JPWO2006035571A1 - 高純度液化塩素の製造方法 - Google Patents
高純度液化塩素の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2006035571A1 JPWO2006035571A1 JP2006537657A JP2006537657A JPWO2006035571A1 JP WO2006035571 A1 JPWO2006035571 A1 JP WO2006035571A1 JP 2006537657 A JP2006537657 A JP 2006537657A JP 2006537657 A JP2006537657 A JP 2006537657A JP WO2006035571 A1 JPWO2006035571 A1 JP WO2006035571A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chlorine
- photolysis
- purity liquefied
- oxide
- liquefied chlorine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 title claims abstract description 107
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 97
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 94
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 229910001902 chlorine oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 43
- MAYPHUUCLRDEAZ-UHFFFAOYSA-N chlorine peroxide Chemical compound ClOOCl MAYPHUUCLRDEAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 38
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 35
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims abstract description 25
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 23
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 23
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 14
- OSVXSBDYLRYLIG-UHFFFAOYSA-N dioxidochlorine(.) Chemical group O=Cl=O OSVXSBDYLRYLIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 94
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 claims description 60
- 239000004155 Chlorine dioxide Substances 0.000 claims description 47
- 235000019398 chlorine dioxide Nutrition 0.000 claims description 47
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 claims description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 33
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 18
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 15
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 claims description 4
- 238000007670 refining Methods 0.000 claims description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 abstract description 4
- NHYCGSASNAIGLD-UHFFFAOYSA-N Chlorine monoxide Chemical class Cl[O] NHYCGSASNAIGLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 10
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 10
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 8
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M Chlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- -1 chlorine dioxide Chemical compound 0.000 description 3
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BZSXEZOLBIJVQK-UHFFFAOYSA-N 2-methylsulfonylbenzoic acid Chemical compound CS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O BZSXEZOLBIJVQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003421 catalytic decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N dichloridooxygen Chemical compound ClOCl RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- TVWHTOUAJSGEKT-UHFFFAOYSA-N chlorine trioxide Chemical compound [O]Cl(=O)=O TVWHTOUAJSGEKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000001784 detoxification Methods 0.000 description 1
- SAUMVKNLVQDHMJ-UHFFFAOYSA-N dichlorine trioxide Inorganic materials ClOCl(=O)=O SAUMVKNLVQDHMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M iron chloride Chemical compound [Cl-].[Fe] FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002627 tracheal intubation Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B7/00—Halogens; Halogen acids
- C01B7/01—Chlorine; Hydrogen chloride
- C01B7/07—Purification ; Separation
- C01B7/075—Purification ; Separation of liquid chlorine
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
Abstract
塩素酸化物を不純物として含む原料塩素に光を照射して塩素酸化物を塩素および酸素に分解し、その後蒸留による精製を行う、高純度液化塩素の製造方法。塩素から塩素酸化物不純物が効率的に除去される。
Description
本発明は、高純度液化塩素の製造方法に関する。本発明は、特に、塩素酸化物不純物を含む原料塩素を精製することにより純度９９．９９９％以上の高純度液化塩素を製造することのできる方法に関する。
一酸化二塩素、二酸化塩素、六酸化二塩素（三酸化塩素）等の塩素酸化物は非常に分解しやすく、熱や光によって下式のように塩素と酸素に分解する。
Ｃｌ２Ｏ → Ｃｌ２ ＋ １／２Ｏ２ （１）
ＣｌＯ２ → １／２Ｃｌ２ ＋ Ｏ２ （２）
Ｃｌ２Ｏ６ → Ｃｌ２ ＋ ３Ｏ２ （３）
塩素酸化物、特に二酸化塩素の液化塩素中での気相と液相での濃度の比は、液相１に対して気相は０．７程度で大きな濃度差はない。塩素酸化物の分解生成物である酸素の液化塩素中での気相と液相での濃度の比は、液相１に対して気相は１００以上と圧倒的に気相側に多量に存在することになる。充填した時点では全不純物量が１０ｐｐｍ以下であり、塩素の純度が９９．９９９％以上であっても、この微量の二酸化塩素が容器内で徐々に分解すると塩素と酸素が生成され、二酸化塩素の分解によって生成した酸素はそのほとんどが気相側に濃縮され、気相の酸素濃度が充填時の１００倍以上となって純度が低下してしまい、例えば、光ファイバーや半導体、液晶用途等の高純度での用途に適さないものとなってしまう。よって、純度９９．９９９％以上を確保しておくためには、塩素酸化物、特に二酸化塩素濃度を少なくとも０．０１ｐｐｍ以下にまで低減させる必要がある。
塩素酸化物は食塩の電解により塩素を製造する際に塩素中に混入してしまうことが知られている。食塩の電解により塩素および水酸化ナトリウムを製造するプロセスは種々知られているが、そのようなプロセスにおいて電解槽の陽極室には一定濃度の食塩水が供給され、電解により濃度の低下した食塩水は戻り塩水として槽外へ排出され、再度濃度を調整して電解槽へ供給される。この際、電解により塩素酸ナトリウムが副生されるため、そのまま循環させると、塩素酸ナトリウムの濃度が次第に高くなる。塩素酸塩は陽極表面が酸性化された拡散槽内で塩素または二酸化塩素に分解し、これにより塩素ガス中に塩素酸化物、特に二酸化塩素が混入してしまう。
従来、電解槽での塩素酸塩生成を抑える方法としては、例えば、塩酸により還元する方法や硫酸により分解する方法等が用いられる。しかし、塩水のｐＨを下げるのには限度があり、塩素酸塩の生成を完全に抑えることは困難であり、塩素中に塩素酸化物が混入してしまうことは避けられない。
一方、塩素中の塩素酸化物、特に二酸化塩素を除去する方法としては、一般的に用いられる方法として蒸留、吸着除去等が挙げられ、また二酸化塩素が分解しやすい性質を利用して塩素と酸素に分解する方法が知られている。蒸留方法を用いた場合、塩素の沸点は−３５℃であり、二酸化塩素の沸点は１１℃であって沸点差はあるけれども、常温では気液平衡が１に近いためか、蒸留による除去は困難であった。また、吸着方法では、塩素に対して耐性のある吸着剤が少ないが、その中で二酸化塩素を吸着する吸着剤でもその能力は小さいため、大きな装置が必要となってしまい、さらには塩素による劣化により再生が困難で、吸着剤の交換頻度が多くなり、コストがかかる。
また、分解除去する方法としては、熱分解、触媒分解、光分解が知られている。熱分解では、二酸化塩素は１００℃以上のガス温度にすると分解することが知られており、例えば、シェルアンドチューブ型の反応容器を用い、シェル側を蒸気により加熱し、チューブ側に二酸化塩素を流す方法等がある。しかしながら、単に温度を１００℃以上に上昇させる方法では、分解効率が低く、ガス全体を均一な温度に上昇させる必要があるためエネルギーが増大してしまう。また、高温の塩素に対して耐性のある装置の材質が必要となり、コストが高くなってしまう。特開平３−４０９０３号公報には、二酸化塩素を熱分解するに際して、局部的に二酸化塩素の分解温度よりも高い温度に加熱することにより一旦ラジカルを生じさせ、連鎖反応的に最終的に塩素と酸素とに分解する方法が記載されている。しかし、この方法では、塩素に対する二酸化塩素濃度が０．５％未満では二酸化塩素を効率よく分解させることはできず、例えば、ｐｐｍオーダーの二酸化塩素不純物を効率的に除去することはできない。また、二酸化塩素は１００℃以下でも徐々に分解するが、分解には長時間を要し、実用的ではない。触媒分解としては、例えば、特開昭５０−１３９０７７号公報には、ガス中の二酸化塩素を含む塩素酸化物を活性炭に接触させて活性炭により還元分解する方法が記載されている。しかし、塩素ガス中の二酸化塩素の除去に関しては、塩素が活性炭に吸着されてしまうため、活性炭の還元剤としての作用は得られず、二酸化塩素の除去は困難である。また、特開昭５３−９９０６９号公報には、二酸化塩素を鉄と反応させて酸化鉄および塩化鉄として除去する方法が挙げられているが、塩素中では鉄は塩素と反応してしまうため、二酸化塩素を選択的に除去するのは困難である。光分解としては、特開平３−３８２１８号公報に二酸化塩素に１〜２９０ｎｍの紫外線を照射して二酸化塩素を分解する方法が記載されている。しかし、塩素も二酸化塩素とほぼ同様の光吸収を示すことから、紫外線のみを照射しても光エネルギーのほとんどが塩素に吸収されてしまうため、塩素により吸収されるエネルギー以上のエネルギーが必要となり、そのため効率的に二酸化塩素を分解することができない。
Ｃｌ２Ｏ → Ｃｌ２ ＋ １／２Ｏ２ （１）
ＣｌＯ２ → １／２Ｃｌ２ ＋ Ｏ２ （２）
Ｃｌ２Ｏ６ → Ｃｌ２ ＋ ３Ｏ２ （３）
塩素酸化物、特に二酸化塩素の液化塩素中での気相と液相での濃度の比は、液相１に対して気相は０．７程度で大きな濃度差はない。塩素酸化物の分解生成物である酸素の液化塩素中での気相と液相での濃度の比は、液相１に対して気相は１００以上と圧倒的に気相側に多量に存在することになる。充填した時点では全不純物量が１０ｐｐｍ以下であり、塩素の純度が９９．９９９％以上であっても、この微量の二酸化塩素が容器内で徐々に分解すると塩素と酸素が生成され、二酸化塩素の分解によって生成した酸素はそのほとんどが気相側に濃縮され、気相の酸素濃度が充填時の１００倍以上となって純度が低下してしまい、例えば、光ファイバーや半導体、液晶用途等の高純度での用途に適さないものとなってしまう。よって、純度９９．９９９％以上を確保しておくためには、塩素酸化物、特に二酸化塩素濃度を少なくとも０．０１ｐｐｍ以下にまで低減させる必要がある。
塩素酸化物は食塩の電解により塩素を製造する際に塩素中に混入してしまうことが知られている。食塩の電解により塩素および水酸化ナトリウムを製造するプロセスは種々知られているが、そのようなプロセスにおいて電解槽の陽極室には一定濃度の食塩水が供給され、電解により濃度の低下した食塩水は戻り塩水として槽外へ排出され、再度濃度を調整して電解槽へ供給される。この際、電解により塩素酸ナトリウムが副生されるため、そのまま循環させると、塩素酸ナトリウムの濃度が次第に高くなる。塩素酸塩は陽極表面が酸性化された拡散槽内で塩素または二酸化塩素に分解し、これにより塩素ガス中に塩素酸化物、特に二酸化塩素が混入してしまう。
従来、電解槽での塩素酸塩生成を抑える方法としては、例えば、塩酸により還元する方法や硫酸により分解する方法等が用いられる。しかし、塩水のｐＨを下げるのには限度があり、塩素酸塩の生成を完全に抑えることは困難であり、塩素中に塩素酸化物が混入してしまうことは避けられない。
一方、塩素中の塩素酸化物、特に二酸化塩素を除去する方法としては、一般的に用いられる方法として蒸留、吸着除去等が挙げられ、また二酸化塩素が分解しやすい性質を利用して塩素と酸素に分解する方法が知られている。蒸留方法を用いた場合、塩素の沸点は−３５℃であり、二酸化塩素の沸点は１１℃であって沸点差はあるけれども、常温では気液平衡が１に近いためか、蒸留による除去は困難であった。また、吸着方法では、塩素に対して耐性のある吸着剤が少ないが、その中で二酸化塩素を吸着する吸着剤でもその能力は小さいため、大きな装置が必要となってしまい、さらには塩素による劣化により再生が困難で、吸着剤の交換頻度が多くなり、コストがかかる。
また、分解除去する方法としては、熱分解、触媒分解、光分解が知られている。熱分解では、二酸化塩素は１００℃以上のガス温度にすると分解することが知られており、例えば、シェルアンドチューブ型の反応容器を用い、シェル側を蒸気により加熱し、チューブ側に二酸化塩素を流す方法等がある。しかしながら、単に温度を１００℃以上に上昇させる方法では、分解効率が低く、ガス全体を均一な温度に上昇させる必要があるためエネルギーが増大してしまう。また、高温の塩素に対して耐性のある装置の材質が必要となり、コストが高くなってしまう。特開平３−４０９０３号公報には、二酸化塩素を熱分解するに際して、局部的に二酸化塩素の分解温度よりも高い温度に加熱することにより一旦ラジカルを生じさせ、連鎖反応的に最終的に塩素と酸素とに分解する方法が記載されている。しかし、この方法では、塩素に対する二酸化塩素濃度が０．５％未満では二酸化塩素を効率よく分解させることはできず、例えば、ｐｐｍオーダーの二酸化塩素不純物を効率的に除去することはできない。また、二酸化塩素は１００℃以下でも徐々に分解するが、分解には長時間を要し、実用的ではない。触媒分解としては、例えば、特開昭５０−１３９０７７号公報には、ガス中の二酸化塩素を含む塩素酸化物を活性炭に接触させて活性炭により還元分解する方法が記載されている。しかし、塩素ガス中の二酸化塩素の除去に関しては、塩素が活性炭に吸着されてしまうため、活性炭の還元剤としての作用は得られず、二酸化塩素の除去は困難である。また、特開昭５３−９９０６９号公報には、二酸化塩素を鉄と反応させて酸化鉄および塩化鉄として除去する方法が挙げられているが、塩素中では鉄は塩素と反応してしまうため、二酸化塩素を選択的に除去するのは困難である。光分解としては、特開平３−３８２１８号公報に二酸化塩素に１〜２９０ｎｍの紫外線を照射して二酸化塩素を分解する方法が記載されている。しかし、塩素も二酸化塩素とほぼ同様の光吸収を示すことから、紫外線のみを照射しても光エネルギーのほとんどが塩素に吸収されてしまうため、塩素により吸収されるエネルギー以上のエネルギーが必要となり、そのため効率的に二酸化塩素を分解することができない。
本発明は、塩素から塩素酸化物不純物を効率的に除去し、例えば、純度９９．９９９％以上の高純度液化塩素を製造することのできる方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、塩素中の塩素酸化物不純物、特に二酸化塩素不純物を光分解することによって除去する方法において、光分解を効率的に行うことのできる方法を見出した。すなわち、本発明は、塩素酸化物を不純物として含む原料塩素に光を照射して塩素酸化物を塩素および酸素に分解し、その後蒸留による精製を行うことを含む高純度液化塩素の製造方法を提供する。
よって、本発明は、例えば、次の（１）〜（１０）の高純度液化塩素の製造方法からなる。
（１）塩素酸化物を不純物として含む原料塩素を精製することにより高純度液化塩素を製造する方法において、原料塩素に光を照射して塩素酸化物不純物を光分解によって塩素と酸素に分解する光分解工程と、光分解生成物およびその他の不純物を蒸留によって除去する蒸留工程とを含むことを特徴とする高純度液化塩素の製造方法。
（２）塩素酸化物不純物の濃度が０．１〜５０ｐｐｍである、上記（１）に記載の高純度液化塩素の製造方法。
（３）塩素酸化物不純物が二酸化塩素である、上記（１）または（２）に記載の高純度液化塩素の製造方法。
（４）光分解工程の光源が、３００〜５００ｎｍの範囲の波長を含む光源である、上記（１）〜（３）のいずれかに記載の高純度液化塩素の製造方法。
（５）原料塩素を光分解工程の前に気化器により気化させ、光分解工程において気相で光分解反応を行う、上記（１）〜（４）のいずれかに記載の高純度液化塩素の製造方法。
（６）光分解工程における光分解反応が、流通式での光分解反応である、上記（１）〜（５）のいずれかに記載の高純度液化塩素の製造方法。
（７）光分解工程における光分解反応の温度が２０〜６０℃である、上記（１）〜（６）のいずれかに記載の高純度液化塩素の製造方法。
（８）光分解工程における光分解反応の圧力が０．０１〜１．５ＭＰａである、上記（１）〜（７）のいずれかに記載の高純度液化塩素の製造方法。
（９）蒸留工程が、光分解工程で生成した酸素を含む低沸点不純物を除去する低沸蒸留工程を含む、上記（１）に記載の高純度液化塩素の製造方法。
（１０）高純度液化塩素の純度が９９．９９９％以上である、上記（１）〜（９）のいずれかに記載の高純度液化塩素の製造方法。
本発明によれば、簡便にかつ経済的、効率的に塩素中の塩素酸化物を除去し、高純度の液化塩素、特に純度９９．９９９％以上の高純度液化塩素を得ることができる。
本発明者らは、塩素中の塩素酸化物不純物、特に二酸化塩素不純物を光分解することによって除去する方法において、光分解を効率的に行うことのできる方法を見出した。すなわち、本発明は、塩素酸化物を不純物として含む原料塩素に光を照射して塩素酸化物を塩素および酸素に分解し、その後蒸留による精製を行うことを含む高純度液化塩素の製造方法を提供する。
よって、本発明は、例えば、次の（１）〜（１０）の高純度液化塩素の製造方法からなる。
（１）塩素酸化物を不純物として含む原料塩素を精製することにより高純度液化塩素を製造する方法において、原料塩素に光を照射して塩素酸化物不純物を光分解によって塩素と酸素に分解する光分解工程と、光分解生成物およびその他の不純物を蒸留によって除去する蒸留工程とを含むことを特徴とする高純度液化塩素の製造方法。
（２）塩素酸化物不純物の濃度が０．１〜５０ｐｐｍである、上記（１）に記載の高純度液化塩素の製造方法。
（３）塩素酸化物不純物が二酸化塩素である、上記（１）または（２）に記載の高純度液化塩素の製造方法。
（４）光分解工程の光源が、３００〜５００ｎｍの範囲の波長を含む光源である、上記（１）〜（３）のいずれかに記載の高純度液化塩素の製造方法。
（５）原料塩素を光分解工程の前に気化器により気化させ、光分解工程において気相で光分解反応を行う、上記（１）〜（４）のいずれかに記載の高純度液化塩素の製造方法。
（６）光分解工程における光分解反応が、流通式での光分解反応である、上記（１）〜（５）のいずれかに記載の高純度液化塩素の製造方法。
（７）光分解工程における光分解反応の温度が２０〜６０℃である、上記（１）〜（６）のいずれかに記載の高純度液化塩素の製造方法。
（８）光分解工程における光分解反応の圧力が０．０１〜１．５ＭＰａである、上記（１）〜（７）のいずれかに記載の高純度液化塩素の製造方法。
（９）蒸留工程が、光分解工程で生成した酸素を含む低沸点不純物を除去する低沸蒸留工程を含む、上記（１）に記載の高純度液化塩素の製造方法。
（１０）高純度液化塩素の純度が９９．９９９％以上である、上記（１）〜（９）のいずれかに記載の高純度液化塩素の製造方法。
本発明によれば、簡便にかつ経済的、効率的に塩素中の塩素酸化物を除去し、高純度の液化塩素、特に純度９９．９９９％以上の高純度液化塩素を得ることができる。
図１は、本発明の方法の工程を示す模式図である。
図２は、実施例で用いた光分解装置の模式図である。
図３は、実施例で用いた光分解装置の模式図である。
図２は、実施例で用いた光分解装置の模式図である。
図３は、実施例で用いた光分解装置の模式図である。
以下、本発明の好ましい実施形態について詳しく説明する。
本発明の高純度液化塩素の製造方法は、塩素酸化物不純物を含む液化塩素を原料として用いて高純度液化塩素を製造するにあたり、原料塩素に光を照射して塩素酸化物不純物を光分解する工程を含むことを特徴とする。すなわち、本発明の製造方法は、塩素酸化物不純物を含む原料塩素中の塩素酸化物を光分解する光分解工程と、塩素酸化物の分解により生成した酸素およびその他の不純物を蒸留により除去する蒸留工程とからなる。
塩素酸化物不純物の中でもその主な物質は二酸化塩素である。特開平３−３８２１８号公報にも記載されているように、二酸化塩素は光によって分解する性質があり、塩素と酸素になることが知られている。二酸化塩素の光による分解の機構としては、明確ではないが、次のように推測される。
二酸化塩素の光吸収では、極大吸収波長を３７０ｎｍ付近に、そして吸収バンドを２５０〜４５０ｎｍ付近の範囲に持っていることが知られている。これらの波長の光を吸収することにより励起されてラジカルが生じる反応、例えば、下記式（４）で示される反応が開始反応となり、続いて下記式（５）〜（７）で示される連鎖反応が進行し、最終的に塩素と酸素とが生成するということが考えられる。また、塩素自体も極大吸収波長が３３０ｎｍ付近で、吸収バンドが２００〜４５０ｎｍ付近の範囲の光を吸収することが知られている。このとき、二酸化塩素と同様に下記式（８）で示されるように解離してラジカルを生じるが、器壁等により再び塩素になると推測される。
ＣｌＯ２ ＋ ｈν → ＣｌＯ＊ ＋ Ｏ＊ （４）
ＣｌＯ＊ ＋ ＣｌＯ＊ → Ｃｌ２ ＋ Ｏ２ （５）
ＣｌＯ２ ＋ Ｏ＊ → ＣｌＯ３＊ （６）
２ＣｌＯ３＊ → Ｃｌ２Ｏ６ → Ｃｌ２ ＋ ３Ｏ２ （７）
Ｃｌ２ ＋ ｈν → Ｃｌ＊ ＋ Ｃｌ＊ （８）
塩素酸化物の光分解に用いられる光分解装置としては、塩素が流通する光照射器および防爆構造の光源を持ち、装置全体は周囲が密閉され、空気や不活性ガスなどでパージされ、塩素漏洩時に備えて除害ラインへと排気されているのがよい。光の照射方法としては、光照射器内に内挿管を設けて内挿管内に光源を設置し、光照射器の内側から光を照射するようにしてもよく、あるいは光照射器の外に光源を設置し、光を外側から照射するようにしてもよい。光照射器はいかなる形態にあってもよく、例えば、直管状もしくはらせん状でもよく、あるいは光照射器内部にじゃま板等を備えるものであってもよい。また、必要に応じて、複数個の光照射器を直列あるいは並列に連結してもよい。また、周囲等に反射鏡を用いる等により光の反射効率を向上させてもよい。光照射に用いる光照射器の材質は透明で、塩素および各光源に耐性のあるものであればよく、例えば、ガラスやプラスチック等を用いることができる。
光分解反応は、気相で行っても、液相で行ってもよいが、安全上、気相で光を照射して行うのがよく、光分解工程の前に原料塩素を気化器で気化させるのが好ましい。光分解反応は、回分式でも、流通式でも行うことできるが、連続の精製も可能となることから流通式が好ましい。
塩素酸化物の光分解に用いられる光源としては、少なくとも二酸化塩素の吸収波長の範囲内の波長を持つ光であればよいけれども、３３０ｎｍ付近以下の波長は塩素による吸収の影響を強く受けるので、二酸化塩素を分解するためには塩素により吸収されるエネルギー以上のエネルギーが必要となってしまい、また塩素の圧力の影響も受けてしまうため効率的でなく、実用的ではない。したがって、光源としては、塩素の吸収が比較的小さく、二酸化塩素の吸収波長範囲内にある波長、例えば、３００〜５００ｎｍの範囲の波長をもつ光源を用いるのがよい。よって、そのためのランプとしては、例えば、各種蛍光ランプ、低圧水銀ランプ、ＬＥＤランプ、各種ＨＩＤランプ（高圧水銀ランプ、高圧ナトリウムランプ、メタルハライドランプ等）等であって、３００〜５００ｎｍの波長を持つランプを用いることができる。
上記の波長範囲を持つ光源で同種類の光源を用いた同じ光照射器では、光分解に必要な時間は塩素酸化物濃度および光の強度に単純に比例するので、光分解装置の構成は光源の種類、光照射器の径、光強度、塩素酸化物濃度および塩素流量により決定することができる。
光分解工程における温度は、常用の温度でよく、好ましくは２０〜６０℃である。圧力は、常用の圧力でよく、好ましくは０．０１〜１．５ＭＰａである。
本発明における蒸留工程は、通常の蒸留操作で行うことができるが、少なくとも光分解工程で生成した酸素を除去するため、最適な還流比で低沸点成分をカットする蒸留を行うのが好ましい。これにより酸素を除去できるほか、窒素、水素等の低沸点成分の不純物が含まれる場合にはそれらを除去することもできる。続いて、全還流での高沸点成分をカットする蒸留を行うことによって、重金属、水、有機物といった高沸点成分の不純物を除去することもできる。
本発明の方法を用いることにより、連続の精製も可能であり、設備コストも低く抑えることができる。
本発明を以下の実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
図１は、本発明の方法の工程を示す模式図である。塩素酸化物不純物を含む原料塩素は気化器１により気化され、光分解装置２を有する光分解工程に送られ、ここで塩素酸化物不純物が光分解によって除去される。続いて、蒸留塔３を有する蒸留工程に送られ、ここで塩素酸化物の分解により生成された酸素およびその他の不純物が蒸留除去される。
図２に、実施例に用いた光分解装置であって、光照射器の内側から光を照射する装置を示す。光分解装置４にはステンレス製の管７が設けられており、その中央部にはガラス管８がフランジ９、パッキン１０、ねじ１１によって固定されており、ガラス管８にはランプ１２が挿入されており、ガスは入口１３から導入され、出口１４へと流通される。光照射器全体は密閉され、空気や不活性ガスが入口５から導入され、出口６は除害へと接続されている。
図３に、実施例に用いた光分解装置であって、光照射器の外側から光を照射する装置を示す。光分解装置１５にはガラス管１８がフランジ１９、パッキン２０、ねじ２１によって固定されており、ランプ２２がガラス管周囲に設置され、ガスは入口２３から導入され、出口２４へと流通される。光照射器全体は密閉され、空気や不活性ガスが入口１６から導入され、出口１７は除害へと接続されている。
なお、二酸化塩素の分析はフーリエ変換赤外分光により行い、その他の不純物ガスの分析はＴＣＤ検出器付きガスクロマトグラフにより行った。
本発明の高純度液化塩素の製造方法は、塩素酸化物不純物を含む液化塩素を原料として用いて高純度液化塩素を製造するにあたり、原料塩素に光を照射して塩素酸化物不純物を光分解する工程を含むことを特徴とする。すなわち、本発明の製造方法は、塩素酸化物不純物を含む原料塩素中の塩素酸化物を光分解する光分解工程と、塩素酸化物の分解により生成した酸素およびその他の不純物を蒸留により除去する蒸留工程とからなる。
塩素酸化物不純物の中でもその主な物質は二酸化塩素である。特開平３−３８２１８号公報にも記載されているように、二酸化塩素は光によって分解する性質があり、塩素と酸素になることが知られている。二酸化塩素の光による分解の機構としては、明確ではないが、次のように推測される。
二酸化塩素の光吸収では、極大吸収波長を３７０ｎｍ付近に、そして吸収バンドを２５０〜４５０ｎｍ付近の範囲に持っていることが知られている。これらの波長の光を吸収することにより励起されてラジカルが生じる反応、例えば、下記式（４）で示される反応が開始反応となり、続いて下記式（５）〜（７）で示される連鎖反応が進行し、最終的に塩素と酸素とが生成するということが考えられる。また、塩素自体も極大吸収波長が３３０ｎｍ付近で、吸収バンドが２００〜４５０ｎｍ付近の範囲の光を吸収することが知られている。このとき、二酸化塩素と同様に下記式（８）で示されるように解離してラジカルを生じるが、器壁等により再び塩素になると推測される。
ＣｌＯ２ ＋ ｈν → ＣｌＯ＊ ＋ Ｏ＊ （４）
ＣｌＯ＊ ＋ ＣｌＯ＊ → Ｃｌ２ ＋ Ｏ２ （５）
ＣｌＯ２ ＋ Ｏ＊ → ＣｌＯ３＊ （６）
２ＣｌＯ３＊ → Ｃｌ２Ｏ６ → Ｃｌ２ ＋ ３Ｏ２ （７）
Ｃｌ２ ＋ ｈν → Ｃｌ＊ ＋ Ｃｌ＊ （８）
塩素酸化物の光分解に用いられる光分解装置としては、塩素が流通する光照射器および防爆構造の光源を持ち、装置全体は周囲が密閉され、空気や不活性ガスなどでパージされ、塩素漏洩時に備えて除害ラインへと排気されているのがよい。光の照射方法としては、光照射器内に内挿管を設けて内挿管内に光源を設置し、光照射器の内側から光を照射するようにしてもよく、あるいは光照射器の外に光源を設置し、光を外側から照射するようにしてもよい。光照射器はいかなる形態にあってもよく、例えば、直管状もしくはらせん状でもよく、あるいは光照射器内部にじゃま板等を備えるものであってもよい。また、必要に応じて、複数個の光照射器を直列あるいは並列に連結してもよい。また、周囲等に反射鏡を用いる等により光の反射効率を向上させてもよい。光照射に用いる光照射器の材質は透明で、塩素および各光源に耐性のあるものであればよく、例えば、ガラスやプラスチック等を用いることができる。
光分解反応は、気相で行っても、液相で行ってもよいが、安全上、気相で光を照射して行うのがよく、光分解工程の前に原料塩素を気化器で気化させるのが好ましい。光分解反応は、回分式でも、流通式でも行うことできるが、連続の精製も可能となることから流通式が好ましい。
塩素酸化物の光分解に用いられる光源としては、少なくとも二酸化塩素の吸収波長の範囲内の波長を持つ光であればよいけれども、３３０ｎｍ付近以下の波長は塩素による吸収の影響を強く受けるので、二酸化塩素を分解するためには塩素により吸収されるエネルギー以上のエネルギーが必要となってしまい、また塩素の圧力の影響も受けてしまうため効率的でなく、実用的ではない。したがって、光源としては、塩素の吸収が比較的小さく、二酸化塩素の吸収波長範囲内にある波長、例えば、３００〜５００ｎｍの範囲の波長をもつ光源を用いるのがよい。よって、そのためのランプとしては、例えば、各種蛍光ランプ、低圧水銀ランプ、ＬＥＤランプ、各種ＨＩＤランプ（高圧水銀ランプ、高圧ナトリウムランプ、メタルハライドランプ等）等であって、３００〜５００ｎｍの波長を持つランプを用いることができる。
上記の波長範囲を持つ光源で同種類の光源を用いた同じ光照射器では、光分解に必要な時間は塩素酸化物濃度および光の強度に単純に比例するので、光分解装置の構成は光源の種類、光照射器の径、光強度、塩素酸化物濃度および塩素流量により決定することができる。
光分解工程における温度は、常用の温度でよく、好ましくは２０〜６０℃である。圧力は、常用の圧力でよく、好ましくは０．０１〜１．５ＭＰａである。
本発明における蒸留工程は、通常の蒸留操作で行うことができるが、少なくとも光分解工程で生成した酸素を除去するため、最適な還流比で低沸点成分をカットする蒸留を行うのが好ましい。これにより酸素を除去できるほか、窒素、水素等の低沸点成分の不純物が含まれる場合にはそれらを除去することもできる。続いて、全還流での高沸点成分をカットする蒸留を行うことによって、重金属、水、有機物といった高沸点成分の不純物を除去することもできる。
本発明の方法を用いることにより、連続の精製も可能であり、設備コストも低く抑えることができる。
本発明を以下の実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
図１は、本発明の方法の工程を示す模式図である。塩素酸化物不純物を含む原料塩素は気化器１により気化され、光分解装置２を有する光分解工程に送られ、ここで塩素酸化物不純物が光分解によって除去される。続いて、蒸留塔３を有する蒸留工程に送られ、ここで塩素酸化物の分解により生成された酸素およびその他の不純物が蒸留除去される。
図２に、実施例に用いた光分解装置であって、光照射器の内側から光を照射する装置を示す。光分解装置４にはステンレス製の管７が設けられており、その中央部にはガラス管８がフランジ９、パッキン１０、ねじ１１によって固定されており、ガラス管８にはランプ１２が挿入されており、ガスは入口１３から導入され、出口１４へと流通される。光照射器全体は密閉され、空気や不活性ガスが入口５から導入され、出口６は除害へと接続されている。
図３に、実施例に用いた光分解装置であって、光照射器の外側から光を照射する装置を示す。光分解装置１５にはガラス管１８がフランジ１９、パッキン２０、ねじ２１によって固定されており、ランプ２２がガラス管周囲に設置され、ガスは入口２３から導入され、出口２４へと流通される。光照射器全体は密閉され、空気や不活性ガスが入口１６から導入され、出口１７は除害へと接続されている。
なお、二酸化塩素の分析はフーリエ変換赤外分光により行い、その他の不純物ガスの分析はＴＣＤ検出器付きガスクロマトグラフにより行った。
図１に示す工程により、光分解工程２においては図２に示す光分解装置４にランプとして蛍光ランプ（ナショナル製ＦＬ６Ｗ Ｄ ６Ｗ）３本を用い、光分解管に二酸化塩素を含む塩素ガスを、０．１ＭＰａおよび１ＭＰａの圧力で、１００ＮＬ／分の流量で流通させた。このときの二酸化塩素の入口濃度は２０ｐｐｍであったが、光分解後の出口では０．０１ｐｐｍ以下であった。その後、蒸留により低沸点成分および高沸点成分を除去し、この塩素ガスを液化し、容器に充填した後分析したところ、純度は９９．９９９％以上であった。この容器を３０日放置した後分析しても、同じく純度は９９．９９９％以上であった。
図１に示す工程により、光分解工程においては図３に示す光分解装置１５にランプとして高圧水銀ランプ（セン特殊光源（株）製ＨＬ−１００ＣＨ−５、１００Ｗ）を用い、ガラス管１８に向けて一方向からのみ光を照射し、光分解管に二酸化塩素を含む塩素ガスを、０．１ＭＰａおよび１ＭＰａの圧力で、３０ＮＬ／分の流量で流通させた。このときの二酸化塩素の入口濃度は１０ｐｐｍであったが、光分解後の出口では０．０１ｐｐｍ以下であった。その後、蒸留により低沸点成分および高沸点成分を除去し、この塩素ガスを液化し、容器に充填した後分析したところ、純度は９９．９９９％以上であった。この容器を３０日放置した後分析しても、同じく純度は９９．９９９％以上であった。
ランプとして蛍光ランプ（ナショナル製ＦＬ６Ｗ Ｄ ６Ｗ）６本を用い、ガラス管の周囲６方向から光を照射した以外は実施例２と同様の条件で塩素ガスを流通させたところ、同様な結果が得られた。
ランプとしてメタルハライドランプ（岩崎電機（株）製ＭＣＫ１５０Ｗ−０７Ｈ １５０Ｗ）を用いた以外は実施例２と同様の条件で塩素ガスを流通させたところ、同様な結果が得られた。
ランプとして低圧水銀ランプ（セン特殊光源（株）製ＨＦ−１００Ｇ ２０Ｗ）を用い、流量を２０ＮＬ／分とした以外は実施例２と同様の条件で塩素ガス流通させたところ、同様な結果が得られた。
ランプとしてブラックライト（ＮＥＣ製ＦＬ１５ ＢＬ−Ｂ １５Ｗ）を用い、流量を２０ＮＬ／分とした以外は実施例２と同様の条件で塩素ガス流通させたところ、同様な結果が得られた。
ランプとして白熱電球（岩崎電機（株）製ＲＦ１００Ｖ２７０ＷＨ ２７０Ｗ）を用い、流量を２０ＮＬ／分とした以外は実施例２と同様の条件で塩素ガス流通させたところ、同様な結果が得られた。
比較例１
光反応工程を用いず、蒸留工程のみで塩素ガスを精製した。このときの二酸化塩素の入口濃度は１０ｐｐｍであったが、蒸留工程出口では７ｐｐｍであり、除去量は少なかった。この塩素を容器に充填した後分析を行ったところ、二酸化塩素は７ｐｐｍであったが、酸素を含めてその他の不純物は１ｐｐｍ以下であり、不純物濃度の合計は１０ｐｐｍ以下であり、純度は９９．９９９％以上であった。しかし、この容器を３０日放置した後その気相を分析したところ、二酸化塩素が４ｐｐｍと減少し、酸素が７００ｐｐｍにまで増加し、塩素の純度が低下してしまった。これは、二酸化塩素が容器内で徐々に分解し、二酸化塩素の分解により生成した酸素が気相側に濃縮されてしまったため酸素不純物濃度が上がり、塩素ガスの純度が低下し、高純度の用途に適さないものになってしまったものである。
以上の結果を表１にまとめて示す。
比較例１
光反応工程を用いず、蒸留工程のみで塩素ガスを精製した。このときの二酸化塩素の入口濃度は１０ｐｐｍであったが、蒸留工程出口では７ｐｐｍであり、除去量は少なかった。この塩素を容器に充填した後分析を行ったところ、二酸化塩素は７ｐｐｍであったが、酸素を含めてその他の不純物は１ｐｐｍ以下であり、不純物濃度の合計は１０ｐｐｍ以下であり、純度は９９．９９９％以上であった。しかし、この容器を３０日放置した後その気相を分析したところ、二酸化塩素が４ｐｐｍと減少し、酸素が７００ｐｐｍにまで増加し、塩素の純度が低下してしまった。これは、二酸化塩素が容器内で徐々に分解し、二酸化塩素の分解により生成した酸素が気相側に濃縮されてしまったため酸素不純物濃度が上がり、塩素ガスの純度が低下し、高純度の用途に適さないものになってしまったものである。
以上の結果を表１にまとめて示す。
本発明は、簡便にかつ経済的、効率的に塩素中の塩素酸化物を除去し、高純度液化塩素を製造することができるので、産業上有利に用いることができる。
Claims (10)
- 塩素酸化物を不純物として含む原料塩素を精製することにより高純度液化塩素を製造する方法において、原料塩素に光を照射して塩素酸化物不純物を光分解によって塩素と酸素に分解する光分解工程と、光分解生成物およびその他の不純物を蒸留によって除去する蒸留工程とを含むことを特徴とする高純度液化塩素の製造方法。
- 塩素酸化物不純物の濃度が０．１〜５０ｐｐｍである、請求項１に記載の高純度液化塩素の製造方法。
- 塩素酸化物不純物が二酸化塩素である、請求項１または２に記載の高純度液化塩素の製造方法。
- 光分解工程の光源が、３００〜５００ｎｍの範囲の波長を含む光源である、請求項１〜３のいずれかに記載の高純度液化塩素の製造方法。
- 原料塩素を光分解工程の前に気化器により気化させ、光分解工程において気相で光分解反応を行う、請求項１〜４のいずれかに記載の高純度液化塩素の製造方法。
- 光分解工程における光分解反応が、流通式での光分解反応である、請求項１〜５のいずれかに記載の高純度液化塩素の製造方法。
- 光分解工程における光分解反応の温度が２０〜６０℃である、請求項１〜６のいずれかに記載の高純度液化塩素の製造方法。
- 光分解工程における光分解反応の圧力が０．０１〜１．５ＭＰａである、請求項１〜７のいずれかに記載の高純度液化塩素の製造方法。
- 蒸留工程が、光分解工程で生成した酸素を含む低沸点不純物を除去する低沸蒸留工程を含む、請求項１に記載の高純度液化塩素の製造方法。
- 高純度液化塩素の純度が９９．９９９％以上である、請求項１〜９のいずれかに記載の高純度液化塩素の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006537657A JP5219372B2 (ja) | 2004-09-29 | 2005-08-29 | 高純度液化塩素の製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004283475 | 2004-09-29 | ||
| JP2004283475 | 2004-09-29 | ||
| JP2006537657A JP5219372B2 (ja) | 2004-09-29 | 2005-08-29 | 高純度液化塩素の製造方法 |
| PCT/JP2005/016157 WO2006035571A1 (ja) | 2004-09-29 | 2005-08-29 | 高純度液化塩素の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2006035571A1 true JPWO2006035571A1 (ja) | 2008-05-15 |
| JP5219372B2 JP5219372B2 (ja) | 2013-06-26 |
Family
ID=36118723
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006537657A Active JP5219372B2 (ja) | 2004-09-29 | 2005-08-29 | 高純度液化塩素の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5219372B2 (ja) |
| KR (1) | KR100849656B1 (ja) |
| TW (1) | TWI391326B (ja) |
| WO (1) | WO2006035571A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5544696B2 (ja) * | 2008-09-24 | 2014-07-09 | 東亞合成株式会社 | 液化塩素の製造方法 |
| KR101203490B1 (ko) * | 2011-11-29 | 2012-11-21 | 홍인화학 주식회사 | 고순도 염화수소 제조방법 및 제조 시스템 |
| MY156181A (en) * | 2011-10-11 | 2016-01-15 | Hong In Chemical Co Ltd | Method and system for producing high-purity hydrogen chloride |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5120092A (ja) * | 1974-08-12 | 1976-02-17 | Asahi Denka Kogyo Kk | Gasunoseiseiho |
| JPS5632301A (en) * | 1979-08-13 | 1981-04-01 | Shell Int Research | Method of improving quality of chlorine |
| JPH028683A (ja) * | 1988-02-16 | 1990-01-12 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 塩素の分離回収方法 |
| JPH0338218A (ja) * | 1989-06-30 | 1991-02-19 | Daikin Ind Ltd | 悪臭ガス除去装置 |
| US5908532A (en) * | 1996-10-30 | 1999-06-01 | Eka Chemicals, Inc. | Method of converting chlorine dioxide present in a gaseous stream from a pulp bleach plant by irradiation to chlorine |
| JP2002316804A (ja) * | 2001-04-19 | 2002-10-31 | Sumitomo Chem Co Ltd | 塩素精製法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5528195Y2 (ja) | 1974-08-01 | 1980-07-05 | ||
| US5944962A (en) * | 1995-10-03 | 1999-08-31 | Laroche Industries, Inc. | Process for photochlorination |
-
2005
- 2005-08-29 JP JP2006537657A patent/JP5219372B2/ja active Active
- 2005-08-29 WO PCT/JP2005/016157 patent/WO2006035571A1/ja active Application Filing
- 2005-08-29 KR KR1020077001846A patent/KR100849656B1/ko active IP Right Grant
- 2005-09-19 TW TW94132335A patent/TWI391326B/zh active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5120092A (ja) * | 1974-08-12 | 1976-02-17 | Asahi Denka Kogyo Kk | Gasunoseiseiho |
| JPS5632301A (en) * | 1979-08-13 | 1981-04-01 | Shell Int Research | Method of improving quality of chlorine |
| JPH028683A (ja) * | 1988-02-16 | 1990-01-12 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 塩素の分離回収方法 |
| JPH0338218A (ja) * | 1989-06-30 | 1991-02-19 | Daikin Ind Ltd | 悪臭ガス除去装置 |
| US5908532A (en) * | 1996-10-30 | 1999-06-01 | Eka Chemicals, Inc. | Method of converting chlorine dioxide present in a gaseous stream from a pulp bleach plant by irradiation to chlorine |
| JP2002316804A (ja) * | 2001-04-19 | 2002-10-31 | Sumitomo Chem Co Ltd | 塩素精製法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100849656B1 (ko) | 2008-08-01 |
| JP5219372B2 (ja) | 2013-06-26 |
| KR20070028586A (ko) | 2007-03-12 |
| WO2006035571A1 (ja) | 2006-04-06 |
| TW200621636A (en) | 2006-07-01 |
| TWI391326B (zh) | 2013-04-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20050101811A1 (en) | UV-activated chlorination process | |
| JPH02107314A (ja) | 揮発性有機塩素化合物の除去方法 | |
| JP5219372B2 (ja) | 高純度液化塩素の製造方法 | |
| US20040101460A1 (en) | Apparatus and method for point-of-use treatment of effluent gas streams | |
| US4417964A (en) | Method of preparing olefinic compounds | |
| JP2010076972A (ja) | 不純希ガスの処理方法 | |
| CN106477525B (zh) | 一种氯代反应尾气氯化氢脱氯气净化方法 | |
| Finkbeiner et al. | Reaction between HO2 and ClO: Product formation between 210 and 300 K | |
| US6596664B2 (en) | Method, catalyst, and photocatalyst for the destruction of phosgene | |
| RU2008123174A (ru) | Непрерывный парофазный способ очистки 1,1,1,3,3,3-гексафторпропана | |
| RU2253607C1 (ru) | Способ получения хлора из газообразного хлористого водорода | |
| Buhori et al. | Synthesis of Lanthanum metal-organic frameworks (La-MOFs) as degradation photocatalyst of Rhodamine-B | |
| JP5374955B2 (ja) | 二酸化炭素からのメタノール合成方法 | |
| JP5955187B2 (ja) | 塩化水素の製造方法 | |
| JPH0824629A (ja) | 光触媒反応槽 | |
| JP2006272034A (ja) | 光触媒を用いた汚染ガス処理装置及び方法 | |
| JPH09234338A (ja) | 有機塩素化合物の光分解法 | |
| JP4896777B2 (ja) | イオン液体の分解処理方法 | |
| JP4284413B2 (ja) | 難分解性フッ素化カルボン酸の分解方法 | |
| US4695357A (en) | Removal of unsaturated hydrocarbons in anhydrous hydrogen halide by infrared laser radiation | |
| Briner | Photochemical production of ozone | |
| US6019948A (en) | Apparatus and method for purifying boron trichloride by removal of phosgene | |
| Osborn et al. | PHOTOCHEMICAL SEPARATION OF MERCURY ISOTOPES: IV. THE REACTION OF Hg2026 (3 P 1) ATOMS, PHOTOEXCITED IN NATURAL MERCURY VAPOR, WITH METHYL CHLORIDE AND ISOPROPYL CHLORIDE | |
| KR101235015B1 (ko) | 허니컴 흡착소자와 오존을 이용한 휘발성 유기화합물(브이오시) 처리 시스템 및 이를 이용한 브이오시 처리방법 | |
| JPH01300969A (ja) | ハロゲン化非環式炭化水素化合物の分解方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080513 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110705 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110901 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120619 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120704 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130205 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130305 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160315 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5219372 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |