｍの大きさに切削した光拡散シートを設置し、さらにその上に拡散フィルム、プリズムシート、輝度上昇フィルムを載せた。暗室にて冷陰極管を点灯し、光拡散シートより１０００ｍｍの位置で、トプコン社製輝度計（ＢＭ−７）を用いて３０ｍｍ間隔で計３６点測定し、その平均値を求めた。
（１）透過率、曇り度：ＡＳＴＭ Ｄ−１００３に準じて、日本電色工業社製ＨＡＺＥメーター（ＮＤＨ−２０００）を用いて測定した。
（２）：日本電色工業社製変角光度計（ＧＣ５０００Ｌ）を用いて、受光角０°の光線透過率Ｉ０、受光角７０°の光線透過率Ｉ７０を測定し、次式により算出した。
拡散率（％）＝（Ｉ７０／Ｉ０）×１００
（３）耐光性：東洋精機製作所社製アトラスＵＶ２０００を用いて、ＵＶＢ−３１３の波長の光を４００時間照射後の色差△Ｅを測定した。
（４）寸法安定性（吸水反り）：１８０ｍｍ×１８０ｍｍの大きさに切削した光拡散シートを５０℃、湿度８０％の雰囲気下に７日間放置、放置前後の四隅の変形量をノギスで測定、その平均値を吸水反りの値とし、この値を寸法安定性の尺度とした。
（５）黄色度、色差：日本電色社製色差計（Σ―８０）を用いて、Ｌ，ａ，ｂを測定し、黄色度の尺度としてｂ値を示した。また耐光性評価の色差△Ｅは次式により求めた。
△Ｅ＝（（Ｌ−Ｌ‘）２＋（ａ−ａ’）２＋（ｂ−ｂ‘）２）１／２
但し、Ｌ，ａ，ｂは、耐光性評価前の色相、Ｌ‘，ａ’，ｂ‘は、耐光性評価後（４００Ｈｒ照射後）の色相である。
（６）加熱変形：３００ｍｍ×３００ｍｍの大きさに切削した光拡散シートを８０℃の雰囲気下に７日間放置し、放置後の四隅の変形量をノギスで測定、その平均値を加熱変形の値とし、この値を熱安定性の尺度とした。
（７）帯電防止性：成形体をＪＩＳ Ｋ−６９１１に準拠して温度２３℃、湿度５０％ＲＨで２４時間調湿したものの表面固有抵抗値を、ＫＡＷＡＧＵＣＨＩ社製表面固有抵抗測定機（Ｒ５０３）を用いて測定し、この値を帯電防止性の尺度とした。
（８）傷付き性：同種材の光拡散シートを２枚重ね、底面積１０ｃｍ２で３００ｇの荷重をかけて、１ｃｍ幅を１分間に６０回の速度で６０回振動させた後の表面を観察した。傷の有無を観察し、無しのものを耐傷付き性良好（良）とした。
（９）輝度：反射シートの上に直径５ｍｍ、長さ２００ｍｍの冷陰極管９本を２０ｍｍ間隔で並べ、冷陰極管上５ｍｍのところに１８０ｍｍ×１８０ｍｍの大きさに切削した光拡散シートを設置し、さらにその上に拡散フィルム、プリズムシート、輝度上昇フィルムを載せた。暗室にて冷陰極管を点灯し、光拡散シートより１０００ｍｍの位置で、トプコン社製輝度計（ＢＭ−７）を用いて３０ｍｍ間隔で計３６点測定し、その平均値を求めた。
光拡散シート以外の評価は以下のとおり行った。
（１０）屈折率：未溶融化合物については、アッベ式屈折計にて波長５８９ｎｍ、２３℃の雰囲気下にて測定した。また、スチレン系共重合体については、デジタル屈折率計（ＡＴＡＧＯ社製ＲＸ−２０００）を用いて、接触液としてヨウ化カリウム飽和水溶液を使用して、温度２５℃で測定した。
（１１）スチレン系共重合体の樹脂組成：スチレン系共重合体を重クロロホルムに溶解して２％溶液に調製して測定試料として、ＦＴ−ＮＭＲ（日本電子社製ＦＸ−９０Ｑ型）を用いて１３Ｃ−ＮＭＲを測定し、スチレンとメチルメタクリレートのピーク面積より算出した。
（１２）スチレン系共重合体中のメタクリル酸単量体単位含有量の測定：
I．スチレン系共重合体中のメタクリル酸単量体単位と残存メタクリル酸の合計量の測定
１）スチレン系共重合体２ｇにクロロホルム：エタノール混合溶液（２：１）１００ｍｌを加え溶解させる。２）これに指示薬として０．５％フェノールフタレイン・エタノール溶液を加え、更に０．１Ｎ水酸化カリウム・エタノール溶液で滴定する。指示薬の色が３０秒間消えない時を終点とした。３）空試験としてクロロホルム：エタノール混合溶液（２：１）を１００ｍｌとり２）と同様の操作を行った。４）以下の式のよりスチレン系共重合体中のメタクリル酸含有量を求めた。
メタクリル酸含有量（％）＝[｛（Ａ−Ｂ）×Ｍ｝／（Ｓ×１０００）]×１００
Ａ：１）に要した滴定量 （ｍｌ）
Ｂ：３）に要した滴定量 （ｍｌ）
Ｓ：スチレン系共重合体の質量 （ｇ）
Ｍ：０．１Ｎ水酸化カリウム・エタノール溶液１ｍｌと当量となるメタクリル酸の質量（８．６（ｍｇ））
II．スチレン系共重合体中の残存メタクリル酸量の測定
スチレン系共重合体０．５ｇをクロロホルム１０ｍｌに溶解し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを内部標準として測定して、以下のＧＣ測定条件で測定した。
装置名：島津製作所社製 ＧＣ１４Ｂ ＦＩＤ検出器
カラム：ガラスカラム φ３ｍｍ×３ｍ
充填剤：ジエチレングリコールサクシネート
キャリヤー：窒素
温度：カラム１１０℃、注入口１８０℃
III．Iで測定したスチレン系共重合体中のメタクリル酸単量体単位と残存メタクリル酸の合計量から、ＩＩで測定したスチレン系共重合体中の残存メタクリル酸量を差し引いた値をスチレン系共重合体中のメタクリル酸単量体単位含有量として求めた。但し、スチレン系共重合体中の残存メタクリル酸の測定値が０．１質量％未満のものについては、残存メタクリル酸量を０質量％としてスチレン系共重合体中のメタクリル酸単量体単位含有量を求めた。
（１０）屈折率：未溶融化合物については、アッベ式屈折計にて波長５８９ｎｍ、２３℃の雰囲気下にて測定した。また、スチレン系共重合体については、デジタル屈折率計（ＡＴＡＧＯ社製ＲＸ−２０００）を用いて、接触液としてヨウ化カリウム飽和水溶液を使用して、温度２５℃で測定した。
（１１）スチレン系共重合体の樹脂組成：スチレン系共重合体を重クロロホルムに溶解して２％溶液に調製して測定試料として、ＦＴ−ＮＭＲ（日本電子社製ＦＸ−９０Ｑ型）を用いて１３Ｃ−ＮＭＲを測定し、スチレンとメチルメタクリレートのピーク面積より算出した。
（１２）スチレン系共重合体中のメタクリル酸単量体単位含有量の測定：
I．スチレン系共重合体中のメタクリル酸単量体単位と残存メタクリル酸の合計量の測定
１）スチレン系共重合体２ｇにクロロホルム：エタノール混合溶液（２：１）１００ｍｌを加え溶解させる。２）これに指示薬として０．５％フェノールフタレイン・エタノール溶液を加え、更に０．１Ｎ水酸化カリウム・エタノール溶液で滴定する。指示薬の色が３０秒間消えない時を終点とした。３）空試験としてクロロホルム：エタノール混合溶液（２：１）を１００ｍｌとり２）と同様の操作を行った。４）以下の式のよりスチレン系共重合体中のメタクリル酸含有量を求めた。
メタクリル酸含有量（％）＝[｛（Ａ−Ｂ）×Ｍ｝／（Ｓ×１０００）]×１００
Ａ：１）に要した滴定量 （ｍｌ）
Ｂ：３）に要した滴定量 （ｍｌ）
Ｓ：スチレン系共重合体の質量 （ｇ）
Ｍ：０．１Ｎ水酸化カリウム・エタノール溶液１ｍｌと当量となるメタクリル酸の質量（８．６（ｍｇ））
II．スチレン系共重合体中の残存メタクリル酸量の測定
スチレン系共重合体０．５ｇをクロロホルム１０ｍｌに溶解し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを内部標準として測定して、以下のＧＣ測定条件で測定した。
装置名：島津製作所社製 ＧＣ１４Ｂ ＦＩＤ検出器
カラム：ガラスカラム φ３ｍｍ×３ｍ
充填剤：ジエチレングリコールサクシネート
キャリヤー：窒素
温度：カラム１１０℃、注入口１８０℃
III．Iで測定したスチレン系共重合体中のメタクリル酸単量体単位と残存メタクリル酸の合計量から、ＩＩで測定したスチレン系共重合体中の残存メタクリル酸量を差し引いた値をスチレン系共重合体中のメタクリル酸単量体単位含有量として求めた。但し、スチレン系共重合体中の残存メタクリル酸の測定値が０．１質量％未満のものについては、残存メタクリル酸量を０質量％としてスチレン系共重合体中のメタクリル酸単量体単位含有量を求めた。
本発明の多層シートは、寸法安定性、耐光性、光拡散性、帯電防止性、輝度、及びリサイクル性に優れ、特にプロジェクションテレビなどの画面の透過型スクリーンや液晶テレビの光拡散板として有用である。
なお、２００６年７月６日に出願された日本特許出願２００６−１８６４４５号、２００６年７月２５日に出願された日本特許出願２００６−２０１４１９号、及び２００６年8月１日に出願された日本特許出願２００６−２０９９４６号の明細書、特許請求の範囲、及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
なお、２００６年７月６日に出願された日本特許出願２００６−１８６４４５号、２００６年７月２５日に出願された日本特許出願２００６−２０１４１９号、及び２００６年8月１日に出願された日本特許出願２００６−２０９９４６号の明細書、特許請求の範囲、及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
Claims (16)
- 多層構成の光拡散シートであって、表層ａ及び裏層ｃが下記（Ａ）成分からなり、中間層ｂが（Ｂ）成分を含む多層シート。
（Ａ）成分：スチレン系単量体単位２０〜１００質量％及び（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位８０〜０質量％を含むスチレン系共重合体１００質量部に対して、そのスチレン系共重合体との屈折率差が０．００５以内であり、平均粒子径が５〜１５μｍの未溶融化合物を１〜１０質量部と、ヒンダードアミン系化合物を０．１〜２質量部と、ベンゾトリアゾール系化合物を０．１〜２質量部とを含有してなるスチレン系樹脂組成物。
（Ｂ）成分：スチレン系単量体単位９０〜９９質量％と（メタ）アクリル酸系単量体単位１０〜１質量％とを含むスチレン系共重合体１００質量部に対して、そのスチレン系共重合体との屈折率差が０．０５〜０．１５で平均粒子径が２〜１０μｍの未溶融化合物を１〜１０質量部もしくは平均粒子径１〜１０μｍのポリオルガノシロキサン架橋ビーズを０．５〜２．５質量部含有してなるスチレン系樹脂組成物。 - 表層ａ及び裏層ｃが上記（Ａ）成分からなり、中間層ｂが請求項１に記載の多層シートを粉砕したもの０〜４０質量％と、スチレン系単量体単位９０〜９９質量％とメタクリル酸単量体単位１０〜１質量％とを含むスチレン系共重合体１００質量部に対して、そのスチレン系共重合体との屈折率差が０．０５〜０．１５で平均粒子径が２〜１０μｍの未溶融化合物を１〜１０質量部とを含有してなるスチレン系樹脂組成物１００〜６０質量％を含む多層シート。
- （Ａ）成分に含有される未溶融化合物が、単量体単位としてスチレン及びメタクリル酸メチルを含む架橋共重合体である請求項１又は２に記載の多層シート。
- （Ｂ）成分に含有される未溶融化合物が、単量体単位としてメタクリル酸メチルを含む架橋重合体である請求項１〜３のいずれか１項に記載の多層シート。
- ヒンダードアミン系化合物が、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケートである請求項１〜４のいずれか１項に記載の多層シート。
- ベンゾトリアゾール系化合物が、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノールである請求項１〜５のいずれか１項に記載の多層シート。
- （Ａ）成分と（Ｂ）成分の少なくとも一方に、スチレン系共重合体１００質量部に対して、さらに、ベンゾキサゾール系化合物を０．０００５〜０．５質量部含有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の多層シート。
- ベンゾキサゾール系化合物が、２，５−チオフェンジイル（５−ｔ−ブチル−１，３−ベンゾキサゾール）である、請求項７に記載の多層シート。
- （Ａ）成分のスチレン系共重合体１００質量部に対して、さらに、アミン系界面活性剤を０．１〜３質量部含有する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の多層シート。
- アミン系界面活性剤が、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−（２−ヒドロキシアルキル）アミンである、請求項９に記載の多層シート。
- （Ａ）成分のスチレン系共重合体１００質量部に対して、スチレン系共重合体との屈折率差が０．０２以下のポリエーテルエステルアミドブロック共重合体を７〜２０質量部と、アニオン系界面活性剤及び非アミンノニオン系界面活性剤を２質量部以下とを含有する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の多層シート。
- ポリエーテルエステルアミドブロック共重合体が、単量体単位として次の（Ｆ−Ａ）、（Ｆ−Ｂ）、（Ｆ−Ｃ）を含むポリエーテルエステルアミドブロック共重合体である請求項１１に記載の多層シート。
（Ｆ−Ａ）：炭素数６以上のアミノカルボン酸もしくはラクタム、又は炭素数６以上のジアミンとジカルボン酸の塩。
（Ｆ−Ｂ）：一般式（１）〜（３）の少なくとも１種のジオール化合物。
塩、Ｌは０〜４の整数、ｍ及びｎは１６以上の整数を表す。
（Ｆ−Ｃ）：炭素数４〜２０のジカルボン酸。 - （Ａ）成分中のアニオン系界面活性剤及び非アミンノニオン系界面活性剤の配合比が、アニオン系界面活性剤／非アミンノニオン系界面活性剤＝０．５／９９．５〜１５／８５（質量比）である請求項１１又は１２に記載の多層シート。
- （Ａ）成分中のアニオン系界面活性剤が、炭素数１０〜１４の有機スルホン酸金属塩であり、非アミンノニオン系界面活性剤が、グリセリン脂肪酸エステルである請求項１１〜１３のいずれか１項に記載の多層シート。
- 多層構成の各厚みが、表層ａ及び裏層ｃ：０．００５〜０．５ｍｍ、中間層ｂ：１〜７ｍｍである請求項１〜１４のいずれか１項に記載の多層シート。
- 表層ａ、中間層ｂ及び裏層ｃを、同時に押出し加工して得られる請求項１〜１５のいずれか１項に記載の多層シート。
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