JPWO2005088746A1 - スイッチング素子 - Google Patents
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Abstract
少なくとも2つの電極間に有機材料からなる薄膜を配置してなるスイッチング素子であって、前記有機材料が、例えば一般式(I)で表されるトリフェニルアミン系化合物である。
Description
本発明は、有機ELディスプレーパネルの駆動用スイッチング素子や、高密度メモリ等に利用される、有機双安定材料を2つの電極間に配置したスイッチング素子に関する。
近年、有機電子材料の特性は目覚しい進展をみせている。特に電荷移動錯体などの低次元導体のなかには、金属−絶縁体遷移などの特徴ある性質を持つものがあり、有機ELディスプレーパネルの駆動用スイッチング素子や、高密度メモリなどへの適用が検討されている。
上記のスイッチング素子への適用が可能な材料として、有機双安定材料が注目されている。有機双安定材料とは、材料に電圧を印加していくと、ある電圧以上で急激に回路の電流が増加してスイッチング現象が観測される、いわゆる非線形応答を示す有機材料である。
図11には、上記のようなスイッチング挙動を示す有機双安定材料の、電圧−電流特性の一例が示されている。
図11に示すように、有機双安定材料においては、高抵抗特性51(off状態)と、低抵抗特性52(on状態)との2つの電流電圧特性を持つものであり、あらかじめVbのバイアスをかけた状態で、電圧をVth2(高遷移電圧)以上にすると、off状態からon状態へ遷移し、Vth1(低遷移電圧)以下にすると、on状態からoff状態へと遷移して抵抗値が変化する、非線形応答特性を有している。つまり、この有機双安定材料に、Vth2以上、又はVth1以下の電圧を印加することにより、いわゆるスイッチング動作を行なうことができる。ここで、Vth1、Vth2は、パルス状の電圧として印加することもできる。
このような非線形応答を示す有機双安定材料としては、各種の有機錯体が知られている。例えば、R.S.Potember等は、Cu−TCNQ(銅−テトラシアノキノジメタン)錯体を用い、電圧に対して、2つの安定な抵抗値を持つスイッチング素子を試作している(R.S.Potember et al.Appl.Phys.Lett.34,(1979)405)。
また、熊井等は、K−TCNQ(カリウム−テトラシアノキノジメタン)錯体の単結晶を用い、非線形応答によるスイッチング挙動を観測している(熊井等 固体物理 35(2000)35)。
更に、安達等は、真空蒸着法を用いてCu−TCNQ錯体薄膜を形成し、そのスイッチング特性を明らかにして、有機ELマトリックスへの適用可能性の検討をなっている(安達等 応用物理学会予稿集 2002年春 第3分冊 1236)。
しかしながら、上記の有機電荷移動錯体を用いたスイッチング素子については以下の問題点があった。すなわち、上記の有機双安定材料は電荷移動錯体であるので、ドナー性分子、もしくはドナー性を持つ金属元素と、TCQNのようなアクセプタ性分子との組み合わせによりなる、2成分系の材料である。
このため、スイッチング素子の作製にあたっては、2成分の構成比を厳密に制御する必要があった。すなわち、これらの2成分系の電荷移動錯体では、例えば、図12に示すように、ドナー分子とアクセプタ分子が、それぞれカラム状に積層してドナー分子カラム61と、アクセプタ分子カラム62を形成しており、各カラム成分が、分子(あるいは金属原子)間での部分的な電荷移動を行なうことにより、双安定特性を発現させるものである。したがって、2成分の構成比に過不足がある場合には全体の双安定特性に大きな影響を与える。
したがって、例えば、上記のCu−TCNQ錯体では、CuとTCNQの構成比が異なれば材料の結晶性、電気特性が異なり、双安定特性のバラツキの要因となる。特に、真空蒸着法等により成膜を行なう場合、両成分の蒸気圧の違いや、共蒸着法における、両材料について別々の蒸着源を使用する場合の幾何的配置等に起因して、大面積で均一な成膜が困難である。このため、上記の従来の2成分系の有機双安定材料では、双安定特性にバラツキのない、均一な品質のスイッチング素子を量産することが困難であるという問題点があった。また、有機電荷移動錯体を用いたスイッチング素子を用いたスイッチング素子では、図11で示されるoff状態からon状態への遷移電圧Vth2は約10Vと高いものの、繰返し性能が充分でないという問題点があった。
本発明は、上記従来技術の問題点を鑑みてなされたもので、有機薄膜プロセスによって得られ、材料組成の変動を抑制し、均一な双安定特性を得ることができ、量産に適し、かつ、繰返し性能にも優れるスイッチング素子を提供することを目的とする。
上記のスイッチング素子への適用が可能な材料として、有機双安定材料が注目されている。有機双安定材料とは、材料に電圧を印加していくと、ある電圧以上で急激に回路の電流が増加してスイッチング現象が観測される、いわゆる非線形応答を示す有機材料である。
図11には、上記のようなスイッチング挙動を示す有機双安定材料の、電圧−電流特性の一例が示されている。
図11に示すように、有機双安定材料においては、高抵抗特性51(off状態)と、低抵抗特性52(on状態)との2つの電流電圧特性を持つものであり、あらかじめVbのバイアスをかけた状態で、電圧をVth2(高遷移電圧)以上にすると、off状態からon状態へ遷移し、Vth1(低遷移電圧)以下にすると、on状態からoff状態へと遷移して抵抗値が変化する、非線形応答特性を有している。つまり、この有機双安定材料に、Vth2以上、又はVth1以下の電圧を印加することにより、いわゆるスイッチング動作を行なうことができる。ここで、Vth1、Vth2は、パルス状の電圧として印加することもできる。
このような非線形応答を示す有機双安定材料としては、各種の有機錯体が知られている。例えば、R.S.Potember等は、Cu−TCNQ(銅−テトラシアノキノジメタン)錯体を用い、電圧に対して、2つの安定な抵抗値を持つスイッチング素子を試作している(R.S.Potember et al.Appl.Phys.Lett.34,(1979)405)。
また、熊井等は、K−TCNQ(カリウム−テトラシアノキノジメタン)錯体の単結晶を用い、非線形応答によるスイッチング挙動を観測している(熊井等 固体物理 35(2000)35)。
更に、安達等は、真空蒸着法を用いてCu−TCNQ錯体薄膜を形成し、そのスイッチング特性を明らかにして、有機ELマトリックスへの適用可能性の検討をなっている(安達等 応用物理学会予稿集 2002年春 第3分冊 1236)。
しかしながら、上記の有機電荷移動錯体を用いたスイッチング素子については以下の問題点があった。すなわち、上記の有機双安定材料は電荷移動錯体であるので、ドナー性分子、もしくはドナー性を持つ金属元素と、TCQNのようなアクセプタ性分子との組み合わせによりなる、2成分系の材料である。
このため、スイッチング素子の作製にあたっては、2成分の構成比を厳密に制御する必要があった。すなわち、これらの2成分系の電荷移動錯体では、例えば、図12に示すように、ドナー分子とアクセプタ分子が、それぞれカラム状に積層してドナー分子カラム61と、アクセプタ分子カラム62を形成しており、各カラム成分が、分子(あるいは金属原子)間での部分的な電荷移動を行なうことにより、双安定特性を発現させるものである。したがって、2成分の構成比に過不足がある場合には全体の双安定特性に大きな影響を与える。
したがって、例えば、上記のCu−TCNQ錯体では、CuとTCNQの構成比が異なれば材料の結晶性、電気特性が異なり、双安定特性のバラツキの要因となる。特に、真空蒸着法等により成膜を行なう場合、両成分の蒸気圧の違いや、共蒸着法における、両材料について別々の蒸着源を使用する場合の幾何的配置等に起因して、大面積で均一な成膜が困難である。このため、上記の従来の2成分系の有機双安定材料では、双安定特性にバラツキのない、均一な品質のスイッチング素子を量産することが困難であるという問題点があった。また、有機電荷移動錯体を用いたスイッチング素子を用いたスイッチング素子では、図11で示されるoff状態からon状態への遷移電圧Vth2は約10Vと高いものの、繰返し性能が充分でないという問題点があった。
本発明は、上記従来技術の問題点を鑑みてなされたもので、有機薄膜プロセスによって得られ、材料組成の変動を抑制し、均一な双安定特性を得ることができ、量産に適し、かつ、繰返し性能にも優れるスイッチング素子を提供することを目的とする。
すなわち、本発明のスイッチング素子の1つは、少なくとも2つの電極間に有機材料からなる薄膜を配置してなるスイッチング素子であって、前記有機材料が、下記一般式(I)で表されるトリフェニルアミン系化合物であることを特徴とする。
(式(I)中、R1〜R4は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルコキシル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい環を形成する残基より選ばれる1つを表し、R1〜R4は同一又は異なってもよい。R5、R6は置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環、置換基を有してもよい環を形成する残基より選ばれる1つを表し、R5、R6は同一又は異なってもよい。X1は酸素原子又は硫黄原子を表し、k1、l1はそれぞれ1〜5の整数、m1は1〜4の整数、n1は1または2の整数を表す。)
また、本発明のスイッチング素子の他の1つは、少なくとも2つの電極間に有機材料からなる薄膜を配置してなるスイッチング素子であって、前記有機材料が、下記一般式(II)で表されるトリフェニルアミン系化合物であることを特徴とする。
(式(II)中、R7〜R10は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルコキシル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい環を形成する残基より選ばれる1つを表し、R7〜R10は同一又は異なってもよい。A1は置換基を有しても良い芳香族系縮合多環基を表す。X2は酸素原子又は硫黄原子を表し、k2、l2はそれぞれ1〜5の整数を表し、m2は1〜4の整数を表し、n2は1又は2の整数を表す。)
また、本発明のスイッチング素子の更に他の1つは、少なくとも2つの電極間に有機材料からなる薄膜を配置してなるスイッチング素子であって、前記有機材料が、下記一般式(III)で表されるトリフェニルアミン系化合物であることを特徴とする。
(式(III)中、R11〜R13は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルコキシル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい環を形成する残基より選ばれる1つを表し、R11〜R13は同一又は異なってもよい。A2は置換基を有しても良い芳香族系縮合多環基を表す。k3、l3はそれぞれ1〜5の整数を表し、m3は1〜4の整数を表す。)
上記のスイッチング素子によれば、上記の式(I)〜(III)のトリフェニルアミン系化合物は、トリフェニルアミン基が強い電子供与性を有しており、大きな双極子モーメントが得られやすい材料であるので低抵抗状態/高抵抗状態の比が高く、優れた双安定性を得ることができる。
また、有機双安定材料が1成分系であるので、従来の2成分系の有機双安定材料のような、製造時の構成比のバラツキが起こり得ないので、常に一定の双安定性能を得ることができる。
また、上記の一般式(I)〜(III)のトリフェニルアミン系化合物は、特に真空蒸着法等により薄膜形成する場合には、共蒸着等の複雑な手法を用いなくてもよいので製造効率が良く、大面積で均一に、かつ低コストで素子を製造することができる。
(式(I)中、R1〜R4は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルコキシル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい環を形成する残基より選ばれる1つを表し、R1〜R4は同一又は異なってもよい。R5、R6は置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環、置換基を有してもよい環を形成する残基より選ばれる1つを表し、R5、R6は同一又は異なってもよい。X1は酸素原子又は硫黄原子を表し、k1、l1はそれぞれ1〜5の整数、m1は1〜4の整数、n1は1または2の整数を表す。)
また、本発明のスイッチング素子の他の1つは、少なくとも2つの電極間に有機材料からなる薄膜を配置してなるスイッチング素子であって、前記有機材料が、下記一般式(II)で表されるトリフェニルアミン系化合物であることを特徴とする。
(式(II)中、R7〜R10は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルコキシル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい環を形成する残基より選ばれる1つを表し、R7〜R10は同一又は異なってもよい。A1は置換基を有しても良い芳香族系縮合多環基を表す。X2は酸素原子又は硫黄原子を表し、k2、l2はそれぞれ1〜5の整数を表し、m2は1〜4の整数を表し、n2は1又は2の整数を表す。)
また、本発明のスイッチング素子の更に他の1つは、少なくとも2つの電極間に有機材料からなる薄膜を配置してなるスイッチング素子であって、前記有機材料が、下記一般式(III)で表されるトリフェニルアミン系化合物であることを特徴とする。
(式(III)中、R11〜R13は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルコキシル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい環を形成する残基より選ばれる1つを表し、R11〜R13は同一又は異なってもよい。A2は置換基を有しても良い芳香族系縮合多環基を表す。k3、l3はそれぞれ1〜5の整数を表し、m3は1〜4の整数を表す。)
上記のスイッチング素子によれば、上記の式(I)〜(III)のトリフェニルアミン系化合物は、トリフェニルアミン基が強い電子供与性を有しており、大きな双極子モーメントが得られやすい材料であるので低抵抗状態/高抵抗状態の比が高く、優れた双安定性を得ることができる。
また、有機双安定材料が1成分系であるので、従来の2成分系の有機双安定材料のような、製造時の構成比のバラツキが起こり得ないので、常に一定の双安定性能を得ることができる。
また、上記の一般式(I)〜(III)のトリフェニルアミン系化合物は、特に真空蒸着法等により薄膜形成する場合には、共蒸着等の複雑な手法を用いなくてもよいので製造効率が良く、大面積で均一に、かつ低コストで素子を製造することができる。
図1は、本発明のスイッチング素子の一実施形態を示す概略構成図である。
図2は、本発明のスイッチング素子の他の実施形態を示す概略構成図である。
図3は、本発明のスイッチング素子の更に他の実施形態を示す概略構成図である。
図4は、実施例1におけるスイッチング素子の電流−電圧特性を示す図表である。
図5は、実施例2におけるスイッチング素子の電流−電圧特性を示す図表である。
図6は、実施例4におけるスイッチング素子の電流−電圧特性を示す図表である。
図7は、実施例5におけるスイッチング素子の電流−電圧特性を示す図表である。
図8は、実施例7におけるスイッチング素子の電流−電圧特性を示す図表である。
図9は、実施例8におけるスイッチング素子の電流−電圧特性を示す図表である。
図10は、実施例9におけるスイッチング素子の電流−電圧特性を示す図表である。
図11は、従来のスイッチング素子の電圧−電流特性の概念を示す図表である。
図12は、従来の2成分系の有機双安定材料の構造を示す概念図である。
図2は、本発明のスイッチング素子の他の実施形態を示す概略構成図である。
図3は、本発明のスイッチング素子の更に他の実施形態を示す概略構成図である。
図4は、実施例1におけるスイッチング素子の電流−電圧特性を示す図表である。
図5は、実施例2におけるスイッチング素子の電流−電圧特性を示す図表である。
図6は、実施例4におけるスイッチング素子の電流−電圧特性を示す図表である。
図7は、実施例5におけるスイッチング素子の電流−電圧特性を示す図表である。
図8は、実施例7におけるスイッチング素子の電流−電圧特性を示す図表である。
図9は、実施例8におけるスイッチング素子の電流−電圧特性を示す図表である。
図10は、実施例9におけるスイッチング素子の電流−電圧特性を示す図表である。
図11は、従来のスイッチング素子の電圧−電流特性の概念を示す図表である。
図12は、従来の2成分系の有機双安定材料の構造を示す概念図である。
以下、図面を用いて本発明を詳細に説明する。図1は、本発明のスイッチング素子の一実施形態を示す概略構成図である。
図1に示すように、このスイッチング素子は、基板10上に、第1電極層21a、有機双安定材料層30、第2電極層21bが順次積層された構成となっている。
基板10としては特に限定されないが、従来公知のガラス基板等が好ましく用いられる。
第1電極層21a、第2電極層21bとしては、アルミニウム、金、銀、クロム、ニッケル、鉄などの金属材料や、ITO、カーボン等の無機材料、共役系有機材料、液晶等の有機材料、シリコンなどの半導体材料などが適宜選択可能であり、特に限定されないが、特にアルミニウムが密着性や化学的安定性の点で好ましい。
また、第1電極層21a、第2電極層21bの薄膜形成方法としては、例えば、従来公知の真空蒸着法やスパッタ法が用いられる。これらの成膜法では、通常の真空中の他、真空雰囲気中に酸素、水分、窒素などの反応性ガスを導入した方法や、真空雰囲気中で電界や放電などを行い、成膜材料の物性の制御を行うことも可能である。また、スパッタ法では、通常の直流法、RF法を用いることが可能であるが、それに限定されるものではない。
真空蒸着で第1電極層21a、第2電極層21bを形成する場合、蒸着時の基板温度は、使用する電極材料によって適宜選択されるが0〜150℃が好ましい。また、膜厚は50〜200nmが好ましい。
第1電極層21a上には有機双安定材料層30が薄膜形成される。この有機双安定材料層30に用いる有機双安定材料としては、電荷を輸送するための官能基を有するものである。
そして、本発明では、この有機双安定材料として下記一般式(I)〜(III)で表されるトリフェニルアミン系化合物を用いる。
(式(I)中、R1〜R4は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルコキシル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい環を形成する残基より選ばれる1つを表し、R1〜R4は同一又は異なってもよい。R5、R6は置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環、置換基を有してもよい環を形成する残基より選ばれる1つを表し、R5、R6は同一又は異なってもよい。X1は酸素原子又は硫黄原子を表し、k1、l1はそれぞれ1〜5の整数、m1は1〜4の整数、n1は1または2の整数を表す。)
(式(II)中、R7〜R10は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルコキシル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい環を形成する残基より選ばれる1つを表し、R7〜R10は同一又は異なってもよい。A1は置換基を有しても良い芳香族系縮合多環基を表す。X2は酸素原子又は硫黄原子を表し、k2、l2はそれぞれ1〜5の整数を表し、m2は1〜4の整数を表し、n2は1又は2の整数を表す。)
(式(III)中、R11〜R13は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルコキシル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい環を形成する残基より選ばれる1つを表し、R11〜R13は同一又は異なってもよい。A2は置換基を有しても良い芳香族系縮合多環基を表す。k3、l3はそれぞれ1〜5の整数を表し、m3は1〜4の整数を表す。)
上記の一般式(I)の化合物としては、具体的には、例えば、下記の構造式(I−1)〜(I−19)で示される化合物が挙げられる。
上記の一般式(I)のトリフェニルアミン系化合物は、例えば、上記の構造式(I−3)の化合物は下記に示すような反応式によって合成できる。すなわち、下記反応式に示すように、構造式(I−A)で示される化合物と構造式(I−B)で示される化合物とを、塩基性条件(例えばn−BuLi)のもとで適当な有機溶媒中(例えばジメチルホルムアミド)で反応させることにより合成することができる。なお、一般式(I)の他の構造の化合物も同様の方法で合成できる。
また、上記の一般式(II)の化合物としては、具体的には、例えば、下記の構造式(II−1)〜(II−18)で示される化合物が挙げられる。
上記の一般式(II)のトリフェニルアミン系化合物は、例えば、上記の構造式(II−6)の化合物は下記に示すような反応式によって合成できる。すなわち、上記反応式に示すように、構造式(II−A)で示される化合物と構造式(II−B)で示される化合物とを、塩基性条件(例えばn−BuLi)のもとで適当な有機溶媒中(例えばジメチルホルムアミド)で反応させることにより合成することができる。なお、一般式(II)の他の構造の化合物も同様の方法で合成できる。
また、上記の一般式(III)の化合物としては、具体的には、例えば、下記の構造式(III−1)〜(III−12)で示される化合物が挙げられる。
上記の一般式(III)のトリフェニルアミン系化合物は、例えば、上記の構造式(III−2)の化合物は下記に示すような反応式によって合成できる。すなわち、上記反応式に示すように、構造式(III−A)で示される化合物と構造式(III−B)で示される化合物とを、塩基性条件(例えばn−BuLi)のもとで適当な有機溶媒中(例えばジメチルホルムアミド)で反応させることにより合成することができる。なお、一般式(III)の他の構造の化合物も同様の方法で合成できる。
有機双安定材料層30の形成方法としては、真空蒸着法、スピンコート法、電解重合法、化学蒸気堆積法(CVD法)、単分子膜累積法(LB法)、ディップ法、バーコート法、インクジェット法、スクリーン印刷法等の製法が用いられ特に限定されない。
真空蒸着で有機双安定材料層30を形成する場合、蒸着時の基板温度は、使用する有機双安定材料によって適宜選択されるが0〜100℃が好ましい。また、膜厚は20〜150nmが好ましい。
スピンコート法等の塗布で有機双安定材料層30を形成する場合、塗布溶剤として、例えば、ハロゲン系のジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、エーテル系のテトラヒドロフラン(THF)、エチレングリコールジメチルエーテル、芳香族のトルエン、キシレン、アルコール系のエチルアルコール、エステル系の酢酸エチル、酢酸ブチル、ケトン系のアセトン、MEK、アセトニトリル等を用いることができる。これらの溶剤中に0.001〜30質量%の範囲で有機双安定材料を溶解させ、また必要に応じてバインダー樹脂を加えて塗布液とする。バインダー樹脂としては、例えば、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリビニールアルコール、ポリスチレン等が使用できる。スピンコート条件は目標膜厚に応じて適宜設定可能であるが、回転数200〜3600rpmの範囲が好ましい。
なお、本発明におけるスイッチング素子の構成は、図1のような構成には限定されず、例えば、図2、3に示すような構成でもよい。
図2の実施形態においては、有機双安定材料層30内に、更に第3電極22が設けられた3端子素子となっている点が上記の図1の実施形態と異なっている。これにより、電極層21a、21bを付加電流を流す電極として、上記の図11におけるバイアスVbを印加し、更に、第3電極22を、双安定材料層30の抵抗状態を制御する電極として、図11における低閾値電圧Vth1、又は高閾値電圧Vth2を印加することができる。
また、図3の実施形態においては、第2電極層23上に絶縁層41が形成され、さらに絶縁層41上には、有機双安定材料層31、及び有機双安定材料層31を挟むように両側に電極層24a、24bが形成され、更に双安定材料層31上には、絶縁層42と第4電極層25が順次形成されている4端子素子となっている。
このスイッチング素子では、具体的には、例えば、第3電極23をシリコン基板、絶縁層41、42を金属酸化物蒸着膜、電極層24a、24b、及び第4電極25をアルミニウム蒸着膜とできる。そして、電極層24a、24bを付加電流を流す電極として、上記の図11におけるバイアスVbを印加し、更に、第3電極23と第4電極25とによって、有機双安定材料層31に電界をかけることによって、有機双安定材料層31の抵抗状態を制御することができる。
以上説明したように、本発明によれば、材料組成の変動を抑制し、均一な双安定特性を得ることができ、量産に適し、かつ、繰返し性能に優れたスイッチング素子を提供できる。したがって、このスイッチング素子は、有機ELディスプレーパネルの駆動用スイッチング素子や、高密度メモリ等に好適に利用できる。
以下、実施例を用いて、本発明のスイッチング素子について更に詳細に説明する。
一般式(I)の化合物を用いたスイッチング素子の作成(実施例1〜3)
図1に示すように、このスイッチング素子は、基板10上に、第1電極層21a、有機双安定材料層30、第2電極層21bが順次積層された構成となっている。
基板10としては特に限定されないが、従来公知のガラス基板等が好ましく用いられる。
第1電極層21a、第2電極層21bとしては、アルミニウム、金、銀、クロム、ニッケル、鉄などの金属材料や、ITO、カーボン等の無機材料、共役系有機材料、液晶等の有機材料、シリコンなどの半導体材料などが適宜選択可能であり、特に限定されないが、特にアルミニウムが密着性や化学的安定性の点で好ましい。
また、第1電極層21a、第2電極層21bの薄膜形成方法としては、例えば、従来公知の真空蒸着法やスパッタ法が用いられる。これらの成膜法では、通常の真空中の他、真空雰囲気中に酸素、水分、窒素などの反応性ガスを導入した方法や、真空雰囲気中で電界や放電などを行い、成膜材料の物性の制御を行うことも可能である。また、スパッタ法では、通常の直流法、RF法を用いることが可能であるが、それに限定されるものではない。
真空蒸着で第1電極層21a、第2電極層21bを形成する場合、蒸着時の基板温度は、使用する電極材料によって適宜選択されるが0〜150℃が好ましい。また、膜厚は50〜200nmが好ましい。
第1電極層21a上には有機双安定材料層30が薄膜形成される。この有機双安定材料層30に用いる有機双安定材料としては、電荷を輸送するための官能基を有するものである。
そして、本発明では、この有機双安定材料として下記一般式(I)〜(III)で表されるトリフェニルアミン系化合物を用いる。
(式(I)中、R1〜R4は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルコキシル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい環を形成する残基より選ばれる1つを表し、R1〜R4は同一又は異なってもよい。R5、R6は置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環、置換基を有してもよい環を形成する残基より選ばれる1つを表し、R5、R6は同一又は異なってもよい。X1は酸素原子又は硫黄原子を表し、k1、l1はそれぞれ1〜5の整数、m1は1〜4の整数、n1は1または2の整数を表す。)
(式(II)中、R7〜R10は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルコキシル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい環を形成する残基より選ばれる1つを表し、R7〜R10は同一又は異なってもよい。A1は置換基を有しても良い芳香族系縮合多環基を表す。X2は酸素原子又は硫黄原子を表し、k2、l2はそれぞれ1〜5の整数を表し、m2は1〜4の整数を表し、n2は1又は2の整数を表す。)
(式(III)中、R11〜R13は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルコキシル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい環を形成する残基より選ばれる1つを表し、R11〜R13は同一又は異なってもよい。A2は置換基を有しても良い芳香族系縮合多環基を表す。k3、l3はそれぞれ1〜5の整数を表し、m3は1〜4の整数を表す。)
上記の一般式(I)の化合物としては、具体的には、例えば、下記の構造式(I−1)〜(I−19)で示される化合物が挙げられる。
上記の一般式(I)のトリフェニルアミン系化合物は、例えば、上記の構造式(I−3)の化合物は下記に示すような反応式によって合成できる。すなわち、下記反応式に示すように、構造式(I−A)で示される化合物と構造式(I−B)で示される化合物とを、塩基性条件(例えばn−BuLi)のもとで適当な有機溶媒中(例えばジメチルホルムアミド)で反応させることにより合成することができる。なお、一般式(I)の他の構造の化合物も同様の方法で合成できる。
また、上記の一般式(II)の化合物としては、具体的には、例えば、下記の構造式(II−1)〜(II−18)で示される化合物が挙げられる。
上記の一般式(II)のトリフェニルアミン系化合物は、例えば、上記の構造式(II−6)の化合物は下記に示すような反応式によって合成できる。すなわち、上記反応式に示すように、構造式(II−A)で示される化合物と構造式(II−B)で示される化合物とを、塩基性条件(例えばn−BuLi)のもとで適当な有機溶媒中(例えばジメチルホルムアミド)で反応させることにより合成することができる。なお、一般式(II)の他の構造の化合物も同様の方法で合成できる。
また、上記の一般式(III)の化合物としては、具体的には、例えば、下記の構造式(III−1)〜(III−12)で示される化合物が挙げられる。
上記の一般式(III)のトリフェニルアミン系化合物は、例えば、上記の構造式(III−2)の化合物は下記に示すような反応式によって合成できる。すなわち、上記反応式に示すように、構造式(III−A)で示される化合物と構造式(III−B)で示される化合物とを、塩基性条件(例えばn−BuLi)のもとで適当な有機溶媒中(例えばジメチルホルムアミド)で反応させることにより合成することができる。なお、一般式(III)の他の構造の化合物も同様の方法で合成できる。
有機双安定材料層30の形成方法としては、真空蒸着法、スピンコート法、電解重合法、化学蒸気堆積法(CVD法)、単分子膜累積法(LB法)、ディップ法、バーコート法、インクジェット法、スクリーン印刷法等の製法が用いられ特に限定されない。
真空蒸着で有機双安定材料層30を形成する場合、蒸着時の基板温度は、使用する有機双安定材料によって適宜選択されるが0〜100℃が好ましい。また、膜厚は20〜150nmが好ましい。
スピンコート法等の塗布で有機双安定材料層30を形成する場合、塗布溶剤として、例えば、ハロゲン系のジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、エーテル系のテトラヒドロフラン(THF)、エチレングリコールジメチルエーテル、芳香族のトルエン、キシレン、アルコール系のエチルアルコール、エステル系の酢酸エチル、酢酸ブチル、ケトン系のアセトン、MEK、アセトニトリル等を用いることができる。これらの溶剤中に0.001〜30質量%の範囲で有機双安定材料を溶解させ、また必要に応じてバインダー樹脂を加えて塗布液とする。バインダー樹脂としては、例えば、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリビニールアルコール、ポリスチレン等が使用できる。スピンコート条件は目標膜厚に応じて適宜設定可能であるが、回転数200〜3600rpmの範囲が好ましい。
なお、本発明におけるスイッチング素子の構成は、図1のような構成には限定されず、例えば、図2、3に示すような構成でもよい。
図2の実施形態においては、有機双安定材料層30内に、更に第3電極22が設けられた3端子素子となっている点が上記の図1の実施形態と異なっている。これにより、電極層21a、21bを付加電流を流す電極として、上記の図11におけるバイアスVbを印加し、更に、第3電極22を、双安定材料層30の抵抗状態を制御する電極として、図11における低閾値電圧Vth1、又は高閾値電圧Vth2を印加することができる。
また、図3の実施形態においては、第2電極層23上に絶縁層41が形成され、さらに絶縁層41上には、有機双安定材料層31、及び有機双安定材料層31を挟むように両側に電極層24a、24bが形成され、更に双安定材料層31上には、絶縁層42と第4電極層25が順次形成されている4端子素子となっている。
このスイッチング素子では、具体的には、例えば、第3電極23をシリコン基板、絶縁層41、42を金属酸化物蒸着膜、電極層24a、24b、及び第4電極25をアルミニウム蒸着膜とできる。そして、電極層24a、24bを付加電流を流す電極として、上記の図11におけるバイアスVbを印加し、更に、第3電極23と第4電極25とによって、有機双安定材料層31に電界をかけることによって、有機双安定材料層31の抵抗状態を制御することができる。
以上説明したように、本発明によれば、材料組成の変動を抑制し、均一な双安定特性を得ることができ、量産に適し、かつ、繰返し性能に優れたスイッチング素子を提供できる。したがって、このスイッチング素子は、有機ELディスプレーパネルの駆動用スイッチング素子や、高密度メモリ等に好適に利用できる。
以下、実施例を用いて、本発明のスイッチング素子について更に詳細に説明する。
一般式(I)の化合物を用いたスイッチング素子の作成(実施例1〜3)
以下の手順で、図1に示すような構成のスイッチング素子を作成した。
基板10としてガラス基板を用い、真空蒸着法により、電極層21aとしてアルミニウムを、有機双安定材料層30としてトリフェニルアミン系化合物を、電極層21bとしてアルミニウムを順次連続して薄膜を形成し、実施例1のスイッチング素子を形成した。トリフェニルアミン系化合物としては、上記の構造式(I−3)の化合物を用いた。
なお、電極層21a、有機双安定材料層30、電極層21bは、それぞれ、100nm、80nm、100nmの厚さとなるように成膜した。また、蒸着装置は拡散ポンプ排気で、3×10−6torrの真空度で行なった。また、アルミニウムの蒸着は、抵抗加熱方式により成膜速度は3Å/sec、トリフェニルアミン系化合物の蒸着は、抵抗加熱方式で成膜速度は2Å/secで行った。各層の蒸着は同一蒸着装置で連続して行い、蒸着中に試料が空気と接触しない条件で行った。
基板10としてガラス基板を用い、真空蒸着法により、電極層21aとしてアルミニウムを、有機双安定材料層30としてトリフェニルアミン系化合物を、電極層21bとしてアルミニウムを順次連続して薄膜を形成し、実施例1のスイッチング素子を形成した。トリフェニルアミン系化合物としては、上記の構造式(I−3)の化合物を用いた。
なお、電極層21a、有機双安定材料層30、電極層21bは、それぞれ、100nm、80nm、100nmの厚さとなるように成膜した。また、蒸着装置は拡散ポンプ排気で、3×10−6torrの真空度で行なった。また、アルミニウムの蒸着は、抵抗加熱方式により成膜速度は3Å/sec、トリフェニルアミン系化合物の蒸着は、抵抗加熱方式で成膜速度は2Å/secで行った。各層の蒸着は同一蒸着装置で連続して行い、蒸着中に試料が空気と接触しない条件で行った。
実施例1で使用した構造式(I−3)で示される有機双安定材料を、上記の構造式(I−8)で示される有機双安定材料に代えた以外は実施例1と同様にして、スイッチング素子を作製した。
実施例1で使用した構造式(I−3)で示される有機双安定材料を、上記の構造式(I−9)で示される有機双安定材料に代えた以外は実施例1と同様にして、スイッチング素子を作製した。
試験例1
上記の実施例1〜3のスイッチング素子について、電流−電圧特性を室温環境で測定し、図11における閾値電圧である、低閾値電圧Vth1、高閾値電圧Vth2を測定した結果をまとめて表1に示す。また、図4、5には、それぞれ、実施例1、2のスイッチング素子についての電流−電圧特性を示す。
なお、測定条件としては、各素子には、100Ωから1MΩの範囲の電気抵抗を直列に接続し、ON状態の電流を制限して過電流による素子の損傷を抑制した。
図4、5の結果より、実施例1〜4のスイッチング素子においては高抵抗状態71、81、及び低抵抗状態72、82の双安定性が得られた。
すなわち、図4の実施例1において、低閾値電圧Vth1が0V以下では、低抵抗状態72から高抵抗状態71へ(on状態からoff状態へ)遷移して抵抗値が変化した。また、高閾値電圧Vth2が14.0V以上では、高抵抗状態71から低抵抗状態72へ(off状態からon状態へ)遷移して抵抗値が変化し、この際の低抵抗状態/高抵抗状態の比として、約1×105が得られた。
また、図5の実施例2においては、低閾値電圧Vth1が0V以下で、低抵抗状態82から高抵抗状態81へ(on状態からoff状態へ)遷移して抵抗値が変化した。また、高閾値電圧Vth2が2.6V以上では、高抵抗状態81から低抵抗状態82へ(off状態からon状態へ)遷移して抵抗値が変化し、この際の低抵抗状態/高抵抗状態の比として、約1×104が得られた。
また、この双安定性は実施例1〜3のすべてのスイッチング素子で得られ、表1に示すような低閾値電圧Vth1が0〜0.5V、及び高閾値電圧Vth2が2.6〜14.0Vである双安定状態が得られた。
一般式(II)の化合物を用いたスイッチング素子の作成(実施例4〜6)
試験例1
上記の実施例1〜3のスイッチング素子について、電流−電圧特性を室温環境で測定し、図11における閾値電圧である、低閾値電圧Vth1、高閾値電圧Vth2を測定した結果をまとめて表1に示す。また、図4、5には、それぞれ、実施例1、2のスイッチング素子についての電流−電圧特性を示す。
なお、測定条件としては、各素子には、100Ωから1MΩの範囲の電気抵抗を直列に接続し、ON状態の電流を制限して過電流による素子の損傷を抑制した。
すなわち、図4の実施例1において、低閾値電圧Vth1が0V以下では、低抵抗状態72から高抵抗状態71へ(on状態からoff状態へ)遷移して抵抗値が変化した。また、高閾値電圧Vth2が14.0V以上では、高抵抗状態71から低抵抗状態72へ(off状態からon状態へ)遷移して抵抗値が変化し、この際の低抵抗状態/高抵抗状態の比として、約1×105が得られた。
また、図5の実施例2においては、低閾値電圧Vth1が0V以下で、低抵抗状態82から高抵抗状態81へ(on状態からoff状態へ)遷移して抵抗値が変化した。また、高閾値電圧Vth2が2.6V以上では、高抵抗状態81から低抵抗状態82へ(off状態からon状態へ)遷移して抵抗値が変化し、この際の低抵抗状態/高抵抗状態の比として、約1×104が得られた。
また、この双安定性は実施例1〜3のすべてのスイッチング素子で得られ、表1に示すような低閾値電圧Vth1が0〜0.5V、及び高閾値電圧Vth2が2.6〜14.0Vである双安定状態が得られた。
一般式(II)の化合物を用いたスイッチング素子の作成(実施例4〜6)
以下の手順で、図1に示すような構成のスイッチング素子を作成した。
基板10としてガラス基板を用い、真空蒸着法により、電極層21aとしてアルミニウムを、有機双安定材料層30としてトリフェニルアミン系化合物を、電極層21bとしてアルミニウムを順次連続して薄膜を形成し、実施例4のスイッチング素子を形成した。トリフェニルアミン系化合物としては、上記の構造式(II−6)の化合物を用いた。
なお、電極層21a、有機双安定材料層30、電極層21bは、それぞれ、100nm、80nm、100nmの厚さとなるように成膜した。また、蒸着装置は拡散ポンプ排気で、3×10−6torrの真空度で行なった。また、アルミニウムの蒸着は、抵抗加熱方式により成膜速度は3Å/sec、トリフェニルアミン系化合物の蒸着は、抵抗加熱方式で成膜速度は2Å/secで行った。各層の蒸着は同一蒸着装置で連続して行い、蒸着中に試料が空気と接触しない条件で行った。
基板10としてガラス基板を用い、真空蒸着法により、電極層21aとしてアルミニウムを、有機双安定材料層30としてトリフェニルアミン系化合物を、電極層21bとしてアルミニウムを順次連続して薄膜を形成し、実施例4のスイッチング素子を形成した。トリフェニルアミン系化合物としては、上記の構造式(II−6)の化合物を用いた。
なお、電極層21a、有機双安定材料層30、電極層21bは、それぞれ、100nm、80nm、100nmの厚さとなるように成膜した。また、蒸着装置は拡散ポンプ排気で、3×10−6torrの真空度で行なった。また、アルミニウムの蒸着は、抵抗加熱方式により成膜速度は3Å/sec、トリフェニルアミン系化合物の蒸着は、抵抗加熱方式で成膜速度は2Å/secで行った。各層の蒸着は同一蒸着装置で連続して行い、蒸着中に試料が空気と接触しない条件で行った。
実施例4で使用した構造式(II−6)で示される有機双安定材料を、上記の構造式(II−9)で示される有機双安定材料に代えた以外は実施例4と同様にして、スイッチング素子を作製した。
実施例4で使用した構造式(II−6)で示される有機双安定材料を、上記の構造式(II−10)で示される有機双安定材料に代えた以外は実施例4と同様にして、スイッチング素子を作製した。
試験例2
上記の実施例4〜6のスイッチング素子について、電流−電圧特性を室温環境で測定し、図11における閾値電圧である、低閾値電圧Vth1、高閾値電圧Vth2を測定した結果をまとめて表2に示す。また、図6、7には、それぞれ、実施例4、5のスイッチング素子についての電流−電圧特性を示す。
なお、測定条件としては、各素子には、100Ωから1MΩの範囲の電気抵抗を直列に接続し、ON状態の電流を制限して過電流による素子の損傷を抑制した。
図6、7の結果より、実施例4、5のスイッチング素子においては高抵抗状態91、101、及び低抵抗状態92、102の双安定性が得られた。
すなわち、図6の実施例4において、低閾値電圧Vth1が2V以下では、低抵抗状態92から高抵抗状態91へ(on状態からoff状態へ)遷移して抵抗値が変化した。また、高閾値電圧Vth2が7.5V以上では、高抵抗状態91から低抵抗状態92へ(off状態からon状態へ)遷移して抵抗値が変化し、この際の低抵抗状態/高抵抗状態の比として、2Vで約2×103が得られた。
また、図7の実施例5においては、低閾値電圧Vth1が0V以下で、低抵抗状態102から高抵抗状態101へ(on状態からoff状態へ)遷移して抵抗値が変化した。また、高閾値電圧Vth2が13.5V以上では、高抵抗状態101から低抵抗状態102へ(off状態からon状態へ)遷移して抵抗値が変化し、この際の低抵抗状態/高抵抗状態の比として、5Vで約1×104が得られた。
また、この双安定性は実施例4〜6のすべてのスイッチング素子で得られ、表2に示すような双安定状態が得られた。
一般式(III)の化合物を用いたスイッチング素子の作成(実施例7〜9)
試験例2
上記の実施例4〜6のスイッチング素子について、電流−電圧特性を室温環境で測定し、図11における閾値電圧である、低閾値電圧Vth1、高閾値電圧Vth2を測定した結果をまとめて表2に示す。また、図6、7には、それぞれ、実施例4、5のスイッチング素子についての電流−電圧特性を示す。
なお、測定条件としては、各素子には、100Ωから1MΩの範囲の電気抵抗を直列に接続し、ON状態の電流を制限して過電流による素子の損傷を抑制した。
すなわち、図6の実施例4において、低閾値電圧Vth1が2V以下では、低抵抗状態92から高抵抗状態91へ(on状態からoff状態へ)遷移して抵抗値が変化した。また、高閾値電圧Vth2が7.5V以上では、高抵抗状態91から低抵抗状態92へ(off状態からon状態へ)遷移して抵抗値が変化し、この際の低抵抗状態/高抵抗状態の比として、2Vで約2×103が得られた。
また、図7の実施例5においては、低閾値電圧Vth1が0V以下で、低抵抗状態102から高抵抗状態101へ(on状態からoff状態へ)遷移して抵抗値が変化した。また、高閾値電圧Vth2が13.5V以上では、高抵抗状態101から低抵抗状態102へ(off状態からon状態へ)遷移して抵抗値が変化し、この際の低抵抗状態/高抵抗状態の比として、5Vで約1×104が得られた。
また、この双安定性は実施例4〜6のすべてのスイッチング素子で得られ、表2に示すような双安定状態が得られた。
一般式(III)の化合物を用いたスイッチング素子の作成(実施例7〜9)
以下の手順で、図1に示すような構成のスイッチング素子を作成した。
基板10としてガラス基板を用い、真空蒸着法により、電極層21aとしてアルミニウムを、有機双安定材料層30としてトリフェニルアミン系化合物を、電極層21bとしてアルミニウムを順次連続して薄膜を形成し、実施例7のスイッチング素子を形成した。トリフェニルアミン系化合物としては、上記の構造式(III−1)の化合物を用いた。
なお、電極層21a、有機双安定材料層30、電極層21bは、それぞれ、100nm、80nm、100nmの厚さとなるように成膜した。また、蒸着装置は拡散ポンプ排気で、3×10−6torrの真空度で行なった。また、アルミニウムの蒸着は、抵抗加熱方式により成膜速度は3Å/sec、トリフェニルアミン系化合物の蒸着は、抵抗加熱方式で成膜速度は2Å/secで行った。各層の蒸着は同一蒸着装置で連続して行い、蒸着中に試料が空気と接触しない条件で行った。
基板10としてガラス基板を用い、真空蒸着法により、電極層21aとしてアルミニウムを、有機双安定材料層30としてトリフェニルアミン系化合物を、電極層21bとしてアルミニウムを順次連続して薄膜を形成し、実施例7のスイッチング素子を形成した。トリフェニルアミン系化合物としては、上記の構造式(III−1)の化合物を用いた。
なお、電極層21a、有機双安定材料層30、電極層21bは、それぞれ、100nm、80nm、100nmの厚さとなるように成膜した。また、蒸着装置は拡散ポンプ排気で、3×10−6torrの真空度で行なった。また、アルミニウムの蒸着は、抵抗加熱方式により成膜速度は3Å/sec、トリフェニルアミン系化合物の蒸着は、抵抗加熱方式で成膜速度は2Å/secで行った。各層の蒸着は同一蒸着装置で連続して行い、蒸着中に試料が空気と接触しない条件で行った。
実施例7で使用した構造式(III−1)で示される有機双安定材料を、上記の構造式(III−7)で示される有機双安定材料に代えた以外は実施例7と同様にして、スイッチング素子を作製した。
実施例7で使用した構造式(III−1)で示される有機双安定材料を、上記の構造式(III−9)で示される有機双安定材料に代えた以外は実施例7と同様にして、スイッチング素子を作製した。
試験例3
上記の実施例7〜9のスイッチング素子について、電流−電圧特性を室温環境で測定し、図11における閾値電圧である、低閾値電圧Vth1、高閾値電圧Vth2を測定した結果をまとめて表3に示す。また、図8〜10には、それぞれ、実施例7〜9のスイッチング素子についての電流−電圧特性を示す。
図8〜10の結果より、実施例7〜9のスイッチング素子においては高抵抗状態111、121、131及び低抵抗状態112、122、132の双安定性が得られた。
すなわち図8の実施例7において、低閾値電圧Vth1が0.0Vでは、低抵抗状態112から高抵抗状態111へ(on状態からoff状態へ)遷移して抵抗値が変化した。また、高閾値電圧Vth2が3.2V以上では、高抵抗状態111から低抵抗状態112へ(off状態からon状態へ)遷移して抵抗値が変化し、この際の低抵抗状態/高抵抗状態の比として、約103が得られた。
図9の実施例8においては、低閾値電圧Vth1が0.0Vで、低抵抗状態122から高抵抗状態121へ(on状態からoff状態へ)遷移して抵抗値が変化した。また、高閾値電圧Vth2が15.5V以上では、高抵抗状態121から低抵抗状態122へ(off状態からon状態へ)遷移して抵抗値が変化し、この際の低抵抗状態/高抵抗状態の比として、約102が得られた。
図10の実施例9においては、低閾値電圧Vth1が0.0Vで、低抵抗状態132から高抵抗状態131へ(on状態からoff状態へ)遷移して抵抗値が変化した。また、高閾値電圧Vth2が5.0V以上では、高抵抗状態131から低抵抗状態132へ(off状態からon状態へ)遷移して抵抗値が変化し、この際の低抵抗状態/高抵抗状態の比として、約102が得られた。
このように、双安定性は実施例7〜9のすべてのスイッチング素子で得られ、表4に示すような低閾値電圧Vth1 0.0〜1.0V、及び高閾値電圧Vth2 3.2〜15.5Vである双安定状態が得られた。
試験例3
上記の実施例7〜9のスイッチング素子について、電流−電圧特性を室温環境で測定し、図11における閾値電圧である、低閾値電圧Vth1、高閾値電圧Vth2を測定した結果をまとめて表3に示す。また、図8〜10には、それぞれ、実施例7〜9のスイッチング素子についての電流−電圧特性を示す。
すなわち図8の実施例7において、低閾値電圧Vth1が0.0Vでは、低抵抗状態112から高抵抗状態111へ(on状態からoff状態へ)遷移して抵抗値が変化した。また、高閾値電圧Vth2が3.2V以上では、高抵抗状態111から低抵抗状態112へ(off状態からon状態へ)遷移して抵抗値が変化し、この際の低抵抗状態/高抵抗状態の比として、約103が得られた。
図9の実施例8においては、低閾値電圧Vth1が0.0Vで、低抵抗状態122から高抵抗状態121へ(on状態からoff状態へ)遷移して抵抗値が変化した。また、高閾値電圧Vth2が15.5V以上では、高抵抗状態121から低抵抗状態122へ(off状態からon状態へ)遷移して抵抗値が変化し、この際の低抵抗状態/高抵抗状態の比として、約102が得られた。
図10の実施例9においては、低閾値電圧Vth1が0.0Vで、低抵抗状態132から高抵抗状態131へ(on状態からoff状態へ)遷移して抵抗値が変化した。また、高閾値電圧Vth2が5.0V以上では、高抵抗状態131から低抵抗状態132へ(off状態からon状態へ)遷移して抵抗値が変化し、この際の低抵抗状態/高抵抗状態の比として、約102が得られた。
このように、双安定性は実施例7〜9のすべてのスイッチング素子で得られ、表4に示すような低閾値電圧Vth1 0.0〜1.0V、及び高閾値電圧Vth2 3.2〜15.5Vである双安定状態が得られた。
本発明のスイッチング素子は、材料組成の変動を抑制し、均一な双安定特性を得ることができ、量産に適し、かつ繰返し性能に優れるので、スイッチング素子として有機ELディスプレーパネルの駆動用スイッチング素子や、高密度メモリ等に好適に利用できる。
Claims (3)
- 少なくとも2つの電極間に有機材料からなる薄膜を配置してなるスイッチング素子であって、前記有機材料が、下記一般式(I)で表されるトリフェニルアミン系化合物であることを特徴とするスイッチング素子。
(式(I)中、R1〜R4は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルコキシル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい環を形成する残基より選ばれる1つを表し、R1〜R4は同一又は異なってもよい。R5、R6は置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい複素環、置換基を有してもよい環を形成する残基より選ばれる1つを表し、R5、R6は同一又は異なってもよい。X1は酸素原子又は硫黄原子を表し、k1、l1はそれぞれ1〜5の整数、m1は1〜4の整数、n1は1または2の整数を表す。) - 少なくとも2つの電極間に有機材料からなる薄膜を配置してなるスイッチング素子であって、前記有機材料が、下記一般式(II)で表されるトリフェニルアミン系化合物であることを特徴とするスイッチング素子。
(式(II)中、R7〜R10は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルコキシル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい環を形成する残基より選ばれる1つを表し、R7〜R10は同一又は異なってもよい。A1は置換基を有しても良い芳香族系縮合多環基を表す。X2は酸素原子又は硫黄原子を表し、k2、l2はそれぞれ1〜5の整数を表し、m2は1〜4の整数を表し、n2は1又は2の整数を表す。) - 少なくとも2つの電極間に有機材料からなる薄膜を配置してなるスイッチング素子であって、前記有機材料が、下記一般式(III)で表されるトリフェニルアミン系化合物であることを特徴とするスイッチング素子。
(式(III)中、R11〜R13は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルコキシル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよい環を形成する残基より選ばれる1つを表し、R11〜R13は同一又は異なってもよい。A2は置換基を有しても良い芳香族系縮合多環基を表す。k3、l3はそれぞれ1〜5の整数を表し、m3は1〜4の整数を表す。)
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