JPH02107314A - 揮発性有機塩素化合物の除去方法 - Google Patents
揮発性有機塩素化合物の除去方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、トリクロロエテンやテトラクロロエテン等の
揮発性有機塩素化合物を含む排ガスからの揮発性有機塩
素化合物の除去方法に関するものである。
揮発性有機塩素化合物を含む排ガスからの揮発性有機塩
素化合物の除去方法に関するものである。
トリクロロエテン、テトラクロロエテン等の揮発性有機
塩素化合物は、ドライクリーニング用脱脂剤や、金属工
業、電子産業における洗浄液として多量に使用されてい
るが、これら揮発性有機塩素化合物は発ガン性があり飲
料水の汚染等の環境汚染が社会問題になっている。揮発
性有機塩素化合物は容易に大気中に蒸散するため、使用
時に大気中に放出され排ガス中に含まれる。また上水、
用水、排水等の処理で行われるストリッピングでは水中
の揮発性有機塩素化合物を排ガス中に移行させる。その
ため、排ガス中の揮発性有機塩素化合物を処理し排ガス
を無害化することが必要である。これまでに、排ガス中
の揮発性有機塩素化合物を吸着剤により処理することが
考えられており、吸着塔を複数並設し、再生排ガス中の
揮発性有機塩素化合物を殺菌線とオゾン発生線の紫外線
照射で分解しながら、吸着と再生を交互に行い連続的に
処理する方法（特開昭６２−１６３７３０）や改質合成
ゼオライトによる吸着処理方法（特開昭６ｌ−１５３１
９０）等が知られている。
塩素化合物は、ドライクリーニング用脱脂剤や、金属工
業、電子産業における洗浄液として多量に使用されてい
るが、これら揮発性有機塩素化合物は発ガン性があり飲
料水の汚染等の環境汚染が社会問題になっている。揮発
性有機塩素化合物は容易に大気中に蒸散するため、使用
時に大気中に放出され排ガス中に含まれる。また上水、
用水、排水等の処理で行われるストリッピングでは水中
の揮発性有機塩素化合物を排ガス中に移行させる。その
ため、排ガス中の揮発性有機塩素化合物を処理し排ガス
を無害化することが必要である。これまでに、排ガス中
の揮発性有機塩素化合物を吸着剤により処理することが
考えられており、吸着塔を複数並設し、再生排ガス中の
揮発性有機塩素化合物を殺菌線とオゾン発生線の紫外線
照射で分解しながら、吸着と再生を交互に行い連続的に
処理する方法（特開昭６２−１６３７３０）や改質合成
ゼオライトによる吸着処理方法（特開昭６ｌ−１５３１
９０）等が知られている。
しかしながら、前記排ガスの吸着処理は、比較的確実な
方法であるが、吸着容量が限られている点、低濃度の成
分に対して吸着容量が著しく低下する点、再生等の処理
が必要で処理操作が煩雑になる点が問題であった。また
、再生排ガス中の揮発性有機塩素化合物の分解にオゾン
発生線を使用するため、ランプ等の費用が高くなる点が
問題であった。
方法であるが、吸着容量が限られている点、低濃度の成
分に対して吸着容量が著しく低下する点、再生等の処理
が必要で処理操作が煩雑になる点が問題であった。また
、再生排ガス中の揮発性有機塩素化合物の分解にオゾン
発生線を使用するため、ランプ等の費用が高くなる点が
問題であった。
本発明者は、揮発性有機塩素化合物の金属酸化物による
光反応について種々研究を行ったところ、二酸化チタン
存在下４００ｎｍ以下の波長成分を含む光の照射によっ
て揮発性有機塩素化合物が室温付近の低温であっても速
やかに変換または分解することを見いだし、これを揮発
性有機塩素化合物の除去方法として使用し得る点に着目
して本発明をなすに至つに０本発明の方法に従えば、揮
発性有機塩素化合物を含む排ガスを二酸化チタンに接触
させて４００ｎｍ以下の波長成分を含む光を照射するこ
とにより、大部分を二酸化炭素、−酸化炭素、塩化水素
、塩素に分解させることができ、ごく一部がホスゲン、
四塩化炭素となる。塩素、塩化水素、ホスゲンは公知の
方法に従って、アルカリ洗浄液により吸収させることに
より排ガス中から容易に取り除かれる。
光反応について種々研究を行ったところ、二酸化チタン
存在下４００ｎｍ以下の波長成分を含む光の照射によっ
て揮発性有機塩素化合物が室温付近の低温であっても速
やかに変換または分解することを見いだし、これを揮発
性有機塩素化合物の除去方法として使用し得る点に着目
して本発明をなすに至つに０本発明の方法に従えば、揮
発性有機塩素化合物を含む排ガスを二酸化チタンに接触
させて４００ｎｍ以下の波長成分を含む光を照射するこ
とにより、大部分を二酸化炭素、−酸化炭素、塩化水素
、塩素に分解させることができ、ごく一部がホスゲン、
四塩化炭素となる。塩素、塩化水素、ホスゲンは公知の
方法に従って、アルカリ洗浄液により吸収させることに
より排ガス中から容易に取り除かれる。
本発明の方法に従うと、排ガス中の揮発性有機塩素化合
物を速やかに変換または分解し、吸着剤では除去率がお
ちる低濃度であフても除去率を低下させることなく、排
ガス中から揮発性有機塩素化合物を除くことができる。
物を速やかに変換または分解し、吸着剤では除去率がお
ちる低濃度であフても除去率を低下させることなく、排
ガス中から揮発性有機塩素化合物を除くことができる。
また、吸着剤のように揮発性有機塩素化合物の処理量が
制限されないので、従来の欠陥である再生処理等の煩雑
な処理操作を省くことができる。さらに、照射する光は
４００ｎｍ以下の波長成分を含めばよく、太陽光やブラ
ックライトの光が利用でき、高価なオゾン発生ランプ等
を使用する必要がない。よって、本発明は、揮発性有機
塩素化合物の除去方法として好適である。
制限されないので、従来の欠陥である再生処理等の煩雑
な処理操作を省くことができる。さらに、照射する光は
４００ｎｍ以下の波長成分を含めばよく、太陽光やブラ
ックライトの光が利用でき、高価なオゾン発生ランプ等
を使用する必要がない。よって、本発明は、揮発性有機
塩素化合物の除去方法として好適である。
次に実施例によって本発明をさらに詳細に説明する。以
下の実施例で用いた反応装置は、同軸におかれた大小２
本のパイレックスガラス管からなり、内側のガラス管の
外表面には長さ４０ｃｍにわたりガラス粉末を焼結させ
て触媒を担持することができるようになっている。これ
ら２本のガラス管の間（容積２６０ｍ１）に、揮発性有
機塩素化合物を含む反応ガスを一定の流量で流通しなが
ら、ブラックライト２本を用いて外側のガラス管を通し
て触媒及び反応ガスに光照射を行い（波長域３００〜４
００ｎｍ、ＮＯ２の光解離定数として測定された光の強
度： Ｋ、＝０．０５ｍ１ ｎ−’）、反応物及び生成
物の分析を行った。
下の実施例で用いた反応装置は、同軸におかれた大小２
本のパイレックスガラス管からなり、内側のガラス管の
外表面には長さ４０ｃｍにわたりガラス粉末を焼結させ
て触媒を担持することができるようになっている。これ
ら２本のガラス管の間（容積２６０ｍ１）に、揮発性有
機塩素化合物を含む反応ガスを一定の流量で流通しなが
ら、ブラックライト２本を用いて外側のガラス管を通し
て触媒及び反応ガスに光照射を行い（波長域３００〜４
００ｎｍ、ＮＯ２の光解離定数として測定された光の強
度： Ｋ、＝０．０５ｍ１ ｎ−’）、反応物及び生成
物の分析を行った。
実施例 ｌ
市販の”Ｔｉｔａｎｉｕｍ ０ｘｉｄｅ Ｐ２５” （
日本アエロジル株式会社製品）１．３ｇを上述の流通式
光反応装置の内管に均等に塗布し、光照射しながら、ト
リクロロエテン（３０ｐｐｍ＋ 空気希釈）を常温で反
応を行わしめた０反応ガスの流量を変えて二酸化チタン
塗布部分との接触時間を変えて反応させ、反応物及び生
成物の分析を行い、第１表のごとき精果をえた。長時間
反応させた後も、二酸化チタンの反応活性の低下は認め
られなかった。尚、光照射を行わない場合には反応の進
行は認められなかった。
日本アエロジル株式会社製品）１．３ｇを上述の流通式
光反応装置の内管に均等に塗布し、光照射しながら、ト
リクロロエテン（３０ｐｐｍ＋ 空気希釈）を常温で反
応を行わしめた０反応ガスの流量を変えて二酸化チタン
塗布部分との接触時間を変えて反応させ、反応物及び生
成物の分析を行い、第１表のごとき精果をえた。長時間
反応させた後も、二酸化チタンの反応活性の低下は認め
られなかった。尚、光照射を行わない場合には反応の進
行は認められなかった。
第１表
実施例 ２
実施例１と同様な触媒を用いて、光照射しながら、トリ
クロロエテンを含む反応ガス（空気希釈）を一定の流量
で流し二酸化チタン塗布部分との接触時間を一定（１９
ｓ）にして反応を行わしめた。
クロロエテンを含む反応ガス（空気希釈）を一定の流量
で流し二酸化チタン塗布部分との接触時間を一定（１９
ｓ）にして反応を行わしめた。
トリクロロエテンの初期濃度を１０〜３０ｐｐｍの範囲
で変えて反応させ、反応物及び生成物の分析を行い、第
２表のごとき結果をえた。吸着剤を用いた場合は、低濃
度になるとトリクロロエテン除去率が低くなるのに対し
、本発明の方法に従うと第２表のように低濃度でも除去
率は低くならな第３表 い。
で変えて反応させ、反応物及び生成物の分析を行い、第
２表のごとき結果をえた。吸着剤を用いた場合は、低濃
度になるとトリクロロエテン除去率が低くなるのに対し
、本発明の方法に従うと第２表のように低濃度でも除去
率は低くならな第３表 い。
第２表
実施例 ３
実施例１と同様の触媒及び実験条件でテトラクロロエテ
ン（３０ｐｐｒｎ＋ 空気希釈）を反応させ、第３表の
ごとき結果をえた。長時間反応させた後も二酸化チタン
の反応活性の低下は認められなかった。また、テトラク
ロロエデンの初期濃度を低くしてもテトラクロロエテン
の除去率は低下しなかった。尚、光照射を行わない場合
には、反応の進行は認められなかった。
ン（３０ｐｐｒｎ＋ 空気希釈）を反応させ、第３表の
ごとき結果をえた。長時間反応させた後も二酸化チタン
の反応活性の低下は認められなかった。また、テトラク
ロロエデンの初期濃度を低くしてもテトラクロロエテン
の除去率は低下しなかった。尚、光照射を行わない場合
には、反応の進行は認められなかった。
Claims (1)
- １、二酸化チタンの存在下、揮発性有機塩素化合物を含
む排ガスに光照射することを特徴とする揮発性有機塩素
化合物の除去方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63262176A JPH0611378B2 (ja) | 1988-10-18 | 1988-10-18 | 揮発性有機塩素化合物の除去方法 |
| US07/422,494 US4966665A (en) | 1988-10-18 | 1989-10-17 | Method for photochemical decomposition of volatile organic chlorine compound in vent gas |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63262176A JPH0611378B2 (ja) | 1988-10-18 | 1988-10-18 | 揮発性有機塩素化合物の除去方法 |
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