JPWO2007043149A1 - 骨接合用インプラント及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

本発明の骨接合用インプラント１０は、仮骨形成能が抑制された骨接合用インプラントであって、骨接合用インプラント基体１２と、骨接合用インプラント基体１２の表面に形成された表面層１４とを有し、表面層１４は、骨との親和性が低い金属を、骨接合用インプラント基体１２よりも多く含有することを特徴とする。このため、本発明の骨接合用インプラント１０によれば、骨接合用インプラントの表面における仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能になる。その結果、骨接合用インプラントを体内に埋め込んでから骨折治療終了までの間に骨接合用インプラントの周囲に仮骨が形成されてしまうことを低いレベルに抑制することが可能になるため、骨接合用インプラントを体内から抜去する作業を容易化することが可能となる。

Description

本発明は、骨接合用インプラント及びその製造方法に関する。

近年、整形外科用インプラントの材料として、Ｔｉ又はＴｉ合金（例えば、Ｔｉ−６Ａｌ−４Ｖ，ＥＬＩ合金。）が広く用いられている（例えば、特許文献１参照。）。これは、Ｔｉ及びＴｉ合金が、耐食性に優れ、高強度であり、生体適合性が高いという優れた特徴を有するのに加えて、骨との親和性が高いという特徴を有するからである（例えば、特許文献１参照。）。

このため、Ｔｉ又はＴｉ合金からなる整形外科用インプラントを用いることにより、整形外科用インプラントと骨とを良好に接合することが可能となる。従って、Ｔｉ又はＴｉ合金からなる整形外科用インプラントは、人工関節のように永久に体内に埋め込むことを目的とした体内埋込用途の整形外科用インプラントとして好ましく用いることができる。

特開平７−４１８８９号公報

ところで、整形外科用インプラントには、上記した体内埋込用途の整形外科用インプラントのほかに、骨折治療を目的とし骨折治療終了後には体内から抜去する、骨折治療用途の整形外科用インプラント（一般的には骨接合用インプラントと呼ばれているため、以下「骨接合用インプラント」という。）がある。

しかしながら、Ｔｉ及びＴｉ合金からなる骨接合用インプラントを骨接合用インプラントとして用いた場合には、Ｔｉ又はＴｉ合金が骨との親和性が高いことに起因して、骨接合用インプラントを体内に埋め込んでから骨折治療終了までの間に骨接合用インプラントの周囲に仮骨が形成されてしまい、これにより、骨接合用インプラントを体内から抜去する作業が困難になるという問題がある。特に仮骨形成能の高い若い患者の場合などには、骨接合用インプラントを抜去するために仮骨を削り取る作業が必要になったり、骨接合用インプラントを抜去する際に大きな力がかかって二次骨折を引き起こしたりするという問題がある。

そこで、本発明は、上記のような問題を解決するためになされたもので、骨折治療終了後に骨接合用インプラントを体内から抜去する作業を容易化することが可能な骨接合用インプラント及びその製造方法を提供することを目的とする。

（１）本発明の骨接合用インプラントは、仮骨形成能が抑制された骨接合用インプラントであって、骨接合用インプラント基体と、前記骨接合用インプラント基体の表面に形成された表面層とを有し、前記表面層は、骨との親和性が低い金属を、前記骨接合用インプラント基体よりも多く含有することを特徴とする。

このため、本発明の骨接合用インプラントによれば、骨接合用インプラント基体の表面に形成された表面層が、骨との親和性が低い金属を骨接合用インプラント基体よりも多く含有するため、骨接合用インプラントの表面における仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能になる。その結果、骨接合用インプラントを体内に埋め込んでから骨折治療終了までの間に骨接合用インプラントの周囲に仮骨が形成されてしまうことを低いレベルに抑制することが可能になるため、骨接合用インプラントを体内から抜去する作業を容易化することが可能となる。これにより、仮骨形成能の高い若い患者の場合などにおいても、骨接合用インプラントを抜去するために仮骨を削り取る作業が必要になったり、骨接合用インプラントを抜去する際に大きな力がかかって二次骨折を引き起こしたりするという問題を軽減することが可能になる。

また、本発明の骨接合用インプラントによれば、骨接合用インプラント基体及び表面層のそれぞれについて最適な材料を選択することが可能となる。このため、骨接合用インプラント基体の材料として従来から実績のあるＴｉ又はＴｉ合金のような優れた材料を選択するとともに、表面層の材料として骨との親和性が低い材料を選択することが可能になる。

なお、本発明の骨接合用インプラントにおいては、骨との親和性が低い材料が骨接合用インプラント基体に全く含まれない場合ももちろん含まれる。

（２）上記（１）に記載の骨接合用インプラントにおいては、前記表面層は、前記骨との親和性が低い金属を５重量％以上含有することが好ましい。

このように、表面層が、骨との親和性が低い金属を５重量％以上含有することで、仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能になる。

この観点からいえば、上記（２）に記載の骨接合用インプラントにおいては、表面層は、骨との親和性が低い金属を２０重量％以上含有することがより好ましく、骨との親和性が低い金属を５０重量％以上含有することがさらに好ましい。なお、上記（２）に記載の骨接合用インプラントにおいては、表面層は、骨との親和性が低い金属を１００重量％含有していてもよい。

上記（１）又は（２）に記載の骨接合用インプラントにおいては、前記表面層は、前記骨との親和性が低い金属を含有するほか、その残部としてＴｉ又はＴｉ合金を含有することが好ましい。

このように構成することにより、表面層が、耐食性に優れ、高強度であり、生体適合性が高いという優れた特徴を有するようになるため、優れた骨接合用インプラントとなる。

（３）本発明の骨接合用インプラントは、仮骨形成能が抑制された骨接合用インプラントであって、骨接合用インプラント基体と、前記骨接合用インプラント基体の表面に形成され、深さ方向に沿って組成が徐々に変化する傾斜合金からなる表面層とを有し、前記表面層における最表面部分は、骨との親和性が低い金属を、前記骨接合用インプラント基体よりも多く含有することを特徴とする。

このため、本発明の骨接合用インプラントによれば、骨接合用インプラント基体の表面に形成された表面層における最表面部分が、骨との親和性が低い金属を骨接合用インプラント基体よりも多く含有するため、骨接合用インプラントの表面における仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能になる。その結果、骨接合用インプラントを体内に埋め込んでから骨折治療終了までの間に骨接合用インプラントの周囲に仮骨が形成されてしまうことを低いレベルに抑制することが可能になるため、骨接合用インプラントを体内から抜去する作業を容易化することが可能となる。これにより、仮骨形成能の高い若い患者の場合などにおいても、骨接合用インプラントを抜去するために仮骨を削り取る作業が必要になったり、骨接合用インプラントを抜去する際に大きな力がかかって二次骨折を引き起こしたりするという問題を軽減することが可能になる。

また、本発明の骨接合用インプラントによれば、骨接合用インプラント基体及び表面層のそれぞれについて最適な材料を選択することが可能となる。このため、骨接合用インプラント基体の材料として従来から実績のあるＴｉ又はＴｉ合金のような優れた材料を選択するとともに、表面層の材料として骨との親和性が低い材料を選択することが可能になる。

さらにまた、本発明の骨接合用インプラントによれば、骨接合用インプラント基体と表面層との密着性を十分に高めることが可能になり、より信頼性の高い骨接合用インプラントを提供することが可能になる。

（４）上記（３）に記載の骨接合用インプラントにおいては、前記表面層における最表面部分は、前記骨との親和性が低い金属を５重量％以上含有することが好ましい。

このように、表面層における最表面部分が、骨との親和性が低い金属を５重量％以上含有することで、表面層における最表面部分において仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能になる。

この観点からいえば、上記（４）に記載の骨接合用インプラントにおいては、表面層における最表面部分は、骨との親和性が低い金属を２０重量％以上含有することがより好ましく、骨との親和性が低い金属を５０重量％以上含有することがさらに好ましい。なお、上記（４）に記載の骨接合用インプラントにおいては、表面層における最表面部分は、骨との親和性が低い金属を１００重量％含有していてもよい。

上記（３）又は（４）に記載の骨接合用インプラントにおいては、前記表面層は、前記骨との親和性が低い金属を含有するほか、その残部としてＴｉ又はＴｉ合金を含有することが好ましい。

このように構成することにより、表面層が、耐食性に優れ、高強度であり、生体適合性が高いという優れた特徴を有するようになるため、優れた骨接合用インプラントとなる。

（５）本発明の骨接合用インプラントは、仮骨形成能が部分的に抑制された骨接合用インプラントであって、骨接合用インプラント基体と、前記骨接合用インプラントの表面の一部に形成された表面層とを有し、前記表面層は、骨との親和性が低い金属を、前記骨接合用インプラント基体よりも多く含有することを特徴とする。

ところで、骨接合用インプラントにおいては、必ずしも骨接合用インプラント全体にわたって仮骨形成能が抑制されていなければならないという訳ではない。すなわち、骨接合用インプラントの中でも、高い仮骨形成能を有していてもよい部分と、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分とが存在するのである。本発明の骨接合用インプラントによれば、骨接合用インプラント基体の表面のうち低い仮骨形成能を有することが好ましい部分に、骨との親和性が低い金属を骨接合用インプラント基体よりも多く含有する表面層を形成することが可能になるため、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分には、相対的に低い仮骨形成能をもたせるとともに、高い仮骨形成能を有していてもよい部分には、相対的に高い仮骨形成能をもたせることが可能になる。

また、このように構成することにより、一の骨接合用インプラント基体に基づいて骨接合用インプラントを製造することが可能になるため、高い機械的強度を有する骨接合用インプラントを比較的容易な方法で製造することが可能になる。

（６）上記（５）に記載の骨接合用インプラントにおいては、前記表面層は、前記骨との親和性が低い金属を５重量％以上含有することが好ましい。

このように、表面層が、骨との親和性が低い金属を５重量％以上含有することで、表面層において仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能になる。

この観点からいえば、上記（６）に記載の骨接合用インプラントにおいては、表面層は、骨との親和性が低い金属を２０重量％以上含有することがより好ましく、骨との親和性が低い金属を５０重量％以上含有することがさらに好ましい。なお、上記（６）に記載の骨接合用インプラントにおいては、表面層は、骨との親和性が低い金属を１００重量％含有していてもよい。

上記（５）又は（６）に記載の骨接合用インプラントにおいては、前記表面層は、前記骨との親和性が低い金属を含有するほか、その残部としてＴｉ又はＴｉ合金を含有することが好ましい。

このように構成することにより、表面層が、耐食性に優れ、高強度であり、生体適合性が高いという優れた特徴を有するようになるため、優れた骨接合用インプラントとなる。

（７）本発明の骨接合用インプラントは、仮骨形成能が部分的に抑制された骨接合用インプラントであって、骨接合用インプラント基体と、前記骨接合用インプラントの表面の一部に形成され、深さ方向に沿って組成が徐々に変化する傾斜合金からなる表面層とを有し、前記表面層における最表面部分は、骨との親和性が低い金属を、前記骨接合用インプラント基体よりも多く含有することを特徴とする。

このように構成することによっても、上記（５）に記載の骨接合用インプラントの場合と同様に、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分には、相対的に低い仮骨形成能をもたせるとともに、高い仮骨形成能を有していてもよい部分には、相対的に高い仮骨形成能をもたせることが可能になる。

また、このように構成することによっても、上記（５）に記載の骨接合用インプラントの場合と同様に、一の骨接合用インプラント基体に基づいて骨接合用インプラントを製造することが可能になるため、高い機械的強度を有する骨接合用インプラントを比較的容易な方法で製造することが可能になる。

（８）上記（７）に記載の骨接合用インプラントにおいては、前記表面層における最表面部分は、前記骨との親和性が低い金属を５重量％以上含有することが好ましい。

このように、表面層における最表面部分が、骨との親和性が低い金属を５重量％以上含有することで、表面層における最表面部分において仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能になる。

この観点からいえば、上記（８）に記載の骨接合用インプラントにおいては、表面層における最表面部分は、骨との親和性が低い金属を２０重量％以上含有することがより好ましく、骨との親和性が低い金属を５０重量％以上含有することがさらに好ましい。なお、上記（８）に記載の骨接合用インプラントにおいては、表面層における最表面部分は、骨との親和性が低い金属を１００重量％含有していてもよい。

上記（７）又は（８）に記載の骨接合用インプラントにおいては、前記表面層は、前記骨との親和性が低い金属を含有するほか、その残部としてＴｉ又はＴｉ合金を含有することが好ましい。

このように構成することにより、表面層が、耐食性に優れ、高強度であり、生体適合性が高いという優れた特徴を有するようになるため、優れた骨接合用インプラントとなる。

（９）上記（１）〜（８）のいずれかに記載の骨接合用インプラントにおいては、前記表面層の厚さは、１ｎｍ〜１ｍｍの範囲内にあることが好ましい。

すなわち、表面層の厚さを１ｎｍ以上としたのは、表面層の厚さを１ｎｍ未満とした場合には、骨との親和性を十分に低下させることができない場合が生じるからである。一方、表面層の厚さを１ｍｍ以下としたのは、表面層の厚さを１ｍｍを超えるものとした場合には、骨接合用インプラントと表面層との間で剥がれや割れが発生し易くなるからである。また、表面層の厚さを１ｍｍを超えるものとした場合には、表面層を形成するための時間が長くなり骨接合用インプラントを製造する際の生産性が低下するからである。

これらの観点からいえば、表面層の厚さは、１００ｎｍ〜３００μｍの範囲内にあることがより好ましく、１０μｍ〜１００μｍの範囲内にあることがさらに好ましい。

（１０）上記（１）〜（９）のいずれかに記載の骨接合用インプラントにおいては、前記骨接合用インプラント基体は、Ｔｉ又はＴｉ合金からなることが好ましい。

このように構成することにより、骨接合用インプラントの大部分を占める骨接合用インプラント基体が、耐食性に優れ、高強度であり、生体適合性が高いという優れた特徴を有するようになるため、優れた骨接合用インプラントとなる。

また、上記（５）〜（８）のいずれかに記載の骨接合用インプラントにおいては、高い仮骨形成能を有していてもよい部分において、耐食性に優れ、高強度であり、生体適合性が高いという優れた特徴を有するようになるため、優れた骨接合用インプラントとなる。

（１１）本発明の骨接合用インプラントは、仮骨形成能が部分的に抑制された骨接合用インプラントであって、仮骨形成能を有する第１部分と、前記第１部分よりも仮骨形成能が抑制された第２部分とを有し、前記第２部分は、骨との親和性が低い金属を、前記第１部分よりも多く含有し、前記第１部分と前記第２部分とは接合されていることが好ましい。

このように構成することによっても、上記（５）又は（７）に記載の骨接合用インプラントの場合と同様に、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分には、相対的に低い仮骨形成能をもたせるとともに、高い仮骨形成能を有していてもよい部分には、相対的に高い仮骨形成能をもたせることが可能になる。

（１２）上記（１１）に記載の骨接合用インプラントにおいては、前記第２部分は、前記骨との親和性が低い金属を５重量％以上含有することが好ましい。

このように、第２部分が、骨との親和性が低い金属を５重量％以上含有することで、第２部分において仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能になる。

この観点からいえば、上記（１２）に記載の骨接合用インプラントにおいては、第２部分は、骨との親和性が低い金属を２０重量％以上含有することがより好ましく、骨との親和性が低い金属を５０重量％以上含有することがさらに好ましい。

（１３）上記（１１）又は（１２）に記載の骨接合用インプラントにおいては、前記第１部分及び前記第２部分はともに、Ｔｉ又はＴｉ合金からなることが好ましい。

このように構成することにより、骨接合用インプラントの構成部分である第１部分及び第２部分がともにＴｉ又はＴｉ合金からなるため、耐食性に優れ、高強度であり、生体適合性が高いという優れた特徴を有する骨接合用インプラントとなる。

（１４）本発明の骨接合用インプラントは、仮骨形成能が抑制された骨接合用インプラントであって、少なくとも前記骨接合用インプラントの最表面部分においては、骨との親和性が低い金属を５重量％以上含有することを特徴とする。

このため、本発明の骨接合用インプラントによれば、少なくとも骨接合用インプラントの最表面部分においては、骨との親和性が低い金属を５重量％以上含有するため、骨接合用インプラントの表面における仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能になる。その結果、骨接合用インプラントを体内に埋め込んでから骨折治療終了までの間に骨接合用インプラントの周囲に仮骨が形成されてしまうことを低いレベルに抑制することが可能になるため、骨接合用インプラントを体内から抜去する作業を容易化することが可能となる。これにより、仮骨形成能の高い若い患者の場合などにおいても、骨接合用インプラントを抜去するために仮骨を削り取る作業が必要になったり、骨接合用インプラントを抜去する際に大きな力がかかって二次骨折を引き起こしたりするという問題を軽減することが可能になる。

この観点からいえば、上記（１４）に記載の骨接合用インプラントは、少なくとも骨接合用インプラントの最表面部分において、骨との親和性が低い金属を２０重量％以上含有することがより好ましく、骨との親和性が低い金属を５０重量％以上含有することがさらに好ましい。

なお、上記（１４）に記載の骨接合用インプラントにおいては、少なくとも骨接合用インプラントの最表面部分において骨との親和性が低い金属を２０重量％以上含有すればよいことから、（ａ）骨接合用インプラントにおける骨との親和性が低い金属の含有量が不均一であって、骨接合用インプラントの最表面部分においては骨との親和性が低い金属を５重量％以上含有する一方で、骨接合用インプラントの最表面部分以外の部分においては、骨との親和性が低い金属を５重量％以上含有しない場合のほか、（ｂ）骨接合用インプラントにおける骨との親和性が低い金属の含有量が均一であって、骨接合用インプラントの最表面部分においても骨接合用インプラントの最表面部分以外の部分においても、骨との親和性が低い金属を５重量％以上含有する場合も含まれる。

（１５）上記（１４）に記載の骨接合用インプラントにおいては、前記骨接合用インプラントは、Ｔｉ合金からなることが好ましい。

このように構成することにより、耐食性に優れ、高強度であり、生体適合性が高いという優れた特徴を維持しながら、仮骨形成能力が低いレベルに抑制された優れた骨接合用インプラントとなる。

（１６）上記（１）〜（１５）のいずれかに記載の骨接合用インプラントにおいては、前記骨との親和性が低い金属は、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ及びＲｈから選択される１種又は２種以上の金属であることが好ましい。

Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ及びＲｈは、骨との親和性が低いため、上記のように、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ及びＲｈから選択される１種又は２種以上の金属を用いることで、仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能になる。また、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ及びＲｈは、耐食性に優れ、生体適合性が比較的高いため、骨接合用インプラントに用いる材料として好ましく用いることができる。

なかでも、前記骨との親和性が低い金属は、Ｚｒであることが特に好ましい。

Ｚｒは、骨との親和性が低く、耐食性に優れ、生体適合性が高いという特徴に加えて、高強度であり、ＴｉやＴｉ合金とのなじみがよく製造が容易であるという特徴をも有している。このため、上記のようにＺｒを用いることで、仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能になるとともに、耐食性に優れ、高強度であり、生体適合性が高く、製造が容易であるという優れた特徴を有する骨接合用インプラントとなる。

（１７）本発明の骨接合用インプラントの製造方法は、上記（１）〜（４）のいずれかに記載の骨接合用インプラントを製造するための骨接合用インプラントの製造方法であって、前記骨接合用インプラント基体を準備する第１工程と、前記骨接合用インプラント基体の表面に前記表面層を形成する第２工程とを含むことを特徴とする。

このため、本発明の骨接合用インプラントの製造方法によれば、上記したように仮骨形成能が抑制された、上記（１）〜（４）に記載の骨接合用インプラントを容易に製造することが可能になる。

（１８）本発明の骨接合用インプラントの製造方法は、上記（５）〜（８）のいずれかに記載の骨接合用インプラントを製造するための骨接合用インプラントの製造方法であって、前記骨接合用インプラント基体を準備する第１工程と、前記骨接合用インプラント基体の表面の一部に前記表面層を形成する第２工程とを含むことを特徴とする。

このため、本発明の骨接合用インプラントの製造方法によれば、上記したように仮骨形成能が抑制された、上記（５）〜（８）に記載の骨接合用インプラントを容易に製造することが可能になる。

（１９）上記（１７）又は（１８）に記載の骨接合用インプラントの製造方法においては、前記第２工程は、前記骨との親和性が低い金属を含む金属を真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングする工程を含むことが好ましい。

このような方法とすることにより、上記したように仮骨形成能が抑制された、上記（１）〜（８）のいずれかに記載の骨接合用インプラントを比較的容易に製造することが可能になる。

（２０）上記（１７）又は（１８）に記載の骨接合用インプラントの製造方法においては、前記第２工程は、前記骨との親和性が低い金属を含む液体、樹脂又は油脂をコーティングしたものを熱処理して金属化する工程を含むことが好ましい。

このような方法とすることによっても、上記したように仮骨形成能が抑制された、上記（１）〜（８）のいずれかに記載の骨接合用インプラントを比較的容易に製造することが可能になる。

また、骨接合用インプラント基体が複雑な形状である場合には、このような方法とすることにより、骨接合用インプラントの表面に表面層を比較的容易に形成することができる。

（２１）上記（１９）又は（２０）に記載の骨接合用インプラントの製造方法においては、前記第２工程は、前記骨接合用インプラントと前記表面層とを傾斜合金化するための熱処理工程をさらに含むことが好ましい。

このような方法とすることにより、上記したように仮骨形成能が抑制された、上記（３）、（４）、（７）又は（８）に記載の骨接合用インプラントを比較的容易に製造することが可能になる。

（２２）上記（１７）又は（１８）に記載の骨接合用インプラントの製造方法においては、前記第２工程は、組成を変化させながら前記表面層を形成することが好ましい。

このような方法とすることによっても、上記したように仮骨形成能が抑制された、上記（３）、（４）、（７）又は（８）に記載の骨接合用インプラントを比較的容易に製造することが可能になる。

（２３）本発明の骨接合用インプラントの製造方法は、上記（１１）〜（１３）のいずれかに記載の骨接合用インプラントを製造するための骨接合用インプラントの製造方法であって、前記第１部分と前記第２部分とを準備する第１工程と、前記第１部分と前記第２部分とを接合する第２工程とを含むことを特徴とする。

このため、本発明の骨接合用インプラントの製造方法によれば、上記したように仮骨形成能が抑制された、上記（１１）〜（１３）のいずれかに記載の骨接合用インプラントを容易に製造することが可能になる。

（２４）上記（１７）〜（２３）のいずれかに記載の骨接合用インプラントの製造方法においては、前記骨との親和性が低い金属は、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ及びＲｈから選択される１種又は２種以上の金属であることが好ましい。

このように、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ及びＲｈから選択される１種又は２種以上の金属を用いることで、仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能で、かつ、耐食性に優れ、生体適合性が比較的高い、骨接合用インプラントを製造することが可能になる。

なかでも、前記骨との親和性が低い金属は、Ｚｒであることが特に好ましい。

このような方法とすることにより、仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能になるとともに、耐食性に優れ、高強度であり、生体適合性が高く、製造が容易であるという優れた特徴を有する骨接合用インプラントとなる。

実施形態１に係る骨接合用インプラント１０を説明するために示す図である。 実施形態２に係る骨接合用インプラント２０を説明するために示す図である。 実施形態３に係る骨接合用インプラント３０の断面図である。 実施形態４に係る骨接合用インプラント４０の断面図である。 実施形態５に係る骨接合用インプラント５０の断面図である。 実施形態６に係る骨接合用インプラント６０を説明するために示す図である。 実施例におけるＳＥＭ写真を示す図である。 実施例におけるＸＰＳスペクトルを示す図である。

以下、本発明の骨接合用インプラント及びその製造方法を、図に示す実施の形態に基づいて説明する。

［実施形態１］
図１は、実施形態１に係る骨接合用インプラント１０を説明するために示す図である。図１（ａ）は骨接合用インプラント１０の斜視図であり、図１（ｂ）は骨接合用インプラント１０の断面図であり、図１（ｃ）は図１（ｂ）のＡ_１−Ａ_１断面図である。

実施形態１に係る骨接合用インプラント１０は、仮骨形成能が抑制された骨接合用インプラントであって、図１に示すように、骨接合用インプラント基体１２と、骨接合用インプラント基体１２の表面に形成された表面層１４とを有している。そして、表面層１４は、骨との親和性が低い金属を、骨接合用インプラント基体１２よりも多く含有することを特徴としている。実施形態１に係る骨接合用インプラント１０は、骨接合用ネジである。

実施形態１に係る骨接合用インプラント１０においては、表面層１４は、骨との親和性が低い金属を５重量％以上含有している。そして、実施形態１に係る骨接合用インプラント１０においては、骨との親和性が低い金属として、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ及びＲｈから選択される１種又は２種以上の金属を用いている。

なお、実施形態１に係る骨接合用インプラント１０においては、表面層１４においては、骨との親和性が低い金属を５重量％以上含有させるとともに、残部を金属Ｔｉ又はＴｉ合金としている。

また、実施形態１に係る骨接合用インプラント１０においては、骨接合用インプラント基体１２においては、骨との親和性が低い金属の含有量を５重量％以下とするとともに、残部を金属Ｔｉ又はＴｉ合金としている。

実施形態１に係る骨接合用インプラント１０においては、表面層１４の厚さを、１ｎｍ〜１ｍｍの範囲内の値としている。

実施形態１に係る骨接合用インプラント１０は、以上のように構成されているため、以下のような効果を有する。

すなわち、実施形態１に骨接合用インプラント１０によれば、骨接合用インプラント基体１２の表面に形成された表面層１４が、骨との親和性が低い金属を骨接合用インプラント基体１２よりも多く含有するために、骨接合用インプラント１０の表面における仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能になる。その結果、骨接合用インプラント１０を体内に埋め込んでから骨折治療終了までの間に骨接合用インプラント１０の周囲に仮骨が形成されてしまうことを低いレベルに抑制することが可能になるため、骨接合用インプラント１０を体内から抜去する作業を容易化することが可能となる。これにより、仮骨形成能の高い若い患者の場合などにおいても、骨接合用インプラントを抜去するために仮骨を削り取る作業が必要になったり、骨接合用インプラントを抜去する際に大きな力がかかって二次骨折を引き起こしたりするという問題を軽減することが可能になる。

また、実施形態１に係る骨接合用インプラント１０によれば、骨接合用インプラント基体１２及び表面層１４のそれぞれについて最適な材料を選択することが可能となる。このため、骨接合用インプラント基体１２としては従来から実績のあるＴｉ又はＴｉ合金のような優れた材料を選択するとともに、表面層１４としては骨との親和性が低い材料を選択することが可能になる。

さらにまた、実施形態１に係る骨接合用インプラント１０によれば、表面層１４が骨との親和性が低い金属を５重量％以上含有することで、仮骨形成能を低いレベルに抑制することが可能になる。

実施形態１に係る骨接合用インプラント１０は、以下の工程を含む骨接合用インプラントの製造方法により製造することができる。

（１）第１工程
Ｔｉ合金からなる骨接合用インプラント基体１２を準備する。

（２）第２工程
骨接合用インプラント基体１２の表面に表面層１４を形成する。表面層１４の形成は、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ及びＲｈから選択される１種又は２種以上の金属をスパッタリングすることにより行う。

以上の工程を行うことにより、実施形態１に係る骨接合用インプラント１０を容易に製造することが可能になる。

第２工程は、骨との親和性が低い金属を含む金属をスパッタリングすることにより行う代わりに、骨との親和性が低い金属を含む金属を真空蒸着又はイオンプレーティングすることにより行うこともできる。

また、第２工程は、骨との親和性が低い金属（金属イオン、金属錯体イオンを含む。）を含む液体、樹脂又は油脂をコーティングしたものを熱処理して金属化することにより行うこともできる。

［実施形態２］
図２は、実施形態２に係る骨接合用インプラント２０を説明するために示す図である。図２（ａ）は骨接合用インプラント２０の断面図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）の要部拡大図である。図２（ｂ）の表面層２４においては、骨との親和性が低い金属が多く含まれる領域ほど濃い灰色となるように示している。

実施形態２に係る骨接合用インプラント２０は、基本的には、実施形態１に係る骨接合用インプラント１０とよく似た構成を有しているが、実施形態１に係る骨接合用インプラント１０とは、表面層の構成が異なる。すなわち、実施形態２に係る骨接合用インプラント２０は、図２（ｂ）に示すように、深さ方向に沿って組成が徐々に変化する傾斜合金からなる表面層２４を有している。そして、表面層２４における最表面部分は、骨との親和性が低い金属を、骨接合用インプラント基体２２よりも多く含有することを特徴としている。実施形態２に係る骨接合用インプラント２０は、骨接合用ネジである。

このように、実施形態２に係る骨接合用インプラント２０は、表面層の構成が実施形態１に係る骨接合用インプラント１０の場合とは異なるが、表面層２４における最表面部分が、骨との親和性が低い金属を、骨接合用インプラント基体２２よりも多く含有するため、骨接合用インプラント２０の表面における仮骨形成能を低いレベルに抑制することができる。その結果、実施形態１に係る骨接合用インプラント１０の場合と同様に、骨接合用インプラント２０を体内に埋め込んでから骨折治療終了までの間に骨接合用インプラント２０の周囲に仮骨が形成されてしまうことを低いレベルに抑制することが可能になるため、骨接合用インプラント２０を体内から抜去する作業を容易化することが可能となる。これにより、仮骨形成能の高い若い患者の場合などにおいても、骨接合用インプラントを抜去するために仮骨を削り取る作業が必要になったり、骨接合用インプラントを抜去する際に大きな力がかかって二次骨折を引き起こしたりするという問題を軽減することが可能になる。

また、実施形態２に係る骨接合用インプラント２０によれば、骨接合用インプラント基体２２及び表面層２４のそれぞれについて最適な材料を選択することが可能となる。このため、実施形態１に係る骨接合用インプラント１０の場合と同様に、骨接合用インプラント基体２２の材料として従来から実績のあるＴｉ又はＴｉ合金のような優れた材料を選択するとともに、表面層２４の材料として骨との親和性の低い材料を選択することが可能になる。

さらにまた、実施形態２に係る骨接合用インプラント２０によれば、骨接合用インプラント基体２２と表面層２４との密着性を十分に高めることが可能になり、より信頼性の高い骨接合用インプラントを提供することが可能になる。

実施形態２に係る骨接合用インプラント２０は、これ以外の点では、実施形態１に係る骨接合用インプラント１０と同様の構成を有するため、実施形態１に係る骨接合用インプラント１０が有する効果のうち該当する効果を有する。

実施形態２に係る骨接合用インプラント２０も、実施形態１に係る骨接合用インプラント２０と同様に、骨接合用インプラント基体２２を準備する第１工程と、骨接合用インプラント基体２２の表面に表面層２４を形成する第２工程とを含む製造方法により製造することができる。

第２工程は、骨との親和性が低い金属を含む金属を真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングして表面層２４を形成した後、骨接合用インプラント基体２２と表面層２４とを傾斜合金化するための熱処理を施すことにより行う。

また、第２工程は、骨との親和性が低い金属を含む液体、樹脂又は油脂をコーティングしたものを熱処理して金属化して表面層２４を形成した後、骨接合用インプラント基体２２と表面層２４とを傾斜合金化するための熱処理を施すことにより行うこともできる。骨接合用インプラントが複雑な形状である場合には、このような方法とすることにより、骨接合用インプラント基体の表面に表面層を比較的容易に形成することができる。

また、第２工程は、組成を変化させながら、骨との親和性が低い金属を含む金属を真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングして表面層を形成することにより行うこともできる。

さらにまた、第２工程は、組成を変化させながら、骨との親和性が低い金属を含む液体、樹脂又は油脂をコーティングしたものを熱処理して金属化して表面層を形成することにより行うこともできる。

［実施形態３］
図３は、実施形態３に係る骨接合用インプラント３０の断面図である。
実施形態３に係る骨接合用インプラント３０は、仮骨形成能が部分的に抑制された骨接合用インプラントである。そして、図３に示すように、骨接合用インプラント基体３２と、骨接合用インプラント基体３２の表面の一部に形成された表面層３４とを有し、表面層３４は、骨との親和性が低い金属を、骨接合用インプラント基体３２よりも多く含有することを特徴としている。実施形態３に係る骨接合用インプラント３０は、骨接合用ネジである。

上記したように、骨接合用インプラントにおいては、必ずしも骨接合用インプラント全体にわたって仮骨形成能が抑制されていなければならないという訳ではない。すなわち、骨接合用インプラントの中でも、高い仮骨形成能を有していてもよい部分と、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分とが存在するのである。例えば、骨接合用ネジにおいては、骨の中に入ることとなるネジ部の周囲にはもともと仮骨が形成される空間は少ないため、高い仮骨形成能を有していてもよい部分（ネジ部３６）となる。その一方、骨の外に露出することとなる頭部の周囲には仮骨が形成される空間が広く残されているため、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分（頭部３８）となる。

実施形態３に係る骨接合用インプラント３０によれば、骨接合用インプラント３０のうち低い仮骨形成能を有することが好ましい部分（頭部３８）に、骨との親和性が低い金属を骨接合用インプラント基体３２よりも多く含有する表面層３４を形成しているため、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分（頭部３８）には、相対的に低い仮骨形成能をもたせるとともに、高い仮骨形成能を有していてもよい部分（ネジ部３６）には、相対的に高い仮骨形成能をもたせることが可能になる。

また、実施形態３に係る骨接合用インプラント３０によれば、一の骨接合用インプラント基体３２に基づいて骨接合用インプラントを製造することが可能になるため、高い機械的強度を有する骨接合用インプラントを比較的容易な方法で製造することが可能になる。

実施形態３に係る骨接合用インプラント３０は、骨接合用インプラント基体３２を準備する第１工程と、骨接合用インプラント基体３２の表面の一部に表面層３４を形成する第２工程とを行うことにより製造することができる。

表面層３４の形成は、実施形態１に係る骨接合用インプラント１０の場合や実施形態２に係る骨接合用インプラント２０の場合と同様の方法で行うことができる。

［実施形態４］
図４は、実施形態４に係る骨接合用インプラント４０の断面図である。
実施形態４に係る骨接合用インプラント４０は、実施形態３に係る骨接合用インプラント３０の場合と同様に、仮骨形成能が部分的に抑制された骨接合用インプラントである。そして、図４に示すように、骨接合用インプラント基体４２と、骨接合用インプラント基体４２の表面の一部に形成された表面層４４とを有し、表面層４４は、骨との親和性が低い金属を、骨接合用インプラント基体４２よりも多く含有することを特徴としている。実施形態４に係る骨接合用インプラント４０は、骨接合用ネジである。

上記したように、骨接合用インプラントにおいては、必ずしも骨接合用インプラント全体にわたって仮骨形成能が抑制されていなければならないという訳ではない。すなわち、骨接合用インプラントの中でも、高い仮骨形成能を有していてもよい部分と、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分とが存在するのである。例えば、骨接合用ネジにおいては、骨の外に露出することとなる頭部の周囲には仮骨除去のための作業空間が確保でき比較的仮骨を除去し易い環境にあるため、高い仮骨形成能を有していてもよい部分（頭部４８）となるとも考えられる。また、骨の中に入ることとなるネジ部の周囲には仮骨除去のための作業空間を確保できずに比較的仮骨を除去し難い環境にあるため、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分（ネジ部４６）となるとも考えられる。

実施形態４に係る骨接合用インプラント４０によれば、骨接合用インプラント４０のうち低い仮骨形成能を有することが好ましい部分（ネジ部４６）に、骨との親和性が低い金属を骨接合用インプラント基体４２よりも多く含有する表面層４４を形成することが可能になるため、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分（ネジ部４６）には、相対的に低い仮骨形成能をもたせるとともに、高い仮骨形成能を有していてもよい部分（頭部４８）には、相対的に高い仮骨形成能をもたせることが可能になる。

このように、実施形態４に係る骨接合用インプラント４０は、実施形態３に係る骨接合用インプラント３０の場合とは、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分と、高い仮骨形成能を有していてもよい部分との関係が逆になっているが、実施形態３に係る骨接合用インプラント３０の場合と同様に、骨接合用インプラントのうち低い仮骨形成能を有することが好ましい部分（ネジ部４６）に、骨との親和性が低い金属を骨接合用インプラント基体４２よりも多く含有する表面層４４を形成しているため、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分（ネジ部４６）には、相対的に低い仮骨形成能をもたせるとともに、高い仮骨形成能を有していてもよい部分（頭部４８）には、相対的に高い仮骨形成能をもたせることが可能になる。

なお 実施形態４に係る骨接合用インプラント４０は、これ以外の点では、実施形態３に係る骨接合用インプラント３０と同様の構成を有するため、実施形態３に係る骨接合用インプラント３０が有する効果のうち該当する効果を有する。

実施形態４に係る骨接合用インプラント４０は、骨接合用インプラント基体４２を準備する第１工程と、骨接合用インプラント基体４２の表面の一部に表面層４４を形成する第２工程とを行うことにより製造することができる。

表面層４４の形成は、実施形態１に係る骨接合用インプラント１０の場合、実施形態２に係る骨接合用インプラント２０の場合、実施形態３に係る骨接合用インプラント３０の場合と同様の方法で行うことができる。

［実施形態５］
図５は、実施形態５に係る骨接合用インプラント５０の断面図である。
実施形態５に係る骨接合用インプラント５０は、仮骨形成能が部分的に抑制された骨接合用インプラントである。そして、図５に示すように、仮骨形成能を有する第１部分５６と、第１部分５６よりも仮骨形成能が抑制された第２部分５８とを有し、第２部分５８は、骨との親和性が低い金属を、第１部分５６よりも多く含有し、第１部分５６と第２部分５８とは接合されていることを特徴としている。実施形態５に係る骨接合用インプラント５０は、骨接合用ネジである。

このように構成することによっても、実施形態３に係る骨接合用インプラント３０や実施形態４に係る骨接合用インプラント４０の場合と同様に、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分（第２部分５８）には、相対的に低い仮骨形成能をもたせるとともに、高い仮骨形成能を有していてもよい部分（第１部分５６）には、相対的に高い仮骨形成能をもたせることが可能になる。

実施形態５に係る骨接合用インプラント５０は、第１部分５６と第２部分５８とを準備する第１工程と、第１部分５６と第２部分５８とを接合する第２工程とを行うことにより製造することができる。

［実施形態６］
図６は、実施形態６に係る骨接合用インプラント６０を説明するために示す図である。図６（ａ）は骨接合用インプラント６０が体内に埋め込まれている状態を示す図であり、図６（ｂ）は図６（ａ）の要部拡大図である。

実施形態６に係る骨接合用インプラント６０は、図６に示すように、骨接合用プレートである。実施形態６に係る骨接合用インプラント６０においては、骨接合用プレートの裏面が第１部分６６に対応し、骨接合用プレートの表面及び側面が第２部分６８に対応している。そして、実施形態６に係る骨接合用インプラント６０においては、第２部分６８の最表面部分に、骨との親和性が低い金属を、第１部分６６の最表面部分よりも多く含有させることとしている。これにより、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分（骨接合用プレートの表面及び側面）には、相対的に低い仮骨形成能をもたせるとともに、高い仮骨形成能を有していてもよい部分（骨接合用プレートの裏面）には、相対的に高い仮骨形成能をもたせることが可能になる。

このように、実施形態６に係る骨接合用インプラント６０は、実施形態３〜５に係る骨接合用インプラント３０〜５０の場合とは、骨接合用インプラントの種類が異なるが、実施形態３〜５に係る骨接合用インプラント３０〜５０の場合と同様に、低い仮骨形成能を有することが好ましい部分（骨接合用プレートの表面及び側面）には、相対的に低い仮骨形成能をもたせるとともに、高い仮骨形成能を有していてもよい部分（骨接合用プレートの裏面）には、相対的に高い仮骨形成能をもたせることが可能になる。

なお 実施形態６においては、図６に示すように、骨接合用インプラント６０を骨に固定するための骨接合用ネジとして、実施形態３に係る骨接合用インプラント３０を用いている。

以下、実施例を参照しながら、本発明の骨接合用インプラントにおける仮骨形成能抑制効果を説明する。

［実施例１］
直径１０ｍｍ、厚さ３ｍｍの純チタンの基板上に、スパッタリングにより厚さ３５μｍのＺｒ薄膜を形成し、これを実施例１に係る試料とした。

［比較例１］
実施例１における直径１０ｍｍ、厚さ３ｍｍの純チタンの基板をそのまま比較例１に係る試料とした。

次に、実施例１に係る試料及び比較例１に係る試料のそれぞれを、Ｈａｎｋｓ溶液（３１０Ｋ）中に１４日間浸漬した。その後、実施例１に係る試料及び比較例１に係る試料のそれぞれをＨａｎｋｓ溶液から出し、（１）電子プローブマイクロアナライザ（日本電子株式会社ＪＸＡ−８６２１ＭＸ）における走査電子顕微鏡機能によるＳＥＭ写真観察及び（２）光電子分光装置（ＳＳＩ社ＳＳＸ−１００）によるＸＰＳスペクトル観察を行い、リン酸カルシウムが析出しているかどうかを観察して、仮骨形成能についての評価を行った。

図７は、実施例におけるＳＥＭ写真を示す図である。図７（ａ）は実施例１に係る試料におけるＳＥＭ写真を示す図であり、図７（ｂ）は比較例１に係る試料におけるＳＥＭ写真を示す図である。

図７からも明らかなように、比較例１に係る試料では、リン酸カルシウムの析出物が観察された（図７（ｂ）中の符号Ａ参照。）が、実施例１に係る試料では、リン酸カルシウムの析出物は観察されなかった。

図８は、実施例におけるＸＰＳスペクトルを示す図である。図８（ａ）は実施例１に係る試料におけるＸＰＳスペクトルを示す図であり、図８（ｂ）は比較例１に係る試料におけるＸＰＳスペクトルを示す図である。図８におけるＸＰＳスペクトルは、約１ｍｍのスポット径で測定して得られたものである。

図８からも明らかなように、比較例１に係る試料では、３５０ｅＶ近傍にカルシウムに帰属されるシグナルが観察された（図８（ｂ）中の符号Ｂ参照。）が、実施例１に係る試料では、そのようなシグナルは観察されなかった。

以上の結果からも明らかなように、実施例１に係る試料においては、比較例１に係る試料の場合とは異なり、Ｈａｎｋｓ溶液（３１０°Ｋ）中に１４日間浸漬したにもかかわらず、リン酸カルシウムの析出が認められなかった。このことから、実施例１に係る試料においては、仮骨形成能が抑制されていることが確認できた。

以上、本発明の骨接合用インプラント及びその製造方法を上記の各実施形態に基づいて説明したが、本発明は上記の各実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の態様において実施することが可能である。

符号の説明

１０，２０，３０，４０，５０，６０…骨接合用インプラント、１２，２２，３２，４２，５２，６２…骨接合用インプラント基体、１４，２４，３４，４４，５４，６４…表面層、３６，４６…ネジ部、３８，４８…頭部、５６，６６…第１部分、５８，６８…第２部分、Ａ…リン酸カルシウムの析出物、Ｂ…Ｃａのシグナル

Claims (24)

1. 仮骨形成能が抑制された骨接合用インプラントであって、
   骨接合用インプラント基体と、前記骨接合用インプラント基体の表面に形成された表面層とを有し、
   前記表面層は、骨との親和性が低い金属を、前記骨接合用インプラント基体よりも多く含有することを特徴とする骨接合用インプラント。
2. 請求項１に記載の骨接合用インプラントにおいて、
   前記表面層は、前記骨との親和性が低い金属を５重量％以上含有することを特徴とする骨接合用インプラント。
3. 仮骨形成能が抑制された骨接合用インプラントであって、
   骨接合用インプラント基体と、前記骨接合用インプラント基体の表面に形成され、深さ方向に沿って組成が徐々に変化する傾斜合金からなる表面層とを有し、
   前記表面層における最表面部分は、骨との親和性が低い金属を、前記骨接合用インプラント基体よりも多く含有することを特徴とする骨接合用インプラント。
4. 請求項３に記載の骨接合用インプラントにおいて、
   前記表面層における最表面部分は、前記骨との親和性が低い金属を５重量％以上含有することを特徴とする骨接合用インプラント。
5. 仮骨形成能が部分的に抑制された骨接合用インプラントであって、
   骨接合用インプラント基体と、前記骨接合用インプラントの表面の一部に形成された表面層とを有し、
   前記表面層は、骨との親和性が低い金属を、前記骨接合用インプラント基体よりも多く含有することを特徴とする骨接合用インプラント。
6. 請求項５に記載の骨接合用インプラントにおいて、
   前記表面層は、前記骨との親和性が低い金属を５重量％以上含有することを特徴とする骨接合用インプラント。
7. 仮骨形成能が部分的に抑制された骨接合用インプラントであって、
   骨接合用インプラント基体と、前記骨接合用インプラントの表面の一部に形成され、深さ方向に沿って組成が徐々に変化する傾斜合金からなる表面層とを有し、
   前記表面層における最表面部分は、骨との親和性が低い金属を、前記骨接合用インプラント基体よりも多く含有することを特徴とする骨接合用インプラント。
8. 請求項７に記載の骨接合用インプラントにおいて、
   前記表面層における最表面部分は、前記骨との親和性が低い金属を５重量％以上含有することを特徴とする骨接合用インプラント。
9. 請求項１〜８のいずれかに記載の骨接合用インプラントにおいて、
   前記表面層の厚さは、１ｎｍ〜１ｍｍの範囲内にあることを特徴とする骨接合用インプラント。
10. 請求項１〜９のいずれかに記載の骨接合用インプラントにおいて、
    前記骨接合用インプラント基体は、Ｔｉ又はＴｉ合金からなることを特徴とする骨接合用インプラント。
11. 仮骨形成能が部分的に抑制された骨接合用インプラントであって、
    仮骨形成能を有する第１部分と、前記第１部分よりも仮骨形成能が抑制された第２部分とを有し、
    前記第２部分は、骨との親和性が低い金属を、前記第１部分よりも多く含有し、
    前記第１部分と前記第２部分とは接合されていることを特徴とする骨接合用インプラント。
12. 請求項１１に記載の骨接合用インプラントにおいて、
    前記第２部分は、前記骨との親和性が低い金属を５重量％以上含有することを特徴とする骨接合用インプラント。
13. 請求項１１又は１２に記載の骨接合用インプラントにおいて、
    前記第１部分及び前記第２部分はともに、Ｔｉ又はＴｉ合金からなることを特徴とする骨接合用インプラント。
14. 仮骨形成能が抑制された骨接合用インプラントであって、
    少なくとも前記骨接合用インプラントの最表面部分においては、骨との親和性が低い金属を５重量％以上含有することを特徴とする骨接合用インプラント。
15. 請求項１４に記載の骨接合用インプラントにおいて、
    前記骨接合用インプラントは、Ｔｉ合金からなることを特徴とする骨接合用インプラント。
16. 請求項１〜１５のいずれかに記載の骨接合用インプラントにおいて、
    前記骨との親和性が低い金属は、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ及びＲｈから選択される１種又は２種以上の金属であることを特徴とする骨接合用インプラント。
17. 請求項１〜４のいずれかに記載の骨接合用インプラントを製造するための骨接合用インプラントの製造方法であって、
    前記骨接合用インプラント基体を準備する第１工程と、
    前記骨接合用インプラント基体の表面に前記表面層を形成する第２工程とを含むことを特徴とする骨接合用インプラントの製造方法。
18. 請求項５〜８のいずれかに記載の骨接合用インプラントを製造するための骨接合用インプラントの製造方法であって、
    前記骨接合用インプラント基体を準備する第１工程と、
    前記骨接合用インプラント基体の表面の一部に前記表面層を形成する第２工程とを含むことを特徴とする骨接合用インプラントの製造方法。
19. 請求項１７又は１８に記載の骨接合用インプラントの製造方法において、
    前記第２工程は、前記骨との親和性が低い金属を含む金属を真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングする工程を含むことを特徴とする骨接合用インプラントの製造方法。
20. 請求項１７又は１８に記載の骨接合用インプラントの製造方法において、
    前記第２工程は、前記骨との親和性が低い金属を含む液体、樹脂又は油脂をコーティングしたものを熱処理して金属化する工程を含むことを特徴とする骨接合用インプラントの製造方法。
21. 請求項１９又は２０に記載の骨接合用インプラントの製造方法において、
    前記第２工程は、前記骨接合用インプラント基体と前記表面層とを傾斜合金化するための熱処理工程をさらに含むことを特徴とする骨接合用インプラントの製造方法。
22. 請求項１７又は１８に記載の骨接合用インプラントの製造方法において、
    前記第２工程は、組成を変化させながら前記表面層を形成することを特徴とする骨接合用インプラントの製造方法。
23. 請求項１１〜１３のいずれかに記載の骨接合用インプラントを製造するための骨接合用インプラントの製造方法であって、
    前記第１部分と前記第２部分とを準備する第１工程と、
    前記第１部分と前記第２部分とを接合する第２工程とを含むことを特徴とする骨接合用インプラントの製造方法。
24. 請求項１７〜２３のいずれかに記載の骨接合用インプラントの製造方法において、
    前記骨との親和性が低い金属は、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ及びＲｈから選択される１種又は２種以上の金属であることを特徴とする骨接合用インプラントの製造方法。