JPWO2007080761A1 - プローブアレイ基体及びその製造方法、プローブアレイの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
101 固体基材
102 プローブ保持部
140 プローブアレイ基体
141 固体基材
142 プローブ保持部
200 シリコン単結晶基板
201 シリコン酸化膜
202 フォトレジスト
210 プローブ保持部柱
211 プローブ保持部柱
215 溝
300 タンクアレイ
301 タンク基材
302 供給口基材
305 タンク部
310 プローブ溶液
320 タンクアレイ
321A〜321D シリンダ
330 タンクアレイ
331A〜331D シリンダ
340 タンクアレイ
341A〜341D シリンダ
400 スライドグラス
401 プローブ溶液スポット
以下に本発明の実施例を図を用いて説明する。図1に本発明の第1の実施例であるプローブアレイ基体100の斜視図を示す。固体基材101上にプローブ保持部102が等間隔に配列されている。プローブ保持部102は固体基材101の主面と略垂直となるように設けられている。尚略垂直とは直角を含むものとする。プローブ保持部102には溝105が設けられている。プローブ保持部102は固体基材101と別体で作成された後、固体基材101に接着などの方法で固定されていてもよいが一体とされていることが望ましい。図1に示したプローブアレイ基体100には2×4のプローブ保持部102が配列されているが、これは図示の都合上プローブアレイ基体の一部を図示したに過ぎない。プローブアレイがDNAチップや抗体チップとして用いられる場合には数百〜数万のオーダーでプローブ保持部102を固体基材101上に配列する。
Claims (12)
- 主面を有する固体基材と、
前記固体基材主面上に突出して配列されたプローブ保持部とからなり、
前記各プローブ保持部は溝を有していることを特徴とするプローブアレイ基体。 - 各前記プローブ保持部は前記固体基材の主面から略垂直に突出し、
前記溝は前記プローブ保持部の突出方向に対して略平行に設けられていることを特徴とする請求項1記載のプローブアレイ基体。 - 前記溝により前記プローブ保持部に生じた隙間の寸法をWとし、
前記プローブの前記固体基材の主面からの突出方向の寸法をDとしたとき、
1μm≦W≦100μm、且つD≧2Wであることを特徴とする請求項2記載のプローブアレイ基体。 - 主面を有する固体基材と、
前記固体基材主面に配列された孔からなるプローブ保持部とからなり、
前記各プローブ保持部は仕切りを有していることを特徴とするプローブアレイ基体。 - 前記仕切りは前記孔の内壁と連続していない部分を有することを特徴とする請求項4記載のプローブアレイ基体。
- 前記仕切りは前記固体基材の主面から突出していることを特徴とする請求項4または請求項5に記載されたプローブ基体アレイ。
- 前記固体基材と各前記プローブ保持部は同一材料で一体形成されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のプローブアレイ基体。
- 前記固体基材及び前記プローブ保持部は単結晶シリコンであり、
前記固体基材の前記主面のシリコン結晶の結晶方位面が[110]面であり、
各前記プローブ保持部の前記主面に連続する面の結晶方位面が[111]面であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載のプローブアレイ基体。 - 請求項1〜8に記載されたプローブアレイ基体の前記プローブ保持部に毛管現象によりプローブ溶液を供給したことを特徴とするプローブアレイ。
- 請求項1〜8に記載されたプローブアレイ基体の前記プローブ保持部に毛管現象によりプローブ溶液を供給することを特徴とするプローブアレイの製造方法。
- 請求項8に記載のプローブアレイ基体の製造方法であって、
シリコン単結晶板に酸化膜を形成する工程と、
前記酸化膜をパターニングする工程と、
パターニングされた前記酸化膜をマスクとして前記シリコン単結晶板をアルカリ溶液によりエッチングする工程と、
前記酸化膜を取り除く工程と、を含むことを特徴とするプローブアレイ基体の製造方法。 - 各々独立したプローブ溶液タンクが所定の間隔で配列された第1〜第nのn個のプローブ溶液タンクアレイ(但しnは2以上の整数)を用いた、請求項10に記載されたプローブアレイの製造方法であって、
前記プローブ保持部のうち、前記第1のタンクアレイの配列と一致する位置にあるプローブ保持部にプローブ溶液が供給される第1の手順と、
前記プローブ保持部のうち、第1〜第i−1の工程(但しiは2以上n以下の整数)でプローブ溶液が供給されておらず且つ前記第iのタンクアレイの配列と一致する位置にあるプローブ保持部にプローブ溶液が供給される第iの手順とを含み、
前記手順は第1〜第nに亘って行われることを特徴とするプローブアレイの製造方法。
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